JP2009203415A - Glass paste, production method therefor, and manufacturing method for display member using the same - Google Patents

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Masahiro Matsumoto
正廣 松本
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a glass paste of high performance restraining a rising-up width and height of the edge part of a coating film, in application onto a substrate, and hardly causing a film defect such as disconnection. <P>SOLUTION: This glass past contains glass powder, a binder resin, and an organic solvent, a content of the glass powder is 30-80 wt.%, and the glass paste contains 5-20 pts.wt. of urea urethane compound per 100 pts.wt. of binder resin. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、ガラスペーストおよびその製造方法、ならびにそれを用いたディスプレイ用部材の製造方法に関する。   The present invention relates to a glass paste and a method for producing the same, and a method for producing a display member using the same.

近年、直流(DC)型および交流(AC)型プラズマディスプレイ、液晶ディスプレイ、電界放出ディスプレイ等の大型フラットパネルディスプレイの開発が進み、一部のディスプレイはすでに上市され、大きな市場を形成しつつある。大型フラットパネルディスプレイには画素の仕切り等の諸機能を持った構造体が形成されている。例えばAC型プラズマディスプレイは、前面板と背面板との間に備えられた放電空間内で対向するアノードおよびカソード電極間にプラズマ放電を生じさせ、放電空間内に封入されているXe−Ne混合ガスなどの放電ガスから発生した147nm、172nmといった非常に波長が短い紫外線を、放電空間内に設けた蛍光体に照射することにより表示を行うものである。その構造体は、放電の広がりを一定領域に抑え、表示を規定のセル内で行わせると同時に、かつ均一な放電空間を確保するために、主に背面板上に設けられ、隔壁(障壁、リブともいう)と呼ばれている。隔壁の形状は、一般にはおよそ幅20〜120μm、高さ50〜150μmのストライプ状や格子状のものなどがあるが、高性能化のために格子状のものが主力になりつつある。隔壁は一般に有機バインダーを主成分とする有機物とガラスを主成分とする無機物の混合物からなるペーストをガラス基板状に塗布し、サンドブラスト法やフォトリソグラフィー法等によりパターン加工した後、焼成することによって形成する方法が知られている。   In recent years, large flat panel displays such as direct current (DC) and alternating current (AC) plasma displays, liquid crystal displays, and field emission displays have been developed, and some displays are already on the market and are forming a large market. A large flat panel display is formed with a structure having various functions such as pixel partitioning. For example, an AC type plasma display generates a plasma discharge between an anode and a cathode electrode facing each other in a discharge space provided between a front plate and a back plate, and a Xe-Ne mixed gas sealed in the discharge space. The display is performed by irradiating a phosphor provided in the discharge space with ultraviolet rays having a very short wavelength such as 147 nm and 172 nm generated from a discharge gas such as the above. The structure is provided mainly on the back plate in order to suppress the spread of the discharge to a certain area and perform display in a prescribed cell, and at the same time to ensure a uniform discharge space. Called ribs). The shape of the partition wall is generally a stripe shape or a lattice shape having a width of about 20 to 120 μm and a height of 50 to 150 μm, but the lattice shape is becoming the main force for high performance. The partition wall is generally formed by applying a paste made of a mixture of an organic material mainly composed of an organic binder and an inorganic material mainly composed of glass onto a glass substrate, patterning the material by a sandblasting method, a photolithography method, or the like, followed by firing. How to do is known.

これらの隔壁形成に用いられるガラスペーストを基板全面に1回で塗布する方法として、ドクターブレード法あるいはスリットダイコート法などが用いられている。しかし、これらの方法を用いて塗布すると、塗布膜のエッジ部がおよそ1〜2cmの幅に渡って盛り上がり、均一な膜厚の塗布層を形成することができないという問題があった。   As a method for applying the glass paste used for forming these partition walls to the entire surface of the substrate at once, a doctor blade method, a slit die coating method, or the like is used. However, when applied using these methods, there is a problem that the edge portion of the coating film rises over a width of about 1 to 2 cm, and a coating layer having a uniform film thickness cannot be formed.

この問題を解決するために、ガラスペーストにチキソトロピー付与剤(揺変剤)を添加する方法が提案されており、これには脂肪族アミド化合物が良いとされている(例えば、特許文献1参照)。ただ、この脂肪族アミド化合物を用いてチキソトロピー性を発現させるためには、予め、溶剤中で膨潤させてペースト状やワックス状などにしたものをガラスペースト中に混ぜ込む必要がある。   In order to solve this problem, a method of adding a thixotropy imparting agent (thixotropic agent) to glass paste has been proposed. For this, an aliphatic amide compound is considered good (see, for example, Patent Document 1). . However, in order to develop thixotropy using this aliphatic amide compound, it is necessary to mix in a glass paste a paste or wax that has been swollen in a solvent in advance.

また、導電性ペーストのスクリーン印刷塗布性を向上させる目的で同様にチキソトロピー付与剤を含有する方法が提案されており、焼成工程における除去が容易とする観点から、脂肪酸アマイド、水添ヒマシ油系などのワックスが良いとされている(例えば、特許文献2、3参照)。   In addition, a method containing a thixotropy imparting agent has been proposed for the purpose of improving the screen printing applicability of the conductive paste. From the viewpoint of easy removal in the firing step, fatty acid amide, hydrogenated castor oil, etc. (See, for example, Patent Documents 2 and 3).

しかし、ペースト状やワックス状のチキソトロピー付与剤をガラスペーストに混合する場合、混練が不十分であるとチキソトロピー付与剤の未分散物(20〜100μm)が残り、濾過で除去がしにくいゲル状物として塗布膜へ混入して焼成後に断線などの欠陥となる問題があった。また混練しすぎると、チキソトロピー性が低下し、塗布性や塗布膜形状が不良となる問題があった。
特許第3832177号公報 特開2002−20570号公報 特開2003−151351号公報
However, when a paste-like or wax-like thixotropy-imparting agent is mixed into a glass paste, if the kneading is insufficient, an undispersed product (20-100 μm) of the thixotropy-imparting agent remains and is difficult to remove by filtration. As a result, there is a problem that it becomes a defect such as disconnection after being baked into the coating film. Moreover, when kneading | mixing too much, thixotropy property fell and there existed a problem that applicability | paintability and a coating-film shape became defective.
Japanese Patent No. 3832177 JP 2002-20570 A JP 2003-151351 A

本発明は、基板への塗布において、塗膜のエッジ部の盛り上がり幅および高さを抑え、かつ断線などの膜欠陥を生じにくいディスプレイを実現できる高性能なガラスペーストを提供することを課題とする。   It is an object of the present invention to provide a high-performance glass paste that can realize a display that suppresses the rising width and height of the edge portion of a coating film and that does not easily cause film defects such as disconnection in application to a substrate. .

すなわち、本発明は、ガラス粉末、バインダー樹脂、および有機溶剤を含み、該ガラス粉末の含有量が30〜80重量%であるガラスペーストであって、ウレアウレタン化合物を該バインダー樹脂100重量部に対して5〜20重量部含有することを特徴とするガラスペーストである。   That is, the present invention is a glass paste containing glass powder, a binder resin, and an organic solvent, wherein the glass powder content is 30 to 80% by weight, and the urea urethane compound is added to 100 parts by weight of the binder resin. 5 to 20 parts by weight of glass paste.

また、本発明は、ウレアウレタン化合物を有機溶剤に溶解した粘度5,000mPa・s以下の溶液とし、バインダー樹脂100重量部に対して該溶液20〜80重量部を混合することを特徴とする上述のガラスペーストの製造方法である。   Further, the present invention is a solution having a viscosity of 5,000 mPa · s or less in which a urea urethane compound is dissolved in an organic solvent, and 20 to 80 parts by weight of the solution is mixed with 100 parts by weight of the binder resin. It is a manufacturing method of this glass paste.

さらに、本発明は、基板上に上述のガラスペーストを塗布して乾燥する工程を含むことを特徴とするディスプレイパネル用部材の製造方法である。   Furthermore, this invention is a manufacturing method of the member for display panels characterized by including the process of apply | coating and drying the above-mentioned glass paste on a board | substrate.

本発明により、基板への塗布において、塗膜のエッジ部の盛り上がり幅および高さを抑え、かつ断線などの膜欠陥を生じにくいディスプレイを実現できる高性能なガラスペーストを提供することができる。   According to the present invention, it is possible to provide a high-performance glass paste that can realize a display that suppresses the rising width and height of an edge portion of a coating film and hardly causes film defects such as disconnection in application to a substrate.

本発明のガラスペーストは、ガラス粉末、バインダー樹脂、有機溶剤およびウレアウレタン化合物を必須とする。   The glass paste of the present invention essentially comprises glass powder, a binder resin, an organic solvent, and a urea urethane compound.

ガラスペーストにおけるガラス粉末の含有量は、焼成時の収縮率が小さく、焼成による形状変化が小さいことから30〜80重量%の必要がある。好ましくは、40〜60重量%である。   The glass powder content in the glass paste needs to be 30 to 80% by weight because the shrinkage rate during firing is small and the shape change due to firing is small. Preferably, it is 40 to 60% by weight.

ガラス粉末は、50〜400℃の熱膨張係数が50×10−7〜100×10−7−1であることが好ましい。また、ガラス粉末中の酸化珪素を3〜60重量%、酸化硼素を5〜50重量%の範囲で配合することによって、電気絶縁性、強度、熱膨張係数、絶縁層の緻密性などの隔壁として要求される電気、機械および熱的特性を向上することができる。本発明におけるガラス粉末としては、主に低融点ガラス粉末からなることが好ましい。低融点ガラス粉末のガラス転移温度が430〜500℃、ガラス軟化点は470〜620℃であることが好ましい。ガラス転移温度とガラス軟化点がこの範囲にあると、焼成時に基板の歪みが小さく、また、緻密な隔壁層が得られる。低融点ガラス粉末の体積平均粒子径は、作製しようとする隔壁の線幅や高さを考慮して選ばれるが、1.0μmより大きく5.0μm未満であることが好ましく、1.5μmより大きく4.0μm未満であることがより好ましい。体積平均粒子径が1.0μm以下であるとペースト内で低融点ガラス粉末同士が凝集しやすく、均一な隔壁形状を妨げる傾向がある。5.0μm以上だとパターン形成時に良好な形状の隔壁が得られない、また、隔壁に断線や欠けを発生させやすいという問題を生じる。 The glass powder preferably has a thermal expansion coefficient of 50 × 10 −7 to 100 × 10 −7 ° C. −1 at 50 to 400 ° C. Moreover, by blending silicon oxide in glass powder in the range of 3 to 60% by weight and boron oxide in the range of 5 to 50% by weight, partition walls such as electrical insulation, strength, thermal expansion coefficient, and denseness of the insulating layer can be obtained. The required electrical, mechanical and thermal properties can be improved. The glass powder in the present invention is preferably mainly composed of a low-melting glass powder. The glass transition temperature of the low-melting glass powder is preferably 430 to 500 ° C, and the glass softening point is preferably 470 to 620 ° C. When the glass transition temperature and the glass softening point are in this range, the distortion of the substrate is small during firing, and a dense partition layer is obtained. The volume average particle diameter of the low melting point glass powder is selected in consideration of the line width and height of the partition wall to be produced, but is preferably larger than 1.0 μm and smaller than 5.0 μm, and larger than 1.5 μm. More preferably, it is less than 4.0 μm. When the volume average particle size is 1.0 μm or less, the low melting point glass powders tend to aggregate in the paste and tend to hinder a uniform partition wall shape. When the thickness is 5.0 μm or more, there is a problem that a partition having a good shape cannot be obtained at the time of pattern formation, and disconnection or chipping is easily generated in the partition.

ここで、体積平均粒子径とは、レーザー回折散乱式の粒度分布計を用いて測定した粉末の体積平均径を示すものである。   Here, the volume average particle diameter refers to the volume average diameter of the powder measured using a laser diffraction / scattering particle size distribution meter.

また、低融点ガラス粉末の最大粒子サイズは、30μm以下であることが好ましく、
15μm以下であることがより好ましい。最大粒子サイズが30μmをこえると隔壁パターン形成時に断線や欠けを発生させやすく、また、巨大粒子が異常突起として残り、パネル作製時に前面板と接触して断線や前面板不良を発生させ易い傾向がある。低融点ガラス粉末の比表面積は、1.0〜4.0cm/gであることが好ましく、1.5〜3cm/gであることがより好ましい。低融点ガラス粉末の比表面積がこの範囲を満たすことにより、ペースト内で低融点ガラス粉末同士が凝集することを抑制でき、ペースト中のガラス粉末を均一に分散することができる。このことにより、精度良い隔壁形成が可能となる。
The maximum particle size of the low melting glass powder is preferably 30 μm or less,
More preferably, it is 15 μm or less. If the maximum particle size exceeds 30 μm, disconnection or chipping is likely to occur during the formation of the barrier rib pattern, and huge particles remain as abnormal protrusions, which tends to cause disconnection or front plate failure due to contact with the front plate during panel production. is there. The specific surface area of the low melting point glass powder is preferably 1.0~4.0cm 2 / g, more preferably 1.5~3cm 2 / g. When the specific surface area of the low-melting glass powder satisfies this range, the low-melting glass powder can be prevented from aggregating in the paste, and the glass powder in the paste can be uniformly dispersed. This makes it possible to form partition walls with high accuracy.

一方、ガラスペースト中にフィラーを含有することも好ましい。本発明においてフィラーとは620℃以下に軟化温度や融点、分解温度を有さない無機粒子を指す。フィラーとしては特に限定されるものではないが、焼成安定性や着色性の点から、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、コーディエライト、セルシアン、アノーサイト、ステアタイト、スポジューメン、フォルステライト、および高融点ガラス粉末からなる群より選ばれた1種以上のフィラーを含むことが好ましく、高融点ガラス粉末を含むことがより好ましい。   On the other hand, it is also preferable to contain a filler in the glass paste. In the present invention, the filler refers to inorganic particles having no softening temperature, melting point, or decomposition temperature at 620 ° C. or lower. The filler is not particularly limited, but from the viewpoint of firing stability and colorability, silicon oxide, aluminum oxide, titanium oxide, zirconium oxide, magnesium oxide, zinc oxide, cordierite, celsian, anorthite, steer It is preferable to include one or more fillers selected from the group consisting of tight, spodumene, forsterite, and high-melting glass powder, and more preferably high-melting glass powder.

ここで、高融点ガラス粉末とは、軟化温度が620℃より高いガラス粉末をさすが、高融点ガラスの軟化温度は1200℃以下が好ましく、さらには1000℃以下であることが好ましい。   Here, the high melting point glass powder refers to a glass powder having a softening temperature higher than 620 ° C., and the softening temperature of the high melting point glass is preferably 1200 ° C. or less, more preferably 1000 ° C. or less.

本発明のガラスペーストに用いられるバインダー樹脂は、とくに限定されるものではないが、焼成時に酸化または/および分解または/および気化し、炭化物が隔壁中に残存しないことが好ましく、例えば、エチルセルロースに代表されるセルロース化合物、ポリイソブチルメタクリレートに代表されるアクリルポリマーなどを用いることができる。また、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール、メタクリル酸エステル重合体、アクリル酸エステル重合体、アクリル酸エステル−メタクリル酸エステル共重合体、α−メチルスチレン重合体、ブチルメタクリレート樹脂などの樹脂があげられる。   The binder resin used in the glass paste of the present invention is not particularly limited, but is preferably oxidized or / and decomposed or / and vaporized at the time of firing so that carbides do not remain in the partition walls. Cellulose compounds, acrylic polymers represented by polyisobutyl methacrylate, and the like can be used. Moreover, resins such as polyvinyl alcohol, polyvinyl butyral, methacrylic acid ester polymer, acrylic acid ester polymer, acrylic acid ester-methacrylic acid ester copolymer, α-methylstyrene polymer, and butyl methacrylate resin are exemplified.

本発明のガラスペーストにおけるバインダー樹脂の含有量は、5〜30重量%であることが好ましく、ガラス粉末とバインダー樹脂の含有比率は、重量比で10:1〜5:5であることが好ましい。   The content of the binder resin in the glass paste of the present invention is preferably 5 to 30% by weight, and the content ratio of the glass powder and the binder resin is preferably 10: 1 to 5: 5 by weight ratio.

また、高精度の隔壁形成を行う場合には、感光性ペースト法により隔壁形成する方法が好ましいが、この場合には、有機成分として、感光性モノマー、感光性オリゴマー、感光性ポリマーのうち少なくとも1種類から選ばれる感光性有機成分を含有する感光性ガラスペーストとし、さらに必要に応じて、光重合開始剤、紫外線吸収剤、増感剤、増感助剤、重合禁止剤、可塑剤、増粘剤、有機溶媒、酸化防止剤、分散剤、有機あるいは無機の沈殿防止剤などの添加剤成分を加えたものがあげられる。   In the case of forming a high-precision partition wall, a method of forming a partition wall by a photosensitive paste method is preferable. In this case, as the organic component, at least one of a photosensitive monomer, a photosensitive oligomer, and a photosensitive polymer is used. A photosensitive glass paste containing a photosensitive organic component selected from various types, and if necessary, a photopolymerization initiator, an ultraviolet absorber, a sensitizer, a sensitizer, a polymerization inhibitor, a plasticizer, a thickener And an additive component such as an organic solvent, an organic solvent, an antioxidant, a dispersant, and an organic or inorganic suspending agent.

感光性モノマーとは、炭素−炭素不飽和結合を含有する化合物で、その具体的な例としては、単官能および多官能の(メタ)アクリレート類、ビニル系化合物類、アリル系化合物類などを用いることができ、例えば、メチルアクリレート、エチルアクリレート、n−プロピルアクリレート、イソプロピルアクリレート、n−ブチルアクリレート、sec−ブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、tert−ブチルアクリレート、n−ペンチルアクリレート、アリルアクリレート、ベンジルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート、ブトキシトリエチレングリコールアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、ジシクロペンタニルアクリレート、ジシクロペンテニルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート、グリセロールアクリレート、グリシジルアクリレート、ヘプタデカフロロデシルアクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、イソボニルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、イソデシルアクリレート、イソオクチルアクリレート、ラウリルアクリレート、2−メトキシエチルアクリレート、メトキシエチレングリコールアクリレート、メトキシジエチレングリコールアクリレート、オクタフロロペンチルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、ステアリルアクリレート、トリフロロエチルアクリレート、アリル化シクロヘキシルジアクリレート、1,4−ブタンジオールジアクリレート、1,3−ブチレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、グリセロールジアクリレート、メトキシ化シクロヘキシルジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、トリグリセロールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、アクリルアミド、アミノエチルアクリレート、フェニルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、ベンジルアクリレート、1−ナフチルアクリレート、2−ナフチルアクリレート、ビスフェノールAジアクリレート、ビスフェノールA−エチレンオキサイド付加物のジアクリレート、ビスフェノールA−プロピレンオキサイド付加物のジアクリレート、チオフェノールアクリレート、ベンジルメルカプタンアクリレート等のアクリレート、また、これらの芳香環の水素原子のうち、1〜5個を塩素原子または臭素原子に置換したモノマー、もしくは、スチレン、p−メチルスチレン、o−メチルスチレン、m−メチルスチレン、塩素化スチレン、臭素化スチレン、α−メチルスチレン、塩素化α−メチルスチレン、臭素化α−メチルスチレン、クロロメチルスチレン、ヒドロキシメチルスチレン、カルボキシメチルスチレン、ビニルナフタレン、ビニルアントラセン、ビニルカルバゾール、および、上記化合物の分子内のアクリレートを一部もしくはすべてをメタクリレートに変えたもの、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、1−ビニル−2−ピロリドンなどがあげられる。本発明ではこれらを1種または2種以上使用することができる。   The photosensitive monomer is a compound containing a carbon-carbon unsaturated bond. Specific examples thereof include monofunctional and polyfunctional (meth) acrylates, vinyl compounds, allyl compounds, and the like. For example, methyl acrylate, ethyl acrylate, n-propyl acrylate, isopropyl acrylate, n-butyl acrylate, sec-butyl acrylate, isobutyl acrylate, tert-butyl acrylate, n-pentyl acrylate, allyl acrylate, benzyl acrylate, butoxy Ethyl acrylate, butoxytriethylene glycol acrylate, cyclohexyl acrylate, dicyclopentanyl acrylate, dicyclopentenyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, glycero Acrylate, glycidyl acrylate, heptadecafluorodecyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, isobornyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, isodecyl acrylate, isooctyl acrylate, lauryl acrylate, 2-methoxyethyl acrylate, methoxyethylene glycol acrylate, methoxy Diethylene glycol acrylate, octafluoropentyl acrylate, phenoxyethyl acrylate, stearyl acrylate, trifluoroethyl acrylate, allylated cyclohexyl diacrylate, 1,4-butanediol diacrylate, 1,3-butylene glycol diacrylate, ethylene glycol diacrylate, diethylene glycol Diacrylate, tri Tylene glycol diacrylate, polyethylene glycol diacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, dipentaerythritol monohydroxypentaacrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate, glycerol diacrylate, methoxylated cyclohexyl diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, propylene glycol diacrylate , Polypropylene glycol diacrylate, triglycerol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, acrylamide, aminoethyl acrylate, phenyl acrylate, phenoxyethyl acrylate, benzyl acrylate, 1-naphthyl acrylate, 2-naphthyl acrylate, bisphenol A diacrylate, Diacrylate of bisphenol A-ethylene oxide adduct, acrylate of bisphenol A-propylene oxide adduct, acrylate such as thiophenol acrylate, benzyl mercaptan acrylate, and 1-5 of these aromatic ring hydrogen atoms Monomer substituted with chlorine atom or bromine atom, or styrene, p-methylstyrene, o-methylstyrene, m-methylstyrene, chlorinated styrene, brominated styrene, α-methylstyrene, chlorinated α-methylstyrene, bromine Α-methylstyrene, chloromethylstyrene, hydroxymethylstyrene, carboxymethylstyrene, vinylnaphthalene, vinylanthracene, vinylcarbazole, and some or all of the acrylates in the molecule of the above compound Those changed to methacrylate, .gamma.-methacryloxypropyltrimethoxysilane, and 1-vinyl-2-pyrrolidone. In the present invention, one or more of these can be used.

これら以外に、不飽和カルボン酸等の不飽和酸を加えることによって、感光後の現像性を向上させることができる。不飽和カルボン酸の具体的な例としては、アクリル酸、メタアクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、ビニル酢酸、またはこれらの酸無水物などがあげられる。   In addition to these, the development property after exposure can be improved by adding an unsaturated acid such as an unsaturated carboxylic acid. Specific examples of the unsaturated carboxylic acid include acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, maleic acid, fumaric acid, vinyl acetic acid, and acid anhydrides thereof.

これら感光性モノマーの含有率は、無機粉末と感光性有機成分の和に対して、3〜20重量%が好ましい。   The content of these photosensitive monomers is preferably 3 to 20% by weight based on the sum of the inorganic powder and the photosensitive organic component.

また、感光性オリゴマー、感光性ポリマーとしては、前記炭素−炭素不飽和結合を含有する化合物のうちの少なくとも1種類を重合して得られるオリゴマーやポリマーを用いることができる。前記炭素−炭素不飽和結合を含有する化合物の含有率は、感光性オリゴマーまたは感光性ポリマー中、10重量%以上であることが好ましく、35重量%以上であることがより好ましい。さらに、感光性オリゴマー、感光性ポリマーに不飽和カルボン酸などの不飽和酸を共重合することによって、アルカリ水溶液などの水系現像液を用いる場合の感光後の現像性を向上することができるため好ましい。不飽和カルボン酸の具体的な例として、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、ビニル酢酸またはこれらの酸無水物などがあげられる。こうして得られた側鎖にカルボキシル基等の酸性基を有するオリゴマーまたはポリマーの酸価(AV)は30〜150であることが好ましく、70〜120であることがより好ましい。酸価が30未満であると、未露光部の現像液に対する溶解性が低下するため現像液濃度を濃くすると露光部まで剥がれが発生し、高精細なパターンが得られにくい傾向がある。また、酸価が150を超えると現像許容幅が狭くなる傾向がある。   Moreover, as a photosensitive oligomer and a photosensitive polymer, the oligomer and polymer obtained by superposing | polymerizing at least 1 type of the compound containing the said carbon-carbon unsaturated bond can be used. The content of the compound containing a carbon-carbon unsaturated bond is preferably 10% by weight or more, and more preferably 35% by weight or more in the photosensitive oligomer or the photosensitive polymer. Furthermore, it is preferable because the developability after exposure in the case of using an aqueous developer such as an alkaline aqueous solution can be improved by copolymerizing a photosensitive oligomer or photosensitive polymer with an unsaturated acid such as an unsaturated carboxylic acid. . Specific examples of the unsaturated carboxylic acid include acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, maleic acid, fumaric acid, vinyl acetic acid, and acid anhydrides thereof. The acid value (AV) of the oligomer or polymer having an acidic group such as a carboxyl group in the side chain thus obtained is preferably 30 to 150, more preferably 70 to 120. If the acid value is less than 30, the solubility of the unexposed area in the developing solution is lowered. Therefore, when the developing solution concentration is increased, the exposed area is peeled off, and a high-definition pattern tends to be difficult to obtain. Further, when the acid value exceeds 150, the development allowable width tends to be narrowed.

これらの感光性オリゴマー、感光性ポリマーに対して、光反応性基を側鎖または分子末端に付加させることによって、感光性を持つ感光性ポリマーや感光性オリゴマーとして用いることができる。好ましい光反応性基は、エチレン性不飽和基を有するものである。エチレン性不飽和基としては、ビニル基、アリル基、アクリル基、メタクリル基などがあげられる。   By adding a photoreactive group to the side chain or molecular end of these photosensitive oligomers and photosensitive polymers, they can be used as photosensitive polymers and photosensitive oligomers having photosensitivity. Preferred photoreactive groups are those having an ethylenically unsaturated group. Examples of the ethylenically unsaturated group include a vinyl group, an allyl group, an acrylic group, and a methacryl group.

このような側鎖をオリゴマーやポリマーに付加させる方法は、ポリマー中のメルカプト基、アミノ基、水酸基やカルボキシル基に対して、グリシジル基やイソシアネート基を有するエチレン性不飽和化合物やアクリル酸クロライド、メタクリル酸クロライドまたはアリルクロライドを付加反応させる方法がある。   Such a side chain can be added to an oligomer or polymer by using an ethylenically unsaturated compound having a glycidyl group or an isocyanate group relative to a mercapto group, amino group, hydroxyl group or carboxyl group in the polymer. There is a method of addition reaction of acid chloride or allyl chloride.

グリシジル基を有するエチレン性不飽和化合物としては、アクリル酸グリシジル、メタクリル酸グリシジル、アリルグリシジルエーテル、エチルアクリル酸グリシジル、クロトニルグリシジルエーテル、クロトン酸グリシジルエーテル、イソクロトン酸グリシジルエーテルなどがあげられる。   Examples of the ethylenically unsaturated compound having a glycidyl group include glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate, allyl glycidyl ether, glycidyl ethyl acrylate, crotonyl glycidyl ether, glycidyl crotonic acid, glycidyl ether of isocrotonic acid, and the like.

イソシアネート基を有するエチレン性不飽和化合物としては、(メタ)アクリロイルイソシアネート、(メタ)アクリロイルエチルイソシアネート等がある。   Examples of the ethylenically unsaturated compound having an isocyanate group include (meth) acryloyl isocyanate and (meth) acryloylethyl isocyanate.

また、グリシジル基やイソシアネート基を有するエチレン性不飽和化合物やアクリル酸クロライド、メタクリル酸クロライドまたはアリルクロライドは、ポリマー中のメルカプト基、アミノ基、水酸基やカルボキシル基に対して0.05〜1モル当量付加させることが好ましい。   In addition, the ethylenically unsaturated compound having a glycidyl group or an isocyanate group, acrylic acid chloride, methacrylic acid chloride or allyl chloride is 0.05 to 1 molar equivalent with respect to a mercapto group, amino group, hydroxyl group or carboxyl group in the polymer. It is preferable to add.

本発明のガラスペーストを感光性ガラスペーストとする場合、感光性ガラスペースト中の感光性オリゴマーおよび/または感光性ポリマーの含有量は、パターン形成性、焼成後の収縮率の点から、無機粉末と感光性有機成分の和に対して、5〜30重量%であることが好ましい。   When the glass paste of the present invention is used as a photosensitive glass paste, the content of the photosensitive oligomer and / or the photosensitive polymer in the photosensitive glass paste is determined from the inorganic powder and the pattern forming property and the shrinkage ratio after firing. It is preferable that it is 5 to 30 weight% with respect to the sum of the photosensitive organic component.

本発明のガラスペーストを感光性ガラスペーストとする場合には光重合開始剤を含有することが好ましく、その具体的な例としては、ベンゾフェノン、o−ベンゾイル安息香酸メチル、4,4’−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、4,4’−ジクロロベンゾフェノン、4−ベンゾイル−4−メチルジフェニルケトン、ジベンジルケトン、フルオレノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオフェノン、p−t−ブチルジクロロアセトフェノン、チオキサントン、2−メチルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、ベンジルジメチルケタノール、ベンジルメトキシエチルアセタール、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、アントラキノン、2−t−ブチルアントラキノン、2−アミルアントラキノン、β−クロルアントラキノン、アントロン、ベンズアントロン、ジベンゾスベロン、メチレンアントロン、4−アジドベンザルアセトフェノン、2,6−ビス(p−アジドベンジリデン)シクロヘキサノン、2,6−ビス(p−アジドベンジリデン)−4−メチルシクロヘキサノン、2−フェニル−1,2−ブタジオン−2−(o−メトキシカルボニル)オキシム、1−フェニル−プロパンジオン−2−(o−エトキシカルボニル)オキシム、1,3−ジフェニル−プロパントリオン−2−(o−エトキシカルボニル)オキシム、1−フェニル−3−エトキシ−プロパントリオン−2−(o−ベンゾイル)オキシム、ミヒラーケトン、2−メチル−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノ−1−プロパノン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)ブタノン−1、ナフタレンスルホニルクロライド、キノリンスルホニルクロライド、N−フェニルチオアクリドン、4,4’−アゾビスイソブチロニトリル、ジフェニルジスルフィド、ベンズチアゾールジスルフィド、トリフェニルホスフィン、カンファーキノン、四臭素化炭素、トリブロモフェニルスルホン、過酸化ベンゾインおよびエオシン、メチレンブルーなどの光還元性の色素とアスコルビン酸、トリエタノールアミンなどの還元剤などがあげられる。本発明ではこれらを1種または2種以上使用することができる。   When the glass paste of the present invention is a photosensitive glass paste, it preferably contains a photopolymerization initiator. Specific examples thereof include benzophenone, methyl o-benzoylbenzoate, 4,4′-bis ( Dimethylamino) benzophenone, 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone, 4,4′-dichlorobenzophenone, 4-benzoyl-4-methyldiphenylketone, dibenzylketone, fluorenone, 2,2-diethoxyacetophenone, 2, 2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2-hydroxy-2-methylpropiophenone, pt-butyldichloroacetophenone, thioxanthone, 2-methylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, diethylthioxanthone, benzy Dimethylketanol, benzylmethoxyethyl acetal, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin butyl ether, anthraquinone, 2-t-butylanthraquinone, 2-amylanthraquinone, β-chloroanthraquinone, anthrone, benzanthrone, dibenzosuberone, methyleneanthrone, 4 -Azidobenzalacetophenone, 2,6-bis (p-azidobenzylidene) cyclohexanone, 2,6-bis (p-azidobenzylidene) -4-methylcyclohexanone, 2-phenyl-1,2-butadion-2- (o -Methoxycarbonyl) oxime, 1-phenyl-propanedione-2- (o-ethoxycarbonyl) oxime, 1,3-diphenyl-propanetrione-2- (o-ethoxycarbonyl) oxime, -Phenyl-3-ethoxy-propanetrione-2- (o-benzoyl) oxime, Michler ketone, 2-methyl- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholino-1-propanone, 2-benzyl-2-dimethylamino -1- (4-morpholinophenyl) butanone-1, naphthalenesulfonyl chloride, quinolinesulfonyl chloride, N-phenylthioacridone, 4,4′-azobisisobutyronitrile, diphenyl disulfide, benzthiazole disulfide, triphenyl Examples thereof include photoreducible dyes such as phosphine, camphorquinone, carbon tetrabrominated, tribromophenylsulfone, benzoin peroxide and eosin, and methylene blue, and reducing agents such as ascorbic acid and triethanolamine. In the present invention, one or more of these can be used.

光重合開始剤は、感光性有機成分に対し、0.1〜30重量%の範囲で添加され、より好ましくは、0.2〜25重量%である。   A photoinitiator is added in 0.1-30 weight% with respect to the photosensitive organic component, More preferably, it is 0.2-25 weight%.

本発明のガラスペーストを感光性ガラスペーストとする場合、光重合開始剤と共に増感剤を使用し、感度を向上させ、また、反応に有効な波長範囲を拡大することができる。   When the glass paste of the present invention is used as a photosensitive glass paste, a sensitizer can be used together with a photopolymerization initiator to improve sensitivity and to expand the effective wavelength range for the reaction.

増感剤の具体例としては、2,4−ジメチルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、2,3−ビス(4−ジエチルアミノベンザル)シクロペンタノン、2,6−ビス(4−ジメチルアミノベンザル)シクロヘキサノン、2,6−ビス(4−ジメチルアミノベンザル)−4−メチルシクロヘキサノン、ミヒラーケトン、4,4−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、4,4−ビス(ジメチルアミノ)カルコン、4,4−ビス(ジエチルアミノ)カルコン、p−ジメチルアミノシンナミリデンインダノン、p−ジメチルアミノベンジリデンインダノン、2−(p−ジメチルアミノフェニルビニレン)イソナフトチアゾール、1,3−ビス(4−ジメチルアミノフェニルビニレン)イソナフトチアゾール、1,3−ビス(4−ジメチルアミノベンザル)アセトン、1,3−カルボニルビス(4−ジエチルアミノベンザル)アセトン、3,3−カルボニルビス(7−ジエチルアミノクマリン)、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン、N−フェニル−N−エチルエタノールアミン、N−フェニルエタノールアミン、N−トリルジエタノールアミン、4−ジメチルアミノ安息香酸メチル、4−ジメチルアミノ安息香酸エチル、ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、ジエチルアミノ安息香酸イソアミル、安息香酸(2−ジメチルアミノ)エチル、4−ジメチルアミノ安息香酸(n−ブトキシ)エチル、4−ジメチルアミノ安息香酸2−エチルヘキシル、3−フェニル−5−ベンゾイルチオテトラゾール、1−フェニル−5−エトキシカルボニルチオテトラゾール等が挙げられる。   Specific examples of the sensitizer include 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, 2,3-bis (4-diethylaminobenzal) cyclopentanone, 2,6-bis ( 4-dimethylaminobenzal) cyclohexanone, 2,6-bis (4-dimethylaminobenzal) -4-methylcyclohexanone, Michler's ketone, 4,4-bis (diethylamino) benzophenone, 4,4-bis (dimethylamino) chalcone 4,4-bis (diethylamino) chalcone, p-dimethylaminocinnamylidene indanone, p-dimethylaminobenzylidene indanone, 2- (p-dimethylaminophenylvinylene) isonaphthothiazole, 1,3-bis (4 -Dimethylaminophenylvinylene) Isonaphtho Sol, 1,3-bis (4-dimethylaminobenzal) acetone, 1,3-carbonylbis (4-diethylaminobenzal) acetone, 3,3-carbonylbis (7-diethylaminocoumarin), triethanolamine, methyl Diethanolamine, triisopropanolamine, N-phenyl-N-ethylethanolamine, N-phenylethanolamine, N-tolyldiethanolamine, methyl 4-dimethylaminobenzoate, ethyl 4-dimethylaminobenzoate, isoamyl dimethylaminobenzoate, diethylamino Isoamyl benzoate, (2-dimethylamino) ethyl benzoate, ethyl 4-dimethylaminobenzoate (n-butoxy), 2-ethylhexyl 4-dimethylaminobenzoate, 3-phenyl-5-benzoylthiotetrazo Le, and a 1-phenyl-5-ethoxycarbonyl-thiotetrazole the like.

本発明のガラスペーストを感光性ガラスペーストとする場合、上記増感剤を1種または2種以上使用することができる。増感剤を感光性ガラスペーストに添加する場合、その添加量は感光性有機成分に対して通常0.1〜30重量%、より好ましくは0.2〜25重量%である。   When the glass paste of the present invention is a photosensitive glass paste, one or more of the above sensitizers can be used. When adding a sensitizer to a photosensitive glass paste, the addition amount is 0.1 to 30 weight% normally with respect to the photosensitive organic component, More preferably, it is 0.2 to 25 weight%.

本発明のガラスペーストを感光性ガラスペーストとする場合においては、紫外線吸収剤を添加することも有効である。本発明のガラスペーストでは、無機粉末として性質の異なる低融点ガラス粉末とフィラーを用いているため、感光性ペースト被膜の内部で露光光の散乱が大きく、パターンが広がりやすい傾向にある。紫外線吸収剤を添加することで、露光光による感光性ペースト内部の散乱光を吸収し、散乱光を弱め、シャープなパターンが得られる。紫外線吸収剤としては、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、サリチル酸系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、インドール系化合物、無機系の微粒子酸化金属等が挙げられる。これらの中でもベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、インドール系化合物が特に有効である。これらの具体例としては、2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2,2’−ジヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2,2’−ジヒドロキシ−4,4’−ジメトキシベンゾフェノン、2,2’−ジヒドロキシ−4,4’−ジメトキシ−5−スルホベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシ−2’−カルボキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシ−5−スルホベンゾフェノントリヒドレート、2−ヒドロキシ−4−n−オクトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−オクタデシロキシベンゾフェノン、2,2’,4,4’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、4−ドデシロキシ−2−ヒドロキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−(2−ヒドロキシ−3−メタクリロキシ)プロポキシベンゾフェノン、2−(2’−ヒドロキシ−5’−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3’,5’−ジ−t−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3’−t−ブチル−5’−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3’,5’−ジ−t−ブチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−4’−n−オクトキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−エチルヘキシル−2−シアノ−3,3−ジフェニルアクリレート、2−エチル−2−シアノ−3,3−ジフェニルアクリレート、インドール系の吸収剤であるBONASORB UA−3901(オリエント化学社製)、BONASORB UA−3902(オリエント化学社製)SOM−2−0008(オリエント化学社製)等が挙げられるがこれらに限定されない。さらに、これら紫外線吸収剤の骨格にメタクリル基等を導入し反応型として用いてもよい。本発明では、これらを1種以上使用することができる。   When the glass paste of the present invention is a photosensitive glass paste, it is also effective to add an ultraviolet absorber. In the glass paste of the present invention, low melting point glass powders and fillers having different properties are used as inorganic powders, so that exposure light scattering is large inside the photosensitive paste film, and the pattern tends to spread. By adding the ultraviolet absorber, the scattered light inside the photosensitive paste due to the exposure light is absorbed, the scattered light is weakened, and a sharp pattern can be obtained. Examples of the ultraviolet absorber include benzophenone compounds, cyanoacrylate compounds, salicylic acid compounds, benzotriazole compounds, indole compounds, inorganic fine-particle metal oxides, and the like. Among these, benzophenone compounds, cyanoacrylate compounds, benzotriazole compounds, and indole compounds are particularly effective. Specific examples thereof include 2,4-dihydroxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone, 2,2′-dihydroxy-4-methoxybenzophenone, 2,2′-dihydroxy-4,4′-dimethoxybenzophenone, 2,2′-dihydroxy-4,4′-dimethoxy-5-sulfobenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxy-2′-carboxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxy-5-sulfobenzophenone trihydrate, 2 -Hydroxy-4-n-octoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-octadecyloxybenzophenone, 2,2 ', 4,4'-tetrahydroxybenzophenone, 4-dodecyloxy-2-hydroxybenzophenone, 2-hydroxy-4 -(2-hydroxy-3-methyl (Chryloxy) propoxybenzophenone, 2- (2′-hydroxy-5′-methylphenyl) benzotriazole, 2- (2′-hydroxy-3 ′, 5′-di-t-butylphenyl) benzotriazole, 2- (2 '-Hydroxy-3'-t-butyl-5'-methylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3', 5'-di-t-butylphenyl) -5-chlorobenzo Triazole, 2- (2′-hydroxy-4′-n-octoxyphenyl) benzotriazole, 2-ethylhexyl-2-cyano-3,3-diphenyl acrylate, 2-ethyl-2-cyano-3,3-diphenyl BONASORB UA-3901 (made by Orient Chemical Co., Ltd.) and BONASORB are acrylate and indole-based absorbents A-3902 (manufactured by Orient Chemical Industries, Ltd.), but such SOM-2-0008 (manufactured by Orient Chemical Co., Ltd.) without limitation. Furthermore, a methacryl group or the like may be introduced into the skeleton of these ultraviolet absorbers and used as a reaction type. In the present invention, one or more of these can be used.

紫外線吸収剤の添加量は、感光性ガラスペースト中に0.001〜10重量%、より好ましくは、0.005〜5重量%の範囲である。   The addition amount of the ultraviolet absorber is 0.001 to 10% by weight, more preferably 0.005 to 5% by weight in the photosensitive glass paste.

さらに、本発明のガラスペーストを感光性ガラスペーストとする場合、重合禁止剤を添加することも有効である。   Furthermore, when the glass paste of the present invention is used as a photosensitive glass paste, it is also effective to add a polymerization inhibitor.

具体的には、ヒドロキノン、フェノチアジン、p−t−ブチルカテコール、2,5−ジブチルヒドロキノン、モノ−t−ブチルヒドロキノン、2,5−ジ−t−アミルヒドロキノン、N−フェニルナフチルアミン、2,6−ジ−t−ブチル−p−メチルフェノール、クロラニール、ヒドロキノンモノメチルエーテル、ピロガロール等が挙げられるがこれらに限定されない。本発明では、これらを1種以上使用することができる。   Specifically, hydroquinone, phenothiazine, pt-butylcatechol, 2,5-dibutylhydroquinone, mono-t-butylhydroquinone, 2,5-di-t-amylhydroquinone, N-phenylnaphthylamine, 2,6- Examples thereof include, but are not limited to, di-t-butyl-p-methylphenol, chloranil, hydroquinone monomethyl ether, and pyrogallol. In the present invention, one or more of these can be used.

重合禁止剤の添加量は、感光性ペースト中に0.01〜10重量%、より好ましくは、0.05〜5重量%の範囲である。   The addition amount of a polymerization inhibitor is 0.01 to 10 weight% in a photosensitive paste, More preferably, it is the range of 0.05 to 5 weight%.

本発明のガラスペーストを感光性ガラスペーストとする場合、紫外線吸収剤と重合禁止剤をコントロールすることで、パターン形状のコントロールが可能となる。   When the glass paste of the present invention is a photosensitive glass paste, the pattern shape can be controlled by controlling the ultraviolet absorber and the polymerization inhibitor.

本発明のガラスペーストがアクリル系共重合体を含む場合、保存時におけるアクリル系共重合体の酸化を防ぐためにガラスペースト中に酸化防止剤を含むことが好ましい。酸化防止剤の具体的な例としては、2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ブチル化ヒドロキシアニソール、2,6−ジ−t−ブチル−4−エチルフェノール、2,2’−メチレン−ビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,2’−メチレン−ビス(4−エチル−6−t−ブチルフェノール)、4,4’−ビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、1,1,3−トリス(2−メチル−4−ヒドロキシ−6−t−ブチルフェニル)ブタン、ビス[3,3−ビス−(4−ヒドロキシ−3−t−ブチルフェニル)ブチリックアシッド]グリコールエステル、ジラウリルチオジプロピオナート、トリフェニルホスファイトなどがあげられる。酸化防止剤を添加する場合、その添加量は、ガラスペースト中に、0.01〜1重量%であることが好ましい。   When the glass paste of the present invention contains an acrylic copolymer, it is preferable to contain an antioxidant in the glass paste in order to prevent oxidation of the acrylic copolymer during storage. Specific examples of the antioxidant include 2,6-di-t-butyl-p-cresol, butylated hydroxyanisole, 2,6-di-t-butyl-4-ethylphenol, 2,2′- Methylene-bis (4-methyl-6-t-butylphenol), 2,2'-methylene-bis (4-ethyl-6-t-butylphenol), 4,4'-bis (3-methyl-6-t-) Butylphenol), 1,1,3-tris (2-methyl-4-hydroxy-6-tert-butylphenyl) butane, bis [3,3-bis- (4-hydroxy-3-tert-butylphenyl) butyric Acid] glycol ester, dilauryl thiodipropionate, triphenyl phosphite and the like. When adding antioxidant, it is preferable that the addition amount is 0.01 to 1 weight% in a glass paste.

本発明のガラスペーストに使用される有機溶剤としては、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブなどのセロソルブ類、イソプロピルアルコール、メチルアルコール、エチルアルコール、ブチルアルコール、ノルマルプロピルアルコール、ベンジルアルコール、テルピネオール、3−メトキシ−3−メチル−1−ブタノールなどのアルコール類、メチルエチルケトン、ジオキサン、アセトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、γ−ブチロラクトン、N−メチル−2−ピロリドンなどのケトン類、乳酸エチル、メチルアセテート、エチルアセテート、イソプロピルアセテート、ノルマルプロピルアセテート、イソブチルアセテート、ノルマルペンチルアセテート、3−メトキシ−3−メチル−1−ブタノール、3−メトキシ−3−メチル−ブチルアセテート、プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオールモノイソブチレート、2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオールジイソブチレートなどのエステル類、ヘキサン、シクロヘキサン、トルエン、キシレンなどの炭化水素類などが挙げられる。   Examples of the organic solvent used in the glass paste of the present invention include cellosolves such as methyl cellosolve, ethyl cellosolve, and butyl cellosolve, isopropyl alcohol, methyl alcohol, ethyl alcohol, butyl alcohol, normal propyl alcohol, benzyl alcohol, terpineol, and 3-methoxy. Alcohols such as -3-methyl-1-butanol, ketones such as methyl ethyl ketone, dioxane, acetone, cyclohexanone, cyclopentanone, γ-butyrolactone, N-methyl-2-pyrrolidone, ethyl lactate, methyl acetate, ethyl acetate, Isopropyl acetate, normal propyl acetate, isobutyl acetate, normal pentyl acetate, 3-methoxy-3-methyl-1-butanol, 3-metho Ci-3-methyl-butyl acetate, propylene glycol-1-monomethyl ether-2-acetate, diethylene glycol monobutyl ether acetate, ethylene glycol monobutyl ether acetate, 2,2,4-trimethyl-1,3-pentanediol monoisobutyrate , Esters such as 2,2,4-trimethyl-1,3-pentanediol diisobutyrate, and hydrocarbons such as hexane, cyclohexane, toluene and xylene.

本発明の実施においては、常圧での沸点差のある2種類以上の有機溶剤を使用することが好ましい。1種類であると塗布膜を乾燥させた後、エッジ部が数〜数十μm盛り上がってしまうことがある。2種類以上の有機溶剤を使用する場合、低沸点側と高沸点側の有機溶剤の常圧での沸点差は20℃以上あることが好ましい。より好ましくは、30〜60℃の範囲である。沸点差が20℃よりも小さい場合、1種類のみの使用と同様に乾燥後の塗布膜エッジ部の盛り上がりが生じることがある。また、沸点差が大きいすぎると高沸点側の有機溶剤を乾燥させる温度が高温になり、塗布膜中の反応成分に影響を生じることがある。   In the practice of the present invention, it is preferable to use two or more organic solvents having a difference in boiling point at normal pressure. When the coating film is one type, the edge portion may rise several to several tens of μm after the coating film is dried. When two or more kinds of organic solvents are used, the difference in boiling point between the low boiling point side organic solvent and the high boiling point side organic solvent at normal pressure is preferably 20 ° C. or more. More preferably, it is the range of 30-60 degreeC. When the difference in boiling points is smaller than 20 ° C., the edge of the coating film after drying may rise as in the case of using only one kind. If the difference in boiling points is too large, the temperature at which the organic solvent on the high boiling side is dried becomes high, which may affect the reaction components in the coating film.

さらに、沸点差が20℃以上である低沸点有機溶剤と高沸点有機溶剤の重量比は1:9〜9:1であることが好ましい。どちらかの有機溶剤の含有量が少ない場合には、結果的にその溶剤を添加した効果が得られず、乾燥後の塗布膜エッジ部の盛り上がりが生じることがある。3種類以上の有機溶剤を使用する場合は、それぞれを20℃以上の沸点差のある低沸点側の群と高沸点側の群に区分しそれぞれの有機溶剤群が上記範囲であることが好ましい。   Furthermore, the weight ratio of the low-boiling organic solvent and the high-boiling organic solvent having a boiling point difference of 20 ° C. or higher is preferably 1: 9 to 9: 1. When the content of either organic solvent is small, the effect of adding the solvent cannot be obtained as a result, and the coating film edge portion after drying may be raised. When three or more kinds of organic solvents are used, it is preferable that each is divided into a low-boiling side group and a high-boiling side group having a boiling point difference of 20 ° C. or more, and each organic solvent group is in the above range.

本発明のガラスペーストでは、チキソトロピー性を制御するチキソトロピー付与剤(揺変剤)として、ウレアウレタン化合物を使用する。ウレアウレタン化合物は、分子構造中にウレア基(−NHCONH−基)とウレタン基(−NHCOO−基)を各々1つ以上有するもので、イソシアネート化合物とアミノ化合物およびヒドロキシ化合物とを反応させて得られる。   In the glass paste of the present invention, a urea urethane compound is used as a thixotropy imparting agent (thixotropic agent) for controlling thixotropy. The urea urethane compound has at least one urea group (—NHCONH— group) and one urethane group (—NHCOO— group) in the molecular structure, and is obtained by reacting an isocyanate compound with an amino compound and a hydroxy compound. .

このウレアウレタン化合物は、ペースト中のバインダー樹脂と作用し、三次元の網目構造を形成することによりチキソトロピー性を発現する。該ウレアウレタン化合物を該バインダー樹脂100重量部に対して5〜20重量部含有することが必要である。この範囲より少ないとチキソトロピー性が低いため塗布時の液垂れが生じたり、膜エッジ部の盛り上がりを抑えられなかったり、ペースト中のガラス粉末の沈降が生じやすかったりする問題がある。一方、上記範囲より多くなるとチキソトロピー性が大きくなり過ぎ、塗布が困難であったり、ペーストの取り扱いが難しくなるなどの問題がある。   This urea urethane compound develops thixotropic properties by acting with the binder resin in the paste to form a three-dimensional network structure. It is necessary to contain 5 to 20 parts by weight of the urea urethane compound with respect to 100 parts by weight of the binder resin. If it is less than this range, the thixotropic property is low, so that there are problems such as dripping at the time of coating, swelling of the film edge portion cannot be suppressed, and sedimentation of the glass powder in the paste is likely to occur. On the other hand, if it exceeds the above range, the thixotropy becomes too large, which causes problems such as difficult application and handling of the paste.

本発明のガラスペーストは、次式(1)で定義されるチキソトロピー指数が1.2〜
10の範囲であり、かつ、ずり速度1.2(s−1)における粘度が5〜100(Pa・s 25℃)の範囲であることが好ましい。
The glass paste of the present invention has a thixotropy index defined by the following formula (1) of 1.2 to
It is preferable that the viscosity is 10 and the viscosity at a shear rate of 1.2 (s −1 ) is in the range of 5 to 100 (Pa · s 25 ° C.).

チキソトロピー指数=(ずり速度1.2(s−1)における粘度)/(ずり速度12(s−1)における粘度) ・・・・(1)
本発明のガラスペーストは、バインダー樹脂や他の有機成分を有機溶剤に溶解した有機
ビヒクルとガラス粉末を所望のペースト組成となるように各々計量して混ぜ合わせることで製造する。ガラス粉末と有機ビヒクルをほぼ均一に混ぜ合わせるために、予備混練を行う。予備混練は、シリコンやフッ素樹脂製のヘラで見た目が均一になるまで手で掻き混ぜて行っても良いし、羽根の付いた攪拌機で行っても良いが、予備混練機を用いることが好ましい。予備混練機としては、プラネタリーミキサーを使用することがペースト中の無機粒子の分散性が良好になるため好ましい。プラネタリーミキサーは、ブレード型混練機の一種であり、2枚以上の羽根(ブレード)が容器(タンク)内でデッドスペースができるだけ生じないように自転および公転し、その際の羽根同士および羽根と容器壁の間に生じるせん断力により混練を行う機構である。また、プラネタリーミキサーは、タンク内のデッドスペースが少ないため、比較的粘度の高い混練物を均一に予備混練することができる。予備混練を十分に行っておくと、次の混練工程を短時間で済ますことができる。この工程において、予備混練物が作製される。予備混練工程で作製された予備混練物中の無機粉末の2次凝集粒子を1次粒子までほぐすため、さらに本混練を行う。本混練には3本ロールミルなどの混練機を使用する。
Thixotropic index = (viscosity at shear rate 1.2 (s −1 )) / (viscosity at shear rate 12 (s −1 )) (1)
The glass paste of the present invention is produced by weighing and mixing an organic vehicle in which a binder resin and other organic components are dissolved in an organic solvent and glass powder so as to obtain a desired paste composition. Pre-kneading is performed in order to mix the glass powder and the organic vehicle almost uniformly. The preliminary kneading may be carried out by hand stirring with a spatula made of silicon or fluororesin until it looks uniform, or may be carried out with a stirrer equipped with a blade, but it is preferable to use a preliminary kneader. As the pre-kneader, it is preferable to use a planetary mixer because the dispersibility of the inorganic particles in the paste becomes good. The planetary mixer is a kind of blade-type kneader, and two or more blades (blades) rotate and revolve in a container (tank) so that dead space does not occur as much as possible. This is a mechanism for kneading by a shearing force generated between container walls. In addition, since the planetary mixer has little dead space in the tank, a kneaded product having a relatively high viscosity can be preliminarily kneaded uniformly. If the preliminary kneading is sufficiently performed, the next kneading step can be completed in a short time. In this step, a preliminary kneaded material is produced. In order to loosen the secondary agglomerated particles of the inorganic powder in the pre-kneaded product prepared in the pre-kneading step to the primary particles, the main kneading is further performed. For the main kneading, a kneader such as a three-roll mill is used.

ウレアウレタン化合物は、有機溶剤中に溶解した粘度5,000mPa・s以下の溶液
とし、有機ビヒクルやガラスペーストに混合する。粘度5,000mPa・sを超える
と常温で有機ビヒクルと混合する際、均一になるのに時間がかかったり、不均一な部分が
残ることがある。
ウレアウレタン化合物を含有する溶液の混合割合は、有機ビヒクルに含まれるバインダー
樹脂100重量部に対して20〜80重量部とする。溶液として有機ビヒクルやガラスペ
ーストに混合することで、分散が容易となり、混練条件により生じる未分散物(20〜
100μm)が残り、濾過で除去がしにくいゲル状物として塗布膜へ混入して焼成後に断
線などの欠陥となる問題が生じることが無くなる。
さらに、混練後にチキソトロピー性が発現することで、混練し過ぎることによるチキソ
トロピー性低下が生じて塗布性や塗布膜形状が不良となる問題が生じることも無くなる。
The urea urethane compound is a solution having a viscosity of 5,000 mPa · s or less dissolved in an organic solvent, and is mixed with an organic vehicle or glass paste. If the viscosity exceeds 5,000 mPa · s, it may take a long time to be uniform when mixed with an organic vehicle at room temperature, or uneven portions may remain.
The mixing ratio of the solution containing the urea urethane compound is 20 to 80 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the binder resin contained in the organic vehicle. Mixing with an organic vehicle or glass paste as a solution facilitates dispersion and undispersed matter (20 to
100 μm) remains, and a gel-like material that is difficult to remove by filtration is mixed into the coating film, and there is no problem of defects such as disconnection after firing.
Furthermore, since thixotropic properties are exhibited after kneading, there is no problem that the thixotropic properties are lowered due to excessive kneading and the coating properties and the shape of the coating film are not good.

また、ウレアウレタン化合物を含有する溶液は、他の有機成分を加熱溶解した後の有機
ビヒクルに、ガラス粉末を投入する直前または/かつ投入した後の予備混練物に混合して
本混練するか、本混練後のペーストと混合する。予め他の有機成分とともに有機ビヒクル
に溶解しておくと有機ビヒクルにチキソトロピー性が発現し、送液をしにくくなるなどの
問題が生じる。
Further, the solution containing the urea urethane compound is mixed into the organic vehicle after other organic components are heated and dissolved, mixed with the pre-kneaded product immediately before and / or after the addition of the glass powder, Mix with the paste after the main kneading. If dissolved in advance in an organic vehicle together with other organic components, problems such as thixotropic properties appear in the organic vehicle and liquid feeding becomes difficult.

ウレアウレタン化合物を含有する溶液の市販品として、例えばBYK−410、411、420、425(BYK−Chemie社製)などが挙げられる。   Examples of commercially available solutions containing urea urethane compounds include BYK-410, 411, 420, and 425 (manufactured by BYK-Chemie).

次に、前記ガラスペーストを用いて基板上に塗布して乾燥する工程を含むディスプレイ
パネル用部材の製造方法を説明する。
Next, the manufacturing method of the member for display panels including the process of apply | coating and drying on a board | substrate using the said glass paste is demonstrated.

ガラス基板やセラミックスの基板、もしくは、ポリマー製フィルムの上に、ガラスペーストを全面塗布、もしくは部分的に塗布する。塗布方法としては、スクリーン印刷法、バーコーター、ロールコーター、ダイコーター、ブレードコーターなど一般的な方法を用いることができる。塗布した後は、通風オーブン、ホットプレート、赤外線乾燥機など任意のものを用いて乾燥し、ガラスペーストの乾燥膜を形成する。乾燥温度は、ペースト中の有機成分に影響しない40〜150℃の範囲が好ましい。   A glass paste is applied on the entire surface or partially on a glass substrate, a ceramic substrate, or a polymer film. As a coating method, a general method such as a screen printing method, a bar coater, a roll coater, a die coater, or a blade coater can be used. After the application, the glass paste is dried using an optional oven such as a ventilating oven, a hot plate, or an infrared dryer to form a dry film of glass paste. The drying temperature is preferably in the range of 40 to 150 ° C., which does not affect the organic components in the paste.

パターン形成する場合には、サンドブラスト法、感光性ペースト法、スクリーン印刷法、またはモールド転写法であることが好ましく、高精細化・工程の簡便性が優れる点から、感光性ペースト法であることがより好ましい。   In the case of pattern formation, it is preferably a sand blast method, a photosensitive paste method, a screen printing method, or a mold transfer method, and it is a photosensitive paste method from the viewpoint of high definition and easy process. More preferred.

ここでは、感光性ペースト法を用いてプラズマディスプレイパネル用隔壁パターン加工を行う一例について説明するが、本発明はこれに限定されない。   Here, an example of performing the partition pattern processing for the plasma display panel using the photosensitive paste method will be described, but the present invention is not limited to this.

感光性ガラスペーストを塗布、乾燥した後、露光装置を用いて露光を行う。露光は、通常のフォトリソグラフィー法で行われるように、フォトマスクを用いてマスク露光する方法が一般的である。用いるマスクは、感光性有機成分の種類によって、ネガ型もしくはポジ型のどちらかを選定する。   After the photosensitive glass paste is applied and dried, exposure is performed using an exposure apparatus. As for the exposure, a mask exposure method using a photomask is generally used so as to be performed by a normal photolithography method. As the mask to be used, either a negative type or a positive type is selected depending on the type of the photosensitive organic component.

露光装置としては、ステッパー露光機、プロキシミティ露光機などを用いることができる。使用される活性光源としては、例えば、可視光線、近紫外線、紫外線、電子線、X線、レーザー光などが挙げられる。これらの中で紫外線が最も好ましく、その光源として、例えば、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、ハロゲンランプ、殺菌灯などが使用できる。これらのなかでも超高圧水銀灯が好適である。露光条件は、塗布厚みによって異なるが、通常、1〜100mW/cmの出力の超高圧水銀灯を用いて0.1〜10分間露光を行う。 As the exposure apparatus, a stepper exposure machine, a proximity exposure machine, or the like can be used. Examples of the active light source used include visible light, near ultraviolet light, ultraviolet light, electron beam, X-ray, and laser light. Among these, ultraviolet rays are most preferable, and as the light source, for example, a low-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, an ultrahigh-pressure mercury lamp, a halogen lamp, or a germicidal lamp can be used. Among these, an ultrahigh pressure mercury lamp is suitable. Although exposure conditions vary depending on the coating thickness, exposure is usually performed for 0.1 to 10 minutes using an ultrahigh pressure mercury lamp with an output of 1 to 100 mW / cm 2 .

露光後、露光部分と非露光部分の現像液に対する溶解度差を利用して、現像を行うが、この場合、浸漬法、シャワー法、スプレー法、ブラシ法で行える。   After the exposure, development is performed by utilizing the difference in solubility between the exposed portion and the non-exposed portion in the developer. In this case, the immersion method, the shower method, the spray method, and the brush method can be used.

現像液は、感光性ガラスペースト中の溶解させたい有機成分が溶解可能である溶液を用いる。感光性ガラスペースト中にカルボキシル基などの酸性基をもつ化合物が存在する場合、アルカリ水溶液で現像できる。アルカリ水溶液としては、水酸化ナトリウム水溶液や炭酸ナトリウム水溶液、炭酸ナトリウム水溶液、水酸化カルシウム水溶液などが使用できるが、有機アルカリ水溶液を用いた方が焼成時にアルカリ成分を除去しやすいので好ましい。有機アルカリとしては、一般的なアミン化合物を用いることができる。具体的には、テトラメチルアンモニウムヒドロキサイド、トリメチルベンジルアンモニウムヒドロキサイド、モノエタノールアミン、ジエタノールアミンなどが挙げられる。アルカリ水溶液の濃度は、0.01〜10重量%であることが好ましく、0.1〜5重量%であることがより好ましい。アルカリ水溶液の濃度が0.01重量%未満であると可溶部が除去されない傾向があり、10重量%をこえるとパターン部を剥離させ、また、非可溶部を腐食させる傾向がある。また、現像時の現像温度は、20〜50℃で行うことが工程管理上好ましい。   As the developer, a solution in which an organic component to be dissolved in the photosensitive glass paste can be dissolved is used. When a compound having an acidic group such as a carboxyl group is present in the photosensitive glass paste, development can be performed with an alkaline aqueous solution. As the alkaline aqueous solution, a sodium hydroxide aqueous solution, a sodium carbonate aqueous solution, a sodium carbonate aqueous solution, a calcium hydroxide aqueous solution or the like can be used. However, it is preferable to use an organic alkaline aqueous solution because an alkaline component can be easily removed during firing. As the organic alkali, a general amine compound can be used. Specific examples include tetramethylammonium hydroxide, trimethylbenzylammonium hydroxide, monoethanolamine, and diethanolamine. The concentration of the alkaline aqueous solution is preferably 0.01 to 10% by weight, and more preferably 0.1 to 5% by weight. If the concentration of the aqueous alkali solution is less than 0.01% by weight, the soluble part tends not to be removed, and if it exceeds 10% by weight, the pattern part tends to peel off and the insoluble part tends to corrode. The development temperature during development is preferably 20 to 50 ° C. in terms of process control.

次に、焼成炉にて焼成を行う。焼成雰囲気や温度は、ペーストや基板の種類によって異なる。焼成炉としては、バッチ式の焼成炉やベルト式の連続型焼成炉を用いることができる。焼成温度は、通常500〜600℃で行う。なお焼成温度は用いるガラス粉末によって決まるが、パターン形成後の形が崩れず、かつガラス粉末の形状が残らない適正な温度で焼成するのが好ましい。適正温度より低いと、気孔率、隔壁上部の凹凸が大きくなり、放電寿命が短くなったり、誤放電を起こしやすくなったりするため好ましくない。また適正温度より高いとパターン形成時の形状が崩れ、隔壁上部が丸くなる、また、極端に高さが低くなり、所望の高さが得られないため、好ましくない。   Next, baking is performed in a baking furnace. The firing atmosphere and temperature vary depending on the type of paste and substrate. As the firing furnace, a batch-type firing furnace or a belt-type continuous firing furnace can be used. The firing temperature is usually 500 to 600 ° C. The firing temperature is determined by the glass powder to be used, but it is preferable to fire at an appropriate temperature that does not break the shape after pattern formation and does not leave the shape of the glass powder. When the temperature is lower than the appropriate temperature, the porosity and the unevenness at the upper part of the partition wall are increased, so that the discharge life is shortened and erroneous discharge is easily caused. On the other hand, if the temperature is higher than the appropriate temperature, the shape at the time of pattern formation collapses, the upper part of the partition wall becomes round, and the height becomes extremely low, and a desired height cannot be obtained.

また、以上の塗布や露光、現像、焼成の各工程中に、乾燥、予備反応の目的で、50〜300℃加熱工程を導入しても良い。   Moreover, you may introduce | transduce a 50-300 degreeC heating process for the purpose of drying and a preliminary reaction in each process of the above application | coating, exposure, image development, and baking.

隔壁を形成した後に、RGB各色に発光する蛍光体層を形成する。蛍光体粉末、有機バインダーおよび有機溶媒を主成分とする蛍光体ペーストを所定の隔壁間に形成することにより、蛍光体層を形成することができる。蛍光体ペーストを所定の隔壁間に形成する方法としては、スクリーン印刷版を用いてパターン印刷するスクリーン印刷法、吐出ノズルの先端から蛍光体ペーストをパターン吐出するディスペンサー法、また、有機バインダーとして、前述の感光性を有する有機成分を用いることにより、感光性蛍光体ペーストを作製して、感光性ペースト法により各色蛍光体層を所定の場所に形成することができる。   After the barrier ribs are formed, phosphor layers that emit light of RGB colors are formed. A phosphor layer can be formed by forming a phosphor paste containing phosphor powder, an organic binder and an organic solvent as main components between predetermined partitions. As a method of forming the phosphor paste between the predetermined partition walls, a screen printing method for pattern printing using a screen printing plate, a dispenser method for pattern ejection of the phosphor paste from the tip of the ejection nozzle, and the organic binder described above By using an organic component having photosensitivity, a photosensitive phosphor paste can be prepared, and each color phosphor layer can be formed in a predetermined place by a photosensitive paste method.

蛍光体層を形成した該基板を必要に応じて、400〜550℃で焼成する事により、本発明のプラズマディスプレイパネル用基板を作製することができる。   The substrate for the plasma display panel of the present invention can be produced by firing the substrate on which the phosphor layer is formed, if necessary, at 400 to 550 ° C.

該プラズマディスプレイパネル用基板を背面板として用いて、前面板と封着後、前背面の基板間隔に形成された空間に、ヘリウム、ネオン、キセノンなどから構成される放電ガスを封入後、駆動回路を装着してプラズマディスプレイを作製できる。前面板は、基板上に所定のパターンで透明電極、バス電極、誘電体、保護膜(MgO)を形成した基板であり、背面基板上に形成されたRGB各色蛍光体層に一致する部分にカラーフィルター層を形成しても良い。また、コントラストを向上するために、ブラックストライプを形成しても良い。   The plasma display panel substrate is used as a back plate, and after sealing with the front plate, a discharge gas composed of helium, neon, xenon, etc. is sealed in a space formed between the front and back substrates, and then a drive circuit A plasma display can be manufactured by mounting. The front plate is a substrate in which a transparent electrode, bus electrode, dielectric, and protective film (MgO) are formed in a predetermined pattern on the substrate, and the color corresponding to the RGB color phosphor layers formed on the back substrate is colored. A filter layer may be formed. Further, a black stripe may be formed in order to improve contrast.

次に本発明について実施例をあげて説明するが、本発明はかかる実施例のみに限定されるものではない。
(実施例1)バインダー樹脂(スチレン/アクリル酸共重合体、重量組成比30/60、重量平均分子量34,000、酸価105):10重量部、モノマー(プロピレンオキシド変性トリメチロールプロパントリアクリレート):5重量部、光重合開始剤(2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン−1):3重量部、重合禁止剤(p−メトキシフェノール):0.1重量部、有機染料(スダンIV):0.04重量部、分散剤(ポリエーテル・エステル型アニオン系界面活性剤 楠本化成(株)製、“ディスパロン”7004):0.5重量部、有機溶剤1(γ−ブチロラクトン 沸点200〜208℃):25重量部、有機溶剤2(3−メトキシ−3−メチルー1−ブタノール 沸点174℃):5重量部を50℃で60分間加熱撹拌して溶解し、有機ビヒクル溶液を作製した。これにチキソトロピー付与剤としてウレアウレタン溶液(ウレアウレタン化合物
25重量%のN−メチル−2−ピロリドン溶液:BYK411 BYK−Chemie社製)を3重量部(バインダー樹脂100重量部に対し、ウレアウレタン溶液として30重量部、ウレアウレタン化合物として7.5重量部)を加え、プラネタリーミキサーで15分間撹拌後、ガラス粉末(酸化ホウ素、酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化バリウム、酸化リチウム、酸化マグネシウムが主成分のガラスを粉砕した平均粒径2μmの粉末):45重量部を加え、30分間撹拌して予備混練物とした。これを3本ロールミルで本混練することによりガラスペーストとした。
Next, the present invention will be described with reference to examples, but the present invention is not limited to such examples.
(Example 1) Binder resin (styrene / acrylic acid copolymer, weight composition ratio 30/60, weight average molecular weight 34,000, acid value 105): 10 parts by weight, monomer (propylene oxide-modified trimethylolpropane triacrylate) : 5 parts by weight, photopolymerization initiator (2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1): 3 parts by weight, polymerization inhibitor (p-methoxyphenol): 0. 1 part by weight, organic dye (Sudan IV): 0.04 part by weight, dispersant (polyether / ester type anionic surfactant, “Disparon” 7004, manufactured by Enomoto Kasei Co., Ltd.): 0.5 part by weight, organic Solvent 1 (γ-butyrolactone boiling point 200-208 ° C.): 25 parts by weight, organic solvent 2 (3-methoxy-3-methyl-1-butanol boiling point 174 ° C.): 5-fold An amount of the solution was dissolved by heating and stirring at 50 ° C. for 60 minutes to prepare an organic vehicle solution. As a thixotropy-imparting agent, 3 parts by weight of urea urethane solution (N-methyl-2-pyrrolidone solution of urea urethane compound 25% by weight: BYK411 BYK-Chemie) was used as urea urethane solution with respect to 100 parts by weight of binder resin. 30 parts by weight and 7.5 parts by weight as a urea urethane compound) are added and stirred for 15 minutes with a planetary mixer. After that, glass powder (boron oxide, silicon oxide, aluminum oxide, barium oxide, lithium oxide, magnesium oxide is the main component) Powder obtained by pulverizing glass with an average particle diameter of 2 μm): 45 parts by weight was added and stirred for 30 minutes to obtain a pre-kneaded product. This was kneaded with a three-roll mill to obtain a glass paste.

得られたガラスペーストの粘度をB型粘度計(ブルックフィールド製 DV−II)で測定したところ、ずり速度1.2(s−1)における粘度が30(Pa・s 25℃)、ずり速度12(s−1)における粘度が10(Pa・s 25℃)であり、チキソトロピー指数は3だった。 When the viscosity of the obtained glass paste was measured with a B-type viscometer (DV-II manufactured by Brookfield), the viscosity at a shear rate of 1.2 (s −1 ) was 30 (Pa · s 25 ° C.), and the shear rate was 12 The viscosity at (s −1 ) was 10 (Pa · s 25 ° C.), and the thixotropy index was 3.

次にスリットコーターを用いて基板上にウエット厚み300μmで塗布した後に、クリーンオーブンで100℃90分間乾燥させた。乾燥膜のエッジ部形状を表面粗さ計(サーフコム1500A 東京精密製)を用いて測定したところ、幅0.5mm、高さ2μmであり良好だった。   Next, after applying a wet thickness of 300 μm on the substrate using a slit coater, the substrate was dried in a clean oven at 100 ° C. for 90 minutes. When the edge part shape of the dry film was measured using a surface roughness meter (Surfcom 1500A manufactured by Tokyo Seimitsu), the width was 0.5 mm and the height was 2 μm, which was good.

次にマスク露光を行った。ピッチ220μm、線幅50μmのストライプ状のクロムマスクを使用した。露光は、30mW/cmの出力の超高圧水銀ランプで0.5mJ/cmで行った。その後、2−アミノエタノール0.2%水溶液(35℃)でシャワー現像を行った。この基板を590℃で焼成し、プラズマディスプレイ用のストライプ隔壁形成基板を作製した。
基板上の隔壁を顕微鏡で観察した結果、高さ120μm、底部幅70μm、チキソトロピー付与剤の未分散物(20〜100μm)であるゲル状物が原因である断線(焼成で完全に消失したり、トンネル状になった欠陥部)は存在せず、端部の盛り上がりの無い良好な形状の隔壁が形成できていた。
(実施例2)実施例1の有機溶剤2を使用せず、有機溶剤1(γ−ブチロラクトン 沸点200〜208℃):30重量部と変更した他は実施例1と同様に実施した。
Next, mask exposure was performed. A striped chrome mask having a pitch of 220 μm and a line width of 50 μm was used. The exposure was performed at 0.5 mJ / cm 2 with an ultrahigh pressure mercury lamp having an output of 30 mW / cm 2 . Then, shower development was performed with a 2-aminoethanol 0.2% aqueous solution (35 ° C.). This substrate was baked at 590 ° C. to produce a stripe barrier rib forming substrate for plasma display.
As a result of observing the partition wall on the substrate with a microscope, a disconnection (disappeared completely by firing) caused by a gel-like material having a height of 120 μm, a bottom width of 70 μm, and an undispersed thixotropic agent (20 to 100 μm), There was no tunnel-like defect portion), and a well-shaped partition wall having no bulge at the end portion could be formed.
(Example 2) The same procedure as in Example 1 was carried out except that the organic solvent 2 of Example 1 was not used and the organic solvent 1 (γ-butyrolactone had a boiling point of 200 to 208 ° C): 30 parts by weight was changed.

乾燥膜のエッジ部形状を表面粗さ計(サーフコム1500A 東京精密製)を用いて測定したところ、幅1mm、高さ10μmであり面内均一性がやや不十分であったが、焼成後の基板上の隔壁を顕微鏡で観察した結果、高さ120μm、底部幅70μm、チキソトロピー付与剤の未分散物(20〜100μm)であるゲル状物が原因である断線(焼成で完全に消失したり、トンネル状になった欠陥部)は存在せず良好な形状であった。
(比較例1)実施例1のウレアウレタン化合物溶液をペースト状の脂肪酸アマイド(ポリ・N−ビニルアセトアミド20重量%のベンジルアルコール溶液)と変更した他は実施例1と同様に実施した。
The edge shape of the dried film was measured using a surface roughness meter (Surfcom 1500A manufactured by Tokyo Seimitsu). The width was 1 mm and the height was 10 μm, and the in-plane uniformity was slightly insufficient. As a result of observing the upper partition wall with a microscope, disconnection (disappeared completely by firing or tunneling) caused by a gel-like material having a height of 120 μm, a bottom width of 70 μm, and an undispersed thixotropic agent (20 to 100 μm) The defect portion became a good shape.
(Comparative Example 1) The same procedure as in Example 1 was repeated except that the urea urethane compound solution of Example 1 was changed to a paste-like fatty acid amide (polyN-vinylacetamide 20 wt% benzyl alcohol solution).

基板上の隔壁を顕微鏡で観察した結果、高さ120μm、底部幅70μm、端部の盛り上がりの無い良好な形状となっていたが、未分散物(20〜100μm)であるゲル状物が原因である断線(焼成で完全に消失したり、トンネル状になった欠陥部)が存在していた。
(比較例2)実施例1のウレアウレタン化合物溶液の量を1重量部(バインダー樹脂
100重量部に対し、ウレアウレタン溶液として10重量部、ウレアウレタン化合物として2.5重量部)とした他は実施例1と同様に実施した。
As a result of observing the partition wall on the substrate with a microscope, the height was 120 μm, the bottom width was 70 μm, and there was no bulge at the end, but due to the gel-like material that was undispersed (20 to 100 μm) There was some disconnection (defects that disappeared completely or became tunnel-like by firing).
(Comparative Example 2) The amount of the urea urethane compound solution of Example 1 was 1 part by weight (10 parts by weight as urea urethane solution and 2.5 parts by weight as urea urethane compound with respect to 100 parts by weight of the binder resin). The same operation as in Example 1 was performed.

得られたガラスペーストの粘度をB型粘度計(ブルックフィールド製 DV−II)で測定したところ、ずり速度1.2(s−1)における粘度が4.0(Pa・s 25℃)、ずり速度12(s−1)における粘度が3.5(Pa・s 25℃)であり、チキソトロピー指数は1.1だった。 When the viscosity of the obtained glass paste was measured with a B-type viscometer (DV-II manufactured by Brookfield), the viscosity at a shear rate of 1.2 (s −1 ) was 4.0 (Pa · s 25 ° C.), shear The viscosity at a speed of 12 (s −1 ) was 3.5 (Pa · s 25 ° C.), and the thixotropy index was 1.1.

次にスリットコーターを用いて基板上にウエット厚み300μmで塗布した後に、クリーンオーブンで100℃90分間乾燥させた。乾燥膜のエッジ部形状を表面粗さ計(サーフコム1500A 東京精密製)を用いて測定したところ、幅6mm、高さ10μmだった。この基板でプラズマディスプレイとして作製したところ、隔壁の高さムラに由来する異常放電が生じた。
(比較例3)実施例1のウレアウレタン化合物溶液の量を12重量部(バインダー樹脂
100重量部に対し、ウレアウレタン溶液として120重量部、ウレアウレタン化合物として30重量部)とした他は実施例1と同様に実施した。
Next, after applying a wet thickness of 300 μm on the substrate using a slit coater, the substrate was dried in a clean oven at 100 ° C. for 90 minutes. When the edge part shape of the dry film was measured using a surface roughness meter (Surfcom 1500A, manufactured by Tokyo Seimitsu), the width was 6 mm and the height was 10 μm. When this substrate was used as a plasma display, abnormal discharge derived from unevenness in the height of the barrier ribs occurred.
(Comparative Example 3) Example except that the amount of the urea urethane compound solution of Example 1 was 12 parts by weight (120 parts by weight as urea urethane solution and 30 parts by weight as urea urethane compound with respect to 100 parts by weight of the binder resin). 1 was carried out.

得られたガラスペーストの粘度をB型粘度計(ブルックフィールド製 DV−II)で測定したところ、ずり速度1.2(s−1)における粘度が500(Pa・s 25℃)、ずり速度12(s−1)における粘度が40(Pa・s 25℃)であり、チキソトロピー指数は12だった。 When the viscosity of the obtained glass paste was measured with a B-type viscometer (DV-II, manufactured by Brookfield), the viscosity at a shear rate of 1.2 (s −1 ) was 500 (Pa · s 25 ° C.), and the shear rate was 12 The viscosity at (s −1 ) was 40 (Pa · s 25 ° C.), and the thixotropy index was 12.

次にスリットコーターを用いて基板上に塗布しようとしたが、粘度が高すぎて塗布が困難だった。   Next, an attempt was made to apply on the substrate using a slit coater, but the application was difficult because the viscosity was too high.

Claims (7)

ガラス粉末、バインダー樹脂、および有機溶剤を含み、該ガラス粉末の含有量が30〜80重量%であるガラスペーストであって、ウレアウレタン化合物を該バインダー樹脂100重量部に対して5〜20重量部含有することを特徴とするガラスペースト。 A glass paste containing glass powder, a binder resin, and an organic solvent, wherein the glass powder content is 30 to 80% by weight, and the urea urethane compound is 5 to 20 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the binder resin. Glass paste characterized by containing. さらに感光性有機成分を含有することを特徴とする請求項1記載のガラスペースト。 The glass paste according to claim 1, further comprising a photosensitive organic component. 沸点差が20℃以上ある2種類以上の有機溶剤を含有し、低沸点有機溶剤と高沸点有機溶剤の重量比が1:9〜9:1の範囲内であることを特徴とする請求項1または2記載のガラスペースト。 2. The organic solvent contains two or more organic solvents having a boiling point difference of 20 ° C. or more, and the weight ratio of the low boiling organic solvent to the high boiling organic solvent is in the range of 1: 9 to 9: 1. Or the glass paste of 2. ディスプレイの隔壁形成に用いられることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のガラスペースト。 The glass paste according to claim 1, wherein the glass paste is used for forming a partition wall of a display. 請求項1〜4のいずれかに記載のガラスペーストの製造方法であって、ウレアウレタン化合物を有機溶剤に溶解した粘度5,000mPa・s以下の溶液とし、バインダー樹脂100重量部に対して該溶液20〜80重量部を混合することを特徴とするガラスペーストの製造方法。 It is a manufacturing method of the glass paste in any one of Claims 1-4, Comprising: It is set as the solution of viscosity 5,000 mPa * s or less which melt | dissolved the urea urethane compound in the organic solvent, and this solution with respect to 100 weight part of binder resin A method for producing a glass paste, comprising mixing 20 to 80 parts by weight. ウレアウレタン化合物を含有する溶液を、他の有機成分を加熱溶解した有機
ビヒクルに混合することを特徴とする請求項5記載のガラスペーストの製造方法。
6. The method for producing a glass paste according to claim 5, wherein the solution containing the urea urethane compound is mixed with an organic vehicle in which other organic components are dissolved by heating.
基板上に請求項1〜4のいずれかに記載のガラスペーストを塗布して乾燥する工程を含むことを特徴とするディスプレイパネル用部材の製造方法。 A method for producing a member for a display panel, comprising a step of applying and drying the glass paste according to any one of claims 1 to 4 on a substrate.
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