JP2003120529A - Gas feeder in vacuum pump - Google Patents

Gas feeder in vacuum pump

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JP2003120529A
JP2003120529A JP2001318894A JP2001318894A JP2003120529A JP 2003120529 A JP2003120529 A JP 2003120529A JP 2001318894 A JP2001318894 A JP 2001318894A JP 2001318894 A JP2001318894 A JP 2001318894A JP 2003120529 A JP2003120529 A JP 2003120529A
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JP
Japan
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gas
flow rate
inert gas
gas supply
pressure
Prior art date
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Pending
Application number
JP2001318894A
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Japanese (ja)
Inventor
Shinya Yamamoto
真也 山本
Masahiro Kawaguchi
真広 川口
Hiroyuki Ishigure
宏行 石榑
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Toyota Industries Corp
Original Assignee
Toyota Industries Corp
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Publication date
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  • Compressors, Vaccum Pumps And Other Relevant Systems (AREA)
  • Applications Or Details Of Rotary Compressors (AREA)
  • Control Of Positive-Displacement Pumps (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To ensure a stable dilution effect by feeding an inert gas. SOLUTION: An electromagnetic flow regulating valve 67 is fitted to a base pipe 60 on the upstream side of connection parts 541-591 of the base pipe 60 which is a feed passage of the inert gas to branched pipes 54-59. The flow regulating valve 67 regulates the flow rate of the inert gas flowing in the base pipe 60. The flow regulating valve 67 receives the command control of a flow control device 68. A pressure detector 62 is signal-connected to the flow control device 68, and pressure detection information in an introduction pipe 61 obtained by the pressure detector 62 is transmitted to the flow control device 68. The flow control device 68 controls the valve opening of the flow regulating valve 67, i.e., the gas feed flow regulating condition based on the pressure detection information obtained from the pressure detector 62.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、回転軸の回転に基
づいてポンプ室内のガス移送体を動かし、前記ガス移送
体の動作によってガスを移送して吸引作用をもたらし、
前記ガスの存在領域に不活性ガスを供給するガス供給装
置を備えた真空ポンプにおけるガス供給装置に関するも
のである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention moves a gas transfer member in a pump chamber based on the rotation of a rotary shaft, and transfers gas by the operation of the gas transfer member to bring about a suction action.
The present invention relates to a gas supply device in a vacuum pump equipped with a gas supply device that supplies an inert gas to the gas existing region.

【0002】[0002]

【従来の技術】特開平5−118286号公報に開示さ
れる真空ポンプでは、一対で組をなすロータが噛合した
状態で回転される。噛合しながら回転する複数のロータ
の回転動作は、ガスを移送する。このポンプでは、ガス
の経路内に窒素ガスのような不活性ガスを供給して、反
応生成物を含むガスの希釈が行われる。反応生成物の中
には、圧力が上昇し、温度が低下すると固化しやすくな
るものが多く、特に半導体製造装置の一種であるドライ
エッチング装置から排気されるガスには、そのような物
質が含まれていることがある。このような物質であって
も、不活性ガスで希釈されると、固化する温度が低くな
り、固化しにくくなる。
2. Description of the Related Art In a vacuum pump disclosed in Japanese Unexamined Patent Publication No. 5-118286, a pair of rotors are rotated in a meshed state. The rotational movement of the rotors that rotate while meshing transfers the gas. In this pump, an inert gas such as nitrogen gas is supplied into the gas passage to dilute the gas containing the reaction product. Many of the reaction products tend to solidify when the pressure rises and the temperature drops, and the gas exhausted from a dry etching apparatus, which is a kind of semiconductor manufacturing apparatus, contains such substances. May have been. Even such a substance, when diluted with an inert gas, has a low solidifying temperature and is hard to solidify.

【0003】特開平5−118286号公報では、不活
性ガスの供給経路上にニードルバルブあるいは固定絞り
を介在した構成が開示されている。ニードルバルブは、
不活性ガスの供給流量を調整できる。固定絞りを用いた
装置における不活性ガスの供給流量は、必要供給能力を
持った固定絞りの選択によって調整される。
Japanese Unexamined Patent Publication (Kokai) No. 5-118286 discloses a structure in which a needle valve or a fixed throttle is interposed on the supply path of the inert gas. Needle valve
The supply flow rate of the inert gas can be adjusted. The supply flow rate of the inert gas in the apparatus using the fixed throttle is adjusted by selecting the fixed throttle having the required supply capacity.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】不活性ガスの供給によ
る安定した希釈効果の確保は、ガスの固化の問題を解消
する上で重要である。しかし、不活性ガスを常に一定量
供給する方式では、真空ポンプの排気の多少に応じた不
活性ガスによるガスの適正な希釈を得ることができな
い。
Securing a stable dilution effect by supplying an inert gas is important in solving the problem of gas solidification. However, with the method of always supplying a constant amount of the inert gas, it is not possible to obtain a proper dilution of the gas with the inert gas according to the amount of exhaust of the vacuum pump.

【0005】本発明は、不活性ガスの供給によるガスの
適正な希釈の確保を図ることを目的とする。
An object of the present invention is to ensure proper dilution of gas by supplying an inert gas.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】そのために本発明は、回
転軸の回転に基づいてポンプ室内のガス移送体を動か
し、前記ガス移送体の動作によってガスを移送して吸引
作用をもたらし、前記ガスの存在領域に不活性ガスを供
給するガス供給装置を備えた真空ポンプを対象とし、請
求項1の発明では、前記不活性ガスの供給流量を調整す
るガス供給流量調整手段と、前記ガスの移送量を検出す
る移送量検出手段と、前記移送量検出手段によって検出
された移送量に応じて前記ガス供給流量調整手段におけ
るガス供給流量調整状態を制御する制御手段とを備えた
ガス供給装置を構成した。
To this end, according to the present invention, the gas transfer member in the pump chamber is moved based on the rotation of the rotary shaft, and the gas is transferred by the operation of the gas transfer member to bring about a suction action. The present invention is directed to a vacuum pump provided with a gas supply device for supplying an inert gas to a region in which gas is present, and in the invention of claim 1, gas supply flow rate adjusting means for adjusting a supply flow rate of the inert gas, and transfer of the gas. A gas supply device comprising a transfer amount detecting means for detecting an amount and a control means for controlling a gas supply flow rate adjusting state in the gas supply flow rate adjusting means in accordance with the transfer amount detected by the transfer amount detecting means. did.

【0007】ガスの適正な希釈の確保は、検出されたガ
ス移送量が多いときには前記不活性ガスの供給流量を多
くし、検出されたガス移送量が少ないときには前記不活
性ガスの供給流量を少なくすることによって達成され
る。
In order to ensure proper dilution of the gas, the feed flow rate of the inert gas is increased when the detected gas transfer amount is large, and the feed flow rate of the inert gas is decreased when the detected gas transfer amount is small. It is achieved by

【0008】請求項2の発明では、請求項1において、
前記移送量検出手段は、前記ガスの存在領域における圧
力を検出する圧力検出手段とした。検出された圧力は、
ガスの移送量を精度良く反映する。
According to the invention of claim 2, in claim 1,
The transfer amount detecting means is pressure detecting means for detecting the pressure in the region where the gas exists. The detected pressure is
Accurately reflects the amount of gas transferred.

【0009】請求項3の発明では、請求項2において、
前記圧力検出手段の検出対象領域は、前記ガスの存在領
域において前記不活性ガスの供給口よりも上流とした。
前記不活性ガスの供給口よりも上流のガス存在領域は、
不活性ガスの存在しない領域である。従って、前記不活
性ガスの供給口よりも上流のガス存在領域は、ガス移送
量の検出精度を高める上で、圧力検出手段の検出対象領
域として適正である。
According to the invention of claim 3, in claim 2,
The detection target area of the pressure detection means is upstream of the inert gas supply port in the gas existence area.
The gas existence region upstream of the supply port of the inert gas,
This is a region where no inert gas exists. Therefore, the gas existence region upstream of the inert gas supply port is appropriate as the detection target region of the pressure detection means in order to enhance the detection accuracy of the gas transfer amount.

【0010】請求項4の発明では、請求項1乃至請求項
3のいずれか1項において、前記不活性ガスの供給経路
は、基管と複数の分岐管とからなり、単一の前記ガス供
給流量調整手段は、前記基管と複数の分岐管との接続部
よりも上流における前記基管に配設されているようにし
た。
According to a fourth aspect of the present invention, in any one of the first to third aspects, the inert gas supply path includes a base pipe and a plurality of branch pipes, and a single gas supply is provided. The flow rate adjusting means is arranged in the base pipe upstream of the connecting portion between the base pipe and the plurality of branch pipes.

【0011】基管と複数の分岐管との接続部よりも上流
における基管は、単一のガス供給流量調整手段の設置箇
所として最適である。
The base pipe upstream of the connecting portion between the base pipe and the plurality of branch pipes is optimal as the installation location of the single gas supply flow rate adjusting means.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】以下、本発明を多段ルーツポンプ
に具体化した第1の実施の形態を図1〜図5に基づいて
説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION A first embodiment in which the present invention is embodied in a multistage roots pump will be described below with reference to FIGS.

【0013】図1に示すように、多段ルーツポンプ11
のロータハウジング12の前端にはフロントハウジング
13が接合されており、フロントハウジング13には封
鎖体10が接合されている。ロータハウジング12の後
端にはリヤハウジング14が接合されている。ロータハ
ウジング12は、シリンダブロック15と複数の室形成
壁16A,16B,16C,16Dとからなる。図3に
示すように、シリンダブロック15は、一対のブロック
片17,18からなり、各室形成壁16A,16B,1
6C,16Dは一対の壁片161,162からなる。図
1に示すように、フロントハウジング13と室形成壁1
6Aとの間の空間、隣合う室形成壁16A,16B,1
6C,16Dの間の空間、及びリヤハウジング14と室
形成壁16Dとの間の空間は、それぞれポンプ室39,
40,41,42,43となっている。
As shown in FIG. 1, a multi-stage roots pump 11
A front housing 13 is joined to the front end of the rotor housing 12, and the closure 10 is joined to the front housing 13. A rear housing 14 is joined to the rear end of the rotor housing 12. The rotor housing 12 includes a cylinder block 15 and a plurality of chamber forming walls 16A, 16B, 16C and 16D. As shown in FIG. 3, the cylinder block 15 is composed of a pair of block pieces 17 and 18, and each chamber forming wall 16A, 16B, 1
6C and 16D are composed of a pair of wall pieces 161 and 162. As shown in FIG. 1, the front housing 13 and the chamber forming wall 1
Space between 6A and adjacent chamber forming walls 16A, 16B, 1
The space between 6C and 16D and the space between the rear housing 14 and the chamber forming wall 16D are respectively the pump chamber 39,
40, 41, 42, 43.

【0014】フロントハウジング13とリヤハウジング
14とには一対の回転軸19,20がラジアルベアリン
グ21,21A,22,22Aを介して回転可能に支持
されている。両回転軸19,20は互いに平行に配置さ
れている。回転軸19,20は室形成壁16A,16
B,16C,16Dに通されている回転軸19には複数
のロータ23,24,25,26,27が一体形成され
ており、回転軸20には同数のロータ28,29,3
0,31,32が一体形成されている。ロータ23〜3
2は、回転軸19,20の軸線191,201の方向に
見て同形同大の形状をしている。ロータ23,24,2
5,26,27の厚みはこの順に小さくなってゆくよう
にしてあり、ロータ28,29,30,31,32の厚
みはこの順に小さくなってゆくようにしてある。ロータ
23,28は互いに噛合した状態でポンプ室39に収容
されており、ロータ24,29は互いに噛合した状態で
ポンプ室40に収容されている。ロータ25,30は互
いに噛合した状態でポンプ室41に収容されており、ロ
ータ26,31は互いに噛合した状態でポンプ室42に
収容されている。ロータ27,32は互いに噛合した状
態でポンプ室43に収容されている。
A pair of rotating shafts 19, 20 are rotatably supported by the front housing 13 and the rear housing 14 via radial bearings 21, 21A, 22, 22A. Both rotary shafts 19 and 20 are arranged parallel to each other. The rotation shafts 19 and 20 are the chamber forming walls 16A and 16
A plurality of rotors 23, 24, 25, 26, 27 are integrally formed on the rotary shaft 19 passed through B, 16C, 16D, and the same number of rotors 28, 29, 3 are provided on the rotary shaft 20.
0, 31, 32 are integrally formed. Rotor 23-3
2 has the same shape and the same size when viewed in the directions of the axes 191 and 201 of the rotary shafts 19 and 20. Rotors 23, 24, 2
The thicknesses of 5, 26, 27 are made smaller in this order, and the thicknesses of the rotors 28, 29, 30, 31, 32 are made smaller in this order. The rotors 23 and 28 are housed in the pump chamber 39 while meshing with each other, and the rotors 24 and 29 are housed in the pump chamber 40 while meshing with each other. The rotors 25 and 30 are housed in the pump chamber 41 while meshing with each other, and the rotors 26 and 31 are housed in the pump chamber 42 while meshing with each other. The rotors 27 and 32 are housed in the pump chamber 43 while meshing with each other.

【0015】リヤハウジング14にはギヤハウジング3
3が組み付けられている。回転軸19,20はリヤハウ
ジング14を貫通してギヤハウジング33内に突出して
おり、各回転軸19,20の突出端部には歯車34,3
5が互いに噛合した状態で止着されている。歯車34,
35は、ギヤハウジング33内に貯留された図示しない
潤滑油をかき上げる。かき上げられた潤滑油は、歯車3
4,35及びラジアルベアリング21A,22Aを潤滑
する。
The rear housing 14 includes a gear housing 3
3 is assembled. The rotary shafts 19 and 20 penetrate the rear housing 14 and project into the gear housing 33, and the gears 34 and 3 are provided at the projecting ends of the rotary shafts 19 and 20, respectively.
5 are fixed to each other in a meshed state. Gear 34,
Reference numeral 35 scrapes up the lubricating oil (not shown) stored in the gear housing 33. Lubricating oil lifted up is gear 3
4, 35 and the radial bearings 21A, 22A are lubricated.

【0016】ギヤハウジング33には電動モータMが組
み付けられている。電動モータMの駆動力は、軸継ぎ手
63を介して回転軸19に伝えられ、回転軸19は図3
〜図5の矢印R1の方向に回転される。回転軸19の回
転は、歯車34,35を介して回転軸20に伝えられ、
回転軸20は図3〜図5の矢印R2で示すように回転軸
19とは逆方向に回転する。
An electric motor M is attached to the gear housing 33. The driving force of the electric motor M is transmitted to the rotary shaft 19 via the shaft joint 63, and the rotary shaft 19 is driven by the rotary shaft 19 shown in FIG.
~ It is rotated in the direction of arrow R1 in FIG. The rotation of the rotary shaft 19 is transmitted to the rotary shaft 20 via the gears 34 and 35,
The rotating shaft 20 rotates in the direction opposite to the rotating shaft 19 as shown by an arrow R2 in FIGS.

【0017】電動モータMにはインバータ65が電気接
続されている。インバータ65は、回転制御装置64の
指令制御に基づいて交流電源66を電源として電動モー
タMの回転速度制御を行なう。
An inverter 65 is electrically connected to the electric motor M. The inverter 65 controls the rotation speed of the electric motor M using the AC power source 66 as a power source based on the command control of the rotation control device 64.

【0018】図1及び図3に示すように、室形成壁16
A,16B,16C,16D内には通路163が形成さ
れている。図3に示すように、室形成壁16A,16
B,16C,16Dには通路163の入口164及び出
口165が形成されている。隣合うポンプ室39,4
0,41,42,43は、通路163を介して連通して
いる。
As shown in FIGS. 1 and 3, the chamber forming wall 16
A passage 163 is formed in each of A, 16B, 16C and 16D. As shown in FIG. 3, the chamber forming walls 16A, 16
An inlet 164 and an outlet 165 of the passage 163 are formed in B, 16C and 16D. Adjacent pump rooms 39, 4
0, 41, 42, 43 communicate with each other through a passage 163.

【0019】図4に示すように、ブロック片18には導
入口181がポンプ室39に連通するように形成されて
いる。導入口181には導入管61が接続されている。
導入管61には圧力検出手段としての圧力検出器62が
取り付けられている。圧力検出器62は、導入管61内
の圧力を検出する。
As shown in FIG. 4, an inlet 181 is formed in the block piece 18 so as to communicate with the pump chamber 39. The introduction pipe 61 is connected to the introduction port 181.
A pressure detector 62 as a pressure detecting means is attached to the introduction pipe 61. The pressure detector 62 detects the pressure in the introduction pipe 61.

【0020】図5に示すように、ブロック片17には排
出口171がポンプ室43に連通するように形成されて
いる。導入口181からポンプ室39に導入されたガス
は、ロータ23,28の回転によって室形成壁16Aの
入口164から通路163を経由して出口165から隣
のポンプ室40へ移送される。以下、同様にガスは、ポ
ンプ室の容積が小さくなる順、即ちポンプ室40,4
1,42,43の順に移送される。ポンプ室43へ移送
されたガスは、排出口171から外部へ排出される。ロ
ータ23〜32は、ガスを移送するガス移送体である。
As shown in FIG. 5, the block piece 17 is formed with a discharge port 171 so as to communicate with the pump chamber 43. The gas introduced from the inlet 181 into the pump chamber 39 is transferred from the inlet 164 of the chamber forming wall 16A through the passage 163 to the adjacent pump chamber 40 from the outlet 165 by the rotation of the rotors 23 and 28. Hereinafter, in the same manner, the gas is supplied in the order of decreasing the volume of the pump chambers, that is, the pump chambers 40, 4
1, 42, 43 are transferred in this order. The gas transferred to the pump chamber 43 is discharged to the outside through the discharge port 171. The rotors 23 to 32 are gas transfer bodies that transfer gas.

【0021】図1及び図3に示すように、ロータハウジ
ング12には複数の固定絞り器36A,36B,36
C,36Dが螺着されている。図1に示すように、フロ
ントハウジング13には固定絞り器37が螺合されてお
り、リヤハウジング14には固定絞り器38が螺合され
ている。各固定絞り器36A,36B,36C,36
D,37,38には分岐管54,55,56,57,5
8,59が接続されており、分岐管54,55,56,
57,58,59は基管60に接続されている。基管6
0は、図示しないガス供給源に接続されている。ガス供
給源の不活性ガス(例えば窒素ガス)は、基管60及び
分岐管54〜59を介して各固定絞り器36A,36
B,36C,36D,37,38に供給される。
As shown in FIGS. 1 and 3, the rotor housing 12 includes a plurality of fixed restrictors 36A, 36B, 36.
C and 36D are screwed. As shown in FIG. 1, a fixed throttle 37 is screwed into the front housing 13, and a fixed throttle 38 is screwed into the rear housing 14. Each fixed throttle device 36A, 36B, 36C, 36
D, 37, 38 include branch pipes 54, 55, 56, 57, 5
8 and 59 are connected, and branch pipes 54, 55, 56,
57, 58 and 59 are connected to the base pipe 60. Base tube 6
0 is connected to a gas supply source (not shown). The inert gas (for example, nitrogen gas) of the gas supply source is passed through the base pipe 60 and the branch pipes 54 to 59 to the fixed restrictors 36A and 36A.
B, 36C, 36D, 37, 38.

【0022】図2に示すように、固定絞り器36Aは、
逆止弁44と、逆止弁44に螺合された固定絞り45
と、逆止弁44に螺合された管継ぎ手46とからなる。
逆止弁44は固定絞り45の上流側にある。逆止弁44
と固定絞り45との間にはシールリング47が介在され
ている。固定絞り45の先端部にはオリフィス451が
形成されている。
As shown in FIG. 2, the fixed restrictor 36A is
Check valve 44 and fixed throttle 45 screwed to check valve 44
And a pipe joint 46 screwed to the check valve 44.
The check valve 44 is upstream of the fixed throttle 45. Check valve 44
A seal ring 47 is interposed between the fixed diaphragm 45 and the fixed diaphragm 45. An orifice 451 is formed at the tip of the fixed diaphragm 45.

【0023】逆止弁44は、弁孔511を形成したハウ
ジング51と、ばね座兼用のガイド48と、ガイド48
によって摺動案内される弁支持体49と、弁支持体49
に取り付けられたリング形状のゴム製の弾性弁50と、
弁支持体49を弁孔511側に付勢するばね52とを備
えている。弁支持体49には通過溝491が形成されて
いる。分岐管54は、逆止弁44に嵌入されている。
The check valve 44 includes a housing 51 having a valve hole 511, a guide 48 also serving as a spring seat, and a guide 48.
Valve support 49 which is slidably guided by the valve support 49
A ring-shaped rubber elastic valve 50 attached to the
And a spring 52 for urging the valve support 49 toward the valve hole 511. A passage groove 491 is formed in the valve support body 49. The branch pipe 54 is fitted in the check valve 44.

【0024】管継ぎ手46は、一対のゴム製のシールリ
ング53A,53Bを備えている。逆止弁44に対して
管継ぎ手46を締め付けると、シールリング53Aが管
継ぎ手46と分岐管54との間で弾性変形すると共に、
シールリング53Bが逆止弁44と分岐管54との間で
弾性変形する。分岐管54は、シールリング53A,5
3Bの弾性変形によって固定絞り器36Aからの抜けを
阻止される。
The pipe joint 46 is provided with a pair of rubber seal rings 53A and 53B. When the pipe joint 46 is tightened to the check valve 44, the seal ring 53A elastically deforms between the pipe joint 46 and the branch pipe 54, and
The seal ring 53B elastically deforms between the check valve 44 and the branch pipe 54. The branch pipe 54 includes seal rings 53A and 5A.
The elastic deformation of 3B prevents the fixed throttle device 36A from coming off.

【0025】他の固定絞り器36B,36C,36D,
37,38も固定絞り器36Aと同じ構造である。固定
絞り器36A,36B,36C,36D,37,38へ
送られた不活性ガスは、ばね52のばね力に抗して弾性
弁50を押し退けて弁孔511を通過する。弁孔511
を通過した不活性ガスは、通過溝491を経由して固定
絞り45内に入る。固定絞り45内に入った不活性ガス
は、オリフィス451を通過する。
Other fixed restrictors 36B, 36C, 36D,
37 and 38 also have the same structure as the fixed diaphragm 36A. The inert gas sent to the fixed restrictors 36A, 36B, 36C, 36D, 37, 38 pushes the elastic valve 50 against the spring force of the spring 52 and passes through the valve hole 511. Valve hole 511
The inert gas that has passed through passes through the passage groove 491 and enters the fixed throttle 45. The inert gas that has entered the fixed throttle 45 passes through the orifice 451.

【0026】図1に示すように、固定絞り器37にはフ
ロントハウジング13内の通路131が接続されてい
る。通路131は、回転軸19,20を通すフロントハ
ウジング13の軸孔134,135の周面に形成された
環状の通路132,133に通じている。固定絞り器3
8にはリヤハウジング14内の通路141が接続されて
いる。通路141は、回転軸19,20を通すリヤハウ
ジング14の軸孔144,145の周面に形成された環
状の通路142,143に通じている。
As shown in FIG. 1, a passage 131 in the front housing 13 is connected to the fixed throttle 37. The passage 131 communicates with annular passages 132 and 133 formed on the peripheral surfaces of the shaft holes 134 and 135 of the front housing 13 through which the rotary shafts 19 and 20 pass. Fixed wringer 3
A passage 141 in the rear housing 14 is connected to the reference numeral 8. The passage 141 communicates with annular passages 142 and 143 formed on the peripheral surfaces of the shaft holes 144 and 145 of the rear housing 14 through which the rotary shafts 19 and 20 pass.

【0027】基管60及び分岐管54を介して固定絞り
器36Aに送られた不活性ガスは、室形成壁16A内の
通路163へ送り込まれる。基管60及び分岐管55を
介して固定絞り器36Bに送られた不活性ガスは、室形
成壁16B内の通路163へ送り込まれる。基管60及
び分岐管56を介して固定絞り器36Cに送られた不活
性ガスは、室形成壁16C内の通路163へ送り込まれ
る。基管60及び分岐管57を介して固定絞り器36D
に送られた不活性ガスは、室形成壁16D内の通路16
3へ送り込まれる。各通路163内へ送り込まれた不活
性ガスは、各通路163内のガス〔例えばパーフルオロ
カーボン(PFC)ガス等のガス〕を希釈する。
The inert gas sent to the fixed restrictor 36A via the base pipe 60 and the branch pipe 54 is sent to the passage 163 in the chamber forming wall 16A. The inert gas sent to the fixed restrictor 36B via the base pipe 60 and the branch pipe 55 is sent to the passage 163 in the chamber forming wall 16B. The inert gas sent to the fixed restrictor 36C via the base pipe 60 and the branch pipe 56 is sent to the passage 163 in the chamber forming wall 16C. Fixed throttle device 36D through the base pipe 60 and the branch pipe 57
The inert gas sent to the chamber is used for the passage 16 in the chamber forming wall 16D.
Sent to 3. The inert gas sent into each passage 163 dilutes the gas in each passage 163 [for example, a gas such as perfluorocarbon (PFC) gas].

【0028】基管60及び分岐管58を介して固定絞り
器37に送られた不活性ガスは、通路131,132,
133へ送り込まれる。通路132,133へ送り込ま
れた不活性ガスは、回転軸19,20の周面とフロント
ハウジング13の軸孔134,135との間の間隙から
ラジアルベアリング21,22へ侵入しようとするガス
を希釈する。
The inert gas sent to the fixed restrictor 37 through the base pipe 60 and the branch pipe 58 receives the passages 131, 132,
It is sent to 133. The inert gas sent into the passages 132, 133 dilutes the gas that tries to enter the radial bearings 21, 22 through the gap between the peripheral surface of the rotary shafts 19, 20 and the shaft holes 134, 135 of the front housing 13. To do.

【0029】基管60及び分岐管59を介して固定絞り
器38に送られた不活性ガスは、通路141,142,
143へ送り込まれる。通路142,143へ送り込ま
れた不活性ガスは、回転軸19,20の周面とリヤハウ
ジング14の軸孔144,145との間の間隙からラジ
アルベアリング21A,22Aへ侵入しようとするガス
を希釈する。
The inert gas sent to the fixed restrictor 38 via the base pipe 60 and the branch pipe 59 passes through the passages 141, 142,
It is sent to 143. The inert gas sent into the passages 142, 143 dilutes the gas that tries to enter the radial bearings 21A, 22A through the gap between the peripheral surface of the rotary shafts 19, 20 and the shaft holes 144, 145 of the rear housing 14. To do.

【0030】不活性ガスの供給圧力、即ち基管60及び
分岐管54〜59内の圧力は、各室形成壁16A,16
B,16C,16D内の通路163内の予想圧力、及び
通路132,133,142,143内の予想圧力より
も高くしてある。
The supply pressure of the inert gas, that is, the pressure in the base pipe 60 and the branch pipes 54 to 59, is set to the chamber forming walls 16A and 16A.
It is set higher than the expected pressure in the passage 163 in B, 16C, 16D and the expected pressure in the passages 132, 133, 142, 143.

【0031】基管60と分岐管54〜59との接続部5
41,551,561,571,581,591よりも
上流における基管60には電磁式の流量調整弁67が取
り付けられている。流量調整弁67は、不活性ガスの供
給流量を調整するガス供給流量調整手段である。流量調
整弁67は、基管60を流れる不活性ガスの流量を調整
する。
Connection part 5 between base pipe 60 and branch pipes 54 to 59
An electromagnetic flow rate adjusting valve 67 is attached to the base pipe 60 upstream of 41,551,561,571,581,591. The flow rate adjusting valve 67 is a gas supply flow rate adjusting means for adjusting the supply flow rate of the inert gas. The flow rate adjusting valve 67 adjusts the flow rate of the inert gas flowing through the base pipe 60.

【0032】流量調整弁67は、流量制御装置68の指
令制御を受ける。流量制御装置68には圧力検出器62
が信号接続されており、圧力検出器62によって得られ
た圧力検出情報が流量制御装置68に送られる。流量制
御装置68は、圧力検出器62から得られる圧力検出情
報に基づいて流量調整弁67の弁開度、即ちガス供給流
量調整状態を制御する。本実施の形態では、流量制御装
置68は、ガスの希釈度が所望の希釈度になるように流
量調整弁67の弁開度を制御する。圧力検出器62によ
って検出された圧力が増大、即ちガスの移送量が多くな
ると、流量制御装置68は、流量調整弁67の弁開度を
増大する指令を出す。流量調整弁67は、流量制御装置
68からの弁開度増大指令に基づいて弁開度を増大し、
基管60を流れる不活性ガスの供給流量が増える。圧力
検出器62によって検出された圧力が減少すると、流量
制御装置68は、流量調整弁67の弁開度を減少する指
令を出す。流量調整弁67は、流量制御装置68からの
弁開度減少指令に基づいて弁開度を減少し、基管60を
流れる不活性ガスの供給流量が減る。
The flow rate adjusting valve 67 is controlled by the flow rate control device 68. The flow rate control device 68 includes a pressure detector 62.
Is connected by a signal, and the pressure detection information obtained by the pressure detector 62 is sent to the flow rate control device 68. The flow rate control device 68 controls the valve opening degree of the flow rate adjusting valve 67, that is, the gas supply flow rate adjusting state based on the pressure detection information obtained from the pressure detector 62. In the present embodiment, the flow rate control device 68 controls the valve opening degree of the flow rate adjusting valve 67 so that the dilution degree of the gas becomes a desired dilution degree. When the pressure detected by the pressure detector 62 increases, that is, when the gas transfer amount increases, the flow rate control device 68 issues a command to increase the valve opening degree of the flow rate adjusting valve 67. The flow rate adjusting valve 67 increases the valve opening degree based on a valve opening degree increasing command from the flow rate control device 68,
The supply flow rate of the inert gas flowing through the base pipe 60 increases. When the pressure detected by the pressure detector 62 decreases, the flow rate control device 68 issues a command to decrease the valve opening degree of the flow rate adjusting valve 67. The flow rate adjusting valve 67 reduces the valve opening degree based on the valve opening degree reduction command from the flow rate control device 68, and the supply flow rate of the inert gas flowing through the base pipe 60 decreases.

【0033】圧力検出器62は、ガスの移送量を検出す
る移送量検出手段である。流量制御装置68は、移送量
検出手段によって検出された圧力(即ち、移送量)に応
じて流量調整弁67の弁開度(即ち、ガス供給流量調整
状態)を制御する制御手段である。
The pressure detector 62 is a transfer amount detecting means for detecting the transfer amount of gas. The flow rate control device 68 is a control unit that controls the valve opening degree (that is, the gas supply flow rate adjustment state) of the flow rate adjusting valve 67 according to the pressure (that is, the transfer amount) detected by the transfer amount detection unit.

【0034】第1の実施の形態では以下の効果が得られ
る。 (1-1)ガス移送量が多いときに不活性ガスの供給流量
が少ないと、ガスに含まれる反応生成物が固化したり、
ガス移送量が少ないときに不活性ガスの供給流量が多い
と、真空ポンプの吸引作用が低下する。
The following effects can be obtained in the first embodiment. (1-1) If the supply flow rate of the inert gas is small when the gas transfer rate is large, the reaction products contained in the gas may solidify,
If the supply flow rate of the inert gas is large when the gas transfer amount is small, the suction action of the vacuum pump is reduced.

【0035】圧力検出器62によって検出された導入管
61内の圧力が高いとき、即ちガスの移送量が多いとき
には、流量制御装置68は、不活性ガスの供給流量を多
くしてガスの希釈度を所望の希釈度へ収束させる。圧力
検出器62によって検出された導入管61内の圧力が低
いとき、即ちガスの移送量が少ないときには、流量制御
装置68は、不活性ガスの供給流量を少なくしてガスの
希釈度を所望の希釈度へ収束させる。ガスの移送量に応
じて不活性ガスの供給流量を調整する構成は、ガスの適
正な希釈の確保を可能にする。
When the pressure in the introduction pipe 61 detected by the pressure detector 62 is high, that is, when the gas transfer amount is large, the flow rate control device 68 increases the supply flow rate of the inert gas to dilute the gas. To the desired dilution. When the pressure in the introduction pipe 61 detected by the pressure detector 62 is low, that is, when the gas transfer amount is small, the flow rate control device 68 reduces the supply flow rate of the inert gas to obtain a desired gas dilution degree. Bring to dilution. The configuration in which the supply flow rate of the inert gas is adjusted according to the transfer amount of the gas makes it possible to ensure proper dilution of the gas.

【0036】(1-2)導入管61内の圧力は、ガスの移
送量を精度良く反映する。従って、圧力検出器62によ
って検出された圧力は、ガスの移送量を精度良く反映
し、ガスの移送量に応じた不活性ガスの適正な供給流量
の調整が可能である。
(1-2) The pressure in the introduction pipe 61 accurately reflects the amount of gas transferred. Therefore, the pressure detected by the pressure detector 62 accurately reflects the gas transfer amount, and the appropriate supply flow rate of the inert gas can be adjusted according to the gas transfer amount.

【0037】(1-3)固定絞り器36A,36B,36
C,36Dのオリフィス451は、室形成壁16A,1
6B,16C,16内の通路163というガス存在領域
に対する不活性ガスの供給口となる。固定絞り器37の
オリフィス451は、回転軸19,20の周面とフロン
トハウジング13の軸孔134,135との間の間隙と
いうガスの存在領域に通じる通路131に対する不活性
ガスの供給口となる。固定絞り器38のオリフィス45
1は、回転軸19,20の周面とリヤハウジング14の
軸孔144,145との間の間隙というガスの存在領域
に対する不活性ガスの供給口となる。各固定絞り器36
A,36B,36C,36D,37,38のオリフィス
451よりも上流のガス移送経路は、不活性ガスの存在
しない領域である。従って、各固定絞り器36A,36
B,36C,36D,37,38のオリフィス451よ
りも上流となるガス移送経路の一部である導入管61内
は、ガス移送量の検出精度を高める上で、圧力検出器6
2の検出対象領域として適正である。
(1-3) Fixed throttle 36A, 36B, 36
The orifices 451 of C and 36D correspond to the chamber forming walls 16A and 1A.
The passage 163 in 6B, 16C, 16 serves as a supply port for the inert gas to the gas existing region. The orifice 451 of the fixed restrictor 37 serves as a supply port of the inert gas to the passage 131 that communicates with a gas existence region, which is a gap between the peripheral surfaces of the rotary shafts 19 and 20 and the shaft holes 134 and 135 of the front housing 13. . Orifice 45 of fixed restrictor 38
Reference numeral 1 serves as an inert gas supply port to a gas existing region, which is a gap between the peripheral surfaces of the rotary shafts 19 and 20 and the shaft holes 144 and 145 of the rear housing 14. Each fixed aperture 36
The gas transfer paths upstream of the orifices 451 of the A, 36B, 36C, 36D, 37, and 38 are regions where no inert gas exists. Therefore, each fixed throttle 36A, 36
The inside of the introduction pipe 61, which is a part of the gas transfer path upstream of the orifices 451 of the B, 36C, 36D, 37, and 38, is used to improve the detection accuracy of the gas transfer amount.
2 is appropriate as the detection target area.

【0038】(1-4)各室形成壁16A,16B,16
C,16D内の通路163内の圧力、通路132,13
3内の圧力、及び通路142,143内の圧力は、それ
ぞれ異なる。従って、各室形成壁16A,16B,16
C,16D内の通路163内のガスの濃度、通路13
2,133内のガスの濃度、通路142,143内のガ
スの濃度は、それぞれ異なる。従って、各室形成壁16
A,16B,16C,16D内の通路163、通路13
2,133、通路142,143というガスの存在領域
に対する不活性ガスの単位時間当たりの適正な供給流量
もそれぞれ異なる。固定絞り器36A,36B,36
C,36D,37,38は、前記したガスの存在領域に
おける所望の希釈度を得るべく、前記存在領域に対する
不活性ガスの単位時間当たりの適正な供給流量をもたら
すように選択してある。即ち、固定絞り器36A,36
B,36C,36D,37,38におけるオリフィス4
51の径D(図2に図示)は、分岐管54〜59及び基
管60という供給経路内の圧力、前記存在領域内の圧力
等を考慮して前記適正な供給流量をもたらすように設定
されている。
(1-4) Each chamber forming wall 16A, 16B, 16
Pressure in the passage 163 in C, 16D, passages 132, 13
3 and the pressures in the passages 142 and 143 are different. Therefore, each chamber forming wall 16A, 16B, 16
Concentration of gas in passage 163 in C, 16D, passage 13
The concentration of the gas in 2, 133 and the concentration of the gas in the passages 142, 143 are different from each other. Therefore, each chamber forming wall 16
Passages 163 and 13 in A, 16B, 16C and 16D
The proper supply flow rates of the inert gas per unit time with respect to the gas existing regions of the gas channels 2, 133 and the passages 142, 143 are also different. Fixed throttle 36A, 36B, 36
C, 36D, 37, and 38 are selected so as to provide a proper supply flow rate of the inert gas per unit time to the above-mentioned existence region so as to obtain a desired dilution degree in the above-mentioned existence region. That is, the fixed restrictors 36A, 36
Orifice 4 at B, 36C, 36D, 37, 38
The diameter D of 51 (shown in FIG. 2) is set so as to provide the appropriate supply flow rate in consideration of the pressure in the supply paths of the branch pipes 54 to 59 and the base pipe 60, the pressure in the existing region, and the like. ing.

【0039】このような固定絞り器36A〜36D,3
7,38を用いた本実施の形態では、流量調整弁67
は、基管60と複数の分岐管54〜59との接続部54
1〜591よりも上流における基管60にて不活性ガス
の供給流量の調整を行なう。即ち、接続部541〜59
1よりも上流における基管60での不活性ガスの供給流
量の調整は、各固定絞り器36A〜36D,37,38
のオリフィス451よりも下流のガス移送経路内のガス
の希釈度の調整を可能にする。従って、基管60と複数
の分岐管54〜59との接続部541〜591よりも上
流の不活性ガスの供給経路は、単一の流量調整弁67の
設置箇所として最適である。
Such fixed aperture devices 36A to 36D, 3
In the present embodiment using 7, 38, the flow rate adjusting valve 67
Is a connecting portion 54 between the base pipe 60 and the plurality of branch pipes 54 to 59.
The supply flow rate of the inert gas is adjusted in the base pipe 60 upstream of 1 to 591. That is, the connection parts 541 to 59
Adjustment of the supply flow rate of the inert gas in the base pipe 60 upstream of 1 is performed by each fixed throttle device 36A to 36D, 37, 38.
It is possible to adjust the degree of dilution of the gas in the gas transfer path downstream of the orifice 451. Therefore, the supply path of the inert gas upstream of the connecting portions 541 to 591 of the base pipe 60 and the plurality of branch pipes 54 to 59 is optimal as the installation location of the single flow rate adjusting valve 67.

【0040】(1-5)各固定絞り器36A,36B,3
6C,36D,37,38における所定のガス供給流量
をもたらすオリフィス451の径Dの設定は、ガス供給
圧、前記存在領域の圧力がわかっていれば容易に計算で
きる。従って、所定のガス供給流量をもたらす固定絞り
器36A,36B,36C,36D,37,38の製造
は容易であり、前記存在領域に必要なガス供給流量をも
たらす固定絞り器の選択は簡単である。
(1-5) Fixed aperture devices 36A, 36B, 3
The setting of the diameter D of the orifice 451 that provides a predetermined gas supply flow rate in 6C, 36D, 37, and 38 can be easily calculated if the gas supply pressure and the pressure in the existing region are known. Therefore, the fixed restrictors 36A, 36B, 36C, 36D, 37, 38 that provide a predetermined gas supply flow rate are easy to manufacture, and the selection of the fixed restrictor that provides the gas supply flow rate required for the existing region is simple. .

【0041】(1-6)多段ルーツポンプ11は、不活性
ガスの必要供給流量の異なる複数の前記存在領域(即
ち、各室形成壁16A,16B,16C,16D内の通
路163、環状の通路132,133,142,14
3)を有する。このような多段ルーツポンプ11は、複
数の供給経路となる分岐管54〜59を接続したそれぞ
れの存在領域に応じた適正なガス供給流量をもたらす固
定絞り器36A,36B,36C,36D,37,38
を選択して分岐管54〜59上に介在するという本実施
の形態の発明の適用対象として好適である。
(1-6) The multi-stage roots pump 11 includes a plurality of existing regions (that is, the passages 163 in the chamber forming walls 16A, 16B, 16C, 16D, and the annular passages) having different required supply flow rates of the inert gas. 132, 133, 142, 14
3). Such a multi-stage roots pump 11 has fixed restrictors 36A, 36B, 36C, 36D, 37, which provide appropriate gas supply flow rates according to respective existing regions where branch pipes 54 to 59, which are a plurality of supply paths, are connected. 38
Is suitable as an application target of the invention of the present embodiment in which the intervening pipes are selected and placed on the branch pipes 54 to 59.

【0042】次に、図6の第2の実施の形態を説明す
る。第1の実施の形態と同じ構成部には同じ符号が用い
てある。インバータ65には流量制御装置68Aが信号
接続されている。流量制御装置68Aは、インバータ6
5から電動モータMに出力される電流の値を検出する。
流量制御装置68Aは、検出した電流値に基づいて流量
調整弁67の弁開度、即ちガス供給流量調整状態を制御
する。検出した電流値は、電動モータMに対する真空ポ
ンプの負荷トルクを反映しており、この負荷トルクは、
ガス移送量を反映している。ガス移送量が増えると検出
電流値が増大し、ガス移送量が減ると検出電流値が減少
する。
Next, a second embodiment shown in FIG. 6 will be described. The same symbols are used for the same components as those in the first embodiment. A flow rate control device 68A is signal-connected to the inverter 65. The flow rate control device 68A is the inverter 6
The value of the current output from 5 to the electric motor M is detected.
The flow rate control device 68A controls the valve opening degree of the flow rate adjusting valve 67, that is, the gas supply flow rate adjusting state based on the detected current value. The detected current value reflects the load torque of the vacuum pump on the electric motor M, and this load torque is
It reflects the amount of gas transferred. The detected current value increases as the gas transfer amount increases, and the detected current value decreases as the gas transfer amount decreases.

【0043】本実施の形態では、流量制御装置68A
は、ガスの希釈度が所望の希釈度になるように流量調整
弁67の弁開度を制御する。検出した電流値が増大する
と、流量制御装置68Aは、流量調整弁67の弁開度を
増大する指令を出す。流量調整弁67は、流量制御装置
68Aからの弁開度増大指令に基づいて弁開度を増大
し、基管60を流れる不活性ガスの供給流量が増える。
検出した電流値が減少すると、流量制御装置68Aは、
流量調整弁67の弁開度を減少する指令を出す。流量調
整弁67は、流量制御装置68Aからの弁開度減少指令
に基づいて弁開度を減少し、基管60を流れる不活性ガ
スの供給流量が減る。
In this embodiment, the flow rate control device 68A is used.
Controls the valve opening degree of the flow rate adjusting valve 67 so that the dilution degree of the gas becomes a desired dilution degree. When the detected current value increases, the flow rate control device 68A issues a command to increase the valve opening degree of the flow rate adjusting valve 67. The flow rate adjusting valve 67 increases the valve opening degree based on the valve opening degree increasing command from the flow rate control device 68A, and the supply flow rate of the inert gas flowing through the base pipe 60 increases.
When the detected current value decreases, the flow control device 68A
It issues a command to decrease the valve opening of the flow rate adjusting valve 67. The flow rate adjusting valve 67 reduces the valve opening degree based on the valve opening degree reduction command from the flow rate control device 68A, and the supply flow rate of the inert gas flowing through the base pipe 60 decreases.

【0044】第2の実施の形態では、第1の実施の形態
における(1-1)項、(1-3)項及び(1-4)項と同じ
効果が得られる。又、圧力検出器が不要となり、コスト
抑制の効果が得られる。
In the second embodiment, the same effects as the items (1-1), (1-3) and (1-4) in the first embodiment can be obtained. Further, the pressure detector is not necessary, and the effect of cost reduction can be obtained.

【0045】本発明では以下のような実施の形態も可能
である。 (1)導入管61内のガス移送量を流量検出器によって
直接検出すること。 (2)室形成壁16A〜16D内の通路163内を圧力
検出器62の検出対象領域とすること。
The following embodiments are possible in the present invention. (1) The flow rate detector directly detects the gas transfer amount in the introduction pipe 61. (2) The inside of the passage 163 in the chamber forming walls 16A to 16D is set as the detection target area of the pressure detector 62.

【0046】(3)感圧機構を備えた機械式の流量制御
弁をガス供給流量調整手段として用いること。この感圧
機構は、例えば導入管61内を検出対象領域とし、流量
制御弁の弁開度は、感圧機構の感圧具合に応じて機械的
に調整される。
(3) Use of a mechanical flow rate control valve equipped with a pressure sensitive mechanism as a gas supply flow rate adjusting means. This pressure-sensitive mechanism has, for example, the inside of the introduction pipe 61 as a detection target region, and the valve opening degree of the flow control valve is mechanically adjusted according to the pressure-sensitive state of the pressure-sensitive mechanism.

【0047】(4)第1の実施の形態において、固定絞
り器36A〜36D,37,38におけるオリフィス4
51の径を同一とし、各分岐管54〜59に流量調整弁
67をそれぞれ設けること。
(4) In the first embodiment, the orifice 4 in the fixed restrictors 36A to 36D, 37 and 38.
The diameters of 51 are the same, and the flow rate adjusting valves 67 are provided in the respective branch pipes 54 to 59.

【0048】(5)ルーツポンプ以外の真空ポンプに本
発明を適用すること。前記した実施の形態から把握でき
る請求項記載以外の発明について以下に記載する。
(5) Applying the present invention to a vacuum pump other than the roots pump. Inventions other than those described in the claims that can be grasped from the above-described embodiment will be described below.

【0049】〔1〕請求項1乃至請求項4のいずれか1
項において、逆流防止機能を備えた固定絞り器を前記不
活性ガスの供給経路上に介在した真空ポンプにおけるガ
ス供給装置。
[1] Any one of claims 1 to 4
Item 3. A gas supply device in a vacuum pump, wherein a fixed restrictor having a backflow prevention function is provided on the inert gas supply path.

【0050】〔2〕前記〔1〕項において、前記供給経
路は複数あり、複数の前記供給経路を接続したそれぞれ
の前記存在領域に応じた単位時間当たりの適正なガス供
給流量をもたらす固定絞り器が選択されて前記複数の供
給経路上に介在されている真空ポンプにおけるガス供給
装置。
[2] In the above item [1], there are a plurality of the supply paths, and a fixed restrictor for providing an appropriate gas supply flow rate per unit time according to each existing region connecting the plurality of the supply paths. And a gas supply device in a vacuum pump that is selected and interposed on the plurality of supply paths.

【0051】この場合、第1及び第2の実施の形態にお
ける複数の分岐管54〜59が複数の供給経路となる。 〔3〕請求項1乃至請求項4、前記〔1〕項、及び前記
〔2〕項のいずれか1項において、前記真空ポンプは、
複数の回転軸を平行に配置すると共に、前記各回転軸上
にロータを配列し、隣合う回転軸上のロータを互いに噛
み合わせ、互いに噛み合った状態の複数のロータを1組
として収容するポンプ室を前記回転軸の軸線方向へ複数
配列するようにハウジング内に形成した多段ルーツポン
プである真空ポンプにおけるガス供給装置。
In this case, the plurality of branch pipes 54 to 59 in the first and second embodiments serve as a plurality of supply paths. [3] In any one of [1] to [4], [1], and [2], the vacuum pump is
A pump chamber in which a plurality of rotating shafts are arranged in parallel, rotors are arranged on the respective rotating shafts, rotors on adjacent rotating shafts are meshed with each other, and a plurality of rotors in a meshed state are accommodated as one set. A gas supply device for a vacuum pump, which is a multi-stage roots pump formed in a housing so as to be arranged in the axial direction of the rotary shaft.

【0052】[0052]

【発明の効果】以上詳述したように本発明では、移送量
検出手段によって検出されたガス移送量に応じてガス供
給流量調整手段におけるガス供給流量調整状態を制御す
るようにしたので、不活性ガスの供給による安定した希
釈効果を確保し得るという優れた効果を奏する。
As described above in detail, in the present invention, the gas supply flow rate adjusting state in the gas supply flow rate adjusting means is controlled according to the gas transfer rate detected by the transfer rate detecting means, so that it is inactive. The excellent effect that a stable dilution effect due to gas supply can be ensured is exhibited.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】第1の実施の形態を示す平断面図。FIG. 1 is a plan sectional view showing a first embodiment.

【図2】固定絞り器の断面図。FIG. 2 is a sectional view of a fixed aperture device.

【図3】図1のA−A線断面図。3 is a cross-sectional view taken along the line AA of FIG.

【図4】図1のB−B線断面図。FIG. 4 is a sectional view taken along line BB of FIG.

【図5】図1のC−C線断面図。5 is a sectional view taken along line CC of FIG.

【図6】第2の実施の形態を示す平断面図。FIG. 6 is a plan sectional view showing a second embodiment.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11…多段ルーツポンプ。132,133,142,1
43,163…存在領域となる通路。19,20…回転
軸。23〜32…ガス移送体となるロータ。39〜43
…ポンプ室。451…供給口となるオリフィス。54,
55,56,57,58,59…分岐管。541,55
1,561,571,581,591…接続部。60…
基管。62…移送量検出手段としての圧力検出器。67
…ガス供給流量調整手段としての流量調整弁。68,6
8A…制御手段としての流量制御装置。
11 ... Multi-stage roots pump. 132, 133, 142, 1
43, 163 ... A passage that becomes an existing area. 19, 20 ... Rotating axis. 23-32 ... A rotor serving as a gas transfer body. 39-43
…pump room. 451 ... An orifice serving as a supply port. 54,
55, 56, 57, 58, 59 ... Branch pipes. 541,55
1,561,571,581,591 ... Connection part. 60 ...
Base tube. 62 ... A pressure detector as a transfer amount detecting means. 67
... A flow rate adjusting valve as a gas supply flow rate adjusting means. 68,6
8A ... A flow rate control device as a control means.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 石榑 宏行 愛知県刈谷市豊田町2丁目1番地 株式会 社豊田自動織機内 Fターム(参考) 3H029 AA06 AA09 AA18 AB06 BB42 BB51 CC02 CC09 CC24 CC26 CC54 CC55 CC83 3H045 AA05 AA09 AA15 AA25 AA38 BA19 CA03 DA12 EA13 EA14 EA26 EA34 EA45 3H076 AA16 AA21 AA38 BB21 BB33 CC07 CC41 CC84 CC94 CC97   ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    (72) Inventor Hiroyuki Ishigure             2-1, Toyota-cho, Kariya City, Aichi Stock Association             Inside Toyota Toyota Industries F-term (reference) 3H029 AA06 AA09 AA18 AB06 BB42                       BB51 CC02 CC09 CC24 CC26                       CC54 CC55 CC83                 3H045 AA05 AA09 AA15 AA25 AA38                       BA19 CA03 DA12 EA13 EA14                       EA26 EA34 EA45                 3H076 AA16 AA21 AA38 BB21 BB33                       CC07 CC41 CC84 CC94 CC97

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】回転軸の回転に基づいてポンプ室内のガス
移送体を動かし、前記ガス移送体の動作によってガスを
移送して吸引作用をもたらし、前記ガスの存在領域に不
活性ガスを供給するガス供給装置を備えた真空ポンプに
おいて、 前記不活性ガスの供給流量を調整するガス供給流量調整
手段と、 前記ガスの移送量を検出する移送量検出手段と、 前記移送量検出手段によって検出された移送量に応じて
前記ガス供給流量調整手段におけるガス供給流量調整状
態を制御する制御手段とを備えた真空ポンプにおけるガ
ス供給装置。
1. A gas transfer body in a pump chamber is moved based on the rotation of a rotating shaft, the gas is transferred by the operation of the gas transfer body to bring about a suction action, and an inert gas is supplied to a region where the gas exists. In a vacuum pump provided with a gas supply device, a gas supply flow rate adjusting means for adjusting a supply flow rate of the inert gas, a transfer amount detecting means for detecting a transfer amount of the gas, and a transfer amount detecting means. A gas supply device in a vacuum pump, comprising: a control unit that controls a gas supply flow rate adjustment state in the gas supply flow rate adjustment unit according to a transfer amount.
【請求項2】前記移送量検出手段は、前記ガスの存在領
域における圧力を検出する圧力検出手段である請求項1
に記載の真空ポンプにおけるガス供給装置。
2. The transfer amount detecting means is pressure detecting means for detecting the pressure in the region where the gas exists.
A gas supply device in the vacuum pump according to.
【請求項3】前記圧力検出手段の検出対象領域は、前記
ガスの存在領域において前記不活性ガスの供給口よりも
上流である請求項2に記載の真空ポンプにおけるガス供
給装置。
3. The gas supply device for a vacuum pump according to claim 2, wherein the detection target area of the pressure detection means is located upstream of the inert gas supply port in the gas existing area.
【請求項4】前記不活性ガスの供給経路は、基管と複数
の分岐管とからなり、単一の前記ガス供給流量調整手段
は、前記基管と複数の分岐管との接続部よりも上流にお
ける前記基管に配設されている請求項1乃至請求項3の
いずれか1項に記載の真空ポンプにおけるガス供給装
置。
4. The supply path for the inert gas comprises a base pipe and a plurality of branch pipes, and the single gas supply flow rate adjusting means is more than a connecting portion between the base pipe and the plurality of branch pipes. The gas supply device in the vacuum pump according to any one of claims 1 to 3, which is disposed in the base pipe upstream.
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