JP2008517745A - 膜を基材とするリザーバ乾燥器 - Google Patents

Abstract

汚染物質及び水分の進入を防止し且つ流体リザーバから水分を除去するための装置及び方法である。当該装置は、内部に流体を維持するための流体リザーバと、当該流体リザーバの内部と周囲の大気との間の空気の交換を可能にするための流体リザーバの穴と、前記流体リザーバと流体連通状態に配置されている膜を基材とするリザーバ乾燥器とを含み、当該リザーバ乾燥器は、圧縮ガスの発生源と、前記圧縮ガスを乾燥させて前記リザーバ内の流体から水分を吸収する圧縮ガスの能力を増大させるための膜型乾燥器とを含んでいる。

Description

発明の分野

本発明は、潤滑及び液圧装置に関し、更に特定すると、汚染物質及び水分の進入を防止し且つ潤滑及び液圧装置の液体リザーバから水分を除去するための方法及び装置に関する。

潤滑及び液圧流体は、製造プラント及び機械工業において広く使用される。これらの用途の殆どにおいて、流体は、リザーバ内に含まれ且つポンプの作用或いははねかけ潤滑装置によって所望の位置へ給送される。典型的なリザーバは真空運転用として設計されていないので、流体が所望の位置へ圧送されると、大気がリザーバ内へ引き込まれて押し出されたオイルの体積をふさぎ、このようにして、リザーバ内に多量の真空が発生するのが防止される。更に、連続的に運転されないかも知れない設備においては、冷却時の体積変化により大気がリザーバ内に引き込まれるかも知れない。リザーバと大気との間の空気の交換は、当該技術においてはリザーバ通気として知られている。

全ての潤滑及び液圧装置に対して、オイルを清浄化し且つ乾燥状態に保つ必要性は、設備の故障が粒子及び水分を含む汚染物質の存在に直接関連付けられる場合に特に重要である。流体から粒子を除去するために流体濾過が一般的に使用されるばかりでなく、リザーバ内への汚染物質の進入を防止するために測定も行われる。汚染物質の一つの重要な進入場所は、リザーバが呼吸するのを可能にするリザーバの穴である。リザーバが大気内で通気されるときに、空気によって運ばれる粒子及び水分の形態の汚染物質も同様にして抜き出すことができる。リザーバ内への汚染物質の進入を最少化するために種々の方法が使用されて来た。

空気中で使用される最も簡単な方法は、図１のリザーバ１０内に示されている下に曲げられたパイプ１１である。下に曲げられたパイプ１１は、基本的には、リザーバ１０が外装用途において暴風雨によって又は内装用途において洗い流しによって水によって濡れたときの液体水の著しい進入を防止する。下に曲げられたパイプ１１を使用する際の制限事項は、下に曲げられたパイプ１１が粒子又は大気中の水分の進入を防止することができないことである。

空気中で使用される別の方法は、図２に示されているフィルタ通気口１３である。フィルタ通気口１３においては、空気によって運ばれる粒子を捕獲するために、通気口１４内にフィルタ媒体１５が配置されている。このタイプのフィルタに使用されているフィルタ媒体１５は、粗い連続気泡発泡材から３ミクロンの濾過に調整されている繊維フィルタ媒体まで広範囲に変わる。この方法は、一般的には、圧力低下及びフィルタの効率によって制限を受け且つ大気水分がリザーバ１２内へ入るのを防止するための作用を行わない。更に、リザーバ１２内に入る空気の全てが濾過されるようにするために、リザーバ１２は、通気口以外は完全にシールされなければならない。さもなければ、フィルタ部材が粒子の蓄積により圧力低下が増大せれたときに、あらゆる隙間を通ってリザーバ内に入る粒子を含む空気の存在の可能性は著しく増大する。

乾燥剤通気口はまた、米国特許第４，５０４，２８９号、第４，５４８，６２４号及び第６，２１７，６３９号に記載され並びに図３に示されているように、汚染物質の進入という問題を処理するために使用される別のタイプの技術でもある。図３の乾燥剤通気口１７は、水分を吸収するための乾燥剤２０及び粒子を除去するためのフィルタ媒体１９を含んでいるものとして示されている。しかしながら、乾燥剤通気口１７は、水分の除去のための限定された機能のみを有し、従って、乾燥剤が消耗すると、更なる水分を除去しない。従って、ユーザーは、乾燥剤の状態を綿密に監視すること及び周期的に通気口を入れ換える必要がある。

乾燥剤通気口を監視し且つ交換する条件は、リザーバ１６内への汚染物質の進入を防止するためのトータルコストを追加する。更に、乾燥剤通気口１７のような乾燥剤通気口は、水分が乾燥剤のすぐ近くに存在するときにのみ水分を除去する。従って、乾燥剤がリザーバ１６内に含まれている流体２１から水分を除去するためには、水分は、流体表面から乾燥剤１７へ拡散しなければならない。これらの距離は、３０．４センチメートル乃至３．０４メートル（１乃至１０フィート）程度であることが多いので、このプロセスは極めてゆっくりであり且つ本質的に受動的である。

汚染の進入を防止するために使用される現存の技術の全てが、理想的なリザーバよりも少ない頭隙状態を生じるという欠点を有する。本発明の目的は、粒子及び水分がリザーバ内へ進入するのを防止する手段を提供し且つリザーバ内に含まれている流体から水及び水分を積極的に除去するため手段を提供することである。
（従来技術の説明）
米国特許第４，５０４，２８９号は、白色鉱油タンクにおいて使用するための通気口キャップを教示している。

米国特許第６，２１７，６３９号は、機械への或いは機械からの空気の流入及び流出と関連付けて使用するための汚染制御通気口を教示している。
米国特許第６，５８５，８０８号は、圧縮ガスの流れから水分を除去するために使用される膜モジュール及び当該装置を製造する方法を教示している。

本発明は、汚染物質及び水分の進入を防止し且つ流体リザーバ内に維持されている流体から水分を除去するための方法及び装置に関する。当該装置は、流体リザーバの内部と周囲大気との間の空気の交換を可能にするための流体リザーバ穴と、一つの実施形態においては前記流体リザーバと流体連通状態に配置されている膜を基材とするリザーバ乾燥器とを含んでいる。前記膜を基材とするリザーバ乾燥器は、圧縮ガス源と、当該圧縮ガスから粒子及び煙霧質汚染物質を取り出すためのフィルタ及び集滴具と、前記リザーバ内の流体から水分を吸収する圧縮ガスの機能を増大させるために圧縮ガスを乾燥させるための膜型乾燥器と、前記膜を基材とするリザーバ乾燥器からの気体の流れを制御するための手段とを含んでいる。

好ましい実施形態の説明

図４を参照すると、図４は、本発明に従って、流体リザーバ２２内への粒子及び水分の進入を防止するだけでなく、流体リザーバ２２内に含まれている流体３２から水分を除去する二重機能を有する膜を基材とするリザーバ乾燥器２３を備えた流体リザーバ２２を示している。

図４に示されている膜を基材とするリザーバ乾燥器２３について、膜を基材とする乾燥器２３は、圧縮空気又はガスの発生源（図示せず）、フィルタ２４及び集滴具２５、膜型の空気乾燥器２６並びにオリフィス又は絞り弁２７のような膜型空気乾燥器からの流量を制御し又は調量するための装置を含んでいる。図４に更に示されているように、膜を基材とするリザーバ乾燥器２３はまた、リザーバ２２を過圧から保護するための安全弁２８をも含むことができる。膜を基材とするリザーバ乾燥器２３はまた、粒子の進入に対する更なる保護を提供するために、リザーバ２２の出口に配置された粒子フィルタ２９を含むこともできる。図４の実施形態は、通気口３０を含んでいるリザーバ２２の出口を示している。

フィルタ２４及び集滴具２５を参照すると、膜を基材とするリザーバ乾燥器２３のフィルタ２４及び集滴具２５は、圧縮ガスの流れから粒子及び煙霧質汚染物質を除去するように機能する。圧縮ガスの流れ内に存在する煙霧質物質は、圧縮器の潤滑剤か水分が飽和したガスの流れの凝縮によって形成された水滴であるかも知れない。フィルタ２４及び集滴具２５は、大きさが１ミクロン以下の粒子を除去するのが好ましい。

膜乾燥器２６に関して、当該膜乾燥器２６は、リザーバ２２内の流体３２から水分を吸収するためのより大きな能力を有するように圧縮ガスを十分に乾燥させるように機能する。多くの適切な膜乾燥器のうちの一つが米国特許第６，５８５，８０８号に記載されている。ガスが乾燥された後に、次いで、計測された量のガスがリザーバ２２内に噴射される。計測装置は、弁、オリフィス又はリザーバ内への所望量の乾燥したガスの流れを制御するためのその他のあらゆる手段とすることができる。乾燥ガスの噴射場所は、ガスの出口位置の末端側に配置されるのが好ましく、リザーバ２２の他端に配置されたガスの出口がより好ましいが、他の位置も同様に適している。

乾燥したガスは、リザーバ２２を包囲している環境の大気圧に対して若干正の圧力を維持しているリザーバ２２内には入ることができない。なぜならば、汚染物質が圧力勾配に抗して進入しなければならないからである。更に、乾燥したガスが流体３２の表面を横切って流れるときに、乾燥ガスの相対湿度が流体３２の水飽和率より低い場合には、リザーバ２２内の流体３２から水分が除去されるであろう。更に、乾燥したガスは、流体３２を装置からリザーバ２２へ戻す戻しパイプ（図示せず）内へ噴射することができ、又は流体表面の下方へ噴射されて、ガスが流体３２内を泡になって浮き上がるのを可能にして、水分又はその他の汚染物質が流体３２から分離されるのを容易にすることができる。

図５を参照すると、図５は、乾燥器通気口３３と組み合わせた膜を基材とするリザーバ乾燥器２３を備えている流体リザーバ２２を含んでいる本発明の代替的な実施形態を示している。図５には、流体リザーバ２２の内部と、大気との間の空気の交換を可能にするための通気口と、空気から水分を除去するための乾燥器媒体３５と、空気から粒子を除去するためのフィルタ３６とを含んでいる乾燥器通気口３３が示されている。

図５の実施形態においては、膜を基材とするリザーバ乾燥器２３は、乾燥ガスによってリザーバ２２の頭隙３１を覆うために使用されており、リザーバ２２を出て行くガスは乾燥器通気口３３を通過する。本発明のこの特徴は、毎日切断される移動型機器又は工場施設のような断続的に使用される装置のリザーバに適する。上記の装置の一般的な用途においては、圧縮ガスは、装置が作動しているときに、圧縮ガスは膜を基材とするリザーバ乾燥器２３に対して利用可能であるだけかも知れない。従って、膜を基材とするリザーバ乾燥器２３は、装置が作動しているときにリザーバ２２を保護するだけであろう。

膜を基材とするリザーバ乾燥器２３が作動中でないときに大気からの汚染物質の進入を防止するために、リザーバ通気口３３は乾燥器媒体３４に嵌合される。このようにして、リザーバ内へ引き込まれるあらゆる大気が、空気から水分を除去する乾燥器媒体３５内及び空気から粒子を除去するフィルタ内を通過するであろう。伝統的には、乾燥器通気口は、乾燥器媒体が保持することができる水分の全てを吸収するときに有限寿命を有するが、本発明においては、乾燥器媒体３５は、装置及び膜を基材とするリザーバ乾燥器２３が再び作動するときに再生されるであろう。なぜならば、膜を基材とするリザーバ乾燥器２３からの乾燥ガスは、大気へと排出されるときに乾燥器媒体内を通過し、吸収した水分を分離させ、このようにして、乾燥器通気口３３の頻繁な交換の必要性を克服するであろう。

図５の乾燥器通気口３３と組み合わせた膜を基材とするリザーバ乾燥器２３のもう一つ別の用途は、限定的ではないが、水撃ポンプを含んでいる装置の一部である液圧リザーバのような流体の深さが周期的な変化を受けるリザーバのためのものである。これらの装置においては、多量の流体を水撃ポンプ内へ迅速に圧送することができ、このようにして、水撃ポンプによって作業が行われているときにリザーバ内の流体の体積を減じる。次いで、水撃ポンプが後退せしめられるときに、流体はリザーバへ戻る。

上記の装置においては、膜を基材とするリザーバ乾燥器２３からリザーバ２２内へ噴射されつつある流量よりも少ない場合には、次いで、体積の差を構成するはずである付加的な大気が乾燥器通気口３３内へ引き込まれるであろうということは注目されるべきである。乾燥器通気口３３は、大気がリザーバ２２内へ引き込まれるときに大気から粒子及び水分を除去するであろう。乾燥器通気口３３は、流体３２がリザーバ２２へと戻るときに再生され、膜を基材とするリザーバ乾燥器２３によってリザーバ２２内へ噴射される乾燥ガスと結合して、流体３２の上方のガスを追い出すであろう。

図６を参照すると、図６は、制御装置３７と組み合わせられた膜を基材とするリザーバ乾燥器２３を備えている流体リザーバ２２を含んでいる本発明の代替的な実施形態を示している。図６の実施形態においては、リザーバ２２の頭隙３１を乾燥したガスによって覆うために、膜を基材とするリザーバ乾燥器２３が使用されている。図６の実施形態においては、リザーバ内でガスが当該リザーバの頭隙を出て行く場所が下に曲げられたパイプ３９として示されている。センサー３８が、ガスの相対湿度を測定し且つ制御装置３７の制御回路に信号をフィードバックするように機能する。平衡状態においては、リザーバ３２内の流体３２の水分の相対湿度はリザーバの頭隙３１内の水分の相対湿度に等しいであろう。従って、頭隙３１内のガスの相対湿度を監視することによって、流体３２の状態を推測することができる。

当該実施形態の制御装置３７に関して、制御装置３７は、頭隙３１内の水分の所望の目標液面高さ及び流体３２内の水分量を維持するために、リザーバ２２内へ噴射される乾燥ガスの量を自動的に調整するように機能する。この方法においては、リザーバ２２を覆うプロセスは、水分の進入量の変化に自動的に応答するであろう。すなわち、持ち上げプロセスが起こり、それによって、付加的な水がリザーバ２２内に含まれる流体３２内へ入ると、リザーバを出て行くガスの水分は増加するであろう。当該装置が乾燥ガスの流量の増加に自動的に応答しない場合には、リザーバ２２内に噴射されるガスの量が制限され、持ち上がりから回復するのに必要とされる時間は許容できないほど長くなり得る。

更に、リザーバの流体３２が“乾燥”すると、リザーバ２２を出て行く乾燥ガスの相対湿度は低下して、制御装置３７に、リザーバ２２内に噴射される乾燥ガスの量を少なくするように信号を送るであろう。別の方法として、センサー３８を流体内に配置して、流体３２の水分を直接測定し且つ制御装置３７に流体の状態に基づくガス噴射量を自動的に調整する信号を提供するようにしても良い。

最後に、図７を参照すると、図７は、本発明の代替的な実施形態を示している。当該実施形態は、流体リザーバ２２と、流体液面検知手段４０と組み合わせられた膜を基材とするリザーバ乾燥器２３とを含んでいる。図７の実施形態においては、同様に、膜を基材とするリザーバ乾燥器２３が、乾燥したガスによってリザーバの頭隙３１を覆うために使用されている。過剰な量の乾燥ガスがリザーバ２２内へ噴射されることなく、リザーバの頭隙３１の連続的な調整を確保するために、流体液面検知手段４０が装置内に組み入れられている。上記に鑑みると、水撃ポンプが充填されるか又は流体３２が一のリザーバから別のリザーバへ移されるときのように流体の液面が低下すると、リザーバ２２内へ噴射される乾燥ガスの流量が自動的に増大されて大気がリザーバ２２内へ引き込まれないことを確保する。更に、流体がリザーバ２２に戻って流体の液面が高くなると、リザーバ２２内へ噴射される乾燥ガスの容量が減じられて乾燥ガスの消費が最少化される。

上記の実施形態においては、流体液面検知手段４０は、限定的ではないが、リザーバ２２内の流体の液面を測定する装置とすることができ、又は装置の配管内の流体流量を測定する装置とすることができる。例えば、流体液面検知手段４０は、覗き管４１、液面センサー４２及び制御装置４３とすることができ、液面センサー４２及び覗き管４１の一部分は、流体リザーバ２２内の流体３２の液面に関する信号を制御装置４３に送るように機能することができる。流体液面検知センサー４０はまた、ポンプ又は弁又はリザーバの頭隙と大気との間の圧力差の作用に相関させることもできる。

更に本発明に関して、本発明の上記の特徴のいずれかの組み合わせを提供することができることは注目される。例えば、コントローラを備えた膜を基材とするリザーバ乾燥器２３を乾燥器通気口と組み合わせて使用することができる。

本発明はまた、汚染物質及び水分の進入を防止し且つ流体リザーバ２２から水分を除去する方法をも含んでおり、当該方法は、（１）圧縮ガスから粒子及び煙霧質汚染物質を除去するために圧縮ガス発生源から多量の圧縮ガスをフィルタ２４及び集滴具２５内へ導くステップと、（２）前記圧縮ガスを、乾燥させ且つその水分吸収能力を増すために膜型乾燥器２６の中を移動させるステップと、（３）測定された量の乾燥ガスを流体リザーバ内へ噴射するステップと、（４）流体リザーバ内の流体から水分を除去するために、乾燥ガスが流体リザーバ２２の頭隙内を流れるようにさせるステップと、（５）汚染物質及び大気水分がリザーバ通気口を通って流体リザーバ２２内へ入るのを防止するために、流体リザーバ２２を包囲している環境の大気圧より若干高い圧力を維持するステップとを含んでいる。

上記の方法は更に、（６）膜を基材とするリザーバ乾燥器２３が作動していないときに、リザーバ内へ引き込まれる大気から水分及び粒子を除去するために、リザーバ通気口を乾燥器通気口に嵌合させるステップと、（７）乾燥したガスを乾燥器通気口内へ導いて乾燥剤によって吸収された水分を除去し、それによって乾燥器通気口の寿命を延ばすステップと、（８）流体リザーバ２２内のガスの相対湿度を測定し且つ流体リザーバ２２内のガスの相対湿度に関する情報を制御装置に送るステップと、（９）流体リザーバ２２内へ噴射される乾燥ガスの量を自動的に調整して、流体リザーバ２２の頭隙内の水分の所望の目的液面を維持し且つ流体内の水分量を維持するステップと、（１０）流体リザーバ２２の流体内にセンサーを配置して流体内の水分を直接測定し且つ流体の状態に基づいてガスの噴射量を自動的に調整するための信号を制御手段に提供するステップと、を含むことができる。

図１は、液体水の著しい進入を防止するための下に曲げられたパイプを備えている流体リザーバの破断図である。 図２は、空気によって運ばれる粒子が流体リザーバ内へ入るのを防止するために、空気によって運ばれる粒子を捕獲するためのフィルタ通気口を備えている流体リザーバの破断図である。 図３は、水分を吸収するための乾燥剤通気口及び粒子を除去するためのフィルタ媒体を備えている流体リザーバの破断図である。 図４は、膜を基材とするリザーバ乾燥器を備えている流体リザーバを含んでいる本発明の一実施形態の破断図である。 図５は、乾燥器通気口と結合させた膜を基材とするリザーバ乾燥器を備えている流体リザーバの破断図である。 図６は、制御回路と結合させた膜を基材とするリザーバ乾燥器を備えている流体リザーバの破断図である。 図７は、流体液面検知手段と結合させた膜を基材とするリザーバ乾燥器を備えている流体リザーバの破断図である。

Claims (21)

1. 汚染物質及び水分の進入を防止し且つ流体から水分を除去するための装置であって、
   内部に流体を維持するための流体リザーバと、
   当該流体リザーバの内部と外部との間でのガスの交換を可能にするための流体リザーバの穴と、
   前記流体リザーバと流体連通状態に配置されている膜を基材とするリザーバ乾燥器であって、圧縮ガス発生源と、圧縮ガスを乾燥させて当該圧縮ガスによる前記リザーバ内の流体から水分を吸収する能力を増大させる膜型ガス乾燥器とを含んでいる前記膜を基材とするリザーバ乾燥器と、を含む装置。
2. 請求項１に記載の装置であって、
   前記圧縮ガスから粒子及び煙霧質汚染物質を除去するためのフィルタを含んでいる装置。
3. 請求項１に記載の装置であって、
   前記圧縮ガスから粒子及び煙霧質汚染物質を除去するための集滴具を含んでいる装置。
4. 請求項１に記載の装置であって、
   前記圧縮ガスから粒子及び煙霧質汚染物質を除去するためのフィルタ及び集滴具を含んでいる装置。
5. 請求項１に記載の装置であって、
   前記膜を基材とするリザーバ乾燥器からのガスの流出を制御するための手段を含んでいる装置。
6. 請求項１に記載の装置であって、
   前記流体リザーバの過圧から保護するための安全弁を含んでいる装置。
7. 請求項１に記載の装置であって、
   前記流体リザーバの出口に配置されている粒子フィルタを含んでいる装置。
8. 請求項１に記載の装置であって、
   前記流体リザーバ内へ流入する乾燥ガスの所望量を制御するための計測装置を含んでいる装置。
9. 請求項１に記載の装置であって、
   前記流体リザーバの穴が下に曲げられたパイプを含んでいる装置。
10. 請求項１に記載の装置であって、
    前記流体リザーバの穴が、前記流体リザーバ内へ引き込まれる大気から粒子を除去するためのフィルタを備えている通気口を含んでいる装置。
11. 請求項１０に記載の装置であって、
    前記通気口が、前記流体リザーバ内へ引き込まれる大気から水分を除去するための乾燥剤を備えている装置。
12. 請求項１に記載の装置であって、
    前記流体リザーバの穴によって支持され且つ前記流体リザーバ内へ引き込まれる大気から水分を除去するための乾燥器通気口を含んでいる装置。
13. 請求項１に記載の装置であって、
    前記リザーバ内に含まれている流体内に所望の目標水分レベルを維持するための制御装置を含んでいる制御回路と、前記流体リザーバ内に配置され且つ前記流体の及び当該流体の上方の頭隙の水分を測定し且つ当該測定された水分を前記制御装置に連絡するためのセンサーと、を含んでいる装置。
14. 請求項１に記載の装置であって、
    前記流体リザーバの頭隙内に所望の目標水分レベルを維持するための制御装置を含んでいる制御回路と、前記流体リザーバ内に配置され且つ前記ガスの水分を測定し且つ当該測定された水分を前記制御装置に連絡するためのセンサーと、を含んでいる装置。
15. 請求項１に記載の装置であって、
    過剰量の乾燥ガスを前記流体リザーバ内へ噴射することなく、流体リザーバの頭隙の連続的な調整を確保するために、前記流体リザーバ内へ噴射される乾燥ガスの量を制御するための流体液面検知装置を含んでいる装置。
16. 請求項１に記載の装置であって、
    前記流体リザーバの穴が、前記膜を基材とするリザーバ乾燥器の乾燥ガス噴射位置の末端側に配置されている装置。
17. 汚染物質及び水分の進入を防止し且つ流体から水分を除去するための装置であって、
    内部に流体を維持するための流体リザーバと、
    前記流体リザーバと前記周囲大気との間のガスの交換を可能にするための流体リザーバの穴と、
    前記流体リザーバと流体連通状態に当該流体リザーバの穴の末端側に配置された膜を基材とするリザーバ乾燥器であって、圧縮ガスの発生源と、前記圧縮ガスから粒子及び煙霧質汚染物質を除去するためのフィルタ及び集滴具と、前記圧縮ガスを乾燥させて、前記リザーバ内の流体から水分を吸収する能力を増大させるための膜乾燥器と、前記流体リザーバ内へ流入する乾燥ガスの所望の体積を制御するための測定装置とを含む前記膜を基材とするリザーバ乾燥器と、を含む装置。
18. 請求項１７に記載の装置であって、
    前記流体リザーバの過圧から守るための安全弁を含んでいる装置。
19. 請求項１７に記載の装置であって、
    前記リザーバの穴が、前記流体リザーバ内に引き込まれるガスから粒子を除去するためのフィルタを備えている通気口を含んでいる装置。
20. 請求項１９に記載の装置であって、
    前記通気口が、前記流体リザーバ内へ引き込まれるガスから水分を除去するための乾燥剤を含んでいる装置。
21. 汚染物質及び水分の進入を防止し且つ流体リザーバから水分を除去するための方法であって、
    圧縮ガスの発生源からの多量の圧縮ガスをフィルタ及び集滴具内へ導いて、前記圧縮ガスから粒子及び煙霧性汚染物質を除去するステップと、
    前記圧縮ガスを膜型乾燥器内を移動させて乾燥させ且つ前記圧縮ガスの水分吸収能力を増大させるステップと、
    計測された量の前記乾燥ガスを流体リザーバ内へ噴射するステップと、
    前記乾燥ガスが前記流体リザーバの頭隙内を流れるようにして、前記リザーバの頭隙から及び前記流体リザーバから水分を除去するステップと、
    前記流体リザーバを包囲している環境の大気圧より若干高い圧力を維持して、汚染物質及び大気の水分が前記リザーバの頭隙に入り且つリザーバの通気口を通って前記流体リザーバ内へ入るのを防止するステップと、を含む方法。

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