JP2009200495A5 - - Google Patents
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あるいはまた、非糖水溶性ポリマーは、両親媒性のポリマー、例えばアクリル酸又はメタクリル酸から形成されるコポリマーである。本明細書で言及する両親媒性ポリマーとは、疎水性セグメント及び親水性セグメントで構成されるブロックコポリマーである。疎水性セグメントは、２〜２５０で変動する炭素数のポリマー鎖であってよい。本明細書の目的上、炭素数は、セグメント内の炭素原子の数を表す。好ましくは、炭素数は、５〜１００、最も好ましくは５〜５０である。親水性セグメントはイオン性である。親水性セグメントのモノマー単位の数は、好ましくは１〜１００である。好ましくは、組成物は、非糖水溶性ポリマーを０．００５〜５重量％含有する。より好ましくは、組成物は、非糖水溶性ポリマーを０．０１〜３重量％含有する。最も好ましくは、組成物は、非糖水溶性ポリマーを０．０２〜２重量％含有する。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US12/071,000 | 2008-02-22 | ||
| US12/071,000 US9633865B2 (en) | 2008-02-22 | 2008-02-22 | Low-stain polishing composition |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2009200495A JP2009200495A (ja) | 2009-09-03 |
| JP2009200495A5 true JP2009200495A5 (ja) | 2012-03-08 |
| JP5479755B2 JP5479755B2 (ja) | 2014-04-23 |
Family
ID=40521509
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2009037540A Active JP5479755B2 (ja) | 2008-02-22 | 2009-02-20 | 低汚染研磨組成物 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US9633865B2 (ja) |
| EP (1) | EP2093790B1 (ja) |
| JP (1) | JP5479755B2 (ja) |
| KR (1) | KR101560647B1 (ja) |
| CN (1) | CN101525522B (ja) |
| TW (1) | TWI447188B (ja) |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102762708B (zh) * | 2009-07-06 | 2015-03-04 | 布拉斯通产品公司 | 清洁具有铝组件的传热系统的方法和组合物 |
| US20140030897A1 (en) * | 2011-02-03 | 2014-01-30 | Sumco Corporation | Polishing composition and polishing method using the same |
| US8440097B2 (en) * | 2011-03-03 | 2013-05-14 | Rohm And Haas Electronic Materials Cmp Holdings, Inc. | Stable, concentratable, water soluble cellulose free chemical mechanical polishing composition |
| US8435896B2 (en) * | 2011-03-03 | 2013-05-07 | Rohm And Haas Electronic Materials Cmp Holdings, Inc. | Stable, concentratable chemical mechanical polishing composition and methods relating thereto |
| WO2014013977A1 (ja) * | 2012-07-17 | 2014-01-23 | 株式会社 フジミインコーポレーテッド | 合金材料研磨用組成物及びそれを用いた合金材料の製造方法 |
| JP6768010B2 (ja) * | 2016-01-28 | 2020-10-14 | 株式会社フジミインコーポレーテッド | 研磨用組成物 |
| CN107350978A (zh) * | 2017-07-26 | 2017-11-17 | 天津市职业大学 | 一种绿色固定磨料抛光片及其制备方法 |
| CN114481286A (zh) * | 2021-12-28 | 2022-05-13 | 广东省科学院化工研究所 | 一种用于电解抛光的固体颗粒物 |
| CN114561187B (zh) * | 2022-03-07 | 2022-10-21 | 山东麦丰新材料科技股份有限公司 | 一种环保型乳化精磨液及其制备方法 |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7029373B2 (en) | 2001-08-14 | 2006-04-18 | Advanced Technology Materials, Inc. | Chemical mechanical polishing compositions for metal and associated materials and method of using same |
| US20030119692A1 (en) | 2001-12-07 | 2003-06-26 | So Joseph K. | Copper polishing cleaning solution |
| GB0216815D0 (en) | 2002-07-19 | 2002-08-28 | Aoti Operating Co Inc | Detection method and apparatus |
| US7736405B2 (en) * | 2003-05-12 | 2010-06-15 | Advanced Technology Materials, Inc. | Chemical mechanical polishing compositions for copper and associated materials and method of using same |
| JP4464111B2 (ja) * | 2003-11-13 | 2010-05-19 | 旭硝子株式会社 | 銅配線研磨用組成物、半導体集積回路表面の研磨方法および半導体集積回路用銅配線の作製方法 |
| US7390744B2 (en) * | 2004-01-29 | 2008-06-24 | Applied Materials, Inc. | Method and composition for polishing a substrate |
| US7086935B2 (en) * | 2004-11-24 | 2006-08-08 | Rohm And Haas Electronic Materials Cmp Holdings, Inc. | Cellulose-containing polishing compositions and methods relating thereto |
| KR100816651B1 (ko) * | 2006-03-31 | 2008-03-27 | 테크노세미켐 주식회사 | 제올라이트를 함유하는 구리 화학 기계적 연마 조성물 |
| CN100491072C (zh) * | 2006-06-09 | 2009-05-27 | 河北工业大学 | Ulsi多层铜布线化学机械抛光中碟形坑的控制方法 |
-
2008
- 2008-02-22 US US12/071,000 patent/US9633865B2/en active Active
-
2009
- 2009-01-22 TW TW098102432A patent/TWI447188B/zh active
- 2009-02-09 EP EP09152377.9A patent/EP2093790B1/en active Active
- 2009-02-20 KR KR1020090014258A patent/KR101560647B1/ko active IP Right Grant
- 2009-02-20 CN CN2009100047473A patent/CN101525522B/zh active Active
- 2009-02-20 JP JP2009037540A patent/JP5479755B2/ja active Active
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