JP2009003167A - Beam-sorting device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、一方向から入射したビームを複数の方向に振り分けて出射することのできるビーム振り分け装置に関する。 The present invention relates to a beam distribution device that can distribute and emit a beam incident from one direction in a plurality of directions.
入射するレーザビームを異なる方向に出射する偏向器として、音響光学偏向器(Acoust-Optic Deflector: AOD)が知られている。 An acousto-optic deflector (AOD) is known as a deflector that emits an incident laser beam in different directions.
AODに高周波の電気信号(交流電圧)を印加すると、AODの音響光学媒体内に電気信号に同期した超音波の粗密波が発生する。この粗密波が回折格子として作用し、入射するレーザビームの一部がブラッグ反射され(音響光学効果)、偏向されて出射する。 When a high-frequency electric signal (AC voltage) is applied to the AOD, an ultrasonic coarse / fine wave synchronized with the electric signal is generated in the AOD acousto-optic medium. This dense wave acts as a diffraction grating, and a part of the incident laser beam is Bragg reflected (acousto-optic effect), deflected and emitted.
レーザビームの回折角は粗密波の周波数に依存する。粗密波の周波数を連続的に変えることで、回折角を連続的に変化させることができる。粗密波の周波数は、電気信号の周波数を変えることで制御できる。なお、AODに電気信号が印加されない場合は、レーザビームの回折は起こらない。 The diffraction angle of the laser beam depends on the frequency of the dense wave. The diffraction angle can be continuously changed by continuously changing the frequency of the dense wave. The frequency of the dense wave can be controlled by changing the frequency of the electric signal. In addition, when an electric signal is not applied to AOD, laser beam diffraction does not occur.
AODでレーザビームを偏向させることのできる最大角度は、たとえば約8°である。このため、たとえば1個のAODを用いて、4方向に均分的にレーザビームを偏向させる場合、隣り合う偏向レーザビーム間の角度は、約2.66°と小さくなる。これらの偏向レーザビームを分離するためには、レーザビームを十分に長い距離を進行させる必要がある。また、レーザビームのビーム拡がり角度がレーザビーム間の角度より大きい場合には、どんなに長い距離を進行させても分離することはできない。 The maximum angle at which the laser beam can be deflected by AOD is, for example, about 8 °. For this reason, for example, when a single AOD is used to deflect laser beams equally in four directions, the angle between adjacent deflected laser beams becomes as small as about 2.66 °. In order to separate these deflected laser beams, the laser beams need to travel a sufficiently long distance. Further, when the beam divergence angle of the laser beam is larger than the angle between the laser beams, the laser beam cannot be separated no matter how long it travels.
AODを用いた種々のレーザ加工装置の発明が開示されている(たとえば、特許文献1及び2参照)。 Inventions of various laser processing apparatuses using AOD are disclosed (for example, see Patent Documents 1 and 2).
また、3個のAODを用いてレーザビームを4分岐させる技術が知られている。 In addition, a technique for splitting a laser beam into four parts using three AODs is known.
本発明の目的は、新規な構成のビーム振り分け装置を提供することである。 An object of the present invention is to provide a beam distribution device having a novel configuration.
本発明の一観点によれば、外部からの制御により、入射するレーザビームを、1つの仮想平面内で、第1の方向に偏向させる状態、前記第1の方向とは異なる第2の方向に偏向させる状態、及び直進させる状態のいずれかを採ることができる第1の偏向器と、前記第1の偏向器を直進したレーザビームの光路上に配置され、外部からの制御により、入射するレーザビームを、前記仮想平面内で、前記第1の方向、前記第2の方向のいずれとも異なる第3の方向に偏向させる状態、または前記第1乃至第3の方向のいずれとも異なる第4の方向に偏向させる状態のいずれかを採ることができる第2の偏向器と、前記第1の偏向器に入射したレーザビームが、直進するか、または、前記第1もしくは第2の方向に偏向して出射するように前記第1の偏向器を制御し、かつ、前記第2の偏向器に入射したレーザビームが、前記第3または第4の方向に偏向して出射するように前記第2の偏向器を制御する制御装置とを有し、前記第1の偏向器を直進するレーザビームの出射方向を基準として、前記第1の方向と前記第2の方向とは同じ向きに傾き、前記第3の方向と前記第4の方向とは同じ向きに傾き、前記第1の方向と前記第3の方向とは相互に反対向きに傾いているビーム振り分け装置が提供される。 According to one aspect of the present invention, a state in which an incident laser beam is deflected in a first direction within one virtual plane by external control, in a second direction different from the first direction. A first deflector that can take either a deflected state or a straightly advanced state, and a laser that is disposed on the optical path of a laser beam that has traveled straight through the first deflector and that is incident by external control A state in which the beam is deflected in a third direction different from both the first direction and the second direction in the virtual plane, or a fourth direction different from any of the first to third directions. A second deflector capable of taking any of the following states: and a laser beam incident on the first deflector travels straight or deflects in the first or second direction. Said first so as to exit A control device for controlling the second deflector so as to control the deflector and to emit a laser beam incident on the second deflector in the third or fourth direction. The first direction and the second direction are inclined in the same direction with reference to the emission direction of the laser beam that travels straight through the first deflector, and the third direction and the fourth direction. Is provided with a beam distribution device in which the first direction and the third direction are inclined in directions opposite to each other.
また、本発明の他の観点によると、外部からの制御により、入射するレーザビームを、第1の仮想平面内で、第1の方向に偏向させる状態、前記第1の方向とは異なる第2の方向に偏向させる状態、及び直進させる状態のいずれかを採ることができる第1の偏向器と、前記第1の偏向器を直進したレーザビームの光路上に配置され、外部からの制御により、入射するレーザビームを、前記第1の仮想平面と交差する第2の仮想平面内で、前記第1の方向、前記第2の方向のいずれとも異なる第3の方向に偏向させる状態、前記第1乃至第3の方向のいずれとも異なる第4の方向に偏向させる状態のいずれかを採ることのできる第2の偏向器と、前記第1の偏向器に入射したレーザビームが、直進するか、または、前記第1もしくは第2の方向に偏向して出射するように前記第1の偏向器を制御し、かつ、前記第2の偏向器に入射したレーザビームが、前記第3または第4の方向に偏向して出射するように前記第2の偏向器を制御する制御装置とを有するビーム振り分け装置が提供される。 According to another aspect of the present invention, a state in which an incident laser beam is deflected in a first direction within a first virtual plane by a control from the outside, a second different from the first direction. A first deflector capable of taking either a state of deflecting in the direction of or a state of going straight, and an optical path of a laser beam that has traveled straight through the first deflector, A state in which an incident laser beam is deflected in a third direction different from both the first direction and the second direction in a second virtual plane intersecting the first virtual plane; A second deflector capable of taking a state of deflecting in a fourth direction different from any of the third to third directions, and a laser beam incident on the first deflector traveling straight ahead, or , The first or second direction The first deflector is controlled so as to be deflected and emitted, and the laser beam incident on the second deflector is deflected and emitted in the third or fourth direction. And a beam distribution device having a control device for controlling the two deflectors.
本発明によれば、新規な構成のビーム振り分け装置を提供することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the beam distribution apparatus of a novel structure can be provided.
図1は、第1の実施例によるビーム振り分け装置を含むビーム照射装置を示す概略図である。 FIG. 1 is a schematic view showing a beam irradiation apparatus including a beam distribution apparatus according to the first embodiment.
本図に示すビーム照射装置は、レーザ光源1、折り返しミラー2a〜2u、マスク3、AOD4a、4b、ダンパ5、ガルバノスキャナ6a〜6d、加工レンズ7a〜7d、ステージ8a、8b、及び、制御装置9を含んで構成される。
The beam irradiation apparatus shown in the figure includes a laser light source 1, folding mirrors 2a to 2u, a mask 3,
レーザ光源1が、制御装置9から送出される信号を受けて、パルスレーザビームLbを出射する。パルスレーザビームLbは、折り返しミラー2a〜2cで反射され、マスク3に入射する。 The laser light source 1 receives a signal transmitted from the control device 9 and emits a pulsed laser beam Lb. The pulse laser beam Lb is reflected by the folding mirrors 2 a to 2 c and enters the mask 3.
マスク3は透光領域と遮光領域とを備える。パルスレーザビームLbは、マスク3の透光領域を通過することによって断面形状を整形される。マスク3の透光領域を通過したパルスレーザビームLbは、折り返しミラー2dで反射され、AOD4aに入射する。
The mask 3 includes a light transmitting area and a light shielding area. The pulse laser beam Lb is shaped in cross section by passing through the light transmitting region of the mask 3. The pulse laser beam Lb that has passed through the translucent region of the mask 3 is reflected by the
AOD4aは、制御装置9から送出される高周波の電気信号(交流電圧)を受けて、パルスレーザビームLbの出射方向を変化させる。
The
AOD4aには、周波数f1の交流電圧もしくはf1よりも低周波数である周波数f2の交流電圧が印加される。周波数f1の交流電圧が印加されたとき、パルスレーザビームLbは偏向角θ1だけ偏向されAOD4aを出射する。このレーザビームをパルスレーザビームLbaとする。周波数f2の交流電圧が印加されたとき、パルスレーザビームLbは偏向角θ1より小さい偏向角θ2だけ偏向されAOD4aを出射する。このレーザビームをパルスレーザビームLbbとする。
An AC voltage having a frequency f 1 or an AC voltage having a frequency f 2 that is lower than f 1 is applied to the
AOD4aに交流電圧が印加されていないときにAOD4aに入射したパルスレーザビームLbは、直進してAOD4bに入射する。また、AOD4aに周波数f1またはf2の交流電圧が印加されている場合でも、パルスレーザビームLbの一部(数%から20%程度)は漏れ光として直進する。この漏れ光もAOD4bに入射し、ダンパ5に吸収される。
The pulse laser beam Lb incident on the
AOD4bも、制御装置9から送出される高周波の電気信号(交流電圧)を受けて、パルスレーザビームLbの出射方向を変化させる。
The
AOD4bにも、周波数f1の交流電圧もしくはf1よりも低周波数である周波数f2の交流電圧が印加される。周波数f1の交流電圧が印加されたとき、パルスレーザビームLbは偏向角θ1だけ偏向されAOD4bを出射する。このレーザビームをパルスレーザビームLbcとする。周波数f2の交流電圧が印加されたとき、パルスレーザビームLbは偏向角θ1より小さい偏向角θ2だけ偏向されAOD4bを出射する。このレーザビームをパルスレーザビームLbdとする。
An AC voltage having a frequency f 1 or an AC voltage having a frequency f 2 that is lower than f 1 is also applied to the
AOD4aとAOD4bとは、パルスレーザビームLba、LbbとパルスレーザビームLbc、Lbdとが、同一平面内で、偏向方向がAOD4aを偏向されずに出射するレーザビームの出射方向を基準として、相互に反対向きに出射するように配置される。このためパルスレーザビームLbaの出射方向とパルスレーザビームLbcの出射方向とのなす角度は2×θ1となり、パルスレーザビームLbbの出射方向とパルスレーザビームLbdの出射方向とのなす角度は2×θ2となる。
The
AOD4bに交流電圧が印加されていないときにAOD4bに入射したパルスレーザビームLbは、直進してダンパ5に入射し、吸収される。また、AOD4bに周波数f1またはf2の交流電圧が印加されている場合でも、パルスレーザビームLbの一部(数%から20%程度)は漏れ光として直進する。この漏れ光もダンパ5に入射し、吸収される。
The pulse laser beam Lb incident on the
偏向角θ1だけ偏向されAOD4aを出射したパルスレーザビームLbaは、折り返しミラー2e〜2gで反射され、ガルバノスキャナ6aに入射する。ガルバノスキャナ6aは2枚の揺動鏡を含み、入射したパルスレーザビームLbaを2次元方向に走査して出射する。ステージ8a、8b上には加工対象物が保持されている。ガルバノスキャナ6aを出射したパルスレーザビームLbaは加工レンズ7aを透過して、ステージ8a上の加工対象物に入射する。加工レンズ7aは、パルスレーザビームLbaを加工対象物に垂直に入射させる。
Pulsed laser beam Lba emitted to be deflected AOD4a only deflection angle theta 1 is reflected by the folding mirror 2E~2g, it is entered into the Galvano
偏向角θ2だけ偏向されAOD4aを出射したパルスレーザビームLbb、偏向角θ1だけ偏向されAOD4bを出射したパルスレーザビームLbc、偏向角θ2だけ偏向されAOD4bを出射したパルスレーザビームLbdについても同様に、それぞれ折り返しミラー2h〜2j、2k〜2p、2q〜2u、ガルバノスキャナ6b、6c、6d、及び、加工レンズ7b、7c、7dを経て、ステージ8aまたは8b上に保持された加工対象物に入射する。
The same applies to the pulse laser beam Lbb deflected by the deflection angle θ 2 and emitted from the
第1の実施例によるビーム振り分け装置は、ビームの偏向方向が、同一平面内で相互に反対向きとなるように直列配置された2個のAOD4a、4bを含む。偏向方向を同一平面内で相互に反対向きとすることで、ビーム照射装置の他の光学要素、たとえば折り返しミラーの配置を容易に行うことができる。またビーム照射装置を小型化することができる。
The beam distribution apparatus according to the first embodiment includes two
図2は、第2の実施例によるビーム振り分け装置を含むビーム照射装置を示す概略図である。 FIG. 2 is a schematic view showing a beam irradiation apparatus including a beam distribution apparatus according to the second embodiment.
本図に示すビーム照射装置と図1に示すビーム照射装置とは、AOD4aとAOD4bの相対的な配置において異なる。図1に示すビーム照射装置においては、パルスレーザビームLba、LbbとパルスレーザビームLbc、Lbdとが、同一平面内に出射されるように、AOD4aとAOD4bとを配置した。本図に示すビーム照射装置においては、パルスレーザビームLba、LbbとパルスレーザビームLbc、Lbdとが異なる平面内(相互に交差する平面内)に偏向するように、AOD4aとAOD4bとを配置する。この配置に起因して、本図に示すビーム照射装置は、折り返しミラー2m及び2rの2枚のミラーを含まない。
The beam irradiation apparatus shown in this figure and the beam irradiation apparatus shown in FIG. 1 differ in the relative arrangement of
第2の実施例によるビーム振り分け装置は、AOD4aとAOD4bとで、入射したパルスレーザビームを異なる平面内に偏向させる。このためビーム照射装置の光学系設置面積を減少させることができる。また、折り返しミラーの数を低減することができる。このため第1の実施例によるビーム振り分け装置を用いる場合よりも、ビーム照射装置を一層小型化することができる。更に、第1の実施例によるビーム振り分け装置を用いる場合よりも、ビーム照射装置の光学設計を容易に行うことができる。
The beam distribution apparatus according to the second embodiment deflects the incident pulse laser beam in different planes by using the
図3(A)〜(D)を参照して、実施例によるビーム振り分け方法を説明する。 A beam distribution method according to the embodiment will be described with reference to FIGS.
図3(A)は、AOD4aに入射するパルスレーザビームLbの時間(時刻)とレーザ強度の関係を示す。横軸が時間、縦軸がレーザ強度を表す。実施例によるビーム振り分け方法においては、AOD4aに入射する連続する2つのレーザパルスを、AOD4a及び4bでそれぞれ時間軸に沿って2分割し、4方向に出射する。
FIG. 3A shows the relationship between the time (time) of the pulse laser beam Lb incident on the
レーザパルスは、時刻t1〜t3(第1レーザパルス)及び時刻t4〜t6(第2レーザパルス)に一定のレーザ強度でAOD4aに入射する。第1レーザパルスと第2レーザパルスのパルス幅及びレーザ強度は相互に等しい。また、レーザパルスは、一定の繰り返し周波数で発振されている。
Laser pulses incident on AOD4a at constant laser intensity at time t 1 ~t 3 (first laser pulse) and the
図3(B)に、AOD4aへの電圧の印加タイミングを示す。横軸が時間、縦軸がAOD4aに印加する電圧の周波数(入力周波数)を表す。
FIG. 3B shows the timing of voltage application to the
時刻t1〜t2に、周波数f1の交流電圧がAOD4aに印加される。また、時刻t2〜t3に、周波数f2の交流電圧がAOD4aに印加される。周波数f1の交流電圧と周波数f2の交流電圧とを逆に印加してもよい。
At time t 1 to t 2 , an AC voltage having a frequency f 1 is applied to the
図3(C)に、AOD4bへの電圧の印加タイミングを示す。横軸が時間、縦軸がAOD4bに印加する電圧の周波数(入力周波数)を表す。
FIG. 3C shows the timing of voltage application to the
時刻t4〜t5に、周波数f1の交流電圧がAOD4bに印加される。また、時刻t5〜t6に、周波数f2の交流電圧がAOD4bに印加される。
At
図3(D)は、AOD4a及び4bによって相互に異なる4方向に分離されて出射するレーザビームLba〜Lbdの時間(時刻)とレーザ強度の関係を示す。横軸が時間、縦軸がレーザ強度を表す。
FIG. 3D shows the relationship between the time (time) of the laser beams Lba to Lbd emitted by being separated into four different directions by the
AOD4aに周波数f1の交流電圧が印加される時刻t1〜t2には、レーザビームLbaが出射され、AOD4aに周波数f2の交流電圧が印加される時刻t2〜t3には、レーザビームLbbが出射される。
The laser beam Lba is emitted from time t 1 to t 2 when the AC voltage having the frequency f 1 is applied to the
また、AOD4aには電圧が印加されず、AOD4bに周波数f1の交流電圧が印加される時刻t4〜t5には、レーザビームLbcが出射され、AOD4aには電圧が印加されず、AOD4bに周波数f2の交流電圧が印加される時刻t5〜t6には、レーザビームLbdが出射される。
In addition, the laser beam Lbc is emitted from time t 4 to t 5 when no voltage is applied to the
このように、連続する2つのレーザパルスを、それぞれ時間軸に沿って2分割し、相互に異なる4方向に進行させることができる。 In this way, two consecutive laser pulses can be divided into two along the time axis and can be advanced in four different directions.
以上実施例に沿って本発明を説明したが、本発明はこれらに制限されるものではない。 Although the present invention has been described with reference to the embodiments, the present invention is not limited thereto.
たとえば、AOD4a、4bに周波数の等しい交流電圧(周波数f1及びf2)を印加したが、AOD4aとAOD4bとに異なる周波数の交流電圧を印加してもよい。
For example, AC voltages having the same frequency (frequency f 1 and f 2 ) are applied to the
また、実施例においては、連続する2つのレーザパルスを、それぞれ時間軸に沿って2分割し、相互に異なる4方向に進行させたが、1つのレーザパルスを時間軸に沿って4分割し、相互に異なる4方向に振り分けてもよい。 In the embodiment, two continuous laser pulses are each divided into two along the time axis and traveled in four different directions, but one laser pulse is divided into four along the time axis, You may distribute in four different directions.
図4に、その実施例を示した。図3に示したAOD4a〜4d、レーザビームLba〜Lbdの作用は同様である。 FIG. 4 shows an example thereof. The operations of the AODs 4a to 4d and the laser beams Lba to Lbd shown in FIG. 3 are the same.
更に、連続する4つのレーザパルスを、相互に異なる4方向に振り分けることもできる。 Furthermore, it is possible to distribute four consecutive laser pulses in four different directions.
また、実施例においては、パルスレーザビームを出射するレーザ光源を用いたが、連続波を出射するレーザ発振器を用いてレーザ光源を構成してもよい。 In the embodiment, a laser light source that emits a pulse laser beam is used. However, a laser light source may be configured using a laser oscillator that emits a continuous wave.
その他、種々の変更、改良、組み合わせ等が可能なことは当業者に自明であろう。 It will be apparent to those skilled in the art that other various modifications, improvements, combinations, and the like can be made.
レーザ加工一般に利用することができる。 It can be used for laser processing in general.
1 レーザ光源
2a〜2u 折り返しミラー
3 マスク
4a、4b AOD
5 ダンパ
6a〜6d ガルバノスキャナ
7a〜7d 加工レンズ
8a、8b ステージ
9 制御装置
Lb、Lba〜Lbd レーザビーム
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Laser light source 2a-2u Folding mirror 3
5
Claims (6)
前記第1の偏向器を直進したレーザビームの光路上に配置され、外部からの制御により、入射するレーザビームを、前記仮想平面内で、前記第1の方向、前記第2の方向のいずれとも異なる第3の方向に偏向させる状態、または前記第1乃至第3の方向のいずれとも異なる第4の方向に偏向させる状態のいずれかを採ることができる第2の偏向器と、
前記第1の偏向器に入射したレーザビームが、直進するか、または、前記第1もしくは第2の方向に偏向して出射するように前記第1の偏向器を制御し、かつ、前記第2の偏向器に入射したレーザビームが、前記第3または第4の方向に偏向して出射するように前記第2の偏向器を制御する制御装置と
を有し、
前記第1の偏向器を直進するレーザビームの出射方向を基準として、前記第1の方向と前記第2の方向とは同じ向きに傾き、前記第3の方向と前記第4の方向とは同じ向きに傾き、前記第1の方向と前記第3の方向とは相互に反対向きに傾いているビーム振り分け装置。 A state in which an incident laser beam is deflected in a first direction, a state in which the incident laser beam is deflected in a second direction different from the first direction, and a state in which the laser beam is caused to go straight by control from the outside. A first deflector capable of taking either
The laser beam is arranged on the optical path of the laser beam that has traveled straight through the first deflector, and is incident on the laser beam in either the first direction or the second direction within the virtual plane by external control. A second deflector capable of taking either a state of deflecting in a different third direction or a state of deflecting in a fourth direction different from any of the first to third directions;
The first deflector is controlled so that the laser beam incident on the first deflector travels straight or is deflected in the first or second direction, and the second deflector is emitted. A control device for controlling the second deflector so that the laser beam incident on the deflector is deflected in the third or fourth direction and emitted.
The first direction and the second direction are inclined in the same direction, with the laser beam traveling straight through the first deflector as a reference, and the third direction and the fourth direction are the same. A beam distribution device that is inclined in a direction, and wherein the first direction and the third direction are inclined in directions opposite to each other.
前記制御装置は、
前記光源から2つのレーザパルスを出射させ、先に出射されたレーザパルスのパルス幅内には、時間の経過に沿って、第1乃至第3の時刻、後に出射されたビームパルスのパルス幅内には、時間の経過に沿って、第4乃至第6の時刻を定めたとき、
前記第1の偏向器が、前記第1の時刻から前記第2の時刻までの時間、前記第2の時刻から前記第3の時刻までの時間、前記第4の時刻から前記第5の時刻までの時間、及び、前記第5の時刻から前記第6の時刻までの4つの時間のうちの1つの時間において、入射するレーザビームを前記第1の方向に偏向して出射し、他の1つの時間において、入射するレーザビームを前記第2の方向に偏向して出射し、
前記第2の偏向器が、前記4つの時間の中で前記第1の偏向器がレーザビームを直進させる2つの時間のうちの1つの時間において、入射するレーザビームを前記第3の方向に偏向して出射し、他の1つの時間において、入射するレーザビームを前記第4の方向に偏向して出射するように、前記光源、前記第1及び第2の偏向器を制御する請求項1に記載のビーム振り分け装置。 And a light source that emits a laser beam incident on the first deflector by external control,
The controller is
Two laser pulses are emitted from the light source, and within the pulse width of the laser pulse emitted earlier, within the pulse width of the beam pulse emitted after the first to third times and over time. When the 4th to 6th time is set along the passage of time,
The first deflector has a time from the first time to the second time, a time from the second time to the third time, and from the fourth time to the fifth time. And one of the four times from the fifth time to the sixth time, the incident laser beam is deflected and emitted in the first direction, and the other one In time, the incident laser beam is deflected and emitted in the second direction,
The second deflector deflects the incident laser beam in the third direction in one of two times in which the first deflector advances the laser beam straight in the four times. The light source and the first and second deflectors are controlled so that the incident laser beam is deflected and emitted in the fourth direction at another time. The beam distribution apparatus as described.
前記第1の偏向器を直進したレーザビームの光路上に配置され、外部からの制御により、入射するレーザビームを、前記第1の仮想平面と交差する第2の仮想平面内で、前記第1の方向、前記第2の方向のいずれとも異なる第3の方向に偏向させる状態、前記第1乃至第3の方向のいずれとも異なる第4の方向に偏向させる状態のいずれかを採ることのできる第2の偏向器と、
前記第1の偏向器に入射したレーザビームが、直進するか、または、前記第1もしくは第2の方向に偏向して出射するように前記第1の偏向器を制御し、かつ、前記第2の偏向器に入射したレーザビームが、前記第3または第4の方向に偏向して出射するように前記第2の偏向器を制御する制御装置と
を有するビーム振り分け装置。 A state in which an incident laser beam is deflected in a first direction, a state in which the incident laser beam is deflected in a second direction different from the first direction, and a state in which the laser beam is linearly moved by control from the outside. A first deflector that can take any of the following:
The first deflector is disposed on the optical path of the laser beam that has traveled straight through the first deflector, and the first laser beam is incident on the first virtual plane in a second virtual plane that intersects the first virtual plane by external control. , A state of deflecting in a third direction different from any of the second directions, and a state of deflecting in a fourth direction different from any of the first to third directions. Two deflectors;
The first deflector is controlled so that the laser beam incident on the first deflector travels straight or is deflected in the first or second direction, and the second deflector is emitted. And a controller for controlling the second deflector so that the laser beam incident on the deflector is deflected and emitted in the third or fourth direction.
前記制御装置は、
前記光源から2つのレーザパルスを出射させ、先に出射されたレーザパルスのパルス幅内には、時間の経過に沿って、第1乃至第3の時刻、後に出射されたビームパルスのパルス幅内には、時間の経過に沿って、第4乃至第6の時刻を定めたとき、
前記第1の偏向器が、前記第1の時刻から前記第2の時刻までの時間、前記第2の時刻から前記第3の時刻までの時間、前記第4の時刻から前記第5の時刻までの時間、及び、前記第5の時刻から前記第6の時刻までの4つの時間のうちの1つの時間において、入射するレーザビームを前記第1の方向に偏向して出射し、他の1つの時間において、入射するレーザビームを前記第2の方向に偏向して出射し、
前記第2の偏向器が、前記4つの時間の中で前記第1の偏向器がレーザビームを直進させる2つの時間のうちの1つの時間において、入射するレーザビームを前記第3の方向に偏向して出射し、他の1つの時間において、入射するレーザビームを前記第4の方向に偏向して出射するように、前記光源、前記第1及び第2の偏向器を制御する請求項4に記載のビーム振り分け装置。 And a light source that emits a laser beam incident on the first deflector by external control,
The controller is
Two laser pulses are emitted from the light source, and within the pulse width of the laser pulse emitted earlier, within the pulse width of the beam pulse emitted after the first to third times and over time. When the 4th to 6th time is set along the passage of time,
The first deflector has a time from the first time to the second time, a time from the second time to the third time, and from the fourth time to the fifth time. And one of the four times from the fifth time to the sixth time, the incident laser beam is deflected and emitted in the first direction, and the other one In time, the incident laser beam is deflected and emitted in the second direction,
The second deflector deflects the incident laser beam in the third direction in one of two times in which the first deflector advances the laser beam straight in the four times. The light source and the first and second deflectors are controlled so that the incident laser beam is deflected and emitted in the fourth direction at another time. The beam distribution apparatus as described.
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JP2020098346A (en) * | 2020-01-21 | 2020-06-25 | 株式会社ニコン | Pattern drawing method |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61215532A (en) * | 1985-03-20 | 1986-09-25 | Fuji Photo Film Co Ltd | Adjusting device for optical path for optical multiplexing |
JP2000263271A (en) * | 1999-01-14 | 2000-09-26 | Hitachi Via Mechanics Ltd | Laser beam machining method and laser beam machine |
JP2004191880A (en) * | 2002-12-13 | 2004-07-08 | Hitachi Via Mechanics Ltd | Deflection method, deflection apparatus and laser processing apparatus |
JP2005034859A (en) * | 2003-07-17 | 2005-02-10 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | Laser beam machining device |
-
2007
- 2007-06-21 JP JP2007163733A patent/JP2009003167A/en active Pending
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61215532A (en) * | 1985-03-20 | 1986-09-25 | Fuji Photo Film Co Ltd | Adjusting device for optical path for optical multiplexing |
JP2000263271A (en) * | 1999-01-14 | 2000-09-26 | Hitachi Via Mechanics Ltd | Laser beam machining method and laser beam machine |
JP2004191880A (en) * | 2002-12-13 | 2004-07-08 | Hitachi Via Mechanics Ltd | Deflection method, deflection apparatus and laser processing apparatus |
JP2005034859A (en) * | 2003-07-17 | 2005-02-10 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | Laser beam machining device |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2020098346A (en) * | 2020-01-21 | 2020-06-25 | 株式会社ニコン | Pattern drawing method |
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