JP2009150864A - Device for humidifying embedding block, device for automatically producing thin slice, and device for automatically producing thin slice sample - Google Patents

Device for humidifying embedding block, device for automatically producing thin slice, and device for automatically producing thin slice sample Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To humidify an embedding block in a short time while minimizing influences on the surface temperature of an embedding block. <P>SOLUTION: A device 11 for humidifying an embedding block B with a biological sample embedded by an embedding agent includes a steam generating mechanism 20 for generating steam E that is heated to a predetermined temperature, and a guiding mechanism 21 for guiding the generated steam to an embedding block so that the steam may come in contact with the surface of the embedding block that is set at a predetermined standby position (a position indicated by the arrow P). <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、生体試料が包埋剤に包埋された包埋ブロックを加湿する包埋ブロック加湿装置、加湿された包埋ブロックを薄切して薄切片を自動的に作製する自動薄切片作製装置、及び、作製された薄切片を基板上に固定して薄切片標本を自動的に作製する自動薄切片標本作製装置に関するものである。   The present invention relates to an embedding block humidifying device for humidifying an embedding block in which a biological sample is embedded in an embedding agent, and automatic thin section preparation for automatically preparing a thin section by slicing a humidified embedding block. The present invention relates to an apparatus and an automatic thin section specimen preparation apparatus that automatically prepares a thin section specimen by fixing the prepared thin section on a substrate.

従来より、新薬開発において臨床試験に先立ち、実験動物による毒性試験や病理検査等が行われている。これらの試験や検査は、スライドガラス等の基板上に、厚さが数μm(例えば、3μm〜5μm)の薄切片が固定された薄切片標本を用いて行われるものである。薄切片としては、薬物を投与したネズミやウサギ等の実験動物を剖検し、病理検査のために薄切りしたものが使用されている。また、種々の部位(例えば、脳や肺等)毎に作製されている。   Conventionally, prior to clinical trials in the development of new drugs, toxicity tests and pathological examinations using laboratory animals have been conducted. These tests and inspections are performed using a thin slice specimen in which a thin slice having a thickness of several μm (for example, 3 μm to 5 μm) is fixed on a substrate such as a slide glass. As a thin section, an experimental animal such as a mouse or a rabbit administered with a drug is necropsied and sliced for pathological examination. Moreover, it is produced for each of various parts (for example, brain, lungs, etc.).

このような薄切片標本を作製する装置として、ミクロトームが知られている。ここで、ミクロトームを利用して薄切片試料を作製する一般的な方法について説明する。
まず、ホルマリン固定された生物や動物等の生体試料をパラフィン置換した後、更に周囲をパラフィンで固めて強固にして、ブロック状態の包埋ブロックを作製する。次に、この包埋ブロックを専用の薄切り装置であるミクロトームにセットして、粗削りを行う。この粗削りによって、包埋ブロックの表面が平滑面となると共に、実験や観察の対象物である包埋された生体試料が表面に露出した状態となる。
A microtome is known as an apparatus for producing such a sliced specimen. Here, a general method for preparing a thin slice sample using a microtome will be described.
First, after replacing a biological sample such as a formalin-fixed organism or animal with paraffin, the periphery is further solidified with paraffin to make a block-shaped embedded block. Next, this embedding block is set in a microtome, which is a dedicated slicer, and rough cutting is performed. By this rough cutting, the surface of the embedding block becomes a smooth surface, and the embedded biological sample that is the object of experiment and observation is exposed on the surface.

粗削りが終了した後、本削りを行う。これは、ミクロトームが有する切断刃により、包埋ブロックを上述した厚みで極薄にスライスする工程である。これにより、薄切片を得ることができる。この際、包埋ブロックを可能な限り薄くスライスすることで、薄切片の厚みを細胞レベルの厚みに近付けることができるので、より品質の高い薄切片標本を得ることができる。よって、可能な限り厚さが薄い薄切片を作製することが求められている。なお、この本削りは、必要枚数の薄切片が得られるまで連続して行う。   After rough cutting is finished, the main cutting is performed. This is a process of slicing the embedding block to the above-mentioned thickness with the cutting blade of the microtome. Thereby, a thin slice can be obtained. At this time, by slicing the embedded block as thinly as possible, the thickness of the thin slice can be brought close to the thickness of the cell level, and thus a thin slice specimen with higher quality can be obtained. Therefore, it is required to produce a thin slice as thin as possible. This main cutting is continuously performed until a required number of thin slices are obtained.

次いで、本削りによって得られた薄切片を伸展させる伸展工程を行う。つまり、本削りによって作製された薄切片は、上述したように極薄の厚みでスライスされたものであるので、皺がついた状態や、丸まった状態(例えば、Uの字状)となってしまう。そこで、この伸展工程によって、皺や丸みを取って伸ばす必要がある。
一般的には、水とお湯を利用して伸展させている。始めに、本削りによって得られた薄切片を水に浮かべる。これにより、生体試料を包埋しているパラフィン同士のくっつきを防止しながら、薄切片の大きな皺や丸みを取ることができる。次に、薄切片をお湯に浮かべる。これにより、薄切片が伸び易くなるので、水による伸展では取りきれなかった残りの皺や丸みを取ることができる。
Next, an extension process for extending the thin slice obtained by the main cutting is performed. That is, since the thin slice produced by the main cutting is sliced with an extremely thin thickness as described above, it is in a wrinkled state or a rounded state (for example, U-shaped). End up. Therefore, it is necessary to remove the wrinkles and roundness by this extension process.
Generally, it is extended using water and hot water. First, the thin section obtained by the main cutting is floated on water. Thereby, the large wrinkles and roundness of a thin section can be taken, preventing the sticking of the paraffin which has embedded the biological sample. Next, float the slices in hot water. Thereby, since a thin section becomes easy to extend, the remaining wrinkles and roundness which were not able to be removed by extension by water can be removed.

そして、お湯による伸展が終了した薄切片をスライドガラス等の基板で掬って該基板上に載置する。なお、この時点で仮に伸展が不十分であった場合には、基板ごとホットプレート等に乗せてさらに熱を加える。これにより、薄切片をより伸展させることができる。
最後に、薄切片を乗せた基板を乾燥器内に入れて乾燥させる。この乾燥により、伸展で付着した水分が蒸発すると共に、薄切片が基板上に固定される。その結果、薄切片標本を作製することができる。
Then, the thin slice that has been extended with hot water is struck with a substrate such as a slide glass and placed on the substrate. If the extension is insufficient at this point, the substrate is placed on a hot plate or the like to further heat. Thereby, a thin section can be extended more.
Finally, the substrate on which the thin section is placed is placed in a dryer and dried. By this drying, moisture attached by extension evaporates and the thin slice is fixed on the substrate. As a result, a thin slice specimen can be produced.

ところで、薄切片を作製する際に、包埋ブロックの表面が乾燥していると切断面に皺や変形等が生じる恐れがあるので、包埋ブロックの表面が乾燥しないように対策を施す必要がある。つまり、包埋ブロックを適度に加湿して、乾燥を防止する必要がある。
そこで、包埋ブロックを加湿する装置の1つとして、超音波振動によって霧状の水滴(以下、ミストと称する)を発生させて、該ミストにより包埋ブロックを加湿する装置が既に知られている(特許文献1参照)。
特開2004−28507号公報
By the way, when preparing a sliced piece, if the surface of the embedding block is dry, wrinkles or deformation may occur on the cut surface, so it is necessary to take measures to prevent the surface of the embedding block from drying. is there. That is, it is necessary to appropriately humidify the embedding block to prevent drying.
Thus, as one of devices for humidifying the embedding block, a device that generates mist-like water droplets (hereinafter referred to as mist) by ultrasonic vibration and humidifies the embedding block with the mist is already known. (See Patent Document 1).
JP 2004-28507 A

しかしながら、上述した従来の装置では、まだ以下の課題が残されていた。
始めに、包埋ブロックについて簡単に説明すると、生体材料を包埋している包埋剤は、通常撥水性を有するパラフィンが使用されている。また、生体材料自体もパラフィン置換されているため、表面は撥水性を有している。ところが、図12に示すように、パラフィン置換されている生体試料Sには、表面に微小な罅(ひび)S1が無数に空いている。よって、包埋ブロックを加湿するためには、この無数の罅S1を利用して生体試料Sの内部から加湿する必要がある。
However, the conventional apparatus described above still has the following problems.
First, the embedding block will be briefly described. As the embedding agent for embedding a biomaterial, paraffin having water repellency is usually used. Moreover, since the biomaterial itself is paraffin substituted, the surface has water repellency. However, as shown in FIG. 12, the paraffin-substituted biological sample S has an infinite number of minute cracks S1 on the surface. Therefore, in order to humidify the embedding block, it is necessary to humidify from the inside of the biological sample S using the countless folds S1.

ところが、この無数の罅S1は、直径が数百nm〜1μm程度の微小な罅である。そのため、図13に示すように、ミストMを発生させて包埋ブロックの表面に付着させたとしても、表面張力の影響を受けてミストMが罅S1の入り口で弾かれて易かった。よって、罅S1の中までミストMを容易に侵入させることが難しく、多大な時間が必要であった。
一方、加湿に費やす時間を短縮するため、ミスト量を増やした場合には、新たな不都合が生じてしまうものであった。つまり、ミスト量を増やした場合には、包埋ブロックの表面に過度のミストMが付着することになる。すると、過度のミストMが蒸発する際の蒸発潜熱によって、包埋ブロックの表面温度が低下(2℃程度)し、包埋ブロックが熱収縮してしまう不都合があった。その結果、包埋ブロックを薄切することで得られる薄切片の厚みにばらつきが生じてしまう恐れがあった。
However, these countless ridges S1 are minute ridges having a diameter of about several hundred nm to 1 μm. Therefore, as shown in FIG. 13, even if the mist M was generated and adhered to the surface of the embedding block, the mist M was easily repelled at the entrance of the ridge S1 due to the influence of the surface tension. Therefore, it is difficult to easily enter the mist M into the bowl S1, and a great deal of time is required.
On the other hand, when the amount of mist is increased in order to shorten the time spent for humidification, a new inconvenience occurs. That is, when the mist amount is increased, excessive mist M adheres to the surface of the embedding block. Then, due to the latent heat of vaporization when excessive mist M evaporates, the surface temperature of the embedding block is lowered (about 2 ° C.), and the embedding block is thermally contracted. As a result, the thickness of the thin slice obtained by slicing the embedded block may vary.

本発明は、このような事情に考慮してなされたもので、その目的は、包埋ブロックの表面温度に極力影響を与えずに短時間で包埋ブロックを加湿することができる包埋ブロック加湿装置、該包埋ブロック加湿装置を有する自動薄切片作製装置、及び、自動薄切片作製装置を有する自動薄切片標本作製装置を提供することである。   The present invention has been made in view of such circumstances, and the purpose thereof is to embed an embedded block that can humidify the embedded block in a short time without affecting the surface temperature of the embedded block as much as possible. It is to provide an apparatus, an automatic thin-section preparation apparatus having the embedding block humidification apparatus, and an automatic thin-section specimen preparation apparatus having an automatic thin-section preparation apparatus.

本発明は、前記課題を解決するために以下の手段を提供する。
本発明に係る包埋ブロック加湿装置は、生体試料が包埋剤に包埋された包埋ブロックを加湿する包埋ブロック加湿装置であって、所定温度に加熱された水蒸気を発生させる水蒸気発生機構と、発生した前記水蒸気が予め決められた待機位置にセットされた前記包埋ブロックの表面に当たるように、該水蒸気を包埋ブロックまで案内する案内機構と、を備えていることを特徴とするものである。
The present invention provides the following means in order to solve the above problems.
The embedding block humidifying device according to the present invention is an embedding block humidifying device that humidifies an embedding block in which a biological sample is embedded in an embedding agent, and generates a water vapor that is heated to a predetermined temperature. And a guide mechanism for guiding the water vapor to the embedding block so that the generated water vapor hits the surface of the embedding block set at a predetermined standby position. It is.

この発明に係る包埋ブロック加湿装置においては、包埋ブロックが待機位置にセットされているときに、案内機構が水蒸気発生機構によって発生した水蒸気を包埋ブロックまで案内して、該水蒸気を包埋ブロックの表面に当たるように吹き付ける。特に、従来のミストとは異なり、気体である水蒸気を包埋ブロックに当てているので、パラフィン置換されている生体試料の表面に空いている微小な罅の中に水蒸気が容易に入り込む。この際、水蒸気は、所定温度に加熱されているので、罅の中に入り込んだ後に生体試料に接すると罅の内部で結露した状態となる。これにより、生体試料を内部から湿らせることができる。その結果、包埋ブロックを加湿することができる。   In the embedding block humidifier according to the present invention, when the embedding block is set at the standby position, the guide mechanism guides the water vapor generated by the water vapor generation mechanism to the embedding block and embeds the water vapor. Spray to hit the surface of the block. In particular, unlike the conventional mist, since water vapor, which is a gas, is applied to the embedding block, the water vapor easily enters the minute cocoon vacant on the surface of the paraffin-substituted biological sample. At this time, since the water vapor is heated to a predetermined temperature, when it enters the cage and comes into contact with the biological sample, it becomes dewed inside the cage. Thereby, a biological sample can be moistened from the inside. As a result, the embedding block can be humidified.

特に、気体である水蒸気を利用するので、罅が微小であっても水蒸気を確実に罅の中に入り込ませることができる。従って、短時間で加湿することができる。しかも、罅の中に水蒸気が入り込むので、少量の水蒸気で十分に加湿行うことができる。よって、従来のように過度のミストの蒸発によって引き起こされていた包埋ブロックの温度低下が生じ難い。よって、包埋ブロックが熱収縮してしまうことを防止できる。その結果、包埋ブロックを最適な状態に加湿することができ、高品質な薄切片の作製に貢献することができる。   In particular, since water vapor, which is a gas, is used, water vapor can surely enter the bag even if the bag is very small. Therefore, it can be humidified in a short time. In addition, since water vapor enters the basket, it can be sufficiently humidified with a small amount of water vapor. Therefore, the temperature drop of the embedding block that has been caused by excessive evaporation of mist as in the past is unlikely to occur. Therefore, it can prevent that an embedding block heat-shrinks. As a result, the embedding block can be humidified to an optimum state, which can contribute to the production of a high quality thin section.

また、本発明に係る包埋ブロック加湿装置は、上記本発明の包埋ブロック加湿装置において、前記水蒸気発生機構が、液体が貯留されたタンクと、前記液体を加熱する液体用ヒータと、該液体用ヒータの温度を調整するヒータ温度調整器と、前記液体に浸かるように前記タンク内に挿し込まれた配管を有し、該配管にエアーを供給して配管の先端から無数の気泡を液体中に発生させる気泡発生機構と、前記エアーの供給量を調整するエアー調整器と、を備えていることを特徴とするものである。   Further, the embedding block humidifying device according to the present invention is the embedding block humidifying device according to the present invention, wherein the water vapor generating mechanism includes a tank storing liquid, a liquid heater for heating the liquid, and the liquid. A heater temperature adjuster for adjusting the temperature of the heater for use, and a pipe inserted into the tank so as to be immersed in the liquid. A bubble generating mechanism for generating the air and an air adjuster for adjusting the supply amount of the air.

この発明に係る包埋ブロック加湿装置においては、気泡発生機構の配管にエアーを供給すると、配管の先端から無数の気泡がタンクに貯留された液体中に発生する。そして、これら無数の気泡は、周囲の液体と接触するので、両者の間には気液界面が形成される。この際、液体は液体用ヒータによって加熱されているので、液体は気液界面を通して気泡の内部の気体内に蒸発し、該気体を加湿する。特に、気泡は小さく体積に対して表面積が大きくなるので、気泡内の気体は短時間でほぼ飽和蒸気圧まで加湿される。そのため、無数の気泡が液体の上面に達した時点で弾けると、タンク内に所定温度に加熱された水蒸気が発生する。このように、簡単な構成で水蒸気を確実に発生させることができる。しかも、ヒータ温度調整器によって、液体用ヒータの温度を調整できるので、液体の温度を自在にコントロールして水蒸気の温度を所望する温度に調整できる。よって、水蒸気を利用して包埋ブロックを確実に加湿することができる。
また、エアー調整器によって配管に供給するエアーの供給量を調整できるので、発生する水蒸気の量を適宜調整することができる。よって、包埋ブロックの表面温度変化をできるだけ抑えながら、加湿を確実に行うといったことが可能である。
In the embedding block humidifier according to the present invention, when air is supplied to the piping of the bubble generating mechanism, countless bubbles are generated in the liquid stored in the tank from the tip of the piping. And these countless bubbles come into contact with the surrounding liquid, so that a gas-liquid interface is formed between them. At this time, since the liquid is heated by the liquid heater, the liquid evaporates into the gas inside the bubble through the gas-liquid interface and humidifies the gas. In particular, since the bubbles are small and the surface area is large with respect to the volume, the gas in the bubbles is humidified to the saturation vapor pressure in a short time. Therefore, when the infinite number of bubbles bounce when reaching the upper surface of the liquid, steam heated to a predetermined temperature is generated in the tank. Thus, water vapor can be reliably generated with a simple configuration. In addition, since the temperature of the liquid heater can be adjusted by the heater temperature adjuster, the temperature of the water vapor can be freely controlled to adjust the temperature of the water vapor to a desired temperature. Therefore, the embedding block can be reliably humidified using water vapor.
Moreover, since the supply amount of air supplied to the piping can be adjusted by the air adjuster, the amount of water vapor generated can be adjusted as appropriate. Therefore, it is possible to reliably perform humidification while suppressing the surface temperature change of the embedding block as much as possible.

また、本発明に係る包埋ブロック加湿装置は、上記本発明の包埋ブロック加湿装置において、前記包埋ブロックの表面温度を測定するセンサを備え、前記ヒータ温度調整器が、発生する前記水蒸気の温度が、前記センサで測定された前記包埋ブロックの温度よりも予め決められた温度だけ高くなるように、前記液体用ヒータの温度を調整することを特徴とするものである。   Moreover, the embedding block humidifying device according to the present invention is the embedding block humidifying device according to the present invention, further comprising a sensor for measuring a surface temperature of the embedding block, wherein the heater temperature regulator The temperature of the liquid heater is adjusted so that the temperature is higher than the temperature of the embedding block measured by the sensor by a predetermined temperature.

この発明に係る包埋ブロック加湿装置においては、センサを備えているので、加湿されている包埋ブロックの表面温度を正確に知ることができる。そして、ヒータ温度調整器は、包埋ブロックの表面温度に基づいて液体用ヒータの温度を調整し、水蒸気の温度が包埋ブロックの温度よりも予め決められた温度だけ高くなるように調整することができる。これにより、包埋ブロックの温度よりも過度に高い温度の水蒸気を包埋ブロックに当ててしまうことがない。従って、包埋ブロックが温度変化してしまうことを最小限に抑えながら、水蒸気を利用して該包埋ブロックを確実に加湿することができる。   In the embedding block humidifying device according to the present invention, since the sensor is provided, the surface temperature of the embedding block being humidified can be accurately known. The heater temperature adjuster adjusts the temperature of the liquid heater based on the surface temperature of the embedding block so that the temperature of the water vapor is higher than the temperature of the embedding block by a predetermined temperature. Can do. Thereby, the water vapor | steam of temperature higher than the temperature of an embedding block is not applied to an embedding block. Therefore, it is possible to reliably humidify the embedded block using water vapor while minimizing the temperature change of the embedded block.

また、本発明に係る包埋ブロック加湿装置は、上記本発明の包埋ブロック加湿装置において、前記エアー調整器が、前記センサで測定された前記包埋ブロックの温度に基づいて、前記エアーの供給量を調整することを特徴とするものである。   Moreover, the embedding block humidifying device according to the present invention is the above-described embedding block humidifying device according to the present invention, wherein the air adjuster supplies the air based on the temperature of the embedding block measured by the sensor. It is characterized by adjusting the amount.

この発明に係る包埋ブロック加湿装置においては、エアー調整器が、包埋ブロックの表面温度に基づいて配管に供給するエアーの供給量を調整するので、包埋ブロックに過度の水蒸気が当たりすぎて温度が変化してしまうことを防止することができる。従って、包埋ブロックが温度変化してしまうことをさらに確実に抑えることができる。   In the embedding block humidifier according to the present invention, the air regulator adjusts the supply amount of air supplied to the piping based on the surface temperature of the embedding block, so that excessive water vapor hits the embedding block. It is possible to prevent the temperature from changing. Therefore, it is possible to more reliably suppress the temperature change of the embedded block.

また、本発明に係る包埋ブロック加湿装置は、上記本発明の包埋ブロック加湿装置において、前記案内機構が、前記水蒸気を前記包埋ブロックまで案内する案内管と、該案内管を加熱する案内管用ヒータと、該案内管用ヒータの温度を調整する案内管温度調整器と、を備えていることを特徴とするものである。   The embedding block humidifying device according to the present invention is the embedding block humidifying device according to the present invention, wherein the guide mechanism guides the water vapor to the embedding block and a guide for heating the guide tube. It comprises a pipe heater and a guide pipe temperature regulator for adjusting the temperature of the guide pipe heater.

この発明に係る包埋ブロック加湿装置においては、水蒸気発生機構によって発生した水蒸気が、案内管の内部を通って包埋ブロックまで案内される。この際、案内管は、案内管用ヒータによって加熱されているので、内部を通過している水蒸気を加熱することができる。よって、仮に案内管が長い管路であったとしても、包埋ブロックに案内されるまでの間に、水蒸気の温度が包埋ブロックの温度よりも低くなってしまうことがない。
よって、案内管を自由に設計することができるうえ、包埋ブロックの加湿を確実に行うことができる。しかも、案内管温度調整器によって、案内管用ヒータの温度を自在に調整できるので、水蒸気の温度を所定温度に保ったまま、包埋ブロックまで確実に案内することができる。
In the embedding block humidifier according to the present invention, water vapor generated by the water vapor generating mechanism is guided to the embedding block through the inside of the guide tube. At this time, since the guide tube is heated by the guide tube heater, the water vapor passing through the inside can be heated. Therefore, even if the guide tube is a long pipeline, the temperature of the water vapor does not become lower than the temperature of the embedded block before being guided by the embedded block.
Therefore, the guide tube can be designed freely, and the embedding block can be reliably humidified. Moreover, since the temperature of the guide tube heater can be freely adjusted by the guide tube temperature adjuster, it is possible to reliably guide to the embedding block while keeping the temperature of the water vapor at a predetermined temperature.

また、本発明に係る包埋ブロック加湿装置は、上記本発明の包埋ブロック加湿装置において、前記案内機構が、前記水蒸気を一旦溜め込む蓄積部と、溜め込んだ水蒸気を蓄積部の外部に一度に放出させる放出機構と、を備え、放出した前記水蒸気を前記包埋ブロックに案内することを特徴とするものである。   Further, the embedding block humidifying device according to the present invention is the embedding block humidifying device according to the present invention, wherein the guide mechanism releases the water vapor once accumulated and the accumulated water vapor to the outside of the accumulating portion at a time. And a discharge mechanism for guiding the discharged water vapor to the embedded block.

この発明に係る包埋ブロック加湿装置においては、案内機構が水蒸気発生機構によって発生した水蒸気を包埋ブロックまで案内する際に、一旦蓄積部に水蒸気を溜め込んで蓄積する。そして、水蒸気が所定量蓄積された後、案内機構は放出機構により溜め込んだ水蒸気を蓄積部の外部に一度に放出させると共に、この放出した水蒸気を包埋ブロックまで案内する。これにより、ある程度まとまった量の水蒸気を包埋ブロックに供給できるので、より短時間で加湿を行うことができる。従って、スループットを向上でき、より効率の良い薄切片の作製に貢献することができる。   In the embedding block humidifier according to the present invention, when the guide mechanism guides the water vapor generated by the water vapor generation mechanism to the embedding block, the water is once accumulated and accumulated in the accumulating unit. Then, after a predetermined amount of water vapor is accumulated, the guide mechanism releases the water vapor accumulated by the discharge mechanism at a time to the outside of the accumulation unit and guides the released water vapor to the embedding block. Thereby, since a certain amount of water vapor can be supplied to the embedding block, humidification can be performed in a shorter time. Therefore, the throughput can be improved and it can contribute to the production of a more efficient thin section.

また、本発明に係る自動薄切片作製装置は、上記本発明の包埋ブロック加湿装置と、前記包埋ブロックを載置固定する固定台と、前記待機位置から離間した位置に配置された切断刃を有し、待機位置と切断刃との間で前記固定台を移動させ、前記包埋ブロックを所定の厚みで切断して薄切片を切り出す切断機構と、切り出された前記薄切片を搬送する薄切片搬送機構と、を備えていることを特徴とするものである。   An automatic thin-section preparation device according to the present invention includes an embedding block humidifying device according to the present invention, a fixing base for mounting and fixing the embedding block, and a cutting blade disposed at a position spaced from the standby position. A cutting mechanism that moves the fixed base between a standby position and a cutting blade, cuts the embedded block with a predetermined thickness, and cuts out a thin section; and a thin mechanism that transports the cut out thin section. And a section conveyance mechanism.

この発明に係る自動薄切片作製装置においては、まず、手動或いはロボット等により、包埋ブロックを載置台上に載置固定する。そして、切断機構により固定台が移動して、載置された包埋ブロックが待機位置にセットされると、包埋ブロック加湿装置が包埋ブロックを加湿し始める。これにより、包埋ブロックは、待機位置にいる間、温度変化がほとんどない状態で最適に加湿される。
次に、切断機構は、固定台を切断刃に向けて移動させて、包埋ブロックを所定の厚み(例えば、5μmの極薄)でシート状に切断(スライス)する。これにより、薄切片を切り出して作製することができる。そして、作製された薄切片は、薄切片作製装置により搬送される。このように、薄切片を自動的に次々と作製して次工程に受け渡すことができる。
In the automatic thin section manufacturing apparatus according to the present invention, first, the embedding block is mounted and fixed on the mounting table by a manual operation or a robot. Then, when the fixed base is moved by the cutting mechanism and the placed embedding block is set at the standby position, the embedding block humidifier starts to humidify the embedding block. Thereby, the embedding block is optimally humidified while there is almost no temperature change while in the standby position.
Next, the cutting mechanism moves the fixed base toward the cutting blade, and cuts (slices) the embedding block into a sheet with a predetermined thickness (for example, 5 μm ultrathin). Thereby, a thin section can be cut out and produced. And the produced thin slice is conveyed by the thin slice production apparatus. In this way, thin sections can be automatically produced one after another and transferred to the next process.

特に、包埋ブロックは、上述したように温度変化がない状態で最適に加湿されているので、厚みのばらつきを抑えて、できるだけ均一な厚みの薄切片を作製することができる。よって、高品質な薄切片を作製することができる。また、包埋ブロックを短時間に加湿できるので、加湿に費やす時間を短縮してスループットを向上することができる。   In particular, since the embedding block is optimally humidified in the state where there is no temperature change as described above, it is possible to produce a thin slice having a thickness as uniform as possible while suppressing variations in thickness. Therefore, a high-quality thin section can be produced. Moreover, since the embedding block can be humidified in a short time, the time spent for humidification can be shortened and the throughput can be improved.

また、本発明に係る自動薄切片作製装置は、上記本発明の自動薄切片作製装置において、前記包埋ブロックが前記待機位置に位置しているか否かを検出する位置センサと、前記包埋ブロックが前記待機位置に位置していると前記位置センサが検出したときに、前記水蒸気発生機構を作動させる制御部と、を備えていることを特徴とするものである。   Moreover, the automatic thin-section preparation apparatus according to the present invention is the automatic thin-section preparation apparatus according to the present invention, wherein the embedded block is a position sensor that detects whether or not the embedded block is located at the standby position. And a controller that activates the water vapor generating mechanism when the position sensor detects that it is located at the standby position.

この発明に係る自動薄切片作製装置においては、包埋ブロックが待機位置に位置すると、位置センサがその旨を制御部に知らせる。すると、制御部は、これを受けて、水蒸気発生機構を作動させる。これにより、待機位置に来た包埋ブロックを速やかに加湿することができる。特に、包埋ブロック加湿装置を無駄に作動させることがないので、省電力化を図ることができるうえ、ランニングコストを抑え易い。   In the automatic thin section manufacturing apparatus according to the present invention, when the embedding block is positioned at the standby position, the position sensor notifies the control unit to that effect. Then, a control part receives this and operates a water vapor | steam generation mechanism. Thereby, the embedding block which has come to the standby position can be quickly humidified. In particular, since the embedding block humidifier is not operated wastefully, power saving can be achieved and the running cost can be easily suppressed.

また、本発明に係る自動薄切片作製装置は、上記本発明の自動薄切片作製装置において、前記切断機構が、前記水蒸気発生機構が作動してから所定時間経過後に、前記固定台を移動させることを特徴とするものである。   The automatic thin-slice preparation device according to the present invention is the automatic thin-slice preparation device according to the present invention, wherein the cutting mechanism moves the fixed base after a predetermined time has elapsed since the water vapor generation mechanism was activated. It is characterized by.

この発明に係る自動薄切片作製装置においては、切断機構は、水蒸気発生機構が作動してから所定時間経過後に、固定台を移動させて薄切片の作製を行わせるので、常に最適な加湿状態となった包埋ブロックから薄切片を作製することができる。従って、高品質な薄切片をより安定して作製することができる。   In the automatic thin-section preparation apparatus according to the present invention, the cutting mechanism moves the fixing base after a predetermined time has elapsed since the water vapor generation mechanism has been activated, so that the thin section is prepared. Thin sections can be made from the embedded blocks. Therefore, a high-quality thin section can be produced more stably.

この発明に係る自動薄切片標本作製装置は、上記本発明の自動薄切片作製装置と、前記包埋ブロックを前記固定台上に搬送するブロック搬送機構と、前記薄切片搬送機構によって搬送された前記薄切片を、少なくとも液体に浮かべて伸展させる伸展機構と、伸展された前記薄切片を、基板上に転写させて薄切片標本を作製する転写機構と、を備えていることを特徴とするものである。   The automatic thin-section sample preparation apparatus according to the present invention includes the automatic thin-section preparation apparatus of the present invention, a block transport mechanism that transports the embedded block onto the fixed table, and the transported by the thin section transport mechanism. An extension mechanism that floats and extends a thin slice on a liquid, and a transfer mechanism that transfers the stretched thin section onto a substrate to produce a thin section specimen. is there.

この発明に係る自動薄切片標本作製装置においては、ブロック搬送機構を備えているので、複数の包埋ブロックを簡単且つ容易に、順々と固定台上に搬送することができる。また、薄切片搬送機構によって搬送された薄切片は、伸展機構が有する、例えば水等の液体に浮かばされて伸展される。これにより薄切片は、表面張力によって切断時に生じた皺や丸みが取れて伸びた状態となるので、伸展される。そして、伸展された薄切片は、転写機構によってスライドガラス等の基板上に転写される。これより、基板上に薄切片が転写された薄切片標本を作製することができる。   In the automatic thin-section sample preparation apparatus according to the present invention, since the block transport mechanism is provided, a plurality of embedded blocks can be transported on the fixed table in a simple and easy manner. In addition, the thin slice transported by the thin slice transport mechanism is floated and stretched in a liquid such as water, which the stretching mechanism has. As a result, the thin slice is stretched because it is stretched by removing the wrinkles and roundness generated during cutting due to surface tension. Then, the extended thin section is transferred onto a substrate such as a slide glass by a transfer mechanism. Thus, a thin slice specimen in which a thin slice is transferred onto a substrate can be produced.

特に、自動薄切片作製装置によって作製された薄切片は、厚みができるだけ均一で高品質な薄切片であるので、薄切片標本に関しても高品質なものを作製することができる。よって、この薄切片標本を用いた各種の試験や検査等の精度をより高めることができる。   In particular, since the thin slice produced by the automatic thin slice production apparatus is a high-quality thin slice with a thickness as uniform as possible, a high-quality sample can be produced even for a thin-section specimen. Therefore, the accuracy of various tests and inspections using this thin slice specimen can be further increased.

本発明に係る包埋ブロック加湿装置によれば、包埋ブロックの表面温度に極力影響を与えずに、短時間で該包埋ブロックを最適な状態に加湿することができる。
また、本発明に係る自動薄切片作製装置によれば、上述した包埋ブロック加湿装置を備えているので、厚みのばらつきを抑えて、できるだけ均一な厚みの薄切片を包埋ブロックから作製することができる。よって、高品質な薄切片を作製することができる。また、包埋ブロックを短時間に加湿できるので、加湿に費やす時間を短縮して全体のスループットを向上することができる。
また、本発明に係る自動薄切片標本作製装置によれば、上述した自動薄切片作製装置を備えているので、薄切片標本に関しても高品質なものを作製することができる。よって、この薄切片標本を用いた各種の試験や検査等の精度をより高めることができる。
According to the embedding block humidifier according to the present invention, the embedding block can be humidified in an optimum state in a short time without affecting the surface temperature of the embedding block as much as possible.
In addition, according to the automatic thin-section preparation apparatus according to the present invention, since the above-described embedding block humidification apparatus is provided, it is possible to suppress a thickness variation and prepare a thin section having a uniform thickness as much as possible from the embedding block. Can do. Therefore, a high-quality thin section can be produced. Further, since the embedding block can be humidified in a short time, the time spent for humidification can be shortened and the overall throughput can be improved.
Moreover, according to the automatic thin-section sample preparation apparatus according to the present invention, since the automatic thin-section preparation apparatus described above is provided, it is possible to manufacture high-quality thin-section specimens. Therefore, the accuracy of various tests and inspections using this thin slice specimen can be further increased.

(第1実施形態)
以下、本発明に係る第1実施形態を、図1から図6を参照して説明する。なお、本実施形態では、生体試料として、鼠等の実験動物から採取した生体組織Sを例に挙げて説明する。
本実施形態の自動薄切片標本作製装置1は、生体組織Sが包埋剤に包埋された包埋ブロックBから作製された薄切片B1を、スライドガラス(基板)G上に転写させて薄切片標本Hを作製する装置である。
(First embodiment)
A first embodiment according to the present invention will be described below with reference to FIGS. In the present embodiment, a biological tissue S collected from a laboratory animal such as a spider will be described as an example of the biological sample.
The automatic thin-section specimen preparation apparatus 1 according to the present embodiment transfers a thin section B1 prepared from an embedding block B in which a living tissue S is embedded in an embedding agent, onto a slide glass (substrate) G and thins it. This is an apparatus for producing the slice specimen H.

自動薄切片標本作製装置1は、図1に示すように、包埋ブロックBを固定台10上に搬送するブロックハンドリングロボット(ブロック搬送機構)2と、搬送された包埋ブロックBから薄切片B1を作製する自動薄切片作製装置3と、該自動薄切片作製装置3の切片ハンドリング機構(薄切片搬送機構)14によって搬送された薄切片B1を、少なくとも水(液体)W1に浮かべて伸展させる伸展機構4と、伸展された薄切片B1を、スライドガラスG上に転写させて薄切片標本Hを作製するスライドガラスハンドリングロボット(転写機構)5と、を備えている。   As shown in FIG. 1, the automatic thin-section sample preparation apparatus 1 includes a block handling robot (block transport mechanism) 2 for transporting the embedding block B onto the fixed base 10, and a thin section B1 from the transported embedding block B. The thin slice B1 transported by the automatic thin section preparation apparatus 3 for manufacturing the thin film and the section handling mechanism (thin section transport mechanism) 14 of the automatic thin section preparation apparatus 3 is floated and extended at least in water (liquid) W1. A mechanism 4 and a slide glass handling robot (transfer mechanism) 5 that transfers the extended thin section B1 onto the slide glass G to produce a thin section specimen H are provided.

上記自動薄切片作製装置3は、包埋ブロックBを所定の厚みで切断して、シート状の薄切片B1を切り出して作製する装置である。
即ち、自動薄切片作製装置3は、上記ブロックハンドリングロボット2によって搬送された包埋ブロックBを載置固定する固定台10と、該固定台10上に固定された包埋ブロックBを待機位置(矢印Pで示す位置)で加湿する包埋ブロック加湿装置11と、待機位置から離間した位置に配置された切断刃12を有し、待機位置と切断刃12との間で固定台10を移動させ、包埋ブロックBから上記薄切片B1を切り出す切断機構13と、切り出された薄切片B1を搬送する上記切片ハンドリング機構14と、を備えている。
The automatic thin section manufacturing apparatus 3 is an apparatus that cuts the embedding block B with a predetermined thickness and cuts out and manufactures a sheet-like thin section B1.
That is, the automatic thin section manufacturing apparatus 3 places the embedding block B transported by the block handling robot 2 on the fixed base 10 and the embedding block B fixed on the fixing base 10 in the standby position ( The embedding block humidifying device 11 is humidified at the position indicated by the arrow P), and the cutting blade 12 is disposed at a position separated from the standby position, and the fixed base 10 is moved between the standby position and the cutting blade 12. The cutting mechanism 13 for cutting out the thin section B1 from the embedding block B and the section handling mechanism 14 for transporting the cut out thin section B1 are provided.

包埋ブロックBは、図2に示すように、ホルマリン固定された生体組織S内の水分をパラフィン置換した後、さらに周囲をパラフィン等の包埋剤によってブロック状に固めたものである。これにより、生体組織Sがパラフィン内に包埋された状態となっている。
このように構成された包埋ブロックBは、図1に示すように、後述するZステージ52上に固定されたカセット15上に載置固定されている。そして、包埋ブロックBは、後述するXステージ51の移動によって、待機位置と切断刃12との間で往復移動するようになっている。
As shown in FIG. 2, the embedding block B is obtained by replacing the moisture in the formalin-fixed biological tissue S with paraffin, and then hardening the periphery into a block with an embedding agent such as paraffin. Thereby, the biological tissue S is embedded in paraffin.
As shown in FIG. 1, the embedding block B configured in this manner is placed and fixed on a cassette 15 fixed on a Z stage 52 described later. And the embedding block B is reciprocated between the standby position and the cutting blade 12 by the movement of the X stage 51 described later.

包埋ブロック加湿装置11は、所定温度に加熱された水蒸気Eを発生させる水蒸気発生機構20と、発生した水蒸気Eを待機位置にセットされた包埋ブロックBの表面に当たるように、該水蒸気Eを包埋ブロックBまで案内する案内機構21と、を備えている。   The embedding block humidifying device 11 includes a water vapor generation mechanism 20 that generates water vapor E heated to a predetermined temperature, and the water vapor E so that the generated water vapor E hits the surface of the embedding block B set at the standby position. And a guide mechanism 21 for guiding to the embedding block B.

水蒸気発生機構20は、水(液体)W2が貯留されたタンク25と、タンク25内の水W2を加熱するヒータ(液体用ヒータ)26と、該ヒータ26の温度を調整する温度調整器(ヒータ温度調整器)27と、水W2に浸かるようにタンク25内に挿し込まれた配管28を有し、該配管28にエアーを供給して配管28の先端から無数の気泡を水中に発生させる気泡発生機構29と、エアーの供給量を調整するエアー調整器30と、を備えている。   The water vapor generation mechanism 20 includes a tank 25 in which water (liquid) W2 is stored, a heater (heater for liquid) 26 that heats the water W2 in the tank 25, and a temperature regulator (heater) that adjusts the temperature of the heater 26. A temperature regulator) 27 and a pipe 28 inserted into the tank 25 so as to be immersed in the water W2, and supplying air to the pipe 28 to generate innumerable bubbles in the water from the tip of the pipe 28 A generation mechanism 29 and an air adjuster 30 that adjusts the supply amount of air are provided.

タンク25は、上部に密閉部材25aが取り付けられており、内部が密閉された状態となっている。このタンク25は、上記ヒータ26が内蔵されたラバーヒータ31によって周囲が囲まれている。このヒータ26は、上記温度調整器27に電気的に接続されており、発熱量がコントロールされている。温度調整器27は、タンク25内に取り付けられた温度センサ32からの測定結果を受けて、ヒータ26の発熱量を調整している。これにより、タンク25内に貯留されている水W2の温度を、一定の温度(例えば、40℃)に設定することが可能とされている。
また、温度調整器27には、後述する温度センサ(センサ)80から包埋ブロックBの表面温度が送られてくるようになっている。そして、温度調整器27は、タンク25内に発生する水蒸気Eの温度が、送られてきた包埋ブロックBの表面温度よりも予め決められた温度だけ高くなるように(例えば、+2℃だけ高くなるように)、ヒータ26の温度を調整してタンク25内の水W2の温度を調整するようになっている。
The tank 25 has a sealing member 25a attached to the top thereof, and is in a state where the inside is sealed. The tank 25 is surrounded by a rubber heater 31 in which the heater 26 is built. The heater 26 is electrically connected to the temperature regulator 27, and the amount of heat generated is controlled. The temperature regulator 27 adjusts the amount of heat generated by the heater 26 in response to the measurement result from the temperature sensor 32 mounted in the tank 25. Thereby, the temperature of the water W2 stored in the tank 25 can be set to a constant temperature (for example, 40 ° C.).
Further, the surface temperature of the embedding block B is sent to the temperature regulator 27 from a temperature sensor (sensor) 80 described later. The temperature regulator 27 then increases the temperature of the water vapor E generated in the tank 25 by a predetermined temperature (for example, higher by + 2 ° C.) than the surface temperature of the embedded block B that has been sent. The temperature of the water W2 in the tank 25 is adjusted by adjusting the temperature of the heater 26.

上記配管28は、先端が密閉部材25aを突き抜けてタンク25内に貯留されている水W2の中に浸かっていると共に、基端側がタンク25から離れた位置に配置されたコンプレッサー等のエアー供給源35に接続されている。これら配管28及びエアー供給源35は、気泡発生機構29として機能する。
エアー供給源35とタンク25との間における配管28には、開閉制御器36によって開閉する電磁バルブ37が介在されている。つまり、開閉制御器36の信号を受けて、電磁バルブ37が開閉することで、エアー供給源35から供給されるエアーの供給量を調整できるようになっている。即ち、これら電磁バルブ37及び開閉制御器36は、上記エアー調整器30として機能する。
また、開閉制御器36には、温度調整器27と同様に、温度センサ80から包埋ブロックBの表面温度が送られてくるようになっている。そして、開閉制御器36は、包埋ブロックBの表面温度に基づいてエアーの供給量を調整している。なお、エアーの供給量に比例して、タンク25内に水蒸気Eが発生するようになっている。
The pipe 28 has a distal end penetrating through the sealing member 25 a and is immersed in the water W <b> 2 stored in the tank 25, and an air supply source such as a compressor whose proximal end is disposed away from the tank 25. 35. The pipe 28 and the air supply source 35 function as a bubble generation mechanism 29.
An electromagnetic valve 37 that is opened and closed by an open / close controller 36 is interposed in the pipe 28 between the air supply source 35 and the tank 25. That is, the supply amount of air supplied from the air supply source 35 can be adjusted by opening and closing the electromagnetic valve 37 in response to a signal from the open / close controller 36. That is, the electromagnetic valve 37 and the opening / closing controller 36 function as the air regulator 30.
Similarly to the temperature regulator 27, the surface temperature of the embedding block B is sent from the temperature sensor 80 to the opening / closing controller 36. The opening / closing controller 36 adjusts the air supply amount based on the surface temperature of the embedding block B. Note that water vapor E is generated in the tank 25 in proportion to the air supply amount.

上記配管28の先端は、丸みを帯びた略球形に形成されており、表面に微小開口28aが無数に空いている。そのため、配管28を通ってきたエアーは、先端に達した時点で無数の微小開口28aを通って外側に漏れ出す。これにより、水中に無数の気泡Vを発生させることができるようになっている。しかも、タンク25内の水W2はヒータ26によって加熱されているので、無数の気泡Vが水面に浮上するまでの間に加熱された状態となる。よって、気泡Vの内部の気体は、加熱された状態となる。これより、無数の気泡Vが水面で弾けた時点で、タンク25内に所定温度に加熱された水蒸気Eが発生するようになっている。
このように構成された水蒸気発生機構20のエアー供給源35及び開閉制御器36は、後述する制御部82によって作動が制御されている。
The tip of the pipe 28 is formed in a rounded substantially spherical shape, and an infinite number of minute openings 28a are formed on the surface. Therefore, the air that has passed through the pipe 28 leaks to the outside through the countless minute openings 28a when reaching the tip. Thereby, innumerable bubbles V can be generated in the water. Moreover, since the water W2 in the tank 25 is heated by the heater 26, the water W2 is heated until the countless bubbles V rise to the water surface. Therefore, the gas inside the bubble V is in a heated state. As a result, when the infinite number of bubbles V bounces on the water surface, water vapor E heated to a predetermined temperature is generated in the tank 25.
The operation of the air supply source 35 and the opening / closing controller 36 of the water vapor generation mechanism 20 configured as described above is controlled by a control unit 82 described later.

ここで、タンク25には、上記配管28とは別に案内管40の基端が密閉部材25aを突き抜けて挿し込まれている。この際、案内管40は、タンク25内に貯留された水W2に触れないように挿し込まれている。そして、案内管40は、先端が待機位置にセットされた包埋ブロックBの近傍に位置するように延出されている。この際、案内管40の先端は、末広がり形状に形成されており、待機位置にセットされた包埋ブロックBに上方から被されるようにセットされている。
このように、タンク25と包埋ブロックBとの間に案内管40がセットされているので、タンク25内に発生した水蒸気Eは、案内管40を通って包埋ブロックBまで案内された後、包埋ブロックBの表面に吹き付けられるようになっている。
Here, the base end of the guide tube 40 is inserted into the tank 25 through the sealing member 25 a separately from the pipe 28. At this time, the guide tube 40 is inserted so as not to touch the water W2 stored in the tank 25. And the guide tube 40 is extended so that the front-end | tip may be located in the vicinity of the embedding block B set to the standby position. At this time, the distal end of the guide tube 40 is formed in a divergent shape, and is set so as to be covered from above by the embedding block B set at the standby position.
Thus, since the guide tube 40 is set between the tank 25 and the embedding block B, the water vapor E generated in the tank 25 is guided to the embedding block B through the guide tube 40. The surface of the embedding block B is sprayed.

ところで、案内管40の途中には、該案内管40を加熱するヒータ(案内管用ヒータ)41が内蔵されたラバーヒータ42が案内管40の周囲を覆うように取り付けられている。このヒータ41は、温度調整器(案内管温度調整器)43に電気的に接続されており、発熱量がコントロールされている。温度調整器43は、案内管40の内部に取り付けられた温度センサ44からの測定結果を受けて、ヒータ41の発熱量を調整している。これにより、案内管40を通過する水蒸気Eの温度をタンク25内で発生させたときの温度のままで、包埋ブロックBまで案内できるようになっている。
上述した案内管40、ヒータ41及び温度調整器43は、上記案内機構21として機能する。
By the way, in the middle of the guide tube 40, a rubber heater 42 having a heater (guide tube heater) 41 for heating the guide tube 40 is attached so as to cover the periphery of the guide tube 40. The heater 41 is electrically connected to a temperature adjuster (guide tube temperature adjuster) 43, and the amount of heat generated is controlled. The temperature adjuster 43 adjusts the heat generation amount of the heater 41 in response to the measurement result from the temperature sensor 44 attached to the inside of the guide tube 40. As a result, the temperature of the water vapor E passing through the guide tube 40 can be guided to the embedding block B while maintaining the temperature when it is generated in the tank 25.
The guide tube 40, the heater 41, and the temperature adjuster 43 described above function as the guide mechanism 21.

ところで、包埋ブロックBを固定する固定台10は、切断刃12に向かうX方向に伸びたガイドレール50に沿って移動可能なXステージ51と、該Xステージ51上に取り付けられ、鉛直方向に向かうZ方向に移動可能なZステージ52とから構成されている。
ガイドレール50は、切断刃12を越えた反対側にまで延びた状態で取り付けられている。Xステージ51は、図示しないモータ等によって、ガイドレール50上を往復運動するようになっている。また、Zステージ52には、内部に図示しないピエゾ素子等が組み込まれており、電圧が印加されることでZ方向に一定量毎上昇するように高さ制御されている。この際、Zステージ52は、Xステージ51がガイドレール50を1往復する毎に、一定量だけ上昇するように制御されている。
By the way, the fixing base 10 for fixing the embedding block B is mounted on the X stage 51 movable along the guide rail 50 extending in the X direction toward the cutting blade 12, and mounted in the vertical direction. The Z stage 52 is movable in the Z direction.
The guide rail 50 is attached in a state extending to the opposite side beyond the cutting blade 12. The X stage 51 reciprocates on the guide rail 50 by a motor (not shown) or the like. Further, the Z stage 52 incorporates a piezo element (not shown) and the like, and the height is controlled so as to rise by a certain amount in the Z direction when a voltage is applied. At this time, the Z stage 52 is controlled to rise by a certain amount each time the X stage 51 reciprocates the guide rail 50 once.

これにより、Zステージ52上にカセット15を介して載置固定された包埋ブロックBは、Xステージ51の移動に伴って切断刃12に向けて移動して、該切断刃12によって切断されるようになっている。この際、Zステージ52によって高さ制御されているので、所定の厚み(例えば、5μm)で表面が切断される。その結果、シート状の薄切片B1が作製される。これについては、後に詳細に説明する。なお、Xステージ51の往復運動と、該往復運動に同期したZステージ52の上昇とによって、包埋ブロックBから複数毎の薄切片B1が次々と作製されるようになっている。上述したガイドレール50、Xステージ51、Zステージ52及び切断刃12は、上記切断機構13を構成している。   As a result, the embedding block B placed and fixed on the Z stage 52 via the cassette 15 moves toward the cutting blade 12 as the X stage 51 moves, and is cut by the cutting blade 12. It is like that. At this time, since the height is controlled by the Z stage 52, the surface is cut at a predetermined thickness (for example, 5 μm). As a result, a sheet-like thin section B1 is produced. This will be described in detail later. A plurality of thin slices B1 are successively produced from the embedding block B by the reciprocating motion of the X stage 51 and the ascent of the Z stage 52 synchronized with the reciprocating motion. The guide rail 50, the X stage 51, the Z stage 52, and the cutting blade 12 described above constitute the cutting mechanism 13.

固定台10の上方には、ガイドレール50と同じX方向に延びる水平ガイドレール55が図示しない支持部によって取り付けられている。また、この水平ガイドレール55の下方には、ガイドレール50側から順に水(液体)W1を貯留した水槽56と、未使用のスライドガラスGを収納するスライドガラス収納棚57と、作製された薄切片標本Hを収納する収納棚58とが設けられている。   Above the fixed base 10, a horizontal guide rail 55 extending in the same X direction as the guide rail 50 is attached by a support portion (not shown). Also, below the horizontal guide rail 55, a water tank 56 that stores water (liquid) W1 in order from the guide rail 50 side, a slide glass storage shelf 57 that stores unused slide glass G, and a thin film produced. A storage shelf 58 for storing the section specimen H is provided.

また、水平ガイドレール55には、該水平ガイドレール55に沿って移動可能な水平ステージ60が取り付けられている。そして、この水平ステージ60には、Z方向に移動可能であると共に、包埋ブロックBから切り出された薄切片B1を、例えば静電気を利用して先端に吸着可能なアーム部61が取り付けられている。なお、静電気に限られず、吸引力や接着剤等を利用して薄切片B1を捕らえても構わない。
アーム部61は、吸着した薄切片B1を水槽56まで搬送し、貯留された水W1に浮かべるようになっている。即ち、水平ガイドレール55、水平ステージ60及びアーム部61は、上記切片ハンドリング機構14を構成している。
A horizontal stage 60 that is movable along the horizontal guide rail 55 is attached to the horizontal guide rail 55. The horizontal stage 60 is attached with an arm portion 61 that can move in the Z direction and can adsorb the thin slice B1 cut out from the embedding block B to the tip using, for example, static electricity. . In addition, it is not restricted to static electricity, You may capture thin section B1 using a suction force, an adhesive agent, etc.
The arm part 61 conveys the adsorbed thin section B1 to the water tank 56 and floats on the stored water W1. That is, the horizontal guide rail 55, the horizontal stage 60, and the arm portion 61 constitute the section handling mechanism 14.

また、水平ガイドレール55には、上記水平ステージ60、65に加え、該水平ガイドレール55に沿って移動可能な別の水平ステージ65が取り付けられている。なお、この水平ステージ65は、単に水平方向に移動するだけでなく、Z軸回りに回転可能とされている。この水平ステージ65には、Z方向に直交する一軸回りに回転可能な状態でスライドガラス把持ロボット66が取り付けられている。また、スライドガラス把持ロボット66は、一定距離離間した状態で平行に配されると共に互いの距離を接近離間自在に調整可能な一対のアーム部66aを備えている。   In addition to the horizontal stages 60 and 65, another horizontal stage 65 that can move along the horizontal guide rail 55 is attached to the horizontal guide rail 55. The horizontal stage 65 can be rotated not only in the horizontal direction but also around the Z axis. A slide glass gripping robot 66 is attached to the horizontal stage 65 so as to be rotatable around one axis orthogonal to the Z direction. Further, the slide glass gripping robot 66 includes a pair of arm portions 66a that are arranged in parallel in a state of being separated by a certain distance and that can adjust the distance to each other so as to be close to and away from each other.

そしてこれら水平ステージ65及びスライドガラス把持ロボット66をそれぞれ適宜作動させることで、スライドガラス収納棚57から未使用のスライドガラスGを把持すると共に、水槽56内に浮いている薄切片B1を、把持したスライドガラスG上に転写して薄切片標本Hを作製することができるようになっている。更には、作製した薄切片標本Hを収納棚58に収納することもできるようになっている。これについては、後に詳細に説明する。
これら上述した水平ガイドレール55、水平ステージ65及びスライドガラス把持ロボット66は、上記スライドガラスハンドリングロボット5を構成している。なお、本実施形態では、水平ガイドレール55が、切片ハンドリング機構14及びスライドガラスハンドリングロボット5を共に構成する兼用部品となっている。
Then, by operating these horizontal stage 65 and slide glass gripping robot 66 appropriately, the unused slide glass G is gripped from the slide glass storage shelf 57 and the thin slice B1 floating in the water tank 56 is gripped. The thin slice specimen H can be prepared by transferring onto the slide glass G. Further, the prepared thin slice specimen H can be stored in the storage shelf 58. This will be described in detail later.
The above-described horizontal guide rail 55, horizontal stage 65, and slide glass gripping robot 66 constitute the slide glass handling robot 5. In the present embodiment, the horizontal guide rail 55 is a dual-purpose component that constitutes both the section handling mechanism 14 and the slide glass handling robot 5.

また、水槽56とは反対側には、図1、図3及び図4に示すように、ガイドレール50に隣接して、Z方向に延びるZ軸ガイドレール70が取り付けられている。このZ軸ガイドレール70には、該Z軸ガイドレール70に沿って移動可能な昇降ステージ71が取り付けられている。また、昇降ステージ71には、水平方向に延びた水平ガイドレール72が取り付けられている。そして、この水平ガイドレール72に、該水平ガイドレール72に沿って移動可能な水平ステージ73が取り付けられている。なお、水平ステージ73は、単に水平方向に移動するだけでなく、Z軸回りに回転可能とされている。   Further, on the side opposite to the water tank 56, as shown in FIGS. 1, 3, and 4, a Z-axis guide rail 70 extending in the Z direction is attached adjacent to the guide rail 50. An elevating stage 71 movable along the Z-axis guide rail 70 is attached to the Z-axis guide rail 70. A horizontal guide rail 72 extending in the horizontal direction is attached to the lifting stage 71. A horizontal stage 73 that is movable along the horizontal guide rail 72 is attached to the horizontal guide rail 72. The horizontal stage 73 is not only moved in the horizontal direction but also rotatable around the Z axis.

また、水平ステージ73には、一定距離離間した状態で平行に配されると共に、互いの距離を接近離間自在に調整可能な一対のアーム部74aを有する把持ロボット74が取り付けられている。そして、昇降ステージ71、水平ステージ73及び把持ロボット74をそれぞれ適宜作動させることで、包埋ブロックBを固定台10上に搬送することができるようになっている。これについては、後に詳細に説明する。上述したZ軸ガイドレール70、昇降ステージ71、水平ガイドレール72、水平ステージ73及び把持ロボット74は、上記ブロックハンドリングロボット2として機能する。   Further, the horizontal stage 73 is attached with a gripping robot 74 having a pair of arm portions 74a that are arranged in parallel in a state of being spaced apart by a certain distance and that can adjust the distance to each other so as to be freely approached and separated. And the embedding block B can be conveyed on the fixed base 10 by operating the raising / lowering stage 71, the horizontal stage 73, and the holding robot 74 appropriately. This will be described in detail later. The Z-axis guide rail 70, the lifting stage 71, the horizontal guide rail 72, the horizontal stage 73, and the gripping robot 74 described above function as the block handling robot 2.

ところで、図1に示すように、案内管40の先端側には、包埋ブロックBが待機位置に位置しているときに、該包埋ブロックBの表面温度を測定する温度センサ80が設けられている。この温度センサ80は、例えば包埋ブロックBの表面温度を非接触で測定するセンサであり、測定結果を温度調整器27、43にそれぞれ出力している。
また、ガイドレール50には、包埋ブロックBが待機位置に位置しているか否かを検出する位置センサ81が設けられている。この位置センサ81は、例えば光学的に位置を検出するセンサであり、測定結果を制御部82に出力している。一方、制御部82は、位置センサ81から包埋ブロックBが待機位置に位置しているとの信号を受けたときに、水蒸気発生機構20を作動させるようになっている。即ち、エアー供給源35及び開閉制御器36を作動させるようになっている。
By the way, as shown in FIG. 1, a temperature sensor 80 for measuring the surface temperature of the embedding block B when the embedding block B is located at the standby position is provided on the distal end side of the guide tube 40. ing. The temperature sensor 80 is, for example, a sensor that measures the surface temperature of the embedding block B in a non-contact manner, and outputs the measurement results to the temperature regulators 27 and 43, respectively.
The guide rail 50 is provided with a position sensor 81 that detects whether the embedding block B is located at the standby position. The position sensor 81 is a sensor that optically detects a position, for example, and outputs a measurement result to the control unit 82. On the other hand, the control unit 82 operates the water vapor generating mechanism 20 when receiving a signal from the position sensor 81 that the embedding block B is positioned at the standby position. That is, the air supply source 35 and the opening / closing controller 36 are operated.

また、制御部82は、水蒸気発生機構20を作動させた際、所定時間経過した後に、固定台10を待機位置から移動させるように切断機構13を制御するようになっている。これにより、包埋ブロックBの加湿を確実に行った後に、薄切片B1の作製を行うことが可能とされている。   In addition, when the water vapor generating mechanism 20 is operated, the control unit 82 controls the cutting mechanism 13 so that the fixed base 10 is moved from the standby position after a predetermined time has elapsed. Thereby, after the humidification of the embedding block B is performed reliably, it is possible to produce the thin slice B1.

次に、このように構成された自動薄切片標本作製装置1により、包埋ブロックBから数枚の薄切片標本Hを作製する場合について、以下に説明する。
まず、作業者は、包埋ブロックBをブロックハンドリングロボット2の把持ロボット74が有する一対のアーム部74a間に位置させる。すると、把持ロボット74は、図4に示すように、包埋ブロックBが載置されているカセット15を一対のアーム部74aで挟持し、包埋ブロックBを作業者から受け取る。そして、ブロックハンドリングロボット2は、包埋ブロックBを受け取った後、カセット15を挟持したまま昇降ステージ71及び水平ステージ73を適宜作動させて、図3に示すように、包埋ブロックBを固定台10まで搬送して該固定台10上に載置する。
Next, the case where several thin slice specimens H are produced from the embedding block B by the automatic thin slice specimen preparation apparatus 1 configured as described above will be described below.
First, the operator positions the embedding block B between the pair of arm portions 74 a included in the gripping robot 74 of the block handling robot 2. Then, as shown in FIG. 4, the gripping robot 74 holds the cassette 15 on which the embedding block B is placed between the pair of arm portions 74a, and receives the embedding block B from the operator. Then, after receiving the embedded block B, the block handling robot 2 appropriately operates the elevating stage 71 and the horizontal stage 73 while sandwiching the cassette 15 to fix the embedded block B as shown in FIG. 10 to be placed on the fixed base 10.

固定台10上に包埋ブロックBが載置されると、Xステージ51が移動して包埋ブロックBを待機位置にセットする。これと同時に、切片ハンドリング機構14の水平ステージ60が水平ガイドレール55に沿って移動して、アーム部61の先端が包埋ブロックBの切断開始位置近傍に待機した状態となる。
ところで、包埋ブロックBが待機位置にセットされると、位置センサ81が待機位置にセットされたことを検出して、その旨を制御部82に知らせる。制御部82は、これを受けて、エアー供給源35及び開閉制御器36を作動させる。
When the embedding block B is placed on the fixed base 10, the X stage 51 moves to set the embedding block B at the standby position. At the same time, the horizontal stage 60 of the section handling mechanism 14 moves along the horizontal guide rail 55 so that the tip of the arm portion 61 is in a standby state near the cutting start position of the embedding block B.
By the way, when the embedding block B is set at the standby position, it is detected that the position sensor 81 is set at the standby position, and this is notified to the control unit 82. In response to this, the control unit 82 operates the air supply source 35 and the open / close controller 36.

すると、エアー供給源35が配管28の内部にエアーを供給し始めると共に、開閉制御器36が電磁バルブ37を開状態にして、供給されたエアーを配管28の先端に向かって送り込む。そして、供給されたエアーが配管28を通って先端側まで達すると、無数の微小開口28aを通って外部に放出される。これにより、タンク25内に貯留された水中には、無数の気泡Vが発生する。これら無数の気泡Vは、周囲の液体W2と接触するので、両者の間には気液界面が形成される。この際、液体W2はヒータ26によって加熱されているので、液体W2は気液界面を通して気泡Vの内部の気体内に蒸発し、該気体を加湿する。特に、気泡Vは小さく体積に対して表面積が大きくなるので、気泡V内の気体は短時間でほぼ飽和蒸気圧まで加湿される。そのため、無数の気泡Vが水面で弾けることで、タンク25内に所定温度に加熱された水蒸気Eが発生する。   Then, the air supply source 35 starts supplying air to the inside of the pipe 28, and the opening / closing controller 36 opens the electromagnetic valve 37 and sends the supplied air toward the tip of the pipe 28. Then, when the supplied air reaches the tip side through the pipe 28, it is discharged to the outside through a myriad of minute openings 28a. Thereby, countless bubbles V are generated in the water stored in the tank 25. Since these countless bubbles V are in contact with the surrounding liquid W2, a gas-liquid interface is formed between them. At this time, since the liquid W2 is heated by the heater 26, the liquid W2 evaporates into the gas inside the bubble V through the gas-liquid interface and humidifies the gas. In particular, since the bubbles V are small and the surface area is large with respect to the volume, the gas in the bubbles V is humidified to a nearly saturated vapor pressure in a short time. Therefore, the water vapor E heated to a predetermined temperature is generated in the tank 25 by innumerable bubbles V repelling on the water surface.

一方、タンク25内に発生した水蒸気Eは、案内管40を通って該案内管40の先端に向かって進み、包埋ブロックBまで案内される。これにより、図5に示すように、水蒸気Eを包埋ブロックBの表面に当たるように吹き付けることができる。特に、従来のミストとは異なり、気体である水蒸気Eを包埋ブロックBに当てているので、図6に示すように、パラフィン置換されている生体組織Sの表面に空いている微小な罅S1の中に水蒸気Eが容易に入り込む。この際、水蒸気Eは、所定温度に加熱されているので、罅S1の中に入り込んだ後に生体組織Sに接すると、罅S1の内部で結露した状態となる。これにより、生体組織Sを内部から湿らせることができる。その結果、包埋ブロックBを加湿することができる。   On the other hand, the water vapor E generated in the tank 25 advances toward the tip of the guide tube 40 through the guide tube 40 and is guided to the embedding block B. Thereby, as shown in FIG. 5, water vapor E can be sprayed so as to hit the surface of the embedding block B. In particular, unlike the conventional mist, since the vapor E, which is a gas, is applied to the embedding block B, as shown in FIG. 6, the minute ridge S1 that is vacant on the surface of the biological tissue S that has been paraffin-substituted. Water vapor E easily enters the inside. At this time, since the water vapor E is heated to a predetermined temperature, when it enters the heel S1 and comes into contact with the living tissue S, the water vapor E is in a dewed state inside the heel S1. Thereby, the biological tissue S can be moistened from the inside. As a result, the embedding block B can be humidified.

特に、気体である水蒸気Eを利用するので、罅S1が微小であっても水蒸気Eを確実に罅S1の中に入り込ませることができる。従って、短時間で包埋ブロックBを加湿することができる。しかも、罅S1の中に水蒸気Eが入り込むので、少量の水蒸気Eで加湿を十分に行うことが可能である。よって、従来のように過度のミストの蒸発によって引き起こされていた包埋ブロックBの温度低下が生じ難い。従って、包埋ブロックBの熱収縮を防止しながら、該包埋ブロックBを最適な状態に加湿し続けることができる。   In particular, since the water vapor E, which is a gas, is used, the water vapor E can surely enter the soot S1 even if the soot S1 is very small. Therefore, the embedding block B can be humidified in a short time. In addition, since the water vapor E enters the bowl S1, humidification can be sufficiently performed with a small amount of water vapor E. Therefore, the temperature drop of the embedding block B, which has been caused by excessive evaporation of mist as in the past, is unlikely to occur. Therefore, it is possible to continue humidifying the embedded block B to an optimum state while preventing the thermal contraction of the embedded block B.

特に、上述した加湿を行っている間、温度センサ80が包埋ブロックBの表面温度を正確に測定しており、その旨を温度調整器27、43にそれぞれ出力している。温度調整器27は、包埋ブロックBの表面温度に基づいて、ヒータ26の発熱量をコントロールして水蒸気Eの温度が包埋ブロックBの温度よりも2℃程度高い温度になるようにタンク25内の水W2の温度を調整している。これにより、包埋ブロックBの温度よりも過度に高い温度の水蒸気Eを包埋ブロックBに当ててしまうことがない。従って、包埋ブロックBが温度変化してしまうことを抑えつつ、水蒸気Eを利用して包埋ブロックBを確実に加湿することができる。   In particular, during the humidification described above, the temperature sensor 80 accurately measures the surface temperature of the embedding block B, and outputs that effect to the temperature regulators 27 and 43, respectively. The temperature regulator 27 controls the amount of heat generated by the heater 26 based on the surface temperature of the embedding block B, so that the temperature of the water vapor E is about 2 ° C. higher than the temperature of the embedding block B. The temperature of the water W2 inside is adjusted. Thereby, the water vapor E having a temperature that is excessively higher than the temperature of the embedding block B is not applied to the embedding block B. Therefore, the embedding block B can be reliably humidified using the water vapor E while suppressing the temperature change of the embedding block B.

また、同様にエアー調整器30を構成する開閉制御器36は、温度センサ80から送られてくる包埋ブロックBの表面温度に基づいて、電磁バルブ37の開閉度を調整することで、エアーの供給量をコントールしている。つまり、水蒸気Eの発生量を調整している。そのため、包埋ブロックBに過度の水蒸気Eが当たりすぎて温度が変化してしまうことを防止することができる。従って、この点においても包埋ブロックBが温度変化してしまうことを効果的に抑えることができる。   Similarly, the opening / closing controller 36 constituting the air adjuster 30 adjusts the opening / closing degree of the electromagnetic valve 37 based on the surface temperature of the embedding block B sent from the temperature sensor 80, thereby The supply amount is controlled. That is, the amount of water vapor E generated is adjusted. Therefore, it can prevent that the excessive water vapor | steam E hits the embedding block B, and temperature will change. Therefore, also in this respect, it is possible to effectively suppress the temperature change of the embedded block B.

更に、水蒸気Eを包埋ブロックBまで案内する案内管40は、ヒータ41によって加熱されているので、内部を通過する水蒸気Eを加熱することができる。よって、仮に案内管40が長い管路であったとしても、包埋ブロックBに案内されるまでの間に、水蒸気Eの温度が包埋ブロックBの温度よりも低い温度になってしまうことがなく、タンク25内で発生した温度のまま包埋ブロックBに導くことができる。よって、案内管40を自由に設計することができるうえ、包埋ブロックBの加湿を確実に行うことができる。   Further, since the guide tube 40 that guides the water vapor E to the embedding block B is heated by the heater 41, the water vapor E passing through the inside can be heated. Therefore, even if the guide tube 40 is a long pipeline, the temperature of the water vapor E may be lower than the temperature of the embedded block B before being guided to the embedded block B. Instead, the temperature generated in the tank 25 can be guided to the embedding block B. Therefore, the guide tube 40 can be designed freely, and the embedding block B can be reliably humidified.

また、位置センサ81からの信号を受けて、水蒸気発生機構20を作動させて加湿を開始しているので、待機位置に来た包埋ブロックBを速やかに加湿することができると共に、水蒸気発生機構20を無駄に作動させることがない。よって、省電力化を図ることができるうえ、ランニングコストを抑え易い。   In addition, since the humidification is started by operating the water vapor generation mechanism 20 in response to the signal from the position sensor 81, the embedding block B that has reached the standby position can be quickly humidified, and the water vapor generation mechanism. 20 is not operated wastefully. Therefore, power saving can be achieved and the running cost can be easily suppressed.

上述したように、包埋ブロックBは、待機位置にいる間、包埋ブロック加湿装置11によって温度変化がほとんどない状態で最適に加湿されている。
そして、制御部82は、水蒸気発生機構20が作動してから所定時間経過後に、Xステージ51をガイドレール50に沿って待機位置から切断刃12に向かって移動させ、該切断刃12によって包埋ブロックBを所定の厚み(例えば、5μm)でシート状にスライスする。これにより、包埋ブロックBから薄切片B1が切り出される。
As described above, the embedded block B is optimally humidified in the state where there is almost no temperature change by the embedded block humidifier 11 while in the standby position.
Then, the control unit 82 moves the X stage 51 from the standby position toward the cutting blade 12 along the guide rail 50 after the predetermined time has elapsed after the water vapor generating mechanism 20 is activated, and is embedded by the cutting blade 12. The block B is sliced into a sheet with a predetermined thickness (for example, 5 μm). Thereby, the thin slice B1 is cut out from the embedding block B.

一方、包埋ブロックBの切断開始位置近傍に先端が待機したアーム部61は、切断刃12によって包埋ブロックBから切り出され始めた薄切片B1を静電気によって吸着する。そして、Xステージ51の移動に合わせて、アーム部61が取り付けられた水平ステージ60が水平ガイドレール55に沿って動く。これにより、薄切片B1に外力を加えることなく、アーム部61の先端に、薄切片B1を確実に吸着させることができる。   On the other hand, the arm portion 61 whose tip is waiting in the vicinity of the cutting start position of the embedding block B adsorbs the thin slice B1 started to be cut out from the embedding block B by the cutting blade 12 by static electricity. Then, the horizontal stage 60 to which the arm portion 61 is attached moves along the horizontal guide rail 55 in accordance with the movement of the X stage 51. Thereby, the thin slice B1 can be reliably adsorbed to the tip of the arm portion 61 without applying an external force to the thin slice B1.

切片ハンドリング機構14は、アーム部61の先端に薄切片B1を吸着した後、水平ステージ60を移動させて薄切片B1を搬送する。そして、伸展機構4が有する水槽56の上方にアーム部61が達したときに、該アーム部61をZ方向に下降させて先端を水W1の中に入れる。これにより、アーム部61の先端に吸着されていた薄切片B1は、吸着が解かれて水W1に浮かんだ状態となる。水W1に浮かんだ薄切片B1は、表面張力により切断時に生じた皺や丸みが取れて伸び、伸展した状態となる。   The section handling mechanism 14 adsorbs the thin section B1 to the tip of the arm portion 61, and then moves the horizontal stage 60 to transport the thin section B1. And when the arm part 61 reaches above the water tank 56 which the extension mechanism 4 has, this arm part 61 is lowered | hung to a Z direction and a front-end | tip is put in the water W1. As a result, the thin slice B1 that has been adsorbed to the tip of the arm portion 61 is released from the adsorption and floated in the water W1. The thin slice B1 floating in the water W1 is stretched and stretched by removing the wrinkles and roundness generated during cutting due to surface tension.

一方、上述した薄切片B1の切り出し及び搬送に合わせて、スライドガラスハンドリングロボット5は、水平ステージ65及びスライドガラス把持ロボット66を適宜作動させて、スライドガラス収納棚57から未使用のスライドガラスGを1枚取り出し、水槽56の上方にて待機している。
即ち、まず水平ステージ65及びスライドガラス把持ロボット66を適宜作動させて、スライドガラス把持ロボット66の一対のアーム部66aをスライドガラス収納棚57に挿し込ませる。次いで、一対のアーム部66aを互いに接近させるように作動させて、未使用のスライドガラスGを1枚挟み込んで挟持固定する。そして、スライドガラスGを挟持したまま、再度水平ステージ65及びスライドガラス把持ロボット66を適宜作動させて、スライドガラスGを引き出し、水槽56の上方に移動させる。そしてこの状態のまま、水槽56に薄切片B1が搬送されてくるまで待機する。
On the other hand, the slide glass handling robot 5 appropriately operates the horizontal stage 65 and the slide glass gripping robot 66 in accordance with the above-described cutting and transporting of the thin slice B1, and removes the unused slide glass G from the slide glass storage shelf 57. One is taken out and is waiting above the water tank 56.
That is, first, the horizontal stage 65 and the slide glass gripping robot 66 are operated as appropriate, and the pair of arm portions 66 a of the slide glass gripping robot 66 are inserted into the slide glass storage rack 57. Next, the pair of arm portions 66a are operated so as to approach each other, and one unused slide glass G is sandwiched and fixed. Then, while holding the slide glass G, the horizontal stage 65 and the slide glass gripping robot 66 are actuated again as appropriate to pull out the slide glass G and move it above the water tank 56. And it waits until thin section B1 is conveyed by the water tank 56 with this state.

そして、上述したように水槽56内に薄切片B1が搬送されて、水W1に浮かんだ状態が一定時間経過した後、図1に示すように、スライドガラスハンドリングロボット5は、水平ステージ65及びスライドガラス把持ロボット66を適宜作動させて、把持しているスライドガラスGを用いて水W1に浮かんでいる薄切片B1を掬い上げる。これにより薄切片B1は、スライドガラスG上に転写された状態となる。その結果、薄切片標本Hが作製される。最後にスライドガラスハンドリングロボット5は、作製した薄切片標本Hを収納棚58まで搬送し、該収納棚58に入れて保管する。   Then, as described above, after the thin slice B1 is transported into the water tank 56 and the state of floating in the water W1 has passed for a certain period of time, the slide glass handling robot 5 includes the horizontal stage 65 and the slide as shown in FIG. The glass gripping robot 66 is appropriately operated to scoop up the thin slice B1 floating in the water W1 using the gripping slide glass G. As a result, the thin slice B1 is transferred onto the slide glass G. As a result, a thin slice specimen H is produced. Finally, the slide glass handling robot 5 transports the prepared thin section specimen H to the storage shelf 58 and stores it in the storage shelf 58.

上述したように、本実施形態の自動薄切片標本作製装置1によれば、包埋ブロックBから薄切片標本Hを自動的に作製して、作製した薄切片標本Hを収納棚58に保管させることができる。よって、作業者の負担を軽減することができる。また、Xステージ51をXガイドレール50に沿って往復運動させることで、1つの包埋ブロックBから必要な枚数の薄切片B1を自動で作製して、薄切片標本Hを作製することができる。
なお、ブロックハンドリングロボット2は、必要枚数の薄切片B1の作製が終了すると、使用済みの包埋ブロックBを固定台10上から搬送する。これにより作業者は、使用済みの包埋ブロックBを、新しい次の包埋ブロックBに取り替えることができる。そして、上述した各工程を繰り返すことで、次の包埋ブロックBから必要枚数の薄切片標本Hを自動的に作製することができる。
As described above, according to the automatic thin-section specimen preparation apparatus 1 of the present embodiment, the thin-section specimen H is automatically prepared from the embedding block B, and the prepared thin-section specimen H is stored in the storage shelf 58. be able to. Therefore, the burden on the operator can be reduced. Further, by reciprocating the X stage 51 along the X guide rail 50, a necessary number of thin sections B1 can be automatically manufactured from one embedded block B, and a thin section specimen H can be manufactured. .
The block handling robot 2 transports the used embedding block B from the fixed base 10 after the preparation of the required number of thin slices B1 is completed. Thus, the operator can replace the used embedded block B with a new next embedded block B. Then, the necessary number of thin slice specimens H can be automatically produced from the next embedded block B by repeating the steps described above.

特に、本実施形態の自動薄切片標本作製装置1によれば、包埋ブロック加湿装置11を有する自動薄切片作製装置3を備えているので、温度変化がほとんどない状態で最適に加湿された包埋ブロックBから薄切片B1を作製することができる。そのため、厚みのばらつきを抑えて、できるだけ均一な厚みの薄切片B1を作製することができる。よって、高品質な薄切片B1を作製することができる。また、包埋ブロックBを待機位置で短時間に加湿できるので、加湿に費やす時間を短縮でき、スループットを向上することができる。
また、上述した高品質な薄切片B1を利用して薄切片標本Hを作製するので、該薄切片標本Hに関しても高品質なものを作製することができる。よって、この薄切片標本Hを用いた各種の試験や検査等の精度をより高めることができる。
In particular, according to the automatic thin-section sample preparation device 1 of the present embodiment, since the automatic thin-section preparation device 3 having the embedding block humidification device 11 is provided, the package that is optimally humidified with almost no temperature change. A thin slice B1 can be produced from the buried block B. Therefore, it is possible to produce a thin slice B1 having a thickness as uniform as possible while suppressing variations in thickness. Therefore, a high quality thin slice B1 can be produced. Further, since the embedding block B can be humidified in a short time at the standby position, the time spent for humidification can be shortened and the throughput can be improved.
Moreover, since the thin-section sample H is produced using the above-described high-quality thin section B1, a high-quality one can also be produced for the thin-section specimen H. Therefore, the accuracy of various tests and inspections using this thin slice specimen H can be further increased.

(第2実施形態)
次に、本発明に係る第2実施形態を、図7から図11を参照して説明する。なお、この第2実施形態においては、第1実施形態における構成要素と同一の部分については、同一の符号を付しその説明を省略する。
第2実施形態と第1実施形態との異なる点は、第1実施形態では、水蒸気発生機構20で発生した水蒸気Eを常時包埋ブロックBまで案内する構成であったが、第2実施形態では、水蒸気発生機構20で発生した水蒸気Eを一旦溜め込んで蓄積した後、ある程度まとまった量の水蒸気Eを一気に案内することができるように構成されている点である。
(Second Embodiment)
Next, a second embodiment according to the present invention will be described with reference to FIGS. In the second embodiment, the same components as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted.
The difference between the second embodiment and the first embodiment is that in the first embodiment, the water vapor E generated by the water vapor generation mechanism 20 is always guided to the embedding block B, but in the second embodiment, The water vapor E generated by the water vapor generation mechanism 20 is once accumulated and accumulated, and then a certain amount of water vapor E can be guided at a stretch.

即ち、本実施形態の包埋ブロック加湿装置90は、図7及び図8に示すように、水蒸気Eを一旦溜め込む蓄積部92と、溜め込んだ水蒸気Eを蓄積部92の外部に一度に放出させる放出機構93と、を備えた案内機構91を備えている。
蓄積部92は、円筒状に形成されたシリンダーであり、案内管40の途中に介在した状態で取り付けられている。具体的には、蓄積部92の一端側に、タンク25に挿し込まれた側の案内管40と、包埋ブロックBの近傍まで延出している側の案内管40と、がそれぞれ接続されている。つまり、水蒸気発生機構20によって発生した水蒸気Eは、タンク25側から蓄積部92の内部に流入して溜め込まれるようになっている。そして、溜め込まれた水蒸気Eは、放出機構93によって蓄積部92の内部から包埋ブロックBの近傍まで延出している案内管40に押し出されることで、包埋ブロックBに向けて案内されるようになっている。
That is, as shown in FIGS. 7 and 8, the embedding block humidifier 90 of the present embodiment has a storage unit 92 that temporarily stores the water vapor E and a discharge that releases the stored water vapor E to the outside of the storage unit 92 at a time. And a guide mechanism 91 including a mechanism 93.
The accumulation part 92 is a cylinder formed in a cylindrical shape, and is attached in a state of being interposed in the middle of the guide tube 40. Specifically, the guide tube 40 on the side inserted into the tank 25 and the guide tube 40 on the side extending to the vicinity of the embedding block B are connected to one end side of the accumulating portion 92, respectively. Yes. That is, the water vapor E generated by the water vapor generation mechanism 20 flows into the accumulation unit 92 from the tank 25 side and is stored. The accumulated water vapor E is pushed toward the embedded block B by being pushed out by the discharge mechanism 93 to the guide tube 40 extending from the inside of the storage portion 92 to the vicinity of the embedded block B. It has become.

この際、蓄積部92と案内管40との接続部分には、水蒸気Eの流れを一方向に規制する弁94、95がそれぞれ設けられている。このうち、タンク25に挿し込まれた側の案内管40と蓄積部92との接続部分に設けられた弁94は、蓄積部92の内部に水蒸気Eが流入することを許容すると共に、蓄積部92からタンク25側に水蒸気Eが流出することを規制するように取り付けられている。これにより、水蒸気Eを蓄積部92内に確実に流れ込ませることができると共に、蓄積した水蒸気Eを放出する際にタンク25側に逆流してしまうことを防止することができるようになっている。
一方、包埋ブロックBの近傍まで延出した側の案内管40と蓄積部92との接続部分に設けられた弁95は、蓄積部92から包埋ブロックB側に水蒸気Eが流出することを許容すると共に、外部から蓄積部92の内部に水蒸気Eが流入することを規制するように取り付けられている。これにより、水蒸気Eを蓄積部92内に確実に溜め込むことができると共に、蓄積した水蒸気Eを包埋ブロックB側に確実に放出することができるようになっている。
At this time, valves 94 and 95 for restricting the flow of the water vapor E in one direction are provided at the connection portion between the storage portion 92 and the guide tube 40, respectively. Among these, the valve 94 provided at the connecting portion between the guide tube 40 on the side inserted into the tank 25 and the accumulating portion 92 allows the water vapor E to flow into the accumulating portion 92 and the accumulating portion. It is attached so as to regulate the outflow of water vapor E from 92 to the tank 25 side. Thus, the water vapor E can surely flow into the accumulating portion 92, and can be prevented from flowing back to the tank 25 side when the accumulated water vapor E is discharged.
On the other hand, the valve 95 provided in the connecting portion between the guide tube 40 on the side extending to the vicinity of the embedding block B and the accumulating portion 92 allows water vapor E to flow out from the accumulating portion 92 to the embedding block B side. While being allowed, it is attached so as to restrict the water vapor E from flowing into the storage portion 92 from the outside. Thus, the water vapor E can be reliably accumulated in the accumulating portion 92, and the accumulated water vapor E can be reliably discharged to the embedding block B side.

このように構成された蓄積部92の内部には、ピストン軸96aが蓄積部92の他端側から挿し込まれたピストン96が移動可能に収容されている。ピストン軸96aには、図8及び図9に示すように、モータMによって回転軸L回りに回転するプーリー97に巻回されたワイヤ98が接続されている。これにより、モータMを回転駆動することで、ピストン96を引き込んで蓄積部92の内部に水蒸気Eを溜め込むことができるようになっている。なお、蓄積部92は、内部に1Lから5L程度の水蒸気Eを溜め込むことが可能とされている。   A piston 96 in which a piston shaft 96a is inserted from the other end side of the storage unit 92 is movably accommodated inside the storage unit 92 configured as described above. As shown in FIGS. 8 and 9, a wire 98 wound around a pulley 97 that rotates around a rotation axis L by a motor M is connected to the piston shaft 96 a. Thus, by rotating the motor M, the piston 96 can be drawn and the water vapor E can be stored inside the accumulating portion 92. The accumulation unit 92 is capable of storing about 1 L to 5 L of water vapor E therein.

ところで、モータMとプーリー97との間には、両者の連結を解除可能なクラッチ99が取り付けられており、任意のタイミングでプーリー97をモータMから切り離すことができるようになっている。また、ピストン96と蓄積部92との間にはコイルバネ100が設けられており、ピストン96を蓄積部92の一端側に向けて常時付勢している。よって、プーリー97をモータMから切り離すことで、ピストン96をコイルバネ100によるバネ力を利用して蓄積部92の一端側に押し出すことができるようになっている。これにより、蓄積部92の内部に溜め込んだ水蒸気Eを、蓄積部92の外部に一度に放出することが可能とされている。
つまり、上述したピストン96、プーリー97、ワイヤ98、モータM、クラッチ99及びコイルバネ100は、溜め込んだ水蒸気Eを蓄積部92の外部に一度に放出させる放出機構93として機能する。
By the way, a clutch 99 capable of releasing the connection between the motor M and the pulley 97 is attached, so that the pulley 97 can be separated from the motor M at an arbitrary timing. In addition, a coil spring 100 is provided between the piston 96 and the accumulating portion 92, and the piston 96 is constantly urged toward one end side of the accumulating portion 92. Therefore, by separating the pulley 97 from the motor M, the piston 96 can be pushed out to one end side of the accumulating portion 92 using the spring force of the coil spring 100. Thereby, it is possible to discharge the water vapor E accumulated in the accumulation unit 92 to the outside of the accumulation unit 92 at a time.
That is, the piston 96, the pulley 97, the wire 98, the motor M, the clutch 99, and the coil spring 100 described above function as a discharge mechanism 93 that discharges the accumulated water vapor E to the outside of the accumulation unit 92 at a time.

また、本実施形態の制御部82は、モータMの作動タイミングや、クラッチ99によるモータMとプーリー97との切り離しタイミングを制御している。   Further, the control unit 82 of the present embodiment controls the operation timing of the motor M and the separation timing of the motor M and the pulley 97 by the clutch 99.

このように構成された包埋ブロック加湿装置90を備えている場合には、包埋ブロックBが待機位置にセットされる前に、制御部82がエアー供給源35及び開閉制御器36を作動させる。すると、エアー供給源35が配管28の内部にエアーを供給し始めると共に、開閉制御器36が電磁バルブ37を開状態にして、供給されたエアーを配管28の先端に向かって送り込む。これにより、図7に示すように、タンク25内に水蒸気Eが発生し、案内管40に流れ込む。
また、これと同時に制御部82はモータMを駆動させてプーリー97を回転させる。すると、ワイヤ98が巻かれるので、ピストン軸96aを介してピストン96が引き込まれ、蓄積部92の他端側に移動する。この際、ピストン96を引く速さは、水蒸気Eが発生して流れる流量(例えば、1〜5L/min)に略一致させることが好ましい。
When the embedded block humidifying device 90 configured as described above is provided, the control unit 82 operates the air supply source 35 and the open / close controller 36 before the embedded block B is set at the standby position. . Then, the air supply source 35 starts supplying air to the inside of the pipe 28, and the opening / closing controller 36 opens the electromagnetic valve 37 and sends the supplied air toward the tip of the pipe 28. As a result, as shown in FIG. 7, water vapor E is generated in the tank 25 and flows into the guide tube 40.
At the same time, the controller 82 drives the motor M to rotate the pulley 97. Then, since the wire 98 is wound, the piston 96 is drawn through the piston shaft 96a and moves to the other end side of the accumulating portion 92. At this time, it is preferable that the speed at which the piston 96 is pulled is substantially equal to the flow rate (for example, 1 to 5 L / min) generated and generated by the water vapor E.

ピストン96が引き込まれると、タンク25内に挿し込まれた案内管40から蓄積部92内に水蒸気Eが流れ込む。これにより、蓄積部92内に水蒸気Eを一旦溜め込んで蓄積することができる。そして、蓄積部92の容積までピストン96を引き終わったら、制御部82はモータMを停止すると共に電磁バルブ37を閉じさせる。なお、蓄積部92の内部は若干負圧になっているので、弁95は閉じている。そのため、蓄積されている水蒸気Eが、漏れてしまうことがない。   When the piston 96 is retracted, the water vapor E flows into the storage portion 92 from the guide tube 40 inserted into the tank 25. Thereby, the water vapor E can be temporarily accumulated in the accumulating portion 92 and accumulated. When the piston 96 has been pulled to the capacity of the storage unit 92, the control unit 82 stops the motor M and closes the electromagnetic valve 37. In addition, since the inside of the accumulation | storage part 92 is a little negative pressure, the valve 95 is closed. Therefore, the accumulated water vapor E does not leak.

このような状態において、包埋ブロックBが待機位置にセットされると、制御部82はクラッチ99を切ってモータMとプーリー97との連結を切り離す。すると、ピストン96は、コイルバネ100によるバネ力によって付勢されるので、蓄積部92の一端側に向けて一気に押し出される。これにより、蓄積された水蒸気Eは、弁95を通過して蓄積部92の外部に一度に放出される。なお、この際、弁94は閉じているので、タンク25側に水蒸気Eが逆流してしまうことはない。
そして、放出された水蒸気Eは、案内管40を通って包埋ブロックBに案内される。これにより、ある程度まとまった水蒸気Eを包埋ブロックBに供給できるので、より短時間で加湿を行うことができる。従って、スループットを向上することができ、第1実施形態の場合よりも効率良く薄切片を作製することができる。
In such a state, when the embedding block B is set at the standby position, the control unit 82 disconnects the clutch 99 and disconnects the motor M and the pulley 97. Then, since the piston 96 is biased by the spring force of the coil spring 100, the piston 96 is pushed out toward the one end side of the accumulating portion 92 at a stretch. As a result, the accumulated water vapor E passes through the valve 95 and is discharged to the outside of the accumulation unit 92 at a time. At this time, since the valve 94 is closed, the water vapor E does not flow backward to the tank 25 side.
The discharged water vapor E is guided to the embedding block B through the guide tube 40. Thereby, since the steam E collected to some extent can be supplied to the embedding block B, humidification can be performed in a shorter time. Therefore, the throughput can be improved, and a thin slice can be produced more efficiently than in the case of the first embodiment.

なお、本実施形態において、蓄積部92を熱導電性の低い材料で形成したり、断熱材で蓄積部92を覆う等の工夫をしたりして、蓄積部92をできるだけ断熱することが好ましい。こうすることで、水蒸気Eを溜め込んでいる際に、水蒸気Eの温度が低下してしまうことを極力防止することができる。   In the present embodiment, it is preferable to insulate the storage part 92 as much as possible by forming the storage part 92 with a material having low thermal conductivity or by devising the storage part 92 with a heat insulating material. By doing so, it is possible to prevent the temperature of the water vapor E from being lowered as much as possible when the water vapor E is stored.

なお、上記第2実施形態において、第1実施形態と同様に案内管40の途中(蓄積部92とタンク25との途中)にヒータ41が内蔵されたラバーヒータ42等を設けても構わない。   In the second embodiment, a rubber heater 42 with a built-in heater 41 may be provided in the middle of the guide tube 40 (in the middle of the storage portion 92 and the tank 25), as in the first embodiment.

また、上記第2実施形態では、蓄積部92の一例としてシリンダータイプを例に挙げて説明したが、この場合に限定されるものではない。
例えば、図10に示すように、蓄積部92が可撓性の収容体であっても構わない。この場合であっても、内部に水蒸気Eを溜め込むことができる。また、この場合には、収容体である蓄積部92を挟み込んで押し潰すことができるように放出機構93を構成すれば良い。こうすることで、やはり溜め込んだ水蒸気Eを一度に放出することができる。よって、同様の作用効果を奏することができる。
Moreover, in the said 2nd Embodiment, although the cylinder type was mentioned as an example as an example of the storage part 92, it is not limited to this case.
For example, as shown in FIG. 10, the storage unit 92 may be a flexible container. Even in this case, the water vapor E can be stored inside. In this case, the discharge mechanism 93 may be configured so that the accumulating portion 92 that is a container can be sandwiched and crushed. By doing so, the accumulated water vapor E can be discharged at once. Therefore, the same operation effect can be produced.

更には、図11に示すように、蓄積部92を、軸方向に伸張可能な蛇腹状に構成しても構わない。この場合には、蓄積部92の他端側をワイヤ98で引っ張ることで水蒸気Eを内部に蓄積することができる。そして、クラッチ99を切ってモータMとプーリー97との連結を切り離すと、蓄積部92は蛇腹の収縮力によって自然と縮まるので、やはり溜め込んだ水蒸気Eを一度に放出することができる。よって、同様の作用効果を奏することができる。   Furthermore, as shown in FIG. 11, the storage unit 92 may be configured in a bellows shape that can extend in the axial direction. In this case, the water vapor E can be stored inside by pulling the other end side of the storage unit 92 with the wire 98. When the clutch 99 is disengaged and the connection between the motor M and the pulley 97 is disconnected, the accumulating portion 92 is naturally contracted by the contraction force of the bellows, so that the accumulated water vapor E can be discharged at once. Therefore, the same operation effect can be produced.

なお、本発明の技術範囲は上記実施の形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加える   The technical scope of the present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications are made without departing from the spirit of the present invention.

例えば、上記各実施形態では、伸展機構4として水W1を貯留する水槽56を設けただけの構成にしたが、この場合に限られるものではない。例えば、水槽56に隣接して、お湯を貯留する水槽と、ホットプレートとを設けた伸展機構4としても構わない。
この場合には、スライドガラスハンドリングロボット5によって、水伸展が終了した薄切片B1をスライドガラスG上に載置した後、該薄切片B1をお湯が貯留されている別の水槽に搬送してお湯に浮かべる。このお湯伸展によって、薄切片B1が伸び易くなるので、水W1による伸展では取り切れなかった残りの皺や丸み等を取ることができる。よって、さらに高品質な薄切片標本Hを作製することができる。
For example, in each said embodiment, although it was set as the structure which only provided the water tank 56 which stores the water W1 as the extension mechanism 4, it is not restricted to this case. For example, the extension mechanism 4 provided with a water tank for storing hot water and a hot plate adjacent to the water tank 56 may be used.
In this case, the slide glass handling robot 5 places the thin slice B1 on which the water has been extended on the slide glass G, and then transports the thin slice B1 to another water tank in which hot water is stored. Float in. Since the thin slice B1 is easily stretched by this hot water stretching, the remaining wrinkles, roundness, etc. that could not be removed by the stretching with the water W1 can be removed. Therefore, a further high quality thin slice specimen H can be produced.

更に、このお湯伸展後、薄切片B1を載置したスライドガラスGをホットプレート上に載置することで、スライドガラスGを通して薄切片B1にさらに熱を加えることができる。これにより、お湯伸展で取り切れなかった皺や丸み等をさらに取ることができる。このように、お湯が貯留された水槽及びホットプレートを設けることで、より高品質な薄切片標本Hを作製できるので、より好ましい。   Furthermore, after extending the hot water, by placing the slide glass G on which the thin slice B1 is placed on a hot plate, the thin slice B1 can be further heated through the slide glass G. As a result, it is possible to further remove wrinkles, roundness, etc. that could not be removed by hot water spreading. Thus, it is more preferable to provide a high-quality thin slice specimen H by providing a water tank and hot plate in which hot water is stored.

本発明に係る第1実施形態の自動薄切片標本作製装置を示す構成図である。It is a block diagram which shows the automatic sliced piece preparation apparatus of 1st Embodiment which concerns on this invention. 図1に示す自動薄切片標本作製装置で使用される包埋ブロックの斜視図である。It is a perspective view of the embedding block used with the automatic thin section sample preparation apparatus shown in FIG. 図1に示す自動薄切片標本作製装置のブロックハンドリングロボットを示す側面図である。It is a side view which shows the block handling robot of the automatic thin section sample preparation apparatus shown in FIG. 図3に示すブロックハンドリングロボットの上面図である。FIG. 4 is a top view of the block handling robot shown in FIG. 3. 図1に示す自動薄切片標本作製装置を構成する包埋ブロック加湿装置により、包埋ブロックの表面に水蒸気を当てている状態を示す図である。It is a figure which shows the state which is applying the water vapor | steam to the surface of an embedding block by the embedding block humidification apparatus which comprises the automatic thin section sample preparation apparatus shown in FIG. 図5に示す包埋ブロックの表面を拡大した図であって、生体組織の表面に空いた微小な罅の中に水蒸気が入り込んでいる状態を示す図である。It is the figure which expanded the surface of the embedding block shown in FIG. 5, Comprising: It is a figure which shows the state into which the water vapor | steam has penetrated in the micro sputum vacated on the surface of the biological tissue. 本発明に係る第2実施形態の自動薄切片標本作製装置を示す構成図である。It is a block diagram which shows the automatic thin slice sample preparation apparatus of 2nd Embodiment which concerns on this invention. 図7に示す自動薄切片標本作製装置を構成する包埋ブロック加湿装置の一部拡大図である。FIG. 8 is a partially enlarged view of an embedding block humidifying device that constitutes the automatic thin-section specimen preparation device shown in FIG. 7. 図8に示す包埋ブロック加湿装置を構成するプーリーとクラッチとモータとの関係を示す図である。It is a figure which shows the relationship between the pulley which comprises the embedding block humidification apparatus shown in FIG. 8, a clutch, and a motor. 図8に示す包埋ブロック加湿装置の変形例を示す図である。It is a figure which shows the modification of the embedding block humidification apparatus shown in FIG. 図8に示す包埋ブロック加湿装置の別の変形例を示す図である。It is a figure which shows another modification of the embedding block humidification apparatus shown in FIG. 包埋ブロックの表面を拡大した図である。It is the figure which expanded the surface of the embedding block. 従来の加湿方法を説明するための図であって、図12に示す包埋ブロックの表面にミスト(霧状の水滴)を付着させた状態を示す図である。It is a figure for demonstrating the conventional humidification method, Comprising: It is a figure which shows the state which made mist (mist-like water droplet) adhere to the surface of the embedding block shown in FIG.

符号の説明Explanation of symbols

B…包埋ブロック
E…水蒸気
G…スライドガラス(基板)
H…薄切片標本
S…生体組織(生体試料)
W1…水槽内の水(液体)
W2…タンク内の水(液体)
1…自動薄切片標本作製装置
2…ブロックハンドリングロボット(ブロック搬送機構)
3…自動薄切片作製装置
4…伸展機構
5…スライドガラスハンドリングロボット(転写機構)
10…固定台
11、90…包埋ブロック加湿装置
12…切断刃
13…切断機構
14…切片ハンドリング機構(薄切片搬送機構)
20…水蒸気発生機構
21、91…案内機構
25…タンク
26…ヒータ(液体用ヒータ)
27…温度調整器(ヒータ温度調整器)
28…配管
29…気泡発生機構
30…エアー調整器
40…案内管
41…ヒータ(案内管用ヒータ)
43…温度調整器(案内管温度調整器)
80…温度センサ(センサ)
81…位置センサ
82…制御部
92…蓄積部
93…放出機構
B ... Embedded block E ... Water vapor G ... Slide glass (substrate)
H ... Thin section specimen S ... Biological tissue (biological sample)
W1 ... Water (liquid) in the tank
W2 ... Water (liquid) in the tank
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Automatic thin section sample preparation apparatus 2 ... Block handling robot (block conveyance mechanism)
3 ... Automatic thin section preparation device 4 ... Extension mechanism 5 ... Slide glass handling robot (transfer mechanism)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Fixed stand 11, 90 ... Embedding block humidifier 12 ... Cutting blade 13 ... Cutting mechanism 14 ... Section handling mechanism (thin section conveyance mechanism)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 20 ... Water vapor generation mechanism 21, 91 ... Guide mechanism 25 ... Tank 26 ... Heater (heater for liquids)
27 ... Temperature controller (heater temperature controller)
28 ... Piping 29 ... Bubble generation mechanism 30 ... Air regulator 40 ... Guiding tube 41 ... Heater (heater for guiding tube)
43 ... Temperature adjuster (guide tube temperature adjuster)
80 ... Temperature sensor (sensor)
81: Position sensor 82 ... Control unit 92 ... Storage unit 93 ... Release mechanism

Claims (10)

生体試料が包埋剤に包埋された包埋ブロックを加湿する包埋ブロック加湿装置であって、
所定温度に加熱された水蒸気を発生させる水蒸気発生機構と、
発生した前記水蒸気が予め決められた待機位置にセットされた前記包埋ブロックの表面に当たるように、該水蒸気を包埋ブロックまで案内する案内機構と、を備えていることを特徴とする包埋ブロック加湿装置。
An embedding block humidifying device for humidifying an embedding block in which a biological sample is embedded in an embedding agent,
A water vapor generating mechanism for generating water vapor heated to a predetermined temperature;
An embedding block comprising: a guide mechanism for guiding the water vapor to the embedding block so that the generated water vapor hits the surface of the embedding block set at a predetermined standby position. Humidifier.
請求項1に記載の包埋ブロック加湿装置において、
前記水蒸気発生機構は、液体が貯留されたタンクと、
前記液体を加熱する液体用ヒータと、
該液体用ヒータの温度を調整するヒータ温度調整器と、
前記液体に浸かるように前記タンク内に挿し込まれた配管を有し、該配管にエアーを供給して配管の先端から無数の気泡を液体中に発生させる気泡発生機構と、
前記エアーの供給量を調整するエアー調整器と、を備えていることを特徴とする包埋ブロック加湿装置。
In the embedding block humidification device according to claim 1,
The water vapor generation mechanism includes a tank in which a liquid is stored,
A liquid heater for heating the liquid;
A heater temperature controller for adjusting the temperature of the liquid heater;
A bubble generation mechanism having a pipe inserted into the tank so as to be immersed in the liquid, supplying air to the pipe and generating innumerable bubbles in the liquid from the tip of the pipe;
An embedding block humidifier comprising an air adjuster for adjusting the air supply amount.
請求項2に記載の包埋ブロック加湿装置において、
前記包埋ブロックの表面温度を測定するセンサを備え、
前記ヒータ温度調整器は、発生する前記水蒸気の温度が、前記センサで測定された前記包埋ブロックの温度よりも予め決められた温度だけ高くなるように、前記液体用ヒータの温度を調整することを特徴とする包埋ブロック加湿装置。
In the embedding block humidification device according to claim 2,
Comprising a sensor for measuring the surface temperature of the embedding block;
The heater temperature adjuster adjusts the temperature of the liquid heater so that the temperature of the generated water vapor is higher by a predetermined temperature than the temperature of the embedding block measured by the sensor. An embedding block humidifier characterized by.
請求項3に記載の包埋ブロック加湿装置において、
前記エアー調整器は、前記センサで測定された前記包埋ブロックの温度に基づいて、前記エアーの供給量を調整することを特徴とする包埋ブロック加湿装置。
In the embedding block humidification device according to claim 3,
The embedding block humidification device, wherein the air adjuster adjusts the supply amount of the air based on the temperature of the embedding block measured by the sensor.
請求項1から4のいずれか1項に記載の包埋ブロック加湿装置において、
前記案内機構は、前記水蒸気を前記包埋ブロックまで案内する案内管と、
該案内管を加熱する案内管用ヒータと、
該案内管用ヒータの温度を調整する案内管温度調整器と、を備えていることを特徴とする包埋ブロック加湿装置。
In the embedding block humidification device according to any one of claims 1 to 4,
The guide mechanism includes a guide tube that guides the water vapor to the embedded block;
A guide tube heater for heating the guide tube;
An embedding block humidifier comprising a guide tube temperature controller for adjusting the temperature of the guide tube heater.
請求項1項に記載の包埋ブロック加湿装置において、
前記案内機構は、前記水蒸気を一旦溜め込む蓄積部と、溜め込んだ水蒸気を蓄積部の外部に一度に放出させる放出機構と、を備え、
放出した前記水蒸気を前記包埋ブロックに案内することを特徴とする包埋ブロック加湿装置。
In the embedding block humidification device according to claim 1,
The guide mechanism includes a storage unit that temporarily stores the water vapor, and a discharge mechanism that discharges the stored water vapor to the outside of the storage unit at a time,
An embedding block humidifying device characterized by guiding the released water vapor to the embedding block.
請求項1から6のいずれか1項に記載の包埋ブロック加湿装置と、
前記包埋ブロックを載置固定する固定台と、
前記待機位置から離間した位置に配置された切断刃を有し、待機位置と切断刃との間で前記固定台を移動させ、前記包埋ブロックを所定の厚みで切断して薄切片を切り出す切断機構と、
切り出された前記薄切片を搬送する薄切片搬送機構と、を備えていることを特徴とする自動薄切片作製装置。
The embedding block humidification device according to any one of claims 1 to 6,
A fixing base for mounting and fixing the embedded block;
Cutting that has a cutting blade arranged at a position spaced from the standby position, moves the fixed base between the standby position and the cutting blade, cuts the embedded block at a predetermined thickness, and cuts out a thin section Mechanism,
An automatic thin-section preparation apparatus, comprising: a thin-section transport mechanism that transports the cut-out thin section.
請求項7に記載の自動薄切片作製装置において、
前記包埋ブロックが前記待機位置に位置しているか否かを検出する位置センサと、
前記包埋ブロックが前記待機位置に位置していると前記位置センサが検出したときに、前記水蒸気発生機構を作動させる制御部と、を備えていることを特徴とする自動薄切片作製装置。
In the automatic sliced piece preparation apparatus according to claim 7,
A position sensor for detecting whether or not the embedding block is located at the standby position;
An automatic thin section manufacturing apparatus comprising: a control unit that operates the water vapor generating mechanism when the position sensor detects that the embedded block is positioned at the standby position.
請求項7又は8に記載の自動薄切片作製装置において、
前記切断機構は、前記水蒸気発生機構が作動してから所定時間経過後に、前記固定台を移動させることを特徴とする自動薄切片作製装置。
In the automatic thin section preparation apparatus according to claim 7 or 8,
The automatic thin-section manufacturing apparatus, wherein the cutting mechanism moves the fixed base after a predetermined time has elapsed since the water vapor generating mechanism is activated.
請求項7から9のいずれか1項に記載の自動薄切片作製装置と、
前記包埋ブロックを前記固定台上に搬送するブロック搬送機構と、
前記薄切片搬送機構によって搬送された前記薄切片を、少なくとも液体に浮かべて伸展させる伸展機構と、
伸展された前記薄切片を、基板上に転写させて薄切片標本を作製する転写機構と、を備えていることを特徴とする自動薄切片標本作製装置。
An automatic thin-section preparation apparatus according to any one of claims 7 to 9,
A block transport mechanism for transporting the embedded block onto the fixed table;
An extension mechanism that floats and extends at least the thin section conveyed by the thin section transport mechanism;
An automatic thin-section specimen preparation apparatus, comprising: a transfer mechanism that transfers the extended thin section onto a substrate to prepare a thin-section specimen.
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