JP2009080126A - Semiconductor device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、1パッケージ内に1つ以上の半導体チップを実装した半導体装置にかかわり、特には、導通試験を簡便に且つ確実に実施するための技術に関するものである。 The present invention relates to a semiconductor device in which one or more semiconductor chips are mounted in one package, and particularly relates to a technique for simply and reliably conducting a continuity test.
一般に半導体装置は、半導体装置外部のシステムと半導体装置に集積された内部回路との信号の受け渡しを行うための複数の端子を有する。近年、半導体装置の試験においては半導体チップに集積された内部回路の規模の増大に伴って試験時間が大幅に増加しており、試験コストの増加が懸念されている。この試験コストを抑えるためには、可能な限り時間をかけずに不良品を判別することが重要である。この試験コストの上昇を抑えるためには、半導体装置にいろいろな特殊試験機能を盛り込み、試験時間を短縮する工夫が必要となってきている。 Generally, a semiconductor device has a plurality of terminals for transferring signals between a system outside the semiconductor device and an internal circuit integrated in the semiconductor device. In recent years, in the test of semiconductor devices, the test time has greatly increased with the increase in the scale of internal circuits integrated on a semiconductor chip, and there is a concern about an increase in test cost. In order to suppress this test cost, it is important to discriminate defective products without spending as much time as possible. In order to suppress the increase in the test cost, various special test functions are incorporated in the semiconductor device, and a device for shortening the test time is required.
試験項目は、電源電流をチェックするDC試験と、内部回路システムの機能とアクセス時間等をチェックするAC試験に大別される。これらの特性保証試験を行う前には、被測定半導体装置の各端子全てが確実に試験装置と接続されていることを確認するとともに、被測定半導体装置内部の各端子が被測定半導体装置内部で断線故障あるいは別端子との短絡故障を起こしていないことを確認する。この確認を前提として、DC試験、AC試験は行われる。以上のような導通試験は、従来において次のように実施するのが一般的である。 The test items are roughly classified into a DC test for checking the power supply current and an AC test for checking the function and access time of the internal circuit system. Before performing these characteristic assurance tests, make sure that all the terminals of the semiconductor device under test are securely connected to the test device, and that the terminals inside the semiconductor device under test are connected inside the semiconductor device under test. Check that there is no disconnection failure or short-circuit failure with another terminal. On the premise of this confirmation, a DC test and an AC test are performed. Conventionally, the continuity test as described above is generally performed as follows.
各端子には基盤と逆タイプの拡散層が接続されており、電気的にはダイオードが接続された構成となっている。そのダイオードを順方向にバイアスすることにより流れる電流によって、試験装置と被測定半導体装置の接続確認、及び、被試験端子と内部回路との断線故障がないことを確認する。また、その際に被試験端子と隣接する端子を被試験端子とは逆の電位に固定しておくことで、被試験端子と被試験端子と隣接する端子との短絡故障がないことを確認する。この試験は、各端子ごとに繰り返し行われる。 Each terminal is connected to a diffusion layer of the opposite type to the substrate, and is electrically connected to a diode. The current flowing by biasing the diode in the forward direction confirms the connection between the test apparatus and the semiconductor device to be measured and that there is no disconnection failure between the terminal to be tested and the internal circuit. At that time, confirm that there is no short-circuit failure between the terminal under test and the terminal adjacent to the terminal under test by fixing the terminal adjacent to the terminal under test at a potential opposite to that of the terminal under test. . This test is repeated for each terminal.
従来は端子数も多くなかったため、このような各端子全てに導通試験を行う場合でもその時間は比較的短かったが、近年の半導体装置の内部に集積された回路システムの増大に伴って端子数も増加傾向にあり、導通試験の試験時間は端子数に比例して増加していくため、それらの試験時間及び試験コストが無視できなくなってきている。 In the past, the number of terminals was not large, so even when conducting a continuity test on all of these terminals, the time was relatively short. However, the number of terminals has increased with the recent increase in circuit systems integrated in semiconductor devices. Since the test time of the continuity test increases in proportion to the number of terminals, the test time and test cost cannot be ignored.
図13は以上に説明した半導体装置の一般的な例を示したものである。図13において、001は半導体チップ、002は半導体チップ001に集積された内部回路、003〜008は内部回路002と半導体チップ001の外部システムとの信号の受け渡しをするための端子、009〜014は端子003〜008にそれぞれ接続されたダイオードであり、電源電位(VDD)に対して順方向、接地電位(VSS)に対して逆方向に形成されている。
FIG. 13 shows a general example of the semiconductor device described above. In FIG. 13, 001 is a semiconductor chip, 002 is an internal circuit integrated on the
ここで、端子003〜008の導通試験方法の一例を説明する。端子003の導通試験を行う場合、被試験端子003に対して、{電源電位(VDD)+ダイオード009の閾値電圧Vt}を超える電位を印加し、同時に被試験端子003に流れる電流を測定する。一定量の電流が流れていれば導通していると判定する。一方、電流値が0の場合、被試験端子003は導通していないことを意味する。また、その際、被試験端子003以外の端子004〜008には、接地電位(VSS)と同電位を印加しておく。もし、被試験端子003に異常な過電流が流れれば、被試験端子003とそれ以外の端子004〜008が短絡故障を起こしていることを確認できる。以上の手順を全ての端子003〜008について同様に1端子ずつ実施する。
Here, an example of a continuity test method for the
このような構成の従来技術において、上述の課題に対する対策として、各端子に印加される電位に応じて導通/非導通となるスイッチ素子を設け、さらにスイッチ素子を直列に接続し、その一端部を電源電位(VDD)に接続するとともに、その他端部を接地電位(VSS)に接続することで、全ての被試験端子をスイッチ素子が導通する電位に設定した場合に一定の電源電流が流れるか否かを検知することによって、全ての被試験端子の一括試験を行うする手法が提案されている(例えば特許文献1参照)。 In the related art having such a configuration, as a countermeasure against the above-described problems, a switch element that is conductive / non-conductive in accordance with a potential applied to each terminal is provided, and the switch elements are connected in series, and one end of the switch element is connected. Whether or not a constant power supply current flows when all the terminals under test are set to potentials at which the switch elements are made conductive by connecting to the power supply potential (VDD) and the other end to the ground potential (VSS). A method of performing a collective test of all the terminals under test by detecting the above has been proposed (see, for example, Patent Document 1).
以上の例は一般的に1パッケージに1つの半導体チップを実装した半導体装置の例であった。以下では、近年注目されている1パッケージに複数の半導体チップを実装する技術を適用した半導体装置について説明する。 The above example is generally an example of a semiconductor device in which one semiconductor chip is mounted in one package. Hereinafter, a semiconductor device to which a technique for mounting a plurality of semiconductor chips in one package that has been attracting attention in recent years will be described.
セットのシステムはそれを構成するために複数の半導体装置をプリント基板上で接続することによって実現していたが、年々、セットシステムの小型化が進み、従来、複数の半導体装置で構成していたシステムを1つの半導体チップ上で実現するシステムLSIが今や主流となってきている。こうしたシステムLSIではDRAMやFLASHメモリなどを必要とすることが多く、その結果、システムLSIにメモリデバイスを取り込んで混載し、1チップ化することが求められている。ところが、これらのメモリデバイスを混載することによって、従来、ピュアCMOSプロセスで製造することができたシステムLSIにメモリプロセスを追加する必要が生じ、その結果、歩留まりの低下、微細化の限界、製造期間の増大などの課題が新たに発生していた。 The set system was realized by connecting a plurality of semiconductor devices on a printed circuit board in order to configure it. However, the set system has been downsized every year, and has conventionally been configured with a plurality of semiconductor devices. System LSIs that implement a system on a single semiconductor chip are now mainstream. Such a system LSI often requires a DRAM, a FLASH memory, or the like, and as a result, it is required to incorporate a memory device into the system LSI and mount it as a single chip. However, when these memory devices are mixedly mounted, it becomes necessary to add a memory process to a system LSI that can be conventionally manufactured by a pure CMOS process. As a result, the yield is lowered, the limit of miniaturization, the manufacturing period is increased. New issues such as an increase in
こうした状況の中で、拡散プロセスの異なる複数の半導体チップを1つのパッケージの中に封止することでシステムLSIを実現する技術が注目されてきている。その形態は様々であるが、大きく3種類に大別できる。1つ目は、ベースとなる半導体チップ(以下、親チップ)の表面に、貼り合わせられるチップ(以下、子チップ)の表面を向かい合わせにバンプを用いて接続する方法である。2つ目は、親チップ上に子チップの裏面を接着し、それぞれのチップを直接ワイヤを介して接続する方法である。3つ目は、複数のチップを2次元的にパッケージ内に並べて、チップ間の接続が必要な箇所を直接ワイヤで接続する方法である。 Under such circumstances, attention has been paid to a technique for realizing a system LSI by sealing a plurality of semiconductor chips having different diffusion processes in one package. Although the form is various, it can be roughly divided into three types. The first is a method in which the surface of a chip to be bonded (hereinafter referred to as a child chip) is connected to the surface of a base semiconductor chip (hereinafter referred to as a parent chip) using bumps. The second is a method in which the back surface of the child chip is bonded onto the parent chip, and the respective chips are directly connected via wires. The third method is a method in which a plurality of chips are two-dimensionally arranged in a package, and a portion requiring connection between the chips is directly connected by a wire.
図14は以上に説明した1つのパッケージ内に複数の半導体チップを実装する場合の上記2つ目の例を挙げたものである。101はベースとなる半導体チップ(以下、親チップ)、102は親チップ101に集積された内部回路、103〜108は内部回路102と親チップ101の外部システムとの間の信号の受け渡しをするための端子、109〜114は端子103〜108に接続されたダイオード、115は親チップ101上に積層された半導体チップ(以下、子チップ)、116は子チップ115に集積された内部回路、117〜120は内部回路116と親チップ101上の内部回路102との間の信号の受け渡しをするためのチップ間接続端子、121〜124はチップ間接続端子117〜120に接続されたダイオード、125〜128は親チップ101上の内部回路102と子チップ115上の内部回路116との間の信号の受け渡しをするためのチップ間接続端子、129〜132はチップ間接続端子125〜128に接続されたダイオード、133〜136はチップ間接続端子117〜120とチップ間接続端子125〜128を接続するワイヤである。
FIG. 14 shows the second example in the case where a plurality of semiconductor chips are mounted in one package described above. 101 is a base semiconductor chip (hereinafter referred to as a parent chip), 102 is an internal circuit integrated in the
端子103〜108の導通試験方法については、既に説明した1パッケージに1つの半導体チップを実装する半導体装置の導通試験方法と同様である。ここでは、チップ間接続端子117〜120とチップ間接続端子125〜128の導通試験方法について従来の方法を説明する。
The continuity test method for the
パッケージ外部から親チップ101上の端子103〜108を制御及び観測することによって親チップ101の内部回路102を介して子チップ115の内部回路116の機能試験を実施し、それによって間接的にチップ間接続端子117〜120及び125〜128、またワイヤ133〜136の導通試験を行っている。ただし、チップ間接続端子の断線故障、短絡故障を網羅的に試験するためには、機能試験時のチップ間接続端子の状態の組み合わせを考慮する必要があり、親チップに供給する試験パターンの作成に多大な工数を要するという問題がある。
By controlling and observing the
そこで、チップ間接続端子部の導通試験方法として合理的且つ有効な試験方法が必要になってきている。以上の例では、1つのパッケージの中に2つの半導体チップを積層し、2つの半導体チップをワイヤによって直接接続する構成の半導体装置について述べたが、実装するチップが3つ以上の複数の場合、あるいは半導体チップの実装形態が積層配置/2次元配置、あるいは複数の半導体チップの接続形態がワイヤ/バンプのいかんに関わらず、複数の半導体チップが1つのパッケージ内に実装され、パッケージ内部で半導体チップ間が直接接続される構成の半導体装置全般について、上記と同様の課題が該当する。以下、詳しく説明する。
半導体装置の外部と信号の受け渡しを行う端子の導通試験を行うためには、上記従来の方法では、1端子ずつ試験を行う必要があり、そのため、年々増加傾向にある端子数に比例して導通試験に要する試験時間が増大し、試験コストが増大するという課題があった。 In order to conduct a continuity test of terminals that exchange signals with the outside of the semiconductor device, it is necessary to perform a test for each terminal in the conventional method. Therefore, the continuity is proportional to the number of terminals that are increasing year by year. There was a problem that the test time required for the test increased and the test cost increased.
この課題においては、全端子を一括で導通試験を行うための半導体装置の構成として、前記特許文献1に記載の発明がなされているが、複数の被試験端子に一括で電圧を印加して導通検査を行うため、被試験端子の一部が試験装置と断線状態にある場合でも、隣接する端子間に短絡故障が存在していれば、短絡故障箇所から断線状態の被試験端子に電圧が供給され、正常であると誤判定してしまうという課題があった。また、以上の試験を実施するためには、被試験端子に電圧を印加しながら電流を測定するという比較的高級な試験装置でなければ導通試験を実施することができないという課題があった。 In this problem, the invention described in Patent Document 1 has been made as a configuration of a semiconductor device for performing a continuity test for all terminals at once. However, a voltage is applied to a plurality of terminals under test to conduct continuity. Even if a part of the terminal under test is disconnected from the test equipment for inspection, voltage is supplied from the short-circuit fault to the terminal under test if there is a short-circuit fault between adjacent terminals. There was a problem that it was erroneously determined to be normal. Further, in order to perform the above test, there is a problem that the continuity test cannot be performed unless a relatively high-grade test apparatus that measures current while applying a voltage to a terminal under test.
また、複数の半導体チップが1つのパッケージ内に実装され、パッケージ内部で半導体チップ間が直接接続される構成の半導体装置において、そのチップ間接続端子部の導通試験、すなわち断線故障及び短絡故障を網羅的に試験するためには、被試験箇所を経由して半導体チップの機能試験を実施し、さらには機能試験時のチップ間接続端子の状態の組み合わせを考慮する必要があるため、半導体装置に供給する試験パターンの作成に多大な工数を要するという課題があった。すなわち、チップ間接続端子部の導通試験方法として合理的且つ有効な試験方法が存在しないという根本的な課題があった。 In addition, in a semiconductor device in which a plurality of semiconductor chips are mounted in one package and the semiconductor chips are directly connected inside the package, the continuity test of the inter-chip connection terminals, that is, the disconnection failure and the short-circuit failure are covered. In order to conduct a test, it is necessary to conduct a function test of the semiconductor chip via the location under test and to consider the combination of the state of the inter-chip connection terminals during the function test. There is a problem that it takes a lot of man-hours to create a test pattern. That is, there is a fundamental problem that there is no rational and effective test method as a continuity test method for the inter-chip connection terminal portion.
本発明は、このような従来技術における問題点を解決し、被測定半導体装置の端子数に依存しないで、全ての端子を一括して確実に導通試験を実行することができ、それによって、導通試験に要する時間を大幅に短縮し得る半導体装置を提供するとともに、複数半導体チップを1パッケージに実装した場合のチップ間接続端子において合理的且つ有効に導通試験を実行することができる半導体装置を提供することを目的とする。 The present invention solves such problems in the prior art, and can reliably execute a continuity test for all the terminals collectively without depending on the number of terminals of the semiconductor device to be measured. Provided is a semiconductor device capable of significantly reducing the time required for testing, and also provides a semiconductor device capable of rationally and effectively conducting a continuity test at inter-chip connection terminals when a plurality of semiconductor chips are mounted in one package. The purpose is to do.
上記の課題を解決するために、本発明は次のような手段を講じる。 In order to solve the above problems, the present invention takes the following measures.
第1の解決手段として、本発明による半導体装置(請求項1)は、1つのパッケージの内部にそれぞれ複数のチップ間接続端子を有する第1の半導体チップと第2の半導体チップが実装され、前記第1の半導体チップ上のチップ間接続端子の各々と前記第2の半導体チップ上のチップ間接続端子の各々とが1つずつワイヤを介して接続された半導体装置であって、複数の隣接する前記ワイヤ間で、前記第1の半導体チップの側と前記第2の半導体チップの側とで交互となる状態で介挿されたスイッチ素子と、一連の前記スイッチ素子の直列接続体の一端および他端にそれぞれ接続された導通試験用端子と、複数の前記スイッチ素子の全体を一括制御するスイッチ制御端子とを備えている。 As a first solution, a semiconductor device according to the present invention (Claim 1) includes a first semiconductor chip and a second semiconductor chip each having a plurality of inter-chip connection terminals in one package, A semiconductor device in which each of the inter-chip connection terminals on the first semiconductor chip and each of the inter-chip connection terminals on the second semiconductor chip are connected one by one via a wire, and are adjacent to each other. A switching element interposed between the wires in an alternating state on the first semiconductor chip side and the second semiconductor chip side, one end of a series connection body of the series of the switching elements, and others A continuity test terminal connected to each end; and a switch control terminal for collectively controlling the plurality of switch elements.
ここで、第1の半導体チップを親チップ、第2の半導体チップを子チップと呼んでもよい。複数のスイッチ素子は一連に直列接続されるが、隣接するスイッチ素子は、交互に第1の半導体チップ側と第2の半導体チップ側とに配置されることになる。すなわち、千鳥状に、ワイヤ−スイッチ素子−ワイヤ−スイッチ素子…の一連の直列接続体となっている。第1の解決手段において、各直列接続体に抵抗素子を含ませているのは、もし、この抵抗素子がなければ、過剰電流が流れてしまうが、その過剰電流を防止するためである。第1の解決手段では、ワイヤが抵抗要素となっているので、特に抵抗素子は必要としないのである。 Here, the first semiconductor chip may be called a parent chip, and the second semiconductor chip may be called a child chip. A plurality of switch elements are connected in series in series, but adjacent switch elements are alternately arranged on the first semiconductor chip side and the second semiconductor chip side. That is, it is a series of serially connected bodies of wire-switch element-wire-switch element... In the first solving means, the resistive element is included in each series connection body in order to prevent the excessive current from flowing if the resistive element is not provided. In the first solution, the resistance element is not particularly required because the wire is a resistance element.
この構成による作用は次のとおりである。導通試験時に全てのスイッチ素子を導通させ、両端の導通試験用端子間に電位差を与えることによって両導通試験用端子間に流れる電流値を測定する。全チップ間接続端子に故障がない正常状態の場合は、両導通試験用端子間に電流が流れるが、もし第1の半導体チップ上のチップ間接続端子と第2の半導体チップ上のチップ間接続端子とを接続するワイヤに断線故障が発生している場合には、両導通試験用端子間はハイインピーダンス状態となるため測定電流値は0となる。よって測定電流値によって断線故障が発生しているか否かを検出することができる。すなわち、従来では有効な試験手法が無かったチップ間接続のワイヤの断線故障を一括で検出することができる。 The effect | action by this structure is as follows. All switch elements are conducted during a continuity test, and the value of a current flowing between both continuity test terminals is measured by applying a potential difference between the continuity test terminals at both ends. In a normal state in which there is no failure in all the inter-chip connection terminals, a current flows between both continuity test terminals. However, if the inter-chip connection terminal on the first semiconductor chip and the inter-chip connection on the second semiconductor chip are connected. When a disconnection failure has occurred in the wire connecting the terminals, the measured current value is 0 because both continuity test terminals are in a high impedance state. Therefore, it is possible to detect whether or not a disconnection failure has occurred based on the measured current value. That is, it is possible to collectively detect a disconnection failure of wires connected between chips, which conventionally has not had an effective test method.
第2の解決手段として、本発明による半導体装置(請求項2)は、上記第1の解決手段において、複数の前記スイッチ素子のそれぞれに抵抗素子が直列接続されている。 As a second solution, a semiconductor device according to the present invention (Claim 2) is the first solution, wherein a resistance element is connected in series to each of the plurality of switch elements.
この構成による作用は次のとおりである。導通試験時に全てのスイッチ素子を導通させ、両端の導通試験用端子間に電位差を与えることによって両導通試験用端子間に流れる電流値を測定する。全チップ間接続端子に故障がない正常状態の場合は、流れる電流値は、(電位差)/(全抵抗素子の抵抗値総和)となるが、もし第1の半導体チップ上のチップ間接続端子と第2の半導体チップ上のチップ間接続端子とを接続するワイヤに断線故障が発生している場合には、両導通試験用端子間はハイインピーダンス状態となるため測定電流値は0となる。よって測定電流値によって断線故障が発生しているか否かを検出することができる。また、もし、隣接するチップ間接続端子間で短絡故障が発生している場合には、短絡故障箇所の両端に接続された抵抗素子が迂回されるため、測定電流値は増大する。この電流値の差異によって隣接するチップ間接続端子間に短絡故障が発生していることをも検出することができる。 The effect | action by this structure is as follows. All switch elements are conducted during a continuity test, and the value of a current flowing between both continuity test terminals is measured by applying a potential difference between the continuity test terminals at both ends. In a normal state in which all the inter-chip connection terminals are free of failure, the value of the flowing current is (potential difference) / (total resistance value of all resistance elements). If the inter-chip connection terminals on the first semiconductor chip are When a disconnection failure has occurred in the wire connecting the inter-chip connection terminal on the second semiconductor chip, the measured current value is 0 because both continuity test terminals are in a high impedance state. Therefore, it is possible to detect whether or not a disconnection failure has occurred based on the measured current value. In addition, if a short-circuit failure occurs between adjacent inter-chip connection terminals, the resistance elements connected to both ends of the short-circuit failure location are bypassed, and the measured current value increases. The difference in current value can also detect that a short-circuit failure has occurred between adjacent inter-chip connection terminals.
第3の解決手段として、本発明による半導体装置(請求項3)は、上記第2の解決手段において、さらに、複数の前記抵抗素子の個々の抵抗値が重み付けされたものである。これによれば、抵抗値が重み付けされているため、短絡箇所に応じて測定電流値が一定かつユニークな値を示すことになり、短絡故障箇所をも特定することができる。 As a third solution, a semiconductor device according to the present invention (Claim 3) is obtained by weighting individual resistance values of the plurality of resistance elements in the second solution. According to this, since the resistance value is weighted, the measured current value shows a constant and unique value according to the short-circuit location, and the short-circuit failure location can also be specified.
第4の解決手段として、本発明による半導体装置(請求項4)は、1つのパッケージの内部にそれぞれ複数のチップ間接続端子を有する第1の半導体チップと第2の半導体チップが実装され、前記第1の半導体チップ上のチップ間接続端子の各々と前記第2の半導体チップ上のチップ間接続端子の各々とが1つずつワイヤを介して接続された半導体装置であって、前記第1の半導体チップの側で複数の前記チップ間接続端子のそれぞれと導通試験用端子との間に介挿されたスイッチ素子と、複数の前記スイッチ素子を選択的にオン/オフ制御するスイッチ制御手段と、前記第2の半導体チップの側で複数の前記チップ間接続端子において電源電位に対して順方向にまたは接地電位に対して逆方向に接続されたダイオードと、前記第1の半導体チップの側で複数の前記チップ間接続端子の線路に介挿された線路スイッチ素子と、前記線路スイッチ素子のオン/オフ制御端子に接続された導通試験用端子とを備えている。 As a fourth solution, a semiconductor device according to the present invention (Claim 4) includes a first semiconductor chip and a second semiconductor chip each having a plurality of inter-chip connection terminals in one package. A semiconductor device in which each of the inter-chip connection terminals on the first semiconductor chip and each of the inter-chip connection terminals on the second semiconductor chip are connected one by one through the wire, A switch element interposed between each of the plurality of inter-chip connection terminals and the continuity test terminal on the semiconductor chip side, and switch control means for selectively on / off controlling the plurality of switch elements; A diode connected in a forward direction with respect to a power supply potential or in a reverse direction with respect to a ground potential at a plurality of the inter-chip connection terminals on the second semiconductor chip side; and the first semiconductor Tsu comprises a line switching device interposed in a plurality of said lines of inter-chip connection terminal on the side of the flop, and said line terminal continuity test connected to the on / off control terminal of the switch element.
この構成による作用は次のとおりである。導通試験時に導通試験用端子によって線路スイッチ素子をオフにするとともに、スイッチ制御手段によってスイッチ素子を1つだけ導通させ、導通試験用端子に{電源電位(VDD)+ダイオードの閾値電圧Vt}を超える電位を印加し、流れる電流値を測定する。該当のチップ間接続端子に故障がない正常状態の場合は電流が流れるが、もし第1の半導体チップ上のチップ間接続端子と第2の半導体チップ上のチップ間接続端子とを接続するワイヤに断線故障が発生している場合には、両チップ間接続端子間はハイインピーダンス状態となるため測定電流値は0となる。以上の測定を全てのチップ間接続端子に対して順次に実施することによって、チップ間接続端子どうしを接続するワイヤのそれぞれにつき断線故障が発生しているか否かを検出することができる。さらに、第1の半導体チップの側に集約しているので、第2の半導体チップには導通試験のためのスイッチ素子や抵抗素子の追加などの設計変更が一切不要となり、第2の半導体チップとして他社から入手した半導体チップを利用する場合に特に有効である。 The effect | action by this structure is as follows. At the time of the continuity test, the line switch element is turned off by the continuity test terminal, and only one switch element is turned on by the switch control means, and exceeds {power supply potential (VDD) + diode threshold voltage Vt} at the continuity test terminal. An electric potential is applied and the flowing current value is measured. In a normal state in which there is no failure in the corresponding inter-chip connection terminal, a current flows. However, if the inter-chip connection terminal on the first semiconductor chip is connected to the inter-chip connection terminal on the second semiconductor chip, When a disconnection failure has occurred, the measured current value is 0 because the connection terminals between both chips are in a high impedance state. By sequentially performing the above measurement on all the inter-chip connection terminals, it is possible to detect whether or not a disconnection failure has occurred for each of the wires connecting the inter-chip connection terminals. Further, since the second semiconductor chip is concentrated on the first semiconductor chip side, no design change such as addition of a switch element or a resistance element for the continuity test is required for the second semiconductor chip. This is particularly effective when using semiconductor chips obtained from other companies.
ここで、前記スイッチ素子がN型のMOSトランジスタで構成されている場合、導通試験時に電流を測定する端子に印加する電位を{電源電位(VDD)+ダイオードの閾値電圧Vt}にしてもN型MOSトランジスタのゲート電位がVDDであるためVDD以上の電位を伝搬させることができず、ダイオードの両端に順方向電流を流すための電位差を得ることができない。そこで、第1の半導体チップに供給する電源電位(VDD1)と第2の半導体チップに供給する電源電位(VDD2)を別々に供給し、VDD1>VDD2とすることによって導通試験時に電流を測定する端子に対してVDD1以上の電位を印加しなくても、すなわちVDD1と同一電位を印加することによってダイオードに順方向の電流を流すことができるため、導通試験を実施することができる(請求項5)。 Here, when the switch element is composed of an N-type MOS transistor, the potential applied to the terminal for measuring the current during the continuity test is {power supply potential (VDD) + diode threshold voltage Vt}. Since the gate potential of the MOS transistor is VDD, a potential higher than VDD cannot be propagated, and a potential difference for flowing a forward current to both ends of the diode cannot be obtained. Accordingly, a power supply potential (VDD1) to be supplied to the first semiconductor chip and a power supply potential (VDD2) to be supplied to the second semiconductor chip are separately supplied so that VDD1> VDD2 to measure current during a continuity test. On the other hand, a continuity test can be performed because a forward current can be passed through the diode by applying a potential equal to or higher than VDD1 without applying a potential higher than VDD1 (Claim 5). .
また、スイッチ素子がP型のMOSトランジスタで構成されている場合、導通試験時に電流を測定する端子に対してVSS以下の電位を印加することで導通試験を実施する場合においても、第1の半導体チップに供給する接地電位(VSS1)と第2の半導体チップに供給する接地電位(VSS2)を別々に供給し、VSS1<VSS2とすることによって導通試験時に電流を測定する端子に対してVSS1以下の電位を印加しなくても、すなわちVSS1と同一電位を印加することによってダイオードに順方向の電流を流すことができるため、導通試験を実施することができる(請求項6)。 Further, when the switch element is composed of a P-type MOS transistor, the first semiconductor is used even when the continuity test is performed by applying a potential equal to or lower than VSS to the terminal for measuring the current during the continuity test. The ground potential (VSS1) to be supplied to the chip and the ground potential (VSS2) to be supplied to the second semiconductor chip are separately supplied, and VSS1 <VSS2 is set to VSS1 <VSS2 or less with respect to a terminal for measuring current at the continuity test. Even if no potential is applied, that is, by applying the same potential as VSS1, a forward current can be passed through the diode, so that a continuity test can be performed.
第5の解決手段として、本発明による半導体装置(請求項7)は、1つのパッケージの内部にそれぞれ複数のチップ間接続端子を有する第1の半導体チップと第2の半導体チップが実装され、前記第1の半導体チップ上のチップ間接続端子の各々と前記第2の半導体チップ上のチップ間接続端子の各々とが1つずつワイヤを介して接続された半導体装置であって、複数の隣接する前記ワイヤ間で、前記第1の半導体チップの側と前記第2の半導体チップの側とで交互となる状態で介挿された、スイッチ素子と抵抗素子との直列接続体と、一連の前記直列接続体のうちの一端を電源電位に対して接続する電源電位側スイッチ素子と、一連の前記直列接続体のうちの他端を接地電位に対して接続する接地電位側スイッチ素子と、複数の前記スイッチ素子の全体を一括制御するスイッチ制御端子と、前記一連の直列接続体における抵抗素子群に対して抵抗分割のために直列接続した抵抗分割用抵抗素子と、前記一連の直列接続体と前記抵抗分割用抵抗素子との抵抗分割点の電位が所定値を上回ることを検出する論理素子と、前記論理素子の出力側に接続された導通試験用端子とを備えている。この場合、千鳥状に、ワイヤ−(スイッチ素子+抵抗素子)−ワイヤ−(スイッチ素子+抵抗素子)…の一連の直列接続体となっている。 As a fifth solution, a semiconductor device according to the present invention (Claim 7) includes a first semiconductor chip and a second semiconductor chip each having a plurality of inter-chip connection terminals in one package. A semiconductor device in which each of the inter-chip connection terminals on the first semiconductor chip and each of the inter-chip connection terminals on the second semiconductor chip are connected one by one via a wire, and are adjacent to each other. A series connection body of a switch element and a resistance element, interposed between the wires in an alternating state between the first semiconductor chip side and the second semiconductor chip side, and a series of the series A power supply potential side switch element for connecting one end of the connection body to the power supply potential; a ground potential side switch element for connecting the other end of the series connection body to the ground potential; Sui A switch control terminal that collectively controls the entire element, a resistance dividing resistance element connected in series for resistance division with respect to a resistance element group in the series connection body, the series connection body and the resistance division A logic element for detecting that the potential at the resistance dividing point with the resistance element exceeds a predetermined value, and a continuity test terminal connected to the output side of the logic element. In this case, a series of serially connected bodies of wire- (switch element + resistance element) -wire- (switch element + resistance element)...
この構成による作用は次のとおりである。導通試験時に全てのスイッチ素子を導通させ、論理素子の出力電位を測定する。全てのチップ間接続端子に故障がなく正常状態の場合は、一連の直列接続体と抵抗分割用抵抗素子とで分圧された電位は所定範囲内にあり、論理素子は所定の値を出力する。一方、隣接するチップ間接続端子間で短絡故障が発生している場合には、その短絡故障のチップ間接続端子間に接続された抵抗素子が迂回されるため、前記の分圧された電位は所定範囲外となり、論理素子は正常状態の反転値を出力する。すなわち、論理素子の出力値によって隣接するチップ間接続端子間に短絡故障が発生しているか否かを検出することができる。 The effect | action by this structure is as follows. During the continuity test, all switch elements are turned on and the output potential of the logic element is measured. When all the inter-chip connection terminals are in a normal state with no failure, the potential divided by the series connected body and the resistance dividing resistance element is within a predetermined range, and the logic element outputs a predetermined value. . On the other hand, when a short-circuit failure occurs between adjacent inter-chip connection terminals, the resistive element connected between the short-circuit failure inter-chip connection terminals is bypassed, so the divided potential is Outside the predetermined range, the logic element outputs the inverted value of the normal state. That is, it is possible to detect whether or not a short-circuit failure has occurred between adjacent inter-chip connection terminals based on the output value of the logic element.
第6の解決手段として、本発明による半導体装置(請求項8)は、1つのパッケージの内部にそれぞれ複数のチップ間接続端子を有する第1の半導体チップと第2の半導体チップが実装され、前記第1の半導体チップ上のチップ間接続端子の各々と前記第2の半導体チップ上のチップ間接続端子の各々とが1つずつワイヤを介して接続された半導体装置であって、複数の隣接する前記ワイヤ間で、前記第1の半導体チップの側と前記第2の半導体チップの側とで交互となる状態で介挿された、スイッチ素子と抵抗素子との直列接続体と、一連の前記直列接続体のうちの一端を電源電位に対して接続する電源電位側スイッチ素子と、一連の前記直列接続体のうちの他端を接地電位に対して接続する接地電位側スイッチ素子と、複数の前記スイッチ素子の全体を一括制御するスイッチ制御端子と、前記一連の直列接続体における抵抗素子群に対して抵抗分割のために直列接続した抵抗分割用抵抗素子と、前記一連の直列接続体と前記抵抗分割用抵抗素子との抵抗分割点の電位が所定値を下回ることを検出する論理素子と、前記論理素子の出力側に接続された導通試験用端子とを備えている。上記の第5の解決手段との相違点は、所定値を上回るか下回るかの違いである。 As a sixth solution, a semiconductor device according to the present invention (Claim 8) includes a first semiconductor chip and a second semiconductor chip each having a plurality of inter-chip connection terminals in one package, A semiconductor device in which each of the inter-chip connection terminals on the first semiconductor chip and each of the inter-chip connection terminals on the second semiconductor chip are connected one by one via a wire, and are adjacent to each other. A series connection body of a switch element and a resistance element, interposed between the wires in an alternating state between the first semiconductor chip side and the second semiconductor chip side, and a series of the series A power supply potential side switch element for connecting one end of the connection body to the power supply potential; a ground potential side switch element for connecting the other end of the series connection body to the ground potential; Sui A switch control terminal that collectively controls the entire element, a resistance dividing resistance element connected in series for resistance division with respect to a resistance element group in the series connection body, the series connection body and the resistance division A logic element for detecting that a potential at a resistance dividing point with the resistance element is lower than a predetermined value, and a continuity test terminal connected to the output side of the logic element. The difference from the fifth solving means described above is the difference between being above or below a predetermined value.
この構成による作用は次のとおりである。第1の半導体チップ上のチップ間接続端子と第2のチップ間接続端子とを接続するワイヤで断線故障が発生した場合は、前記分圧された電位は所定範囲外となり、論理素子は正常状態の反転値を出力する。すなわち、論理素子の出力値によって断線故障が発生しているか否かを検出することができる。 The effect | action by this structure is as follows. When a disconnection failure occurs in the wire connecting the inter-chip connection terminal and the second inter-chip connection terminal on the first semiconductor chip, the divided potential is out of the predetermined range, and the logic element is in a normal state. The inverted value of is output. That is, it is possible to detect whether or not a disconnection failure has occurred based on the output value of the logic element.
第7の解決手段として、本発明による半導体装置(請求項9)は、1つのパッケージの内部にそれぞれ複数のチップ間接続端子を有する第1の半導体チップと第2の半導体チップが実装され、前記第1の半導体チップ上のチップ間接続端子の各々と前記第2の半導体チップ上のチップ間接続端子の各々とが1つずつワイヤを介して接続された半導体装置であって、複数の隣接する前記ワイヤ間で、前記第1の半導体チップの側と前記第2の半導体チップの側とで交互となる状態で介挿された、スイッチ素子と抵抗素子との直列接続体と、一連の前記直列接続体のうちの一端を電源電位に対して接続する電源電位側スイッチ素子と、一連の前記直列接続体のうちの他端を接地電位に対して接続する接地電位側スイッチ素子と、複数の前記スイッチ素子の全体を一括制御するスイッチ制御端子と、前記一連の直列接続体における抵抗素子群に対して抵抗分割のために直列接続した抵抗分割用抵抗素子と、前記一連の直列接続体と前記抵抗分割用抵抗素子との抵抗分割点の電位が所定値を上回ることを検出する第1の論理素子と、前記一連の直列接続体と前記抵抗分割用抵抗素子との抵抗分割点の電位が所定値を下回ることを検出する第2の論理素子と、前記第1および第2の論理素子の出力側にそれぞれ接続された導通試験用端子とを備えている。これは、上記第5の解決手段と第6の解決手段を合わせたものに相当する。 As a seventh solution, a semiconductor device according to the present invention (Claim 9) includes a first semiconductor chip and a second semiconductor chip each having a plurality of inter-chip connection terminals in one package. A semiconductor device in which each of the inter-chip connection terminals on the first semiconductor chip and each of the inter-chip connection terminals on the second semiconductor chip are connected one by one via a wire, and are adjacent to each other. A series connection body of a switch element and a resistance element, interposed between the wires in an alternating state between the first semiconductor chip side and the second semiconductor chip side, and a series of the series A power supply potential side switch element for connecting one end of the connection body to the power supply potential; a ground potential side switch element for connecting the other end of the series connection body to the ground potential; Sui A switch control terminal that collectively controls the entire element, a resistance dividing resistance element connected in series for resistance division with respect to a resistance element group in the series connection body, the series connection body and the resistance division A first logic element that detects that a potential at a resistance dividing point with the resistive element exceeds a predetermined value, and a potential at a resistance dividing point between the series connected body and the resistance dividing resistive element has a predetermined value. A second logic element for detecting the lowering and a continuity test terminal connected to the output side of each of the first and second logic elements. This corresponds to a combination of the fifth solving means and the sixth solving means.
この構成による作用は次のとおりである。導通試験時に全てのスイッチ素子を導通させ、第1および第2の論理素子の出力電位を測定する。全てのチップ間接続端子に故障がなく正常状態の場合は、一連の直列接続体と抵抗分割用抵抗素子とで分圧された電位は所定範囲内にあり、第1および第2の論理素子はそれぞれ所定の値を出力する。一方、隣接する端子間で短絡故障が発生している場合には、その短絡故障の端子間に接続された抵抗素子が迂回されるため、前記の分圧された電位は所定範囲外となり、第1の論理素子は正常状態の反転値を出力する。すなわち、第1の論理素子の出力値反転によって隣接する端子間に短絡故障が発生しているか否かを検出することができる。また、第1の半導体チップ上のチップ間接続端子と第2のチップ間接続端子とを接続するワイヤで断線故障が発生した場合は、前記分圧された電位は所定範囲外となり、第2の論理素子は正常状態の反転値を出力する。すなわち、第2の論理素子の出力値反転によって断線故障が発生しているか否かを検出することができる。全体として、短絡故障と断線故障の両方を検出することができる。 The effect | action by this structure is as follows. In the continuity test, all the switch elements are turned on, and the output potentials of the first and second logic elements are measured. When all the inter-chip connection terminals are in a normal state with no failure, the potential divided by the series connected body and the resistance dividing resistance element is within a predetermined range, and the first and second logic elements are Each outputs a predetermined value. On the other hand, when a short-circuit failure has occurred between adjacent terminals, the resistive element connected between the terminals of the short-circuit failure is bypassed, so that the divided potential is outside the predetermined range, The logic element 1 outputs the inverted value of the normal state. That is, it is possible to detect whether or not a short-circuit failure has occurred between adjacent terminals due to inversion of the output value of the first logic element. In addition, when a disconnection failure occurs in the wire connecting the inter-chip connection terminal and the second inter-chip connection terminal on the first semiconductor chip, the divided potential is out of a predetermined range, and the second The logic element outputs the inverted value of the normal state. That is, it is possible to detect whether or not a disconnection failure has occurred due to the inversion of the output value of the second logic element. Overall, it is possible to detect both short-circuit faults and disconnection faults.
なお、上記各解決手段において、前記スイッチ素子または抵抗素子は、それぞれN型またはP型またはN型及びP型のMOSトランジスタで構成でき、構成を簡易化できる。 In each of the above solutions, the switching element or the resistance element can be constituted by an N-type, P-type, or N-type and P-type MOS transistor, respectively, and the configuration can be simplified.
本発明によれば、従来では有効な試験手法が無かったチップ間接続のワイヤの断線故障を一括で検出できる効果を得る(請求項1)。 According to the present invention, it is possible to collectively detect a disconnection failure of wires connected between chips, which has not been available in the prior art.
また、本発明によれば、チップ間接続のワイヤの断線故障を一括で検出できる効果に加えて、電流値の差異を判別することによって、従来では有効な試験手法が無かったチップ間接続端子間の短絡故障をも一括で検出できる効果を得る(請求項2)。 Further, according to the present invention, in addition to the effect of detecting the disconnection failure of the inter-chip connection wires in a lump, by determining the difference in the current value, the inter-chip connection terminals between which there has been no effective test method conventionally The effect of being able to detect even a short-circuit failure at once is obtained.
また、本発明によれば、チップ間接続端子間の短絡故障について、短絡故障箇所を特定できる効果を得る(請求項3)。 In addition, according to the present invention, an effect of identifying a short-circuit fault location with respect to a short-circuit fault between inter-chip connection terminals is obtained.
また、本発明によれば、チップ間接続のワイヤの断線故障を検出できる効果に加えて、第2の半導体チップには導通試験のためのスイッチ素子や抵抗素子の追加などの設計変更が一切不要となり、他社からの入手に有効である(請求項4)。 Further, according to the present invention, in addition to the effect of detecting the disconnection failure of the wire connected between the chips, the second semiconductor chip does not require any design change such as addition of a switch element or a resistance element for the continuity test. Therefore, it is effective for obtaining from other companies (claim 4).
また、本発明によれば、論理素子の出力値反転によりチップ間接続端子間の短絡故障を一括で検出できる。さらに、電圧レベルの測定のみで試験が実施できるため従来のように電圧を印加しながら電流を測定するという比較的高級な試験装置が不要となり、試験装置の簡単化が図れる効果を得る(請求項7,8)。また、短絡故障と断線故障の両方を検出することができる(請求項9)。 Further, according to the present invention, it is possible to detect a short circuit failure between the inter-chip connection terminals at once by inverting the output value of the logic element. Furthermore, since the test can be carried out only by measuring the voltage level, a comparatively high-grade test device for measuring current while applying a voltage as in the prior art becomes unnecessary, and the effect of simplifying the test device can be obtained. 7, 8). Moreover, both a short circuit failure and a disconnection failure can be detected.
以下、本発明にかかわる半導体装置の実施の形態を図面に基づいて説明する。 Embodiments of a semiconductor device according to the present invention will be described below with reference to the drawings.
(参考例1)
図1は本発明の参考例1における半導体装置の構成を示すブロック回路図である。図1において、001は半導体チップ、002は半導体チップ001に集積された内部回路、003〜008は内部回路002と半導体チップ001の外部システムとの信号の受け渡しをするための端子、009〜014は端子003〜008にそれぞれ接続されるダイオードであり、電源電位(VDD)に対して順方向、接地電位(VSS)に対して逆方向に形成されている。015と016は導通試験用端子、050はスイッチ制御端子であり、端子003〜008を一括で導通試験する際に使用する。017〜021と022〜026は端子003〜008の間に直列に接続されたスイッチ素子と抵抗素子であり、スイッチ素子017〜021はスイッチ制御端子050に電源電位(VDD)を印加すると導通し、接地電位(VSS)を印加すると非導通となる。1つのスイッチ素子と1つの抵抗素子とを直列に接続したものが直列接続体である。そして、複数の直列接続体の全体が一連の直列接続体である。
(Reference Example 1)
FIG. 1 is a block circuit diagram showing a configuration of a semiconductor device in Reference Example 1 of the present invention. In FIG. 1, 001 is a semiconductor chip, 002 is an internal circuit integrated on the
以上のように構成された本参考例の半導体装置の動作を以下に説明する。導通試験用端子015およびスイッチ制御端子050に電源電位(VDD)を印加し、導通試験用端子016に接地電位(VSS)を印加すると、スイッチ素子017〜021が導通する。端子003〜008に故障がない正常状態の場合は、VDDの導通試験用端子015とVSSの導通試験用端子016の間に流れる電流は、{(VDD−VSS)/(抵抗素子022〜026の抵抗値の総和)}となる。しかし、もし、端子005と端子006の間に短絡故障が発生している場合は、{(VDD−VSS)/(抵抗素子022,023,025,026の抵抗値の総和)}となり、複数の端子の短絡故障を一度の測定で一括で試験することができる。
The operation of the semiconductor device of this reference example configured as described above will be described below. When the power supply potential (VDD) is applied to the
(参考例2)
図2は本発明の参考例2における半導体装置の構成を示すブロック回路図である。図2において、参考例1の図1におけるのと同じ符号は同一構成要素を指しているので、詳しい説明は省略する。参考例1と相違する点は、抵抗素子022a〜026aであり、個々の抵抗値はそれぞれ2倍ずつ重み付けされている。
(Reference Example 2)
FIG. 2 is a block circuit diagram showing a configuration of a semiconductor device in Reference Example 2 of the present invention. In FIG. 2, the same reference numerals as those in FIG. 1 of Reference Example 1 indicate the same components, and thus detailed description thereof is omitted. The difference from the reference example 1 is
以上のように構成された本参考例の半導体装置の動作を以下に説明する。基本的な動作は参考例1の場合と同様であり、複数の被試験端子の短絡故障を一度の測定で一括で試験することができる。さらに、個々の抵抗素子022a〜026aはそれぞれ抵抗値に2倍の差があるため、短絡箇所に応じて測定電流値が一定かつユニークな値を示すことになる。これによって、短絡故障箇所をも特定することができる。
The operation of the semiconductor device of this reference example configured as described above will be described below. The basic operation is the same as in the case of Reference Example 1, and short-circuit faults of a plurality of terminals under test can be collectively tested with a single measurement. Furthermore, each of the
なお、複数の抵抗素子の抵抗値の重み付けについては、必ずしも2倍ずつとする必要はなく、kを任意の実数として、k倍ずつとしてもよい。さらには、k倍ずつのような定数倍ずつの規則性をもつ重み付けである必要もなく、複数の抵抗素子の抵抗値が互いに相違していればよい。 Note that the weighting of the resistance values of the plurality of resistance elements is not necessarily doubled, and k may be an arbitrary real number and may be multiplied by k. Furthermore, it is not necessary to use weighting having regularity of constant multiples such as k times, and it is only necessary that the resistance values of the plurality of resistance elements are different from each other.
(参考例3)
図3は本発明の参考例3における半導体装置の構成を示すブロック回路図である。図3において、参考例1の図1におけるのと同じ符号は同一構成要素を指しているので、詳しい説明は省略する。参考例1と相違する点は、電源電位側スイッチ素子027、接地電位側スイッチ素子028、抵抗分割用抵抗素子029および論理素子030である。端子003と電源電位(VDD)の間に電源電位側スイッチ素子027が接続されている。端子008と接地電位(VSS)の間に接地電位側スイッチ素子028と抵抗分割用抵抗素子029の直列接続体が接続されている。電源電位側スイッチ素子027と接地電位側スイッチ素子028は、スイッチ素子017〜021と同様に、スイッチ制御端子050に電源電位(VDD)を印加すると導通し、接地電位(VSS)を印加すると非導通となる。論理素子030は導通試験用端子016と接地電位側スイッチ素子028の間に介挿されている。論理素子030の入力部と電源電位(VDD)の間に直列に接続した抵抗素子022〜026の総合的な抵抗値と、論理素子030の入力部と接地電位(VSS)の間に直列に接続した抵抗分割用抵抗素子029の抵抗値によって分圧された電位が、論理素子030の入力閾値レベルよりも低くなるように設定されている。
(Reference Example 3)
FIG. 3 is a block circuit diagram showing a configuration of a semiconductor device according to Reference Example 3 of the present invention. In FIG. 3, the same reference numerals as those in FIG. 1 of Reference Example 1 indicate the same components, and thus detailed description thereof is omitted. The difference from the reference example 1 is a power supply potential
以上のように構成された本参考例の半導体装置の動作を以下に説明する。基本的な動作は参考例1の場合と同様であり、複数の端子の短絡故障を一度の測定で一括で試験することができる。さらに、スイッチ制御端子050に電源電位(VDD)を印加すると、スイッチ素子017〜021,027,028が導通する。端子003〜008に故障がない正常状態の場合は、前記分圧された電位は論理素子030の閾値よりも低いため論理素子030は所定の値を出力する。一方、端子005〜006の間に短絡故障が発生している場合は、端子005〜006間に接続された抵抗素子024が迂回されるため、前記分圧された電位は論理素子030の閾値よりも高くなり、論理素子030の出力は前記の正常状態の反転値を出力する。従って、論理素子030の出力値によって複数の端子の短絡故障を一度の測定で一括で試験することができる。さらに、論理反転で検出しているので、電圧を印加しながら電流を測定するという比較的高級な試験装置が不要となり、試験装置の簡単化が図れる。
The operation of the semiconductor device of this reference example configured as described above will be described below. The basic operation is the same as in Reference Example 1, and short-circuit faults at a plurality of terminals can be collectively tested with a single measurement. Further, when a power supply potential (VDD) is applied to the
なお、論理素子030の接続点をP1に代えて、接地電位側スイッチ素子028と抵抗分割用抵抗素子029との間にしてもよい。また、抵抗分割用抵抗素子029を接地電位側スイッチ素子028に接続することに代えて、電源電位(VDD)と点Q1との間で電源電位側スイッチ素子027と直列に抵抗分割用抵抗素子を接続し、点Q1に論理素子と導通試験用端子を接続してもよい。この変形の考え方は、以下の実施の形態でも適用可能である。
Note that the connection point of the
(実施の形態1)
図4は本発明の実施の形態1(請求項1対応)における半導体装置の構成を示すブロック回路図である。図4において、101はベースとなる半導体チップ(以下、親チップ)、102は親チップ101に集積された内部回路、103〜108は内部回路102と親チップ101の外部システムとの間の信号の受け渡しをするための端子、109〜114は端子103〜108に接続されたダイオード、115は親チップ101上に積層された半導体チップ(以下、子チップ)、116は子チップ115に集積された内部回路、117〜120は内部回路116と親チップ101上の内部回路102との間の信号の受け渡しをするためのチップ間接続端子、121〜124はチップ間接続端子117〜120に接続されたダイオード、125〜128は親チップ101上の内部回路102と子チップ115上の内部回路116との間の信号の受け渡しをするためのチップ間接続端子、129〜132はチップ間接続端子125〜128に接続されたダイオード、133〜136はチップ間接続端子117〜120とチップ間接続端子125〜128を接続するワイヤである。137と138は導通試験用端子、150はスイッチ制御端子であり、ワイヤ133〜136を一括で導通試験する際に使用する。139はチップ間接続端子117〜118の間に直列に接続されたスイッチ素子、140はチップ間接続端子126〜127の間に直列に接続されたスイッチ素子、141はチップ間接続端子119〜120の間に直列に接続されたスイッチ素子であり、導通試験用端子150に電源電位(VDD)を印加すると導通し、接地電位(VSS)を印加すると非導通となる。
(Embodiment 1)
FIG. 4 is a block circuit diagram showing a configuration of the semiconductor device according to the first embodiment (corresponding to claim 1) of the present invention. In FIG. 4, 101 is a base semiconductor chip (hereinafter referred to as a parent chip), 102 is an internal circuit integrated in the
以上のように構成された本実施の形態の半導体装置の動作を以下に説明する。導通試験用端子137およびスイッチ制御端子150に電源電位(VDD)を印加し、導通試験用端子138に接地電位(VSS)を印加すると、スイッチ素子139〜141が導通する。ワイヤ133〜136に故障がない正常状態の場合は、導通試験用端子137と導通試験用端子138の間には電流が流れるが、もし、1箇所でも親子チップ間のチップ間接続端子に断線故障が発生している場合は、電流が流れなくなるため、複数の被試験チップ間接続端子どうしを接続するワイヤの断線故障を一度の測定で一括で試験することができる。
The operation of the semiconductor device of the present embodiment configured as described above will be described below. When the power supply potential (VDD) is applied to the
(実施の形態2)
図5は本発明の実施の形態2(請求項2対応)における半導体装置の構成を示すブロック回路図である。図5において、実施の形態1の図4におけるのと同じ符号は同一構成要素を指しているので、詳しい説明は省略する。実施の形態1と相違する点は、チップ間接続端子117〜118の間でスイッチ素子139に直列に接続された抵抗素子142と、チップ間接続端子126〜127の間でスイッチ素子140に直列に接続された抵抗素子143と、チップ間接続端子119〜120の間でスイッチ素子141に直列に接続された抵抗素子144とである。
(Embodiment 2)
FIG. 5 is a block circuit diagram showing a configuration of the semiconductor device according to the second embodiment (corresponding to claim 2) of the present invention. In FIG. 5, the same reference numerals as those in FIG. 4 of the first embodiment indicate the same components, and detailed description thereof will be omitted. The difference from the first embodiment is that the
以上のように構成された本実施の形態の半導体装置の動作を以下に説明する。基本的な動作は実施の形態1の場合と同様であり、導通試験用端子137およびスイッチ制御端子150に電源電位(VDD)を印加し、導通試験用端子138に接地電位(VSS)を印加すると、スイッチ素子139〜141が導通する。被試験ワイヤ133〜136に故障がない正常状態の場合は、導通試験用端子137と導通試験用端子138の間に流れる電流は、{(VDD−VSS)/(抵抗素子142〜144の抵抗値の総和)}となる。しかし、もし、1箇所でも親子チップ間のチップ間接続端子どうしを接続するワイヤに断線故障が発生している場合は、電流が流れなくなるため、複数の被試験チップ間接続端子どうしを接続するワイヤの断線故障を一度の測定で一括で試験することができる。また、もし、隣接するチップ間接続端子間で短絡故障が発生している場合には、短絡故障箇所の両端に接続された抵抗素子が迂回されるため、測定電流値は増大する。この電流値の差異によって隣接するチップ間接続端子の間に短絡故障が発生していることをも一度の測定で一括で試験することができる。
The operation of the semiconductor device of the present embodiment configured as described above will be described below. The basic operation is the same as that of the first embodiment. When a power supply potential (VDD) is applied to the
(実施の形態3)
図6は本発明の実施の形態3(請求項3対応)における半導体装置の構成を示すブロック回路図である。図6において、実施の形態2の図5におけるのと同じ符号は同一構成要素を指しているので、詳しい説明は省略する。実施の形態2と相違する点は、抵抗素子142a〜144aであり、個々の抵抗値はそれぞれ2倍ずつ重み付けされている。
(Embodiment 3)
FIG. 6 is a block circuit diagram showing a configuration of the semiconductor device according to the third embodiment (corresponding to claim 3) of the present invention. In FIG. 6, since the same reference numerals as those in FIG. 5 of the second embodiment indicate the same components, detailed description thereof will be omitted. The difference from the second embodiment is resistance elements 142a to 144a, and each resistance value is weighted twice.
以上のように構成された本実施の形態の半導体装置の動作を以下に説明する。基本的な動作は実施の形態2の場合と同様であり、複数の被試験チップ間接続端子どうしを接続するワイヤの断線故障および隣接するチップ間接続端子間の短絡故障を一度の測定で一括で試験することができる。さらに、個々の抵抗素子142a〜144aはそれぞれ抵抗値に2倍の差があるため、短絡箇所に応じて測定電流値が一定かつユニークな値を示すことになる。これによって、短絡故障箇所をも特定することができる。 The operation of the semiconductor device of the present embodiment configured as described above will be described below. The basic operation is the same as in the case of the second embodiment, and it is possible to collectively detect a disconnection failure of a wire connecting a plurality of inter-chip connection terminals and a short-circuit failure between adjacent inter-chip connection terminals in one measurement. Can be tested. Furthermore, each of the resistance elements 142a to 144a has a resistance value that is twice as large, so that the measured current value is constant and shows a unique value depending on the short circuit location. As a result, it is possible to specify a short-circuit fault location.
なお、複数の抵抗素子の抵抗値の重み付けについては、必ずしも2倍ずつとする必要はなく、kを任意の実数として、k倍ずつとしてもよい。さらには、k倍ずつのような定数倍ずつの規則性をもつ重み付けである必要もなく、複数の抵抗素子の抵抗値が互いに相違していればよい。 Note that the weighting of the resistance values of the plurality of resistance elements is not necessarily doubled, and k may be an arbitrary real number and may be multiplied by k. Furthermore, it is not necessary to use weighting having regularity of constant multiples such as k times, and it is only necessary that the resistance values of the plurality of resistance elements are different from each other.
(参考例4)
図7は本発明の参考例4における半導体装置の構成を示すブロック回路図である。図7において、実施の形態2の図5におけるのと同じ符号は同一構成要素を指しているので、詳しい説明は省略する。実施の形態2と相違する点は、スイッチ素子139b,141bと抵抗素子142b,144bである。スイッチ素子139bと抵抗素子142bとの直列接続体およびスイッチ素子141bと抵抗素子144bとの直列接続体はそれぞれ、図5におけるスイッチ素子139と抵抗素子142との直列接続体、スイッチ素子141と抵抗素子144との直列接続体の配置位置を子チップ115から親チップ101に移行したものに相当している。
(Reference Example 4)
FIG. 7 is a block circuit diagram showing a configuration of a semiconductor device in Reference Example 4 of the present invention. In FIG. 7, the same reference numerals as those in FIG. 5 of the second embodiment indicate the same components, and detailed description thereof will be omitted. The difference from the second embodiment is the
以上のように構成された本参考例の半導体装置の動作を以下に説明する。導通試験用端子137およびスイッチ制御端子150に電源電位(VDD)を印加し、導通試験用端子138に接地電位(VSS)を印加すると、スイッチ素子139〜141が導通する。ワイヤ133〜136に故障がない正常状態の場合は、導通試験用端子137と導通試験用端子138の間に流れる電流は、{(VDD−VSS)/(抵抗素子142a,143,144aの抵抗値の総和)}となる。しかし、もし、隣接するチップ間接続端子間で短絡故障が発生している場合には、短絡故障箇所の両端に接続された抵抗素子が迂回されるため、測定電流値は増大する。この電流値の差異によって隣接するチップ間接続端子の間に短絡故障が発生していることをも一度の測定で一括で試験することができる。さらに、親チップ101の側に集約しているので、子チップ115には導通試験のためのスイッチ素子や抵抗素子の追加などの設計変更が一切不要となり、子チップ115としては他社からの入手した半導体チップを利用することができる。
The operation of the semiconductor device of this reference example configured as described above will be described below. When the power supply potential (VDD) is applied to the
(実施の形態4)
図8は本発明の実施の形態4(請求項4対応)における半導体装置の構成を示すブロック回路図である。図8において、実施の形態1の図4におけるのと同じ符号は同一構成要素を指しているので、詳しい説明は省略する。実施の形態1と相違する点は、スイッチ制御手段200とスイッチ素子201〜204と線路スイッチ素子205〜208と導通試験用端子137a,138aである。スイッチ素子201〜204は、それぞれチップ間接続端子125〜128と導通試験用端子137aとの間に直列に接続されている。スイッチ制御手段200は、導通試験時にスイッチ素子201〜204を1つずつ導通するように制御する。線路スイッチ素子205〜208は、それぞれチップ間接続端子125〜128とダイオード129〜132の間に直列に接続されている。
(Embodiment 4)
FIG. 8 is a block circuit diagram showing a configuration of the semiconductor device according to the fourth embodiment (corresponding to claim 4) of the present invention. In FIG. 8, since the same reference numerals as those in FIG. 4 of the first embodiment indicate the same components, detailed description thereof will be omitted. The difference from the first embodiment is the switch control means 200, the
以上のように構成された本実施の形態の半導体装置の動作を以下に説明する。あらかじめ、導通試験用端子138aは線路スイッチ素子205〜208を非導通状態に設定することによりダイオード129〜132への電流経路を遮断しておく。ワイヤ133の導通試験を行う場合、スイッチ制御手段200はスイッチ201のみ導通状態にし、スイッチ202〜204は非導通状態に制御し、導通試験用端子137aに対して、{電源電位(VDD)+ダイオード121の閾値電圧Vt}を超える電位を印加し、同時に導通試験用端子137aに流れる電流を測定する。ここで、ワイヤ133に故障がない正常状態の場合は、ダイオード121に電源電位(VDD)に対する順方向の電流が流れるため、ワイヤ133は導通していると判定できる。一方、電流値が0の場合、ワイヤ133が断線故障を起こしていることを検出できる。以上の手順を全チップ間接続端子125〜128について、1端子ずつ実施することで全ワイヤ133〜136の断線故障を検出することができる。さらに、親チップ101の側に集約しているので、子チップ115には導通試験のためのスイッチ素子や抵抗素子の追加などの設計変更が一切不要となり、子チップ115としては他社からの入手した半導体チップを利用することができる。
The operation of the semiconductor device of the present embodiment configured as described above will be described below. In advance, the
(実施の形態5)
図9は本発明の実施の形態5(請求項7対応)における半導体装置の構成を示すブロック回路図である。図9において、実施の形態1の図4におけるのと同じ符号は同一構成要素を指しているので、詳しい説明は省略する。実施の形態1と相違する点は、電源電位側スイッチ素子145、接地電位側スイッチ素子146、抵抗分割用抵抗素子147および論理素子148である。チップ間接続端子125と電源電位(VDD)の間に電源電位側スイッチ素子145が接続されている。チップ間接続端子128と接地電位(VSS)の間に接地電位側スイッチ素子146と抵抗分割用抵抗素子147の直列接続体が接続されている。電源電位側スイッチ素子145、接地電位側スイッチ素子146は、スイッチ素子139〜141と同様に、スイッチ制御端子150に電源電位(VDD)を印加すると導通し、接地電位(VSS)を印加すると非導通となる。論理素子148は導通試験用端子138と接地電位側スイッチ素子146の間に介挿されている。論理素子148の入力部と電源電位(VDD)の間に直列に接続した抵抗素子142〜144の総合的な抵抗値と、論理素子148の入力部と接地電位(VSS)の間に直列に接続した抵抗分割用抵抗素子147の抵抗値によって分圧された電位が、論理素子148の入力閾値レベルよりも低くなるように設定されている。
(Embodiment 5)
FIG. 9 is a block circuit diagram showing a configuration of the semiconductor device according to the fifth embodiment (corresponding to claim 7) of the present invention. In FIG. 9, the same reference numerals as those in FIG. 4 of the first embodiment indicate the same components, and detailed description thereof will be omitted. The difference from the first embodiment is a power supply potential
以上のように構成された本実施の形態の半導体装置の動作を以下に説明する。基本的な動作は実施の形態1の場合と同様であり、スイッチ制御端子150に電源電位(VDD)を印加し、スイッチ素子139〜141,145,146が導通するため、ワイヤ133〜136に故障がない正常状態の場合は、前記分圧された電位は論理素子148の閾値よりも低いため論理素子148は所定の値を出力する。一方、ワイヤ135〜136の間に短絡故障が発生している場合は、チップ間接続端子119〜120間に接続された抵抗素子144が迂回されるため、前記分圧された電位は論理素子148の閾値よりも高くなり、論理素子148の出力は前記の正常状態の反転値を出力する。従って、論理素子148の出力値によって複数のチップ間接続端子の短絡故障を一度の測定で一括で試験することができる。さらに、論理反転で検出しているので、電圧を印加しながら電流を測定するという比較的高級な試験装置が不要となり、試験装置の簡単化が図れる。
The operation of the semiconductor device of the present embodiment configured as described above will be described below. The basic operation is the same as that in the first embodiment, and the power supply potential (VDD) is applied to the
(実施の形態6)
図10は本発明の実施の形態6(請求項8対応)における半導体装置の構成を示すブロック回路図である。図10において、実施の形態5の図9におけるのと同じ符号は同一構成要素を指しているので、詳しい説明は省略する。実施の形態5と相違する点は、論理素子149である。論理素子149の入力部と電源電位(VDD)の間に直列に接続した抵抗素子142〜144の総合的な抵抗値と、論理素子148の入力部と接地電位(VSS)の間に直列に接続した抵抗分割用抵抗素子147の抵抗値によって分圧された電位が、論理素子148の入力閾値レベルよりも高くなるように設定されている。論理素子149の動作の論理は実施の形態5の場合の論理素子148とは逆になっている。
(Embodiment 6)
FIG. 10 is a block circuit diagram showing a configuration of the semiconductor device according to the sixth embodiment (corresponding to claim 8) of the present invention. In FIG. 10, the same reference numerals as those in FIG. 9 of the fifth embodiment indicate the same components, and thus detailed description thereof is omitted. A difference from the fifth embodiment is a
以上のように構成された本実施の形態の半導体装置の動作を以下に説明する。基本的な動作は実施の形態5の場合と同様であり、導通試験用端子137に電源電位(VDD)を印加し、スイッチ素子139〜141,145,146が導通するため、ワイヤ133〜136に故障がない正常状態の場合は、前記分圧された電位は論理素子149の閾値よりも高いため論理素子は所定の値を出力する。一方、ワイヤ133〜136いずれかに断線故障が発生している場合は、前記分圧された電位は論理素子149の閾値よりも低くなるため、論理素子149の出力は前記の正常状態の反転値を出力する。従って、論理素子149の出力値によって複数の被試験チップ間接続端子どうしを接続するワイヤの断線故障を一度の測定で一括で試験することができる。さらに、論理反転で検出しているので、電圧を印加しながら電流を測定するという比較的高級な試験装置が不要となり、試験装置の簡単化が図れる。断線故障と短絡故障とが本実施の形態と実施の形態5との違いである。
The operation of the semiconductor device of the present embodiment configured as described above will be described below. The basic operation is the same as in the case of the fifth embodiment. A power supply potential (VDD) is applied to the
(実施の形態7)
図11は本発明の実施の形態7(請求項9対応)における半導体装置の構成を示すブロック回路図である。実施の形態7は、実施の形態5と実施の形態6とを合体させたものに相当する。図11において、実施の形態5,6の図9、図10におけるのと同じ符号は同一構成要素を指しているので、詳しい説明は省略する。図9における論理素子148と同様の第1の論理素子148aと、図10における論理素子149と同様の第2の論理素子149aを備えている。これによれば、短絡故障と断線故障の両方を検出することができる。
(Embodiment 7)
FIG. 11 is a block circuit diagram showing the configuration of the semiconductor device according to the seventh embodiment (corresponding to claim 9) of the present invention. The seventh embodiment corresponds to a combination of the fifth embodiment and the sixth embodiment. In FIG. 11, the same reference numerals as those in FIGS. 9 and 10 of the fifth and sixth embodiments indicate the same components, and detailed description thereof will be omitted. A
(参考例5)
図12は本発明の参考例5における半導体装置の構成を示すブロック回路図である。図12において、実施の形態5の図9におけるのと同じ符号は同一構成要素を指しているので、詳しい説明は省略する。実施の形態5と相違する点は、スイッチ素子139b,141bと抵抗素子142b,144bである。スイッチ素子139bと抵抗素子142bとの直列接続体およびスイッチ素子141bと抵抗素子144bとの直列接続体はそれぞれ、図9におけるスイッチ素子139と抵抗素子142との直列接続体、スイッチ素子141と抵抗素子144との直列接続体の配置位置を子チップ115から親チップ101に移行したものに相当している。
(Reference Example 5)
FIG. 12 is a block circuit diagram showing a configuration of a semiconductor device according to Reference Example 5 of the present invention. In FIG. 12, since the same reference numerals as those in FIG. 9 of the fifth embodiment indicate the same components, detailed description thereof will be omitted. The difference from the fifth embodiment is
以上のように構成された本参考例の半導体装置の動作を以下に説明する。基本的な動作は実施の形態5の場合と同様であり、導通試験用端子137に電源電位(VDD)を印加し、スイッチ素子139〜141,145,146が導通するため、ワイヤ133〜136に故障がない正常状態の場合は、前記分圧された電位は論理素子148の閾値よりも低いため論理素子は所定の値を出力する。一方、ワイヤ133〜135の間に短絡故障が発生している場合は、チップ間接続端子126〜127間に接続された抵抗素子143bが迂回されるため、前記分圧された電位は論理素子148の閾値よりも高くなるため、論理素子148の出力は前記の正常状態の反転値を出力する。従って、論理素子148の出力値によって複数のチップ間接続端子の短絡故障を一度の測定で一括で試験することができる。さらに、論理反転で検出しているので、電圧を印加しながら電流を測定するという比較的高級な試験装置が不要となり、試験装置の簡単化が図れる。加えて、親チップ101の側に集約しているので、子チップ115には導通試験のためのスイッチ素子や抵抗素子の追加などの設計変更が一切不要となり、子チップ115としては他社からの入手した半導体チップを利用することができる。
The operation of the semiconductor device of this reference example configured as described above will be described below. The basic operation is the same as in the case of the fifth embodiment. A power supply potential (VDD) is applied to the
以上で説明した各実施の形態、参考例において、スイッチ素子、あるいはスイッチ素子と抵抗のペアは、N型またはP型またはN型及びP型のMOSトランジスタによって容易に構成可能である。 In each of the embodiments and reference examples described above, a switch element or a pair of a switch element and a resistor can be easily configured by an N-type, P-type, or N-type and P-type MOS transistor.
001:半導体チップ
002,102,116:内部回路
003〜008,103〜108:端子
009〜014,109〜114,121〜124,129〜132:ダイオード
015,016,137,137a,138,138a:導通試験用端子
017〜021,139〜141,139b,141b,201〜204:スイッチ素子
022〜026,142〜144,142b,144b:抵抗素子
022a〜026a,142a〜144a:抵抗値が重み付けされた抵抗素子
027,145:電源電位側スイッチ素子
028,146:接地電位側スイッチ素子
029:抵抗分割用抵抗素子
030,148,149:論理素子
050,150:スイッチ制御端子
101:親チップ
115:子チップ
117〜120,125〜128:チップ間接続端子
133〜136:ワイヤ
148a:第1の論理素子
149a:第2の論理素子
200:スイッチ制御手段
205〜208:線路スイッチ素子
001: Semiconductor chips 002, 102, 116: Internal circuits 003-008, 103-108: Terminals 009-014, 109-114, 121-124, 129-132:
Claims (11)
複数の隣接する前記ワイヤ間で、前記第1の半導体チップの側と前記第2の半導体チップの側とで交互となる状態で介挿されたスイッチ素子と、一連の前記スイッチ素子の直列接続体の一端および他端にそれぞれ接続された導通試験用端子と、複数の前記スイッチ素子の全体を一括制御するスイッチ制御端子とを備えている半導体装置。 A first semiconductor chip and a second semiconductor chip each having a plurality of inter-chip connection terminals are mounted inside one package, and each of the inter-chip connection terminals on the first semiconductor chip and the second semiconductor are mounted. A semiconductor device in which each of the inter-chip connection terminals on the chip is connected one by one through a wire,
A switch element inserted between a plurality of adjacent wires on the first semiconductor chip side and the second semiconductor chip side alternately, and a series connection body of the series of the switch elements A semiconductor device comprising: a continuity test terminal connected to one end and the other end of the switch; and a switch control terminal for collectively controlling the plurality of switch elements.
前記第1の半導体チップの側で複数の前記チップ間接続端子のそれぞれと導通試験用端子との間に介挿されたスイッチ素子と、複数の前記スイッチ素子を選択的にオン/オフ制御するスイッチ制御手段と、前記第2の半導体チップの側で複数の前記チップ間接続端子において電源電位に対して順方向にまたは接地電位に対して逆方向に接続されたダイオードと、前記第1の半導体チップの側で複数の前記チップ間接続端子の線路に介挿された線路スイッチ素子と、前記線路スイッチ素子のオン/オフ制御端子に接続された導通試験用端子とを備えている半導体装置。 A first semiconductor chip and a second semiconductor chip each having a plurality of inter-chip connection terminals are mounted inside one package, and each of the inter-chip connection terminals on the first semiconductor chip and the second semiconductor are mounted. A semiconductor device in which each of the inter-chip connection terminals on the chip is connected one by one through a wire,
A switch element interposed between each of the plurality of inter-chip connection terminals and a continuity test terminal on the first semiconductor chip side, and a switch for selectively on / off controlling the plurality of switch elements Control means, a diode connected in the forward direction with respect to the power supply potential or in the reverse direction with respect to the ground potential at the plurality of inter-chip connection terminals on the second semiconductor chip side, and the first semiconductor chip And a continuity test terminal connected to an on / off control terminal of the line switch element.
複数の隣接する前記ワイヤ間で、前記第1の半導体チップの側と前記第2の半導体チップの側とで交互となる状態で介挿された、スイッチ素子と抵抗素子との直列接続体と、一連の前記直列接続体のうちの一端を電源電位に対して接続する電源電位側スイッチ素子と、一連の前記直列接続体のうちの他端を接地電位に対して接続する接地電位側スイッチ素子と、複数の前記スイッチ素子の全体を一括制御するスイッチ制御端子と、前記一連の直列接続体における抵抗素子群に対して抵抗分割のために直列接続した抵抗分割用抵抗素子と、前記一連の直列接続体と前記抵抗分割用抵抗素子との抵抗分割点の電位が所定値を上回ることを検出する論理素子と、前記論理素子の出力側に接続された導通試験用端子とを備えている半導体装置。 A first semiconductor chip and a second semiconductor chip each having a plurality of inter-chip connection terminals are mounted inside one package, and each of the inter-chip connection terminals on the first semiconductor chip and the second semiconductor are mounted. A semiconductor device in which each of the inter-chip connection terminals on the chip is connected one by one through a wire,
A series connection body of a switch element and a resistance element, which is inserted between a plurality of adjacent wires in an alternating state on the first semiconductor chip side and the second semiconductor chip side, A power supply potential side switch element that connects one end of the series connection body to a power supply potential; and a ground potential side switch element that connects the other end of the series connection body to a ground potential; A switch control terminal for collectively controlling a plurality of the switch elements, a resistance dividing resistance element connected in series for resistance division with respect to a resistance element group in the series connected body, and the series connection in series A semiconductor device comprising: a logic element that detects that a potential at a resistance dividing point between a body and the resistance dividing resistance element exceeds a predetermined value; and a continuity test terminal connected to an output side of the logic element.
複数の隣接する前記ワイヤ間で、前記第1の半導体チップの側と前記第2の半導体チップの側とで交互となる状態で介挿された、スイッチ素子と抵抗素子との直列接続体と、一連の前記直列接続体のうちの一端を電源電位に対して接続する電源電位側スイッチ素子と、一連の前記直列接続体のうちの他端を接地電位に対して接続する接地電位側スイッチ素子と、複数の前記スイッチ素子の全体を一括制御するスイッチ制御端子と、前記一連の直列接続体における抵抗素子群に対して抵抗分割のために直列接続した抵抗分割用抵抗素子と、前記一連の直列接続体と前記抵抗分割用抵抗素子との抵抗分割点の電位が所定値を下回ることを検出する論理素子と、前記論理素子の出力側に接続された導通試験用端子とを備えている半導体装置。 A first semiconductor chip and a second semiconductor chip each having a plurality of inter-chip connection terminals are mounted inside one package, and each of the inter-chip connection terminals on the first semiconductor chip and the second semiconductor are mounted. A semiconductor device in which each of the inter-chip connection terminals on the chip is connected one by one through a wire,
A series connection body of a switch element and a resistance element, which is inserted between a plurality of adjacent wires in an alternating state on the first semiconductor chip side and the second semiconductor chip side, A power supply potential side switch element that connects one end of the series connection body to a power supply potential; and a ground potential side switch element that connects the other end of the series connection body to a ground potential; A switch control terminal for collectively controlling the whole of the plurality of switch elements, a resistance element for resistance division connected in series for resistance division with respect to a resistance element group in the series of series connection bodies, and the series of series connections A semiconductor device comprising: a logic element that detects that a potential at a resistance dividing point between a body and the resistance dividing resistance element is below a predetermined value; and a continuity test terminal connected to an output side of the logic element.
複数の隣接する前記ワイヤ間で、前記第1の半導体チップの側と前記第2の半導体チップの側とで交互となる状態で介挿された、スイッチ素子と抵抗素子との直列接続体と、一連の前記直列接続体のうちの一端を電源電位に対して接続する電源電位側スイッチ素子と、一連の前記直列接続体のうちの他端を接地電位に対して接続する接地電位側スイッチ素子と、複数の前記スイッチ素子の全体を一括制御するスイッチ制御端子と、前記一連の直列接続体における抵抗素子群に対して抵抗分割のために直列接続した抵抗分割用抵抗素子と、前記一連の直列接続体と前記抵抗分割用抵抗素子との抵抗分割点の電位が所定値を上回ることを検出する第1の論理素子と、前記一連の直列接続体と前記抵抗分割用抵抗素子との抵抗分割点の電位が所定値を下回ることを検出する第2の論理素子と、前記第1および第2の論理素子の出力側にそれぞれ接続された導通試験用端子とを備えている半導体装置。 A first semiconductor chip and a second semiconductor chip each having a plurality of inter-chip connection terminals are mounted inside one package, and each of the inter-chip connection terminals on the first semiconductor chip and the second semiconductor are mounted. A semiconductor device in which each of the inter-chip connection terminals on the chip is connected one by one through a wire,
A series connection body of a switch element and a resistance element, which is inserted between a plurality of adjacent wires in an alternating state on the first semiconductor chip side and the second semiconductor chip side, A power supply potential side switch element that connects one end of the series connection body to a power supply potential; and a ground potential side switch element that connects the other end of the series connection body to a ground potential; A switch control terminal for collectively controlling the whole of the plurality of switch elements, a resistance element for resistance division connected in series for resistance division with respect to a resistance element group in the series of series connection bodies, and the series of series connections A first logic element for detecting that a potential at a resistance dividing point between a body and the resistance dividing resistance element exceeds a predetermined value; and a resistance dividing point between the series connected body and the resistance dividing resistance element. Potential is a predetermined value Second and logic elements, a semiconductor device and a respectively connected continuity test terminal to the output side of the first and second logic element for detecting the below.
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