JP2009111226A - Suction head - Google Patents

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Yoshihiro Kobayashi
良弘 小林
Toshio Kokuzo
俊男 國増
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Kyushu Hitachi Maxell Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a suction head capable of preventing the suction errors and scratches of a solder ball. <P>SOLUTION: The suction head is composed of a mask 2 provided with holes 4 corresponding to a prescribed array pattern and formed by laminating a first layer 2a made of a metal and a second layer 2b made of a resin, and a porous body 3 disposed on the side of the first layer 2a of the mask 2. Thus, a reinforcement effect by laminating and forming the mask 2 is improved, handling is facilitated, the mask 2 is not easily deformed by a sucking action, and thus the solder ball 5 is surely sucked. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、例えば半田バンプを形成するのに用いられる吸着ヘッドに関する。   The present invention relates to a suction head used, for example, to form solder bumps.

半田バンプの形成方法としては、ウエハ・フレキシブル基板・リジッド基板などのワーク上の電極にフラックスを塗布する印刷工程と、フラックス上に半田ボールを配列・搭載する配列工程と、半田ボールを加熱・溶解する加熱工程を経てバンプを形成している。そして、前述の配列工程において、ワーク上に半田ボールを配列する方式としては、吸着ヘッドを用いた吸着方式がある。この吸着方式は、電子部品の電極の配列パターンに対応した吸着孔を有する吸着ヘッドを装着した吸着装置によって多数の半田ボールを一度に真空吸引し、吸着孔と電極とが一致するように吸着ヘッドとワークとを位置合わせした後に吸引を解除することでワークの電極上に半田ボールを搭載させている。   The solder bump formation method includes a printing process in which a flux is applied to electrodes on a workpiece such as a wafer, a flexible board, and a rigid board, an arrangement process in which solder balls are arranged and mounted on the flux, and the solder balls are heated and melted. The bump is formed through the heating process. And in the above-mentioned arrangement | positioning process, there exists a suction system using a suction head as a system which arranges a solder ball on a workpiece | work. In this suction system, a large number of solder balls are vacuumed at a time by a suction device equipped with a suction head having suction holes corresponding to the arrangement pattern of the electrodes of the electronic component, so that the suction holes and the electrodes coincide with each other. The solder balls are mounted on the workpiece electrodes by releasing the suction after aligning the workpiece and the workpiece.

係る吸着ヘッドとして、例えば特許文献1が開示されている。特許文献1には、気体の通過抵抗の高い材質から形成される半田ボールの吸引位置を規定する位置決め孔を有する位置決めプレートと、気体の通過抵抗の低い材質から形成される位置決めプレートを補強する補強プレートとにより構成された吸着ヘッドが記載されている。   As such a suction head, for example, Patent Document 1 is disclosed. Patent Document 1 discloses a positioning plate having a positioning hole for defining a solder ball suction position formed from a material having a high gas passage resistance, and a reinforcement for reinforcing a positioning plate formed from a material having a low gas passage resistance. A suction head composed of a plate is described.

特開平10−256312号公報JP-A-10-256312

位置決めプレートの材質としては、吸着孔に半田ボールを吸引した際に半田ボールを傷付けるという問題を生じさせないため、樹脂といった軟らかい材質で形成するのが好ましい。しかしながら、樹脂で形成したものの場合、ペラペラで強度がない故に、取り扱いが難しく、補強プレートへの形成が困難であった。また、特許文献1には、補強プレートを加熱溶融した樹脂槽に浸漬して位置決めプレートを形成することが記載されているが、補強プレートが多孔質であるが故に、樹脂の浸漬の制御が難しく、精度良いものを形成するのが困難であった。また、機械加工で孔を開けた場合、バリ/カエリが孔付近に形成され、半田ボールを吸着した際にそのバリ/カエリに半田ボールが食い込んでしまい、吸引を解除してもボールが落ちないといった不具合も見受けられた。本発明は、上記問題を解消することができる吸着ヘッドを提供することを目的とする。   The positioning plate is preferably formed of a soft material such as a resin so as not to cause a problem that the solder ball is damaged when the solder ball is sucked into the suction hole. However, in the case of a resin-made one, it is difficult to handle and difficult to form on a reinforcing plate because of the lack of strength. Patent Document 1 describes that a positioning plate is formed by immersing a reinforcing plate in a resin bath heated and melted. However, since the reinforcing plate is porous, it is difficult to control resin immersion. It was difficult to form a product with high accuracy. Also, when holes are made by machining, burrs / burrs are formed in the vicinity of the holes, and when the solder balls are adsorbed, the solder balls bite into the burrs / burrs and the balls do not fall even if the suction is released. There was also a problem like this. An object of this invention is to provide the suction head which can eliminate the said problem.

本発明の吸着ヘッドは、所定の配列パターンに対応した孔4を有し、金属より成る第一層2aと樹脂より成る第二層2bとを積層して形成されるマスク2と、前記マスク2の第一層2a側に配設する多孔質体3とにより構成されていることを特徴とする。   The suction head of the present invention has a hole 2 corresponding to a predetermined arrangement pattern, a mask 2 formed by laminating a first layer 2a made of metal and a second layer 2b made of resin, and the mask 2 And the porous body 3 disposed on the first layer 2a side.

また、前記孔4は、第一層2aに設けられた前記貫通孔6と前記第二層2bに設けられた吸着孔7とから成り、前記吸着孔7の径は前記貫通孔6の径より大きいことを特徴とする。さらに、前記第二層2bは、半田ボール5を吸着孔7に吸着する際に、半田ボール5が前記第一層2aに当接しないように設定して形成されていることを特徴とする。   The hole 4 includes the through hole 6 provided in the first layer 2 a and the suction hole 7 provided in the second layer 2 b. The diameter of the suction hole 7 is larger than the diameter of the through hole 6. It is large. Further, the second layer 2b is formed so as to prevent the solder ball 5 from coming into contact with the first layer 2a when the solder ball 5 is sucked into the suction hole 7.

本発明の吸着ヘッド1は、所定の配列パターンに対応した孔4を有し、金属より成る第一層2aと樹脂より成る第二層2bとを積層して形成されるマスク2と、前記マスク2の第一層2a側に配設する多孔質体3とにより構成されている。これによれば、マスク2を積層形成したことによるマスク2の補強効果(強度の向上効果)が期待できるので、マスク2が取り扱いやすくなり、吸着装置や多孔質体3への装着が容易にできるとともに、吸引作用によるマスク2の変形が生じにくくすることができる。   The suction head 1 of the present invention has a hole 2 corresponding to a predetermined arrangement pattern, and is formed by laminating a first layer 2a made of metal and a second layer 2b made of resin, and the mask 2 and the porous body 3 disposed on the first layer 2a side. According to this, since the reinforcement effect (strength improvement effect) of the mask 2 due to the lamination of the mask 2 can be expected, the mask 2 becomes easy to handle and can be easily attached to the adsorption device or the porous body 3. At the same time, deformation of the mask 2 due to the suction action can be made difficult to occur.

本発明の第1実施形態に係る吸着ヘッドを図1及び図2に示す。図1は、本発明の吸着ヘッド1の断面図であり、図2は、本発明の吸着ヘッド1をマスク2側から見た底面図である。本実施形態の吸着ヘッド1は、マスク2と多孔質体3とから構成されている。マスク2は孔4(貫通孔6及び吸着孔7)を有しており、多孔質体3と対向する第一層2aに第二層2bを積層して形成されている。この吸着ヘッド1の厚みは、0.095〜4.0mmの範囲が好ましく、本実施形態では、1.05mmとした。詳しくは、マスク2を45μm以上(第一層2aは30μm以上、第二層2bは15μm以上)の範囲で50μmとし、多孔質体3を0.05〜3.0mmの範囲で1.0mmとした。第二層2bは、半田ボール5を吸着孔7に吸着する際に、半田ボール5を傷付けないようにするために、半田ボール5より硬度が低い材質から成るのが好ましく、例えば樹脂等により形成すると良い。また、第一層2aは、第二層2bをしっかりと固定するために、第二層2bより硬度の高い材質から成るのが好ましく、例えば鉄・銅・ニッケル等といった金属等により形成すると良い。ここで、第一層2a上に積層形成する第二層2bは、図2(a)に示すように、第一層2a表面前面にわたって形成する形態が好ましいが、半田ボール5をしっかりと吸着することができるならば、図2(b)や図2(c)に示すように、第二層2bを第一層2a上に部分的に形成した形態でも良い。なお、多孔質体3にはメッシュも含まれ、その材質は金属・樹脂等と何でも良いが、マスク2との密着相性が良いものが好ましい。また、多孔質体3が有する孔径は1〜500μmの範囲が好ましい。   The suction head according to the first embodiment of the present invention is shown in FIGS. FIG. 1 is a cross-sectional view of the suction head 1 of the present invention, and FIG. 2 is a bottom view of the suction head 1 of the present invention as viewed from the mask 2 side. The suction head 1 according to this embodiment includes a mask 2 and a porous body 3. The mask 2 has holes 4 (through holes 6 and adsorption holes 7), and is formed by laminating a second layer 2 b on a first layer 2 a facing the porous body 3. The thickness of the suction head 1 is preferably in the range of 0.095 to 4.0 mm. In this embodiment, the thickness is 1.05 mm. Specifically, the mask 2 is 50 μm in the range of 45 μm or more (the first layer 2 a is 30 μm or more, the second layer 2 b is 15 μm or more), and the porous body 3 is 1.0 mm in the range of 0.05 to 3.0 mm. did. The second layer 2b is preferably made of a material whose hardness is lower than that of the solder ball 5 so as not to damage the solder ball 5 when the solder ball 5 is adsorbed to the adsorption hole 7. Good. The first layer 2a is preferably made of a material having a hardness higher than that of the second layer 2b in order to firmly fix the second layer 2b. For example, the first layer 2a may be formed of a metal such as iron, copper, or nickel. Here, the second layer 2b formed on the first layer 2a is preferably formed over the front surface of the first layer 2a as shown in FIG. 2A, but firmly adsorbs the solder balls 5. If possible, the second layer 2b may be partially formed on the first layer 2a as shown in FIGS. 2B and 2C. The porous body 3 includes a mesh and may be made of any material such as metal or resin, but preferably has good adhesion compatibility with the mask 2. The pore diameter of the porous body 3 is preferably in the range of 1 to 500 μm.

吸着ヘッド1(マスク2)が有する吸着孔7の径は、使用する半田ボール5の径によって決まる。ここで、第一層2aが有する貫通孔6と第二層2bが有する吸着孔7との径を同じとしたものでも良いが、図1に示すように、吸着孔7の径を貫通孔6の径より大きくした方が良い。これによれば、第一層2aによって第二層2bを全面にわたってしっかりと固定した状態が得られる。もちろん、貫通孔6の径が吸着孔7の径より大きくしたものでも良い。また、吸着孔7及び/又は貫通孔6をテーパ状にしたものでも良い。   The diameter of the suction hole 7 of the suction head 1 (mask 2) is determined by the diameter of the solder ball 5 to be used. Here, the through holes 6 of the first layer 2a and the suction holes 7 of the second layer 2b may have the same diameter. However, as shown in FIG. It is better to make it larger than the diameter. According to this, a state in which the second layer 2b is firmly fixed over the entire surface by the first layer 2a is obtained. Of course, the diameter of the through hole 6 may be larger than the diameter of the suction hole 7. Further, the suction hole 7 and / or the through hole 6 may be tapered.

この吸着ヘッド1は、吸着孔7に半田ボール5を吸着する際に、半田ボール5の傷付きを防止するために、図3(b)に示すように、半田ボール5が第一層2aの特に吸着孔7から臨む部分に当接しないよう第二層2bの厚みや吸着孔7の径を設定することが望ましい。   In order to prevent the solder ball 5 from being damaged when the suction head 1 sucks the solder ball 5 into the suction hole 7, as shown in FIG. 3B, the solder ball 5 is made of the first layer 2a. In particular, it is desirable to set the thickness of the second layer 2b and the diameter of the suction hole 7 so as not to contact the portion facing the suction hole 7.

次に、図3を用いて本実施形態の吸着ヘッドを装着した吸着装置の動作を説明する。吸着ヘッド1は、図3(a)に示すように、吸着装置の吸着ヘッド取付部に密着するように装着されている。吸着ヘッド1には、所定の配列パターンに対応した吸着孔7が形成されており、吸着装置の上方に備えられた吸気管・貫通孔6を通して真空吸引を行うことによって、吸着ヘッド1の各吸着孔7には半田ボール5が吸着されるようになっている。図3(b)は、吸引装置により真空吸引して吸着ヘッド1の各吸着孔7に半田ボール5を吸着させた状態を示す。   Next, the operation of the suction device equipped with the suction head of this embodiment will be described with reference to FIG. As shown in FIG. 3A, the suction head 1 is mounted so as to be in close contact with the suction head mounting portion of the suction device. The suction head 1 is formed with suction holes 7 corresponding to a predetermined arrangement pattern, and each suction of the suction head 1 is performed by performing vacuum suction through an intake pipe / through hole 6 provided above the suction device. The solder balls 5 are attracted to the holes 7. FIG. 3B shows a state in which the solder balls 5 are sucked into the suction holes 7 of the suction head 1 by vacuum suction using a suction device.

図3(b)に示す状態で、載置台10上に配された半導体チップや回路基板等の電子部品9が有する多数のパッド8上に半田ボール5を移送し、この状態で真空吸引を解除することで、図3(c)の示すごとく、予めフラックスが塗布されたパッド8上に所定の配列で半田ボール5が一度に載置される。   In the state shown in FIG. 3B, the solder balls 5 are transferred onto a large number of pads 8 of the electronic component 9 such as a semiconductor chip or a circuit board arranged on the mounting table 10, and the vacuum suction is released in this state. As a result, as shown in FIG. 3C, the solder balls 5 are placed in a predetermined arrangement on the pad 8 to which the flux has been applied in advance.

ここで、本実施形態に係る吸着ヘッドの製造方法について図4を用いて説明する。まず、導電性を有する、例えばステンレス製・真ちゅう鋼製・銅製等の母型30の表面に、ネガタイプの感光性ドライフォトレジストを、所定の高さに合わせて一枚ないし数枚ラミネートして熱圧着することによりフォトレジスト層を形成し、このフォトレジスト層の上に、貫通孔6に対応する透光孔を有するパターンフィルム(ガラスマスク)を密着させたのち、紫外光ランプで紫外線光を照射して露光を行い、現像、乾燥の各処理を行って、未露光部分を溶解除去することにより、図4(a)に示すように、貫通孔6に対応するレジスト体31aを有する一次パターンレジスト31を母型30上に形成した。   Here, the manufacturing method of the suction head according to the present embodiment will be described with reference to FIG. First, one or several negative photosensitive dry photoresists having a predetermined height are laminated on the surface of a mother mold 30 having conductivity, such as stainless steel, brass steel, or copper. A photoresist layer is formed by pressure bonding, and a pattern film (glass mask) having a light transmitting hole corresponding to the through hole 6 is adhered onto the photoresist layer, and then irradiated with ultraviolet light with an ultraviolet lamp. The primary pattern resist having a resist body 31a corresponding to the through hole 6 as shown in FIG. 4A by performing exposure, developing, and drying to dissolve and remove the unexposed portion. 31 was formed on the matrix 30.

次に、上記母型30を所定の条件に建浴した電鋳槽に入れ、先のレジスト体31aの高さの範囲内で、母型30のレジスト体31aで覆われていない表面にニッケルや銅等の電着金属を電鋳して、図4(b)に示すように、マスク2の第一層2aに対応する一次電鋳層32を母型30の略全面にわたって形成した。この後、一次電鋳層32の表面に研磨処理を施し、レジスト体31aを溶解除去した。   Next, the mother die 30 is put in an electroforming bath that has been bathed under a predetermined condition, and the surface of the mother die 30 that is not covered with the resist member 31a is covered with nickel or the like within the height range of the previous resist member 31a. An electrodeposited metal such as copper was electroformed to form a primary electroformed layer 32 corresponding to the first layer 2 a of the mask 2 over substantially the entire surface of the mother die 30 as shown in FIG. Thereafter, the surface of the primary electroformed layer 32 was subjected to polishing treatment, and the resist body 31a was dissolved and removed.

次いで、一次電鋳層32の表面上に、ソルダーレジスト層を上記同様に形成し、周知の方法で露光、現像、乾燥の各処理を行って、未露光部分を溶解除去することにより、図4(c)に示すごとく、マスク2の第二層2bに対応するレジスト体33aを有する二次パターンレジスト33を一次電鋳層32上に形成した。ここで、二次パターンレジスト33を形成した後にベーキングなどといった脱落防止処理を行えば、レジスト体33aと一次電鋳層32との密着がより強固なものとすることができる。   Next, a solder resist layer is formed on the surface of the primary electroformed layer 32 in the same manner as described above, and exposure, development, and drying are performed by well-known methods to dissolve and remove unexposed portions. As shown in (c), a secondary pattern resist 33 having a resist body 33 a corresponding to the second layer 2 b of the mask 2 was formed on the primary electroformed layer 32. Here, if the secondary pattern resist 33 is formed and then a drop prevention process such as baking is performed, the adhesion between the resist body 33a and the primary electroformed layer 32 can be made stronger.

続いて、母型30から一次電鋳層32とその表面に形成されたレジスト体33aを剥離することによって、図4(d)に示すように、第一層2a及び第二層2bとが積層してなるマスク2を得た。   Subsequently, the primary electroformed layer 32 and the resist body 33a formed on the surface thereof are peeled off from the mother die 30 to laminate the first layer 2a and the second layer 2b as shown in FIG. A mask 2 was obtained.

最後に、得られたマスク2を多孔質体3と接合することにより、図4(e)及び図1に示すような、本発明の吸着ヘッド1が得られる。ここで、上記においては、マスク2を形成した後に多孔質体3と接合しているが、多孔質体3を母型とし、この上に図4(a)〜図4(c)に示す工程を施せば、より容易に吸着ヘッド1を製造することができる。   Finally, by joining the obtained mask 2 to the porous body 3, the suction head 1 of the present invention as shown in FIG. 4 (e) and FIG. 1 is obtained. Here, in the above description, the mask 2 is formed and then joined to the porous body 3. However, the porous body 3 is used as a matrix, and the steps shown in FIGS. 4A to 4C are performed thereon. If this is applied, the suction head 1 can be manufactured more easily.

本実施形態の吸着ヘッド1のように、マスク2の吸着面側(第二層2b)をレジストや樹脂等といった柔らかい材質で形成すれば、半田ボール5を吸着する際に、半田ボール5を傷付けるおそれが減少する。さらに、半田ボール5が第一層2aや多孔質体3に当接しないよう第二層2bの厚さや吸着孔7の大きさを設定して形成すれば、半田ボール5を傷付けるおそれがより減少する。また、吸着時には、図3(b)に示すように、半田ボール5は第二層2bにくい込むような状態でしっかりと吸着保持されるので、半田ボール5の脱落を可及的に防止できる。ここで、上記のように、電鋳技術やレジストパターンニング技術を用いれば、一連の流れでマスク2を製造可能だが、ドリルやパンチ等といった機械加工によって金属板に孔を形成したもの(第一層2a)に樹脂(第二層2b)を形成することによって製造することもできる。係る場合は、第二層2bが吸着時の半田ボール5の傷付きを防止できるとともに、機械加工により孔を開けた際にバリ/カエリが形成されたとしても、第二層2bがカバー的な役割となるため、上述した半田ボールを吸着した際にバリ/カエリに半田ボールが食い込んでしまい、吸引を解除してもボールが落ちないといった不具合が解消できる。   If the suction surface side (second layer 2b) of the mask 2 is formed of a soft material such as a resist or a resin as in the suction head 1 of this embodiment, the solder balls 5 are damaged when the solder balls 5 are sucked. The fear is reduced. Furthermore, if the thickness of the second layer 2b and the size of the suction holes 7 are set so that the solder balls 5 do not contact the first layer 2a or the porous body 3, the risk of damaging the solder balls 5 is further reduced. To do. Further, at the time of adsorption, as shown in FIG. 3B, the solder ball 5 is firmly adsorbed and held in a state of being hard to be inserted into the second layer 2b, so that the solder ball 5 can be prevented from falling off as much as possible. Here, as described above, if the electroforming technique or resist patterning technique is used, the mask 2 can be manufactured in a series of flows. However, a hole formed in a metal plate by machining such as a drill or a punch (first It can also be produced by forming a resin (second layer 2b) on the layer 2a). In such a case, the second layer 2b can prevent the solder ball 5 from being damaged during adsorption, and even if burrs / burrs are formed when a hole is formed by machining, the second layer 2b is cover-like. Because of the role, it is possible to solve the problem that the solder ball bites into the burrs / foils when the solder ball is adsorbed and the ball does not fall even if the suction is released.

上記実施形態の吸着ヘッド1は、マスク2と多孔質体3とをセットとした構成であり、多孔質体3は、欠けたり割れたりした半田ボール5が吸着装置内に吸引されるのを防止するフィルターの役割を有するが、イレギュラーな半田ボール5が混合していないならば、図5に示すように、マスク2のみを吸着装置に装着して使用することも可能であり、必ずしも必要なものではない。また、樹脂から成るプレートの場合、吸着時に半田ボール5を傷付けるおそれがなくなるものの、ペラペラのため、取り扱いや吸着装置への装着がしづらかったが、樹脂から成る第二層2bに金属から成る層2aを裏打ちすることで、強度を向上することができる。このマスク2の厚みは、45μm以上(第一層2aは30μm以上、第二層2bは15μm以上)の範囲が好ましい。   The suction head 1 of the above embodiment has a configuration in which the mask 2 and the porous body 3 are set, and the porous body 3 prevents the solder balls 5 that are chipped or cracked from being sucked into the suction device. If the irregular solder balls 5 are not mixed, it is possible to use only the mask 2 mounted on the suction device as shown in FIG. It is not a thing. Further, in the case of a plate made of resin, there is no risk of damaging the solder ball 5 at the time of adsorption, but it was difficult to handle and attach to the adsorption device because of the slap, but the layer made of metal on the second layer 2b made of resin By backing 2a, the strength can be improved. The thickness of the mask 2 is preferably in the range of 45 μm or more (the first layer 2a is 30 μm or more, and the second layer 2b is 15 μm or more).

本発明の第1実施形態に係る吸着ヘッドを模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically the adsorption head which concerns on 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1実施形態に係る吸着ヘッドを模式的に示す底面図である。It is a bottom view showing typically the adsorption head concerning a 1st embodiment of the present invention. 本発明の第1実施形態に係る吸着ヘッドを装着した吸着装置の動作を説明するための図である。It is a figure for demonstrating operation | movement of the adsorption | suction apparatus equipped with the adsorption head which concerns on 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1実施形態に係る吸着ヘッドの製造方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the manufacturing method of the suction head which concerns on 1st Embodiment of this invention. 本発明の吸着ヘッドを装着した吸着装置の参考図である。It is a reference drawing of the suction device equipped with the suction head of the present invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 吸着ヘッド
2 マスク
2a 第一層
2b 第二層
3 多孔質体
4 孔
5 半田ボール
6 貫通孔
7 吸着孔
30 母型
31 一次パターンレジスト
31a レジスト体
32 一次電着層
33 一次パターンレジスト
33a レジスト体
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Adsorption head 2 Mask 2a 1st layer 2b 2nd layer 3 Porous body 4 Hole 5 Solder ball 6 Through-hole 7 Adsorption hole 30 Master mold 31 Primary pattern resist 31a Resist body 32 Primary electrodeposition layer 33 Primary pattern resist 33a Resist body

Claims (3)

所定の配列パターンに対応した孔(4)を有し、金属より成る第一層(2a)と樹脂より成る第二層(2b)とを積層して形成されるマスク(2)と、前記マスク(2)の第一層(2a)側に配設する多孔質体(3)とにより構成されていることを特徴とする吸着ヘッド。   A mask (2) having a hole (4) corresponding to a predetermined arrangement pattern and formed by laminating a first layer (2a) made of metal and a second layer (2b) made of resin, and the mask A suction head comprising: a porous body (3) disposed on the first layer (2a) side of (2). 前記孔(4)は、第一層(2a)に設けられた前記貫通孔(6)と前記第二層(2b)に設けられた吸着孔(7)とから成り、前記吸着孔(7)の径は前記貫通孔(6)の径より大きいことを特徴とする請求項1に記載の吸着ヘッド。   The hole (4) includes the through hole (6) provided in the first layer (2a) and the adsorption hole (7) provided in the second layer (2b), and the adsorption hole (7). The suction head according to claim 1, wherein a diameter of the suction head is larger than a diameter of the through hole. 前記第二層(2b)は、半田ボール(5)を吸着孔(7)に吸着する際に、半田ボール(5)が前記第一層(2a)に当接しないように設定して形成されていることを特徴とする請求項1又は2に記載の吸着ヘッド。   The second layer (2b) is formed so as to prevent the solder ball (5) from coming into contact with the first layer (2a) when the solder ball (5) is sucked into the suction hole (7). The suction head according to claim 1, wherein the suction head is provided.
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