JP2008507726A - 改良されたレリーフ像刷版のバンプ露光方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】レリーフ像刷版の製造方法に関する。
【解決手段】感光性印刷要素を設ける工程、感光層を波長領域がわずか20nm以下で異なる1つ以上の化学線源に前露光することで感光層中の溶解酸素をクエンチする工程、並びに感光性樹脂層を化学線に像様露光して架橋及び硬化する工程を含むことを特徴とするレリーフ像刷版の製造方法。感光性組成物は、通常、感光性組成物の前露光に使用される波長で感光性組成物に約0.05から0.43の光学濃度を提供するのに十分な量で感光性組成物中に存在する少なくとも1つの光開始剤を含む。
【選択図】なし
【解決手段】感光性印刷要素を設ける工程、感光層を波長領域がわずか20nm以下で異なる1つ以上の化学線源に前露光することで感光層中の溶解酸素をクエンチする工程、並びに感光性樹脂層を化学線に像様露光して架橋及び硬化する工程を含むことを特徴とするレリーフ像刷版の製造方法。感光性組成物は、通常、感光性組成物の前露光に使用される波長で感光性組成物に約0.05から0.43の光学濃度を提供するのに十分な量で感光性組成物中に存在する少なくとも1つの光開始剤を含む。
【選択図】なし
Description
本発明は、像様露光前に感光性印刷要素を化学線に前露光する改良された方法に関する。
フレキソ印刷は、一般的に大量生産に使用される印刷方法である。フレキソ印刷は、紙、板紙素材、段ボール、フィルム、フォイル、及び合板等の多様な被印刷物に対する印刷に用いられる。新聞、及び食料雑貨入れの袋(grocery bag)が主な例である。平滑性の悪い面及び伸縮性フィルムは、フレキソ印刷を用いてのみ経済的に印刷可能である。フレキソ刷版は、画像要素を開口領域の上方とした凸版である。概して、版は印刷シリンダを包む程度に多少柔らかく、柔軟性があり、及び百万枚を超えるコピーの印刷に十分に耐え得る。このような版は、主にその耐性及び作製容易性により、多くの長所をプリンタに提供する。
製造業者により供給される標準的なフレキソ刷版は、バック層すなわち支持層、1つ以上の未露光の光硬化層、保護層すなわちスリップフィルム、及びたいていの場合、保護カバーシートの順からなる多層体である。
支持シート、すなわちバック層は、版に支持を与える。支持シート、すなわちバック層が、紙、セルロースフィルム、プラスチック、又は金属等の透明又は不透明材料から形成可能である。好適な材料は、鋼、銅、若しくはアルミニウムのシート、版、若しくはフォイル、紙、又はポリエステル、ポリスチレン、ポリオレフィン、ポリアミド等の合成高分子材料からなるフィルム若しくはシートが挙げられる。支持シートは、任意で、光硬化層により確実に接着させるために接着層を含み得る。任意で、接着層すなわちハレーション防止層が、また、支持層と1つ以上の光硬化層との間に提供される。ハレーション防止層は、光硬化性樹脂層の非画像領域内で紫外線散乱により生じるハレーションを最小限にするために使用される。
光硬化層は、公知の感光性樹脂、モノマー、開始剤、反応性、又は無反応性希釈剤、フィラー、及び染料のいずれをも含み得る。「光硬化」という用語は、化学線に反応して重合、架橋、又は他の硬化反応を起こし、材料の未露光部分が、露光(硬化)部分から選択的に分離・除去可能であり硬化材料の3次元すなわちレリーフパターンを形成する組成物をいう。好適な光硬化性材料は、エラストマー配合物、少なくとも1つの末端エチレン基を有するエチレン性不飽和化合物、及び光開始剤を含む。光硬化性材料は、例えば、特許文献1〜15に開示され、これらの各主題は、参照することにより全体が本願に援用される。第2光硬化層、即ち、オーバーコート層が使用される場合は、一般的に、第1層上に配置され、同様の組成である。
光硬化性材料は、概して、少なくともいくつかの化学線の波長領域でラジカル重合により架橋(硬化)及び硬化する。ここで使用されるように、化学線は、例えば、露光部分に化学的変化をもたらすことができる放射線である。化学線は、例えば、特に、紫外線及び紫色波長領域で、増幅光(例えば、レーザ)及び非増幅光等を含む。適切な化学線源の1つとして水銀アークランプが挙げられるが、一般的に、当業者に公知である他の発生源も使用される。
スリップフィルムは、埃から感光性樹脂を保護し、取扱容易性を向上させる薄い層である。従来の製版プロセスでは、スリップフィルムは、紫外線透過性である。このプロセスでは、プリンタが印刷素材板からカバーシートを剥離して、スリップフィルム層上にネガを配置する。そして、版及びネガは、ネガを通る紫外線によりフラッド露光される。紫外線に露光された領域は硬化し、未露光領域は除去(現像)されて刷版にレリーフ像を形成する。スリップフィルムの代わりに、マット層が版の取扱容易性を向上するために使用される。マット層は、概して、バインダー水溶液中の懸濁微粒子(シリカ又は同様の)を含む。マット層は、感光性樹脂層を被膜し、空気乾燥される。そして、マット層にネガを配置し、続いて光硬化層が紫外線によりフラッド露光される。
「デジタル」すなわち「ダイレクト」刷版プロセスでは、レーザは、電子データファイルに保存された画像に導かれ、通常は照射不透過材料を含むように改変されたスリップフィルムであるデジタル(即ちレーザアブレーション可能な)マスク層上にin situネガを作製するために使用される。レーザアブレーション層の一部は、マスク層を選択された波長及び出力でレーザ照射に露光することでアブレーションされる。レーザアブレーション層は、例えば、特許文献16〜18に開示され、これらの各主題を参照することにより全体を本願に援用する。
イメージング後、感光性印刷要素が現像されて、光硬化性材料層の非重合部が除去され、感光性印刷要素の表面にレリーフ像を形成する。一般的な現像方法は、種々の溶剤又は水での洗浄が挙げられ、ブラシを用いることが多い。現像のための他の可能性として、エアナイフの使用、又は熱を利用したブロッターの使用が挙げられる。得られた表面は印刷画像を複製するレリーフパターンを有する。そして、印刷要素は、プレスに取り付けられ、そして、印刷が開始される。
光硬化性樹脂組成物は、一般的に、化学線への露光によるラジカル重合により硬化する。しかしながら、酸素がラジカルスカベンジャーとして作用するため、硬化反応は、樹脂組成物中に通常溶解している酸素分子に阻止される可能性がある。従って、像様露光前に樹脂組成物から溶解酸素が除去されて、光硬化性樹脂組成物がより迅速で均一に硬化可能であることが好ましい。
溶解酸素除去は、溶解酸素を置換するために、感光性樹脂版を露光前に一晩中二酸化炭素ガス、又は窒素ガス等の不活性ガス雰囲気下に置くことで達成される。この方法の欠点は不便で面倒であり、装置が広い空間を必要とすることである。この方法は、概して、版の前露光(すなわち「バンプ露光」)に置き換えられている。
版がより高強度の主露光の化学線量に曝される前に、バンプ露光間に、低強度「前露光」の化学線量が樹脂の感光に使用される。版の全領域がバンプ露光され、短時間、低線量での版へのバンプ露光が酸素濃度を表面上低下させ、版(又は他の印刷要素)の光重合を抑止する。この前感光工程なしでは、微細部(すなわち、強調表示点、細い線、独立点等)が完成版に保持されない。しかしながら、前感光工程は、補う陰影トーンをしばしば生じる傾向があるため、画像のハーフトーンの色調範囲が減少する。これは、非常に高感度で露出寛容度が小さい版形成に悪影響を及ぼす。
バンプ露光は、また、溶解酸素をクエンチするためだけに限定する露光時間、照射光濃度等の一定条件も必要とする。更に、感光性樹脂層は、0.1mm以上の厚さを有し、低強度バンプ露光線量の弱い光は、溶解酸素除去が不十分な感光性樹脂層の特定部分(すなわち、基板層に最も近く、且つ化学線源から最も遠い感光層側)に十分に達しない。続いて、主露光において、これらの部分は、残留酸素が原因で十分に硬化しない。従って、現像後、感光層は、樽型形状で、且つ基板層に向かって薄くなる独立点を含むため耐久性が減退する。
前露光工程中に支持層に最も近い感光層側中の溶解酸素を十分にクエンチする試みがなされる場合、化学線源に最も近い樹脂層の表面が過度に照射され、そして不要に硬化される。また、支持層に最も近い樹脂層側を十分に硬化するために主露光がより長時間行われる場合、白抜き部のエッチング深度が浅く、画像部が本来のネガフイルムよりも太くなる。よって、先行技術の欠点を克服するための改良されたレリーフ像刷版のバンプ露光方法が技術的に必要とされている。
バンプ露光は、概して、紫外線蛍光管、又は中圧水銀アークランプで実施される。しかしながら、これらのランプのスペクトル出力が非常に広く、出力は、480nmを超える範囲、紫外域で320nm未満から赤外域で800nmを超える波長に及ぶ。
そのような広帯域源では、良好な露光速度を維持しつつ、バンプ照射の透過深度を最小限にすることは不可能である。いくつかの波長は良好に透過するが、他の波長は表面に強力に吸収される。最終結果としては、版は最大バンプ線量に耐えることができ、更に、プロセスは有意にバンプされた感光層の底部(すなわち、支持シートに最も近い樹脂層面)に樹脂を残して酸素抑止するのに依然として豊富にある。
バンプ露光線量は、通常は、まず、重合の証拠が分かるまで露光時間を増加し、そして、5〜10%速度を落とすことで実験的に決定される。表面近くの感光性樹脂層は最高化学線量を受けるため、感光性樹脂全体が最大バンプ露光を受ける場合に、これらの層で化学的に起こることが影響する。よって、樹脂の下層はまだかなりの酸素量を含むが、一方で樹脂の最上層では本質的な酸素の激減が見られる。この樹脂の厚み全域での酸素量の勾配は、いくつかの画像部を削り落とし、全体の露光感度を減退させる可能性がある。
レリーフ像刷版からの溶解酸素除去を改良するための他の取り組みは、特別な版の配合のみ、又はバンプ露光と併用して関連してきた。
例えば、特許文献19は、主要な光開始剤に吸収される波長から離れる少なくとも100nmの波長で化学線を吸収するために樹脂に添加する別の染料の使用を示し、この主題は、参照することにより全体を本願に援用する。これにより、バンプ用の開始剤及び主要な開始剤に対する量が個別に最適化可能となる。残念なことに、これらの染料は、弱い開始剤であり、バンプ露光時間の長期化を必要とする。更に、これらの染料は、樹脂を通常の室内灯に感光させるため、作業環境において不便な黄色安全光が必要である。最後に、特許文献19に示す取り組みは、また、バンプ露光用の従来の広帯域型化学線源光を用いることで、樹脂の下層中にかなりの酸素量を残す傾向がある。
特許文献20は、少なくとも1つの水溶性ポリマー、光重合開始剤、及びN−メチロールアクリルアミド、N−メチロールメタクリルアミド、N−アルキルオキシメチルアクリルアミド、又はN−アルキルオキシメチルメタクリルアミド、及びメラミン誘導体の縮合反応生成物を含む感光性樹脂組成物を開示し、参照することにより全体を本願に援用する。発明者らによると、該組成物により前露光調整の必要がなくなり、化学的及び熱的に安定な版を製造する。
特許文献21は、パラフィン又は同様の空中酸素の影響を抑止するろう様物質を含む光硬化性混合物を開示し、参照することにより全体を本願に援用する。ポリマーへの難溶性が原因で、パラフィンが重合の開始時に浮かび、空気の進入を防ぐ透明な表面層を形成する。この方法は、樹脂組成物に既に溶解している酸素分子の除去には役立たない。
他の取り組みは、酸素の作用を抑制するために脱酸素剤を樹脂組成物に添加することに重点を置いている。例えば、特許文献22及び23は、樹脂系での脱酸素剤の使用を開示し、これらの各主題を参照することにより全体を本願に援用する。
感光性樹脂組成物中の溶解酸素の抑止及び/又は除去方法をこれまで示したが、感光性樹脂層全体から溶解酸素を除去する改善された方法が技術的に必要とされている。
発明者らは、驚いたことに、バンプ露光が実質的に単色の化学線(すなわち、わずか約20nm以下で異なる放射線源の波長領域)を使用し、的確な種類、及び放射波長で樹脂中の光開始剤の光学濃度が約0.43未満の光開始剤と波長を一致させることで実施される場合、バンプ露光がより効果的、且つ均一に樹脂の厚み全領域から溶解酸素分子を除去することを発見した。
本発明は、レリーフ像刷版の製造方法の改良されたプロセスを対象とし、下記工程を含む。
a)感光性印刷要素を設ける工程、
該感光性印刷要素は、下記を含む。
i)支持層、
ii)感光性組成物層、及び
該感光性組成物層は、下記を含む。
(a)1つ以上のバインダー、
(b)1つ以上のモノマー、
(c)少なくとも1つの光開始剤、及び
(d)任意で、染料、可塑剤、フィラー、重合抑制剤、及び添加剤からなる群から選択される1つの原料、
iii)任意で、マット被覆及びスリップフィルム層からなる群から選択される剥離層、
b)該感光層を波長領域がわずか約20nm以下である1つ以上の化学線源に前露光することで該感光層中の溶解酸素をクエンチする工程、並びに
c)前記感光層を化学線に像様露光して架橋及び硬化する工程。
a)感光性印刷要素を設ける工程、
該感光性印刷要素は、下記を含む。
i)支持層、
ii)感光性組成物層、及び
該感光性組成物層は、下記を含む。
(a)1つ以上のバインダー、
(b)1つ以上のモノマー、
(c)少なくとも1つの光開始剤、及び
(d)任意で、染料、可塑剤、フィラー、重合抑制剤、及び添加剤からなる群から選択される1つの原料、
iii)任意で、マット被覆及びスリップフィルム層からなる群から選択される剥離層、
b)該感光層を波長領域がわずか約20nm以下である1つ以上の化学線源に前露光することで該感光層中の溶解酸素をクエンチする工程、並びに
c)前記感光層を化学線に像様露光して架橋及び硬化する工程。
好適な実施形態において、少なくとも1つの光開始剤は、樹脂組成物の前露光に使用される波長で感光性組成物に約0.05から0.43の光学濃度を提供するのに十分な量で感光性組成物中に存在する。
本発明は、また、改良された感光性印刷要素を対象とし、該感光性印刷要素は、下記を含む。
a)基板、
b)光重合性樹脂、並びに
該光重合性樹脂は、下記を含む。
i)1つ以上のバインダー、
ii)1つ以上のモノマー、
iii)樹脂組成物の前露光に使用される波長で、該感光性組成物に約0.05から0.43の光学濃度を提供するのに十分な量で該感光性組成物中に存在する少なくとも1つの光開始剤、及び
iv)任意で、染料、可塑剤、フィラー、重合抑制剤、及び添加剤からなる群から選択される1つ以上の原料、
c)任意で、マット被覆又はスリップフィルム層。
a)基板、
b)光重合性樹脂、並びに
該光重合性樹脂は、下記を含む。
i)1つ以上のバインダー、
ii)1つ以上のモノマー、
iii)樹脂組成物の前露光に使用される波長で、該感光性組成物に約0.05から0.43の光学濃度を提供するのに十分な量で該感光性組成物中に存在する少なくとも1つの光開始剤、及び
iv)任意で、染料、可塑剤、フィラー、重合抑制剤、及び添加剤からなる群から選択される1つ以上の原料、
c)任意で、マット被覆又はスリップフィルム層。
本発明は、実質的に単色の化学線を使用するレリーフ像印刷要素の感光性樹脂層から溶解酸素を除去する改良された方法を対象とする。単色放射線の波長を、的確な種類、及び放射波長で樹脂中の光開始剤の光学濃度が約0.43未満である光開始剤と一致させる。従って、バンプ露光は、樹脂の厚み全域からより均一に酸素を除去することで、より効果的、且つ均一に樹脂の厚み全域から酸素分子が除去され、主露光は樹脂を最下層へとより良好に硬化可能であり、従って、より少ない主露光でより明確なショルダーを有するより繊細な画像部が得られる。
バンプ露光、及び主露光に対して同一波長の使用は、最適でない。理想的なバンプ露光は、均一に(出来る限り実施可能で)感光性樹脂の厚み全域から酸素を除去する。化学線の光子は、ポリマーの厚みを介して急激な低下率で吸収される(ベールの法則)ため、光学濃度(O.D.)が低下すればするほど、ますます酸素除去が均一になる(おおよその実用限界に対し、発明者らは0.05≦O.D.≦0.38が好ましい範囲であることを発見した)。他方では、樹脂の光学濃度が約0.43であれば、主露光が最適な効果となり、理論上ポリマー層の底部で吸収される最大数の光子が得られる(ベールの法則による)。
これら両方の条件を達成するために、光開始剤パッケージの注意深い選択、並びにバンプ及び主露光に対する光源を必要とする。更に、狭い範囲の波長を放射するバンプ光源が好ましい。光開始剤の吸収曲線は、決して平らにはならないため、実質的に単色の放射線を使用するだけで光学濃度の変化をより小さくできるため、従って、より均一で一貫したバンプ露光となる。
本発明は、改良されたレリーフ像刷版の製造方法を対象とし、下記工程を含む。
a)感光性印刷要素を設ける工程、
該感光性印刷要素は、下記を含む。
i)支持層、
ii)該支持層上に位置する少なくとも1つの感光性組成物層、及び
該感光性組成物は、下記を含む。
(a)1つ以上のバインダー、
(b)1つ以上のモノマー、
(c)少なくとも1つの光開始剤、及び
(d)任意で、染料、可塑剤、フィラー、重合抑制剤、及び添加剤からなる群から選択される1つ以上の原料、
iii)任意で、該感光層上の剥離層、
b)該感光性樹脂層を波長領域がわずか20nm以下である1つ以上の化学線源に前露光することで該感光性樹脂層中の溶解酸素をクエンチする工程、
c)該感光層を架橋及び硬化するのに十分な強度で該感光性樹脂層を化学線に像様露光する工程、並びに
d)適切な現像手段で該感光層の未露光部分を選択的に除去する工程。
a)感光性印刷要素を設ける工程、
該感光性印刷要素は、下記を含む。
i)支持層、
ii)該支持層上に位置する少なくとも1つの感光性組成物層、及び
該感光性組成物は、下記を含む。
(a)1つ以上のバインダー、
(b)1つ以上のモノマー、
(c)少なくとも1つの光開始剤、及び
(d)任意で、染料、可塑剤、フィラー、重合抑制剤、及び添加剤からなる群から選択される1つ以上の原料、
iii)任意で、該感光層上の剥離層、
b)該感光性樹脂層を波長領域がわずか20nm以下である1つ以上の化学線源に前露光することで該感光性樹脂層中の溶解酸素をクエンチする工程、
c)該感光層を架橋及び硬化するのに十分な強度で該感光性樹脂層を化学線に像様露光する工程、並びに
d)適切な現像手段で該感光層の未露光部分を選択的に除去する工程。
感光性樹脂の化学的性質は、フリーラジカル機構により硬化する全ての種類であり得る。最も一般的な種類は、アクリル及び/又はメタクリル酸モノマー及びオリゴマーを使用するものである。未硬化樹脂は、液体又は固体のどちらでもよい。最終硬化版は、硬い種類(凸版印刷版)、又は柔らかい種類(包装又は新聞印刷に使用されるフレキソ版)であり得る。
好適な実施形態において、感光性印刷要素は、光硬化性樹脂層の非画像領域内で紫外線散乱により生じるハレーションを最小限にするために支持層と感光層との間に位置するハレーション防止層を含む。
本発明のプロセスは、特に、基板が不透過で、バンプ露光が版の前側から行われるレリーフ版での使用に適する。基板は、全ての厚さ又は剛さのプラスチック、鋼、アルミニウム、又は他の金属であり得る。更に、全ての厚さのレリーフ層を有する刷版で有効であり、しかし、より厚い版で最も有効であるとみなす。
バンプの波長は、特別な光開始剤の種類及び濃度の吸収曲線に一致するように選択され、若しくは光開始剤の種類及び濃度は、特別な波長源に一致するように変化し、又は両方である。バンプ波長に敏感に反応する光開始剤は、バンプ露光波長のみに敏感に反応可能であり、また、主露光源の波長に敏感に反応可能である。概して、化学線源による波長領域は、わずか20nm以下であるのが好ましい。
本発明の実施に必要な実質的に単色の放射線は、レーザ、発光ダイオード、及び選択された狭い範囲の波長だけが通過するようにフィルタリングされた蛍光灯、アークランプ、プラズマランプ等の広帯域源等の放射線源により供給可能である。ほとんどのレーザ及び発光ダイオードは、既に実質的に単色の放射線を自然に放出する。レーザ及び発光ダイオードは、深い紫外線から赤外線の範囲で、多くの個別の波長で利用可能である。レーザの種類は、ダイオード、気体、固体状態、及び繊維等が挙げられる。基本周波数、又はより短い波長を与えるために逓倍した周波数で発光するように構成可能である。レーザ、又は発光ダイオードは、波長領域がわずか約20nm以下で異なる群にわたる限り、単独又は群で使用可能である。バンプ露光は、印刷要素全域に同時に一括方法で、又は連続スキャン方法で送達可能である。
化学線源は、通常、レーザ、発光ダイオード、及び選択された狭い範囲の波長だけが通過するようにフィルタリングされた広帯域源等からなる群から選択される。特に、本発明の光源は、好ましくは、約394nmから405nmで発光する発光ダイオードである。これらの光源は、低コストで高効率的、冷却運転で信頼できる。更に、これらの光源には、迅速に一貫して電源が供給される。
より低い光学濃度は、より均一な酸素除去を提供する。より低い光学濃度により、光が樹脂のより深部へ透過する。より低い光学濃度では、樹脂の最下層が受ける線量が最上部に近い樹脂層が受ける線量により等しくなる。反対に、化学線が非常に強力に吸収される場合は(すなわち、高い光学濃度)、樹脂の最上層は、比較的高い線量を受け、樹脂の最下層は比較的非常に低い線量を受ける。この場合、バンプ露光により生じる光化学活性は、樹脂の最上層だけに制限され、樹脂の最下層は、ほとんど影響を受けないままである。微細ではない解像度、及び明確ではないショルダーとなり得る。
バンプ露光に実質的に単色の化学線を使用することで光開始剤の種類及び量が正確に選択可能になり、波長での光学濃度が最適なレベルに設定される。光開始剤の放射線吸収率が広帯域源の発光スペクトル全域にわたり大きく変化するため、先行技術の広帯域源では不可能であった。広帯域源を使用する場合は、波長での光学濃度が高い樹脂に当たる放射線が常にあり、これが樹脂の最下層で酸素をクエンチするために樹脂を深く透過する放射線の能力を制限する。
対照的に、本発明では、バンプ照射の波長及び光開始剤のモル濃度は、光学濃度がバンプ照射のために低いように選択され得る。主像様露光に対して、約0.43の光学濃度は、露光速度の最小化に最適であることが理論的に計算され、及び実験的に試験されている。この光学濃度は、バンプ露光に最適であるが、しかし、目的は、樹脂を硬化することではなく、できる限り均一に前感光することである。
しかしながら、より低い光学濃度の代償の1つは、樹脂全体の感光性が低下し、従って、バンプ露光時間が延長される。概して、バンプ露光時間は、主露光時間よりも非常に短くなる傾向があるので、これは製版機の問題ではない。よって、均一性及び速度のこれらの2つの特性が最適に均衡を保つのに最適な範囲がある。好適な実施形態において、光開始剤は、樹脂組成物をバンプ露光に使用する波長で感光性樹脂組成物に約0.05から0.43の光学濃度を提供する十分な量で感光性樹脂組成物に存在する。より好ましくは、化学線による放射波長で樹脂中の光開始剤の光学濃度は、約0.10から0.38の範囲内であり、最も好ましくは、約0.15から0.33の範囲内である。
本発明の感光性樹脂組成物に使用される好適な光開始剤は、概して、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−ベンジル−2−N,N−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−1 ブタノン、ベンゾフェノン、ベンジル、2,2−ジメトキシ−2−フェニル アセトフェノン、2−メチル−1[4−(メチルチオ)フェニル]−2 モルフォリノ プロパン−1−オン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1フェニル−プロパン−1−オン、2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4−トリメチルフェニル ホスフィンオキサイド、2,4,6−トリメチルベンゾイル ジフェニルフォスフィンオキサイド、及び2,4,6−トリメチルベンゾイルからなる群から選択される。
任意で、しかし、好ましくは、バンプ露光は、版の前側から行われる。本発明のバンプ露光に続く像様露光は、レーザ源又は非レーザ源、並列又は直列方式で実施可能である。しかしながら、像様露光は、バンプ露光の5分以内に行われる。また、バンプ露光と主露光との間の遅延時間が刷版の全領域に対して実質的に同じであるのが好ましい。
一旦、感光性印刷要素が化学線に像様露光され、適切な現像手段を使用して感光層の未露光部分が選択的に除去される。現像手段は、感光性樹脂層の配合によって決まり、溶剤もしくは水洗浄、又は乾燥、熱プロセス(熱を利用したブロッター又はエアナイフ)を含む。
版は、現像後、任意で、オーブン及び/又は後露光/粘着除去(detack)工程で処理される。そのようなプロセスは、当業者に公知である。
Claims (19)
- レリーフ像刷版の製造方法であって、
a)感光性印刷要素を設ける工程、
前記感光性印刷要素は、下記を含む
i)支持層、
ii)感光性組成物層、及び
前記感光性組成物層は、下記を含む
(a)1つ以上のバインダー、
(b)1つ以上のモノマー、
(c)少なくとも1つの光開始剤、及び
(d)任意で、染料、可塑剤、フィラー、重合抑制剤、及び添加剤からなる群から選択される1つ以上の原料、
iii)任意で、マット被覆及びスリップフィルム層からなる群から選択される剥離層、
b)前記感光層を波長領域がわずか約20nm以下である1つ以上の化学線源に前露光することで前記感光層中の溶解酸素をクエンチする工程、並びに
c)前記感光層を化学線に像様露光して架橋及び硬化する工程
を含むことを特徴とするレリーフ像刷版の製造方法。 - 前記前露光工程は、波長が約394nmから405nmの化学線を使用して行われる請求項1に記載の方法。
- 前記少なくとも1つの光開始剤が、前記感光性組成物の前露光に使用される前記1つ以上の化学線源の波長で、前記感光性組成物の厚みを介して約0.05から0.43の光学濃度を提供するのに十分な量で前記感光性組成物中に存在する請求項1に記載の方法。
- 前記1つ以上の化学線源が放射する波長で前記樹脂の厚みを介する前記光開始剤の光学濃度は、約0.10から約0.38の範囲内である請求項3に記載の方法。
- 前記1つ以上の化学線源が放射する波長で前記樹脂の厚みを介する前記光開始剤の光学濃度は、約0.15から約0.33の範囲内である請求項4に記載の方法。
- 前記1つ以上の化学線源は、レーザ、発光ダイオード、及び選択された狭い範囲の波長だけが通過するようにフィルタリングされた広帯域源からなる群から選択される請求項1に記載の方法。
- 前記支持層は、プラスチック、アルミニウム、鋼、及び他の適切な金属からなる群から選択される請求項1に記載の方法。
- 前記支持層は、不透過である請求項7に記載の方法。
- 前記前露光工程は、前記版の前側から行われる請求項1に記載の方法。
- 前記前露光工程と前記像様露光工程との間の遅延時間は、約5分未満である請求項1に記載の方法。
- 前記1つ以上の化学線源は、実質的に単色である請求項1に記載の方法。
- 前記1つ以上の単色放射線は、単独で使用される請求項1に記載の方法。
- 前記1つ以上の単色放射線は、群で使用され、わずか20nm以下で異なる群にわたる波長領域で使用される請求項11に記載の方法。
- 感光性印刷要素であって、
a)基板、
b)感光性組成物、並びに
前記感光性組成物は、下記を含む
i)1つ以上のバインダー、
ii)1つ以上のモノマー、
iii)前記樹脂組成物の前露光に使用される波長で、前記感光性組成物の厚みを介して約0.05から0.43の光学濃度を提供するのに十分な量で前記感光性組成物中に存在する少なくとも1つの光開始剤、及び
iv)任意で、染料、可塑剤、フィラー、重合抑制剤、及び添加剤からなる群から選択される1つ以上の原料、
c)任意で、マット被覆又はスリップフィルム層
の順に含むことを特徴とする感光性印刷要素。 - 前記基板は、プラスチック、アルミニウム、鋼、及び他の適切な金属からなる群から選択される請求項14に記載の感光性印刷要素。
- 前記基板は、不透過である請求項15に記載の感光性印刷要素。
- 前記化学線源が放射する波長で前記樹脂の厚みを介する前記光開始剤の光学濃度は、約0.10から約0.38の範囲内である請求項14に記載の感光性印刷要素。
- 前記化学線が放射する波長で前記樹脂の厚みを介する前記光開始剤の光学濃度は、約0.15から約0.33の範囲内である請求項17に記載の感光性印刷要素。
- 前記基板と前記光重合性樹脂組成物との間に位置する接着すなわちハレーション防止層を更に含む請求項17に記載の感光性印刷要素。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US10/894,979 US7125650B2 (en) | 2004-07-20 | 2004-07-20 | Method for bump exposing relief image printing plates |
PCT/US2005/017023 WO2006019450A2 (en) | 2004-07-20 | 2005-05-16 | Improved method for bump exposing relief image printing plates |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008507726A true JP2008507726A (ja) | 2008-03-13 |
Family
ID=35657596
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007522493A Pending JP2008507726A (ja) | 2004-07-20 | 2005-05-16 | 改良されたレリーフ像刷版のバンプ露光方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7125650B2 (ja) |
EP (1) | EP1769285B1 (ja) |
JP (1) | JP2008507726A (ja) |
CN (1) | CN1985216B (ja) |
ES (1) | ES2741527T3 (ja) |
WO (1) | WO2006019450A2 (ja) |
Families Citing this family (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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US7767383B2 (en) * | 2007-08-08 | 2010-08-03 | Roberts David H | Method of pre-exposing relief image printing plate |
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2004
- 2004-07-20 US US10/894,979 patent/US7125650B2/en active Active
-
2005
- 2005-05-16 ES ES05750599T patent/ES2741527T3/es active Active
- 2005-05-16 JP JP2007522493A patent/JP2008507726A/ja active Pending
- 2005-05-16 EP EP05750599.2A patent/EP1769285B1/en not_active Expired - Fee Related
- 2005-05-16 CN CN2005800233570A patent/CN1985216B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2005-05-16 WO PCT/US2005/017023 patent/WO2006019450A2/en active Application Filing
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2006019450A3 (en) | 2006-11-30 |
EP1769285B1 (en) | 2019-07-10 |
US20060019193A1 (en) | 2006-01-26 |
EP1769285A4 (en) | 2011-10-19 |
US7125650B2 (en) | 2006-10-24 |
EP1769285A2 (en) | 2007-04-04 |
ES2741527T3 (es) | 2020-02-11 |
WO2006019450A2 (en) | 2006-02-23 |
CN1985216B (zh) | 2010-09-29 |
CN1985216A (zh) | 2007-06-20 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100727 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20101228 |