JP2009108349A - Holding tool, thin film deposition apparatus, and thin film deposition method - Google Patents
Holding tool, thin film deposition apparatus, and thin film deposition method Download PDFInfo
- Publication number
- JP2009108349A JP2009108349A JP2007279557A JP2007279557A JP2009108349A JP 2009108349 A JP2009108349 A JP 2009108349A JP 2007279557 A JP2007279557 A JP 2007279557A JP 2007279557 A JP2007279557 A JP 2007279557A JP 2009108349 A JP2009108349 A JP 2009108349A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- holding
- thin film
- base material
- holding jig
- region
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000007736 thin film deposition technique Methods 0.000 title 1
- 238000000427 thin-film deposition Methods 0.000 title 1
- 239000010408 film Substances 0.000 claims abstract description 65
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 43
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims abstract description 40
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 35
- 230000008569 process Effects 0.000 claims abstract description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 90
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 26
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims description 13
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 claims description 10
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 3
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 abstract description 16
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 abstract description 15
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 6
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 15
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 14
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 14
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 2
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 239000013013 elastic material Substances 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 108091008695 photoreceptors Proteins 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
Description
本発明は、保持治具、薄膜形成装置、及び薄膜形成方法にかかり、更に詳しくは、薄膜が形成される基材を保持する保持治具、保持治具に保持された基材に薄膜を形成する薄膜形成装置、及び保持治具に保持された基材に薄膜を形成する薄膜形成方法に関する。 The present invention relates to a holding jig, a thin film forming apparatus, and a thin film forming method, and more specifically, a holding jig for holding a base material on which a thin film is formed, and forming a thin film on the base material held by the holding jig. The present invention relates to a thin film forming apparatus and a thin film forming method for forming a thin film on a base material held by a holding jig.
カールソンプロセスを用いて画像を形成する画像形成装置としては、例えば、回転する感光ドラムの表面を、光ビームで走査することにより、感光ドラム表面に潜像を形成し、この潜像を可視化して得られたトナー像を、記録媒体としての用紙上に定着させることにより、画像を形成する画像形成装置が知られている。この種の画像形成装置は、オンデマンドプリンティングシステムとして簡易印刷によく用いられており、近年では、カラー画像を形成することが可能な画像形成装置も広く普及するに至っている。 As an image forming apparatus that forms an image using the Carlson process, for example, a surface of a rotating photosensitive drum is scanned with a light beam to form a latent image on the surface of the photosensitive drum, and the latent image is visualized. An image forming apparatus that forms an image by fixing the obtained toner image on a sheet as a recording medium is known. This type of image forming apparatus is often used for simple printing as an on-demand printing system. In recent years, an image forming apparatus capable of forming a color image has become widespread.
カラー画像を形成する画像形成装置(以下、カラー画像形成装置ともいう)には、例えば、複数の色に共通する感光体を有し、この感光体に形成された各色に対応する複数のトナー像を重ね合わせて記録媒体に転写する装置や、各色に対応した複数の感光体を有し、各感光体に形成されたトナー像を重ね合わせて記録媒体に転写する装置などがある。いずれの装置にせよ、これらのカラー画像形成装置では、複数色のトナー像を重ね合わせることにより1つのカラー画像を形成するために、各色に対応したトナー像を、記録媒体としての用紙上に精度よく重ね合わせて定着させる必要がある。 An image forming apparatus that forms a color image (hereinafter also referred to as a color image forming apparatus) has, for example, a photosensitive member common to a plurality of colors, and a plurality of toner images corresponding to each color formed on the photosensitive member. And a device that has a plurality of photoconductors corresponding to each color, and that superimposes a toner image formed on each photoconductor and transfers the image to a recording medium. In any apparatus, in these color image forming apparatuses, in order to form a single color image by superimposing a plurality of color toner images, a toner image corresponding to each color is accurately printed on a sheet as a recording medium. It is necessary to fix and superimpose well.
上述したトナー像の重ね合わせ精度は、光源からの光ビームを整形する整形光学系と、光ビームを感光体上に入射させる光学系などに含まれる光学素子との間の相対位置関係に密接に関係するものである。そのため、カラー画像形成装置では、整形光学系に対して、例えば特許文献1及び特許文献2に記載されたミラーに代表される光学素子を、精度よく位置決めした状態で配置する必要がある。 The toner image overlay accuracy described above is closely related to the relative positional relationship between the shaping optical system that shapes the light beam from the light source and the optical element that is included in the optical system that makes the light beam incident on the photoreceptor. It is related. For this reason, in a color image forming apparatus, it is necessary to arrange optical elements represented by, for example, the mirrors described in Patent Document 1 and Patent Document 2 with high precision in the shaping optical system.
カラー画像形成装置において上述のミラーを配置する方法としては、装置の部品点数の削減、及び組み立ての容易性の観点から、例えば光学系などが収容される筐体に設けられた支持部などに、ミラーの一部を接着する方法が考えられる。この場合には、ミラーと整形光学系との相対位置関係の変動に起因するレジストずれや、色ずれなどの発生を防止する必要があるため、ミラーの接着面の濡れ性を大きくして、ミラーの接着強度をある程度高める必要がある。 As a method of arranging the above-described mirror in the color image forming apparatus, from the viewpoint of reduction in the number of parts of the apparatus and ease of assembly, for example, a support portion provided in a housing in which an optical system or the like is accommodated, A method of bonding a part of the mirror is conceivable. In this case, it is necessary to prevent the occurrence of resist misalignment and color misregistration due to fluctuations in the relative positional relationship between the mirror and the shaping optical system. It is necessary to increase the adhesive strength to some extent.
上述の濡れ性が高められたミラーを製造する工程では、透明基材の平坦面の一部をマスクした状態で金属材料を蒸着させることにより平坦面に反射膜を形成し、その後、平坦面内の反射膜が形成された領域(以下、反射領域ともいう)と、マスクされていた領域(以下、接着領域)とに、反射率を向上させるとともに濡れ性を高めるためのコーティングを施す処理が行われている。従来は上述の処理を行う場合に、透明基材の平坦面のうち、反射領域のみを露出することができる治具に透明基材を取り付けた状態で反射膜を形成し、次に、透明基材の反射領域と接着領域との双方を露出することができる治具に透明基材を取り付けた状態で、透明基材の平坦面のコーティングを行わなければならなかった。このため、ミラーの製造工程では、2種類の治具を用意するとともに、異なる治具間で透明基材の載せ替えを行う必要が生じていた。 In the process of manufacturing a mirror with improved wettability as described above, a reflective film is formed on the flat surface by depositing a metal material while masking a part of the flat surface of the transparent substrate, and then in the flat surface. A treatment for improving the reflectivity and improving the wettability is performed on the region where the reflective film is formed (hereinafter also referred to as a reflective region) and the masked region (hereinafter referred to as an adhesive region). It has been broken. Conventionally, when performing the above-described treatment, a reflective film is formed in a state where the transparent base material is attached to a jig capable of exposing only the reflective region of the flat surface of the transparent base material, and then the transparent base material is formed. The flat surface of the transparent substrate had to be coated with the transparent substrate attached to a jig that could expose both the reflective and adhesive areas of the material. For this reason, in the manufacturing process of a mirror, while preparing two types of jigs, it was necessary to replace the transparent base material between different jigs.
本発明は、かかる事情の下になされたもので、その第1の目的は、基材を保持するとともに、基材の平坦面の露出領域の面積を任意に変更することが可能な保持治具を提供することにある。 The present invention has been made under such circumstances, and a first object of the present invention is to hold a base material and to arbitrarily change the area of the exposed region of the flat surface of the base material. Is to provide.
また、本発明の第2の目的は、前記保持治具に保持された基材の平坦面の所望の領域に薄膜を形成することが可能な薄膜形成装置を提供することにある。 A second object of the present invention is to provide a thin film forming apparatus capable of forming a thin film in a desired region of a flat surface of a substrate held by the holding jig.
また、本発明の第3の目的は、基材に薄膜を形成する工程の工数を削減することが可能な薄膜形成方法を提供することにある。 A third object of the present invention is to provide a thin film forming method capable of reducing the number of steps in the step of forming a thin film on a substrate.
本発明は、第1の観点からすると、薄膜が形成される平坦面を有する基材を保持する保持治具であって、前記基材の第1軸方向の一端部に係止可能な第1係止部と、前記基材の前記第1軸方向の他端部に係止可能な第2係止部とを有するフレームと;前記平坦面に対して傾斜した第1の平面内を、前記基材の一端側から前記平坦面の中央側の第1位置に当接する位置まで移動可能に設けられ、前記平坦面の前記第1位置から前記基材の一端側の領域をマスク可能な第1マスク部材と;前記平坦面に対して傾斜した前記第1の平面と異なる第2の平面内を、前記基材の他端側から前記平坦面の中央側の第2位置に当接する位置まで移動可能に設けられ、前記平坦面の前記第2位置から前記基材の他端側の領域をマスク可能な第2マスク部材と;を備える保持治具である。 According to a first aspect of the present invention, there is provided a holding jig for holding a base material having a flat surface on which a thin film is formed, and is a first jig that can be locked to one end portion in the first axial direction of the base material. A frame having a locking portion and a second locking portion that can be locked to the other end portion of the base in the first axial direction; a first plane inclined with respect to the flat surface, A first portion capable of moving from one end side of the base material to a position contacting the first position on the center side of the flat surface and masking a region on the one end side of the base material from the first position of the flat surface. A mask member; moves in a second plane different from the first plane inclined with respect to the flat surface from the other end side of the base material to a position where it abuts on a second position on the center side of the flat surface A second mask member which is provided so as to be capable of masking a region on the other end side of the base material from the second position of the flat surface; A holding jig with.
これによれば、フレームの第1係止部と第2係止部によって、第1軸方向の両端が係止された基材に対して、第1マスク部材及び第2マスク部材を、基材の平坦面に傾斜した第1の平面及び第2の平面に沿ってそれぞれ移動させることで、基材の平坦面の露出領域の面積を任意に変更することが可能となる。 According to this, the first mask member and the second mask member are attached to the base material that is locked at both ends in the first axial direction by the first locking portion and the second locking portion of the frame. It is possible to arbitrarily change the area of the exposed region of the flat surface of the base material by moving along the first plane and the second plane inclined to the flat surface.
本発明は第2の観点からすると、本発明の保持治具に保持された基材に、薄膜を形成する薄膜形成装置であって、複数の保持治具がそれぞれ装着される所定数の開口部が設けられた保持部材と;保持治具を介して前記保持部材に装着された基材の平坦面に対して、蒸着材料を蒸着させる蒸着装置と;を備える薄膜形成装置である。 According to a second aspect of the present invention, there is provided a thin film forming apparatus for forming a thin film on a substrate held by a holding jig of the present invention, wherein a predetermined number of openings into which a plurality of holding jigs are respectively attached. A deposition member that deposits a deposition material on a flat surface of a substrate mounted on the holding member via a holding jig.
これによれば、保持部材に設けられた複数の開口部に装着された保持治具に保持される基材に対して、蒸着材料の蒸着を行う場合に、保持治具の第1マスク部材及び第2マスク部材を移動して、基材の平坦面の露出領域の面積を変更することで、蒸着材料によって構成される薄膜を、基材の平坦面の所望の領域に形成することが可能となる。 According to this, when performing vapor deposition of vapor deposition material with respect to the base material hold | maintained at the holding jig with which the several opening part provided in the holding member was attached, the 1st mask member of a holding jig and By moving the second mask member and changing the area of the exposed region of the flat surface of the base material, it is possible to form a thin film made of a vapor deposition material in a desired region of the flat surface of the base material Become.
本発明は第3の観点からすると、本発明の保持治具に保持された前記基材に、複数の薄膜を形成する薄膜形成方法であって、前記第1マスク部材及び前記第2マスク部材で、前記基材の平坦面の、前記第1位置から前記基材の一端側の第1領域、及び前記第2位置から前記基材の一端側の第2領域をマスクするマスク工程と;前記第1領域及び前記第2領域がマスクされた前記平坦面に、反射性を有する物質を蒸着させて反射膜を形成する反射膜形成工程と;前記マスク部材をフレームに対して移動させて、前記平坦面の前記第1領域及び前記第2領域それぞれの少なくとも一部の領域を露出させる露出工程と;前記平坦面の、前記反射膜が形成された領域と、前記第1領域及び前記第2領域とに、保護膜を形成する保護膜形成工程と;を含む薄膜形成方法である。 According to a third aspect of the present invention, there is provided a thin film forming method for forming a plurality of thin films on the substrate held by the holding jig of the present invention, wherein the first mask member and the second mask member are used. A masking step of masking a first region on one side of the base material from the first position and a second region on one side of the base material from the second position on the flat surface of the base material; A reflective film forming step of forming a reflective film by depositing a reflective material on the flat surface masked in the first area and the second area; and moving the mask member relative to a frame to An exposure step of exposing at least a part of each of the first region and the second region of a surface; a region of the flat surface on which the reflective film is formed; the first region and the second region; Including a protective film forming step for forming a protective film. A thin film forming method.
これによれば、基材の平坦面の第1、第2領域がマスクされた状態で、基材の平坦面に反射膜が形成される。そして、第1、第2マスク部材が移動され基材の平坦面の反射膜が形成された領域と、第1、第2マスク部材にマスクされていた第1、第2領域とに保護膜が形成される。これにより、基材の平坦面に反射膜を形成する工程と、保護膜を形成する工程間で、基材を異なる保持治具に載せ替える必要がなくなり、基材に薄膜を形成する工程の工数を削減することが可能となる。 According to this, the reflective film is formed on the flat surface of the base material in a state where the first and second regions of the flat surface of the base material are masked. A protective film is formed in the region where the first and second mask members are moved to form the reflective film on the flat surface of the substrate, and in the first and second regions masked by the first and second mask members. It is formed. This eliminates the need to transfer the base material to a different holding jig between the step of forming the reflective film on the flat surface of the base material and the step of forming the protective film, and the number of man-hours for forming the thin film on the base material Can be reduced.
以下、本発明の一実施形態を図1〜図16に基づいて説明する。図1は、本実施形態にかかるミラー10を示す斜視図である。このミラー10は、コピー機などの光走査装置を備えた画像形成装置に用いられている光学素子の1つであり、例えば光源から射出される光ビームを偏向することにより、光ビームの進行方向を偏向する反射ミラーである。
Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 1 is a perspective view showing a
図1に示されるように、ミラー10は直方体状のミラーであり、例えばガラスや透明樹脂などを素材とし長手方向をY軸方向とする透明基材10aを有している。そして、図1及びミラー10の平面図である図2を総合して見るとわかるように、透明基材10aの上面(+Z側の面)には、反射膜10b、及び保護膜10cが順次形成されている。
As shown in FIG. 1, the
前記反射膜10bは、透明基材10a上面の両端部の領域を除いた領域に形成された、光ビームに対して反射性を有する膜である。ここで、説明の便宜上、図1に示されるように、透明基材10a上面の両端部の領域を接着領域a2と定義し、透明基材10a上面の両端部の領域を除いた領域を反射領域a1と定義する。
The
上述した反射膜10bは、一例として、透明基材10aを十分に精密洗浄した後に十分に乾燥させ、真空環境下で透明基材10aの反射領域a1に、例えばアルミニウムや、アルミニウムを含む合金が蒸着されることにより形成されている。
As an example, the
前記保護膜10cは、図1及び図2を総合して見るとわかるように、透明基材10a上面の反射領域a1と接着領域a2に渡って連続して形成された透過性を有する膜である。図3は、図2におけるAA線に沿った断面図である。図3に示されるように、この保護膜10cは3層構造の膜であり、最上層(+Z側の層)と最下層(−Z側の層)は親水性が高いSiO2が蒸着されることにより形成され、最上層と最下層とに挟まれた中間層はTiO2が蒸着されることにより形成されている。
The
上述したように、保護膜10cが、透明基材10aの反射領域a1と接着領域a2とに形成されることで、反射領域a1では、反射膜10bと保護膜10cとの相互作用により、光ビームに対する反射率が向上するとともに、反射膜10bが保護膜10cによって電気的に絶縁される。そして、接着領域a2では、後述する接着剤に対する濡れ性(親水性)が大きくなる。ここで、濡れ性とは、保護膜10cの表面に接着剤が付着したときの、接着剤表面と保護膜10c表面との接触角と等価であり、接触角が大きくなるほど濡れ性が大きい(良好である)と考えられる。
As described above, the
図4は、画像形成装置の光学ハウジング100aの一部を示す図である。図4に示されるように、光学ハウジング100aには、ミラー10の両端に形成された接着領域a2を支持する支持面101aが形成された複数組のリブ101A、101Bが形成されている。また、前記リブ101Aの支持面101aには、リブ101Bとは異なり、図5に示されるように、その中央部に母線方向をY軸方向とする半円柱状の突出部が形成されている。上述のように構成されたミラー10は、両端部がリブ101A、101Bによって支持されることで、光学ハウジング100aに装着されている。
FIG. 4 is a diagram illustrating a part of the
以下、ミラー10の装着方法について説明する。ミラー10をリブ101A、101Bを介して装着する際には、図6に示されるように、まずミラー10を、その両端部に形成された接着領域a2が、リブ101A、101Bそれぞれの支持面101aに対向した状態で配置する。そして、図6及び図7を総合して見るとわかるように、弾性材料からなる保持部材103を、ミラー10の+Y側の端部に当接させた状態で、ネジ80を保持部材103に設けられた丸孔を介してボス102に螺合する。これにより、ミラー10の+Y側の接着領域a2は、保持部材103の弾性力によってリブ101Aの支持面101aに対して押圧される。上述したように、リブ101Aの支持面101aにはミラー10の接着面に対して突出する半円柱状の突出部が形成されているため、この状態のときには、ミラー10は+Y側の端部を中心に−Y側の端部を動かすことが可能な状態となっている。
Hereinafter, a method for mounting the
次に、図8に示されるように、ミラー10の−Y側端部の接着領域a2とリブ101Bの支持面101aとの間に、一例として紫外線硬化性を有する接着材を注入し、不図示の治具を用いてミラー10を+Y側端部を中心に動かして、その姿勢の微調整を行う。
Next, as illustrated in FIG. 8, an ultraviolet curable adhesive is injected as an example between the bonding region a <b> 2 at the −Y side end of the
そして、図8中の矢印に示されるように、ミラー10の透明基材10aを介して紫外線を接着材に照射することにより接着材を硬化させる。これにより、ミラー10は、姿勢の調整が行われた状態で光学ハウジング100aに装着される。
Then, as shown by the arrow in FIG. 8, the adhesive is cured by irradiating the adhesive with ultraviolet rays through the
次に、ミラー10の反射膜10b、及び保護膜10cを形成する方法について説明する。
Next, a method for forming the
図9は、蒸着装置を用いてミラー10に反射膜10b及び保護膜10cを形成する際に、ミラー10を保持するための保持治具50を示す図である。
FIG. 9 is a diagram showing a holding
前記保持治具50は、図9に示されるように、矩形枠状のフレーム51、フレーム51に固定された1対のガイド部材52A、52B、フレーム51に対して摺動可能に配置された一対のマスク部材53A、53Bを備えている。
As shown in FIG. 9, the holding
図10は、保持治具50の展開斜視図である。図10に示されるように、前記フレーム51は、矩形枠状の部材であり、X軸方向を長手方向とする支持部51bと、Y軸方向を長手方向とする1組のフレーム部51aとを有している。支持部51bそれぞれは、長方形板状に形成され、その上面が相互に対向する側から外側に向かうにつれて低くなるように傾斜した状態で設けられ、それぞれの両端部が、フレーム部51aによって連結されている。本実施形態では、一例として支持部51bの上面がXY平面に対して3度傾斜した状態となっている。
FIG. 10 is a developed perspective view of the holding
前記ガイド部材52Aは、長手方向をX軸方向とする板状の部材である。このガイド部材52Aには、−Y側端部から中央部にかけて切り欠き52aが形成され、この切り欠き52aの+X側及び−X側に、切り欠き52aと平行するように1組のきり欠き52bが形成されている。また、ガイド部材52Aの−Y側の2つのコーナー部分近傍にはZ軸方向に貫通する丸孔52cが形成されている。
The
また、前記ガイド部材52Bもガイド部材52Aと同等の構成を有し、+Y側端部から中央部にかけて切り欠き52aが形成され、この切り欠き52aの+X側及び−X側にそれぞれ切り欠き52bが形成されている。そして、ガイド部材52Aの+Y側の2つのコーナー部分近傍にはZ軸方向に貫通する丸孔52cが形成されている。
The
前記マスク部材53Aは、上述したガイド部材52A、52Bよりも幅(Y軸方向の寸法)が広い長手方向をX軸方向とする板状の部材である。このマスク部材53Aには、上面の中央部に上方に突出する円柱状の凸部53aが形成され、この凸部53aの+X側及び−X側にそれぞれ丸孔53bが形成されている。また、マスク部材53Aの−Y側のコーナー部分には、ガイド部材52Aの丸孔52cと対応可能な位置に丸孔53cがそれぞれ形成されている。
The
また、前記マスク部材53Bもマスク部材53Aと同等の構成を有し、上面の中央部に凸部53aが形成され、この凸部53aの+X側及び−X側にそれぞれ丸孔53bが形成されている。また、マスク部材53Bの−Y側のコーナー部分には、ガイド部材52Bの丸孔52cと対応可能な位置に丸孔53cがそれぞれ形成されている。
The
図9及び図10を参照するとわかるように、ガイド部材52Aは、その下面が対向するフレーム51の支持部51bと平行となった状態で配置され、フレーム51に設けられた1組のフレーム部51aそれぞれの−Y側の端部に、ガイド部材52Aの+X側及び−X側の外縁の中央から+Y側の部分が固定されている。また、ガイド部材52Bは、その下面が対向するフレーム51の支持部51bと平行となった状態で配置され、フレーム51に設けられた1組のフレーム部51aそれぞれの+Y側の端部に、ガイド部材52Aの+X側及び−X側の外縁の中央から−Y側の部分が固定されている。
As can be seen with reference to FIGS. 9 and 10, the guide member 52 </ b> A is disposed in a state where the lower surface thereof is parallel to the opposing
そして、マスク部材53Aは、 図9及び図10を参照するとわかるように、凸部53aがガイド部材52Aに形成された切り欠き52aに挿入されるように、フレーム51の支持部51bとガイド部材52Aとの間に−Y側から挿入されることで、フレーム51の支持部51bの上面に沿って移動可能に取り付けられている。また、マスク部材53Bは、凸部53aがガイド部材52Bに形成された切り欠き52aに挿入されるように、フレーム51の支持部51bとガイド部材52Bとの間に+Y側から挿入されることで、フレーム51の支持部51bの上面に沿って移動可能に取り付けられている。
Then, as can be seen from FIG. 9 and FIG. 10, the mask member 53 </ b> A has the
上述のように取り付けられたマスク部材53A、53Bそれぞれは、凸部53aがガイド部材52A、52Bの切り欠き52aの内部を摺動する範囲で移動可能となっており、ガイド部材52A、52Bに形成された切り欠き52bを介して、ネジ60がマスク部材53A、53Bにそれぞれ設けられた丸孔53bに螺合されることで、フレーム51に対して固定されるようになっている。また、マスク部材53A、53Bに設けられた丸孔53cを、ガイド部材52A、52Bに設けられた丸孔52cに一致させることで、マスク部材53A、53Bを、フレーム51に対して所定の位置で位置決めすることも可能となっている。
Each of the
上述のように構成された保持治具50には、図11に示されるように、長手方向をY軸方向とする透明基材10aが、X軸方向に隣接して複数個(14個)配列された状態で保持される。この状態のときには、図12(A)及び透明基材10aとマスク部材53Aの拡大図である図12(B)に示されるように、各透明基材10aは、ガイド部材52A及びガイド部材52Bに挟まれた状態で、それぞれの両端部の下面が、マスク部材53Aの上面と+Y側の側面によって形成されるコーナー部分と、マスク部材53Bの上面と−Y側の側面によって形成されるコーナー部分とによって支持された状態となっている。これにより、透明基材10aは、例えば図1に示される反射領域a1のみがフレーム51の下方から露出した状態となっている。
In the holding
保持治具50に保持された透明基材10aに対して、反射膜10b及び保護膜10cを形成するには、図13に示されるコーティング装置200が用いられる。図13に示されるように、コーティング装置200は、内面が球面形状となった鉛直軸を中心に回転する回転盤202、回転盤202に保持治具50を介して装着された透明基材10aに対して蒸着材料を蒸着させる蒸着装置203、及び上記各部を収容するチャンバ201などを備えている。
In order to form the
図14(A)に示されるように、回転盤202には回転中心に円形開口202aが設けられ、該円形開口202aを中心に、2種類の大きさの矩形状の開口202b、202cがそれぞれ形成されている。コーティング装置200では、一例として図14(B)に示されるように、保持治具50のフレーム51が回転盤202に形成された開口202b、202cに上方から嵌合されることで、透明基材10aが保持治具50を介して回転盤202に装着されるようになっている。そして、回転盤202を鉛直軸回りに回転させながら、蒸着装置203が運転されることで、保持治具50に保持された透明基材10aの下面に薄膜が形成される。
As shown in FIG. 14A, the
本実施形態では、コーティング装置200を用いて、保持治具50に保持された透明基材10aの反射領域a1に反射膜10bを形成する。次に、保持治具50のマスク部材53A、53Bをフレーム51から取り外すことにより、透明基材10aの反射領域a1及び接着領域a2をフレーム51の下方から露出させて、反射領域a1及び接着領域a2に対して同時に連続した保護膜10cを形成する。以下、図15(A)〜図16(B)を参照しつつ、薄膜形成方法について説明する。
In the present embodiment, the
図15(A)には、コーティング装置200によって、下面の反射領域a1に反射膜10bが形成された透明基材10aが、保持治具50に保持された状態で示されている。コーティング装置200によって、透明基材10aの反射領域a1に反射膜10bが形成されたら、透明基材10aは保持治具50に保持された状態で一旦コーティング装置200のチャンバ内から取り出される。
In FIG. 15A, the
そして、保持治具50は、図15(B)に示されるように、床面に載置された正方形板状のベースと、ベース上面に長手方向をX軸方向として設けられた当接部70aとを有する引き抜き治具70に載置される。これにより、保持治具50によって保持されていた透明基材10aが一旦引き抜き治具70の当接部70aによって支持される。なお、当接部70aは、上端部が楔状に形成されており、当接部70aと透明基材10aとの接触面積は最小限に押さえられている。
Then, as shown in FIG. 15B, the holding
次に、保持治具50のネジ60を取り外してマスク部材53A、53Bの規制を解放し、図16(A)に示されるように、マスク部材53A、53Bそれぞれをフレーム51から抜き取る。この状態から引き抜き治具70に載置された保持治具50を持ち上げることで、図16(B)に示されるように、透明基材10aは、その下面の両端部がフレーム51の支持部51bによって係止される。なお、支持部51bの上面は、上述したようにXY平面に対して傾斜しているため、透明基材10aの両端部は、支持部51bの上面と側面とによって形成されるコーナー部分によって支持される。そして、透明基材10a下面の反射領域a1、及び接着領域a2の双方は、保持治具50のフレーム51の下方から露出した状態となる。
Next, the
次に、マスク部材53A、53Bが取り外された保持治具50に保持された透明基材10aは、コーティング装置200の回転盤202に装着され、コーティング装置200により、透明基材10aの反射領域a1及び接着領域a2に保護膜10cが形成される。
Next, the
以上説明したように、本実施形態にかかる保持治具50は、透明基材10a下面の反射領域10a以外の領域をマスクするマスク部材53A、53Bを有している。このマスク部材53A、53Bはフレーム51に対して着脱可能であるため、反射膜10bを形成した後にマスク部材53A、53Bをフレーム51から取り外すことで、透明基材10aを別の保持治具などに載せ替えることなく、接着領域10cを露出させることが可能となる。これにより、作業効率を向上させるとともに、透明基材10aへの薄膜形成工程の工数を削減することができ、ミラー10の製造コストを削減することが可能となる。
As described above, the holding
また、フレーム51からのマスク部材53A、53Bの取り外しは、例えばマスキングテープなどによるマスクを取り外す場合に比較して単純な動作であるため、短時間で行うことができ、透明基材10aへの異物の付着を抑制することが可能となる。
Further, the removal of the
また、透明基材10aに対して、反射膜10b、及び保護膜10cの双方を単一の保持治具50を用いて形成することができるので、別途他の保持治具を用意する必要がなく、製造装置の低コスト化を図ることが可能となる。
In addition, since both the
また、本実施形態にかかる保持治具50では、透明基材10aをマスク部材53A、53Bのコーナー部分、あるいはフレーム51に形成された支持部51bのコーナー部分によって支持することにより、透明基材10aと保持治具50との接触面積が最小限に抑えられるようになっている。これにより、透明基材10a表面での擦り傷等の発生を回避することが可能となる。
Further, in the holding
なお、保持治具50で透明基材10aを保持する際に、14個よりも少ない数の透明基材10aを保持する場合には、一例として図17に示されるように、ダミー基材10a’を透明基材10aに隣接させて配置することが望ましい。これにより、下方からの蒸着材料がフレーム51を通過して回り込み、透明基材10aの上面に付着することを回避することが可能となる。また、ダミー基材10a’の代わりに、不足分の透明基材10aに対応する蓋部材を保持させてもよい。
When holding the
また、本実施形態にかかるコーティング装置200では、回転盤202に形成された開口に保持治具50を介して透明基材10aが装着される。したがって、保持治具50に保持された透明基材10aに対して精度よく反射膜10b及び保護膜10cを形成することが可能となる。
Further, in the
なお、コーティング装置200による薄膜形成工程で、回転盤202の開口202b、202cのうち、保持治具50が装着されない開口がある場合には、当該開口を蓋部材などで閉塞するのが好ましい。これにより、回転盤202の開口から蒸着材料が回り込み、透明基材10aの上面に付着することを回避することができる。
In addition, in the thin film formation process by the
また、回転盤202の開口202cに2つの保持治具50を装着する場合には、図18に示されるように、固定部材80を用いて、保持治具50同士を連結することとしてもよい。このように保持治具50同士を連結することで、回転盤202の回転に伴って生じる保持治具50の遊動を抑制することが可能となる。これにより、透明基材10aに形成される膜の厚さが不均一になることを回避することができる。なお、この固定部材80は、回転盤202に設けられていてもよい。
Further, when the two holding
また、本実施形態では、透明基材10aの反射領域a1と、その両側の接着領域a2とに、同一の工程で保護膜10cが形成される。この結果、透明基材10aの反射領域a1の反射率の向上と、接着領域a2の濡れ性を向上させることによる接着強度の向上とを同一の工程で実現することが可能となる。
Moreover, in this embodiment, the
なお、本実施形態では、透明基材10aに、反射膜10bと保護膜10cの2種類の膜を形成する場合について説明したが、これに限らず、保持治具50に保持された透明基材10aに3種類以上の膜を形成することも可能である。この場合、フレーム51に対するマスク部材53A、53Bの位置を調整するとで、透明基材10a上の膜が形成される領域の面積を任意に変更することが可能となる。
In the present embodiment, the case where two types of films of the
10…ミラー、10a…透明基材、10a’…ダミー基材、10b…反射膜、10c…保護膜、50…保持治具、51…フレーム、51a…フレーム部、51b…支持部、52A、52B…ガイド部材、52a、52b…切り欠き、52c…丸孔、53A、53B…マスク部材、53a…凸部、53b、53c…丸孔、70…引き抜き治具、70a…当接部、80…固定部材、100a…光学ハウジング、101A、101B…リブ、101a…支持面、102…ボス、103…保持部材、200…コーティング装置、202…回転盤、202a…円形開口、202b、202c…開口、203…蒸着装置、a1…反射領域、a2…接着領域。
DESCRIPTION OF
Claims (16)
前記基材の第1軸方向の一端部に係止可能な第1係止部と、前記基材の前記第1軸方向の他端部に係止可能な第2係止部とを有するフレームと;
前記平坦面に対して傾斜した第1の平面内を、前記基材の一端側から前記平坦面の中央側の第1位置に当接する位置まで移動可能に設けられ、前記平坦面の前記第1位置から前記基材の一端側の領域をマスク可能な第1マスク部材と;
前記平坦面に対して傾斜した前記第1の平面と異なる第2の平面内を、前記基材の他端側から前記平坦面の中央側の第2位置に当接する位置まで移動可能に設けられ、前記平坦面の前記第2位置から前記基材の他端側の領域をマスク可能な第2マスク部材と;を備える保持治具。 A holding jig for holding a substrate having a flat surface on which a thin film is formed,
A frame having a first locking portion that can be locked to one end portion in the first axial direction of the base material, and a second locking portion that can be locked to the other end portion in the first axial direction of the base material. When;
It is provided in a first plane inclined with respect to the flat surface so as to be movable from one end side of the base material to a position where it contacts the first position on the center side of the flat surface, A first mask member capable of masking a region on one end side of the substrate from a position;
Provided in a second plane different from the first plane inclined with respect to the flat surface so as to be movable from the other end side of the base material to a position in contact with the second position on the center side of the flat surface. A second mask member capable of masking a region on the other end side of the base material from the second position of the flat surface.
複数の保持治具がそれぞれ装着される所定数の開口部が設けられた保持部材と;
前記保持治具を介して前記保持部材に装着された前記基材の平坦面に対して、蒸着材料を蒸着させる蒸着装置と;を備える薄膜形成装置。 A thin film forming apparatus for forming a thin film on a substrate held by the holding jig according to any one of claims 1 to 6,
A holding member provided with a predetermined number of openings to which a plurality of holding jigs are respectively attached;
A vapor deposition apparatus that deposits a vapor deposition material on a flat surface of the base material mounted on the holding member via the holding jig.
前記第1マスク部材及び前記第2マスク部材で、前記基材の平坦面の、前記第1位置から前記基材の一端側の第1領域、及び前記第2位置から前記基材の他端側の第2領域をマスクするマスク工程と;
前記第1領域及び前記第2領域がマスクされた前記平坦面に、反射性を有する物質を蒸着させて反射膜を形成する反射膜形成工程と;
前記マスク部材を前記フレームに対して移動させて、前記平坦面の前記第1領域及び前記第2領域それぞれの少なくとも一部の領域を露出させる露出工程と;
前記平坦面の、前記反射膜が形成された領域と、前記第1領域及び前記第2領域とに、保護膜を形成する保護膜形成工程と;を含む薄膜形成方法。 A thin film forming method for forming a plurality of thin films on the base material held by the holding jig according to any one of claims 1 to 6,
In the first mask member and the second mask member, a first region of the flat surface of the base material from the first position to the one end side of the base material, and the other end side of the base material from the second position. A masking process for masking the second region of
A reflective film forming step of forming a reflective film by depositing a reflective material on the flat surface masked with the first region and the second region;
An exposure step of moving the mask member relative to the frame to expose at least a portion of each of the first region and the second region of the flat surface;
A thin film forming method comprising: a region of the flat surface where the reflective film is formed; and a protective film forming step of forming a protective film in the first region and the second region.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007279557A JP5031512B2 (en) | 2007-10-26 | 2007-10-26 | Holding jig, thin film forming apparatus, and thin film forming method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007279557A JP5031512B2 (en) | 2007-10-26 | 2007-10-26 | Holding jig, thin film forming apparatus, and thin film forming method |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009108349A true JP2009108349A (en) | 2009-05-21 |
JP5031512B2 JP5031512B2 (en) | 2012-09-19 |
Family
ID=40777156
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007279557A Active JP5031512B2 (en) | 2007-10-26 | 2007-10-26 | Holding jig, thin film forming apparatus, and thin film forming method |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5031512B2 (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI481732B (en) * | 2009-12-28 | 2015-04-21 | Ulvac Inc | Film-forming apparatus and film-forming method |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102222570B1 (en) * | 2013-11-01 | 2021-03-08 | 삼성전자주식회사 | Method of manufacturing multilayer thin film and electronic product |
CN107452659A (en) * | 2016-05-31 | 2017-12-08 | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 | It is split type to hold bed |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5328872U (en) * | 1976-08-20 | 1978-03-11 | ||
JPH1060624A (en) * | 1996-08-20 | 1998-03-03 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Sputtering device |
JP2000319782A (en) * | 1999-05-06 | 2000-11-21 | Murata Mfg Co Ltd | Film forming device |
JP2002505444A (en) * | 1998-02-24 | 2002-02-19 | エシロール・アンテルナシオナル(コンパニー・ジエネラル・ドプテイク) | Leveling mask used for vacuum deposition |
JP2003068456A (en) * | 2001-08-29 | 2003-03-07 | Dainippon Printing Co Ltd | Metal mask for vacuum vapor deposition used for manufacturing organic el element |
-
2007
- 2007-10-26 JP JP2007279557A patent/JP5031512B2/en active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5328872U (en) * | 1976-08-20 | 1978-03-11 | ||
JPH1060624A (en) * | 1996-08-20 | 1998-03-03 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Sputtering device |
JP2002505444A (en) * | 1998-02-24 | 2002-02-19 | エシロール・アンテルナシオナル(コンパニー・ジエネラル・ドプテイク) | Leveling mask used for vacuum deposition |
JP2000319782A (en) * | 1999-05-06 | 2000-11-21 | Murata Mfg Co Ltd | Film forming device |
JP2003068456A (en) * | 2001-08-29 | 2003-03-07 | Dainippon Printing Co Ltd | Metal mask for vacuum vapor deposition used for manufacturing organic el element |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI481732B (en) * | 2009-12-28 | 2015-04-21 | Ulvac Inc | Film-forming apparatus and film-forming method |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5031512B2 (en) | 2012-09-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6558484B2 (en) | Pattern forming device | |
US7253975B2 (en) | Retainer, exposure apparatus, and device fabrication method | |
JP4984747B2 (en) | Optical element, exposure apparatus using the same, and microdevice manufacturing method | |
US9435980B2 (en) | Optical element unit | |
JP5031512B2 (en) | Holding jig, thin film forming apparatus, and thin film forming method | |
JP2011138046A (en) | Spatial light modulator, exposure device and method of manufacturing them | |
JP6229302B2 (en) | Optical scanning apparatus and image forming apparatus | |
WO2011080883A1 (en) | Electro-mechanical converter, spatial optical modulator, exposure device, and methods for manufacturing them | |
JP2011137961A (en) | Spatial light modulator, exposure devices and method of manufacturing them | |
KR101335095B1 (en) | Optical element, exposure apparatus using optical element, exposure method, and micro device producing method | |
JP2009054784A (en) | Auxiliary plate, and exposure device having it | |
US7548361B2 (en) | Image forming apparatus | |
JP2009128709A (en) | Mirror, optical scanning device, and image forming device | |
JP2011138888A (en) | Electro-mechanical converter, spatial optical modulator, aligner, and methods for manufacturing them | |
JP5549222B2 (en) | Spatial light modulator, exposure apparatus and manufacturing method thereof | |
JP3572845B2 (en) | Color image forming equipment | |
JP6184285B2 (en) | Optical scanning device and image forming apparatus including the optical scanning device | |
JP5509912B2 (en) | Spatial light modulator, illumination device, exposure device, and manufacturing method thereof | |
JP2005228978A (en) | Exposure device and manufacturing method for semiconductor device | |
JP2007288108A (en) | Method of manufacturing device | |
JP5203671B2 (en) | Containment case | |
WO2011155529A1 (en) | Measurement member, stage device, exposure apparatus, exposure method, and method for manufacturing device | |
JP5223692B2 (en) | Optical scanning apparatus and image forming apparatus | |
JP2017119374A (en) | Exposure device, image formation device, and image reading device | |
JP2007034152A (en) | Method of assembling optical scanner, optical scanner and image forming apparatus |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100607 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20111227 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120105 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120302 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120322 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120516 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120601 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120627 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5031512 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150706 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |