JP2009155201A - 単結晶炭化ケイ素成長方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明は、種結晶となる単結晶SiC基板5上に、C原子を供給するためのC原子供給基板17を重ね、前記単結晶SiC基板5と前記C原子を供給基板17との間に極薄金属Si融液層18を介在させ、1400℃以上2100℃未満の所定の温度で所定の時間加熱処理を行うことによって前記種結晶となる単結晶SiC基板5上に単結晶SiCを液相エピタキシャル成長させる単結晶炭化ケイ素の成長方法に関する。前記C原子供給基板17として、カーボン基板又は非晶質SiC基板を用いる。
【選択図】図4
Description
例えば、昇華再結晶法(改良レーリー法)によると、ルツボ内の低温側に単結晶SiC基板を種結晶として固定配置する。高温側に原料となるSiを含む粉末を配置する。ルツボを不活性雰囲気中で1450〜2400℃の高温に加熱する。それによって、Siを含む粉末を昇華させて低温側の種結晶の表面上でSiCを再結晶させる。このようにして、単結晶SiCの育成を行なう。
更にまた、例えば、特許文献2によると、液相エピタキシャル成長法(以下、LPE法という。)によって単結晶SiC上に第1のエピタキシャル層を形成する。その後に、CVD法によって表面に第2のエピタキシャル層を形成して、マイクロパイプ欠陥を除去する。
特に、結晶の成長速度の速い単結晶SiC成長方法の提供を目的とする。
本発明は、上記目的を達成するために以下のような特徴を有している。
例えば、前記C原子供給基板として、カーボン基板又は非晶質SiC基板を用いることが好ましい。
多結晶SiC基板を除く前記C原子供給基板は、多結晶SiC基板に比べて表面エネルギーが大きく、中でもカーボンはC原子供給量も増やせるため成長速度を速くできる。更に、多結晶SiC基板を除く前記C原子供給基板は、多結晶SiC基板に比べて加工性に極めて優れており、また安価であるため製造コストを抑制できる。
前記C原子供給基板から金属Si融液層へ溶け出すC原子は金属Si融液層の厚みが厚いほど水平方向に拡散できる。
そのため、上記方法によって、成長した単結晶SiCの表面のステツプバンチのテラス巾を100μmオーダーに、ステップ高さを結晶単位格子の半分の高さを最小単位とする高さに、マイクロパイプ欠陥の密度を1/cm2以下に制御することができる。その結果、平坦で欠陥の少ない高品質の単結晶炭化ケイ素が製作可能となる。
まず、本実施形態を実施するための熱処理装置の一例を説明する。
図1は、本実施形態の単結晶SiC成長方法を実施するための熱処理装置の一例を示す断面概略図である。
図1において、熱処理装置1は、本加熱室2と、予備加熱室3と、予備加熱室3から本加熱室2に続く前室4とで構成されている。そして、単結晶SiC基板5等が収納された密閉容器16が予備加熱室3から前室4、本加熱室2へと順次移動することで、単結晶SiC基板5等を短時間で約1400℃以上の所定の温度で加熱することができる。
単結晶SiC基板5等が収納された密閉容器16は、この予備加熱室3で、テーブル8に載置された状態で約800℃以上に予め加熱される。その後、予備加熱室3と前室4との圧力調整が済み次第、前室4に設けられている昇降式のサセプタ9に設置するように移動させられる。
本加熱室2内の状態をこのように設定しておき、密閉容器16を前室4から本加熱室2内に移動すると、密閉容器16を約1400℃以上に急速に短時間で加熱することができる。
移動手段10と本加熱室2との嵌合部25は、移動手段10に設けられている凸状の段付き部21と、本加熱室2に形成されている凹状の段付き部22とで構成されている。そして、移動手段10の段付き部21の各段部に設けられている図示しないOリング等のシール部材によって、本加熱室2は密閉された状態となる。
図4は密閉容器16に納められた単結晶SiC基板5と前記C原子供給基板17との間に、熱処理時、スペーサ19の厚みに極薄金属Si融液層18が形成される状態を示す。
この極薄金属Si融液層18のSi材料供給源として、Si粉末等が挙げられる。
前記単結晶炭化ケイ素基板5と前記C原子供給基板17との間にスペーサ19を介在させる事で金属SiC融液層18の厚みを制御することができる。
前記カーボン基板及び非晶質SiC基板は、多結晶SiC基板に比べて表面エネルギーが大きく、中でもカーボン基板はC原子供給量も増やせるため成長速度を速くできる。更に、カーボン基板及び非晶質SiC基板は、多結晶SiC基板に比べて加工性に極めて優れており、また安価であるため製造コストを抑制できる。
ここで、最下部側に位置する支持基板24は単結晶SiC基板5の密閉容器16からの侵食を防止するもので、単結晶SiC基板5上に液相エピタキシャル成長する単結晶SiCの品質向上に寄与する。
このように、前記密閉容器内に不純物が混入するのを抑制すると、バッググランド5×1015/cm3の高純度の単結晶SiCを生成することが可能となる。
尚、Si基板14の数や量は、昇華の防止及び圧力調整の程度によって適宜定められる。
少なくとも1箇所、好ましくは3箇所に略同じ厚みのスペーサ19を設置する。それによって、前記単結晶炭化ケイ素基板5と前記C原子供給基板17との間に介在する金属シリコン融液層18の厚みを略均一にすることができる。それによって、得られた成長膜の厚さを成長面全面に亘って均一にする事ができる。
また、前記スペーサ19は、前記金属Si融液層18側に突出するように、前記C原子供給基板17及び前記単結晶SiC基板5のうち少なくとも一方に、機械加工により設けられた凸部であてもよい。
更にまた、前記スペーサ19は、前記金属Si融液層18側に突出するように、前記C原子供給基板17及び前記単結晶SiC基板5のうち少なくとも一方に、固相反応によって接着された凸部であってもよい。
さらに、前記Si材料供給源の厚み、スペーサ19の厚み、前記C原子供給基板17の上面への適当な加圧等を調整して、液相エピタキシャル成長で得られる単結晶SiCの所望の厚みより厚い金属Si融液層18により液相エピタキシャル成長を行うようにすることが好ましい。
前記単結晶SiC基板5と前記C原子供給基板17との間に介在する金属Si融液層18の厚みが、成長させる単結晶SiCの所望の厚みより厚いと、好ましくは、1400℃以上に加熱する所定の温度と雰囲気の条件の範囲内において可能な限り厚いと、前記種結晶となる単結晶SiC基板5表面上に、単結晶SiCが液相エピタキシャル成長する均一性が飛躍的に向上し、更に、液相エピタキシャル成長で得られる単結晶SiCの厚みが加熱室の温度・時間・雰囲気圧力で制御できる。
そのため、上記金属Si融液層18の厚みの制御方法によって、成長した単結晶炭化ケイ素の表面のステツプバンチのテラス巾を100μmオーダーに、ステップ高さを結晶単位格子の半分の高さを最小単位とする高さに、マイクロパイプ欠陥の密度を1/cm2以下に制御することができる。その結果、平坦で欠陥の少ない高品質の単結晶炭化ケイ素が製作可能となる。
尚、前記テラスとは複数のステップの中で広い幅を有するステップを指している。
また、本発明に係る単結晶SiCは、種結晶となる単結晶SiC及びC原子供給基板の大きさを適宜選択することによって形成される単結晶SiCの大きさを制御することができる。また、形成される単結晶SiCと種結晶との間に歪みが形成されることもないため、非常に平滑な表面の単結晶SiCとできる。そのため、表面の改質膜として適用することも可能である。
2 本加熱室
3 予備加熱室
4 前室
5 単結晶SiC基板
6 ハロゲンランプ
7 ゲートバルブ
8 テーブル
9 サセプタ
10 移動手段
11 加熱ヒータ
14 高温時は溶融Si(低温時は金属 Si基板)
16 密閉容器
17 C原子供給基板
18 高温時は金属Si融液層(低温時はSi粉末)
19 スペーサ
23 重石
24 支持基板
25 嵌合部
Claims (3)
- 種結晶となる単結晶炭化ケイ素基板上に、炭素原子を供給するための炭素原子供給基板を重ね、前記単結晶炭化ケイ素基板と前記炭素原子供給基板との間に極薄金属シリコン融液層を介在させ、1400℃以上2100℃未満の所定の温度で所定の時間加熱処理を行うことによって前記種結晶となる単結晶炭化ケイ素基板上に単結晶炭化ケイ素を液相エピタキシャル成長させる単結晶炭化ケイ素の成長方法であって、
前記炭素原子供給基板として多結晶炭化ケイ素基板を除く炭素原子供給基板を用いる単結晶炭化ケイ素成長方法。 - 前記炭素原子供給基板として、カーボン基板又は非晶質炭化ケイ素基板を用いる請求項1に記載の単結晶炭化ケイ素成長方法。
- 前記単結晶炭化ケイ素基板と前記炭素原子供給基板の間に介在する前記金属シリコン融液層の厚さが全面に亘って均一になるように前記炭素原子供給基板の上面に加圧を行なって、前記単結晶炭化ケイ素基板と前記炭素原子供給基板との間に成長される単結晶炭化ケイ素の厚みを制御する請求項1又は2に記載の単結晶炭化ケイ素の成長方法。
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Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20120181550A1 (en) * | 2011-01-17 | 2012-07-19 | Denso Corporation | Compound semiconductor substrate and manufacturing method of the same |
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