JP2008308714A - Continuous film-forming apparatus - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、連続的に基板に薄膜を形成する連続式成膜装置に関するものである。 The present invention relates to a continuous film forming apparatus for continuously forming a thin film on a substrate.
以前より、真空中で膜材をガラス等の基板に付着させて基板に薄膜を形成する真空成膜装置が知られている。また、当該真空成膜装置には、付着させる薄膜の厚さの均等化を図るため、複数の基板を自転させると共に公転させる自公転機構が設けられている(例えば、特許文献1または2参照)。 2. Description of the Related Art Vacuum deposition apparatuses that form a thin film on a substrate by attaching a film material to a substrate such as glass in a vacuum have been known. In addition, the vacuum film forming apparatus is provided with a self-revolving mechanism for revolving and revolving a plurality of substrates in order to equalize the thickness of the thin film to be deposited (see, for example, Patent Document 1 or 2). .
特許文献1に記載の真空成膜装置の自公転機構は、円形のレールを有する固定部と、当該レール上を走行する自転車輪と、自転車輪の走行と共に回転する自転軸と、自転軸と共に回転し、基板を保持する基板ホルダとを有する回転部とを備えている。固定部は成膜室に固定されており、また、回転部は成膜室に固定された回転機構に取り付けられている。 The self-revolving mechanism of the vacuum film forming apparatus described in Patent Document 1 includes a fixed portion having a circular rail, a bicycle wheel that travels on the rail, a rotation shaft that rotates as the bicycle wheel travels, and a rotation shaft that rotates together with the rotation shaft. And a rotating part having a substrate holder for holding the substrate. The fixed part is fixed to the film forming chamber, and the rotating part is attached to a rotating mechanism fixed to the film forming chamber.
このような構成により、特許文献1に記載の真空成膜装置では、成膜作業が終了すると、成膜室を開き、手作業によって基板を取り換えなければならなかった。これにより、一回の成膜作業が終了すると、取り換え作業のために成膜室は外気に開放され、成膜室の真空状態が解除されてしまっていた。そのため、別の基板に成膜する際、再度一から成膜室内を真空にしなければならず、成膜のための準備に時間がかかるという問題があった。また、成膜室内を一度大気に開放すると、水分等の不純物が吸着することがあり、成膜の品質に対して悪影響を及ぼすおそれがあった。そこで、特許文献2に記載するような連続式の真空成膜装置が提案されている。
With such a configuration, in the vacuum film forming apparatus described in Patent Document 1, when the film forming operation is completed, the film forming chamber must be opened and the substrate must be replaced manually. As a result, when one film formation operation is completed, the film formation chamber is opened to the outside air for the replacement operation, and the vacuum state of the film formation chamber is released. Therefore, when forming a film on another substrate, the film forming chamber must be evacuated again from the beginning, and there is a problem that it takes time to prepare for film formation. Further, once the film formation chamber is opened to the atmosphere, impurities such as moisture may be adsorbed, which may adversely affect the quality of the film formation. Therefore, a continuous vacuum film forming apparatus as described in
特許文献2に記載の真空成膜装置は、成膜室の真空状態を維持したままで基板ホルダの搬入または搬出を自動的に行うようにした連続式成膜装置である。詳しくは、当該連続式成膜装置は、真空状態下で基板に成膜を行うための成膜室と、成膜室の側方に設けられた基板を出し入れするための入口槽と出口槽とを備えている。成膜室と入口槽、成膜室と出口槽とは、それぞれゲートバルブにより仕切られている。当該連続式成膜装置には、基板ホルダを入口槽から成膜室へ搬送し、また、成膜室から出口槽へ搬送するローラコンベアが設けられている。このような構成により、成膜室を大気に開放することなく成膜室の真空状態を保持したまま、複数の基板を保持した基板ホルダを成膜室に搬入または成膜室から搬出することを可能にしている。
The vacuum film forming apparatus described in
ところで、特許文献2に記載された連続式成膜装置は遊星歯車機構を有しており、当該遊星歯車機構により、基板ホルダを公転させると共に自転させていた。しかしながら、このように遊星歯車機構を用いた場合、歯車から発塵するおそれがある。また、歯車によっては大きな振動が生じるため、薄膜の精度に影響を及ぼすおそれがあった。そこで、これらの問題を解決するため、特許文献1に記載されたレールと自転車輪とを有し、発塵や振動の少ない真空成膜装置について連続式にすることが望まれていた。
特許文献1に記載された真空成膜装置を連続式にするためには、回転部と固定部とからなる自公転機構を搬送可能にすることが必要となる。しかしながら、特許文献1に記載された自公転機構では、回転部を回転機構から切り離すと、回転部と固定部とは相対回転可能な状態(レール上で自転車輪が走行自在な状態)となってしまう。そのため、特許文献1に記載された真空成膜装置の自公転機構を単純に切り離し、例えば、前述のローラコンベア等の搬送手段によりそのまま搬送すると、搬送中に自転車輪がレール上を自由に走行してしまうおそれがある。 In order to make the vacuum film forming apparatus described in Patent Document 1 continuous, it is necessary to make it possible to transport a self-revolving mechanism composed of a rotating part and a fixed part. However, in the self-revolving mechanism described in Patent Document 1, when the rotating portion is separated from the rotating mechanism, the rotating portion and the fixed portion are in a state in which the rotating portion and the fixed portion can be rotated relative to each other (the bicycle wheel can run on the rail). End up. Therefore, when the self-revolving mechanism of the vacuum film forming apparatus described in Patent Document 1 is simply cut off and transported as it is, for example, by the above-described transporting means such as a roller conveyor, the bicycle wheel freely travels on the rail during transportation. There is a risk that.
このように搬送中に自転車輪が走行してしまうと、成膜室内に搬送される自公転機構の回転部の角度は、毎回異なり、回転部を回転機構に取り付ける際に、係合部の位置が把握できなくなる。そのため、回転部と回転機構とを係合させるために、まず、回転部の角度を確認し、係合可能な位置まで回転機構を回転させることが必要となる。そのため、回転部の角度を確認するためにはセンサ等が必要となり、構成が複雑になるという問題があった。 When the bicycle wheel travels during transport in this way, the angle of the rotating part of the rotation mechanism that is transported into the film forming chamber is different each time, and when the rotating part is attached to the rotating mechanism, the position of the engaging part is changed. Cannot be grasped. Therefore, in order to engage the rotating part and the rotating mechanism, it is necessary to first check the angle of the rotating part and rotate the rotating mechanism to a position where it can be engaged. Therefore, in order to confirm the angle of the rotating part, a sensor or the like is required, and there is a problem that the configuration is complicated.
本発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、発塵や振動の少ない連続式成膜装置を簡単な構成により提供することにある。 The present invention has been made in view of such points, and an object of the present invention is to provide a continuous film forming apparatus with less dust generation and vibration with a simple configuration.
本発明に係る連続式成膜装置は、基板に対し真空状態で成膜を行うための成膜室と、前記成膜室と連続する真空室と、前記成膜室と前記真空室とを仕切り、開閉可能なゲートバルブと、環状レールを有する固定部と、基板を支持する基板ホルダと、前記環状レールを走行可能に構成された略円盤形状の自転車輪と、前記自転車輪の中心と前記基板ホルダの中心とを連結し、前記自転車輪の走行に伴い前記基板ホルダを自転させる自転軸と、を有する回転部と、を有する自公転機構と、前記成膜室に設置され、前記回転部と係合し、前記回転部を回転駆動する回転駆動手段と、少なくとも前記成膜室と前記真空室との間で前記自公転機構を搬送する搬送手段と、を備え、前記自公転機構は、前記搬送手段により搬送される際には、前記回転部と前記固定部とが相対回転不能である搬送形態となり、前記回転部が前記回転駆動手段により回転させられる際には、前記回転部と前記固定部とが相対回転可能である自公転形態となるものである。 The continuous film formation apparatus according to the present invention partitions a film formation chamber for performing film formation on a substrate in a vacuum state, a vacuum chamber continuous with the film formation chamber, and the film formation chamber and the vacuum chamber. A gate valve that can be opened and closed, a fixed portion having an annular rail, a substrate holder that supports the substrate, a substantially disc-shaped bicycle wheel configured to be able to travel on the annular rail, a center of the bicycle wheel, and the substrate A rotation part having a rotation part that connects the center of the holder and rotates the substrate holder as the bicycle wheel travels, and a rotation / revolution mechanism having the rotation part installed in the film formation chamber, A rotation drive unit that engages and rotates the rotation unit; and a conveyance unit that conveys the rotation and revolution mechanism between at least the film formation chamber and the vacuum chamber, and the rotation and revolution mechanism includes: When transported by the transport means, the rotating unit and When the rotating part is rotated by the rotation driving means, the rotating part and the fixing part become a self-revolving form in which the rotating part and the fixing part are relatively rotatable. It is.
上記連続式成膜装置では、自公転機構は、成膜室内に固定されておらず、搬送手段によって真空室から成膜室に搬入し、成膜室から真空室に搬出することができる。また、成膜室と真空室との間には、開閉可能なゲートバルブが設けられており、真空室を大気に開放する際にはゲートバルブを閉じることにより成膜室を真空状態に保持することができる。これにより、成膜室が大気に開放されることなく、基板の入れ替えを行うことができる。そのため、本連続式成膜装置によれば、自公転機構が成膜室内に固定された成膜装置と異なり、基板を取り換える度に成膜室を真空状態にし直す必要がなく、作業時間を短縮することができる。 In the continuous film forming apparatus, the self-revolving mechanism is not fixed in the film forming chamber, and can be carried into the film forming chamber from the vacuum chamber and carried out of the film forming chamber into the vacuum chamber by the conveying means. In addition, a gate valve that can be opened and closed is provided between the film formation chamber and the vacuum chamber. When the vacuum chamber is opened to the atmosphere, the film formation chamber is kept in a vacuum state by closing the gate valve. be able to. Thus, the substrate can be replaced without opening the film formation chamber to the atmosphere. Therefore, according to this continuous film forming apparatus, unlike the film forming apparatus in which the self-revolving mechanism is fixed in the film forming chamber, it is not necessary to re-vacuate the film forming chamber every time the substrate is changed, and the working time is shortened. can do.
また、上記連続式成膜装置では、自公転機構は、搬送される際、回転部と固定部とが相対回転不能な搬送形態となる。これにより、毎回、回転部を所定の角度で成膜室内に搬入することができる。そのため、回転駆動手段と回転部とを係合させる際に、回転部の角度を確認する必要がない。したがって、上記連続式成膜装置によれば、回転部の角度を確認するためにセンサ等を設ける必要がなく、発塵や振動の少ない連続式成膜装置を簡単な構成により提供することができる。 Moreover, in the said continuous-type film-forming apparatus, when a self-revolution mechanism is conveyed, a rotation part and a fixing | fixed part become a conveyance form which cannot rotate relatively. Thereby, the rotating part can be carried into the film forming chamber at a predetermined angle every time. Therefore, it is not necessary to confirm the angle of the rotating part when the rotation driving means and the rotating part are engaged. Therefore, according to the continuous film forming apparatus, it is not necessary to provide a sensor or the like for confirming the angle of the rotating portion, and a continuous film forming apparatus with less dust generation and vibration can be provided with a simple configuration. .
前記自公転機構は、前記回転部が前記固定部上の所定位置に載置されて前記回転部と前記固定部とが係合することにより前記搬送形態となり、前記回転部と前記固定部とが上下方向に離間されて前記回転部と前記固定部との係合が解除されることにより前記自公転形態となることが好ましい。 The self-revolving mechanism is in the transport mode when the rotating part is placed at a predetermined position on the fixing part and the rotating part and the fixing part are engaged, and the rotating part and the fixing part are It is preferable that the self-revolving configuration is achieved by releasing the engagement between the rotating portion and the fixed portion by being separated in the vertical direction.
ここで、「上下方向に離間され」とは、回転部と固定部との接触部分のうち、係合することにより回転部と固定部とを相対回転不能にしていた部分が、上下方向に離されることを言う。そのため、回転部と固定部とを相対回転不能にさせない部分が接触していても、係合することにより回転部と固定部とを相対回転不能にしていた部分が上下方向に離間されていれば、ここで言う「上下方向に離間され」に含まれる。 Here, “separated in the vertical direction” means that the portion of the contact portion between the rotating portion and the fixed portion that has been unable to relatively rotate by rotating the rotating portion and the fixed portion is separated in the vertical direction. Say that. Therefore, even if the part that does not make the rotating part and the fixed part non-rotatable is in contact, if the part that made the rotating part and the fixed part non-rotatable by engaging is separated in the vertical direction , And “separated in the vertical direction” as used herein.
上記連続式成膜装置では、自公転機構の回転部と固定部とは、回転部が固定部上の所定位置に載置されることにより係合して相対回転不能となり、回転部と固定部とが上下方向に離間されることにより係合が解除されて相対回転可能となる。そのため、上記連続式成膜装置によれば、回転部と固定部との上下方向に関する相対位置を変化させるだけで、自公転機構を容易に搬送形態または自公転形態に変化させることができる。また、上記連続式成膜装置によれば、搬送形態と自公転形態とを有する自公転機構を簡単に構成することができる。さらに、上記連続式成膜装置では、搬送形態において、回転部は固定部に載置されている。そのため、自公転機構をコンパクトな状態で搬送することができる。 In the continuous film forming apparatus, the rotating part and the fixed part of the self-revolving mechanism are engaged with each other when the rotating part is placed at a predetermined position on the fixed part, and cannot rotate relative to each other. Are separated from each other in the vertical direction so that the engagement is released and relative rotation is possible. Therefore, according to the continuous film forming apparatus, the self-revolution mechanism can be easily changed to the conveyance form or the self-revolution form only by changing the relative position between the rotating part and the fixed part in the vertical direction. Moreover, according to the said continuous-type film-forming apparatus, the self-revolution mechanism which has a conveyance form and a self-revolution form can be comprised easily. Furthermore, in the continuous film forming apparatus, the rotating part is placed on the fixed part in the transport mode. Therefore, the self-revolving mechanism can be transported in a compact state.
前記環状レールは、鉛直方向を軸方向とする円筒部材からなり、前記自転車輪の外周端は、前記自公転機構が前記搬送形態から前記自公転形態に移行する際、前記環状レールの内周面に沿って、所定の静止位置から前記静止位置よりも上方にある走行位置まで摺動することが好ましい。 The annular rail is formed of a cylindrical member having an axial direction as a vertical direction, and an outer peripheral end of the bicycle wheel is an inner peripheral surface of the annular rail when the self-revolving mechanism shifts from the transporting form to the self-revolving form. It is preferable that the slider slides from a predetermined stationary position to a traveling position above the stationary position.
このように構成することにより、回転部と固定部とを上下方向に相対移動させるだけの簡単な作業により、自公転機構を、回転部と固定部とが相対回転可能な自公転形態または回転部と固定部とが相対回転不能な搬送形態に変更させることができる。 By configuring in this way, the self-revolving mechanism or the rotating part in which the rotating part and the fixed part can be rotated relative to each other by a simple operation that relatively moves the rotating part and the fixed part in the vertical direction. And the fixed portion can be changed to a conveyance form in which relative rotation is impossible.
前記環状レールの内周面の前記走行位置よりも下方かつ前記自転車輪の外周端が摺動する部分は、前記環状レールの内周面の前記走行位置部分よりも滑りやすい素材によって形成されていることが好ましい。 The portion of the inner peripheral surface of the annular rail that is lower than the traveling position and the outer peripheral end of the bicycle wheel slides is formed of a material that is more slippery than the traveling position portion of the inner peripheral surface of the annular rail. It is preferable.
このことにより、回転部と固定部とを上下方向に離間させる際、自転車輪の外周端が環状レールの内周面にひっかかることを抑制することができる。そのため、円滑に回転部と固定部との切り離し作業を行うことができる。また、このことにより、自公転機構を円滑に搬送形態から自公転形態に移行させることができる。また、自転車輪と環状レールの内周面との摩擦による摩耗を抑制することができる。 Accordingly, when the rotating portion and the fixed portion are separated in the vertical direction, it is possible to suppress the outer peripheral end of the bicycle wheel from being caught on the inner peripheral surface of the annular rail. Therefore, it is possible to smoothly separate the rotating portion and the fixed portion. Moreover, by this, a self-revolution mechanism can be smoothly changed from a conveyance form to a self-revolution form. Further, wear due to friction between the bicycle wheel and the inner peripheral surface of the annular rail can be suppressed.
前記環状レールの下端部には、前記環状レールの内側に突出する塵受けが設けられていることが好ましい。 It is preferable that the lower end part of the said annular rail is provided with the dust receptacle which protrudes inside the said annular rail.
このことにより、たとえ自転車輪と環状レールの内周面との摩擦により発塵しても、塵受けに集められる。そのため、基板への塵の付着を防止し、精度良く成膜を行うことができる。 As a result, even if dust is generated due to friction between the bicycle wheel and the inner peripheral surface of the annular rail, the dust is collected in the dust receiver. Therefore, dust can be prevented from adhering to the substrate and film formation can be performed with high accuracy.
前記自転車輪は、円盤状体の角部が面取りされた様な形状に形成されていることが好ましい。 The bicycle ring is preferably formed in a shape in which the corners of the disk-like body are chamfered.
このことにより、自転車輪と環状レールの内周面とは滑らかに接触することとなる。そのため、上記連続式成膜装置によれば、自転車輪の走行によって環状レールの内周面が損傷することを抑制することができる。 As a result, the bicycle wheel and the inner peripheral surface of the annular rail come into smooth contact. Therefore, according to the said continuous-type film-forming apparatus, it can suppress that the internal peripheral surface of an annular rail is damaged by driving | running | working of a bicycle ring.
前記回転部は、前記基板ホルダの角度を調節する角度調節機構を有していることが好ましい。 The rotating part preferably has an angle adjusting mechanism for adjusting the angle of the substrate holder.
上記連続式成膜装置によれば、基板ホルダの角度を調節可能であるため、より好適に成膜することができる。 According to the continuous film forming apparatus, since the angle of the substrate holder can be adjusted, it is possible to form a film more suitably.
前記回転駆動手段は、モータと、前記モータによって回転駆動される駆動軸と、前記駆動軸から径方向外側に延びる複数のアームと、を有し、前記複数のアームのそれぞれにはアーム係合部が形成され、前記回転部は、前記複数のアーム係合部と係合するための複数の係合部を有し、前記複数のアーム係合部と前記複数の係合部とは、前記アームが前記モータによって、所定方向に旋回させられることにより係合し、前記所定方向と逆方向に旋回させられることにより係合が解除されることが好ましい。 The rotation driving means includes a motor, a drive shaft that is rotationally driven by the motor, and a plurality of arms that extend radially outward from the drive shaft, and each of the plurality of arms has an arm engaging portion. The rotating portion has a plurality of engaging portions for engaging with the plurality of arm engaging portions, and the plurality of arm engaging portions and the plurality of engaging portions are the arms. Is engaged by being turned in a predetermined direction by the motor, and is preferably released by being turned in a direction opposite to the predetermined direction.
このことにより、容易に回転駆動手段と回転部とを係合させることができる。 As a result, the rotation driving means and the rotating portion can be easily engaged.
前記成膜室において、前記固定部と係合して前記固定部を支持すると共に、前記固定部を昇降させる昇降手段をさらに備え、前記自公転機構は、前記回転部が前記回転駆動手段と係合した後、前記昇降手段が前記固定部を降下させることにより、前記回転部と前記固定部とが上下方向に離間された自公転形態となることが好ましい。 In the film formation chamber, the film forming chamber further includes an elevating unit that engages with the fixed unit to support the fixed unit and raises and lowers the fixed unit, and the self-revolution mechanism has the rotating unit engaged with the rotation driving unit. After the combination, it is preferable that the elevating means lowers the fixing portion to form a self-revolving configuration in which the rotating portion and the fixing portion are separated in the vertical direction.
このことにより、昇降手段を用いて回転部と固定部とを容易に上下方向に離間させることができる。そのため、上記連続式成膜装置によれば、自公転機構を、搬送形態から自公転形態に容易に移行させることができる。 Thereby, the rotating part and the fixed part can be easily separated in the vertical direction using the lifting means. Therefore, according to the said continuous film-forming apparatus, a self-revolution mechanism can be easily changed from a conveyance form to a self-revolution form.
以上のように、本発明によれば、発塵や振動の少ない連続式成膜装置を簡単な構成により提供することができる。 As described above, according to the present invention, a continuous film forming apparatus with less dust generation and vibration can be provided with a simple configuration.
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
−連続式成膜装置1の概略構成−
図1は、本実施形態に係る連続式成膜装置1の側面断面図である。本実施形態では、本発明に係る連続式成膜装置の一例として、蒸着により成膜を行うものについて説明するが、本発明に係る連続式成膜装置はこれに限られない。例えば、スパッタ装置等を用いて成膜するものであってもよい。
-Schematic configuration of continuous film forming apparatus 1-
FIG. 1 is a side sectional view of a continuous film forming apparatus 1 according to this embodiment. In this embodiment, as an example of the continuous film forming apparatus according to the present invention, an apparatus that forms a film by vapor deposition will be described. However, the continuous film forming apparatus according to the present invention is not limited thereto. For example, the film may be formed using a sputtering apparatus or the like.
図1に示すように、連続式成膜装置1は、成膜室2と、成膜室2と連続する真空室3とを備えている。成膜室2では、真空状態にした上で、金属または非金属の膜材を加熱・蒸発させ、基板の表面に薄膜として接着させる蒸着が行われる。成膜室2と真空室3との間には、開閉可能なゲートバルブ4が設けられている。また、真空室3には、図示しないハッチが設けられており、当該ハッチを閉じることにより、真空室3は、気密状態におかれることとなる。
As shown in FIG. 1, the continuous film forming apparatus 1 includes a
連続式成膜装置1は、後述する基板ホルダ11を自公転させる自公転機構5を備えている。なお、自公転機構5の詳細な構成については後述するが、自公転機構5は、基板ホルダ11を有する回転部51と回転部51とは別体に形成された固定部52とを備えている。また、連続式成膜装置1は、搬送手段6と、回転駆動手段7と、昇降手段8と、蒸発源9とを備えている。
The continuous film forming apparatus 1 includes a self-revolving
搬送手段6は、成膜室2と真空室3との間で自公転機構5を搬送するものである。搬送手段6は、真空室3に取り付けられており、水平方向に伸縮自在に構成されている。また、搬送手段6は、搬送台6aと、スライダ6bと、支持台6cとを有している。搬送台6aには、自公転機構5と係合する係合突起6dが形成されている。
The transport means 6 transports the self-revolving
搬送手段6の支持台6cは、真空室3の床面に固定されている。支持台6c上には、スライダ6bが水平方向に関してスライド自在に取り付けられている。また、スライダ6b上には、搬送台6aが水平方向に関してスライド自在に取り付けられている。このような構成により、支持台6c上をスライダ6bがスライドし、スライダ6b上を搬送台6aがスライドすることにより、搬送手段6は水平方向に伸縮する。このような構成により、係合突起6dを介して搬送台6aと係合された自公転機構5は、搬送手段6により成膜室2と真空室3との間で搬送される。
The support 6 c of the
なお、搬送手段6は、本実施形態のものに限られない。少なくとも成膜室2と真空室3との間で自公転機構5を搬送可能なものであれば、いかなる形態であってもよい。
In addition, the conveyance means 6 is not restricted to the thing of this embodiment. Any form may be used as long as the self-revolving
回転駆動手段7は、自公転機構5の回転部51と係合して回転部51を回転駆動するものである。回転駆動手段7は、成膜室2の天板を貫通する様に取り付けられている。具体的には、回転駆動手段7は、回転部51と係合するアーム7aと、アーム7aが取り付けられた回転軸7bと、軸受7cと、モータ7dとを備えている。本実施形態では、回転駆動手段7はアーム7aを4本備えており、4本のアーム7aは、回転軸7b周りに略等間隔に配置されている。また、アーム7aの端部には、回転部51と係合するための係合部7fが形成されている。回転軸7bは、成膜室2の内部から外部へ天板を貫く様に設けられている。回転軸7bの外部部分は、成膜室2の天板の外面に固定された軸受7cにより回転自在に支持されている。回転軸7bとモータ7dとは、伝達手段7eを介して接続されている。
The rotation driving means 7 is engaged with the rotating
このような構成により、回転軸7bは、伝達手段7eを介してモータ7dに回転駆動される。このとき、回転軸7bに取り付けられたアーム7aは、回転軸7b周りに旋回することとなる。そのため、詳細については後述するが、回転部51とアーム7aとが係合し、回転駆動手段7のモータ7dが始動すると、回転部51は回転駆動手段7によって回転駆動されることとなる。
With such a configuration, the
昇降手段8は、自公転機構5の固定部52を支持すると共に昇降させるものである。昇降手段8は、成膜室2の天板を貫通する様に取り付けられている。具体的には、自公転機構5の固定部52と係合し、固定部52を支持する土台部8aと、土台部8aを吊り下げる吊り下げ部材8bと、吊り下げ部材8bを巻き上げまたは繰り出しする駆動部8cとを有している。駆動部8cが吊り下げ部材8bを巻き上げると、土台部8aは上方へ移動する。一方、駆動部8cが吊り下げ部材8bを繰り出すと、土台部8aは下方へ移動する。このような昇降手段8の動作に伴い、土台部8aに支持された固定部52は昇降することとなる。また、土台部8aには、自公転機構5の固定部52と係合する係合突起8dが設けられている。
The lifting / lowering means 8 supports and fixes the fixed
なお、昇降手段8は、本実施形態のものに限られず、いかなる形態であってもよい。例えば、本実施形態のように、土台部8aを吊り下げる吊り下げ式のものでなく、土台部8aを下方から押し上げる押し上げ式のものであってもよい。また、成膜室2の内壁面の鉛直方向にレールを設け、土台部8aがレールに沿ってスライドする様なものでもよい。また、土台部8aの形状も本実施形態のものに限られない。
In addition, the raising / lowering means 8 is not restricted to the thing of this embodiment, What kind of form may be sufficient. For example, as in the present embodiment, not the suspension type that suspends the
蒸発源9は、電子ビームを膜材に照射することにより膜材を加熱し、蒸発させるものである。蒸発源9は、成膜室2内において内底面に固定されている。
The
以上が連続式成膜装置1の概略構成である。次に、図2〜図4を用いて自公転機構5の構成について詳細に説明する。なお、図2および図3はそれぞれ、自公転機構5の側面断面図であり、図4は自公転機構5の平面図である。
The above is the schematic configuration of the continuous film forming apparatus 1. Next, the configuration of the self-revolving
−自公転機構5−
図2および図3に示すように、自公転機構5は、回転部51と、回転部51とは別体に形成された固定部52とを備えている。自公転機構5は、搬送手段6によって搬送される際には、図2に示すように、回転部51が固定部52上の所定の位置に載置されることにより回転部51と固定部52とが係合し、回転部51と固定部52とが相対回転不能な搬送形態をとる。一方、自公転機構5は、回転部51が回転駆動手段7により回転させられる際には、図3に示すように、回転部51と固定部52とが上下方向に離間されることにより回転部51と固定部52との係合が解除され、回転部51と固定部52とが相対回転可能な自公転形態をとる。具体的な動作については後述する。
-Auto-revolution mechanism 5-
As shown in FIGS. 2 and 3, the self-revolving
回転部51は、基板を支持する基板ホルダ11と、円盤形状の自転車輪12と、自転車輪12の中心を貫く自転軸13とを有している。基板ホルダ11と自転車輪12とは、自転軸13によって相対回転不能に連結されている。このような構成により、基板ホルダ11は、自転車輪12の回転に伴って、回転(自転)することとなる。なお、図4に示すように、本実施形態では、回転部51は、基板ホルダ11、自転車輪12および自転軸13をそれぞれ4つずつ有しており、これらは同一円周上に略等角度ごとに配置されている。
The rotating
また、回転部51は、4つの基板ホルダ11の角度をそれぞれ調節する4つの角度調節機構14と、角度調節機構14に接続された支持脚15とを有している。
The rotating
図2および図3に示すように、角度調節機構14は、自転車輪12を挟み込む様に設けられた2つの可動枠14aと、両可動枠14aを挟む門形の調節フレーム14bとを有している。両可動枠14aの先端部には切り欠き部18が形成されており、両可動枠14aの当該切り欠き部18には、軸17が挿通されている。これにより、両可動枠14aと軸17とは係合される。一方、調節フレーム14bの両可動枠14aとそれぞれ接する面には、溝16が形成されている。溝16は、自転車輪12の外周端12aが後述する固定部52の環状レール22と接触する点を中心とする円弧状に形成されている。両溝16には、軸17が溝16内をスライド可能な様に挿通されている。また、軸17は、図示しないボルト等の締結具を用いて調節フレーム14bにスライド不能に固定されている。
As shown in FIGS. 2 and 3, the
なお、当該締結具を取り外すと、軸17を略円弧形状の溝16内でスライドさせることが可能となる。軸17を溝16内でスライドさせると、可動枠14aの調節フレーム14bに対する角度が変わる。これにより、可動枠14aに固定された自転軸13、自転軸13に固定された基板ホルダ11および自転車輪12は、自転車輪12の環状レール22の内周面22aと接触する外周端12aを中心として揺動する。このような構成により、基板ホルダ11の水平面に対する角度を自在に調節することができる。
When the fastener is removed, the
支持脚15は、上端部に係合部15aが形成され、4つの角度調節機構14にそれぞれ取り付けられた4つの脚部材15bと、4つの脚部材15bを固定する円環状の支持部材15cとにより形成されている。係合部15aは、前述した回転駆動手段7(図1参照)の係合部7fと係合可能に形成されている。
The
固定部52は、円環状の板状体からなる土台21と、略鉛直方向を軸方向とする円筒部材からなる環状レール22と、土台21と環状レール22とを連結すると共に、環状レールを懸架する連結部材23とを有している。なお、図2に示す搬送形態においても、図3に示す自公転形態においても、自転車輪12の外周端12aは、環状レール22に接している。また、図4に示すように、土台21には、搬送台6aの係合突起6dと係合する係合孔26と、土台部8aの係合突起8dと係合する係合孔28とが形成されている。また、土台21には、支持脚15の支持部材15cに形成された係合孔(図示省略)と係合する係合突起21aが設けられている。
The fixing
図5は、環状レール22と自転車輪12との一部とを拡大して示す側面断面図である。図5に示すように、自転車輪12は、円盤状体の角部が面取りされた様な形状に形成されている。そのため、自転車輪12は、径方向外側へ向かう程、先細り形状に形成されている。
FIG. 5 is an enlarged side sectional view showing the
なお、詳細な動作については後述するが、搬送形態から自公転形態に移行する際、自転車輪12の外周端12aは、環状レール22の内周面22aに沿って、所定の静止位置P0から静止位置P0よりも上方にある走行位置P1まで摺動する。そのため、環状レール22の内周面22aの、走行位置P1よりも下方かつ自転車輪12の外周端12aが摺動する部分は、環状レール22の内周面22aの走行位置P1部分よりも滑りやすい素材によって形成されている。なお、ここで、走行位置P1部分とは、内周面22aのうち、自転車輪12が走行する際に自転車輪12の外周端12aが接触する部分を言う。
Although the detailed operation will be described later, when the transport mode is changed to the self-revolving mode, the outer
具体的には、本実施形態では、環状レール22には、潤滑剤(例えばフッ素樹脂等)がコーティングされた潤滑部材25が圧入されており、当該潤滑部材25によって内周面22aの一部が形成されている。なお、環状レール22の内周面22aの、走行位置P1よりも下方かつ自転車輪12の外周端12aが摺動する部分を形成するものは、上記潤滑部材25に限られない。例えば、環状レール22に潤滑部材25を圧入するのではなく、内周面22aの当該部分を潤滑剤によってコーティングすることとしてもよい。
Specifically, in the present embodiment, the
図2〜図4に示すように、環状レール22の下端部には、塵受け24が設けられている。本実施形態では、塵受け24は、断面L字状の円環状部材によって形成されている。
As shown in FIGS. 2 to 4, a
以上が自公転機構5の構成である。次に、図1および図6〜図12を用いて、連続式成膜装置1の動作について説明する。なお、図6〜図10および図12は、連続式成膜装置1の動作を示す側面断面図であり、図11(a),(b)は、連続式成膜装置1の動作を示す平面図である。
The above is the configuration of the self-revolving
−連続式成膜装置1の動作−
まず、真空室3に設けられたハッチ(図示省略)が開けられ、当該ハッチから自公転機構5が真空室3に搬入される。自公転機構5の搬入が完了すると、ハッチは閉じられる。ハッチが閉じられると、真空室3内は、真空装置(図示省略)によって真空状態にされる。また、真空室3に搬入された自公転機構5は、搬送手段6と係合させられ、搬送手段6によって支持される(図1参照)。
-Operation of the continuous film forming apparatus 1-
First, a hatch (not shown) provided in the
その後、図1および図6に示すように、成膜室2と真空室3との間に設けられたゲートバルブ4を開く。そして、搬送手段6により、自公転機構5を成膜室2内に搬送する。具体的には、搬送手段6のスライダ6bを支持台6c上で図1および図6の矢印方向にスライドさせると共に、搬送台6aをスライダ6b上で同方向にスライドさせる。これにより、搬送手段6は伸長し、搬送台6aは成膜室2内に到達する。これに伴い、搬送手段6と係合された自公転機構5は、成膜室2内まで搬送されることとなる(図7参照)。
Thereafter, as shown in FIGS. 1 and 6, the
なお、上述のように搬送手段6と係合し、成膜室2に搬送される際、自公転機構5は、回転部51が固定部52上の所定位置に載置されて回転部51と固定部52とが係合することにより、回転部51と固定部52とが相対回転不能である搬送形態をとる。具体的には、図2に示すように、支持脚15の支持部材15cが固定部52の土台21上の所定位置(支持部材15cの係合孔と土台21の係合突起21aとが係合可能な位置)に載置されることにより、土台21と支持部材15cとが係合する。これにより、回転部51が固定部52によって支持される形態となる。このような形態をとることにより、回転部51と固定部52とは相対回転不能となる。そのため、搬送手段6によって搬送される際に、自公転機構5の回転部51が固定部52に対して回転してしまうことを防止することができる。
In addition, when engaging with the transport means 6 as described above and transported to the
成膜室2内に自公転機構5が搬送されると、昇降手段8の駆動部8cが土台部8aを上昇させる。やがて、土台部8aの係合突起8dが固定部52の土台21に形成された係合孔26に嵌り、土台部8aと固定部52とが係合する(図8参照)。そして、土台部8aの上昇に伴い自公転機構5が持ち上げられる。これに伴い、やがて自公転機構5と搬送手段6との係合が解除され、自公転機構5は搬送手段6から離反する(図9参照)。
When the self-revolving
自公転機構5と搬送手段6とが離反した後、搬送手段6の搬送台6aとスライダ6bとは、真空室3側にスライドする。これにより、搬送手段6は真空室3内に格納される(図10参照)。搬送手段6が真空室3内に格納されたことが確認されると、ゲートバルブ4が閉じられる。
After the self-revolving
また、このとき、回転駆動手段7の回転軸7bがモータ7dによって回転駆動され、アーム7aが回転軸7b周りの所定方向(図10の矢印の方向)に旋回させられる。4本のアーム7aはそれぞれ、自公転機構5の4つの基板ホルダを支持する支持脚15の各係合部15aと等しい角度位置まで旋回させられる。このように4つのアーム7aが旋回することにより、アーム7aの各係合部7fはそれぞれ、平面視において、支持脚15の各係合部15aに重なる位置まで移動する(図11(a),(b)参照)。なお、このとき、図10に示すように、アーム7aの係合部7fと支持脚15の係合部15aとは鉛直方向において係合しない位置にある。
At this time, the
そして、次に、昇降手段8によって自公転機構5の固定部52が下降させられる。具体的には、昇降手段8の駆動部8cが駆動して土台部8aが下降する。土台部8aの下降に伴い、土台部8aと係合された固定部52も下降する。そして、固定部52の下降に伴い、固定部52に載置された回転部51も下降する。前述のように、アーム7aの各係合部7fはそれぞれ、平面視において、支持脚15の各係合部15aと重なる位置にある。そのため、回転部51が下降することによって、鉛直方向に離れていたアーム7aの係合部7fと支持脚15の係合部15aとが近づき、やがて係合する。これにより、回転部51はアーム7aを介して回転駆動手段7に吊り下げられ支持されることとなる。
Then, the fixing
また、回転部51が回転駆動手段7と係合し、回転駆動手段に支持されることとなった後も、土台部8aは下降し、固定部52も下降する。これにより、回転部51と固定部52とが上下方向に離間され、回転部51と固定部52とは相対回転可能な自公転形態となる(図12参照)。具体的には、係合することにより回転部51と固定部52とを相対回転不能にしていた部分(本実施形態では、支持脚15の支持部材15cに形成された係合孔(図示省略)と土台21に設けられた係合突起21aと)が上下方向に離間されて係合が解除されることにより、回転部51と固定部52とは相対回転可能な形態となる。
Further, even after the rotating
なお、前述したように、回転部51と固定部52とが上下方向に離れる際、つまり、搬送形態から自公転形態に移行する際、自転車輪12の外周端12aは、環状レール22の内周面22aから離れず、内周面22aに沿って上方に摺動する(図5参照)。具体的には、自転車輪12の外周端12aは、内周面22aの所定の静止位置P0から静止位置P0よりも上方にある走行位置P1まで摺動する。ここで、上述したように、環状レール22の内周面22aの、走行位置P1よりも下方かつ自転車輪12の外周端12aが摺動する部分は、内周面22aの走行位置P1部分よりも滑りやすい素材によって形成されている。そのため、自転車輪12の外周端12aは、内周面22a上を円滑に摺動する。
As described above, when the
このようにして、自公転機構5は、係合突起21aを介して係合することで相対回転不能であった回転部51と固定部52とが上下方向に切り離されることにより、相対回転可能な自公転形態となる(図12参照)。
In this manner, the self-revolving
そして、この状態において、蒸発源9によって膜材を蒸発させると共に、回転駆動手段7のモータ7dを始動させる。これにより、回転軸7bがモータ7dによって回転駆動され、回転部51が回転する。このとき、回転部51と固定部52とは、相対回転可能な状態にあり、回転部51だけが回転して固定部52は回転しない。これにより、回転しない固定部52の環状レール22の内周面22aと接触している回転部51の自転車輪12の外周端12aは、内周面22a上を走行することとなる。
In this state, the film material is evaporated by the
具体的には、本実施形態では、内周面22aの少なくとも走行位置P1部分は滑りにくい素材によって形成されている。そのため、自転車輪12が、環状レール22の内周面22aの走行位置P1部分と接触したまま、回転軸7b周りに回転すると、自転車輪12は、その外周端12aと内周面22aとの間の摩擦力により内周面22a上を走行することとなる。つまり、自転車輪12は、回転軸7b周りを公転しつつ自転軸13周りに自転することとなる。これに伴い、基板ホルダ11も回転軸7b周りを公転しつつ自転軸13周りに自転することとなる。
Specifically, in this embodiment, at least the traveling position P1 portion of the inner
このようにして、基板ホルダ11を成膜室2内において公転および自転させつつ、蒸発源9から膜材を蒸発させることにより、基板ホルダ11に保持された基板に膜材を均一に蒸着させて成膜する。成膜後は、上述の工程と逆の工程を辿る。
In this way, the film material is evaporated on the substrate held by the
具体的には、昇降手段8により固定部52が上昇し、回転部51を持ち上げる。そして、回転駆動手段7のアーム7aを前述の所定方向(図10の矢印の方向)と逆方向に旋回させて回転駆動手段7と回転部51との係合を解除する。その後、搬送手段6を再び成膜室2内に拡張させる。そして、昇降手段8により、回転部51が載置された固定部52を下降させて、固定部52と搬送手段6とを係合させる。そして、搬送手段6によって自公転機構5を真空室3に搬送する。その後、ゲートバルブ4を閉じて成膜室2内の真空状態を保ったままで、真空室3のハッチ(図示省略)を開ける。そして、当該ハッチから成膜後の基板を保持する自公転機構5を搬出し、成膜前の基板を保持する新たな自公転機構5を搬入する。
Specifically, the fixing
以上のように、本実施形態に係る連続式成膜装置1は、自公転機構5は、成膜室2内に固定されておらず、搬送手段6によって真空室3から成膜室2に搬入し、また成膜室2から真空室3へ搬出できる。また、成膜室2と真空室3との間には、ゲートバルブ4が設けられている。これにより、成膜室2が大気に開放されることなく、基板の入れ替えを行うことができる。したがって、本連続式成膜装置1によれば、自公転機構5が成膜室2内に固定された真空成膜装置と異なり、基板を取り換える度に成膜室を真空状態にし直す必要がなく、作業時間を短縮することができる。
As described above, in the continuous film forming apparatus 1 according to this embodiment, the self-revolving
また、本連続式成膜装置1によれば、自公転機構5は、搬送される際、回転部51と固定部52とが相対回転不能な搬送形態となる。そのため、搬送中に回転部51が固定部52に対して相対回転してしまうことを防止することができる。これにより、回転部51を予め設定された所定の角度で成膜室2内に搬入することができる。そのため、回転駆動手段7と回転部51とを係合させる際に、回転駆動手段7と回転部51との位置を確認する必要がない。したがって、本連続式成膜装置1によれば、回転部51の角度を確認するためにセンサ等を設ける必要がなく、発塵や振動の少ない連続式成膜装置1を簡単な構成により提供することができる。
Moreover, according to this continuous film-forming apparatus 1, when the auto-
また、本連続式成膜装置1では、自公転機構5の回転部51と固定部52とは、は、回転部51が固定部52上の所定位置に載置されることにより回転部51と固定部52とが係合(支持部材15cの係合孔と土台21の係合突起21aとが係合)することにより相対回転不能となり、回転部51と固定部52とが上下方向に離間されることにより回転部51と固定部52との係合が解除されて相対回転可能となる。
In the continuous film forming apparatus 1, the
ここで、「上下方向に離間され」とは、回転部51と固定部52との接触部分のうち、係合することにより回転部51と固定部52とを相対回転不能にしていた部分(本実施形態では、支持脚15の支持部材15cに形成された係合孔(図示省略)と土台21に設けられた係合突起21aと)が上下方向に離されることを言う。
Here, “separated in the vertical direction” means a portion of the contact portion between the rotating
このことにより、本連続式成膜装置1によれば、回転部51と固定部52との上下方向に関する相対位置を変化させるだけで、自公転機構5を容易に搬送形態または自公転形態に変化させることができる。また、本連続式成膜装置1によれば、搬送形態と自公転形態とを有する自公転機構5を簡単に構成することができる。さらに、本連続式成膜装置1では、搬送形態において、回転部51は固定部52に載置されている。そのため、自公転機構5をコンパクトな状態で搬送することができる。
As a result, according to the continuous film forming apparatus 1, the self-
本連続式成膜装置1では、固定部52の環状レール22は、鉛直方向を軸方向とする円筒部材によって形成されている。また、自転車輪12の外周端は、自公転機構5が搬送形態から自公転形態に移行する際、環状レール22の内周面22aに沿って、所定の静止位置P0から静止位置P0よりも上方にある走行位置P1まで摺動する。このように構成することにより、回転部51と固定部52とを上下方向に相対移動させるだけの簡単な作業により、回転部51と固定部52とを相対回転可能な自公転形態または相対回転不能な搬送形態に変更させることができる。
In the continuous film forming apparatus 1, the
また、本連続式成膜装置1によれば、環状レール22の内周面22aの走行位置P1よりも下方かつ自転車輪12の外周端12aが摺動する部分は、環状レール22の内周面22aの走行位置P1部分よりも滑りやすい素材によって形成されている。これにより、回転部51と固定部52とを上下方向に離間させる際、自転車輪12の外周端12aが環状レール22の内周面22aにひっかかることを抑制することができる。そのため、円滑に回転部51と固定部52との切り離し作業を行うことができる。また、このことにより、自公転機構5を円滑に搬送形態から自公転形態に移行させることができる。また、自転車輪12と環状レール22の内周面22aとの摩擦による摩耗を抑制することができる。
Further, according to the continuous film forming apparatus 1, the portion below the travel position P <b> 1 of the inner
なお、本実施形態では、内周面22aの少なくとも走行位置P1部分は滑りにくい素材によって形成されている。そのため、自転車輪12が走行位置において環状レール22に対して滑ってしまうことを抑制しつつ、自転車輪12を走行させることができる。これにより、基板ホルダ11の自転を円滑に行わせることができる。
In the present embodiment, at least the traveling position P1 portion of the inner
さらに、本連続式成膜装置1の環状レール22の下端部には、環状レール22の内側に突出する塵受け24が設けられている。このことにより、たとえ自転車輪12と環状レール22の内周面22aとの摩擦により発塵しても、塵受け24に集められる。そのため、基板への塵の付着を防止し、精度良く成膜を行うことができる。
Further, a
また、本連続式成膜装置1では、自転車輪12は、円盤状体の角部が面取りされた様な形状に形成されている。このことにより、自転車輪12と環状レール22の内周面22aとは滑らかに接触することとなる。そのため、本連続式成膜装置1によれば、自転車輪12の走行によって環状レール22の内周面22aが損傷することを抑制することができる。
In the continuous film forming apparatus 1, the
ところで、従来の遊星歯車機構を用いた連続式成膜装置では、基板ホルダの角度を変更するためには、歯車どうしの噛み合う角度を変更する必要があり、歯車自体を取り換える等の作業が必要であった。そのため、基板ホルダの角度を容易に変更することができなかった。 By the way, in the continuous film forming apparatus using the conventional planetary gear mechanism, in order to change the angle of the substrate holder, it is necessary to change the angle at which the gears mesh with each other, and work such as replacing the gear itself is required. there were. Therefore, the angle of the substrate holder cannot be easily changed.
しかし、本連続式成膜装置1の回転部51は、基板ホルダ11の角度を調節する角度調節機構14を有している。具体的には、角度調節機構14により、自転車輪12の環状レール22の内周面22aと接触する外周端12aを中心として、基板ホルダ11、自転車輪12および自転軸13が一体となって揺動可能に構成されている。そのため、本連続式成膜装置1によれば、構成部材を取り換えることなく、基板ホルダ11の角度を容易に変更することができる。そのため、基板の形状に応じてより好適に成膜することができる。
However, the rotating
また、本連続式成膜装置1では、回転駆動手段7の複数のアーム7aの係合部7fと、回転部51の複数の係合部7fとは、アーム7aがモータ7dによって、所定方向(図10の矢印の方向)に旋回させられることにより係合し、所定方向と逆方向に旋回させられることにより係合が解除される。このようにして、本連続式成膜装置1によれば、容易に回転駆動手段7と回転部51とを係合させることができる。
In the continuous film forming apparatus 1, the
さらに、本連続式成膜装置1では、自公転機構5は、回転部51が回転駆動手段7と係合した後、昇降手段8が固定部52を降下させることにより、回転部51と固定部52とが上下方向に離された自公転形態となる。したがって、本連続式成膜装置1によれば、昇降手段8を用いて回転部51と固定部52とを容易に上下方向に離間させることができる。そのため、本連続式成膜装置1によれば、自公転機構5を、搬送形態から自公転形態に容易に移行させることができる。
Further, in the continuous film forming apparatus 1, the self-
なお、本実施形態では、真空室3は、成膜室2の真空状態を保つためだけの用途に使用されていたが、真空室3はこれに限られない。例えば、真空室3も成膜を行うために真空状態に保たれた成膜室であってもよい。
In the present embodiment, the
以上説明したように、本発明は、連続的に基板に薄膜を形成する連続式成膜装置について有用である。 As described above, the present invention is useful for a continuous film forming apparatus that continuously forms a thin film on a substrate.
1 連続式成膜装置
2 成膜室
3 真空室
4 ゲートバルブ
5 自公転機構
6 搬送手段
7 回転駆動手段
7a アーム
7b 回転軸
7d モータ
7f 係合部(アーム係合部)
8 昇降手段
8d 係合突起
9 蒸発源
11 基板ホルダ
12 自転車輪
12a 外周端
13 自転軸
14 角度調節機構
15a 係合部
21 土台
21a 係合突起
22 環状レール
22a 内周面
23 連結部材
24 塵受け
25 潤滑部材
51 回転部
52 固定部
P0 静止位置
P1 走行位置
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Continuous film-forming
DESCRIPTION OF
Claims (9)
前記成膜室と連続する真空室と、
前記成膜室と前記真空室とを仕切り、開閉可能なゲートバルブと、
環状レールを有する固定部と、
基板を支持する基板ホルダと、前記環状レールを走行可能に構成された略円盤形状の自転車輪と、前記自転車輪の中心と前記基板ホルダの中心とを連結し、前記自転車輪の走行に伴い前記基板ホルダを自転させる自転軸と、を有する回転部と、
を有する自公転機構と、
前記成膜室に設置され、前記回転部と係合し、前記回転部を回転駆動する回転駆動手段と、
少なくとも前記成膜室と前記真空室との間で前記自公転機構を搬送する搬送手段と、を備え、
前記自公転機構は、
前記搬送手段により搬送される際には、前記回転部と前記固定部とが相対回転不能である搬送形態となり、
前記回転部が前記回転駆動手段により回転させられる際には、前記回転部と前記固定部とが相対回転可能である自公転形態となる、連続式成膜装置。 A film formation chamber for performing film formation on the substrate in a vacuum state;
A vacuum chamber continuous with the film forming chamber;
A gate valve that partitions the film formation chamber and the vacuum chamber and can be opened and closed;
A fixed part having an annular rail;
A substrate holder that supports the substrate, a substantially disc-shaped bicycle wheel configured to be able to travel on the annular rail, a center of the bicycle wheel and a center of the substrate holder are connected, and the bicycle wheel is moved along with the traveling of the bicycle wheel. A rotating part having a rotation axis for rotating the substrate holder; and
A self-revolving mechanism having
A rotation driving means that is installed in the film forming chamber, engages with the rotation unit, and rotates the rotation unit;
Transport means for transporting the revolving mechanism between at least the film forming chamber and the vacuum chamber,
The revolving mechanism is
When transported by the transport means, the rotating unit and the fixed unit are transported in a relatively non-rotatable manner,
A continuous film forming apparatus in which, when the rotating unit is rotated by the rotation driving unit, the rotating unit and the fixed unit are rotated and revolved relative to each other.
前記自公転機構は、
前記回転部が前記固定部上の所定位置に載置されて前記回転部と前記固定部とが係合することにより前記搬送形態となり、
前記回転部と前記固定部とが上下方向に離間されて前記回転部と前記固定部との係合が解除されることにより前記自公転形態となる、連続式成膜装置。 The continuous film forming apparatus according to claim 1,
The revolving mechanism is
The rotating portion is placed at a predetermined position on the fixed portion, and the rotating portion and the fixed portion engage with each other to form the transport mode.
A continuous film forming apparatus in which the rotating part and the fixed part are spaced apart in the vertical direction and the engagement between the rotating part and the fixed part is released, so that the self-revolving mode is achieved.
前記環状レールは、鉛直方向を軸方向とする円筒部材からなり、
前記自転車輪の外周端は、前記自公転機構が前記搬送形態から前記自公転形態に移行する際、前記環状レールの内周面に沿って、所定の静止位置から前記静止位置よりも上方にある走行位置まで摺動する、連続式成膜装置。 The continuous film forming apparatus according to claim 2,
The annular rail is composed of a cylindrical member whose axial direction is the vertical direction,
The outer peripheral end of the bicycle wheel is above a predetermined rest position from a predetermined rest position along the inner peripheral surface of the annular rail when the self-revolution mechanism shifts from the transport mode to the self-revolution mode. Continuous film deposition system that slides to the running position.
前記環状レールの内周面の前記走行位置よりも下方かつ前記自転車輪の外周端が摺動する部分は、前記環状レールの内周面の前記走行位置部分よりも滑りやすい素材によって形成されている、連続式成膜装置。 The continuous film forming apparatus according to claim 3,
The portion of the inner peripheral surface of the annular rail that is lower than the traveling position and the outer peripheral end of the bicycle wheel slides is formed of a material that is more slippery than the traveling position portion of the inner peripheral surface of the annular rail. Continuous film forming equipment.
前記環状レールの下端部には、前記環状レールの内側に突出する塵受けが設けられている、連続式成膜装置。 The continuous film forming apparatus according to claim 3 or 4,
A continuous film forming apparatus in which a dust receiver is provided at a lower end portion of the annular rail and protrudes inside the annular rail.
前記自転車輪は、円盤状体の角部が面取りされた様な形状に形成されている、連続式成膜装置。 A continuous film forming apparatus according to any one of claims 3 to 5,
The bicycle ring is a continuous film forming apparatus in which a corner portion of a disk-like body is formed in a chamfered shape.
前記回転部は、前記基板ホルダの角度を調節する角度調節機構を有している、連続式成膜装置。 The continuous film forming apparatus according to any one of claims 1 to 6,
The rotating part has a continuous film forming apparatus having an angle adjusting mechanism for adjusting an angle of the substrate holder.
前記回転駆動手段は、モータと、前記モータによって回転駆動される駆動軸と、前記駆動軸から径方向外側に延びる複数のアームと、を有し、
前記複数のアームのそれぞれにはアーム係合部が形成され、
前記回転部は、前記複数のアーム係合部と係合するための複数の係合部を有し、
前記複数のアーム係合部と前記複数の係合部とは、前記アームが前記モータによって、所定方向に旋回させられることにより係合し、前記所定方向と逆方向に旋回させられることにより係合が解除される、連続式成膜装置。 A continuous film forming apparatus according to any one of claims 1 to 7,
The rotational drive means includes a motor, a drive shaft that is rotationally driven by the motor, and a plurality of arms that extend radially outward from the drive shaft,
Each of the plurality of arms is formed with an arm engaging portion,
The rotating portion has a plurality of engaging portions for engaging with the plurality of arm engaging portions,
The plurality of arm engaging portions and the plurality of engaging portions are engaged when the arm is turned in a predetermined direction by the motor and is turned in a direction opposite to the predetermined direction. Is a continuous film forming apparatus.
前記成膜室において、前記固定部と係合して前記固定部を支持すると共に、前記固定部を昇降させる昇降手段をさらに備え、
前記自公転機構は、前記回転部が前記回転駆動手段と係合した後、前記昇降手段が前記固定部を降下させることにより、前記回転部と前記固定部とが上下方向に離間された自公転形態となる、連続式成膜装置。 A continuous film forming apparatus according to any one of claims 1 to 8,
The film forming chamber further includes an elevating unit that engages with the fixing unit to support the fixing unit, and moves the fixing unit up and down.
The self-revolving mechanism is configured such that after the rotating part is engaged with the rotation driving means, the elevating means lowers the fixing part, whereby the rotating part and the fixing part are separated in the vertical direction. A continuous film forming apparatus in the form.
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2007
- 2007-06-13 JP JP2007156092A patent/JP2008308714A/en active Pending
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