JP2009055025A - 転動形ダイアフラムを有する搬送チャンバ - Google Patents
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Abstract
【課題】搬送チャンバに配置されたロボットと、搬送チャンバの間に用いる真空シールを、高価なベローズやリップシールに替るシール構造を提供する。
【解決手段】大面積基板を真空下で搬送するためのチャンバ本体200は、真空搬送チャンバ106とリフト機構252と、前記リフト機構に結合された真空ロボットとで構成され、前記ロボットと前記真空搬送チャンバの底部204の間のシールを、転動形ダイヤフラム180によって行い、クリーンな真空環境に寄与する。
【選択図】図2
【解決手段】大面積基板を真空下で搬送するためのチャンバ本体200は、真空搬送チャンバ106とリフト機構252と、前記リフト機構に結合された真空ロボットとで構成され、前記ロボットと前記真空搬送チャンバの底部204の間のシールを、転動形ダイヤフラム180によって行い、クリーンな真空環境に寄与する。
【選択図】図2
Description
(発明の分野)
本発明の実施形態は、概して、転動形ダイアフラムを有する真空搬送チャンバに関する。
本発明の実施形態は、概して、転動形ダイアフラムを有する真空搬送チャンバに関する。
(関連技術の説明)
2つの急速に発展している技術分野は、薄膜トランジスタと光起電力装置である。フラットパネル技術により形成される薄膜トランジスタ(TFT)は、アクティブマトリクスディスプレイ、例えば、コンピューターやテレビのモニタ、携帯電話のディスプレイ、携帯情報端末(PDA)、及び増えつつあるその他装置に、一般的に用いられている。通常、フラットパネルは、それらの間に挟まれた液晶材料の層を有する2枚のガラス板を含んでいる。ガラス板の少なくとも1つは、電源に結合した、その上に配置された1枚の導電性フィルムを含んでいる。電源から導電性フィルムに供給される電力は、結晶材料の配向を変化させ、パターンディスプレイを作る。
2つの急速に発展している技術分野は、薄膜トランジスタと光起電力装置である。フラットパネル技術により形成される薄膜トランジスタ(TFT)は、アクティブマトリクスディスプレイ、例えば、コンピューターやテレビのモニタ、携帯電話のディスプレイ、携帯情報端末(PDA)、及び増えつつあるその他装置に、一般的に用いられている。通常、フラットパネルは、それらの間に挟まれた液晶材料の層を有する2枚のガラス板を含んでいる。ガラス板の少なくとも1つは、電源に結合した、その上に配置された1枚の導電性フィルムを含んでいる。電源から導電性フィルムに供給される電力は、結晶材料の配向を変化させ、パターンディスプレイを作る。
光起電力装置(PV)又は太陽電池は、日光を直流(DC)電力に変換する装置である。PV又は太陽電池は、典型的に、パネルに形成された1つ以上のp−n接合を有している。各接合は、半導体材料内に2つの異なる領域を含み、一方の側はp−型領域、もう一方の側はn−型領域と呼ばれる。PV電池のp−n接合を、日光(光子からのエネルギーからなる)に晒すと、日光は、PV効果により直接電気に変換される。通常、高品質シリコン系材料は、高効率の接合装置(即ち、単位面積当たり高電力出力)を生成することが望まれている。アモルファスシリコン(a−Si)フィルムは、PV太陽電池においてシリコン系材料として広く用いられている。従来の低温プラズマエンハンスド化学蒸着(PECVD)プロセスで製造するのに低コストであるためである。
フラットパネル技術が市場に受け入れられ、エネルギーコストの悪循環を相殺するために、より効率的なPV装置が望まれるにつれて、より大きなパネル、製造速度の増大、製造コストの抑制によって、装置製造業者が、フラットパネル及びPV装置製作者に、大面積基板を供給する新たなシステムを開発する機動力となっている。現在の基板処理装置は、典型的に、ロードロックチャンバと複数の真空処理チャンバに囲まれた真空搬送チャンバを含んでおり、約2平方メートルより僅かに大きい基板を収容するように、概して構成されている。より大きな基板サイズを収容するように構成された処理装置が、近い将来、想定されている。
このような大きな基板を製造するための装置は、製作者にとって、多大な投資である。従来のシステムだと、大きく高価なハードウェアが必要である。この投資の見返りを促すには、基板処理量を上げることが非常に望ましい。基板処理量を上げる1つの処理戦略は、スタックされた基板搬送スロットを有するロードロックチャンバを用いたことである。基板搬送スタックをスタックするには、ロードロックチャンバの垂直サイズを大きくする必要がある。これに対応して、かかる大きなロードロックチャンバを用いると、間隔の広い上下搬送スロットに届くよう、z軸(即ち、垂直)動作する搬送チャンバロボットが必要である。
搬送チャンバに配置された従来のロボットは、典型的に、ロボットのz軸動作を促進しながら、リップシール及び/又はベローズを用いることにより、ロボットと搬送チャンバ間の真空シールを維持している。これらの各シールには、大きな処理システムでより顕著となる設計上の制限がある。
例えば、リップシールは、正確なシャフト及び溝寸法が必要とされるが、直径が大きくなると維持するのが難しい。更に、位置合わせ及びシール完全性が、ロボット動作の全範囲において維持されるよう、正確な動作機構が必要である。かかる精密なコンポーネントの製造は、非常にコストが高い。そして、ストロークの長い用途において、リップシールは、シールの摩耗の増大により、パーティクルを生成しがちであり、これも、シールの耐用年数を短くする。
ベローズの製造も非常にコストが高く、大面積基板の処理装置に用いるのに必要な大きな直径ではとりわけである。加えて、圧力バリアとして用いるのに好適なベローズは、典型的に、広範囲の運きに対応するように設計されてはおらず、このためベローズが故障すると推測される。
このように、大面積基板のロバストな処理に寄与するロボットと真空搬送チャンバの間に用いる真空シールの改善が望まれている。
本発明の実施形態は、ロボットと搬送チャンバの間にシールを提供する、少なくとも1つの転動形ダイアフラムを有する真空搬送チャンバ、及びそれを用いる方法を含む。一実施形態において、真空チャンバ本体と、リフト機構と、ロボットと、1つ以上の転動形ダイアフラムとを含む、大面積基板を真空下で搬送する装置が提供される。ロボットは、チャンバ本体の内部容積に実質的に配置され、リフト機構に結合されている。リフト機構は、内部容積内でのロボットの上昇を選択的に制御する。1つ以上の転動形ダイアフラムは、ロボットと、チャンバ本体の底部の間にシールを提供する。
他の実施形態において、チャンバ本体と、チャンバ本体の内部容積に実質的に配置され、リスト機構に結合されたロボットを含む、大面積基板を真空下で搬送する装置が提供される。リフト機構は、内部容積内でのロボットの上昇を選択的に制御する。第1の転動形ダイアフラムと第2の転動形ダイアフラムが並んでおり、一端に、スペーサによりシールされている。スペーサは、ダイアフラム間に画定される間隙容積と連通する、その中を通して形成された通路を有する。スペーサを通る通路は、真空源に結合させるための取付具に対応するように構成されたポートで終わっている。
大面積基板を搬送する方法も提供される。一実施形態において、本方法は、中にロボットが配置された搬送チャンバを提供する工程であって、搬送チャンバが、ロードロックチャンバ及び少なくとも1つの処理チャンバに結合されており、ロボットが、リフト機構により選択可能に上昇し、ロボットが、1つ以上の転動形ダイアフラムにより搬送チャンバにシールされている、工程と、処理チャンバ又はロードロックチャンバのうち少なくとも1つから、搬送チャンバまで、基板をロボット的に搬送する工程と、搬送チャンバ内の基板の上昇を調整して、転動形ダイアフラムの第1の端部が、第2の端部に対して動くようにする工程と、搬送チャンバから、処理チャンバ又はロードロックチャンバのうち少なくとも1つまで、基板をロボット的に搬送する工程とを含む。
チャンバ本体とロボットの間に配置された少なくとも1つの転動形ダイアフラムを有する搬送チャンバが提供される。搬送チャンバの具体的な実施形態は、カリフォルニア州サンタクララのアプライドマテリアルズ社(Applied Materials,Inc.,Santa Clara,California)傘下のAKT社(AKT,Inc.,)より入手可能な構成の大面積基板搬送チャンバを参照して以下に示してあるが、本発明の特徴及び方法は、他の製造業者によるものをはじめとした他の搬送チャンバに用いるのにも適合できるものと考えられる。また、本発明の特徴及び方法は、小面積基板の処理に好適な装置に用いるのにも適合できるものと考えられる。
図1は、例示の処理システム100の平面図で、例えば、ライナ又はクラスタツールであり、真空搬送チャンバ106の一実施形態、1つ以上のロードロックチャンバ104及び複数の処理チャンバ108を有している。ファクトリインタフェース102は、ロードロックチャンバ104により、搬送チャンバ106に結合しており、複数の基板貯蔵カセット114と大気ロボット112を含む。大気ロボット112は、カセット114とロードロックチャンバ104の間での基板116の搬送を促す。
基板処理チャンバ108は、搬送チャンバ106に結合されている。基板処理チャンバ108は、化学蒸着プロセス、物理蒸着プロセス、エッチングプロセス又はフラットパネルディスプレイ、太陽電池又はその他装置を製造するのに好適なその他大面積基板製造プロセスのうち少なくとも1つで実施されるように構成されている。通常、大面積基板は、少なくとも1平方メートルの平面領域を有しており、ガラス又はポリマーシートで構成されている。
ロードロックチャンバ104は、通常、中に画定された1つ以上の基板貯蔵スロットを有する少なくとも1つの環境から分離されたキャビティを含む。ある実施形態において、中に画定された1つ以上の基板貯蔵スロットを夫々有する複数の環境から分離されたキャビティを与えても構わない。ロードロックチャンバ104を作動して、周囲又は大気環境のファクトリインタフェース102と、搬送チャンバ106で維持される真空環境間で基板116を搬送する。例示のロードロックチャンバは、その全内容が参考文献として組み込まれる2006年1月13日出願の米国特許出願第11/332,781号、2004年4月26日出願の米国特許出願第10/832,795号、2000年9月15日出願の米国特許出願第09/663,862号、2004年5月10日出願の米国特許出願第10/842,079号、2006年6月2日出願の米国特許出願第11/421,793号及び2007年7月24日出願の米国特許出願第11/782,290号に記載されている。その他の好適なロードロックチャンバは、カリフォルニア州サンタクララのアプライドマテリアルズ社(Applied Materials,Inc.,Santa Clara,California)傘下のAKT社(AKT,Inc.,)より入手可能である。
真空ロボット110は、搬送チャンバ106に配置されており、ロードロックチャンバ104と処理チャンバ108間での基板116の搬送を促す。真空ロボット110は、真空条件下で基板を搬送するのに好適なロボットであればよい。図1に示す実施形態において、真空ロボット110は、ポーラー又はフロッグレッグロボットで、通常、ロボットベース160を有していて、エンドエフェクタ162の位置を制御するのに用いる1つ以上のモータ(図示せず)が収容されている。エンドエフェクタ162は、連結器164により、ベース160に結合されている。真空ロボット110は、図2〜3及び6においては転動形ダイアフラム180として、図4においては転動形ダイアフラム402、404として示されている1つ以上の転動形ダイアフラムにより、搬送チャンバ104にシールされている。1つ以上の転動形ダイアフラムは、エンドエフェクタ162と上に配置された基板116の上昇制御を促し、一方で、ロボット110が垂直に動く際に、チャンバ106から真空が漏れるのを防ぐ。一実施形態において、真空ロボット110のエンドエフェクタ162には、少なくとも500mmの垂直動作範囲がある。
図2に、図1の切断線2−2に沿った搬送チャンバ106の部分断面図を示す。搬送チャンバ106は、アルミニウム等の剛性材料から製造されたチャンバ本体200を有する。チャンバ本体200は、通常、複数の側壁202、チャンバ底部204及び蓋206を含む。蓋206を取り外すと、チャンバ本体200の内部容積210にアクセスできる。
搬送チャンバ106の2つ以上の側壁202は、基板アクセスポート212を有する。ポート212は、ドア240により選択的にシールされている。図2に示す実施形態においては、2つの基板アクセスポート212が断面で示されている。第1の基板アクセスポート212は、大きな基板を搬送するロードロックチャンバ104への出し入れを促し、第2の基板アクセスポート212は、大きな基板を搬送するロードロックチャンバ108への出し入れを促す。
チャンバ本体200の底部204は、アパーチャ214を有しており、その中を通して真空ロボット110がサポートされる。図2に示す実施形態において、伸長部216が、搬送チャンバ106の底部204に結合されている。伸長部216は、チャンバ本体200の一体部分であっても、例えば、連続溶接部によりシーリング結合された別個のコンポーネントであってもよい。或いは、伸長部216を、チャンバ本体200に留めたり固定して、oリング又はその他シール(図示せず)を圧縮するようにして、搬送チャンバ106と伸長部216の間の漏れを防いでもよい。ここで用いられる伸長部215は、チャンバ本体200の一部と考えられる。
真空ロボット110のブレード又はその他エンドエフェクタ162の上昇は、リフト機構252を用いてロボットを移動することによって制御してもよい。図2に示す実施形態において、リフト機構252は、ブラケット(図示せず)により、チャンバ本体200の底部又はシステム100の底部に結合されている。リフト機構252の第2の端部、真空ロボット110のベース160、又は図2の実施形態に示す通り、シリンダ208が、ロボットベース160とリフト機構252の間に配置されている。ここで用いられるシリンダ208は、ロボットベース160の一部と考えられる。リフト機構252が、チャンバ本体200の内部容積210内にロボットベース160を制御可能に配置(即ち、動かす)に従い、真空ロボット110のエンドエフェクタ162は、垂直に移動する。リフト機構252は、水圧又は空気圧シリンダ、リード又はパワースクリュー、ステッパ又はサーボモータ、或いはロボット210の垂直位置を制御するのに好適なその他装置であってよい。
転動形ダイアフラム180は、チャンバ本体200と真空ロボット110の間の、アパーチャ214を通した漏れを防ぐ。転動形ダイアフラム180は、ダイアフラム180の外側ループ270が、真空ロボット110が、伸長する伸長部216の内径218により制限され、放射状にサポートされるようなサイズである。このように、外側ループ270に対する圧力は、ダイアフラムの材料でなく、伸長部216により生じる。円柱形内径218は、ダイアフラム180の動きの全範囲にわたって、転動形ダイアフラム180の外側ループ270をサポートするのに十分に長い。転動形ダイアフラム180の内側ループ272は、真空ロボット110のシリンダ208又はベース160によりサポートされる。図2に示す実施形態において、内側ループ272に対する圧力は、ダイアフラムの材料でなく、シリンダ208の外側表面により生じる。
図2に示す実施形態において、転動形ダイアフラム180は、第1の端部222と第2の端部224を有する可撓性管本体230を含む。本体230の内側壁232は、真空条件下で用いる間、微粒子及び/又は化学汚染物質を内部容積110に入れない可撓性材料でコート且つ/又は製造される。一実施形態において、転動形ダイアフラム180は、好適なエラストマー、例えば、布帛、バッキング又はその他補強要素で製造される。
図2に示す実施形態において、転動形ダイアフラム180の第2の端部222は、伸長部216に結合され、転動形ダイアフラム180の第2の端部224は、真空ロボット110に結合されている。転動形ダイアフラム180の第1の端部222は、通常、第2の端部224より大きな直径を有していて、第1の端部222は、第2の端部224に対して容易に動き、内側及び外側ループ272、270において画定されている。
転動形ダイアフラム180の第1及び第2の端部222、224は、夫々、フランジ274で終わっている。フランジ274は、リング形で、ボルトサークルに配列された複数の装着穴276を有している。環形クランプブロック280を用いて、伸長部216とシリンダ208に対して夫々、フランジ274をシールするように圧縮する。クランプブロック280は、穴284を有していて、その中を締結具282が通過する。ブロック280に形成された穴284は、締結具282のヘッドを収容するカウンターボアを有していてもよい。締結具282は、ダイアフラムの穴276を通過して、伸長部216とシリンダ208に夫々形成されたねじ穴286と係合する。このように、締結具282を締めると、フランジ274がシールするように圧縮されて、真空シールとなる。任意で、図3に示す通り、フランジ274は、そこから延在させた1つ以上のリブ300を含んでいてもよく、これによって、ダイアフラムと近接するコンポーネント間のシーリングが向上する。
転動形ダイアフラム180を用いると、高価なベローズやリップシールの必要性が排除され、よりクリーンな真空環境に寄与し有益である。更に、転動形ダイアフラム180を用いると、厳しい寸法許容差の必要性が排除され、処理システムのコストが減じる。
図4に、チャンバ本体200を真空ロボット110にシーリングする少なくとも2つの転動形ダイアフラム(ここでは、転動形ダイアフラムアセンブリ400とも呼ぶ)を有する搬送チャンバ106の他の実施形態を示す。図4に示す実施形態において、転動形ダイアフラムアセンブリ400は、内側転動形ダイアフラム402と外側転動形ダイアフラム404を含む。内側転動形ダイアフラム402は、チャンバ本体200と真空ロボット110の間にシールを提供するように構成されている。内側転動形ダイアフラム402の内壁406は、チャンバ本体200の内部容積210に露出している。内壁406は、上述した材料で製造且つ/又はコートされている。
外側転動形ダイアフラム404は、内側転動形ダイアフラム402の上に配置されて、冗長チャンバシールとなる。外側転動形ダイアフラム404に用いる材料は、内側転動形ダイアフラム402により基板から分離されているため、様々な材料から選択して構わない。
内側転動形ダイアフラム402と外側転動形ダイアフラム404の間で画定された間隙408は、内部容積210の圧力より大きいが、搬送チャンバ106外の周囲環境の圧力よりは小さい圧力に維持される。ダイアフラムアセンブリ400のこの段階的な圧力降下によって、各転動形ダイアフラム402、404の圧力差が小さくなって、圧力要件が減じることにより、ダイアフラム402、404の壁をより薄く、且つより可撓性の材料で設計でき、転動形ダイアフラムのサイズとコストを更に減じることができる。追加の転動形ダイアフラムを用いる場合は、各対のダイアフラム間の間隙は、ダイアフラム対の内側の圧力より小さいが、ダイアフラム対の外側の圧力より大きい圧力に維持されて、各ダイアフラムの圧力差を小さくする。
更に、図5を参照すると、環形スペーサブロック444が、第1及び第2の転動形ダイアフラム402、404の第1の端部422間に配置されている。スペーサブロック444は、中に形成された真空ポート446を有する。真空ポート446は、通路450により真空源448に結合している。真空源448を用いて、第1の転動形ダイアフラム402と第2の転動形ダイアフラム404の間で画定された間隙408を真空として、ダイアフラムアセンブリ400での圧力を段階的なものとする。例えば、搬送チャンバ106内の圧力は、凡そ7〜10トルとし、間隙408の圧力は、処理チャンバ106内の圧力より大きいが、第2の転動形ダイアフラム404外の圧力より小さく、例えば、約300〜450トルとする。
クランプブロック280を用いて、転動形ダイアフラム402、404の第1の端部222及びスペーサブロック444を、伸長部216に固定する。クランプブロック280及びスペーサブロック444は、ボルトサークル周囲に等間隔の複数のスルーホール284、484を有する。スルーホール284は、カウンターボアを有していて、締結具486のヘッドを受け入れ、伸長部216の低表面に形成されたねじ穴286と係合する。転動形ダイアフラム402、404は、夫々、穴284、484、286と並んだ穴276を有している。締結具282を締めると、近接するコンポーネント間で、転動形ダイアフラム402、404をシールするようにクランプする。
他のクランプブロック280を用いて、転動形ダイアフラム402、404の第2の端部224及び第2の環形スペーサブロック440を、シリンダ208に固定する。スペーサブロック440は、ボルトサークル周囲に等間隔の複数のスルーホール484を有する。スペーサブロック440は、ダイアフラム402、404間の間隙408内の圧力の制御を促す通路を必要としない。締結具486は、穴284、484及び276を通過し、シリンダ208の底部に形成されたねじ穴286と係合する。締結具282を締めると、近接するコンポーネント間で、転動形ダイアフラム402、404の第2の端部242をシールするようにクランプする。
搬送チャンバ106の動作の例示の1つのモードについて説明する。図6に示す通り、エンドエフェクタ162を上昇して、ロードロックチャンバ104の上部スロット602と並べ、基板116を、ロードロックチャンバ104から取り出す。エンドエフェクタ162及び基板116が、搬送チャンバ106に移動した後、真空ロボット110は結合部を回転させて、基板を、選択した処理チャンバ108と並べ、エンドエフェクタ162を伸長して、基板116を、選択した処理チャンバ108へ分配する。上述したシーケンスでは、リフト機構252を用いた上昇を変更するには、エンドエフェクタ162の上昇が必要である。典型的に、少なくとも1つの他の処理チャンバにおいて実施される追加の処理により、基板を処理した後、真空ロボット110は、基板116を処理チャンバから取り出し、基板を、ロードロックチャンバの底部スロット604まで移し、エンドエフェクタ162の上昇を変更する(必要であれば)。このシーケンスの任意の点で、基板116を、加熱したり、並べたり、その他理由のために、ロードロックチャンバ104の中間スロット606に配置してよい。
エンドエフェクタ162の上昇における変更には、夫々、転動形ダイアフラム180を、上記のシーケンスに記載し、図2〜6を参照して例示した通り、伸長部216とベース260の表面で転動する必要がある。伸長部216とシリンダ208の表面は、通常、転動形ダイアフラム180にバッキングを提供する。これは、内部容積210と搬送チャンバ106外の環境の間の圧力差に耐えるのを補助する。図4に示すような2つ以上の転動形ダイアフラムを用いる実施形態において、少なくとも2つのダイアフラム間で画定された間隙を、搬送チャンバの圧力よりは大きいが、チャンバ外の圧力よりは小さい圧力に維持することにより、圧力勾配は、転動形ダイアフラムで維持される。
このように、1つ以上の転動形ダイアフラムを有する搬送チャンバが、搬送チャンバと、搬送チャンバに配置された真空ロボットの間に配置されている。1つ以上の転動形ダイアフラムを用いると、よりクリーンな真空環境が与えられ、高価なベローズや精密に機械加工されたコンポーネントの必要性が排除され有益である。更に、リップシールを用いるのが必要とされる、正確な位置合わせの必要性も排除される。そして、多数の転動形ダイアフラムを用いる実施形態において、圧力要件が減じることにより、より薄いダイアフラムの壁と、より可撓性の材料のために、段階的な圧力降下が、ダイアフラムで維持される。これらの利点によって、望ましいコスト削減、組み立て易さ及び修理し易さが得られる。加えて、転動形ダイアフラムを用いることにより可能となる広範囲の垂直ロボットの動きによって、ロードロックチャンバ等の他のシステムコンポーネントによる設計制限が取り除かれ、よりロバストなシステム効率、処理量及び所有経営のコストが促進される。
上記は本発明の実施形態を対象とするが、本発明の他の多くの実施形態はその基本的な範囲から逸脱することなく創作されてもよい。本発明の範囲は特許請求の範囲に基づいて定められる。
上に挙げた本発明の態様が達成され、詳細に理解できるように、上に簡単にまとめた本発明を、添付図面に図解された実施形態を参照してより具体的に説明する。しかしながら、添付図面は本発明の代表的な実施形態を例示するだけであり、その範囲を制限するとは解釈されず、本発明は他の同様に有効な実施形態も含み得ることに留意すべきである。
理解を促すために、図面で共通の同一の構成要素を示すのに、可能な場合は、同一の参照番号を用いている。一実施形態の構成要素は、特に挙げていないが、他の実施形態にも有利に組み込まれるものと考えられる。
Claims (14)
- 大面積基板を真空下で搬送するための装置であって、
側壁と底部とを有する真空チャンバ本体と、
リフト機構と、
前記チャンバ本体の内部容積に実質的に配置され、前記リフト機構に結合されたロボットであって、前記リフト機構が、前記内部容積内での前記ロボットの上昇を選択的に制御する、ロボットと、
前記ロボットと前記チャンバ本体の前記底部の間にシールを提供する1つ以上の転動形ダイアフラムとを含む装置。 - 前記1つ以上の転動形ダイアフラムが、
第1の転動形ダイアフラムと、
前記第1の転動形ダイアフラム上に配置され、冗長シールを形成する第2の転動形ダイアフラムとを含む請求項1記載の装置。 - 前記第1と第2の転動形ダイアフラム間に配置されたスペーサと、
前記スペーサを通して形成され、前記第1と第2の転動形ダイアフラム間にトラップされた間隙容積に流体結合された真空ポートとを含む請求項2記載の装置。 - 前記チャンバ本体の少なくとも1つの側壁を通して形成された少なくとも2つの垂直オフセットアクセスポートを含む請求項1記載の装置。
- 前記リフト機構が、少なくとも500mmの垂直範囲で動くロボットを提供するように構成されている請求項1記載の装置。
- 前記転動形ダイアフラムが、
その中を通して形成された複数の穴を有する環形シーリングフランジと、
前記フランジから前記穴の内側に延在する環形リブとを含む請求項1記載の装置。 - 大面積基板を真空下で搬送するための装置であって、
側壁と底部とを有する真空チャンバ本体であって、前記側壁が、その中を通して形成された複数のシール可能な基板搬送ポートを有する、真空チャンバ本体と、
リフト機構と、
前記チャンバ本体の内部容積に実質的に配置され、前記リフト機構に結合されたロボットであって、前記リフト機構が、前記内部容積内での前記ロボットの上昇を選択的に制御する、ロボットと、
並べられ、間に画定された間隙容積を有する第1の転動形ダイアフラム及び第2の転動形ダイアフラムであって、真空を漏らさずに、前記ロボットの上昇の変更を促すシールを提供する第1及び第2の転動体ダイアフラムと、
前記第1及び第2の転動形ダイアフラムにシールされたスペーサであって、前記スペーサは、その中に形成された通路を有し、前記間隙容積と連通し、前記通路は、真空源に結合させるための取付具に対応するように構成されたポートで終わっている、スペーサとを含む装置。 - 前記チャンバ本体の少なくとも1つのアクセスポートを通して、前記ロボットによりアクセス可能な少なくとも2つの基板が垂直にスタックされた基板貯蔵スロットを有するロードロックチャンバを含む請求項7記載の装置。
- 前記チャンバ本体の少なくとも1つのアクセスポートを通して、前記ロボットによりアクセス可能な少なくとも3つの基板が垂直にスタックされた基板貯蔵スロットを有するロードロックチャンバを含む請求項7記載の装置。
- 前記ロードロックチャンバが、
中に画定された3つの基板貯蔵スロットチャンバの第1のスロットを有する第1の内部領域と、
中に画定された3つの基板貯蔵スロットチャンバの第2のスロットを有する第2の内部領域とを含み、前記第1及び第2のスロットが、前記ロードロックチャンバ作動時は流体分離可能である請求項7記載の装置。 - 前記リフト機構が、少なくとも500mmの垂直範囲で動くロボットを提供するように構成されている請求項7記載の装置。
- 大面積基板を搬送する方法であって、
中にロボットが配置された搬送チャンバを提供する工程であって、前記搬送チャンバが、ロードロックチャンバ及び少なくとも1つの処理チャンバに結合されており、前記ロボットが、機構により選択可能に上昇し、前記ロボットが、1つ以上の転動形ダイアフラムにより前記搬送チャンバにシールされている、工程と、
前記処理チャンバ又はロードロックチャンバのうち少なくとも1つから、前記搬送チャンバまで、前記基板をロボット的に搬送する工程と、
前記搬送チャンバ内の前記基板の上昇を調整して、前記転動形ダイアフラムの第1の端部が、第2の端部に対して動くようにする工程と、
前記搬送チャンバから、前記処理チャンバ又はロードロックチャンバのうち少なくとも1つまで、前記基板をロボット的に搬送する工程とを含む方法。 - 前記少なくとも1つ以上の転動形ダイアフラムが、
第1の転動形ダイアフラムと、
前記第1の転動形ダイアフラム上に配置され、冗長シールを形成する第2の転動形ダイアフラムとを含む請求項12記載の方法。 - 前記第1及び第2の転動形ダイアフラム間で画定される間隙容積を、前記搬送チャンバ内側の圧力より高いが、前記搬送チャンバ外側の周囲圧力よりは低い圧力に維持する工程を含む請求項13記載の方法。
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