JP2008307153A - Super low-resilience dust wipe material and manufacturing method for super low-resilience dust wipe material - Google Patents

Super low-resilience dust wipe material and manufacturing method for super low-resilience dust wipe material Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a super low-resilience dust wipe material capable of eliminating nano-sized fine dusts and suppressing generation of lint from the dust wiper material itself. <P>SOLUTION: The super low-resilience dust wipe material 10 for a clean room includes a flexible base material 20, a first nano fiber layer 30 formed on one surface in the flexible base material 20, and a second nano fiber layer 40 formed on the other surface in the flexible base material 20. Dust-free processing is applied to an end surface of the super low-resilience dust wipe material 10. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、超低発塵拭き取り材及び超低発塵拭き取り材の製造方法に関する。   The present invention relates to an ultra-low dust wiping material and a method for manufacturing an ultra-low dust wiping material.

例えばクリーンルームのように、環境の管理された室内で用いる超低発塵拭き取り材として、近年、種々の拭き取り材が提案されている。このような超低発塵拭き取り材として、例えば、不織布からなる超低発塵拭き取り材が知られている(例えば、特許文献1参照。)。   In recent years, various wiping materials have been proposed as ultra-low dust wiping materials used in a room where the environment is controlled, such as a clean room. As such an ultra-low dust wiping material, for example, an ultra-low dust wiping material made of a nonwoven fabric is known (see, for example, Patent Document 1).

特開2001−329458号公報JP 2001-329458 A

ところで、超低発塵拭き取り材においては、ナノサイズの微小なゴミ(埃など)を除去可能であることが要求されるとともに、拭き取り材自体から微小な塵や繊維状の屑、素材の欠片など(以下、リントという。)の発生が少ないことが要求される。   By the way, ultra-low dust generation wiping materials are required to be able to remove nano-sized minute dust (dust etc.), and from the wiping material itself, minute dust, fibrous debris, material fragments, etc. (Hereinafter, referred to as lint) is required to be small.

そこで、本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、ナノサイズの微小なゴミを除去することが可能で、かつ、拭き取り材自体からのリントの発生を抑制することが可能な超低発塵拭き取り材及び超低発塵拭き取り材の製造方法を提供することを目的とする。   Therefore, the present invention has been made in view of such circumstances, and it is possible to remove nano-sized minute dust and to suppress generation of lint from the wiping material itself. It aims at providing the manufacturing method of a low dust generation wiping material and an ultra-low dust generation wiping material.

本発明者らは、上記目的を達成するため、従来の超低発塵拭き取り材において、拭き取り材のいずれの部分からリントが発生するかを探るべく鋭意研究を重ねた結果、拭き取り材自体から発生するリントは、拭き取り材の両表面だけでなく、拭き取り材の端面からも発生するという知見を得た。   In order to achieve the above object, the present inventors have conducted extensive research to find out from which part of the wiping material the lint is generated in the conventional ultra-low dust generation wiping material. It was found that lint to be generated is generated not only from both surfaces of the wiping material but also from the end surface of the wiping material.

そこで、本発明者らは、さらなる研究を重ねた結果、可撓性基材の両表面にナノ繊維層を形成するとともに、拭き取り材の端面を無塵化処理することによって、ナノサイズの微小なゴミを除去することが可能となるとともに、拭き取り材の両表面及び拭き取り材の端面からのリントの発生を抑制することができ、上記した目的を達成することができることを見出し、本発明を完成させるに至った。   Therefore, as a result of further research, the present inventors have formed nanofiber layers on both surfaces of the flexible base material, and by performing dust-free treatment on the end surfaces of the wiping material, It is possible to remove dust and suppress the occurrence of lint from both surfaces of the wiping material and from the end surface of the wiping material, and it is found that the above-described object can be achieved, thereby completing the present invention. It came to.

(1)本発明の超低発塵拭き取り材は、可撓性基材と、前記可撓性基材における一方の面上に形成された第1ナノ繊維層と、前記可撓性基材における他方の面上に形成された第2ナノ繊維層とを備える超低発塵拭き取り材であって、前記超低発塵拭き取り材の端面が無塵化処理されていることを特徴とする。 (1) The ultra-low dust generation wiping material of the present invention includes a flexible substrate, a first nanofiber layer formed on one surface of the flexible substrate, and the flexible substrate. An ultra-low dust wiping material comprising a second nanofiber layer formed on the other surface, wherein the end surface of the ultra-low dust wiping material is treated to be dust-free.

このため、本発明の超低発塵拭き取り材によれば、拭き取り材の両表面はナノ繊維層からなるため、ナノサイズの微小なゴミを除去することが可能となる。   For this reason, according to the ultra-low dust generation wiping material of the present invention, since both surfaces of the wiping material are composed of nanofiber layers, it is possible to remove nano-sized fine dust.

また、本発明の超低発塵拭き取り材によれば、可撓性基材の両表面はナノ繊維層によって覆われているため、可撓性基材の両表面からのリントの発生を防止することが可能となる。また、ナノ繊維層は、可撓性基材に比べると表面から発生するリントの量が少ないため、拭き取り材の両表面から発生するリントを従来よりも少なくすることが可能となる。   Moreover, according to the ultra-low dust generation wiping material of the present invention, since both surfaces of the flexible base material are covered with the nanofiber layer, generation of lint from both surfaces of the flexible base material is prevented. It becomes possible. In addition, since the nanofiber layer has a smaller amount of lint generated from the surface than the flexible base material, it is possible to reduce lint generated from both surfaces of the wiping material.

また、本発明の超低発塵拭き取り材によれば、超低発塵拭き取り材の端面が無塵化処理されているため、可撓性基材、第1ナノ繊維層及び第2ナノ繊維層の端面が外部に露出することがない。このため、拭き取り材の端面からのリントの発生を抑制することが可能となる。   Moreover, according to the ultra-low dust generation wiping material of the present invention, since the end surface of the ultra-low dust generation wiping material is treated to be dust-free, the flexible substrate, the first nanofiber layer, and the second nanofiber layer The end face of is not exposed to the outside. For this reason, it becomes possible to suppress generation | occurrence | production of the lint from the end surface of a wiping off material.

したがって、本発明の超低発塵拭き取り材は、ナノサイズの微小なゴミを除去することが可能で、かつ、拭き取り材自体からのリントの発生を抑制することが可能な超低発塵拭き取り材となる。   Therefore, the ultra-low dust generation wiping material of the present invention can remove nano-sized minute dust and can suppress the occurrence of lint from the wiping material itself. It becomes.

なお、従来の超低発塵拭き取り材を強化洗浄することによって、拭き取り材自体からのリントの発生をある程度は少なくすることができるが、拭き取り材に対して負荷をかけてしまうという問題がある。このため、従来の超低発塵拭き取り材においては、強化洗浄に起因する負荷を考慮して拭き取り材の材料や厚さ等を決めなければならず、拭き取り材の設計の自由度が低い。
これに対し、本発明の超低発塵拭き取り材によれば、上述のように、強化洗浄することなく、拭き取り材自体からのリントの発生を抑制することが可能であることから、強化洗浄に起因する負荷を考慮することなく、拭き取り材の材料や厚さ等を比較的自由に決めることができ、拭き取り材の設計の自由度が比較的高いという効果がある。
In addition, although the generation | occurrence | production of the lint from the wiping material itself can be reduced to some extent by carrying out the intensive washing | cleaning of the conventional ultra-low dust generation wiping material, there exists a problem that a load is applied with respect to the wiping material. For this reason, in the conventional ultra-low dust wiping material, the material and thickness of the wiping material must be determined in consideration of the load caused by the intensive cleaning, and the degree of freedom in designing the wiping material is low.
On the other hand, according to the ultra-low dust generation wiping material of the present invention, as described above, it is possible to suppress the occurrence of lint from the wiping material itself without performing intensive cleaning, and therefore, for reinforced cleaning. The material and thickness of the wiping material can be determined relatively freely without considering the resulting load, and the wiping material can be designed with a relatively high degree of freedom.

この明細書において「無塵化処理」とは、可撓性基材、第1ナノ繊維層及び第2ナノ繊維層の端面からのリントの発生を抑制するための処理のことを意味しており、後述するように、溶融処理や樹脂による被覆処理などを例示することができる。   In this specification, “dust-free treatment” means a treatment for suppressing the occurrence of lint from the end surfaces of the flexible substrate, the first nanofiber layer, and the second nanofiber layer. As will be described later, a melting treatment, a coating treatment with a resin, and the like can be exemplified.

本発明の超低発塵拭き取り材においては、前記可撓性基材の材料が、繊維材料である場合に特に効果がある。
繊維材料からなる可撓性基材(例えば不織布、織布、編布、紙など)は、繊維材料以外の材料からなる可撓性基材(例えばフィルムなど)に比べて、可撓性基材の表面からリントが発生しやすい。このように、可撓性基材が繊維材料からなる場合であっても、本発明の超低発塵拭き取り材によれば、繊維材料からなる可撓性基材の両表面はナノ繊維層によって覆われているため、可撓性基材の両表面からのリントの発生を防止することが可能となる。また、ナノ繊維層は、繊維材料からなる可撓性基材に比べると表面から発生するリントの量が少ないため、拭き取り材の両表面から発生するリントを従来よりも少なくすることが可能となる。
The ultra-low dust generation wiping material of the present invention is particularly effective when the material of the flexible base material is a fiber material.
A flexible substrate made of a fiber material (eg, non-woven fabric, woven fabric, knitted fabric, paper) is more flexible than a flexible substrate made of a material other than the fiber material (eg, film). Lint tends to occur from the surface of the surface. Thus, even if the flexible substrate is made of a fiber material, according to the ultra-low dust generation wiping material of the present invention, both surfaces of the flexible substrate made of the fiber material are made of nanofiber layers. Since it is covered, generation of lint from both surfaces of the flexible substrate can be prevented. Moreover, since the amount of lint generated from the surface of the nanofiber layer is smaller than that of a flexible substrate made of a fiber material, it is possible to reduce lint generated from both surfaces of the wiping material. .

(2)本発明の超低発塵拭き取り材においては、前記超低発塵拭き取り材の端面は、溶融処理されていることが好ましい。 (2) In the ultra-low dust generation wiping material of the present invention, the end surface of the ultra-low dust generation wiping material is preferably melt-treated.

(3)本発明の超低発塵拭き取り材においては、前記超低発塵拭き取り材の端面は、樹脂で被覆されていることが好ましい。 (3) In the ultra-low dust generation wiping material of the present invention, the end surface of the ultra-low dust generation wiping material is preferably coated with a resin.

このように構成することにより、可撓性基材、第1ナノ繊維層及び第2ナノ繊維層の端面が外部に露出することがなくなり、拭き取り材の端面からのリントの発生を効果的に抑制することが可能となる。   By comprising in this way, the end surface of a flexible base material, a 1st nanofiber layer, and a 2nd nanofiber layer will not be exposed outside, and generation | occurrence | production of the lint from the end surface of a wiping material is suppressed effectively. It becomes possible to do.

(4)本発明の超低発塵拭き取り材においては、前記第1ナノ繊維層及び前記第2ナノ繊維層は、エレクトロスピニング法によって形成されていることが好ましい。 (4) In the ultra-low dust wiping material of the present invention, the first nanofiber layer and the second nanofiber layer are preferably formed by an electrospinning method.

エレクトロスピニング法は、他の方法(例えば溶融紡糸法など)に比べてナノ繊維の平均直径を小さくすることができ、第1ナノ繊維層及び第2ナノ繊維層の比表面積を大きくすることができる。このため、吸着性に優れた拭き取り材となる。また、エレクトロスピニング法は、ナノ繊維として用いる材料を変更する場合やナノ繊維の平均直径を変更する場合などにも幅広く対応することができ、初期投資を低く抑えることができることから、製造コストの安価な拭き取り材となる。   The electrospinning method can reduce the average diameter of the nanofibers and can increase the specific surface area of the first nanofiber layer and the second nanofiber layer compared to other methods (for example, melt spinning method). . For this reason, it becomes a wiping material excellent in adsorptivity. In addition, the electrospinning method can be widely used when changing the materials used as nanofibers or when changing the average diameter of nanofibers, and can reduce the initial investment. It becomes a wiping material.

(5)本発明の超低発塵拭き取り材においては、前記第1ナノ繊維層及び前記第2ナノ繊維層は、平均直径が50nm〜800nmのナノ繊維からなり、かつ、50nm〜1000nmの空孔サイズを有することが好ましい。 (5) In the ultra-low dust generation wiping material of the present invention, the first nanofiber layer and the second nanofiber layer are made of nanofibers having an average diameter of 50 nm to 800 nm and have pores of 50 nm to 1000 nm. It is preferable to have a size.

このように構成することにより、ナノサイズの微小なゴミを効果的に除去することが可能となるとともに、ナノ繊維層に取り込んだ微小なゴミが再び外部に放出されるのを抑制することが可能となる。   By configuring in this way, it is possible to effectively remove nano-sized fine dust, and it is possible to suppress the release of fine dust taken into the nanofiber layer to the outside again. It becomes.

(6)本発明の超低発塵拭き取り材においては、前記第1ナノ繊維層及び前記第2ナノ繊維層の厚さは、0.1μm〜500μmであることが好ましい。 (6) In the ultra-low dust generation wiping material of the present invention, the first nanofiber layer and the second nanofiber layer preferably have a thickness of 0.1 μm to 500 μm.

このように構成することにより、可撓性基材の両表面からのリントの発生を確実に防止することが可能となるとともに、十分な拭き取り効果を備える超低発塵拭き取り材となる。   By constituting in this way, it becomes possible to surely prevent the occurrence of lint from both surfaces of the flexible base material, and it becomes an ultra-low dust generation wiping material having a sufficient wiping effect.

(7)本発明の超低発塵拭き取り材においては、前記超低発塵拭き取り材の端面における無塵化処理されている部分の幅は、0.1μm〜5000μmであることが好ましい。 (7) In the ultra-low dust generation wiping material of the present invention, it is preferable that the width of the portion of the end face of the ultra-low dust generation wiping material that has been subjected to the dust-free treatment is 0.1 μm to 5000 μm.

超低発塵拭き取り材の端面における無塵化処理されている部分の幅が0.1μm未満である場合、超低発塵拭き取り材を使用した際に無塵化処理されている部分が割れたり欠けたりする場合があり、拭き取り材の端面からのリントの発生を抑制することが困難となる可能性がある。
一方、超低発塵拭き取り材の端面における無塵化処理されている部分の幅が5000μmを超える場合、当該無塵化処理されている部分が裂ける場合があり、拭き取り材の端面からのリントの発生を抑制することが困難となる可能性がある。また、拭き取り材における未溶融部分と溶融部分との表面差(表面の違い)により、拭き取り性にバラつきが出る可能性がある。
このような観点から、超低発塵拭き取り材の端面における無塵化処理されている部分の幅は、0.5μm〜1000μmであることが好ましく、1μm〜200μmであることがより好ましく、2μm〜50μmであることがさらに好ましい。
When the width of the part where the dust-removing treatment is performed on the end face of the ultra-low dust generation wiping material is less than 0.1 μm, the part subjected to the dust-removing treatment may break when using the ultra-low dust generation wiping material. It may be chipped, and it may be difficult to suppress the occurrence of lint from the end face of the wiping material.
On the other hand, if the width of the part subjected to the dust removal treatment on the end face of the ultra-low dust generation wiping material exceeds 5000 μm, the part subjected to the dust removal treatment may tear, and the lint from the end face of the wiping material may be broken. It may be difficult to suppress the occurrence. In addition, there is a possibility that the wiping performance may vary due to a surface difference (surface difference) between an unmelted portion and a molten portion in the wiping material.
From such a viewpoint, the width of the part subjected to the dust-free treatment on the end face of the ultra-low dust wiping material is preferably 0.5 μm to 1000 μm, more preferably 1 μm to 200 μm, and more preferably 2 μm to 2 μm. More preferably, it is 50 μm.

(8)本発明の超低発塵拭き取り材においては、前記超低発塵拭き取り材は、クリーンルーム用の拭き取り材であることが好ましい。 (8) In the ultra-low dust generation wiping material of the present invention, the ultra-low dust generation wiping material is preferably a clean room wiping material.

クリーンルームのような環境の管理された室内では、ナノサイズの微小なゴミを除去することが可能であることに加えて、拭き取り材自体からのリントの発生が少ないものであることが求められる。
本発明の超低発塵拭き取り材によれば、上述のように、ナノサイズの微小なゴミを除去することが可能で、かつ、拭き取り材自体からのリントの発生を抑制することが可能であるため、クリーンルームで使用するのに適したものとなる。
In a room with a controlled environment such as a clean room, in addition to being able to remove nano-sized fine dust, it is required that the lint from the wiping material itself be less generated.
According to the ultra-low dust generation wiping material of the present invention, as described above, it is possible to remove nano-sized fine dust and to suppress the occurrence of lint from the wiping material itself. Therefore, it is suitable for use in a clean room.

(9)本発明の超低発塵拭き取り材の製造方法は、可撓性基材を準備する可撓性基材準備工程と、前記可撓性基材における一方の面上に第1ナノ繊維層を形成する第1ナノ繊維層形成工程と、前記可撓性基材における他方の面上に第2ナノ繊維層を形成する第2ナノ繊維層形成工程と、前記可撓性基材、前記第1ナノ繊維層及び前記第2ナノ繊維層の端面を無塵化処理する無塵化処理工程とを含むことを特徴とする。 (9) The manufacturing method of the ultra-low dust generation wiping material of the present invention includes a flexible substrate preparation step of preparing a flexible substrate, and a first nanofiber on one surface of the flexible substrate. A first nanofiber layer forming step of forming a layer, a second nanofiber layer forming step of forming a second nanofiber layer on the other surface of the flexible substrate, the flexible substrate, And a dust-free treatment step of dust-treating the end surfaces of the first nanofiber layer and the second nanofiber layer.

このため、本発明の超低発塵拭き取り材の製造方法によれば、可撓性基材の両表面にナノ繊維層を形成するとともに、可撓性基材、第1ナノ繊維層及び第2ナノ繊維層の端面を無塵化処理することとしているため、ナノサイズの微小なゴミを除去することが可能で、かつ、拭き取り材自体からのリントの発生を抑制することが可能な超低発塵拭き取り材を製造することができる。   For this reason, according to the manufacturing method of the ultra-low dust generation wiping material of this invention, while forming a nanofiber layer on both surfaces of a flexible base material, a flexible base material, a 1st nanofiber layer, and a 2nd Because the end face of the nanofiber layer is treated to be dust-free, it is possible to remove nano-sized fine dust and to suppress the occurrence of lint from the wiping material itself. A dust wiping material can be manufactured.

本発明の超低発塵拭き取り材の製造方法においては、前記可撓性基材として、繊維材料からなる可撓性基材を用いた場合に特に効果がある。
繊維材料からなる可撓性基材(例えば不織布、織布、編布、紙など)は、繊維材料以外の材料からなる可撓性基材(例えばフィルムなど)に比べて、可撓性基材の表面からリントが発生しやすい。このように、繊維材料からなる可撓性基材を用いた場合であっても、本発明の超低発塵拭き取り材の製造方法によれば、繊維材料からなる可撓性基材の両表面はナノ繊維層によって覆われているため、可撓性基材の両表面からのリントの発生を防止することが可能となる。また、ナノ繊維層は、繊維材料からなる可撓性基材に比べると表面から発生するリントの量が少ないため、拭き取り材の両表面から発生するリントを従来よりも少なくすることが可能な超低発塵拭き取り材を製造することができる。
The method for producing an ultra-low dust wiping material of the present invention is particularly effective when a flexible substrate made of a fiber material is used as the flexible substrate.
A flexible substrate made of a fiber material (eg, non-woven fabric, woven fabric, knitted fabric, paper) is more flexible than a flexible substrate made of a material other than the fiber material (eg, film). Lint tends to occur from the surface of the surface. Thus, even when a flexible base material made of a fiber material is used, both surfaces of the flexible base material made of a fiber material can be obtained according to the method for producing an ultra-low dust generation wiping material of the present invention. Is covered with the nanofiber layer, it is possible to prevent the occurrence of lint from both surfaces of the flexible substrate. In addition, since the amount of lint generated from the surface of the nanofiber layer is smaller than that of a flexible substrate made of a fiber material, the lint generated from both surfaces of the wiping material can be reduced more than before. A low dusting wiping material can be produced.

(10)本発明の超低発塵拭き取り材の製造方法において、前記無塵化処理工程においては、前記可撓性基材、前記第1ナノ繊維層及び前記第2ナノ繊維層を溶融処理することが好ましい。 (10) In the manufacturing method of the ultra-low dust generation wiping material of the present invention, in the dust-free processing step, the flexible substrate, the first nanofiber layer, and the second nanofiber layer are melt-processed. It is preferable.

(11)本発明の超低発塵拭き取り材の製造方法において、前記無塵化処理工程においては、前記可撓性基材、前記第1ナノ繊維層及び前記第2ナノ繊維層の端面を樹脂で被覆処理することが好ましい。 (11) In the method for producing an ultra-low dust generation wiping material of the present invention, in the dust-free processing step, the flexible substrate, the first nanofiber layer, and the second nanofiber layer are end-resined. It is preferable to coat with.

可撓性基材、第1ナノ繊維層及び第2ナノ繊維層を溶融処理又は樹脂で被覆処理することにより、可撓性基材、第1ナノ繊維層及び第2ナノ繊維層の端面が外部に露出することがなくなり、拭き取り材の端面からのリントの発生を抑制することが可能となる。   The flexible substrate, the first nanofiber layer, and the second nanofiber layer are melt-treated or coated with a resin so that the end surfaces of the flexible substrate, the first nanofiber layer, and the second nanofiber layer are external. It is possible to suppress the occurrence of lint from the end surface of the wiping material.

なお、溶融処理としては、例えば、溶断カット処理やレーザカット処理を好適に用いることができる。   In addition, as a melting process, a fusing cut process and a laser cut process can be used suitably, for example.

(12)本発明の超低発塵拭き取り材の製造方法において、前記第1ナノ繊維層形成工程及び前記第2ナノ繊維層形成工程においては、エレクトロスピニング法によって前記第1ナノ繊維層又は前記第2ナノ繊維層を形成することが好ましい。 (12) In the manufacturing method of the ultra-low dust generation wiping material of the present invention, in the first nanofiber layer forming step and the second nanofiber layer forming step, the first nanofiber layer or the first nanofiber layer is formed by electrospinning. It is preferable to form two nanofiber layers.

エレクトロスピニング法は、他の方法(例えば溶融紡糸法など)に比べて、ナノ繊維の平均直径を小さくすることができ、第1ナノ繊維層及び第2ナノ繊維層の比表面積を大きくすることができる。このため、吸着性に優れた拭き取り材を製造することができる。また、エレクトロスピニング法は、ナノ繊維として用いる材料を変更する場合やナノ繊維の平均直径を変更する場合などにも幅広く対応することができ、初期投資を低く抑えることができることから、製造コストの低廉化を図ることが可能となる。   The electrospinning method can reduce the average diameter of the nanofibers and increase the specific surface area of the first nanofiber layer and the second nanofiber layer compared to other methods (for example, melt spinning method). it can. For this reason, the wiping material excellent in adsorptivity can be manufactured. In addition, the electrospinning method can be widely used when changing the material used as nanofibers or when changing the average diameter of nanofibers, and the initial investment can be kept low. Can be achieved.

(13)本発明の超低発塵拭き取り材の製造方法においては、前記第1ナノ繊維層及び前記第2ナノ繊維層は、同じ材料からなることが好ましい。 (13) In the manufacturing method of the ultra-low dust generation wiping material of this invention, it is preferable that a said 1st nanofiber layer and a said 2nd nanofiber layer consist of the same material.

このような方法とすることにより、第1ナノ繊維層形成工程と第2ナノ繊維層形成工程で同じ材料を用いることが可能となるため、超低発塵拭き取り材の製造が容易となり、製造コストの低廉化を図ることが可能となる。   By adopting such a method, it becomes possible to use the same material in the first nanofiber layer forming step and the second nanofiber layer forming step, which facilitates the manufacture of the ultra-low dust wiping material, and the manufacturing cost. It is possible to reduce the cost.

(14)本発明の超低発塵拭き取り材の製造方法においては、前記第1ナノ繊維層と前記第2ナノ繊維層とは、異なる材料からなることが好ましい。 (14) In the method for producing an ultra-low dust wiping material of the present invention, the first nanofiber layer and the second nanofiber layer are preferably made of different materials.

このような方法とすることにより、面によって異なる拭き取り特性を持った超低発塵拭き取り材を製造することができる。例えば、拭き取り可能なゴミの最小サイズが面によって異なる超低発塵拭き取り材や、吸水性や耐薬品性などの程度が面によって異なる超低発塵拭き取り材を製造することができる。   By setting it as such a method, the ultra-low-dust generation wiping material which has the wiping characteristic which changes with surfaces can be manufactured. For example, it is possible to produce an ultra-low dust generation wiping material in which the minimum size of dust that can be wiped off varies depending on the surface, and an ultra-low dust generation wiping material in which the degree of water absorption or chemical resistance varies depending on the surface.

以下、本発明の超低発塵拭き取り材及び超低発塵拭き取り材の製造方法について、図に示す実施の形態に基づいて説明する。   Hereinafter, the manufacturing method of the ultra-low dust generation wiping material and the ultra-low dust generation wiping material of the present invention will be described based on the embodiments shown in the drawings.

[実施形態]
まず、実施形態に係る超低発塵拭き取り材10の構成について、図1及び図2を用いて説明する。
[Embodiment]
First, the structure of the ultra-low dust generation wiping material 10 according to the embodiment will be described with reference to FIGS. 1 and 2.

図1は、実施形態に係る超低発塵拭き取り材10を説明するために示す図である。図1(a)は超低発塵拭き取り材10の断面を模式的に示す図であり、図1(b)は第1ナノ繊維層30の拡大上面図である。なお、図1(a)において、可撓性基材20に対する第1ナノ繊維層30及び第2ナノ繊維層40の厚さ並びに溶融部50の幅等については、誇張して示している。
図2は、実施形態に係る超低発塵拭き取り材10を説明するために示す図である。図2(a)は第1ナノ繊維層30の断面電子顕微鏡写真であり、図2(b)は第1ナノ繊維層30のナノ繊維32に埃Dが付着したときの第1ナノ繊維層30の断面電子顕微鏡写真である。
Drawing 1 is a figure shown in order to explain ultra-low dust generation wiping material 10 concerning an embodiment. FIG. 1A is a view schematically showing a cross section of the ultra-low dust generation wiping material 10, and FIG. 1B is an enlarged top view of the first nanofiber layer 30. In FIG. 1A, the thicknesses of the first nanofiber layer 30 and the second nanofiber layer 40 relative to the flexible substrate 20 and the width of the melted portion 50 are exaggerated.
Drawing 2 is a figure shown in order to explain ultra-low dust generation wiping material 10 concerning an embodiment. 2A is a cross-sectional electron micrograph of the first nanofiber layer 30, and FIG. 2B is a diagram illustrating the first nanofiber layer 30 when dust D is attached to the nanofibers 32 of the first nanofiber layer 30. It is a cross-sectional electron micrograph.

実施形態に係る超低発塵拭き取り材10は、図1に示すように、可撓性基材20と、可撓性基材20の一方の面に配置される第1ナノ繊維層30と、可撓性基材20の他方の面に配置される第2ナノ繊維層40と、超低発塵拭き取り材10の端部に配置される溶融部50とを備える、クリーンルーム用の拭き取り材である。   As shown in FIG. 1, the ultra-low dust generation wiping material 10 according to the embodiment includes a flexible substrate 20, a first nanofiber layer 30 disposed on one surface of the flexible substrate 20, and It is a wiping material for a clean room including the second nanofiber layer 40 disposed on the other surface of the flexible base material 20 and a melting part 50 disposed at an end of the ultra-low dust generation wiping material 10. .

可撓性基材20は、例えば、セルロース繊維とポリオレフィン、ポリエステル等の合成繊維とで構成された不織布からなる可撓性の基材層である。可撓性基材20の厚さは、例えば、0.1mm〜5mm(実施形態では1mm)である。   The flexible base material 20 is a flexible base material layer made of a nonwoven fabric composed of, for example, cellulose fibers and synthetic fibers such as polyolefin and polyester. The thickness of the flexible substrate 20 is, for example, 0.1 mm to 5 mm (1 mm in the embodiment).

第1ナノ繊維層30は、エレクトロスピニング法によって可撓性基材20における一方の面上に形成されたナノ繊維層である。第1ナノ繊維層30の厚さは、例えば、0.1μm〜500μm(実施形態では10μm)である。   The first nanofiber layer 30 is a nanofiber layer formed on one surface of the flexible substrate 20 by an electrospinning method. The thickness of the first nanofiber layer 30 is, for example, 0.1 μm to 500 μm (in the embodiment, 10 μm).

第2ナノ繊維層40は、エレクトロスピニング法によって可撓性基材20における他方の面上に形成されたナノ繊維層である。第2ナノ繊維層40の厚さは、例えば、0.1μm〜500μm(実施形態では10μm)である。   The second nanofiber layer 40 is a nanofiber layer formed on the other surface of the flexible substrate 20 by an electrospinning method. The thickness of the second nanofiber layer 40 is, for example, 0.1 μm to 500 μm (in the embodiment, 10 μm).

第1ナノ繊維層30及び第2ナノ繊維層40は、平均直径が50nm〜800nmのナノ繊維32,42からなり、かつ、50nm〜1000nmの空孔サイズを有する。ナノ繊維32,42は、種々のポリマー材料から製造することが可能である。本実施形態では、同じポリマー材料から構成されている。   The first nanofiber layer 30 and the second nanofiber layer 40 are composed of nanofibers 32 and 42 having an average diameter of 50 nm to 800 nm, and have a pore size of 50 nm to 1000 nm. The nanofibers 32 and 42 can be manufactured from various polymer materials. In this embodiment, it is comprised from the same polymer material.

溶融部50は、可撓性基材20、第1ナノ繊維層30及び第2ナノ繊維層30からなる超低発塵拭き取り材10の端面を溶融処理(溶断カット処理)することにより、超低発塵拭き取り材10の端部に形成される。なお、溶融部50が、無塵化処理されている部分となる。溶融部50の幅w(図1(a)参照。)は、例えば、0.1μm〜5000μm(実施形態では20μm)である。   The melting part 50 is ultra-low by melting the end surface of the ultra-low dust generation wiping material 10 composed of the flexible base material 20, the first nanofiber layer 30 and the second nanofiber layer 30. It is formed at the end of the dusting wipe 10. In addition, the fusion | melting part 50 becomes a part currently processed dust-free. The width w (see FIG. 1A) of the melting part 50 is, for example, 0.1 μm to 5000 μm (20 μm in the embodiment).

次に、実施形態に係る超低発塵拭き取り材の製造方法について、図3及び図4を用いて説明する。   Next, the manufacturing method of the ultra-low dust generation wiping material which concerns on embodiment is demonstrated using FIG.3 and FIG.4.

図3は、実施形態に係る超低発塵拭き取り材の製造方法を説明するために示すフローチャートである。
図4は、実施形態に係る超低発塵拭き取り材の製造方法を説明するために示す図である。図4(a)〜図4(e)は各工程を模式的に示す図である。
Drawing 3 is a flow chart shown in order to explain the manufacturing method of the ultra-low dust generation wiping material concerning an embodiment.
Drawing 4 is a figure shown in order to explain the manufacturing method of the ultra-low dust generation wiping material concerning an embodiment. FIG. 4A to FIG. 4E are diagrams schematically showing each step.

実施形態に係る超低発塵拭き取り材の製造方法は、図3に示すように、可撓性基材準備工程S10と、第1ナノ繊維層形成工程S20と、第2ナノ繊維層形成工程S30と、溶融処理工程S40とをこの順序で含む。   As shown in FIG. 3, the manufacturing method of the ultra-low dust generation wiping material according to the embodiment includes a flexible base material preparation step S10, a first nanofiber layer formation step S20, and a second nanofiber layer formation step S30. And melting processing step S40 in this order.

1.可撓性基材準備工程S10
まず、図4(a)に示すように、可撓性基材20を準備する。
1. Flexible substrate preparation step S10
First, as shown to Fig.4 (a), the flexible base material 20 is prepared.

2.第1ナノ繊維層形成工程S20
次に、図4(b)に示すように、エレクトロスピニング法によって可撓性基材20における一方の面上に第1ナノ繊維層30を形成する。
2. First nanofiber layer forming step S20
Next, as shown in FIG. 4B, the first nanofiber layer 30 is formed on one surface of the flexible substrate 20 by electrospinning.

3.第2ナノ繊維層形成工程S30
次に、図4(c)に示すように、エレクトロスピニング法によって可撓性基材20における他方の面上に第2ナノ繊維層40を形成する。
3. Second nanofiber layer forming step S30
Next, as shown in FIG.4 (c), the 2nd nanofiber layer 40 is formed on the other surface in the flexible base material 20 by the electrospinning method.

4.溶融処理工程S40
そして、図4(d)に示すように、可撓性基材20、第1ナノ繊維層30及び第2ナノ繊維層40を溶断カット処理する。これにより、可撓性基材20、第1ナノ繊維層30及び第2ナノ繊維層40の端面を無塵化処理することができる。
4). Melting process S40
Then, as shown in FIG. 4D, the flexible base material 20, the first nanofiber layer 30, and the second nanofiber layer 40 are subjected to fusing cut processing. Thereby, the end surface of the flexible base material 20, the 1st nanofiber layer 30, and the 2nd nanofiber layer 40 can be made dust-free.

以上の工程を行うことにより、実施形態に係る超低発塵拭き取り材10を製造することができる(図4(e)参照。)。   By performing the above steps, the ultra-low dust generation wiping material 10 according to the embodiment can be manufactured (see FIG. 4E).

このように、実施形態に係る超低発塵拭き取り材10によれば、超低発塵拭き取り材10の両表面は第1ナノ繊維層30及び第2ナノ繊維層40からなるため、図2(b)に示すように、ナノサイズの微小なゴミDを除去することが可能となる。   As described above, according to the ultra-low dust generation wiping material 10 according to the embodiment, both surfaces of the ultra-low dust generation wiping material 10 are composed of the first nanofiber layer 30 and the second nanofiber layer 40. As shown in b), it is possible to remove nano-sized minute dust D.

また、実施形態に係る超低発塵拭き取り材10によれば、繊維材料からなる可撓性基材20の両表面は第1ナノ繊維層30及び第2ナノ繊維層40によって覆われているため、可撓性基材20の両表面からのリントの発生を防止することが可能となる。また、第1ナノ繊維層30及び第2ナノ繊維層40は、繊維材料からなる可撓性基材20に比べると表面から発生するリントの量が少ないため、超低発塵拭き取り材10の両表面から発生するリントを従来よりも少なくすることが可能となる。   Moreover, according to the ultra-low dust generation wiping material 10 according to the embodiment, both surfaces of the flexible base material 20 made of the fiber material are covered with the first nanofiber layer 30 and the second nanofiber layer 40. It is possible to prevent the occurrence of lint from both surfaces of the flexible substrate 20. In addition, since the first nanofiber layer 30 and the second nanofiber layer 40 have a smaller amount of lint generated from the surface than the flexible base material 20 made of a fiber material, both of the ultra-low dust generation wiping materials 10 are used. It is possible to reduce lint generated from the surface as compared with the prior art.

また、実施形態に係る超低発塵拭き取り材10によれば、超低発塵拭き取り材10の端面が無塵化処理されているため、可撓性基材20、第1ナノ繊維層30及び第2ナノ繊維層40の端面が外部に露出することがない。このため、超低発塵拭き取り材10の端面からのリントの発生を抑制することが可能となる。   In addition, according to the ultra-low dust generation wiping material 10 according to the embodiment, the end surface of the ultra-low dust generation wiping material 10 has been subjected to dust-free processing, and thus the flexible base material 20, the first nanofiber layer 30, and The end surface of the second nanofiber layer 40 is not exposed to the outside. For this reason, generation | occurrence | production of the lint from the end surface of the ultra-low dust generation wiping material 10 can be suppressed.

したがって、実施形態に係る超低発塵拭き取り材10は、ナノサイズの微小なゴミを除去することが可能で、かつ、拭き取り材自体からのリントの発生を抑制することが可能な超低発塵拭き取り材となる。   Therefore, the ultra-low dust generation wiping material 10 according to the embodiment can remove nano-sized minute dust and can suppress generation of lint from the wiping material itself. It becomes a wiping material.

また、実施形態に係る超低発塵拭き取り材10によれば、上述のように、強化洗浄することなく、拭き取り材自体からのリントの発生を抑制することが可能であることから、強化洗浄に起因する負荷を考慮することなく、拭き取り材の材料や厚さ等を比較的自由に決めることができ、拭き取り材の設計の自由度が比較的高いという効果がある。   Further, according to the ultra-low dust generation wiping material 10 according to the embodiment, since it is possible to suppress the occurrence of lint from the wiping material itself without performing intensive cleaning as described above, it is possible to perform reinforced cleaning. The material and thickness of the wiping material can be determined relatively freely without considering the resulting load, and the wiping material can be designed with a relatively high degree of freedom.

実施形態に係る超低発塵拭き取り材10においては、超低発塵拭き取り材10の端面は、溶融処理されているため、可撓性基材20、第1ナノ繊維層30及び第2ナノ繊維層40の端面が外部に露出することがなくなり、超低発塵拭き取り材10の端面からのリントの発生を効果的に抑制することが可能となる。   In the ultra-low dust generation wiping material 10 according to the embodiment, since the end surface of the ultra-low dust generation wiping material 10 is melt-processed, the flexible base material 20, the first nanofiber layer 30, and the second nanofibers. The end face of the layer 40 is not exposed to the outside, and the occurrence of lint from the end face of the ultra low dust wiping material 10 can be effectively suppressed.

実施形態に係る超低発塵拭き取り材10においては、第1ナノ繊維層30及び第2ナノ繊維層40は、エレクトロスピニング法によって形成されているため、他の方法(例えば溶融紡糸法など)に比べて、ナノ繊維の平均直径を小さくすることができ、第1ナノ繊維層30及び第2ナノ繊維層40の比表面積を大きくすることができる。このため、吸着性に優れた拭き取り材となる。また、エレクトロスピニング法は、ナノ繊維として用いる材料を変更する場合やナノ繊維の平均直径を変更する場合などにも幅広く対応することができ、初期投資を低く抑えることができることから、製造コストの安価な拭き取り材となる。   In the ultra-low dust generation wiping material 10 according to the embodiment, since the first nanofiber layer 30 and the second nanofiber layer 40 are formed by an electrospinning method, other methods (such as a melt spinning method) are used. In comparison, the average diameter of the nanofibers can be reduced, and the specific surface areas of the first nanofiber layer 30 and the second nanofiber layer 40 can be increased. For this reason, it becomes a wiping material excellent in adsorptivity. In addition, the electrospinning method can be widely used when changing the materials used as nanofibers or when changing the average diameter of nanofibers, and can reduce the initial investment. It becomes a wiping material.

実施形態に係る超低発塵拭き取り材10においては、第1ナノ繊維層30及び第2ナノ繊維層40は、平均直径が50nm〜800nmのナノ繊維32,42からなり、かつ、50nm〜1000nmの空孔サイズを有するため、ナノサイズの微小なゴミを効果的に除去することが可能となるとともに、第1ナノ繊維層30及び第2ナノ繊維層40に取り込んだ微小なゴミが再び外部に放出されるのを抑制することが可能となる。   In the ultra-low dust generation wiping material 10 according to the embodiment, the first nanofiber layer 30 and the second nanofiber layer 40 are composed of nanofibers 32 and 42 having an average diameter of 50 nm to 800 nm, and 50 nm to 1000 nm. Since it has a pore size, it becomes possible to effectively remove nano-sized fine dust, and the fine dust taken into the first nanofiber layer 30 and the second nanofiber layer 40 is released to the outside again. It can be suppressed.

実施形態に係る超低発塵拭き取り材10においては、第1ナノ繊維層30及び第2ナノ繊維層40の厚さは、0.1μm〜500μmであるため、可撓性基材20の両表面からのリントの発生を確実に防止することが可能となるとともに、十分な拭き取り効果を備える超低発塵拭き取り材となる。   In the ultra-low dust generation wiping material 10 according to the embodiment, since the thicknesses of the first nanofiber layer 30 and the second nanofiber layer 40 are 0.1 μm to 500 μm, both surfaces of the flexible substrate 20 It is possible to reliably prevent the occurrence of lint from the above, and an ultra-low dust wiping material having a sufficient wiping effect.

実施形態に係る超低発塵拭き取り材10においては、超低発塵拭き取り材10の端面における溶融部50(無塵化処理されている部分)の幅wは、0.1μm以上であるため、超低発塵拭き取り材10を使用した際に溶融部50が割れたり欠けたりするのを抑制することができる。また、溶融部50(無塵化処理されている部分)の幅wは、5000μm以下であるため、溶融部50が裂けるのを抑制することができ、超低発塵拭き取り材10の端面からのリントの発生を抑制することが可能となり、また、拭き取り性にバラつきが出るのを抑制することが可能となる。   In the ultra-low dust generation wiping material 10 according to the embodiment, the width w of the melted portion 50 (portion subjected to dust-free processing) on the end surface of the ultra-low dust generation wiping material 10 is 0.1 μm or more. When the ultra-low dust generation wiping material 10 is used, the melting part 50 can be prevented from cracking or chipping. Moreover, since the width w of the melted part 50 (the part subjected to the dust-free treatment) is 5000 μm or less, the melted part 50 can be prevented from tearing, and from the end face of the ultra-low dust generation wiping material 10. It becomes possible to suppress the occurrence of lint, and to prevent the wiping performance from varying.

実施形態に係る超低発塵拭き取り材10は、上述のように、ナノサイズの微小なゴミを除去することが可能で、かつ、拭き取り材自体からのリントの発生を抑制することが可能であるため、クリーンルームで使用するのに適したものとなる。   As described above, the ultra-low dust generation wiping material 10 according to the embodiment can remove minute nano-sized dust and can suppress the generation of lint from the wiping material itself. Therefore, it is suitable for use in a clean room.

実施形態に係る超低発塵拭き取り材の製造方法によれば、上述のように、繊維材料からなる可撓性基材20の両表面に第1ナノ繊維層30及び第2ナノ繊維層40を形成するとともに、可撓性基材20、第1ナノ繊維層30及び第2ナノ繊維層40の端面を無塵化処理することとしているため、ナノサイズの微小なゴミを除去することが可能で、かつ、拭き取り材自体からのリントの発生を抑制することが可能な超低発塵拭き取り材10を製造することができる。   According to the manufacturing method of the ultra-low dust generation wiping material according to the embodiment, as described above, the first nanofiber layer 30 and the second nanofiber layer 40 are formed on both surfaces of the flexible base material 20 made of a fiber material. In addition to the formation, the end surfaces of the flexible substrate 20, the first nanofiber layer 30, and the second nanofiber layer 40 are treated to be dust-free, so it is possible to remove nano-sized minute dust. And the ultra-low dust generation wiping material 10 which can suppress generation | occurrence | production of the lint from the wiping material itself can be manufactured.

実施形態に係る超低発塵拭き取り材の製造方法において、溶融処理工程S40においては、可撓性基材20、第1ナノ繊維層30及び第2ナノ繊維層40を溶融処理(溶断カット処理)することにより、可撓性基材20、第1ナノ繊維層30及び第2ナノ繊維層40の端面が外部に露出することがなくなり、超低発塵拭き取り材10の端面からのリントの発生を抑制することが可能となる。   In the manufacturing method of the ultra-low dust generation wiping material according to the embodiment, in the melting treatment step S40, the flexible substrate 20, the first nanofiber layer 30, and the second nanofiber layer 40 are melted (melting cut processing). By doing so, the end surfaces of the flexible base material 20, the first nanofiber layer 30, and the second nanofiber layer 40 are not exposed to the outside, and the occurrence of lint from the end surfaces of the ultra-low dust generation wiping material 10 is prevented. It becomes possible to suppress.

実施形態に係る超低発塵拭き取り材の製造方法において、第1ナノ繊維層形成工程S20及び第2ナノ繊維層形成工程S30においては、エレクトロスピニング法によって第1ナノ繊維層30又は第2ナノ繊維層40を形成することとしているため、他の方法(例えば溶融紡糸法など)によって第1ナノ繊維層30又は第2ナノ繊維層40を形成する場合に比べて、ナノ繊維の平均直径を小さくすることができ、第1ナノ繊維層30及び第2ナノ繊維層40の比表面積を大きくすることができる。このため、吸着性に優れた拭き取り材を製造することができる。また、エレクトロスピニング法は、ナノ繊維として用いる材料を変更する場合やナノ繊維の平均直径を変更する場合などにも幅広く対応することができ、初期投資を低く抑えることができることから、製造コストの低廉化を図ることが可能となる。   In the manufacturing method of the ultra-low dust generation wiping material according to the embodiment, in the first nanofiber layer forming step S20 and the second nanofiber layer forming step S30, the first nanofiber layer 30 or the second nanofiber is formed by electrospinning. Since the layer 40 is formed, the average diameter of the nanofibers is reduced as compared with the case where the first nanofiber layer 30 or the second nanofiber layer 40 is formed by another method (for example, melt spinning method or the like). The specific surface areas of the first nanofiber layer 30 and the second nanofiber layer 40 can be increased. For this reason, the wiping material excellent in adsorptivity can be manufactured. In addition, the electrospinning method can be widely used when changing the material used as nanofibers or when changing the average diameter of nanofibers, and the initial investment can be kept low. Can be achieved.

実施形態に係る超低発塵拭き取り材の製造方法においては、第1ナノ繊維層30及び第2ナノ繊維層40は、同じ材料からなる。これにより、第1ナノ繊維層形成工程S20と第2ナノ繊維層形成工程S30で同じ材料を用いることが可能となるため、超低発塵拭き取り材10の製造が容易となり、製造コストの低廉化を図ることが可能となる。   In the manufacturing method of the ultra-low dust generation wiping material according to the embodiment, the first nanofiber layer 30 and the second nanofiber layer 40 are made of the same material. As a result, since the same material can be used in the first nanofiber layer forming step S20 and the second nanofiber layer forming step S30, the manufacture of the ultra-low dust wiping material 10 becomes easy and the manufacturing cost is reduced. Can be achieved.

以上、本発明の超低発塵拭き取り材及び超低発塵拭き取り材の製造方法を上記の実施形態に基づいて説明したが、本発明は、これに限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において実施することが可能であり、例えば、次のような変形も可能である。   As mentioned above, although the manufacturing method of the ultra-low dust generation wiping material and the ultra-low dust generation wiping material of the present invention has been described based on the above embodiment, the present invention is not limited to this, and departs from the gist thereof. For example, the following modifications are possible.

(1)上記実施形態に係る超低発塵拭き取り材10においては、可撓性基材として、セルロース繊維とポリオレフィン、ポリエステル等の合成繊維とで構成された不織布からなる可撓性基材20を用いたが、本発明はこれに限定されるものではなく、他の繊維材料からなる不織布を用いてもよいし、不織布以外の可撓性基材(例えば、織布、編布、紙、スポンジ、フィルムなど)を用いてもよい。 (1) In the ultra-low dust generation wiping material 10 according to the above embodiment, as the flexible base material, the flexible base material 20 made of a nonwoven fabric composed of cellulose fibers and synthetic fibers such as polyolefin and polyester is used. Although used, the present invention is not limited to this, a non-woven fabric made of other fiber materials may be used, and a flexible substrate other than the non-woven fabric (for example, woven fabric, knitted fabric, paper, sponge) , Film, etc.) may be used.

(2)上記実施形態に係る超低発塵拭き取り材10においては、第1ナノ繊維層及び第2ナノ繊維層が同じ材料からなる場合を例示的に説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、第1ナノ繊維層と第2ナノ繊維層とが異なる材料からなっていてもよい。 (2) In the ultra-low dust generation wiping material 10 according to the above embodiment, the case where the first nanofiber layer and the second nanofiber layer are made of the same material has been exemplarily described, but the present invention is limited to this. Instead, the first nanofiber layer and the second nanofiber layer may be made of different materials.

(3)上記実施形態に係る超低発塵拭き取り材の製造方法においては、溶融処理工程において、可撓性基材20、第1ナノ繊維層30及び第2ナノ繊維層40を溶断カット処理する場合を例示的に説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、例えば、レーザカット処理してもよい。また、上記実施形態に係る超低発塵拭き取り材の製造方法においては、無塵化処理工程として、溶融処理工程を行う場合を例示的に説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、例えば、溶融処理工程に代えて、可撓性基材20、第1ナノ繊維層30及び第2ナノ繊維層40の端面を樹脂で被覆処理する被覆処理工程を行ってもよい。 (3) In the manufacturing method of the ultra-low dust generation wiping material according to the above embodiment, the flexible base material 20, the first nanofiber layer 30, and the second nanofiber layer 40 are subjected to fusing cut processing in the melting process step. Although the case has been described by way of example, the present invention is not limited to this, and for example, laser cutting may be performed. Moreover, in the manufacturing method of the ultra-low dust generation wiping material according to the above-described embodiment, the case of performing the melting treatment step as the dust-free treatment step has been exemplarily described, but the present invention is not limited to this. Instead, for example, instead of the melt treatment step, a coating treatment step of coating the end surfaces of the flexible base material 20, the first nanofiber layer 30, and the second nanofiber layer 40 with a resin may be performed.

(4)上記実施形態に係る超低発塵拭き取り材の製造方法においては、エレクトロスピニング法によって第1ナノ繊維層30及び第2ナノ繊維層40を形成する場合を例示的に説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、エレクトロスピニング法以外の方法(例えば溶融紡糸法)によって第1ナノ繊維層又は第2ナノ繊維層を形成してもよい。 (4) In the manufacturing method of the ultra-low dust generation wiping material according to the embodiment, the case where the first nanofiber layer 30 and the second nanofiber layer 40 are formed by the electrospinning method has been exemplarily described. The invention is not limited to this, and the first nanofiber layer or the second nanofiber layer may be formed by a method other than electrospinning (for example, melt spinning).

(5)上記実施形態に係る超低発塵拭き取り材においては、クリーンルーム用の拭き取り材として説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、他の用途にも勿論用いることができる。 (5) Although the ultra-low dust wiping material according to the above embodiment has been described as a wiping material for a clean room, the present invention is not limited to this and can be used for other purposes as well.

実施形態に係る超低発塵拭き取り材10を説明するために示す図である。It is a figure shown in order to demonstrate the ultra-low dust generation wiping material 10 which concerns on embodiment. 実施形態に係る超低発塵拭き取り材10を説明するために示す図である。It is a figure shown in order to demonstrate the ultra-low dust generation wiping material 10 which concerns on embodiment. 実施形態に係る超低発塵拭き取り材の製造方法を説明するために示すフローチャートである。It is a flowchart shown in order to demonstrate the manufacturing method of the ultra-low dust generation wiping material which concerns on embodiment. 実施形態に係る超低発塵拭き取り材の製造方法を説明するために示す図である。It is a figure shown in order to demonstrate the manufacturing method of the ultra-low dust generation wiping material which concerns on embodiment.

符号の説明Explanation of symbols

10…超低発塵拭き取り材、20…可撓性基材、30…第1ナノ繊維層、32,42…ナノ繊維、40…第2ナノ繊維層、50…溶融部、D…微小なゴミ DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Ultra low dust generation wiping material, 20 ... Flexible base material, 30 ... 1st nanofiber layer, 32,42 ... Nanofiber, 40 ... 2nd nanofiber layer, 50 ... Molten part, D ... Minute garbage

Claims (14)

可撓性基材と、
前記可撓性基材における一方の面上に形成された第1ナノ繊維層と、
前記可撓性基材における他方の面上に形成された第2ナノ繊維層とを備える超低発塵拭き取り材であって、
前記超低発塵拭き取り材の端面が無塵化処理されていることを特徴とする超低発塵拭き取り材。
A flexible substrate;
A first nanofiber layer formed on one surface of the flexible substrate;
An ultra-low dust wiping material comprising a second nanofiber layer formed on the other surface of the flexible substrate,
An ultra-low dust generation wiping material, wherein an end face of the ultra-low dust generation wiping material is treated to be dust-free.
請求項1に記載の超低発塵拭き取り材において、
前記超低発塵拭き取り材の端面は、溶融処理されていることを特徴とする超低発塵拭き取り材。
In the ultra-low dust generation wiping material according to claim 1,
An end surface of the ultra-low dust generation wiping material is melt-processed, and the ultra-low dust generation wiping material.
請求項1に記載の超低発塵拭き取り材において、
前記超低発塵拭き取り材の端面は、樹脂で被覆されていることを特徴とする超低発塵拭き取り材。
In the ultra-low dust generation wiping material according to claim 1,
An end surface of the ultra-low dust wiping material is coated with a resin.
請求項1〜3のいずれかに記載の超低発塵拭き取り材において、
前記第1ナノ繊維層及び前記第2ナノ繊維層は、エレクトロスピニング法によって形成されていることを特徴とする超低発塵拭き取り材。
In the ultra-low dust generation wiping material according to any one of claims 1 to 3,
The ultra-low dust wiping material, wherein the first nanofiber layer and the second nanofiber layer are formed by an electrospinning method.
請求項1〜4のいずれかに記載の超低発塵拭き取り材において、
前記第1ナノ繊維層及び前記第2ナノ繊維層は、平均直径が50nm〜800nmのナノ繊維からなり、かつ、50nm〜1000nmの空孔サイズを有することを特徴とする超低発塵拭き取り材。
In the ultra-low dust generation wiping material according to any one of claims 1 to 4,
The first nanofiber layer and the second nanofiber layer are made of nanofibers having an average diameter of 50 nm to 800 nm and have a pore size of 50 nm to 1000 nm.
請求項1〜5のいずれかに記載の超低発塵拭き取り材において、
前記第1ナノ繊維層及び前記第2ナノ繊維層の厚さは、0.1μm〜500μmであることを特徴とする超低発塵拭き取り材。
In the ultra-low dust generation wiping material according to any one of claims 1 to 5,
The ultra-low dust-generating wiping material, wherein the first nanofiber layer and the second nanofiber layer have a thickness of 0.1 μm to 500 μm.
請求項1〜6のいずれかに記載の超低発塵拭き取り材において、
前記超低発塵拭き取り材の端面における無塵化処理されている部分の幅は、0.1μm〜5000μmであることを特徴とする超低発塵拭き取り材。
In the ultra-low dust generation wiping material according to any one of claims 1 to 6,
The ultra-low dust generation wiping material is characterized in that the width of the portion of the end face of the ultra-low dust generation wiping material that has been subjected to dust-free treatment is 0.1 μm to 5000 μm.
請求項1〜7のいずれかに記載の超低発塵拭き取り材において、
前記超低発塵拭き取り材は、クリーンルーム用の拭き取り材であることを特徴とする超低発塵拭き取り材。
In the ultra-low dust generation wiping material according to any one of claims 1 to 7,
The ultra-low dust generation wiping material is a clean room wiping material.
可撓性基材を準備する可撓性基材準備工程と、
前記可撓性基材における一方の面上に第1ナノ繊維層を形成する第1ナノ繊維層形成工程と、
前記可撓性基材における他方の面上に第2ナノ繊維層を形成する第2ナノ繊維層形成工程と、
前記可撓性基材、前記第1ナノ繊維層及び前記第2ナノ繊維層の端面を無塵化処理する無塵化処理工程とを含むことを特徴とする超低発塵拭き取り材の製造方法。
A flexible substrate preparation step of preparing a flexible substrate;
A first nanofiber layer forming step of forming a first nanofiber layer on one surface of the flexible substrate;
A second nanofiber layer forming step of forming a second nanofiber layer on the other surface of the flexible substrate;
A method for producing an ultra-low dust generation wiping material, comprising: a dust-free treatment step of dust-treating end surfaces of the flexible substrate, the first nanofiber layer, and the second nanofiber layer. .
請求項9に記載の超低発塵拭き取り材の製造方法において、
前記無塵化処理工程においては、前記可撓性基材、前記第1ナノ繊維層及び前記第2ナノ繊維層を溶融処理することを特徴とする超低発塵拭き取り材の製造方法。
In the manufacturing method of the ultra-low dust generation wiping material according to claim 9,
In the dust-free processing step, the flexible substrate, the first nanofiber layer, and the second nanofiber layer are melt-processed, and the method for producing an ultra-low dust wiping material is characterized.
請求項9に記載の超低発塵拭き取り材の製造方法において、
前記無塵化処理工程においては、前記可撓性基材、前記第1ナノ繊維層及び前記第2ナノ繊維層の端面を樹脂で被覆処理することを特徴とする超低発塵拭き取り材の製造方法。
In the manufacturing method of the ultra-low dust generation wiping material according to claim 9,
In the dust-free treatment step, the ultra-low dust generation wiping material is manufactured by coating the flexible base material, the first nanofiber layer, and the second nanofiber layer with a resin. Method.
請求項9〜11のいずれかに記載の超低発塵拭き取り材の製造方法において、
前記第1ナノ繊維層形成工程及び前記第2ナノ繊維層形成工程においては、エレクトロスピニング法によって前記第1ナノ繊維層又は前記第2ナノ繊維層を形成することを特徴とする超低発塵拭き取り材の製造方法。
In the manufacturing method of the ultra-low dust generation wiping material according to any one of claims 9 to 11,
In the first nanofiber layer forming step and the second nanofiber layer forming step, the first nanofiber layer or the second nanofiber layer is formed by an electrospinning method. A method of manufacturing the material.
請求項9〜12のいずれかに記載の超低発塵拭き取り材の製造方法において、
前記第1ナノ繊維層及び前記第2ナノ繊維層は、同じ材料からなることを特徴とする超低発塵拭き取り材の製造方法。
In the manufacturing method of the ultra-low dust generation wiping material according to any one of claims 9 to 12,
The first nanofiber layer and the second nanofiber layer are made of the same material, and the manufacturing method of the ultra-low dust generation wiping material.
請求項9〜12のいずれかに記載の超低発塵拭き取り材の製造方法において、
前記第1ナノ繊維層と前記第2ナノ繊維層とは、異なる材料からなることを特徴とする超低発塵拭き取り材の製造方法。
In the manufacturing method of the ultra-low dust generation wiping material according to any one of claims 9 to 12,
The first nanofiber layer and the second nanofiber layer are made of different materials.
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