JP2009111837A - 基板貫通導波管 - Google Patents
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Abstract
【課題】基板開口端面やその周囲にメッキを施すことなく、反射特性を改善した基板貫通導波管を提供すること。
【解決手段】導波管開口21,31を設けた2個の導波管20,30により、基板開口11の周囲に波長に比べ十分に小さい間隔でVIAホール14を複数形成した回路基板10の表裏両面を挟持して構成した基板貫通導波管を構成する。そして、導波管開口21,31の端面21a,31aとVIAホール14の端面14aとの距離L1と、導波管開口21,31の端面21a,31aと基板開口11の端面11aとの距離L2を、0.4<L2/L1<1.7の関係を満たすように設定する。
【選択図】図1
【解決手段】導波管開口21,31を設けた2個の導波管20,30により、基板開口11の周囲に波長に比べ十分に小さい間隔でVIAホール14を複数形成した回路基板10の表裏両面を挟持して構成した基板貫通導波管を構成する。そして、導波管開口21,31の端面21a,31aとVIAホール14の端面14aとの距離L1と、導波管開口21,31の端面21a,31aと基板開口11の端面11aとの距離L2を、0.4<L2/L1<1.7の関係を満たすように設定する。
【選択図】図1
Description
本発明は、主としてマイクロ波帯およびミリ波帯で用いる基板貫通導波管に関するものである。
マイクロ波帯およびミリ波帯の高周波回路においては、アンテナと回路間に導波管フィルタや導波管分配器を挿入するために、マイクロストリップ線路が構成された回路基板を貫通する基板貫通導波管が用いられることがある(例えば、特許文献1参照)。
この基板貫通導波管は、図3に示すように、金属導体からなるカバーシャーシ20とベースシャーシ30に形成された導波管開口21,31と形状および大きさがほぼ等しい基板開口11を形成した高周波用の回路基板10の表裏両面に、導波管開口21,31と基板開口11が合致するように、カバーシャーシ20とベースシャーシ30で回路基板10を挟持して構成したものである。回路基板10は誘電体基板12の表裏両面に導電パターン13が形成され、そこには、基板開口11の周囲に沿ってVIAホール14,15が2重リング状に形成されている。このVIAホール14,15は、導波管開口21,31および基板開口11内を伝送する信号の回路基板10への漏洩を防ぐために、伝送波長に比べて十分小さい間隔で配置されている。22,32はカバーシャーシ20とベースシャーシ30の取付穴、16は回路基板10の取付穴である。
ところが、導波管開口21,31の端面21a,31aに基板開口11の端面11aを合致させると、図4に示すように、回路基板10は、そのレイアウトルールにより、VIAホール14,15を基板開口11の端面11aの近くに設けることは難しいため、特に内側のVIAホール14については、基板開口11の端面11aとVIAホール14の端面14aとの間の距離L3に制約を受け、この距離L3を十分に小さくすることができない。
このため、VIAホール14の端面14aと導波管開口21,31の端面21a,31aとの間の距離L1が大きくなり、このため電磁界が乱れ、この部分で反射が生じる。
図5は、22GHzの周波数帯で使用するWRJ−220導波管での反射係数を示す周波数特性図である。現状の基板レイアウトルールでは、回路基板10の基板開口11の端面11aから導体パターン13までの距離はL4=0.5mmであり、VIAホール14が直径d1=0.3mmと細い場合でも、VIAホール14の中心は、回路基板10の上下の導体パターン13のエッジからさらにL5=0.3mmだけ離す必要がある。このため、導波管開口21、31の端面21a,31aとVIAホール14の端面14aまでの距離L1は、
L1=L4+L5−d1/2
=0.5+0.3−0.3/2
=0.65mm
となる。この距離は、22GHzの周波数の波長に対して、1/16以下の小さい距離ではある。
特開2004−320460号公報
L1=L4+L5−d1/2
=0.5+0.3−0.3/2
=0.65mm
となる。この距離は、22GHzの周波数の波長に対して、1/16以下の小さい距離ではある。
しかし、導波管開口21,31および基板開口11からなる導波管通路の反射特性には影響を与え、図5に示すように、この22GHzの周波数帯では−20数dBの反射係数となる。装置を構成するために回路を縦続接続した場合は、個々の回路の反射特性が重畳され、予想以上の反射特性の劣化を生じるため、基板貫通導波管の反射係数は−30dB以下の小さい値が望まれる。
そこで、この反射特性の劣化を改善するため、回路基板10に形成した基板開口11の端面11aをメッキで覆うという手法が知られている。これは、回路基板10の上下の導体パターン13までその回路基板10をルータで削り、上下の導体パターン13が電気的に接続されるように、端面11aやその周面にメッキを施す方法である。しかし、この方法では、基板貫通導波管の反射特性は改善できるが、基板加工工程が増えるためにコスト増となる問題点があった。
本発明の目的は、基板開口端面やその周囲にメッキを施すことなく、反射特性を改善した基板貫通導波管を提供することである。
上記目的を達成するために、本発明は、2個の導波管と、該各導波管の導波管開口の形状および大きさにほぼ等しい基板開口を形成し、該基板開口の周囲に、波長に比べ十分に小さい間隔でVIAホールを複数形成した回路基板とを備え、前記導波管開口が前記基板開口とほぼ合致するように前記2個の導波管で前記回路基板の表裏両面を挟持して構成した基板貫通導波管において、前記VIAホールの前記基板開口側の端面と前記導波管開口の直近の端面との距離L1と、前記基板開口の端面と前記導波管開口の直近の端面との距離L2を、0.4<L2/L1<1.7の関係を満たすように設定したことを特徴とする。
本発明の基板貫通導波管によれば、VIAホールの基板開口側の端面と導波管開口の直近の端面との距離L1と、基板開口の端面と導波管開口の直近の端面との距離L2の比L2/L1を、0.4〜1.7の範囲内に設定することにより、L1+L2=0.65mmのときに、22GHzの周波数帯において、導波管通路内における回路基板による反射の影響を低減することができ、良好な反射特性の基板貫通導波管を実現することができる。
ここで、基板貫通導波管の反射係数の劣化原因を明らかにする。図6(a)は導波管40の内壁面の一部に、全週に亘って外側へ突出する内側凹部41を形成したもの、図6(b)はその導波管40のインピーダンス軌跡、図4(c)はその導波管40の簡易等価回路を示す図である。図3および図5で説明した基板貫通導波管は、回路基板10への電波の漏洩を防ぐために、VIAホール14,15を細かい間隔で複数配置することで、基板開口11のの全周に等価的な金属壁面を形成している。
しかし、基板レイアウトルールにより、導波管開口21,31の端面21a,31aとVIAホール14の端面14aを一致させることができないため、電磁波に及ぼす影響は、図6(a)に示すように、内壁面の一部に外側へ突出する内側凹部41を形成した導波管40と同等な特性を持つと考えられる。
この導波管40の回路を3次元電磁界解析し、両端のポートから見たインピーダンスを求め、さらにディエンベディング法により、測定基準面を導波管40の両端のポートから、内側凹部41の中央部分に移すと、インピーダンスチャートの軌跡は、図6(b)に示すようになる(ただし、導波管40は使用帯域が限定されるため、図6(b)の軌跡は、周波数および凹部41の深さを変えたときの軌跡を表現したものである)。図6(b)のインピーダンス軌跡は等レジスタンス円上を動くため、導波管40の内側凹部41は直列インダクタンスの働きをすると理解できる。従って、簡易等価回路は図6(c)のように表現できる。
図4で説明した基板貫通導波管では、導波管通路の壁面の広がり部分(内側凹部41に相当する部分)には回路基板10あり、その部分は比誘電率εr(通常は3〜4)の誘電体12で充填されている。しかし、この影響は、壁面の広がり部分(内側凹部41に相当する部分)の深さと幅が√(εr)だけ大きくなったと見なして良いため、簡易等価回路は同一である。
一方、内壁に誘電体が配置された図7(a)に示す導波管の場合も、図6と同様な方法で等価回路を求めることができる。図7(a)は導波管50の内壁全周に亘ってリング状で幅の狭い誘電体枠51を図6(a)の内側凹部41に相当する部分に貼り付けた構造を示す。
これを3次元電磁界解析し、誘電体51の中央の基準測定面にディエンべディングしたときのインピーダンス軌跡を図7(b)に示す。図7(b)のインピーダンス軌跡は、等コンダクタンス円上を動くため、壁面に沿って配置された幅の狭い誘電体枠51は並列キャパシタンスの働きをすると理解できる。従って、簡易等価回路は図7(c)のように表現できる。
これらの基本特性に基づき、図6と図7の導波管回路が同時に組み合わさった場合の等価回路を予測すると、図8(a)、(b)の2つの等価回路の何れかで表現できる。図8(a)の等価回路の場合、入力インビーダンスZinは、次のように求められる。
ωC<<1、ωL<<1の場合は、
となる。
ωC<<1、ωL<<1の場合は、
となる。
図8(a)、(b)の何れの等価回路であっても、ωL、ωCが1よりも十分に小さい場合は、入力インピーダンスZinは、式(2)、(4)にあるように、同じ式で表すことができ、さらに、LとCを調整する(L=C)ことで、整合(Zin≒1)が取れることを表している。
上記の検討により、基板貫通導波管においては、回路基板10に形成した基板開口11を、導波管開口21,31の端面21a,31aと一致させずに、回路基板10が導波管開口21,31の内部に少しに入り込む様に、導波管通路を狭めることにより、所望周波数で整合がとれ反射特性を改善できることが予想される。
本発明は、このことを活用し、VIAホール14,15を配置した回路基板10に形成する基板開口11の大きさを調節することにより、基板貫通導波管の反射特性を改善するものである。
以下に、本発明の実施例の基板貫通導波管を説明する。図4で説明した従来例の22GHzの周波数帯の基板貫通導波管の断面構造においては、内側のVIAホール14の中心位置は、導波管開口21,31の端面21a,31aから0.8mmの位置にある(L4+L5=0.5mm+0.3mm=0.8mm)。このとき、回路基板10の基板開口11の端面11aは、導波管開口21,31の端面21a,31aと一致している。
ここで、VIAホール14の中心位置を導波管開口21,31の端面21a,31aに近づけると、基板レイアウトルールに従って設計される回路基板10の基板開口11の端面11aは、導波管通路の内部に入り込む。これを(2)式、(4)式のL,Cを用いて表現すると、VIAホール14と導波管開口21,31の端面21a,31aの間の距離が小さくなることは、Lが小さくなることを意味し、回路基板10の誘電体12が内部に入り込むことは、Cが0から大きくなり、ある値を持つこと意味する。従って、基板レイアウトルールを守りながら、VIAホール14の位置を調整すると、前記式(2)、(4)のL−C=0を充たす条件を探し出すことができる。
図9は、この方法によって、図4における距離L1(VIAホール14の端面14aと導波管開口21,31の端面21a,31aとの間の距離)を0.65mmから0.15mmまでの範囲で変化させたときの、22GHzの周波数帯での反射特性を示す図である。距離L1を0.35mmとした場合、反射係数は大幅に低下し、完全整合に近い状態(反射係数が−50dB)となる。
このときの22GHzの周波数帯の基板貫通導波管の断面構造を図1に示す。この図1が発明の実施例を示す同である。このとき、基板のレイアウトルールから、L1+L2=0.65mmであり、L1=0.35mmであるので、L2=0.3mmとなり、このL2の長さだけ回路基板10の誘電体12が導波管通路内に入り込む。
さらに、距離L1を小さくする(L2を大きくする)と、反射係数は再び増加し、L1=0.15mmでは回路基板10の上下の導電パターン13のエッジが導波管開口21,31の内壁21a,31aと一致し、このとき、回路基板10の誘電体12が0.5mm(=L2)だけ導波管通路内に入り込んだ状態となる。この場合は、誘電体12からの反射が主となり、反射特性は図4の従来例と同程度の反射係数(−25dB)となる。
図1の本発明の実施例の基板貫通導波管の断面構造(L1=0.35mm,L2=0.3mm)での周波数特性を図2に示す。−30dB以下の反射係数となる周波数帯域幅は8GHz以上が得られ、WRJ−220導波管の使用周波数範囲(17.6GHz〜26.7GHz)をカバーすることができる。
図9において、22HGzの周波数帯においては、−30dB以下の反射係数が得られる距離L1の範囲は、0.24mm<L1<0.48mmである。そして、基板レイアウトルールから、L1+L2=0.65mmであるので、−30dB以下の反射係数が得られる距離L1とL2の比率は、
から、
となる。
から、
となる。
すなわち、L1+L2=0.65mmの条件において、式(7)の関係が満足されるように、距離L1とL2を設定することにより、22GHzの周波数帯において、反射係数を−30dB以下に抑えることができ、導波管通路における反射の影響を小さくすることができる。
10:回路基板、11:基板開口、11a:端面、12:誘電体、13:導体パターン、14:VIAホール(内側)、15:VIAホール(外側)、16:取付穴
20:カバーシャーシ、21:導波管開口、21a:端面、22:取付穴
30:ベースシャーシ、31:導波管開口、31a:端面、32:取付穴
40:導波管、41:内側凹部
50:導波管、51:誘電体枠
20:カバーシャーシ、21:導波管開口、21a:端面、22:取付穴
30:ベースシャーシ、31:導波管開口、31a:端面、32:取付穴
40:導波管、41:内側凹部
50:導波管、51:誘電体枠
Claims (1)
- 2個の導波管と、該各導波管の導波管開口の形状および大きさにほぼ等しい基板開口を形成し、該基板開口の周囲に、波長に比べ十分に小さい間隔でVIAホールを複数形成した回路基板とを備え、前記導波管開口が前記基板開口とほぼ合致するように前記2個の導波管で前記回路基板の表裏両面を挟持して構成した基板貫通導波管において、
前記VIAホールの前記基板開口側の端面と前記導波管開口の直近の端面との距離L1と、前記基板開口の端面と前記導波管開口の直近の端面との距離L2を、
0.4<L2/L1<1.7
の関係を満たすように設定したことを特徴とする基板貫通導波管。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007283376A JP2009111837A (ja) | 2007-10-31 | 2007-10-31 | 基板貫通導波管 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007283376A JP2009111837A (ja) | 2007-10-31 | 2007-10-31 | 基板貫通導波管 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009111837A true JP2009111837A (ja) | 2009-05-21 |
Family
ID=40779825
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2007283376A Withdrawn JP2009111837A (ja) | 2007-10-31 | 2007-10-31 | 基板貫通導波管 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2009111837A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011130343A (ja) * | 2009-12-21 | 2011-06-30 | Nec Corp | マイクロ波導波管回路 |
WO2013161279A1 (ja) * | 2012-04-25 | 2013-10-31 | 日本電気株式会社 | 高周波回路と導波管との接続構造およびその製造方法 |
-
2007
- 2007-10-31 JP JP2007283376A patent/JP2009111837A/ja not_active Withdrawn
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US9450282B2 (en) | 2012-04-25 | 2016-09-20 | Nec Corporation | Connection structure between a waveguide and a substrate, where the substrate has an opening larger than a waveguide opening |
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A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
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