JP2009146733A - Organic electroluminescence device manufacturing method, and organic electroluminescence device - Google Patents

Organic electroluminescence device manufacturing method, and organic electroluminescence device Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an organic EL device manufacturing method for laminating a first substrate and a second substrate on each other via a first seal material which is applied to a peripheral region in a framed shape and a second seal material which is filled in a region encircled by the first seal material, while surely preventing the second seal material from breaking through the first seal material, and to provide an organic EL device manufactured using the same. <P>SOLUTION: The manufacturing method for the organic EL device 100 where a reinforcing protrusion 95 is formed in a peripheral region 10c of the first substrate 10 comprises a first seal material applying step of applying the ultraviolet-curable first seal material 91a along the peripheral region 10c, a second seal material applying step of applying the heat-curable second seal material 92a in the region encircled by the first seal material 91a, a laying step of laying the first substrate 10 and the second substrate 20 on each other to hold the first seal material 91a and the second seal material 92a therebetween, and a seal material curing step of curing the first seal material 91a and the second seal material 92a. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、有機エレクトロルミネッセンス(以下有機ELという)装置の製造方法、および当該方法で製造した有機EL装置に関するものである。   The present invention relates to a method for manufacturing an organic electroluminescence (hereinafter referred to as organic EL) device, and an organic EL device manufactured by the method.

有機EL装置は、陽極、有機機能層および陰極が積層された有機EL素子を基板上に備えており、低電圧で電子注入効果を高めることを目的に、発光機能層と陰極との層間に、アルカリ金属やアルカリ土類金属を主成分とする電子注入層が配置される場合もある。このような有機EL素子に用いられる有機機能層や、陰極、電子注入層は、非常に活性であるため、大気中に存在する水分と簡単に反応して変質しやすい。かかる変質が起こると、電子注入効果が損なわれ、ダークスポットと呼ばれる非発光部分が発生してしまう。   The organic EL device includes an organic EL element on which a positive electrode, an organic functional layer, and a cathode are stacked on a substrate. For the purpose of enhancing the electron injection effect at a low voltage, between the light emitting functional layer and the cathode, In some cases, an electron injection layer mainly composed of an alkali metal or an alkaline earth metal is disposed. Since the organic functional layer, the cathode, and the electron injection layer used in such an organic EL element are very active, they easily react with moisture present in the atmosphere and are easily altered. When such alteration occurs, the electron injection effect is impaired, and a non-light emitting portion called a dark spot is generated.

そこで、従来は、水分を遮断するガラスなどからなる蓋状のカバーの側板部を接着剤で基板に取り付けて中空構造とするとともに、中空部分に乾燥剤を配置し、接着剤断面から侵入する水分については乾燥剤で捕捉して有機EL素子に到達させない構造が提案されている(特許文献1参照)。   Therefore, conventionally, the side plate part of a lid-like cover made of glass or the like that blocks moisture is attached to the substrate with an adhesive to form a hollow structure, and a desiccant is placed in the hollow part to penetrate moisture from the adhesive cross section. Has been proposed for a structure that does not reach the organic EL element by being trapped with a desiccant (see Patent Document 1).

また、封止基板の周辺領域にUV硬化性樹脂を枠状に塗布した後、真空中でUV硬化性樹脂で囲まれた領域内にシリコンオイルを充填し、次に、真空中で有機EL素子が形成された基板と封止基板とを重ね合わせ、しかる後に、UV硬化性樹脂を硬化させて基板同士を貼り合せる技術も提案されている(特許文献2参照)。
特開2003−223992号公報 特開2003−173868号公報
In addition, after a UV curable resin is applied in a frame shape to the peripheral region of the sealing substrate, silicon oil is filled in a region surrounded by the UV curable resin in a vacuum, and then the organic EL element is vacuumed. There has also been proposed a technique in which a substrate on which the substrate is formed and a sealing substrate are overlapped, and then the substrates are bonded together by curing a UV curable resin (see Patent Document 2).
Japanese Patent Laid-Open No. 2003-2231992 JP 2003-173868 A

しかしながら、特許文献1に開示のように、蓋状のカバーの側板部を接着剤で基板に取り付けるとともに、その中空部分に乾燥剤を配置した構造は、強度面やコスト面でも大きな問題がある。また、特許文献2に開示のように、基板同士を真空中で重ね合わせた後、UV硬化性樹脂を硬化させる方法では、真空状態から大気圧状態に移行した際、シリコンオイルが未硬化のUV硬化性樹脂を外側に加圧し、シリコンオイルがUV硬化性樹脂を突き破って外側に漏れてしまうという問題点がある。   However, as disclosed in Patent Document 1, the structure in which the side plate portion of the lid-like cover is attached to the substrate with an adhesive and the desiccant is disposed in the hollow portion has significant problems in terms of strength and cost. Further, as disclosed in Patent Document 2, in the method of curing the UV curable resin after stacking the substrates in a vacuum, the silicon oil is uncured UV when the vacuum state is changed to the atmospheric pressure state. There is a problem in that the curable resin is pressurized to the outside and the silicone oil breaks through the UV curable resin and leaks to the outside.

ここに、本願発明者は、2枚の基板を貼り合せるにあたって、図12(a)に示すように、基板の周辺領域に第1シール材91aを枠状に塗布した後、第1シール材91aで囲まれた領域内に第2シール材92aを塗布し、次に、図12(b)に示すように、基板同士を重ね合わせて第2シール材92aを基板間で展開させ、この状態で、第1シール材91aおよび第2シール材92aを硬化させて基板同士を貼り合せることを提案するものである。   Here, in bonding the two substrates, as shown in FIG. 12A, the inventor of the present application applied the first sealing material 91a in a frame shape to the peripheral region of the substrate, and then the first sealing material 91a. The second sealing material 92a is applied to the region surrounded by the substrate, and then, as shown in FIG. 12 (b), the substrates are overlapped to expand the second sealing material 92a between the substrates. The first sealing material 91a and the second sealing material 92a are cured and the substrates are bonded to each other.

しかしながら、かかる構成を採用した場合も、特許文献2に開示の構成と同様、図12(c)に示すように、第2シール材92aを基板間で展開させる際、図12(d)に示すように、第2シール材92aが未硬化の第1シール材91aを加圧し、第1シール材91aを突き破ってしまうという問題に直面している。   However, even when such a configuration is adopted, as shown in FIG. 12C, as shown in FIG. 12C, when the second sealing material 92a is deployed between the substrates, as shown in FIG. As described above, the second sealing material 92a presses the uncured first sealing material 91a and faces the problem of breaking through the first sealing material 91a.

かかる問題点に鑑みて、本発明の課題は、周辺領域に枠状に塗布した第1シール材と、この第1シール材で囲まれた領域内に充填した第2シール材とによって第1基板と第2基板とを貼り合せる際、第2シール材が第1シール材を突き破ってしまうことを確実に防止可能な有機EL装置の製造方法、およびかかる方法で製造した有機EL装置を提供することにある。   In view of such problems, an object of the present invention is to provide a first substrate by a first sealing material applied in a frame shape to a peripheral region and a second sealing material filled in a region surrounded by the first sealing material. A method for manufacturing an organic EL device capable of reliably preventing the second sealing material from breaking through the first sealing material when bonding the substrate and the second substrate, and an organic EL device manufactured by such a method are provided. It is in.

上記課題を解決するために、本発明では、第1電極層、有機機能層および第2電極層を備えた有機EL素子が画素領域に複数配列された第1基板と、該第1基板において前記有機EL素子が形成されている面側に貼り合わされた第2基板と、を有する有機EL装置の製造方法において、前記第1基板と前記第2基板とを貼り合せるにあたっては、前記第1基板または/および前記第2基板において前記画素領域を囲む周辺領域に沿って、一方の基板から他方の基板に向けて突出する補強用突起を形成しておき、前記補強用突起に沿って第1シール材を塗布する第1シール材塗布工程と、前記第1シール材で囲まれた領域内に第2シール材を塗布する第2シール材塗布工程と、前記第1シール材および前記第2シール材を間に挟むように前記第1基板と前記第2基板とを重ね合わせる重ね合わせ工程と、前記第1シール材および前記第2シール材を硬化させるシール材硬化工程と、を行なうことを特徴とする。   In order to solve the above problems, in the present invention, a first substrate in which a plurality of organic EL elements each including a first electrode layer, an organic functional layer, and a second electrode layer are arranged in a pixel region; In the manufacturing method of the organic EL device having the second substrate bonded to the surface side on which the organic EL element is formed, the first substrate or the second substrate is bonded to the first substrate or the second substrate. And / or a reinforcing projection that protrudes from one substrate toward the other substrate along a peripheral region surrounding the pixel region in the second substrate, and the first sealing material is formed along the reinforcing projection. A first sealing material application step, a second sealing material application step in which a second sealing material is applied in a region surrounded by the first sealing material, and the first sealing material and the second sealing material. The first so as to sandwich And overlaying step of overlaying the substrate and the second substrate, and performing a sealing material curing step of curing the first sealing member and said second sealing member.

本発明では、重ね合わせ工程において第1シール材および第2シール材を間に挟むように基板同士を重ね合わせ、基板間で第2シール材を展開させるとともに、第2シール材を未硬化の第1シール材によって堰き止める。その際、第2シール材は未硬化の第1シール材を外側に向けて押圧するが、第1シール材は補強用突起で補強されているので、第2シール材が第1シール材を突き破ることがない。従って、第2シール材の流出を防止することができる。また、第1シール材が未硬化であっても、重ね合わせ工程で第1シール材が途切れることがないので、第1シール材の塗布、および第2シール材の塗布を連続して行い、しかる後に、第1シール材および第2シール材を硬化させればよいので、生産性を向上することができる。   In the present invention, in the overlapping step, the substrates are overlapped so as to sandwich the first sealing material and the second sealing material, the second sealing material is developed between the substrates, and the second sealing material is uncured in the second sealing material. 1 Damping with sealing material. At this time, the second sealing material presses the uncured first sealing material toward the outside, but the first sealing material is reinforced by the reinforcing protrusion, so the second sealing material breaks through the first sealing material. There is nothing. Therefore, the second sealing material can be prevented from flowing out. Further, even if the first sealing material is uncured, the first sealing material is not interrupted in the overlapping process, so that the first sealing material and the second sealing material are continuously applied. Since the first sealing material and the second sealing material may be cured later, productivity can be improved.

かかる方法で製造した有機EL装置は、第1電極層、有機機能層および第2電極層を備えた有機EL素子が画素領域に複数配列された第1基板と、該第1基板において前記有機EL素子が形成されている面側に重ねられた第2基板と、を有し、前記第1基板と前記第2基板とは、前記画素領域を囲む周辺領域に形成された枠状の第1シール材層と、当該第1シール材層で囲まれた領域の全体に形成された第2シール材層とによって貼り合わされ、前記第1基板または/および前記第2基板において、前記第1シール材層の形成領域には、一方の基板から他方の基板に向けて突出した補強用突起が形成されていることを特徴とする。   An organic EL device manufactured by such a method includes a first substrate in which a plurality of organic EL elements each including a first electrode layer, an organic functional layer, and a second electrode layer are arranged in a pixel region, and the organic EL device on the first substrate. A frame-shaped first seal formed in a peripheral region surrounding the pixel region. The second substrate is stacked on a surface side on which an element is formed. The first sealing material layer is bonded to the first substrate and / or the second substrate by a material layer and a second sealing material layer formed over the entire region surrounded by the first sealing material layer. In the formation region, a reinforcing protrusion protruding from one substrate toward the other substrate is formed.

本発明において、前記第2基板および前記第2シール材層は透光性であり、前記第2基板には、前記複数の有機EL素子と対向する各領域に異なる色のカラーフィルタ層が形成されていることが好ましい。このように構成すると、複数の有機EL素子の各々から白色光や各色の混合光を出射させるとともに、かかる光をカラーフィルタ層を介して出射させることができるので、カラー画像を表示することができる。   In the present invention, the second substrate and the second sealing material layer are translucent, and a color filter layer of a different color is formed on each region facing the plurality of organic EL elements on the second substrate. It is preferable. If comprised in this way, while being able to radiate | emit white light and the mixed light of each color from each of several organic EL element, such light can be radiate | emitted through a color filter layer, A color image can be displayed. .

本発明において、前記補強用突起は、前記第1基板および前記第2基板の双方に形成されている構成、および前記第1基板および前記第2基板のうちの一方の基板のみ形成されている構成を採用することができる。本発明では、生産性を向上するという観点からすれば、前記補強用突起は、前記第1基板および前記第2基板のうちの一方の基板のみ形成されていることが好ましい。   In the present invention, the reinforcing protrusion is formed on both the first substrate and the second substrate, and only one of the first substrate and the second substrate is formed. Can be adopted. In the present invention, from the viewpoint of improving productivity, it is preferable that the reinforcing protrusion is formed on only one of the first substrate and the second substrate.

本発明において、前記第1シール材は、前記第2シール材よりも粘度が高いことが好ましい。このように構成すると、第1シール材を塗布した際、第1シール材が外側に流出することを防止することができる。また、第2シール材については、第1シール材で囲まれた領域の全体にわたって充填することができる。   In the present invention, the first sealing material preferably has a higher viscosity than the second sealing material. If comprised in this way, when the 1st sealing material is applied, it can prevent that the 1st sealing material flows out outside. Moreover, about the 2nd sealing material, it can be filled over the whole area | region enclosed with the 1st sealing material.

本発明において、前記第1シール材は光硬化性であり、前記第2シール材は熱硬化性であることが好ましい。このように構成すると、シール材硬化工程において、第1シール材および第2シール材を所定の順序に選択的に硬化させることができる。また、画素領域では第1基板および第2基板に各種の遮光性の膜が形成されることが多く、このような場合、第2シール材に十分な光を照射することができない。このため、第2シール材に光硬化性の接着剤を用いると、十分に硬化させることができないが、第2シール材が熱硬化性であれば、画素領域内に形成された第2シール材を確実に硬化させることができる。   In the present invention, it is preferable that the first sealing material is photocurable and the second sealing material is thermosetting. If comprised in this way, in a sealing material hardening process, a 1st sealing material and a 2nd sealing material can be selectively hardened in a predetermined order. In the pixel region, various light-shielding films are often formed on the first substrate and the second substrate. In such a case, the second sealing material cannot be irradiated with sufficient light. For this reason, if a photocurable adhesive is used for the second sealing material, it cannot be sufficiently cured, but if the second sealing material is thermosetting, the second sealing material formed in the pixel region. Can be reliably cured.

本発明において、前記シール材硬化工程では、前記第1シール材を硬化させた後、前記第2シール材を硬化させることが好ましい。このように構成すると、第2シール材を硬化させた際、第2シール材が第1シール材を外側に向けて押圧するようなことがあっても、第2シール材が第1シール材を突き破ることがない。   In the present invention, in the sealing material curing step, it is preferable that the second sealing material is cured after the first sealing material is cured. If comprised in this way, even if a 2nd sealing material may press a 1st sealing material toward an outer side, when a 2nd sealing material is hardened, a 2nd sealing material uses a 1st sealing material. There is no breakthrough.

本発明において、前記重ね合わせ工程は、減圧雰囲気中で行なうことが好ましい。このように構成すると、第1基板と第2基板との間に気泡が混入することを防止することができる。また、常圧に戻した際、大気圧によって加圧されたのと同様な状態になるので、第1基板と第2基板との間で第2シール材が隅々まで行き渡り、第2シール材の充填性が向上する。   In the present invention, the superposition process is preferably performed in a reduced pressure atmosphere. If comprised in this way, it can prevent that a bubble mixes between a 1st board | substrate and a 2nd board | substrate. Further, when the pressure is returned to the normal pressure, the state is the same as when the pressure is increased by the atmospheric pressure, so that the second sealing material reaches every corner between the first substrate and the second substrate, and the second sealing material. The filling property of the is improved.

本発明において、前記第1基板または/および前記第2基板の前記画素領域内に複数の膜を形成する際、当該複数の膜を前記周辺領域で積層して前記補強用突起を形成することが好ましい。このように構成すると、補強用突起を別工程で形成する必要がないので、生産性を向上することができる。   In the present invention, when forming a plurality of films in the pixel region of the first substrate and / or the second substrate, the plurality of films are stacked in the peripheral region to form the reinforcing protrusion. preferable. If comprised in this way, since it is not necessary to form the protrusion for a reinforcement by another process, productivity can be improved.

本発明において、前記補強用突起は、前記第1基板に形成された第1補強用突起と、前記第2基板において前記第1補強用突起とずれた位置に形成された第2補強用突起とを含んでいる構成を採用してもよい。   In the present invention, the reinforcing protrusions include a first reinforcing protrusion formed on the first substrate, and a second reinforcing protrusion formed at a position shifted from the first reinforcing protrusion on the second substrate. You may employ | adopt the structure containing these.

本発明において、前記補強用突起は、前記画素領域の周りを多重に囲むように形成されていることが好ましい。このように構成すると、第1シール材を強固に補強することができる。また、補強用突起で挟まれた領域にも第1シール材が存在するので、第1シール材によって第1基板と第2基板を強固に貼り合せることができる。   In the present invention, it is preferable that the reinforcing protrusions are formed so as to surround the pixel region in multiple layers. If comprised in this way, a 1st sealing material can be strengthened firmly. Further, since the first sealing material is also present in the region sandwiched between the reinforcing protrusions, the first substrate and the second substrate can be firmly bonded together by the first sealing material.

本発明において、前記補強用突起は、途切れ部分によって周方向で複数に分割されていることが好ましい。このように構成すると、第1シール材を塗布した際、補強用突起を挟む領域に塗布された第1シール材が途切れ部分を流動することができるので、補強用突起を挟む領域で第1シール材の塗布状態を同等にすることができる。従って、第1シール材によって第1基板と第2基板を強固に貼り合せることができる。   In the present invention, it is preferable that the reinforcing protrusion is divided into a plurality of portions in the circumferential direction by a discontinuous portion. With this configuration, when the first sealing material is applied, the first sealing material applied to the region sandwiching the reinforcing projection can flow through the discontinuous portion, and thus the first seal is formed in the region sandwiching the reinforcing projection. The application state of the material can be made equivalent. Therefore, the first substrate and the second substrate can be firmly bonded by the first sealing material.

本発明を適用した有機EL装置は、携帯電話機あるいはモバイルコンピュータなどの電子機器において直視型の表示部などとして用いられる。   An organic EL device to which the present invention is applied is used as a direct-view display unit or the like in an electronic device such as a mobile phone or a mobile computer.

以下、本発明の実施の形態を説明する。以下の説明で参照する図においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材毎に縮尺を異ならしめてある。また、以下の説明では、図12を参照して説明した構成との対応が分りやすいように、可能な限り、対応する部分には同一の符号を付して説明する。   Embodiments of the present invention will be described below. In the drawings to be referred to in the following description, the scales of the layers and the members are different from each other in order to make the layers and the members large enough to be recognized on the drawings. Further, in the following description, as much as possible, the same reference numerals are given to the corresponding portions so that the correspondence with the configuration described with reference to FIG. 12 can be easily understood.

[実施の形態1]
(全体構成)
図1は、本発明の実施の形態1に係る有機EL装置の電気的な構成を示す等価回路図である。図1に示す有機EL装置100において、第1基板10上には、複数の走査線3aと、走査線3aに対して交差する方向に延びる複数のデータ線6aと、走査線3aに対して並列して延在する複数の電源線3eとを有している。また、第1基板10において、矩形形状の画素領域10aには複数の画素100aがマトリクス状に配列されている。データ線6aにはデータ線駆動回路101が接続され、走査線3aには走査線駆動回路104が接続されている。画素領域10aの各々には、走査線3aを介して走査信号がゲート電極に供給されるスイッチング用の薄膜トランジスタ30bと、このスイッチング用の薄膜トランジスタ30bを介してデータ線6aから供給される画素信号を保持する保持容量70と、保持容量70によって保持された画素信号がゲート電極に供給される駆動用の薄膜トランジスタ30cと、この薄膜トランジスタ30cを介して電源線3eに電気的に接続したときに電源線3eから駆動電流が流れ込む第1電極81(陽極層)と、この第1電極81と陰極層との間に有機機能層が挟まれた有機EL素子80とが形成されている。
[Embodiment 1]
(overall structure)
FIG. 1 is an equivalent circuit diagram showing an electrical configuration of the organic EL device according to Embodiment 1 of the present invention. In the organic EL device 100 shown in FIG. 1, on the first substrate 10, a plurality of scanning lines 3a, a plurality of data lines 6a extending in a direction intersecting the scanning lines 3a, and a scanning line 3a are arranged in parallel. And a plurality of power supply lines 3e extending. In the first substrate 10, a plurality of pixels 100a are arranged in a matrix in a rectangular pixel region 10a. A data line driving circuit 101 is connected to the data line 6a, and a scanning line driving circuit 104 is connected to the scanning line 3a. Each pixel region 10a holds a switching thin film transistor 30b to which a scanning signal is supplied to the gate electrode via the scanning line 3a, and a pixel signal supplied from the data line 6a via the switching thin film transistor 30b. The storage capacitor 70 to be driven, the driving thin film transistor 30c to which the pixel signal held by the storage capacitor 70 is supplied to the gate electrode, and the power supply line 3e when electrically connected to the power supply line 3e through the thin film transistor 30c. A first electrode 81 (anode layer) into which a drive current flows and an organic EL element 80 in which an organic functional layer is sandwiched between the first electrode 81 and the cathode layer are formed.

かかる構成によれば、走査線3aが駆動されてスイッチング用の薄膜トランジスタ30bがオンになると、そのときのデータ線6aの電位が保持容量70に保持され、保持容量70が保持する電荷に応じて、駆動用の薄膜トランジスタ30cのオン・オフ状態が決まる。そして、駆動用の薄膜トランジスタ30cのチャネルを介して、電源線3eから第1電極81に電流が流れ、さらに有機機能層を介して対極層に電流が流れる。その結果、有機EL素子80は、これを流れる電流量に応じて発光する。   According to this configuration, when the scanning line 3a is driven and the switching thin film transistor 30b is turned on, the potential of the data line 6a at that time is held in the holding capacitor 70, and according to the charge held in the holding capacitor 70, The on / off state of the driving thin film transistor 30c is determined. Then, a current flows from the power supply line 3e to the first electrode 81 through the channel of the driving thin film transistor 30c, and further a current flows to the counter electrode layer through the organic functional layer. As a result, the organic EL element 80 emits light according to the amount of current flowing therethrough.

このように構成した有機EL装置100において、複数の画素100aは各々、赤色(R)、緑色(G)、青色(B)に対応し、赤色(R)、緑色(G)、青色(B)の3つの画素100aによって1つのピクセルを構成している。本形態において、有機EL素子80は、白色光、または赤色(R)、緑色(G)、青色(B)の混合色光が出射され、画素100aが赤色(R)、緑色(G)、青色(B)のいずれに対応するかは、後述するカラーフィルタ層によって規定されている。   In the organic EL device 100 configured as described above, each of the plurality of pixels 100a corresponds to red (R), green (G), and blue (B), and red (R), green (G), and blue (B). The three pixels 100a constitute one pixel. In this embodiment, the organic EL element 80 emits white light or mixed color light of red (R), green (G), and blue (B), and the pixel 100a is red (R), green (G), blue ( Which of B) corresponds is defined by a color filter layer described later.

なお、図1に示す構成では、電源線3eは走査線3aと並列していたが、電源線3eがデータ線6aに並列している構成を採用してもよい。また、図1に示す構成では、電源線3eを利用して保持容量70を構成していたが、電源線3eとは別に容量線を形成し、かかる容量線によって保持容量70を構成してもよい。   In the configuration shown in FIG. 1, the power supply line 3e is parallel to the scanning line 3a. However, a configuration in which the power supply line 3e is parallel to the data line 6a may be adopted. In the configuration shown in FIG. 1, the storage capacitor 70 is configured using the power supply line 3e. However, the storage capacitor 70 may be configured by forming a capacitance line separately from the power supply line 3e. Good.

(有機EL装置の具体的構成)
図2(a)、(b)は各々、本発明の実施の形態1に係る有機EL装置の平面的な構成を各構成要素と共に第2基板側から見た平面図、およびそのJ−J′断面図である。なお、図2(b)にはカラーフィルタ層などの図示を省略してある。図2(a)、(b)において、本形態の有機EL装置100では、素子基板としての第1基板10と、封止基板およびカラーフィルタ層基板の双方の機能を担う第2基板20とを備えており、第1基板10において、複数の有機EL素子80が形成されている面側に第2基板20が重ねて配置されている。
(Specific configuration of organic EL device)
FIGS. 2A and 2B are plan views of the planar configuration of the organic EL device according to Embodiment 1 of the present invention as viewed from the second substrate side together with the respective components, and JJ ′ thereof. It is sectional drawing. In addition, illustration of a color filter layer etc. is abbreviate | omitted in FIG.2 (b). 2A and 2B, in the organic EL device 100 of the present embodiment, a first substrate 10 as an element substrate and a second substrate 20 that functions as both a sealing substrate and a color filter layer substrate are provided. In the first substrate 10, the second substrate 20 is disposed so as to overlap the surface side on which the plurality of organic EL elements 80 are formed.

ここで、第1基板10と第2基板20とは、第1シール材層91および第2シール材層92によって貼り合わされている。かかる第1シール材層91および第2シール材層92の詳細な構成は後述するが、第1シール材層91は、図2(a)にドットを密に付した領域で示してあるように、画素領域10aの周りを囲む周辺領域10cに沿って枠状に形成されている。これに対して、第2シール材層92は、図2(a)にドットを疎に付した領域で示してあるように、第1シール材層91で囲まれた領域の全体にわたって形成されている。   Here, the first substrate 10 and the second substrate 20 are bonded together by the first sealing material layer 91 and the second sealing material layer 92. Although the detailed configuration of the first sealing material layer 91 and the second sealing material layer 92 will be described later, the first sealing material layer 91 is shown by a region where dots are densely attached in FIG. A frame is formed along a peripheral region 10c surrounding the pixel region 10a. On the other hand, the second sealing material layer 92 is formed over the entire area surrounded by the first sealing material layer 91, as shown by the area where dots are sparsely attached in FIG. Yes.

なお、第1基板10において、第2基板20からの張り出し領域には端子102が形成されている。また、第1基板10において、周辺領域10cや、画素領域10aと周辺領域10cとに挟まれた領域を利用して、図1を参照して説明したデータ線駆動回路101および走査線駆動回路104(図示せず)が形成されている。   In the first substrate 10, a terminal 102 is formed in an overhanging region from the second substrate 20. In the first substrate 10, the data line driving circuit 101 and the scanning line driving circuit 104 described with reference to FIG. 1 are used by using the peripheral region 10 c or a region sandwiched between the pixel region 10 a and the peripheral region 10 c. (Not shown) is formed.

(有機EL素子の構成)
図3(a)、(b)は各々、本発明の実施の形態1に係る有機EL装置の断面構成を模式的に示す断面図、およびその周辺領域10cの平面構成を模式的に示す平面図である。なお、図3には、有機EL素子として、赤色(R)、緑色(G)、青色(B)に対応する3つの有機EL素子のみを示してある。
(Configuration of organic EL element)
FIGS. 3A and 3B are a cross-sectional view schematically showing a cross-sectional configuration of the organic EL device according to Embodiment 1 of the present invention, and a plan view schematically showing a plane configuration of the peripheral region 10c, respectively. It is. FIG. 3 shows only three organic EL elements corresponding to red (R), green (G), and blue (B) as organic EL elements.

図3(a)に示すように、第1基板10は、石英基板、ガラス基板、セラミック基板、金属基板などからなる支持基板10dを備えている。支持基板10dの表面には、絶縁膜11、12、13、14、15が形成され、絶縁膜15の上層には有機EL素子80が形成されている。本形態において、絶縁膜11、12、13、15は、酸化シリコン膜や窒化シリコン膜などから形成され、絶縁膜14は、厚さが1.5〜2.0μmの厚い感光性樹脂からなる平坦化膜として形成されている。絶縁膜11は下地絶縁層であり、図示を省略するが、絶縁膜11、12、13、14の層間などを利用して、図1を参照して説明した薄膜トランジスタ30b、30c、保持容量70、各種配線や各駆動回路が形成されている。また、絶縁膜12、13、14、15に形成されたコンタクトホールを利用して、異なる層間に形成された導電膜同士の電気的な接続が行なわれている。   As shown in FIG. 3A, the first substrate 10 includes a support substrate 10d made of a quartz substrate, a glass substrate, a ceramic substrate, a metal substrate, or the like. Insulating films 11, 12, 13, 14, and 15 are formed on the surface of the support substrate 10 d, and an organic EL element 80 is formed on the insulating film 15. In this embodiment, the insulating films 11, 12, 13, and 15 are formed of a silicon oxide film, a silicon nitride film, or the like, and the insulating film 14 is a flat film made of a thick photosensitive resin having a thickness of 1.5 to 2.0 μm. It is formed as a chemical film. The insulating film 11 is a base insulating layer, and although not shown, the thin film transistors 30b and 30c, the storage capacitor 70, and the like described with reference to FIG. 1 using the layers of the insulating films 11, 12, 13, and 14 are used. Various wirings and driving circuits are formed. In addition, the conductive films formed between different layers are electrically connected to each other by using the contact holes formed in the insulating films 12, 13, 14, and 15.

本形態の有機EL装置100は、トップエミッション型であり、矢印L1で示すように、支持基板10dからみて有機EL素子80が形成されている側から光を取り出すので、支持基板10dとしては、アルミナなどのセラミックス、ステンレススチールなどといった不透明な基板を用いることができる。また、絶縁膜14、15の層間には、アルミニウム、銀、それらの合金からなる光反射層41が形成されており、有機EL素子80から支持基板10dに向けて出射された光を光反射層41で反射することにより、光を出射可能である。なお、有機EL装置100をボトムエミッション型で構成した場合、支持基板10dの側から光を取り出すので、支持基板10dとしては、ガラスなどの透明基板が用いられる。   The organic EL device 100 of the present embodiment is a top emission type, and, as indicated by an arrow L1, light is extracted from the side where the organic EL element 80 is formed as viewed from the support substrate 10d. Opaque substrates such as ceramics, stainless steel, etc. can be used. In addition, a light reflection layer 41 made of aluminum, silver, or an alloy thereof is formed between the insulating films 14 and 15, and light emitted from the organic EL element 80 toward the support substrate 10d is reflected on the light reflection layer. By reflecting at 41, light can be emitted. When the organic EL device 100 is configured as a bottom emission type, light is extracted from the support substrate 10d side, and therefore a transparent substrate such as glass is used as the support substrate 10d.

第1基板10では、絶縁膜15の上層にITO膜などからなる第1電極層81(陽極/画素電極)が島状に形成されており、第1電極層81の上層には、発光領域を規定するための開口部を備えた感光性樹脂などからなる厚い隔壁51が形成されている。   In the first substrate 10, a first electrode layer 81 (anode / pixel electrode) made of an ITO film or the like is formed in an island shape on the insulating film 15, and a light emitting region is formed on the upper layer of the first electrode layer 81. A thick partition wall 51 made of a photosensitive resin or the like having an opening for defining is formed.

第1電極層81の上層には、有機機能層82および第2電極層83(陰極)が積層されており、第1電極層81、有機機能層82および第2電極層83によって、有機EL素子80が形成されている。本形態において、有機機能層82および第2電極層83は、隔壁51が形成されている領域も含めて、画素領域10aの全面にわたって形成されている。   An organic functional layer 82 and a second electrode layer 83 (cathode) are laminated on the upper layer of the first electrode layer 81, and the organic EL element is formed by the first electrode layer 81, the organic functional layer 82, and the second electrode layer 83. 80 is formed. In this embodiment, the organic functional layer 82 and the second electrode layer 83 are formed over the entire surface of the pixel region 10a including the region where the partition walls 51 are formed.

本形態において、有機機能層82は、トリアリールアミン(ATP)多量体からなる正孔注入層、TPD(トリフェニルジアミン)系正孔輸送層、アントラセン系ドーパントやルブレン系ドーパントを含むスチリルアミン系材料(ホスト)からなる発光層、アルミニウムキノリノール(Alq3)からなる電子注入層をこの順に積層した構造を有しており、その上層にMgAgなどの薄膜金属からなる第2電極層83が形成されている。また、有機機能層82と第2電極層83との間には、LiFからなる電子注入バッファ層が形成されることもある。これらの材料のうち、有機機能層82を構成する各層、および電子注入バッファ層は、加熱ボート(るつぼ)を用いた真空蒸着法で順次形成することができる。また、第2電極層83などを構成する金属系材料については真空蒸着法により形成でき、第1電極層81を構成するITOなどの酸化物材料についてはECRプラズマスパッタ法やプラズマガン方式イオンプレーティング法、マグネトロンスパッタ法などの高密度プラズマ成膜法により形成することができる。 In this embodiment, the organic functional layer 82 includes a hole injection layer made of a triarylamine (ATP) multimer, a TPD (triphenyldiamine) -based hole transport layer, an styrylamine-based material containing an anthracene-based dopant or a rubrene-based dopant. A light emitting layer made of (host) and an electron injection layer made of aluminum quinolinol (Alq 3 ) are laminated in this order, and a second electrode layer 83 made of a thin film metal such as MgAg is formed thereon. Yes. In addition, an electron injection buffer layer made of LiF may be formed between the organic functional layer 82 and the second electrode layer 83. Among these materials, each layer constituting the organic functional layer 82 and the electron injection buffer layer can be sequentially formed by a vacuum evaporation method using a heating boat (crucible). Further, the metal material constituting the second electrode layer 83 and the like can be formed by a vacuum deposition method, and the oxide material such as ITO constituting the first electrode layer 81 can be formed by an ECR plasma sputtering method or a plasma gun type ion plating. It can be formed by a high-density plasma film forming method such as a method or a magnetron sputtering method.

本形態において、有機EL素子80は、白色光、または赤色(R)、緑色(G)、青色(B)の混合色光を出射する。このため、有機EL装置100では、第2基板20において、有機EL素子80と対向する位置に形成した赤色(R)、緑色(G)、青色(B)のカラーフィルタ層22(R)、(G)、(B)によって色変換を行なうことにより、フルカラー表示を行なう。すなわち、第2基板20には、ポリエチレンテレフタレート、アクリル樹脂、ポリカーボネート、ポリオレフィンなどプラスチック基板や、ガラス基板などからなる透光性の支持基板20dに、赤色(R)、緑色(G)、青色(B)のカラーフィルタ層22(R)、(G)、(B)、カラーフィルタ層22(R)、(G)、(B)の間で光の漏洩を防止するための遮光層23(ブラックマトリックス層)、透光性の平坦化膜24、酸窒化シリコン層などからなる透光性のガスバリア層25がこの順に形成されている。本形態において、カラーフィルタ層22(R)、(G)、(B)、遮光層23、平坦化膜24、およびガスバリア層25は、第2基板20の画素領域10aのみに形成され、周辺領域10cには形成されていない。このため、第2基板20の周辺領域10cでは、支持基板20dが露出している。   In this embodiment, the organic EL element 80 emits white light or mixed color light of red (R), green (G), and blue (B). For this reason, in the organic EL device 100, the red (R), green (G), and blue (B) color filter layers 22 (R) formed on the second substrate 20 at positions facing the organic EL element 80 ( Full color display is performed by performing color conversion according to G) and (B). That is, the second substrate 20 has a transparent support substrate 20d made of a plastic substrate such as polyethylene terephthalate, acrylic resin, polycarbonate, polyolefin, or a glass substrate, and red (R), green (G), blue (B ) Color filter layer 22 (R), (G), (B), color filter layer 22 (R), (G), light shielding layer 23 (black matrix for preventing leakage of light) between (B) Layer), a light-transmitting planarizing film 24, a light-transmitting gas barrier layer 25 made of a silicon oxynitride layer, and the like are formed in this order. In this embodiment, the color filter layers 22 (R), (G), and (B), the light shielding layer 23, the planarizing film 24, and the gas barrier layer 25 are formed only in the pixel region 10 a of the second substrate 20, and the peripheral region It is not formed in 10c. For this reason, the support substrate 20d is exposed in the peripheral region 10c of the second substrate 20.

カラーフィルタ層22(R)、(G)、(B)は、透明バインダー層に顔料または染料が混合されている層であり、赤(R)、緑(G)、青(B)を用いるのが基本であるが、目的に応じてライトブルーやライトシアン、白などを加えてもよい。カラーフィルタ層22(R)、(G)、(B)の厚みは、光線透過率を考慮して極力薄い方がよく、0.1〜1.5μmの範囲で形成され、その厚さは、対応する色によって相違させることもある。遮光層23は、黒色顔料を含んだ樹脂からなり、その厚さは、カラーフィルタ層22(R)、(G)、(B)よりも厚く、1〜2μm前後の膜厚が好ましいが、これ以上の膜厚であってもよい。なお、第2基板20には、紫外線の入射を防止する紫外線遮断・吸収層や、光反射防止層、放熱層などの機能層が形成されることもある。   The color filter layers 22 (R), (G), and (B) are layers in which pigments or dyes are mixed in the transparent binder layer, and red (R), green (G), and blue (B) are used. However, light blue, light cyan, white, etc. may be added depending on the purpose. The thickness of the color filter layers 22 (R), (G), and (B) is preferably as thin as possible in consideration of the light transmittance, and is formed in a range of 0.1 to 1.5 μm. It may be different depending on the corresponding color. The light shielding layer 23 is made of a resin containing a black pigment, and the thickness thereof is thicker than the color filter layers 22 (R), (G), and (B), and a film thickness of about 1 to 2 μm is preferable. The above film thickness may be sufficient. The second substrate 20 may be provided with a functional layer such as an ultraviolet blocking / absorbing layer that prevents the incidence of ultraviolet rays, a light reflection preventing layer, or a heat dissipation layer.

(封止構造)
このように構成した有機EL装置100において、有機機能層82、陰極として用いた第2電極層83、電子注入層などは、水分により劣化しやすく、かかる劣化は、電子注入効果の劣化を惹き起こし、ダークスポットと呼ばれる非発光部分を発生させてしまう。そこで、本形態では、第2基板20を封止基板として第1基板10と貼り合せた構成と、第1基板10に対して以下に説明する封止膜60を形成した構成とを併用する。
(Sealing structure)
In the organic EL device 100 configured as described above, the organic functional layer 82, the second electrode layer 83 used as the cathode, the electron injection layer, and the like are easily deteriorated by moisture, and such deterioration causes deterioration of the electron injection effect. , A non-light-emitting portion called a dark spot is generated. Therefore, in this embodiment, the configuration in which the second substrate 20 is used as a sealing substrate and the first substrate 10 are bonded together and the configuration in which the sealing film 60 described below is formed on the first substrate 10 are used in combination.

まず、第1基板10には、第2電極層83の上層に画素領域10aよりも広い領域にわたって封止膜60が形成されている。かかる封止膜60として、本形態では、第2電極層83上に積層されたシリコン化合物層からなる第1膜61、この第1膜61上に積層された樹脂層からなる第2膜62、およびこの第2膜62上に積層されたシリコン化合物からなる第3膜63を備えた積層膜が用いられている。第1膜61および第3膜63は、高密度プラズマ源を用いた高密度プラズマ気相成長法、例えば、ブラズマガン方式イオンプレーティング、ECRプラズマスパッタ、ECRプラズマCVD、表面波プラズマCVD、ICP−CVDなどを用いて成膜された窒化シリコン(SiNx)や酸窒化シリコン(SiOxy)などから構成されており、かかる薄膜は、低温で成膜しても水分を確実に遮断する高密度ガスバリア層として機能する。第2層62は、樹脂層から構成されており、隔壁51や配線などに起因する表面凹凸を平坦化して第1膜61および第2膜62にクラックが発生するのを防止する有機緩衝層として機能している。 First, the sealing film 60 is formed on the first substrate 10 over the second electrode layer 83 over a region wider than the pixel region 10a. As the sealing film 60, in this embodiment, a first film 61 made of a silicon compound layer laminated on the second electrode layer 83, a second film 62 made of a resin layer laminated on the first film 61, In addition, a laminated film including a third film 63 made of a silicon compound laminated on the second film 62 is used. The first film 61 and the third film 63 are formed by a high-density plasma vapor deposition method using a high-density plasma source, for example, plasma gun type ion plating, ECR plasma sputtering, ECR plasma CVD, surface wave plasma CVD, ICP-CVD. It is composed of silicon nitride (SiN x ), silicon oxynitride (SiO x N y ), etc. that are deposited using such a method, and such a thin film has a high density that reliably blocks moisture even when deposited at low temperatures. Functions as a gas barrier layer. The second layer 62 is composed of a resin layer, and serves as an organic buffer layer that flattens surface irregularities caused by the partition walls 51 and wirings and prevents cracks in the first film 61 and the second film 62. It is functioning.

本形態では、封止膜60を構成する第1膜61および第3膜63(高密度ガスバリア層)は、画素領域10a、画素領域10aの近傍領域、および画素領域10aから離れた周辺領域10cの全てを含む第1基板10の全面に形成されている。これに対して、第2層62(有機緩衝層)は、画素領域10a、および画素領域10aの近傍領域のみに分厚く形成され、画素領域10aから離れた周辺領域10cには形成されていない。また、絶縁膜14、15は概ね、画素領域10aのみ形成されている。   In this embodiment, the first film 61 and the third film 63 (high-density gas barrier layer) constituting the sealing film 60 are formed in the pixel region 10a, the vicinity region of the pixel region 10a, and the peripheral region 10c far from the pixel region 10a. It is formed on the entire surface of the first substrate 10 including all. On the other hand, the second layer 62 (organic buffer layer) is formed thick only in the pixel region 10a and a region near the pixel region 10a, and is not formed in the peripheral region 10c far from the pixel region 10a. The insulating films 14 and 15 are generally formed only in the pixel region 10a.

次に、本形態では、図2(a)、(b)、および図3(a)、(b)に示すように、第1基板10と第2基板20との間では、周辺領域10cに沿って第1シール材層91が矩形枠状に形成され、周辺領域10cで囲まれた領域の全体にわたって透光性の第2シール材層92が形成されており、第1基板10と第2基板20とは、第1シール材層91および第2シール材層92によって貼り合わされている。さらに、第1基板10には、第1シール材層91および周辺領域10cに沿って、第2基板20に向けて突出する補強用突起95が矩形枠状に一重に形成されている。補強用突起95は、第1シール材層91および周辺領域10cの幅方向の略中央位置に沿って1本の線状に形成されており、補強用突起95の両側に第1シール材層91が存在する。また、補強用突起95は、第2基板20に届かない程度の高さ寸法に形成されており、補強用突起95の上面にも第1シール材層91が存在する。   Next, in this embodiment, as shown in FIGS. 2A and 2B and FIGS. 3A and 3B, the peripheral region 10c is formed between the first substrate 10 and the second substrate 20. A first sealing material layer 91 is formed in a rectangular frame shape, and a translucent second sealing material layer 92 is formed over the entire region surrounded by the peripheral region 10c. The substrate 20 is bonded to the first sealing material layer 91 and the second sealing material layer 92. Further, the first substrate 10 is formed with a reinforcing projection 95 that protrudes toward the second substrate 20 along the first sealing material layer 91 and the peripheral region 10c in a single rectangular frame shape. The reinforcing protrusions 95 are formed in a single line along the substantially central position in the width direction of the first sealing material layer 91 and the peripheral region 10 c, and the first sealing material layer 91 is formed on both sides of the reinforcing protrusions 95. Exists. Further, the reinforcing protrusion 95 is formed to have a height that does not reach the second substrate 20, and the first sealing material layer 91 is also present on the upper surface of the reinforcing protrusion 95.

本形態において、第1シール材層91(第1シール材91a)には、紫外線によって硬化するエポキシ系接着剤が用いられ、かかるエポキシ系接着剤としては、好ましくはエポキシ基を有する分子量3000以下のエポキシモノマー/オリゴマー(モノマーの定義:分子量1000以下、オリゴマーの定義:分子量1000〜3000)が用いられる。より具体的には、第1シール材層91には、例えば、ビスフェノールA型エポキシオリゴマーやビスフェノールF型エポキシオリゴマー、フェノールノボラック型エポキシオリゴマー、3,4-エポキシシクロヘキセニルメチル-3′,4′-エポキシシクロヘキセンカルボキシレート、ε-カプロラクトン変性3,4-エポキシシクロヘキシルメチル3′,4′-エポキシシクロヘキサンカルボキレートなどが単独もしくは複数組み合わされて用いられる。また、エポキシモノマー/オリゴマーと反応する硬化剤としては、ジアゾニウム塩、ジフェニルヨウドニウム塩、トリフェニルスルフォニウム塩、スルホン酸エステル、鉄アレーン錯体、シラノール/アルミニウム錯体などのカチオン重合反応を起こす光反応型開始剤が添加され、主に紫外線の照射によってカチオン重合反応を起こす。   In this embodiment, an epoxy adhesive that is cured by ultraviolet rays is used for the first sealing material layer 91 (first sealing material 91a), and the epoxy adhesive preferably has an epoxy group and a molecular weight of 3000 or less. Epoxy monomer / oligomer (monomer definition: molecular weight 1000 or less, oligomer definition: molecular weight 1000 to 3000) is used. More specifically, the first sealing material layer 91 includes, for example, bisphenol A type epoxy oligomer, bisphenol F type epoxy oligomer, phenol novolac type epoxy oligomer, 3,4-epoxycyclohexenylmethyl-3 ′, 4′- Epoxycyclohexenecarboxylate, ε-caprolactone-modified 3,4-epoxycyclohexylmethyl 3 ′, 4′-epoxycyclohexanecarboxylate, etc. are used alone or in combination. In addition, as a curing agent that reacts with epoxy monomer / oligomer, photoreactive type that causes cationic polymerization reaction such as diazonium salt, diphenyliodonium salt, triphenylsulfonium salt, sulfonate ester, iron arene complex, silanol / aluminum complex, etc. An initiator is added, and a cationic polymerization reaction is caused mainly by ultraviolet irradiation.

第2シール材層92(第2シール材92a)には、熱によって硬化するエポキシ系接着剤が用いられている。かかるエポキシ系接着剤の原料主成分としては、流動性に優れかつ溶媒のような揮発成分を持たない有機化合物材料である必要があり、好ましくはエポキシ基を有する分子量3000以下のエポキシモノオリゴマー、より好ましくは分子量1000以下のエポキシモノマーなどである。例えば、第2シール材層92の形成には、硬ビスフェノールA型エポキシモノマーやビスフェノールF型エポキシモノマー、ノボラック形フェノールエポキシモノマー、3,4-エポキシシクロヘキセニルメチル-3′,4′-エポキシシクロヘキセンカルボキシレート、ε-カプロラクトン変性3,4-エポキシシクロヘキシルメチル3′,4′-エポキシシクロヘキサンカルボキレートなどが単独もしくは複数組み合わされて用いられる。また、エポキシモノマーと反応する硬化剤としては、強靭で耐熱性に優れる硬化皮膜を形成する付加重合型が良く、芳香族アミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、ポリエーテルジアミンなどのアミン類や、3−メチル−1,2,3,6−テトラヒドロ無水フタル酸、メチル−3,6−ンドメチレン−1,2,3,6−テトラヒドロ無水フタル酸、1,2,4,5−ベンゼンテトラカルボン酸二無水物、3,3′,4,4′−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物などの酸無水物系硬化剤、ジシアンジアミドなどが挙げられる。これらと、芳香族アミノアルコールやアルコール類、メルカプタンなどの反応開始剤または3級アミン触媒、シランカップリング剤と共に混合されて用いられる。   For the second sealing material layer 92 (second sealing material 92a), an epoxy adhesive that is cured by heat is used. As a raw material main component of such an epoxy-based adhesive, it is necessary to be an organic compound material that is excellent in fluidity and does not have a volatile component such as a solvent, and preferably an epoxy monooligomer having an epoxy group and a molecular weight of 3000 or less. Preferred are epoxy monomers having a molecular weight of 1000 or less. For example, the second sealing material layer 92 may be formed by using a hard bisphenol A type epoxy monomer, a bisphenol F type epoxy monomer, a novolac type phenol epoxy monomer, 3,4-epoxycyclohexenylmethyl-3 ', 4'-epoxycyclohexene carboxy. Rate, ε-caprolactone-modified 3,4-epoxycyclohexylmethyl 3 ′, 4′-epoxycyclohexanecarbochelate, etc. may be used alone or in combination. Further, as the curing agent that reacts with the epoxy monomer, an addition polymerization type that forms a tough and excellent heat-resistant cured film is good, and amines such as aromatic amine, diethylenetriamine, triethylenetetramine, and polyetherdiamine, Methyl-1,2,3,6-tetrahydrophthalic anhydride, methyl-3,6-undomethylene-1,2,3,6-tetrahydrophthalic anhydride, 1,2,4,5-benzenetetracarboxylic dianhydride Products, acid anhydride curing agents such as 3,3 ′, 4,4′-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, dicyandiamide and the like. These are mixed with a reaction initiator such as aromatic amino alcohol, alcohol, mercaptan, tertiary amine catalyst or silane coupling agent.

補強用突起95は、後述するように、第1基板10の画素領域10aに形成した各膜を積層して形成できる他、本形態のように、第1シール材層91(第1シール材91a)あるいは第2シール材層92(第2シール材92a)と同様な樹脂材料によって形成することもできる。   As will be described later, the reinforcing protrusion 95 can be formed by laminating each film formed on the pixel region 10a of the first substrate 10, and as in the present embodiment, the first sealing material layer 91 (first sealing material 91a). Or a resin material similar to that of the second sealing material layer 92 (second sealing material 92a).

(製造方法)
図4および図5を参照して、本形態の有機EL装置100の製造方法を説明する。図4および図5は、本形態の有機EL装置100の製造工程のうち、第1基板10に補強用突起95を形成した後、第1基板10と第2基板20とを貼り合せる直前までの様子を示す工程断面図、およびかかる工程を大型基板の状態で行なう様子を模式的に示す説明図である。
(Production method)
With reference to FIG. 4 and FIG. 5, the manufacturing method of the organic electroluminescent apparatus 100 of this form is demonstrated. FIGS. 4 and 5 illustrate the manufacturing process of the organic EL device 100 according to the present embodiment, from the formation of the reinforcing protrusion 95 on the first substrate 10 to the time immediately before the first substrate 10 and the second substrate 20 are bonded together. It is process sectional drawing which shows a mode, and explanatory drawing which shows typically a mode that this process is performed in the state of a large sized substrate.

本形態の有機EL装置100を製造するにあたっては、第1基板10および第2基板20を単品サイズの大きさにして貼り合せる方法の他、第1基板10および第2基板20を多数取りできる大型基板の状態で貼り合わせ、その後、大型基板を単品サイズの大きさに切断する方法を採用することもある。これらのいずれの方法を採用しても、基本的な構成は同一であるので、図4を参照して、単品サイズの大きさの第1基板10と第2基板20とを貼り合せる様子を中心に説明するとともに、図5を参照して、大型基板で基板同士を貼り合わせる方法を併せて説明する。   In manufacturing the organic EL device 100 of the present embodiment, in addition to a method of bonding the first substrate 10 and the second substrate 20 in a single product size, a large size capable of taking a large number of the first substrate 10 and the second substrate 20. In some cases, the substrates are bonded together and then a large substrate is cut into a single size. Since any one of these methods is adopted, the basic configuration is the same, and therefore, with reference to FIG. 4, the manner in which the first substrate 10 and the second substrate 20 having a single product size are bonded together is mainly described. A method for bonding substrates together with a large substrate will also be described with reference to FIG.

まず、図4(a)に示すように、第1基板10に有機エレクトロルミネッセンス素子80や封止層60を形成した後、図4(b)に示すように、第1基板10の周辺領域10cに補強用突起95を形成する。かかる補強用突起95を形成するには、第1シール材層91と同様な紫外線硬化性のエポキシ樹脂材料をディスペンサ描画、スクリーン印刷法、マイクロピエゾヘッドを用いたインクジェット法などにより塗布した後、紫外線加熱照射を行なって硬化させる。なお、補強用突起95を形成するには、第2シール材層92と同様な熱硬化性のエポキシ樹脂材料を用い、印刷あるいはディスペンサ描画した後、加熱処理を行なって硬化させてもよい。いずれの場合も、補強用突起95については線状に形成するため、樹脂材料としては、塗布する際の粘度が高い方が好ましい。   First, as shown in FIG. 4A, after the organic electroluminescence element 80 and the sealing layer 60 are formed on the first substrate 10, the peripheral region 10c of the first substrate 10 is formed as shown in FIG. 4B. A reinforcing projection 95 is formed on the substrate. In order to form the reinforcing protrusion 95, an ultraviolet curable epoxy resin material similar to that of the first sealing material layer 91 is applied by a dispenser drawing, a screen printing method, an ink jet method using a micro piezo head, and the like. Curing is performed by heating. In order to form the reinforcing protrusions 95, a thermosetting epoxy resin material similar to that of the second sealing material layer 92 may be used, and after printing or dispenser drawing, heat treatment may be performed and cured. In any case, since the reinforcing protrusion 95 is formed in a linear shape, the resin material preferably has a higher viscosity when applied.

かかる工程を大型基板の状態で行なう場合には、図5(a)に示すように、大型基板10xのうち、単品サイズの第1基板10を切り出す際のスクライブ線(図示せず)に沿って補強用突起95を形成する。   When this process is performed in the state of a large substrate, as shown in FIG. 5A, along a scribe line (not shown) when cutting out the single substrate 1 of the large substrate 10x. A reinforcing projection 95 is formed.

次に、図4(c)に示す第1シール塗布工程において、ディスペンサ描画、スクリーン印刷法、マイクロピエゾヘッドを用いたインクジェット法などにより、第1基板10の周辺領域10cに対して、補強用突起95に沿うように、前記した光硬化性のエポキシ樹脂材料からなる第1シール材91aを1mm以下の狭い幅寸法に塗布する。その結果、第1シール材91aは補強用突起95を覆うように塗布される。ここで、第1シール材91aを1mm以下の狭い幅寸法に塗布するという観点から、第1シール材91aの塗布時の粘度は、室温で2万〜20万mPa・s程度が好ましく、4〜10万mPa・s程度がさらに好ましい。また、第1シール料91aは、水分を含んでいると、気泡が発生し、強度が低下するため、含水率は0.1wt%(1000ppm)以下に脱水されていることが好ましい。   Next, in the first seal coating step shown in FIG. 4C, a reinforcing projection is formed on the peripheral region 10c of the first substrate 10 by a dispenser drawing, a screen printing method, an ink jet method using a micro piezo head, or the like. 95, the first sealing material 91a made of the above-described photo-curable epoxy resin material is applied to a narrow width dimension of 1 mm or less. As a result, the first sealing material 91 a is applied so as to cover the reinforcing protrusion 95. Here, from the viewpoint of applying the first sealing material 91a to a narrow width dimension of 1 mm or less, the viscosity at the time of application of the first sealing material 91a is preferably about 20,000 to 200,000 mPa · s at room temperature. More preferred is about 100,000 mPa · s. In addition, when the first sealing material 91a contains moisture, bubbles are generated and the strength is reduced. Therefore, the moisture content is preferably dehydrated to 0.1 wt% (1000 ppm) or less.

かかる工程を大型基板の状態で行なう場合には、図5(b)に示すように、大型基板10xに形成した補強用突起95に沿って第1シール材91aを塗布する。   When this process is performed in the state of a large substrate, as shown in FIG. 5B, the first sealing material 91a is applied along the reinforcing protrusions 95 formed on the large substrate 10x.

次に、図4(d)に示す第2シール材塗布工程において、ディスペンサ描画、スクリーン印刷法、マイクロピエゾヘッドを用いたインクジェット法などにより、第1基板10において、第1シール材91a囲まれた領域内に、前記した熱硬化性のエポキシ樹脂材料からなる第2シール材92aを塗布する。かかる第2シール材92aは、ベタ状、ドット状、ストライプ状などのパターンに塗布される。第2シール材92aの塗布時の粘度は、薄膜でかつ充填性を上げるという観点から、500mPa・s以下、さらには300mPa・s以下であることが好ましい。かかる第2シール材92aについても、多量の水分を含んでいると硬化阻害を起こしやすいため、第2シール材92aについても、第1シール材91aと同様、水分を含んでいると、気泡が発生し、強度が低下するため、含水率は0.1wt%(1000ppm)以下に脱水されていることが好ましい。また、第2シール材92aに対して、酸無水の開環を促進する硬化促進剤やカチオン重合反応を起こす光反応型開始剤などを添加しておけば、低温かつ短時間での硬化が可能となる。   Next, in the second sealing material application step shown in FIG. 4 (d), the first sealing material 91a is surrounded on the first substrate 10 by a dispenser drawing, a screen printing method, an ink jet method using a micro piezo head, or the like. The second sealing material 92a made of the above-described thermosetting epoxy resin material is applied in the region. The second sealing material 92a is applied in a pattern such as a solid shape, a dot shape, or a stripe shape. The viscosity at the time of application of the second sealing material 92a is preferably 500 mPa · s or less, more preferably 300 mPa · s or less, from the viewpoint of increasing the filling property with a thin film. Since the second sealing material 92a is also susceptible to curing inhibition if it contains a large amount of water, bubbles are generated when the second sealing material 92a contains water as well as the first sealing material 91a. In order to reduce the strength, the water content is preferably dehydrated to 0.1 wt% (1000 ppm) or less. In addition, if a curing accelerator that promotes ring opening of acid anhydride or a photoreactive initiator that causes a cationic polymerization reaction is added to the second sealing material 92a, curing can be performed at a low temperature in a short time. It becomes.

かかる工程を大型基板の状態で行なう場合には、図5(c)に示すように、大型基板10xに形成した補強用突起95および第1シール材91aで囲まれた領域内に第2シール材92aを塗布する。   When this process is performed in the state of a large substrate, as shown in FIG. 5C, the second sealing material is located in a region surrounded by the reinforcing projection 95 and the first sealing material 91a formed on the large substrate 10x. 92a is applied.

次に、重ね合わせ工程では、図2(b)および図3(a)に示すように、第1シール材91aおよび第2シール材92aを間に挟むように第1基板10と第2基板20とを重ね合わせる。その際、約600N程度の力で第2基板20を第1基板10に向けて加圧し、この状態を約200秒保持する。かかる重ね合わせ工程では、まず、第1シール材91aが第2基板20に接触して内側が密閉され、その後、第1基板10と第2基板20と間で第2シール材92aが展開する。かかる重ね合わせ工程は、真空度1Pa程度の減圧雰囲気で行なう。   Next, in the overlapping process, as shown in FIGS. 2B and 3A, the first substrate 10 and the second substrate 20 are sandwiched between the first seal material 91a and the second seal material 92a. And overlay. At that time, the second substrate 20 is pressed toward the first substrate 10 with a force of about 600 N, and this state is maintained for about 200 seconds. In the superposition process, first, the first sealing material 91 a contacts the second substrate 20 to seal the inside, and then the second sealing material 92 a is developed between the first substrate 10 and the second substrate 20. Such a superposition process is performed in a reduced pressure atmosphere with a degree of vacuum of about 1 Pa.

次に、常圧に戻すと、大気圧によって加圧されたのと同様な状態になるので、第1基板10と第2基板20との間で第2シール材92aが隅々まで展開し、第2シール材92aの充填性が向上する。その際、第1シール材91aおよび補強用突起95は、第2シール材92aに対するバンクとして機能する。このため、減圧状態から常圧に戻した際に大気圧によって加圧されたのと同様な状態になっても、第2シール材92aは、第1シール材91aおよび補強用突起95によって堰き止められ、外側に流出しない。なお、第1基板10と第2基板20との間には、それらの間に介在する第1シール材91aおよび第2シール材92aによって確保される。また、第1シール材91aにギャップ材を添加しておいてもよい。   Next, when the pressure is returned to normal pressure, it becomes the same state as when pressurized by atmospheric pressure, so the second sealing material 92a expands to every corner between the first substrate 10 and the second substrate 20, The filling property of the second sealing material 92a is improved. At that time, the first sealing material 91a and the reinforcing protrusion 95 function as a bank for the second sealing material 92a. For this reason, the second sealing material 92a is blocked by the first sealing material 91a and the reinforcing protrusion 95 even when the pressure is reduced to the normal pressure from the reduced pressure state and the pressure is increased by the atmospheric pressure. Will not flow out. In addition, it is ensured between the 1st board | substrate 10 and the 2nd board | substrate 20 with the 1st sealing material 91a and the 2nd sealing material 92a which intervene between them. Further, a gap material may be added to the first seal material 91a.

次に、硬化工程では、第1基板10または/および第2基板20の側から第1シール材91aに対して30mW/cm2程度のパワーで2000mJ/cm2程度の光量の紫外線を照射して第1シール材91aのみを選択的に硬化させて、第1シール材層91を形成する。次に、第1シール材層91によって貼り合わされた第1基板10と第2基板20とをホットプレート上に配置した状態で60〜100℃の加熱を行い、第1基板10と第2基板20との間で第2シール材92aを隅々まで行き渡らせながら第2シール材92aを硬化させ、第2シール材層92を形成する。このようにして、第1基板10と第2基板20とを第1シール材層91および第2シール材層92によって貼り合わせた構造とする(貼り合せ工程)。 Next, in the curing step, ultraviolet light having a light amount of about 2000 mJ / cm 2 is applied to the first sealing material 91a from the first substrate 10 and / or the second substrate 20 side with a power of about 30 mW / cm 2. Only the first sealing material 91 a is selectively cured to form the first sealing material layer 91. Next, the first substrate 10 and the second substrate 20 bonded to each other by the first sealing material layer 91 are heated at 60 to 100 ° C. with the first substrate 10 and the second substrate 20 placed on a hot plate. The second sealing material 92a is hardened while spreading the second sealing material 92a to every corner between the two and the second sealing material layer 92 is formed. In this way, the first substrate 10 and the second substrate 20 are bonded to each other by the first sealing material layer 91 and the second sealing material layer 92 (bonding step).

このような工程を行なうことにより、有機EL装置100を得る。なお、上記の工程を大型基板の状態で行なった場合には、大型基板を切断して単品サイズの有機EL装置100を得る。このように構成した有機EL装置100において、第2シール材層92は硬化されているので、高温放置時に対流が起こらないので、封止膜60の第3層63を損傷することがなく、第2シール材層92は、封止膜60の第3層63に対する保護膜として機能する。ここで、第2シール材層92の厚さは1〜5μmであり、画素高精細になる程薄い方が好ましい。また、一般的な接着剤に多く含まれる粘土鉱物やシリカボール、樹脂ボールなどの充填物(フィラー)は、封止膜60の第3層63を損傷させる原因となるため、第1シール材91aおよび第2シール材92aには、かかる充填物が配合されていないことが好ましく、特に、第2シール材92aは、封止膜60に接するとともに、光の透過性を考慮すると、充填物が配合されていないことが好ましい。   By performing such steps, the organic EL device 100 is obtained. When the above process is performed on a large substrate, the large substrate is cut to obtain a single-size organic EL device 100. In the organic EL device 100 configured as described above, since the second sealing material layer 92 is cured, convection does not occur when left at a high temperature, so that the third layer 63 of the sealing film 60 is not damaged, and the second sealing material layer 92 is not damaged. The two sealing material layers 92 function as a protective film for the third layer 63 of the sealing film 60. Here, the thickness of the second sealing material layer 92 is 1 to 5 μm, and it is preferable that the second sealing material layer 92 is thinner as the pixel becomes higher in definition. In addition, fillers such as clay minerals, silica balls, and resin balls that are contained in a large amount in general adhesives cause damage to the third layer 63 of the sealing film 60, and thus the first sealing material 91 a. It is preferable that such a filler is not blended in the second sealing material 92a. In particular, the second sealing material 92a is in contact with the sealing film 60, and considering the light transmittance, the filler is blended. Preferably not.

(本形態の主な効果)
以上説明したように、本形態の有機EL装置100およびその製造方法では、有機EL素子80を水分などから保護することを目的に、第2電極層83の上層に画素領域10aよりも広い領域にわたって封止膜60を形成しておき、この状態で、第1基板10と第2基板20とを貼り合せる。
(Main effects of this form)
As described above, in the organic EL device 100 and the manufacturing method thereof according to the present embodiment, the organic EL device 80 is formed over a region wider than the pixel region 10a on the second electrode layer 83 for the purpose of protecting the organic EL element 80 from moisture and the like. The sealing film 60 is formed, and the first substrate 10 and the second substrate 20 are bonded together in this state.

かかる貼り合わせ構造を採用するにあたって、重ね合わせ工程においては、未硬化の第2シール材92aを未硬化の第1シール材91aによって堰き止めながら第2シール材92aを基板間で展開させる。その際、第2シール材92aが未硬化の第1シール材91aを外側に向けて押圧するようなことがあっても、本形態では、第1シール材91aが補強用突起95で補強されているので、第2シール材92aが第1シール材91aを突き破ることがない。従って、第2シール材92aの流出を防止することができる。また、第1シール材91aが未硬化であっても、重ね合わせ工程で第1シール材91aが途切れることがないので、第1シール材91aの塗布、および第2シール材92aの塗布を連続して行い、しかる後に、第1シール材91aおよび第2シール材92aを硬化させればよいので、生産性を向上することができる。   In adopting such a bonding structure, in the overlapping step, the second sealing material 92a is developed between the substrates while the uncured second sealing material 92a is dammed by the uncured first sealing material 91a. At this time, even if the second sealing material 92a presses the uncured first sealing material 91a outward, in the present embodiment, the first sealing material 91a is reinforced by the reinforcing protrusion 95. Therefore, the second sealing material 92a does not break through the first sealing material 91a. Accordingly, the second seal material 92a can be prevented from flowing out. Further, even if the first sealing material 91a is uncured, the first sealing material 91a is not interrupted in the overlapping process, so that the application of the first sealing material 91a and the application of the second sealing material 92a are continued. After that, the first sealing material 91a and the second sealing material 92a may be cured, so that productivity can be improved.

また、第1シール材91aは、第2シール材92aよりも粘度が高いので、第1シール材91aを塗布した際、第1シール材91aが外側に流出することを防止することもできる。また、第2シール材92aについては、第1シール材91aで囲まれた領域の全体にわたって充填することができる。   Moreover, since the 1st sealing material 91a has a viscosity higher than the 2nd sealing material 92a, when the 1st sealing material 91a is apply | coated, it can also prevent that the 1st sealing material 91a flows out outside. Further, the second sealing material 92a can be filled over the entire region surrounded by the first sealing material 91a.

さらに、第1シール材91aは光硬化性であり、第2シール材92aは熱硬化性であるため、第1シール材91aおよび第2シール材92aを所定の順序に硬化させることができ、第1シール材91aのみを硬化させた後、第2シール材92aを硬化させることができる。従って、第2シール材92aを硬化させる際に第2シール材92aが第1シール材層91を外側に向けて押圧するようなことがあっても、第1シール材層91が既に硬化しているので、第2シール材92aが第1シール材層91を突き破ることがない。また、画素領域10aでは第1基板10および第2基板20に各種の遮光性の膜が形成されているが、このような場合でも、第2シール材92aが熱硬化性であるので、画素領域10a内に形成された第2シール材92aを確実に硬化させることができる。   Furthermore, since the first sealing material 91a is photocurable and the second sealing material 92a is thermosetting, the first sealing material 91a and the second sealing material 92a can be cured in a predetermined order, After only the first sealing material 91a is cured, the second sealing material 92a can be cured. Therefore, even if the second sealing material 92a presses the first sealing material layer 91 outward when the second sealing material 92a is cured, the first sealing material layer 91 is already cured. Therefore, the second sealing material 92a does not break through the first sealing material layer 91. In the pixel region 10a, various light-shielding films are formed on the first substrate 10 and the second substrate 20. Even in such a case, since the second sealant 92a is thermosetting, the pixel region The second sealing material 92a formed in 10a can be reliably cured.

さらにまた、重ね合わせ工程は、減圧雰囲気中で行なうため、第1基板10と第2基板20との間に気泡が混入することを防止することができる。また、常圧に戻した際、大気圧によって加圧されたのと同様な状態になるので、第1基板10と第2基板20との間で第2シール材92aが隅々まで行き渡り、第2シール材92aの充填性が向上する。   Furthermore, since the overlapping process is performed in a reduced-pressure atmosphere, it is possible to prevent bubbles from being mixed between the first substrate 10 and the second substrate 20. Further, when the pressure is returned to the normal pressure, the state is the same as when the pressure is increased by the atmospheric pressure. Therefore, the second sealing material 92a reaches every corner between the first substrate 10 and the second substrate 20, and the second The filling property of the two sealing materials 92a is improved.

[実施の形態1の改良例]
図6(a)、(b)は各々、本発明の実施の形態1の改良例に係る有機EL装置の断面構成を模式的に示す断面図、およびその周辺領域10cの平面構成を模式的に示す平面図である。図7(a)、(b)は各々、本発明の実施の形態1の別の改良例に係る有機EL装置の断面構成を模式的に示す断面図、およびその周辺領域10cの平面構成を模式的に示す平面図である。なお、本形態の基本的な構成は、実施の形態1と同様であるため、共通する機能を有する部分には同一の符号を付して図示し、それらの説明を省略する。
[Improvement of Embodiment 1]
6A and 6B are a cross-sectional view schematically showing a cross-sectional configuration of an organic EL device according to an improved example of the first embodiment of the present invention, and a plan configuration of the peripheral region 10c, respectively. FIG. FIGS. 7A and 7B are a cross-sectional view schematically showing a cross-sectional configuration of an organic EL device according to another modified example of the first embodiment of the present invention, and a plan configuration of the peripheral region 10c. FIG. Since the basic configuration of this embodiment is the same as that of Embodiment 1, portions having common functions are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted.

実施の形態1では、周辺領域10cに補強用突起95を枠状に形成するにあたって、1本の補強用突起95を連続する直線状に形成したが、図6(a)、(b)に示すように、補強用突起95を周辺領域10cに二重に形成してもよい。ここで、補強用突起95は、画素領域10aを囲む方向において途切れ部分95yで分割されているが、内側の補強用突起95と外側の補強用突起95とでは、途切れ部分95yの位置が画素領域10aを囲む方向においてずれている。このため、第1シール材91aは、画素領域10aを囲む全体にわたって補強用突起95により補強されている。その他の構成は、実施の形態1と同様であるため、説明を省略する。   In the first embodiment, when the reinforcing protrusion 95 is formed in a frame shape in the peripheral region 10c, the single reinforcing protrusion 95 is formed in a continuous linear shape, as shown in FIGS. 6 (a) and 6 (b). As described above, the reinforcing protrusions 95 may be formed in the peripheral region 10c in a double manner. Here, the reinforcing protrusion 95 is divided by a discontinuous portion 95y in a direction surrounding the pixel region 10a. However, the discontinuous portion 95y is positioned at the pixel region in the inner reinforcing protrusion 95 and the outer reinforcing protrusion 95. It has shifted | deviated in the direction surrounding 10a. For this reason, the first sealing material 91a is reinforced by the reinforcing protrusions 95 over the entire area surrounding the pixel region 10a. Since other configurations are the same as those of the first embodiment, description thereof is omitted.

このように構成した場合も、実施の形態1と同様、第1シール材91aが補強用突起95で補強されているため、第1シール材91aおよび第2シール材92aを塗布した後、第1シール材91aが未硬化のまま、重ね合わせ工程で第1基板10と第2基板20とを重ね合わせても、第2シール材92aが第1シール材91aを突き破ることがない。   Even in this configuration, since the first sealing material 91a is reinforced by the reinforcing protrusions 95 as in the first embodiment, the first sealing material 91a and the second sealing material 92a are applied and then the first sealing material 91a is applied. Even if the first substrate 10 and the second substrate 20 are overlapped in the overlapping step while the sealant 91a is not cured, the second sealant 92a does not break through the first sealant 91a.

また、補強用突起95は、画素領域10aの周りを二重に囲むように形成されているため、第1シール材91aを強固に補強することができる。また、補強用突起95に沿って第1シール材91aを塗布した際、第1シール材91aの流動を防止することができる。また、補強用突起95で挟まれた領域にも第1シール材91aが存在することになるので、第1シール材91aによって第1基板10と第2基板20を強固に貼り合せることができる。   Further, since the reinforcing protrusion 95 is formed so as to double surround the pixel region 10a, the first sealing material 91a can be strongly reinforced. Further, when the first sealing material 91a is applied along the reinforcing protrusions 95, the flow of the first sealing material 91a can be prevented. Further, since the first sealing material 91a exists also in the region sandwiched between the reinforcing protrusions 95, the first substrate 10 and the second substrate 20 can be firmly bonded together by the first sealing material 91a.

さらに、補強用突起95は、途切れ部分95yによって周方向で複数に分割されているため、第1シール材91aは途切れ部分95yを介して流動することができる。従って、補強用突起95の内側と外側との間で第1シール材91aを同等に塗布した状態とすることができ、第1基板10と第2基板20とを強固に貼り合わせることができる。   Furthermore, since the reinforcing protrusion 95 is divided into a plurality of portions in the circumferential direction by the interrupted portion 95y, the first seal material 91a can flow through the interrupted portion 95y. Therefore, the first sealing material 91a can be equally applied between the inside and the outside of the reinforcing protrusion 95, and the first substrate 10 and the second substrate 20 can be firmly bonded.

なお、図6(a)、(b)に示す例では、周辺領域10cを二重に囲むように補強用突起95を形成したが、図7(a)、(b)に示すように、周辺領域10cを三重に囲むように補強用突起95を形成してもよい。ここで、補強用突起95はいずれも、画素領域10aを囲む方向において途切れ部分95yで分割されているが、内側および外側の補強用突起95と、中央の補強用突起95とでは、途切れ部分95yの位置が画素領域10aを囲む方向においてずれている。このため、第1シール材91aは、画素領域10aを囲む全体にわたって補強用突起95により補強されている。その他の構成は、図6を参照して説明した構成と同様であるため、説明を省略する。   In the example shown in FIGS. 6A and 6B, the reinforcing protrusion 95 is formed so as to surround the peripheral region 10c twice. However, as shown in FIGS. The reinforcing protrusions 95 may be formed so as to surround the region 10c in triplicate. Here, each of the reinforcing protrusions 95 is divided by a discontinuous portion 95y in a direction surrounding the pixel region 10a. However, the inner and outer reinforcing protrusions 95 and the central reinforcing protrusion 95 have a discontinuous portion 95y. Is shifted in the direction surrounding the pixel region 10a. For this reason, the first sealing material 91a is reinforced by the reinforcing protrusions 95 over the entire area surrounding the pixel region 10a. The other configuration is the same as the configuration described with reference to FIG.

[実施の形態2]
図8(a)、(b)は各々、本発明の実施の形態2に係る有機EL装置の断面構成を模式的に示す断面図、およびその周辺領域10cの平面構成を模式的に示す平面図である。図9は、本形態の有機EL装置100の製造工程のうち、第2基板20に補強用突起95を形成した後、第1基板10と第2基板20とを貼り合せる直前までの様子を示す工程断面図である。なお、本形態の基本的な構成は、実施の形態1と同様であるため、共通する機能を有する部分には同一の符号を付して図示し、それらの説明を省略する。また、本形態の有機EL装置100を製造するにあたって、第1基板10および第2基板20を多数取りできる大型基板の状態で貼り合わせ工程などを行い、その後、大型基板を単品サイズの大きさに切断する方法を採用した場合の説明については、実施の形態1と同様、図5を参照する。また、図9において、第2基板20については、図8に示す状態と上下反転して示してある。
[Embodiment 2]
8A and 8B are a cross-sectional view schematically showing a cross-sectional configuration of an organic EL device according to Embodiment 2 of the present invention, and a plan view schematically showing a plan configuration of a peripheral region 10c thereof. It is. FIG. 9 shows a state of the manufacturing process of the organic EL device 100 according to the present embodiment, after the reinforcing protrusion 95 is formed on the second substrate 20 and immediately before the first substrate 10 and the second substrate 20 are bonded together. It is process sectional drawing. Since the basic configuration of this embodiment is the same as that of Embodiment 1, portions having common functions are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted. Further, in manufacturing the organic EL device 100 of the present embodiment, a bonding process or the like is performed in a state of a large substrate that can take a large number of the first substrate 10 and the second substrate 20, and then the large substrate is reduced to a single product size. As for the explanation when the cutting method is adopted, FIG. 5 is referred to as in the first embodiment. In FIG. 9, the second substrate 20 is shown upside down with respect to the state shown in FIG.

実施の形態1では、第1基板10の方に第2基板20に向けて突出する補強用突起95を形成したが、本形態では、図8(a)、(b)に示すように、第2基板20の側に第1基板10に向けて突出する補強用突起95を形成してある。かかる構成の有機EL装置100を製造するには、図9(a)に示すように、第2基板20の支持基板20dにカラーフィルタ層22(R)、(G)、(B)などを形成した後、図9(b)に示すように、第2基板20の周辺領域10cに補強用突起95を形成する。かかる補強用突起95を形成するには、後述するように、カラーフィルタ層22(R)、(G)、(B)、遮光層23、平坦化膜24、およびガスバリア層25を第2基板20の周辺領域10cで積層してもよいが、本形態では、実施の形態1と同様、紫外線硬化性のエポキシ樹脂材料や、熱硬化性のエポキシ樹脂材料をディスペンサ描画、スクリーン印刷法、マイクロピエゾヘッドを用いたインクジェット法などにより塗布した後、硬化させる。なお、補強用突起95については線状に形成するため、樹脂材料としては、塗布する際の粘度が高い方が好ましい。かかる工程を大型基板の状態で行なう場合には、図5(a)に示すように、第2基板20を多数取りするための大型基板20xに対して、単品サイズの第2基板20を切り出す際のスクライブ線(図示せず)に沿って補強用突起95を形成する。   In the first embodiment, the reinforcing protrusion 95 that protrudes toward the second substrate 20 is formed on the first substrate 10, but in this embodiment, as shown in FIGS. Reinforcing protrusions 95 that protrude toward the first substrate 10 are formed on the two substrates 20 side. In order to manufacture the organic EL device 100 having such a configuration, the color filter layers 22 (R), (G), and (B) are formed on the support substrate 20 d of the second substrate 20 as shown in FIG. 9A. After that, as shown in FIG. 9B, reinforcing protrusions 95 are formed in the peripheral region 10c of the second substrate 20. In order to form the reinforcing protrusion 95, the color filter layers 22 (R), (G), and (B), the light shielding layer 23, the planarizing film 24, and the gas barrier layer 25 are formed on the second substrate 20 as described later. However, in the present embodiment, as in the first embodiment, an ultraviolet curable epoxy resin material or a thermosetting epoxy resin material is dispensed by drawing, a screen printing method, and a micro piezo head. After applying by an ink jet method using, etc., it is cured. Since the reinforcing protrusions 95 are formed in a linear shape, the resin material preferably has a higher viscosity when applied. When this process is performed in the state of a large substrate, as shown in FIG. 5A, when the second substrate 20 having a single size is cut out from the large substrate 20x for taking a large number of second substrates 20. A reinforcing projection 95 is formed along the scribe line (not shown).

次に、図9(c)に示す第1シール材塗布工程において、ディスペンサ描画、スクリーン印刷法、マイクロピエゾヘッドを用いたインクジェット法などにより、第2基板20の周辺領域10cに対して補強用突起95に沿うように、実施の形態1で説明した光硬化性のエポキシ樹脂材料からなる第1シール材91aを1mm以下の狭い幅寸法に塗布する。その結果、第1シール材91aは補強用突起95を覆うように塗布される。かかる工程を大型基板の状態で行なう場合には、図5(b)に示すように、大型基板20xに形成した補強用突起95に沿って第1シール材91aを塗布する。   Next, in the first sealing material application step shown in FIG. 9C, a reinforcing projection for the peripheral region 10c of the second substrate 20 by dispenser drawing, screen printing method, ink jet method using a micro piezo head, or the like. 95, the first sealing material 91a made of the photocurable epoxy resin material described in the first embodiment is applied to a narrow width dimension of 1 mm or less. As a result, the first sealing material 91 a is applied so as to cover the reinforcing protrusion 95. When this process is performed in the state of a large substrate, as shown in FIG. 5B, the first sealing material 91a is applied along the reinforcing protrusions 95 formed on the large substrate 20x.

次に、図9(d)に示す第2シール材塗布工程において、ディスペンサ描画、スクリーン印刷法、マイクロピエゾヘッドを用いたインクジェット法などにより、第1基板10において、第1シール材91aで囲まれた領域内に、実施の形態1で説明した熱硬化性のエポキシ樹脂材料からなる第2シール材92aをベタ状、ドット状、ストライプ状など、所定のパターンに塗布する。かかる工程を大型基板の状態で行なう場合には、図5(c)に示すように、大型基板20xに形成した補強用突起95および第1シール材91aで囲まれた領域内に第2シール材92aを塗布する。   Next, in the second sealing material application step shown in FIG. 9D, the first substrate 10 is surrounded by the first sealing material 91a by a dispenser drawing, a screen printing method, an ink jet method using a micro piezo head, or the like. The second sealing material 92a made of the thermosetting epoxy resin material described in Embodiment 1 is applied in a predetermined pattern such as a solid shape, a dot shape, or a stripe shape in the region. When this step is performed in the state of a large substrate, as shown in FIG. 5C, the second sealing material is located in a region surrounded by the reinforcing protrusion 95 and the first sealing material 91a formed on the large substrate 20x. 92a is applied.

次に、重ね合わせ工程では、図2(b)および図8(a)に示すように、第1シール材91aおよび第2シール材92aを間に挟むように第1基板10と第2基板20とを重ね合わせる。その際、実施の形態1と同様、第1基板10を第2基板20に向けて加圧し、この状態を約200秒保持する。かかる重ね合わせ工程では、まず、第1シール材91aが第1基板10に接触して内側が密閉され、その後、第1基板10と第2基板20と間で第2シール材92aが展開する。かかる重ね合わせ工程は、真空度1Pa程度の減圧雰囲気で行なう。   Next, in the overlapping process, as shown in FIGS. 2B and 8A, the first substrate 10 and the second substrate 20 are sandwiched between the first seal material 91a and the second seal material 92a. And overlay. At that time, as in the first embodiment, the first substrate 10 is pressurized toward the second substrate 20, and this state is maintained for about 200 seconds. In this superposition process, first, the first sealing material 91 a contacts the first substrate 10 to seal the inside, and then the second sealing material 92 a is developed between the first substrate 10 and the second substrate 20. Such a superposition process is performed in a reduced pressure atmosphere with a degree of vacuum of about 1 Pa.

次に、常圧に戻すと、大気圧によって加圧されたのと同様な状態になるので、第1基板10と第2基板20との間で第2シール材92aが隅々まで展開し、第2シール材92aの充填性が向上する。その際、第1シール材91aおよび補強用突起95は、第2シール材92aに対するバンクとして機能する。このため、減圧状態から常圧に戻した際に大気圧によって加圧されたのと同様な状態になっても、第2シール材92aは、第1シール材91aおよび補強用突起95によって堰き止められ、外側に流出しない。   Next, when the pressure is returned to normal pressure, it becomes the same state as when pressurized by atmospheric pressure, so the second sealing material 92a expands to every corner between the first substrate 10 and the second substrate 20, The filling property of the second sealing material 92a is improved. At that time, the first sealing material 91a and the reinforcing protrusion 95 function as a bank for the second sealing material 92a. For this reason, the second sealing material 92a is blocked by the first sealing material 91a and the reinforcing protrusion 95 even when the pressure is reduced to the normal pressure from the reduced pressure state and the pressure is increased by the atmospheric pressure. Will not flow out.

次に、硬化工程では、第1基板10または/および第2基板20の側から第1シール材91aに対して紫外線を照射して第1シール材91aのみを選択的に硬化させて、第1シール材層91を形成する。次に、第1シール材層91によって貼り合わされた第1基板10と第2基板20とをホットプレート上に配置した状態で加熱を行い、第1基板10と第2基板20との間で第2シール材92aを隅々まで行き渡らせながら第2シール材92aを硬化させ、第2シール材層92を形成する。このようにして、第1基板10と第2基板20とを第1シール材層91および第2シール材層92によって貼り合わせた構造とする。   Next, in the curing step, only the first sealing material 91a is selectively cured by irradiating the first sealing material 91a with ultraviolet rays from the first substrate 10 and / or the second substrate 20 side. A sealing material layer 91 is formed. Next, heating is performed in a state where the first substrate 10 and the second substrate 20 bonded together by the first sealing material layer 91 are arranged on a hot plate, and the first substrate 10 and the second substrate 20 are heated between the first substrate 10 and the second substrate 20. The second sealing material 92a is cured while spreading the two sealing materials 92a to every corner, and the second sealing material layer 92 is formed. Thus, the first substrate 10 and the second substrate 20 are bonded to each other by the first sealing material layer 91 and the second sealing material layer 92.

このような工程を行なうことにより、有機EL装置100を得る。なお、上記の工程を大型基板の状態で行なった場合には、大型基板を切断して単品サイズの有機EL装置100を得る。その他の構成は実施の形態1と同様であるため、説明を省略する。   By performing such steps, the organic EL device 100 is obtained. When the above process is performed on a large substrate, the large substrate is cut to obtain a single-size organic EL device 100. Since other configurations are the same as those of the first embodiment, description thereof is omitted.

以上説明したように、本形態の有機EL装置100およびその製造方法でも、実施の形態1と同様、重ね合わせ工程においては、未硬化の第2シール材92aを未硬化の第1シール材91aによって堰き止めながら第2シール材92aを基板間で展開させる。その際、第2シール材92aが未硬化の第1シール材91aを外側に向けて押圧するようなことがあっても、本形態では、第1シール材91aが補強用突起95で補強されているので、第2シール材92aが第1シール材91aを突き破ることがない。従って、第2シール材92aの流出を防止することができるなど、実施の形態1と同様な効果を奏する。   As described above, also in the organic EL device 100 and the manufacturing method thereof according to the present embodiment, the uncured second sealing material 92a is replaced by the uncured first sealing material 91a in the overlapping process, as in the first embodiment. The second sealing material 92a is spread between the substrates while damming. At this time, even if the second sealing material 92a presses the uncured first sealing material 91a outward, in the present embodiment, the first sealing material 91a is reinforced by the reinforcing protrusion 95. Therefore, the second sealing material 92a does not break through the first sealing material 91a. Accordingly, the same effects as those of the first embodiment can be obtained, such as preventing the second sealing material 92a from flowing out.

なお、本形態でも、図6および図7を参照して説明したように、補強用突起95を二重あるいは三重に形成してもよい。   In this embodiment as well, as described with reference to FIGS. 6 and 7, the reinforcing protrusions 95 may be formed in a double or triple manner.

[実施の形態3]
図10(a)、(b)は各々、本発明の実施の形態3に係る有機EL装置の断面構成を模式的に示す断面図、およびその周辺領域10cの平面構成を模式的に示す平面図である。なお、本形態の基本的な構成は、実施の形態1、2と同様であるため、共通する機能を有する部分には同一の符号を付して図示し、それらの説明を省略する。
[Embodiment 3]
FIGS. 10A and 10B are a cross-sectional view schematically showing a cross-sectional configuration of the organic EL device according to Embodiment 3 of the present invention, and a plan view schematically showing a plan configuration of the peripheral region 10c. It is. Since the basic configuration of this embodiment is the same as that of Embodiments 1 and 2, portions having common functions are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted.

実施の形態1では、第1基板10の方に第2基板20に向けて突出する補強用突起95を形成し、実施の形態2では、第2基板20の方に第1基板10に向けて突出する補強用突起95を形成したが、本形態では、図10(a)、(b)に示すように、周辺領域10cでは、第1基板10の方に第2基板20に向けて突出する補強用突起951(第1補強用突起)を形成するとともに、第2基板20の方にも第1基板10に向けて突出する補強用突起952(第2補強用突起)を形成してある。ここで、補強用突起951、952はいずれも周辺領域10cに沿って矩形枠状に形成されているが、補強用突起951と補強用突起952とは、第1基板10と第2基板20とを重ねた際、互いにずれるように形成されている。また、補強用突起951、952については各々、一重に形成することもできるが、本形態では、補強用突起951は二重に形成され、補強用突起952については、補強用突起951によって挟まれる領域に一重に形成されており、補強用突起951で挟まれた領域内に補強用突起952が位置している。また、補強用突起951、952はいずれも、途切れ部分951y、952yによって画素領域10aを囲む方向で複数に分割されている。   In the first embodiment, a reinforcing projection 95 that protrudes toward the second substrate 20 is formed on the first substrate 10, and in the second embodiment, the second substrate 20 faces the first substrate 10. Although the protruding reinforcing protrusion 95 is formed, in this embodiment, as shown in FIGS. 10A and 10B, the peripheral region 10 c protrudes toward the first substrate 10 toward the second substrate 20. A reinforcing protrusion 951 (first reinforcing protrusion) is formed, and a reinforcing protrusion 952 (second reinforcing protrusion) protruding toward the first substrate 10 is also formed on the second substrate 20. Here, both the reinforcing protrusions 951 and 952 are formed in a rectangular frame shape along the peripheral region 10 c, but the reinforcing protrusion 951 and the reinforcing protrusion 952 are the first substrate 10 and the second substrate 20. When they are stacked, they are formed so as to be displaced from each other. The reinforcing protrusions 951 and 952 can be formed in a single layer, but in this embodiment, the reinforcing protrusions 951 are formed in a double shape, and the reinforcing protrusions 952 are sandwiched between the reinforcing protrusions 951. The reinforcing projection 952 is formed in a single region, and the reinforcing projection 952 is located in the region sandwiched between the reinforcing projections 951. Further, both the reinforcing protrusions 951 and 952 are divided into a plurality of parts in the direction surrounding the pixel region 10a by the interrupted portions 951y and 952y.

かかる有機EL装置100を製造するにあたっても、実施の形態1、2と同様、第1基板10および第2基板20に補強用突起951、952を形成しておき、周辺領域に沿って、紫外線硬化性の第1シール材91aを塗布する第1シール材塗布工程と、第1シール材91aで囲まれた領域内に熱硬化性の第2シール材92aを塗布する第2シール材塗布工程と、第1シール材91aおよび第2シール材92aを間に挟むように第1基板10と第2基板20とを重ね合わせる重ね合わせ工程と、第1シール材91aおよび第2シール材92aを硬化させるシール材硬化工程とを行なう。   Also in manufacturing the organic EL device 100, as in the first and second embodiments, the reinforcing protrusions 951 and 952 are formed on the first substrate 10 and the second substrate 20, and UV curing is performed along the peripheral region. A first sealing material application step for applying a first sealing material 91a, and a second sealing material application step for applying a thermosetting second sealing material 92a in a region surrounded by the first sealing material 91a; A stacking step of stacking the first substrate 10 and the second substrate 20 so as to sandwich the first seal material 91a and the second seal material 92a, and a seal for curing the first seal material 91a and the second seal material 92a A material curing step is performed.

このような方法を行なう際、本形態では、第1基板10に補強用突起951が形成され、第2基板20に補強用突起952が形成されている。従って、第1シール材塗布工程では、第1シール材91aを第1基板10に塗布する方法、第1シール材91aを第2基板20に塗布する方法、第1シール材91aを第1基板10および第2基板20の双方に塗布する方法のいずれを採用してもよい。また、第2シール材塗布工程でも、第2シール材92aを第1基板10に塗布する方法、第2シール材92aを第2基板20に塗布する方法、第2シール材92aを第1基板10および第2基板20の双方に塗布する方法のいずれを採用してもよい。いずれも場合も、重ね合わせ工程において、未硬化の第2シール材92aを未硬化の第1シール材91aによって堰き止めながら第2シール材92aを基板間で展開させる際、第2シール材92aが未硬化の第1シール材91aを外側に向けて押圧するようなことがあっても、本形態では、第1シール材91aが補強用突起951、952で補強されているので、第2シール材92aが第1シール材91aを突き破ることがない。従って、第2シール材92aの流出を防止することができるなど、実施の形態1、2と同様な効果を奏する。   When performing such a method, in this embodiment, the reinforcing protrusion 951 is formed on the first substrate 10, and the reinforcing protrusion 952 is formed on the second substrate 20. Therefore, in the first sealing material application step, the first sealing material 91a is applied to the first substrate 10, the first sealing material 91a is applied to the second substrate 20, and the first sealing material 91a is applied to the first substrate 10. Either of the methods applied to both the second substrate 20 and the second substrate 20 may be employed. In the second sealing material application step, the second sealing material 92a is applied to the first substrate 10, the second sealing material 92a is applied to the second substrate 20, and the second sealing material 92a is applied to the first substrate 10. Either of the methods applied to both the second substrate 20 and the second substrate 20 may be employed. In any case, when the second sealing material 92a is deployed between the substrates while the uncured second sealing material 92a is dammed up by the uncured first sealing material 91a in the overlapping process, the second sealing material 92a Even if the uncured first sealing material 91a is pressed outward, in the present embodiment, since the first sealing material 91a is reinforced by the reinforcing protrusions 951 and 952, the second sealing material. 92a does not break through the first sealing material 91a. Therefore, the same effects as those of the first and second embodiments can be obtained, such as preventing the second sealing material 92a from flowing out.

[実施の形態1、2の改良例]
上記実施の形態では、補強用突起95、951、952を形成するにあたって、樹脂を塗布後、硬化させたが、第1基板10の画素領域10aには、複数の絶縁膜や、隔壁51、光反射層41、各種配線が形成されている。従って、第1基板10に補強用突起95、951を形成する場合には、複数の絶縁膜や、隔壁51、光反射層41、各種配線を周辺領域10cで所定パターンに積層して、補強用突起95、951を形成してもよい。また、第2基板10でも画素領域10aには、カラーフィルタ層22(R)、(G)、(B)、遮光層23、オーバーコート層24およびガスバリア層25が形成されているので、第2基板10に補強用突起95、952を形成する場合には、カラーフィルタ層22(R)、(G)、(B)、遮光層23、オーバーコート層24およびガスバリア層25を周辺領域10cで所定パターンに積層して、補強用突起95、952を形成してもよい。
[Improvements of Embodiments 1 and 2]
In the above embodiment, the reinforcing protrusions 95, 951, and 952 are formed by applying resin and then curing, but the pixel region 10a of the first substrate 10 includes a plurality of insulating films, partition walls 51, and light. A reflective layer 41 and various wirings are formed. Therefore, when the reinforcing protrusions 95 and 951 are formed on the first substrate 10, a plurality of insulating films, the partition walls 51, the light reflecting layer 41, and various wirings are laminated in a predetermined pattern in the peripheral region 10 c to reinforce. The protrusions 95 and 951 may be formed. In the second substrate 10, the color filter layers 22 (R), (G), and (B), the light shielding layer 23, the overcoat layer 24, and the gas barrier layer 25 are formed in the pixel region 10 a. When the reinforcing protrusions 95 and 952 are formed on the substrate 10, the color filter layers 22 (R), (G), and (B), the light shielding layer 23, the overcoat layer 24, and the gas barrier layer 25 are predetermined in the peripheral region 10 c. The reinforcing protrusions 95 and 952 may be formed by being laminated on the pattern.

このように構成すると、マスク蒸着を行なう際のマスクや、パターニングを行なう際のエッチングマスクのパターンを変更するなど、各薄膜の形成パターンを変更するだけで補強用突起95、951、952を形成できる。また、補強用突起95、951、952を形成するために別途、工程を追加する必要がない。従って、有機EL装置100の生産性を向上することができる。   With this configuration, the reinforcing protrusions 95, 951, and 952 can be formed simply by changing the formation pattern of each thin film, such as changing the mask pattern for mask vapor deposition or the pattern of the etching mask for patterning. . Further, it is not necessary to add a separate process for forming the reinforcing protrusions 95, 951, 952. Therefore, the productivity of the organic EL device 100 can be improved.

[他の実施の形態]
上記実施の形態では、トップエミッション型の有機EL装置100において第2基板20にカラーフィルタ層22(R)、(G)、(B)を設けた場合を例に説明したが、有機EL素子自身が各色の光を出射する有機EL装置に本発明を適用してもよく、この場合、第2基板20は封止基板のみとして機能する。
[Other embodiments]
In the above embodiment, the case where the color filter layers 22 (R), (G), and (B) are provided on the second substrate 20 in the top emission type organic EL device 100 has been described as an example. However, the organic EL element itself However, the present invention may be applied to an organic EL device that emits light of each color. In this case, the second substrate 20 functions only as a sealing substrate.

また、上記実施の形態では、カラー表示用の有機EL装置100を例に説明したが、複写機の光学ヘッドなどとして利用する場合には、モノクロでよく、このようなモノクロ用の有機EL装置に本発明を適用してもよい。この場合も、第2基板20は封止基板のみとして機能する。   In the above embodiment, the organic EL device 100 for color display has been described as an example. However, when used as an optical head of a copying machine, monochrome may be used, and such a monochrome organic EL device may be used. The present invention may be applied. Also in this case, the second substrate 20 functions only as a sealing substrate.

さらに、上記実施の形態では、トップエミッション型の有機EL装置100を例に説明したが、ボトムエミッション型の有機EL装置に本発明を適用してもよく、この場合、第2基板20は封止基板のみとして機能する。   Furthermore, in the above embodiment, the top emission type organic EL device 100 has been described as an example. However, the present invention may be applied to a bottom emission type organic EL device. In this case, the second substrate 20 is sealed. It functions as a substrate only.

また、上記形態では、有機機能層82を画素領域10aの全面に形成した例を説明したが、隔壁51で囲まれた領域内にインクジェット法などで有機機能層を選択的に塗布した後、定着させて、第1電極層81の上層には、3,4−ポリエチレンジオシチオフェン/ポリスチレンスルホン酸(PEDOT/PSS)などからなる正孔注入層、および発光層からなる有機機能層が形成された有機EL装置に発明を適用してもよい。この場合、発光層は、例えば、ポリフルオレン誘導体、ポリフェニレン誘導体、ポリビニルカルバゾール、ポリチオフェン誘導体、またはこれらの高分子材料に、ペリレン系色素、クマリン系色素、ローダミン系色素、例えばルブレン、ペリレン、9,10−ジフェニルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン6、キナクリドン等をドープした材料から構成される。また、発光層としては、二重結合のπ電子がポリマー鎖上で非極在化しているπ共役系高分子材料が、導電性高分子でもあることから発光性能に優れるため、好適に用いられる。特に、その分子内にフルオレン骨格を有する化合物、すなわちポリフルオレン系化合物がより好適に用いられる。また、このような材料以外にも、共役系高分子有機化合物の前駆体と、発光特性を変化させるための少なくとも1種の蛍光色素とを含んでなる組成物も使用可能である。   In the above embodiment, the example in which the organic functional layer 82 is formed on the entire surface of the pixel region 10a has been described. However, after the organic functional layer is selectively applied to the region surrounded by the partition wall 51 by an inkjet method or the like, the fixing is performed. As a result, an upper layer of the first electrode layer 81 was formed with a hole injection layer made of 3,4-polyethylenediosithiophene / polystyrene sulfonic acid (PEDOT / PSS) or the like, and an organic functional layer made of a light emitting layer. The invention may be applied to an organic EL device. In this case, the light emitting layer is made of, for example, a polyfluorene derivative, a polyphenylene derivative, a polyvinyl carbazole, a polythiophene derivative, or a polymer material thereof, a perylene dye, a coumarin dye, a rhodamine dye, for example, rubrene, perylene, 9,10. -It is composed of a material doped with diphenylanthracene, tetraphenylbutadiene, Nile red, coumarin 6, quinacridone and the like. Further, as the light emitting layer, a π-conjugated polymer material in which double-bonded π electrons are non-polarized on the polymer chain is also a conductive polymer, so that it is excellent in light emitting performance, and thus is preferably used. . In particular, a compound having a fluorene skeleton in the molecule, that is, a polyfluorene compound is more preferably used. In addition to such materials, it is also possible to use a composition comprising a conjugated polymer organic compound precursor and at least one fluorescent dye for changing light emission characteristics.

[電子機器への搭載例]
図11を参照して、上述した実施形態に係る有機EL装置100を搭載した電子機器について説明する。図11は、本発明に係る有機EL装置を用いた電子機器の説明図である。
[Example of mounting on electronic equipment]
With reference to FIG. 11, an electronic apparatus equipped with the organic EL device 100 according to the above-described embodiment will be described. FIG. 11 is an explanatory diagram of an electronic apparatus using the organic EL device according to the present invention.

図11(a)に、有機EL装置100を備えたモバイル型のパーソナルコンピュータの構成を示す。パーソナルコンピュータ2000は、表示ユニットとしての有機EL装置100と本体部2010を備える。本体部2010には、電源スイッチ2001及びキーボード2002が設けられている。図11(b)に、有機EL装置100を備えた携帯電話機の構成を示す。携帯電話機3000は、複数の操作ボタン3001及びスクロールボタン3002、並びに表示ユニットとしての有機EL装置100を備える。スクロールボタン3002を操作することによって、有機EL装置100に表示される画面がスクロールされる。図11(c)に、有機EL装置100を適用した情報携帯端末(PDA:Personal Digital Assistants)の構成を示す。情報携帯端末4000は、複数の操作ボタン4001及び電源スイッチ4002、並びに表示ユニットとしての有機EL装置100を備える。電源スイッチ4002を操作すると、住所録やスケジュール帳といった各種の情報が有機EL装置100に表示される。なお、有機EL装置100が適用される電子機器としては、図9(a)〜(c)に示すものの他、デジタルスチルカメラ、液晶テレビ、ビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、POS端末、タッチパネルを備えた機器等などが挙げられる。そして、これらの各種電子機器の表示部として、前述した有機EL装置100が適用可能である。   FIG. 11A shows a configuration of a mobile personal computer including the organic EL device 100. The personal computer 2000 includes an organic EL device 100 as a display unit and a main body 2010. The main body 2010 is provided with a power switch 2001 and a keyboard 2002. FIG. 11B shows a configuration of a mobile phone provided with the organic EL device 100. The cellular phone 3000 includes a plurality of operation buttons 3001, scroll buttons 3002, and the organic EL device 100 as a display unit. By operating the scroll button 3002, the screen displayed on the organic EL device 100 is scrolled. FIG. 11C shows the configuration of a personal digital assistant (PDA) to which the organic EL device 100 is applied. The information portable terminal 4000 includes a plurality of operation buttons 4001, a power switch 4002, and the organic EL device 100 as a display unit. When the power switch 4002 is operated, various types of information such as an address book and a schedule book are displayed on the organic EL device 100. Electronic devices to which the organic EL device 100 is applied include those shown in FIGS. 9A to 9C, a digital still camera, a liquid crystal television, a viewfinder type, a monitor direct-view type video tape recorder, a car navigation system. Examples thereof include a device, a pager, an electronic notebook, a calculator, a word processor, a workstation, a videophone, a POS terminal, and a device equipped with a touch panel. And the organic electroluminescent apparatus 100 mentioned above is applicable as a display part of these various electronic devices.

本発明の実施の形態1に係る有機EL装置の電気的な構成を示す等価回路図である。1 is an equivalent circuit diagram showing an electrical configuration of an organic EL device according to Embodiment 1 of the present invention. (a)、(b)は各々、本発明の実施の形態1に係る有機EL装置の平面的な構成を各構成要素と共に対向基板の側から見た平面図、およびそのJ−J′断面図である。(A), (b) is the top view which looked at the planar structure of the organic electroluminescent apparatus which concerns on Embodiment 1 of this invention from the opposing substrate side with each component, respectively, and its JJ 'sectional drawing It is. (a)、(b)は各々、本発明の実施の形態1に係る有機EL装置の断面構成を模式的に示す断面図、およびその周辺領域の平面構成を模式的に示す平面図である。(A), (b) is sectional drawing which shows typically the cross-sectional structure of the organic electroluminescent apparatus which concerns on Embodiment 1 of this invention, and the top view which shows typically the planar structure of the peripheral region, respectively. 本発明の実施の形態1に係る有機EL装置の製造工程のうち、第1基板に補強用突起を形成した後、第1基板と第2基板とを貼り合せる直前までの様子を示す工程断面図である。Process sectional drawing which shows a mode until it is just before bonding a 1st board | substrate and a 2nd board | substrate after forming the protrusion for a reinforcement in the 1st board | substrate among the manufacturing processes of the organic electroluminescent apparatus which concerns on Embodiment 1 of this invention. It is. 本発明の実施の形態1に係る有機EL装置の製造工程のうち、貼り合せ工程までを大型基板の状態で行なう様子を模式的に示す説明図である。It is explanatory drawing which shows typically a mode that the process to a bonding process is performed in the state of a large sized board | substrate among the manufacturing processes of the organic EL apparatus which concerns on Embodiment 1 of this invention. (a)、(b)は各々、本発明の実施の形態1の改良例に係る有機EL装置の断面構成を模式的に示す断面図、およびその周辺領域の平面構成を模式的に示す平面図である。(A), (b) is sectional drawing which shows typically the cross-sectional structure of the organic electroluminescent apparatus which concerns on the improvement example of Embodiment 1 of this invention, and the top view which shows typically the planar structure of the peripheral region It is. (a)、(b)は各々、本発明の実施の形態1の別の改良例に係る有機EL装置の断面構成を模式的に示す断面図、およびその周辺領域の平面構成を模式的に示す平面図である。(A), (b) each shows typically sectional drawing which shows the cross-sectional structure of the organic electroluminescent apparatus which concerns on another example of improvement of Embodiment 1 of this invention, and the plane structure of the peripheral region typically It is a top view. (a)、(b)は各々、本発明の実施の形態2に係る有機EL装置の断面構成を模式的に示す断面図、およびその周辺領域の平面構成を模式的に示す平面図である。(A), (b) is sectional drawing which shows typically the cross-sectional structure of the organic electroluminescent apparatus which concerns on Embodiment 2 of this invention, and the top view which shows typically the planar structure of the peripheral region, respectively. 本発明の実施の形態2に係る有機EL装置の製造工程のうち、第1基板に補強用突起を形成した後、第1基板と第2基板とを貼り合せる直前までの様子を示す工程断面図である。Process sectional drawing which shows the mode until it is just before bonding a 1st board | substrate and a 2nd board | substrate after forming the protrusion for a reinforcement in the 1st board | substrate among the manufacturing processes of the organic electroluminescent apparatus which concerns on Embodiment 2 of this invention. It is. (a)、(b)は各々、本発明の実施の形態3に係る有機EL装置の断面構成を模式的に示す断面図、およびその周辺領域の平面構成を模式的に示す平面図である。(A), (b) is sectional drawing which shows typically the cross-sectional structure of the organic electroluminescent apparatus which concerns on Embodiment 3 of this invention, and the top view which shows typically the planar structure of the peripheral region, respectively. 本発明に係る有機EL装置を用いた電子機器の説明図である。It is explanatory drawing of the electronic device using the organic EL apparatus which concerns on this invention. (a)、(b)、(c)、(d)は各々、本発明の参考例に係る有機EL装置の製造方法での問題点を示す説明図である。(A), (b), (c), (d) is explanatory drawing which shows the problem in the manufacturing method of the organic electroluminescent apparatus based on the reference example of this invention, respectively.

符号の説明Explanation of symbols

10・・第1基板、10a・・画素領域、10c・・周辺領域、20・・第2基板、22(R)、(G)、(B)・・カラーフィルタ層、80・・有機EL素子、81・・第1電極層、82・・有機機能層、83・・第2電極層、91・・第1シール材層、91a・・第1シール材、92・・第2シール材層、92a・・第2シール材、95、951、952・・補強用突起、100・・有機EL装置、100a・・画素 10 .. First substrate, 10 a... Pixel region, 10 c. 81 .. First electrode layer, 82 .. Organic functional layer, 83 .. Second electrode layer, 91 .. First sealing material layer, 91a ... First sealing material, 92 ... Second sealing material layer, 92a ... Second sealing material, 95, 951, 952 ... Reinforcing projection, 100 ... Organic EL device, 100a ... Pixel

Claims (14)

第1電極層、有機機能層および第2電極層を備えた有機エレクトロルミネッセンス素子が画素領域に複数配列された第1基板と、該第1基板において前記有機エレクトロルミネッセンス素子が形成されている面側に貼り合わされた第2基板と、を有する有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法において、
前記第1基板と前記第2基板とを貼り合せるにあたっては、前記第1基板または/および前記第2基板において前記画素領域を囲む周辺領域に沿って、一方の基板から他方の基板に向けて突出する補強用突起を形成しておき、
前記補強用突起に沿って第1シール材を塗布する第1シール材塗布工程と、
前記第1シール材で囲まれた領域内に第2シール材を塗布する第2シール材塗布工程と、
前記第1シール材および前記第2シール材を間に挟むように前記第1基板と前記第2基板とを重ね合わせる重ね合わせ工程と、
前記第1シール材および前記第2シール材を硬化させるシール材硬化工程と、
を行なうことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。
A first substrate on which a plurality of organic electroluminescent elements each including a first electrode layer, an organic functional layer, and a second electrode layer are arranged in a pixel region; and a surface side on which the organic electroluminescent elements are formed on the first substrate In the manufacturing method of the organic electroluminescence device having the second substrate bonded to
When the first substrate and the second substrate are bonded, the first substrate and / or the second substrate protrude from one substrate toward the other substrate along a peripheral region surrounding the pixel region. Forming a reinforcing protrusion to be
A first sealing material application step of applying a first sealing material along the reinforcing protrusion;
A second sealing material application step of applying a second sealing material in a region surrounded by the first sealing material;
An overlapping step of overlapping the first substrate and the second substrate so as to sandwich the first sealing material and the second sealing material;
A sealing material curing step for curing the first sealing material and the second sealing material;
The manufacturing method of the organic electroluminescent apparatus characterized by performing.
前記第2基板および前記第2シール材層は透光性であり、
前記第2基板には、前記複数の有機エレクトロルミネッセンス素子と対向する各領域に異なる色のカラーフィルタ層が形成されていることを特徴とする請求項1に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。
The second substrate and the second sealing material layer are translucent,
2. The method of manufacturing an organic electroluminescence device according to claim 1, wherein a color filter layer of a different color is formed on each region facing the plurality of organic electroluminescence elements on the second substrate.
前記補強用突起は、前記第1基板および前記第2基板のうちの一方の基板のみ形成されていることを特徴とする請求項1または2に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。   3. The method of manufacturing an organic electroluminescence device according to claim 1, wherein the reinforcing protrusion is formed only on one of the first substrate and the second substrate. 前記第1シール材は、前記第2シール材よりも粘度が高いことを特徴とする請求項1乃至3の何れか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。   4. The method of manufacturing an organic electroluminescence device according to claim 1, wherein the first sealing material has a viscosity higher than that of the second sealing material. 5. 前記第1シール材は光硬化性であり、前記第2シール材は熱硬化性であることを特徴とする請求項1乃至4の何れか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。   5. The method of manufacturing an organic electroluminescence device according to claim 1, wherein the first sealing material is photocurable, and the second sealing material is thermosetting. 6. 前記シール材硬化工程では、前記第1シール材を硬化させた後、前記第2シール材を硬化させることを特徴とする請求項1乃至5の何れか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。   6. The manufacturing of the organic electroluminescence device according to claim 1, wherein, in the sealing material curing step, the second sealing material is cured after the first sealing material is cured. Method. 前記重ね合わせ工程は、減圧雰囲気中で行なうことを特徴とする請求項1乃至6の何れか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。   The method of manufacturing an organic electroluminescence device according to claim 1, wherein the superimposing step is performed in a reduced-pressure atmosphere. 前記第1基板または/および前記第2基板の前記画素領域内に複数の膜を形成する際、当該複数の膜を前記周辺領域で積層して前記補強用突起を形成することを特徴とする請求項1乃至7の何れか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法。   When forming a plurality of films in the pixel region of the first substrate and / or the second substrate, the reinforcing protrusions are formed by stacking the plurality of films in the peripheral region. Item 8. A method for producing an organic electroluminescence device according to any one of Items 1 to 7. 第1電極層、有機機能層および第2電極層を備えた有機エレクトロルミネッセンス素子が画素領域に複数配列された第1基板と、該第1基板において前記有機エレクトロルミネッセンス素子が形成されている面側に重ねられた第2基板と、を有する有機エレクトロルミネッセンス装置において、
前記第1基板と前記第2基板とは、前記画素領域を囲む周辺領域に形成された枠状の第1シール材層と、当該第1シール材層で囲まれた領域の全体に形成された第2シール材層とによって貼り合わされ、
前記第1基板または/および前記第2基板において、前記第1シール材層の形成領域には、一方の基板から他方の基板に向けて突出した補強用突起が形成されていることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス装置。
A first substrate on which a plurality of organic electroluminescent elements each including a first electrode layer, an organic functional layer, and a second electrode layer are arranged in a pixel region; and a surface side on which the organic electroluminescent elements are formed on the first substrate An organic electroluminescence device having a second substrate overlaid on
The first substrate and the second substrate are formed in a frame-shaped first sealing material layer formed in a peripheral region surrounding the pixel region and the entire region surrounded by the first sealing material layer. Bonded with the second sealing material layer,
In the first substrate and / or the second substrate, a reinforcing protrusion that protrudes from one substrate toward the other substrate is formed in the formation region of the first sealing material layer. Organic electroluminescence device.
前記第2基板および前記第2シール材層は透光性であり、
前記第2基板には、前記複数の有機エレクトロルミネッセンス素子と対向する各領域に異なる色のカラーフィルタ層が形成されていることを特徴とする請求項9に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。
The second substrate and the second sealing material layer are translucent,
10. The organic electroluminescence device according to claim 9, wherein a color filter layer of a different color is formed on each region facing the plurality of organic electroluminescence elements on the second substrate.
前記補強用突起は、前記第1基板および前記第2基板のうちの一方の基板のみ形成されていることを特徴とする請求項9または10に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。   The organic electroluminescence device according to claim 9 or 10, wherein the reinforcing protrusion is formed only on one of the first substrate and the second substrate. 前記補強用突起は、前記画素領域の周りを多重に囲むように形成されていることを特徴とする請求項9乃至11の何れか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。   12. The organic electroluminescence device according to claim 9, wherein the reinforcing protrusions are formed so as to surround the pixel region in a multiple manner. 前記補強用突起は、途切れ部分によって周方向で複数に分割されていることを特徴とする請求項9乃至12の何れか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。   The organic electroluminescence device according to any one of claims 9 to 12, wherein the reinforcing protrusion is divided into a plurality in the circumferential direction by an interrupted portion. 前記補強用突起は、前記第1基板または/および前記第2基板において前記画素領域内に形成される複数の膜を前記周辺領域に積層してなることを特徴とする請求項9乃至13の何れか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス装置。   14. The reinforcing protrusion is formed by laminating a plurality of films formed in the pixel region on the first substrate and / or the second substrate in the peripheral region. The organic electroluminescent device according to claim 1.
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