JP2009175493A - 液晶装置の製造方法及び液晶装置、並びに電子機器 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】シリコン酸化膜(82)上からシリコン酸化膜(82)を研磨する。この際、除去されなかったシリコン酸化膜(82a)のうち画素電極(9a1)及び(9a2)間の電極間領域Rに残る残部(82b)の表面と、シリコン窒化膜(81)のうち画素電極(9a1)上に延びる第1部分(81a)の表面と、シリコン窒化膜(81)のうち画素電極(9a2)上に延びる第2部分(81b)の表面とが揃うように、言い換えれば、後述する配向膜16による液晶の配向規制力が少なくとも凹凸によって乱されないように、残部(82b)、並びに第1部分(81a)及び第2部分(81b)の夫々の表面が揃えられる。
【選択図】図5
Description
先ず、図1及び図2を参照しながら、後述する液晶装置の製造方法で製造される、本実施形態に係る液晶装置の構成を説明する。図1は、本実施形態に係る液晶装置を対向基板側から見た平面図であり、図2は、図1のII−II´断面図である。ここでは、液晶装置の一例である駆動回路内蔵型のTFTアクティブマトリクス駆動方式の液晶装置を例に挙げている。このような液晶装置は、例えば、液晶プロジェクタ等の投写型表示装置のライトバルブとして用いられる。
次に、図3乃至図5を参照しながら本実施形態に係る液晶装置の製造方法を説明する。図3は、本実施形態に係る液晶装置の製造方法における主要な工程を示したフローチャートである。図4及び図5は、本実施形態に係る液晶装置の製造方法の一部の工程、より具体的には素子基板形成工程の一部の工程を詳細に示した工程断面図である。
次に、図6を参照しながら、上述した液晶装置を用いた投写型表示装置の一例を説明する。本実施形態に係る投写型表示装置は、上述した液晶装置をライトバルブに用い、当該ライトバルブの光入射側及び光出射側の夫々の側に上述の位相差板を配置した光学系を有するプロジェクタである。図6は、本実施形態に係るプロジェクタの構成例を示す平面図である。
Claims (5)
- 基板上の一の層上に一の画素電極及び他の画素電極を形成する第1工程と、
前記一の画素電極から前記他の画素電極に渡って、前記一の画素電極及び前記他の画素電極を覆うように第1保護膜を形成する第2工程と、
前記第1保護膜上に第2保護膜を形成する第3工程と、
前記第2保護膜上から前記第2保護膜を研磨し、前記第2保護膜のうち前記一の画素電極及び前記他の画素電極間の電極間領域に残る残部の表面と、前記第1保護膜のうち前記一の画素電極を覆う第1部分の表面と、前記第1保護膜のうち前記他の画素電極を覆う第2部分の表面とが揃うように、前記残部、前記第1部分及び前記第2部分の夫々の表面からなる平坦なエッチング面を形成する第4工程と、
前記エッチング面上から前記残部、前記第1部分及び前記第2部分をエッチングすることによって、前記第1保護膜のうち前記残部の下側に延びる電極間部分、並びに、前記一の画素電極及び前記他の画素電極の夫々の表面を含む平坦な平坦面を形成する第5工程と、
前記平坦面に配向膜を形成する第6工程と
を備えたことを特徴とする液晶装置の製造方法。 - 前記第4工程において、CMP法を用いて前記第2保護膜を研磨すること
を特徴とする請求項1に記載の液晶装置の製造方法。 - 前記第1保護膜の研磨レートは、前記第2保護膜の研磨レートより低いこと
を特徴とする請求項1又は2に記載の液晶装置の製造方法。 - 請求項1から3の何れか一項に記載の液晶装置の製造方法によって製造されたこと
を特徴とする液晶装置。 - 請求項4に記載の液晶装置を具備してなること
を特徴とする電子機器。
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