JP2009161422A - 結晶成長炉内にヒータを有する支持台 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】結晶成長炉内にヒータを有する支持台2は、台板21および複数の支持ポストを含み、支持ポストは台板21を支持し、それぞれヒータに電気的に接続される。各支持ポストは特に、グラファイト電極ポスト31、金属電極ポスト4、および固着ベースを含む。支持ポストはそれぞれ、金属電極ポスト31のナット部41にねじ込まれるグラファイト電極ポスト31を有し、金属電極ポスト31は結晶成長炉の壁121に固定される。固着ベースは特にフランジ51および弾性ワッシャ55を含み、フランジ51は炉壁121に溶接され、弾性ワッシャ55の弾性調節の助けを借りて、支持台2は支持ポストからの負荷を均等に分散させることができる。支持台2の台板21を薄くするとシリコンスラリーの均一な結晶成長を促進する。
【選択図】図3
Description
さらに、本発明では、複数の固定孔、複数の絶縁リング、複数の貫通孔、複数の通過孔、複数の円形孔、および複数の拡張孔を通って対応して延在する複数のボルトが設けられる。複数のナットの助けを借りて、上側絶縁パッド、封止ワッシャ、および弾性ワッシャは一緒に留められ、フランジとリングの間で固定され、絶縁シール、上側絶縁パッド、および複数の絶縁リングのせいで、フランジと封止ワッシャの間に電気的絶縁が確立される。
Claims (18)
- 台板と少なくとも4つの支持ポストを備え、前記台板が少なくとも4つの支持ポストによって支持され、結晶成長炉の下側本体の壁に固定される、前記結晶成長炉内にヒータを有する支持台であって、前記支持台は前記台板の下にそれぞれ配置される複数の電気ヒータをさらに含み、前記各支持ポストは、下部端部および上部端部を含むグラファイト電極ポストであって、前記下部端部に外側ネジ山が設けられ、前記上部端部が前記ヒータの下部に対して前記ヒータのうちの1つを支持して電気的接続を両者間に確立するグラファイト電極ポストと、ナット部およびネジ山部を含む金属電極ポストであって、前記ナット部は一端にネジ係合のための対応する凹状内側ネジ穴と前記グラファイト電極ポストの外側ネジ山とが設けられ、他端で前記ネジ山部に延在し、前記ネジ山部とともに肩部を形成する金属電極ポストと、フランジ、絶縁シール、上側絶縁パッド、封止ワッシャ、弾性ワッシャ、リング、および複数の絶縁リングを含む固着ベースであって、前記フランジは円柱部および外側円部を有し、前記円柱部は周囲で前記炉の前記下側本体の壁に固定されるために、中央孔が前記円柱部に形成され、前記外側円部に複数の貫通孔が設けられ、前記絶縁シールが前記金属電極ポストの前記ナット部にスリーブ接続された後、前記中央孔に共に収容され、前記上側絶縁パッドが中央孔を有し、その外周にのみ複数の円形孔が設けられ、前記封止ワッシャが中央孔を有し、外周に複数の通過孔が設けられ、前記弾性ワッシャが中央部、円周部、および、軸方向に弾性力を提供するように前記中央部と前記円周部間に相互接続される少なくとも1つの弾性片を含み、前記中央部が中央に前記中央孔と、前記円周部に複数の貫通孔が設けられ、前記金属電極ポストの前記ネジ山部が前記封止ワッシャの中央孔および前記弾性ワッシャの中央孔を通って延在し、前記肩部が前記封止ワッシャに接触し、前記リングが外周に複数の固定孔を設けられる固着ベースと、対応する前記複数の固定孔、前記複数の絶縁リング、前記複数の貫通孔、前記複数の通過孔、前記複数の円形孔、および前記複数の拡張孔を通って延在し、前記複数のナットの助けを借りて、前記上側絶縁パッド、前記封止ワッシャ、および前記弾性ワッシャが一緒に留められて、前記フランジと前記リング間に固定される複数のボルトであって、前記絶縁シール、前記上側絶縁パッド、および前記複数の絶縁リングによって、前記フランジと前記封止ワッシャ間に電気的絶縁が確立される複数のボルトと、前記金属電極ポストの前記ネジ山部にねじ込まれ、前記係止ナットと前記金属電極ポストの肩部との間で前記封止ワッシャおよび前記弾性ワッシャを留めるために設けられる係止ナットを有する支持台。
- 前記絶縁バイアス片は前記ヒータと前記台板の間に設けられ、前記絶縁バイアス片は下方向で前記グラファイト電極ポストの前記上部に対応する請求項1に記載の支持台。
- 前記ヒータは両側面にそれぞれ第1の受入凹部が設けられ、複数の第2の受入凹部が前記台板の下に設けられ、前記絶縁バイアス片が前記第1の受入凹部と前記第1の受入凹部に対応する前記第2の受入凹部とに収容される請求項2に記載の支持台。
- 前記絶縁バイアス片は酸化ジルコニウム製である請求項2に記載の支持台。
- 前記台板にはその下に中央凹部が設けられる請求項1に記載の支持台。
- 前記グラファイト電極ポストは、外側ネジ山が設けられる上部端部を有し、前記グラファイト電極ポストは前記調節ナットをさらに有し、前記調節ナットと前記外側ネジ山とのネジ係合によって、前記ヒータが支持される請求項1に記載の支持台。
- 前記調節ナットはグラファイト調節ナットである請求項6に記載の支持台。
- 前記金属電極ポストは銅電極ポストであることを特徴とする、請求項1に記載の支持台。
- 前記フランジは下に突出リングが設けられ、前記上側絶縁パッドは上に環状凹部が設けられ、前記突出リングが前記環状凹部に挿入されることを特徴とする、請求項1に記載の支持台。
- 前記フランジがステンレス鋼製であることを特徴とする、請求項1に記載の支持台。
- 前記絶縁シールがアルミナ繊維製であることを特徴とする、請求項1に記載の支持台。
- 前記上側絶縁パッドがシリコンゴム製であることを特徴とする、請求項1に記載の支持台。
- 前記上側絶縁パッドがテフロン(登録商標)製であることを特徴とする、請求項1に記載の支持台。
- 前記上側絶縁パッドが外周にフランジを設けられることを特徴とする、請求項1に記載の支持台。
- 前記封止ワッシャが銅製ワッシャであることを特徴とする、請求項1に記載の支持台。
- 前記固着ベースは前記弾性ワッシャと前記リング間に介在する前記下側絶縁パッドをさらに含み、前記下側絶縁パッドには周囲に複数の孔が設けられることを特徴とする、請求項1に記載の支持台。
- 複数の絶縁シールをさらに備え、その絶縁キャップが前記複数のナット上にそれぞれ対応して覆われることを特徴とする、請求項1に記載の支持台。
- 複数の絶縁シールをさらに備え、その絶縁キャップが前記複数のボルトのヘッド上にそれぞれ対応して覆われることを特徴とする、請求項1に記載の支持台。
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