JP2009210708A - 感光性樹脂組成物、それを用いた硬化樹脂パターン及び表示素子 - Google Patents

Abstract

【課題】着色がなく、可視光に対する高い透過率を有するパターンを形成することができる新たな感光性樹脂組成物と、それを用いて形成された硬化樹脂パターン及び表示素子を提供することを目的とする。
【解決手段】ケイ素含有アクリル樹脂（Ａ）、光重合性化合物（Ｂ）（ただし、（Ａ）とは異なる）、光重合開始剤（Ｃ）及び溶剤（Ｄ）を含有し、光重合性化合物（Ｂ）が、ケイ素原子、シロキサン骨格及び２以上の（メタ）アクリル基及び／又は（メタ）アクリロイル基を含有し、ケイ素原子に、非加水分解性基が結合されてなる光重合性化合物であることを特徴とする感光性樹脂組成物。
【選択図】なし

Description

本発明は、感光性樹脂組成物、それを用いた硬化樹脂パターン及び表示素子に関する。

近年、液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイに代表される表示素子が数多く開発され、実用化されてきている。
これら表示素子の部材として、アルカリ可溶性樹脂、光重合性化合物を含む有機系材料のみで構成された感光性透明樹脂組成物が用いられている（例えば、特許文献１）。
しかし、このような感光性透明樹脂組成物は、高温に曝されると透明性が低下するという問題があった。

また、撥水性又は濡れ性を調整するために、シロキサン樹脂を含有したアルカリ可溶性樹脂からなる感光性樹脂組成物が提案されている（例えば、特許文献２）。
しかし、感光性樹脂組成物に、耐熱性、耐候性等を得る程度に、シロキサン化合物を添加すると、アルカリ可溶性樹脂との溶解性が悪いために、透明性が高い塗膜を作成することが困難となり、シロキサン化合物由来の特性を十分に発揮できないという問題があった。具体的には、シロキサン化合物の配合割合が過大であると、アルカリ可溶性樹脂に対する相溶性が不十分になり、相分離が生じやすく、十分な塗布形成が得られず、ムラを生じる（特許文献２の１５頁、４〜６行目、参照）。

特開平１１−１３３６００号公報 特開２００４−００４７３３号公報

本発明の目的は、着色がなく、可視光に対する高い透過率を有するパターンを形成することができる新たな感光性樹脂組成物と、それを用いて形成された硬化樹脂パターン及び表示素子を提供することにある。

本発明の感光性樹脂組成物は、ケイ素含有アクリル樹脂（Ａ）、光重合性化合物（Ｂ）（ただし、（Ａ）とは異なる）、光重合開始剤（Ｃ）及び溶剤（Ｄ）を含有し、
光重合性化合物（Ｂ）が、ケイ素原子、シロキサン骨格及び２以上の（メタ）アクリル基及び／又は（メタ）アクリロイル基を含有し、ケイ素原子に、非加水分解性基が結合されてなる光重合性化合物であることを特徴とする。

この感光性樹脂組成物では、ケイ素含有アクリル樹脂（Ａ）が、ケイ素原子を有する非加水分解性重合性不飽和化合物（Ａ１）と、不飽和カルボン酸及び／又は不飽和カルボン酸無水物（Ａ２）とを含むモノマー由来の共重合体を含有してなるケイ素含有アクリル樹脂であることが好ましい。

ケイ素原子を有する非加水分解性重合性不飽和化合物（Ａ１）が、式（Ｉ）

［式（Ｉ）中、Ｒ^１は、水素原子又はメチル基を表す。
Ｒ^２は、−（ＣＨ_２）_ｗ−、−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｗ−又は−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｗ−を表す。Ｒ^２に含まれる炭素原子は、ヘテロ原子で置換されていてもよい。ｗは、０〜８の整数を表す。
Ｒ^３〜Ｒ^５は、それぞれ独立に、炭素数１〜１２の脂肪族炭化水素基、炭素数６〜１２のアリール基又は炭素数７〜１２のアラルキル基を表す。
ｙは、１〜５の整数を表し、ｘ及びｚは、０〜５の整数を表す。］
で表される化合物であることが好ましい。

ケイ素含有アクリル樹脂（Ａ）が、（Ａ１）と、（Ａ２）と、（Ａ１）及び（Ａ２）と共重合可能な単量体（Ａ３）（ただし、（Ａ１）及び（Ａ２）とは異なる。）とを含むモノマー由来の共重合体を含有してなるケイ素含有アクリル樹脂であることが好ましい。

光重合性化合物（Ｂ）におけるケイ素原子に結合した非加水分解性基が、環状、分岐状又は直鎖状の炭素数１〜１２の飽和脂肪族炭化水素基、炭素数１〜１２のアリール基もしくは炭素数１〜１２のアラルキル基であることが好ましい。

また、本発明の硬化樹脂パターンは、上記感光性樹脂組成物を用いて形成されることを特徴とする。
さらに、本発明の表示素子は、上記硬化樹脂パターンを含むことを特徴とする。

本発明の感光性樹脂組成物によれば、着色がなく、可視光に対する高い透過率を実現することができる。
従って、可視光に対する高い透過率を有する硬化樹脂パターンを提供することができる。また、このような感光性樹脂組成物を用いることにより、目的とする形状の硬化樹脂パターンを容易に形成することができ、表示素子の生産性を向上させることが可能となる。

本発明の感光性樹脂組成物は、主として、ケイ素含有アクリル樹脂（Ａ）と、光重合性化合物（Ｂ）（ただし、（Ａ）とは異なる）と、光重合開始剤（Ｃ）と、溶剤（Ｄ）とを含んでなる。

ケイ素含有アクリル樹脂（Ａ）は、ケイ素原子を含み、かつアクリル酸エステル又はメタクリル酸エステルの重合体である限り、その構造は特に限定されず、種々の構造、分子量のものを用いることができる。
なかでも、ケイ素含有アクリル樹脂（Ａ）は、ケイ素原子を有する非加水分解性重合性不飽和化合物（Ａ１）と、不飽和カルボン酸及び／又は不飽和カルボン酸無水物（Ａ２）とを含むモノマー由来の共重合体を含有してなるケイ素含有アクリル樹脂であることが好ましい。

非加水分解性重合性不飽和化合物（Ａ１）とは、非加水分解性、つまり加水分解性基（例えば、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基またはカルボキシ基など）を含有しない化合物であって、重合性基及び不飽和結合を含有する化合物である。
不飽和カルボン酸及び／又は不飽和カルボン酸無水物（Ａ２）に含まれる不飽和カルボン酸とは、不飽和結合を有するカルボン酸であり、不飽和カルボン酸無水物とは、不飽和結合を有するカルボン酸無水物である。

ケイ素原子を有する重合性不飽和化合物（Ａ１）は、例えば、式（Ｉ）

［式（Ｉ）中、Ｒ^１は、水素原子又はメチル基を表す。
Ｒ^２は、−（ＣＨ_２）_ｗ−、−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｗ−又は−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｗ−を表す。Ｒ^２に含まれる炭素原子は、ヘテロ原子で置換されていてもよい。ｗは、０〜８の整数を表す。
Ｒ^３〜Ｒ^５は、それぞれ独立に、炭素数１〜１２の脂肪族炭化水素基、炭素数６〜１２のアリール基又は炭素数７〜１２のアラルキル基を表す。
ｙは、１〜５の整数を表し、ｘ及びｚは、０〜５の整数を表す。］
で表される化合物であることが好ましい。

式（Ｉ）のＲ^２は、単結合、エーテル結合又はエステル結合；
メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、１−メチルエチレン基、２−メチルエチレン基、テトラメチレン基、１−メチルトリメチレン基、２−メチルトリメチレン基、３−メチルトリメチレン基、１−エチルエチレン基、２−エチルエチレン基等の炭素数１〜８の直鎖又は分岐のアルキレン基；
上述したアルキレン基を含むオキシアルキレン基；
上述したアルキレン基を含むアルキレンオキシカルボニル基；
オキシメチレン基、オキシエチレン基、オキシプロピレン基、チオメチレン基、チオエチレン基、チオプロピレン基、アミノメチレン基、アミノエチレン基、アミノプロピレン基等の１つ又は２つ以上のヘテロ原子（例えば、酸素原子、硫黄原子、窒素原子等）含有アルキレン基等が挙げられる。
なかでも、単結合、メチレン基、エチレン基、オキシメチレン基、オキシエチレン基が好ましい。

式（Ｉ）のＲ^３〜Ｒ^５は、非加水分解性である１価の有機基の中から選ぶことができる。このような非加水分解性の基は、非重合性の基及び／又は重合性の基のいずれでもよい。ここで、非加水分解性とは、加水分解性基（例えば、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基またはカルボキシ基等）が加水分解される条件において、加水分解されずに、そのまま安定に存在する性質であることを意味する。

例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル、ｓｅｃ−ブチオ基、ｔｅｒｔ−ブチル基、オクチル基、ドデシル基等の炭素数１〜１２のアルキル基等の脂肪族炭化水素基（飽和又は不飽和のいずれであってもよい）；
フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基等の炭素数６〜１２のアリール基；
トリル基、キシリル基、メシチル基等の炭素数７〜１２のアラルキル基が挙げられる。
好ましいアルキル基としてはメチル基、エチル基が挙げられる。好ましいアリール基としては、フェニル基、ペンタフルオロフェニル基が挙げられる。より好ましくは、アリール基としてフェニル基が挙げられる。また、好ましいアラルキル基としては、トリフルオロメチルフェニル、ビス（トリフルオロメチル）フェニルが挙げられる。

なお、本明細書では、いずれの化学構造式においても、炭素数によって異なるが、特に断りのない限り、脂肪族炭化水素基、アリール基、アラルキル基、アルキレン基、オキシアルキレン基、アルキレンオキシカルボニル基、ヘテロ原子、アルキル基等は上記と同様のものが例示される。また、直鎖又は分岐の双方をとることができるものは、そのいずれをも含む。

式（Ｉ）で表される化合物としては、例えば、（トリメチルシリルメチル）メタクリレート、（フェニルジメチルシリル）メチルメタクリレート、１−（３−メタクリロキシプロピル）−１，１，３，３，３−ペンタメチルジシロキサン、１−（３−メタクリロキシプロピル）ポリジメチルシロキサン、３−アクリロシプロピルメチルビス（トリメチルシロキシ）シラン、３−メタクリロキシプロピルトリス（トリメチルシロキシ）シラン、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルビニルシラン、アリルジメチルシラン、アリルトリメチルシラン、トリフェニルビニルシラン、トリメチルシリルメタクリレート、ビニルジエチルメチルシラン、ビニルトリス（トリメチルシロキシ）シラン、ビニルトリメチルシラン、ビニルメチルビス（トリメチルシロキシ）シラン、フェニルジメチルビニルシラン、フェニルメチルビニルシラン等が挙げられ、これらは単独で又は複数種組合せて用いることができる。

ケイ素原子を有する重合性不飽和化合物（Ａ１）としては、例えば、ＦＭ−０７１１（Ｍｗ：１０００、式（Ｉ−１−１））、ＦＭ−０７２１（Ｍｗ：５０００、式（Ｉ−１−１））、ＦＭ−０７２５（Ｍｗ：１００００、式（Ｉ−１−１））、ＦＭ−０７０１（Ｍｗ：４２０、式（Ｉ−１−１））、ＦＭ−０７０１Ｔ（Ｍｗ：４２０、式（Ｉ−２−１））（いずれも、チッソ（株）製）、Ｘ−２２−１７４ＤＸ（Ｍｗ：４６００、式（Ｉ−１−１））、Ｘ−２４−８２０１（Ｍｗ：２１００）、Ｘ−２２−２４２６（Ｍｗ：１２０００、式（Ｉ−１−１））、Ｘ−２２−２４０４（Ｍｗ：４２０、式（Ｉ−２−１））、Ｘ−２２−２４０６（いずれも、信越化学工業（株）製）等の市販品を用いてもよい。

［式（Ｉ−１−１）中、Ｒ^５、ｗおよびｙは、上記と同じ意味を表す。］

不飽和カルボン酸及び／又は不飽和カルボン酸無水物（Ａ２）としては、例えば、
アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸などの不飽和モノカルボン酸類；
マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸などの不飽和ジカルボン酸類；
前記の不飽和ジカルボン酸類の無水物；
こはく酸モノ〔２−（メタ）アクリロイロキシエチル〕、フタル酸モノ〔２−（メタ）アクリロイロキシエチル〕等の２価以上の多価カルボン酸の不飽和モノ〔（メタ）アクリロイロキシアルキル〕エステル類；
α−（ヒドロキシメチル）アクリル酸のような、同一分子中にヒドロキシ基及びカルボキシル基を含有する不飽和アクリレート類等が挙げられる。これらのうち、アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸などが共重合反応性、アルカリ水溶液に対する溶解性が高い点から好ましく用いられる。これらは、単独であるいは組合せて用いられる。

さらに、ケイ素含有アクリル樹脂（Ａ）は、（Ａ１）と、（Ａ２）と、（Ａ１）及び／又は（Ａ２）と共重合可能な単量体（Ａ３）（ただし、（Ａ１）及び（Ａ２）を除く。以下、単に「共重合可能な単量体」と記すことがある）とを含むモノマー由来の共重合体を含有してなるケイ素含有アクリル樹脂であってもよい。
このような（Ａ３）共重合可能な単量体は、エポキシ基、オキセタニル基、活性メチレン基及び活性メチン基からなる群から選ばれる少なくとも１種の基と不飽和結合とを有する化合物であることが好ましい。

前記のエポキシ基と不飽和結合とを有する化合物は、脂肪族多環化合物の環上にエポキシ基を有し、かつ不飽和結合を有する化合物であることが好ましい。
このような脂肪族多環化合物としては、例えば、ジシクロペンタン、トリシクロデカン、ノルボルナン、イソノルボルナン、ビシクロオクタン、ビシクロノナン、ビシクロウンデカン、トリシクロウンデカン、ビシクロドデカン、トリシクロドデカンなどが挙げられ、炭素数が８から１２の化合物が好ましい。
より好ましくは式（II）で表される化合物及び式（III）で表される化合物からなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物が挙げられる。

（式中、Ｒは、水素原子又は水酸基で置換されていてもよい炭素数１〜４のアルキル基、
Ｘは、単結合又はヘテロ原子を含んでもよい炭素数１〜６のアルキレン基を表す。）

これら化合物におけるＲとしては、水素原子、
メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基などの炭素数１〜４のアルキル基；
ヒドロキシメチル基、１−ヒドロキシエチル基、２−ヒドロキシエチル基、１−ヒドロキシ−ｎ−プロピル基、２−ヒドロキシ−ｎ−プロピル基、３−ヒドロキシ−ｎ−プロピル基、１−ヒドロキシ−イソプロピル基、２−ヒドロキシ−イソプロピル基、１−ヒドロキシ−ｎ−ブチル基、２−ヒドロキシ−ｎ−ブチル基、３−ヒドロキシ−ｎ−ブチル基、４−ヒドロキシ−ｎ−ブチル基などの水酸基含有脂肪族炭化水素基が挙げられる。
好ましくは水素原子、メチル基、ヒドロキシメチル基、１−ヒドロキシエチル基及び２−ヒドロキシエチル基が挙げられ、より好ましくは水素原子及びメチル基が挙げられる。

Ｘとしては、例えば、単結合、メチレン基、エチレン基、プロピレン基などのアルキレン基；
オキシメチレン基、オキシエチレン基、オキシプロピレン基、チオメチレン基、チオエチレン基、チオプロピレン基、アミノメチレン基、アミノエチレン基、アミノプロピレン基などのヘテロ原子含有アルキレン基などが挙げられる。
好ましくは単結合、メチレン基、エチレン基、オキシメチレン基及びオキシエチレン基が挙げられ、より好ましくは単結合及びオキシエチレン基が挙げられる。
また、グリシジル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレートグリシジルエーテル、（３，４−エポキシシクロヘキシル）メチル（メタ）アクリレート等が例示される。

式（II）で表される具体的な化合物としては、式（II-1）〜式（II-15）で表される化合物等が挙げられる。なかでも、式（II-1）、式（II-3）、式（II-5）、式（II-7）、式（II-9）、式（II-11）〜式（II-15）が好ましく、式（II-1）、式（II-7）、式（II-9）、式（II-15）がより好ましい。

式（III）で表される化合物としては、式（III-1）〜式（III-15）で表される化合物等が挙げられる。なかでも、式（III-1）、式（III-3）、式（III-5）、式（III-7）、式（III-9）、式（III-11）〜式（III-15）が好ましく、式（III-1）、式（III-7）、式（III-9）、式（III-15）がより好ましい。

式（II）及び式（III）で表される化合物は、単独で又は２種以上を組み合わせて用いてもよい。２種以上を組み合わせる場合、式（II）の化合物及び式（III）の化合物は、任意の比率で併用することができる。例えば、モル比で、式（II）：式（III）＝５：９５〜９５：５が挙げられ、１０：９０〜９０：１０が好ましく、２０：８０〜８０：２０がより好ましい。

オキセタニル基と不飽和結合とを有する化合物としては、例えば、３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、３−メチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、３−エチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、２−フェニル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、２−トリフルオロメチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、２−ペンタフルオロエチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、３−メチル−３−（メタ）アクリロキシエチルオキセタン、３−メチル−３−（メタ）アクリロキシエチルオキセタン、２−フェニル−３−（メタ）アクリロキシエチルオキセタン、２−トリフルオロメチル−３−（メタ）アクリロキシエチルオキセタン又は２−ペンタフルオロエチル−３−（メタ）アクリロキシエチルオキセタンなどが挙げられる。
好ましくは３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、３−メチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、３−エチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、２−フェニル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、２−トリフルオロメチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、２−ペンタフルオロエチル−３−（メタ）アクリロキシメチルオキセタン、３−メチル−３−（メタ）アクリロキシエチルオキセタン、３−メチル−３−（メタ）アクリロキシエチルオキセタン、２−フェニル−３−（メタ）アクリロキシエチルオキセタン、２−トリフルオロメチル−３−（メタ）アクリロキシエチルオキセタン又は２−ペンタフルオロエチル−３−（メタ）アクリロキシエチルオキセタンが挙げられる。

活性メチレン基及び／又は活性メチン基と不飽和結合とを有する化合物としては、以下の化合物（１）〜（１８）等が挙げられる。

なかでも、２−（メタクリロイルオキシ）エチルアセトアセテート（上記式（１））が好ましい。
また、（Ａ３）共重合可能な単量体は、後述する連鎖移動を起こしうる基を有する光重合開始剤として例示された化合物であってもよい。

ケイ素含有アクリル樹脂（Ａ）は、さらに、（Ａ１）と、（Ａ２）と、任意に（Ａ３）と、これらの化合物以外の共重合可能な単量体（（Ａ１）、（Ａ２）及び（Ａ３）を除く。）（Ａ４）とを含むモノマー由来の共重合体を含有していてもよい。

（Ａ４）としては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｓｅｃ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ−ブチル（メタ）アクリレートなどの（メタ）アクリル酸アルキルエステル類；
メチルアクリレート、イソプロピルアクリレートなどのアクリル酸アルキルエステル類；
シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２−メチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、トリシクロ［５．２．１．０^２，６］デカン−８−イル（メタ）アクリレート（当該技術分野では、慣用名として、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレートといわれている。）、ジシクロペンタニルオキシエチル（メタ）アクリレート、イソボロニル（メタ）アクリレートなどの（メタ）アクリル酸環状アルキルエステル類；

シクロヘキシルアクリレート、２−メチルシクロヘキシルアクリレート、トリシクロ［５．２．１．０^２，６］デカン−８−イルアクリレート（当該技術分野で慣用名としてジシクロペンタニルアクリレートといわれている。）、ジシクロペンタオキシエチルアクリレート、イソボロニルアクリレートなどのアクリル酸環状アルキルエステル類；
フェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレートなどの（メタ）アクリル酸アリールエステル類；

フェニルアクリレート、ベンジルアクリレートなどのアクリル酸アリールエステル類；
マレイン酸ジエチル、フマル酸ジエチル、イタコン酸ジエチルなどのジカルボン酸ジエステル；
２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレートなどのヒドロキシアルキルエステル類；
ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−エチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−カルボキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−ヒドロキシメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−（２’−ヒドロキシエチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−メトキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−エトキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジカルボキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジ（ヒドロキシメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジ（２’−ヒドロキシエチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジメトキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジエトキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−ヒドロキシ−５−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−ヒドロキシ−５−エチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−カルボキシ−５−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−カルボキシ−５−エチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−ヒドロキシメチル−５−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−カルボキシ−６−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−カルボキシ−６−エチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジカルボキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン無水物（ハイミック酸無水物）、５−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−シクロヘキシルオキシカルボニルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５−フェノキシカルボニルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジ（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、５，６−ジ（シクロヘキシルオキシカルボニル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン等のビシクロ不飽和化合物類；

Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−ベンジルマレイミド、Ｎ−スクシンイミジル−３−マレイミドベンゾエート、Ｎ−スクシンイミジル−４−マレイミドブチレート、Ｎ−スクシンイミジル−６−マレイミドカプロエート、Ｎ−スクシンイミジル−３−マレイミドプロピオネート、Ｎ−（９−アクリジニル）マレイミド等のジカルボニルイミド誘導体類；
スチレン、α−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ビニルトルエン、ｐ−メトキシスチレン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、アクリルアミド、メタクリルアミド、酢酸ビニル、１，３−ブタジエン、イソプレン、２，３−ジメチル−１，３−ブタジエンなどのビニル化合物が挙げられる。

これらのうち、スチレン、Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−ベンジルマレイミドなどが、共重合反応性及びアルカリ水溶液に対する溶解性の点から好ましい。これらは、単独であるいは組合せて用いることができる。

ケイ素含有アクリル樹脂（Ａ）は、ケイ素原子を有する非加水分解性重合性不飽和化合物（Ａ１）と、不飽和カルボン酸及び／又は不飽和カルボン酸無水物（Ａ２）とを含むモノマー由来の共重合体を含有してなるケイ素含有アクリル樹脂である。必要に応じて、（Ａ１）及び（Ａ２）と共重合可能な単量体（Ａ３）（ただし、（Ａ１）及び（Ａ２）を除く。）から導かれる構成単位、さらに、その他の共重合可能な単量体（Ａ４）（ただし、（Ａ１）、（Ａ２）及び（Ａ３）を除く。）をモノマーとして含んでいてもよい。

ケイ素含有アクリル樹脂（Ａ）が、ケイ素原子を有する非加水分解性重合性不飽和化合物（Ａ１）並びに不飽和カルボン酸及び／又は不飽和カルボン酸無水物（Ａ２）のみからなるモノマー由来の共重合体の場合、ケイ素含有アクリル樹脂（Ａ）は、（Ａ１）及び（Ａ２）から導かれる構成成分の比率が、前記の共重合体を構成する構成成分の合計モル数に対してモル分率で、以下の範囲にあることが好ましい。
（Ａ１）から導かれる構成単位；５０〜９５モル％
（Ａ２）から導かれる構成単位；５〜５０モル％

ケイ素含有アクリル樹脂（Ａ）が、ケイ素原子を有する非加水分解性重合性不飽和化合物（Ａ１）並びに不飽和カルボン酸及び／又は不飽和カルボン酸無水物（Ａ２）から導かれる構成単位に加えて、（Ａ１）及び（Ａ２）と共重合可能な単量体（Ａ３）（ただし、（Ａ１）及び（Ａ２）を除く。）並びにその他の共重合可能な単量体（Ａ４）（ただし、（Ａ１）、（Ａ２）及び（Ａ３）を除く。）からなるモノマー由来の共重合体である場合、ケイ素含有アクリル樹脂（Ａ）は、（Ａ１）〜（Ａ４）から導かれる構成成分の比率が、前記の共重合体を構成する構成成分の合計モル数に対してモル分率で、以下の範囲にあることが好ましい。
（Ａ１）から導かれる構成単位；５〜７５モル％
（Ａ２）から導かれる構成単位；５〜５０モル％
（Ａ３）から導かれる構成単位；０〜８５モル％
（Ａ４）から導かれる構成単位；０〜５０モル％
構成成分のモル分率が該範囲にあると、ケイ素含有アクリル樹脂（Ａ）とシロキサン化合物（Ｂ）（ただし、（Ａ）を除く。）との相溶性が良好となる傾向があり、また現像時に膜減りが生じにくく、さらに現像時に非画素部分の抜け性が良好で、解像性が良好である傾向にあり、好ましい。

前記のケイ素含有アクリル樹脂（Ａ）は、例えば、文献「高分子合成の実験法」（大津隆行著 発行所（株）化学同人 第１版第１刷 １９７２年３月１日発行）に記載された方法及び当該文献に記載された引用文献を参考にして製造することができる。

具体的には、共重合体を構成する単位（Ａ１）及び（Ａ２）の所定量、任意に単位（Ａ３）及び（Ａ４）の所定量、重合開始剤及び溶剤を反応容器中に仕込んで、窒素により酸素を置換し、酸素不存在下で、攪拌、加熱、保温することにより、共重合体を製造することができる。なお、得られた共重合体は、反応後の溶液をそのまま使用してもよいし、濃縮又は希釈した溶液を使用してもよいし、再沈殿等の方法で固体（粉体）として取り出したものを使用してもよい。

ケイ素含有アクリル樹脂（Ａ）のポリスチレン換算の重量平均分子量は、好ましくは３，０００〜１００，０００、より好ましくは５，０００〜５０，０００である。ケイ素含有アクリル樹脂（Ａ）の重量平均分子量が、該範囲にあると、塗布性が良好となる傾向があり、また現像時に膜減りが生じにくく、さらに現像時に非画素部分の抜け性が良好で、解像性が良好である傾向にあり、好ましい。ケイ素含有アクリル樹脂（Ａ）の分子量分布［重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ）］は、好ましくは１．１〜６．０であり、より好ましくは１．２〜４．０である。分子量分布が、該範囲にあると、現像性が良好で解像性に優れる傾向があるので好ましい。

本発明の感光性樹脂組成物に用いられるケイ素含有アクリル樹脂（Ａ）の含有量は、感光性樹脂組成物中の固形分に対して質量分率で、５〜９０質量％が好ましく、１０〜７０質量％がより好ましい。ケイ素含有アクリル樹脂（Ａ）とケイ素原子を有する光重合性化合物（Ｂ１）との相溶性が良好となる傾向があり、現像液への溶解性が良好で、非画素部分の基板上に現像残渣が発生しにくく、また現像時に露光部の画素部分の膜減りが生じにくく、非画素部分の抜け性が良好となるか、耐熱透過率がより向上する傾向にあるからである。
なお、本発明の感光性樹脂組成物は、ケイ素含有アクリル樹脂（Ａ）とともに、他のケイ素含有アクリル樹脂を組み合わせて用いてもよい。このようなケイ素含有アクリル樹脂は、特に限定されず、当該分野で通常用いられているもののいずれをも使用することができる。

本発明の感光性樹脂組成物に含まれる光重合性化合物（Ｂ）は、ケイ素原子と、シロキサン骨格と、２以上の（メタ）アクリル基及び／又は（メタ）アクリロイル基とを含有し、ケイ素原子に、非加水分解性基が結合されてなる光重合性化合物である。

（メタ）アクリル基又は（メタ）アクリロイル基としては、ＣＨ_２＝ＣＨＣＯＯ−、ＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）ＣＯＯ−、ＣＨ_２＝ＣＨＣＯ−、ＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）ＣＯ−等が挙げられる。また、ＣＨ_２＝ＣＨＣＯＯＣＨ_２ＣＨ_２−、ＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）ＣＯＯＣＨ_２ＣＨ_２−、［ＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）ＣＯＯＣＨ_２］_３Ｃ−ＣＨ_２−、（ＣＨ_２＝ＣＨＣＯＯＣＨ_２）_３Ｃ−ＣＨ_２−、（ＣＨ_２＝ＣＨＣＯＯＣＨ_２）_２ＣＨ（Ｃ_２Ｈ_５）ＣＨ_２−等のアルキル基が置換された２以上の（メタ）アクリル基又は（メタ）アクリロイル基を含む置換基であってもよい。なかでも、ＣＨ_２＝ＣＨＣＯＯＣＨ_２−、ＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）ＣＯＯＣＨ_２−、ＣＨ_２＝ＣＨＣＯＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−、ＣＨ_２＝Ｃ（ＣＨ_３）ＣＯＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−が好ましい。なお、光重合性化合物（Ｂ）において、（メタ）アクリル基又は（メタ）アクリロイル基の数は特に限定されないが、例えば、６以下、４以下であることが適している。

ケイ素原子に直接結合した非加水分解性基としては、例えば、炭素数１〜１２の飽和脂肪族炭化水素基、炭素数６〜１２のアリール基又は炭素数７〜１２のアラルキル基が挙げられる。これらの脂肪族炭化水素基、アリール基及びアラルキル基の水素原子は、重水素原子、フッ素原子又は塩素原子等に置換されていてもよく、さらに、シアノ基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アミノ基、メルカプト基、イミノ基、エポキシ基、（メタ）アクリル基等に置換されていてもよい。

前記飽和脂肪族炭化水素基としては、環状、分岐状又は直鎖状のいずれでもよく、例えば、アルキル基が挙げられる。具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、オクチル基、ドデシル基、及びこれらの重水素置換体が例示される。好ましい脂肪族炭化水素基としてはメチル基、３，３，３−トリフルオロプロピル基、トリジューテリオメチル基が挙げられる。なお、（メタ）アクリル基又は（メタ）アクリロイル基に置換されているアルキル基も、同様のものが挙げられる。

アリール基としてはフェニル基、ビフェニル基、ナフチル基及びこれらの重水素、フッ素又は塩素の各置換体が挙げられる。好ましいアリール基としては、フェニル基、ペンタフルオロフェニル基、ペンタジューテリオフェニル基、特に好ましくは、フェニル基が挙げられる。
アラルキル基としてはトリル基、キシリル基、メシチル基及びこれらの重水素、フッ素、塩化物が挙げられる。好ましいアラルキル基としては、トリフルオロメチルフェニル基、ビス（トリフルオロメチル）フェニル基が挙げられる。

例えば、光重合性化合物（Ｂ）として、限定されないが、

［式（Ｖ）中、Ｒ^１０は、それぞれ独立して、水素原子又はメチル基を表す。
Ｒ^１１は、それぞれ独立して、−（ＣＨ_２）_ｒ−、−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｒ−又は−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｒ−Ｃ（Ｒ^１６）_２−（ＣＨ_２）_ｒ−を表す。Ｒ^１６は、水素原子又は−（ＣＨ_２）_ｒ−ＣＯＯＣ＝Ｃ（Ｒ^１０）Ｈ_２、ｒは、０〜５の整数、好ましくは０〜３の整数を表す。
Ｒ^１２、Ｒ^１３は、それぞれ独立して、炭素数１〜１２の飽和脂肪族炭化水素基、炭素数６〜１２のアリール基又は炭素数７〜１２のアラルキル基を表す。
Ｒ^１４、Ｒ^１５は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜１２の飽和脂肪族炭化水素基、炭素数６〜１２のアリール基又は炭素数７〜１２のアラルキル基を表す。
ｑは、１〜５の整数を表す。］
で表される化合物が例示される。

式（Ｖ）における飽和脂肪族炭化水素基、アリール基又はアラルキル基は上記と同様のものが例示される。
なかでも、式（Ｖ）において、Ｒ^１０が水素原子又はメチル基、Ｒ^１１が−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｒ−、Ｒ^１２〜Ｒ^１４が、メチル、エチル基等のアルキル基、ｑは、１〜５の整数で表される化合物が好ましい。

具体的には、光重合性化合物（Ｂ）として、式（Ｖ−１）で表される化合物が挙げられる。式（Ｖ−１）で表される化合物は、ＦＭ−７７１１、ＦＭ−７７２１、同ＦＭ−７７２５（いずれも、チッソ（株）社製）として市販されている。

［ｑは、上記と同じ意味を表す。］
また、光重合性化合物（Ｂ）として、式（Ｖ−２）で表される化合物が挙げられる。式（Ｖ−２）で表される化合物は、Ｘ−２２−１６４Ａ、Ｘ−２２−１６４Ｂ、Ｘ−２２−１６４Ｃ（いずれも、信越化学工業（株）社製）として市販されている。

［Ｒ^１６は、それぞれ独立して、炭素数０〜６のアルキレン基を表す。ｑは、上記と同じ意味を表す。］
その他にも、Ｘ−４０−９２７１（信越化学工業（株）社製）、ＥＢＥＣＲＹＬ−３５０、ＥＢＥＣＲＹＬ−１３６０（いずれも、ダイセルサイテック（株）社製）等の市販品を用いることができる。
これらの光重合性化合物（Ｂ）は単独で又は２種以上を組み合わせて用いてもよい。

また、光重合性化合物（Ｂ）は、上述した光重合性化合物に加えて、ケイ素原子を含有しない光重合性化合物を含んでいてもよい。このような化合物としては、単官能モノマー、２官能モノマー、その他３官能以上の多官能モノマーが挙げられる。
単官能モノマーとしては、ノニルフェニルカルビトールアクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレート、２−エチルヘキシルカルビトールアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、Ｎ−ビニルピロリドン等が挙げられる。
２官能モノマーとしては、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡのビス（アクリロイロキシエチル）エーテル、３−メチルペンタンジオールジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。

その他の３官能以上の多官能モノマーとしては、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートと酸無水物との反応物、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートと酸無水物との反応物、分子内に１以上のカプロラクトン変性された３官能以上の多官能モノマー、分子内に３以上のアルキレンオキサイド変性された３官能以上の多官能モノマー等が挙げられる。

なお、本明細書において、カプロラクトン変性とは、（メタ）アクリレート化合物のアルコール由来部位と（メタ）アクリロイルオキシ基との間に、カプロラクトンの開環体又は開環重合体が導入されることを意味する。
また、アルキレンオキサイド変性とは、（メタ）アクリレート化合物のアルコール由来部位と（メタ）アクリロイルオキシ基との間に、アルキレングリコール又は、その脱水縮合体及びアルキレンオキサイドの開環体、又は開環重合体が導入されることを意味する。

分子内に１以上のカプロラクトン変性された３官能以上の多官能モノマーとして、ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＣＡ−２０、ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＣＡ−４０、ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＣＡ−６０、ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＣＡ−１２０（いずれも、日本化薬（株）社製）、ＮＫエステルＡＤ−ＴＭＰ−４ＣＬ（新中村化学工業（株）製）等の市販品を用いてもよい。
分子内に３以上のアルキレンオキサイド変性された３官能以上の多官能モノマーにおいて、好ましいアルキレンオキサイドとしては、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイドが挙げられる。
なかでも、２官能以上の多官能モノマーが好ましく用いられる。
これらは単独で又は２種以上を組み合わせて用いてもよい。

光重合性化合物（Ｂ）の含有量は、ケイ素含有アクリル樹脂（Ａ）及び光重合性化合物（Ｂ）の合計量に対して質量分率で、好ましくは１〜９０質量％、１〜８０質量％、より好ましくは１０〜８０質量％、１０〜５０質量％である。この組成物を用いて表示素子又は装置等を形成した場合に、画素部の強度や平滑性、信頼性が良好とすることができるからである。

本発明の感光性樹脂組成物には、さらに光重合開始剤（Ｃ）が含有されていることが好ましい。光重合開始剤（Ｃ）としては、アセトフェノン系、ビイミダゾール系、オキシム系、トリアジン系、アシルフォスフィンオキサイド系の開始剤が挙げられる。

アセトフェノン系化合物としては、ジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、ベンジルジメチルケタール、２−ヒドロキシ−１−〔４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル〕−２−メチルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルホリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）ブタン−１−オン、２−（２−メチルベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（３−メチルベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（４−メチルベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（２−エチルベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（２−プロピルベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（２−ブチルベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（２，３−ジメチルベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（２、４−ジメチルベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（２−クロロベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（２−ブロモベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（３−クロロベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（４−クロロベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（３−ブロモベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（４−ブロモベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（２−メトキシベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（３−メトキシベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（４−メトキシベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（２−メチル−４−メトキシベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（２−メチル−４−ブロモベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−（２−ブロモ−４−メトキシベンジル）−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−〔４−（１−メチルビニル）フェニル〕プロパン−１−オンのオリゴマー等が挙げられる。

ビイミダゾール化合物としては、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２，３−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール（例えば、特開平６−７５３７２号公報、特開平６−７５３７３号公報等参照）、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（アルコキシフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（ジアルコキシフェニル）ビイミダゾール、２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラ（トリアルコキシフェニル）ビイミダゾール（例えば、特公昭４８−３８４０３号公報、特開昭６２−１７４２０４号公報等参照）、４，４’５，５’−位のフェニル基がカルボアルコキシ基により置換されているイミダゾール化合物（例えば、特開平７−１０９１３号公報等参照）等が挙げられる。

好ましくは２，２’−ビス（２−クロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２、３−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニルビイミダゾール、２，２’−ビス（２、４−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール、２，２’４−トリス（２−クロロフェニル）−５−（３，４−ジメトキシフェニル）−４，５−ジフェニル−１，１’−ビイミダゾールが挙げられる。

オキシム化合物としては、例えば、プロピオニルアセトフェノンオキシム、プロピオニルベンゾフェノンオキシム、プロピオニルアセトンオキシム、ブチリルアセトフェノンオキシム、ブチリルベンゾフェノンオキシム、ブチリルアセトンオキシム、アジポイルアセトフェノンオキシム、アジポイルベンゾフェノンオキシム、アジポイルアセトンオキシム、アクロイルアセトフェノンオキシム、アクロイルベンゾフェノンオキシム、アクロイルアセトンオキシム、Ｏ−エトキシカルボニル−α−オキシイミノ−１−フェニルプロパン−１−オン、式（Ｃ１）で表される化合物（１，２−オクタジオン，１−[４−(フェニルチオ)フェニル]−，２−(Ｏ−ベンゾイルオキシム)（ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ−０１；チバ・ジャパン（株）製））、式（Ｃ２）で表される化合物などが挙げられる。好ましくは式（ＩＶ）で表される化合物が挙げられる。

トリアジン系化合物としては、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（４−メトキシナフチル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−ピペロニル−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−(４−メトキシスチリル)−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−〔２−（５−メチルフラン−２−イル）エテニル〕−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−〔２−（フラン−２−イル）エテニル〕−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−〔２−（４−ジエチルアミノ−２−メチルフェニル）エテニル〕−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−〔２−（３，４−ジメトキシフェニル）エテニル〕−１，３，５−トリアジン等が挙げられる。

アシルフォスフィンオキサイド系開始剤としては、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド等が挙げられる。

また、本発明の効果を損なわない程度であれば、この分野で通常用いられている他の光重合開始剤等をさらに併用することができ、このような光重合開始剤としては、例えば、ベンゾイン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、チオキサントン系化合物、アントラセン系化合物等が挙げられる。

ベンゾイン系化合物としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等が挙げられる。

ベンゾフェノン系化合物としては、例えば、ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、４−フェニルベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチルジフェニルサルファイド、３，３’，４，４’−テトラ（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、２，４，６−トリメチルベンゾフェノン等が挙げられる。

チオキサントン系化合物としては、例えば、２−イソプロピルチオキサントン、４−イソプロピルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジクロロチオキサントン、１−クロロ−４−プロポキシチオキサントン等が挙げられる。

アントラセン系化合物としては、例えば、９，１０−ジメトキシアントラセン、２−エチル−９，１０−ジメトキシアントラセン、９，１０−ジエトキシアントラセン、２−エチル−９，１０−ジエトキシアントラセン等が挙げられる。

その他、１０−ブチル−２−クロロアクリドン、２−エチルアントラキノン、ベンジル、９，１０−フェナンスレンキノン、カンファーキノン、フェニルグリオキシル酸メチル、チタノセン化合物等を用いてもよい。

また、連鎖移動を起こしうる基を有する光重合開始剤として、特表２００２−５４４２０５号公報に記載されている光重合開始剤を使用してもよい。
連鎖移動を起こしうる基を有する光重合開始剤としては、例えば、式（Ｃ３）〜（Ｃ８）の化合物が挙げられる。

なお、これらの連鎖移動を起こしうる基を有する光重合開始剤は、前記のケイ素含有アクリル樹脂の構成単位（Ａ３）としても使用することができる。
光重合開始剤は、単独で又は２種以上を組み合わせて用いてもよい。

本発明の感光性樹脂組成物には、光及び／又は熱カチオン重合開始剤が用いられていてもよい。
光及び／又は熱カチオン重合開始剤としては、オニウムカチオンとルイス酸由来のアニオンとから構成されているものも使用することができる。

前記オニウムカチオンとしては、例えば、ジフェニルヨードニウム、ビス（ｐ−トリル）ヨードニウム、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウム、ビス（ｐ−オクチルフェニル）ヨードニウム、ビス（ｐ−オクタデシルフェニル）ヨードニウム、ビス（ｐ−オクチルオキシフェニル）ヨードニウム、ビス（ｐ−オクタデシルオキシフェニル）ヨードニウム、フェニル（ｐ−オクタデシルオキシフェニル）ヨードニウム、（ｐ−トリル）（ｐ−イソプロピルフェニル）ヨードニウム、トリフェニルスルホニウム、トリス（ｐ−トリル）スルホニウム、トリス（ｐ−イソプロピルフェニル）スルホニウム、トリス（２，６−ジメチルフェニル）スルホニウム、トリス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）スルホニウム、トリス（ｐ−シアノフェニル）スルホニウム、トリス（ｐ−クロロフェニル）スルホニウム、ジメチル（メトキシ）スルホニウム、ジメチル（エトキシ）スルホニウム、ジメチル（プロポキシ）スルホニウム、ジメチル（ブトキシ）スルホニウム、ジメチル（オクチルオキシ）スルホニウム、ジメチル（オクタデカンオキシ）スルホニウム、ジメチル（イソプロポキシ）スルホニウム、ジメチル（ｔｅｒｔ−ブトキシ）スルホニウム、ジメチル（シクロペンチルオキシ）スルホニウム、ジメチル（シクロヘキシルオキシ）スルホニウム、ジメチル（フルオロメトキシ）スルホニウム、ジメチル（２−クロロエトキシ）スルホニウム、ジメチル（３−ブロモプロポキシ）スルホニウム、ジメチル（４−シアノブトキシ）スルホニウム、ジメチル（８−ニトロオクチルオキシ）スルホニウム、ジメチル（１８−トリフルオロメチルオクタデカンオキシ）スルホニウム、ジメチル（２−ヒドロキシイソプロポキシ）スルホニウム、又はジメチル（トリス（トリクロロメチル）メチル）スルホニウムなどが挙げられる。

好ましいオニウムカチオンとしては、ビス（ｐ−トリル）ヨードニウム、（ｐ−トリル）（ｐ−イソプロピルフェニル）ヨードニウム、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウム、トリフェニルスルホニウム又はトリス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）スルホニウムなどが挙げられる。

前記ルイス酸由来のアニオンとしては、例えば、ヘキサフルオロホスフェート、ヘキサフルオロアルセネート、ヘキサフルオロアンチモネート又はテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートなどが挙げられる。好ましいルイス酸由来のアニオンとしては、ヘキサフルオロアンチモネート又はテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートが挙げられる。
前記のオニウムカチオン及びルイス酸由来のアニオンは、任意に組合せることができる。

カチオン重合開始剤の具体例としては、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ビス（ｐ−トリル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ビス（ｐ−オクチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ビス（ｐ−オクタデシルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ビス（ｐ−オクチルオキシフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ビス（ｐ−オクタデシルオキシフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、フェニル（ｐ−オクタデシルオキシフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、（ｐ−トリル）（ｐ−イソプロピルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、メチルナフチルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、エチルナフチルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、トリス（ｐ−トリル）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、トリス（ｐ−イソプロピルフェニル）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、トリス（２，６−ジメチルフェニル）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、トリス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、トリス（ｐ−シアノフェニル）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、トリス（ｐ−クロロフェニル）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチルナフチルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジエチルナフチルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチル（メトキシ）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチル（エトキシ）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチル（プロポキシ）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチル（ブトキシ）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチル（オクチルオキシ）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチル（オクタデカンオキシ）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチル（イソプロポキシ）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチル（ｔｅｒｔ−ブトキシ）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチル（シクロペンチルオキシ）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチル（シクロヘキシルオキシ）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチル（フルオロメトキシ）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチル（２−クロロエトキシ）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチル（３−ブロモプロポキシ）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチル（４−シアノブトキシ）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチル（８−ニトロオクチルオキシ）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチル（１８−トリフルオロメチルオクタデカンオキシ）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチル（２−ヒドロキシイソプロポキシ）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジメチル（トリス（トリクロロメチル）メチル）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート；

ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、ビス（ｐ−トリル）ヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、ビス（ｐ−オクチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、ビス（ｐ−オクタデシルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、ビス（ｐ−オクチルオキシフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、ビス（ｐ−オクタデシルオキシフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、フェニル（ｐ−オクタデシルオキシフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、（ｐ−トリル）（ｐ−イソプロピルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、メチルナフチルヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、エチルナフチルヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、トリス（ｐ−トリル）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、トリス（ｐ−イソプロピルフェニル）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、トリス（２，６−ジメチルフェニル）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、トリス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、トリス（ｐ−シアノフェニル）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、トリス（ｐ−クロロフェニル）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチルナフチルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジエチルナフチルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル（メトキシ）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル（エトキシ）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル（プロポキシ）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル（ブトキシ）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル（オクチルオキシ）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル（オクタデカンオキシ）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル（イソプロポキシ）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル（ｔｅｒｔ−ブトキシ）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル（シクロペンチルオキシ）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル（シクロヘキシルオキシ）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル（フルオロメトキシ）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル（２−クロロエトキシ）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル（３−ブロモプロポキシ）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル（４−シアノブトキシ）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル（８−ニトロオクチルオキシ）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル（１８−トリフルオロメチルオクタデカンオキシ）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル（２−ヒドロキシイソプロポキシ）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル（トリス（トリクロロメチル）メチル）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート；

ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ビス（ｐ−トリル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ビス（ｐ−オクチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ビス（ｐ−オクタデシルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ビス（ｐ−オクチルオキシフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ビス（ｐ−オクタデシルオキシフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、フェニル（ｐ−オクタデシルオキシフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、（ｐ−トリル）（ｐ−イソプロピルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、メチルナフチルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、エチルナフチルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリス（ｐ−トリル）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリス（ｐ−イソプロピルフェニル）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリス（２，６−ジメチルフェニル）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリス（ｐ−シアノフェニル）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリス（ｐ−クロロフェニル）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチルナフチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジエチルナフチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル（メトキシ）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル（エトキシ）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル（プロポキシ）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル（ブトキシ）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル（オクチルオキシ）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル（オクタデカンオキシ）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル（イソプロポキシ）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル（ｔｅｒｔ−ブトキシ）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル（シクロペンチルオキシ）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル（シクロヘキシルオキシ）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル（フルオロメトキシ）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル（２−クロロエトキシ）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル（３−ブロモプロポキシ）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル（４−シアノブトキシ）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル（８−ニトロオクチルオキシ）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル（１８−トリフルオロメチルオクタデカンオキシ）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル（２−ヒドロキシイソプロポキシ）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル（トリス（トリクロロメチル）メチル）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート；

ジフェニルヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ビス（ｐ−トリル）ヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ビス（ｐ−オクチルフェニル）ヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ビス（ｐ−オクタデシルフェニル）ヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、４−メチルフェニル［４−（１−メチルエチル）フェニル］ヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ビス（ｐ−オクチルオキシフェニル）ヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ビス（ｐ−オクタデシルオキシフェニル）ヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、フェニル（ｐ−オクタデシルオキシフェニル）ヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、（ｐ−トリル）（ｐ−イソプロピルフェニル）ヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、メチルナフチルヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、エチルナフチルヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリフェニルスルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリス（ｐ−トリル）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリス（ｐ−イソプロピルフェニル）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリス（２，６−ジメチルフェニル）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリス（ｐ−シアノフェニル）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリス（ｐ−クロロフェニル）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチルナフチルスルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジエチルナフチルスルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチル（メトキシ）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチル（エトキシ）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチル（プロポキシ）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチル（ブトキシ）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチル（オクチルオキシ）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチル（オクタデカンオキシ）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチル（イソプロポキシ）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチル（ｔｅｒｔ−ブトキシ）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチル（シクロペンチルオキシ）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチル（シクロヘキシルオキシ）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチル（フルオロメトキシ）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチル（２−クロロエトキシ）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチル（３−ブロモプロポキシ）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチル（４−シアノブトキシ）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチル（８−ニトロオクチルオキシ）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチル（１８−トリフルオロメチルオクタデカンオキシ）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチル（２−ヒドロキシイソプロポキシ）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジメチル（トリス（トリクロロメチル）メチル）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートなどが挙げられる。

好ましくは、ビス（ｐ−トリル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、（ｐ−トリル）（ｐ−イソプロピルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、トリス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）スルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ビス（ｐ−トリル）ヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、（ｐ−トリル）（ｐ−イソプロピルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアルセネート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、トリス（ｐ−ｔ−ブチルフェニル）スルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ビス（ｐ−トリル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、（ｐ−トリル）（ｐ−イソプロピルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ビス（ｐ−トリル）ヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、（ｐ−トリル）（ｐ−イソプロピルフェニル）ヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウム、トリフェニルスルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートなどが挙げられる。

より好ましくは、ビス（ｐ−トリル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、（ｐ−トリル）（ｐ−イソプロピルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）スルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ビス（ｐ−トリル）ヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、（ｐ−トリル）（ｐ−イソプロピルフェニル）ヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリフェニルスルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、又はトリス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）スルホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートなどが挙げられる。

光重合開始剤（Ｃ）には、光重合開始助剤（Ｃ−１）を併用することが好ましい。得られる感光性樹脂組成物の感度をさらに高め、これを用いてパターンを形成することにより、パターンの生産性が向上するからである。
光重合開始助剤としては、アミン化合物（なかでも、芳香族アミン化合物が好ましい）、カルボン酸化合物、多官能チオール化合物、式（ＩＶ）

（式中、環Ｚはハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数６〜１２の芳香族環、Ｙは、酸素原子、硫黄原子、Ｒ^８は、炭素数１〜６のアルキル基、Ｒ^９は、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数１〜１２のアルキル基又はハロゲン原子で置換されていてもよいアリール基を表す。）
で表わされる化合物等が挙げられる。なかでも、アミン化合物、多官能チオール、式（ＩＶ）の化合物が好ましい。

アミン化合物としては、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン等の脂肪族アミン化合物、４−ジメチルアミノ安息香酸メチル、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、４−ジメチルアミノ安息香酸２−エチルヘキシル、安息香酸２−ジメチルアミノエチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルパラトルイジン、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン（通称；ミヒラーズケトン）、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン等の芳香族アミン化合物が挙げられる。

カルボン酸化合物としては、フェニルチオ酢酸、メチルフェニルチオ酢酸、エチルフェニルチオ酢酸、メチルエチルフェニルチオ酢酸、ジメチルフェニルチオ酢酸、メトキシフェニルチオ酢酸、ジメトキシフェニルチオ酢酸、クロロフェニルチオ酢酸、ジクロロフェニルチオ酢酸、Ｎ−フェニルグリシン、フェノキシ酢酸、ナフチルチオ酢酸、Ｎ−ナフチルグリシン、ナフトキシ酢酸等の芳香族ヘテロ酢酸類等のカルボン酸化合物が挙げられる。

多官能チオール化合物としては、ヘキサンジチオール、デカンジチオール、１，４−ジメチルメルカプトベンゼン、ブタンジオールビスチオプロピオネート、ブタンジオールビスチオグリコレート、エチレングリコールビスチオグリコレート、トリメチロールプロパントリスチオグリコレート、ブタンジオールビスチオプロピオネート、トリメチロールプロパントリスチオプロピオネート、トリメチロールプロパントリスチオグリコレート、ペンタエリスリトールテトラキスチオプロピオネート、ペンタエリスリトールテトラキスチオグリコレート、トリスヒドロキシエチルトリスチオプロピオネート、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトブチレート）、１，４−ビス（３−メルカプトブチリルオキシ）ブタン等の多官能チオール化合物が挙げられる。

式（ＩＶ）の化合物におけるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等が挙げられる。
炭素数６〜１２の芳香族環としては、ベンゼン環、ナフタレン環等が挙げられる。

ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数６〜１２の芳香族環としては、ベンゼン環、メチルベンゼン環、ジメチルベンゼン環、エチルベンゼン環、プロピルベンゼン環、ブチルベンゼン環、ペンチルベンゼン環、ヘキシルベンゼン環、シクロヘキシルベンゼン環、クロロベンゼン環、ジクロロベンゼン環、ブロモベンゼン環、ジブロモベンゼン環、フェニルベンゼン環、クロロフェニルベンゼン環、ブロモフェニルベンゼン環、ナフタレン環、クロロナフタレン環、ブロモナフタレン環等が挙げられる。

炭素数１〜６のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、１−メチル−ｎ−プロピル基、２−メチル−ｎ−プロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、１−メチル−ｎ−ブチル基、２−メチル−ｎ−ブチル基、３−メチル−ｎ−ブチル基、１，１−ジメチル−ｎ−プロピル基、１，２−ジメチル−ｎ−プロピル基、２，２−ジメチル−ｎ−プロピル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。

ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数１〜１２のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、１−メチル−ｎ−プロピル基、２−メチル−ｎ−プロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、１−メチル−ｎ−ブチル基、２−メチル−ｎ−ブチル基、３−メチル−ｎ−ブチル基、１，１−ジメチル−ｎ−プロピル基、１，２−ジメチル−ｎ−プロピル基、２，２−ジメチル−ｎ−プロピル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、１−クロロ−ｎ−ブチル基、２−クロロ−ｎ−ブチル基、３−クロロ−ｎ−ブチル基等が挙げられる。

ハロゲン原子で置換されていてもよいアリール基としては、フェニル基、クロロフェニル基、ジクロロフェニル基、ブロモフェニル基、ジブロモフェニル基、クロロブロモフェニル基、ビフェニル基、クロロビフェニル基、ジクロロビフェニル基、ブロモフェニル基、ジブロモフェニル基、ナフチル基、クロロナフチル基、ジクロロナフチル基、ブロモナフチル基、ジブロモナフチル基等が挙げられる。

式（ＩＶ）の化合物として、具体的には、
２−ベンゾイルメチレン−３−メチル−ナフト［２，１−ｄ］チアゾリン、
２−ベンゾイルメチレン−３−メチル−ナフト［１，２−ｄ］チアゾリン、
２−ベンゾイルメチレン−３−メチル−ナフト［２，３−ｄ］チアゾリン、
２−（２−ナフトイルメチレン）−３−メチルベンゾチアゾリン、
２−（１−ナフトイルメチレン）−３−メチルベンゾチアゾリン、
２−（２−ナフトイルメチレン）−３−メチル−５−フェニルベンゾチアゾリン、
２−（１−ナフトイルメチレン）−３−メチル−５−フェニルベンゾチアゾリン、
２−（２−ナフトイルメチレン）−３−メチル−５−フルオロベンゾチアゾリン、
２−（１−ナフトイルメチレン）−３−メチル−５−フルオロベンゾチアゾリン、
２−（２−ナフトイルメチレン）−３−メチル−５−クロロベンゾチアゾリン、
２−（１−ナフトイルメチレン）−３−メチル−５−クロロベンゾチアゾリン、
２−（２−ナフトイルメチレン）−３−メチル−５−ブロモベンゾチアゾリン、
２−（１−ナフトイルメチレン）−３−メチル−５−ブロモベンゾチアゾリン、
２−（４−ビフェノイルメチレン）−３−メチルベンゾチアゾリン、
２−（４−ビフェノイルメチレン）−３−メチル−５−フェニルベンゾチアゾリン、
２−（２−ナフトイルメチレン）−３−メチル−ナフト［２，１−ｄ］チアゾリン、
２−（２−ナフトイルメチレン）−３−メチル−ナフト［１，２−ｄ］チアゾリン、
２−（４−ビフェノイルメチレン）−３−メチル−ナフト［２，１−ｄ］チアゾリン、
２−（４−ビフェノイルメチレン）−３−メチル−ナフト［１，２−ｄ］チアゾリン、

２−（ｐ−フルオロベンゾイルメチレン）−３−メチル−ナフト［２，１−ｄ］チアゾリン、
２−（ｐ−フルオロベンゾイルメチレン）−３−メチル−ナフト［１，２−ｄ］チアゾリン、
２−ベンゾイルメチレン−３−メチル−ナフト［２，１−ｄ］オキサゾリン、
２−ベンゾイルメチレン−３−メチル−ナフト［１，２−ｄ］オキサゾリン、
２−ベンゾイルメチレン−３−メチル−ナフト［２，３−ｄ］オキサゾリン、
２−（２−ナフトイルメチレン）−３−メチルベンゾオキサゾリン、
２−（１−ナフトイルメチレン）−３−メチルベンゾオキサゾリン、
２−（２−ナフトイルメチレン）−３−メチル−５−フェニルベンゾオキサゾリン、
２−（１−ナフトイルメチレン）−３−メチル−５−フェニルベンゾオキサゾリン、
２−（２−ナフトイルメチレン）−３−メチル−５−フルオロベンゾオキサゾリン、
２−（１−ナフトイルメチレン）−３−メチル−５−フルオロベンゾオキサゾリン、
２−（２−ナフトイルメチレン）−３−メチル−５−クロロベンゾオキサゾリン、
２−（１−ナフトイルメチレン）−３−メチル−５−クロロベンゾオキサゾリン、
２−（２−ナフトイルメチレン）−３−メチル−５−ブロモベンゾオキサゾリン、
２−（１−ナフトイルメチレン）−３−メチル−５−ブロモベンゾオキサゾリン、
２−（４−ビフェノイルメチレン）−３−メチルベンゾオキサゾリン、
２−（４−ビフェノイルメチレン）−３−メチル−５−フェニルベンゾオキサゾリン、
２−（２−ナフトイルメチレン）−３−メチル−ナフト［２，１−ｄ］オキサゾリン、
２−（２−ナフトイルメチレン）−３−メチル−ナフト［１，２−ｄ］オキサゾリン、
２−（４−ビフェノイルメチレン）−３−メチル−ナフト［２，１−ｄ］オキサゾリン、
２−（４−ビフェノイルメチレン）−３−メチル−ナフト［１，２−ｄ］オキサゾリン、
２−（ｐ−フルオロベンゾイルメチレン）−３−メチル−ナフト［２，１−ｄ］オキサゾリン、
２−（ｐ−フルオロベンゾイルメチレン）−３−メチル−ナフト［１，２−ｄ］オキサゾリン等が挙げられる。

なかでも、式（IV-1）で表される２−（２−ナフトイルメチレン）−３−メチルベンゾチアゾリン、式（IV-2）で表される２−ベンゾイルメチレン−３−メチルーナフト［１，２−ｄ］チアゾリン及び式（IV-3）で表される２−（４−ビフェノイルメチレン）−３−メチル−ナフト［１，２−ｄ］チアゾリンが好ましい。

光重合開始剤（Ｃ）の含有量は、ケイ素含有アクリル樹脂（Ａ）及び光重合性化合物（Ｂ）の合計量に対して質量分率で、好ましくは０．１〜４０質量％、より好ましくは１〜３０質量％である。
また、光重合開始助剤（Ｃ−１）の含有量は、前記と同じ基準で、好ましくは０．０１〜５０質量％、より好ましくは０．１〜４０質量％である。
光重合開始剤（Ｃ）の合計量を、前記の範囲にすることにより、感光性樹脂組成物が高感度となり、前記の感光性樹脂組成物を用いて形成した画素部の強度や、前記の画素の表面における平滑性が良好になる傾向となる。また、光重合開始助剤（Ｃ−１）の量を、前記の範囲とすることにより、得られる感光性樹脂組成物の感度がさらに高くなり、前記の感光性樹脂組成物を用いて形成するパターン基板の生産性を向上させることができる。

本発明の感光性樹脂組成物は、無溶剤でもよいが、さらに溶剤（Ｄ）が含まれていることが好ましい。
溶剤（Ｄ）は、感光性樹脂組成物の分野で用いられている各種の有機溶剤を用いることができる。
具体例には、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル及びエチレングリコールモノブチルエーテルのようなエチレングリコールモノアルキルエーテル類；
ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールジプロピルエーテル及びジエチレングリコールジブチルエーテルのようなジエチレングリコールジアルキルエーテル類；

メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート及びエチレングリコールモノエチルエーテルアセテートのようなエチレングリコールアルキルエーテルアセテート類；
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、メトキシブチルアセテート及びメトキシペンチルアセテートのようなアルキレングリコールアルキルエーテルアセテート類；
プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテルのようなプロピレングリコールモノアルキルエーテル類；

プロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールエチルメチルエーテル、プロピレングリコールジプロピルエーテルプロピレングリコールプロピルメチルエーテル及びプロピレングリコールエチルプロピルエーテルのようなプロピレングリコールジアルキルエーテル類
プロピレングリコールメチルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールエチルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールプロピルエーテルプロピオネート及びプロピレングリコールブチルエーテルプロピオネートのようなプロピレングリコールアルキルエーテルプロピオネート類；
メトキシブチルアルコール、エトキシブチルアルコール、プロポキシブチルアルコール及びブトキシブチルアルコールのようなブチルジオールモノアルキルエーテル類；
メトキシブチルアセテート、エトキシブチルアセテート、プロポキシブチルアセテート、及びブトキシブチルアセテートのようなブタンジオールモノアルキルエーテルアセテート類；

メトキシブチルプロピオネート、エトキシブチルプロピオネート、プロポキシブチルプロピオネート、及びブトキシブチルプロピオネートのようなブタンジオールモノアルキルエーテルプロピオネート類；
ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル及びジプロピレングリコールメチルエチルエーテルのようなジプロピレングリコールジアルキルエーテル類；
ベンゼン、トルエン、キシレン及びメシチレンのような芳香族炭化水素類；
メチルエチルケトン、アセトン、メチルアミルケトン、メチルイソブチルケトン及びシクロヘキサノンのようなケトン類；
エタノール、プロパノール、ブタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、エチレングリコール及びグリセリンのようなアルコール類；

酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、ヒドロキシ酢酸メチル、ヒドロキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸プロピル、乳酸ブチル、３−ヒドロキシプロピオン酸メチル、３−ヒドロキシプロピオン酸エチル、３−ヒドロキシプロピオン酸プロピル、３−ヒドロキシプロピオン酸ブチル、２−ヒドロキシ−３−メチルブタン酸メチル、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸プロピル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、エトキシ酢酸プロピル、エトキシ酢酸ブチル、プロポキシ酢酸メチル、プロポキシ酢酸エチル、プロポキシ酢酸プロピル、プロポキシ酢酸ブチル、ブトキシ酢酸メチル、ブトキシ酢酸エチル、ブトキシ酢酸プロピル、ブトキシ酢酸ブチル、２−メトキシプロピオン酸メチル、２−メトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシプロピオン酸プロピル、２−メトキシプロピオン酸ブチル、２−エトキシプロピオン酸メチル、２−エトキシプロピオン酸エチル、２−エトキシプロピオン酸プロピル、２−エトキシプロピオン酸ブチル、２−ブトキシプロピオン酸メチル、２−ブトキシプロピオン酸エチル、２−ブトキシプロピオン酸プロピル、２−ブトキシプロピオン酸ブチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸プロピル、３−メトキシプロピオン酸ブチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸プロピル、３−エトキシプロピオン酸ブチル、３−プロポキシプロピオン酸メチル、３−プロポキシプロピオン酸エチル、３−プロポキシプロピオン酸プロピル、３−プロポキシプロピオン酸ブチル、３−ブトキシプロピオン酸メチル、３−ブトキシプロピオン酸エチル、３−ブトキシプロピオン酸プロピル及び３−ブトキシプロピオン酸ブチルなどのエステル類；
テトラヒドロフラン及びピランのような環状エーテル類；
γ−ブチロラクトンのような環状エステル類などが挙げられる。

上記の溶剤のうち、塗布性、乾燥性の点から、好ましくは前記溶剤の中で沸点が１００℃〜２００℃である有機溶剤が挙げられ、より好ましくはアルキレングリコールアルキルエーテルアセテート類、ケトン類、ブタンジオールアルキルエーテルアセテート類、ブタンジオールモノアルキルエーテル類、３−エトキシプロピオン酸エチル及び３−メトキシプロピオン酸メチルのようなエステル類が挙げられ、とりわけ好ましくはプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、シクロヘキサノン、メトキシブチルアセテート、メトキシブタノール、３−エトキシプロピオン酸エチル及び３−メトキシプロピオン酸メチルが挙げられる。
これらの溶剤（Ｄ）は、それぞれ単独又は２種類以上混合して用いることができる。

上記の溶剤のうち、塗布性、乾燥性の点から、沸点が１００℃〜２００℃である有機溶剤が好ましく、さらに、アルキレングリコールアルキルエーテルアセテート類、ケトン類、ブタンジオールアルキルエーテルアセテート類、ブタンジオールモノアルキルエーテル類、３−エトキシプロピオン酸エチル及び３−メトキシプロピオン酸メチル等のエステル類がより好ましい。特に、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、シクロヘキサノン、メトキシブチルアセテート、メトキシブタノール、３−エトキシプロピオン酸エチル及び３−メトキシプロピオン酸メチル等が好ましい。
これらの溶剤（Ｄ）は、単独で又は２種以上を組み合わせて用いてもよい。

本発明の感光性樹脂組成物における溶剤（Ｄ）の含有量は、感光性樹脂組成物に対して質量分率で、好ましくは６０〜９０質量％、より好ましくは７０〜８５質量％である。溶剤（Ｄ）の含有量が、前記の範囲にあると、スピンコーター、スリット＆スピンコーター、スリットコーター（ダイコーター、カーテンフローコーターとも呼ばれることがある）、インクジェット等の塗布装置で塗布したときに塗布性が良好になる見込みがあり、好ましい。

本発明の感光性樹脂組成物には、必要に応じて、充填剤、他の高分子化合物、レベリング剤、密着促進剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、凝集防止材、凝集剤、連鎖移動剤等の添加剤を併用してもよい。

充填剤としては、ガラス、シリカ、アルミナ等が例示される。
他の高分子化合物としては、エポキシ樹脂、マレイミド樹脂等の硬化性樹脂やポリビニルアルコール、ポリアクリル酸、ポリエチレングリコールモノアルキルエーテル、ポリフルオロアルキルアクリレート、ポリエステル、ポリウレタン等の熱可塑性樹脂等を用いることができる。

レベリング剤としては、市販の界面活性剤を用いることができ、例えば、シリコーン系、フッ素系、エステル系、カチオン系、アニオン系、ノニオン系、両性等の界面活性剤等が挙げられ、それぞれ単独で又は２種以上を組合せて用いられる。前記の界面活性剤の例としては、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類、ポリエチレングリコールジエステル類、ソルビタン脂肪酸エステル類、脂肪酸変性ポリエステル類、３級アミン変性ポリウレタン類、ポリエチレンイミン類等、商品名でＫＰ（信越化学工業（株）製）、ポリフロー（共栄社化学（株）製）、エフトップ（トーケムプロダクツ社製）、メガファック（大日本インキ化学工業（株）製）、フロラード（住友スリーエム（株）製）、アサヒガード、サーフロン（以上、旭硝子（株）製）、ソルスパース（ゼネカ（株）製）、ＥＦＫＡ（ＥＦＫＡ ＣＨＥＭＩＣＡＬＳ社製）、ＰＢ８２１（味の素（株）製）等が挙げられる。

酸化防止剤としては、２−ｔｅｒｔ−ブチル−６−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェニルアクリレート、２−［１−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ペンチルフェニル）エチル］−４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ペンチルフェニルアクリレート、６−［３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロポキシ］−２，４，８，１０−テトラ−ｔｅｒｔ−ブチルジベンズ［ｄ、ｆ］［１，３，２］ジオキサフォスフェピン、３，９−ビス［２−｛３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ｝−１，１−ジメチルエチル］−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカン、２，２’−メチレンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール）、４，４’−ブチリデンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−３−メチルフェノール）、４，４’−チオビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェノール）、２，２’−チオビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール）、ジラウリル３，３’−チオジプロピオネート、ジミリスチル３，３’−チオジプロピオネート、ジステアリル３，３’−チオジプロピオネート、ペンタエリスリチルテトラキス（３−ラウリルチオプロピオネート）、１，３，５−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−１，３，５−トリアジン−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−トリオン、３，３’，３’’，５，５’，５’’−ヘキサ−ｔｅｒｔ−ブチル−ａ，ａ’，ａ’’−（メシチレン−２，４，６−トリイル）トリ−ｐ−クレゾール、ペンタエリスリトールテトラキス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール等が挙げられる。

紫外線吸収剤としては、２−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、アルコキシベンゾフェノン等が挙げられる。
凝集剤としては、ポリアクリル酸ナトリウム等が挙げられる。
連鎖移動剤としては、ドデシルメルカプタン、２，４−ジフェニル−４−メチル−１−ペンテン等が挙げられる。

本発明の感光性樹脂組成物は、例えば、以下のようにして基材上に塗布し、光硬化及び現像を行って、パターンを形成することができる。
まず、この組成物を、基板（通常はガラス基板、感光性樹脂組成物の固形分からなる層、電極等が形成されていてもよい）上に塗布する。塗布方法としては、例えば、スピンコート、流延塗布法、ロール塗布法、スリット・アンド・スピンコート又はスリットコート法等が挙げられる。
塗布された感光性樹脂組成物層を、加熱乾燥（プリベーク）又は減圧乾燥後に加熱することにより、溶剤等の揮発成分を除去し、平滑な塗膜を得る。ここで、加熱の温度は、７０〜２００℃程度、好ましくは８０〜１３０℃程度が挙げられる。これにより、感光性樹脂組成物層は揮発成分をほとんど含まなくなる。このときの塗膜の厚さは、１〜８μｍ程度とすることが適している。

このようにして得られた塗膜に、目的のパターンを形成するためのマスクを介して紫外線等の電子線を照射する。この際、露光部全体に均一に平行光線を照射することが好ましく、かつマスクと基板の正確な位置合わせが行われるよう、マスクアライナーやステッパ等の装置を使用するのが好ましい。
次いで、硬化した塗膜を、現像液に接触させて非露光部を溶解させ、現像することにより、目的とするパターン形状を得る。現像方法は、液盛り法、ディッピング法、スプレー法等のいずれでもよい。さらに現像時に基板を任意の角度に傾けてもよい。

現像液は、通常、アルカリ性化合物と界面活性剤とを含む水溶液が用いられる。
アルカリ性化合物は、無機及び有機のアルカリ性化合物のいずれでもよい。無機アルカリ性化合物の具体例としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、燐酸水素二ナトリウム、燐酸二水素ナトリウム、燐酸水素二アンモニウム、燐酸二水素アンモニウム、燐酸二水素カリウム、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、ホウ酸ナトリウム、ホウ酸カリウム、アンモニア等が挙げられる。

また、有機アルカリ性化合物の具体例としては、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、２−ヒドロキシエチルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、エタノールアミン等が挙げられる。
これらの無機及び有機アルカリ性化合物は、それぞれ単独で又は２種以上組合せて用いることができる。アルカリ現像液中のアルカリ性化合物の濃度は、好ましくは０．０１〜１０質量％であり、より好ましくは０．０３〜５質量％である。

アルカリ現像液中の界面活性剤は、ノニオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤又はカチオン系界面活性剤のいずれでもよい。
ノニオン系界面活性剤としては、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアリールエーテル、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル、その他のポリオキシエチレン誘導体、オキシエチレン／オキシプロピレンブロックコポリマー、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビトール脂肪酸エステル、グリセリン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルアミン等が挙げられる。

アニオン系界面活性剤としては、ラウリルアルコール硫酸エステルナトリウムやオレイルアルコール硫酸エステルナトリウムのような高級アルコール硫酸エステル塩類、ラウリル硫酸ナトリウムやラウリル硫酸アンモニウムのようなアルキル硫酸塩類、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムやドデシルナフタレンスルホン酸ナトリウムのようなアルキルアリールスルホン酸塩類等が挙げられる。
カチオン系界面活性剤としては、ステアリルアミン塩酸塩やラウリルトリメチルアンモニウムクロライドのようなアミン塩又は第四級アンモニウム塩等が挙げられる。
これらの界面活性剤は、それぞれ単独又は２種以上組合せて用いることができる。
アルカリ現像液中の界面活性剤の濃度は、好ましくは０．０１〜１０質量％の範囲、より好ましくは０．０５〜８質量％、より好ましくは０．１〜５質量％である。

得られたパターンは、現像後、水洗いを行い、さらに必要に応じて１５０〜２３０℃で１０〜６０分のポストベークを施してもよい。

本発明の感光性樹脂組成物を用いて、以上のような各工程を経て、基板上あるいはカラーフィルタ基板上に、パターンを形成することができる。このパターンは、液晶表示装置に使用されるフォトスペーサとして有用である。また、乾燥塗膜へのパターニング露光の際に、ホール形成用フォトマスクを使用すれば、ホールを形成することができ、層間絶縁膜として有用である。さらに、乾燥塗膜への露光の際に、フォトマスクを使用せず全面露光及び加熱硬化、あるいは加熱硬化のみで透明膜を形成することができ、この透明膜は、オーバーコートとして有用であり、また、タッチパネル等の種々の用途に用いることができる。

以下、実施例によって本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。以下においては、含有量ないし使用量を表す％及び部は、特に断らないかぎり質量基準である。

合成例１：ケイ素含有アクリル樹脂（Ａ）の合成
還流冷却器、滴下ロート及び攪拌機を備えた１Ｌのフラスコ内に窒素を０．０２Ｌ／分で流して窒素雰囲気とし、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート３００質量部を入れ、撹拌しながら９０℃まで加熱した。
次いで、メタクリル酸３０質量部、３−メタクリロキシプロピルトリス（トリメチルシロキシ）シラン〔式（Ｉ−３）〕

１３５質量部、２−（メタクリロイルオキシ）エチルアセトアセテート〔式（１）〕１８０質量部及び、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１６０質量部に溶解して溶液を調製し、この溶解液を、滴下ロートを用いて４時間かけて、９０℃に保温したフラスコ内に滴下した。
一方、重合開始剤２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）１５質量部をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１８０質量部に溶解した溶液を、別の滴下ロートを用いて４時間かけてフラスコ内に滴下した。
重合開始剤の溶液の滴下が終了した後、４時間、９０℃に保持し、その後室温まで冷却して、固形分３５．０質量％、酸価６５ｍｇ−ＫＯＨ／ｇ（固形分換算）の共重合体の溶液を得た。得られた樹脂ａの重量平均分子量Ｍｗは、９９００であった。

合成例２：ケイ素非含有アクリル樹脂の合成
還流冷却器、滴下ロート及び攪拌機を備えた１Ｌのフラスコ内に窒素を０．０２Ｌ／分で流して窒素雰囲気とし、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート３００質量部を入れ、撹拌しながら９０℃まで加熱した。
次いで、メタクリル酸４５質量部、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド７０質量部、２−（メタクリロイルオキシ）エチルアセトアセテート〔式（１）〕２３０質量部及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１６０質量部に溶解して溶液を調製し、この溶解液を、滴下ロートを用いて４時間かけて、９０℃に保温したフラスコ内に滴下した。
一方、重合開始剤２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）１５質量部をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１８０質量部に溶解した溶液を、別の滴下ロートを用いて４時間かけてフラスコ内に滴下した。
重合開始剤の溶液の滴下が終了した後、４時間、９０℃に保持し、その後室温まで冷却して、固形分３５．０質量％、酸価８０ｍｇ−ＫＯＨ／ｇ（固形分換算）の共重合体の溶液を得た。得られた樹脂ｂの重量平均分子量Ｍｗは、１０２５０であった。

これらの樹脂ａ、ｂの重量平均分子量（Ｍｗ）の測定は、ＧＰＣ法を用いて、以下の条件で行った。
装置；Ｋ２４７９（（株）島津製作所製）
カラム；ＳＨＩＭＡＤＺＵ Ｓｈｉｍ−ｐａｃｋ ＧＰＣ−８０Ｍ
カラム温度；４０℃
溶媒；ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）
流速；１．０ｍＬ／ｍｉｎ
検出器；ＲＩ

実施例１
合成例１で得られたケイ素含有アクリル樹脂（Ａ）ａの溶液１４３部（固形分換算５０部）、シリコンヘキサアクリレート（ＥＢＥＣＲＹＬ１３６０；ダイセルサイテック社製）（Ｂの構成単位）２０部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（Ｂの他の構成単位）３０部、２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）−１−［４−（フェニルチオ）フェニル］−１，２−オクタンジオン（ＯＸＥ−０１；Ｃｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ社製）（Ｃ）５部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１３０部を混合して感光性樹脂組成物１を得た。

＜パターン形成＞
２インチ角のガラス基板（イーグル２０００；コーニング社製）を、中性洗剤、水及びアルコールで順次洗浄し、乾燥した。このガラス基板上に、感光性樹脂組成物１を、スピンコートにより塗布し、クリーンオーブン中、１００℃で３分間プリベークした。
冷却後、この感光性樹脂組成物を塗布した基板と石英ガラス製フォトマスクとの間隔を１００μｍにし、露光機（ＴＭＥ−１５０ＲＳＫ；トプコン（株）製）を用いて、大気雰囲気下、１００ｍＪ／ｃｍ^２の露光量（３６５ｎｍ基準）で光照射した。
なお、フォトマスクとして、
（１）１辺が１０μｍである正方形の透光部（パターン）を有し、当該正方形の間隔が１００μｍ。
（２）１辺が１５μｍである正方形の透光部（パターン）を有し、当該正方形の間隔が１００μｍ
のパターンを同一平面上に有するマスクを用いた。

光照射後、得られた基板を、非イオン系界面活性剤０．１２％と水酸化カリウム０．０４％を含む水系現像液に、２５℃で１００秒間浸漬して、感光性樹脂組成物を現像し、水洗後、オーブン中、２２０℃で２０分間ポストベークを行った。
放冷後、得られた硬化膜の膜厚は、膜厚測定装置（ＤＥＫＴＡＫ３；日本真空技術（株）製）を用いて測定したところ、３．１μｍであった。

＜線幅、断面形状＞
得られた硬化膜を、走査型電子顕微鏡（Ｓ−４０００；（株）日立製作所社製）を用いて、線幅、形状（断面）を観察、測定した。
フォトマスク上の１０μｍパターンに対応するパターンにおいて測定された線幅は、１１．６μｍであった。断面形状は、基板に対するパターンの角度が、９０度未満であって、順テーパーであった。なお、基板に対するパターンの角度が９０度以上のときを逆テーパーとして判断した。順テーパーであると、液晶表示装置の形成時に、ＩＴＯ配線の断線が起こりにくいので、好ましい。

＜溶解性＞
実施例１の感光性樹脂組成物の溶液を観察した。
その結果、感光性樹脂組成物１は透明で均一な溶液であった。
なお、表２では、透明で均一な溶液を○、不均一又は白濁した溶液を×とする。

＜塗膜状態＞
透明ガラス基板［＃１７３７；コーニング社製］に、ステッパによる露光工程を行わない以外は上記と同じ方法により硬化樹脂膜を形成し、目視にて塗膜状態を観察した。
その結果、感光性樹脂組成物１では透明で均一な塗膜であった。
なお、表２では、透明な塗膜を○、白濁した塗膜を×とする。

＜可視光線透過率＞
透明ガラス基板［＃１７３７；コーニング社製］に、ステッパによる露光工程を行わない以外は上記と同じ方法により硬化樹脂膜を形成し、顕微分光光度計［ＯＳＰ−２００；オリンパス光学工業（株）製］を用いて測定した。膜厚は膜厚計［ＤＥＫＴＡＫ３；（株）ＵＬＶＡＣ製］で測定した。
その結果、得られた硬化樹脂膜３μｍあたりの、波長４００〜７５０ｎｍにおける光線平均透過率は９９．７％と高い透明性を表し、着色はみられなかった。

＜耐熱性＞
露光工程において、フォトマスクを使用しない以外は、同様の操作を行い、塗膜を作製した。作製された塗膜を、２４０℃のクリーンオーブン中に１時間放置し、加熱前後の透過率を測定し、次式にしたがって、その透過率変化を求め、これを耐熱性の指標とした。
透過率変化（％）＝１００×［加熱後の透過率（％）］／［加熱前の透過率（％）］
得られた値は、９６．０％であった。
この透過率変化は、８５％以上であることが好ましい。

＜耐溶剤性＞
露光工程において、フォトマスクを使用しない以外は、同様の操作を行い、塗膜を作製し、その膜厚を測定した。得られた塗膜を、４０℃のＮ−メチルピロリドン中に４０分間浸漬し、浸漬後の膜厚を測定した。
次式にしたがって膜厚変化を求め、これを耐溶剤性の指標とした。
膜厚変化（％）＝１００×［浸漬後の膜厚（μｍ）］／［浸漬前の膜厚（μｍ）］
得られた値は、１０３％であった。
この膜厚変化は、１０４％以下であることが好ましい。

＜屈折率＞
４インチシリコンウェハ上に、上記で得た感光性樹脂組成物１をスピンコートし、ホットプレート上において１００℃で２分間加熱処理（プリベーク）した。クリーンオーブン中２２０℃で３０分間加熱して、硬化樹脂膜を形成した。得られた硬化樹脂パターンの厚みを、膜厚計を用いて測定したところ、０．７５μｍであった。なお膜厚は膜厚計（ラムダエース；大日本スクリーン製）で測定した。波長５５０ｎｍでの屈折率は、屈折率計[分光エリプソメータ;ＳＯＰＲＡ（株）製]を用いて測定した。得られた値は、屈折率ｎ＝１．５０であった。

実施例２〜４
表１に示す組成となるように、感光性樹脂組成物２〜４を得て、実施例１と同様にして、その評価を行った。その結果を表２に示す。

比較例１〜３
表１に示す組成となるように、感光性樹脂組成物５〜７を得て、実施例１と同様にして、その評価を行った。その結果を表２に示す。

光重合性化合物^＊；シリコンヘキサアクリレート
（EBECRYL 1360 ；ダイセルサイテック社製）
光重合性化合物^＊＊；ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
（KAYARAD DPHA；日本化薬（株）製）
光重合開始剤^＊＊＊；２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）−１−［４−（フェニルチオ）フェニル］−１，２−オクタンジオン（OXE-01；Ciba Specialty Chemicals社製）

表２に示す実施例１〜４の結果から、ケイ素含有アクリル樹脂（Ａ）を含む感光性樹脂組成物は、特定の構造を有する光重合性化合物（Ｂ）との相溶性に優れることが確認された。これにより、着色がなく、可視光に対する高い透過率を有し、目的とする形状の硬化樹脂パターンを容易に形成できる。
また、実施例の感光性樹脂組成物は、ケイ素原子、特に、シロキサン基を有するため、耐薬品性及び耐熱性に優れ、低屈折率等の付加機能を有する塗膜及び硬化樹脂パターンを形成することができることを確認した。
これに対して、ケイ素含有アクリル樹脂を含有しない樹脂と、ケイ素、シロキサン骨格を有する樹脂との組み合わせ（比較例２、３）、ケイ素含有アクリル樹脂とケイ素等を含有しない光重合性化合物との組み合わせ（比較例１）では、いずれも、塗膜が白化し、塗膜の相溶性が非常に悪いことが確認された。

本発明の感光性樹脂組成物は、着色がなく可視光に対する高い透過率を有する硬化樹脂パターンを提供できる。また、本発明の感光性樹脂組成物を用いると、目的とする形状の硬化樹脂パターンを容易に形成することができ、フォトスペーサ、絶縁膜、液晶配向制御用突起、オーバーコート、着色パターンの膜厚をあわせるためのコート層、光導波路材料及び光スイッチング材料等、表示装置に用いられる膜の形成に用いることができる。

Claims (7)

1. ケイ素含有アクリル樹脂（Ａ）、光重合性化合物（Ｂ）（ただし、（Ａ）とは異なる）、光重合開始剤（Ｃ）及び溶剤（Ｄ）を含有し、
   光重合性化合物（Ｂ）が、ケイ素原子、シロキサン骨格及び２以上の（メタ）アクリル基及び／又は（メタ）アクリロイル基を含有し、ケイ素原子に、非加水分解性基が結合されてなる光重合性化合物であることを特徴とする感光性樹脂組成物。
2. ケイ素含有アクリル樹脂（Ａ）が、ケイ素原子を有する非加水分解性重合性不飽和化合物（Ａ１）と、不飽和カルボン酸及び／又は不飽和カルボン酸無水物（Ａ２）とを含むモノマー由来の共重合体を含有してなるケイ素含有アクリル樹脂である請求項１記載の感光性樹脂組成物。
3. ケイ素原子を有する非加水分解性重合性不飽和化合物（Ａ１）が、式（Ｉ）
   

   

   ［式（Ｉ）中、Ｒ^１は、水素原子又はメチル基を表す。
   Ｒ^２は、−（ＣＨ_２）_ｗ−、−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｗ−又は−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｗ−を表す。Ｒ^２に含まれる炭素原子は、ヘテロ原子で置換されていてもよい。ｗは、０〜８の整数を表す。
   Ｒ^３〜Ｒ^５は、それぞれ独立に、炭素数１〜１２の脂肪族炭化水素基、炭素数６〜１２のアリール基又は炭素数７〜１２のアラルキル基を表す。
   ｙは、１〜５の整数を表し、ｘ及びｚは、０〜５の整数を表す。］
   で表される化合物である請求項２記載の感光性樹脂組成物。
4. ケイ素含有アクリル樹脂（Ａ）が、（Ａ１）と、（Ａ２）と、（Ａ１）及び（Ａ２）と共重合可能な単量体（Ａ３）（ただし、（Ａ１）及び（Ａ２）とは異なる。）とを含むモノマー由来の共重合体を含有してなるケイ素含有アクリル樹脂である請求項２又は３記載の感光性樹脂組成物。
5. 光重合性化合物（Ｂ）におけるケイ素原子に結合した非加水分解性基が、環状、分岐状又は直鎖状の炭素数１〜１２の飽和脂肪族炭化水素基、炭素数１〜１２のアリール基もしくは炭素数１〜１２のアラルキル基である請求項１〜４のいずれかに記載の感光性樹脂組成物。
6. 請求項１〜５のいずれかに記載の感光性樹脂組成物を用いて形成される硬化樹脂パターン。
7. 請求項６に記載の硬化樹脂パターンを含む表示素子。