JP2009170251A - Transparent conductive film - Google Patents

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Toru Hanada
亨 花田
Kazuteru Kono
一輝 河野
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Teijin Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a transparent conductive film having excellent dimensional stability even with change of humidity. <P>SOLUTION: Aromatic polyester containing an acid constituent represented by formula (1) and a diol constituent represented by formula (2) is used as a material for a substrate. In the formula (1), R<SP>A</SP>is an alkylene group with the carbon number of 2C to 10C, and, in the formula (2), R<SP>C</SP>is an alkylene group with the carbon number of 2C to 10C. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&amp;INPIT

Description

本発明は、透明導電性フィルムに関する。さらに詳しくは、高湿環境下に長時間放置しても信頼性に優れたフラットパネルディスプレイあるいは電子ペーパーを与える、寸法安定性に優れた透明導電性フィルムに関する。   The present invention relates to a transparent conductive film. More specifically, the present invention relates to a transparent conductive film excellent in dimensional stability which gives a flat panel display or electronic paper excellent in reliability even when left in a high humidity environment for a long time.

近年、液晶表示素子や有機EL表示素子等のフラットパネルディスプレイ分野においては、耐破損性の向上、軽量化、薄型化の要望から、透明高分子からなるプラスチックフィルムを、従来のガラス基板と置き換える検討が続けられている。しかしながら、プラスチックは、ガラスと比較して熱や吸湿による寸法変化が大きく、しかもガスや水蒸気を透過しやすいという問題がある。   In recent years, in the field of flat panel displays such as liquid crystal display elements and organic EL display elements, a study to replace a plastic film made of a transparent polymer with a conventional glass substrate in order to improve breakage resistance, reduce the weight, and reduce the thickness. Has been continued. However, the plastic has a problem that the dimensional change due to heat and moisture absorption is larger than that of glass, and gas and water vapor are easily transmitted.

例えば、近年では、液晶ディスプレイの表示品位を向上させるために、高精細高容量化ならびに多諧調カラー表示化の検討がなされている。前者については、高プレチルト角を得るための高温焼成の配向膜、および、ファインピッチでかつ良好な接続信頼性が得られる高温圧着の異方導電性膜の使用が検討されており、後者については、画素電極ならびにカラーフィルターの微細加工が要素技術のひとつになっている。したがって、基材となるプラスチックフィルムには、これらの加工に耐えうる、いっそうの耐熱性と寸法安定性が求められている。   For example, in recent years, in order to improve the display quality of a liquid crystal display, high definition, high capacity, and multi-tone color display have been studied. For the former, the use of a high-temperature firing orientation film for obtaining a high pretilt angle and a high-temperature pressure-bonding anisotropic conductive film that provides fine pitch and good connection reliability has been studied. Fine processing of pixel electrodes and color filters has become one of the elemental technologies. Therefore, the plastic film used as the base material is required to have further heat resistance and dimensional stability that can withstand these processes.

これに対し、特許文献1には、複屈折が小さいポリエーテルサルフォンフィルムにインジウム酸化物膜を形成したディスプレイ用の透明導電性フィルムが記載されている。しかしながら、特許文献1に記載された透明導電性フィルムは、耐熱性には優れるものの、熱収縮率が大きく、吸水による寸法変化が著しいフィルムであり、また、加熱溶融押し出し成型によりフィルムを作製しているため、フィルム表面にダイライン、ゲル化物、フィッシュアイ等の欠点が多く発生していた。したがって、特許文献1に記載されたフィルムによっては、表示品位に優れたディスプレイを実現するのは困難であった。   On the other hand, Patent Document 1 describes a transparent conductive film for a display in which an indium oxide film is formed on a polyethersulfone film having a small birefringence. However, although the transparent conductive film described in Patent Document 1 is excellent in heat resistance, it is a film having a large heat shrinkage rate and a significant dimensional change due to water absorption. Therefore, many defects such as die lines, gelled products, and fish eyes occurred on the film surface. Therefore, depending on the film described in Patent Document 1, it has been difficult to realize a display having excellent display quality.

また、特許文献2には、位相差を10〜2000nmの範囲で調整した1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−アルキルシクロアルカンならびにその置換体からなるポリカーボネートあるいはポリエステルカーボネートを、ディスプレイ用の基板に用いることが記載されている。しかしながら、特許文献2に記載されたフィルムは、耐熱性には優れるものの、高温加熱後の寸法変化量が大きく、水蒸気バリア性に乏しいため、該フィルムによって表示品位に優れたディスプレイを得るのは困難であった。   Further, Patent Document 2 discloses a display substrate comprising a 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -alkylcycloalkane having a phase difference adjusted in the range of 10 to 2000 nm and a polycarbonate or polyester carbonate comprising a substitution product thereof. It is described to be used. However, although the film described in Patent Document 2 is excellent in heat resistance, it has a large amount of dimensional change after high-temperature heating and has poor water vapor barrier properties. Therefore, it is difficult to obtain a display excellent in display quality with the film. Met.

特開昭59−158015号公報JP 59-158015 A 特開平07−246661号公報JP 07-246661 A

本発明は、かかる現状に鑑みなされたもので、湿度変化によっても優れた寸法安定性を有する透明導電性フィルムを提供することを目的とする。   This invention is made | formed in view of this present condition, and it aims at providing the transparent conductive film which has the outstanding dimensional stability also by a humidity change.

本発明者らは、上記課題を解決するため鋭意検討した。その結果、特定構造の繰り返し単位を有する芳香族ポリエステルを基材の材料として用いることにより、優れた耐湿環境特性を有する透明導電性フィルムが得られることを見出し、本発明を完成するに至った。   The present inventors diligently studied to solve the above problems. As a result, it has been found that by using an aromatic polyester having a repeating unit having a specific structure as a material for a substrate, a transparent conductive film having excellent moisture resistance environment characteristics can be obtained, and the present invention has been completed.

すなわち本発明は、下記式(1)で表される酸成分と、下記式(2)で表されるジオール成分とを含む芳香族ポリエステルを主成分とする高分子フィルムの少なくとも一方の面に、透明導電層が形成された透明導電性フィルムである。   That is, the present invention provides at least one surface of a polymer film mainly composed of an aromatic polyester containing an acid component represented by the following formula (1) and a diol component represented by the following formula (2): It is a transparent conductive film in which a transparent conductive layer is formed.

Figure 2009170251
(式中、Rは、炭素数2〜10のアルキレン基である。)
Figure 2009170251
(式中、Rは、炭素数2〜10のアルキレン基である。)
Figure 2009170251
(In the formula, RA is an alkylene group having 2 to 10 carbon atoms.)
Figure 2009170251
(In the formula, R C is an alkylene group having 2 to 10 carbon atoms.)

本発明によれば、特定構造の繰り返し単位を有する芳香族ポリエステルを基材の材料として用いることにより、湿度変化に対する寸法変化が極めて少ない透明導電性フィルムを提供することができる。かかる透明導電性フィルムは、高精細、高容量、多諧調、カラー表示といった液晶や有機ELその他の表示品位に優れたフラットパネルディスプレイに特に有用である。   According to the present invention, by using an aromatic polyester having a repeating unit having a specific structure as a base material, it is possible to provide a transparent conductive film having very little dimensional change with respect to humidity change. Such a transparent conductive film is particularly useful for flat panel displays excellent in liquid crystal, organic EL, and other display quality such as high definition, high capacity, multi-tone, and color display.

また、さらに、前記式(1)の繰り返し単位を、50モル%以上100モル%以下含み、下記式(3)で表される繰り返し単位を、0モル%以上50モル%以下含む芳香族ポリエステルを用いれば、湿度変化に対する寸法安定性に加えて、ガスバリア性、および、耐熱性を備えさせることができる。   Furthermore, the aromatic polyester which contains the repeating unit of said Formula (1) 50 mol% or more and 100 mol% or less, and contains the repeating unit represented by following formula (3) 0 mol% or more and 50 mol% or less. If used, in addition to dimensional stability against humidity changes, gas barrier properties and heat resistance can be provided.

Figure 2009170251
(式中、Rはフェニレン基またはナフタレンジイル基である。)
Figure 2009170251
(In the formula, R B is a phenylene group or a naphthalenediyl group.)

あるいは、さらに、前記式(1)の繰り返し単位を、5モル%以上50モル%未満含み、上記式(3)で表される繰り返し単位を、50モル%を超えて95モル%以下含む芳香族ポリエステルを用いれば、湿度変化に対する寸法安定性に加えて、温度変化に対する寸法安定性、および、加工容易性を備えさせることができる。   Alternatively, the aromatic further contains 5 mol% or more and less than 50 mol% of the repeating unit of the formula (1), and contains 50 mol% or more and 95 mol% or less of the repeating unit represented by the formula (3). If polyester is used, in addition to dimensional stability against humidity changes, dimensional stability against temperature changes and processability can be provided.

以下、本発明について詳細に説明する。
<芳香族ポリエステル>
本発明の高分子フィルムを構成する芳香族ポリエステルは、酸成分とジオール成分とを含有する。
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
<Aromatic polyester>
The aromatic polyester constituting the polymer film of the present invention contains an acid component and a diol component.

[酸成分]
酸成分としては、下記式(1)で表される繰り返し単位を含む。

Figure 2009170251
[Acid component]
As an acid component, the repeating unit represented by following formula (1) is included.
Figure 2009170251

式中、Rは、炭素数2〜10のアルキレン基である。Rとなるアルキレン基としては、エチレン基、プロピレン基、イソプロピレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ヘキサメチレン基、オクタメチレン基等が挙げられる。 In the formula, R A is an alkylene group having 2 to 10 carbon atoms. Examples of the alkylene group that becomes RA include an ethylene group, a propylene group, an isopropylene group, a trimethylene group, a tetramethylene group, a hexamethylene group, and an octamethylene group.

酸成分として上記式(1)で表される繰り返し単位となる成分、ジオール成分として、後記する式(2)で表される繰り返し単位となる成分を含む芳香族ポリエステルを高分子フィルムとして用いることにより、本発明の透明導電性フィルムは、湿度変化に対する寸法安定性に優れたフィルムとなる。   By using, as a polymer film, an aromatic polyester containing a component that becomes a repeating unit represented by the above formula (1) as an acid component, and a component that becomes a repeating unit represented by the following formula (2) as a diol component: The transparent conductive film of the present invention is a film having excellent dimensional stability against changes in humidity.

なお、本発明においては、上記式(1)で表される繰り返し単位は、6,6’−(エチレンジオキシ)ジ−2−ナフトエ酸、6,6’−(トリメチレンジオキシ)ジ−2−ナフトエ酸、および、6,6’−(ブチレンジオキシ)ジ−2−ナフトエ酸からなる群から選ばれる少なくとも1種以上を由来とする単位であることが好ましい。これらのなかでは、式(1)におけるRの炭素数が偶数のものが好ましく、6,6’−(エチレンジオキシ)ジ−2−ナフトエ酸由来の繰り返し単位であることが、湿度変化に対する寸法安定性の面から特に好ましい。 In the present invention, the repeating unit represented by the above formula (1) is 6,6 ′-(ethylenedioxy) di-2-naphthoic acid, 6,6 ′-(trimethylenedioxy) di- It is preferably a unit derived from at least one selected from the group consisting of 2-naphthoic acid and 6,6 ′-(butylenedioxy) di-2-naphthoic acid. Among these, even-numbered carbon atoms of R A in formula (1) are preferable, and it is a repeating unit derived from 6,6 ′-(ethylenedioxy) di-2-naphthoic acid, which is resistant to changes in humidity. This is particularly preferable from the viewpoint of dimensional stability.

また、本発明においては、上記式(1)の繰り返し単位を、50モル%以上100モル%以下含み、下記式(3)で表される繰り返し単位を、0モル%以上50モル%以下含む芳香族ポリエステルを用いれば、湿度変化に対する寸法安定性に加えて、ガスバリア性、および、耐熱性を備えさせることができる。
この場合の上記式(1)で表される繰り返し単位の含有量は、好ましくは70〜100モル%、さらに好ましくは80〜100モル%である。
Moreover, in this invention, the aromatic unit which contains the repeating unit of the said Formula (1) 50 mol% or more and 100 mol% or less, and contains the repeating unit represented by following formula (3) 0 mol% or more and 50 mol% or less. If group polyester is used, in addition to the dimensional stability with respect to a humidity change, gas barrier property and heat resistance can be provided.
In this case, the content of the repeating unit represented by the above formula (1) is preferably 70 to 100 mol%, more preferably 80 to 100 mol%.

Figure 2009170251
Figure 2009170251

式中、Rはフェニレン基またはナフタレンジイル基である。式(3)で表される繰り返し単位としては、例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、2,7−ナフタレンジカルボン酸等に由来する単位、またはこれらの組み合わせが挙げられる。。 In the formula, R B is a phenylene group or a naphthalenediyl group. Examples of the repeating unit represented by the formula (3) include units derived from terephthalic acid, isophthalic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, 2,7-naphthalenedicarboxylic acid, and combinations thereof. .

あるいは、さらに、上記式(1)の特定構造の繰り返し単位を、5モル%以上50モル%未満含み、上記式(3)で表される繰り返し単位を、50モル%を超えて95モル%以下含む芳香族ポリエステルを用いれば、湿度変化に対する寸法安定性に加えて、温度変化に対する寸法安定性、および、加工容易性を備えさせることができる。   Alternatively, the repeating unit having a specific structure of the above formula (1) is contained in an amount of 5 mol% or more and less than 50 mol%, and the repeating unit represented by the formula (3) is more than 50 mol% and not more than 95 mol%. If the aromatic polyester containing is used, in addition to the dimensional stability with respect to a humidity change, the dimensional stability with respect to a temperature change and processability can be provided.

この場合の上記式(1)で表される繰り返し単位の含有量の上限は、好ましくは45モル%、より好ましくは40モル%、さらに好ましくは35モル%、特に好ましくは30モル%である。下限は、好ましくは5モル%、より好ましくは7モル%、さらに好ましくは10モル%、特に好ましくは15モル%である。したがって、上記式(1)で表される繰り返し単位の含有量は、好ましくは5〜45モル%、より好ましくは7〜40モル%、さらに好ましくは10〜35モル%、特に好ましくは15〜30モル%である。   In this case, the upper limit of the content of the repeating unit represented by the above formula (1) is preferably 45 mol%, more preferably 40 mol%, still more preferably 35 mol%, and particularly preferably 30 mol%. The lower limit is preferably 5 mol%, more preferably 7 mol%, still more preferably 10 mol%, and particularly preferably 15 mol%. Therefore, the content of the repeating unit represented by the above formula (1) is preferably 5 to 45 mol%, more preferably 7 to 40 mol%, still more preferably 10 to 35 mol%, and particularly preferably 15 to 30 mol%. Mol%.

また、本発明に用いられる芳香族ポリエステルを構成する酸成分としては、上記式(1)および(3)に示す酸成分の他に、他の酸成分を併用することもできる。他の酸成分としては、例えば下記式(6)または(7)で表される。
HOOC−R−COOH (6)
HOOC−R−OH (7)
およびRとしては、特に限定されるものではなく、例えば炭素数2〜10の炭化水素基を挙げることができる。この炭化水素基は、低級アルキル基、ハロゲン等が核置換されていてもよい。
Moreover, as an acid component which comprises the aromatic polyester used for this invention, other acid components can also be used together other than the acid component shown to the said Formula (1) and (3). Other acid components are represented, for example, by the following formula (6) or (7).
HOOC-R 1 -COOH (6)
HOOC-R 2 -OH (7)
R 1 and R 2 are not particularly limited, and examples thereof include hydrocarbon groups having 2 to 10 carbon atoms. In this hydrocarbon group, a lower alkyl group, halogen or the like may be substituted with a nucleus.

このような上記式(1)および(3)に示されない他の酸成分としては、具体的には、1,4−フェニレンジオキシジカルボン酸、1,3−フェニレンジオキシジ酢酸、4,4’−ジフェニルジカルボン酸、4,4’−ジフェニルエーテルジカルボン酸、4,4’−ジフェニルケトンジカルボン酸、4,4’−ジフェノキシエタンジカルボン酸、4,4’−ジフェニルスルホンジカルボン酸等の芳香族ジカルボン酸、ヘキサヒドロテレフタル酸、ヘキサヒドロイソフタル酸等の脂環式ジカルボン酸、あるいは、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ウンデカジカルボン酸、ドデカジカルボン酸等の脂肪族ジカルボン酸等が挙げられる。   Specific examples of other acid components not represented by the above formulas (1) and (3) include 1,4-phenylenedioxydicarboxylic acid, 1,3-phenylenedioxydiacetic acid, 4,4 Aromatic dicarboxylic such as' -diphenyldicarboxylic acid, 4,4'-diphenylether dicarboxylic acid, 4,4'-diphenylketone dicarboxylic acid, 4,4'-diphenoxyethanedicarboxylic acid, 4,4'-diphenylsulfonedicarboxylic acid Acids, alicyclic dicarboxylic acids such as hexahydroterephthalic acid, hexahydroisophthalic acid, or succinic acid, glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, suberic acid, azelaic acid, sebacic acid, undecadicarboxylic acid, dodecadicarboxylic acid And aliphatic dicarboxylic acids such as

これら上記式(1)および(3)に示されない他の酸成分は、一種単独であっても、二種以上を同時に用いてもよい。かかる他の酸成分は、全酸成分当たり50モル%未満、さらには30モル%未満とすることが好ましい。   These other acid components not represented by the above formulas (1) and (3) may be used alone or in combination of two or more. Such other acid components are preferably less than 50 mol%, more preferably less than 30 mol%, based on the total acid components.

[ジオール成分]
ジオール成分としては、下記式(2)で表される成分とを含む。

Figure 2009170251
[Diol component]
As a diol component, the component represented by following formula (2) is included.
Figure 2009170251

式中、Rは、炭素数2〜10のアルキレン基である。Rとなるアルキレン基としては、エチレン基、プロピレン基、イソプロピレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ヘキサメチレン基、オクタメチレン基等が挙げられる。 In the formula, R C is an alkylene group having 2 to 10 carbon atoms. Examples of the alkylene group that becomes R C include an ethylene group, a propylene group, an isopropylene group, a trimethylene group, a tetramethylene group, a hexamethylene group, and an octamethylene group.

特にエチレングリコールのような、炭素数が偶数であるグリコールは、得られるポリエステルの機械的特性、耐熱性を良好とすることができるため好ましい。炭素数が偶数となるグリコールとしては、例えば、エチレングリコール、イソプロピレングリコール、テトラメチレングリコール、ヘキサメチレングリコール、オクタメチレングリコール等を挙げることができる。なかでは、エチレングリコール、テトラメチレングリコールが好ましく、エチレングリコールが特に好ましい。   In particular, glycols having an even number of carbon atoms such as ethylene glycol are preferable because the mechanical properties and heat resistance of the obtained polyester can be improved. Examples of the glycol having an even number of carbon atoms include ethylene glycol, isopropylene glycol, tetramethylene glycol, hexamethylene glycol, and octamethylene glycol. Of these, ethylene glycol and tetramethylene glycol are preferable, and ethylene glycol is particularly preferable.

本発明における上記式(2)で表されるジオール成分の含有量は、ジオール成分全体に対して、好ましくは90モル%以上、より好ましくは90〜100モル%、さらに好ましくは95〜100モル%、最も好ましくは98〜100モル%である。   The content of the diol component represented by the above formula (2) in the present invention is preferably 90 mol% or more, more preferably 90 to 100 mol%, still more preferably 95 to 100 mol%, based on the entire diol component. Most preferably, it is 98-100 mol%.

ジオール成分としては、上記式(2)で表される成分以外に、下記式(5)で表される繰り返し単位を0〜10モル%の範囲で含有していてもよい。下記式(5)で表されるジオール成分の含有量は、好ましくは0〜5モル%、より好ましくは0〜2モル%である。   As a diol component, you may contain the repeating unit represented by following formula (5) in the range of 0-10 mol% other than the component represented by the said Formula (2). Content of the diol component represented by following formula (5) becomes like this. Preferably it is 0-5 mol%, More preferably, it is 0-2 mol%.

Figure 2009170251
Figure 2009170251

式中、Rは、炭素数2〜10のアルキレン基である。Rとなるアルキレン基としては、エチレン基、プロピレン基、イソプロピレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ヘキサメチレン基、オクタメチレン基等が挙げられる。また、Rは、一種のみならず、二種以上であってもよい。 In formula, RD is a C2-C10 alkylene group. Examples of the alkylene group that becomes RD include an ethylene group, a propylene group, an isopropylene group, a trimethylene group, a tetramethylene group, a hexamethylene group, and an octamethylene group. Moreover, RD may be not only one type but also two or more types.

本発明に用いられる芳香族ポリエステルは、上記の酸成分とグリコール成分とのエステルよりなるが、6,6’−(エチレンジオキシ)ジ−2−ナフトエ酸成分と、エチレングリコールを含む、炭素数が2〜10でありかつ主鎖を形成する炭素数が偶数であるグリコール成分とのエステル単位が、全繰り返し単位の50%以上、さらには70%以上、特には80%以上であることが好ましい。   The aromatic polyester used in the present invention comprises an ester of the above acid component and glycol component, but contains 6,6 ′-(ethylenedioxy) di-2-naphthoic acid component and ethylene glycol. Is preferably 2 to 10 and the ester unit with the glycol component having an even number of carbon atoms forming the main chain is 50% or more, further 70% or more, particularly 80% or more of all repeating units. .

[その他成分]
本発明に用いられる芳香族ポリエステルには、本発明の目的・効果を損なわない範囲で、上記の酸成分およびグリコール成分の外に、他の共重合成分が含有されていてもよい。他の共重合成分としては、例えば、グリコール酸、p−ヒドロキシ安息香酸、p−β−ヒドロキシエトキシ安息香酸等のヒドロキシカルボン酸や、アルコキシカルボン酸、ステアリルアルコール、ベンジルアルコール、ステアリン酸、ベヘン酸、安息香酸、t−ブチル安息香酸、ベンゾイル安息香酸等の単官能成分、トリカルバリル酸、トリメリット酸、トリメシン酸、ピロメリット酸、ナフタレンテトラカルボン酸、没食子酸、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、グリセロール、ペンタエリスリトール、シュガーエステル等の三官能以上の多官能成分等が挙げられる。
[Other ingredients]
The aromatic polyester used in the present invention may contain other copolymer components in addition to the acid component and the glycol component as long as the object and effect of the present invention are not impaired. Other copolymer components include, for example, hydroxycarboxylic acids such as glycolic acid, p-hydroxybenzoic acid, p-β-hydroxyethoxybenzoic acid, alkoxycarboxylic acids, stearyl alcohol, benzyl alcohol, stearic acid, behenic acid, Monofunctional components such as benzoic acid, t-butylbenzoic acid, benzoylbenzoic acid, tricarballylic acid, trimellitic acid, trimesic acid, pyromellitic acid, naphthalenetetracarboxylic acid, gallic acid, trimethylolethane, trimethylolpropane, glycerol , Trifunctional or higher polyfunctional components such as pentaerythritol and sugar ester.

また、本発明に用いられる芳香族ポリエステルには、他種の熱可塑性ポリマー、紫外線吸収剤等の安定剤、酸化防止剤、可塑剤、滑剤、難燃剤、離型剤、顔料、核剤、充填剤、あるいは、ガラス繊維、炭素繊維、層状ケイ酸塩等を、必要に応じて配合しても良い。   The aromatic polyester used in the present invention includes other types of thermoplastic polymers, stabilizers such as UV absorbers, antioxidants, plasticizers, lubricants, flame retardants, release agents, pigments, nucleating agents, and fillers. An agent, glass fiber, carbon fiber, layered silicate, or the like may be blended as necessary.

他種の熱可塑性ポリマーとしては、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等上記した芳香族ポリエステルとは組成の異なるポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリカーボネート、ABS樹脂、ポリメチルメタクリレート、ポリアミド系エラストマー、ポリエステル系エラストマー等が挙げられる。   Other types of thermoplastic polymers include polyester resins, polyamide resins, polycarbonates, ABS resins, polymethyl methacrylates, polyamide elastomers, polyester elastomers having a different composition from the above-mentioned aromatic polyesters such as polyethylene terephthalate and polybutylene terephthalate. Etc.

<芳香族ポリアミドの物性>
[固有粘度]
本発明に用いられる芳香族ポリエステルは、P−クロロフェノール/1,1,2,2−テトラクロロエタン(質量比40/60)の混合溶媒を用いて35℃で測定した固有粘度が、好ましくは0.4〜3.0dl/g、さらに好ましくは0.5〜2.8dl/g、特に好ましくは0.6〜2.5dl/gの範囲である。
<Physical properties of aromatic polyamide>
[Intrinsic viscosity]
The aromatic polyester used in the present invention preferably has an intrinsic viscosity measured at 35 ° C. using a mixed solvent of P-chlorophenol / 1,1,2,2-tetrachloroethane (mass ratio 40/60), preferably 0. 0.4 to 3.0 dl / g, more preferably 0.5 to 2.8 dl / g, and particularly preferably 0.6 to 2.5 dl / g.

[融点]
本発明に用いられる芳香族ポリエステルの融点は、好ましくは200〜260℃の範囲、さらに好ましくは205〜255℃の範囲、特に好ましくは210〜250℃の範囲である。融点はDSCで測定することができる。
融点が260℃を超える場合には、溶融押出してフィルムを成形する際に、流動性が劣り、吐出等が不均一となりやすくなる。一方で、融点が200℃未満になると、製膜性には優れるものの、ポリエステルの持つ機械的特性等の物性が損なわれやすくなる。
[Melting point]
The melting point of the aromatic polyester used in the present invention is preferably in the range of 200 to 260 ° C, more preferably in the range of 205 to 255 ° C, and particularly preferably in the range of 210 to 250 ° C. The melting point can be measured by DSC.
When the melting point exceeds 260 ° C., when the film is formed by melt extrusion, the fluidity is inferior, and the discharge is likely to be non-uniform. On the other hand, when the melting point is less than 200 ° C., although the film forming property is excellent, physical properties such as mechanical properties of the polyester are easily impaired.

一般的に共重合体は単独重合体に比べ融点が低く、機械的強度が低下する傾向にある。しかしながら、本発明に用いられる芳香族ポリエステルは、一般式(1)の繰り返し単位および一般式(3)の繰り返し単位を含有する共重合ポリエステルであっても、式(1)の繰り返し単位を有する単独重合体に比べ、融点が低いが機械的強度は同等程度であるという優れた特性を有する。なお、融点は、共重合成分の種類と共重合量、そして副生物であるジアルキレングリコールの制御等によって、調整することができる。   In general, a copolymer has a lower melting point than a homopolymer and tends to decrease mechanical strength. However, even if the aromatic polyester used in the present invention is a copolyester containing a repeating unit of the general formula (1) and a repeating unit of the general formula (3), it has a single unit having the repeating unit of the formula (1). Compared to a polymer, it has an excellent characteristic that its melting point is low but its mechanical strength is comparable. The melting point can be adjusted by controlling the type and amount of copolymerization component and the by-product dialkylene glycol.

[ガラス転移点]
本発明に用いられる芳香族ポリエステルのガラス転移温度(以下、Tgと称することがある。)は、好ましくは80〜120℃、より好ましくは82〜118℃、さらに好ましくは85〜118℃の範囲である。ガラス転移温度は、DSCで測定することができる。
Tgがこの範囲にあると、耐熱性および寸法安定性に優れたフィルムを得ることができる。なお、ガラス転移温度は、共重合成分の種類と共重合量、そして副生物であるジアルキレングリコールの制御等によって、調整することができる。
[Glass transition point]
The glass transition temperature (hereinafter sometimes referred to as Tg) of the aromatic polyester used in the present invention is preferably 80 to 120 ° C, more preferably 82 to 118 ° C, and still more preferably 85 to 118 ° C. is there. The glass transition temperature can be measured by DSC.
When Tg is in this range, a film excellent in heat resistance and dimensional stability can be obtained. The glass transition temperature can be adjusted by controlling the type and amount of copolymerization component and the by-product dialkylene glycol.

[ジアルキレングリコール成分の含有量]
本発明に用いられる芳香族ポリエステルは、反応副生物であるジアルキレングリコール成分が10mol%未満であることが好ましく、さらには7mol%以下であることが好ましい。ジアルキレングリコールがポリマー中に残存したり、あるいは当該成分がポリマー骨格に含まれたりすると、主鎖の剛直性が失われ、機械的特性、耐熱性低下を引き起こす原因になる。このようなジアルキレングリコール成分は、グリコール成分同士の反応、またはポリマー末端のヒドロキシ末端同士の反応により生成することが知られており、グリコール成分がエチレングリコールの場合には、ジエチレングリコールが生成する。ジアルキレングリコールの含有量は、核磁気共鳴装置によって測定する事ができる。
[Content of dialkylene glycol component]
In the aromatic polyester used in the present invention, the dialkylene glycol component as a reaction byproduct is preferably less than 10 mol%, and more preferably 7 mol% or less. If the dialkylene glycol remains in the polymer or the component is contained in the polymer skeleton, the rigidity of the main chain is lost, which causes a decrease in mechanical properties and heat resistance. It is known that such a dialkylene glycol component is produced by a reaction between glycol components or a reaction between hydroxy ends of polymer ends. When the glycol component is ethylene glycol, diethylene glycol is produced. The content of dialkylene glycol can be measured by a nuclear magnetic resonance apparatus.

[末端カルボキシ濃度]
本発明に用いられる芳香族ポリエステルは、末端カルボキシ濃度が200eq/ton以下であることが好ましく、より好ましくは0.1〜150eq/ton、さらに好ましくは0.1〜100eq/tonの範囲である。
ポリエステルでは通常、重縮合反応の平衡定数が小さいため、カルボキシ末端量の増加は、吸水率の増加とカルボキシ基による酸触媒作用により加水分解性の増加を引き起こし、本来の物性が損なわれるという問題があった。このため、耐加水分解性を向上させるためには、このカルボキシ末端量を小さくすることが重要である。
[Terminal carboxy concentration]
The aromatic polyester used in the present invention preferably has a terminal carboxy concentration of 200 eq / ton or less, more preferably 0.1 to 150 eq / ton, and still more preferably 0.1 to 100 eq / ton.
Polyester usually has a small equilibrium constant for the polycondensation reaction, so an increase in the amount of carboxy ends causes an increase in water absorption and acid catalysis by the carboxy group, resulting in an increase in hydrolyzability, and the original physical properties are impaired. there were. For this reason, in order to improve hydrolysis resistance, it is important to make this carboxy terminal amount small.

[アルカリ金属の含有量]
また、本発明に用いられる芳香族ポリエステルは、アルカリ金属の含有量がポリエステル全体に対して300ppm以下であることが好ましい。アルカリ金属量が300ppmより多い場合は、得られるポリエステルの透明性や、分子量低下が起こり、機械的強度が低下する場合がある。好ましくは200ppm以下、より好ましくは50ppm以下である。なお、ここでいう「アルカリ金属」とは、ナトリウム金属およびカリウム金属の合計量であり、アルカリ金属の含有量は、原子吸光法によって測定することができる。
[Alkali metal content]
The aromatic polyester used in the present invention preferably has an alkali metal content of 300 ppm or less based on the whole polyester. When the amount of the alkali metal is more than 300 ppm, the transparency and molecular weight of the resulting polyester may decrease, and the mechanical strength may decrease. Preferably it is 200 ppm or less, More preferably, it is 50 ppm or less. The “alkali metal” as used herein refers to the total amount of sodium metal and potassium metal, and the content of alkali metal can be measured by atomic absorption spectrometry.

<高分子フィルム>
[高分子フィルムの製造方法]
本発明の高分子フィルムは、上記した芳香族ポリエステルをフィルム状に溶融押出し、キャスティングドラムで冷却固化させて未延伸フィルムとし、得られた未延伸フィルムをTg〜(Tg+60)℃で縦方向、横方向に、それぞれ倍率2.0〜5.0倍で2軸に延伸し、(Tm−100)〜(Tm−5)℃の温度で1〜100秒間熱固定することで成形ことができる。ここで、Tgは、用いる芳香族ポリエステルのガラス転移温度、Tmは、融点を表わす。
延伸は、一般に用いられる方法、例えば、ロールによる方法やステンターを用いる方法で行うことができる。縦方向と横方向とを同時に延伸してもよく、また、縦方向と横方向とを逐次に延伸してもよい。
<Polymer film>
[Method for producing polymer film]
The polymer film of the present invention is obtained by melt-extruding the above-mentioned aromatic polyester into a film shape, cooling and solidifying with a casting drum to obtain an unstretched film, and the obtained unstretched film at Tg to (Tg + 60) ° C. in the longitudinal direction and transverse direction. In each direction, the film is stretched biaxially at a magnification of 2.0 to 5.0 times, and can be molded by heat setting at a temperature of (Tm-100) to (Tm-5) ° C. for 1 to 100 seconds. Here, Tg represents the glass transition temperature of the aromatic polyester used, and Tm represents the melting point.
Stretching can be performed by a generally used method, for example, a method using a roll or a method using a stenter. The longitudinal direction and the transverse direction may be stretched simultaneously, and the longitudinal direction and the transverse direction may be stretched sequentially.

さらに、必要な場合には弛緩処理をを施してもよい。弛緩処理を行う場合には、(X−80)〜X℃の温度範囲で行うことが効果的である。ここでXは、熱固定温度のことを表わす。弛緩処理の方法としては特に限定されるものではなく、いずれの方法を用いた場合であっても、供給側の速度に対して引き取り側の速度の減速率を0.1〜10%にして行うことが好ましい。弛緩処理後のフィルムは、150℃で30分加熱した後の寸法収縮率が、フィルムの長手方向ならびに長手方向に垂直な方向のいずれも、0.1%未満となるように調整されているものがいっそう好ましい。このようなフィルムは、ディスプレイの製造工程における高温処理プロセスにおいても、フィルム基板の変形を抑制することができ、その結果、高精細なパネルを製造することができる。   Furthermore, a relaxation treatment may be performed if necessary. When the relaxation treatment is performed, it is effective to perform the treatment in a temperature range of (X-80) to X ° C. Here, X represents the heat setting temperature. The method of the relaxation treatment is not particularly limited, and even if any method is used, the reduction rate of the take-up side speed is set to 0.1 to 10% with respect to the supply side speed. It is preferable. The film after the relaxation treatment is adjusted so that the dimensional shrinkage after heating at 150 ° C. for 30 minutes is less than 0.1% in both the longitudinal direction of the film and the direction perpendicular to the longitudinal direction. Is more preferable. Such a film can suppress deformation of the film substrate even in a high-temperature treatment process in a display manufacturing process, and as a result, a high-definition panel can be manufactured.

[高分子フィルムの厚み]
本発明の透明導電性フィルムを構成する高分子フィルムの厚みは、12〜250μmの範囲であることが好ましく、より好ましくは25〜200μm、特に好ましくは38〜150μmの範囲である。フィルムの厚みが12μm未満の場合には、フィルムの絶縁性能が不足し、またディスプレイ電極基板用フィルムとして曲げ剛性が不足することがある。一方、フィルムの厚みが250μmを超える場合には、フィルムの耐屈曲性が不足し、外力を加えられた場合にフィルムに割れが発生したり、折れた状態のまま戻らなくなったりする。
[Thickness of polymer film]
The thickness of the polymer film constituting the transparent conductive film of the present invention is preferably in the range of 12 to 250 μm, more preferably 25 to 200 μm, and particularly preferably 38 to 150 μm. When the thickness of the film is less than 12 μm, the insulating performance of the film is insufficient, and the bending rigidity as a film for a display electrode substrate may be insufficient. On the other hand, when the thickness of the film exceeds 250 μm, the film has insufficient bending resistance, and when an external force is applied, the film may be cracked or may not return in a folded state.

[塗布層]
本発明の透明導電性フィルムを構成する高分子フィルムの少なくとも片面には、接着性を改良するための塗布層が積層されていてもよい。このような塗布層としては、これまでに多数提案されており、例えば、ポリエステルに代表される比較的極性の高いフィルムに対しては、水溶性あるいは水分分散性のポリエステル系樹脂あるいはアクリル系樹脂等を塗布することができる。また、塗布層には、必要に応じて各種微粒子を添加して、高分子フィルムに滑り性を付与することもできる。
塗布層の厚みは、0.01〜0.2μmであることが好ましく、より好ましくは0.02〜0.1μmである。
[Coating layer]
An application layer for improving adhesiveness may be laminated on at least one surface of the polymer film constituting the transparent conductive film of the present invention. As such a coating layer, many have been proposed so far. For example, for a film having a relatively high polarity represented by polyester, a water-soluble or water-dispersible polyester resin or acrylic resin is used. Can be applied. Further, various fine particles may be added to the coating layer as necessary to impart slipperiness to the polymer film.
The thickness of the coating layer is preferably 0.01 to 0.2 μm, more preferably 0.02 to 0.1 μm.

<透明導電層>
[透明導電層の材料]
本発明の透明導電性フィルムを構成する透明導電層は、公知の金属膜、金属酸化物膜等を適用することができる。なかでは、透明性、導電性、機械的特性の点から、インジウム酸化物、カドミウム酸化物、スズ酸化物、亜鉛酸化物、および、チタン酸化物からなる群から選ばれる少なくとも一種以上の金属酸化物膜であることが好ましい。
<Transparent conductive layer>
[Material of transparent conductive layer]
A known metal film, metal oxide film, or the like can be applied to the transparent conductive layer constituting the transparent conductive film of the present invention. In particular, at least one metal oxide selected from the group consisting of indium oxide, cadmium oxide, tin oxide, zinc oxide, and titanium oxide in terms of transparency, conductivity, and mechanical properties. A membrane is preferred.

このような金属酸化物膜としては、例えば、不純物としてスズ、テルル、カドミウム、モリブテン、タングステン、フッ素、亜鉛、ゲルマニウム等を添加したインジウム酸化物、カドミウム酸化物、および、スズ酸化物、不純物としてアルミニウムを添加した亜鉛酸化物、チタン酸化物の膜等が挙げられる。なかでも、インジウム酸化物を主成分とし、スズ酸化物が2〜20質量%および/または亜鉛酸化物が2〜20質量%含まれる透明導電層が、透明性、導電性に特に優れるため好ましい。   As such a metal oxide film, for example, tin, tellurium, cadmium, molybdenum, tungsten, fluorine, zinc, germanium added indium oxide, cadmium oxide, and tin oxide as impurities, aluminum as impurities Zinc oxide and titanium oxide films to which is added. Among these, a transparent conductive layer containing indium oxide as a main component and containing 2 to 20% by mass of tin oxide and / or 2 to 20% by mass of zinc oxide is preferable because it is particularly excellent in transparency and conductivity.

また、本発明の透明導電性フィルムを有機ELに用いる場合には、透明導電層の仕事関数を制御して発光効率を向上させる目的で、インジウム酸化物を主成分とし、スズ酸化物および亜鉛酸化物からなる群から選ばれる1種以上の酸化物を含むものに、さらに錫、亜鉛以外の元素を添加してもよい。   In addition, when the transparent conductive film of the present invention is used for organic EL, in order to improve the luminous efficiency by controlling the work function of the transparent conductive layer, it is mainly composed of indium oxide, tin oxide and zinc oxide. Elements other than tin and zinc may be further added to those containing one or more oxides selected from the group consisting of materials.

[透明導電層の形成方法]
透明導電層を形成する方法は、特に限定されるものではないが、主としてスパッタ法が使用される。直流スパッタ法、直流マグネトロンスパッタ法、高周波マグネトロンスパッタ法、イオンビームスパッタリング法等が適用できるが、生産性の観点から、直流マグネトロンスパッタ法を採用することが好ましい。
[Method for forming transparent conductive layer]
A method for forming the transparent conductive layer is not particularly limited, but a sputtering method is mainly used. A direct current sputtering method, a direct current magnetron sputtering method, a high frequency magnetron sputtering method, an ion beam sputtering method, and the like can be applied. From the viewpoint of productivity, the direct current magnetron sputtering method is preferably employed.

[透明導電層の膜厚]
透明導電層の膜厚は、十分な導電性を得るために、10〜500nmであることが好ましい。10nm未満では、十分な導電性を得ることが難しく、500nmを越える場合には、表面平滑性が悪化するため、たとえ上記の高分子フィルムが十分に平滑性に優れる場合であっても、その良好な表面性平滑性が損なわれてしまう。
[Thickness of transparent conductive layer]
The film thickness of the transparent conductive layer is preferably 10 to 500 nm in order to obtain sufficient conductivity. If it is less than 10 nm, it is difficult to obtain sufficient electrical conductivity, and if it exceeds 500 nm, the surface smoothness deteriorates, so even if the above polymer film is sufficiently excellent in smoothness, it is good. Surface smoothness will be impaired.

<透明導電性フィルム>
[透明導電性フィルムの物性]
(温度膨張係数)
本発明の透明導電性フィルムは、30〜100℃の過程における温度膨張係数(αt)が、3〜19ppm/℃の範囲であることが好ましい。本発明における温度膨張係数の下限は、好ましくは1ppm/℃である。温度膨張係数が下限に満たない場合、あるいは上限を超える場合には、ディスプレイ加工工程におけるフィルムの熱変形が悪化し、反り等の不具合が発生することがある。
なお、本発明における温度膨張係数とは、熱機械分析装置(TMA)を用い、30℃から180℃まで10℃/分の昇温速度で測定して得られた温度寸法変化曲線において、30〜100℃の傾きより温度膨張係数を求めたものである。
<Transparent conductive film>
[Physical properties of transparent conductive film]
(Temperature expansion coefficient)
As for the transparent conductive film of this invention, it is preferable that the temperature expansion coefficient ((alpha) t) in the process of 30-100 degreeC is the range of 3-19 ppm / degreeC. The lower limit of the temperature expansion coefficient in the present invention is preferably 1 ppm / ° C. When the temperature expansion coefficient is less than the lower limit or exceeds the upper limit, the thermal deformation of the film in the display processing step is deteriorated, and problems such as warpage may occur.
The temperature expansion coefficient in the present invention is a temperature dimensional change curve obtained by measuring from 30 ° C. to 180 ° C. at a rate of temperature increase of 10 ° C./min using a thermomechanical analyzer (TMA). The temperature expansion coefficient is obtained from a 100 ° C. slope.

(湿度膨張係数)
また、本発明の透明導電性フィルムは、湿度膨張係数(αh)が、2〜5ppm/%RHの範囲であることが好ましい。
(Humidity expansion coefficient)
The transparent conductive film of the present invention preferably has a humidity expansion coefficient (αh) in the range of 2 to 5 ppm /% RH.

(酸素透過係数・水蒸気透過係数)
本発明の透明導電性フィルムは、酸素透過係数が0.3cc・mm/m2・24h・atm以下、かつ、水蒸気透過係数が0.3g・mm/m2・24h以下であることが、優れたガスバリア性を有することから好ましい。
(Oxygen permeability coefficient / water vapor permeability coefficient)
The transparent conductive film of the present invention has an oxygen permeability coefficient of 0.3 cc · mm / m 2 · 24 h · atm or less and a water vapor permeability coefficient of 0.3 g · mm / m 2 · 24 h or less. It is preferable because it has gas barrier properties.

(全光線透過率)
本発明の透明導電性フィルムは、可視光領域に対する全光線透過率が80%以上であることが好ましく、さらには85%以上であることが好ましい。80%未満の場合には、視認性の低下を招く等の問題が生じることがある。
(Total light transmittance)
The transparent conductive film of the present invention preferably has a total light transmittance of 80% or more in the visible light region, and more preferably 85% or more. If it is less than 80%, problems such as a reduction in visibility may occur.

[その他の層]
本発明の透明導電性フィルムは、必要に応じて、高分子フィルムの少なくとも片面に、酸素と水分の浸入を防御するガスバリア層、耐擦傷性を付与するためのハードコート層等の架橋高分子層を形成することができる。
ガスバリア層の例としては、特に限定されるものではなく、透明導電性フィルムに用いられている種々の材料を適用することができる。なかでは、Siの酸化物、窒化物、酸窒化物を主成分とする無機材料が、透明性とガスバリア性に優れるため好ましい。
[Other layers]
The transparent conductive film of the present invention is a cross-linked polymer layer such as a gas barrier layer that prevents intrusion of oxygen and moisture, a hard coat layer for imparting scratch resistance, etc. on at least one surface of the polymer film, if necessary. Can be formed.
Examples of the gas barrier layer are not particularly limited, and various materials used for the transparent conductive film can be applied. Among them, an inorganic material mainly composed of Si oxide, nitride, or oxynitride is preferable because of its excellent transparency and gas barrier properties.

また、ガスバリア層の作成方法としては、特に限定されるものではなく、例えばスパッタ法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、プラズマCVD法等の気相堆積法が挙げられる。これらのガスバリア層は、単独あるいは二種類以上を組み合わせて、目標とする性能を発現できる厚さに設定して形成することができる。特に、無機薄膜材料をガスバリア層として用いる場合には、その膜厚を2nm〜1μmの範囲とすることが好ましい。   Further, the method for producing the gas barrier layer is not particularly limited, and examples thereof include vapor deposition methods such as sputtering, vacuum deposition, ion plating, and plasma CVD. These gas barrier layers can be formed by setting them to a thickness capable of expressing the target performance, alone or in combination of two or more. In particular, when an inorganic thin film material is used as the gas barrier layer, the film thickness is preferably in the range of 2 nm to 1 μm.

耐擦傷性を付与するための架橋高分子層は、ポリシロキサン系樹脂の架橋構造体、アクリル系樹脂の架橋構造体、エポキシ系樹脂の架橋構造体等を公知の塗工法および硬化法を用いることにより形成することができる。なかでは、特に反応性の面から、アクリロイル基を含むアクリル系樹脂を用いることが好ましい。   For the crosslinked polymer layer for imparting scratch resistance, a polysiloxane resin crosslinked structure, an acrylic resin crosslinked structure, an epoxy resin crosslinked structure, etc. should be used by a known coating method and curing method. Can be formed. Among them, it is preferable to use an acrylic resin containing an acryloyl group particularly from the viewpoint of reactivity.

このような架橋高分子層は、パネル組立て時の溶剤や化学薬品に対する耐久性を付与することも目的としており、耐アルカリ性、耐酸性、およびN−メチルピロリドン等の有機溶剤に対する安定性を十分に確保できる材料と硬化条件とを、適宜選定することが好ましい。
架橋高分子層の膜厚は、0.01〜20μmの範囲から適宜選択することができる。
Such a crosslinked polymer layer is also intended to impart durability to solvents and chemicals during panel assembly, and has sufficient alkali resistance, acid resistance, and stability to organic solvents such as N-methylpyrrolidone. It is preferable to appropriately select materials that can be secured and curing conditions.
The film thickness of the crosslinked polymer layer can be appropriately selected from the range of 0.01 to 20 μm.

以下、実施例等を挙げ、本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はかかる実施例により何等限定されるものではない。なお、実施例中、「部」および「%」は、特に断らない限り「質量」基準である。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example etc. are given and this invention is demonstrated further more concretely, this invention is not limited at all by this Example. In the examples, “part” and “%” are based on “mass” unless otherwise specified.

<測定方法>
実施例および比較例においては、以下の項目について、以下の方法によって測定・評価を実施した。
<Measurement method>
In Examples and Comparative Examples, the following items were measured and evaluated by the following methods.

(1)ポリエステルの固有粘度
P−クロロフェノール/テトラクロロエタン(40/60質量比)の混合溶媒にポリマーを溶解してポリマー濃度0.5g/dLの溶液を調整し、35℃で測定して求めた。
(1) Intrinsic viscosity of polyester A polymer is dissolved in a mixed solvent of P-chlorophenol / tetrachloroethane (40/60 mass ratio) to prepare a solution having a polymer concentration of 0.5 g / dL, and measured at 35 ° C. It was.

(2)ガラス転移点ならびに融点
DSC(TA Instruments社製、商品名:DSC2920 modulated DSC)を用いて、昇温速度20℃/minで測定した。
(2) Glass transition point and melting point Using a DSC (manufactured by TA Instruments, trade name: DSC2920 modulated DSC), the glass transition point and the melting point were measured at a heating rate of 20 ° C./min.

(3)末端カルボキシ基濃度
600MHzの1H−NMR(日本電子株式会社製、商品名:JEOL A−600)によって測定した。
(3) Terminal carboxy group concentration It measured by 1H-NMR of 600 MHz (manufactured by JEOL Ltd., trade name: JEOL A-600).

(4)エステル化率
上記で得られた末端カルボキシ基濃度を用いて、下記式により求めた。

Figure 2009170251
(4) Esterification rate It calculated | required by the following formula using the terminal carboxy group density | concentration obtained above.
Figure 2009170251

(5)アルカリ金属含有量
日立製作所製、偏光ゼーマン原子吸光光度計:Z5000を用いて、ナトリウム金属およびカリウム金属の合計量を、樹脂組成物の質量を基準として測定した。
(5) Alkali metal content The total amount of sodium metal and potassium metal was measured on the basis of the mass of the resin composition by using a polarized Zeeman atomic absorption photometer: Z5000 manufactured by Hitachi, Ltd.

(6)フィルム膜厚
アンリツ社製、電子マイクロを用いて測定した。
(6) Film thickness It measured using the Anritsu company make and an electronic micro.

(7)全光線透過率
日本電色工業社製、商品名:COH−300Aを用いて測定した。
(7) Total light transmittance It measured using Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. brand name: COH-300A.

(8)水蒸気バリア性
MOCON社製、商品名:パーマトランW1Aを用いて、40℃、90%RH雰囲気下における水蒸気透過度を測定し、サンプルの膜厚から水蒸気透過係数を算出した。
(8) Water vapor barrier property The water vapor permeability in a 40% C, 90% RH atmosphere was measured using a product name: Permatran W1A manufactured by MOCON, and the water vapor permeability coefficient was calculated from the film thickness of the sample.

(9)酸素バリア性
MOCON社製、商品名:オキシトラン2/20MLを用いて、23℃、0%RH、および、40℃、90%RHの雰囲気下における酸素透過度を測定した。
(9) Oxygen barrier property The oxygen permeability under the atmosphere of 23 ° C., 0% RH, and 40 ° C., 90% RH was measured using a product name: Oxytolane 2/20 ML manufactured by MOCON.

(10)温度膨張係数(αt)
得られた透明導電性フィルムを、フィルムの幅方向が測定方向となるように長さ15mm、幅5mmに切り出し、真空理工製TMA3000にセットし、窒素雰囲気下(0%RH)、60℃で30分前処理し、その後室温まで降温させた。引き続き、25℃から70℃まで2℃/分で昇温し、各温度でのサンプル長を測定し、次式より温度膨張係数(αt)を算出した。なお、測定方向が切り出した試料の長手方向であり、5回の測定を実施し、その平均値を温度膨張係数(αH)とした。
αt={(L60−L40)}/(L40×△T)}+0.5
ここで、上記式中のL40は40℃のときのサンプル長(mm)、L60は60℃のときのサンプル長(mm)、△Tは20(=60−40)℃、0.5は石英ガラスの温度膨張係数(αt)(×10−6/℃)である。
(10) Temperature expansion coefficient (αt)
The obtained transparent conductive film was cut into a length of 15 mm and a width of 5 mm so that the width direction of the film would be the measurement direction, set in TMA3000 manufactured by Vacuum Riko, and 30 at 60 ° C. under a nitrogen atmosphere (0% RH). The sample was pretreated for minutes and then cooled to room temperature. Subsequently, the temperature was raised from 25 ° C. to 70 ° C. at 2 ° C./min, the sample length at each temperature was measured, and the temperature expansion coefficient (αt) was calculated from the following equation. Note that the measurement direction is the longitudinal direction of the cut sample, five measurements were performed, and the average value was taken as the temperature expansion coefficient (αH).
αt = {(L 60 −L 40 )} / (L 40 × ΔT)} + 0.5
Here, L 40 in the above formula is the sample length (mm) at 40 ° C., L 60 is the sample length (mm) at 60 ° C., ΔT is 20 (= 60-40) ° C., 0.5 Is the temperature expansion coefficient (αt) of quartz glass (× 10 −6 / ° C.).

(11)湿度膨張係数(αh)
得られた透明導電性フィルムを、フィルムの幅方向が測定方向となるように長さ15mm、幅5mmに切り出し、真空理工製TMA3000にセットし、30℃の窒素雰囲気下で、湿度30%RHと湿度70%RHにおけるそれぞれのサンプルの長さを測定し、次式にて湿度膨張係数(αh)を算出した。なお、測定方向が切り出した試料の長手方向であり、5回の測定を実施し、その平均値を湿度膨張係数(αh)とした。
αh=(L70−L30)/(L30×△H)
ここで、上記式中のL30は30%RHのときのサンプル長(mm)、L70は70%RHのときのサンプル長(mm)、△H:40(=70−30)%RHである。
(11) Humidity expansion coefficient (αh)
The obtained transparent conductive film was cut into a length of 15 mm and a width of 5 mm so that the width direction of the film would be the measurement direction, set in TMA3000 manufactured by Vacuum Riko, and a humidity of 30% RH in a nitrogen atmosphere at 30 ° C. The length of each sample at a humidity of 70% RH was measured, and the humidity expansion coefficient (αh) was calculated by the following equation. In addition, the measurement direction is the longitudinal direction of the sample cut out, five measurements were performed, and the average value was defined as the humidity expansion coefficient (αh).
αh = (L 70 −L 30 ) / (L 30 × ΔH)
Here, L 30 in the above formula is a sample length (mm) when 30% RH, L 70 is a sample length (mm) when 70% RH, ΔH: 40 (= 70-30)% RH is there.

(12)吸水率
ASTM D570に準拠した方法により、フィルムを25℃の水中に24時間浸漬した後の質量変化から見積った。
(12) Water absorption rate It estimated from the mass change after immersing a film in 25 degreeC water for 24 hours by the method based on ASTMD570.

<製造例1>
[ビス(β―ヒドロキシエチル)6,6‘−(エチレンジオキシ)ジー2−ナフトエ酸(NEO−EG)の製造]
6,6’−(エチレンジオキシ)ジ−2−ナフトエ酸100質量部、エチレングリコール62質量部、テトラーn−ブチルチタネート0.085質量部を、1Lの攪拌機、窒素ガス導入口を供えたオートクレーブに仕込み、窒素置換後、窒素圧0.2MPaを印加し、温度230℃で6時間反応を行った。反応後、析出した結晶をろ過し、メタノールにて洗浄を行った。洗浄後、120℃で真空乾燥することにより、ビス(β―ヒドロキシエチル)6,6’−(エチレンジオキシ)ジー2−ナフトエ酸(NEO−EG)115質量部を得た。得られたビス(β―ヒドロキシエチル)6,6’−(エチレンジオキシ)ジー2−ナフトエ酸(NEO−EG)のエステル化度は96%、融点は240℃であった。
<Production Example 1>
[Production of bis (β-hydroxyethyl) 6,6 ′-(ethylenedioxy) g-2-naphthoic acid (NEO-EG)]
Autoclave provided with 1 L stirrer and nitrogen gas inlet for 100 parts by mass of 6,6 ′-(ethylenedioxy) di-2-naphthoic acid, 62 parts by mass of ethylene glycol, and 0.085 parts by mass of tetra-n-butyl titanate Then, after nitrogen substitution, a nitrogen pressure of 0.2 MPa was applied, and the reaction was performed at a temperature of 230 ° C. for 6 hours. After the reaction, the precipitated crystals were filtered and washed with methanol. After washing, vacuum drying at 120 ° C. yielded 115 parts by weight of bis (β-hydroxyethyl) 6,6 ′-(ethylenedioxy) G-2-naphthoic acid (NEO-EG). The obtained bis (β-hydroxyethyl) 6,6 ′-(ethylenedioxy) di-2-naphthoic acid (NEO-EG) had an esterification degree of 96% and a melting point of 240 ° C.

<製造例2>
製造例1で得られたビス(β―ヒドロキシエチル)6,6’−(エチレンジオキシ)ジー2−ナフトエ酸(NEO−EG)100質量部、テトラーn−ブチルチタネート0.0347質量部を、精留塔付き反応器に仕込み、窒素下270℃にて融解させた。その後、減圧を徐々に行い、500mmHgにて約20分攪拌反応後、重合温度320℃に上昇させた。次いで、系内をさらに徐々に減圧し、0.2mmHg到達後、約20分攪拌反応させることにより、芳香族ポリエステルを得た。
得られた芳香族ポリエステルの固有粘度は1.47、ガラス転移温度は132℃、融点は300℃であった。ジエチレングリコール成分をNMRにて測定したところ、5.0mol%のジエチレングリコール成分が含まれていた。また、末端カルボキシ基濃度は55eq/Ton、アルカリ金属含有量は27ppmであった。
<Production Example 2>
100 parts by mass of bis (β-hydroxyethyl) 6,6 ′-(ethylenedioxy) g-2-naphthoic acid (NEO-EG) obtained in Production Example 1, 0.0347 parts by mass of tetra-n-butyl titanate, A reactor with a rectifying column was charged and melted at 270 ° C. under nitrogen. Thereafter, the pressure was gradually reduced, and after stirring and reaction at 500 mmHg for about 20 minutes, the polymerization temperature was raised to 320 ° C. Next, the system was gradually depressurized, and after reaching 0.2 mmHg, an aromatic polyester was obtained by stirring reaction for about 20 minutes.
The obtained aromatic polyester had an intrinsic viscosity of 1.47, a glass transition temperature of 132 ° C., and a melting point of 300 ° C. When the diethylene glycol component was measured by NMR, 5.0 mol% of the diethylene glycol component was contained. The terminal carboxy group concentration was 55 eq / Ton, and the alkali metal content was 27 ppm.

<製造例3>
製造例1で得られたビス(β―ヒドロキシエチル)6,6’−(エチレンジオキシ)ジー2−ナフトエ酸100質量部(NEO−EG)、2,6−ビス(ヒドロキシエトキシカルボニル)ナフタレン27質量部、テトラーn−ブチルチタネート0.02質量部を、精留塔付き反応器に仕込み、窒素下270℃にて融解させた。その後、減圧を徐々に行い、500mmHgにて約20分攪拌反応後、重合温度320℃に上昇させた。次いで、系内をさらに徐々に減圧し、0.2mmHg到達後、約20分攪拌反応させることにより、芳香族ポリエステルを得た。
得られた芳香族ポリステルの固有粘度は1.6、ガラス転移温度は121℃、融点は287℃であった。ジエチレングリコール成分をNMRにて測定したところ、6.0mol%のジエチレングリコール成分た含まれていた。また、末端カルボキシ基濃度は92eq/Ton、アルカリ金属含有量は20ppmであった。
<Production Example 3>
Bis (β-hydroxyethyl) 6,6 ′-(ethylenedioxy) di-2-naphthoic acid 100 parts by mass (NEO-EG), 2,6-bis (hydroxyethoxycarbonyl) naphthalene 27 obtained in Production Example 1 Part by mass, 0.02 part by mass of tetra-n-butyl titanate were charged into a reactor equipped with a rectifying column and melted at 270 ° C. under nitrogen. Thereafter, the pressure was gradually reduced, and after stirring and reaction at 500 mmHg for about 20 minutes, the polymerization temperature was raised to 320 ° C. Next, the system was gradually depressurized, and after reaching 0.2 mmHg, an aromatic polyester was obtained by stirring reaction for about 20 minutes.
The obtained aromatic polyester had an intrinsic viscosity of 1.6, a glass transition temperature of 121 ° C., and a melting point of 287 ° C. When the diethylene glycol component was measured by NMR, 6.0 mol% diethylene glycol component was contained. The terminal carboxy group concentration was 92 eq / Ton, and the alkali metal content was 20 ppm.

<製造例4>
製造例1で得られたビス(β―ヒドロキシエチル)6,6’−(エチレンジオキシ)ジー2−ナフトエ酸(NEO−EG)100質量部、ビス(ヒドロキシエチル)テレフタレート9.2質量部、テトラーn−ブチルチタネート0.04質量部を、精留塔付き反応器に仕込み、窒素下270℃にて融解させた。その後、減圧を徐々に行い、500mmHgにて約20分攪拌反応後、重合温度320℃に上昇させた。次いで、系内をさらに徐々に減圧し、0.2mmHg到達後、約20分攪拌反応させることにより、芳香族ポリエステルを得た。
得られた芳香族ポリエステルの固有粘度は1.4、ガラス転移温度は120℃、融点は282℃であった。ジエチレングリコール成分をNMRにて測定したところ、7.2mol%のジエチレングリコール成分が含まれていた。また、末端カルボキシ濃度は80eq/Ton、アルカリ金属含有量は23ppmであった。
<Production Example 4>
100 parts by mass of bis (β-hydroxyethyl) 6,6 ′-(ethylenedioxy) di-2-naphthoic acid (NEO-EG) obtained in Production Example 1, 9.2 parts by mass of bis (hydroxyethyl) terephthalate, 0.04 parts by mass of tetra-n-butyl titanate was charged into a reactor equipped with a rectifying column and melted at 270 ° C. under nitrogen. Thereafter, the pressure was gradually reduced, and after stirring and reaction at 500 mmHg for about 20 minutes, the polymerization temperature was raised to 320 ° C. Next, the system was gradually depressurized, and after reaching 0.2 mmHg, an aromatic polyester was obtained by stirring reaction for about 20 minutes.
The obtained aromatic polyester had an intrinsic viscosity of 1.4, a glass transition temperature of 120 ° C., and a melting point of 282 ° C. When the diethylene glycol component was measured by NMR, 7.2 mol% of the diethylene glycol component was contained. The terminal carboxy concentration was 80 eq / Ton, and the alkali metal content was 23 ppm.

<製造例5>
テレフタル酸ジメチル、6,6’−(エチレンジオキシ)ジ−2−ナフトエ酸およびエチレングリコールを、チタンテトラブトキシドの存在下でエステル化反応およびエステル交換反応させ、引き続いて重縮合反応させることにより、芳香族ポリエステルを得た。
得られた芳香族ポリエステルは、固有粘度0.73dl/gで、酸成分の65モル%がテレフタル酸成分、酸成分の35モル%が6,6’−(エチレンジオキシ)ジ−2−ナフトエ酸成分、グリコール成分の98.5モル%がエチレングリコール成分、1.5モル%がジエチレングリコール成分であった。また、融点は233℃、ガラス転移温度は91℃であった。
なお、ポリエステルには、重縮合反応の前に平均粒径0.5μmのシリカ粒子を、得られる樹脂組成物の質量を基準として、0.2質量%となるように含有させた。
<Production Example 5>
By subjecting dimethyl terephthalate, 6,6 ′-(ethylenedioxy) di-2-naphthoic acid and ethylene glycol to esterification and transesterification in the presence of titanium tetrabutoxide, followed by polycondensation reaction, Aromatic polyester was obtained.
The obtained aromatic polyester had an intrinsic viscosity of 0.73 dl / g, 65 mol% of the acid component was terephthalic acid component, and 35 mol% of the acid component was 6,6 ′-(ethylenedioxy) di-2-naphtho. Of the acid component and glycol component, 98.5 mol% was an ethylene glycol component, and 1.5 mol% was a diethylene glycol component. Moreover, melting | fusing point was 233 degreeC and glass transition temperature was 91 degreeC.
In addition, before the polycondensation reaction, the polyester contained silica particles having an average particle size of 0.5 μm so as to be 0.2% by mass based on the mass of the obtained resin composition.

<製造例6>
テレフタル酸ジメチル、6,6’−(エチレンジオキシ)ジ−2−ナフトエ酸、およびエチレングリコールを、チタンテトラブトキシドの存在下でエステル化反応およびエステル交換反応させ、さらに引き続いて重縮合反応させることにより、芳香族ポリエステルを得た。
得られた芳香族ポリエステルは、固有粘度0.68dl/gで、酸成分の80モル%がテレフタル酸成分、酸成分の20モル%が6,6’−(エチレンジオキシ)ジ−2−ナフトエ酸成分、グリコール成分の98モル%がエチレングリコール成分、2モル%がジエチレングリコール成分であった。また、融点は230℃、ガラス転移温度は85℃であった。
なお、ポリエステルには、重縮合反応の前に平均粒径0.5μmのシリカ粒子を、得られる樹脂組成物の質量を基準として、0.2質量%となるように含有させた。
<Production Example 6>
Dimethyl terephthalate, 6,6 ′-(ethylenedioxy) di-2-naphthoic acid, and ethylene glycol are esterified and transesterified in the presence of titanium tetrabutoxide, followed by polycondensation. As a result, an aromatic polyester was obtained.
The obtained aromatic polyester had an intrinsic viscosity of 0.68 dl / g, 80 mol% of the acid component was terephthalic acid component, and 20 mol% of the acid component was 6,6 ′-(ethylenedioxy) di-2-naphtho. 98 mol% of the acid component and the glycol component were the ethylene glycol component, and 2 mol% was the diethylene glycol component. Moreover, melting | fusing point was 230 degreeC and the glass transition temperature was 85 degreeC.
In addition, before the polycondensation reaction, the polyester contained silica particles having an average particle size of 0.5 μm so as to be 0.2% by mass based on the mass of the obtained resin composition.

<製造例7>
2,6−ナフタレンジカルボン酸ジメチル、6,6’−(エチレンジオキシ)ジ−2−ナフトエ酸、およびエチレングリコールを、チタンテトラブトキシドの存在下でエステル化反応およびエステル交換反応させ、さらに引き続いて重縮合反応させることにより、芳香族ポリエステルを得た。
得られた芳香族ポリエステルは、固有粘度0.78dl/gで、酸成分の73モル%が2,6−ナフタレンジカルボン酸成分、酸成分の27モル%が6,6’−(エチレンジオキシ)ジ−2−ナフトエ酸成分、グリコール成分の98.5モル%がエチレングリコール成分、1.5モル%がジエチレングリコール成分であった。また、融点は240℃、ガラス転移温度は112℃であった。
ポリエステルには、重縮合反応の前に平均粒径0.5μmのシリカ粒子を、得られる樹脂組成物の質量を基準として、0.2質量%となるように含有させた。
<Production Example 7>
Dimethyl 2,6-naphthalenedicarboxylate, 6,6 ′-(ethylenedioxy) di-2-naphthoic acid, and ethylene glycol were subjected to esterification and transesterification in the presence of titanium tetrabutoxide, followed by An aromatic polyester was obtained by polycondensation reaction.
The obtained aromatic polyester has an intrinsic viscosity of 0.78 dl / g, 73 mol% of the acid component is 2,6-naphthalenedicarboxylic acid component, and 27 mol% of the acid component is 6,6 ′-(ethylenedioxy). Of the di-2-naphthoic acid component and glycol component, 98.5 mol% was an ethylene glycol component, and 1.5 mol% was a diethylene glycol component. The melting point was 240 ° C and the glass transition temperature was 112 ° C.
Before the polycondensation reaction, the polyester contained silica particles having an average particle size of 0.5 μm so as to be 0.2% by mass based on the mass of the obtained resin composition.

<実施例1>
[フィルムの製造]
製造例2で得られた芳香族ポリエステルを、180℃で5時間乾燥した後、315℃で溶融押出し、40℃に保持したキャスティングドラム上で急冷固化せしめることにより、未延伸フィルムを得た。
得られた未延伸フィルムを、速度差がある2つのロール間で、縦方向に140℃の温度で4.0倍に延伸することにより、一軸延伸フィルムとした。次いで、この一軸延伸フィルムを、フィルムの進行方向に向かって温度を130〜160℃に上昇させながら、横方向に3.0倍に横延伸した後、最終熱固定ゾーンにて、210℃にて1分間熱固定処理を実施することにより、二軸配向した高分子フィルムを得た。得られた高分子フィルムの厚みは、100μmであった。
<Example 1>
[Production of film]
The aromatic polyester obtained in Production Example 2 was dried at 180 ° C. for 5 hours, melt-extruded at 315 ° C., and rapidly cooled and solidified on a casting drum maintained at 40 ° C. to obtain an unstretched film.
The obtained unstretched film was stretched 4.0 times in the longitudinal direction at a temperature of 140 ° C. between two rolls having a speed difference to obtain a uniaxially stretched film. Next, this uniaxially stretched film was stretched by 3.0 times in the transverse direction while increasing the temperature to 130 to 160 ° C. in the traveling direction of the film, and then at 210 ° C. in the final heat setting zone. A biaxially oriented polymer film was obtained by performing a heat setting treatment for 1 minute. The resulting polymer film had a thickness of 100 μm.

[透明導電層の形成]
得られた高分子フィルムの片面に、DCマグネトロンスパッタリング法により、厚さ120nmのインジウム−スズ酸化物(ITO)層を形成することにより、透明導電性フィルムを得た。得られた透明導電性フィルムの評価結果を、表1に示す。
[Formation of transparent conductive layer]
A transparent conductive film was obtained by forming an indium-tin oxide (ITO) layer having a thickness of 120 nm on one surface of the obtained polymer film by a DC magnetron sputtering method. Table 1 shows the evaluation results of the obtained transparent conductive film.

<実施例2>
[フィルムの製造]
製造例3で得られた芳香族ポリエステルを用いて、300℃で溶融押出した以外は、実施例1と同様の方法で二軸配向した高分子フィルムを得た。
<Example 2>
[Production of film]
A biaxially oriented polymer film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the aromatic polyester obtained in Production Example 3 was melt-extruded at 300 ° C.

[架橋高分子層の形成・透明導電層の形成]
得られた高分子フィルムの両面に、厚み4μmで架橋高分子層を形成し、続いて、実施例1と同様にインジウム−スズ酸化物(ITO)層を形成することにより、透明導電性フィルムを得た。得られた透明導電性フィルムの評価結果を、表1に示す。
ここで、架橋高分子層の形成にあたっては、ジメチロールトリシクロデカンジアクリレート(共栄社化学社製、商品名:ライトアクリレートDCP−A)を20質量部、ウレタンアクリレート(新中村化学製、商品名:NKオリゴU−15HA)を10質量部、1−メトキシ−2−プロパノールを30質量部、開始剤として1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンを2質量部混合したコーティング組成物を用い、この組成物を高分子フィルムの表面にコーティングし、60℃1分間加熱した後、高圧水銀灯を用いて積算光量700mJ/mで光硬化を行った。
[Formation of crosslinked polymer layer and formation of transparent conductive layer]
By forming a cross-linked polymer layer with a thickness of 4 μm on both surfaces of the obtained polymer film, and subsequently forming an indium-tin oxide (ITO) layer in the same manner as in Example 1, a transparent conductive film was obtained. Obtained. Table 1 shows the evaluation results of the obtained transparent conductive film.
Here, in forming the crosslinked polymer layer, 20 parts by mass of dimethylol tricyclodecane diacrylate (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd., trade name: light acrylate DCP-A), urethane acrylate (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., trade name: NK Oligo U-15HA) is mixed with 10 parts by mass, 30 parts by mass of 1-methoxy-2-propanol and 2 parts by mass of 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone as an initiator. After coating on the surface of the film and heating at 60 ° C. for 1 minute, photocuring was performed using a high-pressure mercury lamp at an integrated light quantity of 700 mJ / m 2 .

<実施例3>
インジウム−スズ酸化物(ITO)層の直下に、DCマグネトロン反応性スパッタ法にて、厚みが30nmとなる酸化珪素膜を形成した以外は、実施例2と同様の方法で透明導電性フィルムを得た。得られた透明導電性フィルムの評価結果を、表1に示す。
<Example 3>
A transparent conductive film was obtained in the same manner as in Example 2 except that a silicon oxide film having a thickness of 30 nm was formed directly under the indium-tin oxide (ITO) layer by DC magnetron reactive sputtering. It was. Table 1 shows the evaluation results of the obtained transparent conductive film.

<実施例4>
[フィルムの製造]
製造例5で得られた芳香族ポリエステルを押し出し機に供給し、290℃でダイから溶融状態で回転中の温度40℃の冷却ドラム上にシート状に押し出し、未延伸フィルムとした。引き続き、製膜方向に沿って回転速度の異なる二組のローラー間で、上方よりIRヒーターにてフィルム表面温度が110℃になるように加熱して、製膜方向(MD)に延伸倍率4.0倍で延伸し、一軸延伸フィルムを得た。得られた一軸延伸フィルムをステンターに導き、120℃で幅方向(TD)に延伸倍率4.5倍で延伸し、その後、210℃で3秒間の熱固定処理を行うことにより、厚さ10μmの二軸配向した高分子フィルムを得た。
<Example 4>
[Production of film]
The aromatic polyester obtained in Production Example 5 was supplied to an extruder and extruded from a die at 290 ° C. in a molten state onto a cooling drum having a rotating temperature of 40 ° C. to form an unstretched film. Subsequently, between two pairs of rollers having different rotation speeds along the film forming direction, the film surface temperature is heated from above by an IR heater so that the film surface temperature becomes 110 ° C., and the draw ratio in the film forming direction (MD) is 4. The film was stretched at 0 times to obtain a uniaxially stretched film. The resulting uniaxially stretched film was guided to a stenter, stretched at 120 ° C. in the width direction (TD) at a stretch ratio of 4.5 times, and then heat-fixed at 210 ° C. for 3 seconds to obtain a thickness of 10 μm. A biaxially oriented polymer film was obtained.

[透明導電層の形成]
得られた高分子フィルムの片面に、実施例1と同様に、厚さ120nmのインジウム−スズ酸化物(ITO)層を形成した。得られた透明導電性フィルムの評価結果を、表1に示す。
[Formation of transparent conductive layer]
As in Example 1, an indium-tin oxide (ITO) layer having a thickness of 120 nm was formed on one side of the obtained polymer film. Table 1 shows the evaluation results of the obtained transparent conductive film.

<実施例5>
製造例6得られたポリエステルを、押し出し機に供給し、290℃でダイから溶融状態で回転中の温度30℃の冷却ドラム上にシート状に押し出し、未延伸フィルムとした。引き続き、製膜方向(MD)に沿って回転速度の異なる二組のローラー間で、上方よりIRヒーターにてフィルム表面温度が105℃になるように加熱して、製膜方向(MD)に延伸倍率5.0倍で延伸し、一軸延伸フィルムを得た。得られた一軸延伸フィルムをステンターに導き、115℃で幅方向(TD)に延伸倍率5.0倍で延伸し、その後、210℃で3秒間の熱固定処理を行うことにより、厚さ10mの二軸配向した高分子フィルムを得た。
<Example 5>
Production Example 6 The obtained polyester was supplied to an extruder and extruded from a die at 290 ° C. in a molten state onto a cooling drum having a rotating temperature of 30 ° C. to form an unstretched film. Subsequently, between two sets of rollers with different rotation speeds along the film forming direction (MD), the film surface temperature is heated to 105 ° C. with an IR heater from above and stretched in the film forming direction (MD). The film was stretched at a magnification of 5.0 to obtain a uniaxially stretched film. The obtained uniaxially stretched film was guided to a stenter and stretched at 115 ° C. in the width direction (TD) at a stretch ratio of 5.0 times, and then heat-fixed at 210 ° C. for 3 seconds to obtain a thickness of 10 m. A biaxially oriented polymer film was obtained.

[透明導電層の形成]
得られた高分子フィルムの片面に、実施例1と同様に、厚さ120nmのインジウム−スズ酸化物(ITO)層を形成した。得られた透明導電性フィルムの評価結果を、表1に示す。
[Formation of transparent conductive layer]
As in Example 1, an indium-tin oxide (ITO) layer having a thickness of 120 nm was formed on one side of the obtained polymer film. Table 1 shows the evaluation results of the obtained transparent conductive film.

<実施例6>
製造例7で得られたポリエステルを、押し出し機に供給し、300℃でダイから溶融状態で回転中の温度45℃の冷却ドラム上にシート状に押し出し、未延伸フィルムとした。引き続き、製膜方向(MD)に沿って回転速度の異なる二組のローラー間で、上方よりIRヒーターにてフィルム表面温度が130℃になるように加熱して、製膜方向(MD)に延伸倍率4.0倍で延伸し、一軸延伸フィルムを得た。得られた一軸延伸フィルムをステンターに導き、140℃で幅方向(TD)に延伸倍率6.0倍で延伸し、その後、200℃で10秒間の熱固定処理を行うことにより、厚さ7μmの二軸配向した高分子フィルムを得た。
<Example 6>
The polyester obtained in Production Example 7 was supplied to an extruder and extruded from a die at 300 ° C. in a molten state onto a cooling drum having a rotating temperature of 45 ° C. to form an unstretched film. Subsequently, between two sets of rollers with different rotation speeds along the film forming direction (MD), the film is heated from above with an IR heater so that the film surface temperature becomes 130 ° C. and stretched in the film forming direction (MD). The film was stretched at a magnification of 4.0 to obtain a uniaxially stretched film. The resulting uniaxially stretched film was guided to a stenter, stretched at 140 ° C. in the width direction (TD) at a stretch ratio of 6.0 times, and then heat-fixed at 200 ° C. for 10 seconds to obtain a thickness of 7 μm. A biaxially oriented polymer film was obtained.

[透明導電層の形成]
得られた高分子フィルムの片面に、実施例1と同様に、厚さ120nmのインジウム−スズ酸化物(ITO)層を形成した。得られた透明導電性フィルムの評価結果を、表1に示す。
[Formation of transparent conductive layer]
As in Example 1, an indium-tin oxide (ITO) layer having a thickness of 120 nm was formed on one side of the obtained polymer film. Table 1 shows the evaluation results of the obtained transparent conductive film.

<比較例1>
製造例7において、ビス(β―ヒドロキシエチル)6,6’−(エチレンジオキシ)ジー2−ナフトエ酸(NEO−EG)に替えて、等モル量の2,6−ビス(ヒドロキシエトキシカルボニル)ナフタレンを用いてポリエステルを重合し、実施例1と同様な方法で透明導電性フィルムを得た。得られた透明導電性フィルムは表1に示すように、寸法安定性とバリア性に劣るものであった。
<Comparative Example 1>
In Production Example 7, instead of bis (β-hydroxyethyl) 6,6 ′-(ethylenedioxy) di-2-naphthoic acid (NEO-EG), an equimolar amount of 2,6-bis (hydroxyethoxycarbonyl) Polyester was polymerized using naphthalene, and a transparent conductive film was obtained in the same manner as in Example 1. As shown in Table 1, the obtained transparent conductive film was inferior in dimensional stability and barrier properties.

<比較例2>
製造例6において、ビス(β―ヒドロキシエチル)6,6’−(エチレンジオキシ)ジー2−ナフトエ酸(NEO−EG)に替えて、等モル量のビス(ヒドロキシエチル)テレフタレートを用いてポリエステルを重合し、実施例1と同様な方法で透明導電性フィルムを得た。得られた透明導電性フィルムは表1に示すように、寸法安定性とバリア性に劣るものであった。
<Comparative example 2>
Polyester using an equimolar amount of bis (hydroxyethyl) terephthalate instead of bis (β-hydroxyethyl) 6,6 ′-(ethylenedioxy) g-2-naphthoic acid (NEO-EG) in Production Example 6 And a transparent conductive film was obtained in the same manner as in Example 1. As shown in Table 1, the obtained transparent conductive film was inferior in dimensional stability and barrier properties.

Figure 2009170251
Figure 2009170251

本発明の透明導電性フィルムは、液晶表示素子、光導電性感光体、面発光体、無機ならびに有機EL素子、電気泳動、フィールドエミッション素子、プラズマ素子、面発熱体、タッチパネル等の電極用基板として有益に利用することができる。   The transparent conductive film of the present invention is used as an electrode substrate for liquid crystal display elements, photoconductive photoreceptors, surface light emitters, inorganic and organic EL elements, electrophoresis, field emission elements, plasma elements, surface heating elements, touch panels and the like. It can be used beneficially.

Claims (8)

下記式(1)で表される酸成分と、下記式(2)で表されるジオール成分とを含む芳香族ポリエステルを主成分とする高分子フィルムの少なくとも一方の面に、透明導電層が形成された透明導電性フィルム。
Figure 2009170251
(式中、Rは、炭素数2〜10のアルキレン基である。)
Figure 2009170251
(式中、Rは、炭素数2〜10のアルキレン基である。)
A transparent conductive layer is formed on at least one surface of a polymer film mainly composed of an aromatic polyester containing an acid component represented by the following formula (1) and a diol component represented by the following formula (2). Transparent conductive film.
Figure 2009170251
(In the formula, RA is an alkylene group having 2 to 10 carbon atoms.)
Figure 2009170251
(In the formula, R C is an alkylene group having 2 to 10 carbon atoms.)
前記酸成分が、上記式(1)で表される繰り返し単位を、50モル%以上100モル%以下含み、下記式(3)で表される繰り返し単位を、0モル%以上50モル%以下含む、請求項1記載の透明導電性フィルム。
Figure 2009170251
(式中、Rはフェニレン基またはナフタレンジイル基である。)
The acid component contains 50 mol% or more and 100 mol% or less of the repeating unit represented by the formula (1), and contains 0 mol% or more and 50 mol% or less of the repeating unit represented by the following formula (3). The transparent conductive film according to claim 1.
Figure 2009170251
(In the formula, R B is a phenylene group or a naphthalenediyl group.)
前記酸成分が、上記式(1)で表される繰り返し単位を、5モル%以上50モル%未満含み、下記式(3)で表される繰り返し単位を、50モル%を超えて95モル%以下含む、請求項1記載の透明導電性フィルム。
Figure 2009170251
(式中、Rはフェニレン基またはナフタレンジイル基である。)
The acid component contains 5 mol% or more and less than 50 mol% of the repeating unit represented by the above formula (1), and the repeating unit represented by the following formula (3) exceeds 50 mol% and is 95 mol%. The transparent conductive film according to claim 1, comprising:
Figure 2009170251
(In the formula, R B is a phenylene group or a naphthalenediyl group.)
前記式(1)で表される繰り返し単位が、下記式(4)で表されるものである請求項1〜3いずれか記載の透明導電性フィルム。
Figure 2009170251
The transparent conductive film according to any one of claims 1 to 3, wherein the repeating unit represented by the formula (1) is represented by the following formula (4).
Figure 2009170251
透明導電層が、インジウム酸化物、カドミウム酸化物、スズ酸化物、亜鉛酸化物、および、チタン酸化物からなる群から選ばれる少なくとも一種以上の金属酸化物膜である請求項1〜4いずれか記載の透明導電性フィルム。   The transparent conductive layer is at least one metal oxide film selected from the group consisting of indium oxide, cadmium oxide, tin oxide, zinc oxide, and titanium oxide. Transparent conductive film. 温度膨張係数が、3〜19ppm/℃の範囲である請求項1〜5いずれか記載の透明導電性フィルム。   The transparent conductive film according to any one of claims 1 to 5, wherein a temperature expansion coefficient is in a range of 3 to 19 ppm / ° C. 湿度膨張係数が、2〜5ppm/%RHの範囲である請求項1〜6いずれか記載の透明導電性フィルム。   The transparent conductive film according to any one of claims 1 to 6, wherein the humidity expansion coefficient is in the range of 2 to 5 ppm /% RH. 前記高分子フィルムの少なくとも片面に、ガスバリア性を有する層および/または架橋高分子層が積層されている請求項1〜7いずれか記載の透明導電性フィルム。   The transparent conductive film according to claim 1, wherein a layer having gas barrier properties and / or a crosslinked polymer layer is laminated on at least one surface of the polymer film.
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