JP2008309613A - 光断層画像化装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】低干渉性の光ビーム(1、2)が探索光として観察対象物体(25)に照射され、ガルバノミラー(16a)で所定の周波数で1次元走査される。この探索光(9c)と参照光(9b)はビームスプリッター(10)で干渉光(9d)として合成され、ガルバノミラー(16a)で上記走査と同一の走査周波数および同一の走査方向に再走査される。再走査された干渉光は、その走査周波数に応じたフレームレートで2次元撮像手段(32)により検出され、その映像信号から干渉情報が抽出されて対象物体内部の反射強度情報が取得される。このような構成では、2次元撮像手段を採用し、そのフレームレートに応じた低速の走査手段と低速な再走査手段で干渉情報が得られるので、走査型光学系を簡単に構成することができる。
【選択図】図1
Description
光源からの光ビームを走査して観察対象物体の所定部位に照射し、該対象物体からの反射光を光学的な干渉現象を利用して検出処理することにより対象物体の断層画像情報を取得する光断層画像化装置において、
低干渉性の光ビームを発生する光源と、
前記光源からの光ビームを対象物体へ向かう探索光と、所定の参照光路へ向かう参照光とに分割するための光分割部材と、
前記探索光の光ビームを所定の周波数で1次元走査するための光走査手段と、
前記対象物体を介した探索光と前記参照光路を介した参照光との間で合成される干渉光を、前記光走査手段と同一の走査周波数および同一の走査方向に走査するための再走査手段と、
前記再走査手段を介した干渉光を、前記光走査手段および再走査手段の走査周波数に応じたフレームレートで検出するための2次元撮像手段と、
前記2次元撮像手段から出力される映像信号から対象物体内部の反射強度情報を取得する信号処理手段と、
を備えたことを特徴とする。
光源からの光ビームを走査して観察対象物体の所定部位に照射し、該対象物体からの反射光を光学的な干渉現象を利用して検出処理することにより対象物体の断層画像情報を取得する光断層画像化装置において、
低干渉性の光ビームを発生する光源と、
前記光源からの光ビームを対象物体へ向かう探索光と、所定の参照光路へ向かう参照光とに分割するための光分割部材と、
前記探索光の光ビームを所定の周波数で1次元走査するための光走査手段と、
前記参照光の光ビームを前記光走査手段の走査周波数よりも高い周波数で周期的に位相シフトさせるための光変調手段と、
前記対象物体を介した探索光と前記光変調手段を介した参照光との間で合成される干渉光を、前記光走査手段と同一の走査周波数および同一の走査方向に走査するための再走査手段と、
前記再走査手段を介した干渉光を、前記光走査手段および再走査手段の走査周波数に応じたフレームレートで検出するための2次元撮像手段と、
前記2次元撮像手段から出力される映像信号から前記光変調手段による光変調に応じた干渉情報を抽出して対象物体内部の反射強度情報を取得する信号処理手段と、
を備えたことを特徴とする。
光源からの光ビームを走査して観察対象物体の所定部位に照射し、該対象物体からの反射光を光学的な干渉現象を利用して検出処理することにより対象物体の断層画像情報を取得する光断層画像化装置において、
低干渉性の光ビームを発生する光源と、
前記光源からの光ビームを対象物体へ向かう探索光と、所定の参照光路へ向かう参照光とに分割するための光分割部材と、
前記探索光の光ビームを所定の周波数で1次元走査するための光走査手段と、
前記参照光の光ビームを前記光走査手段の走査周波数よりも高い周波数で周期的に位相シフトさせるための光変調手段と、
前記対象物体を介した探索光と前記光変調手段を介した参照光との間で合成される干渉光を前記光走査手段へ導く回帰光学系と、
前記回帰光学系を通過した干渉光を、前記光走査手段の走査周波数に応じたフレームレートで検出するための2次元撮像手段と、
前記2次元撮像手段から出力される映像信号から前記光変調手段による光変調に応じた干渉情報を抽出して対象物体内部の反射強度情報を取得する信号処理手段と、
を備えたことを特徴とする。
光源からの光ビームを走査して観察対象物体の所定部位に照射し、該対象物体からの反射光を光学的な干渉現象を利用して検出処理することにより対象物体の断層画像情報を取得する光断層画像化装置において、
低干渉性の光ビームを発生する光源と、
前記光源からの光ビームを対象物体へ向かう探索光と、所定の参照光路へ向かう参照光とに分割するための光分割部材と、
前記探索光の光ビームを所定の周波数で1次元走査するための第1の光走査手段と、
前記参照光の光ビームを前記第1の光走査手段の走査周波数よりも高い周波数で周期的に位相シフトさせるための光変調手段と、
前記対象物体を介した探索光と前記光変調手段を介した参照光との間で合成される干渉光を、前記第1の光走査手段と同一の走査周波数および同一の走査方向に走査するための第2の光走査手段と、
前記第2の光走査手段を通過した干渉光を、前記第1および第2の光走査手段の走査周波数に応じたフレームレートで検出するための2次元撮像手段と、
前記2次元撮像手段から出力される映像信号から前記光変調手段による光変調に応じた干渉情報を抽出して対象物体内部の反射強度情報を取得する信号処理手段と、
を備えたことを特徴とする。
In =ID+IA(cosα)
In+1=ID+IA(sinα)
ここで、In−1 、In 、In+1 はそれぞれ隣接する画素での信号強度、IDは直流成分、IAは交流成分(断層像の信号成分)、αは干渉縞の位相である。上述の式では、隣接する画素間での干渉縞の位相差が、互いに90度であること想定しており、このような条件は、光変調手段の駆動周波数と振幅を、光走査手段の制御に応じて適切に設定することで実現できる。
(In+1 − In)2 = IA 2(1−2cosα×sinα)
従って、
(In − In−1)2 +(In+1 − In)2 =2IA 2
すなわち、隣接する画素間で引き算を行うことにより、不要なDC成分は確実に除去することができ、更に、隣接する3画素の検出信号に関して加減算と乗算を含む簡単な計算を実行すれば、付随する位相項も排除することができる。このような演算処理によって、必要とするAC成分(信号成分)は、簡単に抽出することが可能である。
8、11 シリンドリカルレンズ
10 ビームスプリッター
14 参照ミラー
16a、46a ガルバノミラー
25 観察対象物体
28 検出開口
32 2次元撮像素子
35 表示装置
45 被検眼
Claims (15)
- 光源からの光ビームを走査して観察対象物体の所定部位に照射し、該対象物体からの反射光を光学的な干渉現象を利用して検出処理することにより対象物体の断層画像情報を取得する光断層画像化装置において、
低干渉性の光ビームを発生する光源と、
前記光源からの光ビームを対象物体へ向かう探索光と、所定の参照光路へ向かう参照光とに分割するための光分割部材と、
前記探索光の光ビームを所定の周波数で1次元走査するための光走査手段と、
前記対象物体を介した探索光と前記参照光路を介した参照光との間で合成される干渉光を、前記光走査手段と同一の走査周波数および同一の走査方向に走査するための再走査手段と、
前記再走査手段を介した干渉光を、前記光走査手段および再走査手段の走査周波数に応じたフレームレートで検出するための2次元撮像手段と、
前記2次元撮像手段から出力される映像信号から対象物体内部の反射強度情報を取得する信号処理手段と、
を備えたことを特徴とする光断層画像化装置。 - 前記2次元撮像手段から出力される映像信号の隣接する画素間の演算処理によって該映像信号から直流成分を除去し、対象物体内部の反射強度情報を取得することを特徴とする請求項1に記載の光断層画像化装置。
- 光源からの光ビームを走査して観察対象物体の所定部位に照射し、該対象物体からの反射光を光学的な干渉現象を利用して検出処理することにより対象物体の断層画像情報を取得する光断層画像化装置において、
低干渉性の光ビームを発生する光源と、
前記光源からの光ビームを対象物体へ向かう探索光と、所定の参照光路へ向かう参照光とに分割するための光分割部材と、
前記探索光の光ビームを所定の周波数で1次元走査するための光走査手段と、
前記参照光の光ビームを前記光走査手段の走査周波数よりも高い周波数で周期的に位相シフトさせるための光変調手段と、
前記対象物体を介した探索光と前記光変調手段を介した参照光との間で合成される干渉光を、前記光走査手段と同一の走査周波数および同一の走査方向に走査するための再走査手段と、
前記再走査手段を介した干渉光を、前記光走査手段および再走査手段の走査周波数に応じたフレームレートで検出するための2次元撮像手段と、
前記2次元撮像手段から出力される映像信号から前記光変調手段による光変調に応じた干渉情報を抽出して対象物体内部の反射強度情報を取得する信号処理手段と、
を備えたことを特徴とする光断層画像化装置。 - 前記2次元撮像手段から出力される映像信号の隣接する画素間の演算処理によって該映像信号から直流成分を除去して干渉情報を抽出し、対象物体内部の反射強度情報を取得することを特徴とする請求項3に記載の光断層画像化装置。
- 前記探索光の光路には、光ビームの焦点位置と光路長を変化させるための深度走査手段が付加されており、当該手段による深度方向の走査によって、対象物体内部の3次元的な断層画像情報が取得可能であることを特徴とする請求項1から4のいずれか1項に記載の光断層画像化装置。
- 前記光ビームは、スリット状の光ビームであり、前記干渉光は、前記光走査手段と再走査手段の間に配置されたスリット状の検出開口を介して前記2次元撮像手段へと導かれることを特徴とする請求項1から5のいずれか1項に記載の光断層画像化装置。
- 前記光走査手段は、ガルバノメーターに装着された反射ミラーによって構成され、該走査手段による走査方向は、前記2次元撮像手段の水平撮像方向に対応することを特徴とする請求項1から6のいずれか1項に記載の光断層画像化装置。
- 前記再走査手段は、前記光走査手段とガルバノメーターを共通に利用し、該光走査手段による反射ミラーとは反対側の反射面を利用して2次元撮像手段への干渉光の走査が行われることを特徴とする請求項7に記載の光断層画像化装置。
- 前記再走査手段は、前記光走査手段のガルバノメーターとは異なる第2のガルバノメーターを利用し、該第2のガルバノメーターに装着された反射ミラーによって2次元撮像手段への干渉光の走査が行われることを特徴とする請求項7に記載の光断層画像化装置。
- 前記光変調手段による位相シフトの繰返し周波数は、前記光走査手段と再走査手段の走査周波数、及び前記2次元撮像手段のフレームレートよりも2桁以上高速に設定されることを特徴とする請求項3から9のいずれか1項に記載の光断層画像化装置。
- 光源からの光ビームを走査して観察対象物体の所定部位に照射し、該対象物体からの反射光を光学的な干渉現象を利用して検出処理することにより対象物体の断層画像情報を取得する光断層画像化装置において、
低干渉性の光ビームを発生する光源と、
前記光源からの光ビームを対象物体へ向かう探索光と、所定の参照光路へ向かう参照光とに分割するための光分割部材と、
前記探索光の光ビームを所定の周波数で1次元走査するための光走査手段と、
前記参照光の光ビームを前記光走査手段の走査周波数よりも高い周波数で周期的に位相シフトさせるための光変調手段と、
前記対象物体を介した探索光と前記光変調手段を介した参照光との間で合成される干渉光を前記光走査手段へ導く回帰光学系と、
前記回帰光学系を通過した干渉光を、前記光走査手段の走査周波数に応じたフレームレートで検出するための2次元撮像手段と、
前記2次元撮像手段から出力される映像信号から前記光変調手段による光変調に応じた干渉情報を抽出して対象物体内部の反射強度情報を取得する信号処理手段と、
を備えたことを特徴とする光断層画像化装置。 - 前記回帰光学系の光路には、前記光走査手段の走査方向に間隙の制限された所定の検出開口が配置され、前記干渉光は、該検出開口を介して前記2次元撮像手段へと導かれることを特徴とする請求項11に記載の光断層画像化装置。
- 光源からの光ビームを走査して観察対象物体の所定部位に照射し、該対象物体からの反射光を光学的な干渉現象を利用して検出処理することにより対象物体の断層画像情報を取得する光断層画像化装置において、
低干渉性の光ビームを発生する光源と、
前記光源からの光ビームを対象物体へ向かう探索光と、所定の参照光路へ向かう参照光とに分割するための光分割部材と、
前記探索光の光ビームを所定の周波数で1次元走査するための第1の光走査手段と、
前記参照光の光ビームを前記第1の光走査手段の走査周波数よりも高い周波数で周期的に位相シフトさせるための光変調手段と、
前記対象物体を介した探索光と前記光変調手段を介した参照光との間で合成される干渉光を、前記第1の光走査手段と同一の走査周波数および同一の走査方向に走査するための第2の光走査手段と、
前記第2の光走査手段を通過した干渉光を、前記第1および第2の光走査手段の走査周波数に応じたフレームレートで検出するための2次元撮像手段と、
前記2次元撮像手段から出力される映像信号から前記光変調手段による光変調に応じた干渉情報を抽出して対象物体内部の反射強度情報を取得する信号処理手段と、
を備えたことを特徴とする光断層画像化装置。 - 前記第1および第2の光走査手段の間の光路には、該光走査手段の走査方向に間隙の制限された所定の検出開口が配置され、前記干渉光は、該検出開口を介して前記2次元撮像手段へと導かれることを特徴とする請求項13に記載の光断層画像化装置。
- 前記2次元撮像手段から出力される映像信号の隣接する画素間の演算処理によって該映像信号から直流成分を除去して干渉情報を抽出し、対象物体内部の反射強度情報を取得することを特徴とする請求項11から14のいずれか1項に記載の光断層画像化装置。
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