JP2008529065A5 - - Google Patents

Claims (27)

1. 複数の画素を含むフラットパネルディスプレイとヘッドとの間の距離を継続的に測定する非接触センサと、サーボ制御システムとを備える装置であって、
   前記フラットパネルディスプレイは、前記ヘッドに対して相対運動し、
   前記非接触センサは、前記距離に関する第１の値および第２の値を測定し、
   前記サーボ制御システムは、
   前記測定された距離および第１の予め定義された値により定義される第１の信号を生成する制御回路と、
   前記ヘッドと前記フラットパネルディスプレイとの間の距離が予め定義された範囲内に継続的に維持されるよう、前記第１の信号に従い前記ヘッドの位置を変更するアクチュエータと
   を含み、
   前記距離は、前記予め定義された範囲に関する第２の値以下の値を前記第１の信号が有する場合に、前記予め定義された範囲内にあるものとして検出される、装置。
2. 前記非接触センサにより生成された関連アナログ信号をデジタル信号に変換するアナログデジタルコンバータをさらに含む、請求項１に記載の装置。
3. 前記測定された距離を表す線形信号を生成すべく、前記変換されたデジタル信号を線形化する信号調整ブロックをさらに含む、請求項２に記載の装置。
4. 前記アクチュエータは、
   増幅器と、
   リニアモータと、
   リニアエンコーダと
   を含む、請求項３に記載の装置。
5. 前記ヘッドは、前記フラットパネルディスプレイを検査する、請求項４に記載の装置。
6. 前記ヘッドは、前記フラットパネルディスプレイを修復する、請求項４に記載の装置。
7. 前記ヘッドは、前記フラットパネルディスプレイに焦点を合わされた顕微鏡の対物レンズを含む、請求項４に記載の装置。
8. 前記測定された第１の値は第１の光学像に関連し、前記測定された第２の値は第２の光学像に関連する、請求項１に記載の装置。
9. 前記ヘッドは、前記フラットパネルディスプレイに焦点を合わされた顕微鏡の対物レンズを含み、
   物体平面が最適な焦点平面の上に位置することにより被照スポットが前記顕微鏡の主光軸の第１の側に現れる場合、前記測定された第１の値は前記測定された第２の値よりも大きい、請求項８に記載の装置。
10. 前記測定された第１の値が前記測定された第２の値より大きいことに応答して画像が形成される、請求項９に記載の装置。
11. 物体平面が最適な焦点平面の下に位置することにより被照スポットが顕微鏡の主光軸の第２の側に現れる場合、前記測定された第１の値は、前記測定された第２の値より小さい、請求項１０に記載の装置。
12. 前記測定された第１の値が前記測定された第２の値より小さいことに応答して画像が形成される、請求項１１に記載の装置。
13. 前記第１の予め定義された値は、複数の外部条件を考慮して動的にアップデートされる、請求項１２に記載の装置。
14. 前記外部条件は、前記フラットパネルディスプレイを受け入れるチャックの平坦度の偏差を表す、請求項１３に記載の装置。
15. 前記外部条件は、フラットパネルディスプレイの厚みにおける偏差を表す、請求項１３に記載の装置。
16. 前記第１の予め定義された値はゼロである、請求項１５に記載の装置。
17. フラットパネルディスプレイの予め定義された範囲内にヘッドを継続的に維持する方法であって、
    前記ヘッドと前記フラットパネルディスプレイとの間の距離を非接触で継続的に測定する工程と、
    前記測定された距離と予め定義された距離との差を検出する工程と、
    前記フラットパネルディスプレイに対するヘッドの相対位置を変更することにより、前記フラットパネルディスプレイの予め定義された範囲内に前記ヘッドを維持するべく前記検出された差を既知の値より小さく維持する工程と、
    前記測定された距離を表すアナログ信号をデジタル信号に変換する工程と
    を含む方法。
18. 前記変換されたデジタル信号を線形化する工程をさらに含む、請求項１７に記載の方法。
19. 前記ヘッドを用いて前記フラットパネルディスプレイを検査する工程をさらに含む、請求項１７に記載の方法。
20. 前記ヘッドを用いて前記フラットパネルディスプレイを修復する工程をさらに含む、請求項１７に記載の方法。
21. 前記ヘッドに光学系の対物レンズを配置する工程をさらに含み、前記対物レンズは、前記フラットパネルディスプレイに継続的に合焦されるべく前記フラットパネルディスプレイの予め定義された範囲内に維持される、請求項１７に記載の方法。
22. 前記対物レンズの新たな位置を表す情報を搬送する信号を符号化する工程と、
    リニアモータを用い、かつ、前記符号化された信号に従い、前記対物レンズの位置を変更する工程と
    をさらに含む、請求項２１に記載の方法。
23. 光ビームの第１の像に応答して第１の信号を生成する工程と、
    前記光ビームの第２の像に応答して第２の信号を生成する工程と、
    前記第１の信号および前記第２の信号により定義される第３の信号を生成する工程と
    をさらに含み、
    前記第３の信号が第１の予め定義された値以下の値を有する場合に合焦状態が検出される、請求項２２に記載の方法。
24. 物体平面が最適な焦点平面の上に位置する場合、前記第２の信号を前記１の信号より大きくする工程と、
    前記第２の信号が前記第１の信号より大きい場合、前記対物レンズの光軸の第１の側に被照スポットが現れる工程と
    をさらに含む、請求項２３に記載の方法。
25. 前記物体平面が前記最適な焦点平面の下に位置する場合、前記第２の信号を前記１の信号より小さくする工程と、
    前記第２の信号が前記第１の信号より小さい場合、前記光軸の第２の側に被照スポットが現れる工程と
    をさらに含む、請求項２４に記載の方法。
26. 第１の容量測定に応答して第１の信号を生成する工程と、
    第２の容量測定に応答して第２の信号を生成する工程と、
    前記第１の信号および前記第２の信号により定義される第３の信号を生成する工程と
    をさらに含み、
    前記第３の信号が第１の予め定義された値以下の値を有する場合に合焦状態が検出される、請求項２２に記載の方法。
27. 前記測定された第１の値は容量測定に関連し、前記測定された第２の値は第２の容量測定に関連する、請求項７に記載の装置。