JP2009203945A - Multistage vacuum pump - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To stably operate a multistage vacuum pump over a long period of time by introducing purging inert gas in a pump according to a flow rate of process gas flowing in the pump without causing an adverse influence on the exhaust performance of the pump, and without increasing running cost. <P>SOLUTION: This multistage vacuum pump includes a pressure sensor 42 detecting pressure on the intake side of the downstream side final stage 34, an inert gas introducing pipe 44 introducing purging inert gas to the intake side of the downstream side final stage 34, a valve element 46 arranged in the inert gas introducing pipe 44, and a control part 48 for controlling the opening/closing of the valve element 46 according to a pressure value detected by the pressure sensor 42. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、多段真空ポンプに関し、特に凝縮性ガスや腐食性ガス等のプロセスガスを排気する用途に使用する多段真空ポンプに関するものである。   The present invention relates to a multistage vacuum pump, and more particularly to a multistage vacuum pump used for exhausting process gases such as condensable gas and corrosive gas.

例えば、半導体ウェハや液晶パネルなどの基板にエッチング処理やCVD処理を施すエッチング装置やCVD装置などでは、真空チャンバ内を真空に排気する真空ポンプが備えられている。この種の真空ポンプの内部に凝縮性ガスや腐食性ガス等のプロセスガスが導入されると、真空ポンプの内部でガスが凝縮して析出したり真空ポンプが腐食したりすることがある。   For example, an etching apparatus or a CVD apparatus that performs an etching process or a CVD process on a substrate such as a semiconductor wafer or a liquid crystal panel includes a vacuum pump that evacuates the vacuum chamber. When a process gas such as a condensable gas or a corrosive gas is introduced into this type of vacuum pump, the gas may condense and precipitate inside the vacuum pump, or the vacuum pump may corrode.

このような真空ポンプ内部でのガスの凝縮や真空ポンプの腐食を防止するため、ポンプハウジングの内部を流れる吸引対象ガス(プロセスガス)に該吸引対象ガスを希釈するためのパージ用の不活性ガス(パージガス)を導入するようにしたものが提案されている(特許文献1参照)。また出願人は、真空ポンプの直後の配管内に不活性ガスを導入して、真空ポンプから排出されるプロセスガスの分圧を下げるようにした真空ポンプ(特許文献2参照)や、真空領域に設置された圧力センサで検出された圧力に基づいて、真空ポンプに供給する軸シールガスの流量を制御するようにした真空排気システムを提案した(特許文献3参照)。   In order to prevent such gas condensation inside the vacuum pump and corrosion of the vacuum pump, an inert gas for purging for diluting the suction target gas into the suction target gas (process gas) flowing inside the pump housing. There has been proposed one in which (purge gas) is introduced (see Patent Document 1). In addition, the applicant introduces an inert gas into the pipe immediately after the vacuum pump to reduce the partial pressure of the process gas discharged from the vacuum pump (see Patent Document 2), or in a vacuum region. A vacuum exhaust system has been proposed in which the flow rate of the shaft seal gas supplied to the vacuum pump is controlled based on the pressure detected by the installed pressure sensor (see Patent Document 3).

特開2004−293466号公報JP 2004-293466 A 特開平4−330388号公報JP-A-4-330388 特開2006−342688号公報JP 2006-342688 A

多段真空ポンプの段間よりポンプの内部に多量のパージ用の不活性ガスを導入すると、通常、不活性ガスを導入した下流側での圧縮段での見かけ上の排気速度が低下して多段真空ポンプ全体の圧力バランスが変化し、ポンプ吸気口の圧力が高くなって、排気性能が低下してしまう。   If a large amount of inert gas for purging is introduced into the pump between the stages of the multistage vacuum pump, the apparent exhaust speed in the compression stage on the downstream side where the inert gas has been introduced generally decreases, resulting in a multistage vacuum. The pressure balance of the pump as a whole changes, the pump inlet pressure increases, and the exhaust performance decreases.

このため、従来の多段真空ポンプにあっては、ポンプの排気性能に影響を及ぼさない範囲でパージ用の不活性ガスをポンプ内部に導入するようにしており、ポンプ内部に多量のプロセスガスが流れている場合に、その量に見合った量のパージ用の不活性ガスをポンプ内部に導入することができず、また、ポンプ内部にプロセスガスが流れていないポンプアイドル運転時にもポンプ内部に不活性ガスを導入しているため、不活性ガスの浪費に繋がっていた。
なお、引用文献2に記載の真空ポンプのように、加熱したパージ用の不活性ガス(パージガス)をポンプ内部に導入すると、プロセスガスが腐食性ガスである時に、ポンプ温度が上昇して、ポンプ内部の腐食環境を悪化させてしまうと考えられる。
For this reason, in the conventional multistage vacuum pump, an inert gas for purge is introduced into the pump within a range that does not affect the pumping performance of the pump, and a large amount of process gas flows inside the pump. In this case, it is not possible to introduce an inert gas for purging that corresponds to the amount inside the pump, and it is also inert inside the pump even during pump idle operation where process gas does not flow inside the pump. Since the gas was introduced, the inert gas was wasted.
When a heated purge inert gas (purge gas) is introduced into the pump as in the vacuum pump described in the cited document 2, the pump temperature rises when the process gas is a corrosive gas, and the pump It is thought that the internal corrosive environment is deteriorated.

本発明は上記事情に鑑みて為されたもので、ポンプの排気性能に悪影響を与えたり、ランニングコストを増大させたりすることなく、ポンプ内部を流れるプロセスガスの流量に合わせてパージ用の不活性ガスをポンプ内部に導入して、長期間安定して稼動できるようにした多段真空ポンプを提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and does not adversely affect the exhaust performance of the pump or increase the running cost, and inactive for purging according to the flow rate of the process gas flowing inside the pump. An object of the present invention is to provide a multistage vacuum pump in which gas is introduced into the pump so that the gas can be stably operated for a long period of time.

上記課題を解決するため、本発明の多段真空ポンプは、下流側最終圧縮段の吸気側の圧力を検出する圧力センサと、下流側最終圧縮段の吸気側にパージ用の不活性ガスを導入する不活性ガス導入配管と、前記不活性ガス導入配管内に設置された弁体と、前記圧力センサによって検出された圧力値に応じて前記弁体の開閉を制御する制御部を有する。   In order to solve the above problems, the multistage vacuum pump of the present invention introduces a pressure sensor for detecting the pressure on the intake side of the downstream final compression stage and an inert gas for purging to the intake side of the downstream final compression stage. An inert gas introduction pipe; a valve body installed in the inert gas introduction pipe; and a control unit that controls opening and closing of the valve body according to a pressure value detected by the pressure sensor.

多段真空ポンプの段間より多量のパージ用の不活性ガスをポンプ内部に導入すると、通常、不活性ガスを導入した下流側の圧縮段で見かけ上の排気速度が低下し、多段真空ポンプ全体の圧力バランスが変化して、ポンプ吸気口の圧力が高くなってしまう。しかし、ポンプ吸気口より多量のプロセスガスをポンプ内部に吸気してポンプ内部に多量のプロセスガスが流れている時に、多段真空ポンプの段間より多量のパージ用の不活性ガスをポンプ内部に導入しても、ポンプ吸気口の圧力は、段間から導入される不活性ガスの影響を殆ど受けない。   If a large amount of inert gas for purging is introduced inside the pump between the stages of the multistage vacuum pump, the apparent pumping speed usually decreases in the downstream compression stage where the inert gas is introduced, and the entire multistage vacuum pump The pressure balance changes and the pump inlet pressure increases. However, when a large amount of process gas is sucked into the pump through the pump inlet and a large amount of process gas is flowing inside the pump, a large amount of inert gas for purging is introduced into the pump between the stages of the multistage vacuum pump. Even so, the pressure at the pump inlet is hardly affected by the inert gas introduced from between the stages.

この発明によれば、下流側最終圧縮段の吸気側の圧力を圧力センサで検出して、ポンプ吸気口からポンプ内部にプロセスガスが導入されているかを判断し、ポンプ吸気口から所定量のプロセスガスがポンプ内部に導入されている場合にのみ、弁体を開けて多量の不活性ガスをポンプ内部へ導入することができる。これにより、ポンプが多量(例えば5〜100SLM (Standard Liter/Min))の凝縮性ガスまたは腐食性ガス等のプロセスガスを排気している場合に、プロセスガスが圧縮され、ポンプ内部で最もプロセスガスが濃縮する下流側最終圧縮段の入口で多量の不活性ガスをポンプ内部に導入して、ポンプ内部に固体が付着したり、ポンプが腐食したりすることを抑制することができる。しかも、必要な時のみに不活性ガスをポンプ内部に導入することで、ランニングコストを低減することができる。   According to the present invention, the pressure on the intake side of the downstream final compression stage is detected by the pressure sensor, it is determined whether the process gas is introduced into the pump from the pump intake port, and a predetermined amount of process is detected from the pump intake port. Only when the gas is introduced into the pump, a large amount of inert gas can be introduced into the pump by opening the valve body. As a result, when the pump exhausts a large amount (for example, 5 to 100 SLM (Standard Liter / Min)) of a process gas such as a condensable gas or a corrosive gas, the process gas is compressed, and the process gas is the most inside the pump. A large amount of inert gas can be introduced into the pump at the inlet of the downstream final compression stage where the gas is concentrated, and it is possible to suppress solids from adhering to the pump and corrosion of the pump. Moreover, the running cost can be reduced by introducing the inert gas into the pump only when necessary.

下流側最終圧縮段の吐出し部近傍に不活性ガスを導入する他の不活性ガス導入配管を更に有し、前記圧力センサによって検出された圧力値に応じて、前記他の不活性ガス導入配管内に設置した弁体の開閉を前記制御部で制御するようにしてもよい。   It further has another inert gas introduction pipe for introducing an inert gas in the vicinity of the discharge part of the downstream final compression stage, and the other inert gas introduction pipe according to the pressure value detected by the pressure sensor The controller may control the opening and closing of the valve body installed inside.

これにより、ポンプ吸気口での圧力に影響を与えることなく、最終圧縮段の吸気側からポンプ内部に不活性ガスを導入ができない場合に、最終圧縮段の吐出し部近傍から不活性ガスをポンプ内部に導入して該吐出し部近傍部のみの希釈を行ったり、最終圧縮段全体に亘って希釈効果が得られるようにすることができる。   As a result, when the inert gas cannot be introduced into the pump from the intake side of the final compression stage without affecting the pressure at the pump intake port, the inert gas is pumped from the vicinity of the discharge part of the final compression stage. It can be introduced into the interior to dilute only the vicinity of the discharge portion, or to obtain a dilution effect over the entire final compression stage.

前記不活性ガス導入配管の上流側に位置する圧縮段の内の少なくとも1つは、圧縮形態がスクリュー形であることが好ましい。
圧縮段の圧縮形態は、ルーツ形、クロー形またはスクリュー形であるかを問わないが、スクリュー形(スクリューポンプ)は、吸気口と排気口が2本のロータ外径とケーシング内径とでシールされる構造であり、他の形式と比して単段で高い圧縮比を得ることができる。したがって、不活性ガスをポンプ内部に導入すると、その前段では排気圧が上昇するが、この部分をスクリュー形の圧縮段とすることにより、更にその前段での排気性能に影響を与えることをなくすことができる。
It is preferable that at least one of the compression stages located on the upstream side of the inert gas introduction pipe has a screw form of compression.
The compression type of the compression stage may be root type, claw type or screw type, but the screw type (screw pump) is sealed with two rotor outer diameters and casing inner diameter at the intake and exhaust ports. It is a structure which can obtain a high compression ratio in a single stage as compared with other types. Therefore, when an inert gas is introduced into the pump, the exhaust pressure rises in the previous stage, but by making this part a screw-type compression stage, the exhaust performance in the previous stage is further prevented from being affected. Can do.

全体の圧縮段の段数は、3段以上であることが好ましい。
このように、全体の圧縮段の段数を3段以上とすることで、パージ用の不活性ガスをポンプ内部に導入した時のポンプ吸気口に対する圧力悪化(圧力上昇)の影響を抑制することができる。
The total number of compression stages is preferably 3 or more.
In this way, by setting the number of compression stages to three or more, the influence of pressure deterioration (pressure increase) on the pump inlet when the inert gas for purging is introduced into the pump can be suppressed. it can.

本発明によれば、ポンプ内部を流れるプロセスガスの流量に合わせて、パージ用の不活性ガスを最終圧縮段の吸気側からポンプ内部に導入することで、ポンプの排気性能に悪影響を与えたり、ランニングコストを増大させたりすることなく、プロセスガスが圧縮され、ポンプ内部で最もプロセスガスが濃縮する最終圧縮段に固体が付着したり、腐食が発生したりすることを抑制することができる。   According to the present invention, an inert gas for purging is introduced into the pump from the intake side of the final compression stage in accordance with the flow rate of the process gas flowing inside the pump, thereby adversely affecting the exhaust performance of the pump, Without increasing the running cost, the process gas is compressed, and it is possible to suppress the solid from adhering to the final compression stage where the process gas is most concentrated inside the pump or the occurrence of corrosion.

以下、本発明の実施の形態を図面を参照して説明する。なお、以下の例では、同一または相当する部材には同一符号を付して重複した説明を省略する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In the following examples, the same or corresponding members are denoted by the same reference numerals, and redundant description is omitted.

図1は、本発明の実施の形態の多段真空ポンプを示す。この例の多段真空ポンプは、図1に示すように、2段の圧縮段を有する第1真空ポンプ10と、2段の圧縮段を有する第2真空ポンプ12とから主に構成されており、第1真空ポンプ10にポンプ吸気口14が設けられ、第2真空ポンプ12にポンプ排気口16が設けられている。そして、第1真空ポンプ10の排気口18と第2真空ポンプ12の吸気口20とは連結管22で互いに接続されている。   FIG. 1 shows a multistage vacuum pump according to an embodiment of the present invention. As shown in FIG. 1, the multistage vacuum pump of this example is mainly composed of a first vacuum pump 10 having two compression stages and a second vacuum pump 12 having two compression stages. The first vacuum pump 10 is provided with a pump intake port 14, and the second vacuum pump 12 is provided with a pump exhaust port 16. The exhaust port 18 of the first vacuum pump 10 and the intake port 20 of the second vacuum pump 12 are connected to each other by a connecting pipe 22.

第1真空ポンプ10は、一対のルーツ型ポンプロータ24(図1では1つのポンプロータのみを示す)を有するルーツ型真空ポンプで、1段ルーツ部26と2段ルーツ部28の2段の圧縮段が内部に備えられている。第2真空ポンプ12は、一対のスクリュー型ポンプロータ30(図1では1つのポンプロータのみを示す)を有するスクリュー型真空ポンプで、1段スクリュー部32と2段スクリュー部34の2段の圧縮段が内部に備えられている。   The first vacuum pump 10 is a Roots-type vacuum pump having a pair of Roots-type pump rotors 24 (only one pump rotor is shown in FIG. 1). The first-stage root part 26 and the two-stage root part 28 are compressed in two stages. A step is provided inside. The second vacuum pump 12 is a screw-type vacuum pump having a pair of screw-type pump rotors 30 (only one pump rotor is shown in FIG. 1), and two-stage compression of a first-stage screw part 32 and a second-stage screw part 34. A step is provided inside.

第1真空ポンプ10のポンプ吸気口14には、例えば基板処理装置に組み込まれる真空チャンバ(図示せず)から延びる吸気配管36が接続される。基板処理装置としては、半導体ウェハや液晶パネルなどの基板にエッチング処理やCVD処理を施すエッチング装置やCVD装置などが挙げられる。第2真空ポンプ12のポンプ排気口16には排気配管38が接続され、この排気配管38を介して気体(プロセスガス)が外部に排気される。このように、この例の多段真空ポンプは、互いに直列に接続された第1真空ポンプ10と第2真空ポンプ12を有し、第2真空ポンプ12が第1真空ポンプ10よりも下流側に配置されている。すなわち、第1真空ポンプ10は第2真空ポンプ12よりも真空側に配置され、第2真空ポンプ12は第1真空ポンプ10よりも大気側に配置されている。第2真空ポンプ12は、大気圧下で起動可能に構成されている。   For example, an intake pipe 36 extending from a vacuum chamber (not shown) incorporated in the substrate processing apparatus is connected to the pump intake port 14 of the first vacuum pump 10. Examples of the substrate processing apparatus include an etching apparatus or a CVD apparatus that performs an etching process or a CVD process on a substrate such as a semiconductor wafer or a liquid crystal panel. An exhaust pipe 38 is connected to the pump exhaust port 16 of the second vacuum pump 12, and gas (process gas) is exhausted to the outside through the exhaust pipe 38. As described above, the multistage vacuum pump of this example includes the first vacuum pump 10 and the second vacuum pump 12 connected in series with each other, and the second vacuum pump 12 is disposed on the downstream side of the first vacuum pump 10. Has been. That is, the first vacuum pump 10 is disposed on the vacuum side with respect to the second vacuum pump 12, and the second vacuum pump 12 is disposed on the atmosphere side with respect to the first vacuum pump 10. The second vacuum pump 12 is configured to be activated under atmospheric pressure.

最終圧縮段である第2真空ポンプ12の2段スクリュー部34の吸気側、すなわち第2真空ポンプ12の1段スクリュー部32と2段スクリュー部34の段間部40には、該段間部(最終圧縮段の吸気側)40内の圧力を測定する圧力センサ42が設置されている。また、この段間部40には、ここにパージ用のNガス等の不活性ガスを導入する不活性ガス配管44が接続されており、不活性ガス導入配管44は、その途中に弁体46を有している。圧力センサ42及び弁体46は、信号線及び/または動力線を介して制御部48と接続されている。 In the intake side of the second stage screw part 34 of the second vacuum pump 12 that is the final compression stage, that is, the interstage part 40 of the first stage screw part 32 and the second stage screw part 34 of the second vacuum pump 12, the interstage part is provided. A pressure sensor 42 for measuring the pressure in the (intake side of the final compression stage) 40 is installed. Further, an inert gas pipe 44 for introducing an inert gas such as a purge N 2 gas is connected to the interstage portion 40, and the inert gas introduction pipe 44 is connected to the valve body in the middle thereof. 46. The pressure sensor 42 and the valve body 46 are connected to the control unit 48 via a signal line and / or a power line.

このような構成の多段真空ポンプでは、下流側の第2真空ポンプ12の方が第1真空ポンプ10よりも大気側に近いため、第2真空ポンプ12の内部圧力は第1真空ポンプ10の内部圧力よりも高くなる。このために、凝縮性ガスを排気する場合、凝縮性ガスの副生成物は、第2真空ポンプ12の内部、特に圧力が最も高くなる、最終圧縮段の2段スクリュー部34で析出しやすくなる。また腐食性ガスを排気する場合も同様に、最終圧縮段の2段スクリュー部34で圧力及び温度が高くなるため、2段スクリュー部34での腐食環境が厳しくなる。   In the multistage vacuum pump having such a configuration, the second vacuum pump 12 on the downstream side is closer to the atmosphere side than the first vacuum pump 10, so the internal pressure of the second vacuum pump 12 is the internal pressure of the first vacuum pump 10. Higher than pressure. For this reason, when the condensable gas is exhausted, the by-product of the condensable gas is likely to precipitate in the second vacuum pump 12, particularly at the two-stage screw portion 34 of the final compression stage where the pressure is highest. . Similarly, when the corrosive gas is exhausted, the pressure and temperature are increased in the two-stage screw portion 34 of the final compression stage, so that the corrosive environment in the two-stage screw portion 34 becomes severe.

そこで、この例の多段真空ポンプでは、第2真空ポンプ12の1段スクリュー部32と2段スクリュー部34との段間部40に圧力センサ42と不活性ガス導入配管44を設けて、この段間部40の圧力を測定するとともに、測定した圧力値に応じて、不活性ガス導入配管44よりポンプ内部へ導入する不活性ガスのガス量を制御するようにしている。   Therefore, in the multistage vacuum pump of this example, the pressure sensor 42 and the inert gas introduction pipe 44 are provided in the interstage part 40 between the first stage screw part 32 and the second stage screw part 34 of the second vacuum pump 12, and this stage. While measuring the pressure of the interspace 40, the amount of inert gas introduced into the pump through the inert gas introduction pipe 44 is controlled according to the measured pressure value.

この種の真空真空ポンプにあっては、図2に示すように、プロセスガスQがポンプ内部に導入されてポンプ内部を流れる時、1段ルーツ部26における排気速度S1、2段ルーツ部28における排気速度S2、1段スクリュー部32における排気速度S3、及び2段スクリュー部34における排気速度S4の間には、消費動力削減の観点から、一般に、S1>S2>S3>S4となる関係がある。   In this type of vacuum vacuum pump, as shown in FIG. 2, when the process gas Q is introduced into the pump and flows through the pump, the exhaust velocity S1 in the first-stage root portion 26, and the first-stage root portion 28 In general, there is a relationship of S1> S2> S3> S4 between the exhaust speed S2, the exhaust speed S3 in the first-stage screw portion 32, and the exhaust speed S4 in the second-stage screw portion 34 from the viewpoint of reducing power consumption. .

ここで、実際の使用領域における各圧縮段の排気速度が圧力に拠らず一定とすれば、凝縮性ガスや腐食性ガス等のプロセスガスの希釈効果、すなわちプロセスガスの分圧を低減できる効果を発揮できるのは、最終圧縮段である第2真空ポンプ12の2段スクリュー部34のみである。これは、最終圧縮段以外の圧縮段の動作圧力はその下流側の圧縮段の排気容量で、つまり1段ルーツ部26の動作圧力は2段ルーツ部28の排気容量で、2段ルーツ部28の動作圧力は1段スクリュー部32の排気容量で、1段スクリュー部32の排気圧力は2段スクリュー部34の排気容量でそれぞれ決まるためである。第2スクリュー部(最終圧縮段)34は、下流側が大気圧に開放されるため、ポンプ内部に不活性ガスを導入することによる圧力上昇が発生し難く、このため、ポンプ内部に導入された不活性ガスの割合でプロセスガスの分圧を低減することが可能となる。   Here, if the exhaust speed of each compression stage in the actual use region is constant regardless of pressure, the effect of diluting the process gas such as condensable gas and corrosive gas, that is, the effect of reducing the partial pressure of the process gas It is only the two-stage screw portion 34 of the second vacuum pump 12 that is the final compression stage. This is because the operating pressure of the compression stage other than the final compression stage is the exhaust capacity of the downstream compression stage, that is, the operating pressure of the first stage root section 26 is the exhaust capacity of the second stage root section 28, and the second stage root section 28. This is because the operating pressure is determined by the exhaust capacity of the first stage screw part 32 and the exhaust pressure of the first stage screw part 32 is determined by the exhaust capacity of the second stage screw part 34, respectively. Since the second screw part (final compression stage) 34 is opened to the atmospheric pressure on the downstream side, it is difficult for pressure to increase due to the introduction of an inert gas inside the pump. It becomes possible to reduce the partial pressure of the process gas by the ratio of the active gas.

また、図2に示すように、ある一定量のプロセスガスQがポンプ内部に導入されて流れる場合、1段ルーツ部26の入口圧力P1、2段ルーツ部28の入口圧力P2、1段スクリュー部32の入口圧力P3、及び段スクリュー部34の入口圧力P4及び出口圧力P5は、P1=Q/S1、P2=Q/S2、P3=Q/S3、P4=Q/S4、P5=大気圧となる。各圧縮段の排気速度は、前述した通り、消費動力削減の観点から、S1>S2>S3>S4に設定されており、このため、プロセスガスQがポンプ内部を流れる時の圧力値の変化量は、第2真空ポンプ12の2段スクリュー部34の入口圧力P4で最も大きくなる。したがって、ポンプ内部で圧力値の変化が最も大きい第2真空ポンプ12の2段スクリュー部34の入口圧力P4、つまり第2真空ポンプ12の1段スクリュー部32と2段スクリュー部34の段間部40の圧力を測定することによって、ポンプ吸気口14からのポンプ内部にプロセスガスが導入されているか否かを判断することができる。   As shown in FIG. 2, when a certain amount of process gas Q is introduced into the pump and flows, the inlet pressure P of the first-stage root section 26, the inlet pressure P2 of the second-stage root section 28, and the first-stage screw section. The inlet pressure P3 of 32, the inlet pressure P4 and the outlet pressure P5 of the stage screw section 34 are P1 = Q / S1, P2 = Q / S2, P3 = Q / S3, P4 = Q / S4, P5 = atmospheric pressure. Become. As described above, the exhaust speed of each compression stage is set to S1> S2> S3> S4 from the viewpoint of reducing power consumption. Therefore, the amount of change in the pressure value when the process gas Q flows inside the pump Is the largest at the inlet pressure P4 of the two-stage screw portion 34 of the second vacuum pump 12. Therefore, the inlet pressure P4 of the second stage screw part 34 of the second vacuum pump 12 having the largest pressure value change inside the pump, that is, the interstage part between the first stage screw part 32 and the second stage screw part 34 of the second vacuum pump 12. By measuring the pressure of 40, it can be determined whether or not the process gas is introduced into the pump from the pump inlet 14.

図3は、この実施の形態の多段真空ポンプにおけるガス流量特性を模式的に示すものである。図3に示すように、第2真空ポンプ2の2段スクリュー部34の吸気側、つまり段間部40からポンプ内部に不活性ガスを導入すると、不活性ガスを導入しない場合に比してポンプ吸気口14での圧力は高くなる。しかし、ポンプ吸気口14からポンプ内部に導入されるプロセスガス量が増加するに従って、ポンプ吸気口14の圧力に対する不活性ガス導入量の影響は無くなる。   FIG. 3 schematically shows the gas flow rate characteristics in the multistage vacuum pump of this embodiment. As shown in FIG. 3, when the inert gas is introduced into the pump from the intake side of the second stage screw portion 34 of the second vacuum pump 2, that is, the interstage portion 40, the pump is compared with the case where the inert gas is not introduced. The pressure at the intake port 14 increases. However, as the amount of process gas introduced from the pump inlet 14 into the pump increases, the influence of the inert gas introduction amount on the pressure of the pump inlet 14 disappears.

この実施の形態の多段真空ポンプにあっては、ポンプ吸気口14からポンプ内部に導入されるプロセスガス量を圧力センサ42の測定値より制御部48で判断し、制御部48は、所定量のプロセスガスがポンプ内部に導入されたと判断した場合に、弁体46を開けて、段間部40からポンプ内部に不活性ガスを導入する。これにより、ポンプ吸気口14への圧力値に影響を与えることなく、つまりポンプの排気性能に影響を及ぼすことなく、ポンプが多量(例えば5〜100SLM (Standard Liter/Min))の凝縮性ガスまたは腐食性ガス等のプロセスガスを排気している場合に、プロセスガスが圧縮され、ポンプ内部で最もプロセスガスが濃縮する最終圧縮段の入口、つまり2段スクリュー部34の吸込側で多量の不活性ガスをポンプ内部に導入して、ポンプ内部に固体が付着したり、ポンプが腐食したりすることを抑制することができる。   In the multistage vacuum pump of this embodiment, the control unit 48 determines the amount of process gas introduced into the pump through the pump intake port 14 from the measured value of the pressure sensor 42, and the control unit 48 has a predetermined amount. When it is determined that the process gas has been introduced into the pump, the valve body 46 is opened and the inert gas is introduced into the pump from the interstage part 40. Thereby, the pump has a large amount (for example, 5 to 100 SLM (Standard Liter / Min)) of condensable gas or the like without affecting the pressure value to the pump inlet port 14, that is, without affecting the exhaust performance of the pump. When a process gas such as a corrosive gas is exhausted, a large amount of inert gas is compressed at the inlet of the final compression stage where the process gas is compressed and the process gas is most concentrated inside the pump, that is, at the suction side of the two-stage screw portion 34. By introducing gas into the pump, it is possible to prevent solids from adhering to the pump and corrosion of the pump.

しかも、ポンプ吸気口14からポンプ内部にプロセスガスが導入されたときにのみ不活性ガスをポンプ内部に導入することで、実際に凝縮性ガスや腐食性ガスを排気しているとき、すなわち不活性ガスを導入したいときだけ不活性ガスをポンプ内部に導入して、ランニングコストを低減することができる。   In addition, the inert gas is introduced into the pump only when the process gas is introduced into the pump from the pump intake port 14, so that the condensable gas or the corrosive gas is actually exhausted, that is, the inert gas. Only when it is desired to introduce gas, an inert gas can be introduced into the pump to reduce running costs.

図4は、本発明の他の実施の形態の多段真空ポンプを示す。   FIG. 4 shows a multistage vacuum pump according to another embodiment of the present invention.

図4に示すように、この例の多段真空ポンプでは、不活性ガス導入配管44に該不活性ガス導入配管44から分岐する分岐配管(他の不活性ガス導入配管)50を設け、この分岐配管50を通して、2段スクリュー部34の吐出し部近傍からポンプ内部に不活性ガスを導入できるようにしている。この分岐配管50には弁体52が設けられている。不活性ガス導入配管44内に設置された弁体46及び分岐配管50内に設置された弁体52の開閉は、制御部48(図1参照)からの信号によって制御される。   As shown in FIG. 4, in the multistage vacuum pump of this example, a branch pipe (another inert gas introduction pipe) 50 branched from the inert gas introduction pipe 44 is provided in the inert gas introduction pipe 44, and this branch pipe. 50, the inert gas can be introduced into the pump from the vicinity of the discharge portion of the two-stage screw portion 34. The branch pipe 50 is provided with a valve body 52. Opening and closing of the valve body 46 installed in the inert gas introduction pipe 44 and the valve body 52 installed in the branch pipe 50 is controlled by a signal from the control unit 48 (see FIG. 1).

このような構成により、例えばポンプで排気する凝縮性ガスや腐食性ガスのプロセスガス量が極めて少なく、ポンプ吸気口14での圧力に影響を与えることなしに段間部40からのポンプ内部に不活性ガスを導入できない場合に、分岐配管50を通して、2段スクリュー部34の吐出し部近傍からポンプ内部に不活性ガスを導入することで、該吐出し部近傍でのプロセスガスの希釈を行うことができる。また、プロセスガスのポンプ内部への導入量によって、弁体46,52の開閉を切り替えることにより、不活性ガス導入配管44及び分岐配管50のどちらか一方、もしくは両方より、ポンプ内部に不活性ガスを導入することができる。   With such a configuration, for example, the amount of process gas such as condensable gas and corrosive gas exhausted by the pump is extremely small, and the pressure inside the pump from the interstage 40 is not affected without affecting the pressure at the pump intake port 14. When the active gas cannot be introduced, the process gas in the vicinity of the discharge portion is diluted by introducing the inert gas into the pump through the branch pipe 50 from the vicinity of the discharge portion of the two-stage screw portion 34. Can do. Further, by switching the opening and closing of the valve bodies 46 and 52 depending on the amount of process gas introduced into the pump, the inert gas is introduced into the pump from one or both of the inert gas introduction pipe 44 and the branch pipe 50. Can be introduced.

2段スクリュー部34は、ポンプの軸方向に沿ってガスが圧縮されるため、軸方向の圧力分布に応じて、ポンプ内部に導入される不活性ガスの量を各場所で設定することが好ましい。例えば、ポンプ内部へ50SLMの不活性ガスを導入できる場合に、段間部40に10SLM、2段目スクリュー部34の吐出し近傍に40SLMと分けて不活性ガスをポンプ内部に導入することによって、その全てを段間部40よりポンプ内部に導入する場合に比して、ポンプ吸気口14での圧力へ影響を与え難くなる。このため、ポンプ吸気口14から導入されるプロセスガス量が少ないときでも、2段スクリュー部34の全体に亘る希釈効果が得られる。   Since the gas is compressed along the axial direction of the pump, the two-stage screw portion 34 preferably sets the amount of inert gas introduced into the pump at each location according to the pressure distribution in the axial direction. . For example, when 50 SLM inert gas can be introduced into the pump, 10 SLM is introduced into the interstage part 40 and 40 SLM is introduced into the vicinity of the discharge of the second stage screw part 34 to introduce the inert gas into the pump. Compared with the case where all of them are introduced into the pump through the interstage part 40, it is difficult to affect the pressure at the pump inlet 14. For this reason, even when the amount of process gas introduced from the pump intake port 14 is small, a dilution effect over the entire two-stage screw portion 34 can be obtained.

なお、図4に示す例では、不活性ガス導入個所を2箇所としているが、不活性ガス導入個所は、2段スクリュー部において2箇所以上の複数箇所としても良い。また、図5に示すように、不活性ガス導入配管44の他に、分岐配管50を設け、段間部40へ不活性ガスを導入できるようにし、2つの弁体46,52を制御することによって、段間部40へ導入する不活性ガス量を調整してもよい。更に、弁体自体を流量調整機能付きのものにしても良い。   In the example shown in FIG. 4, the number of the inert gas introduction locations is two, but the number of inert gas introduction locations may be two or more in the two-stage screw portion. Further, as shown in FIG. 5, in addition to the inert gas introduction pipe 44, a branch pipe 50 is provided so that the inert gas can be introduced into the interstage portion 40 and the two valve bodies 46 and 52 are controlled. The amount of inert gas introduced into the interstage part 40 may be adjusted. Further, the valve body itself may have a flow rate adjusting function.

図6は、本発明の更に他の実施の形態の多段真空ポンプを示す。   FIG. 6 shows a multistage vacuum pump according to still another embodiment of the present invention.

図1に示す多段真空ポンプでは、圧力センサ42から制御部48に入力される信号によって不活性ガス導入配管44内に設置した弁体46の開閉を制御するようにしているが、図6に示す多段真空ポンプでは、外部から制御部48に入力される信号によっても、不活性ガス導入配管44内に設置した弁体46の開閉を制御できるように構成されている。この例にあっては、圧力センサ42から制御部48に入力される信号によって不活性ガス導入配管44内に設置した弁体46の開閉を制御する他に、例えば圧力センサ42によって弁体46の開閉を制御するのに十分な圧力を検知されていない段階においても、外部から制御部48に信号を入力して、不活性ガス導入配管44内に設置した弁体46の開閉を制御することができる。   In the multistage vacuum pump shown in FIG. 1, the opening and closing of the valve body 46 installed in the inert gas introduction pipe 44 is controlled by a signal input from the pressure sensor 42 to the control unit 48. The multistage vacuum pump is configured so that the opening and closing of the valve body 46 installed in the inert gas introduction pipe 44 can be controlled by a signal input to the control unit 48 from the outside. In this example, in addition to controlling the opening and closing of the valve body 46 installed in the inert gas introduction pipe 44 by a signal input from the pressure sensor 42 to the control unit 48, for example, the pressure sensor 42 controls the valve body 46. Even when the pressure sufficient to control the opening / closing is not detected, a signal can be input from the outside to the control unit 48 to control the opening / closing of the valve body 46 installed in the inert gas introduction pipe 44. it can.

図1に示す多段真空ポンプは、凝縮性ガスや腐食性ガスがポンプ内部に導入された際に、ポンプ内部の圧力上昇を圧力センサ42で検知して、上記ガスがポンプ内部に導入されたことを検知し、不活性ガスをポンプ内部に導入してガスの凝縮及び腐食を防止するようにしている。ここで、ポンプの内部圧力が上昇したと言うことは、それらのガスがポンプ内部に導入された後ということになり、少なくとも微量なガスの凝縮や腐食が発生する場合がある。図6に示す多段真空ポンプによれば、上記ガスがポンプ内部に導入される前に(十分な圧力が検知されていない状況)、外部より上記ガスをポンプ内部に導入したという意味での外部信号を入力してもらうことによって、不活性ガスの導入を事前に行うことができる。   In the multistage vacuum pump shown in FIG. 1, when a condensable gas or a corrosive gas is introduced into the pump, the pressure increase in the pump is detected by the pressure sensor 42, and the gas is introduced into the pump. , And an inert gas is introduced into the pump to prevent condensation and corrosion of the gas. Here, the fact that the internal pressure of the pump has increased means that these gases have been introduced into the pump, and at least a slight amount of gas condensation or corrosion may occur. According to the multistage vacuum pump shown in FIG. 6, before the gas is introduced into the pump (a situation where sufficient pressure is not detected), an external signal in the sense that the gas has been introduced from the outside into the pump. In this case, the inert gas can be introduced in advance.

図7は、本発明の更に他の実施の形態の多段真空ポンプを示す。この例の図4に示す例と異なる点は、外部から制御部48に入力される信号によっても、不活性ガス導入配管44内に設置した弁体46及び/または不活性ガス導入配管44から分岐する分岐配管50内に設置した弁体52の開閉を制御できるようにしている点にある。この例にあっても、圧力センサ42からの制御部48に入力される信号によって不活性ガス導入配管44内に設置した弁体46及び/または分岐配管50内に設置した弁体52の開閉を制御する他に、例えば圧力センサ42によって弁体46及び/または分岐配管50内に設置した弁体52の開閉を制御するのに十分な圧力を検知されていない段階においても、外部から制御部48に信号を入力して、不活性ガス導入配管44内に設置した弁体46及び/または分岐配管50内に設置した弁体52の開閉を制御することができる。   FIG. 7 shows a multistage vacuum pump according to still another embodiment of the present invention. The difference from the example shown in FIG. 4 of this example is that the valve body 46 and / or the inert gas introduction pipe 44 installed in the inert gas introduction pipe 44 is also branched by a signal input to the control unit 48 from the outside. This is in that the opening and closing of the valve body 52 installed in the branch pipe 50 to be controlled can be controlled. Even in this example, the valve body 46 installed in the inert gas introduction pipe 44 and / or the valve body 52 installed in the branch pipe 50 is opened and closed by a signal input to the control unit 48 from the pressure sensor 42. In addition to the control, for example, even when the pressure sensor 42 does not detect a pressure sufficient to control the opening and closing of the valve body 46 and / or the valve body 52 installed in the branch pipe 50, the control unit 48 from the outside. The valve body 46 installed in the inert gas introduction pipe 44 and / or the valve body 52 installed in the branch pipe 50 can be controlled.

これまで本発明の一実施形態について説明したが、本発明は上述の実施形態に限定されず、その技術的思想の範囲内において種々異なる形態にて実施されてよいことは言うまでもない。   Although one embodiment of the present invention has been described so far, it is needless to say that the present invention is not limited to the above-described embodiment, and may be implemented in various forms within the scope of the technical idea.

本発明の実施の形態の多段真空ポンプを示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the multistage vacuum pump of embodiment of this invention. 図1に示す多段真空ポンプの各圧縮段における排気速度及び圧力の関係を示す図である。It is a figure which shows the relationship between the exhaust speed and pressure in each compression stage of the multistage vacuum pump shown in FIG. 図1に示す多段真空ポンプにおけるガス流量特性を模式的に示すグラフである。It is a graph which shows typically the gas flow rate characteristic in the multistage vacuum pump shown in FIG. 本発明の他の実施の形態の多段真空ポンプを示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the multistage vacuum pump of other embodiment of this invention. 本発明の更に他の実施の形態の多段真空ポンプを示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the multistage vacuum pump of further another embodiment of this invention. 本発明の更に他の実施の形態の多段真空ポンプを示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the multistage vacuum pump of further another embodiment of this invention. 本発明の更に他の実施の形態の他の多段真空ポンプを示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the other multistage vacuum pump of further another embodiment of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

10 第1真空ポンプ(ルーツ型真空ポンプ)
12 第2真空ポンプ(スクリュー型真空ポンプ)
14 ポンプ吸気口
16 ポンプ排気口
22 連結管
24 ルーツ型ポンプロータ
26 1段ルーツ部
28 2段ルーツ部
30 スクリュー型ポンプロータ
32 1段スクリュー部
34 2段スクリュー部
40 段間部
42 圧力センサ
44 不活性ガス導入配管
46 弁体
48 制御部
50 分岐配管
52 弁体
10 First vacuum pump (Roots type vacuum pump)
12 Second vacuum pump (screw type vacuum pump)
14 Pump inlet 16 Pump exhaust 22 Connecting pipe 24 Roots type pump rotor 26 First stage root part 28 Two stage root part 30 Screw type pump rotor 32 First stage screw part 34 Second stage screw part 40 Interstage part 42 Pressure sensor 44 Not Active gas introduction pipe 46 Valve body 48 Control unit 50 Branch pipe 52 Valve body

Claims (4)

下流側最終圧縮段の吸気側の圧力を検出する圧力センサと、
下流側最終圧縮段の吸気側にパージ用の不活性ガスを導入する不活性ガス導入配管と、
前記不活性ガス導入配管内に設置された弁体と、
前記圧力センサによって検出された圧力値に応じて前記弁体の開閉を制御する制御部を有することを特徴とする多段真空ポンプ。
A pressure sensor for detecting the pressure on the intake side of the downstream final compression stage;
An inert gas introduction pipe for introducing an inert gas for purging to the intake side of the downstream final compression stage;
A valve body installed in the inert gas introduction pipe;
A multistage vacuum pump comprising a control unit that controls opening and closing of the valve body in accordance with a pressure value detected by the pressure sensor.
下流側最終圧縮段の吐出し部近傍に不活性ガスを導入する他の不活性ガス導入配管を更に有し、前記圧力センサによって検出された圧力値に応じて、前記他の不活性ガス導入配管内に設置した弁体の開閉を前記制御部で制御することを特徴とする請求項1記載の多段真空ポンプ。   It further has another inert gas introduction pipe for introducing an inert gas in the vicinity of the discharge part of the downstream final compression stage, and the other inert gas introduction pipe according to the pressure value detected by the pressure sensor The multistage vacuum pump according to claim 1, wherein opening and closing of a valve body installed in the inside is controlled by the control unit. 前記不活性ガス導入配管の上流側に位置する圧縮段の内の少なくとも1つは圧縮形態がスクリュー形であることを特徴とする請求項1または2記載の多段真空ポンプ。   The multistage vacuum pump according to claim 1 or 2, wherein the compression form of at least one of the compression stages located upstream of the inert gas introduction pipe is a screw type. 全体の圧縮段の段数が3段以上であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の多段真空ポンプ。   The multistage vacuum pump according to any one of claims 1 to 3, wherein the total number of compression stages is three or more.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012054541A (en) * 2010-08-05 2012-03-15 Ebara Corp Exhaust system
JP2015010510A (en) * 2013-06-27 2015-01-19 株式会社荏原製作所 Vacuum pump system, reporting method of abnormal sign of vacuum pump
JP2017031892A (en) * 2015-08-03 2017-02-09 アルバック機工株式会社 Vacuum evacuation device and its operation method
CN116428155A (en) * 2023-04-13 2023-07-14 北京通嘉宏瑞科技有限公司 Pump body cleaning system and pump body cleaning control method

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08296557A (en) * 1995-04-21 1996-11-12 Ulvac Japan Ltd Vacuum pump
JP2003120529A (en) * 2001-10-17 2003-04-23 Toyota Industries Corp Gas feeder in vacuum pump
JP2004293466A (en) * 2003-03-27 2004-10-21 Aisin Seiki Co Ltd Vacuum pump
WO2007036689A1 (en) * 2005-09-28 2007-04-05 Edwards Limited Method of pumping gas

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08296557A (en) * 1995-04-21 1996-11-12 Ulvac Japan Ltd Vacuum pump
JP2003120529A (en) * 2001-10-17 2003-04-23 Toyota Industries Corp Gas feeder in vacuum pump
JP2004293466A (en) * 2003-03-27 2004-10-21 Aisin Seiki Co Ltd Vacuum pump
WO2007036689A1 (en) * 2005-09-28 2007-04-05 Edwards Limited Method of pumping gas

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012054541A (en) * 2010-08-05 2012-03-15 Ebara Corp Exhaust system
US9625168B2 (en) 2010-08-05 2017-04-18 Ebara Corporation Exhaust system
JP2015010510A (en) * 2013-06-27 2015-01-19 株式会社荏原製作所 Vacuum pump system, reporting method of abnormal sign of vacuum pump
JP2017031892A (en) * 2015-08-03 2017-02-09 アルバック機工株式会社 Vacuum evacuation device and its operation method
CN116428155A (en) * 2023-04-13 2023-07-14 北京通嘉宏瑞科技有限公司 Pump body cleaning system and pump body cleaning control method
CN116428155B (en) * 2023-04-13 2024-03-22 北京通嘉宏瑞科技有限公司 Pump body cleaning system and pump body cleaning control method

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