JP2009016528A - Mounting machine and mounting method - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a mounting machine in which a conveying means does not directly contact a wafer when mounting the wafer onto a ring frame. <P>SOLUTION: The mounting machine 10 integrates a semiconductor wafer W onto a ring frame RF through an adhesive sheet S, the semiconductor wafer W on which back grinding is done using a grinder 11, wherein the grinder 11 includes an accessible conveying means 12 within its region. This conveying means 12 has an absorption arm 23 equipped with an absorption pad 23A for absorbing the ring frame RF and a press roller 25 for pushing the adhesive sheet S to the wafer W such that the wafer W ground by the grinder 11 is integrated onto the ring frame RF through the adhesive sheet S at a position where it is delivered to a processed position P3. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明はマウント装置及びマウント方法に係り、特に、半導体ウエハに直接接触することなくリングフレームにマウントすることのできるマウント装置に関する。   The present invention relates to a mounting apparatus and a mounting method, and more particularly to a mounting apparatus that can be mounted on a ring frame without directly contacting a semiconductor wafer.

半導体ウエハ(以下、単に、「ウエハ」と称する)は、種々の加工、特にダイシング加工を施す際のハンドリング性を考慮して、接着シートを介してリングフレームに一体化(マウント)することが行われている。
特許文献1には、ウエハをテーブル上に移載し、このウエハを裏面研削した後に搬送手段を介して当該ウエハをウエハストッカに収納する構成が開示されている。
また、特許文献2には、研削済みのウエハを搬送手段を介してウエハストッカから取り出し、当該ウエハを、接着シートを介してリングフレームにマウントする構成が開示されている。
A semiconductor wafer (hereinafter simply referred to as “wafer”) is integrated (mounted) on a ring frame via an adhesive sheet in consideration of handling properties when performing various processes, particularly dicing. It has been broken.
Patent Document 1 discloses a configuration in which a wafer is transferred onto a table, and after the wafer is ground on the back surface, the wafer is stored in a wafer stocker via a transfer unit.
Further, Patent Document 2 discloses a configuration in which a ground wafer is taken out from a wafer stocker via a conveying unit, and the wafer is mounted on a ring frame via an adhesive sheet.

特開平10−284449号公報JP-A-10-284449 特開2006−278630号公報JP 2006-278630 A

特許文献1及び2に示される装置は、ウエハをダイシングする前の段階で連続的に行われる工程であるが、研削されたウエハをストッカに収納する時と、当該ストッカから取り出す時の最低2回ウエハは搬送手段に直接接触して搬送されることになる。そのため、数十μmにまで研削されたウエハの場合、搬送手段が接触する際の衝撃や、保持する吸着力によって当該ウエハを割ってしまうといった不都合を招来する。
また、特許文献1、2に示されるような搬送若しくは移載によるマウント方法では、ウエハの直径が大型化している現状に対応することが困難となる。すなわち、ウエハを吸着保持した際に、吸着力に起因したウエハの割れを防止し得たとしても、ウエハ外周側の垂れ下がり(反り)に起因した割れを生じる不都合は依然として解消されない。
The apparatus shown in Patent Documents 1 and 2 is a process that is continuously performed before dicing a wafer, but at least twice when a ground wafer is stored in the stocker and when it is taken out from the stocker. The wafer is transferred in direct contact with the transfer means. For this reason, in the case of a wafer ground to several tens of μm, there arises a problem that the wafer is broken due to an impact when the transfer means comes into contact with the holding force.
Moreover, it is difficult for the mounting method by transfer or transfer as disclosed in Patent Documents 1 and 2 to cope with the current situation in which the diameter of the wafer is increased. That is, even when the wafer can be prevented from being cracked due to the suction force when the wafer is sucked and held, the problem of causing the crack due to the sag (warping) on the outer peripheral side of the wafer is still not solved.

[発明の目的]
本発明は、このような不都合に着目して案出されたものであり、その目的は、搬送手段等によって直接ウエハに接触することなくリングフレームと一体化することによって、当該ウエハに割れ等の損傷を生じさせることのないマウント装置及びマウント方法を提供することにある。
[Object of invention]
The present invention has been devised by paying attention to such inconveniences, and the object of the present invention is to integrate the ring frame without directly contacting the wafer by a transfer means or the like, so that the wafer is cracked. It is an object of the present invention to provide a mounting apparatus and a mounting method that do not cause damage.

前記目的を達成するため、本発明は、外部の処理手段で所定の加工が施された被加工物を、接着シートを介してフレームに一体化するマウント装置において、前記外部の処理手段の領域内にアクセス可能な搬送手段を含み、当該搬送手段は、前記フレームの保持手段と、前記接着シートを被加工物に押圧する押圧手段とを備えているとともに、前記外部の処理手段の領域内で被加工物に接着シートを貼付してフレームに一体化する、という構成を採っている。   In order to achieve the above object, the present invention provides a mounting apparatus that integrates a workpiece, which has been subjected to predetermined processing by an external processing means, into a frame via an adhesive sheet, in the region of the external processing means. The conveying means includes a holding means for holding the frame and a pressing means for pressing the adhesive sheet against the work piece, and is covered within the area of the external processing means. The construction is such that an adhesive sheet is attached to the workpiece and integrated into the frame.

本発明において、前記フレームに接着シートを貼付する貼付手段を含み、前記接着シートが貼付されたフレームと前記被加工物とを一体化する、という構成を採用することができる。   In this invention, the structure of including the sticking means which sticks an adhesive sheet to the said flame | frame, and integrating the flame | frame with the said adhesive sheet stuck and the said to-be-processed object is employable.

また、前記外部の処理手段は、前記被加工物を加工位置と非加工位置との間で移動可能な移動手段と、前記加工位置に移動した被加工物を研削する研削手段とを含み、
前記搬送手段は、前記非加工位置に移動された被加工物に前記接着シートを貼付して前記フレームに一体化する、という構成を採ることが好ましい。
Further, the external processing means includes a moving means capable of moving the workpiece between a machining position and a non-machining position, and a grinding means for grinding the workpiece moved to the machining position.
It is preferable that the conveying means adopt a configuration in which the adhesive sheet is attached to the workpiece moved to the non-processing position and integrated with the frame.

更に、本発明は、回路面が保護シートで保護される一方、裏面側が研削装置で研削された半導体ウエハを、接着シートを介してリングフレームに一体化するマウント装置において、
前記リングフレームに接着シートを貼付する貼付手段と、前記研削装置の領域内にアクセス可能な搬送手段とを含み、前記搬送手段は、前記接着シートが貼付されたリングフレームを保持する保持手段と、前記接着シートを半導体ウエハに押圧する押圧手段とを備えているとともに、前記研削装置の領域内で半導体ウエハに接着シートを貼付してリングフレームに一体化する、という構成を採ることができる。
Furthermore, the present invention provides a mounting apparatus in which a semiconductor wafer whose circuit surface is protected by a protective sheet and whose back side is ground by a grinding apparatus is integrated with a ring frame via an adhesive sheet.
A sticking means for sticking an adhesive sheet to the ring frame; and a transport means accessible in an area of the grinding apparatus, the transport means holding a ring frame to which the adhesive sheet is stuck; A pressing means for pressing the adhesive sheet against the semiconductor wafer may be provided, and the adhesive sheet may be attached to the semiconductor wafer and integrated with the ring frame within the region of the grinding apparatus.

また、前記半導体ウエハから保護シートを剥離する剥離手段を含む構成としてもよい。   Moreover, it is good also as a structure containing the peeling means which peels a protective sheet from the said semiconductor wafer.

更に、本発明は、外部の処理手段で所定の加工が施された被加工物を、接着シートを介してフレームに一体化するマウント方法において、
前記接着シートが接着されたフレームを保持して前記外部の処理手段の領域内にアクセスするステップと、
前記接着シートを被加工物に押圧するステップと、
前記接着シートに被加工物を転着して前記フレームに一体化するステップとを含む、という方法を採っている。
Furthermore, the present invention relates to a mounting method in which a workpiece that has been subjected to predetermined processing by an external processing means is integrated into a frame via an adhesive sheet.
Holding the frame to which the adhesive sheet is bonded and accessing the area of the external processing means;
Pressing the adhesive sheet against a workpiece;
And a step of transferring a workpiece onto the adhesive sheet and integrating the workpiece into the frame.

前記マウント方法には、前記外部の処理手段の領域内にアクセスする前の段階で、前記フレームに接着シートを貼付するステップを含むことができる。   The mounting method may include a step of attaching an adhesive sheet to the frame at a stage prior to accessing the area of the external processing means.

また、前記マウント方法において、一体化された被加工物から前記保護シートを剥離するステップを更に含むことができる。   The mounting method may further include a step of peeling the protective sheet from the integrated workpiece.

本発明は、搬送手段が外部の処理手段の領域内にアクセス可能とされ、当該外部の処理手段の領域内において、接着シートをウエハ等の被加工物に貼付することでフレームに一体化させる構成であるため、この一体化処理において搬送手段等が被加工物に直接接触したり、直接吸着して搬送することがなくなり、被加工物の損傷を効果的に防止することができる。しかも、接着シートに被加工物を転着させた状態での搬送となるため、当該被加工物が大径のウエハ等の板状部材である場合に、当該ウエハ外周側の垂れ下がりに起因した損傷も回避可能となる。   The present invention is configured such that the conveying means is accessible in the area of the external processing means, and the adhesive sheet is attached to a workpiece such as a wafer in the area of the external processing means so as to be integrated with the frame. Therefore, in this integration process, the conveying means or the like does not come into direct contact with the workpiece or directly adsorbs and conveys it, so that the workpiece can be effectively prevented from being damaged. In addition, since the workpiece is transferred to the adhesive sheet, when the workpiece is a plate-shaped member such as a large-diameter wafer, damage caused by sagging on the outer peripheral side of the wafer Can also be avoided.

更に、フレームに接着シートを貼付する貼付手段を含むことによって、搬送手段が外部の処理手段にアクセスするのに先だって、接着シート付きのフレームを用意することができ、作業効率がよくなる。   Further, by including an attaching means for attaching the adhesive sheet to the frame, the frame with the adhesive sheet can be prepared before the conveying means accesses the external processing means, and the work efficiency is improved.

また、外部の処理手段において、ウエハが加工位置と非加工位置との間で移動可能となるため、非加工位置でウエハをフレームにマウントすることができ、搬送手段が加工手段に干渉することを防止することができる。   Further, since the wafer can be moved between the processing position and the non-processing position in the external processing means, the wafer can be mounted on the frame at the non-processing position, and the transfer means can interfere with the processing means. Can be prevented.

更に、ウエハから保護シートを剥離する剥離手段を有することによって、マウント装置の下流工程に保護シートを剥離するリムーバを別途用意する必要がなくなる。   Furthermore, by having a peeling means for peeling the protective sheet from the wafer, it is not necessary to separately prepare a remover for peeling the protective sheet in the downstream process of the mounting apparatus.

以下、本発明の実施の形態について図面を参照しながら説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

図1には、本実施形態に係るマウント装置の要部概略正面図が示され、図2には、マウント装置の概略平面図が示されている。これらの図において、マウント装置10は、外部の処理手段としての研削装置11の領域内にアクセス可能な搬送手段12と、リングフレームRFに接着シートSを貼付する貼付手段13と、被加工物としてのウエハWの反転装置14と、ウエハWの回路面に貼付された保護シートPSを剥離する剥離手段15とを備えて構成されている。
なお、外部の処理手段の領域内とは、本発明のマウント装置以外の装置若しくは処理手段が占有する設置面を基準にしてその上方空間を含む領域を意味する。
FIG. 1 shows a schematic front view of the main part of the mounting apparatus according to this embodiment, and FIG. 2 shows a schematic plan view of the mounting apparatus. In these drawings, the mounting apparatus 10 includes a conveying means 12 accessible within the region of the grinding apparatus 11 as an external processing means, an attaching means 13 for attaching the adhesive sheet S to the ring frame RF, and a workpiece. The reversing device 14 for the wafer W and the peeling means 15 for peeling the protective sheet PS attached to the circuit surface of the wafer W are provided.
The term “inside the area of the external processing means” means an area including the upper space with reference to the installation surface occupied by an apparatus or processing means other than the mounting apparatus of the present invention.

前記研削装置11は、回路面(図1中下面)に保護シートPSが貼付されたウエハWを支持する円形のインデックステーブル16と、ウエハWの裏面(図1中上面)を研削する研削手段としての砥石17とを含む。インデックステーブル16には、保護シートPSを介してウエハWを吸着支持する支持テーブル16Aが設けられており、図2中矢印a方向に向かってX−Y面内で回転可能に設けられている。前記支持テーブル16Aは、インデックステーブル16の回転軸を中心とした仮想の円C上に中心を有するとともに、120度間隔で3箇所に設けられ、インデックステーブル16の回転により、ウエハWが加工位置P1、P2と、非加工位置P3との間で移動可能に設けられている。ここで、加工位置P1、P2及び非加工位置P3は、インデックステーブル16の間欠回転に合わせて、前記仮想の円C上に120度間隔で配置されており、加工位置P1でウエハWの一次研削が行われる一方、加工位置P2でウエハWの二次研削(仕上げ研削)が行われ、その後非加工位置P3に移動するように設けられている。また、砥石17は、加工位置P1、P2にそれぞれ対応して第1の砥石17Aと、第2の砥石17Bとを含む。なお、図2に示されるように、枠E内(二点差線枠内)が前記研削装置11が占有する設置面であって、この枠EのZ軸方向の空間を含む領域を前記研削装置11の領域とする。   The grinding apparatus 11 is a grinding means for grinding a circular index table 16 that supports a wafer W having a protective sheet PS affixed to a circuit surface (lower surface in FIG. 1), and a back surface (upper surface in FIG. 1) of the wafer W. And the grindstone 17. The index table 16 is provided with a support table 16A that sucks and supports the wafer W via the protective sheet PS, and is provided so as to be rotatable in the XY plane in the direction of arrow a in FIG. The support table 16A has a center on a virtual circle C centered on the rotation axis of the index table 16, and is provided at three positions at intervals of 120 degrees, and the wafer W is processed at the processing position P1 by the rotation of the index table 16. , P2 and a non-processing position P3 are provided so as to be movable. Here, the processing positions P1, P2 and the non-processing position P3 are arranged on the virtual circle C at intervals of 120 degrees in accordance with the intermittent rotation of the index table 16, and the primary grinding of the wafer W at the processing position P1. On the other hand, secondary grinding (finish grinding) of the wafer W is performed at the processing position P2, and then the wafer W is moved to the non-processing position P3. The grindstone 17 includes a first grindstone 17A and a second grindstone 17B corresponding to the processing positions P1 and P2, respectively. As shown in FIG. 2, the inside of the frame E (inside the two-dotted line frame) is an installation surface occupied by the grinding device 11, and the region including the space in the Z-axis direction of the frame E is the grinding device. 11 areas.

前記搬送手段12は、図1に示されるように、図示しないフレームを介してベースフレームBFに支持されたY軸方向に延びる搬送用ロボット20と、この搬送用ロボット20のスライダ20Aに固定された上下用ロボット21と、当該上下用ロボット21を介してZ軸方向に移動可能に支持された保持手段としての吸着パッド23Aを有する吸着アーム23と、単軸ロボット25Aを介して接着シートSをウエハWに押圧する押圧手段としてのプレスローラ25とを含む。この搬送手段12は、前記貼付手段13で接着シートSが貼付されたリングフレームRFを吸着保持し、前記研削装置11の領域内にアクセスするとともに、接着シートSをウエハWに貼付してリングフレームRFと一体化されたウエハWを反転装置14に受け渡すようになっている。   As shown in FIG. 1, the transfer means 12 is fixed to a transfer robot 20 extending in the Y-axis direction supported by a base frame BF via a frame (not shown), and a slider 20A of the transfer robot 20. Wafer is attached to the adhesive sheet S via a vertical robot 21, a suction arm 23 having a suction pad 23A as a holding means supported so as to be movable in the Z-axis direction via the vertical robot 21, and a single-axis robot 25A. And a press roller 25 as pressing means for pressing against W. The conveying means 12 sucks and holds the ring frame RF to which the adhesive sheet S is stuck by the sticking means 13, accesses the area of the grinding apparatus 11, and sticks the adhesive sheet S to the wafer W to attach the ring frame RF. The wafer W integrated with RF is transferred to the reversing device 14.

前記貼付手段13は、図3に示されるように、リングフレームRFに接着シートSを貼付するためのスライドテーブル27と、その上方に位置する貼付ユニット28とを含む。スライドテーブル27は、図3中X軸方向に配置されたガイドレール29に沿って移動可能に設けられているとともに、上面高さ位置が上下に調整可能に設けられている。また、貼付ユニット28は、剥離シートRLに接着シートSが仮着された原反Rをピールプレート30で折り返すように繰り出すことで剥離シートRLから接着シートSを剥離し、当該接着シートSをリングフレームRFに貼付できるように構成されている。   As shown in FIG. 3, the sticking means 13 includes a slide table 27 for sticking the adhesive sheet S to the ring frame RF, and a sticking unit 28 located above the slide table 27. The slide table 27 is provided so as to be movable along a guide rail 29 arranged in the X-axis direction in FIG. 3, and the upper surface height position is provided so as to be adjustable up and down. In addition, the sticking unit 28 peels the adhesive sheet S from the release sheet RL by feeding out the original fabric R, which is temporarily attached to the release sheet RL, so as to be folded back by the peel plate 30, and then attaches the adhesive sheet S to the ring. It is configured so that it can be attached to the frame RF.

前記反転装置14は、フレーム31に取り付けられた直動モータ32と、この直動モータ32のスライダ33に設けられるとともに、X−Z面内で回転可能なモータ35に取り付けられた回転アーム36とを備えて構成されている。回転アーム36は二股に分岐した形状をなし、その面内複数個所に図示しない吸着孔を備え、リングフレームRFを吸着保持できるようになっている。また、吸着パッド23Aに干渉しないようにそのX軸方向の幅が設定されている。   The reversing device 14 includes a linear motion motor 32 attached to the frame 31, a rotary arm 36 attached to a slider 35 of the linear motion motor 32, and a motor 35 rotatable in the XZ plane. It is configured with. The rotary arm 36 has a bifurcated shape, and is provided with suction holes (not shown) at a plurality of locations in the plane so that the ring frame RF can be sucked and held. Further, the width in the X-axis direction is set so as not to interfere with the suction pad 23A.

前記剥離手段15は、反転装置14を介してスライドテーブル27に移載されたマウント済みウエハWの回路面から保護シートPSを剥離するものであり、剥離用テープTを保護シートPS上に供給して当該剥離用テープTを保護シートPSに溶着する機能と、剥離用テープTを切断する機能とを備え、チャック38が剥離用テープTを保持した状態で図示しない駆動手段を介して図3中右方向へ移動し、スライドテーブル27がガイドレール29に沿って左方向へ移動することで、保護シートPSをウエハWから剥離可能となっている。なお、剥離手段15には、図3中X軸方向に向けられた移載ロボット39が併設されており、当該移載ロボット39の移載アーム40がリングフレームRFを吸着保持することで、当該リングフレームRFにマウントされたウエハWをカセット41に収容できるようになっている。   The peeling means 15 peels the protective sheet PS from the circuit surface of the mounted wafer W transferred to the slide table 27 via the reversing device 14, and supplies the peeling tape T onto the protective sheet PS. 3 having a function of welding the peeling tape T to the protective sheet PS and a function of cutting the peeling tape T, with the chuck 38 holding the peeling tape T in FIG. The protective sheet PS can be peeled from the wafer W by moving rightward and the slide table 27 moving leftward along the guide rail 29. Note that the peeling means 15 is provided with a transfer robot 39 oriented in the X-axis direction in FIG. 3, and the transfer arm 40 of the transfer robot 39 sucks and holds the ring frame RF. The wafer W mounted on the ring frame RF can be accommodated in the cassette 41.

次に、本実施形態におけるウエハ処理装置10の動作について説明する。   Next, the operation of the wafer processing apparatus 10 in this embodiment will be described.

搬送手段12による搬送に際し、前記貼付手段13のスライドテーブル27上でリングフレームRFに接着シートSが貼付される。そして、スライドテーブル27が搬送手段12の下方に到達すると、回転アーム36を介してリングフレームRFが保持され、直動モータ32が上昇して搬送手段12の吸着アーム23に当該リングフレームRF受け渡す。このとき接着シートSの接着剤層面は下方に面している。   When transported by the transport unit 12, the adhesive sheet S is pasted on the ring frame RF on the slide table 27 of the pasting unit 13. When the slide table 27 reaches below the conveying means 12, the ring frame RF is held via the rotary arm 36, and the linear motor 32 is raised to deliver the ring frame RF to the suction arm 23 of the conveying means 12. . At this time, the adhesive layer surface of the adhesive sheet S faces downward.

研削装置11では、加工位置P1及びP2でウエハWが裏面研削され、当該研削済みのウエハWがその領域内である非加工位置P3に移動して搬送に備えられる。そして、非加工位置P3の上方に搬送用ロボット20を介して吸着アーム23が接着シートS付きのリングフレームRFを搬送し、吸着アーム23がZ軸方向に下降する。すなわち、吸着アーム23が研削装置11の領域内にアクセスし、接着シートSがウエハWの近傍に位置するようにリングフレームRFを下降させる。次いで、プレスローラ25が単軸ロボット25Aによって接着シートS上を回転しながらY軸方向に移動することで、接着シートSにウエハWが転着され、これにより、ウエハWのリングフレームRFへの一体化(マウント)が完了する。   In the grinding apparatus 11, the wafer W is ground at the processing positions P1 and P2, and the ground wafer W is moved to the non-processing position P3 in the region and prepared for conveyance. Then, the suction arm 23 transports the ring frame RF with the adhesive sheet S via the transport robot 20 above the non-processing position P3, and the suction arm 23 descends in the Z-axis direction. That is, the suction arm 23 accesses the region of the grinding device 11 and lowers the ring frame RF so that the adhesive sheet S is positioned in the vicinity of the wafer W. Next, the press roller 25 is moved in the Y-axis direction while rotating on the adhesive sheet S by the single-axis robot 25A, whereby the wafer W is transferred to the adhesive sheet S, and thereby the wafer W is attached to the ring frame RF. Integration (mounting) is completed.

そして、リングフレームRFにマウントされたウエハWは、再び吸着アーム23によって搬送され、回転アーム36上に受け渡される。次いで、回転アーム36が図1中矢印b方向に180度回転し、ウエハWをその下面側に位置させて直動モータ32によって下降し、当該ウエハWはスライドテーブル27に移載される。   Then, the wafer W mounted on the ring frame RF is transferred again by the suction arm 23 and transferred onto the rotation arm 36. Next, the rotary arm 36 rotates 180 degrees in the direction of arrow b in FIG. 1, the wafer W is positioned on the lower surface side thereof, and is lowered by the linear motor 32, and the wafer W is transferred to the slide table 27.

スライドテーブル27に移載されたウエハWは、剥離手段15方面に搬送されて保護シートPSの外周端部に剥離用テープTが貼付され、スライドテーブル27とチャック38とがX軸方向に沿って離間する方向に相対移動することで、保護シートPSがウエハWから剥離されることとなる。そして、保護シートPSが剥離された後のウエハWは、リングフレームRFと共に、移載アーム40を介してカセット41に収容される。   The wafer W transferred to the slide table 27 is transported toward the peeling means 15 and a peeling tape T is affixed to the outer peripheral end of the protective sheet PS, and the slide table 27 and the chuck 38 are aligned along the X-axis direction. The protective sheet PS is peeled from the wafer W by relative movement in the separating direction. Then, the wafer W from which the protective sheet PS has been peeled is accommodated in the cassette 41 through the transfer arm 40 together with the ring frame RF.

従って、このような実施形態によれば、裏面研削されたウエハWに搬送手段が直接接触したり、直接吸着して保持したりすることなく、接着シートSを介してウエハWをリングフレームRFにマウントすることができる。これにより、ウエハWが数十μmの厚みまで研削されたとしても、マウント時にウエハWを割ってしまうといった不都合を解消することができる。また、ウエハWをマウントした後で、リングフレームRFを保持して搬送する構成であるため、ウエハWの直径が大型化しても、ウエハWの外周側が垂れ下がることがなく、この点からもウエハの損傷を効果的に回避することができる。   Therefore, according to such an embodiment, the wafer W is held on the ring frame RF via the adhesive sheet S without the transfer means being in direct contact with or directly adsorbing and holding the wafer W that has been ground back. Can be mounted. Thereby, even if the wafer W is ground to a thickness of several tens of μm, it is possible to eliminate the inconvenience of breaking the wafer W during mounting. Further, since the ring frame RF is held and transported after the wafer W is mounted, the outer peripheral side of the wafer W does not sag even when the diameter of the wafer W increases. Damage can be effectively avoided.

以上のように、本発明を実施するための最良の構成、方法等は、前記記載で開示されているが、本発明は、これに限定されるものではない。
すなわち、本発明は、主に特定の実施形態に関して特に図示、説明されているが、本発明の技術的思想及び目的の範囲から逸脱することなく、以上説明した実施形態に対し、形状、位置若しくは配置等に関し、必要に応じて当業者が様々な変更を加えることができるものである。
As described above, the best configuration, method and the like for carrying out the present invention have been disclosed in the above description, but the present invention is not limited to this.
In other words, the present invention has been illustrated and described mainly with respect to specific embodiments, but without departing from the scope of the technical idea and object of the present invention, the shape, position, or With respect to the arrangement and the like, those skilled in the art can make various changes as necessary.

例えば、前記実施形態では、外部の処理手段として研削装置11を図示、説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、その他の装置であってよい。つまり、外部の処理手段とは、マウント装置10以外の装置を意味し、ウエハの面に搬送手段が直接接触したり、直接吸着することなく、外部の処理手段の領域内にアクセス可能な構成であればよい。また、リングフレームRFは、閉ループ状をなさないフレームであってもよく、被加工物はウエハW以外の板状体等も含む。   For example, in the above-described embodiment, the grinding device 11 is illustrated and described as an external processing unit, but the present invention is not limited to this and may be other devices. In other words, the external processing means means an apparatus other than the mounting apparatus 10 and has a configuration in which the transfer means can access the area of the external processing means without directly contacting or attracting the wafer surface. I just need it. The ring frame RF may be a frame that does not form a closed loop, and the workpiece includes a plate-like body other than the wafer W.

また、本発明における被加工物は半導体ウエハWに限定されるものではなく、半導体ウエハは、シリコンウエハや化合物ウエハであってもよい。更に、フレームは前記被加工物を一体化するものにおいて何ら限定されるものではない。   In addition, the workpiece in the present invention is not limited to the semiconductor wafer W, and the semiconductor wafer may be a silicon wafer or a compound wafer. Further, the frame is not limited in any way for integrating the workpieces.

また、押圧手段は、接着シートSを押圧できるものであれば何ら限定されることはなく、プレスローラ25以外に、ブレード材やエア噴射によるのもが例示できる。   Also, the pressing means is not limited as long as it can press the adhesive sheet S. Examples of the pressing means include blade material and air injection other than the press roller 25.

本実施形態に係るマウント装置の要部概略正面図。The principal part schematic front view of the mounting apparatus which concerns on this embodiment. 前記マウント装置の概略平面図。FIG. 3 is a schematic plan view of the mounting device. 研削装置を省略した図1の側面図。The side view of FIG. 1 which abbreviate | omitted the grinding device.

符号の説明Explanation of symbols

10 マウント装置
11 研削装置(外部の処理手段)
12 搬送手段
13 貼付手段
15 剥離手段
16 回転テーブル
17 砥石(研削手段)
23A 吸着パッド(保持手段)
23 吸着アーム(保持手段)
25 プレスローラ(押圧手段)
P1、P2 加工位置
P3 非加工位置
PS保護シート
RF リングフレーム
S 接着シート
W 半導体ウエハ
10 Mounting device 11 Grinding device (external processing means)
12 Conveying means 13 Sticking means 15 Peeling means 16 Rotary table 17 Grinding wheel (grinding means)
23A Suction pad (holding means)
23 Suction arm (holding means)
25 Press roller (pressing means)
P1, P2 Processing position P3 Non-processing position PS protective sheet RF ring frame S Adhesive sheet W Semiconductor wafer

Claims (8)

外部の処理手段で所定の加工が施された被加工物を、接着シートを介してフレームに一体化するマウント装置において、
前記外部の処理手段の領域内にアクセス可能な搬送手段を含み、当該搬送手段は、前記フレームの保持手段と、前記接着シートを被加工物に押圧する押圧手段とを備えているとともに、前記外部の処理手段の領域内で被加工物に接着シートを貼付してフレームに一体化することを特徴とするマウント装置。
In a mounting device that integrates a workpiece, which has been subjected to predetermined processing by an external processing means, into a frame via an adhesive sheet,
A conveying means accessible within the area of the external processing means, the conveying means comprising a holding means for the frame and a pressing means for pressing the adhesive sheet against a workpiece; A mounting apparatus characterized in that an adhesive sheet is attached to a work piece in the region of the processing means and integrated with the frame.
前記フレームに接着シートを貼付する貼付手段を含み、前記接着シートが貼付されたフレームと前記被加工物とを一体化することを特徴とする請求項1記載のマウント装置。   The mounting apparatus according to claim 1, further comprising an attaching unit that attaches an adhesive sheet to the frame, wherein the frame to which the adhesive sheet is attached and the workpiece are integrated. 前記外部の処理手段は、前記被加工物を加工位置と非加工位置との間で移動可能な移動手段と、前記加工位置に移動した被加工物を研削する研削手段とを含み、
前記搬送手段は、前記非加工位置に移動された被加工物に前記接着シートを貼付して前記フレームに一体化することを特徴とする請求項1又は2記載のマウント装置。
The external processing means includes a moving means capable of moving the workpiece between a machining position and a non-machining position, and a grinding means for grinding the workpiece moved to the machining position,
The mounting apparatus according to claim 1, wherein the transport unit is attached to the frame by attaching the adhesive sheet to the workpiece moved to the non-processing position.
回路面が保護シートで保護される一方、裏面側が研削装置で研削された半導体ウエハを、接着シートを介してリングフレームに一体化するマウント装置において、
前記リングフレームに接着シートを貼付する貼付手段と、前記研削装置の領域内にアクセス可能な搬送手段とを含み、前記搬送手段は、前記接着シートが貼付されたリングフレームを保持する保持手段と、前記接着シートを半導体ウエハに押圧する押圧手段とを備えているとともに、前記研削装置の領域内で半導体ウエハに接着シートを貼付してリングフレームに一体化することを特徴とするマウント装置。
In a mounting device that integrates a semiconductor wafer whose circuit surface is protected by a protective sheet while the back side is ground by a grinding device into a ring frame via an adhesive sheet,
A sticking means for sticking an adhesive sheet to the ring frame; and a transport means accessible in an area of the grinding apparatus, the transport means holding a ring frame to which the adhesive sheet is stuck; A mounting device comprising pressing means for pressing the adhesive sheet against the semiconductor wafer, and attaching the adhesive sheet to the semiconductor wafer within the region of the grinding device to be integrated with the ring frame.
前記半導体ウエハから保護シートを剥離する剥離手段を含むことを特徴とする請求項4記載のマウント装置。   The mounting apparatus according to claim 4, further comprising a peeling unit that peels the protective sheet from the semiconductor wafer. 外部の処理手段で所定の加工が施された被加工物を、接着シートを介してフレームに一体化するマウント方法において、
前記接着シートが接着されたフレームを保持して前記外部の処理手段の領域内にアクセスするステップと、
前記接着シートを被加工物に押圧するステップと、
前記接着シートに被加工物を転着して前記フレームに一体化するステップとを含むことを特徴とするマウント方法。
In a mounting method in which a workpiece subjected to predetermined processing by an external processing means is integrated into a frame via an adhesive sheet,
Holding the frame to which the adhesive sheet is bonded and accessing the area of the external processing means;
Pressing the adhesive sheet against a workpiece;
And a step of transferring a workpiece onto the adhesive sheet and integrating the workpiece into the frame.
前記外部の処理手段の領域内にアクセスする前の段階で、前記フレームに接着シートを貼付するステップを含むことを特徴とする請求項6記載のマウント方法。   The mounting method according to claim 6, further comprising a step of attaching an adhesive sheet to the frame in a stage before accessing the area of the external processing means. 一体化された被加工物から前記保護シートを剥離するステップを更に含むことを特徴とする請求項6又は7記載のマウント方法。   The mounting method according to claim 6, further comprising a step of peeling the protective sheet from the integrated workpiece.
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