JP2009026991A - 発光ダイオード - Google Patents

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Abstract

【課題】 光度がアップして小型化が可能な発光ダイオード(LED)を提供する。
【解決手段】 基板31の上面31aに少なくとも1個の凹部31bを設け、また、基板31の上面31aの一部を除いた部分に反射率の高い反射面を有する少なくとも一対の電極パターン32a、33aを設け、発光素子35を前記凹部31bに搭載すると共に前記発光素子35の発光部35aを前記電極パターン32a、33aの反射面から僅かに飛び出す位置に配置する。また、前記発光素子35と前記凹部31bとのクリアランスは片側クリアランスが大きくても75μmに抑える。
【選択図】 図2

Description

本発明は、発光ダイオードに関し、特に、発光ダイオードの出射光の利用効率を高めると共に小型化を図った発光ダイオードに関する。
近年では、発光ダイオード(Light
emitting diode、以降、LEDと云う)はディスクトップ型パソコンやノート型パソコンなどのコンピュータ分野、ファクシミリや携帯電話などの通信機器分野、複写機やプリンタなどの事務用機器分野、冷蔵庫や電子レンジなどの家電製品分野など、様々な分野の製品に利用されている。
表面実装型のLEDの基本的構成は、一般に、図9に示すような構成をなす。図9において、LED10は、ガラスエポキシやBTレジンなどからなる基板1にアノード用の電極2とカソード用の電極3からなる一対の電極を設け、基板1の上面1aに設けた電極2の上面電極部2aに導電性接着剤などを介して発光素子4を実装し、この発光素子4と電極3の上面電極部3aとを金線などのボンディングワイヤ5で接続した構成をなしている。更に、基板1上に搭載した発光素子4をエポキシ樹脂などの透光性樹脂7で埋め込んだ構成をなしている。
一対のアノード用の電極2とカソード用の電極3はCu、Au、Ag、Alなどの金属材料を単層あるいは複数層にして形成され、基板1の上面1a、側面、下面と繋がって対向して設けられる。そして、下面に設けた電極2、3がプリント基板に半田などを介して取付けられるようになっている。このような構成をなしたLED10は、発光素子4からの出射光が透光性樹脂7の上面や四方の側面から出射する。
LEDは指向特性を持っていて、位置によって輝度も異なってくる。このため、輝度の均一化を図る技術も様々開発されてきている。例えば、下記の特許文献1に開示された構成もその一つに挙げられる。
特開2003−234509号公報
特許文献1に開示された発光ダイオード(LED)21の構成は、図10に示すように、一対の電極23a、23bを設けた基板22のほぼ中央部に絶縁性接着剤28を介して発光素子24を搭載し、発光素子24と一対の電極23a、23bとをボンディングワイヤ25で接続し、透光性を有した樹脂体26で発光素子24とボンディングワイヤ25を封止した構成をなしている。また更に、樹脂体26の上面である発光出射面27に凹凸状の光散乱部30を設けた構成をなしている。
特許文献1によれば、樹脂体26の表面に凹凸状の光散乱部30を設けたことで発光素子から発する光が光散乱部で大きく屈折して広範囲に光を散乱させ、発光の均一化と共に全体的な発光輝度も向上するとされている。
次に、図9に示した構成のLEDの問題点、特許文献1に示された構成のLEDの問題点について説明する。最初に、図9に示した構成のLEDの問題点を図11を用いて説明する。なお、図11は図9に示した構成のLEDの作用を説明する模式的に示した斜視図である。
図11において、矢印で示したP1〜P6は発光素子4からの出射光を示している。P1の出射光は透光性樹脂7の上面7aから直接出射された出射光、P2の出射光は発光素子4の近傍の上面電極部2aで反射されて透過性樹脂7の上面7aから出射した出射光、P3の出射光は発光素子4から遠のいた部位の上面電極部2aで反射されて透過性樹脂7の側面7bから出射した出射光を示している。また、P4の出射光は基板1の上面1a(一対の上面電極部2a、3aが設けられていない部分)に入射し、基板1に吸収または透過する光を示している。P5の出射光は基板1の上面1aから反射されて透過性樹脂7の上面7aから出射した出射光、P6の出射光は透過性樹脂7の側面7cから直接出射する出射光を示している。
発光素子4から出射した出射光は透光性樹脂7の上面7aや側面から直接出射する出射光(例えば、P1の出射光、P6の出射光)、電極2、3の上面電極部2a、3aや基板1の上面1aで反射される出射光、基板1に吸収されて照明に寄与しない出射光など様々な出射光が現れる。
ここで、一対の電極2、3はCu、Au、Ag、Alなどの金属材料を単層あるいは複数層にして形成され、その表面は反射率が高いので、電極2、3に入射した多くの光は反射する。このため、発光素子4から出射した出射光で電極2、3の上面電極部2a、3aに入射する光は上面電極部2a、3aで反射されて透光性樹脂7の外部に出射する。例えば、出射光P2の如く発光素子4の近傍で反射される反射光は透光性樹脂7の上面7aから出射し、出射光P3の如く発光素子4から遠のいた部位で反射される反射光は側面7bから出射する。
発光素子4の発光はn型半導体とp型半導体のpn接合部で起き、そのpn接合部は発光素子4の上面側に近い位置に設けられていることから、基板1上に搭載された発光素子4の発光部(pn接合部)の位置は上面電極部2a、3aから少し高い位置に配されることになる。このため、発光素子4の出射光で、発光素子4の近傍周辺の上面電極部2a、3aで反射される光の量は少なく、発光素子4から遠ざかるに従って反射光量は増えてくる。発光素子4の近傍周辺で反射される反射光は透光性樹脂7の上面側に出射するようになるが、発光素子4から遠のいた部位で反射される反射光は透光性樹脂7の側面側に出射するようになり、上面電極部2a、3aからの反射光で透光性樹脂7の上面に集光する光の量は少なくなる。
発光素子4の出射光で上面電極部2a、3aのない部位、即ち、基板1の上面部1aに入射する光は、透光性樹脂7と基板1との屈折率の関係や入射角の関係などから基板1内に入射する光と基板1の上面部1aから反射される光が現れる。そして、上面部1aから反射される光は透光性樹脂7の上面7a、あるいは側面から出射する。例えば、P4の出射光は基板1内に入射して吸収され、P5の出射光は上面部1aから反射されて透光性樹脂7の上面7aから出射する。
以上、一部の出射光を取り上げて説明した。光度が高く、明るい照明が得られるLEDの望ましい構成としては透光性樹脂7の上面7a側に集光して多くの光量が上面7aから出射するのが望ましい。しかしながら、図9に示す構成のLED10においては、透光性樹脂7の側面側に出射する光も多く現れ、上面7aに集光する光量の割合も低い。また、損失する光なども現れて光の利用効率も低い。また更に、上面7aに集光する光量の割合も低いことから面積的な大きさも制限され、小型化するには限度を有すると云う問題がある。
次に、図10に示された引用文献1に記載された構成のLED21は、図9に示した構成のLED10と比較すると、樹脂体26の上面の発光出射面27に凹凸状の光散乱部30を設けた構成が大きく異なっている点である。上面の発光出射面27を透過する光は光散乱部30によって散乱し、そして、輝度の均一性が現れてくる。しかしながら、発光素子24や電極23a、23bの構造は前述の図9に示した構造と殆ど変わらないので、前述した問題点と同じ問題点が生まれてくる。
本発明は、上記の問題点を鑑みてなされたもので、LEDの小型化を図ると共に光の利用効率を高めて光度の高い明るいLEDを得ることを目的とするものである。
課題を解決するための手段として、本発明の発光ダイオードの特徴は、基板上に搭載した発光素子を透光性樹脂で埋め込んだ発光ダイオードにおいて、前記基板の上面には少なくとも1個の凹部と、前記基板の上面の一部を除いた部分に反射率の高い反射面を有し、前記発光素子を前記反射面を有する前記凹部に搭載すると共に、前記発光素子の発光部を前記反射面から僅かに飛び出す位置に配置したことを特徴とするものである。
この構成の下では、基板上面の多くの部分は反射率の高い反射面に覆われる。そして、発光素子から反射面に入射する入射光は反射面から反射されて透光性樹脂の上面から、あるいは側面から出射する。このため、損失する光が少なくなって光の利用効率は高められる。また、凹部を設け、その凹部に発光素子の発光部が反射面から僅かに飛び出す位置になる状態で配置する。これにより、反射面と発光素子の発光部との距離(高さ)が縮まり(小さくなり)、発光素子の近傍の反射面にも光が入射する。そして、反射面から透光性樹脂の上面に向かって反射する。従来技術で述べた構成と比較すると、発光素子からの反射面に入射する入射光は発光素子側に近づくので、透光性樹脂の上面に向かって反射される光量は多くなる。つまり、透光性樹脂の上面側に集光する光量が増えて上面側での光度がアップし、明るさが増す。このことは発光ダイオードの平面的な大きさを小さくすることが可能になり、従来技術での発光ダイオードと比較すると小型にできる効果を得る。また、凹部に発光素子を配置するので発光ダイオードの厚みも薄くできる効果も現れる。また、光度がアップして明るさが増すことにより使用する発光ダイオードの数も減らすことも可能になる。
また、本発明の発光ダイオードの特徴は、前記反射面は一対の電極パターンの反射面であることを特徴とするものである。
発光素子を駆動するには、基板上にアノード用の電極とカソード用の電極の一対の電極パターンを設けて発光素子と接続する必要がある。一対の電極パターンは金属板や金属膜で形成するので、パターンの表面を反射率の高い金属で仕上げることで反射率の高い反射面が得られる。2つの構成部品で形成できるので製造コストも安くできる。
また、本発明の発光ダイオードの特徴は、前記反射面はAg、Al、Pt、Rhなどの白色系金属による反射面であることを特徴とするものである。
この構成では、いずれも反射率の高い反射面が得られるので、光の利用効率が高められる。
また、本発明の発光ダイオードの特徴は、前記発光素子と前記凹部とのクリアランスは片側クリアランスが大きくても75μmであることを特徴とするものである。
発光素子と凹部のクリアランスは小さいほど好ましい。しかしながら、加工精度や組立(発光素子の実装)精度などにより限度がある。片側クリアランスが大きくても75μmに抑えておけば組立(実装)上の問題が起きない。
以上、作用・効果を詳細に説明したが、本発明によれば、光の利用効率が向上して光度が高められ、明るさを増すことができる。また、発光ダイオードの小型化が可能になる。また、発光ダイオードの使用する個数を減らすことも可能になり、コストダウン効果を生むことができる。
以下、本発明を実施するための最良の形態(以降、実施形態と云う)について図を用いながら説明する。
(第1実施形態)
最初に本発明の第1実施形態に係る発光ダイオード(以降、LEDと云う)について図1〜図4を用いて説明する。なお、図1は本発明の第1実施形態に係るLEDの斜視図、図2は図1におけるA−A断面図、図3は図2におけるB部の拡大図、図4は作用・効果を説明する模式的に示した断面図である。
第1実施形態に係るLED40は、図1、図2に示すように、ガラスエポキシ樹脂やBTレジンなどから形成されて上面31aに凹部31bを設けた基板31と、基板31の上下面と側面に対向して設けた一対の電極32、33と、基板1の凹部31bに搭載した発光素子35と、発光素子35と電極33とを電気的に接続する金線からなるボンディングワイヤ36と、エポキシ樹脂などから形成されて発光素子35及びボンディングワイヤ36を埋め込んで封止する透光性樹脂37を主要部品として構成している。
電極32はアノード用の電極で、発光素子35のアノード電極と接続する。このアノード用の電極32は、基板31の上面31aには電極パターン32a、側面には電極パターン32b、下面には電極パターン32cを持っており、いずれも繋がってのパターンをなしている。
電極33はカソード用の電極で、発光素子35のカソード電極とボンディンクワイヤ36を介して接続する。このカソード用の電極33は、基板31の上面31aには電極パターン33a、側面には電極パターン33b、下面には電極パターン33cを持っており、いずれも繋がってのパターンをなしている。なお、基板31の下面に設けたアノード用の電極パターン32cとカソード用の電極パターン33cはマザーボードなどの基板に半田付けなどを介して取付けられるようになっている。
基板31の上面31aには、アノード用の電極パターン32aとカソード用の電極パターン33aとの間に隙間ゾーン31dを設けていて、電極パターン32aと電極パターン33aを絶縁している。この隙間ゾーン31dは狭いほど好ましく、導通しない程度の隙間に設定している。そして、この隙間ゾーン31dは許容できる範囲で発光素子35から離れた位置に設けている。
電極パターン32a、電極パターン32b、電極パターン32cを有する電極32、並びに、電極パターン33a、電極パターン33b、電極パターン33cを有する電極33は金属から形成しており、反射率の高い金属の反射面をなしている。第1実施形態では、銅箔上にNiメッキ、Agメッキを施した金属多層膜で構成していて、表面はAg金属から形成された反射率の高い反射面をなしている。なお、Niメッキを施す時にメッキ浴液に光沢剤を入れてNiメッキを施すと、光沢のあるNiメッキ表面が得られる。そして、その上に施したAgメッキ表面も光沢面となり、より高い反射率の反射面が得られる。
なお、第1実施形態では、金属の反射面はAg金属で形成したが、特にAg金属に限るものではなく、他にPt、Rh、Alなどの白色系金属などを用いても構わない。反射率の高い金属で、導電性の良い金属であれば良い。
基板31に設ける凹部31bは所要の深さ、所要の大きさでもって形成する。また、凹部31bの底面や壁面にもアノード用の電極パターン32aを設けている。この凹部31bには、発光素子35を搭載する。導電性接着剤38を介して電極パターン32aと発光素子35のアノード電極を接合し、導通を図っている。
凹部31bに搭載した発光素子35は、図3に示すように、発光素子35の発光部35a(黒の太線で示している)はp型半導体とn型半導体とのpn接合部に当たる部位であるが、この発光部35aは電極パターン32aの反射面から僅かに飛び出す位置にくるように配置している。図3において、hが反射面から飛び出した出量(高さ)を表しているが、この飛出し量は僅かな量で数10μm程度に設定している。
また、凹部31bと発光素子35とのクリアランス(隙間)は片側クリアランス(図3ではm1、m2で表示)で大きくても75μmに抑えている。この片側クリアランスm1、m2は小さいと隙間の中に入り込む発光素子35の光量は少なくなり、基板31の上面31aの電極パターン32aからの反射光が多くなるので光の利用効率は高くなる。一方、クリアランスm1、m2が大きいと隙間の中に入り込む光量も多くなる。隙間の中は反射面が形成されているのでその反射面で反射されて透光性樹脂37の上面側に出射する出射光も現れるが、損失する光も現れてきて光の利用効率としては悪くなる。
従って、このクリアランスは光の利用効率の面から考えるとクリアランスが小さければ小さいほど好ましい。しかしながら、クリアランスが小さいと発光素子35の実装作業の上での実装しづらさ現れてくる。このため、実装作業に影響を及ぼさない範囲での最大クリアランスを設定しており、片側クリアランスを大きくても75μmに抑えることで組立上の影響を解消している。また、大きくても75μmに抑えておけば光の利用効率の面で顕著な差は生じない。
以上の構成としたことによる作用・効果について図4を用いて説明する。なお、ここでは凹部を設けて凹部に発光素子を搭載した場合と、凹部を設けないで平坦な電極パターン上に発光素子を搭載した場合を比較しながらその効果を述べる。図4において、一点鎖線で示した32a’は凹部を設けない場合の電極パターンを示しており、平坦な反射面をなしている。
P7、P8は凹部31bに発光素子35を搭載したときの発光素子35からの出射光で、電極パターン32aのQ7、Q8の部位で反射される出射光を示している。
P7’、P8’は凹部を設けなかった場合の発光素子35からの出射光で、平坦な電極パターン32a’のQ7’、Q8’の部位で反射される出射光を示している。なお、P7とP7’は発光素子35からの同一出射光、P8とP8’は発光素子35からの同一出射光である。
発光素子35を凹部31bの中に搭載し、発光素子35の発光部35aを電極パターン32aの反射面から僅かに飛び出す位置にくるように配置すると発光部35aは反射面に近接する。このために、図4に示すように、例えば、P7の出射光はQ7の部位で反射する。今仮に凹部を設けずに平坦面に搭載した場合にはQ7’の部位で反射することになる。従って、反射部位はQ7’からQ7へと発光素子35側に近づく。同様に、P8の出射光も同じで、反射部位はQ8’からQ8へと発光素子35側に近づく。
このように、電極パターン32aでの反射部位が発光素子35側に近づくことで、発光素子35から余り離れていない領域での反射光は透光性樹脂37の上面側に出射するようになる。
つまり、発光素子35の発光部35aを反射面に近付けることで透光性樹脂37の上面側に集光する光量が多くなる。
また、凹部31bの中も電極パターン32aと同じ反射面を設けてあり、凹部31bと発光素子35との間のクリアランスも大きくても片側75μmに抑えている。クリアランス(隙間)を小さく抑えていることで隙間の中に入り込む発光素子35の光量は少なくなり、基板31の上面31aの電極パターン32aからの反射光が多くなる。また、隙間の中で損失する光も少なくなるので光の利用効率は高くなる。
また、電極パターン32a、33aの表面はAg金属での高反射率をなす金属の反射面をなしていることから反射面からの反射光量が増え、光の利用効率は高くなる。
また、電極パターン32aと電極パターン33aを絶縁するために設けた隙間ゾーン31dは導通しない程度の隙間に設定し、許容できる範囲で発光素子35から離れた位置に設けている。発光素子5から遠のいた位置に設けることで発光素子35の近傍周辺は平坦な金属の反射面となり、そこから反射される反射光は透光性樹脂37の上面側に出射するようになる。そして、透光性樹脂37の上面側に集光する光量が増える。
以上のことによって、透過性樹脂37の上面側に向かって集光する光量が多くなり、光の利用効率アップの効果も合わさって上面側での光度アップの効果が得られる。
また更に、上面側での光度アップの効果が得られることでLEDの平面的(平面の面積的)な大きさを小さくするこがを可能になる。また、凹部31bに発光素子35を搭載することでLEDの厚みは薄く(小さく)でき、全体的に小型化が可能になる。
また、光度アップの効果によって、LEDを複数使用するような場合にはLEDの個数を減らすことができるようになる。これは、使用個数が減ることでコストダウンの効果につながる。
なお、第1実施形態においては、電極パターン32a、33aは銅箔の上にNiメッキを施し、更に、その上にAgメッキを施して形成した。しかしながら、Agメッキに限るものではなく、例えば、PtメッキやRhメッキなどの白色系金属メッキを施しても反射率の高い反射面を得ることができる。メッキによる電極パターンの形成方法はコスト面で安く製作できるメリットがある。
しかしながら、本発明においては必ずしもメッキ方法に限るものではなく、Ag金属などを用いて真空蒸着法やスパッタリング法、イオンプレーティング法などのPVD法でAg金属被膜を形成し、その後にフォトリソグラフィ法で所定の形状に仕上げて電極パターンを形成しても構わないものである。
(第2実施形態)
次に、本発明の第2実施形態に係るLEDについて図5、図6を用いて説明する。なお、図5は本発明の第2実施形態に係るLEDの斜視図、図6は図5におけるA−A断面図を示している。
第2実施形態に係るLED50は、図5、図6に示すように、上面41aに凹部41bを設けた基板41と、基板41の上下面と側面に対向して設けた一対の電極42、43と、基板1の凹部41bに搭載した発光素子45と、発光素子45と電極42、43とを電気的に接続する金線からなるボンディングワイヤ46B、46Aと、エポキシ樹脂などから形成されて発光素子45及びボンディングワイヤ46A、46Bを埋め込んで封止する透光性樹脂47を主要部品として構成している。
第2実施形態のLED50の構成で前述の第1実施形態のLED40の構成と異なる所は、発光素子45の構造が異なっていることである。発光素子45はアノード電極とカソード電極が上面側にそれぞれ分かれて設けられている構造のものを用いている。従って、発光素子45のアノード電極とカソード電極に電気的導通を図るために2本のボンディングワイヤ46B、46Aを設けて接続する構成を取っている。基板41やアノード用の電極42、カソード用の電極43、透光性樹脂47は前述の第1実施形態の仕様のものと同じ仕様のものを用いている。
以下、LED50の構成要素部品の仕様などについて簡単に説明する。基板41はガラスエポキシ樹脂やBTレジンなどから形成されており、上面41aの中央部に凹部41bを設けている。
電極42はアノード用の電極で、基板41の上面41aに設けた電極パターン42aと、側面に設けた電極パターン42b、下面に設けた電極パターン42cからなっている。これら電極パターンはいずれも繋がってパターンをなしている。上面41aに設けた電極パターン42aは凹部41bの底面や壁面にも設けられており、また、上面41aのかなり広い領域に渡って設けられている。そして、電極パターン42aと発光素子45のアノード電極がボンディングワイヤ46Bを介して接続している。
電極43はカソード用の電極で、基板41の上面41aに設けた電極パターン43aと、側面に設けた電極パターン43b、下面に設けた電極パターン43cからなっている。これら電極パターンはいずれも繋がってパターンをなしている。そして、電極パターン43aと発光素子45のカソード電極がボンディングワイヤ46Aを介して接続している。
基板41の上面41aに設けたアノード用の電極パターン42aとカソード用の電極パターン43aとの間には隙間ゾーン41dを設けて電極パターン42aと電極パターン43aを絶縁している。この隙間ゾーン41dは狭いほど好ましく、導通しない程度の隙間に設定している。そして、この隙間ゾーン41dは許容できる範囲で発光素子45から離れた位置に設けている。
電極パターン42a、電極パターン42b、電極パターン42cを有する電極42、並びに、電極パターン43a、電極パターン43b、電極パターン43cを有する電極43は金属から形成しており、反射率の高い金属の反射面を有している。第2実施形態では前述の第1実施形態と同様に、銅箔上にNiメッキ、Agメッキを施した金属多層膜で構成していて、表面はAg金属から形成された反射率の高い反射面をなしている。
発光素子45は発光部45aを有して、アノード電極とカソード電極が上面側に設けられたタイプを使用している。この発光素子45は基板41の凹部41bに絶縁性接着剤48を介して固定している。
基板41に設ける凹部41bは所要の深さ、所要の大きさでもって形成する。そして、凹部41bに搭載する発光素子45は、前述の第1実施形態で説明したと同じように、発光素子45の発光部45a(黒の太線で示している)が電極パターン42aの反射面から僅かに飛び出す位置にくるように配置している。また、凹部41bと発光素子45とのクリアランス(隙間)は片側クリアランスで大きくても75μmに抑えている。
以上の構成をなすことにより、前述の第1実施形態でのLEDと同様な作用・効果を得ることができる。ここでの詳細な作用説明は省略するが、光の利用効率がアップすると同時に透光性樹脂47の上面側に集光する光量が多くなり、上面側での光度がアップして明るさが増す。また、小型化も可能になり、複数のLEDを使用するような場合には使用個数を減らすことができるようになる。
(第3実施形態)
次に、第3実施形態に係るLEDについて図7、図8を用いて説明する。なお、図7は本発明の第3実施形態に係るLEDの斜視図、図8は図7におけるLEDの要部断面図を示している。
第3実施形態のLEDは基板の2箇所に凹部を設け、2箇所の凹部にそれぞれ同一発光色の発光素子を搭載したものである。第3実施形態では発光素子を2個用いたもので説明するが、発光素子が3個用いたものでも、あるいはそれ以上用いたものでも同じような構成で形成することができる。また、用いる発光素子は発光色が同じのものでも良いし、異なったものでも良く、仕様に合わせて適宜な発光色の発光素子を用いれば良いものである。
第3実施形態のLED70は、2箇所に凹部51bを設けた基板51と、基板51の上面51aや側面、下面に設けた電極52、53、54と、基板51の2箇所の凹部51bに搭載した2個の発光素子55、65と、発光素子55、65とそれぞれの電極を接続したボンディングワイヤ56A、56B、66A、66Bと、この発光素子55、65と各ボンディングワイヤを埋めて封止した透光性樹脂57を主要部品にして構成している。
ここで、電極52はアノード用の電極で、基板51の上面51a、側面、下面と繋がってそれぞれ電極パターンを有している。上面51a側には電極パターン52aが、側面側には電極パターン52bが、下面側には電極パターン52cがある。また、基板51の2箇所の凹部51bにも電極パターン52aが設けられている。
アノード用の電極52は、第3実施形態においては、発光素子55、65に対して共通電極をなしている。つまり、電極52の電極パターン52aと発光素子55とはボンディングワイヤ56Bでもって接続し、発光素子65とはボンディングワイヤ66Bでもって接続するいわゆる並列接続の方式を取っている。
電極53、54はカソード用の電極であり、基板51の上面51a、側面、下面と繋がってそれぞれ電極パターンを有している。上面51a側には電極パターン53a、54aが、側面側には電極パターン53b、54b(電極パターン54bは図7、8には描いていない)が、下面側には電極パターン53c、54c(電極パターン54cは図7、8には描いていない)がある。
カソード用の電極53、54は、第3実施形態においては、それぞれ単独で設けており、電極53の電極パターン53aと発光素子55とをボンディングワイヤ56Aでもって接続し、電極54の電極パターン54aと発光素子65とをボンディングワイヤ66Aでもって接続するいわゆる直列接続の方式を取っている。
基板51の上面51aに設けた電極52の電極パターン52aは上面51aの広い領域に設けており、電極53の電極パターン53aとは隙間ゾーン51dでもって絶縁している。また、電極54の電極パターン54aとは隙間ゾーン51eでもって絶縁している。
隙間ゾーン51dは発光素子55から許容できる範囲で遠くの位置に設けており、また、隙間ゾーン51dの幅は電極パターン52aと電極パターン53aが導通しない範囲で狭く取っている。同様に、隙間ゾーン51eも発光素子65から許容できる範囲で遠くの位置に設けており、また、隙間ゾーン51eの幅も電極パターン52aと電極パターン54aが導通しない範囲で狭く取っている。
発光素子55、65はアノード電極とカソード電極が上面側に設けられたタイプを使用している。この発光素子55、65は基板51の凹部51bに絶縁性接着剤58を介して固定している。
ここで、基板51の側面に設けた電極52の電極パターン52b、電極53の電極パターン53b、電極54の電極パターン54b(図示していない)は略半円筒形状をなす曲面上に設けている。これは、略円筒形状の孔を設けた大判なる基板を用いて、PVD法で孔の内周面に電極パターンを形成し、最後の工程で1個1個に切断する製造方法を取ることによって得られる。つまり、大判なる基板を用いて多数個取りの製造方法を取った構成をなしている。
第3実施形態での電極52、53、54は真空蒸着法やスパッタリング法、イオンプレーティング法などのPVD法でCu金属薄膜を形成し、フォトリソグラフィ法で所定の形状に仕上げ、その後にNiメッキとAgメッキを施して3層からなる積層金属膜で形成している。表面はAg金属での反射率の高い反射面をなしている。
また、基板51の2箇所の凹部51bは所要の深さ、所要の大きさでもって形成している。そして、凹部51bに搭載する発光素子55、65は、前述の第1実施形態で説明したと同じように、発光素子55の発光部55a(黒の太線で示している)が電極パターン52aの反射面から僅かに飛び出す位置にくるように配置している。発光素子65についても同様で、発光素子65の発光部65a(黒の太線で示している)が電極52の電極パターン52bの反射面から僅かに飛び出す位置にくるように配置している。また、2箇所の凹部51bと発光素子55、65とのクリアランス(隙間)は片側クリアランスで大きくても75μmに抑えている。
以上の構成をなすことにより、前述の第1実施形態で説明した効果と同じ効果を得る。即ち、発光素子55、65の発光部55a、65aの位置(高さ)を電極52の電極パターン52bの反射面に近付け、発光素子55、65と凹部51bの片側クリアランスを大きくても75μmに抑えていることで、光の利用効率が高められると共に透光性樹脂57の上面側に集光する光量が増え、上面側での光度がアップして明るさが増す。
更にまた、同一発光色の発光素子55、65を2個搭載することで1個の発光素子の場合より更に光度がアップして明るい輝度のLEDが得られる。なお、第3実施形態では2個用いたが、更に個数を増やすことも可能で、個数が増えることによって輝度がアップする。そして、従来技術で図9をもって説明した構成で複数個の発光素子を用いたLEDと比べると、全体的に用いる発光素子の個数を減らすことができる効果も生む。また、赤色(R)発光の発光素子、緑色(G)発光の発光素子、青色(B)発光の発光素子を搭載した場合には、透光性樹脂57の上面側に集光する光量が増えることでR、G、Bの混色度合いが高められて、混色の均一性が高められての光度の高い白色発光のLEDを得ることができる。
なお、第3実施形態においては、カソード用の電極53、54はそれぞれ別個に設けて直列接続の接続方式を取ったが、アノード用の電極52と同じように電極を共通電極として1つにし、並列接続方式で構成することもできる。また逆に、カソード用の電極53、54と同様にアノード用の電極を2つ設けて発光素子55、56と直列接続の接続方式を取る構成も可能である。
本発明の第1実施形態に係るLEDの斜視図である。 図1におけるA−A断面図である。 図2におけるB部の拡大図である。 図1におけるLEDの作用・効果を説明する模式的に示した断面図である。 本発明の第2実施形態に係るLEDの斜視図である。 図5におけるA−A断面図である。 本発明の第3実施形態に係るLEDの斜視図である。 図7におけるLEDの要部断面図である。 従来技術での表面実装型LEDの一般的な基本的構成を示す斜視図である。 特許文献1に記載された発光ダイオード(LED)の斜視図である。 図9に示した構成のLEDの作用を説明する模式的に示した斜視図である。
符号の説明
31、41、51 基板
31a、41a、51a 上面
31b、41b、51b 凹部
31d、41d、51d、51e 隙間ゾーン
32、33、42、43、52、53、54 電極
32a、32b、32c、33a、33b、33c、42a、42b、42c、43a、43b、43c、52a、52b、52c、53a、53b、53c、54a、54b、54c 電極パターン
35、45、55、65 発光素子
35a、45a、55a、65a 発光部
36、46A、46B、56A、56B、66A、66B ボンディングワイヤ
37、47、57 透光性樹脂
38 導電性接着剤
40、50、70 LED
48、58 絶縁性接着剤

Claims (4)

  1. 基板上に搭載した発光素子を透光性樹脂で埋め込んだ発光ダイオードにおいて、
    前記基板の上面には少なくとも1個の凹部と、前記基板の上面の一部を除いた部分に反射率の高い反射面を有し、
    前記発光素子を前記反射面を有する前記凹部に搭載すると共に、前記発光素子の発光部を前記反射面から僅かに飛び出す位置に配置したことを特徴とする発光ダイオード。
  2. 前記反射面は一対の電極パターンの反射面であることを特徴とする請求項1に記載の発光ダイオード。
  3. 前記反射面はAg、Al、Pt、Rhなどの白色系金属による反射面であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の発光ダイオード。
  4. 前記発光素子と前記凹部とのクリアランスは片側クリアランスが大きくても75μmであることを特徴とする請求項1に記載の発光ダイオード。
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