JP2009045915A - Composite substrate, wiring substrate and mounting structure, and manufacturing process of composite substrate - Google Patents

Composite substrate, wiring substrate and mounting structure, and manufacturing process of composite substrate Download PDF

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正昭 原園
Masaharu Shirai
正治 白井
Yutaka Tsukada
裕 塚田
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a composite substrate, which can suppress occurrence of crack in the circumference of a single fiber by forming a fibrous layer so that the single fiber is not separated from the adjacent single fibers, thereby improving a fabrication yield, a wiring substrate and a mounting structure, and a manufacturing process of the composite substrate. <P>SOLUTION: The composite substrate 5 comprises the fibrous layer 9 in which many single fibers 8 arranged in one direction are impregnated with a resin, and a resin layer 11 formed to cover one principal surface and the other principal surface of the fibrous layer 9 and containing many fillers 10 deposited on one principal surface and the other principal surface of the fibrous layer 9, wherein the fibrous layer 9 is formed by laminating a plurality of single fiber layers 12 in which the single fibers 8 are arranged in one direction, and the content of the fillers 10 interposed between the resin layer 11 and the single fiber layers 12 is larger than that of the fillers 10 interposed between the single fiber layers 12. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、各種オーディオビジュアル機器や家電機器、通信機器、コンピュータ機器およびその周辺機器などの電子機器に使用される配線基板およびそれに使用される複合基板に関するものである。本発明はさらに、配線基板に半導体素子を実装した実装構造体に関するものである。   The present invention relates to a wiring board used for electronic devices such as various audiovisual equipment, home appliances, communication equipment, computer equipment, and peripheral equipment thereof, and a composite board used therefor. The present invention further relates to a mounting structure in which a semiconductor element is mounted on a wiring board.

従来より、IC(Integrated Circuit)又はLSI(Large Scale Integration)等の半導体素子を実装する配線基板として、樹脂製の配線基板が用いられている。かかる配線基板には、配線基板の剛性を高めるために、剛性の優れた複合基板が使用されている。   Conventionally, resin wiring boards have been used as wiring boards for mounting semiconductor elements such as IC (Integrated Circuit) or LSI (Large Scale Integration). For such a wiring board, a composite board having excellent rigidity is used in order to increase the rigidity of the wiring board.

また、複合基板は、ガラス繊維から成る織布をエポキシ樹脂によって含浸したものが知られており、さらに、複合基板に、フィラーを含有したものが提案されている(下記特許文献1参照)。   Further, a composite substrate in which a woven fabric made of glass fiber is impregnated with an epoxy resin is known, and a composite substrate containing a filler has been proposed (see Patent Document 1 below).

また、複合基板は、ガラス繊維から成る織布をエポキシ樹脂によって含浸したものが知られており、さらに、軽量化、低誘電率化、レーザー加工性の向上などの要望からガラス繊維の代わりに有機繊維を用いたものが提案されている。
特開平10−190174号公報
In addition, a composite substrate is known in which a woven fabric made of glass fiber is impregnated with an epoxy resin. Further, in order to reduce the weight, reduce the dielectric constant, and improve the laser processability, organic substrates can be used instead of glass fibers. The thing using a fiber is proposed.
JP-A-10-190174

ところが、有機繊維は一般に単繊維の直径がガラス繊維よりも大きく、また、有機繊維は、有機繊維の直径方向の熱膨張率が大きい。そのため、有機繊維の一部が隣接する有機繊維から突出して形成された複合基板においては、半田リフロー時や外部から加えられる熱に起因して、突出した有機繊維の外周に沿って、クラックが発生し、複合基板が破壊されることがある。その結果、製品不良が発生し、製造歩留まりが低下するといった問題があった。   However, the organic fiber generally has a single fiber diameter larger than that of the glass fiber, and the organic fiber has a larger coefficient of thermal expansion in the diameter direction of the organic fiber. Therefore, in the composite substrate formed by protruding a part of the organic fiber from the adjacent organic fiber, cracks are generated along the outer periphery of the protruding organic fiber due to heat applied from the outside during solder reflow. However, the composite substrate may be destroyed. As a result, there is a problem that a product defect occurs and the manufacturing yield decreases.

本発明は、上述した課題に鑑みなされたものであって、繊維の外周に沿ってクラックが発生するのを抑制することによって、製造歩留まりを向上させることが可能な複合基板、配線基板及び実装構造体、並びに複合基板の製造方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above-described problems, and is a composite substrate, a wiring substrate, and a mounting structure that can improve the manufacturing yield by suppressing the occurrence of cracks along the outer periphery of the fiber. It is an object to provide a manufacturing method of a body and a composite substrate.

上記の課題を解決するため、本発明の複合基板は、一方向に配列された多数の単繊維を樹脂で含浸してなる繊維層と、前記繊維層の一主面及び他主面を被覆するように形成され、前記繊維層の一主面及び他主面に堆積された多数のフィラーを含有する樹脂層と、を備え、前記繊維層は、前記単繊維を一方向に配列してなる単繊維層を複数積層したものであって、前記樹脂層と前記単繊維層との間に介在される前記フィラーの含有量は、前記単繊維層同士の間に介在される前記フィラーの含有量よりも多いことを特徴とする。   In order to solve the above problems, the composite substrate of the present invention covers a fiber layer formed by impregnating a large number of single fibers arranged in one direction with a resin, and one main surface and the other main surface of the fiber layer. And a resin layer containing a large number of fillers deposited on one main surface and the other main surface of the fiber layer, and the fiber layer is a single layer formed by arranging the single fibers in one direction. A plurality of fiber layers are laminated, and the content of the filler interposed between the resin layer and the single fiber layer is more than the content of the filler interposed between the single fiber layers. It is also characterized by many.

また、本発明の複合基板は、前記繊維層に含まれる複数の前記単繊維層が、第1方向に沿って配列される前記単繊維層の数と、前記第1方向と異なる第2方向に沿って配列される前記単繊維層の数が等しいことを特徴とする。   In the composite substrate of the present invention, the plurality of single fiber layers included in the fiber layer are arranged in a second direction different from the first direction and the number of the single fiber layers arranged along the first direction. The number of monofilament layers arranged along the same is equal.

また、本発明の複合基板は、前記繊維層が、前記樹脂層と接する前記単繊維層における隣接する前記単繊維同士が、密接していることを特徴とする。   The composite substrate of the present invention is characterized in that the adjacent single fibers in the single fiber layer in contact with the resin layer are in close contact with each other.

また、本発明の複合基板は、前記樹脂層の一主面及び他主面のうねりが、3μm以下であることを特徴とする。   The composite substrate of the present invention is characterized in that the undulation of one main surface and the other main surface of the resin layer is 3 μm or less.

また、本発明の配線基板は、前記複合基板と、前記複合基板の一主面及び他主面に形成される導電層と、を備えたことを特徴とする。   The wiring board of the present invention includes the composite substrate, and a conductive layer formed on one main surface and the other main surface of the composite substrate.

また、本発明の実装構造体は、前記配線基板と、前記配線基板にフリップチップ実装された半導体素子と、を備えたことを特徴とする。   The mounting structure according to the present invention includes the wiring board and a semiconductor element flip-chip mounted on the wiring board.

また、本発明の複合基板の製造方法は、多数の単繊維を一方向に配列させた繊維シートと、フィラーを樹脂で含浸した樹脂シートを準備する工程と、前記繊維シートの上面と前記樹脂シートの下面を対向配置する工程と、前記樹脂シートを加熱しながら前記繊維体に向かって押圧し、軟化した前記樹脂を前記多数の単繊維同士の間の隙間を通し、前記繊維シートの下面まで流し込むとともに、前記樹脂シートの前記フィラーを、前記繊維シートの上面に堆積する工程と、前記フィラーが前記繊維シートの上面に堆積している状態で、前記樹脂を硬化する工程と、を備えていることを特徴とする。   Further, the composite substrate manufacturing method of the present invention includes a step of preparing a fiber sheet in which a number of single fibers are arranged in one direction, a resin sheet impregnated with a resin, an upper surface of the fiber sheet, and the resin sheet. And a process of disposing the lower surface of the resin sheet, pressing the resin sheet toward the fiber body while heating, and passing the softened resin through the gaps between the single fibers to the lower surface of the fiber sheet And the step of depositing the filler of the resin sheet on the upper surface of the fiber sheet, and the step of curing the resin in a state where the filler is deposited on the upper surface of the fiber sheet. It is characterized by.

また、本発明の複合基板の製造方法は、前記フィラーが前記繊維シートの上面に堆積している状態で、前記フィラーが前記多数の単繊維を押圧し、前記多数の単繊維同士の間の隙間を小さくする工程と、を備えたことを特徴とする。   Further, in the method for producing a composite substrate of the present invention, the filler presses the plurality of single fibers in a state where the filler is deposited on the upper surface of the fiber sheet, and the gaps between the plurality of single fibers. And a step of reducing the size.

また、本発明の複合基板の製造方法は、多数の単繊維を一方向に配列させた繊維シートと、フィラーを第1樹脂で含浸した樹脂シートを準備する工程と、前記繊維シートの前記単繊維同士の間に第2樹脂を含浸する工程と、前記第2樹脂を含浸した前記繊維シートと前記樹脂シートを張り合わせた状態で、両者に熱を加えて前記第1樹脂と前記第2樹脂とを接着させ、前記樹脂シートの前記フィラーを前記単繊維に押圧する工程と、前記フィラーが前記単繊維を押圧している状態で、前記第1樹脂及び第2樹脂を硬化する工程と、を備えたことを特徴とする。   The method for producing a composite substrate of the present invention includes a step of preparing a fiber sheet in which a number of single fibers are arranged in one direction, a resin sheet impregnated with a first resin, and the single fibers of the fiber sheet. In a state where the second resin is impregnated between the two, and the fiber sheet impregnated with the second resin and the resin sheet are bonded together, heat is applied to both the first resin and the second resin. Bonding, and pressing the filler of the resin sheet against the single fiber; and curing the first resin and the second resin in a state where the filler presses the single fiber. It is characterized by that.

本発明によれば、繊維の外周に沿ってクラックが発生するのを抑制することによって、製造歩留まりを向上させることが可能な複合基板、配線基板及び実装構造体、並びに複合基板の製造方法を提供することができる。   According to the present invention, there are provided a composite substrate, a wiring substrate and a mounting structure, and a composite substrate manufacturing method capable of improving the manufacturing yield by suppressing the occurrence of cracks along the outer periphery of the fiber. can do.

以下に、本発明にかかる実装構造体の実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。かかる実装構造体は、例えば各種オーディオビジュアル機器、家電機器、通信機器、コンピュータ装置又はその周辺機器などの電子機器に使用されるものである。   Embodiments of a mounting structure according to the present invention will be described below in detail with reference to the drawings. Such a mounting structure is used for electronic devices such as various audiovisual devices, home appliances, communication devices, computer devices or peripheral devices thereof.

図1は本実施形態に係る実装構造体1の平面図、図2は本実施形態に係る実装構造体1の断面図である。本実施形態に係る実装構造体1は、配線基板2と、配線基板2に半田等のバンプ3を介してフリップチップ実装された、IC又はLSI等の半導体素子4と、を含んで構成されている。また、配線基板2は、複合基板5と、複合基板5の一主面及び他主面に積層される導電層6と、絶縁層7と、を含んで構成されている。   FIG. 1 is a plan view of a mounting structure 1 according to this embodiment, and FIG. 2 is a cross-sectional view of the mounting structure 1 according to this embodiment. A mounting structure 1 according to the present embodiment includes a wiring board 2 and a semiconductor element 4 such as an IC or LSI that is flip-chip mounted on the wiring board 2 via bumps 3 such as solder. Yes. The wiring substrate 2 includes a composite substrate 5, a conductive layer 6 laminated on one main surface and the other main surface of the composite substrate 5, and an insulating layer 7.

複合基板5は、一方向に配列された多数の単繊維8を樹脂で含浸してなる繊維層9と、繊維層9の一主面及び他主面を被覆するように形成され、繊維層9の一主面及び他主面に堆積された多数のフィラー10を含有する樹脂層11と、を備え、繊維層9は、単繊維8を一方向に配列してなる単繊維層12を複数積層したものであって、樹脂層11と単繊維層12との間に介在されるフィラー10の含有量は、単繊維層12同士の間に介在されるフィラー10の含有量よりも多くなるようにして構成されている。   The composite substrate 5 is formed so as to cover a fiber layer 9 formed by impregnating a large number of single fibers 8 arranged in one direction with a resin, and one main surface and the other main surface of the fiber layer 9. And a resin layer 11 containing a large number of fillers 10 deposited on one main surface and the other main surface, and the fiber layer 9 includes a plurality of single fiber layers 12 in which single fibers 8 are arranged in one direction. Therefore, the content of the filler 10 interposed between the resin layer 11 and the single fiber layer 12 is set to be larger than the content of the filler 10 interposed between the single fiber layers 12. Configured.

以下に、複合基板5に積層される導電層6及び絶縁層7について説明する。導電層6は、所定の電気信号を伝達する機能を備えたライン状の信号線路6aと、半導体素子4を共通の電位、例えばアース電位にする機能を備えた平板状のグランド層6bとを含んでいる。また、信号線路6aは、グランド層6bに対して、絶縁層7を介して対向するように配置されている。また、導電層6は、例えば銅、銀、金、アルミニウム、ニッケル又はクロム等の金属材料からなる。   Hereinafter, the conductive layer 6 and the insulating layer 7 stacked on the composite substrate 5 will be described. The conductive layer 6 includes a line-shaped signal line 6a having a function of transmitting a predetermined electric signal, and a flat ground layer 6b having a function of bringing the semiconductor element 4 to a common potential, for example, a ground potential. It is out. The signal line 6a is disposed so as to face the ground layer 6b with the insulating layer 7 interposed therebetween. The conductive layer 6 is made of a metal material such as copper, silver, gold, aluminum, nickel, or chromium.

絶縁層7は、接着層7aとフィルム層7bとから構成されている。フィルム層7bは、接着層7aを介して複合基板5に対して貼り合わされている。接着層7aは、熱硬化性樹脂又は熱可塑性樹脂等が使用される。なお、かかる熱硬化性樹脂としては、例えばポリイミド樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、シアネート樹脂、シリコン樹脂又はビスマレイミドトリアジン樹脂のうち少なくともいずれか一つを使用することができる。熱可塑性樹脂としては、半田リフロー時の加熱に耐える耐熱性を有する必要があることから、構成する材料の軟化温度が200℃以上であることが望ましく、ポリエーテルケトン樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂又はポリフェニレンエーテル樹脂等を使用することができる。   The insulating layer 7 is composed of an adhesive layer 7a and a film layer 7b. The film layer 7b is bonded to the composite substrate 5 via the adhesive layer 7a. The adhesive layer 7a is made of a thermosetting resin or a thermoplastic resin. As the thermosetting resin, for example, at least one of polyimide resin, acrylic resin, epoxy resin, urethane resin, cyanate resin, silicon resin, and bismaleimide triazine resin can be used. As the thermoplastic resin, since it is necessary to have heat resistance capable of withstanding heating during solder reflow, it is desirable that the softening temperature of the constituent material is 200 ° C. or higher. Polyether ketone resin, polyethylene terephthalate resin or polyphenylene ether Resin or the like can be used.

フィルム層7bは、複合基板5の平坦性を確保するために精密に厚さが制御されている。また、フィルム層7bは、弾性変形可能であって、耐熱性と硬さに優れた特性の材料であることが望ましい。この様な特性を有するフィルム層7bとしては、例えば、ポリパラフェニレンベンズビスオキサゾール樹脂、全芳香族ポリアミド樹脂、全芳香族ポリエステル樹脂又は液晶ポリマー樹脂等を用いることができる。なお、フィルム層7bの厚みは、例えば1μm以上、20μm以下となるように設定されている。   The thickness of the film layer 7b is precisely controlled in order to ensure the flatness of the composite substrate 5. The film layer 7b is desirably a material that can be elastically deformed and has excellent heat resistance and hardness. As the film layer 7b having such characteristics, for example, polyparaphenylene benzbisoxazole resin, wholly aromatic polyamide resin, wholly aromatic polyester resin, or liquid crystal polymer resin can be used. The thickness of the film layer 7b is set to be, for example, 1 μm or more and 20 μm or less.

絶縁層7は、複合基板5及び導電層6に対して積層し、例えば加熱プレス装置を用いて加熱しながら加圧した後、冷却することによって硬化する。また、絶縁層7は、厚み寸法が例えば1μmから10μmとなるように設定されている。   The insulating layer 7 is laminated on the composite substrate 5 and the conductive layer 6, and is cured by cooling after being pressurized while being heated using, for example, a heating press apparatus. The insulating layer 7 is set so that the thickness dimension is, for example, 1 μm to 10 μm.

絶縁層7には、その上下方向を貫くビア導体13が形成されている。かかるビア導体13は、上下位置の異なる導電層6同士を電気的に接続するためのものである。かかるビア導体13は、複合基板5の一主面側から配線基板2の一主面側(複合基板5の他主面側から配線基板2の他主面側)に向けて幅広な逆テーパー状に形成されており、例えば銅、銀、金、アルミニウム、ニッケル又はクロム等の導電材料からなる。   A via conductor 13 is formed in the insulating layer 7 so as to penetrate the vertical direction. The via conductor 13 is for electrically connecting the conductive layers 6 having different vertical positions. The via conductor 13 has a wide reverse taper shape from one main surface side of the composite substrate 5 toward one main surface side of the wiring substrate 2 (from the other main surface side of the composite substrate 5 to the other main surface side of the wiring substrate 2). For example, it is made of a conductive material such as copper, silver, gold, aluminum, nickel, or chromium.

次に、複合基板5について詳述する。複合基板5には、複合基板5を上下方向に貫通するスルーホールSが形成されている。かかるスルーホールSの内壁面には、導電性を有する銅めっき等からなるスルーホール導体13が形成されている。また、スルーホールSには、複合基板5の平坦性を良好にするために絶縁性の樹脂からなる絶縁体14が充填されている。なお、スルーホール導体13は、複合基板5の主面又は他主面に形成された導電層6同士を電気的に接続している。また、絶縁体14をスルーホールSに充填することによって、スルーホールSの直上又は直下に後述するビア導体15を形成することができ、配線基板2の小型化に寄与することができる。かかるビア導体15は、上下位置の異なる導電層6同士を電気的に接続するためのものである。ビア導体15は、複合基板5の一主面側から配線基板2の一主面側(複合基板5の他主面側から配線基板2の他主面側)に向けて幅広な逆テーパー状に形成されており、例えば銅、銀、金、アルミニウム、ニッケル又はクロム等の導電材料からなる。   Next, the composite substrate 5 will be described in detail. In the composite substrate 5, a through hole S penetrating the composite substrate 5 in the vertical direction is formed. A through-hole conductor 13 made of conductive copper plating or the like is formed on the inner wall surface of the through-hole S. The through hole S is filled with an insulator 14 made of an insulating resin in order to improve the flatness of the composite substrate 5. The through-hole conductor 13 electrically connects the conductive layers 6 formed on the main surface or the other main surface of the composite substrate 5. In addition, by filling the through holes S with the insulator 14, via conductors 15 to be described later can be formed immediately above or directly below the through holes S, which can contribute to downsizing of the wiring board 2. The via conductor 15 is for electrically connecting the conductive layers 6 having different vertical positions. The via conductor 15 has a wide reverse taper shape from one main surface side of the composite substrate 5 to one main surface side of the wiring substrate 2 (from the other main surface side of the composite substrate 5 to the other main surface side of the wiring substrate 2). For example, it is made of a conductive material such as copper, silver, gold, aluminum, nickel, or chromium.

繊維層9は、単繊維8を一方向に配列してなる単繊維層12を複数積層したものであって、複合基板5の剛性を良好に維持するものである。かかる単繊維層12には、単繊維8が多数敷き詰められて設けられている。   The fiber layer 9 is obtained by laminating a plurality of single fiber layers 12 formed by arranging the single fibers 8 in one direction, and maintains the rigidity of the composite substrate 5 in a good manner. A large number of single fibers 8 are provided on the single fiber layer 12.

繊維層9を構成する一方向に配列された多数の単繊維8は、繊維層9の一端から他端にまで延在されている。単繊維8は、例えばポリパラフェニレンベンズビスオキサゾール樹脂、全芳香族ポリアミド樹脂又は全芳香族ポリエステル樹脂等の低熱膨張樹脂から成る。かかる単繊維8の熱膨張率は、繊維の長手方向Xに直交する断面方向Zの熱膨張率が、繊維の長手方向Xの熱膨張率より大きい。その単繊維8の断面方向Zの熱膨張率は、40ppm/℃以上、120ppm/℃以下であって、単繊維8の長手方向Xの熱膨張率は、−10ppm/℃以上、10ppm/℃以下である。なお、熱膨張率は、JISK7197に準ずる。また、単繊維8は長尺状に形成されており、その断面方向Zの断面が、円形であって、その直径は例えば3μm以上15μm以下に形成されている。   A large number of single fibers 8 arranged in one direction constituting the fiber layer 9 extend from one end of the fiber layer 9 to the other end. The single fiber 8 is made of a low thermal expansion resin such as polyparaphenylene benzbisoxazole resin, wholly aromatic polyamide resin, or wholly aromatic polyester resin. The thermal expansion coefficient of the single fiber 8 is such that the thermal expansion coefficient in the cross-sectional direction Z perpendicular to the longitudinal direction X of the fiber is larger than the thermal expansion coefficient in the longitudinal direction X of the fiber. The thermal expansion coefficient in the cross-sectional direction Z of the single fiber 8 is 40 ppm / ° C. or more and 120 ppm / ° C. or less, and the thermal expansion coefficient in the longitudinal direction X of the single fiber 8 is −10 ppm / ° C. or more and 10 ppm / ° C. or less. It is. In addition, a thermal expansion coefficient applies to JISK7197. Moreover, the single fiber 8 is formed in a long shape, and the cross section in the cross-sectional direction Z is circular, and the diameter thereof is, for example, 3 μm or more and 15 μm or less.

また、繊維層9に対する単繊維8の体積比率が、30体積%以上、80体積%以下に設定されている。繊維層9に対する単繊維8の体積比率が30体積%以上だと、繊維層9に含有される単繊維8が十分に確保され、単繊維8の優れた剛性が繊維層9に影響を及ぼし、複合基板5全体の反りを少なくすることができる。また、繊維層9に対する単繊維8の体積比率が80体積%を超えると、繊維層9を作製する際に、繊維層9の単繊維層12同士の間に空気が多く混入することがある。気泡が多いと、樹脂の硬化後は、その気泡が空隙となって、空隙に導電層等から導電材料が析出し、複合基板5の電気的信頼性が低下する。そのため、繊維層9に対する単繊維8の体積比率を80体積%以下にすることで、複合基板5内の気泡を低減することができる。なお、繊維層9に含まれる樹脂は、例えば、エポキシ樹脂、ビスマレイミドトリアジン樹脂、シアネート樹脂、ポリイミド樹脂又はポリフェニレエーテル樹脂等から成る。   Moreover, the volume ratio of the single fiber 8 with respect to the fiber layer 9 is set to 30 volume% or more and 80 volume% or less. When the volume ratio of the single fiber 8 to the fiber layer 9 is 30% by volume or more, the single fiber 8 contained in the fiber layer 9 is sufficiently secured, and the excellent rigidity of the single fiber 8 affects the fiber layer 9, Warpage of the entire composite substrate 5 can be reduced. Moreover, when the volume ratio of the single fiber 8 with respect to the fiber layer 9 exceeds 80 volume%, when producing the fiber layer 9, much air may mix between the single fiber layers 12 of the fiber layer 9. If there are many bubbles, the bubbles become voids after the resin is cured, and a conductive material is deposited in the voids from the conductive layer or the like, so that the electrical reliability of the composite substrate 5 decreases. Therefore, the air bubbles in the composite substrate 5 can be reduced by setting the volume ratio of the single fiber 8 to the fiber layer 9 to 80 volume% or less. The resin contained in the fiber layer 9 is made of, for example, an epoxy resin, a bismaleimide triazine resin, a cyanate resin, a polyimide resin, or a polyphenyl ether resin.

樹脂層11は、多数のフィラー10を含有しており、例えば、エポキシ樹脂、ビスマレイミドトリアジン樹脂、シアネート樹脂、ポリイミド樹脂又はポリフェニレンエーテル樹脂等から成る。フィラー10は、球状であって、樹脂層11に対する体積比率が、25%以上、60%以下であることが好ましい。このような、樹脂層11の熱膨張率は、15ppm/℃以上、30ppm/℃以下に設定されている。なお、フィラー10の径は、例えば0.05μm以上、6μm以下に設定されており、かかるフィラー10の熱膨張率は、例えば−5ppm/℃以上、5ppm/℃以下である。   The resin layer 11 contains a large number of fillers 10 and is made of, for example, an epoxy resin, a bismaleimide triazine resin, a cyanate resin, a polyimide resin, or a polyphenylene ether resin. The filler 10 is spherical and preferably has a volume ratio with respect to the resin layer 11 of 25% or more and 60% or less. Such a thermal expansion coefficient of the resin layer 11 is set to 15 ppm / ° C. or more and 30 ppm / ° C. or less. The diameter of the filler 10 is set to, for example, 0.05 μm or more and 6 μm or less, and the thermal expansion coefficient of the filler 10 is, for example, −5 ppm / ° C. or more and 5 ppm / ° C. or less.

樹脂層11に対するフィラー10の体積比率が25%未満だと、樹脂層11の熱膨張率が大きくなってしまい、その樹脂層11にスルーホールSを形成した場合、熱膨張・熱収縮によって、スルーホールSの内壁面にクラックが発生しやすくなる。そのため、樹脂層11に対するフィラー10の体積比率が25%以上にすることで、スルーホールSにクラックが発生するのを抑制することができる。一方、樹脂層11に対するフィラー10の体積比率が60%を超えると、未硬化の樹脂にフィラー10を混ぜ合わせる際、フィラー10と共に未硬化の樹脂に空気が混入しやすく、このような未硬化の樹脂によって多数の単繊維8を含浸させると、単繊維8同士の間に気泡が多く混入する。そして、その気泡が樹脂層11の絶縁性を低下させる原因となるため、樹脂層11に対するフィラー10の体積比率を60%以下にすることで、樹脂層11に気泡が混入する問題を低減することができる。   If the volume ratio of the filler 10 to the resin layer 11 is less than 25%, the thermal expansion coefficient of the resin layer 11 becomes large, and when the through hole S is formed in the resin layer 11, the thermal expansion / thermal contraction causes the through Cracks are likely to occur on the inner wall surface of the hole S. Therefore, when the volume ratio of the filler 10 with respect to the resin layer 11 is 25% or more, the occurrence of cracks in the through hole S can be suppressed. On the other hand, when the volume ratio of the filler 10 to the resin layer 11 exceeds 60%, when the filler 10 is mixed with the uncured resin, air easily mixes with the filler 10 together with the uncured resin. When a large number of single fibers 8 are impregnated with resin, many bubbles are mixed between the single fibers 8. And since the bubble causes the insulation of the resin layer 11 to be lowered, the volume ratio of the filler 10 to the resin layer 11 is reduced to 60% or less to reduce the problem of bubbles mixed into the resin layer 11. Can do.

フィラー10は、例えば酸化珪素(シリカ)、炭化珪素、酸化アルミニウム、窒化アルミニウム又は水酸化アルミニウム等から成り、樹脂層9に対する体積比率が、60%以上、90%以下であることが好ましい。なお、フィラー10の熱伝導率は、例えば1W/(m・K)以上、300W/(m・K)以下に設定されている。   The filler 10 is made of, for example, silicon oxide (silica), silicon carbide, aluminum oxide, aluminum nitride, or aluminum hydroxide, and the volume ratio with respect to the resin layer 9 is preferably 60% or more and 90% or less. The thermal conductivity of the filler 10 is set to, for example, 1 W / (m · K) or more and 300 W / (m · K) or less.

図3は、繊維層9と樹脂層11との界面を示し、図2Aの拡大図である。多数のフィラー10は、繊維層9と樹脂層11との間であって、繊維層9上に堆積して設けられている。敷き詰められた単繊維8上に多数のフィラー10が、単繊維8と接するように配置されており、フィラー10は熱膨張率が単繊維8の断面方向Zの熱膨張率より小さいため、外部から熱が加わり単繊維8が断面方向Zに熱膨張しようとしても、フィラー10が熱膨張しにくいため、単繊維8が断面方向Zに熱膨張するのを抑制することができる。その結果、単繊維8が断面方向Zに熱膨張しにくいため、繊維層9や樹脂層11を構成する樹脂にクラックが発生するのを効果的に抑制することができる。   FIG. 3 shows the interface between the fiber layer 9 and the resin layer 11, and is an enlarged view of FIG. 2A. Many fillers 10 are provided between the fiber layer 9 and the resin layer 11 and deposited on the fiber layer 9. A large number of fillers 10 are arranged on the spread single fibers 8 so as to be in contact with the single fibers 8, and the filler 10 has a thermal expansion coefficient smaller than that of the single fibers 8 in the cross-sectional direction Z. Even if heat is applied and the single fibers 8 are about to expand in the cross-sectional direction Z, the filler 10 is difficult to expand thermally, so that the single fibers 8 can be prevented from being expanded in the cross-sectional direction Z. As a result, since the single fiber 8 is difficult to thermally expand in the cross-sectional direction Z, it is possible to effectively suppress the occurrence of cracks in the resin constituting the fiber layer 9 and the resin layer 11.

樹脂層11の一主面及び他主面のうねりは、3μm以下に形成されている。このように、多数のフィラー10によって押圧された樹脂層11を形成することにより、単繊維8aが隣接する単繊維8b、8cから樹脂層11側に向かって離れて形成されない。そのため、単繊維8a上の樹脂層11を比較的平坦にすることができ、樹脂層11の一主面及び他主面のうねりを3μm以下にすることができる。   The waviness of one main surface and the other main surface of the resin layer 11 is formed to be 3 μm or less. Thus, by forming the resin layer 11 pressed by a large number of fillers 10, the single fibers 8a are not formed away from the adjacent single fibers 8b and 8c toward the resin layer 11 side. Therefore, the resin layer 11 on the single fiber 8a can be made relatively flat, and the undulation of one main surface and the other main surface of the resin layer 11 can be 3 μm or less.

また、樹脂層11の一主面及び他主面のうねりを3μm以下にすることによって、樹脂層11上に形成する導電層6及び絶縁層7のうねりも小さくすることができ、シリコンチップをフリップチップ実装する場合の、実装歩留りを高くすることができる。なお、うねりの測定及び算出は、JIS−B0610におけるWEM(転がり円最大高さうねり)に準じて行い、転がり円半径は0.08mm、基準長さは0.25mmで算出する。 Further, by setting the undulation of one main surface and the other main surface of the resin layer 11 to 3 μm or less, the undulation of the conductive layer 6 and the insulating layer 7 formed on the resin layer 11 can be reduced, and the silicon chip can be flipped. In the case of chip mounting, the mounting yield can be increased. In addition, the measurement and calculation of waviness are performed according to W EM (rolling circle maximum height waviness) in JIS-B0610, and the rolling circle radius is 0.08 mm and the reference length is 0.25 mm.

また、樹脂層11の厚みは、4μm以上に形成される。ここで、4μm以上とは、単繊維8の上部から樹脂層11の上面までの距離である。樹脂層11の厚みを厚くすることで、単繊維8の周囲にクラックが発生するのを抑制することができる。また、樹脂層11の厚みを厚くしたことで、複合基板5の一主面及び他主面の平坦性を良好にすることができ、半導体素子4を実装する際に、半導体素子4の下面を複合基板5又は配線基板2に密接させて接合することができる。   The thickness of the resin layer 11 is 4 μm or more. Here, 4 μm or more is the distance from the upper part of the single fiber 8 to the upper surface of the resin layer 11. By increasing the thickness of the resin layer 11, it is possible to suppress the occurrence of cracks around the single fibers 8. Further, by increasing the thickness of the resin layer 11, the flatness of one main surface and the other main surface of the composite substrate 5 can be improved, and when the semiconductor element 4 is mounted, the lower surface of the semiconductor element 4 is reduced. The composite substrate 5 or the wiring substrate 2 can be bonded in close contact.

繊維層9と樹脂層11との間、すなわち樹脂層11と単繊維層12との間、に介在されるフィラー10の含有量は、単繊維層12同士の間に介在されるフィラー10の含有量よりも多くなるように構成されている。フィラー10の含有量が少ない領域においては、フィラー10の含有量が多い領域に比べて、軟化時の樹脂の粘性係数が例えば1Pa・s以上、100Pa・s以下と小さく、軟化時の樹脂の流れが大きいため、外力を加えられると単繊維8が移動しやすい。一方、フィラー10の含有量が多い領域においては、軟化時の樹脂の粘性係数が例えば100Pa・s以上、5000Pa・s以下と大きく、軟化時の樹脂の流れが小さいため、外力を加えられても単繊維8が移動しにくい。単繊維8aは、隣接する単繊維8b、8cから離れて突出するように設けられると、外部から熱が加えられ、隣接する単繊維8b、8cが熱膨張・熱収縮を起こし、図9に示すように、単繊維8aが隣接する単繊維8b、8cから応力を受け、単繊維8aの周囲にクラックが発生することがある。そのため、繊維層9と樹脂層11との間に、フィラー10の含有量を多くすることによって、単繊維8の移動を抑制することができ、隣接する単繊維8から離れるのを有効的に防止することができる。その結果、単繊維8の周囲にクラックが発生するのを効果的に抑制し、複合基板5の製造歩留まりを向上させることができる。なお、樹脂層9と単繊維層12との間に介在されるフィラー10の含有量及び単繊維層12同士の間に介在されるフィラー10の含有量の測定及び算出は、次の方法で行なう。測定する基板を切断し断面を鏡面状態に研摩する。研摩した断面を走査電子顕微鏡で写真撮影を行う。例えば10枚の写真を撮影し、得られた写真の画像解析を行って、写真で得られた樹脂層11の面積に対するフィラー10の占める面積の比率を計算する。フィラー10は硬化前の樹脂層中に偏りなく均一に混合されているので、フィラー10の面積比率はフィラー10の体積比率と等しくなる。撮影する倍率はフィラー10の面積を測定しやすい倍率を適宜選択する。通常1000倍程度が、適当である。さらに、写真の撮影枚数を増やして測定精度を高めることができる。   The content of the filler 10 interposed between the fiber layer 9 and the resin layer 11, that is, between the resin layer 11 and the single fiber layer 12, is the content of the filler 10 interposed between the single fiber layers 12. It is configured to be larger than the amount. In the region where the content of the filler 10 is low, the viscosity coefficient of the resin at the time of softening is as small as, for example, 1 Pa · s or more and 100 Pa · s or less, compared to the region where the content of the filler 10 is high, and the resin flow at the time of softening Therefore, the single fiber 8 easily moves when an external force is applied. On the other hand, in a region where the content of the filler 10 is large, the viscosity coefficient of the resin at the time of softening is large, for example, 100 Pa · s to 5000 Pa · s, and the flow of the resin at the time of softening is small. The single fiber 8 is difficult to move. When the single fibers 8a are provided so as to protrude away from the adjacent single fibers 8b and 8c, heat is applied from the outside, and the adjacent single fibers 8b and 8c undergo thermal expansion and thermal contraction, as shown in FIG. Thus, the single fiber 8a may receive stress from the adjacent single fibers 8b and 8c, and a crack may be generated around the single fiber 8a. Therefore, the movement of the single fiber 8 can be suppressed by increasing the content of the filler 10 between the fiber layer 9 and the resin layer 11, and effectively preventing separation from the adjacent single fiber 8. can do. As a result, the generation of cracks around the single fibers 8 can be effectively suppressed, and the production yield of the composite substrate 5 can be improved. In addition, the measurement and calculation of the content of the filler 10 interposed between the resin layer 9 and the single fiber layer 12 and the content of the filler 10 interposed between the single fiber layers 12 are performed by the following method. . The substrate to be measured is cut and the cross section is polished to a mirror surface state. The polished section is photographed with a scanning electron microscope. For example, ten photographs are taken, image analysis of the obtained photographs is performed, and the ratio of the area occupied by the filler 10 to the area of the resin layer 11 obtained by the photographs is calculated. Since the filler 10 is uniformly mixed in the resin layer before curing, the area ratio of the filler 10 is equal to the volume ratio of the filler 10. As a magnification for photographing, a magnification that allows easy measurement of the area of the filler 10 is appropriately selected. Usually about 1000 times is appropriate. Furthermore, the measurement accuracy can be increased by increasing the number of photographs taken.

また、樹脂層11にクラックが発生すると、その上面に形成された導電層6にまでクラックが伝達することがある。そして、導電層6が樹脂層11から剥離しやすくなり、しいては導電層6が破壊されることがある。本発明の実施形態のように、繊維層9における単繊維8の隣接する単繊維8からの突出を抑制することによって、単繊維8の周囲にクラックが発生するのを抑制することができ、しいては導電層6の破壊も効果的に防止することができる。   Further, when a crack occurs in the resin layer 11, the crack may be transmitted to the conductive layer 6 formed on the upper surface thereof. And it becomes easy to peel the conductive layer 6 from the resin layer 11, and the conductive layer 6 may be destroyed. As in the embodiment of the present invention, by suppressing the protrusion of the single fiber 8 in the fiber layer 9 from the adjacent single fiber 8, the generation of cracks around the single fiber 8 can be suppressed, and Thus, the destruction of the conductive layer 6 can be effectively prevented.

繊維層9は、樹脂層8と接する単繊維層12における隣接する単繊維8同士が密接して形成されていることによって、単繊維8同士の間の隙間を低減することができ、外から加えられる熱によって単繊維8の一部が隣接する単繊維8から離れて熱膨張・熱収縮することがないので、その隙間にクラックが発生するのを抑制することができ、複合基板5の製造歩留まりを向上させることができる。また、単繊維層12と樹脂層8との隙間を低減することもできるため、しいては複合基板5を小型化することができる。   The fiber layer 9 can reduce the gap between the single fibers 8 by forming the adjacent single fibers 8 in the single fiber layer 12 in contact with the resin layer 8 in close contact with each other. Since the part of the single fiber 8 is not separated from the adjacent single fiber 8 due to the generated heat and thermally expands and contracts, it is possible to suppress the generation of cracks in the gap, and the production yield of the composite substrate 5 Can be improved. Moreover, since the gap between the single fiber layer 12 and the resin layer 8 can be reduced, the composite substrate 5 can be downsized.

また、半導体素子4には、絶縁層7の熱膨張率と近似する材料が使用され、例えばシリコン、ゲルマニウム、ガリウム砒素、ガリウム砒素リン、窒化ガリウム、炭化珪素等を用いることができる。なお、半導体素子4の厚み寸法は、例えば0.1mmから1mmのものを使用することができる。   The semiconductor element 4 is made of a material that approximates the coefficient of thermal expansion of the insulating layer 7, and for example, silicon, germanium, gallium arsenide, gallium arsenide phosphorus, gallium nitride, silicon carbide, or the like can be used. In addition, the thickness dimension of the semiconductor element 4 can use the thing of 0.1 mm to 1 mm, for example.

上述したように本実施形態によれば、繊維層9上に繊維層9と接する多数のフィラー10を含有する樹脂層11を形成したことによって、単繊維8の熱膨張・熱収縮をフィラー10が応力によって効果的に抑制し、単繊維8が隣接する単繊維8から離れて、その周囲にクラックが発生するのを防止することができる。   As described above, according to the present embodiment, by forming the resin layer 11 containing a large number of fillers 10 in contact with the fiber layer 9 on the fiber layer 9, the filler 10 causes the thermal expansion / shrinkage of the single fiber 8. It can suppress effectively by stress and can prevent that the single fiber 8 leaves | separates from the adjacent single fiber 8, and a crack generate | occur | produces the circumference | surroundings.

また、複合基板5が変形すると、配線基板2と半導体素子4との電気的接続が不安定になることがあるが、多数の単繊維8を一方向に配列して設けることによって、複合基板5の変形を抑制し、しいては配線基板2と半導体素子4との電気的接続を良好に維持することができ、電気的信頼性に優れた複合基板、配線基板および実装構造体を提供することができる。   Further, when the composite substrate 5 is deformed, the electrical connection between the wiring substrate 2 and the semiconductor element 4 may become unstable. However, by providing a large number of single fibers 8 arranged in one direction, the composite substrate 5 To provide a composite substrate, a wiring board, and a mounting structure that can suppress the deformation of the wiring board and can maintain good electrical connection between the wiring board 2 and the semiconductor element 4 and have excellent electrical reliability. Can do.

次に、上述した実装構造体1の製造方法について、図4から図7を用いて説明する。まず、実装構造体1を作製する前段階として、複合基板5を準備する。複合基板5は、以下の工程を得て作製することができる。まず、図4(a)に示すように、ポリパラフェニレンベンズビスオキサゾール樹脂から成る単繊維8を、一方向に沿って配列した繊維シート16と、フィラー10を樹脂で含浸した樹脂シート17を準備する。なお、繊維シート16は、単繊維層12が三層構造となるように設定したものを用いることができる。   Next, a method for manufacturing the mounting structure 1 described above will be described with reference to FIGS. First, the composite substrate 5 is prepared as a pre-stage for producing the mounting structure 1. The composite substrate 5 can be manufactured by obtaining the following steps. First, as shown in FIG. 4A, a fiber sheet 16 in which single fibers 8 made of polyparaphenylene benzbisoxazole resin are arranged in one direction and a resin sheet 17 in which a filler 10 is impregnated with a resin are prepared. To do. The fiber sheet 16 may be set so that the single fiber layer 12 has a three-layer structure.

繊維シート16は、樹脂を含浸させずに多数の単繊維8を、一方向に沿って配列して敷き詰めたものであって、単繊維8同士がバラバラにならないように、単繊維8の端部を枠体にて固定したものを用いる。また、樹脂シート17は、例えばエポキシ樹脂にシリカから成る球状のフィラー10を多数含有したものであって、半硬化したものを用いる。なお、単繊維8同士の間の隙間は、フィラー10の径よりも小さくなるように設定されており、単繊維8が撓まないように、単繊維8の端部は、その長手方向に引っ張られた状態で保持されている。   The fiber sheet 16 is formed by arranging a large number of single fibers 8 without impregnating a resin and laying them along one direction, and the end portions of the single fibers 8 so that the single fibers 8 do not fall apart. Is fixed with a frame. Moreover, the resin sheet 17 contains a large number of spherical fillers 10 made of silica in an epoxy resin, for example, and is semi-cured. The gap between the single fibers 8 is set to be smaller than the diameter of the filler 10, and the ends of the single fibers 8 are pulled in the longitudinal direction so that the single fibers 8 do not bend. Is held in a locked state.

次に、図4(b)に示すように、繊維シート16の上面に樹脂シート17の下面を対向配置する。そして、図4(c)に示すように、繊維シート16及び樹脂シート17を対向配置して、両者を接触させた状態で、例えば加熱プレス機を用いて、エポキシ樹脂が軟化する温度以上の熱を印加し加圧する。その結果、樹脂シート17を構成するエポキシ樹脂を軟化して、繊維シート16の単繊維8同士の間の隙間に流れ込むとともに、樹脂シート17に含有されるフィラー10が、繊維シート16の上面に堆積する。これは、繊維シート16における単繊維8同士の間の隙間がフィラー10の径よりも小さくなるように設定されているため、フィラー10は、繊維シート16上に堆積し、樹脂シート17を構成する軟化したエポキシ樹脂は、単繊維8同士の間の隙間から下方に流れる。さらに、図4(d)に示すように、エポキシ樹脂が繊維シート16の下端まで達し、その状態で、エポキシ樹脂が繊維シート16から流出しなくなるように、繊維シート16及び樹脂シート17に熱を加えて、エポキシ樹脂を半硬化させ、プリプレグシート18を作製する。かかるプリプレグシート18を作製する工程において、フィラー10が繊維シート16の上面に堆積している状態で、加熱加圧によってフィラーが多数の単繊維8を押圧し、多数の単繊維8同士の間の隙間を小さくする。その結果、単繊維8が隣接する単繊維8から離れて突出するのを抑制することができる。なお、プリプレグシート18は、厚みが例えば0.1mmから1.5mmに設定されている。   Next, as illustrated in FIG. 4B, the lower surface of the resin sheet 17 is disposed opposite to the upper surface of the fiber sheet 16. And as shown in FIG.4 (c), in the state which arranged the fiber sheet 16 and the resin sheet 17 facing each other and made both contact, it is the heat | fever more than the temperature which an epoxy resin softens using a heating press machine, for example. And pressurize. As a result, the epoxy resin constituting the resin sheet 17 is softened and flows into the gaps between the single fibers 8 of the fiber sheet 16, and the filler 10 contained in the resin sheet 17 is deposited on the upper surface of the fiber sheet 16. To do. This is because the gap between the single fibers 8 in the fiber sheet 16 is set to be smaller than the diameter of the filler 10, so that the filler 10 is deposited on the fiber sheet 16 to form the resin sheet 17. The softened epoxy resin flows downward from the gap between the single fibers 8. Further, as shown in FIG. 4D, heat is applied to the fiber sheet 16 and the resin sheet 17 so that the epoxy resin reaches the lower end of the fiber sheet 16 and the epoxy resin does not flow out of the fiber sheet 16 in that state. In addition, the epoxy resin is semi-cured to produce the prepreg sheet 18. In the step of producing the prepreg sheet 18, in a state where the filler 10 is deposited on the upper surface of the fiber sheet 16, the filler presses a large number of single fibers 8 by heating and pressurization, so Reduce the gap. As a result, the single fiber 8 can be prevented from protruding away from the adjacent single fiber 8. The prepreg sheet 18 is set to have a thickness of 0.1 mm to 1.5 mm, for example.

ここで、プリプレグシート18について説明する。プリプレグシート18は、フィラー10が堆積された単繊維8が一方向に沿って配列された状態で、半硬化して保持されたものである。フィラー10の含有量が多い領域においては、粘度が大きいため、単繊維8が移動しにくくなり、また、単繊維8は多数のフィラー10に押圧されて移動が抑制される。そのため、単繊維8が隣接する単繊維8から離れるように突出するのが効果的に防止され、フィラー10と接する単繊維8は、一方向に沿って敷き詰められた状態で保持されやすい。   Here, the prepreg sheet 18 will be described. The prepreg sheet 18 is a semi-cured and held in a state where the single fibers 8 on which the filler 10 is deposited are arranged along one direction. In a region where the content of the filler 10 is large, the single fiber 8 is difficult to move because the viscosity is large, and the single fiber 8 is pressed by a large number of fillers 10 and the movement is suppressed. Therefore, it is effectively prevented that the single fiber 8 protrudes away from the adjacent single fiber 8, and the single fiber 8 in contact with the filler 10 is easily held in a state of being spread along one direction.

次に、予め単繊維8に例えばエポキシ樹脂を含浸させた未硬化のプリプレグ19を準備しておく。なお、プリプレグ19は、単繊維層12が三層構造となるように設定したものを用いることができる。   Next, an uncured prepreg 19 in which a single fiber 8 is impregnated with, for example, an epoxy resin is prepared in advance. In addition, the prepreg 19 can use what was set so that the single fiber layer 12 might become a three-layer structure.

そして、図4(e)に示すように、プリプレグ19を挟むように、プリプレグシート18を、プリプレグ19に対して上下に配置する。プリプレグ19をプリプレグシート18で挟持して、例えば加熱プレス機を用いて、エポキシ樹脂が熱硬化する温度まで、プリプレグシート18及びプリプレグ19に熱を加える。その結果、図5(a)に示すように、複合基板5を作製することができる。   Then, as shown in FIG. 4E, the prepreg sheet 18 is arranged above and below the prepreg 19 so as to sandwich the prepreg 19. The prepreg 19 is sandwiched between the prepreg sheets 18, and heat is applied to the prepreg sheet 18 and the prepreg 19 to a temperature at which the epoxy resin is thermally cured using, for example, a heating press. As a result, the composite substrate 5 can be manufactured as shown in FIG.

次に、作製した複合基板5に、図5(b)に示すように、ドリル加工によって、上下方向に貫通したスルーホールSを形成する。かかるスルーホールSは、複数個形成され、その直径が例えば0.1mm以上1mm以下に設定されている。そして、図5(c)に示すように、無電界めっき等により、複合基板5の表面にメッキを被着させ、スルーホールSの内壁面にスルーホール導体13を形成する。   Next, as shown in FIG. 5B, through holes S penetrating in the vertical direction are formed in the fabricated composite substrate 5 by drilling. A plurality of such through holes S are formed, and the diameter thereof is set to, for example, 0.1 mm or more and 1 mm or less. Then, as shown in FIG. 5C, plating is applied to the surface of the composite substrate 5 by electroless plating or the like, and the through-hole conductor 13 is formed on the inner wall surface of the through-hole S.

そのあと、図6(a)に示すように、スルーホール導体13によって囲まれる領域Hに、例えばポリイミド等の樹脂を充填し、絶縁体14を形成する。さらに、図6(b)に示すように、絶縁体14の直上を被覆するように、従来周知の蒸着法、CVD法又はスパッタリング法等によって、導電層を構成する材料を被着する。   After that, as shown in FIG. 6A, a region H surrounded by the through-hole conductors 13 is filled with a resin such as polyimide to form an insulator 14. Further, as shown in FIG. 6B, a material constituting the conductive layer is deposited by a conventionally known vapor deposition method, CVD method, sputtering method, or the like so as to cover just above the insulator 14.

次に、図6(c)に示すように、複合基板5の一主面及び他主面に、レジストを塗布し、露光現像を行った後、エッチング処理をして、グランド層6bを形成する。さらに、図7(a)に示すように、グランド層6b上に、ポリイミド樹脂等を介してフィルム層7bを貼り合わせる。そして、例えば加熱プレス機を用いて、加熱・加圧することで、フィルム層7bを複合基板5に固着する。なお、フィルム層7bに接着させた樹脂は、硬化後に接着層7aとなる。このようにして、接着層7aとフィルム層7bとから成る絶縁層7を形成することができる。   Next, as shown in FIG. 6C, a resist is applied to one main surface and the other main surface of the composite substrate 5, exposed and developed, and then etched to form a ground layer 6 b. . Further, as shown in FIG. 7A, a film layer 7b is bonded onto the ground layer 6b via a polyimide resin or the like. And the film layer 7b is fixed to the composite substrate 5 by heating and pressurizing using, for example, a heating press. The resin adhered to the film layer 7b becomes the adhesive layer 7a after curing. In this way, the insulating layer 7 composed of the adhesive layer 7a and the film layer 7b can be formed.

そして、図7(b)に示すように、絶縁層7に、例えばYAGレーザー装置又はCOレーザー装置を用いて、ビア孔Bを形成する。ビア孔Bは、絶縁層7の一主面に対して垂直方向から、絶縁層7の一主面に向けてレーザー光が照射されることによって形成される。なお、ビア孔Bは、レーザーの出力を調整することによって、上部よりも下部が幅狭な逆テーパー状に形成することができる。さらに、図7(c)に示すように、ビア孔Bに、従来周知のめっき処理を施し、導電材料を充填することによってビア導体15を形成する。 Then, as shown in FIG. 7B, a via hole B is formed in the insulating layer 7 using, for example, a YAG laser device or a CO 2 laser device. The via hole B is formed by irradiating the main surface of the insulating layer 7 with laser light from a direction perpendicular to the main surface of the insulating layer 7. The via hole B can be formed in a reverse taper shape in which the lower part is narrower than the upper part by adjusting the output of the laser. Further, as shown in FIG. 7C, the via hole 15 is formed by performing a well-known plating process on the via hole B and filling a conductive material.

次に、絶縁層7の上面に対して、従来周知の蒸着法、CVD法又はスパッタリング法等によって、信号線路6aを構成する材料を被着させる。そして、その表面にレジストを塗布し、露光現像を行った後、エッチング処理をして信号線路6aを形成する。信号線路6aは、絶縁層7を介してグランド層6bと対向する箇所に形成される。このようにして、配線基板2を作製することができる。   Next, the material constituting the signal line 6a is deposited on the upper surface of the insulating layer 7 by a conventionally known vapor deposition method, CVD method, sputtering method or the like. And after apply | coating a resist to the surface and performing exposure development, the etching process is performed and the signal track | line 6a is formed. The signal line 6a is formed at a location facing the ground layer 6b with the insulating layer 7 interposed therebetween. In this way, the wiring board 2 can be manufactured.

さらに、上述した絶縁層7及び導電層6の積層工程を繰り返すことで、多層配線の配線基板も作製することができる。そして、配線基板2に対してバンプ3を介して半導体素子4をフリップチップ実装することによって、実装構造体1を作製することができる。   Furthermore, by repeating the lamination process of the insulating layer 7 and the conductive layer 6 described above, a wiring board having a multilayer wiring can also be manufactured. Then, the mounting structure 1 can be manufactured by flip-chip mounting the semiconductor element 4 on the wiring board 2 via the bumps 3.

なお、本発明は上述の形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において種々の変更、改良等が可能である。   In addition, this invention is not limited to the above-mentioned form, A various change, improvement, etc. are possible in the range which does not deviate from the summary of this invention.

上述した実施形態に係る図2においては、複合基板5は、プリプレグシート18を二枚、プリプレグ19を一枚使用したため、Y軸方向に沿った単繊維8を有する単繊維層12の数が、X軸方向に沿った単繊維8を有する単繊維層12の数よりも多いため、両方の数が合わず複合基板5の剛性に歪みが生じることもある。そのため、図8に示すように、第1方向であるX軸方向に沿った単繊維8を有する単繊維層12及び第2方向であるY軸方向に沿った単繊維8を有する単繊維層12の数を近づけるように、複合基板5の中央に位置する単繊維層12の数を調整することで、複合基板5のX軸方向及びY軸方向の剛性を適切に合わせることができる。また、単繊維層12は、X軸方向の数と、Y軸方向の数が一致しているときが、向きが異なる単繊維8同士の応力を緩和することができ、複合基板5の歪みを効果的に抑制することができる。なお、図8に示す実装構造体1の複合基板5は、予め作製したプリプレグシート18を二つ準備し、上述した実施形態におけるプリプレグ19の代わりに、使用することで作製することができる。   In FIG. 2 according to the embodiment described above, the composite substrate 5 uses two prepreg sheets 18 and one prepreg 19, so the number of single fiber layers 12 having single fibers 8 along the Y-axis direction is Since there are more than the number of the single fiber layers 12 which have the single fiber 8 along the X-axis direction, both numbers do not match and the composite substrate 5 may be distorted in rigidity. Therefore, as shown in FIG. 8, the single fiber layer 12 having the single fiber 8 along the X-axis direction that is the first direction and the single fiber layer 12 having the single fiber 8 along the Y-axis direction that is the second direction. By adjusting the number of the single fiber layers 12 located at the center of the composite substrate 5 so that the number of the composite substrates 5 approaches, the rigidity of the composite substrate 5 in the X-axis direction and the Y-axis direction can be appropriately matched. Moreover, when the number of the X-axis direction and the number of the Y-axis direction are the same, the single fiber layer 12 can relieve | moderate the stress of the single fibers 8 from which directions differ, and distortion of the composite substrate 5 can be reduced. It can be effectively suppressed. Note that the composite substrate 5 of the mounting structure 1 shown in FIG. 8 can be manufactured by preparing two prepreg sheets 18 prepared in advance and using them instead of the prepreg 19 in the above-described embodiment.

以下に、上述した実装構造体1の第2の製造方法について、図10及び図11を用いて説明する。まず、実装構造体1を作成する前段階として、複合基板5を準備する。複合基板5は、以下の工程を得て作製することができる。まず、図10(a)に示すように、ポリパラフェニレンベンズビスオキサゾール樹脂からなる単繊維8を、一方向に沿って配列した繊維シート16を準備する。   Below, the 2nd manufacturing method of the mounting structure 1 mentioned above is demonstrated using FIG.10 and FIG.11. First, the composite substrate 5 is prepared as a pre-stage for creating the mounting structure 1. The composite substrate 5 can be manufactured by obtaining the following steps. First, as shown to Fig.10 (a), the fiber sheet 16 which arranged the single fiber 8 which consists of polyparaphenylene benzbisoxazole resin along one direction is prepared.

繊維シート16は、単繊維層12が三層構造となるように設定したものを用いることができる。繊維シート16は、単繊維8をドラムや枠体に巻いてシート状に作製することができる。かかる繊維シート16は、樹脂を含浸させずに多数の単繊維8を、一方向に沿って配列して敷き詰めたものであって、単繊維8同士がバラバラにならないように、単繊維8の端部が固定されている。なお、単繊維8は、ドラムや枠体に巻いた後で、例えばアーク放電処理、プラズマ処理又は紫外線処理等により、単繊維8表面の付着物が除去される。   As the fiber sheet 16, one set so that the single fiber layer 12 has a three-layer structure can be used. The fiber sheet 16 can be produced in a sheet shape by winding the single fiber 8 around a drum or a frame. The fiber sheet 16 is obtained by arranging and laying a large number of single fibers 8 without impregnating the resin along one direction, and the ends of the single fibers 8 are arranged so that the single fibers 8 do not fall apart. The part is fixed. In addition, after winding the single fiber 8 on a drum or a frame, the deposits on the surface of the single fiber 8 are removed by, for example, arc discharge treatment, plasma treatment, or ultraviolet treatment.

さらに、図10(b)に示すように、繊維シート16に含浸させる第2樹脂としての未硬化樹脂の樹脂フィルム20を準備する。なお、第2樹脂は、例えばエポキシ樹脂を使用することができる。樹脂フィルム20は、熱硬化性樹脂を溶剤に溶かし、離型性フィルム上に塗布して乾燥させたものである。かかる乾燥方法は、塗布方法が、例えばドクターブレード法、ダイコート法又はバーコート法等であって、乾燥温度が、例えば40度以上80度以下であって、乾燥時間が、例えば20分以上40分以下である。   Furthermore, as shown in FIG.10 (b), the resin film 20 of the uncured resin as a 2nd resin with which the fiber sheet 16 is impregnated is prepared. For example, an epoxy resin can be used as the second resin. The resin film 20 is obtained by dissolving a thermosetting resin in a solvent, applying it on a release film, and drying it. In this drying method, the application method is, for example, a doctor blade method, a die coating method, or a bar coating method, the drying temperature is, for example, 40 degrees to 80 degrees, and the drying time is, for example, 20 minutes to 40 minutes. It is as follows.

そして、図10(c)に示すように、繊維シート16と樹脂フィルム20とを重ね合わせる。さらに、図10(d)に示すように、繊維シート16と樹脂フィルム20に対し、例えば加熱プレス機を用いて、加熱加圧することによって、繊維シート16の単繊維8同士の間に樹脂を充填させることができる。真空中にて、例えば70度以上110度以下の熱を加えながら、例えば0.1MPa以上1.0MPa以下の圧力を、例えば20分以上40分以下の時間加えることで、樹脂を半硬化した状態にすることができる。その結果、半硬化した樹脂を含浸した繊維シート16を作製することができる。なお、半硬化した樹脂とは、樹脂の溶融粘度が例えば3000Pa・s以上6000Pa・s以下の状態のものをいう。   And as shown in FIG.10 (c), the fiber sheet 16 and the resin film 20 are piled up. Further, as shown in FIG. 10D, the resin is filled between the single fibers 8 of the fiber sheet 16 by heating and pressurizing the fiber sheet 16 and the resin film 20 using, for example, a heating press. Can be made. A state in which the resin is semi-cured by applying a pressure of, for example, 0.1 MPa or more and 1.0 MPa or less, for example, for 20 minutes or more and 40 minutes or less, while applying heat of 70 degrees or more and 110 degrees or less in vacuum, for example. Can be. As a result, the fiber sheet 16 impregnated with the semi-cured resin can be produced. The semi-cured resin refers to a resin having a melt viscosity of, for example, 3000 Pa · s or more and 6000 Pa · s or less.

次に、図11(a)に示すように、樹脂を含浸した繊維シート16に貼り合わせる、樹脂シート17を事前に準備する。樹脂シート17は、第1樹脂としての例えばエポキシ樹脂にシリカから成る球状のフィラー10を多数含有したものであって、半硬化したものを用いる。ここで、第1樹脂と第2樹脂とは同一材料の樹脂を用いることが好ましい。同一材料の樹脂を用いることによって、両樹脂を同一温度で溶融させることができ、両者を効率良く接着させることができる。また、使用するフィラー10は、単繊維8同士の間に埋没しないように、フィラー10の径が、事前に設定した繊維シート16における単繊維8同士の間の隙間の長さよりも大きなものを用いる。   Next, as shown to Fig.11 (a), the resin sheet 17 bonded together to the fiber sheet 16 impregnated with resin is prepared in advance. The resin sheet 17 contains a large number of spherical fillers 10 made of silica in, for example, an epoxy resin as the first resin, and is a semi-cured one. Here, the first resin and the second resin are preferably made of the same material. By using resins of the same material, both resins can be melted at the same temperature, and both can be efficiently bonded. Further, the filler 10 to be used is such that the diameter of the filler 10 is larger than the length of the gap between the single fibers 8 in the preset fiber sheet 16 so as not to be buried between the single fibers 8. .

そして、図11(b)に示すように、樹脂を含浸させた繊維シート16の一主面と樹脂シート17の他主面とを張り合わせる。その状態で、例えば加熱プレス機を用いて、両者に例えば100度以上140度以下の温度で、例えば20分以上40分以下の時間、例えば1.0MPa以上3.5MPa以下の圧力で、熱を加えながらプレスする。そして、第1樹脂と第2樹脂とを溶融させることによって、まず両者を接着させることができ、さらに第1樹脂と第2樹脂とが溶融している状態で、プレスを行うことで、樹脂シート17に含まれるフィラー10を単繊維8に押圧することができる。ここで、繊維シート16の単繊維8同士の間には、樹脂が埋まっているので、樹脂シート17の樹脂は適度に軟化するが、樹脂シート17の樹脂が単繊維8同士の間には進入することがなく、繊維シート16の厚みを保って、繊維シート16と樹脂シート17とを接着させることができる。この工程により、図11(c)に示すように、繊維シート16及び樹脂シート17とから成る基体21が得られる。この状態では、製品として使用できるまで樹脂は、硬化し終わっていないが、単繊維8は、一方向に沿って整列して配列されており、フィラー10で押圧されることで、単繊維8が隣接する単繊維8から離れて突出するのを抑制することができ、フィラー10と接する単繊維8は、一方向に沿って敷き詰められた状態で保持することができる。なお、かかる状態における樹脂の溶融粘度は、例えば10000Pa・s以上である。   And as shown in FIG.11 (b), one main surface of the fiber sheet 16 impregnated with resin and the other main surface of the resin sheet 17 are bonded together. In that state, for example, using a heating press machine, heat is applied to both at a temperature of, for example, 100 degrees to 140 degrees, for a time of 20 minutes to 40 minutes, for example, a pressure of 1.0 MPa to 3.5 MPa. Press while adding. Then, by melting the first resin and the second resin, it is possible to first bond them together, and further, by pressing in a state where the first resin and the second resin are melted, a resin sheet The filler 10 contained in 17 can be pressed against the single fiber 8. Here, since the resin is buried between the single fibers 8 of the fiber sheet 16, the resin of the resin sheet 17 softens moderately, but the resin of the resin sheet 17 enters between the single fibers 8. Therefore, the fiber sheet 16 and the resin sheet 17 can be bonded while maintaining the thickness of the fiber sheet 16. By this step, as shown in FIG. 11C, a base 21 composed of the fiber sheet 16 and the resin sheet 17 is obtained. In this state, the resin has not been cured until it can be used as a product. However, the single fibers 8 are aligned and arranged along one direction, and the single fibers 8 are pressed by the filler 10. Protruding away from the adjacent single fiber 8 can be suppressed, and the single fiber 8 in contact with the filler 10 can be held in a state of being spread along one direction. Note that the melt viscosity of the resin in this state is, for example, 10,000 Pa · s or more.

次に、図11(d)に示すように、貼り合わせて樹脂を硬化させた繊維シート16及び樹脂シート17から成る基体21を複数積層し、この状態で例えば加熱プレス機を用いて加熱加圧することによって樹脂を硬化させ、複合基板5を作製することができる。絶縁層の間には例えばエポキシ樹脂等の接着剤を介してもよい。貼り合わせた繊維シート16と樹脂シート17に対して、例えば180度以上220度以下の温度で、例えば50分以上70分以下の時間、例えば2.5MPa以上3.5MPa以下の圧力で、熱を加えながらプレスすることで樹脂を硬化させ、各絶縁層を一体化することができる。単繊維8は、一方向に沿って整列して配列されており、フィラー10で押圧しながら樹脂を硬化させることで、単繊維8が隣接する単繊維8から離れて突出するのを抑制することができ、単繊維8をフィラー10で押圧した状態で樹脂を硬化させることができる。なお、図11(d)においては、単繊維層12が三層構造となるように設定したプリプレグ19を、基体21同士の間に介在させたものを示しているが、作製する複合基板5の厚みに応じて、適宜積層構造を変更しても構わない。   Next, as shown in FIG. 11 (d), a plurality of bases 21 composed of a fiber sheet 16 and a resin sheet 17 that are bonded and cured with resin are laminated, and in this state, for example, heated and pressurized using a heating press. Thus, the resin can be cured and the composite substrate 5 can be manufactured. An adhesive such as an epoxy resin may be interposed between the insulating layers. Heat is applied to the bonded fiber sheet 16 and the resin sheet 17 at a temperature of, for example, 180 ° to 220 ° C., for example, for a time of 50 minutes to 70 minutes, for example, a pressure of 2.5 MPa to 3.5 MPa. The resin can be cured by pressing while applying, and the insulating layers can be integrated. The single fibers 8 are aligned and arranged along one direction, and the resin is cured while being pressed by the filler 10 to suppress the single fibers 8 from protruding away from the adjacent single fibers 8. The resin can be cured in a state where the single fiber 8 is pressed with the filler 10. In FIG. 11 (d), the prepreg 19 set so that the single fiber layer 12 has a three-layer structure is shown interposed between the bases 21, but the composite substrate 5 to be manufactured is shown. Depending on the thickness, the laminated structure may be changed as appropriate.

以下に、上述した実装構造体1の第3の製造方法を説明する。図12(a)に示すように、樹脂シート17上に、ポリパラフェニレンベンズビスオキサゾール樹脂から成る単繊維8を、一方向に沿って配列した繊維シート16を載置する。具体的には、樹脂シート17は例えば加熱プレス機を用いて、両者に例えば100度以上140度以下の温度で、例えば20分以上40分以下の時間、例えば1.0MPa以上3.5MPa以下の圧力で、熱を加えながらプレスし、半硬化状態にする。この状態では、製品として使用できるまで樹脂は、硬化し終わっていない。さらに、台上に樹脂シート17を設け、その上に、枠体に単繊維8を巻く等の方法で作製した繊維シート16を重ねる。重ねた後で、例えばアーク放電処理、プラズマ処理又は紫外線処理等により単繊維8の表面の付着物を除去することができる。   Below, the 3rd manufacturing method of the mounting structure 1 mentioned above is demonstrated. As shown in FIG. 12A, a fiber sheet 16 in which single fibers 8 made of polyparaphenylene benzbisoxazole resin are arranged along one direction is placed on a resin sheet 17. Specifically, the resin sheet 17 is, for example, heated using a hot press machine at a temperature of 100 degrees to 140 degrees, for example, a time of 20 minutes to 40 minutes, for example, 1.0 MPa to 3.5 MPa. Press while applying heat with pressure to make it semi-cured. In this state, the resin has not been cured until it can be used as a product. Furthermore, the resin sheet 17 is provided on the stand, and the fiber sheet 16 produced by a method such as winding the single fiber 8 around the frame is stacked thereon. After the stacking, the deposits on the surface of the single fiber 8 can be removed by, for example, arc discharge treatment, plasma treatment or ultraviolet treatment.

そして、図12(b)に示すように、繊維シート16上に樹脂フィルム20を載置する。なお、樹脂フィルム20に代えて、繊維シート16上にワニス状態の樹脂を塗布してもよい。ワニスは、熱硬化性樹脂の原料を溶剤に溶かし、液状としたものである。   And the resin film 20 is mounted on the fiber sheet 16, as shown in FIG.12 (b). Instead of the resin film 20, a varnished resin may be applied on the fiber sheet 16. A varnish is obtained by dissolving a raw material of a thermosetting resin in a solvent to form a liquid.

次に、図12(c)に示すように、重ねた樹脂シート17、繊維シート16及び樹脂フィルム20に対し、第2の製造方法と同様に、樹脂フィルム20を溶かして、繊維シート17の単繊維8同士の間に樹脂を進入させて、樹脂を半硬化させることができる。具体的には、真空中にて、例えば70度以上110度以下の熱を加えながら、例えば0.1MPa以上1.0MPa以下の圧力を、例えば20分以上40分以下の時間加えることで、繊維シート16の単繊維8同士の間に樹脂を充填させることができる。その結果、半硬化した樹脂を含浸した繊維シート16を作製することができる。   Next, as shown in FIG. 12 (c), the resin film 20 is melted in the overlapped resin sheet 17, fiber sheet 16, and resin film 20 in the same manner as in the second manufacturing method, and the fiber sheet 17 is simply separated. A resin can be made to enter between the fibers 8 so that the resin can be semi-cured. Specifically, the fiber is applied by applying a pressure of, for example, 0.1 MPa or more and 1.0 MPa or less, for example, for 20 minutes or more and 40 minutes or less while applying heat of 70 degrees or more and 110 degrees or less in vacuum. The resin can be filled between the single fibers 8 of the sheet 16. As a result, the fiber sheet 16 impregnated with the semi-cured resin can be produced.

さらに、図12(d)に示すように、設計する厚みに応じて、接着した繊維シート16及び樹脂シート17を複数重ね合わせて、第2の製造方法と同様に、例えば2.5MPa以上3.5MPa以下の圧力で、熱を加えながらプレスすることで、各絶縁層を一体化し樹脂を硬化させて、複合基板5を作製することができる。   Further, as shown in FIG. 12 (d), a plurality of bonded fiber sheets 16 and resin sheets 17 are overlapped according to the designed thickness, and, for example, 2.5 MPa or more, as in the second manufacturing method. By pressing at a pressure of 5 MPa or less while applying heat, the insulating layers are integrated and the resin is cured, whereby the composite substrate 5 can be manufactured.

本発明の実施形態に係る実装構造体の平面図である。It is a top view of the mounting structure concerning an embodiment of the present invention. 本発明の実施形態に係る実装構造体の断面図である。It is sectional drawing of the mounting structure which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施形態に係る繊維層と樹脂層との界面を示す拡大断面図である。It is an expanded sectional view showing an interface of a fiber layer and a resin layer concerning an embodiment of the present invention. 図4(a)から図4(e)は、本発明の実施形態に係る複合基板の製造工程を説明する断面図である。FIG. 4A to FIG. 4E are cross-sectional views illustrating the manufacturing process of the composite substrate according to the embodiment of the present invention. 図5(a)から図5(c)は、本発明の実施形態に係る複合基板の製造工程を説明する断面図である。FIG. 5A to FIG. 5C are cross-sectional views illustrating the manufacturing process of the composite substrate according to the embodiment of the present invention. 図6(a)から図6(c)は、本発明の実施形態に係る複合基板の製造工程を説明する断面図である。FIG. 6A to FIG. 6C are cross-sectional views illustrating the manufacturing process of the composite substrate according to the embodiment of the present invention. 図7(a)から図7(c)は、本発明の実施形態に係る複合基板の製造工程を説明する断面図である。FIG. 7A to FIG. 7C are cross-sectional views illustrating the manufacturing process of the composite substrate according to the embodiment of the present invention. 本発明のその他の実施形態に係る実装構造体の断面図である。It is sectional drawing of the mounting structure which concerns on other embodiment of this invention. 従来技術を説明する繊維を含有する樹脂の断面図である。It is sectional drawing of resin containing the fiber explaining a prior art. 図10(a)から図10(c)は、本発明の実施形態に係る複合基板の第2の製造工程を説明する断面図である。FIG. 10A to FIG. 10C are cross-sectional views illustrating a second manufacturing process of the composite substrate according to the embodiment of the present invention. 図11(a)から図11(d)は、本発明の実施形態に係る複合基板の第2の製造工程を説明する断面図である。FIG. 11A to FIG. 11D are cross-sectional views illustrating a second manufacturing process of the composite substrate according to the embodiment of the present invention. 図12(a)から図12(d)は、本発明の実施形態に係る複合基板の第3の製造工程を説明する断面図である。FIG. 12A to FIG. 12D are cross-sectional views illustrating a third manufacturing process of the composite substrate according to the embodiment of the present invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 実装構造体
2 配線基板
3 バンプ
4 半導体素子
5 複合基板
6 導電層
6a 信号線路
6b グランド層
7 絶縁層
7a 接着層
7b フィルム層
8 単繊維
9 繊維層
10 フィラー
11 樹脂層
12 単繊維層
13 スルーホール導体
14 絶縁体
15 ビア導体
16 繊維シート
17 樹脂シート
18 プリプレグシート
19 プリプレグ
S スルーホール
H 領域
B ビア孔
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Mounting structure 2 Wiring board 3 Bump 4 Semiconductor element 5 Composite substrate 6 Conductive layer 6a Signal line 6b Ground layer 7 Insulating layer 7a Adhesive layer 7b Film layer 8 Single fiber 9 Fiber layer 10 Filler 11 Resin layer 12 Single fiber layer 13 Through Hole conductor 14 insulator 15 via conductor 16 fiber sheet 17 resin sheet 18 prepreg sheet 19 prepreg S through hole H region B via hole

Claims (9)

一方向に配列された多数の単繊維を樹脂で含浸してなる繊維層と、
前記繊維層の一主面及び他主面を被覆するように形成され、前記繊維層の一主面及び他主面に堆積された多数のフィラーを含有する樹脂層と、を備え、
前記繊維層は、前記単繊維を一方向に配列してなる単繊維層を複数積層したものであって、前記樹脂層と前記単繊維層との間に介在される前記フィラーの含有量は、前記単繊維層同士の間に介在される前記フィラーの含有量よりも多いことを特徴とする複合基板。
A fiber layer formed by impregnating a large number of single fibers arranged in one direction with a resin;
A resin layer formed so as to cover one main surface and the other main surface of the fiber layer, and containing a plurality of fillers deposited on the one main surface and the other main surface of the fiber layer,
The fiber layer is a laminate of a plurality of single fiber layers formed by arranging the single fibers in one direction, and the filler content interposed between the resin layer and the single fiber layer is: The composite substrate, wherein the content of the filler is greater than the content of the filler interposed between the single fiber layers.
請求項1に記載の複合基板において、
前記繊維層に含まれる複数の前記単繊維層は、第1方向に沿って配列される前記単繊維層の数と、前記第1方向と異なる第2方向に沿って配列される前記単繊維層の数が等しいことを特徴とする複合基板。
The composite substrate according to claim 1,
The plurality of single fiber layers included in the fiber layer includes the number of single fiber layers arranged along a first direction and the single fiber layers arranged along a second direction different from the first direction. A composite substrate characterized in that the number of is equal.
請求項1又は請求項2に記載の複合基板において、
前記繊維層は、前記樹脂層と接する前記単繊維層における隣接する前記単繊維同士が、密接していることを特徴とする複合基板。
In the composite substrate according to claim 1 or 2,
The composite substrate, wherein the fiber layers are adjacent to each other in the single fiber layer in contact with the resin layer.
請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の複合基板において、
前記樹脂層の一主面及び他主面のうねりは、3μm以下であることを特徴とする複合基板。
The composite substrate according to any one of claims 1 to 3,
A swell of one principal surface and the other principal surface of the resin layer is 3 μm or less, and the composite substrate.
請求項1乃至請求項4のいずれかに記載の複合基板と、前記複合基板の一主面及び他主面に形成される導電層と、を備えたことを特徴とする配線基板。   5. A wiring board comprising: the composite substrate according to claim 1; and a conductive layer formed on one main surface and another main surface of the composite substrate. 請求項5に記載の配線基板と、前記配線基板にフリップチップ実装された半導体素子と、を備えたことを特徴とする実装構造体。   A mounting structure comprising: the wiring board according to claim 5; and a semiconductor element flip-chip mounted on the wiring board. 多数の単繊維を一方向に配列させた繊維シートと、フィラーを樹脂で含浸した樹脂シートを準備する工程と、
前記繊維シートの上面と前記樹脂シートの下面を対向配置する工程と、
前記樹脂シートを加熱しながら前記繊維体に向かって押圧し、軟化した前記樹脂を前記多数の単繊維同士の間の隙間を通し、前記繊維シートの下面まで流し込むとともに、前記樹脂シートの前記フィラーを、前記繊維シートの上面に堆積する工程と、
前記フィラーが前記繊維シートの上面に堆積している状態で、前記樹脂を硬化する工程と、
を備えていることを特徴とする複合基板の製造方法。
Preparing a fiber sheet in which a large number of single fibers are arranged in one direction, and a resin sheet impregnated with a filler;
A step of opposingly arranging the upper surface of the fiber sheet and the lower surface of the resin sheet;
While pressing the resin sheet while heating the resin sheet, the softened resin flows through the gaps between the single fibers and flows to the lower surface of the fiber sheet, and the filler of the resin sheet Depositing on the upper surface of the fiber sheet;
A step of curing the resin in a state where the filler is deposited on the upper surface of the fiber sheet;
A method of manufacturing a composite substrate, comprising:
請求項7に記載の複合基板の製造方法において、
前記フィラーが前記繊維シートの上面に堆積している状態で、前記フィラーが前記多数の単繊維を押圧し、前記多数の単繊維同士の間の隙間を小さくする工程と、
を備えたことを特徴とする複合基板の製造方法。
In the manufacturing method of the composite substrate of Claim 7,
In a state where the filler is deposited on the upper surface of the fiber sheet, the filler presses the multiple single fibers, and the gaps between the multiple single fibers are reduced, and
A method of manufacturing a composite substrate, comprising:
多数の単繊維を一方向に配列させた繊維シートと、フィラーを第1樹脂で含浸した樹脂シートを準備する工程と、
前記繊維シートの前記単繊維同士の間に第2樹脂を含浸する工程と、
前記第2樹脂を含浸した前記繊維シートと前記樹脂シートを張り合わせた状態で、両者に熱を加えて前記第1樹脂と前記第2樹脂とを接着させ、前記樹脂シートの前記フィラーを前記単繊維に押圧する工程と、
前記フィラーが前記単繊維を押圧している状態で、前記第1樹脂及び第2樹脂を硬化する工程と、
を備えたことを特徴とする複合基板の製造方法。
A step of preparing a fiber sheet in which a number of single fibers are arranged in one direction, and a resin sheet impregnated with a first resin in a filler;
Impregnating a second resin between the single fibers of the fiber sheet;
In a state where the fiber sheet impregnated with the second resin and the resin sheet are bonded together, heat is applied to both to bond the first resin and the second resin, and the filler of the resin sheet is used as the single fiber. Pressing to
A step of curing the first resin and the second resin in a state where the filler presses the single fiber;
A method of manufacturing a composite substrate, comprising:
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