JP2008311313A - Semiconductor testing device - Google Patents

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Tsuneto Fujita
常人 藤田
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor testing device that enables a probe pin and a probe card to abut uniformly against each other even when the device itself, a floor surface where the device is installed, etc., have been inevitably deformed plastically due to the long-term use of the device. <P>SOLUTION: The semiconductor testing device has: a prober where a semiconductor wafer formed with a plurality of semiconductor chips is mounted; and a test head driven to a test position or standby position relative to the prober, and the semiconductor testing device conducts a test of electric characteristics of the semiconductor chip. The semiconductor testing device is characterized in that it has: a position adjusting mechanism which translationally driving the test head in elevation/lowering directions, a lateral direction, and a longitudinal direction; a theta rotating mechanism which rotates the test head around an elevation/lowering axis; a twist rotating mechanism which rotates the test head around a lateral axis; and a tumble rotating mechanism which rotates the test head around a longitudinal axis. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、半導体ウェハ上に形成された半導体チップの電気的特性試験をおこなってその良否を判定する半導体試験装置に関する。   The present invention relates to a semiconductor test apparatus that performs an electrical characteristic test of a semiconductor chip formed on a semiconductor wafer and determines its quality.

半導体デバイスを製造するにあたっては、半導体ウェハ上に形成された多数の半導体チップを個々に切り分ける前に、該チップの電気的特性を試験して良否を判定している。複数の半導体チップに対して同時に試験信号を入力し、また同時に出力を測定することで効率のよい特性試験が可能となる。   In manufacturing a semiconductor device, the electrical characteristics of the chips are tested to determine whether the semiconductor chips are formed on a semiconductor wafer. By inputting test signals to a plurality of semiconductor chips at the same time and measuring the outputs at the same time, an efficient characteristic test can be performed.

半導体試験装置は、大別すると半導体ウェハを載置するプローバと、その上方に対向して設けられるテストヘッドとから構成される。
プローバは、微小の位置合わせが可能な可動式ステージと、その上方にて半導体ウェハを覆うように設けられるプローブカードとを備えている。プローブカードの下面からはプローブ針が突出し、これを半導体チップのパッド(電極)に当接させることで半導体チップとプローブカードとが電気的に接続される。プローブカードの上面には接触端子が多数配列されており、プローブ針と接触端子とは配線で接続されている。
The semiconductor test apparatus is roughly divided into a prober for placing a semiconductor wafer and a test head provided facing the prober.
The prober includes a movable stage capable of minute positioning and a probe card provided so as to cover the semiconductor wafer above the stage. A probe needle protrudes from the lower surface of the probe card, and the semiconductor chip and the probe card are electrically connected by bringing the probe needle into contact with a pad (electrode) of the semiconductor chip. Many contact terminals are arranged on the upper surface of the probe card, and the probe needle and the contact terminal are connected by wiring.

一方のテストヘッドにはこれを制御するテスタ本体が接続され、テスタ本体で生成された試験信号が、テストヘッドより突出する多数のプローブピン(ポゴピン)に印加される。したがってテストヘッドとプローバとを近距離で対向させ、接触端子にプローブピンの下端を当接することで、テスタ本体からの試験信号が半導体チップに伝達可能となる。半導体チップの入力側のパッドに入力された試験信号は、当該チップで処理されて所定の出力信号となって出力側のパッドから出力される。かかる出力信号はまた、プローブ針とプローブカードを経由してプローブピンからテストヘッドへと送られる。   One test head is connected to a tester body that controls the test head, and a test signal generated by the tester body is applied to a number of probe pins (pogo pins) protruding from the test head. Therefore, the test signal from the tester body can be transmitted to the semiconductor chip by making the test head and the prober face each other at a short distance and abutting the lower end of the probe pin on the contact terminal. The test signal input to the pad on the input side of the semiconductor chip is processed by the chip to be output as a predetermined output signal from the pad on the output side. Such an output signal is also sent from the probe pin to the test head via the probe needle and the probe card.

なお、プローブピンの配置パターンを接触端子の配列パターンと一致させるため、テストヘッドにはプローブピンを着脱可能に保持するパフォーマンスボードが一般的に設けられている。これにより半導体チップの種別を換えて電気的特性試験をおこなう場合には、パフォーマンスボードから先端(下端)を突出させるプローブピンの位置を変更することでこれが可能となる。   In order to make the arrangement pattern of the probe pins coincide with the arrangement pattern of the contact terminals, the test head is generally provided with a performance board that detachably holds the probe pins. Thus, when the electrical characteristic test is performed by changing the type of the semiconductor chip, this can be achieved by changing the position of the probe pin that protrudes the tip (lower end) from the performance board.

テストヘッドは、電気的特性試験をおこなう際はプローバに近接および対向した検査位置におかれ、パフォーマンスボードの交換時やメンテナンス時にはこれが上方に引き上げられてプローバから開放される。
従来、テストヘッドはプローバの上面に設けられたヒンジによって起倒可能に取り付けられることが最も一般的である(例えば下記特許文献1,2を参照)。このほか、プローバの左右両側から鉛直上方に伸びる支持棒に対して昇降および前後回転可能にテストヘッドが取り付けられた半導体測定装置が提案されている(下記特許文献3を参照)。
When performing an electrical characteristic test, the test head is placed at an inspection position close to and opposite to the prober, and when the performance board is replaced or maintained, it is lifted upward and released from the prober.
Conventionally, the test head is most commonly attached in a tiltable manner by a hinge provided on the upper surface of the prober (see, for example, Patent Documents 1 and 2 below). In addition, a semiconductor measuring apparatus has been proposed in which a test head is attached to a support bar extending vertically upward from the left and right sides of the prober so that the test head can be moved up and down and rotated back and forth (see Patent Document 3 below).

特開平8−139142号公報JP-A-8-139142 特開2004−172551号公報JP 2004-172551 A 特開2002−158266号公報JP 2002-158266 A

従来は半導体ウェハのサイズが小さく、その上に形成される半導体チップも大型であったことからウェハあたりのチップ数は少なく、したがってプローブピンの本数も少なくてすんだことからテストヘッドは小型かつ軽量であった。しかし近年の半導体製造装置の改良に伴い、チップの集積度は向上し、必要なプローブピンの本数は増え、したがってテストヘッドは大型化・重量化が進んでいる。近年のテストヘッドは、上記パフォーマンスボードやプローブピンのほか、各種の測定冶具や信号処理装置が取り付けられて300〜500kg程度の大重量となっている。   Conventionally, the size of the semiconductor wafer was small and the semiconductor chips formed on it were large, so the number of chips per wafer was small, and therefore the number of probe pins was small, so the test head was small and lightweight. Met. However, along with recent improvements in semiconductor manufacturing equipment, the degree of integration of chips has increased and the number of probe pins required has increased, and therefore the test head has become larger and heavier. In recent years, test heads have a large weight of about 300 to 500 kg because various measuring jigs and signal processing devices are attached in addition to the performance board and probe pins.

このためテストヘッド全体をヒンジまわりに回転させてプローバを起倒させる上記特許文献1,2に記載の方式(以下、ヒンジ方式という場合がある。)の場合、テストヘッドが片持ち状態でヒンジに保持されることから、ヒンジに負荷されるモーメント荷重は過大なものとなって経時的な塑性変形が避けられなくなる。
すなわち、使用開始当初の半導体試験装置においてはテストヘッドの自重撓みやヒンジの弾性変形を見越して、基端側(ヒンジ側)のプローブピンと、先端側(ヒンジから遠い側)のプローブピンとがともにプローブカードの接触端子と好適に当接するようにテストヘッドとプローバとの位置合わせが為されているところ、半導体試験装置を長期間使用することでテストヘッドの先端側が下方に下がっていき、先端側のプローブピンにおいては接触端子への押圧力が過大となり、基端側のプローブピンにおいては浮きが発生して接触不良が生じることとなる。
For this reason, in the case of the method described in Patent Documents 1 and 2 (hereinafter sometimes referred to as the hinge method) in which the entire test head is rotated around the hinge and the prober is tilted, the test head is held in a cantilevered state. Since it is held, the moment load applied to the hinge becomes excessive, and plastic deformation with time is unavoidable.
That is, in the semiconductor test apparatus at the beginning of use, the probe pin on the base end side (hinge side) and the probe pin on the tip end side (the side far from the hinge) are both probed in anticipation of the self-weight deflection of the test head and the elastic deformation of the hinge. When the test head and the prober are aligned so as to contact the contact terminal of the card properly, the tip side of the test head is lowered downward by using the semiconductor test equipment for a long time. In the probe pin, the pressing force to the contact terminal becomes excessive, and the probe pin on the proximal end side is lifted to cause a contact failure.

このようにプローブピンと接触端子との接触不良が生じると、半導体チップとテストヘッドとの間では試験信号や出力信号の授受が正しくおこなわれなくなるため、仮に当該半導体チップが良品であったとしても試験結果は不良と判定され、歩留まりを低下させる要因となる。   If a contact failure between the probe pin and the contact terminal occurs in this way, test signals and output signals are not exchanged correctly between the semiconductor chip and the test head. Therefore, even if the semiconductor chip is a non-defective product The result is determined to be defective, which causes a decrease in yield.

またテストヘッドを起倒させて検査位置と退避位置とを往復させるヒンジ方式の場合は、テストヘッドの移動距離が長くなるため作業性が悪く、検査位置に停止させた際に生じる振動の減衰に長時間を要し、テストヘッドとテスタ本体との間の配線類に断線が生じ、さらに検査位置の再現性に劣るという多くの問題もあった。   In the case of a hinge system in which the test head is tilted up and down to reciprocate between the inspection position and the retreat position, the moving distance of the test head becomes long, so the workability is bad and the vibration generated when the test head is stopped at the inspection position is attenuated. There are many problems that it takes a long time, the wiring between the test head and the tester body is disconnected, and the reproducibility of the inspection position is inferior.

一方、テストヘッドを支持棒に対して昇降させる上記特許文献3に記載の方式(以下、昇降方式という場合がある。)の場合、テストヘッドは左右の支持棒に両持ちされていることから、ヒンジ方式のように一方側が大きく下がるという問題は解消される。
しかし、この種の半導体試験装置が設置される製造工場では帯電防止と耐腐食性のため一般に導電性のビニール床が用いられるところ、大重量のテストヘッドとプローバとからなる上記特許文献3の測定装置では、ビニール床の沈み込み変形が生じた場合に上記の如くプローブピンの接触不良が生じる虞がある。
すなわち上記従来の測定装置におけるテストヘッドは、支持棒に沿った昇降方向(Z方向とする)の位置(TZ)と、支持棒同士を結ぶ左右方向(X方向とする)に伸びる軸まわりのツイスト角度(RX)と、前後方向(Y方向とする)まわりのタンブル角度(RY)については調整可能であるものの、その他のX,Y方向の位置(TX,TY)や、昇降軸まわりのシータ角度(RZ)については調整することができない。このため、ビニール床に沈み込み変形が生じて重力負荷方向と支持棒の伸びる方向とが不一致となり、例えば駆動機構部分が必然的にもつガタによってテストヘッドとプローバとの相対位置が経時的に水平面内方向(X,Y方向)にずれあった場合には、これを微調整することができないという問題が生じる。
On the other hand, in the case of the method described in Patent Document 3 for raising and lowering the test head with respect to the support rod (hereinafter sometimes referred to as the raising and lowering method), the test head is held on both the left and right support rods. The problem that one side is greatly lowered as in the hinge system is solved.
However, in a manufacturing plant where this type of semiconductor test apparatus is installed, a conductive vinyl floor is generally used for antistatic and corrosion resistance. However, the measurement of Patent Document 3 including a heavy test head and a prober is used. In the apparatus, when the vinyl floor sinks and deforms, the contact failure of the probe pin may occur as described above.
That is, the test head in the above conventional measuring apparatus has a twist around the axis extending in the up-and-down direction (Z direction) along the support bar (Z direction) and the left and right direction (X direction) connecting the support bars. Although the angle (RX) and the tumble angle (RY) around the front-rear direction (Y direction) can be adjusted, other X and Y position (TX, TY) and theta angle around the lifting axis (RZ) cannot be adjusted. For this reason, the sinking deformation occurs in the vinyl floor, and the direction of gravity load and the direction in which the support rod extends are inconsistent.For example, the relative position between the test head and the prober is changed over time due to the backlash that the drive mechanism part inevitably has. When there is a shift in the inward direction (X, Y direction), there arises a problem that this cannot be finely adjusted.

なお、プローバの備える可動式ステージは、載置した半導体ウェハをプローブカードに対して相対的に移動させるものであるため、これを駆動したとしても、プローブカードの接触端子に対するプローブピンの位置や向きを調整することはできない。   Since the movable stage provided in the prober moves the mounted semiconductor wafer relative to the probe card, the position and orientation of the probe pin with respect to the contact terminal of the probe card even if it is driven. Cannot be adjusted.

本発明は上記課題を解決するためになされたものであり、すなわち長期間の使用によって装置自体やこれを設置する床面などに不可避的に塑性変形が生じた場合であってもプローブピンとプローブカードとを均一に当接させることのできる半導体試験装置を提供することを目的とする。本発明の他の目的は以下の説明から明らかとなろう。   The present invention has been made to solve the above-described problems, that is, even when a plastic deformation inevitably occurs on the apparatus itself or a floor surface on which the apparatus is installed due to long-term use, the probe pin and the probe card are provided. It is an object of the present invention to provide a semiconductor test apparatus capable of uniformly contacting each other. Other objects of the present invention will become apparent from the following description.

本発明の半導体試験装置は、
(1)複数の半導体チップが形成された半導体ウェハを載置する可動式ステージ、および前記半導体チップと電気的に接続されるプローブカードを備えるプローバと、
前記プローブカードに試験信号を伝達する複数本のプローブピンを備え、前記プローバに対して検査位置または退避位置に駆動されるテストヘッドと、を有し前記半導体チップの電気的特性試験をおこなう半導体試験装置であって、
前記テストヘッドを昇降方向(TZ)、横方向(TX)および縦方向(TY)にそれぞれ並進駆動する位置調整機構と、
前記テストヘッドを昇降軸まわり(RZ)に回転させるシータ回転機構と、
前記テストヘッドを横軸まわり(RX)に回転させるツイスト回転機構と、
前記テストヘッドを縦軸まわり(RY)に回転させるタンブル回転機構と、
を備えることを特徴とする半導体試験装置;
(2)前記横方向に伸びる回転シャフトを備える前記ツイスト回転機構を介して前記テストヘッドを横軸まわりに回転可能に保持するヘッドホルダと、ヘッドホルダに対して縦軸まわりに回転可能に設けられた下部固定フレームと、下部固定フレームに対して昇降軸まわりに回転可能に設けられた上部固定フレームと、からなる保持枠と、
三本以上の支柱を備え、前記保持枠を昇降方向に並進駆動可能に保持するゲートスタンドと、を有し、
前記タンブル回転機構がヘッドホルダと下部固定フレームとの間に、前記シータ回転機構が下部固定フレームと上部固定フレームとの間に、それぞれ設けられていることを特徴とする上記(1)に記載の半導体試験装置;
(3)前記支柱が搭載される少なくとも一対のリニアモーションガイドと、該リニアモーションガイドを設置する分散板とを備え、
前記プローバが分散板の上に設置されるとともに、前記ゲートスタンドがリニアモーションガイドに沿って分散板上を移動可能である上記(2)に記載の半導体試験装置;
を要旨とする。
The semiconductor test apparatus of the present invention is
(1) a prober comprising a movable stage for placing a semiconductor wafer on which a plurality of semiconductor chips are formed, and a probe card electrically connected to the semiconductor chips;
A semiconductor test comprising a plurality of probe pins for transmitting a test signal to the probe card, and a test head driven to an inspection position or a retracted position with respect to the prober to perform an electrical characteristic test of the semiconductor chip A device,
A position adjustment mechanism that translates and drives the test head in the up-and-down direction (TZ), the lateral direction (TX), and the longitudinal direction (TY);
A theta rotation mechanism for rotating the test head around a lifting axis (RZ);
A twist rotation mechanism for rotating the test head about a horizontal axis (RX);
A tumble rotation mechanism for rotating the test head about a vertical axis (RY);
A semiconductor test apparatus comprising:
(2) A head holder that holds the test head rotatably about the horizontal axis via the twist rotation mechanism including the rotation shaft that extends in the horizontal direction, and is provided rotatably about the vertical axis with respect to the head holder. A holding frame comprising: a lower fixed frame; and an upper fixed frame provided so as to be rotatable around a lifting shaft with respect to the lower fixed frame;
A gate stand that includes three or more struts, and holds the holding frame so as to be capable of translational driving in the up and down direction;
(2) The tumble rotation mechanism is provided between the head holder and the lower fixed frame, and the theta rotation mechanism is provided between the lower fixed frame and the upper fixed frame. Semiconductor testing equipment;
(3) comprising at least a pair of linear motion guides on which the columns are mounted, and a dispersion plate on which the linear motion guides are installed,
The semiconductor test apparatus according to (2), wherein the prober is installed on a dispersion plate, and the gate stand is movable on the dispersion plate along a linear motion guide;
Is the gist.

本発明の上記請求項1に記載の半導体試験装置は、そのテストヘッドをプローバに対して直交三軸方向への並進位置と、各軸まわりの回転角度とをそれぞれ個別に調整可能である。これにより、駆動機構部分に代表される装置自体や、これが設置される床面などに塑性変形が生じてテストヘッドとプローバとの相対位置が経時的に変化した場合であっても、かかる経時変化の向きや傾向によらず両者の位置関係を微調整することができる。
このため、半導体試験装置を長期間にわたって使用した場合もプローブピンとプローブカードとの接触不良が生じることがなく、したがって試験異常に起因する半導体チップの不良判定の発生を防止して歩留まりを改善することができる。
なおテストヘッド自体の経時的な塑性変形については、一般にテストヘッドが剛に作製され、また駆動機構部分のように大きな荷重が負荷されるものではないことからこれは無視できる。
In the semiconductor test apparatus according to the first aspect of the present invention, the translation position of the test head in the three orthogonal axes with respect to the prober and the rotation angle around each axis can be individually adjusted. As a result, even if the relative position between the test head and the prober changes over time due to plastic deformation on the device itself represented by the drive mechanism and the floor on which it is installed, this change over time The positional relationship between the two can be finely adjusted regardless of the direction or tendency.
For this reason, even if the semiconductor test apparatus is used for a long period of time, contact failure between the probe pin and the probe card does not occur, and therefore, it is possible to prevent the occurrence of semiconductor chip failure determination due to test abnormality and improve yield. Can do.
Regarding the plastic deformation over time of the test head itself, this is negligible because the test head is generally made rigid and a large load is not applied unlike the drive mechanism portion.

また本発明のさらに具体的な態様である上記請求項2に記載の半導体試験装置は、テストヘッドを保持する保持枠をヘッドホルダ、下部固定フレームおよび上部固定フレームと少なくとも3つの部品より構成し、さらに三本以上の支柱を備えるゲートスタンドによってこれを昇降可能に保持するという二段構成によってテストヘッドを保持している。これにより、テストヘッドを各軸方向に並進移動、および各軸まわりに回転移動させて位置や姿勢の調整をおこなう際に、各方向の動きが互いに干渉することがなく、大きな移動量(ストローク)を確保することができる。   Further, in the semiconductor test apparatus according to claim 2, which is a more specific aspect of the present invention, the holding frame for holding the test head includes a head holder, a lower fixed frame, an upper fixed frame, and at least three parts. Furthermore, the test head is held by a two-stage configuration in which a gate stand having three or more columns is held up and down. As a result, when adjusting the position and orientation by moving the test head in translation in each axial direction and rotating around each axis, the movement in each direction does not interfere with each other, and a large amount of movement (stroke) Can be secured.

また本発明のさらに具体的な態様である上記請求項3に記載の半導体試験装置は、保持枠を介してテストヘッドを保持するゲートスタンドの支柱がリニアモーションガイドに搭載され、かかるリニアモーションガイドおよびプローバが分散板上に設置されていることを特徴とする。これにより、大重量をもつテストヘッドの荷重がプローバを経由することなく分散板に伝えられるため、床面の局所的な沈み込み変形を抑制することができる。すなわち上記特許文献3に記載の測定装置の場合は、ともに大重量のテストヘッドとプローバの自重が合算されてプローバのフットプリントから床面に伝えられるため床面の沈み込み変形は相当量となっていたところ、本発明によれば大重量の両者の自重を分散させることで、プローブピンとプローブカードとの接触不良をもたらす床面の沈み込み変形が抑制される。   Further, in the semiconductor test apparatus according to claim 3, which is a more specific aspect of the present invention, a gate stand column for holding the test head via a holding frame is mounted on the linear motion guide. A prober is installed on a dispersion plate. Thereby, since the load of the test head having a large weight is transmitted to the dispersion plate without passing through the prober, local subduction deformation of the floor surface can be suppressed. In other words, in the case of the measuring apparatus described in Patent Document 3, the weight of the test head and the prober, which are both heavy, are added together and transmitted from the prober footprint to the floor surface. However, according to the present invention, by substituting the heavy weights of both of them, the subsidence deformation of the floor surface that causes poor contact between the probe pin and the probe card is suppressed.

またゲートスタンドをリニアモーションガイドの上に搭載したことにより、テストヘッドのメンテナンスやパフォーマンスボードの取り替えなどの作業をおこなう場合には、小さな力で水平方向にゲートスタンドをスライドさせることでテストヘッドをプローバから容易に引き離すことができ、作業性に優れる。またゲートスタンドを介してリニアモーションガイドに負荷されるテストヘッドの自重がリニアモーションガイドのフットプリントの面積に分散されて分散板に伝えられるため、ゲートスタンドの支柱に集中的に負荷されるテストヘッドの自重を二段階に分散して床面に伝えることができるという効果がある。   In addition, by mounting the gate stand on the linear motion guide, when performing work such as test head maintenance or performance board replacement, the test head can be probed by sliding the gate stand horizontally with a small force. It can be easily pulled away from the surface and has excellent workability. In addition, the weight of the test head loaded on the linear motion guide via the gate stand is distributed over the area of the linear motion guide footprint and transmitted to the dispersion plate. There is an effect that can be distributed to the floor surface by distributing the weight of the two in two stages.

図1は本発明の実施形態にかかる半導体試験装置10の正面図、図2は分散板90上にゲートスタンド20を設置した状態を示す模式的斜視図、図3は保持枠50およびこれに保持されるテストヘッド70を図2の矢印III方向から見た模式的斜視図、図4はタンブル回転機構53などに用いられるスライド機構69の模式的斜視図である。   FIG. 1 is a front view of a semiconductor test apparatus 10 according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a schematic perspective view showing a state in which a gate stand 20 is installed on a dispersion plate 90, and FIG. 2 is a schematic perspective view of the test head 70 viewed from the direction of arrow III in FIG. 2, and FIG. 4 is a schematic perspective view of a slide mechanism 69 used in the tumble rotation mechanism 53 and the like.

本発明の半導体試験装置10により電気的特性試験に供される半導体チップおよびこれが複数形成された半導体ウェハ(いずれも図示せず)は、プローバ80の内部に設けられた可動式ステージ81に搭載される。可動式ステージ81はZ軸まわりの回転(シータ回転)と、XYZ各軸方向のスライドが可能である。本実施形態の半導体試験装置10においては、昇降方向をZ方向、半導体チップの検査位置にテストヘッド70がセットされた状態において当該テストヘッド70を表裏反転するためのツイスト回転シャフト73の伸びる方向をX方向とし、これらに直交する方向をY方向として右手系の直交三軸方向を規定している。   A semiconductor chip to be subjected to an electrical characteristic test by the semiconductor test apparatus 10 of the present invention and a semiconductor wafer (not shown) on which a plurality of the semiconductor chips are formed are mounted on a movable stage 81 provided in the prober 80. The The movable stage 81 can rotate around the Z axis (theta rotation) and slide in the XYZ axis directions. In the semiconductor test apparatus 10 according to the present embodiment, the direction in which the twist rotating shaft 73 extends to reverse the test head 70 in the state where the test head 70 is set at the semiconductor chip inspection position is set to the Z direction. A right-handed orthogonal triaxial direction is defined with the X direction as the Y direction.

プローバ80の上面にはプローブカード82が水平にセットされている。プローブカード82の上面には多数の接触端子(図示せず)が設けられ、各接触端子と半導体チップのパッドとは電気的に接続されている。
プローバ80は、床面100上に置かれた定盤84に設置されている。定盤84が備える複数の支持脚83は高さ調整が可能であり、プローバ80の凡その水平出しが可能である。可動式ステージ81を駆動することでプローブカード82をさらに高精度で水平出しすることができる。なお、定盤84は固定ブラケット85によって分散板90に固定されている。
A probe card 82 is set horizontally on the upper surface of the prober 80. A large number of contact terminals (not shown) are provided on the upper surface of the probe card 82, and each contact terminal and the pad of the semiconductor chip are electrically connected.
The prober 80 is installed on a surface plate 84 placed on the floor surface 100. The plurality of support legs 83 provided on the surface plate 84 can be adjusted in height, and the prober 80 can be roughly leveled. By driving the movable stage 81, the probe card 82 can be leveled with higher accuracy. The surface plate 84 is fixed to the dispersion plate 90 by a fixing bracket 85.

プローバ80に対向するテストヘッド70は内部に回路基板や信号処理装置を備え、全体が略箱型を為している。テストヘッド70の一面にはパフォーマンスボード71が取り付けられている。パフォーマンスボード71からは多数のプローブピン(図示せず)の先端が突出しており、テスタ本体(図示せず)から供給される試験信号が伝達される。半導体チップの検査時には、パフォーマンスボード71とプローブカード82とを対向させた状態で近接させ、プローブピンの先端(下端)とプローブカード82の接触端子とを当接させる。   The test head 70 facing the prober 80 includes a circuit board and a signal processing device inside, and has a substantially box shape as a whole. A performance board 71 is attached to one surface of the test head 70. From the performance board 71, tips of a large number of probe pins (not shown) protrude, and a test signal supplied from a tester body (not shown) is transmitted. When inspecting a semiconductor chip, the performance board 71 and the probe card 82 are brought close to each other so as to face each other, and the tip (lower end) of the probe pin and the contact terminal of the probe card 82 are brought into contact with each other.

本発明の半導体試験装置10は、テストヘッド70とプローバ80とがプローブピンによって電気的に接続される検査位置と、両者が引き離された退避位置とにテストヘッド70を駆動することができる。またかかる駆動に際し、本発明の半導体試験装置10はテストヘッド70を昇降方向(Z方向)の並進駆動(TZ)、横方向(X方向)の並進駆動(TX)、縦方向(Y方向)の並進駆動(TY)と、昇降軸(Z軸)まわりのシータ回転駆動(RZ)と、横軸(X軸)まわりのツイスト回転駆動(RX)と、縦軸(Y軸)まわりのタンブル回転駆動(RY)とがそれぞれ可能であることを特徴とする。
テストヘッド70の各方向の駆動は、それぞれ別々の駆動装置によっておこなってもよく、いずれかの方向の駆動に関しては駆動装置を共用してもよい。
The semiconductor test apparatus 10 of the present invention can drive the test head 70 to an inspection position where the test head 70 and the prober 80 are electrically connected by a probe pin and a retracted position where both are separated. In such driving, the semiconductor test apparatus 10 of the present invention moves the test head 70 in the up-and-down direction (Z direction) translation drive (TZ), the lateral direction (X direction) translation drive (TX), and the longitudinal direction (Y direction). Translation drive (TY), theta rotation drive (RZ) around the lift axis (Z axis), twist rotation drive (RX) around the horizontal axis (X axis), and tumble rotation drive around the vertical axis (Y axis) (RY) is possible.
The driving of the test head 70 in each direction may be performed by separate driving devices, and the driving device may be shared for driving in any direction.

これにより、プローブカード82の位置と向きを固定的にセットしたプローバ80に対して、近年大型化の傾向にあるテストヘッド70を任意の位置および姿勢にて対向させることができる。また経時変形により床面100が局所的にまたは全体に沈み込み変形した場合など、プローバ80のプローブカード82の向きが任意の方向に変化した場合についても、テストヘッド70の姿勢の微調整によってプローブピンと接触端子との良好な導通を維持することができる。   As a result, the test head 70, which tends to increase in size in recent years, can be opposed to the prober 80 in which the position and orientation of the probe card 82 are fixedly set at an arbitrary position and posture. Further, even when the orientation of the probe card 82 of the prober 80 changes in an arbitrary direction, such as when the floor surface 100 sinks locally or entirely due to deformation over time, the probe is adjusted by fine adjustment of the posture of the test head 70. Good conduction between the pin and the contact terminal can be maintained.

本実施形態の半導体試験装置10においては、さらに従来のヒンジ方式のように過大なモーメント荷重を受けて塑性変形をすることがなく、かつ従来の昇降方式のように半導体試験装置の荷重が床面100に対して集中的に負荷されることがなく、さらに上記のようにテストヘッド70を各軸方向に移動、および各軸まわりに回転させることができるよう、具体的にはゲートスタンド20から吊り下げた保持枠50によってテストヘッド70を保持する方式(以下、吊下方式という場合がある。)を採っている。
ただし本発明の半導体試験装置10は以下の実施形態に限られるものではなく、テストヘッド70を検査位置と退避位置との間で上記のように三軸方向の各軸方向および各軸まわりに駆動可能であれば、本実施形態の記載および公知技術より導かれる他の駆動方式を採用してもよい。
In the semiconductor test apparatus 10 of the present embodiment, the load of the semiconductor test apparatus does not undergo plastic deformation due to an excessive moment load unlike the conventional hinge system, and the load of the semiconductor test apparatus is the floor surface unlike the conventional lift system. Specifically, the test head 70 is suspended from the gate stand 20 so that the test head 70 can be moved in each axial direction and rotated around each axis as described above. A method of holding the test head 70 by the lowered holding frame 50 (hereinafter sometimes referred to as a hanging method) is employed.
However, the semiconductor test apparatus 10 of the present invention is not limited to the following embodiment, and the test head 70 is driven in the three axial directions and around each axis as described above between the inspection position and the retracted position. If possible, other driving methods derived from the description of this embodiment and known techniques may be employed.

<ゲートスタンドについて>
ゲートスタンド20は、三本以上の支柱21を備え、後述する保持枠50を昇降方向(Z方向)に並進駆動可能に保持し、自身の重量およびテストヘッド70や保持枠50の自重を、プローバ80を介さずに分散して床面100に伝えるための構造部材である。本実施形態では、ゲートスタンド20は略直方体上のフレーム構造をなし、四本の支柱21によって立設されている。ゲートスタンド20の内側にはプローバ80を収容可能である。
支柱21は鉄系金属などの高剛性材料からなり、横断面L字状などに形成されている。四本の支柱21は、矩形の上部枠22と、水平方向などに伸びる補強部材23で互いに連結されてゲートスタンド20の変形が抑制されている。補強部材23は、図2に示すようにゲートスタンド20の背面側を除く三つの側面に設けられ、正面側は開口している。またゲートスタンド20は、プローバ80が収容される下面側と、保持枠50が吊り下げられる上面側についても開口している。
<About the gate stand>
The gate stand 20 includes three or more columns 21 and holds a holding frame 50, which will be described later, so that it can be driven in translation in the ascending / descending direction (Z direction). It is a structural member for distributing to the floor surface 100 without passing through 80. In the present embodiment, the gate stand 20 has a substantially rectangular parallelepiped frame structure and is erected by four columns 21. A prober 80 can be accommodated inside the gate stand 20.
The support column 21 is made of a highly rigid material such as an iron-based metal, and is formed in a L-shaped cross section. The four struts 21 are connected to each other by a rectangular upper frame 22 and a reinforcing member 23 extending in the horizontal direction or the like, so that deformation of the gate stand 20 is suppressed. As shown in FIG. 2, the reinforcing member 23 is provided on three side surfaces excluding the back side of the gate stand 20, and the front side is open. The gate stand 20 is also open on the lower surface side where the prober 80 is accommodated and on the upper surface side where the holding frame 50 is suspended.

床面100には、Y方向に伸びる一対の分散板90が敷設され、各分散板の上にはそれぞれリニアモーションガイド(LMガイド)91がY方向に伸びて設置されている。リニアモーションガイドは、一方向に伸びるLMレール92に対してボールベアリングを介してLMブロック93を摺動させる構造部品である。
LMガイド91同士の間隔はゲートスタンド20のY方向の幅と一致しており、すなわちゲートスタンド20の四本の支柱21は、一対のLMレール92に装着されたいずれかのLMブロック93に搭載されている。LMブロック93は一本のLMレール92に各二個ずつ設けられて、Y方向正側/負側およびX方向正側/負側にそれぞれ一本ずつ配置された支柱21をそれぞれ個別に搭載してもよく、または一本のLMレール92に各一個ずつ設けられて、Y方向正側または負側の二本の支柱21をそれぞれのLMブロック93に搭載してもよい。
LMレール92はステンレス鋼などの金属材料からなり、高い剛性を有している。このため、支柱21を介してLMレール92に負荷されたテストヘッド70の荷重を、LMレール92のフットプリントに分散することができる。
A pair of dispersion plates 90 extending in the Y direction are laid on the floor surface 100, and linear motion guides (LM guides) 91 are installed on the respective dispersion plates so as to extend in the Y direction. The linear motion guide is a structural component that slides the LM block 93 with respect to the LM rail 92 extending in one direction via a ball bearing.
The interval between the LM guides 91 coincides with the width of the gate stand 20 in the Y direction. That is, the four columns 21 of the gate stand 20 are mounted on any of the LM blocks 93 mounted on the pair of LM rails 92. Has been. Two LM blocks 93 are provided on one LM rail 92, and each column 21 is individually mounted on the positive side / negative side in the Y direction and on the positive side / negative side in the X direction. Alternatively, one LM rail 92 may be provided on each LM rail 92, and the two columns 21 on the Y direction positive side or the negative side may be mounted on each LM block 93.
The LM rail 92 is made of a metal material such as stainless steel and has high rigidity. For this reason, the load of the test head 70 loaded on the LM rail 92 via the support column 21 can be distributed to the footprint of the LM rail 92.

本実施形態においては、LMガイド91をさらに分散板90の上に設置する。分散板90はアルミニウム合金などの軽量かつ高剛性の金属材料からなり、一般に15〜20mm程度の板厚を有している。したがって本実施形態の半導体試験装置10は、支柱21のフットプリントに集中するテストヘッド70の荷重をLMレール92でY方向に分散し、さらに分散板90でX方向に分散して床面100に伝達している。
このように支柱21の設置面積を拡大することで、半導体製造・試験工場の床面100の耐荷重が十分でない場合も半導体試験装置10の設置が可能になる。また地震等が発生して半導体試験装置10に横荷重が負荷された場合も転倒や移動を防止することができる。
In the present embodiment, the LM guide 91 is further installed on the dispersion plate 90. The dispersion plate 90 is made of a lightweight and highly rigid metal material such as an aluminum alloy, and generally has a plate thickness of about 15 to 20 mm. Therefore, the semiconductor test apparatus 10 according to the present embodiment distributes the load of the test head 70 concentrated on the footprint of the support column 21 in the Y direction by the LM rail 92 and further distributes the load in the X direction by the distribution plate 90 on the floor surface 100. Communicating.
Thus, by expanding the installation area of the support column 21, the semiconductor test apparatus 10 can be installed even when the load resistance of the floor surface 100 of the semiconductor manufacturing / testing factory is not sufficient. Further, even when an earthquake or the like occurs and a lateral load is applied to the semiconductor test apparatus 10, it is possible to prevent a fall or movement.

支柱21をそれぞれLMブロック93に搭載することにより、ゲートスタンド20はLMレール92に沿って摺動可能となる。したがってプローバ80が床面100に設置された状態で、テストヘッド70をゲートスタンド20ごとLMレール92に沿って移動させ、両者を近づけたり引き離したりすることができるため、プローバ80とゲートスタンド20との設置順序を問わず、またプローバ80を床面100や分散板90に設置したままの状態であってもゲートスタンド20の改修作業が可能である。本実施形態の場合、ゲートスタンド20の開口した正面側からプローバ80を出入りさせることができるため、プローバ80を床面100および分散板90に取り付けた後、ゲートスタンド20をLMガイド91の背面側においてLMブロック93上に設置し、これを正面方向に摺動させてプローバ80をゲートスタンド20に収容し、テストヘッド70と対向させることができる。またテストヘッド70よりパフォーマンスボード71を交換する際には、ゲートスタンド20を背面側に摺動させてプローバ80と引き離して作業スペースを確保した後にパフォーマンスボード71の交換をおこなえばよい。   The gate stand 20 can slide along the LM rail 92 by mounting the columns 21 on the LM block 93, respectively. Accordingly, since the test head 70 can be moved along the LM rail 92 together with the gate stand 20 with the prober 80 installed on the floor surface 100, the prober 80 and the gate stand 20 can be moved closer to or away from each other. Regardless of the installation order, the gate stand 20 can be repaired even when the prober 80 is still installed on the floor 100 or the dispersion plate 90. In the case of this embodiment, since the prober 80 can be moved in and out from the front side where the gate stand 20 is opened, after the prober 80 is attached to the floor surface 100 and the dispersion plate 90, the gate stand 20 is attached to the back side of the LM guide 91. The prober 80 is placed on the LM block 93 and slid in the front direction so that the prober 80 is accommodated in the gate stand 20 and can be made to face the test head 70. Further, when the performance board 71 is replaced from the test head 70, the performance board 71 may be replaced after the gate stand 20 is slid to the rear side and separated from the prober 80 to secure a work space.

半導体チップの電気的特性試験を実施する際には、試験中にゲートスタンド20が移動することのないよう、LMガイド91に搭載されたゲートスタンド20をスライドさせてテストヘッド70とプローバ80とを略対向させた状態で、支柱21を固定ブラケット95により分散板90と固定するとよい。   When conducting the electrical characteristic test of the semiconductor chip, the gate stand 20 mounted on the LM guide 91 is slid to connect the test head 70 and the prober 80 so that the gate stand 20 does not move during the test. The support column 21 may be fixed to the dispersion plate 90 by the fixing bracket 95 in a substantially opposed state.

<保持枠について>
保持枠50はテストヘッド70を吊下方式にて保持し、保持枠50とテストヘッド70との間で相対的に、または保持枠50とゲートスタンド20との間で相対的に、テストヘッド70を昇降方向(TZ)・横方向(TX)・縦方向(TY)に並進移動させ、またこれを昇降軸まわり(RZ)・横軸まわり(RX)・縦軸まわり(RY)に回転移動させるための構造部材である。
<About the holding frame>
The holding frame 50 holds the test head 70 in a suspended manner, and the test head 70 is relatively positioned between the holding frame 50 and the test head 70 or relatively between the holding frame 50 and the gate stand 20. Is translated in the ascending / descending direction (TZ), transverse direction (TX), and longitudinal direction (TY), and this is rotated around the ascending / descending axis (RZ), transverse axis (RX), and longitudinal axis (RY). It is a structural member for.

本実施形態にて例示される保持枠50はゲートスタンド20に対して昇降方向(Z方向)にのみ移動可能に取り付けられており、テストヘッド70の高さ位置を調整する場合は、保持枠50全体がゲートスタンド20に対して昇降駆動される。かかる駆動方法は特に限定されるものではなく、本実施形態の場合は、ゲートスタンド20に固定されたモータ25により駆動される上部スプロケット26からチェーン27を垂下し、保持枠50より突出するブロック65に該チェーン27を掛合させることで、上記モータ25を所望方向に回転させて保持枠50を昇降させている。本実施形態の場合、保持枠50の四隅にブロック65をそれぞれ設け、チェーン27による保持枠50の引き上げ荷重をバランスさせている。ただし、複数配置された上部スプロケット26を別個のモータで駆動して昇降量をそれぞれ制御する方式とすれば、テストヘッド70の昇降方向(Z方向)の並進駆動のみならず、横軸まわり(RX)のツイスト回転や縦軸まわり(RY)のタンブル回転も可能になる。
またゲートスタンド20には、図1に示すように上部スプロケット26の鉛直下方に下部スプロケット28を取り付け、チェーン27にはエンドレスチェーンを用いてこれを上部および下部スプロケットに掛架している。なお、図2に示すようにゲートスタンド20の上部にはチェーン27を垂下する四個の上部スプロケット26のほか、これらを同軸に駆動する駆動用スプロケット30が横方向(X方向)の左右にそれぞれ設けられている。駆動用スプロケット30は、これに掛架された駆動用チェーン31をモータ25で正逆方向に駆動することで回転する。かかるトルクはY軸方向に伸びるシャフト32により各上部スプロケット26に伝達され、チェーン27の巻回に供される。
The holding frame 50 exemplified in the present embodiment is attached to the gate stand 20 so as to be movable only in the up-and-down direction (Z direction). When adjusting the height position of the test head 70, the holding frame 50 is used. The whole is driven up and down with respect to the gate stand 20. Such a driving method is not particularly limited, and in the case of the present embodiment, a block 65 that hangs down the chain 27 from the upper sprocket 26 driven by the motor 25 fixed to the gate stand 20 and protrudes from the holding frame 50. When the chain 27 is engaged with the motor 27, the motor 25 is rotated in a desired direction to raise and lower the holding frame 50. In the case of this embodiment, blocks 65 are provided at the four corners of the holding frame 50 to balance the lifting load of the holding frame 50 by the chain 27. However, if the plurality of upper sprockets 26 are driven by separate motors to control the amount of elevation, the test head 70 is driven not only in the elevation direction (Z direction) but also around the horizontal axis (RX). ) Twist rotation and tumble rotation around the vertical axis (RY).
Further, as shown in FIG. 1, a lower sprocket 28 is attached to the gate stand 20 vertically below the upper sprocket 26, and an endless chain is used for the chain 27 and is suspended on the upper and lower sprockets. As shown in FIG. 2, in addition to the four upper sprockets 26 that hang down the chain 27, the driving sprockets 30 that drive them coaxially are arranged laterally (in the X direction) on the left and right sides of the gate stand 20, respectively. Is provided. The drive sprocket 30 rotates by driving the drive chain 31 hung on the drive sprocket 30 in the forward and reverse directions by the motor 25. Such torque is transmitted to each upper sprocket 26 by a shaft 32 extending in the Y-axis direction, and used for winding the chain 27.

なお本発明においては保持枠50を昇降駆動する方式は上記に限られず、例えばゲートスタンド20に本体側を固定した油圧シリンダを用いて保持枠50を昇降駆動してもよい。   In the present invention, the method for moving the holding frame 50 up and down is not limited to the above, and the holding frame 50 may be driven up and down using, for example, a hydraulic cylinder whose main body is fixed to the gate stand 20.

一方、フレーム構造をなすゲートスタンド20の内側には、鉛直方向に伸びる四本のLMレール29が設けられている。また保持枠50には上記LMレール29とそれぞれ嵌合する四個のLMブロック66が設けられている。したがって図3に示す保持枠50を、図2に示すゲートスタンド20に対して上方から挿入し、LMブロック66をLMレール29に装着し、チェーン27を上部スプロケット26および下部スプロケット28に掛架することで、保持枠50はゲートスタンド20に対して昇降可能に取り付けられる。換言すると、保持枠50とゲートスタンド20とは、LMレール29およびLMブロック66とからなるLMガイド33によって連結されている。   On the other hand, four LM rails 29 extending in the vertical direction are provided inside the gate stand 20 having the frame structure. In addition, the holding frame 50 is provided with four LM blocks 66 that are respectively fitted to the LM rail 29. Accordingly, the holding frame 50 shown in FIG. 3 is inserted into the gate stand 20 shown in FIG. 2 from above, the LM block 66 is mounted on the LM rail 29, and the chain 27 is hung on the upper sprocket 26 and the lower sprocket 28. Thus, the holding frame 50 is attached to the gate stand 20 so as to be movable up and down. In other words, the holding frame 50 and the gate stand 20 are connected by the LM guide 33 including the LM rail 29 and the LM block 66.

本実施形態においては、テストヘッド70の水平面内(XY面内)の移動および各軸まわりの回転駆動は、保持枠50に対する相対移動によっておこなわれる。保持枠50はゲートスタンド20や床面100に対してこれらの駆動方向については固定されているためである。
本実施形態の保持枠50は、図1に示すようにテストヘッド70の両側から同軸で突出するツイスト回転シャフト73をX軸方向にあわせることで、該シャフトおよびこれを回転駆動するツイスト調整ネジ74とからなるツイスト回転機構51によりテストヘッド70を横軸まわり(RX)に回転させることができる。ツイスト回転機構51はこのほか、ツイスト調整ネジ74に回転トルクを与える動力源としてのハンドル75を備えている。本発明においてはハンドル75にかえて電気式モータを用いてツイスト調整ネジ74にトルクを与える方式としてもよい。
本実施形態においてテストヘッド70のツイスト角度の最大値は190度程度とし、すなわち検査位置ではプローバ80のプローブカード82に対向するよう下側を向くパフォーマンスボード71を、退避位置では天地を反転させて上側を向かせることができるよう構成されている。これによりパフォーマンスボード71の交換作業を容易におこなうことができる。
In the present embodiment, the movement of the test head 70 in the horizontal plane (XY plane) and the rotational drive around each axis are performed by relative movement with respect to the holding frame 50. This is because the holding frame 50 is fixed to the gate stand 20 and the floor surface 100 in the driving direction.
As shown in FIG. 1, the holding frame 50 according to the present embodiment has a twist rotating shaft 73 that projects coaxially from both sides of the test head 70 in the X-axis direction, thereby adjusting the shaft and a twist adjusting screw 74 that rotationally drives the shaft. The test head 70 can be rotated around the horizontal axis (RX) by a twist rotation mechanism 51 comprising: In addition, the twist rotation mechanism 51 is provided with a handle 75 as a power source for applying a rotational torque to the twist adjustment screw 74. In the present invention, a torque may be applied to the twist adjusting screw 74 using an electric motor instead of the handle 75.
In this embodiment, the maximum value of the twist angle of the test head 70 is about 190 degrees, that is, the performance board 71 facing downward to face the probe card 82 of the prober 80 at the inspection position, and the top and bottom at the retracted position are inverted. It is comprised so that it can face the upper side. As a result, the performance board 71 can be easily replaced.

図3に示すように保持枠50は大別して、ツイスト回転シャフト73を回転可能に支持する略コの字状のヘッドホルダ52と、ヘッドホルダ52を鉛直方向に支持する鉛直軸54と、ゲートスタンド20に取り付けられる固定フレーム56とからなる。
さらに固定フレーム56は、LMブロック66が四隅に設けられてゲートスタンド20に対して相対的に回転しない上部固定フレーム561と、上部固定フレーム561に対して昇降軸(Z軸)まわりにのみ回転可能な下部固定フレーム562とからなる。
As shown in FIG. 3, the holding frame 50 is roughly divided into a substantially U-shaped head holder 52 that rotatably supports the twist rotation shaft 73, a vertical shaft 54 that supports the head holder 52 in the vertical direction, and a gate stand. 20 and a fixed frame 56 attached to 20.
Further, the fixed frame 56 can be rotated only around the lifting / lowering axis (Z axis) with respect to the upper fixed frame 561 with the LM blocks 66 provided at the four corners and not rotating relative to the gate stand 20. And a lower fixed frame 562.

鉛直軸54は上部固定フレーム561および下部固定フレーム562に対してともに昇降軸まわりに回転可能であり、ヘッドホルダ52は鉛直軸54、上部固定フレーム561および下部固定フレーム562に対して縦軸(Y軸)まわりに回転可能である。
具体的には、ゲートスタンド20に対してすべての回転自由度が拘束された固定フレーム56の最上部に設けられたガイド板60に対して、鉛直軸54はベアリング(図示せず)を介してその上端541がZ軸まわりに回転可能に取り付けられている。
ヘッドホルダ52にはY軸方向に伸びるタンブル回転シャフト531が回転可能に挿通され、該シャフトが鉛直軸54の下端542に設けられたブロック部543に軸挿されることでヘッドホルダ52と鉛直軸54とがY軸まわりに回転可能となっている。なお、固定フレーム56にZ方向に軸挿された鉛直軸54は、当該軸と交差するY軸まわりには固定フレーム56に対して回転しない。
The vertical shaft 54 can rotate around the lifting shaft with respect to the upper fixed frame 561 and the lower fixed frame 562, and the head holder 52 can move vertically with respect to the vertical shaft 54, the upper fixed frame 561, and the lower fixed frame 562 (Y Axis) can be rotated.
Specifically, with respect to the guide plate 60 provided on the uppermost part of the fixed frame 56 in which all the degrees of freedom of rotation are constrained with respect to the gate stand 20, the vertical shaft 54 is connected via a bearing (not shown). The upper end 541 is attached to be rotatable around the Z axis.
A tumble rotating shaft 531 extending in the Y-axis direction is rotatably inserted into the head holder 52, and the shaft is inserted into a block portion 543 provided at the lower end 542 of the vertical shaft 54, whereby the head holder 52 and the vertical shaft 54 are inserted. Are rotatable around the Y axis. Note that the vertical shaft 54 inserted in the Z direction on the fixed frame 56 does not rotate with respect to the fixed frame 56 around the Y axis intersecting the axis.

保持枠50は、ヘッドホルダ52およびテストヘッド70を下部固定フレーム562に対してY軸まわりに回転駆動する手段としてのタンブル回転機構53と、上部固定フレーム561に対して下部固定フレーム562を昇降軸まわりに回転駆動する手段としてのシータ回転機構55とを備えている。
また保持枠50は、ガイド板60とともに鉛直軸54を固定フレーム56に対して水平面内で駆動する手段として、これらをX方向に駆動する横方向駆動機構57と、Y方向に駆動する縦方向駆動機構59とを備えている。これらの機能について以下説明する。
The holding frame 50 includes a tumble rotation mechanism 53 as means for rotating the head holder 52 and the test head 70 around the Y axis with respect to the lower fixed frame 562, and an elevating shaft for the lower fixed frame 562 with respect to the upper fixed frame 561. And a theta rotation mechanism 55 as a means for rotationally driving around.
The holding frame 50 is a means for driving the vertical shaft 54 together with the guide plate 60 in a horizontal plane with respect to the fixed frame 56, and a lateral drive mechanism 57 for driving them in the X direction, and a vertical drive for driving them in the Y direction. And a mechanism 59. These functions will be described below.

タンブル回転機構53は、ヘッドホルダ52に対してY方向に挿通されたタンブル回転シャフト531と、該シャフトと交差する方向(本実施形態ではX方向)にオフセットした位置において、該シャフトの挿通方向(同Y方向)およびオフセット方向(同X方向)に対してともに交差する方向(同Z方向)にネジ軸が伸びるタンブル調整ネジ532と、該調整ネジにトルクを与えるハンドル533とを備えている。タンブル調整ネジ532は下部固定フレーム562とヘッドホルダ52との間に架け渡された押しネジであり、これを回転させることで下部固定フレーム562とヘッドホルダ52との相対距離が変動する。かかる相対距離の変動がタンブル回転シャフト531からオフセットした位置で生じることにより、ヘッドホルダ52は下部固定フレーム562(固定フレーム56)に対してタンブル回転シャフト531まわり(RY)に回転する。   The tumble rotation mechanism 53 includes a tumble rotation shaft 531 inserted in the Y direction with respect to the head holder 52, and a shaft insertion direction (X direction in the present embodiment) that is offset in the direction intersecting the shaft (X direction in the present embodiment). The tumble adjustment screw 532 has a screw shaft extending in a direction (Z direction) that intersects the offset direction (X direction) and a handle 533 that applies torque to the adjustment screw. The tumble adjustment screw 532 is a push screw that spans between the lower fixed frame 562 and the head holder 52, and the relative distance between the lower fixed frame 562 and the head holder 52 varies by rotating the tumble adjustment screw 532. When the relative distance varies at a position offset from the tumble rotation shaft 531, the head holder 52 rotates around the tumble rotation shaft 531 (RY) with respect to the lower fixed frame 562 (fixed frame 56).

図4はタンブル回転機構53の下端部に用いられるスライド機構69の模式的斜視図である。スライド機構69は、タンブル調整ネジ532に平行する二本の回り止めシャフト534と、タンブル調整ネジ532に沿って昇降駆動されるスライドブロック535とからなる。
スライドブロック535には、回り止めシャフト534に沿って摺動するスライドブッシュ536が装着された通孔と、タンブル調整ネジ532と螺合するネジ孔とが設けられている。これにより、タンブル調整ネジ532を回転させた場合には、タンブル回転機構53の全体がタンブル調整ネジ532まわりに回転してしまうことなくスライドブロック535がタンブル調整ネジ532に沿って昇降する。
FIG. 4 is a schematic perspective view of a slide mechanism 69 used at the lower end portion of the tumble rotation mechanism 53. The slide mechanism 69 includes two detent shafts 534 parallel to the tumble adjustment screw 532 and a slide block 535 that is driven up and down along the tumble adjustment screw 532.
The slide block 535 is provided with a through hole in which a slide bush 536 that slides along the detent shaft 534 is mounted and a screw hole that is screwed with the tumble adjustment screw 532. Thereby, when the tumble adjustment screw 532 is rotated, the slide block 535 moves up and down along the tumble adjustment screw 532 without the whole tumble rotation mechanism 53 rotating around the tumble adjustment screw 532.

一方、タンブル回転機構53のベース板537(図4では上部図示省略)にはY方向に伸びる長孔538がスライドブロック535の背面に設けられており、スライドブロック535からはベース板537の長孔538およびヘッドホルダ52を貫通して駆動片539が背面側に突出している。
ヘッドホルダ52に設けられた挿入孔(図示せず)は、昇降方向には駆動片539の外径と同等に形成されている。かかる挿入孔は、X軸方向に伸びる長孔として形成してもよい。
これに対し、ベース板537に設けられる長孔538は昇降方向に伸びることから、換言すると駆動片539はベース板537に対して昇降方向に遊嵌されている。
On the other hand, a long hole 538 extending in the Y direction is provided on the back surface of the slide block 535 in the base plate 537 (not shown in FIG. 4) of the tumble rotation mechanism 53, and the long hole of the base plate 537 extends from the slide block 535. A driving piece 539 protrudes to the back side through 538 and the head holder 52.
An insertion hole (not shown) provided in the head holder 52 is formed to be equal to the outer diameter of the drive piece 539 in the ascending / descending direction. Such an insertion hole may be formed as a long hole extending in the X-axis direction.
On the other hand, the long hole 538 provided in the base plate 537 extends in the up-and-down direction. In other words, the drive piece 539 is loosely fitted to the base plate 537 in the up-and-down direction.

したがってタンブル調整ネジ532を回転させてスライドブロック535を上昇させることで駆動片539はヘッドホルダ52に対してZ方向に荷重を与え、これによりヘッドホルダ52をタンブル回転シャフト531まわりに回転させることができる。   Accordingly, by rotating the tumble adjustment screw 532 and raising the slide block 535, the drive piece 539 applies a load in the Z direction to the head holder 52, and thereby the head holder 52 can be rotated around the tumble rotation shaft 531. it can.

なお駆動片539には抜け留めとしてのフランジ部540が背面側の先端に設けられている。フランジ部540は駆動片539の背面側先端を拡径して一体に成形してもよく、またはラジアルベアリングを駆動片539の背面側先端に装着して設けてもよい。   The drive piece 539 is provided with a flange portion 540 as a retaining portion at the rear end. The flange portion 540 may be formed integrally by expanding the diameter of the rear end of the drive piece 539, or may be provided with a radial bearing attached to the rear end of the drive piece 539.

シータ回転機構55は、上部固定フレーム561と下部固定フレーム562とをZ軸まわりに互いに回転可能に連結する鉛直軸54と、Y軸方向に伸びるシータ調整ネジ551とからなり、シータ調整ネジ551を押しネジとして機能させることで上部固定フレーム561と下部固定フレーム562とを相対的にZ軸まわり(RZ)に回転させる機構である。   The theta rotation mechanism 55 includes a vertical shaft 54 that connects the upper fixed frame 561 and the lower fixed frame 562 so as to be rotatable around the Z axis, and a theta adjustment screw 551 that extends in the Y axis direction. This is a mechanism for rotating the upper fixed frame 561 and the lower fixed frame 562 relatively around the Z axis (RZ) by functioning as a push screw.

本実施形態のシータ回転機構55は、タンブル回転機構53と同様に構成されたスライド機構69を備えている。すなわち上部固定フレーム561に対してY方向を向けて取り付けられたシータ調整ネジ551にはスライド機構69が螺合されており、ハンドル552を回すなどしてシータ調整ネジ551を回転させることでスライド機構69がY方向にスライドする。また下部固定フレーム562に穿設された挿入孔を通じて、該スライド機構69からは下方に向けて駆動片が突出して設けられ、スライド機構69のスライドに伴って該駆動片が下部固定フレーム562に対してY方向に荷重を与える。鉛直軸54とシータ調整ネジ551とはX方向に互いにオフセットして設けられていることから、かかるY方向の荷重によって上部固定フレーム561と下部固定フレーム562とは互いにZ軸まわりに回転する。   The theta rotation mechanism 55 of this embodiment includes a slide mechanism 69 configured similarly to the tumble rotation mechanism 53. That is, a slide mechanism 69 is screwed to the theta adjustment screw 551 attached to the upper fixed frame 561 in the Y direction, and the slide mechanism 69 is rotated by rotating the handle 552 or the like to rotate the theta adjustment screw 551. 69 slides in the Y direction. Further, a drive piece projects downward from the slide mechanism 69 through an insertion hole formed in the lower fixed frame 562, and the drive piece moves relative to the lower fixed frame 562 as the slide mechanism 69 slides. Apply a load in the Y direction. Since the vertical shaft 54 and the theta adjustment screw 551 are offset from each other in the X direction, the upper fixed frame 561 and the lower fixed frame 562 rotate around the Z axis with each other in the Y direction.

本発明の半導体試験装置10においては、タンブル調整やシータ調整の最大角度は少なくとも4度程度としておくとよい。これにより、経時的な床面100の沈み込み変形や半導体試験装置10の撓み変形などが生じた場合も、テストヘッド70をタンブル回転、シータ回転、およびツイスト回転させて姿勢を微調整することにより、テストヘッド70より突出するプローブピンとプローブカード82の接触端子との良好な接触を維持することができる。   In the semiconductor test apparatus 10 of the present invention, the maximum angle of tumble adjustment or theta adjustment is preferably at least about 4 degrees. As a result, even when subsidence deformation of the floor surface 100 or bending deformation of the semiconductor test apparatus 10 occurs over time, the posture is finely adjusted by rotating the test head 70 by tumble rotation, theta rotation, and twist rotation. Thus, good contact between the probe pins protruding from the test head 70 and the contact terminals of the probe card 82 can be maintained.

横方向駆動機構57は、横方向(X方向)に伸びるX軸移動ネジ571と、当該方向に伸びるLMガイド572とから構成され、X軸移動ネジ571を押しネジとして機能させることで上部固定フレーム561に対してガイド板60とともに鉛直軸54をX方向に並進駆動する機構である。X軸移動ネジ571は鉛直軸54に対してY軸方向にオフセットせずに設けられ、横方向駆動機構57の駆動によって鉛直軸54が昇降軸まわりにトルクを受けないようにしている。
横方向駆動機構57もまたタンブル回転機構53と同様に構成されたスライド機構69を備えている。すなわち上部固定フレーム561に対してX方向を向けて取り付けられたX軸移動ネジ571にはスライド機構69が螺合されており、ハンドル573を回すなどしてX軸移動ネジ571を回転させることでスライド機構69がX方向にスライドし、ガイド板60に対して当該方向の荷重を与えることができる。
上部固定フレーム561にはLMガイド572のLMブロック(図示せず)が固定され、ガイド板60の下面にはLMレール574が設けられている。これにより、X軸移動ネジ571によってX方向に荷重が付与されたガイド板60は、荷重方向に滑らかに摺動する。またガイド板60には横方向に伸びる長孔61が穿設され、長孔61には上部固定フレーム561から突出するガイドピン62が挿通されて横方向のスライドをガイドしている。
The lateral drive mechanism 57 includes an X-axis moving screw 571 extending in the lateral direction (X direction) and an LM guide 572 extending in the direction, and the X-axis moving screw 571 functions as a push screw so as to function as an upper fixed frame. This is a mechanism that translates the vertical shaft 54 in the X direction together with the guide plate 60 with respect to 561. The X-axis moving screw 571 is provided without being offset in the Y-axis direction with respect to the vertical shaft 54, so that the vertical shaft 54 does not receive torque around the lifting shaft by driving of the lateral drive mechanism 57.
The lateral drive mechanism 57 is also provided with a slide mechanism 69 configured similarly to the tumble rotation mechanism 53. That is, the slide mechanism 69 is screwed to the X-axis moving screw 571 attached to the upper fixed frame 561 in the X direction, and the X-axis moving screw 571 is rotated by rotating the handle 573 or the like. The slide mechanism 69 slides in the X direction, and a load in that direction can be applied to the guide plate 60.
An LM block (not shown) of an LM guide 572 is fixed to the upper fixed frame 561, and an LM rail 574 is provided on the lower surface of the guide plate 60. Thereby, the guide plate 60 to which the load is applied in the X direction by the X-axis moving screw 571 slides smoothly in the load direction. A long hole 61 extending in the lateral direction is formed in the guide plate 60, and a guide pin 62 protruding from the upper fixing frame 561 is inserted into the long hole 61 to guide the horizontal slide.

縦方向駆動機構59(図1には図示省略、図3を参照)は、縦方向(Y方向)に伸びるY軸移動ネジ591と、当該方向に伸びるLMガイド592とから構成され、Y軸移動ネジ591を押しネジとして機能させることで上部固定フレーム561に対してガイド板60とともに鉛直軸54をY方向に並進駆動する機構である。Y軸移動ネジ591は鉛直軸54に対してX方向にオフセットせずに設けられている。
縦方向駆動機構59は横方向駆動機構57と同様に構成され、上部固定フレーム561に対してY方向を向けて取り付けられたY軸移動ネジ591を、ハンドル593を回すなどして回転させることで、Y軸移動ネジ591に螺合されたスライド機構69をY方向にスライドさせ、ガイド板60に対して当該方向の荷重を与える。
上部固定フレーム561にはLMガイド592のLMブロック(図示せず)が固定され、ガイド板60の下面にはLMレール594が、X方向のLMレール574とは捩れの位置に設けられている。これにより、Y軸移動ネジ591によってY方向に荷重が付与されたガイド板60は、荷重方向に滑らかに摺動する。
ガイド板60には縦方向に伸びる長孔63が穿設され、長孔63には上部固定フレーム561から突出するガイドピン64が挿通されて縦方向のスライドをガイドしている。
The vertical drive mechanism 59 (not shown in FIG. 1, refer to FIG. 3) is composed of a Y-axis moving screw 591 extending in the vertical direction (Y direction) and an LM guide 592 extending in the direction, and moving in the Y-axis direction. This is a mechanism that translates the vertical shaft 54 in the Y direction together with the guide plate 60 relative to the upper fixed frame 561 by causing the screw 591 to function as a push screw. The Y-axis moving screw 591 is provided without being offset in the X direction with respect to the vertical shaft 54.
The vertical drive mechanism 59 is configured in the same manner as the horizontal drive mechanism 57, and the Y-axis moving screw 591 attached in the Y direction with respect to the upper fixed frame 561 is rotated by rotating the handle 593 or the like. The slide mechanism 69 screwed to the Y-axis moving screw 591 is slid in the Y direction, and a load in that direction is applied to the guide plate 60.
An LM block (not shown) of an LM guide 592 is fixed to the upper fixed frame 561, and an LM rail 594 is provided on the lower surface of the guide plate 60 at a position twisted with respect to the LM rail 574 in the X direction. As a result, the guide plate 60 to which the load is applied in the Y direction by the Y-axis moving screw 591 slides smoothly in the load direction.
A long hole 63 extending in the vertical direction is formed in the guide plate 60, and a guide pin 64 protruding from the upper fixed frame 561 is inserted into the long hole 63 to guide the vertical slide.

なお、上記したシータ調整ネジ551とY軸移動ネジ591は、ともに鉛直軸54に対して縦方向(Y方向)への荷重を与えるものである。したがって本発明においてはY軸移動ネジ591を設けず、シータ調整ネジ551の駆動によって鉛直軸54およびテストヘッド70をY方向に駆動してもよい。かかるY方向への駆動は、下部固定フレーム562と上部固定フレーム561との間の鉛直軸54まわりの回転を拘束した状態で行うとよい。   The theta adjusting screw 551 and the Y-axis moving screw 591 both apply a load in the vertical direction (Y direction) to the vertical shaft 54. Therefore, in the present invention, the Y axis moving screw 591 may not be provided, and the vertical shaft 54 and the test head 70 may be driven in the Y direction by driving the theta adjustment screw 551. The driving in the Y direction may be performed in a state where the rotation around the vertical axis 54 between the lower fixed frame 562 and the upper fixed frame 561 is constrained.

<その他の構成部材について>
図2に示すように、Y方向に伸びる二枚の分散板90は、連結板94によって結合されている。連結板94は鉄などの高剛性の金属材料からなり、分散板90同士が互いにずれあうことを防止している。このように分散板90を複数枚に分割することで可搬性を高めつつ、LMガイド91を各分散板90に搭載することで半導体試験装置10の荷重分散が図られている。
<About other components>
As shown in FIG. 2, the two dispersion plates 90 extending in the Y direction are connected by a connecting plate 94. The connecting plate 94 is made of a highly rigid metal material such as iron, and prevents the dispersion plates 90 from shifting from each other. Thus, the load distribution of the semiconductor test apparatus 10 is achieved by mounting the LM guide 91 on each dispersion plate 90 while improving the portability by dividing the dispersion plate 90 into a plurality of sheets.

ゲートスタンド20の支柱21には、その下端より外側にオフセットして車輪211が設けられている。車輪211を備えることで半導体製造・試験工場へのゲートスタンド20の搬入が容易であり、かつこれが外側にオフセットしていることで支柱21の下端をLMブロック93に搭載する作業を阻害しない。支柱21をLMブロック93に搭載した状態で車輪211は分散板90から僅かに中空に浮いており、ゲートスタンド20の下端は車輪211ではなくLMブロック93となる。これによりゲートスタンド20およびこれに吊下げられるテストヘッド70の水平度が高精度で調整可能となる。   The column 21 of the gate stand 20 is provided with wheels 211 that are offset outward from the lower end thereof. By providing the wheels 211, it is easy to carry the gate stand 20 into the semiconductor manufacturing / testing factory, and since this is offset to the outside, the work of mounting the lower end of the column 21 on the LM block 93 is not hindered. With the column 21 mounted on the LM block 93, the wheel 211 floats slightly hollow from the dispersion plate 90, and the lower end of the gate stand 20 is not the wheel 211 but the LM block 93. As a result, the levelness of the gate stand 20 and the test head 70 suspended from the gate stand 20 can be adjusted with high accuracy.

以上説明した本実施形態の半導体試験装置10によれば、テストヘッド70が保持枠50およびゲートスタンド20によって所定の姿勢および水平面内位置を保ったまま吊下方式によって保持されるため、半導体チップの電気的特性試験を実施する検査位置にテストヘッド70をセットする際には、テストヘッド70の振動減衰を待つことなくこれをプローバ80に向けて昇降方向に下降させるだけでプローブピンを接続端子に当接させることができる。   According to the semiconductor test apparatus 10 of the present embodiment described above, since the test head 70 is held by the holding frame 50 and the gate stand 20 by the suspension method while maintaining a predetermined posture and a horizontal plane position, When setting the test head 70 to the inspection position where the electrical characteristic test is to be performed, the probe pin can be used as a connection terminal by simply lowering the test head 70 toward the prober 80 in the up-and-down direction without waiting for vibration attenuation of the test head 70. It can be made to contact.

またテストヘッド70の昇降方向の停止位置を任意で設定できるため、プローバ80とテストヘッド70との間に冶具等を挟みこんだ状態で半導体チップの試験を行う場合も、当該冶具等の厚さ相当分だけテストヘッド70の降下位置を上方にずらして設定することで、テストヘッド70の自重をプローバ80に負荷することがない。したがって任意厚さの冶具等を用いた場合もプローバ80の撓み変形に起因するプローブピンと接続端子の接触不良の発生を抑えることが可能である。   In addition, since the stop position of the test head 70 in the ascending / descending direction can be arbitrarily set, the thickness of the jig or the like can also be used when testing a semiconductor chip with a jig or the like sandwiched between the prober 80 and the test head 70. By setting the lowering position of the test head 70 upward by a corresponding amount, the weight of the test head 70 is not loaded on the prober 80. Therefore, even when a jig with an arbitrary thickness is used, it is possible to suppress the occurrence of poor contact between the probe pin and the connection terminal due to the bending deformation of the prober 80.

本発明の実施形態にかかる半導体試験装置10の正面図である。1 is a front view of a semiconductor test apparatus 10 according to an embodiment of the present invention. 分散板90上にゲートスタンド20を設置した状態を示す模式的斜視図である。4 is a schematic perspective view showing a state where a gate stand 20 is installed on a dispersion plate 90. FIG. 保持枠50およびこれに保持されるテストヘッド70を図2の矢印III方向から見た模式的斜視図である。FIG. 3 is a schematic perspective view of a holding frame 50 and a test head 70 held by the holding frame 50 as viewed from the direction of arrow III in FIG. 2. スライド機構69の模式的斜視図である。3 is a schematic perspective view of a slide mechanism 69. FIG.

符号の説明Explanation of symbols

10 半導体試験装置
20 ゲートスタンド
21 支柱
50 保持枠
51 ツイスト回転機構
52 ヘッドホルダ
53 タンブル回転機構
54 鉛直軸
55 シータ回転機構
56 固定フレーム
561 上部固定フレーム
562 下部固定フレーム
57 横方向駆動機構
59 縦方向駆動機構
60 ガイド板
69 スライド機構
70 テストヘッド
71 パフォーマンスボード
73 ツイスト回転シャフト
74 ツイスト調整ネジ
80 プローバ
82 プローブカード
90 分散板
100 床面
33,91,572,592 リニアモーションガイド
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Semiconductor test apparatus 20 Gate stand 21 Support | pillar 50 Holding frame 51 Twist rotation mechanism 52 Head holder 53 Tumble rotation mechanism 54 Vertical axis 55 Theta rotation mechanism 56 Fixed frame 561 Upper fixed frame 562 Lower fixed frame 57 Lateral drive mechanism 59 Vertical drive Mechanism 60 Guide plate 69 Slide mechanism 70 Test head 71 Performance board 73 Twist rotation shaft 74 Twist adjustment screw 80 Prober 82 Probe card 90 Dispersion plate 100 Floor 33, 91, 572, 592 Linear motion guide

Claims (3)

複数の半導体チップが形成された半導体ウェハを載置する可動式ステージ、および前記半導体チップと電気的に接続されるプローブカードを備えるプローバと、
前記プローブカードに試験信号を伝達する複数本のプローブピンを備え、前記プローバに対して検査位置または退避位置に駆動されるテストヘッドと、を有し前記半導体チップの電気的特性試験をおこなう半導体試験装置であって、
前記テストヘッドを昇降方向(TZ)、横方向(TX)および縦方向(TY)にそれぞれ並進駆動する位置調整機構と、
前記テストヘッドを昇降軸まわり(RZ)に回転させるシータ回転機構と、
前記テストヘッドを横軸まわり(RX)に回転させるツイスト回転機構と、
前記テストヘッドを縦軸まわり(RY)に回転させるタンブル回転機構と、
を備えることを特徴とする半導体試験装置。
A movable stage for placing a semiconductor wafer on which a plurality of semiconductor chips are formed, and a prober comprising a probe card electrically connected to the semiconductor chips;
A semiconductor test comprising a plurality of probe pins for transmitting a test signal to the probe card, and a test head driven to an inspection position or a retracted position with respect to the prober to perform an electrical characteristic test of the semiconductor chip A device,
A position adjustment mechanism that translates and drives the test head in the up-and-down direction (TZ), the lateral direction (TX), and the longitudinal direction (TY);
A theta rotation mechanism for rotating the test head around a lifting axis (RZ);
A twist rotation mechanism for rotating the test head about a horizontal axis (RX);
A tumble rotation mechanism for rotating the test head about a vertical axis (RY);
A semiconductor test apparatus comprising:
前記横方向に伸びる回転シャフトを備える前記ツイスト回転機構を介して前記テストヘッドを横軸まわりに回転可能に保持するヘッドホルダと、ヘッドホルダに対して縦軸まわりに回転可能に設けられた下部固定フレームと、下部固定フレームに対して昇降軸まわりに回転可能に設けられた上部固定フレームと、からなる保持枠と、
三本以上の支柱を備え、前記保持枠を昇降方向に並進駆動可能に保持するゲートスタンドと、を有し、
前記タンブル回転機構がヘッドホルダと下部固定フレームとの間に、前記シータ回転機構が下部固定フレームと上部固定フレームとの間に、それぞれ設けられていることを特徴とする請求項1に記載の半導体試験装置。
A head holder that holds the test head rotatably about a horizontal axis via the twist rotation mechanism that includes a rotation shaft that extends in the horizontal direction, and a lower fixing that is rotatably provided about the vertical axis with respect to the head holder. A holding frame comprising a frame, and an upper fixed frame that is provided so as to be rotatable around a lifting shaft with respect to the lower fixed frame;
A gate stand that includes three or more struts, and holds the holding frame so as to be capable of translational driving in the up and down direction;
2. The semiconductor according to claim 1, wherein the tumble rotation mechanism is provided between a head holder and a lower fixed frame, and the theta rotation mechanism is provided between a lower fixed frame and an upper fixed frame. Test equipment.
前記支柱が搭載される少なくとも一対のリニアモーションガイドと、該リニアモーションガイドを設置する分散板とを備え、
前記プローバが分散板の上に設置されるとともに、前記ゲートスタンドがリニアモーションガイドに沿って分散板上を移動可能である請求項2に記載の半導体試験装置。
Comprising at least a pair of linear motion guides on which the columns are mounted, and a dispersion plate on which the linear motion guides are installed,
The semiconductor test apparatus according to claim 2, wherein the prober is installed on a dispersion plate, and the gate stand is movable on the dispersion plate along a linear motion guide.
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