JP2009180717A - シリコン薄膜の評価方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】薄膜111の上に電極膜112および電極膜113を形成し、これらの電極膜112および電極膜113を介して交流信号印加部104が交流信号の周波数を変化させながら、薄膜111(電極膜112および電極膜113の間)に交流信号を印加し、測定部105が薄膜111に生じた交流電圧Vと交流電流Iの振幅、および交流電圧Vと交流電流Iの位相差を周波数毎に測定し、薄膜111の複素インピーダンスZの周波数依存性を導出する。
【選択図】 図1
Description
I=|I|exp(jωt−θ) ・・・(2)
Z=V/I=|Z|exp(jθ) ・・・(3)
ここで、jは虚数単位、tは時間、ωは角周波数、θは電圧Vに対する電流Iの位相遅れである。
Claims (2)
- 対象となる薄膜の表面に所定の間隔で離間する第1電極膜および第2電極膜が形成された状態とする電極膜形成ステップと、
前記第1電極膜および前記第2電極膜の間に周波数を変化させながら交流信号を印加する交流信号印加ステップと、
前記交流信号の印加によって前記第1電極膜および前記第2電極膜の間に生じた電圧と電流から前記薄膜の複素インピーダンスの周波数依存性を測定する測定ステップと、
予め用意された前記薄膜,前記第1電極膜,および前記第2電極膜の等価回路のモデルと前記複素インピーダンスの測定結果とから前記等価回路のパラメータを決定する評価ステップと
を少なくとも備えることを特徴とするシリコン薄膜の評価方法。 - 請求項1記載のシリコン薄膜の評価方法において、
前記評価ステップでは、前記等価回路から計算したインピーダンスプロットと、前記複素インピーダンスの測定結果から求めたインピーダンスプロットとが一致するように、前記等価回路のパラメータを決定する
ことを特徴とするシリコン薄膜の評価方法。
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