JP2009063345A - 電磁界強度分布測定装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】従来に比べて短時間で容易に、かつ、精度良く電磁界強度分布を測定することのできる電磁界強度分布測定装置を提供する。
【解決手段】電磁界強度分布測定装置1は、電磁波放出源10からの電磁波を吸収して発熱する電磁波吸収幕2と、電磁波吸収幕2に電磁波が所定周期で断続的に照射されるようにする開閉機構3と、電磁波吸収幕2の温度分布を2次元の画像データとして検出する赤外線カメラ4と、開閉機構3の所定周期に同期して、電磁波吸収幕2が電磁波によって加熱された際に赤外線カメラ4で検出される2次元の画像データを収集し、これらの2次元の画像データと、電磁波吸収幕2が電磁波で加熱されていない時の2次元の画像データとの差を求め、平均化するデータ処理手段(コンピュータ)5を具備している。
【選択図】図1

Description

本発明は、空間における2次元あるいは3次元の電磁界強度分布を測定するための電磁界強度分布測定装置に関する。
従来、空間における2次元あるいは3次元の電磁界強度分布を測定するためには、アンテナを走査し、検出された電磁波強度を求める必要があった。このため、測定に時間と労力とを必要とし、また、測定用のアンテナ自体が電磁界強度分布を乱すことから、精度良く電磁界強度分布を測定することが困難であった。
また、電磁波を吸収し発熱する幕により、平面の2次元電磁界強度分布を温度分布に変換し、温度計測用の赤外線カメラにより幕の温度分布を測定することで、2次元電磁界強度分布を求める方法が提案されている(例えば、非特許文献1参照。)。
上記の電磁波を吸収し発熱する幕を用いた方法では、例えば、電子レンジ内部のように電磁界強度が高い場合については測定が可能である。しかしながら、電磁波による加熱を目的としない一般の電気機器などを対象とした場合、放射される電磁波の加熱による幕の温度上昇はわずかである。一方、幕の温度分布は、周囲の環境(近傍の熱源からの輻射、雰囲気の対流など)により大きく影響を受ける。また、電磁波の照射時間を長くして幕の温度上昇を高めようとすると、熱が時間経過とともに幕内を伝搬して拡散してしまう。このため、電気機器からの電磁波によるわずかな温度上昇をこのような擾乱から分離して精度良く検出することは困難であるという課題があった。なお、このような課題は、例えば、電磁波放出源である電気機器の近傍(例えば、電磁波の波長より著しく短い距離(例えば1/10波長以下程度)の範囲)におけるエバネッセント波のような電磁波の電磁界強度分布を精度良く求めたい場合などに特に問題となる。
J.Norgard and R.Musselman, CEM code validation using infrared thermograms, International Symposium on Electromagnetic Compatibility, 2004, pp. 637-640.
本発明は、上記課題を解決するためになされたもので、従来に比べて短時間で容易に、かつ、精度良く電磁界強度分布を測定することのできる電磁界強度分布測定装置を提供することを目的とする。
本発明の電磁界強度分布測定装置は、電磁波の電磁界強度分布を検出するための電磁界強度分布測定装置であって、電磁波を吸収して発熱する電磁波吸収幕と、前記電磁波吸収幕に電磁波が所定周期で断続的に照射されるようにする開閉機構と、前記電磁波吸収幕の温度分布を2次元の画像データとして検出する赤外線カメラと、前記開閉機構の前記所定周期に同期して、前記電磁波吸収幕が電磁波によって加熱された際に前記赤外線カメラで検出される2次元の画像データを収集し、これらの2次元の画像データと、前記電磁波吸収幕が電磁波で加熱されていない時の2次元の画像データとの差を求め、平均化するデータ処理手段とを具備したことを特徴とする。
本発明の電磁界強度分布測定装置は、上記の電磁界強度分布測定装置であって、前記所定周期は、前記電磁波吸収幕に電磁波が照射されている照射期間より、前記電磁波吸収幕に電磁波が照射されていない非照射期間の方が長く、前記照射期間における前記電磁波吸収幕の温度上昇分を、前記非照射期間中に温度降下させることを特徴とする。
本発明によれば、従来に比べて短時間で容易に、かつ、精度良く電磁界強度分布を測定することのできる電磁界強度分布測定装置を提供することができる。
以下、本発明の電磁界強度分布測定装置の実施の形態について図面を参照して説明する。図1は、本実施形態における電磁界強度分布測定装置の構成を模式的に示すものである。
図1に示すように、電磁界強度分布測定装置1は、電磁波放出源10からの電磁波を吸収して発熱する電磁波吸収幕2と、電磁波吸収幕2に電磁波が所定周期で断続的に照射されるようにする開閉機構3と、電磁波吸収幕2の温度分布を2次元の画像データとして検出する赤外線カメラ4と、開閉機構3の所定周期に同期して、電磁波吸収幕2が電磁波によって加熱された際に赤外線カメラ4で検出される2次元の画像データを収集し、これらの2次元の画像データと、電磁波吸収幕2が電磁波で加熱されていない時の2次元の画像データとの差を求め、平均化するデータ処理手段(コンピュータ)5を具備している。
上記電磁波吸収幕2としては、電磁波を吸収して発熱する性質を有する薄膜状又は網状のものを使用する。電磁波吸収幕2として、電磁界分布を乱さないためには、反射が少ないものが好ましく、かつ、位置分解能を高めるためには、熱伝導率が低いものが好ましい。一例として、半導体素子の静電気破壊防止のためのパッケージなどに使用されているカーボンを混ぜた高分子のフィルム等を使用することができる。このようなカーボンを混ぜた高分子のフィルムを用いた場合、電磁波から熱への変換は、幕の抵抗によるジュール熱により行われる。したがって、この場合電磁波吸収幕2自体は周波数依存性が低くなり、広帯域な電磁界強度分布測定装置1とすることができる。
また、電磁波吸収幕2として絶縁体の網を用いる場合、網の交点に熱的に絶縁された球状の電磁波吸収体を置くことにより、熱伝導による感度低下を抑制することができる。さらに、電磁波吸収幕2における電磁波吸収体として、フェライトなどの磁性体や誘電体を用いれば、ヒステリシス損、誘電損による電磁波・熱変換を利用することができる。この場合、電磁波吸収幕2の構造、組成により、適当な周波数での吸収を設定することができ、電磁波吸収幕2自体が周波数選択性を持つことになる。さらに、カーボン繊維のような繊維の長手方向に高い導電率を持つ材料を、向きをそろえて配置することにより、赤外線領域におけるグリッド偏光子に相当する電磁波吸収幕2を構成すれば、入射電磁波の偏波面との角度の相違による吸収率の異方性を得ることができ、電磁波の偏波解析が可能となる。
上記開閉機構3は、電磁波放出源10から電磁波吸収幕2に電磁波が所定周期で断続的に照射されるようにするためのもので、リレー等により電磁波放出源10をオン・オフする図1に示されるようなスイッチ機構、又は、電磁波放出源10と電磁波吸収幕2との間に介在し所定周期で開閉するシャッターなどを用いることができる。
開閉機構3における所定周期としては、電磁波吸収幕2に電磁波が照射されることによって電磁波吸収幕2に検出可能な程度の温度上昇が生じる加熱期間(照射期間)と、熱が大気中に放出されて上昇した部分の温度が略上昇前の温度に戻る冷却期間(非照射期間)となることが好ましい。冷却期間(非照射期間)が短いと、電磁波吸収幕2の温度が次第に上昇するとともに、熱が電磁波吸収幕2の面内に熱伝導により拡散し、測定結果にボケが生じるからである。したがって、照射期間よりも非照射期間を長くすることが好ましい。この周期は、具体的には、電磁波の強度、及び電磁波吸収幕2の材質によるが、例えば、1〜十数秒程度の範囲であり、後述する実施例では、例えば、1秒間照射、3秒間非照射で、1周期が4秒である。なお、冷却を促進するため、電磁波吸収幕2を冷却するための手段として、例えば、ファン等で気流を当てるようにしてもよい。
データ処理手段(コンピュータ)5では、上記の電磁波吸収幕2に電磁波が照射され加熱されている照射期間における赤外線カメラ4の画像データを選択的に収集し、この収集した複数の画像データと、参照データとしての電磁波が照射されていない非照射時(非加熱時)の2次元の画像データとの差を求め、これを平均化することによって、同期検波によりノイズ成分を除去した温度検出情報を得る。
実施例1として、電磁波放出源10に、赤色の高輝度LED(中心波長625nm、全出力8mW)を用いて測定を行った。電磁波吸収幕2としては、前述した半導体素子の静電気破壊防止のためのパッケージなどに使用されているカーボンを混ぜた高分子のフィルム(100μm厚)を用い、1秒間点灯、3秒間消灯の1周期4秒で180秒間(ロックインアンプ処理45回)測定を行った。赤外線カメラ4は、TVS−700(日本アビオニクス社製、検出波長8−14μm、分解能0.08℃、画素数320×240)を使用し、撮像範囲6×8cm、電磁波放出源10の先端から電磁波吸収幕2までの距離(図1に示すd)を0−25cmまで、5mm間隔で測定した。
上記実施例1の測定結果を図2(b),(c)に示す。図2(b)は、上記したd=5cm,10cm,15cm,20cm,25cmの位置の2次元の電磁界強度分布を示しており、図2(c)は電磁波放出源10から、放射方向に0−25cm、放射軸と垂直な方向にこれを中心とした3cmの範囲の電磁界強度分布を示している。各々最大強度で規格化して表示をしており、端部に示した温度レンジ(mK)はd=25cmにおける測定結果のものである。また、図2(a)は、白色スクリーンに投影した高輝度LEDからの電磁波(光)の強度(μW/mm2)の分布を可視光のCCDカメラで撮像した結果を示している。なお、図2では、白黒画像となっているが、実際には、カラー画像であり、図2(b),(c)では、温度の低い部分が青色、高い部分が赤色となるように色の変化で温度の相違を示すカラー画像、図2(a)は可視光の色のカラー画像となっている。この図2(a)、(b)の結果を比較すると、CCDカメラで撮像した結果と、電磁界強度分布測定装置1で測定した電磁界強度分布測定結果とが良く一致しており、熱の拡散によるボケもないことが確認できた。なお、上記構成の電磁界強度分布測定装置1では、1/100K以下の温度変化も測定可能である。
次に、図3を参照して実施例2について説明する。この実施例2では、図3に示すように、電磁波放出源としての電子レンジ11(発振周波数2450MHz,出力500W)から電磁波を漏洩させるために正面のシールドスクリーンに直径10mmの穴を開け、ここにアルミ製ダクトホース12(全長約1.2m、口径45mm)を取り付けた。なお、アルミ製ダクトホース12の口径が電磁波の波長(12cm)に比べて小さいため、アルミ製ダクトホース12内を伝搬する電磁波の量は少ない。さらに、漏洩電磁波の放出量を制限するため、アルミ製ダクトホース12の出口部分に、中央部分に穴を設けたアルミ板13を配置して測定を行った。
この実施例2では、開閉可能とされ、機械的に電磁波を遮断するシャッター3aと、このシャッター3aを駆動するためのリレー3bとによって、電磁波をオン・オフする開閉機構が構成されている。そして、電磁波吸収幕2の温度分布を赤外線カメラ4によって検出し、リレー3bの動作周期に同期して、データ処理手段(コンピュータ)5によって、赤外線カメラ4で検出される2次元の画像データを処理するようになっている。
測定条件は、アルミ板13と、電磁波吸収幕2との距離が50mm、電磁波照射1秒間、電磁波遮断3秒間の1周期4秒で、400秒間測定(ロックインアンプ処理100回)を行った。又、測定は、アルミ板13に設けた穴の直径dを、d=3,5,10,15,25,35mmと変更して6通り行った。赤外線カメラ4は、実施例1と同じである。この測定結果を図4(a)〜(f)に示す。各画像の測定範囲は、電磁波吸収幕2上において120×170mmであり、1/100K以下の温度変化も測定可能である。なお、図4(a)〜(f)では、白黒画像となっているが、実際には、温度の低い部分が青色、高い部分が赤色となるように色の変化で温度の相違を示すカラー画像となっている。
図4(a)〜(f)に示されるように、それぞれの測定結果において、中心付近の温度変化が大きく、アルミ板13の穴の径が大きくなるにつれて電磁波の漏洩量は増加し、温度分布の拡がりも大きくなっている。また、図4(c)の右下部分には、アルミ製ダクトホース12内の緩衝による微細パターンが見られた。
以上説明したとおり、上記の各実施例では、アンテナを用いる場合などに比べて短時間で容易に、かつ、電磁波吸収幕における熱伝導によるボケを生じることなく低エネルギーの電磁波についても精度良く電磁界強度分布を測定することができた。
本発明の一実施形態に係る電磁界強度分布測定装置の構成を模式的に示す図。 図1の装置による電磁界強度分布測定結果の画像を示す写真。 実施例2に使用した電磁界強度分布測定装置の構成を模式的に示す図。 図3の装置による電磁界強度分布測定結果の画像を示す写真。
符号の説明
1……電磁界強度分布測定装置、2……電磁波吸収幕、3……開閉機構、3a……シャッター、3b……リレー、4……赤外線カメラ、5……データ処理手段(コンピュータ)、10……電磁波放出源、11……電子レンジ、12……アルミ製ダクトホース、13……アルミ板。

Claims (2)

  1. 電磁波の電磁界強度分布を検出するための電磁界強度分布測定装置であって、
    電磁波を吸収して発熱する電磁波吸収幕と、
    前記電磁波吸収幕に電磁波が所定周期で断続的に照射されるようにする開閉機構と、
    前記電磁波吸収幕の温度分布を2次元の画像データとして検出する赤外線カメラと、
    前記開閉機構の前記所定周期に同期して、前記電磁波吸収幕が電磁波によって加熱された際に前記赤外線カメラで検出される2次元の画像データを収集し、これらの2次元の画像データと、前記電磁波吸収幕が電磁波で加熱されていない時の2次元の画像データとの差を求め、平均化するデータ処理手段と
    を具備したことを特徴とする電磁界強度分布測定装置。
  2. 請求項1記載の電磁界強度分布測定装置であって、
    前記所定周期は、前記電磁波吸収幕に電磁波が照射されている照射期間より、前記電磁波吸収幕に電磁波が照射されていない非照射期間の方が長く、前記照射期間における前記電磁波吸収幕の温度上昇分を、前記非照射期間中に温度降下させることを特徴とする電磁界強度分布測定装置。
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