JP2009079911A - Inspection jig and method of manufacturing the same - Google Patents

Inspection jig and method of manufacturing the same Download PDF

Info

Publication number
JP2009079911A
JP2009079911A JP2007247204A JP2007247204A JP2009079911A JP 2009079911 A JP2009079911 A JP 2009079911A JP 2007247204 A JP2007247204 A JP 2007247204A JP 2007247204 A JP2007247204 A JP 2007247204A JP 2009079911 A JP2009079911 A JP 2009079911A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
contact
inspection
conductive film
substrate
inspection jig
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2007247204A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Naohiro Nakagawa
尚広 中川
Nobuaki Hashimoto
伸晃 橋元
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
Priority to JP2007247204A priority Critical patent/JP2009079911A/en
Publication of JP2009079911A publication Critical patent/JP2009079911A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Measuring Leads Or Probes (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an inspection jig configured to obtain excellent electrical connection with a terminal of an inspection object even when an oxide film is formed on the terminal, thereby improving the reliability of the inspection, and to provide a method of manufacturing the same. <P>SOLUTION: The inspection jig 1 has a substrate 2, a contact 3 provided on the substrate 2 and a wiring pattern 4 electrically connected to the contact 3, and is so constituted that the contact 3 is joined to the terminal of the inspection object. The contact 3 is formed of a bump electrode having an internal resin 8 as a core and a conductive film 9 so provided on the surface of the resin as to cover it, and conductive projections 14 are provided on the conductive film 9. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、検査用治具とその製造方法に関する。   The present invention relates to an inspection jig and a manufacturing method thereof.

一般に、液晶ディスプレイパネル等の電気光学装置の製造工程においては、点灯検査や配線パターンに関する短絡・断線についての検査など、各種の電気特性について、検査工程が設けられている。このような検査工程では、各種配線に関して短絡や断線について検査するほか、構成要素となる電子部品などについても、その電気的特性検査が行われている。   In general, in the manufacturing process of an electro-optical device such as a liquid crystal display panel, an inspection process is provided for various electrical characteristics such as a lighting inspection and an inspection for a short circuit / break in a wiring pattern. In such an inspection process, various wirings are inspected for short circuits and disconnections, and electrical characteristics of component electronic components are also inspected.

このような電気的特性検査では、通常、液晶ディスプレイパネルやその構成要素となる電子部品に対して直接接触させられる、検査用治具が用いられており、検査用治具としては、例えば棒状接触部材を有する検査用プローブが知られている。しかし、このような棒状接触部材を有する検査用プローブでは、パネル電極や配線のピッチが微細化するのに伴い、これらパネル電極や配線の端子部に棒状接触部材を位置決めし、接触させるのが難しくなっている。
そこで、棒状突起樹脂上に形成された導体からなる接触部材を複数個有した、ディスプレイパネル検査装置が提案されている(特許文献1参照)。
前記の接触部材は、棒状突起樹脂上に形成されていることにより、この棒状突起樹脂の変形によってパネル電極(端子)に対し良好に接触するようになっている。
特開2005−16959号公報
In such an electrical characteristic inspection, an inspection jig that is usually brought into direct contact with a liquid crystal display panel or an electronic component that is a component of the liquid crystal display panel is used. Inspection probes having members are known. However, in the inspection probe having such a bar-shaped contact member, it is difficult to position and contact the bar-shaped contact member to the terminal portion of the panel electrode or the wiring as the pitch of the panel electrode or the wiring becomes finer. It has become.
In view of this, a display panel inspection apparatus having a plurality of contact members made of a conductor formed on a rod-shaped protrusion resin has been proposed (see Patent Document 1).
Since the contact member is formed on the rod-shaped projection resin, the contact with the panel electrode (terminal) is favorably caused by the deformation of the rod-shaped projection resin.
JP 2005-16959 A

ところで、ディスプレイなどの被検査体では、検査の際に電気的接点となる端子を露出させているため、その保管状態や保管環境によっては端子の表面が酸化され、酸化膜が形成されてしまうことがある。すると、この被検査体の電気的特性を検査する際に、前記端子に検査用治具の接触子を接触させても、前記の酸化膜によって端子と接触子との間で良好な電気的接続が得られないことがある。   By the way, in the object to be inspected such as a display, since the terminal which becomes an electrical contact is exposed at the time of inspection, the surface of the terminal is oxidized depending on the storage state and storage environment, and an oxide film is formed. There is. Then, when inspecting the electrical characteristics of the object to be inspected, even if the contact of the inspection jig is brought into contact with the terminal, a good electrical connection is established between the terminal and the contact by the oxide film. May not be obtained.

本発明は前記事情に鑑みてなされたもので、その目的とするところは、被検査体の端子に酸化膜が形成されていても、この端子との間で良好な電気的接続が得られるようにし、これによって検査の信頼性を向上した検査用治具と、その製造方法を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide good electrical connection with the terminal even if an oxide film is formed on the terminal of the device under test. Accordingly, it is an object of the present invention to provide an inspection jig with improved inspection reliability and a manufacturing method thereof.

本発明の検査用治具は、基板と、前記基板上に設けられた接触子と、前記接触子に電気的に接続された配線パターンとを有し、前記接触子が被検査体の端子に接合されるように構成されてなる検査用治具であって、前記接触子は、内部樹脂をコアとしてその表面上に導電膜が覆われたバンプ電極からなり、前記導電膜上には、導電性の突起が設けられていることを特徴としている。   The inspection jig of the present invention includes a substrate, a contact provided on the substrate, and a wiring pattern electrically connected to the contact, and the contact is a terminal of the object to be inspected. An inspection jig configured to be bonded, wherein the contact includes a bump electrode having an inner resin as a core and a conductive film covered on a surface thereof. It is characterized by having a sexual protrusion.

この検査用治具によれば、接触子が、内部樹脂をコアとしてその表面上に導電膜が覆われたバンプ電極からなっているので、この接触子を被検査体の端子に接合させた際、内部樹脂が容易に弾性変形することでその表面上の導電膜が端子に対して広い面積で接触するようになる。また、内部樹脂の弾性復元力(反発力)により、その表面上の導電膜が端子に対して高い強度で接合するようになる。したがって、接触子と端子との間において広い接触面積が確保され、かつ、十分に高い接合強度が確保されることにより、接触子(バンプ電極)と端子との間の電気的接続の信頼性が向上し、これによって電気的特性検査そのものの信頼性が向上する。
また、導電膜上に導電性の突起が設けられているので、接触子を被検査体の端子に接合させた際、この突起が被検査体の端子表面に形成された酸化膜を突き破り、下の金属面に直接接触するようになる。したがって、接触子の導電膜と端子との間に酸化膜が介在し、これによって良好な電気的接続が得られにくい場合でも、突起が直接端子の金属面に接することにより、良好な電気的接続が得られるようになる。
According to this inspection jig, since the contact consists of a bump electrode having an inner resin as a core and a conductive film covered on its surface, when this contact is joined to the terminal of the object to be inspected Since the internal resin is easily elastically deformed, the conductive film on the surface comes into contact with the terminal over a wide area. In addition, the conductive resin on the surface is bonded to the terminal with high strength by the elastic restoring force (repulsive force) of the internal resin. Therefore, a wide contact area is ensured between the contact and the terminal, and a sufficiently high bonding strength is ensured, so that the reliability of the electrical connection between the contact (bump electrode) and the terminal is improved. This improves the reliability of the electrical property inspection itself.
In addition, since the conductive protrusion is provided on the conductive film, when the contact is joined to the terminal of the object to be inspected, the protrusion breaks through the oxide film formed on the terminal surface of the object to be inspected. It comes in direct contact with the metal surface. Therefore, even when an oxide film is interposed between the conductive film of the contact and the terminal, which makes it difficult to obtain a good electrical connection, the protrusion is in direct contact with the metal surface of the terminal, so that a good electrical connection can be obtained. Can be obtained.

また、前記検査用治具においては、前記突起が、基端側より先端側が細った先細り形状であるのが好ましい。
このようにすれば、被検査体の端子表面に形成された酸化膜を突起がより容易に突き破るようになり、接触子と端子との間の電気的接続がより良好になる。
In the inspection jig, it is preferable that the protrusion has a tapered shape in which a distal end side is thinner than a proximal end side.
In this way, the protrusions can more easily break through the oxide film formed on the terminal surface of the object to be inspected, and the electrical connection between the contact and the terminal becomes better.

また、前記検査用治具においては、前記突起が複数設けられているのが好ましい。
このようにすれば、複数箇所で突起が直接端子の金属面に接することから、接触子と端子との間でより良好な電気的接続が得られるようになる。
In the inspection jig, it is preferable that a plurality of the protrusions are provided.
In this way, since the protrusions directly contact the metal surface of the terminal at a plurality of locations, better electrical connection can be obtained between the contact and the terminal.

また、前記検査用治具においては、前記内部樹脂は、前記基板に当接する底面に対して直交する断面のうちの主断面の形状が、略半円形状、略半楕円形状、または略台形状とする略蒲鉾状に形成され、前記導電膜は、前記内部樹脂の前記主断面の面方向に沿って該内部樹脂の表面上に帯状に設けられているのが好ましい。
このようにすれば、内部樹脂の表面上に間隔をおいて導電膜を複数設けることにより、複数のバンプ電極(接触子)を形成することができ、製造が容易になる。
In the inspection jig, the inner resin has a substantially semicircular shape, a substantially semielliptical shape, or a substantially trapezoidal shape in a main cross section among the cross sections orthogonal to the bottom surface contacting the substrate. It is preferable that the conductive film is provided in a strip shape on the surface of the internal resin along the surface direction of the main cross section of the internal resin.
In this way, by providing a plurality of conductive films at intervals on the surface of the internal resin, a plurality of bump electrodes (contacts) can be formed, which facilitates manufacture.

また、前記検査用治具においては、前記内部樹脂は、その外面が外側に凸となる湾曲面となっており、前記導電膜は、前記内部樹脂の湾曲面上において該湾曲面に倣って湾曲した外面を有しており、前記突起は、少なくとも、前記導電膜の湾曲した外面の最も外側に位置する部位に配置されているのが好ましい。
このようにすれば、導電膜の湾曲した外面の最も外側に位置する部位では、接触子を端面に接合させた際に内部樹脂が最も大きく圧縮変形(弾性変形)するため、その弾性復元力(反発力)によって表面上の導電膜に設けられた突起が、より高い圧で端子に接合するようになる。したがって、端子表面に酸化膜が形成されていても、この酸化膜を突起がより良好に突き破り、下の金属面に直接接触するようになることから、接触子と端子との間の電気的接続がより良好になる。
In the inspection jig, the inner resin has a curved surface whose outer surface is convex outward, and the conductive film is curved along the curved surface of the inner resin. It is preferable that the protrusion is disposed at least on the outermost portion of the curved outer surface of the conductive film.
In this way, in the portion located on the outermost side of the curved outer surface of the conductive film, the inner resin is most greatly deformed (elastically deformed) when the contact is joined to the end surface, so that its elastic restoring force ( The protrusion provided on the conductive film on the surface by the repulsive force is joined to the terminal with a higher pressure. Therefore, even if an oxide film is formed on the terminal surface, the protrusions break through this oxide film better and come into direct contact with the underlying metal surface, so the electrical connection between the contact and the terminal Will be better.

また、前記検査用治具においては、前記内部樹脂は、その外面が外側に凸となる湾曲面となっており、前記導電膜は、前記内部樹脂の湾曲面上において該湾曲面に倣って湾曲した外面を有しており、前記突起は、少なくとも、前記導電膜の湾曲した外面の最も外側に位置する部位の近傍に配置されているのが好ましい。
このようにすれば、接触子を被検査体の端子に接合させた際、内部樹脂は、その最も外側に位置する部位を中心にして圧縮し、湾曲面が端子の接合面に倣って平面となる。すると、前記した導電膜の最も外側に位置する部位の近傍では、湾曲面が平面になるのに伴って外面のなす角度が変化し、これに伴ってこの近傍部の上に配置された突起もその先端を前記した最も外側に位置する部位側に向けるようになる。すると、この突起は接触子を前記端子に接合させた際に、該端子上においてその先端を横に変位させることから、結果的に端子の表面を引っ掻くように作用し、端子表面の酸化膜を単に突き破るだけでなく、引っ掻くことによって酸化膜を引き剥がすようになる。したがって、端子が酸化膜を引き剥がすことで接触子と端子との間の電気的接続がより良好になる。
In the inspection jig, the inner resin has a curved surface whose outer surface is convex outward, and the conductive film is curved along the curved surface of the inner resin. Preferably, the protrusion is disposed at least in the vicinity of the outermost portion of the curved outer surface of the conductive film.
In this way, when the contact is bonded to the terminal of the object to be inspected, the internal resin is compressed around the outermost portion, and the curved surface follows the bonding surface of the terminal and is flat. Become. Then, in the vicinity of the outermost portion of the conductive film described above, the angle formed by the outer surface changes as the curved surface becomes a flat surface, and accordingly, the protrusions disposed on the vicinity portion also change. The tip is directed to the outermost part side described above. Then, when the contact is joined to the terminal, the protrusion displaces the tip of the contact laterally on the terminal, and as a result, acts to scratch the surface of the terminal, and the oxide film on the terminal surface is formed. The oxide film is peeled off not only by piercing but also by scratching. Therefore, the electrical connection between the contact and the terminal becomes better because the terminal peels off the oxide film.

また、前記検査用治具においては、前記基板が透明基板となっているのが好ましい。
このようにすれば、導電膜の位置を基板の裏面側から視認することもでき、被検査体の端子と導電膜との位置合わせが容易になる。
In the inspection jig, the substrate is preferably a transparent substrate.
If it does in this way, the position of a conductive film can also be visually recognized from the back surface side of a board | substrate, and alignment with the terminal of a to-be-inspected object and a conductive film becomes easy.

また、前記検査用治具においては、前記基板と接触子との間に電気的遮蔽層が設けられているのが好ましい。
このようにすれば、不要輻射の低減、耐ノイズ性の向上が図れ、より精密な電気的特性検査が可能となる。
In the inspection jig, an electrical shielding layer is preferably provided between the substrate and the contact.
In this way, unnecessary radiation can be reduced, noise resistance can be improved, and a more precise electrical characteristic inspection can be performed.

また、前記検査用治具においては、前記基板には、前記接触子が配置された側と反対側の端部にコネクタが設けられているのが好ましい。
このようにすれば、前記検査用治具とテスターとの電気的な接続が容易になる。
In the inspection jig, it is preferable that a connector is provided on the end of the substrate opposite to the side on which the contact is disposed.
This facilitates electrical connection between the inspection jig and the tester.

また、前記検査用治具においては、前記基板上に検査用電子部品が実装されるとともに、前記検査用電子部品が前記配線パターンと電気的に接続されていてもよい。
例えば液晶表示装置等の電気光学装置の電気特性検査においては、検査時に電気光学装置に対して駆動信号を供給する駆動用素子等の電子部品が必要になることがある。その点、前記の構成によれば、基板上に検査用電子部品が予め実装されるとともに、前記検査用電子部品が前記配線パターンと電気的に接続されているので、検査用電子部品を別途準備することもなく、この検査用治具のみで対応が可能になる。
In the inspection jig, an inspection electronic component may be mounted on the substrate, and the inspection electronic component may be electrically connected to the wiring pattern.
For example, in an electrical characteristic inspection of an electro-optical device such as a liquid crystal display device, an electronic component such as a driving element that supplies a drive signal to the electro-optical device may be required at the time of inspection. In that respect, according to the above configuration, the inspection electronic component is mounted in advance on the substrate, and the inspection electronic component is electrically connected to the wiring pattern. Therefore, it is possible to cope with this inspection jig alone.

なお、前記接続構造では、前記検査用電子部品が、検査後に前記被検査体に実装される電子部品であるのが好ましい。
このようにすれば、特別に検査用として設計、製造した電子部品を準備することなく、実際の使用状態と同じ条件で検査を実施することができる。
In the connection structure, it is preferable that the electronic component for inspection is an electronic component mounted on the object to be inspected after inspection.
In this way, it is possible to carry out the inspection under the same conditions as the actual use state without preparing electronic parts specially designed and manufactured for inspection.

また、前記接続構造では、前記検査用電子部品が、フェースダウン構造で前記基板に実装されているのが好ましい。
このようにすれば、検査用電子部品の端子と配線パターンとの電気的接続に際してボンディングワイヤ等を用いることがないため、接続構造が簡素化できるとともに、検査用治具全体の薄型化が図れる。
In the connection structure, it is preferable that the inspection electronic component is mounted on the substrate in a face-down structure.
In this way, since a bonding wire or the like is not used for electrical connection between the terminals of the inspection electronic component and the wiring pattern, the connection structure can be simplified and the entire inspection jig can be made thinner.

本発明の検査用治具の製造方法は、基板と、前記基板上に設けられた接触子と、前記接触子に電気的に接続された配線パターンとを有する検査用治具の製造方法であって、
前記接触子を形成する工程は、前記基板上にコアとなる内部樹脂を設ける工程と、前記内部樹脂の表面上を導電膜で覆う工程と、前記導電膜上に導電性の突起を形成する工程と、を有することを特徴としている。
The method for manufacturing an inspection jig according to the present invention is a method for manufacturing an inspection jig having a substrate, a contact provided on the substrate, and a wiring pattern electrically connected to the contact. And
The step of forming the contact includes a step of providing an internal resin as a core on the substrate, a step of covering the surface of the internal resin with a conductive film, and a step of forming conductive protrusions on the conductive film It is characterized by having.

この検査用治具の製造方法によれば、コアとなる内部樹脂の表面上を導電膜で覆い、さらに導電膜上に導電性の突起を形成することで接触子を形成するので、この接触子を被検査体の端子に接合させた際、内部樹脂が容易に弾性変形することでその表面上の導電膜が端子に対して広い面積で接触するようになる。また、内部樹脂の弾性復元力(反発力)により、その表面上の導電膜が端子に対して高い強度で接合するようになる。したがって、接触子と端子との間において広い接触面積が確保され、かつ、十分に高い接合強度が確保されることにより、接触子(バンプ電極)と端子との間の電気的接続の信頼性が向上し、これによって電気的特性検査そのものの信頼性が向上する。
また、導電膜上に導電性の突起を設けているので、接触子を被検査体の端子に接合させた際、この突起が被検査体の端子表面に形成された酸化膜を突き破り、下の金属面に直接接触するようになる。したがって、接触子の導電膜と端子との間に酸化膜が介在し、これによって良好な電気的接続が得られにくい場合でも、突起が直接端子の金属面に接することにより、良好な電気的接続を得ることができる。
According to this inspection jig manufacturing method, the contact is formed by covering the surface of the inner resin as the core with the conductive film and further forming the conductive protrusion on the conductive film. Is bonded to the terminal of the object to be inspected, the internal resin is easily elastically deformed so that the conductive film on the surface comes into contact with the terminal over a wide area. In addition, the conductive resin on the surface is bonded to the terminal with high strength by the elastic restoring force (repulsive force) of the internal resin. Therefore, a wide contact area is ensured between the contact and the terminal, and a sufficiently high bonding strength is ensured, so that the reliability of the electrical connection between the contact (bump electrode) and the terminal is improved. This improves the reliability of the electrical property inspection itself.
In addition, since the conductive protrusion is provided on the conductive film, when the contact is joined to the terminal of the object to be inspected, the protrusion breaks through the oxide film formed on the terminal surface of the object to be inspected. It comes in direct contact with the metal surface. Therefore, even when an oxide film is interposed between the conductive film of the contact and the terminal, which makes it difficult to obtain a good electrical connection, the protrusion is in direct contact with the metal surface of the terminal, so that a good electrical connection can be obtained. Can be obtained.

また、前記検査用治具の製造方法においては、前記突起を形成する工程では、前記導電膜上に液滴吐出法で導電性材料を選択的に配することで、該導電性材料からなる突起を形成するようにしてもよい。
このようにすれば、導電膜上の所望の位置に、所望の数の突起を形成することが可能になる。
Further, in the method for manufacturing an inspection jig, in the step of forming the protrusion, a conductive material is selectively disposed on the conductive film by a droplet discharge method, whereby the protrusion made of the conductive material is formed. May be formed.
In this way, it is possible to form a desired number of protrusions at desired positions on the conductive film.

以下、本発明を実施形態に基づいて詳細に説明する。
<検査用治具>
まず、本発明の検査用治具の一実施形態について説明する。図1は検査用治具の一実施形態の斜視図であり、図2は検査用治具の一実施形態の側断面図である。図1、図2において符号1は検査用治具であり、この検査用治具1は、各種の電気的特性を検出・測定するテスター(図示せず)に電気的に接続されて、用いられるものである。
Hereinafter, the present invention will be described in detail based on embodiments.
<Inspection jig>
First, an embodiment of the inspection jig of the present invention will be described. FIG. 1 is a perspective view of an embodiment of an inspection jig, and FIG. 2 is a side sectional view of an embodiment of an inspection jig. 1 and 2, reference numeral 1 denotes an inspection jig, and this inspection jig 1 is used by being electrically connected to a tester (not shown) for detecting and measuring various electrical characteristics. Is.

この検査用治具1は、図1、図2に示すように、板状の基板2と、この基板2上に設けられたバンプ電極からなる複数の接触子3と、これら接触子3にそれぞれ電気的に接続された配線パターン4、5と、駆動用IC6(検査用電子部品)と、コネクタ7とから概略構成されたものである。
基板2は、例えばガラスや石英などからなる透明で矩形の絶縁性基板からなっている。なお、基板2については必ずしも透明でなくてもよく、例えばセラミックス基板や樹脂基板、シリコン基板等からなっていてもよい。
As shown in FIGS. 1 and 2, the inspection jig 1 includes a plate-like substrate 2, a plurality of contacts 3 including bump electrodes provided on the substrate 2, and a contact 3. The wiring pattern 4, 5 electrically connected, the driving IC 6 (electronic component for inspection), and the connector 7 are roughly configured.
The substrate 2 is made of a transparent and rectangular insulating substrate made of, for example, glass or quartz. Note that the substrate 2 is not necessarily transparent, and may be formed of, for example, a ceramic substrate, a resin substrate, a silicon substrate, or the like.

基板2の一端側には接触子3が形成されている。接触子3は、バンプ電極からなるもので、図1に示すように、基板2上に設けられた略蒲鉾状の内部樹脂8をコア(コア部)として、その表面が複数の帯状の導電膜9で覆われた構造を有している。また、導電膜9上には、導電性の突起14が複数形成されている。
複数の導電膜9は、図2に示すように基板2の表面上に設けられたもので、前記内部樹脂8の表面上からその左右に連続して延びて形成されたものである。そして、図1に示したように特に接触子3が形成された側と反対側に延び、基板2の略中心部にまで延びた部分が、配線パターン4となっている。この配線パターン4は、接触子3と反対側の端部、すなわち基板2の略中央部において、前記駆動用IC6と電気的に接続されている。
A contact 3 is formed on one end side of the substrate 2. The contact 3 is composed of a bump electrode. As shown in FIG. 1, the contact 3 has a substantially bowl-shaped internal resin 8 provided on the substrate 2 as a core (core portion), and the surface thereof has a plurality of strip-like conductive films. 9 has a structure covered with 9. A plurality of conductive protrusions 14 are formed on the conductive film 9.
The plurality of conductive films 9 are provided on the surface of the substrate 2 as shown in FIG. 2 and are formed to extend continuously from the surface of the internal resin 8 to the left and right. As shown in FIG. 1, the portion extending to the side opposite to the side where the contact 3 is formed and extending to the substantially central portion of the substrate 2 is a wiring pattern 4. The wiring pattern 4 is electrically connected to the driving IC 6 at an end opposite to the contact 3, that is, at a substantially central portion of the substrate 2.

また、基板2の他端側、すなわち前記接触子3が形成された側と反対の側には、前記導電膜9や配線パターン4と同工程で形成された複数の配線パターン5が配設されている。これら配線パターン5も、基板2の略中央部において、前記駆動用IC6と電気的に接続されている。
さらに、配線パターン5には、前記駆動用IC6と反対側の端部にて、テスターと電気的に接続するためのコネクタ7が接続されている。
このような構成のもとに、内部樹脂8の表面に設けられた導電膜9は、それぞれ独立して駆動用IC6に接続・導通し、さらにコネクタ7に接続・導通するものとなっている。したがって、これら導電膜9は、その内側に位置する内部樹脂8とともに、それぞれが独立して、本発明に係る接触子(バンプ電極)3として機能するようになっている。
A plurality of wiring patterns 5 formed in the same process as the conductive film 9 and the wiring pattern 4 are disposed on the other end side of the substrate 2, that is, the side opposite to the side on which the contact 3 is formed. ing. These wiring patterns 5 are also electrically connected to the driving IC 6 at a substantially central portion of the substrate 2.
Further, a connector 7 for electrically connecting to the tester is connected to the wiring pattern 5 at the end opposite to the driving IC 6.
Under such a configuration, the conductive film 9 provided on the surface of the internal resin 8 is independently connected / conductive to the driving IC 6 and further connected / conductive to the connector 7. Therefore, each of these conductive films 9 together with the internal resin 8 located inside thereof functions independently as the contact (bump electrode) 3 according to the present invention.

ここで、前記内部樹脂8についての略蒲鉾状とは、基板2に接する内面(底面)が平面であり、接しない外面が外側に凸となる湾曲面になっている柱状形状をいう。具体的には、図2に示したようにその横断面(断面)が略半円形状(または略半楕円形状)であるものが好適とされる。なお、この横断面は本発明における内部樹脂8の主断面となるものである。本発明における内部樹脂8の主断面とは、前記基板2に当接する底面に対して直交する断面のうちの、特徴的な面であり、本実施形態のように内部樹脂8が略蒲鉾状となっている場合には、その幅方向の横断面が主断面となっている。そして、本発明における接触子(バンプ電極)3では、その導電膜9が、前記主断面の面方向に沿って前記内部樹脂8の表面上に設けられている。   Here, the substantially bowl-like shape of the internal resin 8 refers to a columnar shape in which the inner surface (bottom surface) in contact with the substrate 2 is a flat surface, and the outer surface not in contact is a curved surface protruding outward. Specifically, as shown in FIG. 2, it is preferable that the cross section (cross section) has a substantially semicircular shape (or a substantially semielliptical shape). This transverse section is the main section of the internal resin 8 in the present invention. The main cross section of the internal resin 8 in the present invention is a characteristic surface of the cross section orthogonal to the bottom surface in contact with the substrate 2, and the internal resin 8 is substantially bowl-shaped as in this embodiment. If it is, the cross section in the width direction is the main cross section. And in the contactor (bump electrode) 3 in this invention, the electrically conductive film 9 is provided on the surface of the said internal resin 8 along the surface direction of the said main cross section.

また、本実施形態では、内部樹脂8の主断面(横断面)における略半円形状が、前記基材2に当接する底辺8aと、該基材2の外側に突出する外辺8bとによって囲まれて形成されている。
このような内部樹脂8は、感光性絶縁樹脂や熱硬化性絶縁樹脂からなるもので、具体的には、ポリイミド樹脂やアクリル樹脂、フェノール樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン変性ポリイミド樹脂、エポキシ樹脂等によって形成されたものである。このような樹脂からなる内部樹脂8は、後述するように公知のリソグラフィー技術やリフロー技術により、前記した略蒲鉾状に形成されている。なお、樹脂の材質(硬度)や略蒲鉾状についての細部における形状(高さや幅)等については、接合する被検査体の端子の形状や大きさ等によって適宜に選択・設計される。
In this embodiment, the substantially semicircular shape in the main cross section (transverse cross section) of the internal resin 8 is surrounded by the bottom side 8 a that contacts the base material 2 and the outer side 8 b that protrudes outside the base material 2. Is formed.
Such an internal resin 8 is made of a photosensitive insulating resin or a thermosetting insulating resin, and specifically, is formed of a polyimide resin, an acrylic resin, a phenol resin, a silicone resin, a silicone-modified polyimide resin, an epoxy resin, or the like. It has been done. The internal resin 8 made of such a resin is formed in the above-described substantially bowl shape by a known lithography technique or reflow technique as described later. Note that the resin material (hardness) and the shape (height and width) in details about the bowl shape are appropriately selected and designed according to the shape and size of the terminals of the objects to be inspected.

導電膜9は、前記内部樹脂8の湾曲面上において、該湾曲面に倣って湾曲した外面を形成したものである。この導電膜9は、Au、TiW、Cu、Cr、Ni、Ti、W、NiV、Al、Pd、鉛フリーハンダ等の金属や合金からなるもので、これら金属(合金)の単層であっても、複数種を積層したものであってもよい。このように、導電膜9は内部樹脂8の湾曲面に倣って湾曲して形成されているので、局部的な応力集中が起こりにくくなっており、したがって応力集中に起因する断線が防止されたものとなっている。
また、導電膜9は、スパッタ法等の公知の成膜法で成膜し、その後帯状にパターニングしたものであってもよく、無電解メッキによって選択的に形成したものであってもよい。または、スパッタ法や無電解メッキによって下地膜を形成し、その後電解メッキによって下地膜上に上層膜を形成し、これら下地膜と上層膜とからなる積層膜により、導電膜9を形成してもよい。
The conductive film 9 is formed on the curved surface of the internal resin 8 with an outer surface curved in accordance with the curved surface. The conductive film 9 is made of a metal or alloy such as Au, TiW, Cu, Cr, Ni, Ti, W, NiV, Al, Pd, lead-free solder, etc., and is a single layer of these metals (alloys). Alternatively, a laminate of a plurality of types may be used. Thus, since the conductive film 9 is formed so as to follow the curved surface of the internal resin 8, local stress concentration is less likely to occur, and therefore disconnection due to the stress concentration is prevented. It has become.
The conductive film 9 may be formed by a known film formation method such as a sputtering method and then patterned into a strip shape, or may be formed selectively by electroless plating. Alternatively, a base film may be formed by sputtering or electroless plating, and then an upper layer film may be formed on the base film by electrolytic plating, and the conductive film 9 may be formed by a laminated film including the base film and the upper layer film. Good.

なお、金属(合金)の種類や層構造、膜厚、幅等については、前記内部樹脂8の場合と同様に、被検査体の端子の形状や大きさ等によって適宜に選択・設計される。ただし、後述するように導電膜9は、被検査体の端子に接合することで内部樹脂8とともに弾性変形することから、特に展延性に優れた金(Au)を用いるのが好ましい。また、積層膜によって導電膜9を形成する場合には、その最外層に金を用いるのが好ましい。さらに、導電膜9の幅については、接合する端子の幅よりも十分に広く形成しておくのが好ましい。   Note that the type, layer structure, film thickness, width, and the like of the metal (alloy) are appropriately selected and designed according to the shape and size of the terminal of the device to be inspected, as in the case of the internal resin 8. However, as described later, since the conductive film 9 is elastically deformed together with the internal resin 8 by being bonded to the terminal of the object to be inspected, it is preferable to use gold (Au) that is particularly excellent in spreadability. Moreover, when forming the electrically conductive film 9 with a laminated film, it is preferable to use gold for the outermost layer. Furthermore, it is preferable that the conductive film 9 be formed sufficiently wider than the terminal to be joined.

突起14は、金属や合金などの硬質の導電性材料からなるもので、導電膜9と同じ材質の金属(合金)によって形成され、あるいは導電膜9より硬い金属(合金)等によって形成されたものである。また、例えば導電膜9と同じ材質の金属(合金)からなるコア部を有し、その表面上に、コア部より硬質の金属(合金)を付着させたものでもよい。このような突起14は、高さが例えば数100nm程度から数μm程度に形成されたもので、特に、基端側より先端側が細った先細り形状(略円錐形状)であるのが好ましい。   The protrusion 14 is made of a hard conductive material such as a metal or an alloy, and is formed of a metal (alloy) of the same material as the conductive film 9 or formed of a metal (alloy) harder than the conductive film 9. It is. Further, for example, a core portion made of a metal (alloy) made of the same material as that of the conductive film 9 may be provided, and a metal (alloy) harder than the core portion may be adhered on the surface thereof. Such a protrusion 14 is formed with a height of, for example, about several hundreds of nanometers to several μm, and particularly preferably has a tapered shape (substantially conical shape) whose tip side is narrower than the base end side.

このような突起14の材質や形状等は、主にその形成方法によって特徴づけられる。具体的には、導電層9をスパッタ法で形成した場合、一旦導電層9の成膜を終了した後、スパッタ条件を変えて導電層9上に成膜材料を低い分布密度で付着させることにより、多数の突起14を形成することができる。その際、スパッタ条件については、例えば基板2の温度を下げることで、導電膜9上に付着させた成膜材料からなる粒子の移動を抑え、成膜材料が高い分布密度で付着して一様な膜に近くなるのを抑えることにより、多数の突起14を形成することができる。また、スパッタを行う時間についても、導電膜9の形成時間より十分に短くし、成膜材料が高い分布密度で付着しないようにする。   The material, shape, and the like of the projection 14 are mainly characterized by the formation method. Specifically, when the conductive layer 9 is formed by the sputtering method, after the film formation of the conductive layer 9 is once completed, the film formation material is deposited on the conductive layer 9 with a low distribution density by changing the sputtering conditions. A large number of protrusions 14 can be formed. At this time, for the sputtering conditions, for example, by lowering the temperature of the substrate 2, the movement of the particles made of the film forming material attached on the conductive film 9 is suppressed, and the film forming material is uniformly attached with a high distribution density. A large number of protrusions 14 can be formed by suppressing the proximity of a thick film. The sputtering time is also sufficiently shorter than the formation time of the conductive film 9 so that the film forming material does not adhere with a high distribution density.

このように、導電膜9の形成時とは異なるスパッタ条件で突起14を形成する場合、突起14については、前記したように導電膜9と同じ材料で形成することもでき、また、ターゲットを別のものに変えることにより、別の材料で形成することもできる。したがって、特に導電膜9を金で形成した場合、突起14についても金で形成することができ、また、これより硬い金属(合金)材料で形成することもできる。
なお、このようにスパッタ法で導電膜9や突起14を形成する場合、実際には導電膜9となる導電材料膜をスパッタ法で形成し、さらにその上に突起14を形成した後、不要箇所を除去するパターニングを行うことにより、導電膜9とこれの上に位置する突起14とを形成する。
As described above, when the protrusions 14 are formed under sputtering conditions different from those for forming the conductive film 9, the protrusions 14 can be formed of the same material as that of the conductive film 9 as described above. It can also be formed of another material by changing to the above. Therefore, in particular, when the conductive film 9 is made of gold, the protrusions 14 can also be made of gold, or can be made of a harder metal (alloy) material.
When the conductive film 9 and the protrusion 14 are formed by the sputtering method in this way, an unnecessary portion is actually formed after the conductive material film to be the conductive film 9 is formed by the sputtering method and the protrusion 14 is further formed thereon. The conductive film 9 and the protrusion 14 positioned on the conductive film 9 are formed by performing patterning for removing the film.

また、突起14の形成には、スパッタ法に代えてメッキ法を用いることもできる。例えば、導電膜9の表面を無電解メッキ処理することにより、多数の突起14を形成することができる。すなわち、無電解メッキ処理で導電膜9上に金属の核を多数形成する。そして、この核が所望の大きさに成長したところで無電解メッキ処理を終了させる。このようにすれば、突起14の高さを調整することができ、また、その形状についても、先端側が細った先細り形状(略円錐形状)とすることができる。
なお、スパッタ法で突起14のコア部を形成し、その表面に電解メッキで硬質の金属材料を付着させることもできる。具体的には、コア部を金で形成し、その表面にNiやCuの微粒子または薄膜を付着させることもできる。例えばCuの電解メッキを行う場合、電流密度を1A/d以上に高くすることで、コア部に対してCuを良好に付着させることができる。
Further, in order to form the protrusions 14, a plating method can be used instead of the sputtering method. For example, many protrusions 14 can be formed by performing electroless plating on the surface of the conductive film 9. That is, many metal nuclei are formed on the conductive film 9 by electroless plating. The electroless plating process is terminated when the nucleus grows to a desired size. In this way, the height of the protrusion 14 can be adjusted, and the shape of the protrusion 14 can also be a tapered shape (substantially conical shape) with a thin tip side.
Alternatively, the core portion of the protrusion 14 can be formed by sputtering, and a hard metal material can be attached to the surface by electrolytic plating. Specifically, the core portion can be formed of gold, and Ni or Cu fine particles or a thin film can be attached to the surface thereof. For example, when performing electrolytic plating of Cu, Cu can be favorably adhered to the core portion by increasing the current density to 1 A / d or more.

さらに、突起14の形成には、導電膜9上に液滴吐出法で導電性材料を選択的に配することにより、形成することもできる。液滴吐出法としては、公知のインクジェット法やディスペンス法が採用される。導電性材料としては、Au、Ag、Cu、Ni等の金属微粒子を分散させた液状材料が用いられ、特にAuより硬質なAgやCu、Niが好適とされる。金属微粒子の粒径としては、10nm〜100nm程度とされる。したがって、このような微粒子を含む液滴を導電膜9上の所望箇所に所望量配(吐出)し、さらに乾燥・焼成処理を経ることにより、突起14を所望の大きさで選択的に形成することができる。
なお、このような突起14の形成にあたっては、特にその大きさや形状、性状を調整する目的で、一旦形成した突起に対してドライエッチングやウエットエッチング、化成処理などを施し、所望の大きさや形状、性状の突起14を形成するようにしてもよい。
Further, the protrusion 14 can be formed by selectively disposing a conductive material on the conductive film 9 by a droplet discharge method. As the droplet discharge method, a known inkjet method or dispense method is employed. As the conductive material, a liquid material in which fine metal particles such as Au, Ag, Cu, and Ni are dispersed is used, and Ag, Cu, and Ni that are harder than Au are particularly suitable. The particle size of the metal fine particles is about 10 nm to 100 nm. Accordingly, a desired amount of droplets containing such fine particles are distributed (discharged) to a desired location on the conductive film 9, and further dried and baked to selectively form the protrusions 14 in a desired size. be able to.
In the formation of the projections 14, in particular, for the purpose of adjusting the size, shape, and properties, the projections once formed are subjected to dry etching, wet etching, chemical conversion treatment, etc. A characteristic protrusion 14 may be formed.

また、このようにして形成する突起14については、特にその形成位置を、少なくとも図3(a)に示す位置、または図4(a)に示す位置とするのが好ましい。図3(a)、図4(a)に示すように、前記内部樹脂8の外面、すなわち内部樹脂8の主断面において略円弧状の外辺8bで表される湾曲面上には、この湾曲面に倣って導電膜9が設けられており、したがって導電膜9も、湾曲した外面9aを有している。そして、この導電膜9の湾曲した外面9aにおいて、突起14は少なくとも、図3(a)に示すように前記外面9aの最も外側に位置する部位P上に配置されているのが好ましい。ここで、部位Pは、導電膜9の厚さを含む前記主断面の形状を半円形状とすると、基板2の表面から最も遠い位置であり、すなわち、この半円を二分する直線と外面9aとなる円弧との交点部分となる。また、突起14は、少なくとも、図4(a)に示すように、前記部位Pの両側でその近傍部に配置されているのが好ましい。   In addition, the protrusion 14 formed in this way is preferably formed at least at the position shown in FIG. 3A or the position shown in FIG. As shown in FIGS. 3A and 4A, on the outer surface of the inner resin 8, that is, on the curved surface represented by the outer edge 8b having a substantially arc shape in the main cross section of the inner resin 8, A conductive film 9 is provided along the surface, and thus the conductive film 9 also has a curved outer surface 9a. And in the curved outer surface 9a of this electrically conductive film 9, it is preferable to arrange | position the processus | protrusion 14 at least on the site | part P located in the outermost side of the said outer surface 9a, as shown to Fig.3 (a). Here, the portion P is a position farthest from the surface of the substrate 2 when the shape of the main cross section including the thickness of the conductive film 9 is a semicircular shape, that is, a straight line that bisects the semicircle and the outer surface 9a. It becomes the intersection point with the arc. Moreover, it is preferable that the protrusions 14 are disposed in the vicinity thereof at least on both sides of the portion P as shown in FIG.

後述するように、接触子3はその導電膜9が被検査体の端子に接合される。その際、内部樹脂8が圧縮変形することで、導電膜9と端子とはその間で広い接触面積が確保され、かつ、十分に高い接合強度が確保されるようになっている。このように導電膜9が端子に接合させられると、図3(a)に示した部位Pは、最も外側に位置していた分、図3(b)に示すように圧縮変形量も最大になる。したがって、その弾性復元力(反発力)も大きくなることから、この部位P上に設けられた突起14は、より高い圧で端子に接合するようになる。よって、端子表面に酸化膜が形成されていても、この酸化膜を突起14がより良好に突き破り、下の金属面に直接接触するようになる。   As will be described later, the conductive film 9 of the contact 3 is bonded to the terminal of the object to be inspected. At that time, the internal resin 8 is compressed and deformed, so that a wide contact area is secured between the conductive film 9 and the terminal, and a sufficiently high bonding strength is secured. When the conductive film 9 is bonded to the terminal in this way, the portion P shown in FIG. 3A is located on the outermost side, so that the amount of compressive deformation is maximized as shown in FIG. 3B. Become. Therefore, since the elastic restoring force (repulsive force) is also increased, the protrusion 14 provided on the portion P is joined to the terminal with a higher pressure. Therefore, even if an oxide film is formed on the terminal surface, the protrusion 14 breaks through the oxide film better and comes into direct contact with the underlying metal surface.

また、図4(a)に示した部位Pの近傍では、導電膜9が端面に接合させられると、導電膜9の外面9aが湾曲面から平面になるのに伴って外面9aのなす角度が変化する。すなわち、図4(a)に示すように導電膜9が端面に接合させられる前では、突起14a、14bが形成された箇所では外面9aをなす円弧の法線L1の方向が、部位Pでの法線Lより外側に向いている。これに対し、図4(b)に示すように導電膜9が端面に接合させられると、突起14a、14bが形成された箇所での法線L2は部位Pでの法線Lとほぼ同じ方向に向くようになる。   In addition, in the vicinity of the portion P shown in FIG. 4A, when the conductive film 9 is bonded to the end face, the angle formed by the outer surface 9a is changed as the outer surface 9a of the conductive film 9 changes from a curved surface to a flat surface. Change. That is, as shown in FIG. 4A, before the conductive film 9 is bonded to the end surface, the direction of the normal line L1 of the arc that forms the outer surface 9a at the position where the protrusions 14a and 14b are formed is It faces outward from the normal L. On the other hand, when the conductive film 9 is bonded to the end face as shown in FIG. 4B, the normal line L2 where the protrusions 14a and 14b are formed is almost in the same direction as the normal line L at the part P. It comes to be suitable for.

したがって、突起14a、14bは、その先端がそれぞれの箇所での前記法線Lと同じ方向に向くので、図4(a)に示したように導電膜9が端面に接合させられる前の状態から、図4(b)に示したように導電膜9が端面に接合させられる状態に至る過程で、突起14a、14bはその先端を横方向に変位させるようになる。よって、突起14a、14bは端子の表面を引っ掻くように作用し、端子表面の酸化膜を単に突き破るだけでなく、引っ掻くことによって酸化膜を引き剥がすようになる。
なお、本実施形態においては、図3(a)に示したように前記の部位P上に突起14が設けられ、かつ、図4(a)に示したように前記部位Pの近傍にも突起14が設けられている。
Therefore, since the tips of the protrusions 14a and 14b are oriented in the same direction as the normal line L at the respective portions, the state before the conductive film 9 is joined to the end face as shown in FIG. As shown in FIG. 4B, in the process of reaching the state where the conductive film 9 is bonded to the end face, the protrusions 14a and 14b are displaced in the lateral direction. Therefore, the protrusions 14a and 14b act so as to scratch the surface of the terminal, and not only pierce the oxide film on the terminal surface but also peel off the oxide film by scratching.
In the present embodiment, the protrusion 14 is provided on the part P as shown in FIG. 3A, and the protrusion P is also provided near the part P as shown in FIG. 4A. 14 is provided.

また、前記の駆動用IC6は、例えば被検査体を液晶表示装置とした場合に、これに対して駆動用信号を供給するためのものである。そして、このように被検査体を液晶表示装置とした場合では、駆動用IC6として、前記液晶表示装置に接続される外部基板に搭載されて、液晶パネルの駆動制御を行う駆動用ICと、同じものを用いるのが好ましい。このようにすれば、特別に検査用として設計、製造した電子部品を準備することなく、実際の使用状態と同じ条件で検査を実施することができるからである。ただし、この駆動用IC6としては、もちろん検査用に設計されたものを用いることもできる。   The driving IC 6 is for supplying a driving signal to a liquid crystal display device as an object to be inspected, for example. In the case where the object to be inspected is a liquid crystal display device in this way, the drive IC 6 is the same as the drive IC mounted on the external substrate connected to the liquid crystal display device and performing drive control of the liquid crystal panel. It is preferable to use one. This is because the inspection can be carried out under the same conditions as the actual use state without preparing electronic parts specially designed and manufactured for inspection. However, as the driving IC 6, one designed for inspection can of course be used.

また、駆動用IC6は、図2に示すように前記基板2に対してフェースダウン構造で実装されており、その複数の端子のうち、被検査体に対して駆動用信号を出力する端子6aは、接触子3に接続する配線パターン4の端部に接続され、テスター等からの信号が入力される端子6bは、配線パターン5の端部に接続されている。このようなフェースダウン構造が採用されたことにより、駆動用IC6の端子6a、6bと配線パターン4、5との電気的な接続構造が簡素化され、検査用治具1全体の薄型化が図られている。なお、駆動用IC6の実装については、フェースダウン構造に限定されることなく、ワイヤーボンディングなどを用いた構造でもかまわない。   The driving IC 6 is mounted on the substrate 2 in a face-down structure as shown in FIG. 2, and a terminal 6a for outputting a driving signal to the device to be inspected among the plurality of terminals. The terminal 6 b connected to the end of the wiring pattern 4 connected to the contact 3 and receiving a signal from a tester or the like is connected to the end of the wiring pattern 5. By adopting such a face-down structure, the electrical connection structure between the terminals 6a and 6b of the driving IC 6 and the wiring patterns 4 and 5 is simplified, and the overall thickness of the inspection jig 1 can be reduced. It has been. Note that the mounting of the driving IC 6 is not limited to the face-down structure, and a structure using wire bonding or the like may be used.

駆動用IC6の端子6a、6bと配線パターン4、5との接続部は、樹脂層10によって封止されており、これによって前記接続部は、水分や異物が浸入して腐食が生じたり、短絡が生じるといった不具合が防止されている。さらに、図示を省略しているものの、各配線パターン4、5上には、接触子3や駆動用IC6との電気的接続部を除く箇所に、ソルダーレジスト等からなる保護層を設けておくのが望ましい。この保護層も、前記樹脂層10と同様、配線パターン4、5を保護し、腐食や短絡を防止するためのものである。   The connection portions between the terminals 6a and 6b of the driving IC 6 and the wiring patterns 4 and 5 are sealed with the resin layer 10, whereby the connection portions are corroded due to intrusion of moisture and foreign matter, or are short-circuited. Inconveniences such as the occurrence of this are prevented. Further, although not shown, a protective layer made of a solder resist or the like is provided on each wiring pattern 4 and 5 at a place other than the electrical connection portion with the contact 3 or the driving IC 6. Is desirable. Similar to the resin layer 10, this protective layer is also for protecting the wiring patterns 4 and 5 and preventing corrosion and short circuits.

基板2の上面の接触子3が設けられた側と反対側の端部には、前記したように配線パターン5に接続してコネクタ7が設けられている。このコネクタ7は、テスターとの電気的接続をなすためのもので、例えば任意の樹脂材料からなるフレキシブル基板11の一面に、前記配線パターン5の各々に対応して設けられた配線パターン12を形成したものである。このような構成からなるコネクタ7は、フレキシブル基板11上の配線パターン12が基板2上の配線パターン5に対向するように配置させられた状態で、異方性導電フィルム13(Anisotropic Conductive Film)を介して配線パターン12が配線パターン5に電気的に接続されている。そして、これによってフレキシブル基板11は、基板2に機械的に接合されている。   As described above, the connector 7 is provided at the end of the upper surface of the substrate 2 opposite to the side on which the contact 3 is provided, connected to the wiring pattern 5. The connector 7 is for electrical connection with a tester. For example, a wiring pattern 12 provided corresponding to each of the wiring patterns 5 is formed on one surface of a flexible substrate 11 made of an arbitrary resin material. It is what. The connector 7 having such a configuration has an anisotropic conductive film 13 (Anisotropic Conductive Film) in a state where the wiring pattern 12 on the flexible substrate 11 is disposed so as to face the wiring pattern 5 on the substrate 2. The wiring pattern 12 is electrically connected to the wiring pattern 5. As a result, the flexible substrate 11 is mechanically bonded to the substrate 2.

<被検査体>
次に、本発明の検査用治具1によって検査される被検査体の一例について説明する。図5は、被検査体の一例となる液晶表示装置の概略構成を示す平面図であり、図6は、図5のH−H’線に沿う断面図である。
<Inspected object>
Next, an example of an object to be inspected by the inspection jig 1 of the present invention will be described. FIG. 5 is a plan view showing a schematic configuration of a liquid crystal display device as an example of an object to be inspected, and FIG. 6 is a cross-sectional view taken along line HH ′ of FIG.

被検査体となる液晶表示装置100は、図5、図6に示すように、画素スイッチング素子として薄膜トランジスタ(Thin Film Transistor, 以下、TFTと記す)が備えられたTFTアレイ基板30と、対向基板40とがシール材52によって貼り合わされ、このシール材52の内側に液晶層50が封入されたものである。シール材52の形成領域の内側には、遮光性材料からなる遮光膜(周辺見切り)53が形成されている。シール材52の外側の周辺回路領域には、データ線駆動回路201がTFTアレイ基板10の一辺に沿って形成されており、この一辺に隣接する2辺に沿って走査線駆動回路104が形成されている。TFTアレイ基板10の残る一辺には、表示領域の両側に設けられた2つの走査線駆動回路104を相互に接続するための複数の配線105が設けられている。対向基板40の角部においては、TFTアレイ基板30と対向基板40との間で電気的導通をとるための基板間導通材106が配設されている。   As shown in FIGS. 5 and 6, the liquid crystal display device 100 as an object to be inspected includes a TFT array substrate 30 provided with a thin film transistor (hereinafter referred to as TFT) as a pixel switching element, and a counter substrate 40. Are bonded together by a sealing material 52, and the liquid crystal layer 50 is sealed inside the sealing material 52. A light-shielding film (peripheral parting) 53 made of a light-shielding material is formed inside the formation region of the sealing material 52. A data line driving circuit 201 is formed along one side of the TFT array substrate 10 in the peripheral circuit region outside the sealing material 52, and a scanning line driving circuit 104 is formed along two sides adjacent to the one side. ing. On the remaining side of the TFT array substrate 10, a plurality of wirings 105 are provided for connecting the two scanning line driving circuits 104 provided on both sides of the display area to each other. In the corner portion of the counter substrate 40, an inter-substrate conductive material 106 for providing electrical continuity between the TFT array substrate 30 and the counter substrate 40 is disposed.

TFTアレイ基板10上のデータ線駆動回路201の外側に、多数の外部回路実装端子202が一列に配置されている。図4に示すように、TFTアレイ基板30の外形は対向基板40の外形よりも大きく、TFTアレイ基板10の縁部の外部回路実装端子202が設けられた領域は、対向基板40の縁部から外側にはみ出すように配置されている。このような構成により、後述するように前記検査用治具1によって電気特性検査を行う際には、検査用治具1の接触子3が外部回路実装端子202に対して容易に接触できるようになっている。   A large number of external circuit mounting terminals 202 are arranged in a row outside the data line driving circuit 201 on the TFT array substrate 10. As shown in FIG. 4, the outer shape of the TFT array substrate 30 is larger than the outer shape of the counter substrate 40, and the region where the external circuit mounting terminal 202 is provided at the edge of the TFT array substrate 10 is from the edge of the counter substrate 40. It is arranged so as to protrude outside. With such a configuration, when an electrical property inspection is performed using the inspection jig 1 as described later, the contact 3 of the inspection jig 1 can easily contact the external circuit mounting terminal 202. It has become.

このような構成からなる液晶表示装置100は、例えばTFTアレイ基板30と対向基板40とがシール材52を介して貼り合わされ、空の液晶セルが作製された後、真空注入法によって液晶セル内に液晶が注入される。その後、液晶注入口が封止材で封止されることにより、製造される。そして、完成した液晶表示装置100は、その電気特性が規定を満足しているか否かを調べるため、電気特性検査が行われる。すなわち、前記の検査用治具1を用いて液晶表示装置100の電気特性検査を行う。   In the liquid crystal display device 100 having such a configuration, for example, after the TFT array substrate 30 and the counter substrate 40 are bonded to each other through a sealing material 52 to form an empty liquid crystal cell, the liquid crystal display device 100 is formed in the liquid crystal cell by vacuum injection. Liquid crystal is injected. Then, it manufactures by sealing a liquid-crystal inlet with a sealing material. Then, the completed liquid crystal display device 100 is subjected to an electrical property test in order to check whether or not the electrical property satisfies the regulation. That is, the electrical property inspection of the liquid crystal display device 100 is performed using the inspection jig 1.

この電気特性検査を行うには、まず、図7に示すように液晶表示装置100の端子(外部回路実装端子)202に、検査用治具1の接触子3を接触させ、さらにその状態で押圧手段により接触子3を端子202に所定圧以上で相対的に押し付け、これによって接触子3を端子202に電気的に接続する。検査用治具1の接触子3を端子202に接触させる際には、これらを位置合わせする必要があるが、その際、基材2が透明基板であるため、接触子3の導電膜9と端子202との位置関係を基材2の裏面側から視認することができる。したがって、位置合わせを容易に行うことができる。   In order to perform this electrical characteristic inspection, first, as shown in FIG. 7, the contact 3 of the inspection jig 1 is brought into contact with the terminal (external circuit mounting terminal) 202 of the liquid crystal display device 100 and further pressed in this state. By means, the contact 3 is relatively pressed against the terminal 202 at a predetermined pressure or higher, whereby the contact 3 is electrically connected to the terminal 202. When the contact 3 of the inspection jig 1 is brought into contact with the terminal 202, it is necessary to align them. At this time, since the base material 2 is a transparent substrate, the conductive film 9 of the contact 3 and The positional relationship with the terminal 202 can be viewed from the back side of the substrate 2. Therefore, alignment can be performed easily.

押圧手段としては、図7に示したように例えば空気圧等によって押圧板15を所定圧以上の圧力で降下させ、ステージ(図示せず)上に載置された液晶表示装置100上の検査用治具1(基板2)の裏面側を押圧し、検査用治具1を液晶表示装置100上に押し付ける押圧装置が用いられる。また、図示しないものの、液晶表示装置100のTFTアレイ基板30の裏面側と検査用治具1の基板2の裏面側とを、バネ力によって所定圧以上で挟み込むクリップを用いることもできる。さらに、TFTアレイ基板30の裏面側を押さえる板と検査用治具1の基板2の裏面側を押さえる板とを用意し、これら板間をネジによって締め付け、これら板を介して締結力(ネジ力)で検査用治具1をTFTアレイ基板30上(液晶表示装置100上)に押し付けてもよい。   As the pressing means, as shown in FIG. 7, for example, the pressure plate 15 is lowered by a pressure equal to or higher than a predetermined pressure by air pressure or the like, and the inspection treatment on the liquid crystal display device 100 placed on a stage (not shown) is performed. A pressing device that presses the back side of the tool 1 (substrate 2) and presses the inspection jig 1 onto the liquid crystal display device 100 is used. Although not shown, a clip that sandwiches the back surface side of the TFT array substrate 30 of the liquid crystal display device 100 and the back surface side of the substrate 2 of the inspection jig 1 at a predetermined pressure or more by a spring force can also be used. Further, a plate for pressing the back surface side of the TFT array substrate 30 and a plate for pressing the back surface side of the substrate 2 of the inspection jig 1 are prepared, the plates are fastened with screws, and a fastening force (screw force) is provided via these plates. The inspection jig 1 may be pressed onto the TFT array substrate 30 (on the liquid crystal display device 100).

このような押圧手段によって、検査用治具1が液晶表示装置100上に相対的に押し付けられることにより、検査用治具1の接触子3が液晶表示装置100の端子、すなわちTFTアレイ基板30の外部回路実装端子202に対して押し付けられる。
すると、接触子3はその内部樹脂8が容易に弾性変形するので、その表面上の導電膜9が端子202に対して広い面積で接触するようになる。また、内部樹脂8の弾性復元力(反発力)により、その表面上の導電膜9が端子202に対して高い強度で接合するようになる。したがって、接触子3と端子202との間において広い接触面積が確保され、かつ、十分に高い接合強度が確保されることにより、接触子3と端子202との間の電気的接続の信頼性が向上し、これによって電気的特性検査そのものの信頼性が向上する。
By such pressing means, the inspection jig 1 is relatively pressed onto the liquid crystal display device 100, whereby the contact 3 of the inspection jig 1 is connected to the terminals of the liquid crystal display device 100, that is, the TFT array substrate 30. It is pressed against the external circuit mounting terminal 202.
Then, since the internal resin 8 of the contact 3 is easily elastically deformed, the conductive film 9 on the surface comes into contact with the terminal 202 over a wide area. Further, the conductive film 9 on the surface thereof is bonded to the terminal 202 with high strength by the elastic restoring force (repulsive force) of the internal resin 8. Therefore, a wide contact area is ensured between the contact 3 and the terminal 202, and a sufficiently high bonding strength is ensured, whereby the reliability of electrical connection between the contact 3 and the terminal 202 is improved. This improves the reliability of the electrical property inspection itself.

また、導電膜9上の突起14は、接触子3を端子202に接合させた際にその表面に形成された酸化膜(図示せず)を突き破り、下の金属面に直接接触するようになる。したがって、接触子3の導電膜9と端子202との間に酸化膜が介在し、これによって良好な電気的接続が得られにくい場合でも、突起14が直接端子202の金属面に接することにより、接触子3と端子202との間で良好な電気的接続が得られるようになる。   Further, the protrusion 14 on the conductive film 9 breaks through an oxide film (not shown) formed on the surface when the contact 3 is bonded to the terminal 202, and comes into direct contact with the lower metal surface. . Therefore, even when an oxide film is interposed between the conductive film 9 of the contactor 3 and the terminal 202, and thus it is difficult to obtain a good electrical connection, the protrusion 14 directly contacts the metal surface of the terminal 202, A good electrical connection can be obtained between the contact 3 and the terminal 202.

さらに、本実施形態では突起14を、図3(a)に示したように前記部位Pの上に設けているので、図3(b)に示したように内部樹脂8の圧縮変形量が最大になることから、その弾性復元力(反発力)も大きくなってより高い圧で端子202に接合するようになる。よって、端子202の表面に酸化膜が形成されていても、この酸化膜を突起14がより良好に突き破り、下の金属面に直接接触するようになることから、接触子3と端子202との間の電気的接続がより良好になる。
また、図4(a)に示した部位Pの近傍にも設けているので、前述したように図4(a)に示した状態から、図4(b)に示した状態に至る過程で、突起14a、14bがその先端を横方向に変位させ、端子202の表面を引っ掻くように作用する。したがって、突起14(14a、14b)は端子202の表面の酸化膜を単に突き破るだけでなく、引っ掻くことによって酸化膜を引き剥がすことにより、接触子3と端子202との間で良好な電気的接続が得られるようになる。
Furthermore, in this embodiment, since the protrusion 14 is provided on the part P as shown in FIG. 3A, the amount of compressive deformation of the internal resin 8 is maximum as shown in FIG. 3B. Therefore, the elastic restoring force (repulsive force) is also increased and the terminal 202 is joined with a higher pressure. Therefore, even if an oxide film is formed on the surface of the terminal 202, the protrusion 14 breaks through the oxide film better and comes into direct contact with the lower metal surface. The electrical connection between them becomes better.
Further, since it is also provided in the vicinity of the part P shown in FIG. 4A, in the process from the state shown in FIG. 4A to the state shown in FIG. The protrusions 14 a and 14 b act to displace the tips in the lateral direction and scratch the surface of the terminal 202. Therefore, the protrusions 14 (14a, 14b) not only pierce the oxide film on the surface of the terminal 202, but also peel off the oxide film by scratching, whereby a good electrical connection between the contact 3 and the terminal 202 is obtained. Can be obtained.

そして、このようにして接触子3を端子202に接触させ、電気的に接続する前に、あるいは電気的に接続した後に、検査用治具1のコネクタ7にテスターを接続する。その後、この状態で検査用治具1を通じてテスターから液晶表示装置100に検査用信号を入力し、出力を得ることで、点灯検査をはじめとする種々の電気特性検査を行う。   Then, the tester is connected to the connector 7 of the inspection jig 1 before or after the contact 3 is brought into contact with the terminal 202 and electrically connected in this way. Thereafter, in this state, an inspection signal is input from the tester to the liquid crystal display device 100 through the inspection jig 1 and an output is obtained, thereby performing various electrical characteristic inspections including a lighting inspection.

このような検査用治具1にあっては、接触子3として内部樹脂8の表面上を導電膜9で覆ってなるバンプ電極を用いているので、前述したように接触子3と端子202との間において広い接触面積を確保し、かつ、十分に高い接合強度を確保することができ、これによって接触子3と端子202との間の電気的接続の信頼性を向上し、電気的特性検査そのものの信頼性を向上することができる。
また、導電膜9上の突起14によって端子表面の酸化膜を突き破り、下の金属面に直接接触させるようにしたので、接触子3と端子202との間でより良好な電気的接続を得ることができる。
In such an inspection jig 1, since the bump electrode formed by covering the surface of the internal resin 8 with the conductive film 9 is used as the contact 3, as described above, the contact 3, the terminal 202, A wide contact area can be ensured between them, and a sufficiently high bonding strength can be secured, thereby improving the reliability of the electrical connection between the contact 3 and the terminal 202, and an electrical characteristic test. The reliability of itself can be improved.
Moreover, since the oxide film on the surface of the terminal is pierced by the protrusion 14 on the conductive film 9 and is directly brought into contact with the lower metal surface, a better electrical connection can be obtained between the contact 3 and the terminal 202. Can do.

次に、本発明の検査用治具の製造方法の一実施形態を説明する。
まず、接触子(バンプ電極)3の形成工程について説明する。
この接触子3の形成工程では、まず、図8(a)に示すように基板2表面上に、内部樹脂8の形成樹脂、例えばネガ型レジストとなるポリイミド樹脂を、例えば10〜20μm程度の厚さに塗布する。そして、塗布した形成樹脂をプリベークすることにより、樹脂層18を形成する。
Next, an embodiment of a method for manufacturing an inspection jig according to the present invention will be described.
First, the process of forming the contact (bump electrode) 3 will be described.
In this contactor 3 formation step, first, as shown in FIG. 8A, a resin for forming the internal resin 8, for example, a polyimide resin to be a negative resist, is formed on the surface of the substrate 2 with a thickness of, for example, about 10 to 20 μm. Apply it. Then, the resin layer 18 is formed by pre-baking the applied forming resin.

次に、図8(b)に示すように、樹脂層18上にフォトマスク19を所定位置に位置決めし、これをセットする。フォトマスク19としては、例えばCr等の遮光膜を形成したガラス板からなるもので、形成する略蒲鉾状の内部樹脂8の平面形状に対応した矩形の開口19aを有したものが用いられる。なお、フォトマスク19の位置決めについては、その開口部19aが内部樹脂8の形成箇所に位置するようにして行う。また、フォトマスク19については、ガラス板についての記載を省略し、遮光膜のみを記載してこれを符号19としている。   Next, as shown in FIG. 8B, a photomask 19 is positioned at a predetermined position on the resin layer 18 and set. The photomask 19 is made of a glass plate on which a light shielding film such as Cr is formed, for example, and has a rectangular opening 19a corresponding to the planar shape of the substantially bowl-shaped inner resin 8 to be formed. The positioning of the photomask 19 is performed so that the opening 19a is located at the location where the internal resin 8 is formed. For the photomask 19, description of the glass plate is omitted, and only the light-shielding film is described, and this is denoted by 19.

次いで、このフォトマスク19上に露光光を照射し、開口部19a内に露出する前記樹脂層18を露光する。ただし、この露光に際しては、その露光条件を調整することにより、現像後に得られる樹脂層18からなるパターンを、その横断面(主断面)が略半円形状(または略半楕円形状)の略蒲鉾状となるパターンにする。
具体的には、図8(b)中矢印で示すように露光光を斜めに照射し、樹脂層18における被露光部分を、図8(b)中破線で示すように横断面略半円形状(略台形状)とする。また、図8(c)に示すように、フォトマスク19を樹脂層18から離した状態で露光するオフコンタクト露光を行い、樹脂層18における被露光部分を、図8(c)中破線で示すように横断面略半円形状(略台形状)としてもよい。さらに、フォトマスク19として、半透過型のハーフマスクを用い、被露光部分を前記したように横断面を略半円形状(略台形状)にしてもよい。ハーフマスクとしては、前記開口部19aの周辺部分を半透過性にするともに、該開口部19aから遠ざかるに連れて徐々に透光性が低下させる。このように半透過性の領域を形成することで、前記略半円形状(略台形状)における外辺部分、すなわち側面部分の露光を行うことができる。
Next, the photomask 19 is irradiated with exposure light to expose the resin layer 18 exposed in the opening 19a. However, at the time of this exposure, by adjusting the exposure conditions, the pattern made of the resin layer 18 obtained after development has a substantially semicircular shape (or substantially semielliptical shape) in cross section (main cross section). Pattern.
Specifically, the exposure light is obliquely irradiated as shown by an arrow in FIG. 8B, and the exposed portion of the resin layer 18 has a substantially semicircular cross section as shown by a broken line in FIG. 8B. (Substantially trapezoidal). Further, as shown in FIG. 8C, off-contact exposure is performed in which the photomask 19 is exposed in a state where it is separated from the resin layer 18, and a portion to be exposed in the resin layer 18 is indicated by a broken line in FIG. 8C. Thus, it is good also as a cross-sectional substantially semicircle shape (substantially trapezoid shape). Further, as the photomask 19, a transflective half mask may be used, and the cross section of the exposed portion may be substantially semicircular (substantially trapezoidal) as described above. As the half mask, the peripheral portion of the opening 19a is made semi-transparent, and the translucency gradually decreases as the distance from the opening 19a increases. By forming the semi-transmissive region in this way, it is possible to perform exposure of the outer side portion, that is, the side surface portion in the substantially semicircular shape (substantially trapezoidal shape).

このようにして露光を行うと、マスク19の開口部19a内に露出する樹脂層18では、その厚さ方向において全域が露光される。また、開口部19aの周辺部分においては、開口部19aから遠ざかるに連れて漸次露光量が少なくなる。したがって、このようにして露光処理を行った後、現像処理を行うと、樹脂層18はその未露光部分が現像されて除去される。一方、露光部分である開口部19a内に露出した部分は現像されずにそのまま残る。また、その周辺部分においても露光量に応じてその底面側が残る。これにより、図7(d)に示すように、横断面が略台形状で略蒲鉾状の樹脂パターン18aが得られる。   When exposure is performed in this manner, the entire area of the resin layer 18 exposed in the opening 19a of the mask 19 is exposed in the thickness direction. In the peripheral portion of the opening 19a, the exposure amount gradually decreases as the distance from the opening 19a increases. Therefore, after the exposure process is performed in this manner, when the development process is performed, the unexposed portion of the resin layer 18 is developed and removed. On the other hand, the exposed portion in the opening 19a, which is an exposed portion, remains as it is without being developed. In addition, the bottom surface side remains in the peripheral portion according to the exposure amount. As a result, as shown in FIG. 7D, a resin pattern 18a having a substantially trapezoidal cross section and a substantially bowl shape is obtained.

得られる樹脂パターン18aについては、その形状を、露光条件や現像条件によってある程度調整することができる。したがって、ハーフマスクの半透過性の領域の調整などにより、図8(d)に示したように樹脂パターン18aにおける肩部分18bをある程度湾曲させることが可能である。しかし、肩部分18bをよりなだらかに湾曲させ、さらに側辺部分や上辺部分をも湾曲させて露出面全体を曲線(曲面)形状にするためには、リフロー処理を行うのが好ましい。   About the resin pattern 18a obtained, the shape can be adjusted to some extent by exposure conditions and development conditions. Therefore, the shoulder portion 18b of the resin pattern 18a can be curved to some extent as shown in FIG. 8D by adjusting the semi-transmissive region of the half mask. However, it is preferable to perform a reflow process in order to curve the shoulder portion 18b more gently and further curve the side portion and the upper side portion so that the entire exposed surface has a curved (curved) shape.

リフロー処理としては、樹脂パターン18aの材質に応じて、該樹脂が軟化し表面が溶融する温度に加熱することで行う。このようにして加熱し溶融させた後、常温に戻すことにより、図9(a)に示すように主断面が略半円形状の内部樹脂8が得られる。すなわち、樹脂パターン18aは、リフロー処理によってその表面が軟化・溶融し、固化する過程で、表面状態が全体的になだらかに湾曲する連続曲面となる。略半円形状(略台形状)に形成された横断面(主断面)について言えば、外辺8b全体が連続したなだらかな湾曲線となり、より半円に近い形状となる。つまり、樹脂が軟化し表面が溶融すると、図9(a)に示したように外辺8bは自重によってその両側(両肩部分側)が垂れることにより、より半円に近い形状となるのである。   The reflow process is performed by heating to a temperature at which the resin softens and the surface melts according to the material of the resin pattern 18a. After heating and melting in this manner, the internal resin 8 having a substantially semicircular main cross section is obtained as shown in FIG. That is, the resin pattern 18a becomes a continuous curved surface whose surface state is gently curved as a whole in the process of softening / melting and solidifying the surface by the reflow process. Speaking of the cross section (main cross section) formed in a substantially semicircular shape (substantially trapezoidal shape), the entire outer side 8b is a continuous and gently curved line, which is closer to a semicircle. That is, when the resin is softened and the surface is melted, the outer side 8b has a shape closer to a semicircle by dripping both sides (both shoulder portions side) by its own weight as shown in FIG. 9A. .

このようにして本発明における内部樹脂8を形成したら、基板2の表面全面に、スパッタリング(スパッタ法)やメッキ法等によって前記したAu等の金属(合金)を適宜な厚さで成膜し、導電層(図示せず)を形成する。そして、得られた導電層を公知の手法でパターニングし、図9(b)に示すように導電膜9を形成するとともに、この導電膜9上に突起14を形成する。
ここで、突起14の形成については、前述したように、スパッタ法やメッキ法、インクジェット法等の液滴吐出法などが採用される。これらの各手法は、所望する突起14の材質や形状等に応じて、適宜選択され、用いられる。特に、液滴吐出法を用いれば、導電膜9上の所望の位置に、所望の数の突起14を形成することができ、好ましい。
After forming the internal resin 8 in the present invention in this way, the above-described metal (alloy) such as Au is formed on the entire surface of the substrate 2 by sputtering (sputtering method), plating method or the like with an appropriate thickness, A conductive layer (not shown) is formed. Then, the obtained conductive layer is patterned by a known method to form a conductive film 9 as shown in FIG. 9B, and a protrusion 14 is formed on the conductive film 9.
Here, as described above, a droplet discharge method such as a sputtering method, a plating method, an ink jet method or the like is employed for the formation of the protrusions 14. Each of these methods is appropriately selected and used according to the desired material and shape of the protrusion 14. In particular, it is preferable to use a droplet discharge method because a desired number of protrusions 14 can be formed at a desired position on the conductive film 9.

このように導電膜9と突起14とを形成することで、図1、図2に示したような所定パターンの導電膜9とこれに連続する配線パターン4、及び配線パターン5が得られる。これにより、接触子3が得られる。なお、突起14は、その形成方法によっては図9(b)に示したように配線パターン4上及び配線パターン5上にも形成される。また、配線パターン4や配線パターン5については、導電膜9と同じ工程で形成することなく、例えばアルミニウムなどによって別に形成することもできる。   By forming the conductive film 9 and the protrusions 14 in this way, the conductive film 9 having a predetermined pattern as shown in FIGS. 1 and 2, the wiring pattern 4 and the wiring pattern 5 continuous therewith are obtained. Thereby, the contact 3 is obtained. Depending on the formation method, the protrusions 14 are also formed on the wiring pattern 4 and the wiring pattern 5 as shown in FIG. 9B. Further, the wiring pattern 4 and the wiring pattern 5 can be formed separately from, for example, aluminum without being formed in the same process as the conductive film 9.

さらに、特に内部樹脂8の形成に際しては、前述したように樹脂層18に対する露光量を調整するハーフ露光と、現像後の樹脂パターン18aに対するリフロー処理とを組み合わせることで、横断面(主断面)を略半円形状(略半楕円形状)に形成したが、前記したようにハーフ露光のみで所望の形状を形成してもよく、また、リフロー処理のみで所望の形状を形成してもよい。   Further, particularly when forming the internal resin 8, the cross section (main cross section) is obtained by combining half exposure for adjusting the exposure amount for the resin layer 18 and reflow processing for the resin pattern 18a after development as described above. Although formed in a substantially semicircular shape (substantially semi-elliptical shape), as described above, a desired shape may be formed only by half exposure, or a desired shape may be formed only by reflow processing.

また、このようにして接触子3を形成し、さらに配線パターン4、5を形成したら、図2に示したように基板2上に駆動用ICを載せ、配線パターン4及び配線パターン5のそれぞれに電気的に接続させる。そして、その状態を保持したままで、その周囲に封止樹脂を配し、樹脂層10を形成する。
また、配線パターン5の端部側には、異方性導電フィルム13を介してコネクタ7を接続させ、配線パターン5と配線パターン12とを導通させておく。これにより、検査用治具1が得られる。
Further, after the contact 3 is formed in this way, and the wiring patterns 4 and 5 are further formed, a driving IC is mounted on the substrate 2 as shown in FIG. 2, and each of the wiring pattern 4 and the wiring pattern 5 is placed. Connect electrically. Then, with the state maintained, a sealing resin is disposed around the periphery to form the resin layer 10.
Further, the connector 7 is connected to the end side of the wiring pattern 5 via the anisotropic conductive film 13 so that the wiring pattern 5 and the wiring pattern 12 are electrically connected. Thereby, the inspection jig 1 is obtained.

このような検査用治具1の製造方法にあっては、内部樹脂8の表面上を導電膜9で覆い、さらに導電膜9上に導電性の突起14を形成することで接触子3を形成するので、前述したように接触子3と端子202との間において広い接触面積が確保され、かつ、十分に高い接合強度が確保されるようになる。したがって、接触子3と端子202との間の電気的接続の信頼性が向上し、電気的特性検査そのものの信頼性が向上する。
また、導電膜9上の突起14によって端子表面の酸化膜が突き破られ、下の金属面に直接接触するようになるので、接触子3と端子202との間でより良好な電気的接続が得られるようになる。
In such a manufacturing method of the inspection jig 1, the contact 3 is formed by covering the surface of the internal resin 8 with the conductive film 9 and further forming the conductive protrusions 14 on the conductive film 9. Therefore, as described above, a wide contact area is ensured between the contact 3 and the terminal 202, and a sufficiently high bonding strength is ensured. Therefore, the reliability of the electrical connection between the contact 3 and the terminal 202 is improved, and the reliability of the electrical characteristic inspection itself is improved.
Further, since the oxide film on the terminal surface is pierced by the protrusions 14 on the conductive film 9 and comes into direct contact with the lower metal surface, a better electrical connection between the contact 3 and the terminal 202 is achieved. It will be obtained.

なお、本発明は前記実施形態に限定されることなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の変更が可能である。例えば、本発明に係る検査用治具としては、図10に示すように、図2に示した検査用治具1の基板2上において、該基板2と内部樹脂8との間に電気的遮蔽層25を設けてもよい。このようにすれば、不要輻射の低減、耐ノイズ性の向上が図れ、より精密な電気的特性検査が可能となる。   The present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications can be made without departing from the gist of the present invention. For example, as an inspection jig according to the present invention, as shown in FIG. 10, electrical shielding is provided between the substrate 2 and the internal resin 8 on the substrate 2 of the inspection jig 1 shown in FIG. 2. A layer 25 may be provided. In this way, unnecessary radiation can be reduced, noise resistance can be improved, and a more precise electrical characteristic inspection can be performed.

電気的遮蔽層25の材料としては、アルミニウム単体、アルミニウム−シリコン、アルミニウム−銅などのアルミニウム合金、あるいは銅単体、銅合金、あるいは金、チタン、チタン合金、クロムなどを用いることができる。このような電気的遮蔽層25は、電気的にはフローティングの状態でもよいが、定電位、特にグランドに固定されていることが、耐ノイズ性を向上させる観点で好ましい。
また、このように電気的遮蔽層25を形成する形態の変形例としては、ベタ電位層、グランド層を多層化したり、配線パターンに公知のストリップ、マイクロストリップ構造を採用したりすることにより、さらに耐ノイズ性の向上を図ってもよい。
As the material of the electrical shielding layer 25, aluminum alone, aluminum alloy such as aluminum-silicon, aluminum-copper, etc., copper alone, copper alloy, gold, titanium, titanium alloy, chromium, or the like can be used. Such an electrical shielding layer 25 may be in an electrically floating state, but is preferably fixed to a constant potential, particularly ground, from the viewpoint of improving noise resistance.
Further, as a modification of the form for forming the electrical shielding layer 25 in this way, a solid potential layer and a ground layer are multilayered, or a known strip or microstrip structure is adopted for the wiring pattern. Noise resistance may be improved.

また、接触子3を構成するバンプ電極の構造としては、図1に示したように内部樹脂8が略蒲鉾状に形成されたものでなく、加圧され圧縮変形する前の無加圧の状態では、図11に示すように、内部樹脂27が略半球状に形成され、導電膜9が、前記内部樹脂27の上面全体を覆い、かつ基材(図示せず)上の配線パターン4に連続した状態で設けられた構造であってもよい。なお、図11では突起の図示を省略しているが、当然、導電膜9上には一つ以上の突起が形成されているものとする。   Further, the structure of the bump electrode constituting the contact 3 is not that in which the internal resin 8 is formed in a substantially bowl shape as shown in FIG. Then, as shown in FIG. 11, the internal resin 27 is formed in a substantially hemispherical shape, and the conductive film 9 covers the entire upper surface of the internal resin 27 and is continuous with the wiring pattern 4 on the base material (not shown). It may be a structure provided in the state. Although illustration of protrusions is omitted in FIG. 11, it is natural that one or more protrusions are formed on the conductive film 9.

また、前記実施形態では、被検査体を液晶表示装置100のTFTアレイ基板30としたが、本発明に係る被検査体としては、液晶表示装置だけではなく、有機エレクトロルミネッセンス装置(有機EL装置)や、プラズマディスプレイ装置、電気泳動ディスプレイ装置、電子放出素子を用いた装置(Field Emission Display 及び Surface-Conduction Electron-Emitter Display 等)など、各種の電気光学装置や各種の電子モジュールを用いることができる。   In the above embodiment, the object to be inspected is the TFT array substrate 30 of the liquid crystal display device 100. However, the object to be inspected according to the present invention is not only a liquid crystal display device but also an organic electroluminescence device (organic EL device). Various electro-optical devices and various electronic modules such as a plasma display device, an electrophoretic display device, and a device using an electron-emitting device (such as a field emission display and a surface-conduction electron-emitter display) can be used.

さらに、被検査体としては、このような電気光学装置や電子モジュールでなく、LSI等の半導体装置や、電子部品単体とすることもできる。電子部品として具体的には、各種のICチップや、ダイオード、トランジスター、発光ダイオード、レーザーダイオード、発信子、コンデンサなど、各種のものを被検査体として用いることができる。
また、前記実施形態では、基板2上に液晶表示装置の駆動用IC6を搭載した例を示したが、駆動用IC6以外で、検査時に必要な電子部品を適宜搭載してもよい。
Further, the object to be inspected may be a semiconductor device such as an LSI or a single electronic component, instead of such an electro-optical device or an electronic module. Specifically, various types of electronic components such as various IC chips, diodes, transistors, light emitting diodes, laser diodes, oscillators, capacitors, and the like can be used as test objects.
In the embodiment, the example in which the driving IC 6 for the liquid crystal display device is mounted on the substrate 2 has been described. However, electronic components other than the driving IC 6 may be mounted as appropriate at the time of inspection.

本発明の検査用治具の一実施形態の概略構成を示す斜視図である。It is a perspective view showing a schematic structure of one embodiment of an inspection jig of the present invention. 本発明の検査用治具の一実施形態の概略構成を示す側断面図である。It is a sectional side view showing the schematic structure of one embodiment of the inspection jig of the present invention. (a)(b)は突起の位置とその作用を説明するための図である。(A) (b) is a figure for demonstrating the position of a processus | protrusion, and its effect | action. (a)(b)は突起の位置とその作用を説明するための図である。(A) (b) is a figure for demonstrating the position of a processus | protrusion, and its effect | action. 被検査体となる液晶表示装置の概略構成を示す平面図である。It is a top view which shows schematic structure of the liquid crystal display device used as to-be-inspected object. 図5のH−H’線に沿う断面図である。It is sectional drawing which follows the H-H 'line | wire of FIG. 本発明の検査用治具を用いた検査方法を説明するための側断面図である。It is a sectional side view for demonstrating the inspection method using the jig | tool for an inspection of this invention. (a)〜(d)は接触子の形成工程を説明するための側断面図である。(A)-(d) is a sectional side view for demonstrating the formation process of a contactor. (a)(b)は接触子の形成工程を説明するための側断面図である。(A) (b) is a sectional side view for demonstrating the formation process of a contactor. 検査用治具の変形例を示す側断面図である。It is a sectional side view which shows the modification of the jig | tool for an inspection. 接触子の概略構成を示す斜視図である。It is a perspective view which shows schematic structure of a contactor.

符号の説明Explanation of symbols

1…検査用治具、2…基板、3…接触子(バンプ電極)、4…配線パターン、5…配線パターン、6…駆動用IC(検査用電子部品)、7…コネクタ、8、27…内部樹脂、8a…底辺、8b…外辺、9…導電膜、9a…外面、14…突起、15…押圧板、25…電気的遮蔽層、30…TFTアレイ基板(被検査体)、100…液晶表示装置(被検査体)、202…外部回路実装端子(端子)   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Inspection jig | tool, 2 ... Board | substrate, 3 ... Contact (bump electrode), 4 ... Wiring pattern, 5 ... Wiring pattern, 6 ... Driving IC (inspection electronic component), 7 ... Connector, 8, 27 ... Inner resin, 8a ... bottom side, 8b ... outer side, 9 ... conductive film, 9a ... outer surface, 14 ... projection, 15 ... pressing plate, 25 ... electric shielding layer, 30 ... TFT array substrate (inspected object), 100 ... Liquid crystal display device (inspected object), 202... External circuit mounting terminal (terminal)

Claims (14)

基板と、前記基板上に設けられた接触子と、前記接触子に電気的に接続された配線パターンとを有し、前記接触子が被検査体の端子に接合されるように構成されてなる検査用治具であって、
前記接触子は、内部樹脂をコアとしてその表面上に導電膜が覆われたバンプ電極からなり、前記導電膜上には、導電性の突起が設けられていることを特徴とする検査用治具。
It has a substrate, a contact provided on the substrate, and a wiring pattern electrically connected to the contact, and is configured such that the contact is joined to a terminal of a device under test. An inspection jig,
The contact is composed of a bump electrode having an inner resin as a core and a conductive film covered on the surface thereof, and a conductive protrusion is provided on the conductive film. .
前記突起は、基端側より先端側が細った先細り形状であることを特徴とする請求項1記載の検査用治具。   The inspection jig according to claim 1, wherein the protrusion has a tapered shape in which a distal end side is narrower than a proximal end side. 前記突起が複数設けられていることを特徴とする請求項1又は2に記載の検査用治具。   The inspection jig according to claim 1, wherein a plurality of the protrusions are provided. 前記内部樹脂は、前記基板に当接する底面に対して直交する断面のうちの主断面の形状が、略半円形状、略半楕円形状、または略台形状とする略蒲鉾状に形成され、前記導電膜は、前記内部樹脂の前記主断面の面方向に沿って該内部樹脂の表面上に帯状に設けられていることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の検査用治具。   The internal resin is formed in a substantially bowl shape in which the shape of the main cross section of the cross section orthogonal to the bottom surface contacting the substrate is a substantially semicircular shape, a substantially semielliptical shape, or a substantially trapezoidal shape, 4. The test according to claim 1, wherein the conductive film is provided in a strip shape on the surface of the internal resin along a surface direction of the main cross section of the internal resin. jig. 前記内部樹脂は、その外面が外側に凸となる湾曲面となっており、前記導電膜は、前記内部樹脂の湾曲面上において該湾曲面に倣って湾曲した外面を有しており、前記突起は、少なくとも、前記導電膜の湾曲した外面の最も外側に位置する部位に配置されていることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載の検査用治具。   The inner resin has a curved surface whose outer surface is convex outward, and the conductive film has an outer surface curved along the curved surface on the curved surface of the inner resin, and the protrusion The inspection jig according to any one of claims 1 to 4, wherein the inspection jig is disposed at least at a portion located on the outermost side of the curved outer surface of the conductive film. 前記内部樹脂は、その外面が外側に凸となる湾曲面となっており、前記導電膜は、前記内部樹脂の湾曲面上において該湾曲面に倣って湾曲した外面を有しており、前記突起は、少なくとも、前記導電膜の湾曲した外面の最も外側に位置する部位の近傍に配置されていることを特徴とする請求項1〜5のいずれか一項に記載の検査用治具。   The inner resin has a curved surface whose outer surface is convex outward, and the conductive film has an outer surface curved along the curved surface on the curved surface of the inner resin, and the protrusion The inspection jig according to any one of claims 1 to 5, wherein the inspection jig is disposed at least in the vicinity of the outermost portion of the curved outer surface of the conductive film. 前記基板が透明基板となっていることを特徴とする請求項1〜6のいずれか一項に記載の検査用治具。   The inspection jig according to claim 1, wherein the substrate is a transparent substrate. 前記基板と接触子との間に電気的遮蔽層が設けられていることを特徴とする請求項1〜7のいずれか一項に記載の検査用治具。   The inspection jig according to claim 1, wherein an electrical shielding layer is provided between the substrate and the contact. 前記基板には、前記接触子が配置された側と反対側の端部にコネクタが設けられていることを特徴とする請求項1〜8のいずれか一項に記載の検査用治具。   The inspection jig according to claim 1, wherein the board is provided with a connector at an end opposite to the side on which the contact is disposed. 前記基板上に検査用電子部品が実装されるとともに、前記検査用電子部品が前記配線パターンと電気的に接続されていることを特徴とする請求項1〜9のいずれか一項に記載の検査用治具。   The inspection electronic component is mounted on the substrate, and the inspection electronic component is electrically connected to the wiring pattern. The inspection according to claim 1, wherein the inspection electronic component is electrically connected to the wiring pattern. Jig. 前記検査用電子部品が、検査後に前記被検査体に実装される電子部品であることを特徴とする請求項10に記載の検査用治具。   The inspection jig according to claim 10, wherein the inspection electronic component is an electronic component mounted on the object to be inspected after inspection. 前記検査用電子部品が、フェースダウン構造で前記基板に実装されていることを特徴とする請求項10又は11に記載の検査用治具。   12. The inspection jig according to claim 10, wherein the inspection electronic component is mounted on the substrate in a face-down structure. 基板と、前記基板上に設けられた接触子と、前記接触子に電気的に接続された配線パターンとを有する検査用治具の製造方法であって、
前記接触子を形成する工程は、前記基板上にコアとなる内部樹脂を設ける工程と、前記内部樹脂の表面上を導電膜で覆う工程と、前記導電膜上に導電性の突起を形成する工程と、を有することを特徴とする検査用治具の製造方法。
A manufacturing method of an inspection jig having a substrate, a contact provided on the substrate, and a wiring pattern electrically connected to the contact,
The step of forming the contact includes a step of providing an internal resin as a core on the substrate, a step of covering the surface of the internal resin with a conductive film, and a step of forming conductive protrusions on the conductive film And a method for manufacturing an inspection jig.
前記突起を形成する工程では、前記導電膜上に液滴吐出法で導電性材料を選択的に配することで、該導電性材料からなる突起を形成することを特徴とする請求項13記載の検査用治具の製造方法。   14. The step of forming the protrusion includes forming a protrusion made of the conductive material by selectively disposing a conductive material on the conductive film by a droplet discharge method. Manufacturing method of inspection jig.
JP2007247204A 2007-09-25 2007-09-25 Inspection jig and method of manufacturing the same Pending JP2009079911A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007247204A JP2009079911A (en) 2007-09-25 2007-09-25 Inspection jig and method of manufacturing the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007247204A JP2009079911A (en) 2007-09-25 2007-09-25 Inspection jig and method of manufacturing the same

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2009079911A true JP2009079911A (en) 2009-04-16

Family

ID=40654783

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007247204A Pending JP2009079911A (en) 2007-09-25 2007-09-25 Inspection jig and method of manufacturing the same

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2009079911A (en)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010103081A (en) * 2008-03-27 2010-05-06 Sekisui Chem Co Ltd Electroconductive fine particles, anisotropic electroconductive material and connecting structure
JP2011047919A (en) * 2009-08-26 2011-03-10 Kodi-S Co Ltd Contact probe unit for integrated circuit and method for manufacturing the same
JP2011075554A (en) * 2009-10-01 2011-04-14 Kodi-S Co Ltd Film-type probe unit, method for manufacturing the same, and method for inspecting object being tested
JP2012103128A (en) * 2010-11-10 2012-05-31 Fujitsu Ltd Method for manufacturing plunger for contact probe, and plunger for contact probe
JP2012185201A (en) * 2011-03-03 2012-09-27 Denso Corp Connection device for display panel

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010103081A (en) * 2008-03-27 2010-05-06 Sekisui Chem Co Ltd Electroconductive fine particles, anisotropic electroconductive material and connecting structure
JP2011047919A (en) * 2009-08-26 2011-03-10 Kodi-S Co Ltd Contact probe unit for integrated circuit and method for manufacturing the same
JP2011075554A (en) * 2009-10-01 2011-04-14 Kodi-S Co Ltd Film-type probe unit, method for manufacturing the same, and method for inspecting object being tested
JP2012103128A (en) * 2010-11-10 2012-05-31 Fujitsu Ltd Method for manufacturing plunger for contact probe, and plunger for contact probe
JP2012185201A (en) * 2011-03-03 2012-09-27 Denso Corp Connection device for display panel

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100643986B1 (en) Semiconductor device, manufacturing method therefor, circuit substrate, electrooptic apparatus, and eletronic apparatus
TWI272686B (en) Semiconductor device, circuit substrate, electro-optic device and electronic appliance
JP4218622B2 (en) Manufacturing method of semiconductor device
JP2007041389A (en) Display device and its manufacturing method
JP2005340761A (en) Packaging method of semiconductor device, circuit board, electro-optical device, and electronic apparatus
JP2009079911A (en) Inspection jig and method of manufacturing the same
JP2006010898A (en) Liquid crystal display device and method for inspecting liquid crystal display device
JP4651367B2 (en) Semiconductor device and manufacturing method of semiconductor device
US7508073B2 (en) Wiring board, semiconductor device using the same, and method for manufacturing wiring board
JP2006078319A (en) Probe for inspection, inspection device, and method of manufacturing probe for inspection
JP4151634B2 (en) SEMICONDUCTOR DEVICE AND ITS MANUFACTURING METHOD, CIRCUIT BOARD, ELECTRO-OPTICAL DEVICE, AND ELECTRONIC DEVICE
JP2004327480A (en) Semiconductor device and its manufacturing process, electronic apparatus and its manufacturing process, and electronic apparatus
JP4412143B2 (en) Manufacturing method of inspection jig
JP2009192572A (en) Liquid crystal display and inspection method thereof
JP2006163012A (en) Display panel, display apparatus using the same and method for manufacturing display panel
JP2011008051A (en) Liquid crystal display device and inspection method for liquid crystal display device
JP2010251392A (en) Mounting structure, circuit board, method of manufacturing mounting structure, electrooptical device, and electronic equipment
JP2009074907A (en) Connection structure between tool for inspection and inspected body, and its forming method
JP2007042777A (en) Semiconductor device and manufacturing method thereof, circuit board, electrooptical device, and electronic apparatus
KR20100081624A (en) Semiconductor chip having bump of high density and method for fabricating the same
JP2007042735A (en) Method of manufacturing semiconductor device
JP2005038983A (en) Wiring board for probe and manufacturing method of semiconductor element
JP2007281216A (en) Semiconductor device, method of manufacturing same, and electronic apparatus
JP2007042734A (en) Semiconductor device and electronic device
JP4635676B2 (en) Manufacturing method of semiconductor device