JP2008506862A - チップを含浸する方法及び装置 - Google Patents
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Abstract
Description
+ チップは含浸流体に沈み、同時にそれらが変動するリスクはない。
+ 加えられるスチームの量はより低量である。
+ NCGs量及び放出される悪臭ガスは最小限である。
Claims (13)
- a)前スチーム処理なしでチップが含浸槽(101)の最上部へ連続して供給され、かかる槽の底部から含浸したチップが外へ排出され、
b)含浸流体(BL)が含浸槽(101)へ加えられ、
c)加えられた含浸流体(BL)が含浸槽(101)で流体レベル(LIQ_LEV)を確立し、また加えられたチップがチップレベル(CH_LEV)を確立し、またチップレベルが流体レベルを覆って少なくとも1〜2m、好ましくは3〜5mを擁し、さらにかかる槽の最上部(109)の温度が基本的に周囲温度に相応している、
化学パルプ製造におけるチップの含浸方法において、
含浸槽(101)内の最上部の圧力が、基本的に大気圧のレベル±0.5bar、好ましくは±0.2barで確立され、
流体レベル(LIQ_LEV)で確立される流体と木材の混合物の温度が90℃〜115℃の範囲内、好ましくは95℃〜105℃の範囲内で確立されるように、含浸流体(BL)が木材の単位メートルトン当り5メートルトン超の量及び115℃〜150℃の範囲の含浸流体温度で流体レベルと関連して含浸槽(101)内へ供給され、
さらに加えられた含浸流体のアルカリ度が15g/lを上回る、
ことを特徴とするチップの含浸方法。 - 再生のための含浸流体(REC)の回収が、流体レベル(LIQ_LEV)のレベルでかかる槽から行なわれ、かかる回収量が0.1〜1.5m3/ADTの範囲内であることを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 流体の気化が、チップ上皮層からスチームが通り抜けるような方法でなく、流体レベルの上で局部的にチップ上皮層内へ行われることを特徴とする請求項1又は2に記載の方法。
- 周囲温度及びチップ温度が15℃〜25℃の範囲内であり、また周囲温度及びチップ温度がこの温度範囲を下回る場合のみスチームが加えられ、またチップ温度がこの範囲内で確立されるような量でスチーム量が加えられることを特徴とする請求項1から3の何れか一項に記載の方法。
- チップ上皮層内に上昇する気化が、チップの上皮レベルの高さの半分を超えないレベルで行われることを特徴とする請求項1から4の何れか一項に記載の方法。
- チップ上皮層内に上昇する気化が、チップの上皮レベルの高さの25%を超えない程度で行われることを特徴とする請求項5に記載の方法。
- 含浸流体(BL)が、流体レベル(LIQ_LEV)±1mと直接関連して供給されることを特徴とする請求項1から6の何れか一項に記載の方法。
- 含浸流体(BL)が、槽(101)の中央部で加えられることを特徴とする請求項1から7の何れか一項に記載の方法。
- 回収された物質(REC)の温度が計測され、また加えられた含浸流体(BL)の温度及び量のうちの少なくとも一方が、回収された物質(REC)の所望の温度目標値を維持するように、調整されることを特徴とする請求項2に記載の方法。
- 槽(101)に加えられる含浸流体(BL)が、それに続く蒸解窯から部分的に消費された蒸解流体で50%以上構成され、含浸流体(BL)が少なくとも15g/lのアルカリ含有量を有することを特徴とする請求項1から9の何れか一項に記載の方法。
- 部分的に消費された蒸解流体によって、或いは部分的に消費された蒸解流体の寄与を含む混合物によって、構成される含浸流体の少なくとも一部分が、槽(101)へのその付加の前に冷却装置で冷却されることを特徴とする請求項1から10の何れか一項に記載の方法。
- 部分的に消費された蒸解流体によって、或いは部分的に消費された蒸解流体の寄与を含む混合物によって、構成される含浸流体の少なくとも一部分が、槽(101)へのその付加の前に加熱装置で加熱されることを特徴とする請求項1から10の何れか一項に記載の方法。
- 加えられる含浸流体の量が、5〜10m3/ADT、好ましくは7〜9m3/ADTの範囲内であることを特徴とする請求項1から12の何れか一項に記載の方法。
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