JP2009134775A - Rotary driving unit and electron beam irradiating unit - Google Patents

Rotary driving unit and electron beam irradiating unit Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To improve durability by supplying electric power from a fixed side to a rotational side in a noncontact manner by transformer mechanism through electromagnetic induction. <P>SOLUTION: A clamp voltage is supplied from a housing side to a clamp electrode which rotates together with a rotational shaft set within a turntable by a rotary transformer, and a substrate mounted on the turntable is held by static electricity of the clamp electrode. Herewith electric power can be provided in a noncontact manner by supplying with the transformer mechanism through the electromagnetic induction so that durability can be improved without incurring abrasion. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、基板に電子ビームを照射してディスク原盤を製造する際等に用いる回転駆動装置及びこれを備えた電子ビーム照射装置に関する。   The present invention relates to a rotary drive device used when a disk master is manufactured by irradiating a substrate with an electron beam, and an electron beam irradiation device including the same.

近年、大容量の画像・音声データ、デジタルデータを記録可能な種々の記録媒体の開発がなされている。例えば、CD(Compact Disk)やDVD(Digital Versatile Disk)等の高密度ディスクは、ディスク原盤製造装置により基板にレーザビームを照射することにより製造されているが、今後、記録の高密度化が進むにつれ、電子ビームの照射へ移行すると考えられている。   In recent years, various recording media capable of recording large-capacity image / audio data and digital data have been developed. For example, high-density disks such as CDs (Compact Disks) and DVDs (Digital Versatile Disks) are manufactured by irradiating a substrate with a laser beam by a disk master manufacturing apparatus, but recording density will increase in the future. Therefore, it is considered to shift to electron beam irradiation.

例えば、特許文献1には、電子ビームを射出する電子ビーム射出手段(電子ビーム射出部)と、この電子ビーム射出部からの電子ビームが照射される基板を回転駆動させる回転駆動手段(回転駆動部)と、この回転駆動部を電子ビーム射出部に対し相対移動させる移動手段(並進駆動部)とを有するディスク原盤製造装置が開示されている。上記回転駆動手段は、回転軸(スピンドルシャフト)を回転可能に支持する筐体(スピンドルハウジング)と、回転軸とともに回転し、基盤を載置する絶縁性のターンテーブルと、このターンテーブル内に設けたクランプ電極(チャッキング電極)と、回転軸の回転に伴うクランプ電極と筐体との相対回転を許容しつつ当該クランプ電極にクランプ電圧を給電するためのロータリコネクタと、回転軸を回転駆動するモータとを有している。   For example, Patent Document 1 discloses an electron beam emitting unit (electron beam emitting unit) that emits an electron beam and a rotation driving unit (rotation driving unit) that rotationally drives a substrate irradiated with the electron beam from the electron beam emitting unit. ) And moving means (translation driving unit) for moving the rotation driving unit relative to the electron beam emitting unit is disclosed. The rotation driving means includes a housing (spindle housing) that rotatably supports a rotating shaft (spindle shaft), an insulating turntable that rotates together with the rotating shaft and mounts a base, and is provided in the turntable. The clamp electrode (chucking electrode), a rotary connector for supplying a clamp voltage to the clamp electrode while allowing relative rotation between the clamp electrode and the casing accompanying the rotation of the rotation shaft, and the rotation shaft are driven to rotate. And a motor.

特開2003−36569号公報JP 2003-36569 A

上記従来技術では、ロータリコネクタを有する回転駆動手段を用いている。このロータリコネクタには、転がり軸受けが用いられており、その回転部及び固定部の接続部(接点)には水銀が用いられている。このような構成であるロータリコネクタを用いると、転がり軸受け及び接点によって固定部と回転部間に摩擦が生じる。その結果、摩擦が生じる部分に摩耗が発生する可能性があり、耐久性の点で改善の余地があった。   In the prior art described above, rotational drive means having a rotary connector is used. A rolling bearing is used for the rotary connector, and mercury is used for the connecting portion (contact point) of the rotating portion and the fixed portion. When the rotary connector having such a configuration is used, friction is generated between the fixed portion and the rotating portion by the rolling bearing and the contact. As a result, there is a possibility that wear occurs in a portion where friction occurs, and there is room for improvement in terms of durability.

本発明が解決しようとする課題には、上記した問題が一例として挙げられる。   The problem to be solved by the present invention includes the above-described problem as an example.

上記課題を解決するために、請求項1記載の発明は、回転軸を回転可能に支持する筐体と、前記回転軸とともに回転するように設けられ、基板を載置する絶縁性のターンテーブルと、このターンテーブル内に設けたクランプ電極と、前記回転軸の回転に伴う前記クランプ電極と前記筐体との相対回転を許容しつつ当該クランプ電極にクランプ電圧を給電するためのロータリトランスとを有する。   In order to solve the above-mentioned problems, an invention according to claim 1 is a housing that rotatably supports a rotating shaft, an insulating turntable that is provided so as to rotate together with the rotating shaft, and on which a substrate is placed. And a clamp electrode provided in the turntable, and a rotary transformer for supplying a clamp voltage to the clamp electrode while allowing relative rotation between the clamp electrode and the casing accompanying the rotation of the rotating shaft. .

以下、本発明の一実施の形態を図面を参照しつつ説明する。   Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

図1は、本実施形態のディスク原盤製造装置1の全体構成を示すブロック図である。   FIG. 1 is a block diagram showing the overall configuration of a master disk manufacturing apparatus 1 according to this embodiment.

まず、光ディスクの原盤の製造工程の概要について以下に説明する。電子ビームは、大気雰囲気中では著しく減衰する特性を有していることから、真空雰囲気中で使用される。従って、電子銃や光ディスク原盤を作製するための基板を載置したターンテーブル等は真空雰囲気中に配される。光ディスク原盤の製造には、例えば、シリコン(Si)基板が用いられる。シリコン基板は、その主面上に電子線用レジストが塗布される。電子線用レジストが塗布された基板は、ディスク原盤製造装置内において、回転駆動されるとともに情報データ信号によって変調された電子ビームが照射され、ピット、グルーブなどの微細凹凸パターンの潜像が螺旋状に形成される。   First, the outline of the manufacturing process of the optical disc master will be described below. The electron beam is used in a vacuum atmosphere because it has a characteristic of being significantly attenuated in the air atmosphere. Therefore, a turntable or the like on which a substrate for producing an electron gun or an optical disc master is placed in a vacuum atmosphere. For manufacturing an optical disc master, for example, a silicon (Si) substrate is used. The silicon substrate is coated with an electron beam resist on its main surface. The substrate coated with the electron beam resist is rotated and irradiated with an electron beam modulated by an information data signal in the disk master production apparatus, and a latent image of a fine concavo-convex pattern such as pits and grooves is spirally formed. Formed.

当該基板は、電子ビーム露光が終了した後、ディスク原盤製造装置から取り出され、現像処理が施される。次に、パターニング及びレジスト除去の処理が行われ、基板上に微細な凹凸パターンが形成される。パターン形成された基板の主面には導電膜が形成され、電鋳処理が施されて光ディスク原盤(スタンパ)が製造される。   After the electron beam exposure is completed, the substrate is taken out from the disc master manufacturing apparatus and subjected to development processing. Next, patterning and resist removal processes are performed to form a fine uneven pattern on the substrate. A conductive film is formed on the main surface of the patterned substrate, and an electroforming process is performed to manufacture an optical disc master (stamper).

図1に示すように、ディスク原盤製造装置1は、真空チャンバ2、真空チャンバ2内に配されたディスク基板を駆動する回転駆動装置3、及び真空チャンバ2に取り付けられた電子ビーム光学系を含む電子カラム4を有している。光ディスク原盤用の光ディスク基板(以下、単にディスク基板と称する)5は、ターンテーブル6上に載置されている。ターンテーブル6は、これに接続されたスピンドルシャフト7を回転可能に支持するスピンドルハウジング11によってディスク基板主面の垂直軸に関して回転駆動される。回転駆動装置3は送りステージ(以下、単にステージと称する)8上に設置されている。このステージ8は、並進駆動装置である送りモータ9にボールネジ10を介して結合され、スピンドルハウジング11及びターンテーブル6を含む回転駆動装置3をディスク基板5の主面と平行な面内の所定方向に並進移動することが可能となっている。なお、ターンテーブル6は、例えばセラミック等の絶縁材料からなり、ディスク基板5は後述する静電クランプ機構によりターンテーブル6上にクランプされる。   As shown in FIG. 1, the disk master manufacturing apparatus 1 includes a vacuum chamber 2, a rotation driving device 3 that drives a disk substrate disposed in the vacuum chamber 2, and an electron beam optical system attached to the vacuum chamber 2. An electronic column 4 is provided. An optical disk substrate (hereinafter simply referred to as a disk substrate) 5 for an optical disk master is placed on a turntable 6. The turntable 6 is rotationally driven with respect to the vertical axis of the main surface of the disk substrate by a spindle housing 11 that rotatably supports a spindle shaft 7 connected thereto. The rotation drive device 3 is installed on a feed stage (hereinafter simply referred to as a stage) 8. The stage 8 is coupled to a feed motor 9 which is a translation drive device via a ball screw 10, and the rotary drive device 3 including the spindle housing 11 and the turntable 6 is moved in a predetermined direction in a plane parallel to the main surface of the disk substrate 5. It is possible to move in translation. Note that the turntable 6 is made of an insulating material such as ceramic, and the disk substrate 5 is clamped on the turntable 6 by an electrostatic clamp mechanism described later.

真空チャンバ2には(又はその外部でもよい)、ディスク基板5の主面の並進移動位置を検出するためのレーザ測長器15が設けられている。このレーザ測長器15は、図示しない発光器、受光器及び検出部を有しており、発光器から射出され、ステージ8に設けられた反射鏡19で反射されたレーザビームを受光器で受光し、光波の干渉によりディスク基板5の主面の並進移動方向における位置を検出する。そして、この検出結果を送りモータ制御回路20に出力する。送りモータ制御回路20は、この入力された結果に基づきステージ8の位置の誤差を算出し、その誤差を修正するように送りモータ9の駆動を制御する。また、算出したステージ位置の誤差を後述する照射位置調整回路33に出力する。   In the vacuum chamber 2 (or outside thereof), a laser length measuring device 15 for detecting the translational movement position of the main surface of the disk substrate 5 is provided. The laser length measuring device 15 includes a light emitter, a light receiver, and a detector (not shown). The laser beam emitted from the light emitter and reflected by the reflecting mirror 19 provided on the stage 8 is received by the light receiver. Then, the position of the main surface of the disk substrate 5 in the translational movement direction is detected by the interference of the light wave. Then, the detection result is output to the feed motor control circuit 20. The feed motor control circuit 20 calculates an error in the position of the stage 8 based on the input result, and controls the drive of the feed motor 9 so as to correct the error. Further, the calculated stage position error is output to an irradiation position adjustment circuit 33 described later.

なお、真空チャンバ2は、エアーダンパなどの防振台(図示しない)を介して設置され、外部からの振動の伝達が抑制されている。また、この真空チャンバ2には真空ポンプ22が接続されており、この真空ポンプ22によってチャンバから排気することによりチャンバ内部が所定圧力の真空雰囲気となるように設定されている。   The vacuum chamber 2 is installed via a vibration isolator (not shown) such as an air damper, and transmission of vibration from the outside is suppressed. Further, a vacuum pump 22 is connected to the vacuum chamber 2, and the interior of the chamber is set to a vacuum atmosphere of a predetermined pressure by exhausting from the chamber by the vacuum pump 22.

電子ビームを射出するための電子カラム4内には、電子ビーム源25、収束レンズ26、ビーム変調器27、アパーチャ28、ビーム偏向器29、及び対物レンズ30がこの順でビーム上流側から下流側に向けて配置されている。この電子カラム4は、その先端に設けられた電子ビーム射出口31が真空チャンバ2内に位置するように、真空チャンバ2の天井面に取り付けられている。このとき、電子ビーム射出口31は、ターンテーブル6上のディスク基板5の主面に近接した位置に対向して配置されている。   In the electron column 4 for emitting an electron beam, an electron beam source 25, a converging lens 26, a beam modulator 27, an aperture 28, a beam deflector 29, and an objective lens 30 are arranged in this order from the upstream side to the downstream side of the beam. It is arranged toward the. The electron column 4 is attached to the ceiling surface of the vacuum chamber 2 so that an electron beam injection port 31 provided at the tip of the electron column 4 is located in the vacuum chamber 2. At this time, the electron beam exit 31 is disposed to face a position close to the main surface of the disk substrate 5 on the turntable 6.

電子ビーム源25は、図示しない電源から供給される高電圧が印加される陰極(図示せず)により、例えば、数10KeVに加速された電子ビームを射出する。収束レンズ26は、射出された電子ビームを収束してアパーチャ28へと導く。ビーム変調器27は、記録信号発生器32からの信号に基づいて動作し、電子ビームのオン・オフ制御を行う。すなわち、例えばビームをオフとする場合には、ビーム変調器27の電極間に電圧を印加して通過する電子ビームを大きく偏向させる。これにより、電子ビームはアパーチャ28の絞り孔に収束されない状態となってアパーチャ28を通過するのを阻止され、その結果、ビームオフ状態とすることができる。   The electron beam source 25 emits an electron beam accelerated to, for example, several tens of KeV by a cathode (not shown) to which a high voltage supplied from a power source (not shown) is applied. The converging lens 26 converges the emitted electron beam and guides it to the aperture 28. The beam modulator 27 operates on the basis of the signal from the recording signal generator 32 and performs on / off control of the electron beam. That is, for example, when the beam is turned off, a voltage is applied between the electrodes of the beam modulator 27 to greatly deflect the passing electron beam. As a result, the electron beam is not converged in the aperture hole of the aperture 28 and is prevented from passing through the aperture 28. As a result, the beam can be turned off.

ビーム偏向器29は、照射位置調整回路33からの制御信号に応答し、電極に電圧を印加して通過する電子ビームを偏向させる。これにより、ディスク基板5に対する電子ビームスポットの位置制御を行う。なお、前述したように、照射位置調整回路33は、上記送りモータ制御回路20から入力されるステージ8の位置誤差に基づき、ビーム偏向器29の電極に印加する電圧の制御を行う。   In response to the control signal from the irradiation position adjustment circuit 33, the beam deflector 29 applies a voltage to the electrode to deflect the passing electron beam. Thereby, the position of the electron beam spot with respect to the disk substrate 5 is controlled. As described above, the irradiation position adjustment circuit 33 controls the voltage applied to the electrode of the beam deflector 29 based on the position error of the stage 8 input from the feed motor control circuit 20.

図2は回転駆動装置3の全体構成を説明するために、図1に示すディスク原盤製造装置1のスピンドルハウジング11の内部の構成を模式的に示す断面図である。   FIG. 2 is a cross-sectional view schematically showing an internal configuration of the spindle housing 11 of the disc master manufacturing apparatus 1 shown in FIG. 1 in order to explain the overall configuration of the rotary drive device 3.

スピンドルハウジング11の内部には、回転可能に支持されたスピンドルシャフト7、このスピンドルシャフト7を回転駆動するためのスピンドルモータ35、ロータリトランス42、及び整流回路43等が収容されている。スピンドルシャフト7は、スピンドルハウジング11に気体軸受36を介して回転自在に支持されている。この気体軸受36には、バルブ(図示せず)を介して外部から軸受用のエアーが供給され、当該エアーが気体軸受36から空隙部に噴出しスピンドルシャフト7を回転自在に支持する。そして、このエアーは、スピンドルハウジング11からパイプ(図示せず)を介して真空チャンバ2外に排気されるようになっている。また、スピンドルシャフト7の一端側(図2中上側)はスピンドルハウジング11の開口部11aを貫通しており、その先端部にはターンテーブル6が固定されている。なお、上記開口部11aとスピンドルシャフト7との径方向の間隙は真空シール部37によってシールされており、これによりスピンドルハウジング11内部の気密性が保持されるようになっている。なお、上記真空シール部の代わりに差動排気シール部を用いてもよい。   The spindle housing 11 accommodates a spindle shaft 7 rotatably supported, a spindle motor 35 for rotating the spindle shaft 7, a rotary transformer 42, a rectifier circuit 43, and the like. The spindle shaft 7 is rotatably supported by the spindle housing 11 via a gas bearing 36. The gas bearing 36 is supplied with bearing air from the outside via a valve (not shown), and the air is ejected from the gas bearing 36 into the gap to rotatably support the spindle shaft 7. This air is exhausted from the spindle housing 11 to the outside of the vacuum chamber 2 via a pipe (not shown). Further, one end side (the upper side in FIG. 2) of the spindle shaft 7 passes through the opening 11a of the spindle housing 11, and the turntable 6 is fixed to the tip portion thereof. The radial gap between the opening 11a and the spindle shaft 7 is sealed by a vacuum seal 37, so that the airtightness inside the spindle housing 11 is maintained. A differential exhaust seal portion may be used instead of the vacuum seal portion.

スピンドルシャフト7における気体軸受36の下方部には、スピンドルシャフト7を回転駆動するための磁性部材35Aが取り付けられている。前記のスピンドルモータ35は、上記磁性部材35A及びその周囲に設けられたコイル35B等から構成されており、コイル35Bに電流を流すことにより発生した電磁力を利用してスピンドルシャフト7を回転させる。その結果、スピンドルシャフト7の一端側に固定されたターンテーブル6が回転される。なお、スピンドルモータ35は、スピンドルモータ制御回路21により駆動制御される(図1参照)。   A magnetic member 35 </ b> A for rotationally driving the spindle shaft 7 is attached to a portion below the gas bearing 36 in the spindle shaft 7. The spindle motor 35 includes the magnetic member 35A and a coil 35B provided around the magnetic member 35A. The spindle motor 35 rotates the spindle shaft 7 using an electromagnetic force generated by passing a current through the coil 35B. As a result, the turntable 6 fixed to one end side of the spindle shaft 7 is rotated. The spindle motor 35 is driven and controlled by the spindle motor control circuit 21 (see FIG. 1).

また、スピンドルシャフト7における上記スピンドルモータ35の下方部には、ロータリーエンコーダ39が設けられている。このロータリーエンコーダ39は、図示しない発光部と受光部を備えており、スピンドルシャフト7に設けた円盤39aに形成されたスリット(図示せず)を通過する光(例えば赤外線)のパルスによりスピンドルシャフト7の回転角度を検出する。このロータリーエンコーダ39により検出されたスピンドルシャフト7の回転角度は、図示しない制御装置等に出力される。   A rotary encoder 39 is provided below the spindle motor 35 in the spindle shaft 7. The rotary encoder 39 includes a light emitting unit and a light receiving unit (not shown), and the spindle shaft 7 is driven by a pulse of light (for example, infrared rays) passing through a slit (not shown) formed in a disk 39 a provided on the spindle shaft 7. The rotation angle of is detected. The rotation angle of the spindle shaft 7 detected by the rotary encoder 39 is output to a control device (not shown).

一方、スピンドルシャフト7内には、ディスク基板5及びターンテーブル6に高電圧を供給するための同軸ケーブル38が設けられている。この同軸ケーブル38は、内部導体(芯線)38A及び外部導体38Bを有しており、スピンドルシャフト7の中心に形成された貫通孔7a内に設けられている。内部導体38Aの一端側(図2中上側)はターンテーブル6内に設けられた静電クランプ電極50に接続され、他端側(図2中下側)は整流回路43に接続されている。また、外部導体38Bの一端側は接点部材51を介してディスク基板5に接続され、他端側は整流回路43に接続されている。当該同軸ケーブル38には、交流電源40からの供給電圧が、スピンドルハウジング11に設けられた端子41、ロータリトランス42、及び整流回路43を介して供給される。   On the other hand, a coaxial cable 38 for supplying a high voltage to the disk substrate 5 and the turntable 6 is provided in the spindle shaft 7. The coaxial cable 38 has an inner conductor (core wire) 38 A and an outer conductor 38 B, and is provided in a through hole 7 a formed at the center of the spindle shaft 7. One end side (upper side in FIG. 2) of the internal conductor 38A is connected to the electrostatic clamp electrode 50 provided in the turntable 6, and the other end side (lower side in FIG. 2) is connected to the rectifier circuit 43. Further, one end side of the external conductor 38 </ b> B is connected to the disk substrate 5 through the contact member 51, and the other end side is connected to the rectifier circuit 43. A supply voltage from the AC power supply 40 is supplied to the coaxial cable 38 via a terminal 41 provided on the spindle housing 11, a rotary transformer 42, and a rectifier circuit 43.

ロータリトランス42は、スピンドルシャフト7の他端側(図2中下側)先端に固定されシャフトと共に回転する回転部42Aと、スピンドルハウジング11側に固定された固定部42Bとを有する。これら回転部42Aと固定部42Bとは、非接触に対向配置するように設けられている。このロータリトランス42の略中心部にはシャフト軸方向に略沿うように貫通孔42aが設けられており、この貫通孔42a内にスピンドルシャフト7の他端側先端から突設するように設けられたアースシャフト7Aが挿通されている。一方、整流回路43は、スピンドルシャフト7の他端側に内設されており、上記ロータリトランス42の回転部42Aと接続され、交流電源40から端子41、ロータリトランス42を介して供給された交流電圧を直流電圧に変換する。   The rotary transformer 42 has a rotating portion 42A that is fixed to the tip of the other end side (the lower side in FIG. 2) of the spindle shaft 7 and rotates together with the shaft, and a fixing portion 42B that is fixed to the spindle housing 11 side. The rotating portion 42A and the fixed portion 42B are provided so as to face each other in a non-contact manner. A through hole 42a is provided at a substantially central portion of the rotary transformer 42 so as to be substantially along the shaft axial direction. The through hole 42a is provided so as to protrude from the tip of the other end side of the spindle shaft 7. The earth shaft 7A is inserted. On the other hand, the rectifying circuit 43 is provided on the other end side of the spindle shaft 7, is connected to the rotating portion 42 </ b> A of the rotary transformer 42, and is supplied from the AC power supply 40 via the terminal 41 and the rotary transformer 42. Converts voltage to DC voltage.

なお、スピンドルハウジング11内における交流電流が流れる部分、すなわちロータリトランス42と整流回路43の周囲には、電磁シールド部材44が設けられている。これにより、交流電流が流れるロータリトランス42及び整流回路43から発生する磁界を減衰させ、当該磁界が電子カラム4からディスク基板5に照射される電子ビームの軌道に影響を与えて記録精度の悪化等を招くのを防止できるようになっている。   Note that an electromagnetic shield member 44 is provided in a portion where an alternating current flows in the spindle housing 11, that is, around the rotary transformer 42 and the rectifier circuit 43. Thereby, the magnetic field generated from the rotary transformer 42 and the rectifier circuit 43 through which an alternating current flows is attenuated, the magnetic field affects the trajectory of the electron beam irradiated from the electron column 4 to the disk substrate 5, and the recording accuracy is deteriorated. Can be prevented.

上記アースシャフト7aは、その先端がスピンドルハウジング11側に設けられた接点部材52に当接されており、スピンドルシャフト7の回転時には当該当接部分で摺動するようになっている。この摺動部54は、スピンドルシャフト7の略軸心線X上に位置するようになっている。上記接点部材52は、端子53を介して接地されており、これによりスピンドルシャフト7の電位が接地されるようになっている。なお、前述したように交流電源40から整流回路43及び同軸ケーブル38を介してディスク基板5と静電クランプ電極50間に電圧が供給されるが、外部導体38Bとスピンドルシャフト7が導通しているため、整流回路43の外部導体38B側の出力はディスク基板5に導通するとともに接地されるようになっている。   The tip of the earth shaft 7a is in contact with a contact member 52 provided on the spindle housing 11 side, and slides at the contact portion when the spindle shaft 7 rotates. The sliding portion 54 is positioned on the substantially axial line X of the spindle shaft 7. The contact member 52 is grounded via a terminal 53, whereby the potential of the spindle shaft 7 is grounded. As described above, a voltage is supplied between the disk substrate 5 and the electrostatic clamp electrode 50 from the AC power source 40 via the rectifier circuit 43 and the coaxial cable 38, but the external conductor 38B and the spindle shaft 7 are electrically connected. Therefore, the output on the side of the external conductor 38B of the rectifier circuit 43 is connected to the disk substrate 5 and grounded.

次に、図3を参照して、ディスク基板5の静電クランプ機構について説明する。図3は、ディスク原盤製造装置1の電気回路のうち、静電クランプ機能に関わる部分を抽出した回路図である。   Next, the electrostatic clamping mechanism of the disk substrate 5 will be described with reference to FIG. FIG. 3 is a circuit diagram in which a portion related to the electrostatic clamping function is extracted from the electric circuit of the disc master manufacturing apparatus 1.

この図に示すように、交流電源40は、ロータリトランス42の前記固定部42Bに設けられた一次側コイル55に接続されている。一方、ロータリトランス42の前記回転部42Aに設けられた二次側コイル56は整流回路43に接続されている。このような構成により、交流電源40のスイッチ57をONにすると、一次側コイル55に流れる一次電流により二次側コイル56が励磁され、当該電磁誘導により誘導電流が発生する。この誘起された誘導電流は整流回路43で整流され、これにより発生した直流電圧が静電クランプ電極50とディスク基板5との間に印加される。その結果、静電クランプ電極50とディスク基板5との間に静電力が発生し、この静電力によりディスク基板5をターンテーブル6に吸着させてクランプできるようになっている。なお、交流電源40のスイッチ57をOFFとすると、静電クランプ電極50とディスク基板5との間に帯電した電荷は整流回路43の並列抵抗58に電流となって流れるため、一定時間経過後、静電クランプ電極50とディスク基板5とは同電位となり、吸着力が消滅するようになっている。なお、この図3では整流回路43として代表的な回路を一例として示したが、これに限られず、他の方式の整流回路を用いてもよい。   As shown in this figure, the AC power supply 40 is connected to a primary coil 55 provided in the fixed portion 42 </ b> B of the rotary transformer 42. On the other hand, the secondary coil 56 provided in the rotary part 42 </ b> A of the rotary transformer 42 is connected to the rectifier circuit 43. With such a configuration, when the switch 57 of the AC power supply 40 is turned ON, the secondary coil 56 is excited by the primary current flowing through the primary coil 55, and an induced current is generated by the electromagnetic induction. This induced current is rectified by the rectifier circuit 43, and a DC voltage generated thereby is applied between the electrostatic clamp electrode 50 and the disk substrate 5. As a result, an electrostatic force is generated between the electrostatic clamp electrode 50 and the disk substrate 5, and the disk substrate 5 is attracted to the turntable 6 by this electrostatic force and can be clamped. When the switch 57 of the AC power supply 40 is turned off, the electric charge charged between the electrostatic clamp electrode 50 and the disk substrate 5 flows as a current through the parallel resistor 58 of the rectifier circuit 43. The electrostatic clamp electrode 50 and the disk substrate 5 are at the same potential so that the attractive force disappears. In FIG. 3, a typical circuit is shown as an example of the rectifier circuit 43. However, the rectifier circuit 43 is not limited to this, and another type of rectifier circuit may be used.

以上説明したように、本実施形態における回転駆動装置3は、回転軸(この例ではスピンドルシャフト)7を回転可能に支持する筐体(この例ではスピンドルハウジング)11と、回転軸7とともに回転するように設けられ、基板(この例ではディスク基板)5を載置する絶縁性のターンテーブル6と、このターンテーブル6内に設けたクランプ電極(この例では静電クランプ電極)50と、回転軸7の回転に伴うクランプ電極50と筐体11との相対回転を許容しつつ当該クランプ電極50にクランプ電圧を給電するためのロータリトランス42とを有することを特徴とする。   As described above, the rotation drive device 3 according to the present embodiment rotates together with the housing 11 (spindle housing in this example) 11 that rotatably supports the rotation shaft (spindle shaft in this example) 7 and the rotation shaft 7. An insulating turntable 6 on which a substrate (disk substrate in this example) 5 is placed, a clamp electrode (electrostatic clamp electrode in this example) 50 provided in the turntable 6, and a rotating shaft And a rotary transformer 42 for supplying a clamp voltage to the clamp electrode 50 while allowing relative rotation between the clamp electrode 50 and the housing 11 in accordance with the rotation of 7.

本実施形態の回転駆動装置3においては、ターンテーブル6内に設けたクランプ電極50の静電力によって、ターンテーブル6に載置された基板5が把持(クランプ)される。そして、回転軸7とともに回転する回転体側のクランプ電極50に対し、筐体11すなわち固定側からクランプ電圧をロータリトランス42を介して供給する。このように、電磁誘導を介したトランス機構により給電することで、クランプ電極50と筐体11との相対回転を許容しつつ、非接触で電力を供給することができる。この結果、クランプ電極50と筐体11との相対回転を接触部分で許容して給電する場合のように摩耗することがなく、耐久性を向上することができる。   In the rotary drive device 3 of the present embodiment, the substrate 5 placed on the turntable 6 is gripped (clamped) by the electrostatic force of the clamp electrode 50 provided in the turntable 6. Then, a clamp voltage is supplied via the rotary transformer 42 from the casing 11, that is, the fixed side, to the clamp electrode 50 on the rotating body that rotates together with the rotating shaft 7. Thus, by supplying power by the transformer mechanism via electromagnetic induction, it is possible to supply electric power in a non-contact manner while allowing relative rotation between the clamp electrode 50 and the housing 11. As a result, it is possible to improve durability without causing wear as in the case of supplying power while allowing relative rotation between the clamp electrode 50 and the housing 11 at the contact portion.

本実施形態における電子ビーム照射装置(この例ではディスク原盤製造装置)1は、電子ビームを基板5に照射する電子ビーム照射装置1であって、電子ビームを射出する電子ビーム射出手段(この例では電子カラム)4と、この電子ビーム射出手段4からの電子ビームを内部へ導入する減圧室(この例では真空チャンバ)2と、回転軸7を回転可能に支持する筐体11と、回転軸7とともに回転するように減圧室2内に設けられ、基板5を載置する絶縁性のターンテーブル6、このターンテーブル6内に設けたクランプ電極50、回転軸7の回転に伴うクランプ電極50と筐体11との相対回転を許容しつつ当該クランプ電極50にクランプ電圧を給電するためのロータリトランス42、及び、回転軸7を回転駆動するモータ(この例ではスピンドルモータ)35を含む回転駆動手段(この例では回転駆動装置)3と、この回転駆動手段3を電子ビーム射出手段4に対し相対移動させる移動手段(この例ではステージ)8とを有することを特徴とする。   An electron beam irradiation apparatus (disc original disk manufacturing apparatus in this example) 1 according to this embodiment is an electron beam irradiation apparatus 1 that irradiates a substrate 5 with an electron beam, and an electron beam emission means (in this example) that emits an electron beam. An electron column) 4, a decompression chamber 2 (in this example, a vacuum chamber) 2 for introducing an electron beam from the electron beam emitting means 4, a housing 11 that rotatably supports the rotating shaft 7, and the rotating shaft 7 And an insulating turntable 6 on which the substrate 5 is placed, a clamp electrode 50 provided in the turntable 6, a clamp electrode 50 and a housing accompanying the rotation of the rotary shaft 7. A rotary transformer 42 for supplying a clamp voltage to the clamp electrode 50 while allowing relative rotation with the body 11 and a motor for rotating the rotary shaft 7 (in this example) A rotation driving means (in this example, a rotation driving device) 3 including a pindle motor) 35 and a moving means (in this example, a stage) 8 for moving the rotation driving means 3 relative to the electron beam emitting means 4. Features.

本実施形態の電子ビーム照射装置1においては、電子ビーム射出手段4から射出された電子ビームが減圧室2内に導入され、回転駆動手段3のターンテーブル6に載置された基板5に入射される。このとき回転駆動手段3は移動手段8によって電子ビーム射出手段4に対し相対移動され、さらに回転駆動手段3においてモータ35によって回転軸7が駆動されることでターンテーブル6が回転されることで、基板5に対し所定の描画が行われる。   In the electron beam irradiation apparatus 1 of the present embodiment, the electron beam emitted from the electron beam emitting means 4 is introduced into the decompression chamber 2 and is incident on the substrate 5 placed on the turntable 6 of the rotation driving means 3. The At this time, the rotation driving means 3 is moved relative to the electron beam emitting means 4 by the moving means 8, and the turntable 6 is rotated by driving the rotating shaft 7 by the motor 35 in the rotation driving means 3. A predetermined drawing is performed on the substrate 5.

このとき、基板5は、ターンテーブル6内に設けたクランプ電極50の静電力によって、ターンテーブル6に載置された状態で把持(クランプ)されるが、回転軸7とともに回転する回転体側のクランプ電極50に対し筐体11すなわち固定側からクランプ電圧がロータリトランス42を介し供給される。このように、電磁誘導を介したトランス機構により給電することで、クランプ電極50と筐体11との相対回転を許容しつつ、非接触で電力を供給することができる。この結果、クランプ電極50と筐体11との相対回転を接触部分で許容して給電する場合のように摩耗することがなく、耐久性を向上することができる。   At this time, the substrate 5 is gripped (clamped) by being placed on the turntable 6 by the electrostatic force of the clamp electrode 50 provided in the turntable 6, but the rotating body side clamp that rotates together with the rotating shaft 7 is clamped. A clamp voltage is supplied to the electrode 50 from the casing 11, that is, the fixed side, via the rotary transformer 42. Thus, by supplying power by the transformer mechanism via electromagnetic induction, it is possible to supply electric power in a non-contact manner while allowing relative rotation between the clamp electrode 50 and the housing 11. As a result, it is possible to improve durability without causing wear as in the case of supplying power while allowing relative rotation between the clamp electrode 50 and the housing 11 at the contact portion.

上記実施形態における回転駆動装置3においては、ロータリトランス42は、筐体11側に設けられ交流電源電圧が供給される1次側固定部(この例では固定部)42Bと、1次側固定部42Bと非接触に対向配置するように回転軸7側に設けられ、当該1次側固定部42Bからの電磁誘導により励磁される2次側回転部(この例では回転部)42Aとを備えることを特徴とする。   In the rotary drive device 3 in the above-described embodiment, the rotary transformer 42 includes a primary side fixing part (in this example, a fixing part) 42B provided on the housing 11 side and supplied with an AC power supply voltage, and a primary side fixing part. 42A is provided on the rotating shaft 7 side so as to be opposed to and non-contact with 42B, and is provided with a secondary rotating portion (rotating portion in this example) 42A that is excited by electromagnetic induction from the primary fixing portion 42B. It is characterized by.

筐体11側において1次側固定部42Bに供給された交流電源電圧に基づき、これに対向して回転軸7側に配置された2次側回転部42Aに非接触にて電磁誘導にて起電力が誘起されることにより、クランプ電極50と筐体11との相対回転を許容しつつ、非接触で電力をクランプ電極50へ供給することができる。   Based on the AC power supply voltage supplied to the primary side fixing portion 42B on the housing 11 side, the secondary side rotating portion 42A disposed on the rotating shaft 7 side opposite to the AC power supply voltage is contactlessly caused by electromagnetic induction. By inducing electric power, electric power can be supplied to the clamp electrode 50 in a non-contact manner while allowing relative rotation between the clamp electrode 50 and the housing 11.

上記実施形態における電子ビーム照射装置1においては、回転駆動手段3に備えられたロータリトランス42は、筐体11側に設けられ交流電源電圧が供給される1次側固定部42Bと、1次側固定部42Bと非接触に対向配置するように回転軸7側に設けられ、当該1次側固定部42Bからの電磁誘導により励磁される2次側回転部42Aとを備えることを特徴とする。   In the electron beam irradiation apparatus 1 according to the above-described embodiment, the rotary transformer 42 provided in the rotation driving unit 3 includes a primary side fixing portion 42B provided on the housing 11 side and supplied with an AC power supply voltage, and a primary side. It is provided on the rotating shaft 7 side so as to face the fixed portion 42B in a non-contact manner, and includes a secondary side rotating portion 42A that is excited by electromagnetic induction from the primary side fixed portion 42B.

筐体11側において1次側固定部42Bに供給された交流電源電圧に基づき、これに対向して回転軸7側に配置された2次側回転部42Aに非接触にて電磁誘導にて起電力が誘起されることにより、クランプ電極50と筐体11との相対回転を許容しつつ、非接触で電力をクランプ電極50へ供給することができる。   Based on the AC power supply voltage supplied to the primary side fixing portion 42B on the housing 11 side, the secondary side rotating portion 42A disposed on the rotating shaft 7 side opposite to the AC power supply voltage is contactlessly caused by electromagnetic induction. By inducing electric power, electric power can be supplied to the clamp electrode 50 in a non-contact manner while allowing relative rotation between the clamp electrode 50 and the housing 11.

上記実施形態における回転駆動装置3においては、回転軸7とともに回転するように設けられ、2次側回転部42Aで励磁された交流電圧を整流しクランプ電圧を供給するための整流手段(この例では整流回路)43を有することを特徴とする。   In the rotary drive device 3 in the above embodiment, a rectifying means (in this example) is provided to rotate together with the rotary shaft 7 and rectifies the AC voltage excited by the secondary side rotating portion 42A and supplies a clamp voltage. A rectifier circuit) 43.

これにより、1次側固定部42Bの交流電源電圧に基づき2次側回転部42Aに誘起された交流電圧を整流して直流化し、クランプ電圧としてクランプ電極に供給することができる。   As a result, the AC voltage induced in the secondary side rotating unit 42A can be rectified and converted to DC based on the AC power supply voltage of the primary side fixing unit 42B, and supplied to the clamp electrode as a clamp voltage.

上記実施形態における電子ビーム照射装置1においては、回転駆動手段3は、回転軸7とともに回転するように設けられ、2次側回転部42Aで励磁された交流電圧を整流しクランプ電圧を供給するための整流手段43を有することを特徴とする。   In the electron beam irradiation apparatus 1 in the above-described embodiment, the rotation driving unit 3 is provided so as to rotate together with the rotating shaft 7, and rectifies the AC voltage excited by the secondary side rotation unit 42A and supplies a clamp voltage. The rectifying means 43 is provided.

これにより、1次側固定部42Bの交流電源電圧に基づき2次側回転部42Aに誘起された交流電圧を整流して直流化し、クランプ電圧としてクランプ電極50に供給することができる。   As a result, the AC voltage induced in the secondary side rotation unit 42A can be rectified and converted into a DC based on the AC power supply voltage of the primary side fixing unit 42B, and supplied to the clamp electrode 50 as a clamp voltage.

上記実施形態における回転駆動装置3においては、回転軸7と筐体11との相対回転を許容しつつ回転軸7の電位を接地するための摺動部54を、回転軸7の略軸心線X上に設けたことを特徴とする。   In the rotary drive device 3 in the above embodiment, the sliding portion 54 for grounding the potential of the rotary shaft 7 while allowing the relative rotation between the rotary shaft 7 and the housing 11 is provided as a substantially axial center line of the rotary shaft 7. It is provided on X.

摺動部54を介して、回転軸7と筐体11との相対回転を許容しつつ回転軸7を接地電位とすることにより、例えば電子ビーム照射装置に用いた場合に入射電子が基板5に帯電するのを防止することができる。また導電性流体を用いて導電接続する場合に比べ、アース抵抗を小さくすることができる。   By allowing the rotary shaft 7 to be grounded while allowing the relative rotation between the rotary shaft 7 and the housing 11 via the sliding portion 54, incident electrons are applied to the substrate 5 when used in, for example, an electron beam irradiation apparatus. Charging can be prevented. Further, the ground resistance can be reduced as compared with the case of conducting conductive connection using a conductive fluid.

上記実施形態における電子ビーム照射装置1においては、回転駆動手段3は、回転軸7と筐体11との相対回転を許容しつつ回転軸7の電位を接地するための摺動部54を、回転軸7の略軸心線X上に有することを特徴とする。   In the electron beam irradiation apparatus 1 in the above embodiment, the rotation driving means 3 rotates the sliding portion 54 for grounding the potential of the rotating shaft 7 while allowing the relative rotation between the rotating shaft 7 and the housing 11. It has it on the substantially axial center line X of the axis | shaft 7, It is characterized by the above-mentioned.

摺動部54を介して、回転軸7と筐体11との相対回転を許容しつつ回転軸7を接地電位とすることにより、電子ビーム射出手段4から入射した電子が基板5に帯電するのを防止することができる。また導電性流体を用いて導電接続する場合に比べ、アース抵抗を小さくすることができる。   Electrons incident from the electron beam emitting means 4 are charged on the substrate 5 by allowing the rotation shaft 7 to be grounded while allowing the rotation of the rotation shaft 7 and the housing 11 through the sliding portion 54. Can be prevented. Further, the ground resistance can be reduced as compared with the case of conducting conductive connection using a conductive fluid.

上記実施形態における電子ビーム照射装置1においては、回転駆動手段3は、ロータリトランス42及び整流手段43の少なくとも一方から発生する磁界を減衰させる電磁シールド手段(この例では電磁シールド部材)44を有することを特徴とする。   In the electron beam irradiation apparatus 1 according to the above-described embodiment, the rotation driving unit 3 includes an electromagnetic shielding unit (in this example, an electromagnetic shielding member) 44 that attenuates a magnetic field generated from at least one of the rotary transformer 42 and the rectifying unit 43. It is characterized by.

これにより、交流電流が流れるロータリトランス42及び整流手段43から発生する磁界を減衰させ、当該磁界が電子ビーム射出手段4から基板5に照射される電子ビームの軌道に影響を与えて記録精度の悪化等を招くのを防止することができる。   As a result, the magnetic field generated from the rotary transformer 42 and the rectifying unit 43 through which an alternating current flows is attenuated, and the magnetic field affects the trajectory of the electron beam irradiated from the electron beam emitting unit 4 to the substrate 5 to deteriorate the recording accuracy. Etc. can be prevented.

なお、本実施形態は、上記に限られず、種々の変形が可能である。以下、そのような変形例を順を追って説明する。   In addition, this embodiment is not restricted above, A various deformation | transformation is possible. Hereinafter, such modifications will be described in order.

(1)アースシャフトと筐体を導電性磁性流体で導通させる場合
上記実施形態では、アースシャフト7Aと接点部材52とを摺動させることによりスピンドルシャフト7の電位を接地させる構造としたが、これに限られず、アースシャフト7Aとスピンドルハウジング11とを導電性磁性流体により導通させる構造としてもよい。
(1) In the case where the earth shaft and the casing are made conductive with the conductive magnetic fluid In the above embodiment, the potential of the spindle shaft 7 is grounded by sliding the earth shaft 7A and the contact member 52. The structure is not limited to this, and the earth shaft 7A and the spindle housing 11 may be electrically connected by a conductive magnetic fluid.

図4は本変形例におけるスピンドルハウジング11の内部の構成を模式的に示す断面図であり、前述の図2に対応する図である。図2と同様の部分には同符号を付し、説明を省略する。   FIG. 4 is a cross-sectional view schematically showing an internal configuration of the spindle housing 11 in this modification, and corresponds to FIG. 2 described above. Components similar to those in FIG. 2 are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted.

この図に示すように、スピンドルシャフト7の他端部から突設されたアースシャフト7Aは、スピンドルハウジング11に設けられた接続部材60と導電性磁性流体61を介して接続されている。これにより、スピンドルシャフト7の電位は、アースシャフト7A、導電性磁性流体61、接続部材60及びスピンドルハウジング11を介して接地されるようになっている。   As shown in this figure, the earth shaft 7 A protruding from the other end of the spindle shaft 7 is connected to a connecting member 60 provided on the spindle housing 11 via a conductive magnetic fluid 61. As a result, the potential of the spindle shaft 7 is grounded via the earth shaft 7A, the conductive magnetic fluid 61, the connecting member 60, and the spindle housing 11.

本変形例における回転駆動装置3においては、回転軸7と筐体11との相対回転を許容しつつ回転軸7の電位を接地するための導電性流体接続部(この例では導電性磁性流体)61を設けたことを特徴とする。   In the rotation drive device 3 in this modification, a conductive fluid connection portion (conductive magnetic fluid in this example) for grounding the potential of the rotary shaft 7 while allowing relative rotation between the rotary shaft 7 and the housing 11. 61 is provided.

導電性流体接続部61を介して、回転軸7と筐体11との相対回転を許容しつつ回転軸7を接地電位とすることにより、例えば電子ビーム照射装置に用いた場合に入射電子が基板5に帯電するのを防止することができる。また摺動部を介して導電接続する場合に比べ、接触抵抗が小さく摩耗を抑制することができる。   By setting the rotating shaft 7 to the ground potential while allowing the relative rotation between the rotating shaft 7 and the housing 11 through the conductive fluid connecting portion 61, for example, when used in an electron beam irradiation apparatus, incident electrons are transferred to the substrate. 5 can be prevented from being charged. Further, the contact resistance is small and wear can be suppressed as compared with the case where the conductive connection is made via the sliding portion.

本変形例における電子ビーム照射装置1においては、回転駆動手段3は、回転軸7と筐体11との相対回転を許容しつつ回転軸7の電位を接地するための導電性流体接続部61を有することを特徴とする。   In the electron beam irradiation apparatus 1 according to this modification, the rotation driving means 3 includes a conductive fluid connection 61 for grounding the potential of the rotation shaft 7 while allowing the rotation of the rotation shaft 7 and the housing 11. It is characterized by having.

導電性流体接続部61を介して、回転軸7と筐体11との相対回転を許容しつつ回転軸7を接地電位とすることにより、電子ビーム射出手段4から入射した電子が基板5に帯電するのを防止することができる。また摺動部を介して導電接続する場合に比べ、接触抵抗が小さく摩耗を抑制することができる。   Electrons incident from the electron beam emitting means 4 are charged on the substrate 5 by setting the rotating shaft 7 to the ground potential while allowing the relative rotation between the rotating shaft 7 and the housing 11 via the conductive fluid connecting portion 61. Can be prevented. Further, the contact resistance is small and wear can be suppressed as compared with the case where the conductive connection is made via the sliding portion.

(2)真空シール部の代わりに導電性磁性流体を用いる場合
上記実施形態では、スピンドルハウジング11の開口部11aとスピンドルシャフト7との径方向の間隙を真空シール部37によってシールするようにしたが、これに限られず、真空シール部の代わりに導電性磁性流体を用いてシールを行いつつスピンドルシャフトとスピンドルハウジング11とを導通させる構造としてもよい。
(2) When a conductive magnetic fluid is used instead of the vacuum seal portion In the above embodiment, the radial gap between the opening 11a of the spindle housing 11 and the spindle shaft 7 is sealed by the vacuum seal portion 37. However, the present invention is not limited to this, and the spindle shaft and the spindle housing 11 may be electrically connected while performing sealing using a conductive magnetic fluid instead of the vacuum seal portion.

図5は本変形例におけるスピンドルハウジング11の内部の構成を模式的に示す断面図であり、前述の図2に対応する図である。図2と同様の部分には同符号を付し、説明を省略する。   FIG. 5 is a cross-sectional view schematically showing an internal configuration of the spindle housing 11 in this modification, and corresponds to FIG. 2 described above. Components similar to those in FIG. 2 are denoted by the same reference numerals and description thereof is omitted.

この図に示すように、本変形例ではスピンドルハウジング11の開口部11aとスピンドルシャフト7との径方向の間隙に導電性磁性流体62が設けられている。これにより、開口部11aとスピンドルシャフト7との間隙を導電性磁性流体62によってシールすることができ、スピンドルハウジング11内部の気密性を保持できる。さらに、この導電性磁性流体62を介し、スピンドルシャフト7の電位がスピンドルハウジング11を介して接地されるようになっている。   As shown in this figure, in this modification, a conductive magnetic fluid 62 is provided in the radial gap between the opening 11 a of the spindle housing 11 and the spindle shaft 7. As a result, the gap between the opening 11a and the spindle shaft 7 can be sealed by the conductive magnetic fluid 62, and the airtightness inside the spindle housing 11 can be maintained. Further, the potential of the spindle shaft 7 is grounded via the spindle housing 11 via the conductive magnetic fluid 62.

本変形例における回転駆動装置3においては、回転軸7と筐体11との相対回転を許容しつつ回転軸7の電位を接地するための導電性流体接続部(この例では導電性磁性流体)62を設けたことを特徴とする。   In the rotation drive device 3 in this modification, a conductive fluid connection portion (conductive magnetic fluid in this example) for grounding the potential of the rotary shaft 7 while allowing relative rotation between the rotary shaft 7 and the housing 11. 62 is provided.

導電性流体接続部62を介して、回転軸7と筐体11との相対回転を許容しつつ回転軸7を接地電位とすることにより、例えば電子ビーム照射装置に用いた場合に入射電子が基板5に帯電するのを防止することができる。また摺動部を介して導電接続する場合に比べ、接触抵抗が小さく摩耗を抑制することができる。   By setting the rotating shaft 7 to the ground potential while allowing the relative rotation between the rotating shaft 7 and the housing 11 through the conductive fluid connecting portion 62, for example, when used in an electron beam irradiation apparatus, incident electrons are transferred to the substrate. 5 can be prevented from being charged. Further, the contact resistance is small and wear can be suppressed as compared with the case where the conductive connection is made via the sliding portion.

本変形例における電子ビーム照射装置1においては、回転駆動手段3は、回転軸7と筐体11との相対回転を許容しつつ回転軸7の電位を接地するための導電性流体接続部62を有することを特徴とする。   In the electron beam irradiation apparatus 1 according to this modification, the rotation driving unit 3 includes the conductive fluid connection portion 62 for grounding the potential of the rotating shaft 7 while allowing the relative rotation between the rotating shaft 7 and the housing 11. It is characterized by having.

導電性流体接続部62を介して、回転軸7と筐体11との相対回転を許容しつつ回転軸7を接地電位とすることにより、電子ビーム射出手段4から入射した電子が基板5に帯電するのを防止することができる。また摺動部を介して導電接続する場合に比べ、接触抵抗が小さく摩耗を抑制することができる。   Electrons incident from the electron beam emitting means 4 are charged on the substrate 5 by setting the rotating shaft 7 to the ground potential while allowing the relative rotation between the rotating shaft 7 and the housing 11 via the conductive fluid connecting portion 62. Can be prevented. Further, the contact resistance is small and wear can be suppressed as compared with the case where the conductive connection is made via the sliding portion.

上記実施形態における回転駆動装置3は、スピンドルシャフト7を回転可能に支持するスピンドルハウジング11と、スピンドルシャフト7とともに回転するように設けられ、ディスク基板5を載置する絶縁性のターンテーブル6と、このターンテーブル6内に設けた静電クランプ電極50と、スピンドルシャフト7の回転に伴う静電クランプ電極50とスピンドルハウジング11との相対回転を許容しつつ当該静電クランプ電極50にクランプ電圧を給電するためのロータリトランス42とを有する。   The rotational drive device 3 in the above embodiment includes a spindle housing 11 that rotatably supports the spindle shaft 7, an insulating turntable 6 that is provided so as to rotate together with the spindle shaft 7, and on which the disk substrate 5 is placed, A clamp voltage is supplied to the electrostatic clamp electrode 50 while allowing relative rotation between the electrostatic clamp electrode 50 provided in the turntable 6 and the electrostatic clamp electrode 50 and the spindle housing 11 accompanying the rotation of the spindle shaft 7. A rotary transformer 42.

本実施形態の回転駆動装置3においては、ターンテーブル6内に設けた静電クランプ電極50の静電力によって、ターンテーブル6に載置されたディスク基板5が把持(クランプ)される。そして、スピンドルシャフト7とともに回転する回転体側の静電クランプ電極50に対し、スピンドルハウジング11すなわち固定側からクランプ電圧をロータリトランス42を介して供給する。このように、電磁誘導を介したトランス機構により給電することで、静電クランプ電極50とスピンドルハウジング11との相対回転を許容しつつ、非接触で電力を供給することができる。この結果、静電クランプ電極50とスピンドルハウジング11との相対回転を接触部分で許容して給電する場合のように摩耗することがなく、耐久性を向上することができる。   In the rotary drive device 3 of the present embodiment, the disk substrate 5 placed on the turntable 6 is gripped (clamped) by the electrostatic force of the electrostatic clamp electrode 50 provided in the turntable 6. Then, a clamp voltage is supplied from the spindle housing 11, that is, the fixed side, to the electrostatic clamp electrode 50 on the rotating body rotating together with the spindle shaft 7 through the rotary transformer 42. In this way, power can be supplied in a non-contact manner while allowing relative rotation between the electrostatic clamp electrode 50 and the spindle housing 11 by supplying power with a transformer mechanism via electromagnetic induction. As a result, it is possible to improve durability without causing wear as in the case of supplying power while allowing relative rotation between the electrostatic clamp electrode 50 and the spindle housing 11 at the contact portion.

また、上記実施形態におけるディスク原盤製造装置1は、電子ビームをディスク基板5に照射するディスク原盤製造装置1であって、電子ビームを射出する電子カラム4と、この電子カラム4からの電子ビームを内部へ導入する真空チャンバ2と、スピンドルシャフト7を回転可能に支持するスピンドルハウジング11と、スピンドルシャフト7とともに回転するように真空チャンバ2内に設けられ、ディスク基板5を載置する絶縁性のターンテーブル6、このターンテーブル6内に設けた静電クランプ電極50、スピンドルシャフト7の回転に伴う静電クランプ電極50とスピンドルハウジング11との相対回転を許容しつつ当該静電クランプ電極50にクランプ電圧を給電するためのロータリトランス42、及び、スピンドルシャフト7を回転駆動するスピンドルモータ35を含む回転駆動装置3と、この回転駆動装置3を電子カラム4に対し相対移動させるステージ8とを有する。   The disk master manufacturing apparatus 1 in the above embodiment is a disk master manufacturing apparatus 1 that irradiates a disk substrate 5 with an electron beam, and an electron column 4 that emits an electron beam and an electron beam from the electron column 4. A vacuum chamber 2 introduced into the interior, a spindle housing 11 that rotatably supports the spindle shaft 7, and an insulating turn that is provided in the vacuum chamber 2 so as to rotate together with the spindle shaft 7 and on which the disk substrate 5 is placed. A clamp voltage is applied to the electrostatic clamp electrode 50 while allowing relative rotation between the table 6, the electrostatic clamp electrode 50 provided in the turntable 6, and the electrostatic clamp electrode 50 and the spindle housing 11 as the spindle shaft 7 rotates. The rotary transformer 42 for supplying power and the spindle shaft 7 With a rotary drive unit 3 including a spindle motor 35 for rotating, and a stage 8 for the rotary driving device 3 is moved relative electron column 4.

本実施形態のディスク原盤製造装置1においては、電子カラム4から射出された電子ビームが真空チャンバ2内に導入され、回転駆動装置3のターンテーブル6に載置されたディスク基板5に入射される。このとき回転駆動装置3はステージ8によって電子カラム4に対し相対移動され、さらに回転駆動装置3においてスピンドルモータ35によってスピンドルシャフト7が駆動されターンテーブル6が回転されることで、ディスク基板5に対し所定の描画が行われる。   In the disc master manufacturing apparatus 1 of the present embodiment, an electron beam emitted from the electron column 4 is introduced into the vacuum chamber 2 and is incident on the disc substrate 5 placed on the turntable 6 of the rotary drive device 3. . At this time, the rotary drive device 3 is moved relative to the electron column 4 by the stage 8, and the spindle shaft 7 is driven by the spindle motor 35 in the rotary drive device 3 to rotate the turntable 6, so that the disk substrate 5 is rotated. Predetermined drawing is performed.

このとき、ディスク基板5は、ターンテーブル6内に設けた静電クランプ電極50の静電力によって、ターンテーブル6に載置された状態で把持(クランプ)されるが、スピンドルシャフト7とともに回転する回転体側の静電クランプ電極50に対しスピンドルハウジング11すなわち固定側からクランプ電圧がロータリトランス42を介し供給される。このように、電磁誘導を介したトランス機構により給電することで、静電クランプ電極50とスピンドルハウジング11との相対回転を許容しつつ、非接触で電力を供給することができる。この結果、静電クランプ電極50とスピンドルハウジング11との相対回転を接触部分で許容して給電する場合のように摩耗することがなく、耐久性を向上することができる。   At this time, the disk substrate 5 is gripped (clamped) by being placed on the turntable 6 by the electrostatic force of the electrostatic clamp electrode 50 provided in the turntable 6, but rotates together with the spindle shaft 7. A clamp voltage is supplied to the body-side electrostatic clamp electrode 50 from the spindle housing 11, that is, the fixed side, via the rotary transformer 42. In this way, power can be supplied in a non-contact manner while allowing relative rotation between the electrostatic clamp electrode 50 and the spindle housing 11 by supplying power with a transformer mechanism via electromagnetic induction. As a result, it is possible to improve durability without causing wear as in the case of supplying power while allowing relative rotation between the electrostatic clamp electrode 50 and the spindle housing 11 at the contact portion.

本発明の一実施形態であるディスク原盤製造装置の全体構成を示すブロック図である。1 is a block diagram showing an overall configuration of a disc master manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention. 図1に示したスピンドルハウジングの内部の構成を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically the structure inside the spindle housing shown in FIG. ディスク原盤製造装置の電気回路のうち、静電クランプ機能に関わる部分を抽出した回路図である。It is the circuit diagram which extracted the part in connection with an electrostatic clamp function among the electric circuits of the disc original disc manufacturing apparatus. アースシャフトと筐体を導電性磁性流体で導通させる変形例におけるスピンドルハウジングの内部の構成を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically the structure inside the spindle housing in the modification which conducts an earth shaft and a housing | casing with a conductive magnetic fluid. 真空シール部の代わりに導電性磁性流体を用いる変形例におけるスピンドルハウジングの内部の構成を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically the structure inside the spindle housing in the modification which uses an electroconductive magnetic fluid instead of a vacuum seal part.

符号の説明Explanation of symbols

1 ディスク原盤製造装置(電子ビーム照射装置)
2 真空チャンバ(減圧室)
3 回転駆動装置(回転駆動手段)
4 電子カラム(電子ビーム射出手段)
5 ディスク基板(基板)
6 ターンテーブル
7 スピンドルシャフト(回転軸)
8 ステージ(移動手段)
11 スピンドルハウジング(筐体)
35 スピンドルモータ(モータ)
42 ロータリトランス
42A 回転部(2次側回転部)
42B 固定部(1次側固定部)
43 整流回路(整流手段)
50 静電クランプ電極(クランプ電極)
61 導電性磁性流体(導電性流体接続部)
62 導電性磁性流体(導電性流体接続部)
1 Disc master production equipment (electron beam irradiation equipment)
2 Vacuum chamber (decompression chamber)
3 Rotation drive device (Rotation drive means)
4 Electron column (electron beam injection means)
5 Disc substrate (substrate)
6 Turntable 7 Spindle shaft (Rotating shaft)
8 Stage (moving means)
11 Spindle housing (housing)
35 Spindle motor (motor)
42 Rotary transformer 42A Rotating part (secondary rotating part)
42B fixed part (primary side fixed part)
43 Rectifier circuit (rectifier means)
50 Electrostatic clamp electrode (clamp electrode)
61 Conductive magnetic fluid (conductive fluid connection)
62 Conductive magnetic fluid (conductive fluid connection)

Claims (11)

回転軸を回転可能に支持する筐体と、
前記回転軸とともに回転するように設けられ、基板を載置する絶縁性のターンテーブルと、
このターンテーブル内に設けたクランプ電極と、
前記回転軸の回転に伴う前記クランプ電極と前記筐体との相対回転を許容しつつ当該クランプ電極にクランプ電圧を給電するためのロータリトランスと
を有することを特徴とする回転駆動装置。
A housing that rotatably supports the rotating shaft;
An insulating turntable that is provided so as to rotate together with the rotating shaft, and on which the substrate is placed;
A clamp electrode provided in the turntable;
A rotary drive device comprising: a rotary transformer for supplying a clamp voltage to the clamp electrode while allowing relative rotation between the clamp electrode and the casing accompanying the rotation of the rotary shaft.
請求項1記載の回転駆動装置において、
前記ロータリトランスは、
前記筐体側に設けられ交流電源電圧が供給される1次側固定部と、
前記1次側固定部と非接触に対向配置するように前記回転軸側に設けられ、当該1次側固定部からの電磁誘導により励磁される2次側回転部と
を備えることを特徴とする回転駆動装置。
The rotary drive device according to claim 1, wherein
The rotary transformer is
A primary side fixing portion provided on the housing side and supplied with an AC power supply voltage;
And a secondary side rotating part that is provided on the rotating shaft side so as to face the primary side fixing part in a non-contact manner and is excited by electromagnetic induction from the primary side fixing part. Rotation drive device.
請求項2記載の回転駆動装置において、
前記回転軸とともに回転するように設けられ、前記2次側回転部で励磁された交流電圧を整流し前記クランプ電圧を供給するための整流手段を有することを特徴とする回転駆動装置。
The rotary drive device according to claim 2, wherein
A rotary drive device, comprising: a rectifying unit that is provided so as to rotate together with the rotating shaft and that rectifies an AC voltage excited by the secondary side rotating unit and supplies the clamp voltage.
請求項1乃至3のいずれか1項記載の回転駆動装置において、
前記回転軸と前記筐体との相対回転を許容しつつ前記回転軸の電位を接地するための摺動部を、前記回転軸の略軸心線上に設けたことを特徴とする回転駆動装置。
In the rotation drive device according to any one of claims 1 to 3,
A rotary drive device, wherein a sliding portion for grounding the potential of the rotary shaft while allowing relative rotation between the rotary shaft and the housing is provided on a substantially axial line of the rotary shaft.
請求項1乃至3のいずれか1項記載の回転駆動装置において、
前記回転軸と前記筐体との相対回転を許容しつつ前記回転軸の電位を接地するための導電性流体接続部を設けたことを特徴とする回転駆動装置。
In the rotation drive device according to any one of claims 1 to 3,
A rotary drive device comprising a conductive fluid connection portion for grounding the potential of the rotary shaft while allowing relative rotation between the rotary shaft and the casing.
電子ビームを基板に照射する電子ビーム照射装置であって、
前記電子ビームを射出する電子ビーム射出手段と、
この電子ビーム射出手段からの前記電子ビームを内部へ導入する減圧室と、
回転軸を回転可能に支持する筐体、前記回転軸とともに回転するように前記減圧室内に設けられ、基板を載置する絶縁性のターンテーブル、このターンテーブル内に設けたクランプ電極、前記回転軸の回転に伴う前記クランプ電極と前記筐体との相対回転を許容しつつ当該クランプ電極にクランプ電圧を給電するためのロータリトランス、及び、前記回転軸を回転駆動するモータを含む回転駆動手段と、
この回転駆動手段を前記電子ビーム射出手段に対し相対移動させる移動手段と
を有することを特徴とする電子ビーム照射装置。
An electron beam irradiation apparatus for irradiating a substrate with an electron beam,
Electron beam emitting means for emitting the electron beam;
A decompression chamber for introducing the electron beam from the electron beam emitting means into the interior;
A housing that rotatably supports a rotating shaft, an insulating turntable that is provided in the decompression chamber so as to rotate together with the rotating shaft, and on which a substrate is placed, a clamp electrode provided in the turntable, and the rotating shaft A rotary transformer for supplying a clamp voltage to the clamp electrode while allowing a relative rotation between the clamp electrode and the housing in accordance with the rotation of the clamp electrode, and a rotation drive means including a motor for rotating the rotation shaft;
An electron beam irradiation apparatus comprising: a moving means for moving the rotation driving means relative to the electron beam emitting means.
請求項6記載の電子ビーム照射装置において、
前記回転駆動手段に備えられた前記ロータリトランスは、
前記筐体側に設けられ交流電源電圧が供給される1次側固定部と、
前記1次側固定部と非接触に対向配置するように前記回転軸側に設けられ、当該1次側固定部からの電磁誘導により励磁される2次側回転部と
を備えることを特徴とする電子ビーム照射装置。
The electron beam irradiation apparatus according to claim 6.
The rotary transformer provided in the rotation driving means is
A primary side fixing portion provided on the housing side and supplied with an AC power supply voltage;
And a secondary side rotating part that is provided on the rotating shaft side so as to face the primary side fixing part in a non-contact manner and is excited by electromagnetic induction from the primary side fixing part. Electron beam irradiation device.
請求項7記載の電子ビーム照射装置において、
前記回転駆動手段は、
前記回転軸とともに回転するように設けられ、前記2次側回転部で励磁された交流電圧を整流し前記クランプ電圧を供給するための整流手段を有することを特徴とする電子ビーム照射装置。
The electron beam irradiation apparatus according to claim 7.
The rotation driving means includes
An electron beam irradiation apparatus, comprising: a rectifying unit which is provided so as to rotate together with the rotating shaft and which rectifies an alternating voltage excited by the secondary rotating unit and supplies the clamp voltage.
請求項6乃至8のいずれか1項記載の電子ビーム照射装置において、
前記回転駆動手段は、
前記回転軸と前記筐体との相対回転を許容しつつ前記回転軸の電位を接地するための摺動部を、前記回転軸の略軸心線上に有することを特徴とする電子ビーム照射装置。
The electron beam irradiation apparatus according to any one of claims 6 to 8,
The rotation driving means includes
An electron beam irradiation apparatus, comprising: a sliding portion for grounding the potential of the rotating shaft while allowing relative rotation between the rotating shaft and the housing on a substantially axial line of the rotating shaft.
請求項6乃至8のいずれか1項記載の電子ビーム照射装置において、
前記回転駆動手段は、
前記回転軸と前記筐体との相対回転を許容しつつ前記回転軸の電位を接地するための導電性流体接続部を有することを特徴とする電子ビーム照射装置。
The electron beam irradiation apparatus according to any one of claims 6 to 8,
The rotation driving means includes
An electron beam irradiation apparatus comprising: a conductive fluid connecting portion for grounding the potential of the rotating shaft while allowing relative rotation between the rotating shaft and the casing.
請求項6乃至10のいずれか1項記載の電子ビーム照射装置において、
前記回転駆動手段は、
前記ロータリトランス及び前記整流手段の少なくとも一方から発生する磁界を減衰させる電磁シールド手段を有することを特徴とする電子ビーム照射装置。
The electron beam irradiation apparatus according to any one of claims 6 to 10,
The rotation driving means includes
An electron beam irradiation apparatus comprising electromagnetic shielding means for attenuating a magnetic field generated from at least one of the rotary transformer and the rectifying means.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10326453A (en) * 1998-04-21 1998-12-08 Pioneer Electron Corp Rotation driving mechanism
JP2001155125A (en) * 1999-11-25 2001-06-08 Sony Corp Information recording medium and information recorder
JP4251526B2 (en) * 2001-07-24 2009-04-08 パイオニア株式会社 Disc master production device and substrate rotation drive device
JP2002260295A (en) * 2001-02-28 2002-09-13 Sony Corp Electron beam irradiation device
JPWO2002073612A1 (en) * 2001-03-14 2005-01-27 ソニー株式会社 Optical recording / reproducing apparatus, optical reproducing apparatus, optical recording / reproducing medium, optical recording / reproducing method, optical recording method, optical reproducing method, and optical layer detecting method
JP2005165839A (en) * 2003-12-04 2005-06-23 Nippon Signal Co Ltd:The Reader/writer, ic tag, article control device, and optical disk device
JP4110111B2 (en) * 2004-03-31 2008-07-02 株式会社東芝 Optical recording medium and optical recording apparatus
JP4647288B2 (en) * 2004-04-26 2011-03-09 株式会社リコー Rotation drive device and electron beam drawing device

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