JP2008310097A - 位相差膜の形成方法、液晶装置及びその製造方法 - Google Patents
位相差膜の形成方法、液晶装置及びその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008310097A JP2008310097A JP2007158350A JP2007158350A JP2008310097A JP 2008310097 A JP2008310097 A JP 2008310097A JP 2007158350 A JP2007158350 A JP 2007158350A JP 2007158350 A JP2007158350 A JP 2007158350A JP 2008310097 A JP2008310097 A JP 2008310097A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- liquid crystal
- region
- substrate
- retardation film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Images
Landscapes
- Optical Filters (AREA)
- Polarising Elements (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
【課題】高い耐熱性を有する位相差膜を形成する。
【解決手段】基板10上に配向膜材料を塗布する工程と、配向膜材料に熱処理、及び配向処理を施して第1の配向膜13を形成する工程と、第1の配向膜13上に位相差膜材料を含む液体材料を塗布して異方性膜14を形成する工程と、異方性膜14上にネガ型感光性樹脂層16を形成する工程と、ネガ型感光性樹脂層16を介して異方性膜14に露光光50を照射して、ネガ型感光性樹脂層16と異方性膜14とを同時に硬化させる工程と、を含む。
【選択図】図2
【解決手段】基板10上に配向膜材料を塗布する工程と、配向膜材料に熱処理、及び配向処理を施して第1の配向膜13を形成する工程と、第1の配向膜13上に位相差膜材料を含む液体材料を塗布して異方性膜14を形成する工程と、異方性膜14上にネガ型感光性樹脂層16を形成する工程と、ネガ型感光性樹脂層16を介して異方性膜14に露光光50を照射して、ネガ型感光性樹脂層16と異方性膜14とを同時に硬化させる工程と、を含む。
【選択図】図2
Description
本発明は、位相差膜の形成方法、液晶装置及びその製造方法に関する。
従来から、明所では通常の反射型の液晶装置と同様に外光を利用し、暗所では通常の透過型の液晶表示装置と同様に内部の光源(バックライト)により表示を視認可能にした半透過反射型液晶装置が提案されている。表示領域内にマトリクス状に配置された各々の画素が透過表示を行う透過表示領域と反射表示を行う反射表示領域とを有する形式が一般的であり、周囲の明るさに応じて反射表示または透過表示のいずれかの表示方式に切り替えることにより、消費電力を低減しつつ明瞭な表示を行うことができる。かかる半透過反射型液晶装置においては、反射表示領域で暗表示を可能にすることと透過表示領域での光量(明るさ)の確保を両立するため、反射表示領域にのみ位相差膜を配置する方法が提案されている(特許文献1及び2参照)。基板上全面に、配向膜層を介して形成した高分子液晶層を紫外線露光等により処理して位相差膜とした後、フォトレジスト(感光性樹脂)層を形成し、フォトリソグラフィー法により、上記位相差膜をパターニングして反射表示領域にのみ残している。
しかし、上記手法による位相差膜の形成においては、露光雰囲気中に酸素が存在すると、これにより光重合開始剤が不活性化されて重合不足となり、位相差膜の耐性、特に耐熱性が低下し得るという課題があった。
本発明は、上記課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。
[適用例1]基板上に配向膜材料を塗布する工程と、上記配向膜材料に熱処理、及び配向処理を施して配向膜を形成する工程と、上記配向膜上に位相差膜材料を含む液体材料を塗布して異方性膜を形成する工程と、上記異方性膜上にネガ型感光性樹脂層を形成する工程と、上記ネガ型感光性樹脂層と上記異方性膜とに露光光を照射して、上記ネガ型感光性樹脂層と上記異方性膜とを同時に硬化させる工程と、を含むことを特徴とする位相差膜の形成方法。
かかる方法によれば、上記ネガ型感光性樹脂層により酸素を遮断した状態で上記異方性膜に露光光を照射して硬化させられるので、高品質の位相差膜を得ることができる。また、該位相差膜を保護する保護膜も同時に形成できるので次工程を連続的に実施でき、工程数も低減できる。
[適用例2]位相差膜が形成される第1領域と上記第1領域以外の領域である第2領域とに区画される基板に配向膜材料を塗布する工程と、上記配向膜材料に熱処理及び配向処理を施して配向膜を形成する工程と、上記配向膜上に位相差膜材料を含む液体材料を塗布して異方性膜を形成する工程と、上記異方性膜上にネガ型感光性樹脂層を形成する工程と、上記第1領域にフォトマスクを介して露光光を照射して、上記第1領域に設けられた上記ネガ型感光性樹脂層と上記異方性膜とを同時に硬化させる工程と、上記基板を加熱して、上記第2領域に設けられた上記異方性膜を等方性膜としつつ上記第2領域に露光光を照射して、上記第2領域に設けられた上記ネガ型感光性樹脂層と上記等方性膜とを同時に硬化させる工程と、を含むことを特徴とする位相差膜の形成方法。
位相差膜材料を配向させて得られる異方性膜を露光により硬化すると位相差膜となる。したがって、かかる方法によれば、基板上の任意の領域に、高品質の位相差膜及び該位相差膜を保護する保護膜を形成することができる。
[適用例3]上記の位相差膜の形成方法であって、上記基板上には、カラーフィルタ層が形成されてなることを特徴とする位相差膜の形成方法。
かかる方法によれば、カラーフィルタ層上に高品質の位相差膜を形成できるので、カラー表示が可能な液晶装置に高品質の位相差膜を適用できる。
[適用例4]一対の基板間に液晶層を狭持する液晶装置であって、上記一対の基板のうち一方の基板に上記の位相差膜の形成方法で形成された位相差膜を備える液晶装置。
かかる構成によれば、品質が向上した位相差膜を用いることができるので、表示品質等が向上した液晶装置を得ることができる。
[適用例5]互いに対向配置された第1の基板と第2の基板との間に液晶層が狭持されており、透過表示を行う透過表示領域と反射表示を行う反射表示領域とを備える複数の画素を有する液晶装置であって、上記第1の基板は適用例2に記載の位相差膜の形成方法で形成された位相差膜を備えており、上記反射表示領域と上記位相差膜とが互いに重なることを特徴とする液晶装置。
かかる構成によれば、品質が向上した位相差膜を上記反射表示領域にのみ配置できるため、透過表示と反射表示の双方の表示性能を向上できる。
[適用例6]一対の基板間に液晶層を狭持し、各々が透過表示を行う透過表示領域と反射表示を行う反射表示領域とを備える複数の画素を表示領域内に有する液晶装置の製造方法であって、一方の基板の少なくとも表示領域内に配向膜材料を塗布する工程と、上記配向膜材料に熱処理、及び配向処理を施して配向膜を形成する工程と、上記配向膜上に位相差膜材料を含む液体材料を塗布して異方性膜を形成する工程と、上記異方性膜上にネガ型感光性樹脂層を形成する工程と、上記一方の基板の反射表示領域に露光光を照射して、該反射表示領域における上記ネガ型感光性樹脂層及び上記異方性膜を硬化させる工程と、上記一方の基板を加熱して上記反射表示領域に露光光を照射する工程で露光光が照射されなかった領域の上記異方性膜を等方性膜としつつ上記一方の基板に露光光を照射して、上記等方性膜と該等方性膜上の上記ネガ型感光性樹脂層とを同時に硬化させる工程と、を含むことを特徴とする液晶装置の製造方法。
かかる方法によれば、反射表示領域にのみ品質が向上した位相差膜及び保護膜を上記反射表示領域に形成できるため、透過表示と反射表示の双方の表示性能が向上した半透過反射型の液晶装置を得ることができる。
[適用例7]上記の液晶装置の製造方法であって、上記配向膜材料を塗布する工程は、上記基板上の上記表示領域内にカラーフィルタ層を形成した後、該カラーフィルタ層上に上記配向膜材料を塗布する工程であることを特徴とする液晶装置の製造方法。
かかる方法によれば、透過表示と反射表示の双方の表示性能が向上し、かつ、カラー表示が可能な液晶装置を得ることができる。
以下、本発明の実施形態について図面に従って説明する。なお、以下に示す各図においては、各構成要素を図面上で認識され得る程度の大きさとするため、各構成要素の寸法や比率を実際のものとは適宜に異ならせてある。
(第1の実施形態)
(第1の実施形態)
図1に、第1の実施形態にかかる位相差膜の形成方法を示す。
まず、図1(a)に示すように、透光性材料からなる基板10上に第1の配向膜13を形成する。具体的には、まず、基板10上にポリイミド等の配向膜材料を含む液材をスピンコート法等により塗布する。そして、該液材から溶媒を焼成(乾燥)等により除去した後、ラビング等の公知の手法により配向処理を施して、第1の配向膜13を形成する。
まず、図1(a)に示すように、透光性材料からなる基板10上に第1の配向膜13を形成する。具体的には、まず、基板10上にポリイミド等の配向膜材料を含む液材をスピンコート法等により塗布する。そして、該液材から溶媒を焼成(乾燥)等により除去した後、ラビング等の公知の手法により配向処理を施して、第1の配向膜13を形成する。
次に、図1(b)に示すように、第1の配向膜13上に位相差膜材料と溶媒とからなる液材をスピンコート法等により塗布して、異方性膜14を形成する。位相差膜材料としては、例えばBASF社製のLC242等が好ましく、光重合開始剤としてチバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製のイルガキュア907等を0.5〜10wt%添加することが好ましい。また、溶媒としては、シクロペンタノンが好ましい。かかる液材を、配向性を有する膜(第1の配向膜13)上に塗布すると、該配向性によって位相差膜材料の分子の配列方向が規定されて異方性が生じ、異方性膜14となる。
次に、図1(c)に示すように、異方性膜14上にネガ型感光性樹脂層16をスピンコート法等により形成する。該スピンコートの前に、異方性膜14をプレベークして、上記溶媒をある程度除去してもよい。
次に、図1(d)に示すように、基板10の、異方性膜14等が形成された面に露光光として紫外線50を照射する。ネガ型感光性樹脂は略透明で紫外線を透過するため、ネガ型感光性樹脂層16が露光されるとともに、ネガ型感光性樹脂層16を透過した紫外線50によって、異方性膜14も同時に露光される。その結果、ネガ型感光性樹脂層16は透明性を保ったまま硬化する。そして、ネガ型感光性樹脂層16を透過した紫外線50により上述の光重合開始剤が機能して、異方性膜14も異方性を保ったまま、すなわち液晶相の分子配向を保ったまま硬化する。
ここで、必要に応じて、基板10の裏面すなわち異方性膜14等が形成されていない側の面から露光光を照射してもよい。また、表面からの露光光の照射と裏面からの露光光の照射とを併用してもよい。ネガ型感光性樹脂層16を経ずに異方性膜14に露光光を照射できるので、異方性膜14をより確実に硬化させることができる。
なお、紫外線50の照射量は500mJ/cm2程が好ましい。上記照射の結果、図1(e)に示すように、異方性膜14は位相差膜25となり、ネガ型感光性樹脂層16は透光性を有する保護膜30となる。
なお、紫外線50の照射量は500mJ/cm2程が好ましい。上記照射の結果、図1(e)に示すように、異方性膜14は位相差膜25となり、ネガ型感光性樹脂層16は透光性を有する保護膜30となる。
最後に、図1(f)に示すように、保護膜30上に第2の配向膜35を形成する。第2の配向膜35は、本実施形態にかかる基板10を液晶装置の構成要素とする際に液晶の配向方向を規定するためのものである。
配向膜上に形成した(位相差膜材料としての)液晶層等を硬化させて位相差膜を得ることは一般的であるが、本実施形態における位相差膜25の形成方法は、ネガ型感光性樹脂層16で表面が覆われた状態で紫外線50を照射して硬化させるところに特徴がある。外気、特に酸素から遮断された状態で露光されて硬化するため、表面が外気特に酸素に晒された状態で露光される場合に比べて耐熱性が向上した位相差膜を得ることができる。その結果、第2の配向膜35を形成する際の熱処理による品質の低下を抑制できる。また、位相差膜25の形成と同時に、保護膜30も形成できるため、工数も抑制でき、製造コストを低減できる。
(第2の実施形態)
(第2の実施形態)
図2に、第2の実施形態にかかる位相差膜の形成方法を示す。まず、図2(a)に示すように、上記第1の実施形態と同様の方法により、透光性材料からなる基板10上に第1の配向膜13を形成する。次に、図2(b)に示すように、上記第1の実施形態と同様の方法により、第1の配向膜13上に異方性膜14を形成する。次に、図2(c)に示すように、上記第1の実施形態と同様の方法により、異方性膜14上にネガ型感光性樹脂層16を形成する。
次に、図2(d)に示すように、位相差膜材料が液晶相となる温度に保ったまま遮光部62と透光部64とを有するフォトマスク60を介して、基板10に露光光としての紫外線50を照射する。透光部64に対面する領域である第1の領域52(図2(e)を参照)において、ネガ型感光性樹脂層16が露光されるとともに、ネガ型感光性樹脂層16を透過した紫外線50によって、異方性膜14も同時に露光される。その結果、第1の領域52において、ネガ型感光性樹脂層16は透明性を保ったまま硬化するとともに、ネガ型感光性樹脂層16を透過した紫外線50により異方性膜14も異方性を保ったまま硬化する。
上記照射の結果、図2(e)に示すように、第1の領域52において、異方性膜14は位相差膜25となり、ネガ型感光性樹脂層16は透光性を有する保護膜30となる。一方、遮光部62に対面する領域である第2の領域54においては、異方性膜14とネガ型感光性樹脂層16は硬化せずに、紫外線50を照射する前と同様な状態に保たれている。
次に、図2(f)に示すように、電熱コイル等の加熱手段55により基板10を加熱しつつ、基板10に紫外線50を再度照射する。位相差膜材料が等方相になる温度にまで加熱されると、第2の領域54における異方性膜14は、第1の配向膜13の存在にもかかわらず等方性となる。そして、等方性のままで紫外線50により硬化するため、その結果、図2(g)に示すように、第2の領域54において、位相差を有しない透光性薄膜31となる。
なお、第1の領域52における位相差膜25は硬化しているので、加熱による変化は生じない。また、第2の領域54におけるネガ型感光性樹脂層16は加熱による影響は殆んど受けずに、紫外線50により硬化する。その結果、第1の領域52と第2の領域54と双方の領域にまたがって、保護膜30が形成される。保護膜30の上層には、第2の配向膜35(図1参照)を積層してもよい。
ここで、上記再度の紫外線50の照射は、加熱手段55による基板10の加熱と同時に開始するとは限らず、時間差を設けてもよい。具体的には、基板10を所定の時間加熱した後、該加熱を継続しつつ紫外線50を照射してもよい。紫外線50を照射する前に充分に異方性を等方性に変更できるので、透光性薄膜31の位相差をより一層抑制できる。
本実施形態にかかる位相差膜の形成方法は、異方性膜14をネガ型感光性樹脂層16により酸素から遮断した状態で露光して硬化させるという点において、上記第1の実施形態にかかる方法と共通しているが、上記露光をフォトマスク60を用いて行う点が異なっている。
フォトマスク60を用いて基板10上の任意の領域に紫外線50を照射するため、基板10上の任意の領域に耐熱性が向上した位相差膜を形成できる。
(第3の実施形態)
フォトマスク60を用いて基板10上の任意の領域に紫外線50を照射するため、基板10上の任意の領域に耐熱性が向上した位相差膜を形成できる。
(第3の実施形態)
図3に、第3の実施形態として、カラーフィルタ層70上に位相差膜25及び保護膜30を形成した態様を示す。カラーフィルタ層70は、カラーフィルタ71と該カラーフィルタを区画するブラックマトリクス75とからなり、透光性材料からなる基板10上に印刷法等により形成されている。位相差膜25及び保護膜30の形成方法は上記第1の実施形態に記載の方法と同様であり、カラーフィルタ層70上に第1の配向膜13、異方性膜14(図1参照)、及びネガ型感光性樹脂層16(図1参照)を順に積層し、紫外線により硬化させて形成する。
保護膜30の上層には、第2の配向膜35(図1参照)を積層してもよい。また、必要に応じて、カラーフィルタ層70の上層、すなわちカラーフィルタ層70と第1の配向膜13との間に、平坦化膜としての機能も有する保護膜(上述の保護膜30とは別途)を積層してもよい。
保護膜30の上層には、第2の配向膜35(図1参照)を積層してもよい。また、必要に応じて、カラーフィルタ層70の上層、すなわちカラーフィルタ層70と第1の配向膜13との間に、平坦化膜としての機能も有する保護膜(上述の保護膜30とは別途)を積層してもよい。
本実施形態にかかる態様によれば、基板10を、液晶層を狭持する一方の基板として用いることによりカラー表示が可能となる。したがって、表示性能の向上したカラー表示が可能な液晶装置を得ることができる。
(第4の実施形態)
(第4の実施形態)
図4〜図6に、第4の実施形態として、上記第2の実施形態の位相差膜を用いる半透過反射型の液晶装置を示す。本実施形態の液晶装置は、液晶に対して基板面方向の電界を印加して液晶分子の配向方向を制御する横電界方式を採用したアクティブマトリクス型のカラー液晶装置である。表示領域には、赤色のカラーフィルタを有する画素、緑色のカラーフィルタを有する画素、及び青色のカラーフィルタを有する画素の3種(色)の画素が一組となり、該一組の画素が規則的に配置されている。各々の画素の出力を制御することで、カラー表示が可能となっている。各々の画素は透過表示領域と反射表示領域を有し、後述するバックライトユニットから出射される光を透過させることによる画像表示と、外光の反射による画像表示の双方が可能である。
図4は、本実施形態の液晶装置の等価回路図である。表示領域100には、画素電極104と該画素電極をスイッチング制御するためのTFT(薄膜トランジスタ)110とを備える画素がマトリクス状に配置されている。共通電極106は、走査線駆動回路102から延びる共通線116と電気的に接続されている。
データ線駆動回路101から延伸するデータ線114はTFT110のソース電極122(図5参照)と電気的に接続されている。そしてデータ線駆動回路101は、画像信号S1、S2、・・・、Snを、データ線114を介して各々の画素に供給する。走査線駆動回路102から延伸する走査線112の一部は、薄膜トランジスタ110のゲート電極を兼ねており、走査線駆動回路102から供給される走査信号G1、G2、・・・・・、Gmを線順次で薄膜トランジスタ110のゲート電極に印加する。
画素電極104はTFT110のドレイン電極123(図5参照)に電気的に接続されている。スイッチング素子であるTFT110が走査信号により一定期間オン状態にされることで、データ線114から供給される画像信号が所定のタイミングで画素電極104に書き込まれ、該画素電極を介して液晶層150(図6参照)に書き込まれる。
図5は、本実施形態の液晶装置の表示領域100にマトリクス状に配置される画素の模式平面図である。画素は、平板状の共通電極106と、該共通電極と重なり複数のスリットを有する梯子状の画素電極104と、該重なる双方の電極の周囲を囲むように形成された走査線112、データ線114、共通線116及びTFT110等からなる。共通電極106は共通線116の一部を延伸して形成されており、表示領域100内の全ての画素の一方の電極を共通電位としている。分割線120は、画素を透過表示領域と反射表示領域とに分割する線である。
TFT110は走査線112とデータ線114との交差部近傍に形成されており、ゲート電極を兼ねる走査線112と、ゲート絶縁膜164(図6参照)を介して積層される島状の半導体層124と、該半導体層の両側に一部が重なるように形成されたソース電極122及びドレイン電極123とからなる。そして、上述したようにデータ線114と画素電極104を電気的に接続している。
画素電極104及び共通電極106はITO(酸化インジウム・すず)等の透明導電性材料からなり、後述するバックライトユニット190が出射する光をカラーフィルタ層70(図6参照)を介して液晶装置の外部に照射できる。そして、画素電極104の梯子状部分と共通電極106との間に、基板面方向(水平方向)の電界を生じさせて液晶を駆動している(ツイストさせている)。
図6は、図5のA−A’線における模式断面図であり、第2の実施形態の位相差膜25の、液晶装置内における態様を示すものである。図示するように液晶装置は、位相差膜25等が積層された第1の基板11、画素電極104等が形成された第2の基板12、上記双方の基板間に狭持される液晶層150、及びバックライトユニット190で形成されている。第1の基板11及び第2の基板12は双方とも透光性材料からなる。
第1の基板11は、一方の面に第1偏光板161が貼付され、もう一方の面にカラーフィルタ層70、第1の配向膜13、位相差膜25または透光性薄膜31、保護膜30及び第2の配向膜35が順に積層されている。
カラーフィルタ層70はカラーフィルタ71と該カラーフィルタの周囲を囲むブラックマトリクス75とからなり、カラーフィルタ71は仕切り線121により濃色領域72と淡色領域73とに分割されている。本図の向かって左側すなわち透過表示領域に対向する濃色領域72では、反射表示領域に対向する淡色領域73に比べて、濃く着色されている。透過表示領域では光が1回のみ通過するのに対し、反射表示領域では外光がカラーフィルタ層70を通過した後反射して再度通過する、すなわち2回通過することに対応したものであり、透過光による画像の質と反射光による画像の質とを揃えるためである。
位相差膜25は透過光に対して略1/4波長の位相差を付与するものであり、いわゆる内面位相差膜である。位相差膜25及び透光性薄膜31は、上記第2の実施形態に記載の方法で形成されており、位相差膜25と透光性薄膜31との境界の線は、分割線120(図5参照)と略同一である。
第2の基板12は、一方の面に第2偏光板162が貼付され、もう一方の面上に、走査線112とソース電極122とドレイン電極123と半導体層124とからなるTFT110、反射層160、共通電極106、画素電極104等が形成され、最上層には第3の配向膜36が形成されている。
第1偏光板161の透過軸と第2偏光板162の透過軸は、互いに直行するように形成されている。また、第2の配向膜35と第3の配向膜36は平面視で同一方向にラビング処理され、共通電極106と画素電極104との間の電圧が非印加時において液晶分子の配列方向を規定している。そして、上記双方の電極間に形成した横電界により液晶分子の面内回転角を制御して、透過率/反射率を変化させることにより中間階調の表示を可能にしている。
共通電極106とソース電極122及びドレイン電極123等との間にはシリコン酸化物等からなるゲート絶縁膜164が積層され、ソース電極122及びドレイン電極123と画素電極104との間には、同じくシリコン酸化物等からなる層間絶縁膜166が積層されている。そして、ドレイン電極123と画素電極104とは層間絶縁膜166に形成されたコンタクトホール125を介して接続されている。
反射層160が、共通電106と重なるように形成されている領域が反射表示領域81であり、共通電極106の下層に反射層160が存在しない領域が透過表示領域82である。そして、反射表示領域81と透過表示領域82との境界が分割線120(図5参照)である。
外光を利用できる明所では反射表示領域81を用いて画像を形成し、暗所では透過表示領域82をバックライトユニット190から照射される光を透過させて画像を形成する。バックライトユニット190は、蛍光管193から出射される光を導光板191及び反射板192により上記双方の基板に対して垂直に出射する。そして液晶層150及びカラーフィルタ層70を介して液晶装置の外部ヘ出射して、画像を形成している。
位相差膜25を反射表示領域81に形成する理由は暗表示を行うためである。暗表示を反射表示で行う場合は、液晶層150に電圧を印加した状態(選択電圧印加状態)とし、液晶層150での位相のずれを0(位相のずれがない)としておく。第1偏光板161の上方から入射した光は、第1偏光板161の透過軸を紙面に垂直とすると、第1偏光板161を透過した後、紙面に垂直な直線偏光となり、そのままの状態で液晶層150を透過する。そして、紙面に垂直な直線偏光は、位相差膜25により1/4波長の位相差が付与され、該位相差膜を透過後は左回りの円偏光となる。次に、この円偏光が反射層160の表面で反射すると回転方向が反転して右回りの円偏光となり、位相差膜25を再度透過した後、紙面に平行な直線偏光となり、そのままの状態で液晶層150を透過する。ここで、第1偏光板161は紙面に垂直な透過軸を有しているので、紙面に平行な直線偏光は第1偏光板161に吸収されて外部へは出射されず、暗表示となる。
一方、透過表示領域82では、バックライトユニット190から照射される光を、互いに直交する透過軸を有する2枚の偏光板、すなわち第1偏光板161と第2偏光板162を透過させるため、位相差膜25を用いることなく暗表示が可能である。そのため、反射表示領域81において位相差膜25が形成されている層に、透過表示領域82では透光性薄膜31が形成されている。
ここで、液晶装置の表示品質を向上させるためには、リターデーションΔn・d(d=液晶層150の層厚、Δn=屈折率差)の値を適正化する必要がある。しかしながら、半透過反射型の液晶装置において、透過表示領域82では表示光は液晶層150を1度だけ通過して出射されるのに対して、反射表示領域81では表示光は液晶層150を2度通過することになるため、双方の領域においてリターデーションΔn・dを最適化することは困難である。したがって、反射表示時の表示品質を最適化すべく液晶層150の層厚dを設定すると、透過表示時の表示品質が犠牲となる。逆に、透過表示時の表示品質を最適化すべく液晶層150の層厚dを設定すると、反射表示時の表示品質が犠牲となる。そこで、反射表示領域81における液晶層150の層厚dを透過表示領域82における液晶層150の層厚dよりも小さく(薄く)するために、反射表示領域81における保護膜30と第2の配向膜35との間に透明かつ等方性の構造体であるマルチギャップ構造体33を形成している。
上述したような液晶装置における位相差膜25の配置方法において問題となることは、該位相差膜上に保護膜を介して配向膜を積層する際の加熱である。配向膜の形成は、配向膜材料を含む液材の塗布後に熱処理を行うことが一般的であるが、該加熱により位相差膜の機能は劣化する。
一般的に位相差膜を酸素を含む雰囲気中に露出した状態で紫外線の照射により硬化させた場合、該位相差膜上に形成する配向膜の熱処理を例えば220℃で60分ほど実施すると、位相差が初期値から略10%低下する。しかし、本実施形態にかかる方法により酸素を遮断した状態で紫外線50の照射により硬化させた位相差膜25の場合、配向膜の積層工程において上記220℃で60分の熱処理を実施しても、位相差の低下を初期値から2〜3%程度の範囲内に抑制できる。したがって、本実施形態にかかる半透過反射型の液晶装置は、製造コスト等を増加させることなく従来の半透過反射型の液晶装置に比べて高い表示性能を実現できる。
(変形例1)
(変形例1)
図7に、変形例1にかかる液晶装置の模式断面図を示す。上記第1の実施形態の位相差膜を用いるアクティブマトリクス方式の反射型液晶装置である。図7に示す第4の実施形態の液晶装置から透過表示領域82を除いた態様であり、共通する構成要素が多いため、第4の実施形態における図4、図5に相当する図は省略し、図5のA−A’線における模式断面図を示す。また、上記共通する構成要素については同一の符号を付与し、説明の記載は省略している。
位相差膜25は、上記第1の実施形態の方法で形成されている。本変形例の液晶装置は透過表示領域を有しないため、第1の基板11上全面に位相差膜25が形成されており、透光性薄膜31に相当するものは有しない。本変形例にかかる位相差膜25は、上記第4の実施形態における位相差膜25と同様に、従来の方法により形成した位相差膜と比較して高い耐熱性を有し、配向膜の積層工程における熱処理による位相差の低下を抑制できる。したがって、本変形例にかかる反射型の液晶装置は、製造コスト等を増加させることなく従来の反射型の液晶装置に比べて高い表示性能を実現できる。
上述したように、本変形例にかかる液晶装置は反射型であるため共通電極106はアルミニウム等の反射性を有する金属材料で形成され、反射層としての機能も果たしている。図6の反射表示領域81における共通電極106及び反射層160と同様に、ITOと金属材料を積層しても反射層を兼ねる共通電極としてもよい。液晶装置内に入射した光は全て共通電極106で反射されるため偏光板(偏光板163)は第1の基板11上にのみ貼付されている。全面が外光を反射して表示を行う領域であるため、第4の実施形態における分割線120に当たるものは有しない。同じくカラーフィルタ71も全域で同一の濃さ(明度)のため、仕切り線121に当たるものは有しない。また、バックライトユニットは有しない。
(変形例2)
(変形例2)
図8に、変形例2にかかる液晶装置の模式断面図を示す。本変形例にかかる液晶装置は、パッシブマトリクス方式の反射型液晶装置である。液晶層を狭持する2枚の基板に複数本のストライプ状の電極が直交するように形成され、双方の電極の交点がそれぞれ画素となっている方式である。
第1の基板11、及び第2の基板12は、一方の面(以下、「表面」と称する。)で液晶層150を狭持するように貼り合わされている。第1の基板11は透光性材料からなり、該液晶層と対向しない側の面(以下、「裏面」と称する。)には偏光板163が貼付されている。第2の基板12の表面にはアルミニウム等の反射性を有する導電材料からなる第2の電極184が紙面に平行に形成され、その上層に第3の配向膜135が形成されている。
第1の基板11の表面にはカラーフィルタ層70、第1の配向膜13、及び位相差膜25が順に積層され、位相差膜25の上層に、ITO等の透明導電材料からなる第1の電極182が紙面に垂直方向に並進するように形成されている。位相差膜25は上記第1の実施形態に記載の方法で形成されており、第1の配向膜13は位相差膜材料を異方性膜とすべく形成された層である。第1の電極182の上層には第2の配向膜134が全面に形成されており、第3の配向膜135とともに液晶層150の液晶分子の配向方向を規制している。
上述したように、第1の電極182と第2の電極184との交点(交差する領域)が画素であり、各々の画素に重なるように赤色カラーフィルタ76、緑色カラーフィルタ77、青色カラーフィルタ78のいずれかのカラーフィルタが配置されている。そして、上述の各色のカラーフィルタの周囲にはブラックマトリクス75が配置され、カラーフィルタ76,77,78とブラックマトリクス75とでカラーフィルタ層70となる。第1の電極182と第2の電極184とは一方が走査線もう一方がデータ線であり、双方とも表示領域の外側の駆動回路と接続されている。そして該駆動回路により任意の画素に任意の大きさの電圧を印加して該画素上の液晶を駆動できる。上述したように、各々の画素上には3原色のいずれかの色のカラーフィルタが形成されているため、表示領域内の任意の画素上の液晶を駆動することによりカラー表示を行っている。
変形例1にかかる液晶装置と同様に、本変形例にかかる液晶装置も、上記第1の実施形態の方法で形成された位相差膜25を備えている。したがって第2の配向膜134の形成時の熱処理による位相差の低下を抑制でき、従来の反射型の液晶装置に比べて高い表示性能を、製造コスト等を増加させることなく実現している。
10…基板、11…第1の基板、12…第2の基板、13…第1の配向膜、14…異方性膜、16…ネガ型感光性樹脂層、25…位相差膜、30…保護膜、31…透光性薄膜、33…マルチギャップ構造体、35…第2の配向膜、36…第3の配向膜、50…露光光としての紫外線、52…第1の領域、54…第2の領域、55…加熱手段、60…フォトマスク、62…遮光部、64…透光部、70…カラーフィルタ層、71…カラーフィルタ、72…濃色領域、73…淡色領域、75…ブラックマトリクス、76…赤色カラーフィルタ、77…緑色カラーフィルタ、78…青色カラーフィルタ、81…反射表示領域、82…透過表示領域、100…表示領域、101…データ線駆動回路、102…走査線駆動回路、104…画素電極、106…共通電極、110…TFT、112…走査線、114…データ線、116…共通線、120…分割線、121…仕切り線、122…ソース電極、123…ドレイン電極、124…半導体層、125…コンタクトホール、134…第2の配向膜、135…第3の配向膜、150…液晶層、160…反射層、161…第1偏光板、162…第2偏光板、163…偏光板、164…ゲート絶縁膜、166…層間絶縁膜、182…第1の電極、184…第2の電極、190…バックライトユニット、191…導光板、192…反射板、193…蛍光管。
Claims (7)
- 基板上に配向膜材料を塗布する工程と、
前記配向膜材料に熱処理、及び配向処理を施して配向膜を形成する工程と、
前記配向膜上に位相差膜材料を含む液体材料を塗布して異方性膜を形成する工程と、
前記異方性膜上にネガ型感光性樹脂層を形成する工程と、
前記ネガ型感光性樹脂層と前記異方性膜とに露光光を照射して、前記ネガ型感光性樹脂層と前記異方性膜とを同時に硬化させる工程と、
を含むことを特徴とする位相差膜の形成方法。 - 位相差膜が形成される第1領域と前記第1領域以外の領域である第2領域とに区画される基板に配向膜材料を塗布する工程と、
前記配向膜材料に熱処理及び配向処理を施して配向膜を形成する工程と、
前記配向膜上に位相差膜材料を含む液体材料を塗布して異方性膜を形成する工程と、
前記異方性膜上にネガ型感光性樹脂層を形成する工程と、
前記第1領域にフォトマスクを介して露光光を照射して、前記第1領域に設けられた前記ネガ型感光性樹脂層と前記異方性膜とを同時に硬化させる工程と、
前記基板を加熱して、前記第2領域に設けられた前記異方性膜を等方性膜としつつ前記第2領域に露光光を照射して、前記第2領域に設けられた前記ネガ型感光性樹脂層と前記等方性膜とを同時に硬化させる工程と、
を含むことを特徴とする位相差膜の形成方法。 - 請求項1または2に記載の位相差膜の形成方法であって、前記基板上には、カラーフィルタ層が形成されてなることを特徴とする位相差膜の形成方法。
- 一対の基板間に液晶層を狭持する液晶装置であって、前記一対の基板のうち一方の基板に請求項1ないし3のいずれか一項に記載の位相差膜の形成方法で形成された位相差膜を備える液晶装置。
- 互いに対向配置された第1の基板と第2の基板との間に液晶層が狭持されており、透過表示を行う透過表示領域と反射表示を行う反射表示領域とを備える複数の画素を有する液晶装置であって、
前記第1の基板は請求項2に記載の位相差膜の形成方法で形成された位相差膜を備えており、
前記反射表示領域と前記位相差膜とが互いに重なることを特徴とする液晶装置。 - 一対の基板間に液晶層を狭持し、各々が透過表示を行う透過表示領域と反射表示を行う反射表示領域とを備える複数の画素を表示領域内に有する液晶装置の製造方法であって、
一方の基板の少なくとも表示領域内に配向膜材料を塗布する工程と、
前記配向膜材料に熱処理、及び配向処理を施して配向膜を形成する工程と、
前記配向膜上に位相差膜材料を含む液体材料を塗布して異方性膜を形成する工程と、
前記異方性膜上にネガ型感光性樹脂層を形成する工程と、
前記一方の基板の反射表示領域に露光光を照射して、該反射表示領域における前記ネガ型感光性樹脂層及び前記異方性膜を硬化させる工程と、
前記一方の基板を加熱して前記反射表示領域に露光光を照射する工程で露光光が照射されなかった領域の前記異方性膜を等方性膜としつつ前記一方の基板に露光光を照射して、前記等方性膜と該等方性膜上の前記ネガ型感光性樹脂層とを同時に硬化させる工程と、
を含むことを特徴とする液晶装置の製造方法。 - 請求項6に記載の液晶装置の製造方法であって、前記配向膜材料を塗布する工程は、前記基板上の前記表示領域内にカラーフィルタ層を形成した後、該カラーフィルタ層上に前記配向膜材料を塗布する工程であることを特徴とする液晶装置の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007158350A JP2008310097A (ja) | 2007-06-15 | 2007-06-15 | 位相差膜の形成方法、液晶装置及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007158350A JP2008310097A (ja) | 2007-06-15 | 2007-06-15 | 位相差膜の形成方法、液晶装置及びその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008310097A true JP2008310097A (ja) | 2008-12-25 |
Family
ID=40237743
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007158350A Withdrawn JP2008310097A (ja) | 2007-06-15 | 2007-06-15 | 位相差膜の形成方法、液晶装置及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2008310097A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016122158A (ja) * | 2014-12-25 | 2016-07-07 | 大日本印刷株式会社 | 転写フィルム、光学フィルム、転写フィルムの製造方法、及び光学フィルムの製造方法 |
JP2019056936A (ja) * | 2018-12-27 | 2019-04-11 | 大日本印刷株式会社 | 画像表示装置 |
-
2007
- 2007-06-15 JP JP2007158350A patent/JP2008310097A/ja not_active Withdrawn
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016122158A (ja) * | 2014-12-25 | 2016-07-07 | 大日本印刷株式会社 | 転写フィルム、光学フィルム、転写フィルムの製造方法、及び光学フィルムの製造方法 |
JP2019056936A (ja) * | 2018-12-27 | 2019-04-11 | 大日本印刷株式会社 | 画像表示装置 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4263429B2 (ja) | 液晶表示装置用一体型コリメーティング偏光子の製造方法 | |
JP4799505B2 (ja) | 液晶表示装置 | |
US8130344B2 (en) | Liquid crystal device and electronic apparatus | |
JP4292132B2 (ja) | 液晶表示装置 | |
JP2008151817A (ja) | 半透過型液晶表示装置 | |
JP2010055091A (ja) | 液晶表示装置及び表示装置の製造方法 | |
JP2009210752A (ja) | 液晶表示装置 | |
JP2008076501A (ja) | 液晶表示装置 | |
JP4337854B2 (ja) | 液晶表示装置 | |
JP2010250025A (ja) | 偏光素子とその製造方法および液晶表示装置 | |
JP2005173559A (ja) | カラーフィルタ基板、これを有する液晶表示パネル、これを有する液晶表示装置、及びその製造方法 | |
JP2007079556A (ja) | 液晶表示装置 | |
CN109870851B (zh) | 液晶显示面板及液晶显示面板的制造方法 | |
US7864275B2 (en) | Liquid crystal display device with a light blocking film formed on a surface of a substrate that surrounds a phase difference film and an orientation film also formed on the substrate surface between the substrate and the phase difference film | |
JP2008065197A (ja) | 液晶表示装置およびその製造方法 | |
JP2008310097A (ja) | 位相差膜の形成方法、液晶装置及びその製造方法 | |
JP6924588B2 (ja) | 液晶表示装置及び液晶表装置の製造方法 | |
WO2009113206A1 (ja) | 液晶表示装置 | |
JP5044832B2 (ja) | 液晶装置、及びその製造方法 | |
WO2007077644A1 (ja) | 液晶表示装置 | |
JP2008020706A (ja) | マスク及び液晶表示装置の製造方法 | |
JP2008310098A (ja) | 位相差膜の形成方法、液晶装置及びその製造方法 | |
JP2008076849A (ja) | 液晶表示装置及びその製造方法 | |
JP2005084231A (ja) | 液晶表示装置及びその製造方法 | |
JP5150182B2 (ja) | 液晶表示装置の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20100907 |