JP2009208044A - Method for forming thin film - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、薄膜形成方法に関する。 The present invention relates to a thin film forming method.
近年、液滴吐出法を用いた成膜技術が注目されている。液滴吐出法によれば、膜の形成材料を含んだ微小な液状体を所望の位置に配置することが可能である。これにより、微細な膜パターンを形成することができ、フォトリソグラフィ法を用いる場合よりもパターニングが容易化される。また、膜の形成材料のムダを少なくできるので、製造コストを低くすることができる。 In recent years, a film forming technique using a droplet discharge method has attracted attention. According to the droplet discharge method, it is possible to dispose a minute liquid containing a film forming material at a desired position. Thereby, a fine film pattern can be formed, and patterning is facilitated as compared with the case of using a photolithography method. In addition, since the waste of the film forming material can be reduced, the manufacturing cost can be reduced.
液滴吐出法に用いられる液滴吐出ヘッドは、例えばY方向に並んだ多数の吐出ユニットを備えている。各吐出ユニットは、液状体の貯留部、ノズル、液状体を加圧してノズルから押し出すピエゾ素子等を備えている。液状体を配置するには、液滴吐出ヘッドで塗布領域をX方向に走査(スキャン)しつつ、吐出ユニットから液状体を吐出させる。1回のスキャンにより、液滴吐出ヘッドの幅程度で液状体を配置することができる。 A droplet discharge head used in the droplet discharge method includes, for example, a large number of discharge units arranged in the Y direction. Each discharge unit includes a liquid reservoir, a nozzle, a piezoelectric element that pressurizes the liquid and pushes it out of the nozzle. In order to dispose the liquid material, the liquid material is discharged from the discharge unit while scanning the application region in the X direction with the droplet discharge head. The liquid can be arranged with the width of the droplet discharge head by one scan.
また、塗布領域と液滴吐出ヘッドとのY方向の相対位置を異ならせて複数回数のスキャンを行うことにより、液滴吐出ヘッドの幅よりも広い塗布領域全体にわたって液状体を配置することができる。塗布領域全体にわたって1回の塗布を行う動作は、パスと呼ばれることがある。通常、パスを複数回数行うことにより所定量の液状体を配置している。 In addition, by performing a plurality of scans with different relative positions in the Y direction between the application region and the droplet discharge head, the liquid material can be disposed over the entire application region wider than the width of the droplet discharge head. . The operation of performing one application over the entire application region may be referred to as a pass. Usually, a predetermined amount of liquid material is arranged by performing a plurality of passes.
液滴吐出ヘッドにあっては、複数の吐出ユニットにおける液状体の吐出量を均一にすることが重要である。吐出量にばらつきを生じているとY方向に膜厚のばらつきを生じてしまうからである。例えば、画像表示装置のカラーフィルタに膜厚ばらつきを生じると、これがX方向に沿うスジ(スジムラ)として視認され、表示品質が損なわれてしまう。 In the droplet discharge head, it is important to make the discharge amount of the liquid material uniform in the plurality of discharge units. This is because if the discharge amount varies, the film thickness varies in the Y direction. For example, when a film thickness variation occurs in the color filter of the image display device, this is recognized as a streak (straight line) along the X direction, and the display quality is impaired.
吐出量のバラつきを小さくするためには、特許文献1、2に開示されている方法を適用することが考えられる。特許文献1では、液滴の吐出量が設定値と大きく異なる吐出ユニットの吐出動作を規制し、吐出量のばらつきを小さくしている。また、特許文献2では、インクジェット記録ヘッド(プリンタ)において、アクチュエータの駆動電圧波形を複数種類から選択することにより、記録ドットの大きさ(吐出量)を可変にしている。これらの技術を適用する上で、各吐出ユニットの吐出量を正確に知ることは極めて重要である。吐出量が設定値に対してどの程度異なっているかを知ることで、吐出量の制御を良好に行うことが可能となるためである。
一般に吐出量の評価は、全ての吐出ユニットを一定の電圧値で駆動して基板上に液状体を配置し、配置された液状体の体積を測定することにより行われている。しかしながら、このようにして評価した吐出量は、以下の理由により実際の成膜工程における吐出量と異なってしまうおそれがある。 In general, the evaluation of the discharge amount is performed by driving all the discharge units at a constant voltage value, placing the liquid material on the substrate, and measuring the volume of the disposed liquid material. However, the discharge amount evaluated in this way may be different from the discharge amount in the actual film forming process for the following reason.
大型デバイス用の基板、多面取り用の基板等の大判の基板に成膜する場合には、複数のスキャンや複数のパスにより液状体を配置する。これは、液滴吐出ヘッドを大型化すると装置コストが高くなることや、吐出ユニット数が増えることによりその特性のばらつきが大きくなること等の不都合を生じるからである。 When a film is formed on a large substrate such as a large device substrate or a multi-surface substrate, the liquid material is arranged by a plurality of scans or a plurality of passes. This is because an increase in the size of the droplet discharge head causes problems such as an increase in apparatus cost and an increase in the number of discharge units resulting in a large variation in characteristics.
複数のスキャンを行う場合には、スキャンごとに使用する吐出ユニットの組み合わせは、描画パターンに応じて異なる。また、パスによって、使用する吐出ユニットを意図的に異ならせる場合もある。これにより、吐出量の誤差を分散させることができ、配置された液状体の量を均一化することができる。ところが、使用する吐出ユニットの組み合わせが異なると、吐出動作における液状体の加圧時に圧力伝播の様態が異なること等により、設定値に対する吐出量が変化してしまう。したがって、前記のようにして評価した吐出量に基づいて吐出量を調整しても、実際の成膜時には所定量の吐出量にならなくなってしまうのである。 When performing a plurality of scans, the combination of ejection units used for each scan differs depending on the drawing pattern. Moreover, the discharge unit to be used may differ intentionally by pass. Thereby, the error of the discharge amount can be dispersed, and the amount of the disposed liquid material can be made uniform. However, if the combination of the discharge units to be used is different, the discharge amount with respect to the set value changes due to the difference in the state of pressure propagation when the liquid is pressurized in the discharge operation. Therefore, even if the discharge amount is adjusted based on the discharge amount evaluated as described above, the discharge amount does not become a predetermined amount during actual film formation.
本発明は、前記事情に鑑み成されたものであって、各吐出ユニットにおける吐出量の高精度な評価を可能とし、良好な薄膜が得られる形成方法を提供することを目的の1つとする。 The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a forming method that enables highly accurate evaluation of the discharge amount in each discharge unit and provides a good thin film.
本発明の薄膜形成方法は、薄膜の形成材料を含んだ液状体を吐出する複数の吐出ユニットを備えた液滴吐出ヘッドと被処理基板とを所定の方向において相対的に複数回走査させながら前記被処理基板に前記液状体を吐出し、薄膜を形成する薄膜形成方法であって、前記複数の吐出ユニットのうちの2以上を所定の駆動信号で駆動して、検査用基板に前記液状体を吐出させ、吐出された液状体の各々の吐出量を検査する検査工程と、前記検査工程の検査結果に基づいて、前記所定の駆動信号を調整する調整工程と、前記調整工程で調整した駆動信号を用いるとともに、前記複数の吐出ユニットを選択的に吐出動作させ、かつ選択する吐出ユニットの吐出動作パターンを前記走査ごとに異ならせて前記被処理基板に前記液状体を配置し薄膜を形成する薄膜形成工程と、を含み、前記検査工程は、前記薄膜形成工程での異なる複数の吐出動作パターンのうちの2以上を選択し、該吐出動作パターンに基づいて検査用基板に前記液状体を配置する配置処理と、該配置処理で配置された前記液状体の体積を評価する評価処理と、を含むことを特徴とする。 In the thin film forming method of the present invention, the droplet discharge head provided with a plurality of discharge units for discharging a liquid material containing a thin film forming material and the substrate to be processed are relatively scanned a plurality of times in a predetermined direction. A thin film forming method for forming a thin film by discharging the liquid material onto a substrate to be processed, wherein two or more of the plurality of discharge units are driven with a predetermined drive signal, and the liquid material is applied to an inspection substrate. An inspection process for inspecting the ejection amount of each discharged liquid material, an adjustment process for adjusting the predetermined drive signal based on an inspection result of the inspection process, and a drive signal adjusted in the adjustment process And forming a thin film by disposing the liquid material on the substrate to be processed by selectively discharging the plurality of discharge units and changing the discharge operation pattern of the selected discharge unit for each scan. A thin film forming step, wherein the inspection step selects two or more of a plurality of different discharge operation patterns in the thin film formation step, and the liquid material is applied to the inspection substrate based on the discharge operation pattern. It includes an arrangement process for arranging and an evaluation process for evaluating the volume of the liquid material arranged in the arrangement process.
このようにすれば、薄膜形成工程で用いる吐出動作パターンに基づいて、検査工程の配置処理で液状体を配置するので、吐出動作パターンに対応した吐出量を検査することができる。したがって、調整工程で吐出動作パターンに対応させて駆動信号を調整することが可能になり、薄膜形成工程において、吐出動作パターンを異ならせることに起因する吐出量のばらつきを格段に低減することができる。よって、薄膜形成工程では、液状体を均一な量で配置することができ、膜厚が均一な薄膜パターンを形成することが可能になる。
なお、ここでいう吐出動作パターンとは、どのタイミングあるいは位置でいずれの吐出ユニットに吐出動作させるかを規定した一連の動作パターンのことである。例えば、1回のスキャン中における各吐出ユニットの動作パターンが全ての吐出ユニットの分だけ組み合わされたものである。
According to this configuration, since the liquid material is arranged by the arrangement process in the inspection process based on the ejection operation pattern used in the thin film forming process, the ejection amount corresponding to the ejection operation pattern can be inspected. Therefore, it is possible to adjust the drive signal in accordance with the ejection operation pattern in the adjustment process, and it is possible to significantly reduce the variation in the ejection amount caused by making the ejection operation pattern different in the thin film formation process. . Therefore, in the thin film forming step, the liquid material can be arranged in a uniform amount, and a thin film pattern with a uniform film thickness can be formed.
Here, the discharge operation pattern is a series of operation patterns that define which discharge unit causes the discharge operation to be performed at which timing or position. For example, the operation patterns of the respective discharge units during one scan are combined for all the discharge units.
また、薄膜形成工程で前記複数の吐出ユニットを選択的に吐出動作させるので、薄膜パターンを形成することができる。したがって、薄膜を形成した後にフォトリソグラフィ法及びエッチング法等を用いてこの薄膜をパターニングする場合よりも、プロセスコストや材料コストの低減が図られる。また、選択する吐出ユニットの吐出動作パターンを走査ごとに異ならせて前記液状体を配置すれば、例えば1箇所に複数の吐出ユニットを用いて液状体を重ねて配置することができる。これにより、吐出量のばらつきを分散させることができ、配置する液状体の量の均一化が図られる。 Further, since the plurality of discharge units are selectively discharged in the thin film forming step, a thin film pattern can be formed. Therefore, the process cost and the material cost can be reduced as compared with the case where the thin film is patterned using a photolithography method, an etching method, or the like after the thin film is formed. Further, if the liquid material is arranged by changing the discharge operation pattern of the discharge unit to be selected for each scan, the liquid material can be arranged to overlap with one another using, for example, a plurality of discharge units. Thereby, the variation in the discharge amount can be dispersed, and the amount of the liquid material to be arranged can be made uniform.
また、前記検査工程における配置処理では、選択した吐出動作パターンごとに前記検査用基板と前記液滴吐出ヘッドとの相対位置を固定して前記液状体を配置する副配置処理を行うとともに、該副配置処理で前記複数の吐出ユニットの各々に吐出動作させる吐出回数を、対応する吐出動作パターンと同じにすることもできる。
このようにすれば、各吐出ユニットの吐出回数を対応する吐出動作パターンと同じにするので、配置された液状体の量に吐出動作パターンに応じた吐出量が反映される。すなわち、吐出動作パターンに基づいて液状体を配置することができる。また、薄膜形成工程では、各吐出ユニットから吐出された液状体はライン状に複数箇所に配置されるが、副配置処理では、前記相対位置を固定しているので各吐出ユニットからの液状体を1箇所に重ねて配置することができる。1箇所に重ねて配置された液状体の量を検査すれば、複数箇所に配置されたものを検査するよりも検査工程が簡略化され、検査工程の効率化が図られる。このように、吐出動作パターンに応じた吐出量を効率的に検査することが可能になる。
In the placement process in the inspection step, a sub-placement process is performed in which the liquid material is placed with the relative position of the inspection substrate and the droplet discharge head fixed for each selected ejection operation pattern. The number of ejections that each of the plurality of ejection units performs the ejection operation in the arrangement process may be the same as the corresponding ejection operation pattern.
In this way, since the number of ejections of each ejection unit is made the same as the corresponding ejection operation pattern, the ejection amount corresponding to the ejection operation pattern is reflected in the amount of the liquid material arranged. That is, the liquid material can be arranged based on the ejection operation pattern. In the thin film forming process, the liquid material discharged from each discharge unit is arranged at a plurality of locations in a line shape. However, in the sub-arrangement process, the liquid material from each discharge unit is fixed because the relative position is fixed. It can be placed in one place. If the amount of the liquid material arranged in one place is inspected, the inspection process can be simplified and the inspection process can be made more efficient than inspecting the liquid material arranged in a plurality of places. In this way, it is possible to efficiently inspect the ejection amount according to the ejection operation pattern.
前記検査工程における配置処理では、選択した吐出動作パターンごとに前記検査用基板と前記液滴吐出ヘッドとの相対位置を固定して前記液状体を配置する副配置処理を行うとともに、該副配置処理において前記複数の吐出ユニットで吐出回数を等しくし、かつ該吐出回数を対応する吐出動作パターンにおける前記複数の吐出ユニットの最大吐出回数とすることもできる。
このようにすれば、副配置処理では複数の吐出ユニットの吐出回数を吐出動作パターンでの最大吐出回数とするので、吐出動作パターンに基づいて液状体を配置することができる。また、各吐出ユニットからの液状体を1箇所に重ねて配置することができ、検査工程の効率化が図られる。また、薄膜形成工程での最大吐出回数とすることにより、実際に用いない吐出回数の検査を行わないので検査工程の効率化が図られ、かつ配置された液状体の体積を最大とすることができるのでその体積を測定する精度が高められる。
In the placement process in the inspection step, a sub-placement process is performed in which the liquid material is placed with the relative position of the inspection substrate and the droplet discharge head fixed for each selected ejection operation pattern. The number of discharges can be made equal in the plurality of discharge units, and the number of discharges can be the maximum number of discharges of the plurality of discharge units in the corresponding discharge operation pattern.
In this way, in the sub-arrangement process, the number of ejections of the plurality of ejection units is set as the maximum number of ejections in the ejection operation pattern, so that the liquid material can be arranged based on the ejection operation pattern. In addition, the liquid material from each discharge unit can be placed in one place and the inspection process can be made more efficient. In addition, by setting the maximum number of discharges in the thin film forming process, inspection of the number of discharges that are not actually used is not performed, so that the efficiency of the inspection process can be improved and the volume of the disposed liquid material can be maximized. As a result, the accuracy of measuring the volume is increased.
前記検査工程の配置処理では、前記検査用基板の検査領域に前記液状体を配置するとともに、前記検査用基板の前記検査領域を囲むダミー検査領域に前記液状体の組成溶媒を含んだダミー液状体を配置することが好ましい。
揮発した組成溶媒の成分(以下、揮発成分と称す)の雰囲気中における濃度が高くなるほど、組成溶媒の揮発速度は低くなる。検査領域の中央には周縁よりも液状体が密に配置されるため、雰囲気中の揮発成分の濃度が高くなる。
In the arrangement process of the inspection step, the liquid material is arranged in the inspection region of the inspection substrate, and the dummy liquid material containing the liquid composition solvent in the dummy inspection region surrounding the inspection region of the inspection substrate. Is preferably arranged.
The higher the concentration of the component of the volatile composition solvent (hereinafter referred to as the volatile component) in the atmosphere, the lower the volatilization rate of the composition solvent. Since the liquid material is more densely arranged in the center of the inspection region than the periphery, the concentration of volatile components in the atmosphere is increased.
前記のように検査領域の周囲にダミー液状体を配置すれば、ダミー液状体からの揮発成分により、検査領域の周縁における揮発成分の濃度を高めることができ、これを中央と同程度にすることができる。したがって、検査領域の中央に配置された液状体と、周縁に配置された液状体とで、組成溶媒の揮発速度が均一になり、揮発による液状体の体積減少分が均一になる。よって、揮発による体積の評価誤差が格段に低減され、正確な吐出量を知ることが可能になる。このように、複数の位置に配置された液状体の体積を正確に知ることができるので、検査工程の効率化が図られる。 If the dummy liquid material is arranged around the inspection area as described above, the concentration of the volatile component at the periphery of the inspection area can be increased by the volatile component from the dummy liquid material, and this should be the same level as the center. Can do. Accordingly, the volatilization rate of the composition solvent becomes uniform between the liquid material arranged at the center of the inspection region and the liquid material arranged at the periphery, and the volume reduction of the liquid material due to volatilization becomes uniform. Therefore, the volume evaluation error due to volatilization is remarkably reduced, and it becomes possible to know an accurate discharge amount. Thus, since the volume of the liquid material arranged at a plurality of positions can be accurately known, the efficiency of the inspection process can be improved.
以下、本発明の一実施形態を説明するが、本発明の技術範囲は以下の実施形態に限定されるものではない。以降の説明では図面を用いて各種の構造を例示するが、構造の特徴的な部分を見やすくするために、構造の寸法や縮尺を実際の構造と適宜異ならせて図示する。なお。本実施形態の薄膜形成方法の説明に先立ち、まず液滴吐出装置の構成例を説明する。本例の液滴吐出装置は、カラーフィルタ材料と溶媒とを含んだ液状体を選択的に吐出し、これを固化してカラーフィルタ層の色材部を形成する装置である。ここでは、赤・緑・青のそれぞれに対応した3種類の液状体を吐出させる。 Hereinafter, although one embodiment of the present invention is described, the technical scope of the present invention is not limited to the following embodiment. In the following description, various structures are illustrated using the drawings. However, in order to make the characteristic portions of the structure easy to see, the dimensions and scale of the structure are illustrated as appropriately different from the actual structure. Note that. Prior to the description of the thin film forming method of the present embodiment, a configuration example of a droplet discharge device will be described first. The droplet discharge device of this example is a device that selectively discharges a liquid material containing a color filter material and a solvent and solidifies it to form a color material portion of a color filter layer. Here, three types of liquid materials corresponding to red, green, and blue are discharged.
[液滴吐出装置]
図1は、本例の液滴吐出装置100の構成を示す概略斜視図である。図1に示すように、液滴吐出装置100は、支持台110上に設けられたワークステージ120と、ワークステージ120よりも高い位置に設けられた液滴吐出ヘッド140と、を備えている。
以下、図1に示したXYZ直交座標系に基づいて説明する。XYZ直交座標系は、X軸及びY軸がワークステージ120に対して平行となるよう設定し、Z軸がワークステージ120に対して直交する方向に設定する。実際には、XY平面が水平面に平行な面に設定されており、Z軸が鉛直上方向に設定されている。
[Droplet discharge device]
FIG. 1 is a schematic perspective view showing the configuration of the
Hereinafter, description will be made based on the XYZ orthogonal coordinate system shown in FIG. The XYZ orthogonal coordinate system is set so that the X axis and the Y axis are parallel to the
ワークステージ120は、その上面に被処理基板500を載置可能になっている。また、真空吸着装置(図示略)等を備えており、載置された被処理基板500を着脱可能に固定することができる。ワークステージ120には、ステージ移動機構125が設けられている。ステージ移動装置125は、ボールネジまたはリニアガイド等の軸受け機構を備え、制御装置160から入力される制御信号に基づいて、ワークステージ120をX方向に移動させる。これにより、載置された被処理基板500をX方向の所定の位置に移動させることができるようになっている。
The
本例の液滴吐出装置100は、3種類(赤・緑・青)のカラーフィルタ材料の各々に対応して、3つの液滴吐出ヘッド140を備えている。3つの液滴吐出ヘッド140は、いずれもキャリッジ130に取付けられており、キャリッジ130には、キャリッジ移動装置135が設けられている。キャリッジ移動装置135は、制御装置160から入力される制御信号に基づいて、キャリッジ130をY方向やZ方向に移動させる。これにより、液滴吐出ヘッド140をY方向やZ方向の所定の位置に移動させることができるようになっている。
The
各液滴吐出ヘッド140は、多数の吐出ユニットを備えている。各吐出ユニットは、制御装置160からの描画データや制御信号に基づいて、液状体を吐出する。3種類のカラーフィルタ材料に対応した3種類の液状体は、それぞれタンク150A、150B、150Cに貯留されている。貯留された液状体は、その種類ごとにチューブ群155を通って、対応する液滴吐出ヘッド140に供給される。
Each
図2(a)〜(c)は、液滴吐出ヘッド140の構成を示す図である。図2(a)は各吐出ユニットに設けられたノズルの平面配置図、図2(b)は液滴吐出ヘッド140の要部を示す分解斜視図、図2(c)は吐出ユニットのX方向に垂直な断面図である。なお、3つの液滴吐出ヘッド140はいずれも同様の構成となっており、ここではその一つについて説明する。
2A to 2C are diagrams showing the configuration of the
図2(a)に示すように、本例の液滴吐出ヘッド140は、Y方向に並んだ180個の吐出ユニットU1〜U180を備えており、吐出ユニットU1〜U180の各々に対応してノズルN1〜N180が設けられている。図2(b)に示すように、液滴吐出ヘッド140は、互いに離間して設けられた振動板141及びノズルプレート142と、これらの間を区画して設けられた隔壁144とを備えている。隔壁144に区画された空間は、キャビティ145となっており、一つのキャビティ145が一つの吐出ユニットに対応している。吐出ユニットU1〜U180の各々に対応して、ノズルプレート142にはノズルN1〜N180が設けられており、振動板141には圧電素子(駆動素子)PZ1〜PZ180が設けられている。圧電素子PZ1〜PZ180は、例えばピエゾ素子等である。
As shown in FIG. 2 (a), this embodiment of the liquid
複数のキャビティ145は、各々に対応した供給孔145aを介して、共通の液溜まり143に通じている。振動板141には、液溜まり143に対応させて導入口141aが設けられており、導入口141aにはチューブ群155の一つが接続されている。このような構成により、接続されたチューブから供給される液状体は、導入口141aを通って液溜り143に貯留され、さらに供給孔145aを通って各キャビティ145に充填されるようになっている。
The plurality of
図2(c)に示すように、圧電素子PZ1は、圧電材料146と、これを挟持する一対の電極147を備えている。また、圧電素子PZ1〜PZ180に駆動信号を供給するための駆動回路基板(後述する)が、液滴吐出ヘッド140に対応して設けられている。この駆動回路基板は、制御装置160に接続されており、制御装置160から入力される描画データや制御信号に基づいて、実際に圧電素子PZ1〜PZ180に供給する駆動電圧波形の選択、駆動信号の生成、吐出タイミングの制御等を行う。
As shown in FIG. 2 (c), the piezoelectric elements PZ 1 includes a
駆動回路基板により駆動信号が供給されると、一対の電極147間に電圧が印加され、その電圧値に応じたひずみ量だけ圧電材料146が収縮する。すると、圧電素子PZ1の配置部分における振動板141は、圧電素子PZ1と一体に外側(キャビティ145の反対側)へ撓曲する。これにより、キャビティ145の容積が増大し、増大した容積分の液状体が液溜まり143からキャビティ145に流入する。
When a drive signal is supplied from the drive circuit board, a voltage is applied between the pair of
そして、一対の電極147間における電圧の印加が停止されると、圧電素子PZ1及び振動板141はともに元の形状に戻り、キャビティ145が元の容積に戻る。すると、キャビティ145内の液状体の圧力が上昇し、ノズルN1からカラーフィルタ基板Pに向けて液状体の液滴Lが吐出される。液状体の吐出量、すなわち液滴Lの体積はキャビティ145の容積変化量に基づいており、一対の電極147間に印加される電圧値により調整可能になっている。
When the application of the voltage between the pair of
図3は、液滴吐出ヘッド140及び駆動回路基板200の回路構成を示す模式図である。図3に示すように、駆動回路基板200は、インターフェース210、描画データメモリ220、波形選択回路230、及び第1〜4のD/Aコンバータ240A〜240Dを備えている。また、液滴吐出ヘッド140は、COM選択回路170、スイッチング回路180、及び圧電素子PZ1〜PZ180からなる圧電素子群190を備えている。
FIG. 3 is a schematic diagram showing the circuit configuration of the
インターフェース210は、制御装置160(図1参照)にPCIバス等(図示略)で接続されている。制御装置160は、吐出データSIA及びCOM選択データSIBが含まれる描画データSIや、回路を駆動・制御するクロック信号やラッチ信号等の各種の制御信号等を出力する。描画データSI及び各種の制御信号は、描画データメモリ220に書き込まれる。描画データメモリ220は、例えば32ビットのSRAMである。
The
吐出データSIAは、吐出動作パターンを規定するデータである。すなわち、液滴吐出ヘッド140の位置に応じて、吐出ユニットU1〜U180の各々に駆動信号を供給するか否かを規定するデータである。例えば、形成する薄膜パターンをマトリクス状に区分し、区分された各ビットにおける吐出動作のオンオフを2値データでマッピングしたビットマップデータとなっている。
The discharge data SIA is data defining a discharge operation pattern. That is, the data defines whether or not to supply a drive signal to each of the discharge units U 1 to U 180 according to the position of the
COM選択データSIBは、各吐出ユニット用の駆動信号を規定するデータである。ここでは、各吐出ユニット用に4種類の駆動信号COM1〜COM4から1つを選択するようになっている。COM選択データSIBには、駆動信号COM1〜COM4の波形を規定する駆動波形番号データWNと、各吐出ユニット用に駆動信号COM1〜4のいずれを選択するかを規定するデータが含まれている。 The COM selection data SIB is data that defines a drive signal for each discharge unit. Here, one of four types of drive signals COM1 to COM4 is selected for each discharge unit. The COM selection data SIB includes drive waveform number data WN that defines the waveforms of the drive signals COM1 to COM4 and data that defines which of the drive signals COM1 to 4 is selected for each ejection unit.
描画データメモリ220は、各種の制御信号によるデータ読出しの要求に応じて、吐出データSIAをシリアルデータとして液滴吐出ヘッド140のスイッチング回路180に出力し、COM選択データSIBをシリアルデータとして液滴吐出ヘッド140のCOM選択回路170に出力する。駆動波形番号データWNは、波形選択回路230に出力される。
The drawing
波形選択回路230は、予め記憶されている波形データ(例えば64種類)から駆動波形番号データWNが指定する波形データを読出し、これを吐出データSIAに対応するアドレスに記憶する。また、各種の制御信号によるデータ読出しの要求に応じて、指定されるアドレスに記憶されている駆動波形データを各D/Aコンバータに出力する。
The
第1のD/Aコンバータ240Aは、各種の制御信号に同期して波形選択回路230から入力される駆動波形データを保持する。また、この駆動波形データをアナログ変換して駆動信号COM1を生成し、液滴吐出ヘッド140のCOM選択回路170に出力する。以下同様に、第2のD/Aコンバータ240Bは駆動信号COM2を、第3のD/Aコンバータ240Cは制御信号COM3を、第4のD/Aコンバータ240Dは駆動信号COM4を生成して、それぞれCOM選択回路170に出力する。
The first D /
COM選択回路170は、各種の制御信号により制御されCOM選択データSIBに基づいて、各吐出ユニットにおける圧電素子用の駆動信号V1〜V180の各々をスイッチング回路180に出力する。また、スイッチング回路180は、各種の制御信号により制御され吐出データSIAに基づいて、駆動信号V1〜V180を吐出ユニットごとにオンオフする。これにより、各吐出ユニットに対応して設けられた圧電素子PZ1〜PZ180のうち、所定の圧電素子に所定の駆動信号が供給される。駆動信号が供給された圧電素子は、前記のように一対の電極147間に印加された電圧値に応じた吐出量の液状体を吐出するようになっている。
The
[液滴吐出装置の使用方法]
次に、液滴吐出装置100の使用方法を説明する。まず、図1に示したようにワークステージ120の上面に、搬送装置等(図示略)により運ばれた被処理基板(カラーフィルタ基板)500を載置し、前記真空吸着装置等によりここに着脱可能に固定する。そして、ステージ移動機構125によりワークステージ120を移動させるともに、キャリッジ移動装置135により液滴吐出ヘッド140を移動させて、被処理基板500と液滴吐出ヘッド140との相対位置を調整する。また、所定の相対位置で液滴吐出ヘッド140に吐出動作させることにより、液状体を配置する。ここでは、複数回数のスキャン(走査)により1回のパスを行い、複数回数のパスにより所定量の液状体を配置する。
[How to use the droplet discharge device]
Next, a method for using the
図4は、液状体の配置方法を模式的に示す平面図である。図4に示すように、カラーフィルタ基板500には、格子状のバンク510が形成されている。バンク510により区画された部分は、1つの画素に対応している。ここでは、画素の形状がY方向に長手の略長方形となっており、赤に対応する画素520R、緑に対応する画素520G、及び青に対応する画素520Bを有している。画素は、対応する色ごとにY方向に並んでおり、赤・緑・青にそれぞれ対応したものがX方向に周期的に並んでいる。
FIG. 4 is a plan view schematically showing a liquid material arranging method. As shown in FIG. 4, a lattice-
また、赤に対応する液滴吐出ヘッド140R、緑に対応する液滴吐出ヘッド140G、及び青に対応する液滴吐出ヘッド140Bが一組となり液滴吐出ヘッド群を構成している。ここでは、被処理基板500をX方向に移動させることにより、液滴吐出ヘッド群と被処理基板500とを相対的にX方向に走査させる。また、所定のタイミングで吐出ユニットU1〜U180から選択される吐出ユニットに吐出動作させることにより、吐出ユニットU1〜U180の配列方向(Y方向)に沿う列状に液状体を配置する。このような吐出動作を繰り返すことにより、被処理基板500のY方向における所定の幅にわたって液状体を配置する。これが1回のスキャンに相当し、1回のスキャンに1種類の吐出動作パターンを対応させている。
In addition, a
次いで液滴吐出ヘッド140をY方向に移動させて、先ほどのスキャンとY方向の位置を異ならせて、2回目のスキャンを行う。このようなスキャンを複数回数行うことにより、被処理基板500における成膜領域全体にわたって、液状体を配置する。これが1回のパスに相当する。これのようなパスを複数回数行うことにより、所定量の液状体を配置する。ここでは、3回のスキャンで1回のパスを行い、8回のパスで所定量の液状体を配置する。こここでは合計24回のスキャンを行うため、吐出動作パターンは最大24種類になる。
Next, the
例えば、画素のサイズはカラーフィルタ基板500の設計により定まり、ノズルN1〜N180の間隔(ノズルピッチ)は液滴吐出ヘッド140の設計により定まる。したがって、スキャンする方向を選択しカラーフィルタ基板500及び液滴吐出ヘッド群を配置すると、スキャン中に1つの画素を通る吐出ユニットの数(例えば24〜25)が定まる。また、形成するカラーフィルタ層の厚さと、画素のサイズ、液状体の組成により、1つの画素に配置する液状体の量が算出される。この液状体の量、及び1つの吐出ユニットの1回の吐出量により、1画素に吐出する吐出回数(例えば100回)が算出される。これを8回のパスで配置するので、1回のパスで1画素あたりの吐出回数は12〜13回程度となる。各スキャンでは、所定の位置ごとに、1画素に割り当てられた24〜25つの吐出ユニットのうち12〜13つ程度を選択して吐出させればよいことになる。このように、画素ごとに使用する吐出ユニットを選択し、その組合せをX方向に配置された画素ごとに定めることにより、1回のスキャンにおける吐出動作パターンが定まる。
For example, the pixel size is determined by the design of the
ところで、一般に液滴吐出ヘッドは、複数の吐出ユニットの特性が同じになるように設計されている。しかしながら、加工誤差等によるキャビティの容積ばらつきや圧電素子の特性ばらつき等により、実際には、同じ電圧値で吐出動作させても複数の吐出ユニットでの吐出量にばらつきを生じてしまう。また、使用する吐出ユニットの組合せにより設定値に対する吐出量が変化して、吐出量のばらつきを生じてしまうこともある。例えば、1つの吐出ユニットに着目すると、その近隣の吐出ユニットを動作させた場合と動作させない場合とで、吐出量が変化してしまう場合がある。その理由としては、液溜まり等を介した圧力の伝播が変化すること等が考えられる。以上のような吐出量のばらつきを生じると、形成した薄膜に膜厚ムラを生じてしまう。このような不都合は、電気機械変換式、帯電制御方式、加圧振動方式、電気熱変換方式、静電吸引方式等のいずれの吐出技術を用いた液滴吐出ヘッドにあっても、同様に生じてしまう。 By the way, the droplet discharge head is generally designed so that the characteristics of the plurality of discharge units are the same. However, due to variations in the volume of the cavity due to processing errors and the like, variations in the characteristics of the piezoelectric elements, and the like, in reality, even if the discharge operation is performed with the same voltage value, the discharge amounts in the plurality of discharge units vary. Moreover, the discharge amount with respect to a setting value may change with the combination of the discharge units to be used, and the discharge amount may vary. For example, when attention is paid to one discharge unit, the discharge amount may change depending on whether or not the adjacent discharge unit is operated. The reason may be that the propagation of pressure through a liquid pool or the like changes. When the variation in the discharge amount as described above occurs, the film thickness unevenness occurs in the formed thin film. Such inconvenience occurs in the droplet discharge head using any discharge technology such as electromechanical conversion type, charging control method, pressure vibration method, electrothermal conversion method, electrostatic suction method, etc. End up.
本例の液滴吐出装置100のように、各吐出ユニット用に駆動信号を選択して供給することが可能になっていれば、駆動信号により各吐出ユニットの吐出量を調整することができので、複数の吐出ユニットでの吐出量のばらつきを小さくすることが可能になる。吐出量の調整を適切に行う観点から、吐出動作パターンに対応した各吐出ユニットの吐出量を正確に知ることが重要であることは言うまでもない。そこで、本発明では、吐出動作パターンに対応した各吐出ユニットの吐出量を高精度に測定し、この測定結果に基づいて駆動信号を調整した後に、薄膜を形成する。以下、本発明に係る薄膜形成方法の一実施形態を説明する。
If the drive signal can be selected and supplied for each discharge unit as in the
[薄膜形成方法]
図5(a)〜(c)は、本実施形態の薄膜形成方法のうち検査工程の配置処理を模式的に示す工程図であり、液状体の配置面を平面視した図で示している。なお、本実施形態は、本発明の薄膜形成方法をカラーフィルタ層の形成に適用した例である。
[Thin film formation method]
FIGS. 5A to 5C are process diagrams schematically showing the arrangement process of the inspection process in the thin film forming method of the present embodiment, and are diagrams showing the arrangement surface of the liquid material in plan view. The present embodiment is an example in which the thin film forming method of the present invention is applied to the formation of a color filter layer.
まず、図5(a)に示すように、検査用基板300を用意する。本実施形態では、後に光干渉法を用いて吐出量を測定する。光干渉法を用いる場合には、検査用基板300と液状体との接触角により、その測定精度が変化してしまう。例えば接触角が50°未満であると、液状体が薄く濡れ広がってしまう。すると、配置された液状体は、その輪郭が不明瞭となるとともにその厚さの変化量が小さくなり、測定精度が低くなってしまう。例えば、接触角が70°より大きく90°未満であると、配置された液状体の端部における厚さの変化量が大きくなり、干渉縞の間隔が狭くなるため、測定精度が低くなってしまう。例えば、接触角が90°以上であると、配置された液状体の端部の底面側が配置面上方の光源から陰となるため、この部分を計測することができなくなる。
First, as shown in FIG. 5A, an
以上の理由から、本実施形態では、液状体との接触角が50°以上70°以下になるように、検査用基板300を選択する。例えば、検査用基板の材質を選択すればよく、撥液・親液処理等により接触角を調整してもよい。ここでは、平面視略長方形の検査用基板300を採用し、その長辺方向をY方向とし、短辺方向をX方向とする。X方向及びY方向は、図1に示したXYZ直交座標系と対応している。
For the above reasons, in this embodiment, the
また、検査用基板300において、後に液状体を配置する部分を検査領域とし、検査領域を囲む部分をダミー検査領域とする。ここでは、検査用基板300の中央部における平面視略長方形の部分を検査領域A1とし、検査領域A1を枠状に囲む部分を主ダミー検査領域(ダミー検査領域)A2、主ダミー検査領域A2を枠状に囲む部分を副ダミー検査領域(ダミー検査領域)A3とする。
Further, in the
次いで、図5(b)に示すように、主ダミー検査領域A2にダミー液状体310aを配置するとともに、副ダミー検査領域A3にダミー液状体310bを配置する。ダミー液状体310a、310bは、前記液状体の少なくとも組成溶媒を含むものである。本実施形態では、前記液滴吐出装置100を用いて、液状体と同じ溶液の液滴を配置し、これをダミー液状体310a、310bとする。ダミー液状体310a、310bの体積としては、後に配置する液状体における各々の体積の最大値以上とする。また、ダミー液状体310a、310bの間隔は、X方向に沿う部分、及びY方向に沿う部分で、ともにノズルピッチと同程度とする。
Next, as shown in FIG. 5B, the
次いで、図5(c)に示すように、検査領域A1に液滴吐出装置100を用いて液状体320を配置する。例えば、後の薄膜形成工程で用いる吐出動作パターンをそのまま用いることや、吐出動作させる吐出ユニット数と吐出動作させない吐出ユニット数との比であるノズルデューティを吐出動作パターンと同程度にすること、各吐出ユニットに吐出動作させる吐出回数を吐出動作パターンと同程度にすること等により、吐出動作パターンに基づいて液状体320を配置することができる。なお、薄膜形成工程で用いる複数の吐出動作パターンの2以上を選択して配置処理を行う。選択する吐出動作パターンの数を増やすほど、薄膜形成工程に近い条件で検査工程を行うことができ、ここでは全ての吐出動作パターンに対して検査工程を行う。
Next, as illustrated in FIG. 5C, the
ここでは、吐出動作パターンにおける各吐出ユニットの吐出回数をパラメータとして用いることにより、吐出動作パターンに対応させて配置処理を行う。なお、本実施形態では薄膜形成工程において3回のスキャンで1回のパスを行い、8回のパスで所定量の液状体を配置する。したがって、吐出動作パターンは24種類となり、それぞれ対応させて配置処理を行う。 Here, by using the number of ejections of each ejection unit in the ejection operation pattern as a parameter, arrangement processing is performed in correspondence with the ejection operation pattern. In this embodiment, in the thin film forming process, one pass is performed by three scans, and a predetermined amount of liquid material is arranged by eight passes. Accordingly, there are 24 types of ejection operation patterns, and the arrangement process is performed correspondingly.
まず、液滴吐出ヘッド140と検査用基板300との相対位置を固定して、この24種類から選択される第1の吐出動作パターンで液状体を吐出させる。すなわち、薄膜形成工程ではスキャンしながら液状体を吐出させるが、検査工程では相対位置を固定し、吐出動作パターンにおける吐出動作のタイミングで液状体を吐出させる。これにより、1回の吐出動作において使用する吐出ユニットの組合せが薄膜形成工程と同様になる。また、配置処理と薄膜形成工程とで、各吐出ユニットの吐出回数が同じになる。なお、薄膜形成工程では液状体が二次元的に配置されるが、検査工程では吐出ユニットごとに液状体が1箇所に重なって配置される。このようにして、Y方向に沿う列状に液状体320をノズルピッチと同程度の間隔で配置する。また、液状体320と、主ダミー検査領域A2に配置したダミー液状体310aとの間隔が、X方向において及びY方向においてノズルピッチと同程度になるように、液状体320を配置する。
First, the relative position between the
なお、第1の吐出動作パターンにおける各吐出ユニットのショット数を所定の倍率で大きくすれば、配置される液状体320の体積が大きくなり、後の評価処理における精度を高めることができる。この場合には、測定された体積を前記所定の倍率及び吐出回数で割ることにより、各吐出ユニットの1回あたりの吐出量を算出することができる。 In addition, if the number of shots of each discharge unit in the first discharge operation pattern is increased by a predetermined magnification, the volume of the liquid 320 to be arranged increases, and the accuracy in the subsequent evaluation process can be increased. In this case, the discharge amount per discharge of each discharge unit can be calculated by dividing the measured volume by the predetermined magnification and the number of discharges.
次いで、X方向に検査用基板300をノズルピッチ程度だけ移動させた後、前記24種類から選択され、かつ前記第1の吐出動作パターンと異なる第2の吐出動作パターンに基づいて液状体320を配置する。以下同様に、液滴吐出ヘッド140の移動、吐出動作パターンの変更、液状体320の配置を順に繰り返すことにより液状体320を配置する。これにより、液状体320が吐出動作パターンごとにY方向に沿って列状に配置されるとともに、このような列が24種類の吐出動作パターンに対応してX方向に並んだ二次元配列が得られる。この二次元配列の周縁に配置された液状体320は、主ダミー検査領域A2に配置されたダミー液状体310aとの間隔が、X方向において及びY方向において、等間隔(ここでは、ノズルピッチ程度)となっている。
Next, after the
また、主ダミー検査領域A2にダミー液状体310aを配置しているので、配置されたいずれの液状体320の周辺にも同様に、液状体320又はダミー液状体310aが配置されている。例えば、検査領域A1の角に配置された液状体320の周辺には、3つの液状体320、及び5つのダミー液状体310aが配置されている。検査領域A1の角を除いた周縁には、配置された液状体320の周辺には、5つの液状体320、及び3つのダミー液状体310aが配置されている。検査領域A1の周縁より内側(中央側)に配置され液状体320の周辺には、8つの液状体320が配置されている。
このように本実施形態では、液状体320の周辺には、その配置位置によらず、液状体320又はダミー液状体310aが合計8つ配置されている。
Further, since the
Thus, in the present embodiment, a total of eight
次いで、検査用基板300に配置された液状体320の各々の体積を評価する(評価処理)。吐出量の評価方法としては、その重さを測定する方法やその体積を測定する方法が考えられる。各吐出ユニットの吐出量は微小であり、その重さを個別に測定することは、測定精度や作業効率の観点から困難である。本発明では、体積を測定する方法を採用することにより、重さを測定するよりも吐出量の高精度な評価を可能にしている。本実施形態では、体積の測定方法として垂直走査方式の白色光干渉法を用いる。
Next, the volume of each of the
白色光干渉法においては、光をビームスプリッタ等で参照光と測定光とに分離し、測定対象物(ここでは液状体320)に測定光を照射する。測定対象物の表面で反射した測定光と、前記参照光は光学手段により重ねあわされて、干渉光となる。干渉光の強度を調べることにより、参照光と測定光との光路差を求めることができる。光路差から測定光が照射された部分の厚さを求めることができ、測定対象物の形状を知ることができる。この形状データから、測定対象物の体積を算出することができる。 In the white light interferometry, the light is separated into reference light and measurement light by a beam splitter or the like, and the measurement object (here, the liquid 320) is irradiated with the measurement light. The measurement light reflected on the surface of the measurement object and the reference light are overlapped by optical means to become interference light. By examining the intensity of the interference light, the optical path difference between the reference light and the measurement light can be obtained. The thickness of the portion irradiated with the measurement light can be obtained from the optical path difference, and the shape of the measurement object can be known. From this shape data, the volume of the measurement object can be calculated.
以上のような白色光干渉法により、検査用基板300に配置された液状体320の体積を評価する。体積の評価は、液状体320を配置した直後、液状体320が乾燥する過程、あるいは液状体320が乾燥した後、いずれのタイミングで行ってもよい。ここでは、液状体320の乾燥後に評価処理を行う。
The volume of the liquid 320 arranged on the
検査用基板300に配置された液状体320、及びダミー液状体310a、310bは、時間経過とともにその溶媒が揮発する。雰囲気中での揮発成分の濃度が高いほど、溶媒の揮発速度が低く、揮発成分の濃度は液状体320、及びダミー液状体310a、310bが密に配置されている部分に対応して高くなる。すなわち、検査領域A1及び主ダミー検査領域A2では、液状体320又はダミー液状体310aが均一に配置されているので、揮発成分の濃度がほぼ均一となり、溶媒の揮発速度が均一になる。また、副ダミー検査領域A3では、その内側(主ダミー検査領域A2側)から外側に向うにつれて揮発成分の濃度が低くなり、内側から外側に向うにつれて揮発速度が高くなる。
The solvent of the liquid 320 and the
そして、溶媒を揮発させると、検査領域A1及び主ダミー検査領域A2では、液状体320及びダミー液状体310aは、いずれの配置位置でも溶媒が均一に揮発するので、その体積減少が均一となる。また、各液状体320に着目すると、その部分的な揮発速度が均一となっているので、検査領域A1の中心側と周縁側とで対称性を保持しつつ、乾燥が進行する。
When the solvent is volatilized, in the inspection area A1 and the main dummy inspection area A2, the liquid 320 and the
そして、液状体320が乾燥し固化した状態で、その体積を前記した白色光干渉法を用いて測定する。液状体320が固化した固形物は、その形状の対称性が良好になっているので、良好に測定することができる。すなわち、形状の対称性が低いものを測定しようとすれば、高解像度の測定や高度な解析等が必要となり、測定の手間や時間、装置コスト等が増加してしまう。液状体320の周囲にダミー液状体310aが配置すれば、このような不都合を回避することができ、測定の精度向上や効率化等が図られる。
And in the state which the liquid 320 dried and solidified, the volume is measured using the above-mentioned white light interferometry. Since the solid substance which the liquid 320 solidified has the favorable symmetry of the shape, it can measure favorably. That is, if an attempt is made to measure an object having a low shape symmetry, high-resolution measurement, advanced analysis, and the like are required, which increases measurement effort, time, and apparatus cost. If the
このようにして得られた固形物の体積に基づいて、各液状体320の体積の値や複数の液状体320における相対的な体積の比等を評価することができる。ここでは、測定された固形物の体積、及び液状体320における溶媒の組成比等を用いて、液状体320の体積を算出する。固形物は、その配置位置によらず均一に乾燥されているので、乾燥の程度の違いによる体積の違いがなくなっている。また、配置位置による液状体の揮発速度の違いを無くすことができるので、精度を確保しつつ多数の液状体の体積を評価することができる。そのため、複数の吐出動作パターンにおける各吐出ユニットの吐出量を効率よく評価することが可能になっている。なお、各液状体の量は、吐出動作パターンにおいて使用する吐出ユニットの組合せを反映しつつ、吐出動作パターンにおける各吐出ユニットの吐出量を合計した量となっている。したがって、その量を評価することにより1つ吐出動作パターンにおける各吐出ユニットの吐出量の平均値を知ることができる。
Based on the volume of the solid material thus obtained, the volume value of each
次いで、前記の検査工程で得られた吐出量に基づいて、薄膜形成工程で吐出ユニットに供給する駆動信号を調整する(調整工程)。吐出ユニットごとに異なる駆動信号(例えば180種類)を用意することもできるが、部品数や装置コスト、消費電力等が増大してしまう。そこで、本実施形態では、前記のように4種類の駆動信号を用いて各吐出ユニットの吐出量が適正重量に近づくように設定する。これは、4種類以上の駆動信号を用いることで、吐出量のばらつきを所定の範囲に抑えることができ、スジムラを視認されなくすることができきるからである。以下、図6〜8を参照しつつ調整工程を説明する。 Next, the drive signal supplied to the discharge unit in the thin film formation step is adjusted based on the discharge amount obtained in the inspection step (adjustment step). Different drive signals (for example, 180 types) can be prepared for each discharge unit, but the number of components, device cost, power consumption, and the like increase. Therefore, in the present embodiment, the discharge amount of each discharge unit is set to approach the appropriate weight using the four types of drive signals as described above. This is because by using four or more types of drive signals, it is possible to suppress variations in the discharge amount within a predetermined range and to prevent the uneven stripes from being visually recognized. Hereinafter, the adjustment process will be described with reference to FIGS.
図6は、検査工程で得られた吐出量の一例を示すグラフである。図6において、横軸は吐出ユニットU11〜U170の番号を示しており、縦軸は吐出量を示している。吐出量は、液状体320の体積に基づいて、その重量を算出したものである。図6に示すように、吐出ユニットU11〜U170の各吐出量は、両端側に配置されたものほど大きくなっている。図示しないものの吐出ユニットU1〜U10、U171〜U180からの各吐出量はさらに大きくなっており、これらは吐出量のばらつきを低減する観点から、後の薄膜形成工程で用いないようにする。 FIG. 6 is a graph showing an example of the discharge amount obtained in the inspection process. In FIG. 6, the horizontal axis indicates the numbers of the discharge units U 11 to U 170 , and the vertical axis indicates the discharge amount. The discharge amount is calculated based on the volume of the liquid 320. As shown in FIG. 6, the discharge amounts of the discharge units U 11 to U 170 increase as they are arranged at both ends. Although not shown, the discharge amounts from the discharge units U 1 to U 10 and U 171 to U 180 are further increased, and these are not used in the subsequent thin film forming step from the viewpoint of reducing the discharge amount variation. To do.
本実施形態の調整工程では、まず図6に示した吐出量の分布に基づいて、吐出ユニットU11〜U170を複数のグループに分割する。各グループは、同じ駆動信号で駆動する吐出ユニットが属するものである。本実施形態では、4種類の駆動信号を用いるので、4つのグループに分割する。ここでは、最小重量から最大重量までの範囲を均等に4分割し、値が小さい順にレンジ1、レンジ2、レンジ3、レンジ4とする。また、レンジ1の範囲内の吐出量となっている吐出ユニットによりグループ1を構成し、同様にレンジ2〜4に対応させてグループ2〜4を構成する。
In the adjustment process of the present embodiment, the discharge units U 11 to U 170 are first divided into a plurality of groups based on the discharge amount distribution shown in FIG. Each group belongs to a discharge unit that is driven by the same drive signal. In this embodiment, since four types of drive signals are used, it is divided into four groups. Here, the range from the minimum weight to the maximum weight is equally divided into four, and range 1,
次いで、吐出ユニットの圧電素子に印加する電圧に対する吐出量の関係式に基づいて、所定の吐出量となる電圧(補正駆動電圧)を算出する。補正駆動電圧を求める式は、例えば下記の式(1)で表される。式(1)においてV0は、補正前の印加電圧であり、Kは予め実験等で求めた係数である。また、式(1)において、「レンジの中心重量」という統計値を、「各レンジ内における吐出ユニットの平均重量」という統計値に替えても良い。
補正駆動電圧=V0−K・(レンジの中心重量−適正重量) ・・・・(1)
Next, based on a relational expression of the discharge amount with respect to the voltage applied to the piezoelectric element of the discharge unit, a voltage (corrected drive voltage) that becomes a predetermined discharge amount is calculated. The formula for obtaining the correction drive voltage is expressed by the following formula (1), for example. In Expression (1), V0 is an applied voltage before correction, and K is a coefficient obtained in advance through experiments or the like. In the formula (1), the statistical value “center weight of the range” may be replaced with the statistical value “average weight of the discharge unit in each range”.
Corrected drive voltage = V0−K. (Center weight of range−appropriate weight) (1)
そして、グループ1について算出した補正駆動電圧に基づいて圧電素子に供給する駆動信号COM1を設定し、同様にグループ2〜4に対応する駆動信号COM2〜4を設定する。なお、検査工程で24種類の吐出動作パターンの各々に対応した吐出量が得られており、そのデータを統計処理する方法を適宜選択することができる。例えば、24種類の吐出動作パターンごとに駆動信号COM1〜4を設定してもよいし、各吐出ユニットの吐出量として24種類の吐出動作パターンでの平均値を用いて、吐出動作パターンで共通の駆動信号COM1〜4を設定してもよい。ここでは、平均値を用いて図7に示すような駆動信号COM1〜4を設定し、これに対応する描画データSI等を作成する。
Then, the drive signal COM1 supplied to the piezoelectric element is set based on the corrected drive voltage calculated for the group 1, and similarly, the drive signals COM2 to 4 corresponding to the
図8は、検査工程で得られた吐出量(補正前)の分布、及び調整工程で設定した制御信号COM1〜4による吐出量(補正後)の分布の比較を示すグラフである。なお、補正後の吐出量も前記の検査工程と同様にして評価したものである。図8に示すように、補正前に比べて補正後は、吐出量がほとんど適正重量と同程度となっており、かつ吐出量のばらつきが格段に低減されている。これは、本発明によれば検査工程で吐出量を高精度に評価することができ、調整工程で駆動信号COM1〜4を適切に設定することができたためと考えられる。また、このような比較においても、補正後の吐出量を高精度に測定し、評価することができるので、駆動信号COM1〜4が適切に設定されたことを確認することができるのである。なお、補正後の吐出量のばらつきが許容範囲以上である場合には、この時の駆動信号COM1〜4を用いて検査工程、調整工程を再度行ってもよい。この場合には、薄膜形成工程により近い条件で検査工程を行うので、吐出量を設定値にさらに近づけることができる。 FIG. 8 is a graph showing a comparison of the distribution of the discharge amount (before correction) obtained in the inspection process and the distribution of the discharge amount (after correction) by the control signals COM1 to 4 set in the adjustment process. The corrected ejection amount is also evaluated in the same manner as in the inspection process. As shown in FIG. 8, after the correction, the discharge amount is almost equal to the appropriate weight after the correction, and the variation in the discharge amount is remarkably reduced. According to the present invention, it is considered that the ejection amount can be evaluated with high accuracy in the inspection process, and the drive signals COM1 to COM4 can be appropriately set in the adjustment process. Also in such a comparison, the corrected ejection amount can be measured and evaluated with high accuracy, so that it is possible to confirm that the drive signals COM1 to COM4 are appropriately set. In addition, when the variation in the ejection amount after correction is more than the allowable range, the inspection process and the adjustment process may be performed again using the drive signals COM1 to 4 at this time. In this case, since the inspection process is performed under conditions closer to the thin film forming process, the discharge amount can be made closer to the set value.
次いで、先に説明した[液滴吐出装置の使用方法]ように液滴吐出装置100を動作させて、薄膜形成工程を行う。具体的には、図1に示したワークステージ120に、カラーフィルタ基板である被処理基板500を着脱可能に固定する。そして、被処理基板500と液滴吐出ヘッド140との相対位置を変化させながら、3回のスキャンで1回のパスを行い、8回のパスにより所定量の液状体を配置する。24回の各スキャンでは、調整工程で調整した駆動信号COM1〜COM4を用いて吐出動作させる。これにより、図8に示したように吐出量を適正重量とすることができ、かつ吐出量のばらつきを低減することができる。したがって、所定量の液状体を配置することができるとともに、均一な量の液状体を配置することができる。
また、配置された液状体を適宜乾燥させて固化すること等により、カラーフィルタ層(薄膜)が得られる。
Next, the
Moreover, a color filter layer (thin film) can be obtained by appropriately drying and solidifying the disposed liquid.
以上のような本発明の薄膜形成方法にあっては、薄膜形成工程での吐出動作パターン対応した吐出量を高精度かつ効率的に評価することが可能になっている。したがって、調整工程で吐出ユニットの駆動信号を適切に設定することができ、吐出量のばらつきを格段に低減することができる。よって、所定量の液状体を配置することができ、均一な膜厚の薄膜を形成することができる。例えば、本発明をカラーフィルタ層の形成に適用すれば、均一な膜厚のカラーフィルタ層を形成することができる。したがって、スジムラ等を生じることなくカラーフィルタ層を機能させることができ、これを備えた画像表示装置の表示品質を良好にすることが可能になる。 In the thin film forming method of the present invention as described above, it is possible to evaluate the discharge amount corresponding to the discharge operation pattern in the thin film forming process with high accuracy and efficiency. Therefore, the drive signal of the discharge unit can be appropriately set in the adjustment process, and the variation in the discharge amount can be significantly reduced. Therefore, a predetermined amount of liquid material can be disposed, and a thin film having a uniform thickness can be formed. For example, if the present invention is applied to the formation of a color filter layer, a color filter layer having a uniform film thickness can be formed. Therefore, the color filter layer can be made to function without causing unevenness and the like, and the display quality of the image display apparatus provided with this can be improved.
従来の方法でこのような薄膜を形成するためには、複数の吐出ユニットにおける特性ばらつきが小さくなるように、高精度の加工が必要であった。そのため、液滴吐出装置の高コスト化や歩留りの低下等の不都合を生じていた。
本発明によれば、駆動信号を調整することにより良好な薄膜が得られるので、液滴吐出ヘッドに許容される加工誤差等が大きくなる。したがって、液滴吐出ヘッドの製造コストの低減や、液滴吐出ヘッドを選別する工程の簡略化ないし省略、液滴吐出ヘッドの歩留り向上等が図られ、液滴吐出装置の低コスト化が可能になる波及効果も得られる。
In order to form such a thin film by a conventional method, high-precision processing is required so that the variation in characteristics among a plurality of discharge units is reduced. Therefore, inconveniences such as an increase in cost of the droplet discharge device and a decrease in yield have occurred.
According to the present invention, since a good thin film can be obtained by adjusting the drive signal, a processing error or the like allowed for the droplet discharge head is increased. Therefore, the manufacturing cost of the droplet discharge head can be reduced, the process of selecting the droplet discharge head can be simplified or omitted, the yield of the droplet discharge head can be improved, and the cost of the droplet discharge apparatus can be reduced. A ripple effect is also obtained.
なお、前記実施形態では、ダミー液状体と液状体とを独立したプロセスで配置したが、同じプロセスで配置してもよい。例えば、液滴吐出ヘッド140に設けられた吐出ユニットU1〜U180の一部、あるはキャリッジ130に取り付けられた他の液滴吐出ヘッド140からダミー液状体を配置し、これと平行して液状体を配置してもよい。
In the above-described embodiment, the dummy liquid material and the liquid material are arranged by independent processes, but may be arranged by the same process. For example, a dummy liquid material is arranged in parallel with a part of the ejection units U 1 to U 180 provided in the
また、ダミー検査領域としては、主ダミー検査領域A2のみでも効果を得ることができるが、副ダミー検査領域A3もあわせて用いることによりその効果を高めることができる。副ダミー検査領域A3にダミー液状体を一重の枠状に配置する他にも、2重以上の枠状に配置してもよい。また、吐出動作パターンと異なる条件で液状体の体積を測定してもよい。また、検査領域が複数あってもよく、例えば複数の検査領域ごとに異なる吐出動作パターンにより液状体を配置するようにしてもよい。 Further, the effect can be obtained by using only the main dummy inspection region A2 as the dummy inspection region, but the effect can be enhanced by using the sub dummy inspection region A3 together. In addition to arranging the dummy liquid material in a single frame shape in the sub dummy inspection region A3, it may be arranged in a double or more frame shape. Further, the volume of the liquid material may be measured under conditions different from the discharge operation pattern. In addition, there may be a plurality of inspection regions, and for example, the liquid material may be arranged with a different ejection operation pattern for each of the plurality of inspection regions.
また、液状体及びダミー液状体をX方向及びY方向に等間隔で並ぶ行列状に配置する他にも、全体的あるいは部分的に千鳥状に配置されていてもよい。千鳥状とは、例えばX方向に並ぶ列がY方向にも並んでおり、各列の要素の位置が隣り合う列でX方向にずれている配置のことである。 Further, the liquid material and the dummy liquid material may be arranged in a staggered form in whole or in part, in addition to arranging the liquid material and the dummy liquid material in a matrix arranged at equal intervals in the X direction and the Y direction. A staggered pattern is an arrangement in which, for example, columns arranged in the X direction are also arranged in the Y direction, and the positions of elements in each column are shifted in the X direction between adjacent columns.
また、検査工程において液状体320の体積を測定するタイミングは、液状体320が乾燥する過程であってもよい。この場合には、液状体320に含まれる溶媒の揮発速度を予め調べておき、液状体320が配置されてから測定までの時間、溶媒の揮発速度、及び測定結果に基づいて、吐出量の体積を算出することができる。 Further, the timing for measuring the volume of the liquid 320 in the inspection process may be a process in which the liquid 320 is dried. In this case, the volatilization rate of the solvent contained in the liquid 320 is examined in advance, and the volume of the discharge amount is determined based on the time from the disposition of the liquid 320 to the measurement, the volatilization rate of the solvent, and the measurement result. Can be calculated.
また、カラーフィルタ層の形成以外にも本発明を適用することができる。例えば、液晶装置の配向膜、オーバーコート等の保護膜、有機エレクトロルミネッセンス装置における有機発光層や正孔注入(輸送)層等の機能層、金属配線、樹脂等からなるスペーサ等、ベタ状の薄膜や薄膜パターンの形成時に吐出量の均一性が必要とされる場合に本発明を適用すれば、その効果を得ることができる。 Further, the present invention can be applied in addition to the formation of the color filter layer. For example, solid films such as alignment films for liquid crystal devices, protective films such as overcoats, functional layers such as organic light emitting layers and hole injection (transport) layers in organic electroluminescence devices, spacers made of metal wiring, resins, etc. If the present invention is applied to the case where the uniformity of the ejection amount is required when forming the thin film pattern, the effect can be obtained.
100・・・液滴吐出装置、140、140R、140G、140B・・・液滴吐出ヘッド、147・・・圧電素子(駆動素子)、200・・・駆動回路基板、300・・・測定用基板、310a、310b・・・ダミー液状体、320・・・液状体、500・・・被処理基板、A1・・・検査領域、A2・・・主ダミー検査領域(ダミー検査領域)、A3・・・副ダミー検査領域(ダミー検査領域)、COM1〜COM4・・・制御信号、N1〜N180・・・ノズル、U1〜U180・・・吐出ユニット
DESCRIPTION OF
Claims (4)
前記複数の吐出ユニットのうちの2以上を所定の駆動信号で駆動して、検査用基板に前記液状体を吐出させ、吐出された液状体の各々の吐出量を検査する検査工程と、
前記検査工程の検査結果に基づいて、前記所定の駆動信号を調整する調整工程と、
前記調整工程で調整した駆動信号を用いるとともに、前記複数の吐出ユニットを選択的に吐出動作させ、かつ選択する吐出ユニットの吐出動作パターンを前記走査ごとに異ならせて前記被処理基板に前記液状体を配置し薄膜を形成する薄膜形成工程と、を含み、
前記検査工程は、前記薄膜形成工程での異なる複数の吐出動作パターンのうちの2以上を選択し、該吐出動作パターンに基づいて検査用基板に前記液状体を配置する配置処理と、該配置処理で配置された前記液状体の体積を評価する評価処理と、を含むことを特徴とする薄膜形成方法。 The liquid material is applied to the substrate to be processed while the droplet discharge head having a plurality of discharge units for discharging the liquid material containing the thin film forming material and the substrate to be processed are scanned relatively several times in a predetermined direction. A thin film forming method for discharging and forming a thin film,
An inspection step of driving two or more of the plurality of discharge units with a predetermined drive signal to discharge the liquid material onto an inspection substrate and inspecting the discharge amount of each of the discharged liquid materials;
An adjustment step of adjusting the predetermined drive signal based on the inspection result of the inspection step;
The liquid material is applied to the substrate to be processed by using the drive signal adjusted in the adjustment step, selectively discharging the plurality of discharge units, and changing the discharge operation pattern of the selected discharge unit for each scan. And a thin film forming step of forming a thin film,
The inspection step selects two or more of a plurality of different discharge operation patterns in the thin film formation step, and arranges the liquid on the inspection substrate based on the discharge operation patterns, and the arrangement processing And an evaluation process for evaluating the volume of the liquid material arranged in (1).
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Cited By (2)
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---|---|---|---|---|
JP2013180250A (en) * | 2012-03-02 | 2013-09-12 | Seiko Epson Corp | Drawing method |
JP2014008481A (en) * | 2012-07-02 | 2014-01-20 | Seiko Epson Corp | Method of discharging droplet |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001188117A (en) * | 1999-12-27 | 2001-07-10 | Seiko Epson Corp | Method of manufacturing for part of optoelectronic device |
JP2002196127A (en) * | 2000-10-17 | 2002-07-10 | Seiko Epson Corp | Inkjet recording apparatus and manufacturing method for functional liquid applied substrate |
JP2005310708A (en) * | 2004-04-26 | 2005-11-04 | Seiko Epson Corp | Organic el device and electronic apparatus |
JP2006184162A (en) * | 2004-12-28 | 2006-07-13 | Seiko Epson Corp | Measurement apparatus and droplet discharge apparatus |
JP2007229958A (en) * | 2006-02-27 | 2007-09-13 | Sharp Corp | Droplet ejector and its control method |
JP2007326003A (en) * | 2006-06-06 | 2007-12-20 | Sharp Corp | Droplet discharge apparatus and control method therefor |
-
2008
- 2008-03-06 JP JP2008056190A patent/JP5169330B2/en active Active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001188117A (en) * | 1999-12-27 | 2001-07-10 | Seiko Epson Corp | Method of manufacturing for part of optoelectronic device |
JP2002196127A (en) * | 2000-10-17 | 2002-07-10 | Seiko Epson Corp | Inkjet recording apparatus and manufacturing method for functional liquid applied substrate |
JP2005310708A (en) * | 2004-04-26 | 2005-11-04 | Seiko Epson Corp | Organic el device and electronic apparatus |
JP2006184162A (en) * | 2004-12-28 | 2006-07-13 | Seiko Epson Corp | Measurement apparatus and droplet discharge apparatus |
JP2007229958A (en) * | 2006-02-27 | 2007-09-13 | Sharp Corp | Droplet ejector and its control method |
JP2007326003A (en) * | 2006-06-06 | 2007-12-20 | Sharp Corp | Droplet discharge apparatus and control method therefor |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013180250A (en) * | 2012-03-02 | 2013-09-12 | Seiko Epson Corp | Drawing method |
JP2014008481A (en) * | 2012-07-02 | 2014-01-20 | Seiko Epson Corp | Method of discharging droplet |
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