JP2009164350A - Method for manufacturing wired circuit board - Google Patents
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- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
Abstract
Description
本発明は、配線回路基板の製造方法に関する。 The present invention relates to a method for manufacturing a printed circuit board.
従来より、配線回路基板の製造方法において、端子部におけるめっき処理やはんだ処理の後に、めっきやはんだの表面を水洗により洗浄することが知られており、例えば、メッキ処理後の印刷配線基板を水洗することが提案されている(例えば、特許文献1参照。)。
しかるに、特許文献1で提案される水洗後の印刷配線基板において、印刷配線基板をイソプロパノールなどの水可溶性溶媒に浸漬させながら、超音波洗浄により、印刷配線基板の表面に残存する水を除去する方法が考えられる。しかし、この方法では、印刷配線基板の端子部において、超音波に起因する応力により、断線を生じるという不具合がある。
本発明の目的は、配線回路基板の断線を防止しながら、その表面を確実に脱水することのできる、配線回路基板の製造方法を提供することにある。
However, in the printed wiring board after washing with water proposed in
An object of the present invention is to provide a method of manufacturing a printed circuit board that can reliably dehydrate the surface of the printed circuit board while preventing disconnection of the printed circuit board.
上記目的を達成するため、本発明の配線回路基板の製造方法は、配線回路基板を水洗する水洗工程と、前記水洗工程後、前記配線回路基板を少なくとも水可溶性溶媒に浸漬させながら、前記水可溶性溶媒をバブリングさせて前記配線回路基板を脱水する脱水工程とを備えることを特徴としている。
この方法によれば、水洗工程において、配線回路基板を洗浄した後、脱水工程において、水可溶性溶媒をバブリングさせて配線回路基板を脱水するので、配線回路基板の表面に比較的大きな気泡を接触させながら脱水することができ、配線回路基板における断線を防止しながら、配線回路基板を確実に脱水することができる。
In order to achieve the above object, a method for manufacturing a printed circuit board according to the present invention includes a water washing step of washing the printed circuit board, and the water soluble step after the water washing step while immersing the wiring circuit board in at least a water soluble solvent. A dehydration step of dehydrating the printed circuit board by bubbling a solvent.
According to this method, after the wiring circuit board is washed in the water washing step, the wiring circuit board is dehydrated by bubbling a water-soluble solvent in the dehydration step, so that relatively large bubbles are brought into contact with the surface of the wiring circuit board. Thus, the wiring circuit board can be reliably dehydrated while preventing disconnection in the wiring circuit board.
その結果、配線回路基板を確実に脱水しながら、接続信頼性の高い配線回路基板を得ることができる。
また、本発明の配線回路基板の製造方法では、前記脱水工程は、前記水可溶性溶媒に対して層分離可能な層分離溶媒を加えることにより、前記配線回路基板の表面において、前記水可溶性溶媒を前記層分離溶媒で置換する溶媒置換工程を備えていることが好適である。
As a result, it is possible to obtain a wired circuit board with high connection reliability while reliably dehydrating the wired circuit board.
In the wired circuit board manufacturing method of the present invention, the dehydration step adds the water-soluble solvent to the surface of the wired circuit board by adding a layer separation solvent that can be separated into the water-soluble solvent. It is preferable to provide a solvent replacement step of replacing with the layer separation solvent.
この方法では、溶媒置換工程では、配線回路基板の表面において、水可溶性溶媒を層分離溶媒で置換するので、配線回路基板から脱水された水を含む水可溶性溶媒を、層分離溶媒によって配線回路基板の表面から確実に除去できる。そのため、配線回路基板を、より一層確実に脱水することができる。
また、本発明の配線回路基板の製造方法では、前記層分離溶媒の比重が、前記水可溶性溶媒の比重に比べて、大きいことが好適である。
In this method, in the solvent replacement step, the water-soluble solvent is replaced with the layer separation solvent on the surface of the wiring circuit board. Therefore, the water-soluble solvent containing water dehydrated from the wiring circuit board is removed by the layer separation solvent. Can be reliably removed from the surface of the surface. Therefore, the printed circuit board can be dehydrated more reliably.
In the method for manufacturing a printed circuit board according to the present invention, it is preferable that the specific gravity of the layer separation solvent is larger than the specific gravity of the water-soluble solvent.
この方法では、層分離溶媒の比重が、水可溶性溶媒の比重に比べて大きいので、層分離溶媒が下層を形成し、水可溶性溶媒が上層を形成する。そのため、層分離溶媒により水可溶性溶媒を置換すれば、配線回路基板から脱水された水を含む水可溶性溶媒をオーバーフローにより除去することができる。その結果、簡易かつ確実に、配線回路基板を脱水することができる。 In this method, since the specific gravity of the layer separation solvent is larger than that of the water-soluble solvent, the layer separation solvent forms the lower layer and the water-soluble solvent forms the upper layer. Therefore, if the water-soluble solvent is replaced with a layer separation solvent, the water-soluble solvent containing water dehydrated from the wiring circuit board can be removed by overflow. As a result, the printed circuit board can be dehydrated easily and reliably.
本発明の配線基板の製造方法によれば、配線回路基板を確実に脱水しながら、接続信頼性の高い配線回路基板を得ることができる。 According to the method for manufacturing a wiring board of the present invention, it is possible to obtain a wiring circuit board with high connection reliability while reliably dehydrating the wiring circuit board.
図1は、本発明の配線回路基板の製造方法の一実施形態に用いられる脱水装置の斜視図、図2は、図1に示す脱水装置の平面図、図3は、図1に示す脱水装置の正断面図であって、シートを脱水する各工程図、図4は、シートを脱水する各工程のフロー図、図5は、図1に示す脱水装置により脱水される配線回路基板の長手方向に沿う断面図を示す。
まず、本発明の配線回路基板の製造方法の一実施形態に用いられる脱水装置を、図1、図2および図3(a)を参照して、説明する。なお、図1において、処理槽2は、シート3およびバブル発生部4の相対配置を明確にするため、省略している。
FIG. 1 is a perspective view of a dehydrating apparatus used in an embodiment of a method for manufacturing a printed circuit board according to the present invention, FIG. 2 is a plan view of the dehydrating apparatus shown in FIG. 1, and FIG. 3 is a dehydrating apparatus shown in FIG. FIG. 4 is a flow chart of each process for dehydrating the sheet, and FIG. 5 is a longitudinal direction of the printed circuit board to be dehydrated by the dehydrating apparatus shown in FIG. FIG.
First, a dehydrating apparatus used in an embodiment of a method for manufacturing a printed circuit board according to the present invention will be described with reference to FIGS. 1, 2, and 3 (a). In FIG. 1, the
図1および図2において、この脱水装置1は、後述する配線回路基板21が複数配列される配線回路基板集合体シート(以下、単に「シート」という。)3を脱水するために設備されている。この脱水装置1は、処理槽2と、バブル発生部4と、図示しない処理液供給部とを備えている。
処理槽2は、図3(a)に示すように、後述する処理液10を収容する容器であって、例えば、有底箱型形状に形成されている。処理槽2の内部の容量は、収容する処理液10の容量、脱水するシート3の大きさおよび枚数にもよるが、例えば、10〜70L、好ましくは、30〜50Lである。
1 and 2, the
As shown in FIG. 3A, the
バブル発生部4は、図1および図3(a)に示すように、処理槽2内の下部に設けられ、水平方向(処理槽2の底壁に沿う方向)に沿って配置されている。また、バブル発生部4は、図2に示すように、ガス分配管6およびバブル発生管7を一体的に備えている。
ガス分配管6は、処理槽2において、幅方向(紙面左右方向、以下同じ。)一端部に配置されている。また、ガス分配管6は、処理槽2において奥行方向(幅方向に直交する方向)にわたって延びるように、配置されている。なお、ガス分配管6には、その奥行方向一端部および奥行方向他端部に、ガス取入口5が設けられている。また、ガス分配管6は、例えば、円筒形状に形成され、その内径が、例えば、3〜10mm、好ましくは、4〜6mmである。
As shown in FIG. 1 and FIG. 3A, the
The gas distribution pipe 6 is disposed at one end of the
バブル発生管7は、ガス分配管6から分岐するように、複数設けられている。各バブル発生管7は、奥行方向に間隔を隔てて対向配置され、ガス分配管6から幅方向他方側に向かって延びるように形成されている。また、バブル発生管7は、例えば、円筒形状に形成され、その上側周壁に、平面視円形状に開口されるバブル発生口8が、バブル発生管7の延びる方向(幅方向)に間隔を隔てて複数設けられている。
A plurality of
より具体的には、バブル発生管7は、バブル発生口8が、幅方向一方側(基端側)半分のみに配置される複数(5本)の第1バブル発生管7Aと、バブル発生口8が、幅方向他方側(遊端側)半分のみに配置される複数(5本)の第2バブル発生管7Bとを備えている。処理槽2では、奥行方向において、各第1バブル発生管7Aおよび各第2バブル発生管7Bが交互に配置されている。
More specifically, the
隣接する各バブル発生管7の間の間隔は、例えば、10〜100mm、好ましくは、20〜50mmである。また、各バブル発生管7は、その内径が、例えば、1〜10mm、好ましくは、3〜7mmである。各バブル発生口8は、その内径が、例えば、0.1〜1mm、好ましくは、0.2〜0.5mmである。
図示しない処理液供給部は、処理槽2に接続されており、後述する処理液を処理槽2内に供給するように構成されている。
The space | interval between each adjacent
A treatment liquid supply unit (not shown) is connected to the
なお、脱水装置1には、脱水処理前のシート3を処理槽2内に搬入し、その後、脱水処理後のシート3を処理槽2から搬出するための図示しない搬送機構が設けられている。搬送機構は、上下に移動する図示しない吊下部を備えており、吊下部により、シート3を垂下するように構成されている。
次に、上記した脱水装置1を用いる、本発明の配線回路基板の製造方法の一実施形態について、図1〜図5を参照して、説明する。
The
Next, an embodiment of a method for manufacturing a printed circuit board according to the present invention using the
この方法では、まず、図3(a)が参照されるように、シート3を用意する。
シート3は、図1に示すように、例えば、回路付サスペンション基板などの配線回路基板21を複数備えており、各配線回路基板21は、略矩形シート形状の金属支持基板19内において、互いに間隔を隔てて整列状態で配置されている。
各配線回路基板21は、長手方向に延びる略矩形状に形成されている。各配線回路基板21は、図5に示すように、金属支持層22と、金属支持層22の上に形成されるベース絶縁層23と、ベース絶縁層23の上に形成される導体層24と、ベース絶縁層23の上に、導体層24を被覆するように形成されるカバー絶縁層25とを備えている。
In this method, first, a
As shown in FIG. 1, the
Each printed
金属支持層22は、金属支持基板19から形成されている。金属支持基板19は、ステンレスなどから形成され、その厚みは、例えば、10〜100μm、好ましくは、18〜50μmである。また、金属支持基板19の大きさは、例えば、200〜300mm、好ましくは、250〜300mmである。
ベース絶縁層23は、ポリイミドなどから形成され、その厚みは、例えば、3〜30μm、好ましくは、5〜15μmである。
The
The
導体層24は、互いに間隔を隔てて配置され、長手方向に沿って延びる複数の配線26と、各配線26の長手方向両端部にそれぞれ連続する端子部27とを一体的に備えている。導体層24は、銅などから形成され、その厚みは、例えば、3〜20μm、好ましくは、7〜15μmである。
カバー絶縁層25は、ベース絶縁層23の上において、配線26を被覆し、かつ、端子部27が露出するパターンとして形成されている。カバー絶縁層25は、ポリイミドなどから形成され、その厚みは、例えば、2〜20μm、好ましくは、4〜15μmである。
The
The insulating
また、この配線回路基板21には、端子部27の表面に、金やニッケルなどからなる金属めっき層28が設けられている。金属めっき層28の厚みは、例えば、0.2〜5μm、好ましくは、0.5〜3μmである。
次いで、この方法では、図4に示すように、シート3を水洗する(水洗工程S1)。
シート3を水洗するには、例えば、浸漬、スプレーなど、公知の方法が用いられる。
The wired
Next, in this method, as shown in FIG. 4, the
In order to wash the
次いで、この方法では、シート3を脱水する(脱水工程S2)。
シート3を脱水するには、まず、図3(a)および図4に示すように、水洗工程S1後のシート3を、水可溶性溶媒を含む処理液10に浸漬させながら、処理液10をバブリングさせる(浸漬バブリング工程S3)。
処理液10は、水可溶性溶媒を含み、好ましくは、水可溶性溶媒と、層分離溶媒との混合液からなる。処理液10が、層分離溶媒を含むことにより、後述するシート3の引き上げにおいて、シート3の表面に残存する水可溶性溶媒(より具体的には、シート3の表面に残存する水と水可溶性溶媒とを含む水溶液)を、シート3の表面から弾かせることができ、シート3の表面における水可溶性溶媒の残存を防止することができる。
Next, in this method, the
To dehydrate the
The
水可溶性溶媒は、水洗工程S1後のシート3の表面に残存する水を、溶解させることのできる溶媒である。また、水可溶性溶媒の20℃における比重は、例えば、0.7〜1.5、好ましくは、0.7〜1.0、さらに好ましくは、0.7〜0.8である。また、水可溶性溶媒は、その沸点が、例えば、200℃以下、好ましくは、100℃以下であり、通常、80℃以上である。
The water-soluble solvent is a solvent that can dissolve water remaining on the surface of the
このような水可溶性溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール(イソプロピルアルコール:IPA)、ブタノール、イソブタノールなどの炭素数1〜4のアルコール類、例えば、エチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル(メチルセロソルブ)などのグリコール類、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類などが用いられる。好ましくは、炭素数1〜4のアルコール類が用いられ、さらに好ましくは、IPAが用いられる。 Examples of such water-soluble solvents include alcohols having 1 to 4 carbon atoms such as methanol, ethanol, propanol, isopropanol (isopropyl alcohol: IPA), butanol, and isobutanol, such as ethylene glycol and ethylene glycol monomethyl ether ( For example, glycols such as methyl cellosolve) and ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, and methyl isobutyl ketone are used. Preferably, C1-C4 alcohol is used, More preferably, IPA is used.
層分離溶媒は、後述する層分離工程S4において、水可溶性溶媒と層分離可能な溶媒である。また、層分離溶媒は、20℃における比重が、水可溶性溶媒の20℃における比重に比べて大きい。具体的には、層分離溶媒の比重(20℃)は、水可溶性溶媒の比重(20℃)を100%とした場合に、例えば、120%以上、好ましくは、150%以上、さらに好ましくは、180%以上であり、通常、300%以下である。より具体的には、層分離溶媒の比重(20℃)は、例えば、1.0以上、好ましくは、1.3以上、さらに好ましくは、1.5以上であり、通常、2.0以下である。また、層分離溶媒の沸点は、例えば、50〜100℃、好ましくは、50〜70℃である。このような層分離溶媒は、難燃性であり、そのため、処理液10に防爆性を付与することができる。
The layer separation solvent is a solvent capable of layer separation from the water-soluble solvent in the layer separation step S4 described later. Further, the layer separation solvent has a specific gravity at 20 ° C. larger than the specific gravity at 20 ° C. of the water-soluble solvent. Specifically, the specific gravity (20 ° C.) of the layer separation solvent is, for example, 120% or more, preferably 150% or more, more preferably, when the specific gravity (20 ° C.) of the water-soluble solvent is 100%. It is 180% or more, and is usually 300% or less. More specifically, the specific gravity (20 ° C.) of the layer separation solvent is, for example, 1.0 or more, preferably 1.3 or more, more preferably 1.5 or more, and usually 2.0 or less. is there. Moreover, the boiling point of a layer separation solvent is 50-100 degreeC, for example, Preferably, it is 50-70 degreeC. Such a layer separation solvent is flame retardant, and therefore can impart explosion-proof properties to the
このような層分離溶媒としては、例えば、フッ素系溶媒が用いられる。
フッ素系溶媒としては、例えば、C4F9OCH3、C4F9OCH2CH3、CF3CF2CF2OCH3、(CF3)2CFOCH3、CF3CFHCF2OCH3などのハイドロフルオロエーテル(HFE)、例えば、C6F14、C8F18、(C4F9)3N、パーフルオロジメチルシクロブタン、パーフルオロ(2−ブチルテトラヒドロフラン)などのパーフルオロカーボン(PFC)、例えば、C4F9CH2CH3、C6F13CH2CH3、(CF3)2CFCFHCFHCF3、CF3CFHCFHCF2CF3、C6F13H、HC6F12H、HC4F8Hなどのハイドロフルオロカーボン(HFC)などが用いられる。
As such a layer separation solvent, for example, a fluorine-based solvent is used.
Examples of the fluorine-based solvent include hydrocarbons such as C 4 F 9 OCH 3 , C 4 F 9 OCH 2 CH 3 , CF 3 CF 2 CF 2 OCH 3 , (CF 3 ) 2 CFOCH 3 , and CF 3 CFHCF 2 OCH 3. Fluoroether (HFE), for example perfluorocarbon (PFC) such as C 6 F 14 , C 8 F 18 , (C 4 F 9 ) 3 N, perfluorodimethylcyclobutane, perfluoro (2-butyltetrahydrofuran), for example C 4 F 9 CH 2 CH 3 , C 6 F 13 CH 2 CH 3 , (CF 3 ) 2 CFCFHCHFCF 3 , CF 3 CFHCCFHCF 2 CF 3 , C 6 F 13 H, HC 6 F 12 H, HC 4 F 8 H Hydrofluorocarbon (HFC) such as is used.
これらのうち、好ましくは、ハイドロフルオロエーテル(HFE)が用いられ、さらに好ましくは、C4F9OCH3が用いられる。
処理液10における水可溶性溶媒および層分離溶媒の配合割合は、水可溶性溶媒/層分離溶媒の重量比で、例えば、1/99〜50/50、好ましくは、3/97〜7/93、さらに好ましくは、4/96〜6/94である。水可溶性溶媒の配合割合が上記した範囲に満たない場合には、脱水工程S2後のシート3の表面に水滴(またはその痕)が残存する場合がある。一方、水可溶性溶媒の配合割合が上記した範囲を超える場合には、脱水工程S2後のシート3の表面に水可溶性溶媒の滴(またはその痕)が残存する場合があり、また、後述する溶媒置換工程S5において、置換する層分離溶媒の量が過度に増大して、製造コストが増大する場合がある。
Of these, hydrofluoroether (HFE) is preferably used, and C 4 F 9 OCH 3 is more preferably used.
The mixing ratio of the water-soluble solvent and the layer separation solvent in the
このような処理液10は、処理槽2において、その温度が、例えば、50℃を超過し54℃以下に、好ましくは、52〜54℃に調整される。処理液10が上記温度以下である場合には、脱水工程S2後のシート3の表面に水滴(またはその痕)が残存する場合がある。
この処理液10にシート3を浸漬させるには、搬送機構により、シート3を処理槽2内に投入する。
The temperature of the
In order to immerse the
シート3は、図1および図3に示すように、図示しない搬送機構の吊下部により、シート3が垂下されるように吊り下げられている。具体的には、シート3は、図1に示すように、処理槽2内において、奥行方向において間隔を隔てて対向配置されるように、複数(8枚)配列された状態で、吊下部に吊り下げられている。
そして、吊下部の下降により、シート3を下降させて、シート3を処理槽2内に投入させて、シート3を処理槽2の処理液10に浸漬させる。
As shown in FIGS. 1 and 3, the
Then, the
なお、シート3の下端部は、図3に示すように、正面視において、上下方向においてバブル発生部4と間隔を隔てて対向配置されている。また、各シート3は、図2に示すように、平面視において、奥行方向における各バブル発生管7の間に配置されている。
また、上記した浸漬と同時に、処理液10をバブル発生部4によりバブリングさせる。
処理液10をバブル発生部4によりバブリングさせるには、ガス取入口5にガスを供給して、ガス分配管6および各バブル発生管7を介して、各バブル発生口8からガスを吐出させる。
In addition, as shown in FIG. 3, the lower end part of the sheet |
Simultaneously with the above immersion, the
In order to bubble the processing
バブル発生口8から吐出されるガスとしては、処理液10においてバブルを形成すること、つまり、処理液10に対して溶解されなければよく、例えば、窒素、アルゴンなどの不活性ガス、例えば、空気(大気)などが用いられる。
各バブル発生口8から吐出されるガスの吐出量(つまり、バブリング流量)は、例えば、30〜40L/min、好ましくは、35〜40L/minである。
The gas discharged from the
The discharge amount (that is, bubbling flow rate) of the gas discharged from each
また、処理液10において発生するバブルは、超音波洗浄により発生するミクロンサイズの気泡(例えば、0.1〜0.3μm)に比べて非常に大きく、その平均径は、例えば、0.3〜10mm、好ましくは、0.3〜5mmである。
また、バブリング時間は、例えば、20〜150秒間、好ましくは、60〜120秒間、さらに好ましくは、60〜90秒間である。
Further, bubbles generated in the
The bubbling time is, for example, 20 to 150 seconds, preferably 60 to 120 seconds, and more preferably 60 to 90 seconds.
これにより、処理液10をバブリングさせ、発生したバブルがシート3の表面全面に接触するとともに、シート3の表面における処理液10を十分に攪拌させることにより、シート3を脱水することができる。
なお、この浸漬バブリング工程S3においては、処理液10は、バブル発生部4のバブリングにより攪拌されていることから、水可溶性溶媒が層分離溶媒中に分散(懸濁)された、分散(懸濁)状態を形成している。
Accordingly, the
In addition, in this immersion bubbling process S3, since the
次に、この方法では、図3(b)および図4に示すように、処理液10を静置させて、処理液10を層分離させる(層分離工程S4)。
処理液10を層分離させるには、バブリングを中断し、その後、処理液10を静置させる。静置時間は、例えば、60秒間以上、好ましくは、90秒間以上、通常、150秒間以下である。
Next, in this method, as shown in FIGS. 3B and 4, the
In order to separate the
この処理液10の静置により水可溶性溶媒が上層11を形成し、層分離溶媒が下層12を形成することにより、処理液10において、上層11および下層12の間に界面が形成される。これにより、処理液10を層分離させることができる。
次いで、この方法では、図3(c)および図4に示すように、図示しない処理液供給部から層分離溶媒を処理液10にさらに加えることにより、シート3の表面において、水可溶性溶媒を層分離溶媒で置換する(溶媒置換工程S5)。
By allowing the
Next, in this method, as shown in FIGS. 3 (c) and 4, a layer-separating solvent is further added to the
さらに加えられる層分離溶媒は、処理液10に含まれる層分離溶媒と同一または相異なっていてもよく、好ましくは、同一である。
さらに加えられる層分離溶媒の容量は、例えば、上層11を形成する水可溶性溶媒を全て処理槽2の上端からオーバーフローさせる容量に設定される。また、このような層分離溶媒を加える速度は、例えば、10〜20L/min、好ましくは、12〜15L/minに設定されている。
Further, the layer separation solvent to be added may be the same as or different from the layer separation solvent contained in the
Furthermore, the volume of the added layer separation solvent is set to a capacity that causes all the water-soluble solvents forming the
これにより、図3(b)の矢印で示すように、上層11および下層12の界面が上昇し、続いて、図3(c)の太線矢印で示すように、上層11を形成する水可溶性溶媒が処理槽2の上端からオーバーフローされ、水可溶性溶媒を層分離溶媒で置換することができる。
その後、この方法では、図3(c)の矢印で示すように、シート3を、吊下部の上昇により、処理液10から引き上げる。
As a result, the interface between the
Thereafter, in this method, as indicated by an arrow in FIG. 3C, the
そして、図4に示すように、浸漬バブリング工程S3、層分離工程S4および溶媒置換工程S5を順次実施することにより、シート3を脱水することができる(脱水工程S2)。
なお、図4において図示しないが、脱水工程S2後、必要により、熱風を用いた乾燥工程によって、シート3を乾燥する。
Then, as shown in FIG. 4, the
Although not shown in FIG. 4, after the dehydration step S2, the
そして、この方法によれば、水洗工程S1において、シート3、すなわち、金属めっき層28を形成したシート3を水洗した後、脱水工程2の浸漬バブリング工程S3において、処理液10をバブリングさせてシート3を脱水するので、シート3の表面に比較的大きな気泡を接触させながら脱水することができ、シート3における断線、とりわけ、端子部27における断線を防止しながら、シート3を確実に脱水することができる。
According to this method, the
その結果、シート3を確実に脱水しながら、接続信頼性の高い配線回路基板21を得ることができる。
また、この方法では、溶媒置換工程S5では、シート3の表面において、水可溶性溶媒を層分離溶媒で置換するので、シート3から脱水された水を含む水可溶性溶媒を、層分離溶媒によってシート3の表面から確実に除去できる。そのため、シート3を、より一層確実に脱水することができる。
As a result, it is possible to obtain the printed
In this method, in the solvent replacement step S5, the water-soluble solvent is replaced with the layer separation solvent on the surface of the
また、この方法では、層分離溶媒の比重が、水可溶性溶媒の比重に比べて、大きいので、層分離溶媒が下層12を形成し、水可溶性溶媒が上層11を形成する。そのため、層分離溶媒により水可溶性溶媒を置換すれば、シート3から脱水された水を含む水可溶性溶媒をオーバーフローにより除去することができる。その結果、簡易かつ確実に、シート3を脱水することができる。
Further, in this method, since the specific gravity of the layer separation solvent is larger than that of the water-soluble solvent, the layer separation solvent forms the
なお、上記した説明では、水洗工程S1および脱水工程S2を、金属めっき層28の形成後に、実施したが、さらに、図5の破線で示すように、はんだ29を、金属めっき層28の表面に形成した後に、水洗工程S1および脱水工程S2をさらに実施することもできる。
また、上記した説明では、図4に示すように、層分離工程S4および溶媒置換工程S5をともに実施したが、例えば、層分離工程S4および溶媒置換工程S5をともに実施せず、浸漬バブリング工程後のシート3を、そのまま引き上げることもできる。また、溶媒置換工程S5のみを実施せず、層分離工程S4後のシート3を、処理槽2の下部に設けられる図示しない下部シート取出口から、引き抜くこともできる。
In the above description, the water washing step S1 and the dehydration step S2 were performed after the formation of the
In the above description, as shown in FIG. 4, both the layer separation step S4 and the solvent replacement step S5 are performed. For example, both the layer separation step S4 and the solvent replacement step S5 are not performed, and after the immersion bubbling step. The
また、上記した説明では、層分離溶媒の比重を、水可溶性溶媒の比重より大きくしたが、例えば、層分離溶媒の比重を水可溶性溶媒の比重より小さくすることもできる。この場合には、図示しないが、水可溶性溶媒が下層12を形成し、層分離溶媒が上層11を形成する。そして、溶媒置換工程S5では、層分離溶媒をさらに加えることにより、下層12を形成する水可溶性溶媒を処理槽2の下部に設けられる図示しない下部溶媒流出口から流出させる。
In the above description, the specific gravity of the layer separation solvent is larger than the specific gravity of the water-soluble solvent. However, for example, the specific gravity of the layer separation solvent can be smaller than the specific gravity of the water-soluble solvent. In this case, although not shown, the water-soluble solvent forms the
実施例1
(水洗工程)
複数の配線回路基板を備えるシートを用意した。すなわち、まず、厚み20μmで、100×100mmの大きさのステンレス(SUS304)からなる金属支持基板を用意し、次いで、その上に、厚み12μmのポリイミドからなるベース絶縁層を形成し、次いで、配線および端子部を備える、厚み10μmの銅からなる導体層を形成し、次いで、配線を被覆し、端子部を露出するパターンで、厚み5μmのポリイミドからなるカバー絶縁層を形成し、その後、厚み2μmの金からなる金属めっき層を、端子部の表面に形成することにより、複数の配線回路基板を形成した(図1および図5参照)。なお、各配線および各端子部幅は30μmであった。
Example 1
(Washing process)
A sheet provided with a plurality of printed circuit boards was prepared. That is, first, a metal support substrate made of stainless steel (SUS304) having a thickness of 20 μm and a size of 100 × 100 mm is prepared, and then a base insulating layer made of polyimide having a thickness of 12 μm is formed on the metal support substrate. And a conductor layer made of copper having a thickness of 10 μm, and then covering the wiring and forming a cover insulating layer made of polyimide having a thickness of 5 μm in a pattern that exposes the terminal portion, and then having a thickness of 2 μm A plurality of printed circuit boards were formed by forming a metal plating layer made of gold on the surface of the terminal portion (see FIGS. 1 and 5). In addition, each wiring and each terminal part width | variety were 30 micrometers.
このシートを、水に20秒間浸漬することにより、シートを水洗した(図4参照、水洗工程(S2))。
(脱水工程)
次いで、シートを、脱水装置を用いて脱水させた(脱水工程(S2))。
脱水装置において、ガス分配管の長さは349mm、各バブル発生管の長さは270mmであり、互いに対向配置されるバブル発生管の間の間隔は40mmであった。また、各バブル発生口の間の間隔は5mmで、バブル発生口の直径が0.3mmであった。
By immersing this sheet in water for 20 seconds, the sheet was washed with water (see FIG. 4, water washing step (S2)).
(Dehydration process)
Next, the sheet was dehydrated using a dehydrator (dehydration step (S2)).
In the dehydrating apparatus, the length of the gas distribution pipe was 349 mm, the length of each bubble generation pipe was 270 mm, and the distance between the bubble generation pipes arranged to face each other was 40 mm. Moreover, the space | interval between each bubble generation opening was 5 mm, and the diameter of the bubble generation opening was 0.3 mm.
脱水工程(S2)では、まず、シートを、IPA(比重0.78(20℃)、沸点82℃)3重量部およびC4F9OCH3(比重1.52(20℃)、沸点61℃)97重量部を含み、温度が52℃に調整された処理液に浸漬させながら、処理液を、バブル発生部により窒素を用いてバブリングさせた(図3(a)および図4参照、浸漬バブリング工程(S3))。浸漬バブリング工程(S3)において、バブリング時間は75秒間であり、バブリング流量は30L/minであった。また、バブルの平均径は3mmであった。 In the dehydration step (S2), first, the sheet is divided into 3 parts by weight of IPA (specific gravity 0.78 (20 ° C.), boiling point 82 ° C.) and C 4 F 9 OCH 3 (specific gravity 1.52 (20 ° C.), boiling point 61 ° C. ) While being immersed in a treatment liquid containing 97 parts by weight and having a temperature adjusted to 52 ° C., the treatment liquid was bubbled with nitrogen using a bubble generating part (see FIG. 3A and FIG. 4, immersion bubbling). Step (S3)). In the immersion bubbling step (S3), the bubbling time was 75 seconds, and the bubbling flow rate was 30 L / min. The average bubble diameter was 3 mm.
次いで、バブリングを中断し、処理液を75秒間静置させて、処理液を層分離させた(図3(b)および図4参照、層分離工程(S4))。これにより、処理液において、IPAにより上層が形成され、C4F9OCH3により下層が形成された。
次いで、処理液供給部からC4F9OCH3を処理液にさらに速度12L/minで加えることにより、シートの表面において、IPA(IPAを含む水溶液)をC4F9OCH3ですべて置換した(図3(c)および図4参照、溶媒置換工程(S5))。溶媒置換工程(S5)では、上層および下層の間の界面が上昇し、次いで、上層を形成する水可溶性溶媒が処理槽の上端からオーバーフローされた。
Next, the bubbling was interrupted, and the treatment liquid was allowed to stand for 75 seconds to separate the treatment liquid into layers (see FIG. 3B and FIG. 4, the layer separation step (S4)). Thereby, in the processing liquid, an upper layer was formed by IPA, and a lower layer was formed by C 4 F 9 OCH 3 .
Then, by adding the processing liquid supply unit in the C 4 F 9 OCH 3 The treatment solution further rate 12L / min, the surface of the sheet, and replace all of IPA (aqueous solution containing IPA) in C 4 F 9 OCH 3 (Refer FIG.3 (c) and FIG. 4, a solvent substitution process (S5)). In the solvent replacement step (S5), the interface between the upper layer and the lower layer rose, and then the water-soluble solvent forming the upper layer overflowed from the upper end of the treatment tank.
その後、シートを引き上げ、これにより、シートを脱水した。
実施例2〜10
処理液のIPA濃度および温度と、浸漬バブリング工程(S3)のバブリング流量およびバブリング時間と、層分離工程(S4)の静置時間とを、表1に従って変更した以外は、実施例1と同様の処理により、シートを脱水して、実施例2〜10の配線回路基板をそれぞれ得た。
Thereafter, the sheet was pulled up, thereby dehydrating the sheet.
Examples 2-10
Except that the IPA concentration and temperature of the treatment liquid, the bubbling flow rate and bubbling time of the immersion bubbling step (S3), and the standing time of the layer separation step (S4) were changed according to Table 1, the same as in Example 1 The sheet | seat was dehydrated by the process and the wiring circuit board of Examples 2-10 was obtained, respectively.
実施例11
層分離工程(S4)および溶媒置換工程(S5)をともに実施せず、浸漬バブリング工程(S3)後のシート3を、そのまま引き上げた以外は、実施例8と同様の処理により、シートを脱水して、実施例11の配線回路基板をそれぞれ得た。
比較例1
処理液として、IPAをそのまま用い、また、浸漬バブリング工程(S3)に変えて、浸漬超音波工程を実施して、その後、シートをそのまま処理液から引き上げた以外は、実施例1と同様の処理により、シートを脱水した。
Example 11
Both the layer separation step (S4) and the solvent replacement step (S5) were not performed, and the
Comparative Example 1
The same treatment as in Example 1 except that IPA was used as the treatment liquid, and the immersion ultrasonic wave process was performed instead of the immersion bubbling process (S3), and then the sheet was pulled up from the treatment liquid as it was. The sheet was dehydrated.
なお、浸漬超音波工程では、40kHzの超音波を用いて、シートを150秒浸漬した。 In the immersion ultrasonic process, the sheet was immersed for 150 seconds using 40 kHz ultrasonic waves.
(評価)
1) 端子部における断線
実施例1〜11および比較例1により製造されたシートの配線回路基板について、超音波洗浄にて端子部における断線の有無を確認した。
(Evaluation)
1) Disconnection in the terminal part About the wiring circuit board of the sheet | seat manufactured by Examples 1-11 and the comparative example 1, the presence or absence of the disconnection in a terminal part was confirmed by ultrasonic cleaning.
その結果、実施例1〜11では、端子部における断線が確認されなかった。
一方、比較例1では、端子部における断線を確認した。
2) 水洗工程の痕
実施例1〜11および比較例1により製造されたシートの配線回路基板における水洗工程(S1)の痕の有無を確認した。
As a result, in Examples 1-11, the disconnection in the terminal part was not confirmed.
On the other hand, in the comparative example 1, the disconnection in the terminal part was confirmed.
2) Trace of water washing process The presence or absence of the trace of the water washing process (S1) in the printed circuit board of the sheet | seat manufactured by Examples 1-11 and Comparative Example 1 was confirmed.
その結果を、表1に示す。 The results are shown in Table 1.
○:水洗工程の痕が確認されなかった。
△:水洗工程の痕がわずかに確認された。
○: No trace of the washing process was confirmed.
(Triangle | delta): The trace of the water washing process was confirmed slightly.
×:水洗工程の痕を確認した。 X: The trace of the washing process was confirmed.
21 配線回路基板
S1 水洗工程
S2 脱水工程
21 printed circuit board S1 water washing process S2 dehydration process
Claims (3)
前記水洗工程後、前記配線回路基板を少なくとも水可溶性溶媒に浸漬させながら、前記水可溶性溶媒をバブリングさせて前記配線回路基板を脱水する脱水工程と
を備えることを特徴とする、配線回路基板の製造方法。 A water washing process for washing the printed circuit board;
A dehydrating step of dehydrating the wiring circuit board by bubbling the water-soluble solvent while immersing the wiring circuit board in at least a water-soluble solvent after the rinsing step. Method.
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