JP2009161714A - 光硬化性組成物、及び、それを用いたインク組成物 - Google Patents

Abstract

【課題】ノズル詰まり等を防止し、長期保存性が良好で、且つ、良好な色調と光堅牢性の良好な光硬化性組成物、光硬化性インク組成物、およびインクジェット記録用インク組成物を提供する。
【解決手段】重合性化合物、重合開始剤、及び下記一般式（Ｉ）で表される化合物を含有することを特徴とする光硬化性組成物。

【選択図】なし

Description

本発明は、重合性化合物、重合開始剤、及び染料を含有し、放射線により硬化可能な光硬化性組成物、及び、それを用いたインク組成物、特に、インクジェット記録用として好適なインク組成物に関する。

近年、画像記録材料としては、特にカラー画像を形成するための材料が主流であり、具
体的には、インクジェット方式記録材料、感熱転写型画像記録材料、電子写真方式を用い
る記録材料等が盛んに利用されている。インクジェット記録方法は、材料費が安価であること、高速記録が可能なこと、記録時の騒音が少ないこと、更にカラー記録が容易であることから、急速に普及し、更に発展しつつある。

一般にインクジェット方式記録材料等に使用されている水性のインク組成物は、普通紙に印字した場合に耐水性が劣ったり、滲みが生じやすく、更に、プラスチックなど非吸水性の被記録媒体に印字した場合には、インク液滴の付着が悪いために画像形成ができなかったり、溶剤の乾燥が極めて遅いために印字直後には記録物を重ねずに乾燥させる必要があったり、画像がにじみやすいといった欠点があった。（特許文献１参照）

そこで、非吸水性の被記録媒体に対する印刷に適するものとして、被記録媒体との接着性に優れた多官能モノマーを用いた紫外線硬化性インクが提案されている（特許文献２参照）。しかしながら、この紫外線硬化性インクは、水分散型のインクなので乾燥に時間を要するため、多くのインクを使用する多色のフルカラー画像を形成するには生産性に劣り好ましいものではなかった。
この乾燥性を解決するために、インクの溶剤として揮発性の有機溶剤を用いる方法が用いられてきたが、急速に乾燥させるためにはメチルエチルケトン及びエタノールなどの、揮発性の非常に高い溶剤を主成分として用いる必要があった。

有機溶媒を用いる方法としては着色成分として顔料を用いる方法が知られ（特許文献３参照）ているが、微粒子の顔料を分散させて用いるため、顔料の凝集が発生し易くインクジェットノズルが目詰りしたりするので、安定してインクを吐出させることが困難であったり、またインクを長期保存すると凝集等が発生し易いという問題も内在していた。

更に、着色成分に顔料を用いると透明性が劣り、色調が不十分であるために希望するカラー画質を得ることが困難であるという問題も有していた。この問題を解決する手段として、着色成分として、染料を用いた紫外線硬化型インクが提案されている（例えば、特許文献４参照）。しかし、このインクでは、インクの保存中に好ましくない重合反応が起こりやすく、保存安定性が十分ではないといった問題点を有していた。加えて、従来、顔料の代替成分として利用した染料は、光堅牢性が不十分であり、硬化時や、硬化後に退色してしまう問題があった。また更に、このインクは導電性塩類を含んでおり、この塩類はインク中での溶解性が悪い場合があるため、長期保存状態で析出してしまい、印字不良を起こす懸念があった。
特開２００６−１４３９８９号公報 特表２００１−５１２７７７号公報 特開平５−２１４２７９号公報 米国特許第４３０３９２４号明細書

本発明の目的は、長期保存性が良好で、且つ、光堅牢性に優れた良好な色調を有する硬化物を形成しうる光硬化性組成物を提供することにある。
本発明のさらなる目的は、前記本発明の光硬化性組成物を用いた、長期保存性が良好で、光堅牢性に優れた良好な色調の画像を形成しうるインク組成物、特に、長期間の使用においてもノズル詰まり等の発生が抑制され、保存安定性、吐出安定性に優れた、インクジェット記録用として有用なインク組成物を提供することを目的とする。

本発明者らは、顔料に代えて、耐光性に優れた油溶性の特定構造の染料を着色成分として用いることにより前記課題を解決することを見出した。すなわち、前記課題を解決するための手段は、以下の通りである。
＜１＞ 重合性化合物、重合開始剤、及び下記一般式（Ｉ）で表される化合物を含有することを特徴とする光硬化性組成物。

一般式（Ｉ）中、Ａは、５員複素環ジアゾ成分Ａ−ＮＨ_２の残基を表す。Ｂ^１は窒素原子、もしくは−ＣＲ^１＝を表し、Ｂ^２は、窒素原子もしくは−ＣＲ^２＝を表し、Ｂ^１及びＢ^２が同時に窒素原子であることはない。また、Ｒ^１、Ｒ^２は、各々独立に、水素原子、又は１価の置換基を表す。
Ｒ^３、Ｒ^４は、各々独立に、水素原子、脂肪族基、芳香族基、複素環基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、またはスルファモイル基を表す。
Ｒ^１とＲ^３、Ｒ^３とＲ^４は互いに結合して５員環または６員環を形成してもよい。
ａおよびｅは各々独立に、アルキル基、アルコキシ基またはハロゲン原子を表し、aおよびeが共にアルキル基である場合、該アルキル基を構成する炭素数の合計は２以上である。
ｂ、ｃ、ｄは、前記Ｒ^１と同義であり、ａとｂ、ｅとｄは、互いに結合して縮環構造を形成していてもよい。

＜２＞ 前記一般式（Ｉ）で表される化合物が、下記一般式（II）で表される化合物であることを特徴とする＜１＞に記載の光硬化性組成物。

一般式（II）中、Ｚ^１は、ハメットの置換基定数σｐ値が０．２０以上の電子吸引性基を表す。Ｚ^２は、水素原子、脂肪族基、芳香族基または複素環基を表す。Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、ａ、ｂ、ｃ、ｄ及びｅは、各々前記一般式（Ｉ）におけるのと同義である。
Ｑは、水素原子、脂肪族基、芳香族基または複素環基を表す。

＜３＞ 下記一般式（III）で表される化合物をさらに含有することを特徴とする＜１＞または＜２＞に記載の光硬化性組成物。

一般式（III）中、ＸはＯ、Ｓ、ＮＲ^９を表し、Ｒ^９はアルキル基またはアシル基を表す。ｎは０または１を表す。Ｒ^５〜Ｒ^８、Ｚ^３〜Ｚ^６はそれぞれ独立に水素原子または一価の基を示す。Ｒ^５〜Ｒ^８はそれぞれ隣接する２つが、Ｚ^３およびＺ^４は互いに結合して環を形成してもよい。

＜４＞ ＜１＞から＜３＞のいずれか１項に記載の光硬化性組成物を用いることを特徴とするインク組成物。
＜５＞ インクジェット記録用であることを特徴とする＜４＞に記載のインク組成物。

＜６＞ 上記一般式（Ｉ）で、Ｒ^３が芳香族基で、且つＲ^４が複素環基であることを特徴とする＜５＞に記載のインク組成物。
＜７＞ 上記一般式（Ｉ）で、Ｒ^３が２位および６位がアルキル基で置換されたフェニル基で、且つＲ^４がベンズオキサゾール環またはベンゾチアゾール環基であることを特徴とする＜５＞に記載のインク組成物。

本発明によれば、ノズル詰まり等を防止し、長期保存性が良好で、且つ、良好な色調と光堅牢性の良好な光硬化性組成物、光硬化性インク組成物、およびインクジェット記録用インク組成物を提供することができる。さらに本発明は、光硬化性が良好である。

本発明の光硬化性組成物は、重合性化合物、重合開始剤、及び一般式（Ｉ）で表される化合物を含有することを特徴とする。
本発明の光硬化性組成物は、放射線の照射により硬化が可能な光硬化性組成物である。ここで、本発明で言う「放射線」とは、その照射により組成物中において開始種を発生させうるエネルギーを付与することができるものであれば、特に制限はなく、広くα線、γ線、Ｘ線、紫外線、可視光線、電子線などを包含するものである。中でも、硬化感度及び装置の入手容易性の観点からは、紫外線及び電子線が好ましく、特に紫外線が好ましい。従って、本発明の光硬化性組成物としては、放射線として、紫外線を照射することにより硬化可能な光硬化性組成物であることが好ましい。
以下、本発明の光硬化性組成物を構成する各成分について説明する。

＜一般式（Ｉ）で表される化合物＞
本発明では、下記一般式（Ｉ）で表される化合物（以下、「特定染料」と称することがある）、即ち、特定の構造を有するアゾ色素を着色成分として用いることを特徴とする。
以下、特定染料について詳細に説明する。

上記一般式（Ｉ）中、Ａは、５員複素環ジアゾ成分Ａ−ＮＨ_２の残基を表す。Ｂ^１は窒素原子、もしくは−ＣＲ^１＝を表し、Ｂ^２は窒素原子、もしくは−ＣＲ^２＝を表し、Ｂ^１及びＢ^２が同時に窒素原子であることはない。Ｒ^３、Ｒ^４は、各々独立に、水素原子、脂肪族基、芳香族基、複素環基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、またはスルファモイル基を表わす。各基は更に置換基を有していてもよい。
また、Ｒ^１、Ｒ^２は、各々独立に、水素原子、又は１価の置換基を表す。ここで１価の基とは、水素原子、ハロゲン原子、脂肪族基、芳香族基、複素環基、シアノ基、カルボキシル基、カルバモイル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、複素環オキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、複素環アミノ基、アシルアミノ基、ウレイド基、スルフアモイルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、アルキルもしくはアリールスルホニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、ニトロ基、アルキルもしくはアリールチオ基、アルキルもしくはアリールスルホニル基、アルキルもしくはアリールスルフィニル基、スルファモイル基、スルホ基、または複素環チオ基を表す。各基は更に置換されていてもよい。

また、Ｒ^１とＲ^３、またはＲ^３とＲ^４が結合して５員環または６員環を形成してもよい。ａおよびｅは各々独立に、アルキル基、アルコキシ基またはハロゲン原子を表すが、aおよびｅが共にアルキル基である時は、そのアルキル基を構成する炭素数の合計が２以上であって、それらはさらに置換されていてもよい。ｂ、ｃ、ｄは、各々独立にＲ^１と同義であり、ａとｂ、または、ｅとｄで互いに縮環構造を形成していてもよい。

一般式（Ｉ）で表される特定染料において、Ａは５員複素環ジアゾ成分Ａ−ＮＨ_２の残基を表す。該５員複素環のヘテロ原子の例には、Ｎ、Ｏ、およびＳを挙げることができる。好しくは含窒素５員複素環であり、複素環に脂肪族環、芳香族環または他の複素環が縮合していてもよい。
Ａの好ましい複素環の例には、ピラゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、チアジアゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環、またはベンゾイソチアゾール環を挙げることができる。各複素環基は更に置換基を有していてもよい。なかでも、下記一般式（ａ）から（ｆ）で表されるピラゾール環、イミダゾール環、イソチアゾール環、チアジアゾール環、ベンゾチアゾール環、またはトリアゾール環が好ましい。

上記一般式（ａ）から（ｇ）において、Ｒ^ｍ１〜Ｒ^ｍ１６は、一般式（Ｉ）におけるＲ^１またはＲ^２と同義である。

Ｒ^３、Ｒ^４は、各々独立に、水素原子、脂肪族基（アルキル基、アルケニル基、アルキニル基等）、芳香族基（フェニル基、ナフチル基等）、ヘテロ環基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、スルホニル基（アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基）、またはスルファモイル基を表す。好ましくは水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、スルホニル基、アシル基、カルバモイル基であり、各基はさらに置換されていてもよい。
これらの基を、以下に更に詳しく説明する。

アルキル基は、置換又は無置換で、炭素原子数が１〜３０のアルキル基が好ましい。
置換アルキル基である場合の置換基の例としては、炭素数１〜１２の直鎖又は分岐鎖アルキル基、炭素数７〜１８の直鎖又は分岐鎖アラルキル基、炭素数２〜１２の直鎖又は分岐鎖アルケニル基、炭素数２〜１２の直鎖又は分岐鎖アルキニル基、炭素数３〜１２の直鎖又は分岐鎖シクロアルキル基、炭素数３〜１２の直鎖又は分岐鎖シクロアルケニル基（以上の各基は、分岐鎖を有するものが染料の溶解性及びインクの安定性を向上させる理由から好ましく、不斉炭素を有するものが特に好ましい。例えば、イソプロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、２−エチルヘキシル基、２−メチルスルホニルエチル基、３−フェノキシプロピル基、トリフルオロメチル基、シクロペンチル基が挙げられる。）、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子）、アリール基（例えば、フェニル、４−ｔ−ブチルフェニル、２，４−ジ−ｔ−アミルフェニル）、ヘテロ環基（例えば、イミダゾリル、ピラゾリル、トリアゾリル、２−フリル、２−チエニル、２−ピリミジニル、２−ベンゾチアゾリル）、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、アミノ基、アルキルオキシ基（例えば、メトキシ、エトキシ、２−メトキシエトキシ、２−メチルスルホニルエトキシ）、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ、２−メチルフェノキシ、４−ｔ−ブチルフェノキシ、３−ニトロフェノキシ、３−ｔ−ブチルオキシカルボニルフェノキシ、３−メトキシカルボニルフェニルオキシ、アシルアミノ基（例えば、アセトアミド、ベンズアミド、４−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）ブタンアミド）、アルキルアミノ基（例えば、メチルアミノ、ブチルアミノ、ジエチルアミノ、メチルブチルアミノ）、アリールアミノ基（例えば、フェニルアミノ、２−クロロアニリノ）、ウレイド基（例えば、フェニルウレイド、メチルウレイド、Ｎ，Ｎ−ジブチルウレイド）、スルファモイルアミノ基（例えば、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイルアミノ）、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ、オクチルチオ、２−フェノキシエチルチオ）、アリールチオ基（例えば、フェニルチオ、２−ブトキシ−５−ｔ−オクチルフェニルチオ、２−カルボキシフェニルチオ）、アルキルオキシカルボニルアミノ基（例えば、メトキシカルボニルアミノ）、アルキルスルホニルアミノ基及びアリールスルホニルアミノ基（例えば、メチルスルホニルアミノ、フェニルスルホニルアミノ、ｐ−トルエンスルホニルアミノ）、カルバモイル基（例えば、Ｎ−エチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジブチルカルバモイル）、スルファモイル基（例えば、Ｎ−エチルスルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイル、Ｎ−フェニルスルファモイル）、スルホニル基（例えば、メチルスルホニル、オクチルスルホニル、フェニルスルホニル、ｐ−トルエンスルホニル）、アルキルオキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル、ブチルオキシカルボニル）、ヘテロ環オキシ基（例えば、１−フェニルテトラゾール−５−オキシ、２−テトラヒドロピラニルオキシ）、アゾ基（例えば、フェニルアゾ、４−メトキシフェニルアゾ、４−ピバロイルアミノフェニルアゾ、２−ヒドロキシ−４−プロパノイルフェニルアゾ）、アシルオキシ基（例えば、アセトキシ）、カルバモイルオキシ基（例えば、Ｎ−メチルカルバモイルオキシ、Ｎ−フェニルカルバモイルオキシ）、シリルオキシ基（例えば、トリメチルシリルオキシ、ジブチルメチルシリルオキシ）、アリールオキシカルボニルアミノ基（例えば、フェノキシカルボニルアミノ）、イミド基（例えば、Ｎ−スクシンイミド、Ｎ−フタルイミド）、ヘテロ環チオ基（例えば、２−ベンゾチアゾリルチオ、２，４−ジ−フェノキシ−１，３，５−トリアゾール−６−チオ、２−ピリジルチオ）、スルフィニル基（例えば、３−フェノキシプロピルスルフィニル）、ホスホニル基（例えば、フェノキシホスホニル、オクチルオキシホスホニル、フェニルホスホニル）、アリールオキシカルボニル基（例えば、フェノキシカルボニル）、アシル基（例えば、アセチル、３−フェニルプロパノイル、ベンゾイル）が挙げられる。

Ｒ^３、およびＲ^４の好ましいシクロアルキル基としては、置換もしくは無置換で炭素原子数が５〜３０のシクロアルキル基である。置換シクロアルキル基の場合の置換基の例としては、前述の置換基アルキル基の場合の置換基として挙げたものと同じものが挙げられる。シクロアルキル基の例としては、シクロヘキシル、シクロペンチル、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシルを挙げることができる。

また、アラルキル基としては、置換もしくは無置換の炭素原子数が７〜３０のアラルキル基が好ましい。置換アラルキル基の場合の置換基の例としては、前述の置換基アルキル基の場合の置換基として挙げたものと同じものが挙げられる。
アラルキル基の例としては、ベンジル、２−フェネチルを挙げることができる。

またアルケニル基は、直鎖、分岐、環状のアルケニル基を表す。好ましくは、炭素数２〜３０の置換又は無置換のアルケニル基であり、例えば、ビニル基、アリル基、プレニル基、ゲラニル基、オレイル基、２−シクロペンテン−１−イル基、２−シクロヘキセン−１−イル基などを挙げることができる。

アルキニル基は、炭素数２〜３０の置換又は無置換のアルキニル基であることが好ましく、例えば、エチニル、プロパルギルを挙げることができる。

アリール基は、炭素数６〜３０の置換若しくは無置換のアリール基であることが好ましく、置換アリール基の場合の置換基の例としては、前述の置換基アルキル基の場合の置換基として挙げたものと同じものが挙げられる。
アリール基の例としては、例えば、フェニル基、ｐ−トリル基、ナフチル基、４−ｔ−ブチルフェニル基、２，４−ジ−ｔ−アミルフェニル基、ｍ−クロロフェニル基、ｏ−ヘキサデカノイルアミノフェニル基が挙げられる。

ヘテロ環基は、５員又は６員の置換若しくは無置換の、芳香族若しくは非芳香族のヘテロ環化合物から一個の水素原子を取り除いた１価の基であり、それらは更に縮環していてもよい。更に好ましくは、炭素数３〜３０の５員又は６員の芳香族のヘテロ環基である。置換へテロ環基の場合の置換基の例としては、前述の置換基アルキル基の場合の置換基として挙げたものと同じものが挙げられる。
ヘテロ環基の例としては、置換位置を限定しないで例示すると、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、ピリミジン、トリアジン、キノリン、イソキノリン、キナゾリン、シンノリン、フタラジン、キノキサリン、ピロール、インドール、フラン、ベンゾフラン、チオフェン、ベンゾチオフェン、ピラゾール、イミダゾール、ベンズイミダゾール、トリアゾール、オキサゾール、ベンズオキサゾール、チアゾール、ベンゾチアゾール、イソチアゾール、ベンズイソチアゾール、チアジアゾール、イソオキサゾール、ベンズイソオキサゾール、ピロリジン、ピペリジン、ピペラジン、イミダゾリジン、チアゾリンなどの基が挙げられる。

スルファモイル基は、炭素数０〜３０の置換若しくは無置換のスルファモイル基が好ましく、置換スルファモイル基の場合の置換基の例としては、前述の置換基アルキル基の場合の置換基として挙げたものと同じものが挙げられる。
スルファモイル基の例としては、Ｎ−エチルスルファモイル基、Ｎ−（３−ドデシルオキシプロピル）スルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイル基、Ｎ−フェニルスルファモイル基、Ｎ−アセチルスルファモイル基、Ｎ−ベンゾイルスルファモイル基、Ｎ−（Ｎ’−フェニルカルバモイル）スルファモイル）基などを挙げることができる。

アルキルスルホニル基及びアリールスルホニル基は、炭素数１〜３０の置換又は無置換のアルキルスルホニル基、６〜３０の置換又は無置換のアリールスルホニル基が好ましく、これらに導入しうる置換基の例としては、前述の置換基アルキル基の場合の置換基として挙げたものと同じものが挙げられる。
アルキルスルホニル基及びアリールスルホニル基の例としては、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、オクチルスルホニル基、フェニルスルホニル基、ｐ−トルエンスルホニル基などを挙げることができる。

アシル基は、ホルミル基、炭素数２〜３０の置換又は無置換のアルキルカルボニル基、炭素数７〜３０の置換若しくは無置換のアリールカルボニル基、炭素数４〜３０の置換若しくは無置換の炭素原子でカルボニル基と結合しているヘテロ環カルボニル基が好ましく、これらに導入しうる置換基の例としては、前述の置換基アルキル基の場合の置換基として挙げたものと同じものが挙げられる。
アシル基の例としては、アセチル基、ピバロイル基、２−クロロアセチル基、ステアロイル基、ベンゾイル基、３−フェニルプロパノイル基、ｐ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニル基、２―ピリジルカルボニル基、２−フリルカルボニル基などを挙げることができる。

アリールオキシカルボニル基は、炭素数７〜３０の置換若しくは無置換のアリールオキシカルボニル基が好ましく、置換アリールオキシカルボニル基の場合の置換基の例としては、前述の置換基アルキル基の場合の置換基として挙げたものと同じものが挙げられる。
アリールオキシカルボニル基の例としては、フェノキシカルボニル基、ｏ−クロロフェノキシカルボニル基、ｍ−ニトロフェノキシカルボニル基、ｐ−ｔ−ブチルフェノキシカルボニル基などを挙げることができる。

アルコキシカルボニル基は、炭素数２〜３０の置換若しくは無置換アルコキシカルボニル基が好ましく、置換アルコキシカルボニル基の場合の置換基の例としては、前述の置換基アルキル基の場合の置換基として挙げたものと同じものが挙げられる。
アルコキシカルボニル基の例としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基、ｎ−オクタデシルオキシカルボニル基などを挙げることができる。

カルバモイル基は、炭素数１〜３０の置換若しくは無置換のカルバモイル基が好ましく、置換カルバモイル基の場合の置換基の例としては、前述の置換基アルキル基の場合の置換基として挙げたものと同じものが挙げられる。
カルバモイル基としては、カルバモイル基、Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ−エチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルカルバモイル基、Ｎ−（メチルスルホニル）カルバモイル基などを挙げることができる。

Ｂ^１は、窒素原子、もしくは−ＣＲ^１＝を表し、Ｂ^２は、窒素原子、もしくは−ＣＲ^２＝を表し、Ｂ^１およびＢ^２が同時に窒素原子であることはない。Ｂ^１が−ＣＲ^１＝で、且つＢ^２が−ＣＲ^２＝を表す場合が、ピリジンカプラー骨格の形成による色素の酸化電位上昇の点で、より優れた性能を発揮できる点で好ましい。

Ｒ^１、Ｒ^２は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、カルボキシル基、カルバモイル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシル基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アミノ基（アルキルアミノ基、およびアリールアミノ基）、ヘテロ環アミノ基、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基（ウレイド基）、スルフアモイルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、アルキルもしくはアリールスルホニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、ニトロ基、アルキルもしくはアリールチオ基、アルキルもしくはアリールスルホニル基、アルキルもしくはアリールスルフィニル基、スルファモイル基、スルホ基、またはヘテロ環チオ基を表す。各基は更に置換されていてもよい。また、Ｒ^１とＲ^３、あるいはＲ^３とＲ^４が結合して５員環または６員環を形成してもよい。

ａおよびｅは各々独立に、アルキル基、アルコキシ基またはハロゲン原子を表すが、aおよびｅが共にアルキル基である時は、そのアルキル基を構成する炭素数の合計が２以上であって、それらはさらに置換されていてもよい。ｂ、ｃ、ｄは、各々独立にＲ^１、Ｒ^２と同義であり、ａとｂ、または、ｅとｄで互いに縮環構造を形成していてもよい。

以下に更に詳しくＲ^１、およびＲ^２を説明する。
ハロゲン原子としては、塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子を表す。中でも、塩素原子、又は臭素原子が好ましく、特に塩素原子が好ましい。

アルキル基は、置換もしくは無置換で炭素原子数が１〜３０のアルキル基が好ましい。
置換アルキル基である場合の置換基の例としては、炭素数１〜１２の直鎖又は分岐鎖アルキル基、炭素数７〜１８の直鎖又は分岐鎖アラルキル基、炭素数２〜１２の直鎖又は分岐鎖アルケニル基、炭素数２〜１２の直鎖又は分岐鎖アルキニル基、炭素数３〜１２の直鎖又は分岐鎖シクロアルキル基、炭素数３〜１２の直鎖又は分岐鎖シクロアルケニル基（以上の各基は、分岐鎖を有するものが染料の溶解性及びインクの安定性を向上させる理由から好ましく、不斉炭素を有するものが特に好ましい。例えば、イソプロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、２−エチルヘキシル基、２−メチルスルホニルエチル基、３−フェノキシプロピル基、トリフルオロメチル基、シクロペンチル基が挙げられる。）、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子）、アリール基（例えば、フェニル、４−ｔ−ブチルフェニル、２，４−ジ−ｔ−アミルフェニル）、ヘテロ環基（例えば、イミダゾリル、ピラゾリル、トリアゾリル、２−フリル、２−チエニル、２−ピリミジニル、２−ベンゾチアゾリル）、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、アミノ基、アルキルオキシ基（例えば、メトキシ、エトキシ、２−メトキシエトキシ、２−メチルスルホニルエトキシ）、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ、２−メチルフェノキシ、４−ｔ−ブチルフェノキシ、３−ニトロフェノキシ、３−ｔ−ブチルオキシカルボニルフェノキシ、３−メトキシカルボニルフェニルオキシ、アシルアミノ基（例えば、アセトアミド、ベンズアミド、４−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）ブタンアミド）、アルキルアミノ基（例えば、メチルアミノ、ブチルアミノ、ジエチルアミノ、メチルブチルアミノ）、アリールアミノ基（例えば、フェニルアミノ、２−クロロアニリノ）、ウレイド基（例えば、フェニルウレイド、メチルウレイド、Ｎ，Ｎ−ジブチルウレイド）、スルファモイルアミノ基（例えば、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイルアミノ）、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ、オクチルチオ、２−フェノキシエチルチオ）、アリールチオ基（例えば、フェニルチオ、２−ブトキシ−５−ｔ−オクチルフェニルチオ、２−カルボキシフェニルチオ）、アルキルオキシカルボニルアミノ基（例えば、メトキシカルボニルアミノ）、アルキルスルホニルアミノ基及びアリールスルホニルアミノ基（例えば、メチルスルホニルアミノ、フェニルスルホニルアミノ、ｐ−トルエンスルホニルアミノ）、カルバモイル基（例えば、Ｎ−エチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジブチルカルバモイル）、スルファモイル基（例えば、Ｎ−エチルスルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイル、Ｎ−フェニルスルファモイル）、スルホニル基（例えば、メチルスルホニル、オクチルスルホニル、フェニルスルホニル、ｐ−トルエンスルホニル）、アルキルオキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル、ブチルオキシカルボニル）、ヘテロ環オキシ基（例えば、１−フェニルテトラゾール−５−オキシ、２−テトラヒドロピラニルオキシ）、アゾ基（例えば、フェニルアゾ、４−メトキシフェニルアゾ、４−ピバロイルアミノフェニルアゾ、２−ヒドロキシ−４−プロパノイルフェニルアゾ）、アシルオキシ基（例えば、アセトキシ）、カルバモイルオキシ基（例えば、Ｎ−メチルカルバモイルオキシ、Ｎ−フェニルカルバモイルオキシ）、シリルオキシ基（例えば、トリメチルシリルオキシ、ジブチルメチルシリルオキシ）、アリールオキシカルボニルアミノ基（例えば、フェノキシカルボニルアミノ）、イミド基（例えば、Ｎ−スクシンイミド、Ｎ−フタルイミド）、ヘテロ環チオ基（例えば、２−ベンゾチアゾリルチオ、２，４−ジ−フェノキシ−１，３，５−トリアゾール−６−チオ、２−ピリジルチオ）、スルフィニル基（例えば、３−フェノキシプロピルスルフィニル）、ホスホニル基（例えば、フェノキシホスホニル、オクチルオキシホスホニル、フェニルホスホニル）、アリールオキシカルボニル基（例えば、フェノキシカルボニル）、アシル基（例えば、アセチル、３−フェニルプロパノイル、ベンゾイル）が挙げられる。

アラルキル基としては、炭素原子数が７〜３０の置換若しくは無置換のアラルキル基が好ましい。置換アラルキル基の場合の置換基の例としては、前述の置換基アルキル基の場合の置換基として挙げたものと同じものが挙げられる。
アラルキル基の例としては、ベンジル、２−フェネチルを挙げることができる。

アルケニル基は、直鎖、分岐、環状の置換若しくは無置換のアルケニル基を表す。好ましくは、炭素数２〜３０の置換又は無置換のアルケニル基であり、例えば、ビニル基、アリル基、プレニル基、ゲラニル基、オレイル基、２−シクロペンテン−１−イル基、２−シクロヘキセン−１−イル基などを挙げることができる。

アルキニル基は、炭素数２〜３０の置換又は無置換のアルキニル基であることが好ましく、例えば、エチニル、プロパルギルを挙げることができる。

シクロアルキル基としては、炭素原子数が５〜３０の置換若しくは無置換のシクロアルキル基が好ましい。置換シクロアルキル基の場合の置換基の例としては、前述の置換基アルキル基の場合の置換基として挙げたものと同じものが挙げられる。
シクロアルキル基の例としては、シクロヘキシル、シクロペンチル、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシルを挙げることができる。

アリール基は、炭素数６〜３０の置換若しくは無置換のアリール基であることが好ましく、置換アリール基の場合の置換基の例としては、前述の置換基アルキル基の場合の置換基として挙げたものと同じものが挙げられる。
アリール基の例としては、例えば、フェニル基、ｐ−トリル基、ナフチル基、ｍ−クロロフェニル基、ｏ−ヘキサデカノイルアミノフェニル基が挙げられる。

ヘテロ環基は、５員又は６員の置換若しくは無置換の、芳香族若しくは非芳香族のヘテロ環化合物から一個の水素原子を取り除いた１価の基であり、それらは更に縮環していてもよい。更に好ましくは、炭素数３〜３０の５員又は６員の芳香族のヘテロ環基である。
置換へテロ環基の場合の置換基の例としては、前述の置換基アルキル基の場合の置換基として挙げたものと同じものが挙げられる。
ヘテロ環基の例としては、置換位置を限定しないで例示すると、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、ピリミジン、トリアジン、キノリン、イソキノリン、キナゾリン、シンノリン、フタラジン、キノキサリン、ピロール、インドール、フラン、ベンゾフラン、チオフェン、ベンゾチオフェン、ピラゾール、イミダゾール、ベンズイミダゾール、トリアゾール、オキサゾール、ベンズオキサゾール、チアゾール、ベンゾチアゾール、イソチアゾール、ベンズイソチアゾール、チアジアゾール、イソオキサゾール、ベンズイソオキサゾール、ピロリジン、ピペリジン、ピペラジン、イミダゾリジン、チアゾリンなどの基が挙げられる。

アルコキシ基としては、炭素原子数が１〜３０の置換若しくは無置換のアルコキシ基が好ましい。置換アルコキシ基の場合の置換基の例としては、前述の置換基アルキル基の場合の置換基として挙げたものと同じものが挙げられる。
アルコキシ基の例としては、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、メトキシエトキシ基、ヒドロキシエトキシ基、３−カルボキシプロポキシ基などを挙げることができる。

アリールオキシ基は、炭素数６〜３０の置換若しくは無置換のアリールオキシ基が好ましい。置換アリールオキシ基の場合の置換基の例としては、前述の置換基アルキル基の場合の置換基として挙げたものと同じものが挙げられる。
アリールオキシ基の例としては、フェノキシ基、２−メチルフェノキシ基、４−ｔ−ブチルフェノキシ基、３−ニトロフェノキシ基、２−テトラデカノイルアミノフェノキシ基などを挙げることができる。

シリルオキシ基は、炭素数３〜２０のシリルオキシ基が好ましく、例えば、トリメチルシリルオキシ基、ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ基などを挙げることができる。

ヘテロ環オキシ基は、炭素数２〜３０の置換若しくは無置換のヘテロ環オキシ基が好ましい。置換ヘテロ環オキシ基の場合の置換基の例としては、前述の置換基アルキル基の場合の置換基として挙げたものと同じものが挙げられる。
ヘテロ環オキシ基の例としては、１−フェニルテトラゾール−５−オキシ基、２−テトラヒドロピラニルオキシ基などを挙げることができる。

アシルオキシ基としては、ホルミルオキシ基、炭素数２〜３０の置換若しくは無置換のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数６〜３０の置換若しくは無置換のアリールカルボニルオキシ基が好ましく、これらに導入しうる置換基の例としては、前述の置換基アルキル基の場合の置換基として挙げたものと同じものが挙げられる。
アシルオキシ基の例としては、ホルミルオキシ基、アセチルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ステアロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、ｐ−メトキシフェニルカルボニルオキシ基などを挙げることができる。

カルバモイルオキシ基は、炭素数１〜３０の置換若しくは無置換のカルバモイルオキシ基が好ましく、置換カルバモイルオキシ基の場合の置換基の例としては、前述の置換基アルキル基の場合の置換基として挙げたものと同じものが挙げられる。
カルバモイルオキシ基の例としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイルオキシ基、モルホリノカルボニルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルアミノカルボニルオキシ基、Ｎ−ｎ−オクチルカルバモイルオキシ基などを挙げることができる。

アルコキシカルボニルオキシ基は、炭素数２〜３０の置換若しくは無置換アルコキシカルボニルオキシ基が好ましく、置換アルコキシカルボニルオキシ基の場合の置換基の例としては、前述の置換基アルキル基の場合の置換基として挙げたものと同じものが挙げられる。
アルコキシカルボニルオキシ基の例としては、メトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、ｔ−ブトキシカルボニルオキシ基、ｎ−オクチルカルボニルオキシなど基を挙げることができる。

アリールオキシカルボニルオキシ基は、炭素数７〜３０の置換若しくは無置換のアリールオキシカルボニルオキシ基が好ましく、置換アリールオキシカルボニルオキシ基の場合の置換基の例としては、前述の置換基アルキル基の場合の置換基として挙げたものと同じものが挙げられる。
アリールオキシカルボニルオキシ基の例としては、フェノキシカルボニルオキシ基、ｐ−メトキシフェノキシカルボニルオキシ基、ｐ−ｎ−ヘキサデシルオキシフェノキシカルボニルオキシ基などを挙げることができる。

アミノ基は、炭素数１〜３０の置換若しくは無置換のアルキルアミノ基、炭素数６〜３０の置換若しくは無置換のアリールアミノ基が好ましく、これらに導入しうる置換基の例としては、前述の置換基アルキル基の場合の置換基として挙げたものと同じものが挙げられる。
アミノ基の例としては、アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、アニリノ基、Ｎ−メチル−アニリノ基、ジフェニルアミノ基、ヒドロキシエチルアミノ基、カルボキシエチルアミノ基、スルフォエチルアミノ基、３，５−ジカルボキシアニリノ基などを挙げることができる。

アシルアミノ基は、ホルミルアミノ基、炭素数１〜３０の置換若しくは無置換のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数６〜３０の置換若しくは無置換のアリールカルボニルアミノ基が好ましく、これらに導入しうる置換基の例としては、前述の置換基アルキル基の場合の置換基として挙げたものと同じものが挙げられる。
アシルアミノ基の例としては、ホルミルアミノ基、アセチルアミノ基、ピバロイルアミノ基、ラウロイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、３，４，５−トリ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニルアミノ基などを挙げることができる。

アミノカルボニルアミノ基（ウレイド基）は、炭素数１〜３０の置換若しくは無置換のアミノカルボニルアミノ基が好ましく、置換アミノカルボニルアミノ基の場合の置換基の例としては、前述の置換基アルキル基の場合の置換基として挙げたものと同じものが挙げられる。
アミノカルボニルアミノ基の例としては、カルバモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノカルボニルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノカルボニルアミノ基、モルホリノカルボニルアミノ基などを挙げることができる。

アルコキシカルボニルアミノ基は、炭素数２〜３０の置換若しくは無置換アルコキシカルボニルアミノ基が好ましく、置換アルコキシカルボニルアミノ基の場合の置換基の例としては、前述の置換基アルキル基の場合の置換基として挙げたものと同じものが挙げられる。
アルコキシカルボニルアミノ基の例としては、メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基、ｔ−ブトキシカルボニルアミノ基、ｎ−オクタデシルオキシカルボニルアミノ基、Ｎ−メチル−メトキシカルボニルアミノ基などを挙げることができる。

アリールオキシカルボニルアミノ基は、炭素数７〜３０の置換若しくは無置換のアリールオキシカルボニルアミノ基が好ましく、置換アリールオキシカルボニルアミノ基の場合の置換基の例としては、前述の置換基アルキル基の場合の置換基として挙げたものと同じものが挙げられる。
アリールオキシカルボニルアミノ基の例としては、フェノキシカルボニルアミノ基、ｐ−クロロフェノキシカルボニルアミノ基、ｍ−ｎ−オクチルオキシフェノキシカルボニルアミノ基などを挙げることができる。

スルファモイルアミノ基は、炭素数０〜３０の置換若しくは無置換のスルファモイルアミノ基が好ましく、置換スルファモイルアミノ基の場合の置換基の例としては、前述の置換基アルキル基の場合の置換基として挙げたものと同じものが挙げられる。
スルファモイルアミノ基の例としては、スルファモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノスルホニルアミノ基、Ｎ−ｎ−オクチルアミノスルホニルアミノ基などを挙げることができる。

アルキルスルホニルアミノ基及びアリールスルホニルアミノ基は、炭素数１〜３０の置換若しくは無置換のアルキルスルホニルアミノ基、炭素数６〜３０の置換若しくは無置換のアリールスルホニルアミノ基が好ましく、これらに導入しうる置換基の例としては、前述の置換基アルキル基の場合の置換基として挙げたものと同じものが挙げられる。
アルキルスルホニルアミノ基及びアリールスルホニルアミノ基の例としては、メチルスルホニルアミノ基、ブチルスルホニルアミノ基、フェニルスルホニルアミノ基、２，３，５−トリクロロフェニルスルホニルアミノ基、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノ基などを挙げることができる。

アルキルチオ基は、炭素数１〜３０の置換若しくは無置換のアルキルチオ基が好ましく、置換アルキルチオ基の場合の置換基の例としては、前述の置換基アルキル基の場合の置換基として挙げたものと同じものが挙げられる。
アルキルチオ基の例としては、メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−ヘキサデシルチオ基などを挙げることができる。

アリールチオ基は、炭素数６〜３０の置換若しくは無置換のアリールチオ基が好ましく、置換アリールチオ基の場合の置換基の例としては、前述の置換基アルキル基の場合の置換基として挙げたものと同じものが挙げられる。
アリールチオ基の例としては、フェニルチオ基、ｐ−クロロフェニルチオ基、ｍ−メトキシフェニルチオ基などを挙げることができる。

ヘテロ環チオ基は、炭素数２〜３０の置換又は無置換のヘテロ環チオ基が好ましく、置換ヘテロ環チオ基の場合の置換基の例としては、前述の置換基アルキル基の場合の置換基として挙げたものと同じものが挙げられる。
ヘテロ環チオ基の例としては、２−ベンゾチアゾリルチオ基、１−フェニルテトラゾール−５−イルチオ基などを挙げることができる。

スルファモイル基は、炭素数０〜３０の置換若しくは無置換のスルファモイル基が好ましく、置換スルファモイル基の場合の置換基の例としては、前述の置換基アルキル基の場合の置換基として挙げたものと同じものが挙げられる。
スルファモイル基の例としては、Ｎ−エチルスルファモイル基、Ｎ−（３−ドデシルオキシプロピル）スルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基、Ｎ−アセチルスルファモイル基、Ｎ−ベンゾイルスルファモイル基、Ｎ−（Ｎ’−フェニルカルバモイル）スルファモイル）基などを挙げることができる。

アルキルスルフィニル基及びアリールスルフィニル基は、炭素数１〜３０の置換又は無置換のアルキルスルフィニル基、６〜３０の置換又は無置換のアリールスルフィニル基が好ましく、これらに導入しうる置換基の例としては、前述の置換基アルキル基の場合の置換基として挙げたものと同じものが挙げられる。
アルキルスルフィニル基及びアリールスルフィニル基の例としては、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、フェニルスルフィニル基、ｐ−メチルフェニルスルフィニル基などを挙げることができる。

アルキルスルホニル基及びアリールスルホニル基は、炭素数１〜３０の置換又は無置換のアルキルスルホニル基、６〜３０の置換又は無置換のアリールスルホニル基が好ましく、これらに導入しうる置換基の例としては、前述の置換基アルキル基の場合の置換基として挙げたものと同じものが挙げられる。
アルキルスルホニル基及びアリールスルホニル基の例としては、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、フェニルスルホニル基、ｐ−トルエンスルホニル基などを挙げることができる。

アシル基は、ホルミル基、炭素数２〜３０の置換又は無置換のアルキルカルボニル基、炭素数７〜３０の置換若しくは無置換のアリールカルボニル基、炭素数４〜３０の置換若しくは無置換の炭素原子でカルボニル基と結合しているヘテロ環カルボニル基が好ましく、これらに導入しうる置換基の例としては、前述の置換基アルキル基の場合の置換基として挙げたものと同じものが挙げられる。
アシル基の例としては、アセチル基、ピバロイル基、２−クロロアセチル基、ステアロイル基、ベンゾイル基、ｐ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニル基、２―ピリジルカルボニル基、２−フリルカルボニル基などを挙げることができる。

アリールオキシカルボニル基は、炭素数７〜３０の置換若しくは無置換のアリールオキシカルボニル基が好ましく、置換アリールオキシカルボニル基の場合の置換基の例としては、前述の置換基アルキル基の場合の置換基として挙げたものと同じものが挙げられる。
アリールオキシカルボニル基の例としては、フェノキシカルボニル基、ｏ−クロロフェノキシカルボニル基、ｍ−ニトロフェノキシカルボニル基、ｐ−ｔ−ブチルフェノキシカルボニル基などを挙げることができる。

アルコキシカルボニル基は、炭素数２〜３０の置換若しくは無置換アルコキシカルボニル基が好ましく、置換アルコキシカルボニル基の場合の置換基の例としては、前述の置換基アルキル基の場合の置換基として挙げたものと同じものが挙げられる。
アルコキシカルボニル基の例としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基、ｎ−オクタデシルオキシカルボニル基などを挙げることができる。

カルバモイル基は、炭素数１〜３０の置換若しくは無置換のカルバモイル基が好ましく、置換カルバモイル基の場合の置換基の例としては、前述の置換基アルキル基の場合の置換基として挙げたものと同じものが挙げられる。
カルバモイル基としては、カルバモイル基、Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルカルバモイル基、Ｎ−（メチルスルホニル）カルバモイル基などを挙げることができる。

一般式（I）に関して、好ましい置換基の組み合わせ例を以下に示す。Ａは、ピラゾール環、イミダゾール環、イソチアゾール環、チアジアゾール環、またはベンゾチアゾール環（その中でも好ましくはピラゾール環）、Ｂ^１は無置換炭素原子、Ｂ^２は無置換またはアルキル置換された炭素原子、Ｒ^３、Ｒ^４は水素原子、アルキル基、アラルキル基、アリール基、複素環基、スルホニル基、またはアシル基、ａおよびｅは、アルキル基またはハロゲン原子が好ましく、ａおよびｅが共にアルキル基の時は無置換アルキル基であって、ａおよびｅの炭素数の合計が３以上（好ましくは５以下）であり、ａ、ｂ、ｃ、ｄは、各々水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、イオン性親水性基（好ましくは各々水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、イオン性親水性基）の場合が好ましい組み合わせである。

本発明では、一般式（Ｉ）で表される化合物が、下記一般式（II）で表される化合物であることが好ましい態様である。
以下、一般式（II）で表される化合物について説明する。

上記一般式（II）中、Ｚ^１は、ハメットの置換基定数σｐ値が０．２０以上の電子吸引性基を表す。Ｚ^２は、水素原子、脂肪族基、芳香族基または複素環基を表す。Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、ａ、ｂ、ｃ、ｄ及びｅは、各々一般式（Ｉ）の場合と同義である。Ｑは、水素原子、脂肪族基、芳香族基または複素環基を表す。上記Ｚ^１、Ｚ^２及びＱの各基は、更に置換基を有していてもよい。

一般式（II）において、Ｚ^１は、ハメットの置換基定数σｐ値が０．２０以上の電子吸引性基を表し、好ましくは０．３０以上の電子吸引性基である。σｐ値の上限としては、好ましくは１．０以下である。σｐ値が０．２０以上の電子吸引性基の具体例としては、アシル基、アシルオキシ基、カルバモイル基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、シアノ基、ニトロ基、ジアルキルホスホノ基、ジアリールホスホノ基、ジアリールホスフィニル基、アルキルスルフィニル、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホニルオキシ基、アシルチオ基、スルファモイル基、チオシアネート基、チオカルボニル基、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン化アルコキシ基、ハロゲン化アリールオキシ基、ハロゲン化アルキルアミノ基、ハロゲン化アルキルチオ基、複素環基、ハロゲン原子、アゾ基、セレノシアネート基およびσｐ値が０．２０以上の他の電子吸引性基で置換されたアリール基が挙げられる。

Ｚ^１として好ましくはシアノ基、ニトロ基、またはハロゲン原子であり、ハロゲン原子、またはシアノ基がより好ましく、シアノ基が最も好ましい。

Ｚ^２としては水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基、アリール基、複素環基、またはアシル基が好ましく、アルキル基がより好ましい。各置換基はさらに置換されていてもよい。
ただし、Ｒ^３とＲ^４が共に水素原子であることはない。

Ｑは、好ましくは、アルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基、アルケニル基、アリール基、または複素環基を表し、これら各置換基はさらに置換されていてもよい。これらの置換基の詳細は上記Ｒ^１、Ｒ^２の場合と同じである。

Ｑとしては、電子吸引性基で置換された、アリール基または複素環基が好ましい。ここで、本明細書中で用いられるハメットの置換基定数σｐ値について若干説明する。ハメット則は、ベンゼン誘導体の反応又は平衡に及ぼす置換基の影響を定量的に論ずるために１９３５年Ｌ．Ｐ．Ｈａｍｍｅｔｔにより提唱された経験則であるが、これは今日広く妥当性が認められている。ハメット則に求められた置換基定数にはσｐ値とσｍ値があり、これらの値は多くの一般的な成書に見出すことができ、例えば、Ｊ．Ａ．Ｄｅａｎ編、「Ｌａｎｇｅ’ｓ Ｈａｎｄｂｏｏｋ ｏｆ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ」第１２版、１９７９年（ＭｃＧｒａｗ−Ｈｉｌｌ）や「化学の領域」増刊、１２２号、９６〜１０３頁、１９７９年（南光堂刊）に詳しい。尚、本発明において各置換基をハメットの置換基定数σｐにより限定したり、説明したりするが、これは上記の成書で見出せる、文献既知の値がある置換基にのみ限定されるという意味ではなく、その値が文献未知であってもハメット則に基づいて測定した場合にその範囲内に包まれるであろう置換基をも含むことはいうまでもない。

Ｑの上記電子吸引性基は、ハメットの置換基定数σｐ値が０．２０以上、好ましくは０．３０以上の電子吸引性基である。σｐ値の上限としては、好ましくは１．０以下である。σｐ値が０．２０以上の電子吸引性基の具体例としては、アシル基、アシルオキシ基、カルバモイル基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、シアノ基、ニトロ基、ジアルキルホスホノ基、ジアリールホスホノ基、ジアリールホスフィニル基、アルキルスルフィニル、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホニルオキシ基、アシルチオ基、スルファモイル基、チオシアネート基、チオカルボニル基、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン化アルコキシ基、ハロゲン化アリールオキシ基、ハロゲン化アルキルアミノ基、ハロゲン化アルキルチオ基、複素環基、ハロゲン原子、アゾ基、セレノシアネート基およびσｐ値が０．２０以上の他の電子吸引性基で置換されたアリール基が挙げられ、好ましくはシアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子である。上記複素環基は、電子吸引性基で置換されていてもいなくてもよい。

一般式（II）に関して、好ましい置換基の組み合わせ例を以下に示す。Ｚ^１はシアノ基；Ｚ^２は、イソプロピル基、ｔ−ブチル基またはフェニル基（好ましくはｔ−ブチル基）；Ｒ^１は水素原子；Ｒ^２は水素原子または炭素数１〜４のアルキル基（好ましくはメチル基）；Ｒ^３、Ｒ^４は各々水素原子、アルキル基、アラルキル基、アリール基、複素環基、スルホニル基、またはアシル基、好ましくは水素原子、複素環（好ましくはベンズオキサゾール環、ベンゾチアゾール環）基またはアルキル置換されたフェニル基；ａおよびｅは、各々がアルキル基であって、ａ＋ｅが炭素数２以上（好ましくは５以下）の置換されていてもよいアルキル基、好ましくは炭素数４以上５以下の無置換アルキル基；ｂ、ｃ、ｄは、各々水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、；Ｑは、複素環（好ましくはベンズオキサゾール環、ベンゾチアゾール環（好ましくはスルファモイルの、ベンズオキサゾール環またはベンゾチアゾール環））基の場合が好ましい組み合わせである。

本発明の特定染料は、一般式（II）に関して、Ｚ^１はシアノ基であり、Ｚ^２はイソプロピル基またはｔ−ブチル基であり、Ｒ^１は水素原子であり、Ｒ^２は炭素数１〜４のアルキル基であり、Ｒ^３およびＲ^４は各々アルキル基、アリール基、複素環基、スルホニル基、アシル基であり、ａおよびｅは各々がアルキル基であり、ａ＋ｅが炭素数２以上（好ましくは５以下）のアルキル基であり、ｂ、ｃ、ｄは、各々水素原子、ハロゲン原子、アルキル基であり、Ｑは複素環基である場合などが、特に溶解性が高い。さらに好ましくは一般式（II）に関して、Ｚ^１はシアノ基であり、Ｚ^２はｔ−ブチル基であり、Ｒ^１は水素原子であり、Ｒ^２はメチル基またはエチル基であり、Ｒ^３およびＲ^４は各々ベンズオキサゾール基、ベンゾチアゾール基またはアルキル置換されたフェニル基であり、ａおよびｅは各々がメチル基、エチル基またはイソプロピル基であり、ｂ、ｃ、ｄは、各々水素原子またはアルキル基であり、Ｑはベンズオキサゾール環、ベンゾチアゾール環基である場合が均一なインク組成物を得ることができる。

本発明の特定染料の好ましい具体例（例示色素ＤＹＥ−１〜３２）を以下に示すが、本発明は、下記の例に限定されるものではない。

上記例示色素の中でも、（化合物番号） ＤＹＥ−５、ＤＹＥ−９、ＤＹＥ−１３、ＤＹＥ−１４、ＤＹＥ−１５、ＤＹＥ−１６、ＤＹＥ−２０、ＤＹＥ−２１、ＤＹＥ−２６、ＤＹＥ−２８、ＤＹＥ−２９がより好ましく、ＤＹＥ−９、ＤＹＥ−１６、ＤＹＥ−２９が更に好ましい。

なお、前記一般式（Ｉ）で表される染料の含有量は、光硬化性組成物全量中に０．０５〜２０質量％が好ましく、０．１〜１５質量％がより好ましく、０．２〜６質量％が更に好ましい。

なお、本発明の効果を妨げない範囲で、色相調整などの目的で、特定染料以外の染料を併用することができる。この場合の染料の総含有量（特定染料＋他の染料）に対し、他の染料は５０質量％以下であることが好ましく、３０質量％以下であることがより好ましい。

さらに本発明の光硬化性組成物は、下記一般式（III）で表される化合物を含有することによって、硬化性がさらに向上し、感度アップするので好ましい。また、特に下記一般式（III）で表される化合物のうち、Ｚ^３およびＺ^４が互いに結合せず環を形成しない骨格の化合物は、Ｚ^３およびＺ^４が互いに結合し環を形成した骨格よりも溶解性が高く、結晶性が低い。そのため、これを含有するインク組成物は溶液としての安定性に優れ、且つ、これを含有するインク組成物をインクジェット記録用として用いた場合、優れた吐出安定性が得られるものと考えられる。

以下、一般式（III）で表される化合物について説明する。
一般式（III）中、ＸはＯ、Ｓ、ＮＲ^９を表し、Ｒ^９はアルキル基またはアシル基を表す。ｎは０または１を表す。Ｒ^５〜Ｒ^８、Ｚ^３〜Ｚ^６はそれぞれ独立に水素原子または一価の基を示す。Ｒ^５〜Ｒ^８はそれぞれ隣接する２つが、Ｚ^３およびＺ^４は互いに結合して環を形成してもよい。

ＸはＯ、Ｓ、ＮＲ^９を表し、Ｒ^９は炭素数１〜１０のアルキル基またはアシル基を表す。Ｘとしては、Ｏ又はＳであることが好ましく、Ｓであることがより好ましい。

ｎは０または１を表す。ここで、ｎが０の場合、Ｚ^４及びＺ^６と結合した炭素原子は存在せず、ヘテロ原子を含むＸと、Ｚ^３及びＺ^５と結合した炭素原子と、が直接結合して、Ｘを含む５員のヘテロ環を構成することになる。

Ｒ^５〜Ｒ^８、Ｚ^３〜Ｚ^６はそれぞれ独立に水素原子または一価の基を示す。一価の基の例としては、ハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アミノ基（アルキルアミノ基、アリールアミノ基）、アシルアミノ基（アミド基）、アミノカルボニルアミノ基（ウレイド基）、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキルスルホニルアミノ基、アリールスルホニルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、シリル基、またはイミド基を挙げることができ、各々はさらに置換基を有していてもよい。以下に前記一価の基を更に詳しく説明する。

ハロゲン原子は、塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子を表す。中でも塩素原子、または臭素原子が好ましく、特に塩素原子が好ましい。

アルキル基は、置換もしくは無置換のアルキル基が含まれる。置換又は無置換のアルキル基は、炭素原子数が１〜３０のアルキル基が好ましい。更に置換基を有することが可能な基であるときの置換基の例としては、炭素数１〜１２の直鎖又は分岐鎖アルキル基、炭素数７〜１８の直鎖又は分岐鎖アラルキル基、炭素数２〜１２の直鎖又は分岐鎖アルケニル基、炭素数２〜１２の直鎖又は分岐鎖アルキニル基、炭素数３〜１２の直鎖又は分岐鎖シクロアルキル基、炭素数３〜１２の直鎖又は分岐鎖シクロアルケニル基（例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、２−エチルヘキシル、２−メチルスルホニルエチル、３−フェノキシプロピル、トリフルオロメチル、シクロペンチル）、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子）、アリール基（例えば、フェニル、４−ｔ−ブチルフェニル、２，４−ジ−ｔ−アミルフェニル）、ヘテロ環基（例えば、イミダゾリル、ピラゾリル、トリアゾリル、２−フリル、２−チエニル、２−ピリミジニル、２−ベンゾチアゾリル）、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、アミノ基、アルキルオキシ基（例えば、メトキシ、エトキシ、２−メトキシエトキシ、２−メチルスルホニルエトキシ）、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ、２−メチルフェノキシ、４−ｔ−ブチルフェノキシ、３−ニトロフェノキシ、３−ｔ−ブチルオキシカルボニルフェノキシ、３−メトキシカルボニルフェニルオキシ、アシルアミノ基（例えば、アセトアミド、ベンズアミド、４−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）ブタンアミド）、アルキルアミノ基（例えば、メチルアミノ、ブチルアミノ、ジエチルアミノ、メチルブチルアミノ）、アリールアミノ基（例えば、フェニルアミノ、２−クロロアニリノ）、ウレイド基（例えば、フェニルウレイド、メチルウレイド、Ｎ，Ｎ−ジブチルウレイド）、スルファモイルアミノ基（例えば、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイルアミノ）、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ、オクチルチオ、２−フェノキシエチルチオ）、アリールチオ基（例えば、フェニルチオ、２−ブトキシ−５−ｔ−オクチルフェニルチオ、２−カルボキシフェニルチオ）、アルキルオキシカルボニルアミノ基（例えば、メトキシカルボニルアミノ）、アルキルスルホニルアミノ基及びアリールスルホニルアミノ基（例えば、メチルスルホニルアミノ、フェニルスルホニルアミノ、ｐ−トルエンスルホニルアミノ）、カルバモイル基（例えば、Ｎ−エチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジブチルカルバモイル）、スルファモイル基（例えば、Ｎ−エチルスルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイル、Ｎ−フェニルスルファモイル）、スルホニル基（例えば、メチルスルホニル、オクチルスルホニル、フェニルスルホニル、ｐ−トルエンスルホニル）、アルキルオキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル、ブチルオキシカルボニル）、ヘテロ環オキシ基（例えば、１−フェニルテトラゾール−５−オキシ、２−テトラヒドロピラニルオキシ）、アゾ基（例えば、フェニルアゾ、４−メトキシフェニルアゾ、４−ピバロイルアミノフェニルアゾ、２−ヒドロキシ−４−プロパノイルフェニルアゾ）、アシルオキシ基（例えば、アセトキシ）、カルバモイルオキシ基（例えば、Ｎ−メチルカルバモイルオキシ、Ｎ−フェニルカルバモイルオキシ）、シリルオキシ基（例えば、トリメチルシリルオキシ、ジブチルメチルシリルオキシ）、アリールオキシカルボニルアミノ基（例えば、フェノキシカルボニルアミノ）、イミド基（例えば、Ｎ−スクシンイミド、Ｎ−フタルイミド）、ヘテロ環チオ基（例えば、２−ベンゾチアゾリルチオ、２，４−ジ−フェノキシ−１，３，５−トリアゾール−６−チオ、２−ピリジルチオ）、スルフィニル基（例えば、３−フェノキシプロピルスルフィニル）、ホスホニル基（例えば、フェノキシホスホニル、オクチルオキシホスホニル、フェニルホスホニル）、アリールオキシカルボニル基（例えば、フェノキシカルボニル）、アシル基（例えば、アセチル、３−フェニルプロパノイル、ベンゾイル）、イオン性親水性基（例えば、カルボキシル基、スルホ基、ホスホノ基及び４級アンモニウム基）が挙げられる。

シクロアルキル基は、置換もしくは無置換のシクロアルキル基が含まれる。置換基又は無置換のシクロアルキル基は、炭素原子数が５〜３０のシクロアルキル基が好ましい。置換基の例としては、前述のアルキル基が更に置換基を有することが可能な基であるときに挙げたような置換基と同じものが挙げられる。前記シクロアルキル基の例にはシクロヘキシル、シクロペンチル、または４−ｎ−ドデシルシクロヘキシルを挙げることができる。

アラルキル基は、置換もしくは無置換のアラルキル基が含まれる。置換もしくは無置換のアラルキル基としては、炭素原子数が７〜３０のアラルキル基が好ましい。置換基の例としては、前述のアルキル基が更に置換基を有することが可能な基であるときに挙げたような置換基と同じものが挙げられる。前記アラルキルの例にはベンジルおよび２−フェネチルを挙げることが出来る。

アルケニル基は、直鎖、分岐、環状の置換もしくは無置換のアルケニル基を表す。好ましくは炭素数２〜３０の置換又は無置換のアルケニル基、例えば、ビニル、アリル、プレニル、ゲラニル、オレイル、２−シクロペンテン−１−イル、２−シクロヘキセン−１−イルなどを挙げることが出来る。

アルキニル基は、炭素数２から３０の置換又は無置換のアルキニル基であり、例えば、エチニル、またはプロパルギルを挙げることが出来る。

アリール基は、炭素数６から３０の置換もしくは無置換のアリール基、例えばフェニル、ｐ−トリル、ナフチル、ｍ−クロロフェニル、またはｏ−ヘキサデカノイルアミノフェニルである。置換基の例としては、前述のアルキル基が更に置換基を有することが可能な基であるときに挙げたような置換基と同じものが挙げられる。

ヘテロ環基は、５又は６員の置換もしくは無置換の、芳香族もしくは非芳香族のヘテロ環化合物から一個の水素原子を取り除いた一価の基であり、それらは更に縮環していてもよい。更に好ましくは、炭素数３から３０の５もしくは６員の芳香族のヘテロ環基である。
置換基の例としては、前述のアルキル基が更に置換基を有することが可能な基であるときに挙げたような置換基と同じものが挙げられる。前記ヘテロ環基の例には、置換位置を限定しないで例示すると、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、ピリミジン、トリアジン、キノリン、イソキノリン、キナゾリン、シンノリン、フタラジン、キノキサリン、ピロール、インドール、フラン、ベンゾフラン、チオフェン、ベンゾチオフェン、ピラゾール、イミダゾール、ベンズイミダゾール、トリアゾール、オキサゾール、ベンズオキサゾール、チアゾール、ベンゾチアゾール、イソチアゾール、ベンズイソチアゾール、チアジアゾール、イソオキサゾール、ベンズイソオキサゾール、ピロリジン、ピペリジン、ピペラジン、イミダゾリジン、チアゾリンなどが挙げられる。

アルコキシ基は、置換もしくは無置換のアルコキシ基が含まれる。置換もしくは無置換のアルコキシ基としては、炭素原子数が１〜３０のアルコキシ基が好ましい。置換基の例としては、前述のアルキル基が更に置換基を有することが可能な基であるときに挙げたような置換基と同じものが挙げられる。前記アルコキシ基の例には、メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ、ｎ−オクチルオキシ、メトキシエトキシ、ヒドロキシエトキシおよび３−カルボキシプロポキシなどを挙げることが出来る。

アリールオキシ基は、炭素数６から３０の置換もしくは無置換のアリールオキシ基が好ましい。置換基の例としては、前述のアルキル基が更に置換基を有することが可能な基であるときに挙げたような置換基と同じものが挙げられる。前記アリールオキシ基の例には、フェノキシ、２−メチルフェノキシ、４−ｔ−ブチルフェノキシ、３−ニトロフェノキシ、２−テトラデカノイルアミノフェノキシなどを挙げることが出来る。

シリルオキシ基は、炭素数３から２０のシリルオキシ基が好ましく、例えば、トリメチルシリルオキシ、ｔ−ブチルジメチルシリルオキシなどを挙げることが出来る。

ヘテロ環オキシ基は、炭素数２から３０の置換もしくは無置換のヘテロ環オキシ基が好ましい。置換基の例としては、前述のアルキル基が更に置換基を有することが可能な基であるときに挙げたような置換基と同じものが挙げられる。前記ヘテロ環オキシ基の例には、例えば、１−フェニルテトラゾール−５−オキシ、２−テトラヒドロピラニルオキシなどを挙げることが出来る。

アシルオキシ基は、ホルミルオキシ基、炭素数２から３０の置換もしくは無置換のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数６から３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニルオキシ基が好ましく、置換基の例としては、前述のアルキル基が更に置換基を有することが可能な基であるときに挙げたような置換基と同じものが挙げられる。前記アシルオキシ基の例には、例えば、ホルミルオキシ、アセチルオキシ、ピバロイルオキシ、ステアロイルオキシ、ベンゾイルオキシ、ｐ−メトキシフェニルカルボニルオキシなどを挙げることが出来る。

カルバモイルオキシ基は、炭素数１から３０の置換もしくは無置換のカルバモイルオキシ基が好ましく、置換基の例としては、前述のアルキル基が更に置換基を有することが可能な基であるときに挙げたような置換基と同じものが挙げられる。前記カルバモイルオキシ基の例には、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイルオキシ、モルホリノカルボニルオキシ、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルアミノカルボニルオキシ、Ｎ−ｎ−オクチルカルバモイルオキシなどを挙げることが出来る。

アルコキシカルボニルオキシ基は、炭素数２から３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニルオキシ基が好ましく、置換基の例としては、前述のアルキル基が更に置換基を有することが可能な基であるときに挙げたような置換基と同じものが挙げられる。前記アルコキシカルボニルオキシ基の例には、例えばメトキシカルボニルオキシ、エトキシカルボニルオキシ、ｔ−ブトキシカルボニルオキシ、ｎ−オクチルカルボニルオキシなどを挙げることが出来る。

アリールオキシカルボニルオキシ基は、炭素数７から３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニルオキシ基が好ましく、置換基の例としては、前述のアルキル基が更に置換基を有することが可能な基であるときに挙げたような置換基と同じものが挙げられる。前記アリールオキシカルボニルオキシ基の例には、例えば、フェノキシカルボニルオキシ、ｐ−メトキシフェノキシカルボニルオキシ、ｐ−ｎ−ヘキサデシルオキシフェノキシカルボニルオキシなどを挙げることが出来る。

アミノ基は、炭素数１から３０の置換もしくは無置換のアルキルアミノ基、炭素数６から３０の置換もしくは無置換のアリールアミノ基が好ましく、置換基の例としては、前述のアルキル基が更に置換基を有することが可能な基であるときに挙げたような置換基と同じものが挙げられる。前記アミノ基の例には、例えば、アミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、アニリノ、Ｎ−メチル−アニリノ、ジフェニルアミノ、ヒドロキシエチルアミノ、カルボキシエチルアミノ、スルフォエチルアミノ、３，５−ジカルボキシアニリノなどを挙げることが出来る。

アシルアミノ基は、ホルミルアミノ基、炭素数１から３０の置換もしくは無置換のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数６から３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニルアミノ基が好ましく、置換基の例としては、前述のアルキル基が更に置換基を有することが可能な基であるときに挙げたような置換基と同じものが挙げられる。前記アシルアミノ基の例には、例えば、ホルミルアミノ、アセチルアミノ、ピバロイルアミノ、ラウロイルアミノ、ベンゾイルアミノ、３，４，５−トリ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニルアミノなどを挙げることが出来る。

アミノカルボニルアミノ基は、炭素数１から３０の置換もしくは無置換のアミノカルボニルアミノ基が好ましく、置換基の例としては、前述のアルキル基が更に置換基を有することが可能な基であるときに挙げたような置換基と同じものが挙げられる。前記アミノカルボニルアミノ基の例には、例えば、カルバモイルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノカルボニルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノカルボニルアミノ、モルホリノカルボニルアミノなどを挙げることが出来る。

アルコキシカルボニルアミノ基は、炭素数２から３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニルアミノ基が好ましく、置換基の例としては、前述のアルキル基が更に置換基を有することが可能な基であるときに挙げたような置換基と同じものが挙げられる。前記アルコキシカルボニルアミノ基の例には、例えば、メトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ、ｔ−ブトキシカルボニルアミノ、ｎ−オクタデシルオキシカルボニルアミノ、Ｎ−メチルーメトキシカルボニルアミノなどを挙げることが出来る。

アリールオキシカルボニルアミノ基は、炭素数７から３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニルアミノ基が好ましく、置換基の例としては、前述のアルキル基が更に置換基を有することが可能な基であるときに挙げたような置換基と同じものが挙げられる。前記アリールオキシカルボニルアミノ基の例には、例えば、フェノキシカルボニルアミノ、ｐ−クロロフェノキシカルボニルアミノ、ｍ−ｎ−オクチルオキシフェノキシカルボニルアミノなどを挙げることが出来る。

スルファモイルアミノ基は、炭素数０から３０の置換もしくは無置換のスルファモイルアミノ基が好ましく、置換基の例としては、前述のアルキル基が更に置換基を有することが可能な基であるときに挙げたような置換基と同じものが挙げられる。前記スルファモイルアミノ基の例には、例えば、スルファモイルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノスルホニルアミノ、Ｎ−ｎ−オクチルアミノスルホニルアミノなどを挙げることが出来る。

アルキル及びアリールスルホニルアミノ基は、炭素数１から３０の置換もしくは無置換のアルキルスルホニルアミノ基、炭素数６から３０の置換もしくは無置換のアリールスルホニルアミノ基が好ましく、置換基の例としては、前述のアルキル基が更に置換基を有することが可能な基であるときに挙げたような置換基と同じものが挙げられる。前記アルキルスルホニルアミノ基及びアリールスルホニルアミノ基の例には、例えば、メチルスルホニルアミノ、ブチルスルホニルアミノ、フェニルスルホニルアミノ、２，３，５−トリクロロフェニルスルホニルアミノ、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノなどを挙げることが出来る。

アルキルチオ基は、炭素数１から３０の置換もしくは無置換のアルキルチオ基が好ましく、置換基の例としては、前述のアルキル基が更に置換基を有することが可能な基であるときに挙げたような置換基と同じものが挙げられる。前記アルキルチオ基の例には、例えばメチルチオ、エチルチオ、ｎ−ヘキサデシルチオなどを挙げることが出来る。

アリールチオ基は炭素数６から３０の置換もしくは無置換のアリールチオ基が好ましく、置換基の例としては、前述のアルキル基が更に置換基を有することが可能な基であるときに挙げたような置換基と同じものが挙げられる。前記アリールチオ基の例には、例えば、フェニルチオ、ｐ−クロロフェニルチオ、ｍ−メトキシフェニルチオなどを挙げることが出来る。

ヘテロ環チオ基は、炭素数２から３０の置換又は無置換のヘテロ環チオ基が好ましく、置換基の例としては、前述のアルキル基が更に置換基を有することが可能な基であるときに挙げたような置換基と同じものが挙げられる。前記ヘテロ環チオ基の例には、例えば、２−ベンゾチアゾリルチオ、１−フェニルテトラゾール−５−イルチオなどを挙げることが出来る。

スルファモイル基は、炭素数０から３０の置換もしくは無置換のスルファモイル基が好ましく、置換基の例としては、前述のアルキル基が更に置換基を有することが可能な基であるときに挙げたような置換基と同じものが挙げられる。前記スルファモイル基の例には、例えば、Ｎ−エチルスルファモイル、Ｎ−（３−ドデシルオキシプロピル）スルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル、Ｎ−アセチルスルファモイル、Ｎ−ベンゾイルスルファモイル、Ｎ−（Ｎ’−フェニルカルバモイル）スルファモイル）などを挙げることが出来る。

アルキル及びアリールスルフィニル基は、炭素数１から３０の置換又は無置換のアルキルスルフィニル基、６から３０の置換又は無置換のアリールスルフィニル基が好ましく、置換基の例としては、前述のアルキル基が更に置換基を有することが可能な基であるときに挙げたような置換基と同じものが挙げられる。前記アルキル及びアリールスルフィニル基の例には、例えば、メチルスルフィニル、エチルスルフィニル、フェニルスルフィニル、ｐ−メチルフェニルスルフィニルなどを挙げることが出来る。

アルキル及びアリールスルホニル基は、炭素数１から３０の置換又は無置換のアルキルスルホニル基、６から３０の置換又は無置換のアリールスルホニル基が好ましく、置換基の例としては、前述のアルキル基が更に置換基を有することが可能な基であるときに挙げたような置換基と同じものが挙げられる。前記アルキル及びアリールスルホニル基の例には、例えば、メチルスルホニル、エチルスルホニル、フェニルスルホニル、ｐ−トルエンスルホニルなどを挙げることが出来る。

アシル基は、ホルミル基、炭素数２から３０の置換又は無置換のアルキルカルボニル基、炭素数７から３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニル基、炭素数４から３０の置換もしくは無置換の炭素原子でカルボニル基と結合しているヘテロ環カルボニル基が好ましく、置換基の例としては、前述のアルキル基が更に置換基を有することが可能な基であるときに挙げたような置換基と同じものが挙げられる。前記アシル基の例には、例えば、アセチル、ピバロイル、２−クロロアセチル、ステアロイル、ベンゾイル、ｐ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニル、２―ピリジルカルボニル、２―フリルカルボニルなどを挙げることが出来る。

アリールオキシカルボニル基は、炭素数７から３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニル基が好ましく、置換基の例としては、前述のアルキル基が更に置換基を有することが可能な基であるときに挙げたような置換基と同じものが挙げられる。前記アリールオキシカルボニル基の例には、例えば、フェノキシカルボニル、ｏ−クロロフェノキシカルボニル、ｍ−ニトロフェノキシカルボニル、ｐ−ｔ−ブチルフェノキシカルボニルなどを挙げることが出来る。

アルコキシカルボニル基は、炭素数２から３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニル基が好ましく、置換基の例としては、前述のアルキル基が更に置換基を有することが可能な基であるときに挙げたような置換基と同じものが挙げられる。前記アルコキシカルボニル基の例には、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル、ｎ−オクタデシルオキシカルボニルなどを挙げることが出来る。

カルバモイル基は、炭素数１から３０の置換もしくは無置換のカルバモイル基が好ましく、置換基の例としては、前述のアルキル基が更に置換基を有することが可能な基であるときに挙げたような置換基と同じものが挙げられる。前記カルバモイル基の例には、例えば、カルバモイル、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルカルバモイル、Ｎ−（メチルスルホニル）カルバモイルなどを挙げることが出来る。

ホスフィノ基は、炭素数２から３０の置換もしくは無置換のホスフィノ基が好ましく、置換基の例としては、前述のアルキル基が更に置換基を有することが可能な基であるときに挙げたような置換基と同じものが挙げられる。前記ホスフィノ基の例には、例えば、ジメチルホスフィノ、ジフェニルホスフィノ、メチルフェノキシホスフィノなどを挙げることが出来る。

ホスフィニル基は、炭素数２から３０の置換もしくは無置換のホスフィニル基が好ましく、置換基の例としては、前述のアルキル基が更に置換基を有することが可能な基であるときに挙げたような置換基と同じものが挙げられる。前記ホスフィニル基の例には、例えば、ホスフィニル、ジオクチルオキシホスフィニル、ジエトキシホスフィニルなどを挙げることが出来る。

ホスフィニルオキシ基は、炭素数２から３０の置換もしくは無置換のホスフィニルオキシ基が好ましく、置換基の例としては、前述のアルキル基が更に置換基を有することが可能な基であるときに挙げたような置換基と同じものが挙げられる。前記ホスフィニルオキシ基の例には、例えば、ジフェノキシホスフィニルオキシ、ジオクチルオキシホスフィニルオキシなどを挙げることが出来る。

ホスフィニルアミノ基は、炭素数２から３０の置換もしくは無置換のホスフィニルアミノ基が好ましく、置換基の例としては、前述のアルキル基が更に置換基を有することが可能な基であるときに挙げたような置換基と同じものが挙げられる。前記ホスフィニルアミノ基の例には、例えば、ジメトキシホスフィニルアミノ、ジメチルアミノホスフィニルアミノなどを挙げることが出来る。

シリル基は、炭素数３から３０の置換もしくは無置換のシリル基が好ましく、置換基の例としては、前述のアルキル基が更に置換基を有することが可能な基であるときに挙げたような置換基と同じものが挙げられる。前記シリル基の例には、例えば、トリメチルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリル、フェニルジメチルシリルなどを挙げることが出来る。

イミド基は、例えば、Ｎ−スクシンイミド、Ｎ−フタルイミドなどを挙げることが出来る。

また、Ｒ^５〜Ｒ^８はそれぞれ隣接する２つが、Ｚ^３およびＺ^４は互いに結合して環を形成してもよい。これらが環を形成する場合の環構造としては、５〜６員環の脂肪族環、芳香族環などが挙げられ、炭素原子以外の元素を含む複素環であってもよく、また、形成された環同士がさらに組み合わさって２核環、例えば、縮合環を形成していてもよい。さらにこれらの環構造は、前記Ｒ^５〜Ｒ^８、Ｚ^３〜Ｚ^６に例示した置換基をさらに有していてもよい。形成された環構造が複素環である場合のヘテロ原子の例としては、Ｎ、Ｏ、及びＳを挙げることができる。

一般式（III）に関して、好ましい置換基の例を以下に示す。
ＸはＯ、Ｓ、ＮＲ^９を表し、Ｒ^９は炭素数１〜１０のアルキル基またはアシル基を表す。Ｘとしては、Ｏ又はＳであることが好ましく、Ｓであることがより好ましい。
ｎは０または１を表す。ｎは１であることが好ましい。

Ｒ^５〜Ｒ^８としては、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、アミノ基（アルキルアミノ基、アリールアミノ基）、アシルアミノ基（アミド基）、アミノカルボニルアミノ基（ウレイド基）、アルキルチオ基、アリールチオ基、スルファモイル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基が好ましく、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基（アルキルアミノ基、アリールアミノ基）、アシル基がより好ましく、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基が特に好ましい。各々はさらに置換基を有していてもよい。

Ｚ^３〜Ｚ^６としては、水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基が好ましく、水素原子、アルキル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基がより好ましく、水素原子、アルキル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基が特に好ましい。各々はさらに置換基を有していてもよい。

また、Ｚ^３およびＺ^４は互いに結合して環を形成してもよい。その際形成する環としては芳香族または脂肪族の５員環または６員環が好ましく、芳香族６員環がより好ましい。さらに形成された環状に置換基を有していてもよく、その置換基はＲ^５〜Ｒ^８、Ｚ^３〜Ｚ^６に例示した置換基が挙げられる。

本発明で表される一般式（III）の化合物の具体例（例示化合物Ｓ−１〜Ｓ−６０）を以下に示すが、本発明は下記の例に限定されるものではない。

上記例示化合物の中でも、（化合物番号） Ｓ−１〜Ｓ−１２、Ｓ−３１〜Ｓ−３９、Ｓ−５１がより好ましく、Ｓ−４、Ｓ−６、Ｓ−３４、Ｓ−３５、Ｓ−３６が更に好ましい。

一般式（III）の化合物の光硬化性組成物における含有量は、光硬化性組成物に対して固形分で、０．０５〜３０質量％程度が好ましく、０．１〜２０質量％であることがさらに好ましく、０．２〜１０質量％であることがより好ましい。

＜重合性化合物＞
本発明の光硬化性組成物は、カチオン重合性化合物やラジカル重合性化合物等の、重合性化合物を含有することを必須とする。

−カチオン重合性化合物−
本発明に用いうるカチオン重合性化合物としては、後述する、放射線の照射により酸を発生する化合物から発生する酸により重合反応を開始し、硬化する化合物が好ましく、光カチオン重合性化合物として知られる各種公知のカチオン重合性のモノマーを使用することができる。カチオン重合性化合物としては、例えば、特開平６−９７１４号、特開２００１−３１８９２号、同２００１−４００６８号、同２００１−５５５０７号、同２００１−３１０９３８号、同２００１−３１０９３７号、同２００１−２２０５２６号などの各公報に記載されているエポキシ化合物、ビニルエーテル化合物、オキセタン化合物などが挙げられる。

エポキシ化合物としては、芳香族エポキシド及び脂環式エポキシドなどが挙げられる。
芳香族エポキシドとしては、少なくとも１個の芳香族核を有する多価フェノール或いはそのアルキレンオキサイド付加体とエピクロルヒドリンとの反応によって製造されるジ又はポリグリシジルエーテルが挙げられ、例えば、ビスフェノールＡ或いはそのアルキレンオキサイド付加体のジ又はポリグリシジルエーテル、水素添加ビスフェノールＡ或いはそのアルキレンオキサイド付加体のジ又はポリグリシジルエーテル、並びにノボラック型エポキシ樹脂等が挙げられる。ここでアルキレンオキサイドとしては、エチレンオキサイド及びプロピレンオキサイド等が挙げられる。

脂環式エポキシドとしては、少なくとも１個のシクロへキセン又はシクロペンテン環等のシクロアルカン環を有する化合物を、過酸化水素、過酸等の適当な酸化剤でエポキシ化することによって得られる、シクロヘキセンオキサイド又はシクロペンテンオキサイド含有化合物が好ましく挙げられる。
脂肪族エポキシドとしては、脂肪族多価アルコール或いはそのアルキレンオキサイド付加体のジ又はポリグリシジルエーテル等があり、その代表例としては、エチレングリコールのジグリシジルエーテル、プロピレングリコールのジグリシジルエーテル又は１，６−ヘキサンジオールのジグリシジルエーテル等のアルキレングリコールのジグリシジルエーテル、グリセリン或いはそのアルキレンオキサイド付加体のジ又はトリグリシジルエーテル等の多価アルコールのポリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコール或いはそのアルキレンオキサイド付加体のジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコール或いはそのアルキレンオキサイド付加体のジグリシジルエーテルに代表されるポリアルキレングリコールのジグリシジルエーテル等が挙げられる。ここでアルキレンオキサイドとしては、エチレンオキサイド及びプロピレンオキサイド等が挙げられる。

本発明に用いることのできる単官能及び多官能のエポキシ化合物を例示する。
単官能エポキシ化合物の例としては、例えば、フェニルグリシジルエーテル、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルグリシジルエーテル、ブチルグリシジルエーテル、２−エチルヘキシルグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、１，２−ブチレンオキサイド、１，３−ブタジエンモノオキサイド、１，２−エポキシドデカン、エピクロロヒドリン、１，２−エポキシデカン、スチレンオキサイド、シクロヘキセンオキサイド、３−メタクリロイルオキシメチルシクロヘキセンオキサイド、３−アクリロイルオキシメチルシクロヘキセンオキサイド、３−ビニルシクロヘキセンオキサイド等が挙げられる。

また、多官能エポキシ化合物の例としては、例えば、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、ビスフェノールＳジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＳジグリシジルエーテル、エポキシノボラック樹脂、水添ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＳジグリシジルエーテル、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル−５，５−スピロ−３，４−エポキシ）シクロヘキサン−メタ−ジオキサン、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート、ビニルシクロヘキセンオキサイド、４−ビニルエポキシシクロヘキサン、ビス（３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシルメチル）アジペート、３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシル−３’，４’−エポキシ−６’−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、メチレンビス（３，４−エポキシシクロヘキサン）、ジシクロペンタジエンジエポキサイド、エチレングリコールのジ（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）エーテル、エチレンビス（３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート）、エポキシヘキサヒドロフタル酸ジオクチル、エポキシヘキサヒドロフタル酸ジ−２−エチルヘキシル、１，４−ブタンジオールジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル類、１，１，３−テトラデカジエンジオキサイド、リモネンジオキサイド、１，２，７，８−ジエポキシオクタン、１，２，５，６−ジエポキシシクロオクタン等が挙げられる。

これらのエポキシ化合物の中でも、芳香族エポキシド及び脂環式エポキシドが、硬化速度に優れるという観点から好ましく、特に脂環式エポキシドが好ましい。

ビニルエーテル化合物としては、例えばエチレングリコールジビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、プロピレングリコールジビニルエーテル、ジプロピレングリコールジビニルエーテル、ブタンジオールジビニルエーテル、ヘキサンジオールジビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル等のジ又はトリビニルエーテル化合物、エチルビニルエーテル、ｎ−ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、オクタデシルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、２−エチルヘキシルビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールモノビニルエーテル、ｎ−プロピルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、イソプロペニルエーテル−Ｏ−プロピレンカーボネート、ドデシルビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテル、オクタデシルビニルエーテル等のモノビニルエーテル化合物等が挙げられる。

以下に、単官能ビニルエーテルと多官能ビニルエーテルを例示する。
単官能ビニルエーテルの例としては、例えば、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ｎ−ブチルビニルエーテル、ｔ−ブチルビニルエーテル、２−エチルヘキシルビニルエーテル、ｎ−ノニルビニルエーテル、ラウリルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、シクロヘキシルメチルビニルエーテル、４−メチルシクロヘキシルメチルビニルエーテル、ベンジルビニルエーテル、ジシクロペンテニルビニルエーテル、２−ジシクロペンテノキシエチルビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテル、エトキシエチルビニルエーテル、ブトキシエチルビニルエーテル、メトキシエトキシエチルビニルエーテル、エトキシエトキシエチルビニルエーテル、メトキシポリエチレングリコールビニルエーテル、テトラヒドロフルフリルビニルエーテル、２−ヒドロキシエチルビニルエーテル、２−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、４−ヒドロキシブチルビニルエーテル、４−ヒドロキシメチルシクロヘキシルメチルビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテル、ポリエチレングリコールビニルエーテル、クロルエチルビニルエーテル、クロルブチルビニルエーテル、クロルエトキシエチルビニルエーテル、フェニルエチルビニルエーテル、フェノキシポリエチレングリコールビニルエーテル等が挙げられる。

また、多官能ビニルエーテルの例としては、例えば、エチレングリコールジビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、ポリエチレングリコールジビニルエーテル、プロピレングリコールジビニルエーテル、ブチレングリコールジビニルエーテル、ヘキサンジオールジビニルエーテル、ビスフェノールＡアルキレンオキサイドジビニルエーテル、ビスフェノールＦアルキレンオキサイドジビニルエーテルなどのジビニルエーテル類；トリメチロールエタントリビニルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル、ジトリメチロールプロパンテトラビニルエーテル、グリセリントリビニルエーテル、ペンタエリスリトールテトラビニルエーテル、ジペンタエリスリトールペンタビニルエーテル、ジペンタエリスリトールヘキサビニルエーテル、エチレンオキサイド付加トリメチロールプロパントリビニルエーテル、プロピレンオキサイド付加トリメチロールプロパントリビニルエーテル、エチレンオキサイド付加ジトリメチロールプロパンテトラビニルエーテル、プロピレンオキサイド付加ジトリメチロールプロパンテトラビニルエーテル、エチレンオキサイド付加ペンタエリスリトールテトラビニルエーテル、プロピレンオキサイド付加ペンタエリスリトールテトラビニルエーテル、エチレンオキサイド付加ジペンタエリスリトールヘキサビニルエーテル、プロピレンオキサイド付加ジペンタエリスリトールヘキサビニルエーテルなどの多官能ビニルエーテル類等が挙げられる。
ビニルエーテル化合物としては、ジ又はトリビニルエーテル化合物が、硬化性、被記録媒体との密着性、形成された画像の表面硬度などの観点から好ましく、特にジビニルエーテル化合物が好ましい。

本発明に使用できるオキセタン化合物としては、特開２００１−２２０５２６号、同２００１−３１０９３７号、同２００３−３４１２１７号の各公報に記載される如き、公知のオキセタン化合物を任意に選択して使用できる。本発明の光硬化性組成物に使用しうるオキセタン環を有する化合物としては、その構造内にオキセタン環を１〜４個有する化合物が好ましい。このような化合物を使用することで、組成物の粘度をハンドリング性の良好な範囲に維持することが容易となる。

本発明の光硬化性組成物に使用される分子内に１〜２個のオキセタン環を有する化合物としては、下記式（１）〜（３）で示される化合物等が挙げられる。

Ｒ^ａ１は、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のフルオロアルキル基、アリル基、アリール基、フリル基又はチエニル基を表す。分子内に２つのＲ^ａ１が存在する場合、それらは同じであっても異なるものであってもよい。
アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等が挙げられ、フルオロアルキル基としては、これらアルキル基の水素のいずれかがフッ素原子で置換されたものが好ましく挙げられる。
Ｒ^ａ２は、水素原子、炭素数１〜６個のアルキル基、炭素数２〜６個のアルケニル基、芳香環を有する基、炭素数２〜６個のアルキルカルボニル基、炭素数２〜６個のアルコキシカルボニル基、炭素数２〜６個のＮ−アルキルカルバモイル基を表す。アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等が挙げられ、アルケニル基としては、１−プロペニル基、２−プロペニル基、２−メチル−１−プロペニル基、２−メチル−２−プロペニル基、１−ブテニル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基等が挙げられ、芳香環を有する基としては、フェニル基、ベンジル基、フルオロベンジル基、メトキシベンジル基、フェノキシエチル基等が挙げられる。アルキルカルボニル基としては、エチルカルボニル基、プロピルカルボニル基、ブチルカルボニル基等が、アルキコキシカルボニル基としては、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基等が、Ｎ−アルキルカルバモイル基としては、エチルカルバモイル基、プロピルカルバモイル基、ブチルカルバモイル基、ペンチルカルバモイル基等が挙げられる。また、Ｒ^ａ２は置換基を有していてもよく、置換基としては、１〜６のアルキル基、フッ素原子が挙げられる。

Ｒ^ａ３は、炭素数１〜１５の線状又は分枝状アルキレン基、線状又は分枝状不飽和炭化水素基、カルボニル基又はカルボニル基を含むアルキレン基、カルボキシル基を含むアルキレン基、カルバモイル基を含むアルキレン基、又は、以下に示す基を表す。
アルキレン基としては、例えば、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基が挙げられ、ポリ（アルキレンオキシ）基としては、ポリ（エチレンオキシ）基、ポリ（プロピレンオキシ）基等が挙げられる。不飽和炭化水素基としては、プロペニレン基、メチルプロペニレン基、ブテニレン基等が挙げられる。

Ｒ^ａ３が上記多価基である場合、Ｒ^ａ４は、水素原子、炭素数１〜４個のアルキル基、炭素数１〜４個のアルコキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メルカプト基、低級アルキルカルボキシル基、カルボキシル基、又はカルバモイル基を表す。
Ｒ^ａ５は、酸素原子、硫黄原子、メチレン基、ＮＨ、ＳＯ、ＳＯ_２、Ｃ（ＣＦ_３）_２、又は、Ｃ（ＣＨ_３）_２を表す。
Ｒ^ａ６は、炭素数１〜４個のアルキル基、又は、アリール基を表し、ｎは０〜２，０００の整数である。Ｒ^ａ７は炭素数１〜４個のアルキル基、アリール基、又は、下記構造を有する１価の基を表す。下記式中、Ｒ^ａ８は炭素数１〜４個のアルキル基、又はアリール基であり、ｍは０〜１００の整数である。

式（１）で表される化合物としては、３−エチル−３−ヒドロキシメチルオキセタン（ＯＸＴ−１０１：東亞合成（株）製）、３−エチル−３−（２−エチルヘキシロキシメチル）オキセタン（ＯＸＴ−２１２：東亞合成（株）製）、３−エチル−３−フェノキシメチルオキセタン（ＯＸＴ−２１１：東亞合成（株）製）が挙げられる。式（２）で表される化合物としては、１，４−ビス［（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル］ベンゼン（ＯＸＴ−１２１：東亞合成（株））が挙げられる。また、式（３）で表される化合物としては、ビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル（ＯＸＴ−２２１：東亞合成（株））が挙げられる。

３〜４個のオキセタン環を有する化合物としては、下記式（４）で示される化合物が挙げられる。

式（４）において、Ｒ^ａ１は、前記式（１）におけるのと同義である。また、多価連結基であるＲ^ａ９としては、例えば、下記Ａ〜Ｃで示される基等の炭素数１〜１２の分枝状アルキレン基、下記Ｄで示される基等の分枝状ポリ（アルキレンオキシ）基又は下記Ｅで示される基等の分枝状ポリシロキシ基等が挙げられる。ｊは、３又は４である。

上記Ａにおいて、Ｒ^ａ１０はメチル基、エチル基又はプロピル基を表す。また、上記Ｄにおいて、ｐは１〜１０の整数である。

また、本発明に好適に使用しうるオキセタン化合物の別の態様として、側鎖にオキセタン環を有する下記式（５）で示される化合物が挙げられる。

式（５）において、Ｒ^ａ１は、前記式（１）におけるのと同義であり、Ｒ^ａ８は炭素数１〜４個のアルキル基、又はアリール基である。Ｒ^ａ１１はメチル基、エチル基、プロピル基又はブチル基等の炭素数１〜４のアルキル基又はトリアルキルシリル基であり、ｒは１〜４である。

このようなオキセタン環を有する化合物については、特開２００３−３４１２１７号公報、段落番号［００２１］乃至［００８４］に詳細に記載され、ここに記載の化合物は本発明にも好適に使用しうる。
特開２００４−９１５５６号公報に記載されたオキセタン化合物も本発明に併用することができる。当該化合物は、同公報の段落番号［００２２］乃至［００５８］に詳細に記載されている。
本発明に併用される他のオキセタン化合物の中でも、組成物の粘度と粘着性の観点から、オキセタン環を１個有する化合物を使用することが好ましい。

本発明の光硬化性組成物にカチオン重合性化合物が用られる場合、光硬化性組成物の全固形分に対して６０質量％以上含有することが好ましく、７０質量％以上含有することがより好ましい。尚、カチオン重合性化合物の添加量の上限としては、９５質量％以下であることが好ましい。
また更に、カチオン重合性化合物の中でもカチオン重合性単官能モノマーを５０質量％以上含有することが好ましく、６０質量％以上含有することがより好ましい。カチオン重合性単官能モノマーを上記範囲含有することにより、硬化膜の柔軟性が向上する効果が得られる。

−ラジカル重合性化合物−
また、本発明の光硬化性組成物に用いうるラジカル重合性化合物としては、ラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物であり、分子中にラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を少なくとも１つ有する化合物であればどのようなものでもよく、モノマー、オリゴマー、ポリマー等の化学形態を持つものが含まれる。ラジカル重合性化合物は１種のみ用いてもよく、また目的とする特性を向上するために任意の比率で２種以上を併用してもよい。好ましくは２種以上併用して用いることが、反応性、物性などの性能を制御する上で好ましい。

ラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を有する重合性化合物の例としては、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸等の不飽和カルボン酸及びそれらの塩、エチレン性不飽和基を有する無水物、アクリロニトリル、スチレン、更に種々の不飽和ポリエステル、不飽和ポリエーテル、不飽和ポリアミド、不飽和ウレタン等のラジカル重合性化合物が挙げられる。

具体的には、２−エチルヘキシルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート、カルビトールアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、ベンジルアクリレート、ビス（４−アクリロキシポリエトキシフェニル）プロパン、ネオペンチルグリコールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、オリゴエステルアクリレート、Ｎ−メチロールアクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド、エポキシアクリレート等のアクリル酸誘導体、メチルメタクリレート、ｎ−ブチルメタクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート、ラウリルメタクリレート、アリルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、ジメチルアミノメチルメタクリレート、１，６−ヘキサンジオールジメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート、ポリプロピレングリコールジメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、２，２−ビス（４−メタクリロキシポリエトキシフェニル）プロパン等のメタクリル誘導体、その他、アリルグリシジルエーテル、ジアリルフタレート、トリアリルトリメリテート等のアリル化合物の誘導体が挙げられ、更に具体的には、山下晋三編、「架橋剤ハンドブック」、（１９８１年大成社）；加藤清視編、「ＵＶ・ＥＢ硬化ハンドブック（原料編）」（１９８５年、高分子刊行会）；ラドテック研究会編、「ＵＶ・ＥＢ硬化技術の応用と市場」、７９頁、（１９８９年、シーエムシー）；滝山栄一郎著、「ポリエステル樹脂ハンドブック」、（１９８８年、日刊工業新聞社）等に記載の市販品若しくは業界で公知のラジカル重合性乃至架橋性のモノマー、オリゴマー、及びポリマーを用いることができる。

また、ラジカル重合性化合物としては、例えば、特開平７−１５９９８３号、特公平７−３１３９９号、特開平８−２２４９８２号、特開平１０−８６３号、特開平９−１３４０１１号等の各公報に記載されている光重合性組成物に用いられる光硬化型の重合性化合物材料が知られており、これらも本発明の光硬化性組成物に適用することができる。

更に、ラジカル重合性化合物として、ビニルエーテル化合物を用いることも好ましい。好適に用いられるビニルエーテル化合物としては、例えば、エチレングリコールジビニルエーテル、エチレングリコールモノビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、トリエチレングリコールモノビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、プロピレングリコールジビニルエーテル、ジプロピレングリコールジビニルエーテル、ブタンジオールジビニルエーテル、ヘキサンジオールジビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、ヒドロキシエチルモノビニルエーテル、ヒドロキシノニルモノビニルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル等のジ又はトリビニルエーテル化合物、エチルビニルエーテル、ｎ−ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、オクタデシルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、２−エチルヘキシルビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールモノビニルエーテル、ｎ−プロピルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、イソプロペニルエーテル−Ｏ−プロピレンカーボネート、ドデシルビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテル、オクタデシルビニルエーテル等のモノビニルエーテル化合物等が挙げられる。
これらのビニルエーテル化合物のうち、硬化性、密着性、表面硬度の観点から、ジビニルエーテル化合物、トリビニルエーテル化合物が好ましく、特に、ジビニルエーテル化合物が好ましい。ビニルエーテル化合物は、１種を単独で使用してもよく、２種以上を適宜組み合わせて使用してもよい。

本発明の光硬化性組成物にラジカル重合性化合物が用られる場合、光硬化性組成物全固形分中、ラジカル重合性化合物は６０質量％以上含有することが好ましく、７０質量％以上含有することがより好ましい。尚、ラジカル重合性化合物の添加量の上限としては、９５質量％以下であることが好ましい。

＜重合開始剤＞
本発明の光硬化性組成物は重合開始剤を含有することを必須する。
使用する重合開始剤は、外部エネルギーを吸収して重合開始種を生成する化合物であればよく、併用する重合性化合物の種類に応じて、適宜選択することができる。
本発明の光硬化性組成物に用いることのできる重合開始剤としては、光カチオン重合の光重合開始剤、光ラジカル重合の光重合開始剤、色素類の光消色剤、光変色剤、或いはマイクロレジスト等に使用されている光（４００ｎｍ〜２００ｎｍの紫外線、遠紫外線、特に好ましくは、ｇ線、ｈ線、ｉ線、ＫｒＦエキシマレーザー光）、ＡｒＦエキシマレーザー光、電子線、Ｘ線、分子線又はイオンビームなどの照射により酸を発生する化合物を適宜選択して使用することができる。

−放射線の照射により酸を発生する化合物−
本発明において、例えば、重合性化合物として、カチオン重合性化合物が用いられる場合、重合開始剤としては、放射線の照射により酸を発生する化合物を用いることが好ましい。これらの化合物を用いることにより、放射線の照射により発生した酸により、前記したカチオン重合性化合物の重合反応が生起し、硬化する。

このような重合開始剤としては、放射線の照射により分解して酸を発生する、ジアゾニウム塩、ホスホニウム塩、スルホニウム塩、ヨードニウム塩などのオニウム塩化合物、イミドスルホネート、オキシムスルホネート、ジアゾジスルホン、ジスルホン、ｏ−ニトロベンジルスルホネート等のスルホネート化合物などを挙げることができる。

また、その他の活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物としては、例えば、Ｓ．Ｉ．Ｓｃｈｌｅｓｉｎｇｅｒ，Ｐｈｏｔｏｇｒ．Ｓｃｉ．Ｅｎｇ．，１８，３８７（１９７４）、Ｔ．Ｓ．Ｂａｌ ｅｔａｌ，Ｐｏｌｙｍｅｒ，２１，４２３（１９８０）等に記載のジアゾニウム塩、米国特許第４，０６９，０５５号、同４，０６９，０５６号、同Ｒｅ２７，９９２号、特開平３−１４０１４０号各公報等に記載のアンモニウム塩、Ｄ．Ｃ．Ｎｅｃｋｅｒ ｅｔａｌ，Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，１７，２４６８（１９８４）、Ｃ．Ｓ．Ｗｅｎ ｅｔａｌ，Ｔｅｈ，Ｐｒｏｃ．Ｃｏｎｆ．Ｒａｄ．Ｃｕｒｉｎｇ ＡＳＩＡ，ｐ４７８ Ｔｏｋｙｏ，Ｏｃｔ（１９８８）、米国特許第４，０６９，０５５ 号、同４，０６９，０５６号等に記載のホスホニウム塩、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔａｌ，Ｍａｃｒｏｍｏｒｅｃｕｌｅｓ，１０（６），１３０７（１９７７）、Ｃｈｅｍ．＆Ｅｎｇ．Ｎｅｗｓ，Ｎｏｖ．２８，ｐ３１（１９８８）、欧州特許第１０４，１４３号、同第３３９，０４９号、同第４１０，２０１号、特開平２−１５０８４８号、特開平２−２９６５１４号等に記載のヨードニウム塩、

Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔａｌ，Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｊ．１７，７３（１９８５）、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔａｌ．Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，４３，３０５５（１９７８）、Ｗ．Ｒ．Ｗａｔｔ ｅｔａｌ，Ｊ．Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉ．，ＰｏｌｙｍｅｒＣｈｅｍ．Ｅｄ．，２２，１７８９（１９８４）、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔａｌ，Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｂｕｌｌ．，１４，２７９（１９８５）、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔａｌ，Ｍａｃｒｏｍｏｒｅｃｕｌｅｓ，１４（５），１１４１（１９８１）、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔａｌ，Ｊ．ＰｏｌｙｍｅｒＳｃｉ．，Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｃｈｅｍ．Ｅｄ．，１７，２８７７（１９７９）、欧州特許第３７０，６９３号、同１６１，８１１号、同４１０，２０１号、同３３９，０４９号、同２３３，５６７号、同２９７，４４３号、同２９７，４４２号、米国特許第３，９０２，１１４号、同４，９３３，３７７号、同４，７６０，０１３号、同４，７３４，４４４号、同２，８３３，８２７号、独国特許第２，９０４，６２６号、同３，６０４，５８０号、同３，６０４，５８１号、特開平７−２８２３７号、同８−２７１０２号等に記載のスルホニウム塩、

Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔａｌ，Ｍａｃｒｏｍｏｒｅｃｕｌｅｓ，１０（６），１３０７（１９７７）、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔａｌ，Ｊ．Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉ．，Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｃｈｅｍ．Ｅｄ．，１７，１０４７（１９７９）等に記載のセレノニウム塩、Ｃ．Ｓ．Ｗｅｎ ｅｔａｌ，Ｔｅｈ，Ｐｒｏｃ．Ｃｏｎｆ．Ｒａｄ．Ｃｕｒｉｎｇ ＡＳＩＡ，ｐ４７８ Ｔｏｋｙｏ，Ｏｃｔ（１９８８）等に記載のアルソニウム塩等のオニウム塩、米国特許第３，９０５，８１５号、特公昭４６−４６０５号、特開昭４８−３６２８１号、特開昭５５−３２０７０号、特開昭６０−２３９７３６号、特開昭６１−１６９８３５号、特開昭６１−１６９８３７号、特開昭６２−５８２４１号、特開昭６２−２１２４０１号、特開昭６３−７０２４３号、特開昭６３−２９８３３９号等に記載の有機ハロゲン化合物、Ｋ．Ｍｅｉｅｒ ｅｔ ａｌ，Ｊ．Ｒａｄ．Ｃｕｒｉｎｇ，１３（４），２６（１９８６）、Ｔ．Ｐ．Ｇｉｌｌ ｅｔ ａｌ，Ｉｎｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，１９，３００７（１９８０）、Ｄ．Ａｓｔｒｕｃ，Ａｃｃ．Ｃｈｅｍ．Ｒｅｓ．，１９（１２），３７７（１９８６）、特開平２−１６１４４５号等に記載の有機金属／有機ハロゲン化物、

Ｓ．Ｈａｙａｓｅ ｅｔａｌ，Ｊ．Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉ．，２５，７５３（１９８７）、Ｅ．Ｒｅｉｃｈｍａｎｉｓ ｅｔａｌ，Ｊ．Ｐｈｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉ．，Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｃｈｅｍ．Ｅｄ．，２３，１（１９８５）、Ｑ．Ｑ．Ｚｈｕ ｅｔａｌ，Ｊ．Ｐｈｏｔｏｃｈｅｍ．，３６，８５，３９，３１７（１９８７）、Ｂ．Ａｍｉｔ ｅｔａｌ，Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ．，（２４）２２０５（１９７３）、Ｄ．Ｈ．Ｒ．Ｂａｒｔｏｎ ｅｔａｌ，Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，３５７１（１９６５）、Ｐ．Ｍ．Ｃｏｌｌｉｎｓ ｅｔａｌ，Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，Ｐｅｒｋｉｎ Ｉ，１６９５（１９７５）、Ｍ．Ｒｕｄｉｎｓｔｅｉｎ ｅｔａｌ，Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ．，（１７），１４４５（１９７５）、Ｊ．Ｗ．Ｗａｌｋｅｒ ｅｔａｌ，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１１０，７１７０（１９８８）、Ｓ．Ｃ．Ｂｕｓｍａｎ ｅｔａｌ，Ｊ．Ｉｍａｇｉｎｇ Ｔｅｃｈｎｏｌ．，１１（４），１９１（１９８５）、Ｈ．Ｍ．Ｈｏｕｌｉｈａｎ ｅｔａｌ，Ｍａｃｏｒｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，２１，２００１（１９８８）、Ｐ．Ｍ．Ｃｏｌｌｉｎｓ ｅｔａｌ，Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．，５３２（１９７２）、Ｓ．Ｈａｙａｓｅ ｅｔａｌ，Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，１８，１７９９（１９８５）、Ｅ．Ｒｅｉｃｈｍａｎｉｓ ｅｔａｌ，Ｊ．Ｅｌｅｃｔｒｏｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，Ｓｏｌｉｄ Ｓｔａｔｅ Ｓｃｉ．Ｔｅｃｈｎｏｌ．，１３０（６）、Ｆ．Ｍ．Ｈｏｕｌｉｈａｎ ｅｔａｌ，Ｍａｃｒｏｍｏｌｃｕｌｅｓ，２１，２００１（１９８８）、 欧州特許第０２９０，７５０号、同０４６，０８３号、同１５６，５３５号、同２７１，８５１号、同０，３８８，３４３号、米国特許第３，９０１，７１０号、同４，１８１，５３１号、特開昭６０−１９８５３８号、特開昭５３−１３３０２２号等に記載のＯ−ニトロベンジル型保護基を有する重合開始剤、

Ｍ．ＴＵＮＯＯＫＡ ｅｔａｌ，Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｐｒｅｐｒｉｎｔｓ Ｊａｐａｎ，３５（８）、Ｇ．Ｂｅｒｎｅｒ ｅｔａｌ，Ｊ．Ｒａｄ．Ｃｕｒｉｎｇ，１３（４）、Ｗ．Ｊ．Ｍｉｊｓ ｅｔａｌ，Ｃｏａｔｉｎｇ Ｔｅｃｈｎｏｌ．，５５（６９７），４５（１９８３），Ａｋｚｏ、Ｈ．Ａｄａｃｈｉ ｅｔａｌ，Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｐｒｅｐｒｉｎｔｓ，Ｊａｐａｎ，３７（３）、欧州特許第０１９９，６７２号、同８４５１５号、同０４４，１１５号、同第６１８，５６４号、同０１０１，１２２号、米国特許第４，３７１，６０５号、同４，４３１，７７４号、特開昭６４−１８１４３号、特開平２−２４５７５６号、特開平３−１４０１０９号等に記載のイミノスルフォネ−ト等に代表される光分解してスルホン酸を発生する化合物、特開昭６１−１６６５４４号、特開平２−７１２７０号等に記載のジスルホン化合物、特開平３−１０３８５４号、同３−１０３８５６号、同４−２１０９６０号等に記載のジアゾケトスルホン、ジアゾジスルホン化合物を挙げることができる。

また、これらの光により酸を発生する基、或いは化合物をポリマーの主鎖又は側鎖に導入した化合物、例えば、Ｍ．Ｅ．Ｗｏｏｄｈｏｕｓｅ ｅｔａｌ，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１０４，５５８６（１９８２）、Ｓ．Ｐ．Ｐａｐｐａｓ ｅｔａｌ，Ｊ．Ｉｍａｇｉｎｇ Ｓｃｉ．，３０（５），２１８（１９８６）、Ｓ．Ｋｏｎｄｏ ｅｔａｌ，Ｍａｋｒｏｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．，Ｒａｐｉｄ Ｃｏｍｍｕｎ．，９，６２５（１９８８）、Ｙ．Ｙａｍａｄａ ｅｔａｌ，Ｍａｋｒｏｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．，１５２，１５３，１６３（１９７２）、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔａｌ，Ｊ．ＰｏｌｙｍｅｒＳｃｉ．，Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｃｈｅｍ．Ｅｄ．，１７，３８４５（１９７９）、米国特許第３，８４９，１３７号、独国特許第３，９１４，４０７号、特開昭６３−２６６５３号、特開昭５５−１６４８２４号、特開昭６２−６９２６３号、特開昭６３−１４６０３８号、特開昭６３−１６３４５２号、特開昭６２−１５３８５３号、特開昭６３−１４６０２９号等に記載の化合物を用いることができる。例えば、ジアゾニウム塩、アンモニウム塩、ホスホニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、セレノニウム塩、アルソニウム塩等のオニウム塩、有機ハロゲン化合物、有機金属／有機ハロゲン化物、ｏ−ニトロベンジル型保護基を有する重合開始剤、イミノスルフォネート等に代表される光分解してスルホン酸を発生する化合物、ジスルホン化合物、ジアゾケトスルホン、ジアゾジスルホン化合物を挙げることができる。

更にＶ．Ｎ．Ｒ．Ｐｉｌｌａｉ，Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，（１），１（１９８０）、Ａ．Ａｂａｄ ｅｔａｌ，Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ．，（４７）４５５５（１９７１）、Ｄ．Ｈ．Ｒ．Ｂａｒｔｏｎ ｅｔａｌ，Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，（Ｃ），３２９（１９７０）、米国特許第３，７７９，７７８号、欧州特許第１２６，７１２号等に記載の光により酸を発生する化合物も使用することができる。

本発明に用いることができる重合開始剤として好ましい化合物として、下記式（ｂ１）、（ｂ２）、（ｂ３）で表される化合物を挙げることができる。

上記式（ｂ１）〜（ｂ３）において、Ｒ^２０１、Ｒ^２０２及びＲ^２０３は、各々独立に有機基を表す。また、Ｒ^２０４、Ｒ^２０５、Ｒ^２０６、Ｒ^２０７は各々独立に、アリール基、アルキル基又はシクロアルキル基を表す。
Ｘ⁻は、非求核性アニオンを表し、好ましくはスルホン酸アニオン、カルボン酸アニオ
ン、ビス（アルキルスルホニル）アミドアニオン、トリス（アルキルスルホニル）メチドアニオン、ＢＦ_４ ⁻、ＰＦ_６ ⁻、ＳｂＦ_６ ⁻や以下に示す基などが挙げられ、好ましくは炭素原子を有する有機アニオンである。

好ましい有機アニオンとしては下式に示す有機アニオンが挙げられる。

Ｒｃ^１は、有機基を表す。Ｒｃ^１としては、炭素数１〜３０のものが挙げられ、好ましくはアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、又はこれらの複数が、単結合、−Ｏ−、−ＣＯ_２−、−Ｓ−、−ＳＯ_３−、−ＳＯ_２Ｎ（Ｒｄ^１）−などの連結基で連結された基を挙げることができる。

Ｒｄ^１は、水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基を表し、Ｒｃ^３、Ｒｃ^４、Ｒｃ^５は、各々独立に、有機基を表し、Ｒｃ^３、Ｒｃ^４、Ｒｃ^５の有機基として、好ましくはＲｃ^１における好ましい有機基と同じものを挙げることができ、最も好ましくは炭素数１〜４のパーフロロアルキル基である。
また、Ｒｃ^３とＲｃ^４が結合して環を形成していてもよい。Ｒｃ^３とＲｃ^４が結合して形成される基としてはアルキレン基、アリーレン基が挙げられる。好ましくは炭素数２〜４のパーフロロアルキレン基である。

Ｒｃ^１、Ｒｃ^３〜Ｒｃ^５の有機基として、最も好ましくは１位がフッ素原子又はフロロアルキル基で置換されたアルキル基、フッ素原子又はフロロアルキル基で置換されたフェニル基である。フッ素原子又はフロロアルキル基を有することにより、光照射によって発生した酸の酸性度が上がり、感度が向上する。

Ｒ^２０１、Ｒ^２０２及びＲ^２０３としての有機基の炭素数は、一般的に１〜３０、好ましくは１〜２０である。また、Ｒ^２０１〜Ｒ^２０３のうち２つが結合して環構造を形成してもよく、環内に酸素原子、硫黄原子、エステル結合、アミド結合、カルボニル基を含んでいてもよい。Ｒ^２０１〜Ｒ^２０３の内の２つが結合して形成する基としては、アルキレン基（例えば、ブチレン基、ペンチレン基）を挙げることができる。

Ｒ^２０１、Ｒ^２０２及びＲ^２０３としての有機基の具体例としては、後述する化合物（ｂ１−１）、（ｂ１−２）、（ｂ１−３）における対応する基を挙げることができる。

なお、前記式（ｂ１）で表される構造を複数有する化合物であってもよい。例えば、式（ｂ１）で表される化合物のＲ^２０１〜Ｒ^２０３のうち少なくともひとつが、式（ｂ１）で表される他の化合物におけるＲ^２０１〜Ｒ^２０３の少なくともひとつと直接、又は、連結基を介して結合した構造を有する化合物であってもよい。

更に好ましい（ｂ１）成分として、以下に説明する化合物（ｂ１−１）、（ｂ１−２）、及び（ｂ１−３）を挙げることができる。

化合物（ｂ１−１）は、上記式（ｂ１）のＲ^２０１〜Ｒ^２０３の少なくとも１つがアリール基である、アリールスルホニム化合物、即ち、アリールスルホニウムをカチオンとする化合物である。

アリールスルホニウム化合物は、Ｒ^２０１〜Ｒ^２０３の全てがアリール基でもよいし、Ｒ^２０１〜Ｒ^２０３の一部がアリール基で、残りがアルキル基、シクロアルキル基でもよい。

アリールスルホニウム化合物としては、例えば、トリアリールスルホニウム化合物、ジアリールアルキルスルホニウム化合物、アリールジアルキルスルホニウム化合物、ジアリールシクロアルキルスルホニウム化合物、アリールジシクロアルキルスルホニウム化合物等を挙げることができる。

アリールスルホニウム化合物のアリール基としてはフェニル基、ナフチル基などのアリール基、インドール残基、ピロール残基、などのヘテロアリール基が好ましく、更に好ましくはフェニル基、インドール残基である。アリールスルホニム化合物が２つ以上のアリール基を有する場合に、２つ以上あるアリール基は同一であっても異なっていてもよい。

アリールスルホニウム化合物が必要に応じて有しているアルキル基としては、炭素数１〜１５の直鎖又は分岐状アルキル基が好ましく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基等を挙げることができる。
アリールスルホニウム化合物が必要に応じて有しているシクロアルキル基としては、炭素数３〜１５のシクロアルキル基が好ましく、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基等を挙げることができる。

Ｒ^２０１〜Ｒ^２０３のアリール基、アルキル基、シクロアルキル基は、アルキル基（例えば炭素数１〜１５）、シクロアルキル基（例えば炭素数３〜１５）、アリール基（例えば炭素数６〜１４）、アルコキシ基（例えば炭素数１〜１５）、ハロゲン原子、水酸基、フェニルチオ基を置換基として有してもよい。好ましい置換基としては、炭素数１〜１２の直鎖又は分岐状アルキル基、炭素数３〜１２のシクロアルキル基、炭素数１〜１２の直鎖、分岐又は環状のアルコキシ基であり、最も好ましくは炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基である。置換基は、３つのＲ^２０１〜Ｒ^２０３のうち、いずれか１つに置換していてもよいし、３つ全てに置換していてもよい。また、Ｒ^２０１〜Ｒ^２０３がアリール基の場合に、置換基はアリール基のｐ−位に置換していることが好ましい。

次に、化合物（ｂ１−２）について説明する。
化合物（ｂ１−２）は、式（ｂ１）におけるＲ^２０１〜Ｒ^２０３が、各々独立に、芳香環を含有しない有機基を表す場合の化合物である。ここで芳香環とは、ヘテロ原子を含有する芳香族環も包含するものである。
Ｒ^２０１〜Ｒ^２０３としての芳香環を含有しない有機基は、一般的に炭素数１〜３０、好ましくは炭素数１〜２０である。
Ｒ^２０１〜Ｒ^２０３は、各々独立に、好ましくはアルキル基、シクロアルキル基、アリル基、ビニル基であり、より好ましくは直鎖、分岐、環状２−オキソアルキル基、アルコキシカルボニルメチル基、特に好ましくは直鎖、分岐２−オキソアルキル基である。

Ｒ^２０１〜Ｒ^２０３としてのアルキル基は、直鎖状、分岐状のいずれであってもよく、好ましくは、炭素数１〜１０の直鎖又は分岐アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基）を挙げることができ、直鎖、分岐２−オキソアルキル基、アルコキシカルボニルメチル基がより好ましい。

Ｒ^２０１〜Ｒ^２０３としてのシクロアルキル基は、好ましくは、炭素数３〜１０のシクロアルキル基（シクロペンチル基、シクロヘキシル基、ノルボニル基）を挙げることができ、環状２−オキソアルキル基がより好ましい。

Ｒ^２０１〜Ｒ^２０３の直鎖、分岐、環状２−オキソアルキル基としては、好ましくは、上記のアルキル基、シクロアルキル基の２位に＞Ｃ＝Ｏを有する基を挙げることができる。
Ｒ^２０１〜Ｒ^２０３としてのアルコキシカルボニルメチル基におけるアルコキシ基としては、好ましくは炭素数１〜５のアルコキシ基（メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペントキシ基）を挙げることができる。
Ｒ^２０１〜Ｒ^２０３は、ハロゲン原子、アルコキシ基（例えば炭素数１〜５）、水酸基、シアノ基、ニトロ基によって更に置換されていてもよい。

化合物（ｂ１−３）とは、下記式（ｂ１−３）で表される化合物であり、フェナシルスルフォニウム塩構造を有する化合物である。

上記式（ｂ１−３）において、Ｒ^１ｃ〜Ｒ^５ｃは、各々独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、又はハロゲン原子を表す。
Ｒ^６ｃ及びＲ^７ｃは、各々独立に、水素原子、アルキル基又はシクロアルキル基を表す。
Ｒ^ｘ及びＲ^ｙは、各々独立に、アルキル基、シクロアルキル基、アリル基、又はビニル基を表す。
Ｒ^１ｃ〜Ｒ^５ｃ中のいずれか２つ以上、Ｒ^６ｃとＲ^７ｃ、及びＲ^ｘとＲ^ｙは、それぞれ結合して環構造を形成してもよい。
Ｚｃ⁻は、非求核性アニオンを表し、式（ｂ１）に於けるＸ⁻の非求核性アニオンと同様のものを挙げることができる。

Ｒ^１ｃ〜Ｒ^７ｃとしてのアルキル基は、直鎖状、分岐状のいずれであってもよく、例えば炭素数１〜２０個、好ましくは炭素数１〜１２個の直鎖及び分岐アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、直鎖又は分岐プロピル基、直鎖又は分岐ブチル基、直鎖又は分岐ペンチル基）を挙げることができる。

Ｒ^１ｃ〜Ｒ^７ｃのシクロアルキル基として、好ましくは、炭素数３〜８個のシクロアルキル基（例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基）を挙げることができる。

Ｒ^１ｃ〜Ｒ^５ｃとしてのアルコキシ基は、直鎖、分岐、環状のいずれであってもよく、例えば炭素数１〜１０のアルコキシ基、好ましくは、炭素数１〜５の直鎖及び分岐アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、直鎖又は分岐プロポキシ基、直鎖又は分岐ブトキシ基、直鎖又は分岐ペントキシ基）、炭素数３〜８の環状アルコキシ基（例えば、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基）を挙げることができる。

Ｒ^１ｃ〜Ｒ^５ｃ中のいずれか２つ以上、Ｒ^６ｃとＲ^７ｃ、及びＲ^ｘとＲ^ｙが結合して形成する基としては、ブチレン基、ペンチレン基等を挙げることができる。この環構造は、酸素原子、硫黄原子、エステル結合、アミド結合を含んでいてもよい。

好ましくはＲ^１ｃ〜Ｒ^５ｃのうちいずれかが直鎖状若しくは分岐状アルキル基、シクロアルキル基又は直鎖、分岐、環状アルコキシ基であり、更に好ましくはＲ^１ｃからＲ^５ｃの炭素数の和が２〜１５である。これにより、溶剤溶解性がより向上し、保存時にパーティクルの発生が抑制されるので好ましい。

Ｒ^ｘ及びＲ^ｙとしてのアルキル基、シクロアルキル基は、Ｒ^１ｃ〜Ｒ^７ｃとしてのアルキル基、シクロアルキル基と同様のものを挙げることができる。
Ｒ^ｘ及びＲ^ｙは、２−オキソアルキル基、アルコキシカルボニルメチル基であることが好ましい。
２−オキソアルキル基は、Ｒ^１ｃ〜Ｒ^５ｃとしてのアルキル基、シクロアルキル基の２位に＞Ｃ＝Ｏを有する基を挙げることができる。
アルコキシカルボニルメチル基におけるアルコキシ基については、Ｒ^１ｃ〜Ｒ^５ｃとしてのアルコキシ基と同様のものを挙げることができる。

Ｒ^ｘ、Ｒ^ｙは、好ましくは炭素数４個以上のアルキル基、シクロアルキル基であり、より好ましくは６個以上、更に好ましくは８個以上のアルキル基、シクロアルキル基である。

式（ｂ２）、（ｂ３）中、Ｒ^２０４〜Ｒ^２０７は、各々独立に、アリール基、アルキル基又はシクロアルキル基を表す。Ｘ⁻は、非求核性アニオンを表し、式（ｂ１）に於けるＸ⁻の非求核性アニオンと同様のものを挙げることができる。

Ｒ^２０４〜Ｒ^２０７のアリール基としてはフェニル基、ナフチル基が好ましく、更に好ましくはフェニル基である。
Ｒ^２０４〜Ｒ^２０７としてのアルキル基は、直鎖状、分岐状のいずれであってもよく、好ましくは、炭素数１〜１０の直鎖又は分岐アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基）を挙げることができる。Ｒ^２０４〜Ｒ^２０７としてのシクロアルキル基は、好ましくは、炭素数３〜１０のシクロアルキル基（シクロペンチル基、シクロヘキシル基、ノルボニル基）を挙げることができる。
Ｒ^２０４〜Ｒ^２０７が有していてもよい置換基としては、例えば、アルキル基（例えば炭素数１〜１５）、シクロアルキル基（例えば炭素数３〜１５）、アリール基（例えば炭素数６〜１５）、アルコキシ基（例えば炭素数１〜１５）、ハロゲン原子、水酸基、フェニルチオ基等を挙げることができる。

使用してもよい活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物として、更に、下記式（ｂ４）、（ｂ５）、（ｂ６）で表される化合物を挙げることができる。

式（ｂ４）〜（ｂ６）中、Ａｒ^３及びＡｒ^４は、各々独立に、アリール基を表す。
Ｒ^２０８、Ｒ^２０９及びＲ^２１０は、各々独立に、炭素数１〜１６のアルキル基、シクロアルキル基又はアリール基を表す。
Ａは、アルキレン基、アルケニレン基又はアリーレン基を表す。

放射線の照射により酸を発生する化合物の中でも好ましいものとしては、式（ｂ１）〜（ｂ３）で表される化合物を挙げることができる。これらの中でも、スルホニウム塩構造を有するものが好ましく、トリアリールスルホニウム塩構造を有するものがより好ましく、トリ（クロロフェニル）スルホニウム塩構造を有するものが特に好ましい。トリ（クロロフェニル）スルホニウム塩構造を有する重合開始剤としては、例えば、重合開始剤の好ましい化合物例として以下に列挙される、化合物例（ｂ−３７）〜（ｂ−４０）が挙げられる。
本発明に用いることのできる重合開始剤（放射線の照射により酸を発生する化合物）の好ましい化合物例〔（ｂ−１）〜（ｂ−９６）〕を以下に挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。

また、特開２００２−１２２９９４号公報、段落番号〔００２９〕乃至〔００３０〕に記載のオキサゾール誘導体、ｓ−トリアジン誘導体なども好適に用いられる。
特開２００２−１２２９９４号公報、段落番号〔００３７〕乃至〔００６３〕に例示されるオニウム塩化合物、スルホネート系化合物も本発明に好適に使用しうる。

−ラジカル重合開始剤−
本発明において、例えば、重合性化合物として、ラジカル重合性化合物が用いられる場合、以下に示すような従来公知のラジカル重合開始剤を用いることが好ましい。これらの化合物を用いることにより、ラジカル重合開始剤から発生したラジカル等により、前記したラジカル重合性化合物の重合反応が生起し、硬化する。

ラジカル重合開始剤としては、アセトフェノン誘導体、ベンゾフェノン誘導体、ベンジル誘導体、ベンゾイン誘導体、ベンゾインエーテル誘導体、ベンジルジアルキルケタール誘導体、チオキサントン誘導体、アシルフォスフィンオキサイド誘導体、金属錯体、ｐ−ジアルキルアミノ安息香酸、アゾ化合物、パーオキシド化合物等が一般的に知られ、中でも、アセトフェノン誘導体、ベンジル誘導体、ベンゾインエーテル誘導体、ベンジルジアルキルケタール誘導体、チオキサントン誘導体、アシルフォスフィンオキサイド誘導体が好ましく、アセトフェノン誘導体、ベンゾインエーテル誘導体、ベンジルジアルキルケタール誘導体、アシルフォスフィンオキサイド誘導体が特に好ましい。

ラジカル重合開始剤の例としては、アセトフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノプロピオフェノン、ベンゾフェノン、ｐ，ｐ’−ジクロロベンゾフェノン、ｐ，ｐ’−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイン−ｎ−プロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、１−ヒドロキシ−シクロヘキシルフェニルケトン、テトラメチルチウラムモノサルファイド、チオキサントン、２−クロロチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、２，２−ジメチルプロピオイル ジフェニルフォスフィンオキサイド、２−メチル−２−エチルヘキサノイル ジフェニルフォスフィンオキサイド、２，６−ジメチルベンゾイル ジフェニルフォスフィンオキサイド、２，６−ジメトキシベンゾイル ジフェニルフォスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイル ジフェニルフォスフィンオキサイド、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルフォスフィンオキサイド、２，３，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニルフォスフィンオキサイド、ビス（２，３，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイド、２，４，６−トリメトキシベンゾイル−ジフェニルフォスフィンオキサイド、２，４，６−トリクロロベンゾイル ジフェニルフォスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイル ナフチルフォスフォネート、ビス（η5−２,４−シクロペンタジエン−１−イル）−ビス（２,６−ジフルオロ−３−（１Ｈ−ピロール−１−イル）−フィニル）チタニウム、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸、ｐ−ジエチルアミノ安息香酸、アゾビスイソブチロニトリル、１，１’−アゾビス（１−アセトキシ−１−フェニルエタン）、ベンゾインパーオキサイド、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルパーオキサイド等が挙げられる。

さらにラジカル重合開始剤の他の例としては、加藤清視著「紫外線硬化システム」（株式会社総合技術センター発行：平成元年）の第６５〜１４８頁に記載されている光重合開始剤などを挙げることができる。
これらの光重合開始剤は１種あるいは２種以上を組み合わせて用いることができ、後述する増感剤と併用してもよい。

また、光重合開始剤は、８０℃まで熱分解を起こさないものであることが好ましい。８０℃以下で熱分解を起こす開始剤を用いると、製品保存上問題があるため好ましくない。

重合開始剤は、１種単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。
光硬化性組成物中の重合開始剤の含有量は、光硬化性組成物の全固形分換算で、０．１質量％〜２５質量％が好ましく、より好ましくは０．５質量％〜２０質量％、更に好ましくは１質量％〜１８質量％である。

＜その他の成分＞
以下に、必要に応じて本発明に用いることのできる種々の添加剤について述べる。
−紫外線吸収剤−
本発明においては、得られる硬化物の耐候性向上、退色防止の観点から、紫外線吸収剤を用いることができる。
紫外線吸収剤としては、例えば、特開昭５８−１８５６７７号公報、同６１−１９０５３７号公報、特開平２−７８２号公報、同５−１９７０７５号公報、同９−３４０５７号公報等に記載されたベンゾトリアゾール系化合物、特開昭４６−２７８４号公報、特開平５−１９４４８３号公報、米国特許第３２１４４６３号等に記載されたベンゾフェノン系化合物、特公昭４８−３０４９２号公報、同５６−２１１４１号公報、特開平１０−８８１０６号公報等に記載された桂皮酸系化合物、特開平４−２９８５０３号公報、同８−５３４２７号公報、同８−２３９３６８号公報、同１０−１８２６２１号公報、特表平８−５０１２９１号公報等に記載されたトリアジン系化合物、リサーチディスクロージャーＮｏ．２４２３９号に記載された化合物やスチルベン系、ベンズオキサゾール系化合物に代表される紫外線を吸収して蛍光を発する化合物、いわゆる蛍光増白剤、などが挙げられる。
添加量は目的に応じて適宜選択されるが、一般的には、固形分換算で０．５質量％〜１５質量％であることが好ましい。

−増感剤−
増感剤は、単独では光照射によって活性化しないが、重合開始剤と一緒に使用した場合に重合開始剤単独で用いた場合よりも効果があるもので、一般にアミン類が用いられる。アミン類の添加により硬化速度が速くなるのは、第１に、水素引き抜き作用により重合開始剤に水素を供給するためであり、第２に、生成ラジカルが大気中の酸素分子と結合して反応性が悪くなるのに対して、アミンが組成中に溶け込んでいる酸素を捕獲する作用があるためである。

増感剤として、具体的には、アミン化合物（脂肪族アミン、芳香族基を含むアミン、ピペリジン、エポキシ樹脂とアミンの反応生成物、トリエタノールアミントリアクリレートなど）、尿素化合物（アリルチオ尿素、ｏ−トリルチオ尿素など）、イオウ化合物（ナトリウムジエチルジチオホスフェート、芳香族スルフィン酸の可溶性塩など）、ニトリル系化合物（Ｎ，Ｎ−ジエチル−ｐ−アミノベンゾニトリルなど）、リン化合物（トリ−ｎ−ブチルホスフィン、ナトリウムジエチルジチオホスファイドなど）、窒素化合物（ミヒラーケトン、Ｎ−ニトリソヒドロキシルアミン誘導体、オキサゾリジン化合物、テトラヒドロ−１，３−オキサジン化合物、ホルムアルデヒドまたはアセトアルデヒドとジアミンの縮合物など）、塩素化合物（四塩化炭素、ヘキサクロロエタンなど）等が挙げられる。

増感剤の使用量は、重合開始剤と増感剤の選定や組み合わせ、使用する重合性化合物等適宜選定でき、一般には、光硬化性組成物に対し０〜１０質量％が好ましく、０．１〜１０質量％がより好ましく、０．２〜５質量％が特に好ましい。

−酸化防止剤−
組成物の安定性向上のため、酸化防止剤を添加することができる。酸化防止剤としては、ヨーロッパ公開特許第２２３７３９号公報、同３０９４０１号公報、同第３０９４０２号公報、同第３１０５５１号公報、同第３１０５５２号公報、同第４５９４１６号公報、ドイツ公開特許第３４３５４４３号公報、特開昭５４−４８５３５号公報、同６２−２６２０４７号公報、同６３−１１３５３６号公報、同６３−１６３３５１号公報、特開平２−２６２６５４号公報、特開平２−７１２６２号公報、特開平３−１２１４４９号公報、特開平５−６１１６６号公報、特開平５−１１９４４９号公報、米国特許第４８１４２６２号明細書、米国特許第４９８０２７５号明細書等に記載のものを挙げることができる。
添加量は目的に応じて適宜選択されるが、固形分換算で０．１質量％〜８質量％であることが好ましい。

−褪色防止剤−
本発明には、各種の有機系及び金属錯体系の褪色防止剤を使用することができる。前記有機系の褪色防止剤としては、ハイドロキノン類、アルコキシフェノール類、ジアルコキシフェノール類、フェノール類、アニリン類、アミン類、インダン類、クロマン類、アルコキシアニリン類、ヘテロ環類、などが挙げられる。前記金属錯体系の褪色防止剤としては、ニッケル錯体、亜鉛錯体、などが挙げられ、具体的には、リサーチディスクロージャーＮｏ．１７６４３の第ＶＩＩのＩ〜Ｊ項、同Ｎｏ．１５１６２、同Ｎｏ．１８７１６の６５０頁左欄、同Ｎｏ．３６５４４の５２７頁、同Ｎｏ．３０７１０５の８７２頁、同Ｎｏ．１５１６２に引用された特許に記載された化合物や、特開昭６２−２１５２７２号公報の１２７頁〜１３７頁に記載された代表的化合物の一般式及び化合物例に含まれる化合物を使用することができる。
添加量は目的に応じて適宜選択されるが、固形分換算で０．１質量％〜８質量％であることが好ましい。

−導電性塩類−
導電性塩類は、光硬化性組成物に溶解させることで、導電性を向上させうる固体の化合物である。本発明の光硬化性組成物をインクジェット記録用のインク組成物として用いる場合、吐出物性の制御を目的として添加されることが好ましい。本発明においては、光硬化性組成物の保存時に析出する懸念が大きいために実質的に使用しないことが好ましいが、導電性塩類の溶解性を上げたり、光硬化性組成物の液体成分に溶解性の高いものを用いたりすることで、溶解性が良好である場合には、適当量添加してもよい。導電性塩類の例としては、チオシアン酸カリウム、硝酸リチウム、チオシアン酸アンモニウム、ジメチルアミン塩酸塩などが挙げられる。

−溶剤−
本発明の光硬化性組成物をインクジェット記録用のインク組成物として用いる場合、被記録媒体との密着性を改良するため、極微量の有機溶剤を添加することも有効である。
溶剤としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン等のケトン系溶剤、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−プロパノール、１−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール等のアルコール系溶剤、クロロホルム、塩化メチレン等の塩素系溶剤、ベンゼン、トルエン等の芳香族系溶剤、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソプロピルなどのエステル系溶剤、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶剤、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル等のグリコールエーテル系溶剤などが挙げられる。
この場合、耐溶剤性やＶＯＣの問題が起こらない範囲での添加が有効であり、その量は光硬化性組成物全体に対し、０質量％〜５質量％が好ましく、より好ましくは０質量％〜３質量％の範囲である。

−高分子化合物−
本発明の光硬化性組成物には、膜物性を調整するため、各種高分子化合物を添加することができる。
高分子化合物としては、アクリル系重合体、ポリビニルブチラール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、シェラック、ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ゴム系樹脂、ワックス類、その他の天然樹脂等が使用できる。また、これらは２種以上併用してもかまわない。これらのうち、アクリル系のモノマーの共重合によって得られるビニル系共重合が好ましい。更に、高分子結合材の共重合組成として、「カルボキシル基含有モノマー」、「メタクリル酸アルキルエステル」、又は「アクリル酸アルキルエステル」を構造単位として含む共重合体も好ましく用いられる。

−界面活性剤−
本発明の光硬化性組成物には、界面活性剤を添加してもよい。
界面活性剤としては、特開昭６２−１７３４６３号、同６２−１８３４５７号の各公報に記載されたものが挙げられる。例えば、ジアルキルスルホコハク酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、脂肪酸塩類等のアニオン性界面活性剤、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルアリルエーテル類、アセチレングリコール類、ポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンブロックコポリマー類等のノニオン性界面活性剤、アルキルアミン塩類、第４級アンモニウム塩類等のカチオン性界面活性剤が挙げられる。なお、前記界面活性剤の代わりに有機フルオロ化合物を用いてもよい。前記有機フルオロ化合物は、疎水性であることが好ましい。前記有機フルオロ化合物としては、例えば、フッ素系界面活性剤、オイル状フッ素系化合物（例、フッ素油）及び固体状フッ素化合物樹脂（例、四フッ化エチレン樹脂）が含まれ、特公昭５７−９０５３号（第８〜１７欄）、特開昭６２−１３５８２６号の各公報に記載されたものが挙げられる。

−貯蔵安定剤−
本発明の光硬化性組成物は、貯蔵安定剤を含有していてもよい。
貯蔵安定剤は、光硬化性組成物の保存中の好ましくない重合を抑制するもので、光硬化性組成物に溶解できるものを用いる。例としては、４級アンモニウム塩、ヒドロキシアミン類、環状アミド類、ニトリル類、置換尿素類、複素環化合物、有機酸、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノエーテル類、有機ホスフィン類、銅化合物などが挙げられ、具体的にはベンジルトリメチルアンモニウムクロライド、ジエチルヒドロキシルアミン、ベンゾチアゾール、４−アミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、クエン酸、ハイドロキノンモノメチルエーテル、ハイドロキノンモノブチルエーテル、ナフテン酸銅などが挙げられる。

貯蔵安定剤の使用量は用いる重合開始剤の活性や重合性化合物の重合性、貯蔵安定剤の種類に基づいて適宜調整するのが好ましいが、光硬化性組成物中に０．００５〜１質量％が好ましく、０．０１〜０．５質量％がより好ましく、０．０１〜０．２質量％が更に好ましい。添加量が少ないと保存安定性が劣り、添加量が多いと硬化が起こりにくいといった問題が生じる。

この他にも、必要に応じて、例えば、ｐＨ調整剤、レベリング添加剤、マット剤、消泡剤、膜物性を調整するためのワックス類、ポリオレフィンやＰＥＴ等の被記録媒体への密着性を改善するために、重合を阻害しないタッキファイヤーなどを含有させることができる。
タッキファイヤーとしては、具体的には、特開２００１−４９２００号公報の５〜６ｐに記載されている高分子量の粘着性ポリマー（例えば、（メタ）アクリル酸と炭素数１〜２０のアルキル基を有するアルコールとのエステル、（メタ）アクリル酸と炭素数３〜１４の脂環属アルコールとのエステル、（メタ）アクリル酸と炭素数６〜１４の芳香属アルコールとのエステルからなる共重合物）や、重合性不飽和結合を有する低分子量粘着付与性樹脂などである。

本発明の光硬化性組成物は、着色成分として、顔料ではなく油溶性の染料（特定染料）を用いているため、顔料利用に伴う分散性悪化を考慮する必要がなく、光硬化性組成物中により多くの染料を含有させることができる。また、特定染料は高い光堅牢性を有していることから、この特定染料を含有する光硬化性組成物は、良好な色調と高い光堅牢性を有することになる。
このような本発明の光硬化性組成物より得られた硬化物は、紫外線などの放射線照射により硬化しており、その強度に優れると共に、高い光堅牢性を有し、膜厚の薄くとも鮮やかな発色が得られる。そのため、本発明の光硬化性組成物は、画像形成のためのインク組成物や、平版印刷版のインク受容層（画像部）の形成や、コーティング材、シーリング材、エラストマーなど、種々の用途に適用することができる。
これらの中でも、得られた硬化物が発色性や光堅牢性に優れることから、インク組成物として用いられることが好ましい。

本発明の光硬化性組成物をインク組成物として用いる場合、公知の記録方法（印刷方法）、印刷装置などに適用することで画像を形成することができる。画像を形成する際の本発明の光硬化性組成物の粘度は、使用される記録方法、印刷装置により適宜決定されるが、一般的に、５〜１００ｍＰａ・ｓが好ましく、１０〜８０ｍＰａ・ｓがより好ましい。また、表面張力としては、２０〜６０ｍＮ／ｍが好ましく、３０〜５０ｍＮ／ｍがより好ましい。

本発明の光硬化性組成物は、放射線照射により高感度で硬化し、得られた硬化物が発色性や光堅牢性に優れ、高画質の画像を形成できる点から、特に、インクジェット記録用インクとして用いられることが好ましい。このように、本発明の光硬化性組成物をインクジェット記録用インクとして用いる場合には、該光硬化性組成物をインクジェットプリンターにより被記録媒体に吐出し、その後、吐出された光硬化性組成物に放射線を照射して硬化させることで、記録を行う。

なお、本発明の光硬化性組成物をインクジェット用インク組成物として使用する場合には、吐出性を考慮し、吐出時の温度（例えば、４０℃〜８０℃、好ましくは２５℃〜３０℃）において、粘度が、好ましくは７ｍＰａ・ｓ〜３０ｍＰａ・ｓであり、より好ましくは７ｍＰａ・ｓ〜２０ｍＰａ・ｓである。例えば、本発明の光硬化性組成物の室温（２５℃〜３０℃）における粘度は、好ましくは３５〜５００ｍＰａ・ｓ、より好ましくは３５ｍＰａ・ｓ〜２００ｍＰａ・ｓである。本発明の光硬化性組成物は、粘度が上記範囲になるように適宜組成比を調整することが好ましい。室温での粘度を高く設定することにより、多孔質な被記録媒体を用いた場合でも、被記録媒体中へのインク浸透を回避し、未硬化の重合性化合物の低減、臭気低減が可能となる。更にインク液滴着弾時のインクの滲みを抑えることができ、その結果として画質が改善されるので好ましい。

また、本発明の光硬化性組成物をインクジェット用インク組成物として使用する場合には、その表面張力は、好ましくは２０ｍＮ／ｍ〜３０ｍＮ／ｍ、より好ましくは２３ｍＮ／ｍ〜２８ｍＮ／ｍである。ポリオレフィン、ＰＥＴ、コート紙、非コート紙など様々な被記録媒体へ記録する場合、滲み及び浸透の観点から、２０ｍＮ／ｍ以上が好ましく、濡れ性の点はで３０ｍＮ／ｍ以下が好ましい。

＜インクジェット記録方法＞
本発明の光硬化性組成物が好ましく適用されるインクジェット記録方法について、以下説明する。
本発明の光硬化性組成物を適用したインクジェット記録方法は、以下の２工程を含むことを特徴とする。
即ち、本発明の光硬化性組成物を、被記録媒体（支持体、記録材料等）上にインクジェット記録装置により吐出する工程、及び、吐出された光硬化性組成物に活性放射線を照射して光硬化性組成物を硬化する工程である。これらの工程を経て得られた硬化物が画像となる。

本発明におけるインクジェット記録方法に適用しうる被記録媒体としては、特に制限はなく、通常の非コート紙、コート紙などの紙類、いわゆる軟包装に用いられる各種非吸収性樹脂材料或いは、それをフィルム状に成形した樹脂フィルムを用いることができ、各種プラスチックフィルムとしては、例えば、ＰＥＴフィルム、ＯＰＳフィルム、ＯＰＰフィルム、ＯＮｙフィルム、ＰＶＣフィルム、ＰＥフィルム、ＴＡＣフィルム等を挙げることができる。その他、被記録媒体材料として使用しうるプラスチックとしては、ポリカーボネート、アクリル樹脂、ＡＢＳ、ポリアセタール、ＰＶＡ、ゴム類などが挙げられる。また、金属類や、ガラス類も被記録媒体として使用可能である。
更に、本発明に適用しうる被記録媒体としては、平版印刷版の支持体も挙げられる。
なお、これらの被記録媒体は、インクジェット記録方法に関わらず、如何なる印刷方法にも適用することができる。

また、本発明におけるインクジェット記録方法に適用される活性放射線には、α線、γ線、Ｘ線、紫外線、可視光線、赤外光線、電子線などが挙げられる。活性放射線のピーク波長は、２００〜６００ｎｍであることが好ましく、３００〜４５０ｎｍであることがより好ましく、３５０〜４２０ｎｍであることが更に好ましい。また、活性放射線の出力は、２，０００ｍＪ／ｃｍ^２以下であることが好ましく、より好ましくは、１０〜２，０００ｍＪ／ｃｍ^２であり、更に好ましくは、２０〜１，０００ｍＪ／ｃｍ^２であり、特に好ましくは、５０〜８００ｍＪ／ｃｍ^２である。
特に、本発明のインクジェット記録方法では、放射線照射が、発光波長ピークが３５０〜４２０ｎｍであり、且つ、前記被記録媒体表面での最高照度が１０〜２，０００ｍＷ／ｃｍ^２となる紫外線を発生する発光ダイオードから照射されることが好ましい。
なお、これらの放射線照射については、インクジェット記録方法に関わらず、如何なる印刷方法にも適用することができる。

（インクジェット記録装置）
本発明におけるインクジェット記録方法に適用しうるインクジェット記録装置としては、特に制限はなく、市販のインクジェット記録装置が使用できる。
インクジェット記録装置としては、例えば、インク供給系、温度センサー、前述のような放射線放射が可能な活性放射線源を含むものが挙げられる。
インク供給系は、例えば、本発明の光硬化性組成物を含む元タンク、供給配管、インクジェットヘッド直前のインク供給タンク、フィルター、ピエゾ型のインクジェットヘッドからなるものが挙げられる。ピエゾ型のインクジェットヘッドは、１ｐｌ〜１００ｐｌ、好ましくは、８ｐｌ〜３０ｐｌのマルチサイズドットを、例えば、３２０ｄｐｉ×３２０ｄｐｉ〜４０００ｄｐｉ×４０００ｄｐｉ、好ましくは、４００ｄｐｉ×４００ｄｐｉ〜１６００ｄｐｉ×１６００ｄｐｉ、より好ましくは、７２０ｄｐｉ×７２０ｄｐｉの解像度で吐出できるよう駆動することができる。なお、本発明でいうｄｐｉとは、２．５４ｃｍ当たりのドット数を表す。

本発明の光硬化性組成物のような放射線硬化型インクは、吐出されるインクを一定温度にすることが望ましいことから、インク供給タンクからインクジェットヘッド部分までは、断熱及び加温を行うことができることが好ましい。温度コントロールの方法としては、特に制約はないが、例えば、温度センサーを各配管部位に複数設け、インク流量、環境温度に応じた加熱制御をすることが好ましい。温度センサーは、インク供給タンク及びインクジェットヘッドのノズル付近に設けることができる。また、加熱するヘッドユニットは、装置本体を外気からの温度の影響を受けないよう、熱的に遮断若しくは断熱されていることが好ましい。加熱に要するプリンター立上げ時間を短縮するため、或いは熱エネルギーのロスを低減するために、他部位との断熱を行うとともに、加熱ユニット全体の熱容量を小さくすることが好ましい。

以下、本発明の実施例を説明するが、本発明はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。なお、以下において「部」及び「％」は、特に断りがない限り、「質量部」及び「質量％」を表す。

（実施例１−１）
−インク１−１の作製−
以下の成分を高速水冷式撹拌機により撹拌し、マゼンタ色のＵＶ硬化性インクジェット用インク組成物（インク１−１）を得た。

（マゼンタ色インク）
・Ａｃｔｉｌａｎｅ ４２１ ５１．８部
（重合性化合物：Ａｋｃｒｏｓ社製、アクリレートモノマー）
・Ｐｈｏｔｏｍｅｒ ２０１７ ２０．０部
（重合性化合物：ＥＣｈｅｍ社製、ＵＶ希釈剤）
・特定染料（前記例示色素 ＤＹＥ−９） ３．６部
・一般式(III)の化合物（前記例示化合物 Ｓ−４） ４．０部
・Ｇｅｎｏｒａｄ １６（Ｒａｈｎ社製、安定剤） ０．０５部
・Ｒａｐｉ−Ｃｕｒｅ ＤＶＥ−３ ４．０部
（重合性化合物：ＩＳＰ Ｅｕｒｏｐｅ社製、ビニルエーテル）
・Ｌｕｃｉｒｉｎ ＴＰＯ（光重合開始剤：ＢＡＳＦ社製） ８．５部
・ベンゾフェノン（光重合開始剤） ４．０部
・Ｉｒｇａｃｕｒｅ １８４ ４．０部
（光重合開始剤：Ｃｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ社製）
・Ｂｙｋ ３０７（消泡剤：ＢＹＫ Ｃｈｅｍｉｅ社製） ０．０５部

製造したマゼンタ色インク１−１をＰＥＴ製のシート上に印刷し、そして鉄ドープ処理した紫外線ランプ（パワー１２０Ｗ／ｃｍ）の光線下に４０ｍ／ｍｉｎの速度で通過させることにより照射を行ってインクを硬化させ、印刷物を得た。

（インクの評価）
前述のようにして得られたインク１−１（光硬化性組成物）の吐出安定性、及び保存安定性について、また、上記のようにして得られた印刷物の硬化性、及び耐光性について、以下のようにして評価を行った。

（硬化性）
硬化性は、このインク１−１による印刷物の硬化後の画像部を触診により評価した。露光した塗布フィルムを、べたつきが無いものをＡ（良好）、べたつきが少しあるが接触したものを汚すほどではないものをＢ（許容）、べたつきが著しいものをＣ（不良）として評価した。

（耐光性）
前述のようにして得られた印刷物の画像部に、ウェザーメーター（アトラスＣ．Ｉ６５）を用いて、キセノン光（１４００００ｌｘ）を１４日間照射し、キセノン照射前後の画像濃度を、反射濃度計（Ｘ−Ｒｉｔｅ３１０ＴＲ）を用いて、光学濃度を測定し、耐光性試験前の値との変化から、色素残存率として換算した。
評価指標は以下の通りである。
Ａ：耐光性 良好（色素残存率 ＞８０％）。
Ｂ：耐光性 許容（色素残存率 ４０〜８０％）。
Ｃ：耐光性 不良（色素残存率 ＜４０％）。

（吐出安定性）
前述のようにして得られたインクを３０分間連続吐出後、印字物上でノズル詰りによる欠陥（未印字部の有無）、印字ドット周辺の設定していない微小なドット（サテライト）の有無を目視により評価した。
評価指標は以下の通りである。
Ａ：ノズル詰まり欠陥及びサテライトの発生が無い。
Ｂ：ノズル詰まり欠陥又はサテライトが僅かに発生。
Ｃ：ノズル詰まり欠陥又はサテライトが顕著に発生。

（保存安定性）
前述のようにして得られたインク１−１を、７５％ＲＨ、６０℃で３日保存した後、吐出温度でのインク粘度を測定し、インク粘度の増加分を、粘度比（保存後の粘度／保存前の粘度の比）として評価した。粘度が変化せず１．０に近い方が保存安定性が良好であり、１．５を超えると吐出時に目詰まりを起こす場合があり好ましくない。
Ａ：保存安定性良好（粘度比が１以上 １．２ 未満）。
Ｂ：保存安定性許容（粘度比が １．２ 以上 １．５ 未満）。
Ｃ：保存安定性不良（粘度比が １．５ 以上）。

（実施例１−２〜１−３及び比較例１−１〜１−５）
＜インク１−２〜１−８の作製＞
前記インク１−１の作製において、特定染料（例示色素ＤＹＥ−９）を、以下に記載の特定染料、顔料、又は比較用染料に代えた以外は、前記インク１−１の作製と同様にして、インク組成物を調製し、評価した。

（実施例１−２）
＜インク１−２＞
染料として例示色素ＤＹＥ−９の代わりに例示色素ＤＹＥ−１６を用いて、インク１−２を調製した。

（実施例１−３）
＜インク１−３＞
染料として例示色素ＤＹＥ−９の代わりに例示色素ＤＹＥ−２９を用いて、インク１−３を調製した。

（比較例１−１）
＜インク１−４＞
特定染料（例示色素ＤＹＥ−９）の代わりに、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド５７：１（顔料）を用いて、インク１−４を調製した。

（比較例１−２）
＜インク１−５＞
染料として例示色素ＤＹＥ−９の代わりに下記構造の比較化合物１（比較用染料）を用いて、インク１−５を調製した。

（比較例１−３）
＜インク１−６＞
染料として例示色素ＤＹＥ−９の代わりに下記構造の比較化合物２（比較用染料）を用いて、インク１−６を調製した。

（比較例１−４）
＜インク１−７＞
染料として例示色素ＤＹＥ−９の代わりに下記構造の比較化合物３（比較用染料）を用いて、インク１−７を調製した。

染料として例示色素ＤＹＥ−９の代わりに下記構造の比較化合物４（特開２００６−１４３９８９号公報に開示のもの）を用いて、インク１−８を調製した。

実施例１−１〜１−３、及び、比較例１−１〜１−５における評価結果を表１にまとめて示す。

表１の結果から明らかなように、一般式（Ｉ）で表される化合物を含むインク（インク１−１〜１−３）は、従来の顔料を用いたインク（インク１−４）と比較し、硬化性や耐光性、保存安定性は同等性能でありながら、問題であった吐出安定性が大きく改善したことが分かる。
また、従来の染料を用いたインク（インク１−５〜１−８）と比較しても、耐光性、保存安定性が大きく改善していることが分かる。

（実施例２−１〜２−３及び比較例２−１〜２−５）
−インク２−１〜２−８の作製−
実施例１−１と同様に、以下の成分を高速水冷式攪拌機により撹拌し、マゼンタ色のＵＶインクジェット用インク（インク２−１〜２−８）を得た。
なお、インク２−１〜２−８で用いた着色成分は、インク１−１〜１−８とそれぞれ同様のものを用いた。

（マゼンタ色インク）
・ライトアクリレートＬ−Ａ １５．４部
（重合性化合物：共栄社化学製、アクリレートモノマー）
・Ａｃｔｉｌａｎｅ ４２１ ３２．４部
（重合性化合物：Ａｋｃｒｏｓ社製、アクリレートモノマー）
・Ｐｈｏｔｏｍｅｒ ２０１７ ２０．０部
（重合性化合物：ＥＣｈｅｍ社製、ＵＶ希釈剤）
・特定染料、顔料、又は比較用染料 ３．６部
・一般式(III)の化合物（前記例示化合物 Ｓ−４） ４．０部
・Ｇｅｎｏｒａｄ １６（Ｒａｈｎ社製、安定剤） ０．０５部
・Ｒａｐｉ−Ｃｕｒｅ ＤＶＥ−３ ８．０部
（重合性化合物：ＩＳＰ Ｅｕｒｏｐｅ社製、ビニルエーテル）
・Ｌｕｃｉｒｉｎ ＴＰＯ（光重合開始剤：ＢＡＳＦ社製） ８．５部
・ベンゾフェノン（光重合開始剤） ４．０部
・Ｉｒｇａｃｕｒｅ １８４ ４．０部
（光重合開始剤：Ｃｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ社製）
・Ｂｙｋ ３０７（ＢＹＫ Ｃｈｅｍｉｅ社製、消泡剤） ０．０５部
前記ライトアクリレートＬ−Ａはアクリル酸ラウリルエステル（単官能アクリレート）である。

得られたインク２−１〜２−８について、実施例１−１同様に評価した結果を下記表２にまとめて示す。

表２の結果から明らかなように、インク組成を変更した場合でも、一般式（Ｉ）で表される化合物を含むインク（インク２−１〜２−３）は、従来の顔料を用いたインク（インク２−４）と比較し、吐出安定性が大きく改善することができたことがわかる。
また、実施例１−１と同様に、インク２−１〜２−３と、従来の染料（インク２−５〜２−８）とを比較しても、耐光性、保存安定性は大きく改善していることがわかる。

（実施例３−１〜３−９）
−インク３−１〜３−９の作製−
実施例１−１と同様に、以下の成分を高速水冷式攪拌機により撹拌し、マゼンタ色のＵＶインクジェット用インク（インク３−１〜３−９）を得た。

（マゼンタ色インク）
・Ａｃｔｉｌａｎｅ ４２１ ５１．８部
（重合性化合物：Ａｋｃｒｏｓ社製、アクリレートモノマー）
・Ｐｈｏｔｏｍｅｒ ２０１７ ２０．０部
（重合性化合物：ＥＣｈｅｍ社製、ＵＶ希釈剤）
・特定染料 ３．６部
・一般式（III）の化合物 ４．０部
・Ｇｅｎｏｒａｄ １６（Ｒａｈｎ社製、安定剤） ０．０５部
・Ｒａｐｉ−Ｃｕｒｅ ＤＶＥ−３ ４．０部
（重合性化合物：ＩＳＰ Ｅｕｒｏｐｅ社製、ビニルエーテル）
・Ｌｕｃｉｒｉｎ ＴＰＯ（光重合開始剤：ＢＡＳＦ社製） ８．５部
・ベンゾフェノン（光重合開始剤） ４．０部
・Ｉｒｇａｃｕｒｅ １８４ ４．０部
（光重合開始剤：Ｃｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ社製）
・Ｂｙｋ ３０７（ＢＹＫ Ｃｈｅｍｉｅ社製、消泡剤） ０．０５部
なお、インク３−１〜３−９で用いた着色成分は、インク１−１〜１−３とそれぞれ同様のものを用いた。

（実施例３−１０〜３−１２）
＜インク３−１０〜３−１２＞
一般式（III）化合物を添加しない場合として、重量減少分をＡｃｔｉｌａｎｅ ４２１を増量することでインク３−１０〜３−１２を調製した。

得られたインク３−１〜３−１２について、実施例１−１同様に評価した結果を下記表３にまとめて示す。

表３の結果から明らかなように、一般式（Ｉ）および一般式（III）で表される化合物の組み合わせを変更した場合でも、一般式（Ｉ）および一般式（III）で表される化合物を含むインク（インク３−１〜３−９）は、従来の顔料を用いたインク（インク１−４および２−４）と比較し、吐出安定性が大きく改善することができたことがわかる。
また、実施例１−１と同様に、耐光性、保存安定性が改善した状態を保っていることがわかる。
これに対し、実施例３−１０〜３−１２と比べた場合、耐光性は維持しているものの硬化性および吐出安定性が低下する傾向にあり、一般式（III）で表される化合物を併用することがさらに本発明の効果を高めていることがわかる。

Claims (5)

1. 重合性化合物、重合開始剤、及び下記一般式（Ｉ）で表される化合物を含有することを特徴とする光硬化性組成物。
   

   

   
   一般式（Ｉ）中、Ａは、５員複素環ジアゾ成分Ａ−ＮＨ_２の残基を表す。Ｂ^１は窒素原子、もしくは−ＣＲ^１＝を表し、Ｂ^２は窒素原子、もしくは−ＣＲ^２＝を表し、Ｂ^１及びＢ^２が同時に窒素原子であることはない。ここで、Ｒ^１、Ｒ^２は、各々独立に、水素原子、又は１価の置換基を表す。
   Ｒ^３、Ｒ^４は、各々独立に、水素原子、脂肪族基、芳香族基、複素環基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、またはスルファモイル基を表す。
   Ｒ^１とＲ^３、Ｒ^３とＲ^４は互いに結合して５員環または６員環を形成してもよい。
   ａおよびｅは各々独立に、アルキル基、アルコキシ基またはハロゲン原子を表し、aおよびeが共にアルキル基である場合、該アルキル基を構成する炭素数の合計は２以上である。
   ｂ、ｃ、ｄは、前記Ｒ^１、Ｒ^２と同義であり、ａとｂ、ｅとｄは、互いに結合して縮環構造を形成していてもよい。
2. 前記一般式（Ｉ）で表される化合物が、下記一般式（II）で表される化合物であることを特徴とする請求項１に記載の光硬化性組成物。
   

   

   
   一般式（II）中、Ｚ^１は、ハメットの置換基定数σｐ値が０．２０以上の電子吸引性基を表す。Ｚ^２は、水素原子、脂肪族基、芳香族基または複素環基を表す。Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、ａ、ｂ、ｃ、ｄ及びｅは、各々前記一般式（Ｉ）におけるのと同義である。
   Ｑは、水素原子、脂肪族基、芳香族基または複素環基を表す。
3. 下記一般式（III）で表される化合物をさらに含有することを特徴とする請求項１または請求項２に記載の光硬化性組成物。
   

   

   
   一般式（III）中、ＸはＯ、Ｓ、ＮＲ^９を表し、Ｒ^９はアルキル基またはアシル基を表す。ｎは０または１を表す。Ｒ^５〜Ｒ^８、Ｚ^３〜Ｚ^６はそれぞれ独立に水素原子または一価の基を示す。Ｒ^５〜Ｒ^８はそれぞれ隣接する２つが、Ｚ^３およびＺ^４は互いに結合して環を形成してもよい。
4. 請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の光硬化性組成物を用いることを特徴とするインク組成物。
5. インクジェット記録用であることを特徴とする請求項４に記載のインク組成物。