JP2009034717A - 鋳造装置 - Google Patents

Abstract

【課題】装置を小型化可能であるとともに設備費用を低減でき、且つ生産性を向上することができる鋳造装置を提供することにある。
【解決手段】タンディッシュは、モールド４上に配置される下タンディッシュ６と、該下タンディッシュ６の上方に配置される上タンディッシュ５とから成り、前記下タンディッシュ６は、各モールド４の上方に夫々配置される注湯口６ｂを備え、前記注湯口６ｂに連通する貯留部１０は、該注湯口６ｂ間を仕切る仕切り部６ｃによって夫々仕切られており、前記上タンディッシュ５は、少なくとも一つの給湯口５ｂを有するとともに、前記下タンディッシュ６の各貯留部１０の上方を往復移動可能に支持され、各貯留部１０を経由する給湯口５ｂの移動距離が、これら貯留部１０の各注湯口６ｂを連絡する距離よりも小さく設定されていることを特徴とする。
【選択図】図１

Description

本発明は、金属材料を溶解した溶湯を鋳型に流し込み鋳造するための鋳造装置に関する。

金属材料を溶解した溶湯を鋳型となる複数のモールドに流し込み鋳造するための鋳造装置としては、例えば、特許文献１に開示されるものが知られている。この鋳造装置は、複数のモールドが直線状に配置され、これらモールドの上方を覆うように矩形皿状のタンディッシュが延在して設けられ、該タンディッシュの長手方向に沿って、溶湯を満たした溶解炉が移動可能に構成されることにより、これらモールドに溶湯を連続して供給し鋳造を行うようになっている。この鋳造装置によれば、複数のモールドに連続して溶湯を供給することができるので、その生産性が向上される。

一方、高信頼性が求められる原子力材や航空機材などに用いられる材料は、エレクトロスラグ再溶解法（ＥＳＲ：Ｅｌｅｃｔｒｏｓｌａｇ Ｒｅｍｅｌｔｉｎｇ）や真空アーク再溶解法（ＶＡＲ：Ｖａｃｕｕｍ Ａｒｃ Ｒｅｍｅｌｔｉｎｇ）と呼ばれる再溶解法によって製造される。これらの再溶解法は、製造される材料の清浄度向上と偏析軽減とに有用であることが知られている。

これらＥＳＲやＶＡＲでは、消耗電極と呼ばれる長尺の溶解母材を予め溶解・鋳造して作製しておき、この消耗電極を再度その下端より順次溶解して再凝固させる。これら消耗電極は鋳造によって作製され、その方法として、例えば、真空チャンバー内で真空誘導溶解炉を用いて溶解・鋳造を行う真空誘導溶解法（ＶＩＭ：Ｖａｃｕｕｍ Ｉｎｄｕｃｔｉｏｎ Ｍｅｌｔｉｎｇ）がある（特許文献２参照）。

このＶＩＭによる鋳造装置は、密閉可能な真空チャンバー内に、消耗電極の鋳型であるモールドと、金属材料を溶解し溶湯を貯える溶解炉である真空誘導溶解炉と、これらモールド及び真空誘導溶解炉の間に介在され溶湯の受け皿となるタンディッシュとが配設されて構成されている。そして、真空チャンバー内を真空雰囲気とし金属材料を溶解・鋳造して、品質の良好な消耗電極を作製するようになっている。
特開平３−２０４１６７号公報 特開平１０−１９７１５８号公報

ところで、前述のＶＩＭによる鋳造装置では、真空チャンバー内を真空雰囲気にする必要性から、該真空チャンバーの外径寸法を極力小さく抑えたいという要望がある。従って、生産性を向上するためとはいえ、特許文献１に示す鋳造装置のように、この真空チャンバー内に複数のモールドを直線状に配置し、これらモールドに溶湯を供給する真空誘導溶解炉を移動させる大掛かりな構造を設けることは、該真空チャンバーを大型化させるだけでなく鋳造装置自体をも巨大化させ、その設備・運用費用も高額なものになってしまうという問題があった。

そこで、真空誘導溶解炉を移動させずに、溶湯の受け皿であるタンディッシュのみを移動させて、溶湯を各モールドに供給する方法も考えられる。これによれば、真空チャンバー内に、真空誘導溶解炉を移動させるための大掛かりな構造を構築する必要はなく、比較的安価に装置を構築することができる。しかしながら、複数のモールドを直線状に配置すれば、その分真空チャンバーの外径寸法は大型化し、また移動するタンディッシュが真空誘導溶解炉から溶湯を注ぎ受ける受け皿状の貯留部の表面積も、それらモールドの配置に合わせ広く形成する必要があるので、該タンディッシュの大型化も避けられない。

そしてタンディッシュが大型化すれば、その自重が嵩むことにより該タンディッシュを移動させるための駆動設備も大型化し、その分費用が嵩むことになる。これらを鑑み、いかにして複数のモールドを省スペースに配置し、タンディッシュの移動距離を少なく抑えて小型化し、これらの外装部分の真空チャンバーを小型化するとともに、鋳造装置自体を小型化し、且つ生産性を向上できるかということが課題とされていた。

また、通常の大気雰囲気中において使用される鋳造装置においても、前述のＶＩＭによる鋳造装置同様に、複数のモールドにタンディッシュの移動によって溶湯を注湯する構成とし、装置を小型化することができれば、その分装置を安価に構築できるとともに、設置スペースを少なく抑えることができるのは言うまでもない。

本発明は、このような事情を考慮してなされたもので、装置を小型化可能であるとともに設備費用を低減でき、且つ生産性を向上することができる鋳造装置を提供することを目的とする。

前記目的を達成するために、本発明は以下の手段を提案している。すなわち本発明は、金属材料の溶湯を貯える溶解炉と、複数のモールドと、これら溶解炉及びモールドの間に介在して配置されるタンディッシュとを備える鋳造装置であって、前記タンディッシュは、前記モールド上に配置される下タンディッシュと、該下タンディッシュの上方に配置される上タンディッシュとから成り、前記下タンディッシュは、各モールドの上方に夫々配置される注湯口を備え、前記注湯口に連通する貯留部は、該注湯口間を仕切る仕切り部によって夫々仕切られており、前記上タンディッシュは、少なくとも一つの給湯口を有するとともに、前記下タンディッシュの各貯留部の上方を往復移動可能に支持され、各貯留部を経由する給湯口の移動距離が、これら貯留部の各注湯口を連絡する距離よりも小さく設定されていることを特徴とする。

この発明に係る鋳造装置によれば、溶解炉に貯えられる溶湯をモールドに供給するために介在させられる受け皿状のタンディッシュが、上タンディッシュと下タンディッシュとの上下２段で構成されている。そして、溶解炉から上タンディッシュへ注湯された溶湯は、該上タンディッシュが移動することによって下タンディッシュの各貯留部へと流し込まれ、各貯留部に設けられる夫々の注湯口を介して、その下方に設けられる各モールドに分散されて注湯されるようになっている。従って、溶湯を複数のモールドに注ぎ入れるために溶解炉自体を移動させる必要はなく、装置の構造を簡便・安価に構築することができる。

また、上タンディッシュは、下タンディッシュの各貯留部の上方を往復移動する構成とされ、その各貯留部を経由する移動距離の合計が、これら貯留部の各注湯口を連絡する距離よりも小さくなされて、その移動距離が極力少なく抑えられている。上タンディッシュの移動距離が極力少なく抑えられているので、該上タンディッシュが溶解炉から溶湯を注ぎ受ける部分の表面積も小さく形成することができ、小型化が可能となる。また上タンディッシュが小型化可能なため、その自重が軽減され、該上タンディッシュを移動させるための駆動設備も省力化でき、費用をより低減することができる。

また本発明の鋳造装置において、前記モールドは、前記上タンディッシュの下方近傍に集合して配置されていることとしてもよい。これによれば、複数のモールドは、溶解炉が傾動して溶湯を注ぎ入れる上タンディッシュの下方近傍に寄せ集められるように集合して配置されているので、この上タンディッシュから下タンディッシュの各貯留部を介し各モールドへ溶湯を注ぎ入れる際に、この上タンディッシュの移動距離をより少なく抑えることができるとともに、該上タンディッシュが溶湯を注ぎ受ける部分の表面積をより小さく形成することができる。

また、複数のモールドが寄せ集められるようにして配置されていることによって、装置全体の小型化が可能であるとともに、その設備費用を低減することができる。また、この鋳造装置によれば、複数のモールドが配設されており、これらモールドに連続して溶湯を供給し鋳造することができるので、生産性が向上される。

また本発明の鋳造装置において、前記溶解炉は、真空誘導溶解炉であり、前記溶解炉と、前記モールドと、前記タンディッシュとが、密閉可能な真空チャンバー内に設けられていることとしてもよい。これによれば、その真空チャンバー内を真空雰囲気にする必要性から該真空チャンバーの外径寸法を極力小さく抑えたいＶＩＭ等による鋳造装置についても、複数のモールドを省スペースに配置し、タンディッシュの移動距離を少なく抑えて小型化し、これらの外装部分の真空チャンバーを小型化でき、鋳造装置自体をも小型化できるとともに、設備・運用費用を低減でき、且つ生産性を向上することができる。

本発明に係る鋳造装置によれば、装置を小型化可能であるとともに設備費用を低減でき、且つ生産性を向上することができる。

以下、図面を参照し、この発明の実施の形態について説明する。
図１は本発明の一実施形態に係る鋳造装置を示す概略平面図、図２は鋳造装置を示す概略正面図、図３は鋳造装置を示す概略側面図、図４は上下タンディッシュの配置を示す概略平面図である。

本実施形態の鋳造装置１は、ＥＳＲやＶＡＲで使用される消耗電極を予め鋳造するための、真空誘導溶解法（ＶＩＭ）を用いた鋳造装置１である。図１に示すように、この鋳造装置１は、装置の外装部分をなす真空チャンバー２と、金属材料を溶解し貯え、また注ぐための真空誘導溶解炉（溶解炉）３と、溶湯を注ぎ入れる鋳型であるモールド４と、真空誘導溶解炉３及びモールド４の間に介在され溶湯Ｍの受け皿となる上タンディッシュ５と下タンディッシュ６とを備えている。

真空チャンバー２は、扉部（不図示）を有しており開閉可能とされるとともに、その内部を密閉し真空雰囲気状態とすることができるよう構成されている。図２及び図３において、真空チャンバー２の上部に設けられる室は原料添加室２ａを示す。

図１に示すように、真空誘導溶解炉３は、有底円筒状の形状を有しており、その円筒部分に誘導コイル（不図示）を内蔵し、その円筒穴状の炉内で金属材料を溶解し、溶解された溶湯Ｍを貯えることができるよう構成されている。またその上端縁部のモールド４側には、溶湯Ｍを注ぐための突出する樋状の注ぎ口３ａを備えている。また、該注ぎ口３ａの突出する向きと平面視直交する向きの、真空誘導溶解炉３の外周上には、径方向外方へ突出する炉軸３ｂが両側部に夫々設けられている。真空誘導溶解炉３は、この炉軸３ｂを中心軸として傾動可能とされており、溶湯Ｍを注湯する際には、炉軸３ｂが図１のＤ１方向に回転し、この真空誘導溶解炉３をモールド４側に傾動させて注湯するようになっている。

また、この真空チャンバー２内には、消耗電極を形成する鋳型となるモールド４が複数設けられている。本実施形態では、略円筒状の同一形状に形成されるモールド４が３個設けられており、この真空チャンバー２内の外方に２個、内方に１個が配設されて、モールド全体が平面視略三角形状に配置されている。またこれらモールド４は、真空誘導溶解炉３の注ぎ口３ａの下方近傍に寄せ集められるようにして、極力近接し集合して配置されており、また図２及び図３に示すように、その上端面４ａの高さは略同一とされている。これらモールド４は、例えば鋳鉄により形成されている。

また図１に示すように、これらモールド４の上部には、受け皿状の貯留部１０を有する下タンディッシュ６が固定されて配設されている。下タンディッシュ６は平面視略Ｔ字状の形状を有しており、その本体外周を壁部６ａに液密に囲まれて貯留部１０とされ、溶湯Ｍを該貯留部１０に注湯可能に形成されており、上方は開口されている。また、下タンディッシュ６の下面側の、各モールド４の上方に対応する位置には、夫々のモールド４に溶湯Ｍを注ぎ入れるための筒状の注湯口６ｂが設けられている。これら注湯口６ｂは下タンディッシュ６の上面から下面へ貫通する貫通孔とされて、貯留部１０に挿通している。

ここで、図４に示すように、図の左側に配置されるモールド４上方の注湯口６ｂから図の中央上に配置されるモールド４上方の注湯口６ｂまでの各注湯口６ｂの中心点間距離をＳ１とし、図の中央上に配置されるモールド４上方の注湯口６ｂから図の右側に配置されるモールド４上方の注湯口６ｂまでの各注湯口６ｂの中心点間距離をＳ２とする。そして、これらＳ１とＳ２との和で表される、これら注湯口６ｂ同士を連絡する距離の合計をＳとする。

また、下タンディッシュ６の上面の、平面視Ｔ字状のＴ字分岐点近傍には、２枚の仕切り板（仕切り部）６ｃが設けられており、各モールド４へ溶湯Ｍを供給する注湯口６ｂが夫々これら仕切り板６ｃによって仕切られている。図４において、これら仕切り板６ｃにより仕切られた下タンディッシュ６の上面の貯留部１０を、図の左から貯留部１０ａ，１０ｂ，１０ｃとして示す。

また下タンディッシュ６の上方には、真空誘導溶解炉３の注ぎ口３ａから溶湯Ｍを注ぎ入れる、受け皿状の貯留部１１を有する上タンディッシュ５が設けられている。上タンディッシュ５は略矩形皿状の形状を有しており、前述の下タンディッシュ６同様、その周囲が壁部５ａに液密に囲まれて貯留部１１とされ、溶湯Ｍを該貯留部１１に注湯可能に形成されており、上方は開放されている。また、上タンディッシュ５の下面側の、下タンディッシュ６の２枚の仕切り板６ｃの近傍上方の位置には、該下タンディッシュ６に溶湯Ｍを注ぎ入れるための筒状の給湯口５ｂが設けられている。この給湯口５ｂは、上タンディッシュ５の上面から下面へ貫通する貫通孔とされて、貯留部１１に挿通している。

また図４の矢印Ｄ３に示すように、この上タンディッシュ５は、真空誘導溶解炉３の注ぎ口３ａの突出する向きと平面視直交する向きにスライド可能に構成されている。またこの上タンディッシュ５の側部の一方側（図４において右側）の壁部５ａの外方には、油圧シリンダーからなる駆動設備５ｃが、その伸縮可能なロッド先端部を該壁部５ａに固定して配設されている。そして上タンディッシュ５はこの駆動設備５ｃに支持され、この駆動設備５ｃのロッドが伸縮し、間欠直線運動することによって、矢印Ｄ３方向に往復移動可能に構成されている。また、上タンディッシュ５及び下タンディッシュ６は、例えば耐火セメント、煉瓦、不定形炉材又はカーボンにより形成されている。

下タンディッシュ６の上面の２枚の仕切り板６ｃによって仕切られる各貯留部１０ａ，１０ｂ，１０ｃには、それらの上方を矢印Ｄ３方向に移動する上タンディッシュ５の給湯口５ｂから、夫々溶湯Ｍが注ぎ入れられるようになっている。

ここで、図４の実線で示す上タンディッシュ５の位置は、給湯口５ｂ（実線）から貯留部１０ａに溶湯Ｍを注湯する状態を示しており、これが上タンディッシュ５の移動範囲の左端とされている。この位置において、真空誘導溶解炉３の注ぎ口３ａの先端は、図に示すように、上タンディッシュ５の貯留部１１の上方に位置している。また、この上タンディッシュ５の位置の、注湯口３ａを中心として平面視左右対称の位置に２点鎖線で示される上タンディッシュ５の位置は、給湯口５ｂから貯留部１０ｃに溶湯Ｍを注湯する状態を示しており、これが上タンディッシュ５の移動範囲の右端とされている。またこれら上タンディッシュ５の移動範囲の左右端の中間の位置が、給湯口５ｂから貯留部１０ｂに溶湯Ｍを注湯する状態を示しており、これらすべての位置において、真空誘導溶解炉３の注ぎ口３ａの先端は、上タンディッシュ５の貯留部１１の上方に位置するようになっている。

図４に示すように、上タンディッシュ５の移動距離の合計Ｌは、貯留部１０ａに溶湯Ｍを注湯する給湯口５ｂの位置から貯留部１０ｂに溶湯Ｍを注湯する給湯口５ｂの位置までの各給湯口５ｂの中心点間距離Ｌ１と、貯留部１０ｂに溶湯Ｍを注湯する給湯口５ｂの位置から貯留部１０ｃに溶湯Ｍを注湯する給湯口５ｂの位置までの各給湯口５ｂの中心点間距離Ｌ２との合計で示される。この各貯留部１０上方を経由する移動距離の合計Ｌは、前述の下タンディッシュ６の注湯口６ｂ同士を連絡する距離の合計Ｓに比べ、小さい値になるよう設定されている。

次に、この鋳造装置１を用いた鋳造について説明する。
まず、真空チャンバー２内を真空雰囲気状態とし、その真空誘導溶解炉３内に、金属材料を溶解して溶湯Ｍを貯えておく。次に、図１に示すように、真空誘導溶解炉３を炉軸３ｂを中心軸として矢印Ｄ１方向に傾動させ、注ぎ口３ａから、上タンディッシュ５の貯留部１１へと溶湯Ｍを流し入れる。この際、上タンディッシュ５は、予め図４の実線で示す貯留部１０ａ上方の位置（図の左側）に給湯口５ｂがくるように移動させておく。

上タンディッシュ５に注がれた溶湯Ｍは、上タンディッシュ５の給湯口５ｂを介し、その下方に配置される下タンディッシュ６の貯留部１０ａへと流し込まれていく。そして、溶湯Ｍは、下タンディッシュ６の貯留部１０ａに設けられる注湯口６ｂへと流れ込み、該注湯口６ｂを介しその下方に配置されるモールド４（図４の左側）へと流し込まれていく。このモールド４に注湯される溶湯Ｍの量は、装置に設けられる計量部（不図示）によって計量・制御されている。

このモールド４（図４の左側）に溶湯Ｍが満たされると、次に、この上タンディッシュ５は駆動設備５ｃの間欠直線移動によって、図４の右側へと移動していき、下タンディッシュ６の貯留部１０ｂの上方にその給湯口５ｂがくるように配置されて、停止する。そして真空誘導溶解炉３を傾動させ、注ぎ口３ａから上タンディッシュ５へ溶湯Ｍを流し入れると、溶湯Ｍはこの上タンディッシュ５の給湯口５ｂを介し、その下方に配置される貯留部１０ｂへと流し込まれていく。そして溶湯Ｍは、この貯留部１０ｂに設けられる注湯口６ｂを介して、その下方に配置されるモールド４（図４の中央上）へと流し込まれていく。

このモールド４に溶湯Ｍが満たされると、次に、この上タンディッシュ５は駆動設備５ｃの間欠直線移動によりさらに図の右側へと移動していき、下タンディッシュ６の貯留部１０ｃの上方にその給湯口５ｂがくるように配置されて、停止する。そして真空誘導溶解炉３を傾動させ、注ぎ口３ａから上タンディッシュ５へと溶湯Ｍを流し入れると、溶湯Ｍはこの上タンディッシュ５の給湯口５ｂを介し、その下方に配置される貯留部１０ｃへと流し込まれていく。そして溶湯Ｍは、この貯留部１０ｃに設けられる注湯口６ｂを介して、その下方に配置されるモールド４（図４の右側）へと流し込まれていく。このようにして、順次すべてのモールド４に溶湯Ｍが満たされて、鋳造が行われるようになっている。

以上説明したように、この実施形態に係る鋳造装置１によれば、真空誘導溶解炉（溶解炉）３に貯えられる溶湯Ｍをモールド４に供給するために介在させられる受け皿状のタンディッシュが、上タンディッシュ５と下タンディッシュ６との上下２段で構成されている。そして下タンディッシュ６が複数のモールド４上に配置され、各モールド４上に注湯口６ｂを備え、該下タンディッシュ６の上方に上タンディッシュ５が移動可能に設けられており、真空誘導溶解炉３から上タンディッシュ５へ注湯された溶湯Ｍは、該上タンディッシュ５が移動することによって下タンディッシュ６の各貯留部１０ａ，１０ｂ，１０ｃへと流し込まれ、各貯留部１０ａ，１０ｂ，１０ｃに夫々設けられる注湯口６ｂを介して、その下方の各モールド４に分散されて注湯されるようになっている。従って、溶湯Ｍを複数のモールド４に注ぎ入れるために真空誘導溶解炉３自体を移動させる必要はなく、装置の構造を簡便・安価に構築することができる。

また、上タンディッシュ５は、下タンディッシュ６の各貯留部１０ａ，１０ｂ，１０ｃの上方を往復移動する構成とされ、その各貯留部１０を経由する移動距離の合計Ｌが、これら貯留部１０の各注湯口６ｂを連絡する距離Ｓよりも小さくなされて、その移動距離Ｌが極力少なく抑えられている。上タンディッシュ５の移動距離Ｌが極力少なく抑えられているので、該上タンディッシュ５が真空誘導溶解炉３から溶湯Ｍを注ぎ受ける貯留部１１の表面積も小さく形成することができ、小型化が可能となる。また上タンディッシュ５が小型化可能なため、その自重が軽減され、該上タンディッシュ５を移動させるための駆動設備５ｃも省力化でき、費用をより低減することができる。

また、これらモールド４は、真空誘導溶解炉３が傾動して溶湯Ｍを注ぎ入れる上タンディッシュ５の下方近傍に寄せ集められるように集合して配置されているので、この上タンディッシュ５から下タンディッシュ６を介し各モールド４へ溶湯Ｍを分散して注ぎ入れる際に、この上タンディッシュ５の移動距離Ｌをより少なく抑えることができるとともに、該上タンディッシュ５が溶湯Ｍを注ぎ受ける貯留部１１の表面積をより小さく形成することができる。

また、この上タンディッシュ５の小型化と、３個のモールド４が寄せ集められるようにして配置されていることとにより、装置全体の小型化が可能であるとともに、その設備費用を低減することができる。また、この鋳造装置１によれば、真空チャンバー２内には３個のモールド４が配設されており、一度の鋳造でこれらモールド４に連続して溶湯Ｍを供給し鋳造することができるので、生産性を向上することができる。

なお、本発明は前記実施の形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。例えば、本実施形態においては、鋳造装置１は真空チャンバー２内を真空雰囲気とし鋳造するためのＶＩＭによる鋳造装置１としたが、これに限らず、大気雰囲気中で鋳造する通常の鋳造装置であっても構わない。

そして通常の鋳造装置においても、前述のＶＩＭによる鋳造装置１同様に、複数のモールド４上に下タンディッシュ６を配置し、該下タンディッシュ６の上方に移動可能な上タンディッシュ５を配置して溶解炉から各モールド４に溶湯Ｍを注湯する構成とすれば、装置の小型化・省力化・費用低減・生産性向上が可能であり、本実施形態同様の効果を有することは言うまでもない。

また本実施形態では、上タンディッシュ５の移動は、図４の左側から右側へ行うとしたが上タンディッシュ５の移動距離Ｌを極力少なく抑えられればこれに限られず、移動を図４の右側から左側としても構わない。

また本実施形態では、真空チャンバー２内に配設されるモールド４の数量を３個としたが、これに限らず、２個又は４個を集合させて配置させたり、或いはそれ以上の数量を集合させて配置させたりしても構わない。またその配置も、上タンディッシュ５の移動距離Ｌが極力少なく抑えられるよう構成されればよく、どのような配置でも構わない。

また、本実施形態では上タンディッシュ５の駆動設備５ｃとして油圧シリンダーを用いたが、これに限らず、例えばエアシリンダーやリニアアクチュエーターを用いても構わない。

本発明の一実施形態に係る鋳造装置を示す概略平面図である。 本発明の一実施形態に係る鋳造装置を示す概略正面図である。 本発明の一実施形態に係る鋳造装置を示す概略側面図である。 上下タンディッシュの配置を示す概略平面図である。

符号の説明

１ 鋳造装置
２ 真空チャンバー
３ 真空誘導溶解炉（溶解炉）
４ モールド
５ 上タンディッシュ
５ｂ 給湯口
６ 下タンディッシュ
６ｂ 注湯口
６ｃ 仕切り板（仕切り部）
１０（１０ａ，１０ｂ，１０ｃ） 貯留部
Ｄ３ 上タンディッシュの往復移動方向
Ｍ 溶湯
Ｌ 各貯留部を経由する給湯口の移動距離の合計（Ｌ１＋Ｌ２）
Ｓ 貯留部の各注湯口を連絡する距離の合計（Ｓ１＋Ｓ２）

Claims (3)

1. 金属材料の溶湯を貯える溶解炉と、複数のモールドと、これら溶解炉及びモールドの間に介在して配置されるタンディッシュとを備える鋳造装置であって、
   前記タンディッシュは、前記モールド上に配置される下タンディッシュと、該下タンディッシュの上方に配置される上タンディッシュとから成り、
   前記下タンディッシュは、各モールドの上方に夫々配置される注湯口を備え、
   前記注湯口に連通する貯留部は、該注湯口間を仕切る仕切り部によって夫々仕切られており、
   前記上タンディッシュは、少なくとも一つの給湯口を有するとともに、前記下タンディッシュの各貯留部の上方を往復移動可能に支持され、
   各貯留部を経由する給湯口の移動距離が、これら貯留部の各注湯口を連絡する距離よりも小さく設定されていることを特徴とする鋳造装置。
2. 請求項１記載の鋳造装置であって、
   前記モールドは、前記上タンディッシュの下方近傍に集合して配置されていることを特徴とする鋳造装置。
3. 請求項１または請求項２記載の鋳造装置であって、
   前記溶解炉は、真空誘導溶解炉であり、
   前記溶解炉と、前記モールドと、前記タンディッシュとが、密閉可能な真空チャンバー内に設けられていることを特徴とする鋳造装置。

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