JP2009205718A - 光記録再生装置 - Google Patents

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治郎 三鍋
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Abstract

【課題】記録時には、生成される信号光のSNRを向上させ、高いSNRでホログラムを記録することができ、再生時には、空間光変調器の全画素に光を照射する場合に比べて、ホログラムに照射される読出し光から信号光に対応する領域への漏れ光を大幅に低減して、再生特性の顕著な向上を図ることができるコリニア方式の光記録再生装置を提供する。
【解決手段】記録時に、アキシコン光学系に入射した光は、マスク50によりアキシコンレンズ58A、58Bの頂点を透過して直進する光強度成分が除去される。マスクを通過した光は、距離L離間されたアキシコンレンズにより光強度分布が平坦化され、絞り機構56の開口部56Aを通過して直径Dの円形の光100とされる。再生時には、マスクを通過した光は、距離(L+ΔL)離間されたアキシコンレンズにより内径mのリング状の光とされ、開口部56Aを通過して直径D内径mのリング状の光102とされる。
【選択図】図4

Description

本発明は、光記録再生装置に関する。
近時、ホログラフィックメモリの記録再生方式として、従来の二光束干渉方式と比較して光学系を大幅に簡素化でき、振動などの外乱に強い、サーボ機構の導入が容易等の利点を有する同軸記録方式(コリニア方式)が提案されている。このコリニア方式では、空間光変調器により変調されて生成された信号光と参照光とを、共通の光軸として同一のレンズにより集光し、信号光と参照光との干渉により形成される干渉縞(回折格子)を、光記録媒体にホログラムとして記録する。デジタルデータを二次元符号化した信号光パターンを空間光変調器に表示することで、信号光にはデジタルデータが重畳される。
ホログラムが記録された光記録媒体に、参照光を読出し光として照射することで、記録されたホログラムから信号光が再生される。この再生信号光から、重畳されたデジタルデータを復号することができる。しかしながら、従来のコリニア方式では、信号光と参照光とが同一の光軸上にあるため、再生時に参照光を読出し光として照射する場合に、空間光変調器の信号光に対応する領域にも光が漏れ出てしまう。例えば、透過型の空間光変調器として配置された液晶素子の精度が低い場合には、信号光パターンの表示位置にあるオフ画素を透過した光が漏れ光となる。従って、このような構成の場合は、この漏れ光が光検出器で検出されて、再生信号光に対するノイズを発生させ、再生特性が劣化するという問題があった。
特許文献1に記載のホログラム記録再生装置では、空間光変調器の光出射側に、記録時に入射された光を透過し、再生時に入射された光のうち信号光に対応する領域の光を遮蔽する光制御素子を配置している。再生時には、空間光変調器の全画素に光が照射されるが、この光制御素子により、信号光に対応する領域に存在する漏れ光を除去して、再生特性の向上を図っている。光制御素子としては、部分偏光フィルタ等が使用されている。
特開2006−301465号公報
本発明の目的は、コリニア方式でホログラムを記録・再生する場合に、記録時には、空間光変調器の全画素に照射する光の光強度分布を平坦化し、空間光変調器に表示されるパターンを均一に照射して、生成される信号光のSNRを向上させ、高いSNRでホログラムを記録することができ、また再生時には、空間光変調器の全画素に光を照射する場合に比べて、ホログラムに照射される読出し光から信号光に対応する領域への漏れ光を大幅に低減して、再生特性の顕著な向上を図ることができる、光記録再生装置を提供することにある。
上記目的を達成するために請求項1に記載の光記録再生装置は、コヒーレント光を射出する光源と、2次元状に配列された多数の画素部で構成され、信号光を生成する場合に信号光パターンを表示する信号光領域と、前記信号光領域を取り囲むように配置され且つ前記信号光と同軸の参照光を生成する場合に参照光パターンを表示する参照光領域とを含み、入射した光を表示パターンに応じて画素毎に変調して出力する空間光変調器と、前記光源と前記空間光変調器との間に配置され、円錐面同士が対向するように配置されると共に離間距離が変更可能に配置された一対のアキシコンレンズから構成され、記録時には、一対のアキシコンレンズが第1の距離だけ離間され、入射した光を、前記空間光変調器の被照射面における光強度分布を平坦化するように補正し、再生時には、一対のアキシコンレンズが第1の距離より大きな第2の距離だけ離間され、入射した光を、前記空間光変調器の前記信号光領域以外の領域に照射されるように補正する補正光学系と、前記一対のアキシコンレンズを構成する一方のアキシコンレンズを、他方のアキシコンレンズに対し光軸に沿って相対移動させるレンズ移動手段と、前記補正光学系で補正された光を、前記空間光変調器に導く導光手段と、を備え、前記補正光学系で補正された光を、前記導光手段により前記空間光変調器に導いて、記録時には、前記空間光変調器で生成された信号光と参照光とを、光記録媒体に照射してホログラムを記録し、再生時には、前記空間光変調器で生成された参照光を、ホログラムが記録された光記録媒体に照射して信号光を再生する、ことを特徴とする。
請求項2に記載の光記録再生装置は、請求項1に記載の発明において、前記光源と前記補正光学系との間に配置され、光軸近傍の光を遮断する遮蔽部を備えたマスクを更に備えた、ことを特徴とする。一対のアキシコンレンズを設けた場合に、実際的には、特に頂点付近において、完全に理想的な円錐形とすることは難しい。この、理想的な円錐形からのずれによって頂点で回折が起こり、光軸周りにそのほかの領域に比べて輝度が高い部分が発生してしまう。ここでいう「光軸近傍」とは、この周りに比べて光軸を中心に輝度が高くなってしまう部分を意味する。実際の範囲は、個々の一対のアキシコンレンズによって決まる。
請求項3に記載の光記録再生装置は、請求項1又は2に記載の発明において、前記一対のアキシコンレンズは、一方のアキシコンレンズが移動可能に保持されると共に、他方のアキシコンレンズが固定配置されており、前記レンズ移動手段は、移動可能に保持された一方のアキシコンレンズを光軸に沿って移動させる、ことを特徴とする。
請求項4に記載の光記録再生装置は、請求項1〜3のいずれか1項に記載の発明において、前記第1の距離が、下記式(1)に規定する距離Lであることを特徴とする。
上記式(1)において、距離Lはアキシコンレンズ間における光路長の光軸成分距離であり、φはアキシコンレンズの頂角の角度を表し、Dは入射する光のビーム径を表し、θはアキシコンレンズによる屈折角を表し、nはアキシコンレンズの屈折率を表す。なお、空気中での屈折率は1とする。
請求項5に記載の光記録再生装置は、請求項1〜4のいずれか1項に記載の発明において、前記補正光学系は、再生時には入射した光を、前記空間光変調器の前記参照光領域の形状に応じたリング状の光に補正し、前記導光手段は、前記補正光学系で生成されたリング状の光を、該光の光路を調整して、前記空間光変調器の前記参照光領域に導く、ことを特徴とする。
請求項6に記載の光記録再生装置は、請求項5に記載の発明において、前記補正光学系で生成されるリング状の光の内径をmとした場合に、前記第2の距離は、前記距離Lに下記式(2)に規定する距離ΔLを加えた距離(L+ΔL)であることを特徴とする。
上記式(2)において、φはアキシコンレンズの頂角の角度を表し、nはアキシコンレンズの屈折率を表す。なお、空気中での屈折率は1とする。
本発明の各請求項に係る発明は、各々以下の効果を有する。
請求項1に記載の発明によれば、コリニア方式でホログラムを記録・再生する場合に、記録時には、空間光変調器の全画素に照射する光の光強度分布を平坦化し、空間光変調器に表示されるパターンを均一に照射して、生成される信号光のSNRを向上させ、高いSNRでホログラムを記録することができ、また再生時には、空間光変調器の全画素に光を照射する場合に比べて、ホログラムに照射される読出し光から信号光に対応する領域への漏れ光を大幅に低減して、再生特性の顕著な向上を図ることができる、という効果がある。
請求項2に記載の発明によれば、空間光変調器の全画素に照射する光の光強度分布を更に平坦化することができる、という効果がある。
請求項3に記載の発明によれば、一対のアキシコンレンズの両方を移動させて離間距離を変更する場合と比べて、離間距離の変更が容易になる、という効果がある。
請求項4に記載の発明によれば、コリニア方式でホログラムを記録する場合に、一対のアキシコンレンズの離間距離を簡単に求めることができる、という効果がある。
請求項5に記載の発明によれば、再生時に、空間光変調器の全画素に光を照射する場合に比べて、再生時の光利用効率が向上する、という効果がある。
請求項6に記載の発明によれば、再生時に、コリニア方式でホログラムを再生する場合に、一対のアキシコンレンズの離間距離を簡単に求めることができる、という効果がある。
以下、図面を参照して本発明の実施の形態の一例を詳細に説明する。
(光記録再生装置の概略構成)
図1は本発明の実施の形態に係る光記録再生装置の構成を示す概略図である。この光記録再生装置は、光軸を共通とする信号光と参照光とを、同じ方向から1光束の記録光として光記録媒体に照射する「同軸記録方式(コリニア方式)」の光記録再生装置である。本実施の形態では、反射型の空間光変調器(SLM:spatial light modulator)と透過型の光記録媒体とを用いる「同軸透過型」の光記録再生装置について説明する。
光記録再生装置には、コヒーレント光であるレーザ光を発振する光源10が設けられている。光源10としては、例えば、発振波長が532nmの緑色レーザ光を発振するレーザ光源が用いられる。光源10の光出射側には、光路に対し挿入又は退避(開閉)が可能なシャッター12、直交する直線偏光成分間に1/2波長の光路差を与える1/2波長板14、所定の偏光方向の光を通過させる偏光板16、拡大・コリメート光学系であるビームエキスパンダ18、補正光学系として使用されるアキシコン光学系20、及び反射ミラー22が、光源10の側から光路に沿ってこの順に配置されている。シャッター12は、コンピュータ等の制御装置(図示せず)に接続された駆動装置(図示せず)により駆動されて開閉する。
反射ミラー22の光反射側には、所定の偏光方向の光を反射し且つこれと直交する偏光方向の光を透過する偏光ビームスプリッタ24が配置されている。反射ミラー22側から見て、偏光ビームスプリッタ24の光反射側には、画素毎に入射光を偏光変調する反射型の空間光変調器26が配置されている。反射型の空間光変調器26としては、LCOS(liquid crystal on silicon)等を用いることができる。空間光変調器26は、パターン発生器(図示せず)を介して制御装置(図示せず)に接続されている。空間光変調器26の各画素部は、この制御装置により駆動制御される。
パターン発生器は、制御装置から供給されたデジタルデータを二次元符号化して、空間光変調器26に表示する信号光パターンを生成する。信号光パターンは、例えば、二値のデジタルデータ「0,1」が「暗(黒画素)、明(白画素)」で表現されたデジタルパターン等である。空間光変調器26には、信号光パターンの外に、参照光パターンも表示される。参照光パターンは、例えば、ランダムパターン等である。空間光変調器26は、表示された信号光パターンや参照光パターンに応じて入射したレーザ光を変調して、信号光や参照光を生成する。空間光変調器26は、生成した信号光や参照光を、偏光ビームスプリッタ24側に反射する。
図2(A)は記録時に空間光変調器26に表示する記録用パターンの一例を示す図である。図2(A)に示すように、記録用パターン64は、信号光を生成する信号光パターン66と、参照光を生成するリング状の参照光パターン68と、を含んで構成されている。信号光パターン66は、空間光変調器26の中央部分に表示される。参照光パターン68は、この信号光パターンを取り囲むように、空間光変調器26の周辺部分に表示される。信号光パターンを表示する領域が信号光領域であり、参照光パターンを表示する領域が参照光領域である。信号光領域の形状及び参照光領域の形状は、記録用パターンに応じて適宜変更することができる。
図2(B)は空間光変調器26の表示面26Aに設定された表示領域の一例を示す平面図である。表示面26Aの大きさ等に応じて記録用パターンのサイズやパターン配置は予め設定されている。例えば、本実施の形態では、図2(B)に示すように、空間光変調器26の表示面26Aには、円形の信号光領域26Sと、この信号光領域26Sを取り囲むリング状の参照光領域26Rと、が各々配置されている。
アキシコン光学系20は、記録時には、ビームエキスパンダ18から入射した平行光を、空間光変調器26の表示面26Aでの光強度分布を平坦化するように補正して、空間光変調器26に照射する平行光を生成する。また、アキシコン光学系20は、再生時には、ビームエキスパンダ18から入射した平行光を、空間光変調器26の信号光領域26Sにレーザ光が照射されないように補正して、空間光変調器26に照射する平行光を生成する。
本実施の形態では、アキシコン光学系20は、記録時には、信号光領域26S及び参照光領域26Rを含む円形の記録領域にレーザ光を照射するために、光軸と直交する断面の形状が円形の平行光(以下、「円形の平行光」という。)を生成する。また、再生時には、リング状の参照光領域26Rにレーザ光を照射するために、光軸と直交する断面の形状がリング状の平行光(以下、「リング状の平行光」という。)を生成する。なお、アキシコン光学系20に関しては、後で詳しく説明する。
偏光ビームスプリッタ24には、空間光変調器26で生成された信号光や参照光が入射する。この空間光変調器26から見て、偏光ビームスプリッタ24の光透過側には、一対のレンズ28、32、及びフーリエ変換レンズ34が、光路に沿ってこの順に配置されている。フーリエ変換レンズ34は、記録光をフーリエ変換して、光記録媒体36に照射する。フーリエ変換レンズ34の焦点位置が、記録光が集光される集光位置となる。レンズ28とレンズ32との間には、ビームウエスト近傍に、開口部(アパーチャ)30Aを備えた遮光板30が配置されている。なお、遮光板30は必須ではなく、適宜省略することができる。
フーリエ変換レンズ34の光出射側には、光記録媒体36を保持する保持ステージ(図示せず)が設けられている。保持ステージは、制御装置(図示せず)に接続された駆動装置(図示せず)により駆動されて、光軸方向又は光軸と垂直な面方向に移動する。保持ステージは、例えば、光記録媒体36の膜厚方向の中心位置がフーリエ変換レンズ34の焦点位置となる基準位置で、光記録媒体36を保持する。
光記録媒体36は、光照射による屈折率変化によりホログラムを記録可能な光記録媒体である。このような光記録媒体36としては、例えば、フォトポリマー材料、フォトリフラクティブ材料、銀塩感光材料等の記録材料を用いた光記録媒体が挙げられる。
光記録媒体36の光透過側には、フーリエ変換レンズ38、一対のレンズ42、44、及びセンサアレイ46が配置されている。センサアレイ46は、CCDやCMOSアレイ等の撮像素子で構成され、受光した再生光(回折光)を電気信号に変換して出力する。レンズ38とレンズ42との間には、大口径の開口部(アパーチャ)40Aを備えた遮光板40が配置されている。なお、遮光板40は必須ではなく、適宜省略することができる。また、センサアレイ46は、制御装置(図示せず)に接続されている。センサアレイ46は、再生時に、再生された信号光に重畳されたデータを読み出し、制御装置(図示せず)に出力する。
(アキシコン光学系の構成)
次に、アキシコン光学系20の構成について説明する。図3はアキシコン光学系の構成の一例を示す概略図である。アキシコン光学系20は、光軸Lax付近の光を遮断する遮蔽部50Aを備えた光透過板からなるマスク50、一対のアキシコンレンズ58、及び開口部56Aの径が変化して通過する光のビーム径を調節する絞り機構(アイリス)56を含んで構成されている。一対のアキシコンレンズ58は、同一形状の2つのアキシコンレンズ58Aとアキシコンレンズ58Bとで構成されている。レーザ光は、ビームエキスパンダ18からアキシコン光学系20に入射する。マスク50、アキシコンレンズ58A、アキシコンレンズ58B、及び絞り機構56は、レーザ光の入射側から、光路に沿ってこの順に配置されている。なお、絞り機構56は必須ではなく、適宜省略することができる。
また、レーザ光入射側のアキシコンレンズ58Aは、光路上の所定位置に固定配置されている。一方、レーザ光出射側のアキシコンレンズ58Bは、保持部材52に保持されている。保持部材52は、制御装置(図示せず)に接続された駆動装置(図示せず)により駆動されて、矢印Bで示した光軸方向に移動する。これら保持部材52と駆動装置(図示せず)とが、アキシコンレンズ58Bを光軸に沿って移動させるレンズ移動手段として機能する。一対のアキシコンレンズ58は、所定距離だけ離間されたときに、アキシコンレンズ58Aに入射した平行光と同じ直径の平行光が、アキシコンレンズ58Bから射出される。このときのアキシコンレンズ58Bの位置を「基準位置」とする。記録時には、保持部材52は、アキシコンレンズ58Bがこの基準位置に配置されるように移動する。
図5は一対のアキシコンレンズ58を構成する各々のレンズの配置を示す斜視図である。一対のアキシコンレンズ58は、同一形状の2つのアキシコンレンズ58Aとアキシコンレンズ58Bとで構成されている。アキシコンとは、点光源からの光を光軸上の直線像に変換する軸対称面を備えた光学素子である。円錐面を備えた円錐レンズの形態で使用されることが多く、一方の面が平面で且つ他方の面が円錐面の円錐台形状のレンズが、一般にアキシコンレンズと称されている。本実施の形態においても、図5に示す円錐台形状のレンズを、アキシコンレンズという。アキシコンレンズ58Aとアキシコンレンズ58Bとは、その円錐軸が光軸Lと一致し(即ち、円錐の頂点の各々が同じ光軸上に位置する)、円錐面同士が対向するように、所定の距離だけ離間して配置されている。離間距離については、後で詳しく説明する。
(アキシコン光学系のビーム補正動作)
次に、図3に示したアキシコン光学系20の動作について説明する。図4(A)は記録時におけるアキシコン光学系20のビーム補正動作を示す図であり、図4(B)は再生時におけるアキシコン光学系20のビーム補正動作を示す図である。
まず、記録時におけるビーム補正動作から説明する。図4(A)に示すように、アキシコン光学系20には、ビームエキスパンダ18から直径Dの円形の平行光が入射する。この直径Dの円形の平行光は、遮蔽部50Aを備えたマスク50に照射される。マスク50に照射された平行光は、アキシコンレンズ58A、58Bの頂点を透過して直進する光強度成分が遮蔽部50Aで除去され、残部がマスク50を通過する。記録時には、アキシコンレンズ58Bは、保持部材52により移動されて、基準位置に配置されている。マスク50を通過した直径Dの円形の平行光は、アキシコンレンズ58により光強度分布が平坦化されて、同じ直径Dの円形の平行光100として射出される。
即ち、直径Dの円形の平行光をアキシコンレンズ58Aの平面側から入射させると、入射した光が円錐面の斜面及び頂点から射出される際に、図4(A)のように屈折し、円形のビームが形成される。円形のビームは、アキシコンレンズ58Bの円錐面から入射して、直径Dの円形の平行光100とされ、アキシコンレンズ58Bの平面側から射出される。即ち、入射光の光軸付近の光を外側に、円周付近の光を光軸付近に折り返す役目を果たす。
レーザ光は光軸にピークを有するガウシアン強度分布を有するため、強度の高い光軸付近の光を外側に広げ、強度の低い円周付近の光を光軸付近に集中させることによって、光強度分布を均一化することが可能となる。アキシコンレンズ58Bから射出された直径Dの円形の平行光は、絞り機構56に照射される。記録時には、絞り機構56の開口部56Aの径が拡大した状態である。直径Dの円形の平行光は、開口部56Aをそのまま通過する。
本実施の形態では、円形の平行光100の直径Dは、参照光領域26Rの外径と等しくなるように設計されている。これにより、円形の平行光100が、図2(B)に示す信号光領域26S及び参照光領域26Rに丁度照射される。
次に、再生時におけるビーム補正動作を説明する。図4(B)に示すように、アキシコン光学系20に入射した直径Dの円形の平行光は、遮蔽部50Aを備えたマスク50に照射される。マスク50に照射された平行光は、アキシコンレンズ58A、58Bの頂点を透過して直進する光強度成分が遮蔽部50Aで除去され、残部がマスク50を通過する。再生時には、アキシコンレンズ58Bは、アキシコンレンズ58Aから遠ざかるように、保持部材52によって矢印Br方向に移動されて、点線で示す基準位置54より絞り機構56側に配置されている。マスク50を通過した直径Dの円形の平行光は、一対のアキシコンレンズ58により円形ビームからリング状ビームに変換されて、外径がDmaxで内径がmのリング状の平行光が射出される。
即ち、図5にも示すように、直径Dの円形の平行光をアキシコンレンズ58Aの平面側から入射させると、入射した光が円錐面の斜面及び頂点から射出される際に、図4(B)のように屈折し、リング状のビームが形成される。リング状のビームは、アキシコンレンズ58Bの円錐面から入射して、外径がDmaxで内径がmのリング状の平行光とされ、アキシコンレンズ58Bの平面側から射出される。アキシコンレンズ58Bから射出されたリング状の平行光は、絞り機構56に照射される。絞り機構56に照射された外径がDmaxで内径がmのリング状の平行光は、絞り機構56で外側がカットされ、リング状の平行光102が開口部56Aを通過する。
絞り機構56の開口部56Aを通過したリング状の平行光102は、外径(外周の直径)がDであり、内径(内周の直径)がmである。外径Dと内径mとは、入射される平行光の直径D、アキシコンレンズの直径A、円錐部の頂角の角度φ、及び一対のアキシコンレンズの離間距離などに応じて決まる。離間距離については後述する。
本実施の形態では、リング状の平行光102の外径Dと内径mとは、外径Dが参照光領域26Rの外径と等しくなり、内径mが参照光領域26Rの内径と等しくなるように設計されている。これにより、リング状の平行光102が、図2(B)に示す参照光領域26Rに丁度照射される。
なお、本実施の形態では、参照光領域26Rの内径と信号光領域26Sの直径とが等しものとして説明しているが、再生時に信号光に対応する領域への漏れ光を低減するという観点からは、参照光領域26Rの内径を、信号光領域26Sの直径よりも大きくすることが好ましい。即ち、参照光領域26Rと信号光領域26Sとの間にギャップを設けることが好ましい。また、同様の観点から、リング状の平行光102の内径mを、参照光領域26Rの内径よりも若干大きくすることがより好ましい。
また、再生時に信号光に対応する領域への漏れ光を低減するという観点からは、リング状の平行光102の内径mを、信号光領域26Sの直径以上とすればよく、絞り機構56を省略して、外径がDmaxで内径がmのリング状の平行光を、参照光領域26Rに照射してもよい。
図6(A)は、図4(A)に示したように、入射した直径Dの円形の平行光が、同じ直径Dの円形の平行光として射出されるための、光学的な条件を説明する図である。図6(A)に示すように、アキシコンレンズ58Aとアキシコンレンズ58Bとの離間距離Lは、アキシコンレンズ58Aとアキシコンレンズ58Bとの間における光路長の光軸成分距離と定義される。
アキシコンレンズの頂角の角度をφ、入射する光のビーム径をD、出射する光のビーム径をD、アキシコンレンズによる屈折角をθとすると、離間距離Lは下記式(A)で表される。
アキシコンレンズの屈折率をn、空気中での屈折率を1とすると、スネルの法則から下記式(B)の関係が成立する。
上記式(A)及び上記式(B)から、アキシコンレンズ58Aに入射された直径Dの円形の平行光が、アキシコンレンズ58Bから同じ直径Dの円形の平行光として射出されるためには、アキシコンレンズ58Aとアキシコンレンズ58Bとが、下記式(1)で表される距離Lだけ、離間されて配置されている必要がある。
また、図6(B)は一対のアキシコンレンズ58により光強度分布が平坦化される様子を、波動光学的手法によりシミュレーションした結果を示す図である。矢印Aは光の導波方向を示している。図6(B)に示すように、入射されたガウシアン強度分布を有する平行光は、光軸付近の光が外側の円周方向に、円周付近の光が光軸付近に折り返されていることがわかる。これにより、一対のアキシコンレンズ58を通過する間に光強度分布が平坦化されて、光軸と直交する断面における光強度分布が均一な平行光に変換される。
図7(A)〜(D)は一対のアキシコンレンズによる光強度分布の平坦化効果を、波動光学的手法によりシミュレーションした結果を示す図である。ここでは、アキシコンレンズ58Aとアキシコンレンズ58Bとが、上記式(1)を満たすように、距離Lだけ離間されて配置されている。また、上記のマスク50は使用していない。
図7(A)及び(C)は一対のアキシコンレンズ58に入射される前の平行光のビームプロファイルを示す図である。図7(B)及び(D)は一対のアキシコンレンズ58から射出された平行光のビームプロファイルを示す図である。図7(C)及び(D)において、横軸は、基準位置からの距離(単位:mm)であり、光軸は基準位置から7mmの位置にある。縦軸は、最大光強度を1としたときの相対光強度Aである。
図7(A)及び(C)に示すように、ガウシアン強度分布を有するビームは、中央部分(光軸付近)の光強度が大きく、周辺に行くに従い光強度が減少する。これに対し、一対のアキシコンレンズ58を通過したビームは、図7(B)及び(D)に示すように、中央部分の光強度が周辺部分に分配されて、周辺部分での光強度が増加し、中央部分と周辺部分とで光強度が略同じである。図7(D)に示すビームプロファイルは、略台形状になっている。即ち、一対のアキシコンレンズ58を通過することで、ガウシアン強度分布を有するビームは、光強度分布が平坦化されて、光軸と直交する断面における光強度分布が均一なビームに変換される。
但し、図7(B)及び(D)から分かるように、一対のアキシコンレンズ58を用いて平坦化しただけでは、平坦化した後も中央部分で光強度分布の乱れが生じる。これはアキシコンレンズの頂点における回折が原因である。従って、上述したように、一対のアキシコンレンズ58の光入射側に、遮蔽部50Aを備えたマスク50を配置し、アキシコンレンズ58A、58Bの頂点を透過して直進する光強度成分を遮断する。これにより、中央部分で光強度分布の乱れが除去され、光強度分布がより均一化される。しかしながら、光強度分布が乱れる中央付近の信号光領域を使用しない等の工夫により、適宜マスク50は省略することができる。なお、本発明における条件式はマスク50が省略された場合で示した。マスク50を導入した場合には遮蔽部50Aの大きさに応じて適宜補正すればよい。
図8は、図4(B)に示したように、入射した直径Dの円形の平行光が、内径mのリング状の平行光として射出されるための、光学的な条件を説明する図である。図8に示すように、再生時には、アキシコンレンズ58Bは、保持部材52によって、点線で示す基準位置54から絞り機構56側にΔLだけ移動されて、基準位置54より絞り機構56側に配置されている。
アキシコンレンズの頂角の角度をφ、入射する光のビーム径をD、出射する光のビーム径をD、アキシコンレンズによる屈折角をθとすると、移動距離ΔLは下記式(C)で表される。
アキシコンレンズの屈折率をn、空気中での屈折率を1とすると、スネルの法則から下記式(D)の関係が成立する。
上記式(C)及び上記式(D)から、アキシコンレンズ58Aに入射された直径Dの円形の平行光が、アキシコンレンズ58Bから内径mのリング状の平行光として射出されるためには、アキシコンレンズ58Bを、基準位置54から下記式(2)で表される距離ΔLだけ移動させる必要がある。このとき、アキシコンレンズ58Aとアキシコンレンズ58Bとの間の距離は、記録時の離間距離Lに移動距離ΔLを加えた距離(L+ΔL)となる。
以上説明した通り、アキシコン光学系20は、記録時には、図2(B)に示す信号光領域26S及び参照光領域26Rを含む円形の記録領域にレーザ光を照射するために、光強度分布が平坦化された直径Dの円形の平行光100を生成する。また、再生時には、空間光変調器26のリング状の参照光領域26Rだけにレーザ光を照射するために、外径Dで内径mのリング状の平行光102を生成する。即ち、再生時には、空間光変調器26の信号光領域26Sにレーザ光が照射されないように、信号光領域26Sの直径以上の内径mを有するリング状の平行光を生成する。
なお、アキシコン光学系20で生成された平行光は、後述する通り、反射ミラー22で反射され、偏光ビームスプリッタ24で反射されて、空間光変調器26に照射される。このとき、上述した通り、記録時には、円形の平行光100が信号光領域26S及び参照光領域26Rに照射され、再生時には、リング状の平行光102が参照光領域26Rに照射される。
(光記録再生装置の記録・再生動作)
次に、図1に示す光記録再生装置の記録・再生の動作について説明する。
ホログラムを記録する場合には、シャッター12を開いて、光源10からレーザ光を照射する。同時に、空間光変調器26に記録用パターンを表示する。光源10から発振されたレーザ光は、シャッター12を通過し、1/2波長板14と偏光板16とにより光強度や偏光方向が調整される。例えば、偏光板16はS偏光のみを透過させる配置とし、1/2波長板14によりレーザ光の偏光方向を制御することによって、S偏光の光強度が調整される。偏光板16を通過した光は、ビームエキスパンダ18により大径の平行光に変換され、直径Dの円形の平行光がアキシコン光学系20に入射される。
アキシコン光学系20では、入射された直径Dの円形の平行光が補正されて、光強度分布が平坦化された直径Dの円形の平行光100が生成される。アキシコン光学系20から射出された平行光は、反射ミラー22に照射される。反射ミラー22で反射された平行光は、偏光ビームスプリッタ24に入射する。ここでは、偏光ビームスプリッタ24は、S偏光を反射し且つP偏光を透過する。直径Dの円形の平行光100(S偏光)は、偏光ビームスプリッタ24で空間光変調器26の方向に反射される。空間光変調器26には、記録用パターンが表示されている。空間光変調器26では、表示されたパターンに応じてレーザ光が偏光変調され(S偏光→P偏光)、信号光と参照光とが生成される。
本実施の形態では、図9(A)に示すように、空間光変調器26の信号光領域26S及び参照光領域26Rには、アキシコン光学系20で生成された円形の平行光100が照射され。信号光領域26Sに入射したレーザ光は、表示された信号光パターンに応じて偏光変調され、信号光が生成される。また、参照光領域26Rに入射したレーザ光は、表示された参照光パターンに応じて偏光変調され、参照光が生成される。円形の平行光100は、光強度分布が平坦化されているので、空間光変調器26に表示された記録用パターンを均一に照射することができる。これにより、生成される信号光のSNRが向上し、高いSNRでホログラムが記録される。
空間光変調器26で偏光変調された記録光は、偏光ビームスプリッタ24に照射され、偏光ビームスプリッタ24を透過して直線偏光(P偏光)の振幅分布に変換される。その後、レンズ28で集光され、アパーチャ30Aを備えた遮光板30に照射される。レンズ28で集光された記録光は、不要な周波数成分が遮光板30でカットされ、残部がアパーチャ30Aを通過する。アパーチャ30Aを通過した記録光は、レンズ32により平行光に変換される。
レンズ32により平行光に変換された記録光、即ち、信号光と参照光とは、フーリエ変換レンズ34によりフーリエ変換されて集光され、光記録媒体36に同時に且つ同軸で照射される。信号光と参照光とが集光される位置において、信号光と参照光とが干渉して形成された干渉縞が、光記録媒体36にホログラムとして記録される。
光記録媒体36に記録されたデータを読み出す場合(再生時)には、シャッター12を開いて、光源10からレーザ光を照射する。同時に、空間光変調器26に再生用パターンを表示する。光源10から発振されたレーザ光は、記録の場合と同様にして、シャッター12を通過し、1/2波長板14と偏光板16とにより光強度や偏光方向が調整され、ビームエキスパンダ18により大径の平行光に変換されて、アキシコン光学系20に入射する。
アキシコン光学系20では、入射された直径Dの円形の平行光が補正されて、外径Dで内径mのリング状の平行光102が生成される。リング状の平行光102も光強度分布が平坦化されている。アキシコン光学系20から射出されたリング状の平行光102は、反射ミラー22に照射される。反射ミラー22で反射されたリング状の平行光102は、偏光ビームスプリッタ24に入射する。入射されたリング状の平行光102(S偏光)は、偏光ビームスプリッタ24で空間光変調器26の方向に反射される。空間光変調器26には、再生用パターンが表示されている。空間光変調器26では、表示されたパターンに応じてレーザ光が偏光変調され(S偏光→P偏光)、参照光が生成される。
本実施の形態では、図9(B)に示すように、空間光変調器26の参照光領域26Rに、アキシコン光学系20で生成されたリング状の平行光102が照射される。参照光領域26Rに入射したレーザ光は、表示された参照光パターンに応じて偏光変調され、参照光が生成される。生成された参照光は、記録の場合と同様にして、光記録媒体36のホログラムが記録された領域に照射される。即ち、光記録媒体36には、参照光だけが読出し光として照射される。
リング状の平行光102は、参照光領域26Rの形状に応じて生成されたものであり、参照光領域26Rにだけレーザ光が照射され、信号光領域26Sにはレーザ光は照射されない。従って、信号光領域26Sで反射された光(信号光に対応する領域に存在する漏れ光)が、読出し用の参照光と共に光記録媒体36に照射されることはない。従って、ホログラムに照射される読出し光において、信号光に対応する領域への漏れ光(不要成分)が大幅に低減され、再生特性が顕著に向上する。
照射された参照光は、光記録媒体36を透過するときに、ホログラムによって回折され、透過回折光(再生光)がフーリエ変換レンズ38側に射出される。一部の参照光は回折されずに光記録媒体36を透過する。射出された再生光(透過参照光を含む)は、フーリエ変換レンズ38により逆フーリエ変換され、アパーチャ40Aを備えた遮光板40に照射される。レンズ38で逆フーリエ変換された再生光は、透過参照光が遮光板40でカットされ、残部がアパーチャ40Aを通過する。アパーチャ40Aを通過した光は、一対のレンズ42、44によりリレーされ、センサアレイ46に入射する。
センサアレイ46は、受光した再生光を電気信号に変換して出力する。即ち、センサアレイ46は、再生された信号光に重畳されたデータを読み出し、制御装置(図示せず)に出力する。なお、センサアレイ46では、信号光データの1画素を複数の受光素子により受光する、オーバーサンプリングを実施することが好ましい。例えば、1ビットのデータを4個(2×2)の受光素子により受光する。
(実験結果)
図10(A)及び(B)はアキシコン光学系の導入効果を示す図である。図10(A)は、図1に示す構成からアキシコン光学系を除いた従来と同じ構成の光記録再生装置(以下、「従来の装置」という。)を用いた場合に、空間光変調器26の表示面26Aで観察される信号光(データページ)の光強度分布を、シミュレーションした結果を示す図である。一方、図10(B)は、図1に示す構成と同じ構成の光記録再生装置(以下、「アキシコン光学系を導入した装置」という。)を用いた場合に、空間光変調器26の表示面26Aで観察されるデータページの光強度分布を、シミュレーションした結果を示す図である。即ち、シミュレーションによって得られた図7(A)及び(B)の光強度分布と、理想的なデータパターンの強度分布とを掛け合わせることによって、図10(A)及び(B)に示すデータページの光強度分布を得た。
図10(A)から分かるように、アキシコン光学系を導入していない従来の装置では、ガウシアン強度分布のレーザ光が照射されているので、観察されるデータページの中央部分は明るいが、周辺部分は暗い。これに対して、図10(B)から分かるように、アキシコン光学系を導入した装置では、平坦化された光強度分布のレーザ光が照射されているので、均一な明るさのデータページが観察される。この通り、アキシコン光学系を導入した装置では、空間光変調器26に表示された信号光パターンを均一に照射することで、一見して分かるように、高いSNRの信号光(データページ)が生成される。
図11(A)は、図10(A)に示すデータページのオン画素(白画素)のヒストグラムであり、図11(B)は、図10(B)に示すデータページのオン画素のヒストグラムである。横軸が輝度(任意単位)を表し、縦軸はデータページ中のオン画素の出現頻度(単位:回)を表している。これらのヒストグラムは、上記のシミュレーション結果から得られたものである。
図11(A)に示すように、従来の装置で得られたデータページでは、オン画素の輝度が8〜40の範囲に分布しており、データページのSNRは4.75である。これに対し、図11(B)に示すように、アキシコン光学系を導入した装置で得られたデータページでは、オン画素の輝度が24の近傍に集中しており、データページのSNRは15.73と、3倍以上に向上している。オン画素の輝度分布の範囲が狭いことは、オン画素の輝度がデータページ内で略一定で、光強度分布が平坦化されていることを意味する。この通り、アキシコン光学系を導入した装置では、高いSNRの信号光(データページ)が生成されることは明らかである。ここでは、SNR=(輝度の平均値)/(輝度の標準偏差)と定義した。
また、上述した通り、従来の装置では、再生時にも、空間光変調器26の信号光領域26Sと参照光領域26Rとにレーザ光が照射されている。これに対し、アキシコン光学系を導入した装置では、空間光変調器26の参照光領域26Rにだけレーザ光が照射される。
また、BER(ビットエラーレート)=5×10-3のときの回折効率を、再生が可能な最低回折効率として、再生時の最低回折効率を評価した。最低回折効率の値が小さいほど、低い回折効率のホログラムを良好なSNRで再生できることになり、再生特性が向上している。即ち、記録するホログラムの記録エネルギーを低減させることが可能であるため、より多くのホログラムを多重記録可能となり、記録密度向上に貢献する。
アキシコン光学系を導入した装置で再生したときの最低回折効率は0.1%であり、従来の装置で再生したときの最低回折効率は1.0%である。最低回折効率が1.0%から0.1%まで低下し、再生特性が顕著に向上していることが分かる。ここでの評価は、参照光を照射した場合の信号光領域のもれ光を撮像し、撮像された画像とシミュレーションで得られた画像(図10(A)及び(B))とを、計算機的に加算することで得られたシミュレーション画像で行った。
(その他の変形例)
なお、上記の実施の形態では、反射型の空間光変調器と透過型の光記録媒体とを用いる「同軸透過型」の光記録再生装置の例について説明したが、反射型の空間光変調器と反射型の光記録媒体とを用いる「同軸反射型」の光記録再生装置に、アキシコン光学系を導入しても、上記の実施の形態と同様の効果を得ることができる。図12はアキシコン光学系を導入した同軸反射型の光記録再生装置の構成を示す概略図である。図1に示した第1の実施の形態に係る光記録再生装置と同じ構成部分には同じ符号を付して説明を簡略化する。
この光記録再生装置には、レーザ光を発振する光源10が設けられている。光源10の光出射側には、シャッター12、1/2波長板14、偏光板16、ビームエキスパンダ18、アキシコン光学系20、及び反射ミラー22が、光源10の側から光路に沿ってこの順に配置されている。反射ミラー22の光反射側には、偏光ビームスプリッタ24が配置されている。反射ミラー22側から見て、偏光ビームスプリッタ24の光反射側には、反射型の空間光変調器26が配置されている。空間光変調器26は、表示された信号光パターンや参照光パターンに応じて入射したレーザ光を変調して、信号光や参照光を生成する。空間光変調器26は、生成した信号光や参照光を、偏光ビームスプリッタ24側に反射する。
アキシコン光学系20は、上記実施の形態と同様の構成である。アキシコン光学系20は、図3に示すように、遮蔽部50Aを備えたマスク50、一対のアキシコンレンズ58、及び絞り機構56を含んで構成されている。一対のアキシコンレンズ58は、同一形状の2つのアキシコンレンズ58Aとアキシコンレンズ58Bとで構成されている。レーザ光は、ビームエキスパンダ18からアキシコン光学系20に入射する。マスク50、アキシコンレンズ58A、アキシコンレンズ58B、及び絞り機構56は、レーザ光の入射側から、光路に沿ってこの順に配置されている。また、レーザ光入射側のアキシコンレンズ58Aは、光路上の所定位置に固定配置されている。一方、レーザ光出射側のアキシコンレンズ58Bは、保持部材52により光軸に沿って移動可能に保持されている。
偏光ビームスプリッタ24には、空間光変調器26で生成された信号光や参照光が入射する。この空間光変調器26から見て、偏光ビームスプリッタ24の光透過側には、一対のレンズ84、88、直線偏光を円偏光に変換し且つ円偏光を直線偏光に変換する1/4波長板90、及びフーリエ変換レンズ92が、光路に沿ってこの順に配置されている。フーリエ変換レンズ92は、反射型の光記録媒体94に記録光を照射する。フーリエ変換レンズ92の焦点位置が、記録光が集光される集光位置となる。レンズ84とレンズ88との間には、ビームウエスト近傍に、開口部(アパーチャ)86Aを備えた遮光板86が配置されている。なお、遮光板86は必須ではなく、適宜省略することができる。
フーリエ変換レンズ92の光出射側には、光記録媒体94を保持する保持ステージ(図示せず)が設けられている。光記録媒体94は、光照射による屈折率変化によりホログラムを記録可能な光記録媒体であり、フォトポリマー材料等のホログラムを記録可能な記録材料で構成された記録層94Aと、記録層94Aを透過した光を反射する金属膜等で構成された反射層94Bと、を備えている。
レンズ84から見て、偏光ビームスプリッタ24の光反射側には、センサアレイ96が配置されている。センサアレイ96は、CCDやCMOSアレイ等の撮像素子で構成され、受光した再生光(回折光)を電気信号に変換して出力する。
ホログラムを記録する場合には、シャッター12を開いて、光源10からレーザ光を照射する。同時に、空間光変調器26に記録用パターンを表示する。光源10から発振されたレーザ光は、シャッター12を通過し、1/2波長板14と偏光板16とにより光強度や偏光方向が調整される。偏光板16を通過した光は、ビームエキスパンダ18により大径の平行光に変換され、アキシコン光学系20に入射される。
アキシコン光学系20では、入射された直径Dの円形の平行光が補正されて、光強度分布が平坦化された直径Dの円形の平行光100が生成される。アキシコン光学系20から射出された平行光は、反射ミラー22に照射される。反射ミラー22で反射された平行光は、偏光ビームスプリッタ24に入射する。直径Dの円形の平行光100は、偏光ビームスプリッタ24で空間光変調器26の方向に反射される。空間光変調器26では、表示された記録用パターンに応じてレーザ光が偏光変調され、信号光と参照光とが生成される。
空間光変調器26で偏光変調された記録光は、偏光ビームスプリッタ24に照射され、偏光ビームスプリッタ24を透過して直線偏光の振幅分布に変換される。その後、レンズ84で集光され、アパーチャ86Aを備えた遮光板86に照射される。レンズ84で集光された記録光は、不要な周波数成分が遮光板86でカットされ、残部がアパーチャ86Aを通過する。アパーチャ86Aを通過した記録光は、レンズ88により平行光に変換される。
レンズ88により平行光に変換された記録光(信号光と参照光)は、1/4波長板90により円偏光に変換され、フーリエ変換レンズ92によりフーリエ変換されて集光されて、光記録媒体94に同時に且つ同軸で照射される。信号光と参照光とが集光される位置において、信号光と参照光とが干渉して形成された干渉縞が、光記録媒体94にホログラムとして記録される。
光記録媒体94に記録されたデータを読み出す場合には、シャッター12を開いて、光源10からレーザ光を照射する。同時に、空間光変調器26に再生用パターンを表示する。光源10から発振されたレーザ光は、記録の場合と同様にして、シャッター12を通過し、1/2波長板14と偏光板16とにより光強度や偏光方向が調整され、ビームエキスパンダ18により大径の平行光に変換されて、アキシコン光学系20に入射する。
アキシコン光学系20では、入射された直径Dの円形の平行光が補正されて、外径Dで内径mのリング状の平行光102が生成される。リング状の平行光102も光強度分布が平坦化されている。アキシコン光学系20から射出されたリング状の平行光102は、反射ミラー22に照射される。反射ミラー22で反射されたリング状の平行光102は、偏光ビームスプリッタ24に入射する。入射されたリング状の平行光102は、偏光ビームスプリッタ24で空間光変調器26の方向に反射される。空間光変調器26では、表示された再生用パターンに応じてレーザ光が偏光変調され、参照光が生成される。生成された参照光は、記録の場合と同様にして、光記録媒体94のホログラムが記録された領域に照射される。即ち、光記録媒体94には、参照光だけが読出し光として照射される。
リング状の平行光102は、参照光領域26Rの形状に応じて生成されたものであり、参照光領域26Rにだけレーザ光が照射され、信号光領域26Sにはレーザ光は照射されない。従って、信号光領域26Sで反射された光(信号光に対応する領域に存在する漏れ光)が、読出し用の参照光と共に光記録媒体94に照射されることはない。従って、ホログラムに照射される読出し光において、信号光に対応する領域への漏れ光(不要成分)が大幅に低減され、再生特性が顕著に向上する。
照射された参照光は、光記録媒体94の記録層94Aを透過するときに、ホログラムによって回折され、反射層94Bで反射されて、反射回折光(再生光)がフーリエ変換レンズ92側に射出される。一部の参照光は回折されずに光記録媒体94の反射層94Bで反射される。射出された再生光(反射参照光を含む)は、フーリエ変換レンズ92により逆フーリエ変換され、1/4波長板90により直線偏光に再変換される。1/4波長板90により直線偏光に変換された再生光は、一対のレンズ88、84によりリレーされて平行光に変換され、偏光ビームスプリッタ24に入射し、偏光ビームスプリッタ24で反射されて、センサアレイ96に入射する。センサアレイ96は、受光した再生光を電気信号に変換して出力する。
なお、上記では、レーザ光入射側のアキシコンレンズ58Aを光路上の所定位置に固定配置し、レーザ光出射側のアキシコンレンズ58Bを移動させて、一対のアキシコンレンズ58間の離間距離を変更する例について説明したが、これとは逆に、レーザ光出射側のアキシコンレンズ58Bを光路上の所定位置に固定配置し、レーザ光入射側のアキシコンレンズ58Aを移動させて、一対のアキシコンレンズ58間の離間距離を変更することもできる。
本発明の実施の形態に係る光記録再生装置の構成を示す概略図である。 (A)は記録時に空間光変調器に表示する記録用パターンの一例を示す図であり、(B)は空間光変調器の表示面に設定された表示領域の一例を示す平面図である。 アキシコン光学系の構成の一例を示す概略図である。 (A)は記録時におけるアキシコン光学系のビーム補正動作を示す図であり、(B)は再生時におけるアキシコン光学系のビーム補正動作を示す図である。 一対のアキシコンレンズを構成する各々のレンズの配置を示す図である。 (A)は入射した直径Dの円形の平行光が直径Dの円形の平行光として射出される光学的な条件を説明するための図であり、(B)は一対のアキシコンレンズにより光強度分布が平坦化される様子をシミュレーションした結果を示す図である。 (A)〜(D)は一対のアキシコンレンズによる光強度分布の平坦化効果をシミュレーションした結果を示す図である。 入射した直径Dの円形の平行光が内径mのリング状の平行光として射出される光学的な条件を説明するための図である。 (A)は記録時に空間光変調器の表示面にレーザ光が照射される様子を示す斜視図であり、(B)は再生時に空間光変調器の表示面にレーザ光が照射される様子を示す斜視図である。 (A)及び(B)はアキシコン光学系の導入効果を示す図である。 (A)は図10(A)に示すデータページのオン画素(白画素)のヒストグラムであり、(B)は図10(B)に示すデータページのオン画素のヒストグラムである。 アキシコン光学系を導入した同軸反射型の光記録再生装置の構成を示す概略図である。
符号の説明
10 光源
12 シャッター
14 1/2波長板
16 偏光板
18 ビームエキスパンダ
20 アキシコン光学系
22 反射ミラー
24 偏光ビームスプリッタ
26 空間光変調器
26R 参照光領域
26S 信号光領域
26A 表示面
28 レンズ
30 遮光板
30A アパーチャ
32 レンズ
34 フーリエ変換レンズ
36 光記録媒体
38 フーリエ変換レンズ
38 レンズ
40 遮光板
40A アパーチャ
42 レンズ
46 センサアレイ
50 マスク
50A 遮蔽部
52 保持部材
54 基準位置
56 絞り機構
56A 開口部
56B 絞り羽根
58 一対のアキシコンレンズ
58A アキシコンレンズ
58B アキシコンレンズ
64 記録用パターン
66 信号光パターン
68 参照光パターン
84 レンズ
86 遮光板
86A アパーチャ
88 レンズ
90 1/4波長板
92 フーリエ変換レンズ
94 光記録媒体
94A 記録層
94B 反射層
96 センサアレイ
100 円形の平行光
102 リング状の平行光

Claims (6)

  1. コヒーレント光を射出する光源と、
    2次元状に配列された多数の画素部で構成され、信号光を生成する場合に信号光パターンを表示する信号光領域と、前記信号光領域を取り囲むように配置され且つ前記信号光と同軸の参照光を生成する場合に参照光パターンを表示する参照光領域とを含み、入射した光を表示パターンに応じて画素毎に変調して出力する空間光変調器と、
    前記光源と前記空間光変調器との間に配置され、円錐面同士が対向するように配置されると共に離間距離が変更可能に配置された一対のアキシコンレンズから構成され、記録時には、一対のアキシコンレンズが第1の距離だけ離間され、入射した光を、前記空間光変調器の被照射面における光強度分布を平坦化するように補正し、再生時には、一対のアキシコンレンズが第1の距離より大きな第2の距離だけ離間され、入射した光を、前記空間光変調器の前記信号光領域以外の領域に照射されるように補正する補正光学系と、
    前記一対のアキシコンレンズを構成する一方のアキシコンレンズを、他方のアキシコンレンズに対し光軸に沿って相対移動させるレンズ移動手段と、
    前記補正光学系で補正された光を、前記空間光変調器に導く導光手段と、
    を備え、
    前記補正光学系で補正された光を、前記導光手段により前記空間光変調器に導いて、
    記録時には、前記空間光変調器で生成された信号光と参照光とを、光記録媒体に照射してホログラムを記録し、
    再生時には、前記空間光変調器で生成された参照光を、ホログラムが記録された光記録媒体に照射して信号光を再生する、
    ことを特徴とする光記録再生装置。
  2. 前記光源と前記補正光学系との間に配置され、光軸近傍の光を遮断する遮蔽部を備えたマスクを更に備えた、ことを特徴とする請求項1に記載の光記録再生装置。
  3. 前記一対のアキシコンレンズは、一方のアキシコンレンズが移動可能に保持されると共に、他方のアキシコンレンズが固定配置されており、前記レンズ移動手段は、移動可能に保持された一方のアキシコンレンズを光軸に沿って移動させる、ことを特徴とする請求項1又は2に記載の光記録再生装置。
  4. 前記第1の距離が、下記式(1)に規定する距離Lであることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の光記録再生装置。

    上記式(1)において、距離Lはアキシコンレンズ間における光路長の光軸成分距離であり、φはアキシコンレンズの頂角の角度を表し、Dは入射する光のビーム径を表し、θはアキシコンレンズによる屈折角を表し、nはアキシコンレンズの屈折率を表す。なお、空気中での屈折率は1とする。
  5. 前記補正光学系は、再生時には入射した光を前記空間光変調器の前記参照光領域の形状に応じたリング状の光に補正し、前記導光手段は、前記補正光学系で生成されたリング状の光を、該光の光路を調整して、前記空間光変調器の前記参照光領域に導く、ことを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の光記録再生装置。
  6. 前記補正光学系で生成されるリング状の光の内径をmとした場合に、前記第2の距離は、前記距離Lに下記式(2)に規定する距離ΔLを加えた距離(L+ΔL)であることを特徴とする請求項5に記載の光記録再生装置。

    上記式(2)において、φはアキシコンレンズの頂角の角度を表し、nはアキシコンレンズの屈折率を表す。なお、空気中での屈折率は1とする。
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