JP2009033152A - Ceramic structure, and manufacturing method thereof - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing efficiently a ceramic structure which is equipped with a conductor of linear configuration inside, preventing or avoiding disadvantage caused by the shrinkage of ceramics in sintering. <P>SOLUTION: The ceramic structure includes a ceramic material 24 which forms a ceramic matrix of the ceramic structure by sintering, and a conductor material 26 containing a conductor constituent, which is equipped with a hollow portion 30a capable of absorbing shrinkage stress applied to the relevant conductor material 26 in the inside thereof, wherein a conductive material containing ceramic formed body 22 containing the conductor material 26 in the ceramic material 24 in the linear configuration is prepared and this ceramic formed body 22 is sintered. By the deformation or the shrinkage of the hollow portion 30a, the conductor material 26 absorbs the shrinkage stress generated in sintering, making it possible to suppress the generation of tensile stress in the ceramics matrix. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、内部に導線を備えるセラミックス構造体及びその製造方法に関する。   The present invention relates to a ceramic structure having a lead wire inside and a method for manufacturing the same.

内部に導線を備えるセラミックス構造体としては、セラミックインダクタやノイズフィルタ等の電子部品が挙げられる。こうしたセラミックス構造体について各種の製造方法が知られている。例えば、セラミックスグリーンシートを積層するごとに導体層を印刷により形成し、シートに形成したバイアホールを介して導通させて製造する方法が知られている(特許文献1、2)。また、連続する導線を内包するよう鋳込んだセラミックススラリーをゲルキャスト法で成形して、その後硬化及び焼結させて製造することも記載されている(特許文献3、4)。
特開平6−163269号公報 特開平6−275438号公報 特開平11−126724号公報 特開平11−345731号公報
Examples of the ceramic structure having a conductive wire inside include electronic components such as a ceramic inductor and a noise filter. Various manufacturing methods are known for such a ceramic structure. For example, a method is known in which a conductor layer is formed by printing each time a ceramic green sheet is laminated, and is made conductive through via holes formed in the sheet (Patent Documents 1 and 2). In addition, it is also described that a ceramic slurry cast so as to enclose a continuous conductive wire is molded by a gel cast method, and then cured and sintered (Patent Documents 3 and 4).
JP-A-6-163269 JP-A-6-275438 JP-A-11-126724 Japanese Patent Laid-Open No. 11-345731

連続した導線を内包した成形体を得て、これらを焼結により一体化する方法は、積層や印刷を利用する手法に比べて製造工程の複雑さを回避して効率的な製造が可能である点で有望である。また、金属コイル線の利用が可能である点において、電子機器等に用いる大電流用インダクタやノイズフィルタの製造方法として有用である。さらに、ゲルキャスト法は、高精度な形状付与が可能であるため微細化にもメリットがある。   The method of obtaining a molded body containing continuous conductive wires and integrating them by sintering can avoid the complexity of the manufacturing process and can be efficiently manufactured as compared with the technique using lamination or printing. Promising in terms. In addition, since a metal coil wire can be used, it is useful as a manufacturing method of a large current inductor or a noise filter used for an electronic device or the like. Furthermore, the gel casting method has a merit in miniaturization because a highly accurate shape can be imparted.

しかしながら、焼結時のセラミックスと導線との収縮率の差によってセラミックスに引張り応力等がかかり焼結体が割れてしまうか残留応力によって遅れ破壊や機械的強度が経時的に低下するなどの問題があった。特に、螺旋形態を有する導線を内包する場合においては顕著であった。また、セラミックスに引張応力がかかることにより電気的特性が低下するおそれもあった。したがって、現状においては、ゲルキャスト法などによってこの種のセラミックス構造体を得るのは現実的ではなかった。   However, due to the difference in shrinkage between the ceramics and the lead wire during sintering, tensile stress, etc. is applied to the ceramics and the sintered body breaks, or the residual stress causes delayed fracture and mechanical strength decreases over time. there were. This was particularly noticeable in the case of enclosing conductive wires having a spiral form. In addition, there is a possibility that electrical characteristics are deteriorated by applying tensile stress to ceramics. Therefore, at present, it is not realistic to obtain this type of ceramic structure by a gel cast method or the like.

そこで、本発明は、焼結時におけるセラミックスの収縮による不都合を抑制又は回避して内部に導線を備えるセラミックス構造体を効率的に製造する方法を提供することを一つの目的とする。また、本発明は、内部にコイルなどの導線を備えセラミックスへの焼結時の応力による影響が抑制又は回避されたセラミックス構造体を提供することを他の一つの目的とする。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a method for efficiently producing a ceramic structure having a lead wire inside while suppressing or avoiding inconvenience due to ceramic shrinkage during sintering. Another object of the present invention is to provide a ceramic structure that includes a lead wire such as a coil therein, and that suppresses or avoids the influence of stress during sintering on the ceramic.

本発明者らは、線状形態の導体材料を内包することによるセラミックスの焼結時に発生する収縮応力を導体材料の内側に備える応力吸収能によって吸収することで効果的にセラミックスにおける引張り応力等の発生を抑制又は回避して、割れが抑制された焼結体を得ることができることを見出した。これらの知見に基づき以下の手段が提供される。   The present inventors effectively absorb the shrinkage stress generated during the sintering of the ceramic by encapsulating the conductor material in a linear form by the stress absorbing ability provided inside the conductor material, thereby effectively reducing the tensile stress and the like in the ceramic. It has been found that a sintered body in which cracking is suppressed can be obtained by suppressing or avoiding generation. Based on these findings, the following means are provided.

本発明によれば、内部に線状形態の導体を備えるセラミックス構造体の製造方法であって、前記セラミックス構造体のセラミックスマトリックスを焼結により生成するセラミックス材料と、導体成分を含む導体材料であって、その内側に当該導体材料にかかる収縮応力を吸収可能な応力吸収能を備える導体材料と、を備え、前記セラミックス材料中に前記導体材料を線状形態で内包する導体材料内包セラミックス成形体を準備する成形体準備工程と、前記導体材料内包セラミックス成形体を焼結する焼成工程と、を備える、製造方法が提供される。   According to the present invention, there is provided a method for manufacturing a ceramic structure including a linear conductor inside, wherein the ceramic material is formed by sintering a ceramic matrix of the ceramic structure, and the conductive material includes a conductor component. A conductive material-encapsulating ceramic molded body including a conductive material having a stress-absorbing ability capable of absorbing shrinkage stress applied to the conductive material on the inner side, and encapsulating the conductive material in a linear form in the ceramic material. There is provided a manufacturing method including a formed body preparation step to be prepared and a firing step for sintering the conductor material-containing ceramic formed body.

本製造方法においては、前記成形体準備工程は、前記のセラミックス材料に前記導体材料の表面を密着させた状態で内包された前記導体材料内包セラミックス成形体を準備する工程とすることができる。また、前記セラミックス焼成工程で前記導体材料の表面近傍に発生する収縮応力を緩和することができる。   In this manufacturing method, the said compact body preparation process can be made into the process of preparing the said conductor material inclusion ceramic molded body included in the state which made the surface of the said conductor material closely_contact | adhere to the said ceramic material. Moreover, the shrinkage stress generated in the vicinity of the surface of the conductor material in the ceramic firing step can be relaxed.

また、前記導体材料は、前記収縮応力により変形又は縮小可能な中空部を有していてもよいし、この中空部は前記導体材料を長尺方向に貫通する貫通孔部及び/又は前記導体材料に分散される多数の孔部を含むことができる。さらに、前記導体材料は、前記焼成工程において焼失又は昇華により減容可能な減容成分を含むことができる。また、前記線状形態は、螺旋形態を含めることができる。   The conductor material may have a hollow portion that can be deformed or reduced by the shrinkage stress, and the hollow portion has a through-hole portion that penetrates the conductor material in a longitudinal direction and / or the conductor material. A plurality of pores dispersed in the substrate. Furthermore, the conductive material may include a volume reducing component that can be reduced by burning or sublimation in the baking step. Further, the linear form may include a spiral form.

本製造方法においては、前記成形体準備工程は、セラミックス粉末、反応性官能基を有する有機分散媒及びゲル化剤を含有し前記有機分散媒と前記ゲル化剤との反応により固化されるセラミックススラリーを用いて前記セラミックス成形体を作製する工程とすることができる。   In this production method, the compact preparation step includes ceramic powder, an organic dispersion medium having a reactive functional group, and a gelling agent, which is solidified by a reaction between the organic dispersion medium and the gelling agent. It can be set as the process of producing the said ceramic molded object using.

本製造方法では、前記導体材料は前記線状形態を有する線状部材とすることができ、この線状部材は可撓性を備えることが好ましい。この態様においては、前記成形体準備工程は、前記線状形態の導体材料を配した成形用キャビティに前記セラミックス材料のスラリーを供給して前記線状導体材料内包セラミックス成形体を作製する工程とすることができる。   In this manufacturing method, the said conductor material can be made into the linear member which has the said linear form, It is preferable that this linear member is equipped with flexibility. In this aspect, the formed body preparation step is a step of supplying the ceramic material slurry to a forming cavity in which the linear form of the conductor material is arranged to produce the linear conductor material-containing ceramic formed body. be able to.

前記成形体準備工程は、前記線状部材を所定の外形の未焼成又は既焼成のセラミックス成形体に巻き付けた状態で前記成形用キャビティに配置することを含む工程としてもよい。また、前記セラミックス成形体は、前記線状部材を巻き付けするためのガイドを備えていてもよい。   The forming body preparing step may include a step of disposing the linear member in the forming cavity in a state where the linear member is wound around an unfired or already fired ceramic formed body having a predetermined outer shape. The ceramic molded body may include a guide for winding the linear member.

本製造方法では、前記成形体準備工程を、前記セラミックス材料と、前記セラミックス材料中に前記線状形態に対応する線状キャビティと、を備える線状キャビティ内包セラミックス成形体を準備し、当該線状キャビティに流動性の前記導体材料を充填することで前記導体材料内包セラミックス成形体を準備する工程とすることもできる。   In the present manufacturing method, the molded body preparation step is performed by preparing a linear cavity-containing ceramic molded body including the ceramic material and a linear cavity corresponding to the linear form in the ceramic material. It can also be set as the process of preparing the said conductor material inclusion ceramic molding by filling the fluid said conductor material in a cavity.

前記成形体準備工程は、一体化により前記線状のキャビティを形成する2個以上のキャビティ形成用セラミックス体を用い、これらのキャビティ形成用セラミックス体を接合して一体化して形成する前記線状キャビティに前記導体材料を充填することを含む工程としてもよい。また、前記2個以上のキャビティ形成用セラミックス体は、前記線状キャビティに対応する凹状部を表面に有する1個又は2個以上の第1のキャビティ形成用セラミックス体と、前記凹状部の開口部分を遮蔽する壁面を有する1個又は2個以上の第2のキャビティ形成セラミックス成形体からなるものとしてもよい。さらに、前記2個以上のキャビティ形成用セラミックス体は、それぞれ前記一体化により前記導体材料内包セラミックス成形体の外形形状を構成する外形形状を備えるものとしてもよい。   In the forming body preparing step, two or more cavity forming ceramic bodies that form the linear cavity by integration are used, and the cavity forming ceramic bodies are joined and integrated to form the linear cavity. It is good also as a process including filling the said conductor material in. The two or more cavity-forming ceramic bodies include one or more first cavity-forming ceramic bodies having concave portions corresponding to the linear cavities on the surface, and opening portions of the concave portions. It is good also as what consists of a 1 or 2 or more 2nd cavity formation ceramic molded object which has the wall surface which shields. Furthermore, the two or more cavity-forming ceramic bodies may each have an outer shape that forms the outer shape of the conductive material-containing ceramic molded body by the integration.

本製造方法では、前記成形体準備工程は、前記セラミックス材料と前記セラミックス材料中に前記線状形態に加工可能な形状を有する非線状形態の前記導体材料とを備える非線状導体材料内包セラミックス成形体を準備し、前記非線状形態の導体材料の一部を除去して前記線状形態とした後、前記導体材料の除去部分に前記セラミックス材料のスラリーを供給し、当該スラリーを固化させることにより前記線状導体材料内包セラミックス成形体を準備する工程とすることができる。この態様においては、前記非線状導体材料内包セラミックス成形体を、前記セラミックス材料中に前記非線状形態に対応するキャビティを有する非線状キャビティ内包セラミックス成形体を準備し、当該非線状キャビティに流動性の前記導体材料を充填することにより作製することができる。これらの態様においては、前記線状形態は螺旋形態を有し、前記非線状形態は螺旋状の凸状部を外周に備える柱状又は筒状とすることができる。   In this manufacturing method, the molded body preparing step includes the ceramic material and the non-linear conductor material-containing ceramics including the ceramic material and the non-linear form of the conductor material having a shape that can be processed into the linear form in the ceramic material. A formed body is prepared, and after removing a part of the non-linear conductor material to obtain the linear form, a slurry of the ceramic material is supplied to the removed portion of the conductor material, and the slurry is solidified. Thereby, it can be set as the process of preparing the said linear conductor material inclusion ceramic molded object. In this aspect, the non-linear conductor material-containing ceramic molded body is prepared, and the non-linear cavity-containing ceramic molded body having a cavity corresponding to the non-linear shape in the ceramic material is prepared. It can be produced by filling the fluid conductive material. In these aspects, the linear form may have a spiral form, and the non-linear form may be a columnar or tubular form having a spiral convex part on the outer periphery.

以上の本発明の製造方法では、前記導体材料は、Ag、Au、Pt、Cu、Ni、Pd及びRhからなる群から選択される1種又は2種以上の導体成分を含むことができる。また、これらの本製造方法では、前記セラミックス成形体の前記焼成工程における収縮率が15%以上45%以下であることが好ましい。また、これらの製造方法は、電子部品の製造方法であることが好ましい。   In the manufacturing method of the present invention described above, the conductor material can contain one or more conductor components selected from the group consisting of Ag, Au, Pt, Cu, Ni, Pd, and Rh. Moreover, in these manufacturing methods, it is preferable that the shrinkage | contraction rate in the said baking process of the said ceramic molded object is 15% or more and 45% or less. Moreover, it is preferable that these manufacturing methods are the manufacturing methods of an electronic component.

本発明によれば、上記いずれかに製造方法によって得られる、セラミックス構造体が提供される。   According to the present invention, there is provided a ceramic structure obtained by any of the above production methods.

本発明によれば、セラミックス構造体であって、焼結されたセラミックスマトリックスと、前記焼結されたセラミックスマトリックスに内包される線状形態の導体であって、その内側において中空部又はその痕跡を備える、構造体が提供される。この態様において、前記中空部又はその痕跡は、焼結前の導体材料中に存在した中空部が前記焼結により変形、縮小又は閉鎖した部分を含んでいる。   According to the present invention, there is provided a ceramic structure, which is a sintered ceramic matrix, and a linear conductor included in the sintered ceramic matrix. A structure is provided. In this aspect, the hollow portion or the trace thereof includes a portion in which the hollow portion existing in the conductor material before sintering is deformed, reduced or closed by the sintering.

本発明によれば、未焼結セラミックス成形体であって、未焼結のセラミックスマトリックスと、導体成分を含む導体材料であって、その内側に当該導体材料に係る収縮応力を吸収可能な応力吸収能を備える導体材料と、を備え、前記セラミックス材料中に前記導体材料を線状形態で内包する、成形体が提供される。前記導体材料は、変形又は縮小可能な中空部並びにセラミックス材料の焼成に伴って焼失又は昇華により減容可能な減容成分から選択されるいずれかを含むことができる。   According to the present invention, an unsintered ceramic formed body is a non-sintered ceramic matrix and a conductor material containing a conductor component, and a stress absorption capable of absorbing the shrinkage stress related to the conductor material on the inside thereof. A conductive material having a function, and including the conductive material in a linear form in the ceramic material. The conductor material may include any one selected from a hollow portion that can be deformed or reduced and a volume-reducing component that can be reduced by burning or sublimation as the ceramic material is fired.

本発明のセラミックス構造体の製造方法では、セラミックス材料と導体成分を含む導体材料であってその内側に当該導体材料に係る収縮応力を吸収可能な応力吸収能を備える導体材料とを備え、前記セラミックス材料中に前記導体材料を線状形態で内包する導体材料内包セラミックス成形体を準備し、このセラミックス成形体を焼結する方法とすることができる。   In the method for producing a ceramic structure of the present invention, a ceramic material and a conductor material containing a conductor component, the conductor material having a stress absorbing ability capable of absorbing the shrinkage stress related to the conductor material inside the ceramic material, It is possible to prepare a conductive material-containing ceramic molded body that includes the conductive material in a linear form in the material and sinter this ceramic molded body.

本発明の製造方法によれば、セラミックス材料が焼結するのに伴って収縮応力が発生したとき、セラミックス材料に内包される導体材料がそれ自身がその内側に備える応力吸収能により当該導体材料に作用する収縮応力を吸収することができる。このため、収縮率の異なる導体材料を内包することに起因してセラミックスマトリックスに生じる引張り応力等を効果的に抑制して、クラック等の発生を抑制できる。また、応力吸収能を導体材料の内側に有しているため、応力吸収能の発揮によって導体材料とセラミックマトリックスとの界面近傍に空隙が形成されるのが抑制される。このため、導体材料の表面とセラミックスマトリックスとの良好な密着状態を確保して、良好な電気的特性を確保することができる。   According to the manufacturing method of the present invention, when a shrinkage stress is generated as the ceramic material is sintered, the conductive material contained in the ceramic material itself has a stress absorbing ability provided on the inner side of the conductive material. The acting shrinkage stress can be absorbed. For this reason, the tensile stress etc. which arise in a ceramic matrix resulting from inclusion of the conductor material from which shrinkage | contraction rate differs can be suppressed effectively, and generation | occurrence | production of a crack etc. can be suppressed. Further, since the stress absorbing ability is provided inside the conductor material, the formation of voids near the interface between the conductor material and the ceramic matrix is suppressed due to the exertion of the stress absorbing ability. For this reason, it is possible to ensure a good adhesion state between the surface of the conductor material and the ceramic matrix and to ensure good electrical characteristics.

また、本製造方法によれば、線状形態の導体材料がセラミックス材料に直接接触して内包されるときには、焼結の進行に伴って発生する収縮応力を継続的に導体材料が吸収しセラミックス材料(セラミックスマトリックス)の収縮に応じて導体材料も変形等して導体材料とセラミックス材料とが接触した状態を維持してセラミックス材料を焼結させることができる。すなわち、急激かつ高い収縮応力が導体材料に作用することが抑制され、結果として発生する導体材料界面近傍で発生する引張り応力も効果的に抑制できる。これに対して、導体材料の外表面に焼失樹脂層を備える場合には樹脂層が消失後導体材料とセラミックス材料との間に隙間が形成されてしまうため、焼結が進行してセラミックスマトリックスが導体表面と接触するときには、急激でかつ高い収縮応力が作用するため結果とした大きな引張り応力が発生してマトリックスにクラックが発生しやすくなる。なお、本明細書において「収縮応力」とは、セラミックス材料が焼結してセラミックスマトリックスが形成されるときに生じる収縮応力を意味している。   In addition, according to the present manufacturing method, when a linear conductor material is encased in direct contact with the ceramic material, the conductor material continuously absorbs the shrinkage stress generated with the progress of sintering. In accordance with the shrinkage of the (ceramic matrix), the conductor material is also deformed and the ceramic material can be sintered while maintaining the contact state between the conductor material and the ceramic material. That is, it is possible to suppress a rapid and high shrinkage stress from acting on the conductor material, and it is possible to effectively suppress the tensile stress generated in the vicinity of the interface of the conductor material. On the other hand, when the burnt resin layer is provided on the outer surface of the conductor material, a gap is formed between the conductor material and the ceramic material after the resin layer disappears. When contacted with the conductor surface, a rapid and high shrinkage stress acts, resulting in a large tensile stress that is likely to cause cracks in the matrix. In the present specification, “shrinkage stress” means a shrinkage stress generated when a ceramic material is sintered to form a ceramic matrix.

また、本発明のセラミックス構造体は、焼結されたセラミックスマトリックスと、前記焼結されたセラミックスマトリックスに内包される線状形態の導体であって、その内側において中空部又はその痕跡を有する導体と、を備えることができる。この構造体では、線状形態の導体が備える前記中空部又はその痕跡は、焼結時には、収縮応力を吸収することができる中空部として機能する。このため、中空部又はその痕跡を有する導体を内包するセラミックス構造体は、セラミックスマトリックス中において引張応力の発生が抑制されているため、機械的強度に優れたセラミックス構造体となっている。また、こうした中空部又はその痕跡を導体の内側に備えることから、確実にセラミックスマトリックスに発生する引張応力が抑制されているとともに、導体表面とセラミックスマトリックスとの良好な密着状態も保持されている。   Further, the ceramic structure of the present invention is a sintered ceramic matrix, and a conductor having a linear shape enclosed in the sintered ceramic matrix, and a conductor having a hollow portion or a trace thereof inside thereof. Can be provided. In this structure, the hollow part or the trace provided in the linear conductor functions as a hollow part capable of absorbing shrinkage stress during sintering. For this reason, the ceramic structure including the conductor having the hollow portion or its trace is a ceramic structure excellent in mechanical strength because the generation of tensile stress is suppressed in the ceramic matrix. In addition, since the hollow portion or its trace is provided inside the conductor, the tensile stress generated in the ceramic matrix is surely suppressed, and the good contact state between the conductor surface and the ceramic matrix is also maintained.

以下、本発明の実施の形態であるセラミックス構造体の製造方法、セラミックス構造体及び未焼結セラミックス成形体等につて適宜図面を参照しながら詳細に説明する。図1には、本発明のセラミックス構造体の製造方法の工程の一例を示し、図2には、セラミックス構造体の一例を示し、図3には、線状導体材料内包セラミックス成形体の一例を示し、図4〜図7には、本発明のセラミックス構造体の製造に用いる線状の導体材料の各種の例を示す。   Hereinafter, a ceramic structure manufacturing method, a ceramic structure, an unsintered ceramic molded body, and the like according to embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings as appropriate. FIG. 1 shows an example of the steps of the method for manufacturing a ceramic structure of the present invention, FIG. 2 shows an example of the ceramic structure, and FIG. 3 shows an example of a linear conductor material-containing ceramic molded body. 4 to 7 show various examples of the linear conductor material used for manufacturing the ceramic structure of the present invention.

(セラミックス構造体の製造方法)
図1に示すように、本発明の製造方法は、線状の導体材料を内包する線状導体材料内包セラミックス成形体(以下、単にセラミックス成形体という。)22を準備する工程と、当該セラミックス成形体22を焼結する工程と、を備えている。本製造方法によって得ようとするセラミックス構造体2は、セラミックスマトリックス4とその内部に内包された線状の導体6とを備えている。
(Manufacturing method of ceramic structure)
As shown in FIG. 1, the manufacturing method of the present invention includes a step of preparing a linear conductor material-containing ceramic molded body (hereinafter simply referred to as a ceramic molded body) 22 including a linear conductor material, and the ceramic molding. And a step of sintering the body 22. A ceramic structure 2 to be obtained by this manufacturing method includes a ceramic matrix 4 and a linear conductor 6 included therein.

(成形体準備工程)
本工程では、以下の材料を用いて焼結体であるセラミックス構造体2の前駆体であるセラミックス成形体22を準備する。図2のセラミックス構造体2に対応するセラミックス成形体22を図3に示す。セラミックス成形体22は、未焼成のセラミックス材料24と線状形態の導体材料26とを備えている。図2に示す形態では、導体材料26は、貫通孔部30aを備える筒状体である。
(Molded body preparation process)
In this step, a ceramic molded body 22 that is a precursor of the ceramic structure 2 that is a sintered body is prepared using the following materials. A ceramic molded body 22 corresponding to the ceramic structure 2 of FIG. 2 is shown in FIG. The ceramic molded body 22 includes an unfired ceramic material 24 and a linear conductor material 26. In the form shown in FIG. 2, the conductor material 26 is a cylindrical body having a through-hole portion 30a.

(セラミックス材料)
セラミックスマトリックス4を焼結により構成するセラミックス材料24としては、特に限定しないで、各種公知のセラミックス粉末又はセラミックス粉末とガラス粉末等他材料との混合粉末などを用いることができる。本発明のセラミックス構造体2の内部には導体6を備えており、インダクタやノイズフィルタ等の電子部品への適用を考慮すると、セラミックスマトリックス4は、絶縁性セラミックスであることが好ましい。絶縁性セラミックスとしては、特に限定されないで、公知のものを使用できる。例えば、Ni−Cu−Zn系フェライト、Ni−Zn系フェライトなどの磁性体材料のほか、アルミナ系セラミックス、ジルコニア系セラミックス、マグネシア系セラミックス、窒化珪素系セラミックス、チタン酸バリウム系セラミックスなどが挙げられる。したがって、セラミックス材料24としては、こうした絶縁性セラミックスを焼結により生成するセラミックス粉末を用いることができる。
(Ceramic materials)
The ceramic material 24 constituting the ceramic matrix 4 by sintering is not particularly limited, and various known ceramic powders or mixed powders of ceramic powder and glass powder and other materials can be used. In the ceramic structure 2 of the present invention, a conductor 6 is provided, and considering application to an electronic component such as an inductor or a noise filter, the ceramic matrix 4 is preferably an insulating ceramic. The insulating ceramic is not particularly limited, and known ones can be used. For example, in addition to magnetic materials such as Ni—Cu—Zn-based ferrite and Ni—Zn-based ferrite, alumina-based ceramics, zirconia-based ceramics, magnesia-based ceramics, silicon nitride-based ceramics, barium titanate-based ceramics, and the like can be given. Therefore, as the ceramic material 24, ceramic powder produced by sintering such insulating ceramics can be used.

(導体材料)
導体材料26は、セラミックス構造体2において導体6を構成する材料である。導体材料26は、導体成分を含有している。導体成分としては、Ag、Pt、Au、Pd、Cu、Ni及びRhなどから選択される単体金属又はこれらのいずれかを主成分とする合金で構成することができる。
(Conductor material)
The conductor material 26 is a material constituting the conductor 6 in the ceramic structure 2. The conductor material 26 contains a conductor component. The conductor component can be composed of a single metal selected from Ag, Pt, Au, Pd, Cu, Ni, Rh, or the like, or an alloy containing any of these as a main component.

導体材料26は、セラミックス構造体2の内部にあって所定の導通状態を形成可能に連続的な導通路を形成する導体成分マトリックス28を形成できればどのようなものであってもよい。   The conductor material 26 may be any material as long as it can form a conductor component matrix 28 that forms a continuous conduction path inside the ceramic structure 2 so that a predetermined conduction state can be formed.

導体材料26の好ましい一つの形態は、予め線状形態を備えている導体材料26である。こうした導体材料26は、導体成分マトリックス28として金属相を連続相として有する金属線などの線状体のほか、樹脂、ガラス、セラミックスなど適当な絶縁性マトリックス中に焼成後において連続的に接触する導通路を形成可能な導体粒子29を含む導体成分マトリックス28を備える線状体が挙げられる。線状形態の導体材料26は、導体粒子29による導通路を形成可能な導体成分マトリックス28にさらに金属線を備えていてもよい。   One preferable form of the conductive material 26 is the conductive material 26 having a linear shape in advance. Such a conductor material 26 is a conductor that continuously contacts after firing in an appropriate insulating matrix such as resin, glass, ceramics, etc. in addition to a linear body such as a metal wire having a metal phase as a continuous phase as a conductor component matrix 28. Examples include a linear body including a conductor component matrix 28 including conductor particles 29 capable of forming a passage. The conductor material 26 in a linear form may further include a metal wire in the conductor component matrix 28 that can form a conduction path by the conductor particles 29.

こうした線状形態の導体材料26は、単一のフィラメント状体であってもよいし、こうしたフィラメントの束状体であってもよいし、縒線状体等であってもよい。   The conductor material 26 having such a linear form may be a single filament, a bundle of filaments, a filament, or the like.

導体材料26の好ましい他の一つの形態は、導体ペーストなど、導体粒子29を適当な媒体中に含有する流動性の導体材料の形態である。このような導体材料26を、線状形態に成形又は加工することで導体成分マトリックス28を有する線状形態の導体材料26を得ることができる。導体ペーストは、通常、導体粒子29と導体粒子29を分散保持する流動性の分散媒体とを含有している。導体粒子29は、球状、薄片状等各種形態を採ることができる。分散媒体としては高分子材料や溶媒を用いるのが一般的である。導体ペーストにおいては、分散媒体が消失されて導体粒子29が近接して緻密化されることで導体成分マトリックス28を形成することができる。こうした高分子材料や溶媒は、後段にて説明する減容成分32に相当する。   Another preferred form of the conductive material 26 is a form of a flowable conductive material containing the conductive particles 29 in a suitable medium, such as a conductive paste. By forming or processing such a conductor material 26 into a linear form, the linear form of the conductor material 26 having the conductor component matrix 28 can be obtained. The conductor paste usually contains conductor particles 29 and a fluid dispersion medium for dispersing and holding the conductor particles 29. The conductor particles 29 can take various forms such as a spherical shape and a flake shape. Generally, a polymer material or a solvent is used as the dispersion medium. In the conductor paste, the conductor medium 29 can be formed by eliminating the dispersion medium and densifying the conductor particles 29 close to each other. Such a polymer material and a solvent correspond to the volume reducing component 32 described later.

セラミックス材料24中にこうした流動性の導体材料26によって線状形態の導体材料26を内包させることにより、セラミックス材料24の焼結に伴う収縮応力を一層効果的に吸収できる。すなわち、導体ペーストは減容成分と導体成分とを備えており、焼結に先んじて減容成分が消失される結果導体成分間に中空部(空隙)が生じ、こうして発生した中空部を含めた線状キャビティ内を導体成分は移動し焼結に伴って相互に接近し緻密化が可能である。このため、予め線所形態を有する導体材料26よりも一層収縮応力を効果的に吸収できる。   By including the linear conductive material 26 in the ceramic material 24 with the fluid conductive material 26, the shrinkage stress accompanying the sintering of the ceramic material 24 can be absorbed more effectively. That is, the conductor paste includes a volume reducing component and a conductor component, and as a result of the volume reducing component disappearing prior to sintering, a hollow portion (void) is generated between the conductor components, and thus the generated hollow portion is included. The conductor components move in the linear cavities and can be close to each other and densified with sintering. For this reason, the shrinkage stress can be absorbed more effectively than the conductor material 26 having a line shape in advance.

このような線状形態の導体材料26の軸方向に直交する横断面の外形形状は特に限定しない。円状、方形状等のほか不定形状であってもよいし、扁平な形態であってもよい。また、線状形態の導体材料26の軸方向に直交する横断面の断面形状は、特に限定しないが、図3、図4(a)〜(d)、図5(c)、図6(b)に示す筒状体や外皮状体のように中空部30aを有していてもよいし、図5(a)、(b)、図6(a)及び図7に示すように、中実状体であってもよい。また、図4(e)に示すように、複数の中空部30aを有するものであってもよい。さらに、図示はしないがチャネル状体であってもよい。   The outer shape of the cross section orthogonal to the axial direction of the conductor material 26 having such a linear shape is not particularly limited. In addition to a circular shape, a square shape, or the like, an indefinite shape or a flat shape may be used. Moreover, the cross-sectional shape of the cross section orthogonal to the axial direction of the conductor material 26 in the linear form is not particularly limited, but FIG. 3, FIG. 4 (a) to (d), FIG. 5 (c), FIG. ) May have a hollow portion 30a, as shown in FIGS. 5 (a), 5 (b), 6 (a) and 7, and may be solid. It may be a body. Moreover, as shown in FIG.4 (e), you may have a some hollow part 30a. Furthermore, although not shown, a channel-like body may be used.

(応力吸収能)
導体材料26は、その内側に応力吸収能を備えることができる。本明細書において、応力吸収能とは、導体材料26を内包するセラミックス材料24に収縮応力が発生したとき、その応力の少なくとも一部を吸収できる能力をいう。応力吸収能の具体的形態は特に限定するものではない。また、「導体材料の内側」とは、導体材料26を構成する導体成分マトリックス28によって導体材料26の外側(セラミックス材料24側)と隔てられた位置を意味しており、導体材料26の表面より内側の導体成分マトリックス28の内部及び導体成分マトリックス28の厚みでその外側と区画された導体成分マトリックス28の内側の双方を含んでいる。
(Stress absorption capacity)
The conductive material 26 can have a stress absorption capability on the inside thereof. In this specification, the stress absorbing ability means an ability to absorb at least a part of the stress when a shrinkage stress is generated in the ceramic material 24 including the conductor material 26. The specific form of the stress absorption ability is not particularly limited. The “inside of the conductor material” means a position separated from the outside of the conductor material 26 (ceramic material 24 side) by the conductor component matrix 28 constituting the conductor material 26, and from the surface of the conductor material 26. It includes both the inside of the inner conductor component matrix 28 and the outer side of the conductor component matrix 28 that is partitioned by the thickness of the conductor component matrix 28.

(中空部)
導体材料26が応力吸収能を発揮可能な一つの形態は、収縮応力により変形又は縮小可能な中空部30を導体材料26の内側に有する形態である。応力吸収能をこうした中空部30により付与することで、導体材料26にセラミックス材料24側から収縮応力の作用を受けた場合、中空部30又はその近傍に応力が集中し中空部30が変形又は縮小することで収縮応力が吸収される。この結果、セラミックスマトリックス4における引張応力等の発生を抑制又は回避できる。
(Hollow part)
One form in which the conductive material 26 can exhibit the ability to absorb stress is a form having a hollow portion 30 that can be deformed or reduced by shrinkage stress inside the conductive material 26. By imparting the stress absorption capability by the hollow portion 30, when the conductor material 26 is subjected to shrinkage stress from the ceramic material 24 side, the stress concentrates on the hollow portion 30 or the vicinity thereof and the hollow portion 30 is deformed or reduced. By doing so, the contraction stress is absorbed. As a result, generation of tensile stress or the like in the ceramic matrix 4 can be suppressed or avoided.

中空部30は、例えば、図4(a)〜(e)に示す各種形態の貫通孔部30aの形態を採ることができる。図4(a)〜(e)に示す各種の導体材料26は、軸方向に貫通する貫通孔32aを中空部30として備えている。貫通孔部30aを中空部30として備えることで導体材料26の全体において大きな応力吸収能を発揮させることができる。中空部30を貫通孔部30aとするとき、貫通孔部30aの変形や縮小を容易にするには、図4(a)に示すように、貫通孔部30aを包囲する導体材料26の厚みを部分的に変化させるなどして導体材料26に応力集中する脆弱部34を形成してもよい。脆弱部34の形状や配置については特に限定しない。脆弱部34を軸方向に一定間隔で備えることで線状形態の導体材料26が軸方向に変形又は縮小しやすくなる。   The hollow part 30 can take the form of the through-hole part 30a of the various forms shown to Fig.4 (a)-(e), for example. Various conductor materials 26 shown in FIGS. 4A to 4E are provided with through-holes 32 a penetrating in the axial direction as hollow portions 30. By providing the through-hole portion 30 a as the hollow portion 30, a large stress absorbing ability can be exhibited in the entire conductor material 26. When the hollow portion 30 is used as the through hole portion 30a, in order to facilitate the deformation and reduction of the through hole portion 30a, the thickness of the conductor material 26 surrounding the through hole portion 30a is set as shown in FIG. You may form the weak part 34 which stress concentrates on the conductor material 26 by changing partially. The shape and arrangement of the fragile portion 34 are not particularly limited. By providing the fragile portions 34 at regular intervals in the axial direction, the linear conductive material 26 is easily deformed or reduced in the axial direction.

また、図4(b)及び図4(c)に示すように、導体材料26を、収縮応力を受け易い凹凸形状の筒状体とすることもできる。導体材料26がこうした凹凸形状を有していると、セラミックス材料24に作用する圧縮応力により貫通孔部30aが容易に変形、縮小される。凹凸形状については特に限定しない、軸方向や周方向に一定間隔で形成することができる。   Further, as shown in FIGS. 4B and 4C, the conductive material 26 may be a concavo-convex cylindrical body that is easily subjected to shrinkage stress. If the conductor material 26 has such an uneven shape, the through hole 30a is easily deformed and reduced by the compressive stress acting on the ceramic material 24. The uneven shape is not particularly limited, and can be formed at regular intervals in the axial direction or the circumferential direction.

さらに、図4(d)に示すように、導体材料26を、扁平で軸線方向に細長い帯状体を筒状にカーリングさせた筒状体とすることもできる。この場合、カーリングさせて対向又は重ね合わせた長端部は、カーリングによって形成した貫通孔部30aへのセラミックススラリー等の流入を抑制可能に閉じられていることが好ましい。好ましくはカーリングさせた長端部は重ね合わされている。また、カーリングさせた導体材料26は、収縮応力を吸収可能にその直径を変化させることができるようになっていることが好ましい。例えば、カーリングさせた導体材料26の直径を変化可能とするには、カーリングさせて対向される又は重複される端部を互いに溶着等せずに周方向に相対移動可能に形成すればよい。   Furthermore, as shown in FIG. 4D, the conductor material 26 may be a cylindrical body obtained by curling a flat strip that is flat and elongated in the axial direction into a cylindrical shape. In this case, it is preferable that the long end portion that is curled and opposed or overlapped is closed so as to suppress the inflow of ceramic slurry or the like into the through-hole portion 30a formed by curling. Preferably, the curled long ends are overlaid. Moreover, it is preferable that the diameter of the curled conductor material 26 can be changed so that the shrinkage stress can be absorbed. For example, in order to change the diameter of the curled conductor material 26, the end portions that are curled and faced or overlapped may be formed to be relatively movable in the circumferential direction without welding or the like.

さらに、図4(e)に示すように、導体材料26は、2以上の貫通孔部30aを備えていてもよい。   Furthermore, as shown in FIG. 4E, the conductor material 26 may include two or more through-hole portions 30a.

中空部30は、また、導体成分マトリックス28に分散される多数の孔部30bの形態とすることができる。例えば、図5(a)に示すように、導体材料26を多孔質としてもよい。中空部30を導体成分マトリックス28に分散する多数の孔部30bとするとき、導体マトリックス28における気孔率や孔径分布については特に限定しない。多数の孔部30bを中空部30として有することで、導体材料26の全体において均一な変形又は縮小が容易になる。   The hollow portion 30 can also be in the form of a number of holes 30b dispersed in the conductor component matrix 28. For example, as shown in FIG. 5A, the conductor material 26 may be porous. When the hollow portion 30 is a large number of holes 30b dispersed in the conductor component matrix 28, the porosity and the hole diameter distribution in the conductor matrix 28 are not particularly limited. By having a large number of hole portions 30b as the hollow portions 30, uniform deformation or reduction of the entire conductor material 26 is facilitated.

孔部30bは導体材料26においてセラミックス材料24と接触可能な表層に形成されていてもよいが、導体材料26の表面に開口する孔部30bの孔径は成形体準備工程においてセラミックス粉末を含むスラリー等が侵入しにくい程度であることが好ましい。また、導体材料26の表面は滑らかであることが好ましい。このために、図5(b)に示すように、多孔質の導体部28の表面に外皮状により緻密質の導体材料層29を備えていてもよいし、また、導体成分マトリックス28において外周側において気孔率が低下する傾斜構造を備えていてもよい。なお、貫通孔32a等を備える場合と同様に、分散状の孔部30bを備える場合であっても、導体材料26に脆弱部34や凹凸部を備えることで収縮応力を受けやすくすることができる。   The hole 30b may be formed in a surface layer that can contact the ceramic material 24 in the conductor material 26. However, the hole diameter of the hole 30b that opens on the surface of the conductor material 26 is a slurry containing ceramic powder in the compact preparation step, etc. It is preferable that it is a grade which does not penetrate easily. The surface of the conductor material 26 is preferably smooth. For this purpose, as shown in FIG. 5 (b), the surface of the porous conductor portion 28 may be provided with a dense conductor material layer 29 in the form of an outer skin, and the conductor component matrix 28 may have an outer peripheral side. An inclined structure with a reduced porosity may be provided. Similar to the case where the through holes 32a and the like are provided, even when the dispersed holes 30b are provided, the conductor material 26 can be easily subjected to contraction stress by including the fragile portions 34 and the concavo-convex portions. .

さらに、図5(c)に示すように、導体材料26は貫通孔部30aを備えるとともに導体成分マトリックス28中に分散する多数の孔部30bを備えていてもよい。   Further, as shown in FIG. 5C, the conductor material 26 may include a through hole portion 30 a and a plurality of hole portions 30 b dispersed in the conductor component matrix 28.

分散状の孔部30bを備える導体材料26としては、多孔質金属の線状体や孔部30b又は孔部30bに相当する中空部を備えるカプセル状体が絶縁性マトリックスに分散された導体成分マトリックス28を有する線状体が挙げられる。多孔質の絶縁性マトリックスを有する導体成分マトリックス28を備える線状形態の導体材料26は、線状キャビティに上記カプセル状体を含む導体ペースト等を充填することでも形成することができる。上記カプセル状体は、後述する減容成分又は導体成分マトリックス28よりも機械的強度が低い成分で形成されたものであることが好ましい。   As the conductor material 26 having the dispersed holes 30b, a conductor component matrix in which a porous metal linear body or a capsule 30 having a hollow portion corresponding to the hole 30b or the hole 30b is dispersed in an insulating matrix The linear body which has 28 is mentioned. The linear conductor material 26 including the conductor component matrix 28 having a porous insulating matrix can also be formed by filling a linear cavity with a conductor paste containing the capsule-like body. The capsule-like body is preferably formed of a component having a lower mechanical strength than the volume reducing component or conductor component matrix 28 described later.

(減容成分)
導体材料26に応力吸収能を付与する他の一つの形態は、導体材料26の内側に焼成工程において減容成分32を有する形態である。減容成分は、焼成工程においてその少なくとも一部が焼失又は昇華により減容(容積が減少する)する成分であればよい。導体材料26が減容成分32を有している場合、導体材料26の内側において減容成分32が専有していた容積が減少するため、その減少程度に応じて収縮応力を吸収することができる。減容成分32としては、各種樹脂、油性塗料、ワックス等の有機材料のほか、低融点の金属などを用いることができる。
(Volume reduction component)
Another form for imparting stress absorption capability to the conductor material 26 is a form having a volume reducing component 32 inside the conductor material 26 in the firing step. The volume-reducing component may be a component whose volume is reduced (the volume is reduced) by burning or sublimation at least partly in the firing step. When the conductor material 26 has the volume reducing component 32, the volume occupied by the volume reducing component 32 inside the conductor material 26 is reduced, so that the contraction stress can be absorbed according to the reduction degree. . As the volume reducing component 32, various resins, oil-based paints, organic materials such as wax, low melting point metals and the like can be used.

導体材料26の内側に減容成分32を配する形態としては、図6(a)〜(b)に示すように、導体材料26で形成した筒状体の当該筒状体で囲まれた部分に柱状あるいは筒状の減容成分32を備える形態が挙げられる。この場合、導体材料26は、既に述べたように予め線状形態を有する導体材料26を用いてもよいし、導体ペースト等の流動性の導体材料26で線状キャビティを充填することで線状形態を備えるものであってもよい。なお、減容成分32を筒状体として備える場合には、既に述べたように貫通孔部30aを備えるのと同等の効果を得ることができる。   As a form which arranges the volume reducing component 32 inside the conductor material 26, as shown to Fig.6 (a)-(b), the part enclosed by the said cylindrical body of the cylindrical body formed with the conductor material 26 And a columnar or cylindrical volume reducing component 32. In this case, as described above, the conductor material 26 may be the conductor material 26 having a linear shape as described above, or the linear material is filled by filling the linear cavity with a fluid conductive material 26 such as a conductor paste. It may have a form. In addition, when providing the volume reducing component 32 as a cylindrical body, as already mentioned, the effect equivalent to providing the through-hole part 30a can be acquired.

また、他の形態としては、図7(a)に示すように、減容成分32の連続相に導体粒子29が分散している導体成分マトリックス28を有する形態が挙げられる。また、図7(b)に示すように、導体成分の連続相に粒子状の減容成分32が分散された導体成分マトリックス28であってもよい。減容成分32が粒子状に分散される場合、減容成分32は中実状の粒子であってもよいし、カプセル状(中空状)粒子であってもよい。減容成分32がカプセル状粒子の場合には、減容成分32が消失等することで、減容成分量に比べて大きな中空部を形成するため効果的に応力吸収能を発揮できる。   As another form, as shown in FIG. 7A, a form having a conductor component matrix 28 in which conductor particles 29 are dispersed in the continuous phase of the volume reducing component 32 can be mentioned. Alternatively, as shown in FIG. 7B, a conductor component matrix 28 in which particulate volume reducing components 32 are dispersed in a continuous phase of conductor components may be used. When the volume reducing component 32 is dispersed in the form of particles, the volume reducing component 32 may be solid particles or capsule (hollow) particles. When the volume-reducing component 32 is a capsule-like particle, the volume-reducing component 32 disappears, thereby forming a hollow portion larger than the volume-reducing component amount, thereby effectively exhibiting the ability to absorb stress.

こうした減容成分32を含む導体材料26は、導体粒子29と、導体粒子29を分散させる高分子材料や溶媒を減容成分32として含んだ導体ペーストなどの流動性の導体材料26を線状キャビティに充填し固化して得ることができる。   The conductive material 26 including such a volume reducing component 32 includes a conductive particle 29 and a fluid conductive material 26 such as a conductive paste containing a polymer material or a solvent for dispersing the conductive particles 29 as the volume reducing component 32. It can be obtained by filling and solidifying.

導体材料26は、各種の形態で応力吸収能を備えており、上記した各種の形態のうち1種類の形態によって応力吸収能を備えていてもよいし、各種形態の中空部30や減容成分から選択される2種類以上を組み合わせた形態で応力吸収能を備えていてもよい。   The conductor material 26 is provided with stress absorbing ability in various forms, and may be provided with stress absorbing ability in one of the various forms described above, or the hollow portion 30 and volume reducing component in various forms. The stress absorbing ability may be provided in a form in which two or more types selected from the above are combined.

線状形態の導体材料26は、導体成分マトリックス28の外側、すなわち、導体成分マトリックス28の外皮として減容成分層を備えるようにしてもよい。こうした外皮を備えることで、導体材料26に収縮応力が作用するのを遅らすことができる。この場合、焼結に伴って収縮するセラミックス材料24が導体材料26の表面に接触することになるが、導体材料26はその内部に応力吸収能を備えるためにこうした急激でかつ強い収縮応力にも対応して、クラックの発生等を効果的に抑制できる。   The conductor material 26 in a linear form may be provided with a volume-reducing component layer outside the conductor component matrix 28, that is, as a skin of the conductor component matrix 28. By providing such a skin, it is possible to delay the contraction stress acting on the conductor material 26. In this case, the ceramic material 24 that shrinks with sintering comes into contact with the surface of the conductor material 26. However, since the conductor material 26 has a stress absorbing capability inside thereof, it is resistant to such a sudden and strong shrinkage stress. Correspondingly, generation of cracks and the like can be effectively suppressed.

予め線状形態を備える導体材料26は、可撓性を備えていることが好ましい。線状形態の導体材料26自体が撓むことで、焼結に伴う収縮応力が線状形態の導体材料26によって効果的に吸収される。予め線状形態を有する金属線などの導体材料26に可撓性を付与するには、導体材料26の材質に依存することができるほか、線状の導体材料26を束状体又は縒線状体とするのが好ましい。束状体や縒線状体であると、同じ断面積の一本の金属線よりも撓みやすく形成できる。また、可撓性を付与するにあたって、導体材料26において一定間隔又は可撓性を付与しようとする部位に肉厚の薄い脆弱部を形成してもよい。   The conductor material 26 having a linear form in advance is preferably flexible. The linear form of the conductive material 26 itself is bent, so that the shrinkage stress accompanying the sintering is effectively absorbed by the linear form of the conductive material 26. In order to give flexibility to the conductor material 26 such as a metal wire having a linear shape in advance, it can depend on the material of the conductor material 26, and the linear conductor material 26 can be bundled or stranded. The body is preferred. If it is a bundle-like body or a corrugated body, it can be formed more easily than a single metal wire having the same cross-sectional area. Moreover, when giving flexibility, you may form a weak part with thin thickness in the site | part which is giving a fixed space | interval or flexibility in the conductor material 26. FIG.

導体材料26の形態は特に限定しない。導体材料26の備える線状形態は、直線状であってもよいし、たとえば、Z状やジグザグ状、波線状等、屈曲部や湾曲部を1個又は複数有する二次元形態を有していてもよい。さらに、コイル状など屈曲部や湾曲部を有して旋回する螺旋構造などの三次元形態を有していてもよい。また、当該形態は、これらの各種形態を2種類以上組み合わせたものであってもよい。図4に示すように、屈曲部等を複数有する二次元形態や螺旋構造を備えるとともに、両端に直線状部分を備えることができる。本製造方法によって得られる本発明のセラミックス構造体2にあっては、導体6自体がセラミックスマトリックス4に発生する収縮応力等を吸収することができるため、複雑な二次元形態や周回構造などの三次元形態を備えていても、導体6の界面近傍等におけるクラックや割れを効果的に抑制できる。   The form of the conductor material 26 is not particularly limited. The linear form with which the conductor material 26 is provided may be linear, for example, it has a two-dimensional form having one or more bent portions or curved portions, such as a Z shape, a zigzag shape, and a wavy shape. Also good. Further, it may have a three-dimensional form such as a spiral structure that turns with a bent part or a curved part such as a coil shape. Moreover, the said form may combine these various forms 2 or more types. As shown in FIG. 4, a two-dimensional configuration having a plurality of bent portions and the like and a spiral structure can be provided, and linear portions can be provided at both ends. In the ceramic structure 2 of the present invention obtained by this manufacturing method, the conductor 6 itself can absorb the shrinkage stress and the like generated in the ceramic matrix 4, so that the tertiary structure such as a complicated two-dimensional form or a circular structure is obtained. Even if the original form is provided, cracks and cracks in the vicinity of the interface of the conductor 6 can be effectively suppressed.

導体材料26を内包するセラミックス成形体22において、導体材料26は、その一部がセラミックス成形体22の外部にまで及んでいてもよいし、全体が内部に留まっていてもよい。   In the ceramic molded body 22 including the conductive material 26, a part of the conductive material 26 may extend to the outside of the ceramic molded body 22, or the whole may remain inside.

セラミックス成形体22は、特に限定しないで、粉末圧縮成形法等公知の各種のセラミックス成形方法で準備することができる。本発明によれば、焼成工程におけるセラミックスマトリックスでの引張り応力等の発生を成形方法に関わらず抑制又は回避することができる。本発明のセラミックス成形体22は、各種成形法のなかでも、ゲルキャスト法などのその場固化法で形成することが好ましい。ゲルキャスト法などのその場固化法は、微小部品を高精度に効率的に製造することに適している。以下、ゲルキャスト法によりセラミックス構造体2の前駆体成形体22を製造する工程について説明する。   The ceramic molded body 22 is not particularly limited and can be prepared by various known ceramic molding methods such as a powder compression molding method. According to the present invention, it is possible to suppress or avoid the occurrence of tensile stress or the like in the ceramic matrix in the firing process regardless of the forming method. The ceramic molded body 22 of the present invention is preferably formed by an in-situ solidification method such as a gel casting method among various molding methods. An in-situ solidification method such as a gel cast method is suitable for efficiently producing a minute part with high accuracy. Hereinafter, the process of manufacturing the precursor molded body 22 of the ceramic structure 2 by the gel cast method will be described.

ゲルキャスト法では、セラミックス粉末を含むセラミックススラリーを用いる。ゲルキャスト法に用いるセラミックススラリーは、セラミックス粉末のほか、ゲル化剤(有機重合性成分)及び有機分散媒を含有している。ゲル化剤や有機分散媒の種類は特に限定しないが、有機分散媒には、ゲル化剤と反応して固化する反応性官能基を有していることが好ましい。   In the gel casting method, a ceramic slurry containing ceramic powder is used. The ceramic slurry used for the gel casting method contains a gelling agent (organic polymerizable component) and an organic dispersion medium in addition to the ceramic powder. The type of the gelling agent and the organic dispersion medium is not particularly limited, but the organic dispersion medium preferably has a reactive functional group that reacts with the gelling agent and solidifies.

ゲル化剤と反応しうる分散媒としては、水酸基、カルボキシル基及びアミノ基等の官能基を有していることが好ましい。分散媒が有する反応性官能基は1又は2以上とすることができ、また、同種であっても異種であってもよい。例えば、エチレングリコールなどのジオール類、グリセリンのようなトリオール類などの多価アルコール及びジカルボン酸などの多塩基酸が挙げられる。好ましくは、グルタル酸ジメチル等の多塩基酸エステルやトリアセチン等の多価アルコールのエステル類を好ましく用いることができる。より好ましくは、炭素数が20以下のエステル類である。   The dispersion medium that can react with the gelling agent preferably has a functional group such as a hydroxyl group, a carboxyl group, and an amino group. The reactive functional group possessed by the dispersion medium can be 1 or 2 or more and can be the same or different. Examples thereof include diols such as ethylene glycol, polyhydric alcohols such as triols such as glycerin, and polybasic acids such as dicarboxylic acid. Preferably, polybasic acid esters such as dimethyl glutarate and polyhydric alcohol esters such as triacetin can be preferably used. More preferred are esters having 20 or less carbon atoms.

こうした分散媒としては、具体的には、エステル系ノニオン、アルコールエチレンオキサイド、アミン縮合物、ノニオン系特殊アミド化合物、変性ポリエステル系化合物、カルボキシル基含有ポリマー、マレイン系ポリアニオン、ポリカルボン酸エステル、多糖型高分子非イオン系、リン酸エステル、ソルビタン脂肪酸エステル、アルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム、マレイン酸系化合物を例示できる。   Specific examples of such dispersion media include ester-based nonions, alcohol ethylene oxides, amine condensates, nonionic special amide compounds, modified polyester compounds, carboxyl group-containing polymers, maleic polyanions, polycarboxylic acid esters, polysaccharide types. Examples thereof include polymer nonionic, phosphate ester, sorbitan fatty acid ester, sodium alkylbenzene sulfonate, and maleic acid compound.

ゲル化剤は、分散媒との反応性を考慮して適宜選択することができるが、エステル径溶媒を用いる場合には、イソシアナート基又はイソチオシアナート基を有していることが好ましい。こうしたゲル化剤としては、MDI(4,4−ジフェニルメタンジイソシアナート)系イソシアネート(樹脂)、HDI(ヘキサメチレンジイソシアナート)系イソシアネート(樹脂)、TDI(トリレンジイソシアナート)系イシソアナート(樹脂)、IPDI(イソホロンジイソシアナート)系イソシアナート樹脂、イソチオシナート(樹脂)等が挙げられる。   The gelling agent can be appropriately selected in consideration of the reactivity with the dispersion medium, but when an ester size solvent is used, it preferably has an isocyanate group or an isothiocyanate group. Examples of such gelling agents include MDI (4,4-diphenylmethane diisocyanate) isocyanate (resin), HDI (hexamethylene diisocyanate) isocyanate (resin), and TDI (tolylene diisocyanate) isocyanate. And IPDI (isophorone diisocyanate) -based isocyanate resin, isothiocyanate (resin), and the like.

セラミックススラリーは、これらの成分のほか固化のための触媒や開始剤、消泡剤、界面活性剤、焼結補助剤他、特性向上のための各種添加剤を含んで均一に混合することにより得ることができる。こうしたセラミックススラリーのスラリー濃度(スラリー全体体積に対する粉体体積%)は、25体積%以上75体積%以下であることが好ましく、より好ましくは35体積%以上75体積%以下である。   Ceramic slurries are obtained by uniformly mixing these components in addition to solidifying catalysts and initiators, antifoaming agents, surfactants, sintering aids, and other additives for improving characteristics. be able to. The slurry concentration (powder volume% with respect to the total volume of the slurry) of such a ceramic slurry is preferably 25 volume% or more and 75 volume% or less, more preferably 35 volume% or more and 75 volume% or less.

以下、ゲルキャスト法によってセラミックス成形体22を作製する工程について、図8〜図14を参照しながら説明する。図8は予め線状形態を有する導体材料26を用いた成形体準備工程の一例を示す図であり、図9は、予め線状形態を有する導体材料26を用いた成形体準備工程の他の一例を示す図であり、図9Bは、ガイドを有するセラミックス成形体の例を示す図であり、図10は流動性を有する導体材料26を用いた成形体準備工程の一例を示す図であり、図11は、流動性を有する導体材料を用いた成形体準備工程の他の一例を示す図であり、図12は、成形体準備工程の他の一例を示す図であり、図13は、図12における非線状導体材料内包セラミックス成形体を準備する工程の例を示す図であり、図14は、図12における非線状導体材料内包セラミックス成形体を準備する工程の他の一例を示す図である。   Hereinafter, the process of producing the ceramic molded body 22 by the gel cast method will be described with reference to FIGS. FIG. 8 is a diagram showing an example of a molded body preparation step using a conductor material 26 having a linear shape in advance, and FIG. 9 shows another example of a molded body preparation step using a conductor material 26 having a linear shape in advance. FIG. 9B is a diagram illustrating an example of a ceramic molded body having a guide, and FIG. 10 is a diagram illustrating an example of a molded body preparation process using a conductive material 26 having fluidity. FIG. 11 is a diagram showing another example of a molded body preparation step using a conductive material having fluidity, FIG. 12 is a diagram showing another example of the molded body preparation step, and FIG. FIG. 14 is a diagram showing an example of a process for preparing a non-linear conductor material-containing ceramic molded body in FIG. 12, and FIG. 14 is a diagram showing another example of a process for preparing a non-linear conductor material-containing ceramic molded body in FIG. It is.

(成形体準備工程1)
線状の導体材料26を用いてゲルキャスト法によってセラミックス成形体22を作製するには、まず、セラミックス構造体2の形状に対応した非透水性の成形型40を準備する。そして予め線状形態を有する導体材料26を配した成形用キャビティに前記セラミックス材料のスラリーを供給し、当該スラリーを固化させることにより前記線状導体材料内包セラミックス成形体を作製する。より具体的には、図8に示すように、この成形型40の成形用キャビティ42内の所定位置に所定の形態を備える線状の導体材料26を配置し(ステップS1)、次いで、セラミックススラリー44を注入して所定の温度及び時間で固化させた後(ステップS2)、離型してゲル湿潤成形体を得て(ステップS3)、さらに所定条件で乾燥して(ステップS4)乾燥成形体を得ることができる。得られた成形体22においては、未焼成のセラミックス材料24中に線状導体26が所定の形態で配置された状態となっている。
(Formed body preparation step 1)
In order to produce the ceramic molded body 22 by the gel casting method using the linear conductor material 26, first, a water-impermeable molding die 40 corresponding to the shape of the ceramic structure 2 is prepared. Then, the ceramic material slurry is supplied to a molding cavity in which a conductor material 26 having a linear shape is previously arranged, and the slurry is solidified to produce the linear conductor material-containing ceramic molded body. More specifically, as shown in FIG. 8, a linear conductor material 26 having a predetermined shape is arranged at a predetermined position in the molding cavity 42 of the mold 40 (step S1), and then ceramic slurry. 44 is solidified at a predetermined temperature and time (step S2), then released to obtain a gel wet molded body (step S3), and further dried under predetermined conditions (step S4). Can be obtained. In the obtained molded body 22, the linear conductors 26 are arranged in a predetermined form in the unfired ceramic material 24.

なお、線状形態の導体材料26の位置決め精度を向上させるために、線状形態の導体材料を予め所定の外形の未焼成セラミックス柱状体に巻き付けるようにした状態で成形型内に配置してもよい。なお、このようなセラミックス成形体は、既焼結体であってもよい。ハンドリング強度が高く取り扱い性に優れるからである。   In order to improve the positioning accuracy of the linear conductor material 26, the linear conductor material may be placed in a mold in a state in which the conductor material is wound around an unfired ceramic columnar body having a predetermined outer shape. Good. Such a ceramic molded body may be a sintered body. This is because the handling strength is high and the handling is excellent.

さらに、図9Aに示すように、導体材料26を巻き付けするためのガイド62を備える未焼成又は既焼成のセラミックス成形体60を用いることもできる。図9Aは、線状の導体材料26を巻き線状に配置するためのセラミックス成形体60を用いる導体材料内包セラミックス成形体22の製造例を各段階における断面構造で示す。セラミックス成形体60がガイド62を備えることにより、一層精度よく導体材料26を巻きつけすることができるようになる。ガイド62の形態は、導体材料26のセラミックス成形体60に対する巻回状態を規制できるものであれば特に限定されない。例えば、図9Aに示すように、導体材料26の外形形状に応じて断面の一部に相当する部分を収容可能な凹状部としてもよい。また、例えば、図9B(a)に示す導体材料26が通過可能に導体材料26の両側を規制する凸状部、同(b)に示す導体材料26をその基部に当接させることで位置決め可能な片側の凸状部及び同(c)に示す導体材料26の断面の一部を位置決め可能な程度に収容あるいは係止する凹状部などの形態を採ることができる。また、導体材料26をその外周方向に1段巻き付けするものであってもよいし、ガイド62は、複数段で巻き付け可能に形成されていてもよい。   Further, as shown in FIG. 9A, an unfired or fired ceramic molded body 60 including a guide 62 for winding the conductor material 26 can be used. FIG. 9A shows a manufacturing example of the conductor material-encapsulating ceramic molded body 22 using the ceramic molded body 60 for arranging the linear conductor material 26 in a winding shape in a sectional structure at each stage. Since the ceramic molded body 60 includes the guide 62, the conductor material 26 can be wound more accurately. The form of the guide 62 is not particularly limited as long as the winding state of the conductor material 26 around the ceramic molded body 60 can be regulated. For example, as shown in FIG. 9A, a concave portion that can accommodate a portion corresponding to a part of the cross section according to the outer shape of the conductor material 26 may be used. Further, for example, a convex portion that restricts both sides of the conductor material 26 so that the conductor material 26 shown in FIG. 9B (a) can pass, and the conductor material 26 shown in FIG. 9B (b) can be positioned by contacting the base. It is possible to adopt a form such as a convex part on one side and a concave part that accommodates or locks a part of the cross section of the conductor material 26 shown in FIG. Further, the conductor material 26 may be wound in one step in the outer circumferential direction, and the guide 62 may be formed so as to be wound in a plurality of steps.

導体材料26を、外周方向に複数段巻き付けするとき、1段目において正確な巻き付けが達成されれば、2段目以降の巻き付け精度もある程度確保できる。また、図9Aに示すように、導体材料26を複数段巻き付けするとき、2段目以降に巻き付けされる導体材料26も収容可能な凹状部を形成してもよい。   When the conductor material 26 is wound in a plurality of stages in the outer circumferential direction, if the accurate winding is achieved in the first stage, the winding accuracy in the second and subsequent stages can be secured to some extent. Further, as shown in FIG. 9A, when the conductor material 26 is wound in a plurality of stages, a concave portion that can also accommodate the conductor material 26 wound in the second and subsequent stages may be formed.

このようなセラミックス成形体60の三次元形状は特に限定されないで、導体材料26に対して目的の三次元形態を付与できるものであればよい。例えば、円形のほか各種断面形状の柱状体、板状体、筒状体等など任意の形態から適宜選択して用いることができる。   The three-dimensional shape of the ceramic molded body 60 is not particularly limited as long as the target three-dimensional shape can be imparted to the conductor material 26. For example, it can be appropriately selected from arbitrary forms such as a columnar body, a plate-shaped body, and a cylindrical body having various cross-sectional shapes in addition to a circular shape.

なお、セラミックス成形体60に巻き付けする導体材料26が互いに接触してもよいように、無機材料などによって絶縁被覆した導体材料26とすることが好ましい。こうすることで、簡易にまた緻密な巻線状態の形成が可能となる。   In addition, it is preferable to use the conductor material 26 that is insulation-coated with an inorganic material or the like so that the conductor materials 26 wound around the ceramic molded body 60 may contact each other. By doing so, it is possible to easily and precisely form a winding state.

このようなセラミックス成形体60は、本発明のセラミックス構造体2と同様、ゲルキャスト法を始めとする各種セラミックス成形体の製造方法により製造することができる。特に、ゲルキャスト法などの成形型を利用することで、精度よくガイド62を形成することができ、結果として導体材料26を精度よく配置することができる。   Such a ceramic molded body 60 can be manufactured by various ceramic molded body manufacturing methods such as a gel casting method, similarly to the ceramic structure 2 of the present invention. In particular, by using a molding die such as a gel cast method, the guide 62 can be formed with high accuracy, and as a result, the conductor material 26 can be arranged with high accuracy.

また、線状形態の導体材料26の形態に対応した凹状部62を予め有する仮成形体を準備しておき、当該凹状部62に線状形態の導体材料26を配置するとともに追加のセラミックススラリー44を凹状部に注入して成形してもよい。こうすることで、容易に精度の高い巻線状態の導体材料をセラミックスマトリックスに保持させることができる。   Further, a temporary molded body having a concave portion 62 corresponding to the shape of the linear conductor material 26 is prepared in advance, and the linear conductor material 26 is disposed in the concave portion 62 and an additional ceramic slurry 44 is provided. May be molded by injecting into the concave part. By doing so, it is possible to easily hold a highly accurate conductor material in a winding state in the ceramic matrix.

(成形体準備工程2)
また、成形体準備工程は、図10に示すように、セラミックス材料24と、当該セラミックス材料24中に線状形態に対応する線状キャビティ46と、を備える線状キャビティ内包セラミックス成形体48を準備し(ステップS10)、当該線状キャビティ46に流動性の導体材料を充填する(ステップS11)ことで、セラミックス成形体22を作製することができる。こうした成形体準備工程によれば、導体材料26として線状材を用いなくとも導体ペーストなどの流動性の導体材料26でも容易に線状形態の導体材料26をセラミックス成形体中に形成することができる。また、流動性の導体材料26を用いるため任意形状の線状構造を付与することができるとともに、高い応力吸収能を付与することができる。なお、この成形体準備工程においては、型40からの離型や湿潤成形体の乾燥等は、適時に行うようにすればよい。
(Formed body preparation step 2)
In addition, as shown in FIG. 10, the molded body preparation step prepares a linear cavity-containing ceramic molded body 48 including a ceramic material 24 and a linear cavity 46 corresponding to the linear shape in the ceramic material 24. The ceramic molded body 22 can be manufactured by filling the linear cavity 46 with a fluid conductive material (step S11). According to such a molded body preparation step, a linear conductor material 26 can be easily formed in a ceramic molded body even with a fluid conductor material 26 such as a conductor paste without using a linear material as the conductor material 26. it can. Moreover, since the fluid conductive material 26 is used, a linear structure having an arbitrary shape can be provided, and a high stress absorption ability can be provided. In this molded body preparation step, release from the mold 40, drying of the wet molded body, and the like may be performed in a timely manner.

線状キャビティ内包セラミックス成形体48を準備するには、図10に示すような方法を採用できる。すなわち、線状キャビティ46に対応するコイル状等の線状形態を付与した樹脂線材又は樹脂チューブ材などであって可撓性のある線状材49をセラミックス成形体用のキャビティ42に配した後、セラミックススラリー44を型40に充填し固化させた後、線状材49を固化体から引き抜けばよい。こうすることで、線状材49の除去部分にコイル状等の線状キャビティ46が形成される。なお、線状キャビティ46を形成するための線状材49は、樹脂製に限定するものではないが、ポリテトラフルオロエチレンやシリコーン樹脂やシリコーンゴムなど表面エネルギーの低い材料を用いることが好ましい。なお、線状材49の引き抜きは、固化体を型40から離型した後であってもよいし、その前であってもよい。   In order to prepare the linear cavity inclusion ceramic molded body 48, a method as shown in FIG. 10 can be adopted. That is, after a flexible linear material 49 such as a resin wire material or a resin tube material provided with a linear shape such as a coil shape corresponding to the linear cavity 46 is arranged in the cavity 42 for the ceramic molded body After the ceramic slurry 44 is filled in the mold 40 and solidified, the linear material 49 may be pulled out from the solidified body. By doing so, a linear cavity 46 such as a coil shape is formed in the removed portion of the linear material 49. The linear material 49 for forming the linear cavity 46 is not limited to resin, but it is preferable to use a material with low surface energy such as polytetrafluoroethylene, silicone resin, or silicone rubber. The linear material 49 may be pulled out after the solidified body is released from the mold 40 or before that.

さらに、線状キャビティ内包セラミックス成形体48を、例えば、図11に示す方法によっても準備できる。図11は、流動性の導体材料26を巻き線状に充填するための線状キャビティ46を備える線状キャビティ内包セラミックス成形体48及び導体材料内包セラミックス成形体22の製造例を各段階における断面構造で示す。この方法では、一体化により線状キャビティ46を形成する2個以上のキャビティ形成用セラミックス体82(図11では、82a、82bの2個のセットを例示する。)のセット80を準備することができる。これらのキャビティ形成用セラミックス体82のセット80は、予め、所定の面を付き合わせて接合等により一体化したときに、線状キャビティ46を形成できるように構成されている。このように、複数個のキャビティ形成用セラミックス体82からなるセット80が線状キャビティ46を形成することで、複雑な形態の線状キャビティ46を精度よく形成することができる。なお、これらのセラミックス体82は、未焼成体であってもよいし既焼成体であってもよい。   Furthermore, the linear cavity inclusion ceramic molded body 48 can be prepared, for example, by the method shown in FIG. FIG. 11 is a cross-sectional view of a manufacturing example of a linear cavity-containing ceramic molded body 48 including a linear cavity 46 for filling a fluid conductive material 26 in a winding shape and a conductive material-containing ceramic molded body 22 at each stage. It shows with. In this method, a set 80 of two or more cavity-forming ceramic bodies 82 (in FIG. 11, two sets of 82a and 82b are illustrated) that form the linear cavity 46 by integration is prepared. it can. A set 80 of these ceramic bodies 82 for forming a cavity is configured so that the linear cavity 46 can be formed when a predetermined surface is attached and integrated by bonding or the like. As described above, the set 80 including the plurality of cavity-forming ceramic bodies 82 forms the linear cavity 46, so that the linear cavity 46 having a complicated shape can be accurately formed. The ceramic body 82 may be an unfired body or an already fired body.

特に、セット80を構成するセラミックス体82の少なくとも一つを、本発明のセラミックス構造体2と同様にゲルキャスト法などで成形型によりセラミックス成形体として得るとき、線状キャビティ46の形状を成形型により規定できるため、線状キャビティ46の位置及び形状を高い寸法精度で実現できる。図11では、線状キャビティ46を実質的に構成する凹状部84を構成するセラミックス体82aを当該セラミックス体82aに対応するキャビティを有する成形型を用いてゲルキャスト法により作製している。このため、確実に位置及び形状を高い寸法精度で実現できる。   In particular, when at least one of the ceramic bodies 82 constituting the set 80 is obtained as a ceramic molded body by a molding die by a gel cast method or the like, similar to the ceramic structure 2 of the present invention, the shape of the linear cavity 46 is changed to the molding mold. Therefore, the position and shape of the linear cavity 46 can be realized with high dimensional accuracy. In FIG. 11, the ceramic body 82a constituting the concave portion 84 that substantially constitutes the linear cavity 46 is produced by a gel casting method using a mold having a cavity corresponding to the ceramic body 82a. For this reason, a position and a shape can be reliably realized with high dimensional accuracy.

なお、複数個のキャビティ形成用セラミックス体82の一体化とは、流動性を有する導体材料26を充填可能な程度に一体化されるものであればよく、一体化の手法を特に限定するものではない。したがって、型内等における圧締等による機械的な一体化であってもよいし、バインダ、焼成等のセラミックスに適用可能な接合技術による一体化であってもよい。   The integration of the plurality of cavity-forming ceramic bodies 82 is not particularly limited as long as it is integrated so that the conductive material 26 having fluidity can be filled. Absent. Therefore, mechanical integration by pressing in a mold or the like may be performed, or integration by a joining technique applicable to ceramics such as a binder and firing may be performed.

こうしたキャビティ形成用セラミックス体82のセット80は、一体化されて線状キャビティ46を構成可能に複数個で構成されていれば特にその組合せ態様や構成個数を限定するものではない。例えば、図11に示すように、線状キャビティ46の長さ方向に沿ってセラミックス体82a、82bを対向配置させることで線状キャビティ46を構成してもよいし、線状キャビティ46の長さ方向とは交差する方向(例えばほぼ直角状に交差する方向)に沿ってセラミックス体82を対向配置させることで線状キャビティ46を形成するものであってもよい。   The set 80 of the ceramic bodies 82 for forming the cavity is not particularly limited in terms of the combination mode and the number of components as long as the set 80 is formed in a plurality so as to be integrated to form the linear cavity 46. For example, as shown in FIG. 11, the linear cavity 46 may be configured by arranging ceramic bodies 82 a and 82 b to face each other along the length direction of the linear cavity 46, or the length of the linear cavity 46. The linear cavity 46 may be formed by disposing the ceramic bodies 82 so as to face each other along a direction intersecting the direction (for example, a direction intersecting substantially at right angles).

また、例えば、対向状に配置される2個以上のキャビティ形成用セラミックス体82の対向面にそれぞれ形成した凹状部の開口部を付き合わせることにより線状キャビティ46を形成してもよい。また、例えば、線状キャビティ46に対応する凹状部84を表面に有する1個又は2個以上の第1のキャビティ形成用セラミックス体82と、その凹状部84の開口部分を遮蔽する壁面86を有する1個又は2個以上の第2のキャビティ形成用セラミックス体82とから構成することができる。なお、これらのキャビティ形成用セラミックス体82は、線状キャビティ46の全体を構成することが好ましいが、その一部を構成するものであってもよい。   Further, for example, the linear cavity 46 may be formed by attaching the openings of the concave portions formed on the opposing surfaces of two or more cavity-forming ceramic bodies 82 arranged in an opposing manner. Further, for example, one or two or more first cavity-forming ceramic bodies 82 having concave portions 84 corresponding to the linear cavities 46 on the surface, and wall surfaces 86 that shield the opening portions of the concave portions 84 are provided. One or two or more second cavity forming ceramic bodies 82 can be used. These cavity-forming ceramic bodies 82 preferably constitute the entire linear cavity 46, but may constitute a part thereof.

セット80を構成するこれらのキャビティ形成用セラミックス体82の一体化したもの(一体化体)90は、線状キャビティ内包セラミックス成形体48の一部あるいは全体を構成することができる。図11に示すように、一体化体90が線状キャビティ内包セラミックス成形体48の全体を構成する場合、一体化体90は、それ自体が線状キャビティ内包セラミックス成形体48であって当該セラミックス成形体48の外形形状を備えている。すなわち、各セラミックス体82は、一体化により導体材料内包セラミックス成形体48の外形形状を構成する外形形状を備えている。一体化体90が線状キャビティ内包セラミックス成形体48の外形全体を構成しているとき、一体化体90の線状キャビティ46に導体材料を充填することで、導体材料内包セラミックス成形体22を得ることができる。   An integrated body (integrated body) 90 of these cavity-forming ceramic bodies 82 constituting the set 80 can constitute a part or the whole of the linear cavity-containing ceramic molded body 48. As shown in FIG. 11, when the integrated body 90 constitutes the entire linear cavity-containing ceramic molded body 48, the integrated body 90 is itself a linear cavity-containing ceramic molded body 48, and the ceramic molded body The outer shape of the body 48 is provided. That is, each ceramic body 82 has an outer shape that forms the outer shape of the conductor material-containing ceramic molded body 48 by integration. When the integrated body 90 forms the entire outer shape of the linear cavity-containing ceramic molded body 48, the conductor material-containing ceramic molded body 22 is obtained by filling the linear cavity 46 of the integrated body 90 with the conductive material. be able to.

一方、一体化体90が線状キャビティ内包セラミックス成形体48の一部のみを構成する場合、一体化体90に対してさらにセラミックススラリー44を供給して最終的な線状キャビティ内包成形体48又は導体材料内包セラミックス成形体22を得ることができる。例えば、図11に示すように、一体化体90の線状キャビティ46に流動性の導体材料26を充填し、この一体化体90を、導体材料内包セラミックス成形体22を成形するための成形型40内に配置して、セラミックススラリー44をそのキャビティ42に注入して、線状キャビティ内包セラミックス成形体48を得ることができる。なお、一体化体90を、導体材料内包セラミックス成形体22を得るための成形型に配置して、セラミックススラリーを充填することで線状キャビティ内包セラミックス成形体48を得た上で、導体材料26を充填して導体材料内包セラミックス成形体22を得るようにしてもよい。   On the other hand, when the integrated body 90 constitutes only a part of the linear cavity inclusion ceramic molded body 48, the ceramic slurry 44 is further supplied to the integrated body 90 and the final linear cavity embedded molded body 48 or A conductive material-containing ceramic molded body 22 can be obtained. For example, as shown in FIG. 11, the linear cavity 46 of the integrated body 90 is filled with a fluid conductive material 26, and this integrated body 90 is formed into a molding die for forming a conductive material-containing ceramic molded body 22. The ceramic slurry 44 is placed in the cavity 40 and injected into the cavity 42 to obtain a linear cavity-containing ceramic molded body 48. The integrated body 90 is placed in a mold for obtaining the conductor material-encapsulating ceramic molded body 22 and filled with ceramic slurry to obtain the linear cavity-encapsulating ceramic molded body 48, and then the conductor material 26. The conductive material-encapsulating ceramic formed body 22 may be obtained by filling

また、セット80を構成する線状キャビティ形成用セラミックス体82の少なくとも2個について、後段の焼成により異なる組成又は特性を呈するセラミックス材料から構成することができる。こうすることで、インダクタ特性を改善することができる場合がある。   Further, at least two of the linear cavity forming ceramic bodies 82 constituting the set 80 can be made of ceramic materials exhibiting different compositions or characteristics by subsequent firing. By doing this, it may be possible to improve the inductor characteristics.

線状キャビティ形成用セラミックス成形体82のセット80は、最も簡易には、図11に例示するように、線状キャビティ46の長さ方向に沿って線状キャビティ46の中空形状にほぼ対応する凹状部84を外周面に有する1個の第1のキャビティ形成用セラミックス体82aと、この凹状部の開口部を遮蔽して線状キャビティ46を形成する壁面86を内周面を有する筒状の第2のキャビティ形成用セラミックス体82bとから線状キャビティ内包セラミックス成形体48を構成することができる。なお、図11において、外周側に位置される筒状体の内周面に線状キャビティ46に対応する凹状部を形成して第1のキャビティ形成用セラミックス体とし、内周側の外周面を凹状部の開口部を遮蔽する壁面を有する第2のキャビティ形成用セラミックス体としてもよい。   In the simplest case, the set 80 of the ceramic molded bodies 82 for forming the linear cavities has a concave shape substantially corresponding to the hollow shape of the linear cavities 46 along the length direction of the linear cavities 46 as illustrated in FIG. The first cavity-forming ceramic body 82a having the portion 84 on the outer peripheral surface, and the cylindrical wall surface 86 having the inner peripheral surface that forms the linear cavity 46 by shielding the opening of the concave portion. The linear cavity-containing ceramic molded body 48 can be constituted from the two cavity-forming ceramic bodies 82b. In addition, in FIG. 11, the recessed part corresponding to the linear cavity 46 is formed in the internal peripheral surface of the cylindrical body located in the outer peripheral side, and it is set as the 1st cavity formation ceramic body, and the outer peripheral surface of an inner peripheral side is used. It is good also as a 2nd ceramic body for cavity formation which has a wall surface which shields the opening part of a concave part.

また、図11では、螺旋状あるいは巻線状の線状キャビティ46を2つの線状キャビティ形成用セラミックス体82a、82bにより構成するものとしたが、これに限定するものではない。線状キャビティ46は他の線状の態様としてもよく、また、線状キャビティ形成用セラミックス体82を3個あるいは4個以上を適宜組み合わせるものとしてもよい。さらに、必ずしも図11に示すように内側と外側とに線状キャビティ形成用セラミックス体を配置して一体化する構成する必要もなく、線状キャビティ46の形態に応じて、その個数や組合せ態様を適宜変更することができる。   In FIG. 11, the spiral or coiled linear cavity 46 is constituted by two linear cavity forming ceramic bodies 82a and 82b, but the present invention is not limited to this. The linear cavity 46 may have another linear form, or three or four or more linear cavity forming ceramic bodies 82 may be appropriately combined. Further, it is not always necessary to arrange and integrate linear cavity forming ceramic bodies on the inner side and the outer side as shown in FIG. It can be changed as appropriate.

(成形体準備工程3)
成形体準備工程は、図12に示すように、セラミックス材料24と所望の線状形態に加工可能な形状を有する非線状形態の導体材料26とを含む非線状導体材料内包セラミックス成形体50を準備し(ステップS20)、この成形体50中の非線状形態の導体材料26の一部を切削加工等により除去して所望の線状形態とした後(ステップS21)、導体材料26の除去部分にセラミックス材料のスラリーを供給し、当該スラリーを固化させることにより(ステップS22)、セラミックス成形体22を準備する工程とすることができる。
(Formed body preparation step 3)
As shown in FIG. 12, the molded body preparation step includes a non-linear conductor material-containing ceramic molded body 50 including a ceramic material 24 and a non-linear conductor material 26 having a shape that can be processed into a desired linear form. Is prepared (step S20), and a part of the non-linear conductor material 26 in the molded body 50 is removed by cutting or the like to obtain a desired linear form (step S21). By supplying a slurry of the ceramic material to the removed portion and solidifying the slurry (step S22), a process for preparing the ceramic molded body 22 can be performed.

こうした成形体準備工程によれば、線状形態の導体材料26や線状キャビティ形成部材52などの線状材に最終的な線状形態を当初より付与しなくてすむため、これらの線状材への線状形態付与を省略することができるとともに、非線状形態の導体材料26を成形キャビティ42に配すればよいため、線状形態の導体材料26を成形用キャビティ42に配する際の位置決めや固定等の困難さを回避又は低減できる。さらに、最終的な線状形態を非線状形態から切削や押し出しなどの二次加工により付与するため、線状形態の自由度を高めることができる。この成形体準備工程においては、型40からの離型や湿潤成形体の乾燥等は適時に行えばよい。   According to such a molded body preparation step, it is not necessary to give the final linear form to the linear member such as the linear conductor material 26 or the linear cavity forming member 52 from the beginning. It is possible to omit the provision of a linear form to the non-linear form and to dispose the non-linear form of the conductor material 26 in the molding cavity 42. Difficulties such as positioning and fixing can be avoided or reduced. Furthermore, since the final linear form is provided from the non-linear form by secondary processing such as cutting or extrusion, the degree of freedom of the linear form can be increased. In this molded body preparation step, release from the mold 40, drying of the wet molded body, and the like may be performed in a timely manner.

非線状形態の導体材料26としては、図12に示すように、雄ネジの螺合部分(ネジ軸)を有する導体材料26が挙げられる。こうした雄ネジ状体は外周に螺旋状のネジ山を有しており、このネジ山を残すように軸体内側部分を除去することで螺旋状のネジ山のみからなる線状形態の導体材料26を得ることができる。なお、雄ネジ状体は、雄ネジ部を有していればよく、その軸体内部は中実状である必要はなく、空洞であってもよい。   Examples of the non-linear conductor material 26 include a conductor material 26 having a male screw threaded portion (screw shaft) as shown in FIG. Such a male screw-like body has a spiral thread on the outer periphery, and the conductor material 26 in a linear form consisting only of the spiral thread is obtained by removing the inner part of the shaft body so as to leave this thread. Can be obtained. The male screw-like body only needs to have a male screw portion, and the inside of the shaft body does not need to be solid and may be a cavity.

こうした非線状形態の導体材料26は、導電ペースト等の流動性の導体材料26を成形して得ることができるが、こうした導体材料26を内包する非線状導体材料内包セラミックス成形体50を準備するには、例えば、図13及び図14に示す方法を採用できる。   Such a non-linear conductor material 26 can be obtained by molding a fluid conductor material 26 such as a conductive paste. A non-linear conductor material-containing ceramic molded body 50 containing such a conductor material 26 is prepared. For example, the method shown in FIGS. 13 and 14 can be employed.

図13に示す方法は、予めこうした非線状形態を備える導体材料26を導体ペーストなどの流動性の導体材料26で成形し、この導体材料成形体を成形用キャビティ42に配してセラミックススラリー44を充填し固化させる方法である。また、図14に示す方法は、非線状形態に対応するキャビティ形成部材52を成形用キャビティ42に配してセラミックススラリー44を充填して硬化させ、その後、キャビティ形成部材52を除去して得られるキャビティ54に導体ペースト等を充填して成形体50内において非線状形態の導体材料26をその場成形してもよい。非線状形態のキャビティ54を形成するためのキャビティ形成部材52として、雄ネジ状体を用いることで容易に成形体から除去することができる。   In the method shown in FIG. 13, a conductor material 26 having such a non-linear shape is formed in advance with a fluid conductor material 26 such as a conductor paste, and this conductor material compact is placed in a molding cavity 42 to be ceramic slurry 44. Is a method of filling and solidifying. Further, the method shown in FIG. 14 is obtained by placing the cavity forming member 52 corresponding to the non-linear form in the molding cavity 42 and filling and hardening the ceramic slurry 44, and then removing the cavity forming member 52. The conductive material 26 having a non-linear shape may be formed in situ in the molded body 50 by filling the cavity 54 with a conductive paste or the like. The cavity forming member 52 for forming the non-linear cavity 54 can be easily removed from the molded body by using a male screw-like body.

非線状形態の導体材料26を線状形態に加工するには、図12に示すように、線状形態には不要な部分(例えば、雄ネジ状体の内側部分)を機械的な切削加工や切断加工によって除去して、螺旋状のネジ山部分のみがセラミックス成形体に残存した状態とする。不要部の除去には、例えば、雄ネジ状体より小さい外径のドリルで導体材料26内部を切削したりしてもよい。   To process the non-linear form of the conductor material 26 into a linear form, as shown in FIG. 12, mechanical cutting of a portion unnecessary for the linear form (for example, the inner part of the male screw-like body) is performed. Or by cutting, so that only the spiral thread portion remains in the ceramic molded body. For removing the unnecessary portion, for example, the inside of the conductor material 26 may be cut with a drill having an outer diameter smaller than that of the male screw-like body.

(未焼結セラミックス成形体)
本発明の未焼結セラミックス成形体は、こうしたセラミックス成形体準備工程において得られるセラミックス成形体22である。セラミックス成形体22は、未焼結のセラミックス材料のマトリックス24と、導体成分を含む導体材料26であって、その内側に当該導体材料に係る収縮応力を吸収可能な応力吸収能を備える導体材料26と、を備え、セラミックス材料24中に導体材料26を線状形態で内包することができる。既に説明したようにセラミックス成形体22は、応力吸収能を各種の形態で備えることができる。
(Unsintered ceramic compact)
The unsintered ceramic molded body of the present invention is a ceramic molded body 22 obtained in such a ceramic molded body preparation step. The ceramic molded body 22 is a conductor material 26 including a matrix 24 of an unsintered ceramic material and a conductor component, and a conductor material 26 having a stress absorbing ability capable of absorbing contraction stress related to the conductor material. The conductor material 26 can be included in the ceramic material 24 in a linear form. As already described, the ceramic molded body 22 can be provided with various stress absorption capabilities.

(焼成工程)
次に、セラミックス成形体22を焼結する。焼結は、セラミックス粉末の種類等によって適宜条件を設定することができる。焼成工程では、セラミックス材料が焼結することに伴い成形体22が収縮し、収縮応力が成形体に作用する。線状形態の導体材料26との界面近傍では、導体材料26が備える応力吸収能が収縮応力を吸収して、導体材料26の界面近傍のセラミックスマトリックス4での引張応力の発生を抑制又は回避できる。
(Baking process)
Next, the ceramic molded body 22 is sintered. Conditions for sintering can be set as appropriate depending on the type of ceramic powder and the like. In the firing step, the molded body 22 contracts as the ceramic material is sintered, and the shrinkage stress acts on the molded body. In the vicinity of the interface with the conductor material 26 in the linear form, the stress absorption capability of the conductor material 26 absorbs the shrinkage stress, and the generation of tensile stress in the ceramic matrix 4 near the interface of the conductor material 26 can be suppressed or avoided. .

応力吸収能が貫通孔部30aや分散状の孔部30b等の中空部30によって付与されるときには、これら中空部30が変形し又は縮小されることで収縮応力を吸収する。また、応力吸収能が減容成分32cによって付与されるときには、減容成分32cが焼失等することで減容成分32cに対応する中空部がその場形成される。これにより、中空部30を備えるときと同様に、中空部が変形又は縮小することで収縮応力を吸収することができる。したがって、セラミックスマトリックス4におけるクラックや割れを抑制又は回避して、セラミックス構造体2を得ることができる。また、セラミックス構造体2の経時的強度低下や遅れ破壊を抑制又は回避することができる。   When the stress absorbing ability is imparted by the hollow portions 30 such as the through-hole portions 30a and the dispersed hole portions 30b, the hollow portions 30 are deformed or reduced to absorb the contraction stress. In addition, when the stress absorbing ability is imparted by the volume reducing component 32c, the volume reducing component 32c is burned away, so that a hollow portion corresponding to the volume reducing component 32c is formed in-situ. Thereby, similarly to the case where the hollow portion 30 is provided, the contraction stress can be absorbed by the deformation or reduction of the hollow portion. Therefore, the ceramic structure 2 can be obtained while suppressing or avoiding cracks and cracks in the ceramic matrix 4. In addition, a decrease in strength over time and delayed fracture of the ceramic structure 2 can be suppressed or avoided.

既に説明したように、線状形態の導体材料26が可撓性を有する場合には、導体材料26の変形と相まってより効果的に収縮応力を吸収することができる。また、線状形態の導体材料26を導体ペースト等を成形して構成している場合においても、焼成工程における導体成分の移動性によって効果的に収縮応力を吸収することができる。   As already described, when the conductor material 26 having a linear shape has flexibility, the contraction stress can be absorbed more effectively in combination with the deformation of the conductor material 26. Even when the linear conductor material 26 is formed by molding a conductor paste or the like, the contraction stress can be effectively absorbed by the mobility of the conductor component in the firing step.

本発明によれば、このように線状導体セラミックス成形体が焼結する際の収縮率が15%以上45%以下であれば、焼成工程においてセラミックスマトリックス4に発生する収縮応力を吸収してセラミックス構造体2を得ることができる。収縮率は15%未満になりにくくまた45%を超えると焼結が不十分となるからである。より好ましくは、収縮率は35%以下である。   According to the present invention, if the shrinkage rate when the linear conductor ceramic formed body is sintered is 15% or more and 45% or less in this way, the shrinkage stress generated in the ceramic matrix 4 is absorbed in the firing step to absorb the ceramic. The structure 2 can be obtained. This is because the shrinkage rate is unlikely to be less than 15%, and if it exceeds 45%, sintering becomes insufficient. More preferably, the shrinkage rate is 35% or less.

さらに、本発明によれば、焼成工程後に引き続く冷却工程におけるセラミックス構造体2の収縮にも対応して応力吸収が可能である。   Furthermore, according to the present invention, it is possible to absorb the stress corresponding to the shrinkage of the ceramic structure 2 in the cooling step subsequent to the firing step.

焼成工程において、導体材料26における少なくとも一部の中空部30の変形や縮小や少なくとも一部の減容成分33の消失等を経て導体材料26は、最終的に導体6としての形態を備えることができる。焼結後のセラミックス構造体2中の導体6と焼結前の導体材料26とは少なくとも一部はその形態が異なっている。すなわち、導体6にあっては、導体材料26が中空部30を備えていた場合には、導体材料26の中空部30が変形又は縮小されており、減容成分33を備えていた場合いは、減容成分32の消失等により中空部が形成され、その後当該中空部が変形又は縮小されている。なお、中空部30(減容成分32の消失による中空部も含む)等の縮小には、中空部30が閉鎖される態様も含んでいる。   In the firing step, the conductor material 26 may finally have a form as the conductor 6 through deformation or reduction of at least a part of the hollow portion 30 in the conductor material 26 or disappearance of at least a part of the volume reducing component 33. it can. At least a part of the conductor 6 in the ceramic structure 2 after sintering and the conductor material 26 before sintering are different in form. That is, in the case of the conductor 6, when the conductor material 26 includes the hollow portion 30, the hollow portion 30 of the conductor material 26 is deformed or reduced and includes the volume reducing component 33. The hollow portion is formed by the disappearance of the volume reducing component 32 or the like, and then the hollow portion is deformed or reduced. Note that the reduction of the hollow portion 30 (including the hollow portion due to the disappearance of the volume reducing component 32) includes a mode in which the hollow portion 30 is closed.

以上説明したように、本発明のセラミックス構造体の製造方法によれば、内部に導体6を備えるセラミックス構造体2を焼結に起因する不具合を抑制して効率的に製造できる。また、ゲルキャスト法などのその場固化法を用いることで微小な部品や成形精度が要求される部品も効率的に製造できる。したがって、本発明の製造方法は、インダクタ、ノイズフィルタ、同軸共振器、カプラ、バラン、ディレイライン等の電子部品の製造方法として用いることができる。   As described above, according to the method for manufacturing a ceramic structure of the present invention, the ceramic structure 2 including the conductor 6 therein can be efficiently manufactured while suppressing defects caused by sintering. Further, by using an in-situ solidification method such as a gel cast method, it is possible to efficiently manufacture minute parts and parts that require molding accuracy. Therefore, the manufacturing method of the present invention can be used as a manufacturing method of electronic parts such as an inductor, a noise filter, a coaxial resonator, a coupler, a balun, and a delay line.

(セラミックス構造体)
本発明のセラミックス構造体は、焼結されたセラミックスマトリックス4と、焼結されたセラミックスマトリックス4に内包される線状形態の導体6とを備えることができる。セラミックスマトリックス4は、緻密質であっても多孔質であってもよい。セラミックス構造体2の用途に応じて適宜緻密度や気孔率が設定される。
(Ceramic structure)
The ceramic structure of the present invention can include a sintered ceramic matrix 4 and a linear conductor 6 included in the sintered ceramic matrix 4. The ceramic matrix 4 may be dense or porous. The density and porosity are appropriately set according to the application of the ceramic structure 2.

セラミックス構造体2における導体6は、上記のように、焼結前の線状導体26の中空部30や減容成分32がセラミックス材料24の焼結に伴って変形等や消失等して得られたものである。したがって、導体6は結果として中空部又はその痕跡を備えることができる。導体6における中空部及びその痕跡には、導体材料26における中空部30や減容成分に由来する中空部及びこれらの中空部が変形、縮小又は閉鎖した部分が含まれる。   As described above, the conductor 6 in the ceramic structure 2 is obtained by deforming or disappearing the hollow portion 30 or the volume reducing component 32 of the linear conductor 26 before sintering as the ceramic material 24 is sintered. It is a thing. Therefore, the conductor 6 can be provided with a hollow part or its trace as a result. The hollow portion in the conductor 6 and the trace thereof include the hollow portion 30 in the conductor material 26, the hollow portion derived from the volume reducing component, and a portion in which these hollow portions are deformed, reduced, or closed.

本発明のセラミックス構造体2は、焼結に起因する不具合が抑制されて機械的強度や電気的特性に優れる構造体となっている。このため、微小な電子部品や微細な形状の電子部品に好ましい構造体となっている。したがって、本発明のセラミックス構造体は、インダクタ、ノイズフィルタ、同軸共振器、カプラ、バラン、ディレイライン等の電子部品として用いることができる。   The ceramic structure 2 of the present invention is a structure that is excellent in mechanical strength and electrical characteristics by suppressing defects caused by sintering. For this reason, it is a preferable structure for a minute electronic component or a minute-shaped electronic component. Therefore, the ceramic structure of the present invention can be used as an electronic component such as an inductor, a noise filter, a coaxial resonator, a coupler, a balun, or a delay line.

以下、本発明を、実施例を挙げて具体的に説明する。なお、以下の実施例は本発明を具体的に説明するものであって、本発明を限定するものではない。   Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples. It should be noted that the following examples are illustrative of the present invention and are not intended to limit the present invention.

(1)ゲルキャスト法によるセラミックス成形体の作製
ゲルキャスト法に用いるセラミックススラリーを以下のようにして調製した。すなわち、原料粉末として、Ni,Zn、Cu系フェライト粉末100重量部を用い、分散媒としてトリアセチンを2.5部、グルタル酸ジメチルを22.5重量部、エチレングリコール0.2部、ゲル化剤(ポリメチレンポリフェニルポリイソシアネート)2.0重量部、分散剤(高分子カルボン酸)3重量部、触媒として6−ジメチルアミノ−1−ヘキサノールを0.1重量部混合したものを用いた。
(1) Production of Ceramic Molded Body by Gel Casting Method A ceramic slurry used for the gel casting method was prepared as follows. That is, 100 parts by weight of Ni, Zn, Cu-based ferrite powder as raw material powder, 2.5 parts of triacetin as a dispersion medium, 22.5 parts by weight of dimethyl glutarate, 0.2 part of ethylene glycol, gelling agent A mixture of 2.0 parts by weight of (polymethylene polyphenyl polyisocyanate), 3 parts by weight of a dispersant (polymer carboxylic acid) and 0.1 part by weight of 6-dimethylamino-1-hexanol as a catalyst was used.

次いで、線径0.1mm、コイル長1mm、コイル径1mm、巻数10回、コイル両端の直線部分の長さが0.5mmでAg製のコイルを準備した。また、コイルの導体部は筒状体(肉厚25μm)であり、軸線方向に貫通する貫通孔(直径50μm)を備えていた。このコイルをアルミニウム合金製の型(約2mm×2mm×2mm)に予め配置した後、調製したスラリーを室温で注型後、室温で一時間放置した。次いで、40℃で30分間放置して、固化を進めて離型した。次いで90℃で1時間放置して、セラミックス成形体を得た。なお、同一材料及び同一形態で内部に貫通孔及び樹脂層を有しないコイルを準備して、実施例と同様の方法によって比較例のセラミックス成形体を作製した。   Next, an Ag coil was prepared with a wire diameter of 0.1 mm, a coil length of 1 mm, a coil diameter of 1 mm, a number of turns of 10 times, and a length of a straight portion at both ends of the coil of 0.5 mm. Moreover, the conductor part of the coil was a cylindrical body (thickness 25 μm) and provided with a through hole (diameter 50 μm) penetrating in the axial direction. This coil was placed in advance in an aluminum alloy mold (about 2 mm × 2 mm × 2 mm), and the prepared slurry was cast at room temperature and left at room temperature for 1 hour. Subsequently, it was left to stand at 40 ° C. for 30 minutes to advance solidification and release. Subsequently, it was left at 90 ° C. for 1 hour to obtain a ceramic molded body. In addition, the coil which does not have a through-hole and a resin layer inside by the same material and the same form was prepared, and the ceramic molded body of the comparative example was produced by the method similar to an Example.

(焼成工程)
これらのセラミックス成形体を、大気中900℃で焼成してセラミックスマトリックスを焼結させた。
(Baking process)
These ceramic molded bodies were fired at 900 ° C. in the atmosphere to sinter the ceramic matrix.

実施例の焼結体は、焼成工程で約30%収縮したが、こうした収縮に係わらず、初期の形態を維持したコイルを内包し、かつコイル近傍にクラック等も生じることなく適切な強度を確保したセラミックス焼結体であった。また、線状導体の内部の貫通孔部を観察したところ、内部に皺がよったような状態となり貫通孔が変形したり、一部相当程度圧縮されていた。一方、比較例では、セラミックス成形体が焼成工程で崩壊してしまい、セラミックス構造体を得ることができなかった。   The sintered body of the example shrunk by about 30% in the firing process. However, regardless of the shrinkage, the sintered body includes the coil maintaining the initial form, and secures an appropriate strength without causing cracks in the vicinity of the coil. This was a sintered ceramic body. Moreover, when the through-hole part inside a linear conductor was observed, it was in a state where the inside was wrinkled, and the through-hole was deformed or partially compressed to some extent. On the other hand, in the comparative example, the ceramic molded body collapsed in the firing step, and a ceramic structure could not be obtained.

以上のことから、導線自体に焼結時等に生じる収縮応力を吸収する応力吸収部を備えることで、収縮応力を吸収して、セラミックス構造体の割れ等を効果的に抑制又は回避することができることがわかった。   From the above, it is possible to effectively suppress or avoid cracking of the ceramic structure by absorbing the shrinkage stress by providing the lead wire itself with a stress absorbing portion that absorbs the shrinkage stress generated during sintering. I knew it was possible.

本発明のセラミックス構造体の製造方法の工程の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the process of the manufacturing method of the ceramic structure of this invention. 本発明のセラミックス構造体の一例を示す図であり、図2(a)は、セラミックス構造体の外形を示し、図2(b)はその断面図である。It is a figure which shows an example of the ceramic structure of this invention, Fig.2 (a) shows the external shape of a ceramic structure, FIG.2 (b) is the sectional drawing. 本発明のセラミックス構造体の前駆体であるセラミックス成形体の断面構造を示す図である。It is a figure which shows the cross-section of the ceramic molded body which is a precursor of the ceramic structure of this invention. 導体材料の例(a)〜(e)を示す図であり、図4(a)及び図4(b)は、導体材料の軸方向断面図であり、図4(c)及び図4(d)は、導体材料の横断面図であり、図4(e)は、導体材料の軸方向断面図と横断面図とを組み合わせた図である。It is a figure which shows the example (a)-(e) of conductor material, FIG. 4 (a) and FIG.4 (b) are axial direction sectional drawings of conductor material, FIG.4 (c) and FIG.4 (d). ) Is a cross-sectional view of the conductor material, and FIG. 4E is a view in which an axial cross-sectional view and a cross-sectional view of the conductor material are combined. 導体材料の他の例を示す図であり、図5(a)〜(c)は、導体材料の軸方向断面図である。It is a figure which shows the other example of a conductor material, and Fig.5 (a)-(c) is an axial sectional view of a conductor material. 導体材料の他の例を示す図であり、図6(a)及び図6(b)は、導体材料の軸方向断面図であるIt is a figure which shows the other example of a conductor material, and Fig.6 (a) and FIG.6 (b) are axial direction sectional drawings of a conductor material. 導体材料の他の例を示す図であり、図7(a)及び図7(b)は、導体材料の軸方向断面図である。It is a figure which shows the other example of a conductor material, and Fig.7 (a) and FIG.7 (b) are axial direction sectional drawings of a conductor material. 予め線状形態を有する導体材料を用いた成形体準備工程の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the molded object preparation process using the conductor material which has a linear form previously. 予め線状形態を有する導体材料を用いた成形体準備工程の他の一例を示す図である。It is a figure which shows another example of the molded object preparation process using the conductor material which has a linear form previously. ガイドを有するセラミックス成形体の例を示す図である。It is a figure which shows the example of the ceramic molded body which has a guide. 流動性を有する導体材料を用いた成形体準備工程の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the molded object preparation process using the conductor material which has fluidity | liquidity. 流動性を有する導体材料を用いた成形体準備工程の他の一例を示す図である。It is a figure which shows another example of the molded object preparation process using the conductor material which has fluidity | liquidity. 成形体準備工程の他の一例を示す図である。It is a figure which shows another example of a molded object preparation process. 図12における非線状導体材料内包セラミックス成形体を準備する工程の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the process of preparing the non-linear conductor material inclusion ceramic molded object in FIG. 図12における非線状導体材料内包セラミックス成形体を準備する工程の他の一例を示す図である。It is a figure which shows another example of the process of preparing the non-linear conductor material inclusion ceramic molded object in FIG.

符号の説明Explanation of symbols

2 セラミックス構造体、4 焼結したセラミックスマトリックス、6 導体、22 セラミックス成形体、24 未焼結のセラミックス材料のマトリックス、26 導体材料、28 導体成分マトリックス、30 中空部、30a 貫通孔部、30b 分散状孔部、32 減容成分、34 脆弱部、40 型、42 成形用キャビティ、44 セラミックススラリー、46 線状キャビティ、48 線状キャビティ内包セラミックス成形体、49 線状材、50 非線状導体材料内包セラミックス成形体、52 非線状キャビティ形成部材、54 非線状キャビティ、60 セラミックス柱状体、62 ガイド、80 線状キャビティ形成用セラミックス体のセット、82、82a、82b 線状キャビティ形成用セラミックス体、84 凹状部、86 壁面、90 一体化体 2 Ceramic structure, 4 Sintered ceramic matrix, 6 conductor, 22 ceramic molded body, 24 matrix of unsintered ceramic material, 26 conductor material, 28 conductor component matrix, 30 hollow part, 30a through hole part, 30b dispersion Shaped hole part, 32 volume reducing component, 34 weak part, 40 mold, 42 molding cavity, 44 ceramic slurry, 46 linear cavity, 48 linear cavity encapsulated ceramic molded body, 49 linear material, 50 non-linear conductor material Encapsulated ceramic molded body, 52 Non-linear cavity forming member, 54 Non-linear cavity, 60 Ceramic columnar body, 62 Guide, 80 Linear cavity forming ceramic body set, 82, 82a, 82b Linear cavity forming ceramic body , 84 concave part, 86 wall surface 90 integrated body

Claims (28)

内部に線状形態の導体を備えるセラミックス構造体の製造方法であって、
前記セラミックス構造体のセラミックスマトリックスを焼結により生成するセラミックス材料と、導体成分を含む導体材料であってその内側に当該導体材料に係る収縮応力を吸収可能な応力吸収能を備える導体材料と、を備え、前記セラミックス材料中に前記導体材料を線状形態で内包する導体材料内包セラミックス成形体を準備する成形体準備工程と、
前記導体材料内包セラミックス成形体を焼結する焼成工程と、
を備える、製造方法。
A method for producing a ceramic structure having a conductor in a linear form inside,
A ceramic material produced by sintering a ceramic matrix of the ceramic structure, and a conductor material including a conductor component, and a conductor material having a stress absorbing ability capable of absorbing contraction stress related to the conductor material inside thereof. A formed body preparation step of preparing a conductor material-containing ceramic molded body including the conductor material in a linear form in the ceramic material;
A firing step of sintering the conductive material-containing ceramic molded body;
A manufacturing method comprising:
前記成形体準備工程は、前記セラミックス材料に前記導体材料の表面を密着させた状態で内包された前記導体材料内包セラミックス成形体を準備する工程である、請求項1に記載の製造方法。   2. The manufacturing method according to claim 1, wherein the formed body preparation step is a step of preparing the conductive material-encapsulated ceramic formed body included in a state where the surface of the conductive material is in close contact with the ceramic material. 前記セラミックス焼成工程で前記導体材料の表面近傍に発生する収縮応力を緩和する、請求項1又は2に記載の製造方法。   The manufacturing method of Claim 1 or 2 which relieves the shrinkage stress which generate | occur | produces in the surface vicinity of the said conductor material at the said ceramic baking process. 前記導体材料は、前記収縮応力により変形又は縮小可能な中空部を有している、請求項1〜3のいずれかに記載の製造方法。   The said conductor material is a manufacturing method in any one of Claims 1-3 which has the hollow part which can be deform | transformed or reduced by the said contraction stress. 前記中空部は前記導体材料を長尺方向に貫通する貫通孔部及び/又は前記導体材料に分散される多数の孔部を含む、請求項4に記載の製造方法。   The manufacturing method according to claim 4, wherein the hollow portion includes a through-hole portion penetrating the conductor material in a longitudinal direction and / or a large number of hole portions dispersed in the conductor material. 前記導体材料は、前記焼成工程において焼失又は昇華により減容可能な減容成分を含んでいる、請求項1〜5のいずれかに記載の製造方法。   The said conductor material is a manufacturing method in any one of Claims 1-5 containing the volume reduction component which can be reduced by burning or sublimation in the said baking process. 前記線状形態は螺旋形態を有する、請求項1〜6のいずれかに記載の製造方法。   The manufacturing method according to claim 1, wherein the linear form has a spiral form. 前記成形体準備工程は、セラミックス粉末、反応性官能基を有する有機分散媒及びゲル化剤を含有し前記有機分散媒と前記ゲル化剤との反応により固化されるセラミックススラリーを用いて前記導体材料内包セラミックス成形体を作製する工程である、請求項1〜7のいずれかに記載の製造方法。   The molded body preparation step includes using a ceramic slurry containing ceramic powder, an organic dispersion medium having a reactive functional group, and a gelling agent, and solidifying by a reaction between the organic dispersion medium and the gelling agent. The manufacturing method in any one of Claims 1-7 which is a process of producing the inclusion ceramic molded object. 前記導体材料は予め線状形態を有する線状部材である、請求項1〜8のいずれかに記載の製造方法。   The manufacturing method according to claim 1, wherein the conductor material is a linear member having a linear shape in advance. 前記線状部材は可撓性を備えている、請求項9に記載の製造方法。   The manufacturing method according to claim 9, wherein the linear member has flexibility. 前記成形体準備工程は、前記線状部材を配した成形用キャビティに前記セラミックス材料のスラリーを供給し、当該スラリーを固化させることにより前記導体材料内包セラミックス成形体を作製する工程である、請求項9又は10に記載の製造方法。   The forming body preparing step is a step of supplying the ceramic material slurry to a forming cavity provided with the linear member and solidifying the slurry to produce the conductive material-containing ceramic formed body. The manufacturing method according to 9 or 10. 前記成形体準備工程は、前記線状部材を所定の外形の未焼成又は既焼成のセラミックス成形体に巻き付けた状態で前記成形用キャビティに配置することを含む工程である、請求項11に記載の製造方法。   The said molded object preparation process is a process including arrange | positioning in the said cavity for shaping | molding in the state in which the said linear member was wound around the unbaked or already-baked ceramic molded object of the predetermined | prescribed external shape. Production method. 前記セラミックス成形体は、前記線状部材を巻き付けするためのガイドを備える、請求項12に記載の製造方法。   The manufacturing method according to claim 12, wherein the ceramic molded body includes a guide for winding the linear member. 前記成形体準備工程は、
前記セラミックス材料と、前記セラミックス材料中に前記線状形態に対応する線状キャビティと、を備える線状キャビティ内包セラミックス成形体を準備し、当該線状キャビティに流動性の前記導体材料を充填することで前記導体材料内包セラミックス成形体を準備する工程である、請求項1〜8のいずれかに記載の製造方法。
The molded body preparation step includes
Preparing a linear cavity-containing ceramic molded body comprising the ceramic material and a linear cavity corresponding to the linear form in the ceramic material, and filling the linear cavity with the fluid conductive material The manufacturing method according to any one of claims 1 to 8, which is a step of preparing the conductive material-containing ceramic molded body.
前記成形体準備工程は、一体化により前記線状のキャビティを形成する2個以上のキャビティ形成用セラミックス体を用い、これらのキャビティ形成用セラミックス体を一体化して形成する前記線状キャビティに前記導体材料を充填することを含む工程である、請求項14に記載の製造方法。   The forming body preparation step uses two or more cavity forming ceramic bodies that form the linear cavity by integration, and the conductor is formed in the linear cavity that is formed by integrating these cavity forming ceramic bodies. The manufacturing method of Claim 14 which is a process including filling with a material. 前記2個以上のキャビティ形成用セラミックス体は、前記線状キャビティに対応する凹状部を表面に有する1個又は2個以上の第1のキャビティ形成用セラミックス体と、前記凹状部の開口部分を遮蔽する壁面を有する1個又は2個以上の第2のキャビティ形成セラミックス成形体からなる、請求項15に記載の製造方法。   The two or more cavity-forming ceramic bodies shield one or two or more first cavity-forming ceramic bodies having concave portions corresponding to the linear cavities on the surface, and openings of the concave portions. The manufacturing method of Claim 15 which consists of 1 or 2 or more 2nd cavity formation ceramic molded object which has a wall surface to perform. さらに、前記2個以上のキャビティ形成用セラミックス体は、それぞれ前記一体化により前記導体材料内包セラミックス成形体の外形形状を構成する外形形状を備えている、請求項15又は16に記載の製造方法。   The manufacturing method according to claim 15 or 16, wherein each of the two or more cavity-forming ceramic bodies has an outer shape that forms an outer shape of the conductive material-containing ceramic molded body by the integration. 前記成形体準備工程は、前記セラミックス材料と前記セラミックス材料中に前記線状形態に加工可能な形状を有する非線状形態の前記導体材料とを備える非線状導体材料内包セラミックス成形体を準備し、前記非線状形態の導体材料の一部を除去して前記線状形態とした後、前記導体材料の除去部分に前記セラミックス材料のスラリーを供給し、当該スラリーを固化させることにより前記線状導体材料内包セラミックス成形体を準備する工程である、請求項1〜8のいずれかに記載の方法。   The forming body preparing step prepares a non-linear conductor material-containing ceramic formed body including the ceramic material and the non-linear form of the conductor material having a shape that can be processed into the linear form in the ceramic material. After removing a part of the non-linear conductor material to form the linear form, the slurry is supplied to the removed portion of the conductor material, and the slurry is solidified to solidify the linear material. The method according to any one of claims 1 to 8, which is a step of preparing a conductive material-containing ceramic molded body. 前記非線状導体材料内包セラミックス成形体を、前記セラミックス材料中に前記非線状形態に対応するキャビティを有する非線状キャビティ内包セラミックス成形体の当該非線状キャビティに流動性の前記導体材料を充填することにより作製する、請求項18に記載の方法。   The non-linear conductor material-containing ceramic molded body, and the non-linear cavity-containing ceramic molded body having a cavity corresponding to the non-linear form in the ceramic material, the fluid conductor material in the non-linear cavity. The method according to claim 18, wherein the method is prepared by filling. 前記線状形態は螺旋形態を有し、
前記非線状形態は螺旋状の凸状部を外周に備える柱状又は筒状である、請求項18又は19に記載の製造方法。
The linear form has a spiral form;
The manufacturing method according to claim 18 or 19, wherein the non-linear form is a columnar shape or a cylindrical shape including a spiral convex portion on an outer periphery.
前記導体材料は、Ag、Au、Pt、Cu、Ni、Pd及びRhからなる群から選択される1種又は2種以上を含む、請求項1〜20のいずれかに記載の製造方法。   The manufacturing method according to any one of claims 1 to 20, wherein the conductive material includes one or more selected from the group consisting of Ag, Au, Pt, Cu, Ni, Pd, and Rh. 前記無機粉末成形体の前記焼成工程における収縮率が15%以上45%以下である、請求項1〜21のいずれかに記載の製造方法。   The manufacturing method in any one of Claims 1-21 whose shrinkage | contraction rate in the said baking process of the said inorganic powder molded object is 15% or more and 45% or less. 電子部品の製造方法である、請求項1〜22のいずれかに記載の製造方法。   The manufacturing method according to claim 1, wherein the manufacturing method is an electronic component manufacturing method. 請求項1〜23のいずれかに記載の製造方法によって得られる、セラミックス構造体。   A ceramic structure obtained by the production method according to claim 1. セラミックス構造体であって、
焼結されたセラミックスマトリックスと、
前記焼結されたセラミックスマトリックスに内包される線状形態の導体であって、その内側において中空部又はその痕跡を備える導体と、
を備える、構造体。
A ceramic structure,
A sintered ceramic matrix;
A conductor in a linear form encapsulated in the sintered ceramic matrix, and a conductor having a hollow portion or a trace thereof inside thereof,
A structure comprising:
前記中空部又はその痕跡は、焼結前の導体材料中に存在した中空部が前記焼結により変形、縮小又は閉鎖した部分を含む、請求項25に記載の構造体。   26. The structure according to claim 25, wherein the hollow portion or the trace thereof includes a portion in which the hollow portion existing in the conductor material before sintering is deformed, reduced, or closed by the sintering. 未焼結セラミックス成形体であって、
未焼結のセラミックス材料のマトリックスと、
導体成分を含む導体材料であって、その内側に当該導体材料にかかる収縮応力を吸収可能な応力吸収能を備える導体材料と、
を備え、
前記セラミックス材料中に前記導体材料を線状形態で内包する、成形体。
An unsintered ceramic molded body,
A matrix of unsintered ceramic material,
A conductor material including a conductor component, and a conductor material having a stress absorbing ability capable of absorbing contraction stress applied to the conductor material on the inside thereof;
With
A molded body containing the conductor material in a linear form in the ceramic material.
前記導体材料は、中空部及び前記セラミックス材料の焼成に伴って焼失又は昇華により減容可能な減容成分から選択されるいずれかを含む、請求項27に記載の成形体。   28. The molded body according to claim 27, wherein the conductor material includes any one selected from a volume reducing component that can be reduced by burning or sublimation in association with firing of the hollow portion and the ceramic material.
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