JP2008305909A - Semiconductor device - Google Patents

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優一 宮川
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a structure capable of both expanding a region capable of arranging a wiring of a wiring board, and maintaining a mechanical stability of a semiconductor chip. <P>SOLUTION: A semiconductor device 1 comprises a wiring board 10, a spacer 20, and the semiconductor chip 30. The spacer 20 is provided on the wiring board 10. The semiconductor chip 30 is provided on the spacer 20. Assuming an angle between the side of the spacer 20 and the side of the semiconductor chip 30 is θ in planar view, the inequality expression 0<θ<90° consists. Further, a center of the spacer 20 unnecessarily corresponds to a center of the semiconductor chip 30. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、半導体装置に関する。   The present invention relates to a semiconductor device.

図12は、従来の半導体装置を示す断面図である。半導体装置100においては、配線基板102上に半導体チップ104が実装されている。半導体チップ104は、ペースト状の接着材106によって配線基板102に固定されている。接着材106の一部は、配線基板102と半導体チップ104との間からはみ出し、フィレット106aを形成している。半導体チップ104は、ボンディングワイヤ108を介して配線基板102と電気的に接続されている。ボンディングワイヤ108は、一端が配線基板102のステッチ110に接続され、他端が半導体チップ104の電極(図示せず)に接続されている。   FIG. 12 is a cross-sectional view showing a conventional semiconductor device. In the semiconductor device 100, the semiconductor chip 104 is mounted on the wiring substrate 102. The semiconductor chip 104 is fixed to the wiring substrate 102 by a paste-like adhesive material 106. Part of the adhesive 106 protrudes from between the wiring substrate 102 and the semiconductor chip 104 to form a fillet 106a. The semiconductor chip 104 is electrically connected to the wiring board 102 via bonding wires 108. One end of the bonding wire 108 is connected to the stitch 110 of the wiring substrate 102, and the other end is connected to an electrode (not shown) of the semiconductor chip 104.

配線基板102上には、半導体チップ104およびボンディングワイヤ108を覆うように封止樹脂112が形成されている。また、配線基板102の下面には、バンプ114が接続されている。バンプ114は、半導体装置100の外部電極端子として機能する。   A sealing resin 112 is formed on the wiring substrate 102 so as to cover the semiconductor chip 104 and the bonding wires 108. Further, bumps 114 are connected to the lower surface of the wiring board 102. The bump 114 functions as an external electrode terminal of the semiconductor device 100.

なお、本発明に関連する先行技術文献としては、特許文献1〜4が挙げられる。
特開平4−38859号公報 特開2005−136332号公報 特開2006−86149号公報 特開2003−234451号公報
In addition, patent documents 1-4 are mentioned as a prior art document relevant to this invention.
JP-A-4-38859 JP 2005-136332 A JP 2006-86149 A JP 2003-234451 A

ところで、半導体装置100においては、半導体チップ104の下に位置する領域に、配線基板102の配線を設けないことが好ましい。当該領域(特に半導体チップ104の外周の直下に位置する領域)においては、配線に応力が集中し易いからである。配線への応力の集中は、配線クラック(断線)等につながってしまう。それゆえ、上記領域を避けて配線基板102の配線を配置することが、信頼性の高い半導体装置100を実現する上で好ましい。ところが、その場合、配線の配置が可能な、配線基板102上の領域が狭くなる。そのため、配線が配置される領域を充分に確保するには、配線基板102を大型化せざるを得なくなってしまう。   By the way, in the semiconductor device 100, it is preferable not to provide the wiring of the wiring board 102 in a region located under the semiconductor chip 104. This is because stress tends to concentrate on the wiring in this region (particularly, the region located immediately below the outer periphery of the semiconductor chip 104). Concentration of stress on the wiring leads to wiring cracks (disconnection). Therefore, it is preferable to arrange the wiring of the wiring substrate 102 so as to avoid the above-described region in order to realize a highly reliable semiconductor device 100. However, in that case, an area on the wiring board 102 where wiring can be arranged becomes narrow. Therefore, in order to secure a sufficient area for wiring, the wiring board 102 must be enlarged.

そこで、配線基板102と半導体チップ104とが直接に接するのを防ぐべく、それらの間にスペーサを介在させることが考えられる。スペーサの導入に際しては、配線基板102の配線を配置可能な領域を広くすることに加えて、半導体装置100の製造時に半導体チップ104の機械的安定性を維持することが肝要である。例えば、スペーサが小さ過ぎれば、その上に配置される半導体チップ104の機械的安定性が阻害されてしまう。一方、スペーサが大き過ぎれば、配線の配置可能な領域の拡大が阻害されてしまう。スペーサの下に位置する領域においても、配線に応力が集中し易くなるからである。   Therefore, in order to prevent the wiring board 102 and the semiconductor chip 104 from coming into direct contact, it is conceivable to interpose a spacer between them. When introducing the spacers, it is important to maintain the mechanical stability of the semiconductor chip 104 during the manufacture of the semiconductor device 100 in addition to widening the region where the wiring of the wiring substrate 102 can be arranged. For example, if the spacer is too small, the mechanical stability of the semiconductor chip 104 disposed thereon is hindered. On the other hand, if the spacer is too large, expansion of the region where the wiring can be arranged is hindered. This is because stress is easily concentrated on the wiring also in the region located under the spacer.

本発明による半導体装置は、配線基板と、上記配線基板上に設けられたスペーサと、上記スペーサ上に設けられた半導体チップと、を備え、平面視で、上記スペーサの辺と上記半導体チップの辺とがなす角をθとしたとき、0<θ<90°であることを特徴とする。   A semiconductor device according to the present invention includes a wiring board, a spacer provided on the wiring board, and a semiconductor chip provided on the spacer, and the side of the spacer and the side of the semiconductor chip in plan view. 0 <θ <90 °, where θ is the angle formed by.

この半導体装置においては、スペーサの辺と半導体チップの辺とが角度θ(0<θ<90°)をなしている。すなわち、スペーサが、半導体チップに対して角度をずらして配置されている。これにより、ある程度の大きさを有するスペーサを用いても、半導体チップと配線基板との間に空間を確保することが可能となる。当該空間の下に位置する領域に配線基板の配線を配置しても、当該配線への応力の集中を避けることができる。よって、配線の配置可能な領域の拡大と、半導体チップの機械的安定性の維持との両立に適した構造の半導体装置が実現される。   In this semiconductor device, the side of the spacer and the side of the semiconductor chip form an angle θ (0 <θ <90 °). In other words, the spacer is arranged at an angle with respect to the semiconductor chip. As a result, even if a spacer having a certain size is used, a space can be secured between the semiconductor chip and the wiring board. Even if the wiring of the wiring board is arranged in a region located below the space, concentration of stress on the wiring can be avoided. Therefore, a semiconductor device having a structure suitable for coexistence of expansion of a region where wirings can be arranged and maintenance of mechanical stability of the semiconductor chip is realized.

本発明によれば、配線基板の配線の配置可能な領域の拡大と、半導体チップの機械的安定性の維持との両立に適した構造の半導体装置が実現される。   According to the present invention, a semiconductor device having a structure suitable for coexistence of expansion of an area in which wiring of a wiring board can be arranged and maintenance of mechanical stability of a semiconductor chip is realized.

以下、図面を参照しつつ、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。なお、図面の説明においては、同一要素には同一符号を付し、重複する説明を省略する。
(第1実施形態)
Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In the description of the drawings, the same reference numerals are assigned to the same elements, and duplicate descriptions are omitted.
(First embodiment)

図1は、本発明による半導体装置の第1実施形態を示す断面図である。半導体装置1は、配線基板10、スペーサ20、および半導体チップ30を備えている。本実施形態において配線基板10は、多層配線基板である。   FIG. 1 is a sectional view showing a first embodiment of a semiconductor device according to the present invention. The semiconductor device 1 includes a wiring substrate 10, a spacer 20, and a semiconductor chip 30. In the present embodiment, the wiring board 10 is a multilayer wiring board.

配線基板10上には、スペーサ20が設けられている。スペーサ20は、接着材42を介して配線基板10に設けられている。この接着材42によりスペーサ20が配線基板10に固定されている。接着材42は、ペースト状の接着材であってもよいし、フィルム状の接着材であってもよい。接着材42としては、例えば銀ペーストを用いることができる。スペーサ20の材料は、例えば、シリコンまたは樹脂である。本実施形態においてスペーサ20には、トランジスタ等の半導体素子が形成されていない。   Spacers 20 are provided on the wiring board 10. The spacer 20 is provided on the wiring board 10 via an adhesive 42. The spacer 20 is fixed to the wiring board 10 by the adhesive 42. The adhesive 42 may be a paste-like adhesive or a film-like adhesive. As the adhesive 42, for example, a silver paste can be used. The material of the spacer 20 is, for example, silicon or resin. In the present embodiment, the spacer 20 is not formed with a semiconductor element such as a transistor.

スペーサ20上には、半導体チップ30が設けられている。半導体チップ30は、接着材44を介してスペーサ20上に設けられている。この接着材44により、半導体チップ30がスペーサ20に固定されている。本実施形態において接着材44は、ペースト状の接着材である。ただし、接着材44は、フィルム状の接着材であってもよい。接着材44としては、例えば銀ペーストを用いることができる。接着材44の一部は、スペーサ20と半導体チップ30との間からはみ出し、フィレット44aを形成している。本実施形態において半導体チップ30は、シリコン基板を備えている。   A semiconductor chip 30 is provided on the spacer 20. The semiconductor chip 30 is provided on the spacer 20 via an adhesive material 44. The semiconductor chip 30 is fixed to the spacer 20 by the adhesive material 44. In the present embodiment, the adhesive material 44 is a paste-like adhesive material. However, the adhesive material 44 may be a film-like adhesive material. As the adhesive 44, for example, a silver paste can be used. A part of the adhesive 44 protrudes from between the spacer 20 and the semiconductor chip 30 to form a fillet 44a. In the present embodiment, the semiconductor chip 30 includes a silicon substrate.

半導体チップ30は、ボンディングワイヤ46を介して配線基板10と電気的に接続されている。ボンディングワイヤ46は、一端が配線基板10のステッチ12に接続され、他端が半導体チップ30の電極(図示せず)に接続されている。   The semiconductor chip 30 is electrically connected to the wiring board 10 via bonding wires 46. The bonding wire 46 has one end connected to the stitch 12 of the wiring substrate 10 and the other end connected to an electrode (not shown) of the semiconductor chip 30.

配線基板10上には、スペーサ20、半導体チップ30およびボンディングワイヤ46を覆うように封止樹脂50が形成されている。また、配線基板10の下面には、バンプ60が接続されている。バンプ60は、半導体装置1の外部電極端子として機能する。   A sealing resin 50 is formed on the wiring substrate 10 so as to cover the spacer 20, the semiconductor chip 30 and the bonding wire 46. A bump 60 is connected to the lower surface of the wiring board 10. The bump 60 functions as an external electrode terminal of the semiconductor device 1.

図2は、図1中の配線基板10、スペーサ20および半導体チップ30を示す平面図である。図2のI−I線に沿った断面が、図1の断面に相当する。図2には、配線基板10における最上層の配線14を示している。図2から分かるように、スペーサ20および半導体チップ30は、平面視で、共に矩形をしている。   FIG. 2 is a plan view showing the wiring board 10, the spacer 20, and the semiconductor chip 30 in FIG. A cross section taken along line II in FIG. 2 corresponds to the cross section in FIG. FIG. 2 shows the uppermost wiring 14 in the wiring board 10. As can be seen from FIG. 2, the spacer 20 and the semiconductor chip 30 are both rectangular in plan view.

また、平面視で、スペーサ20の辺と半導体チップ30の辺とがなす角をθとしたとき、0<θ<90°である。本実施形態においてθは、45°に等しい。これにより、スペーサ20は、半導体チップ30の角部に重なっていない。その一方で、スペーサ20は、半導体チップ30の辺に重なっている。また、スペーサ20は、半導体チップ30の中心C1に重なっている。さらに、スペーサの中心は、半導体チップ30の中心C1に一致している。本実施形態においてスペーサ20の面積は、半導体チップ30の面積以下である。そして、スペーサ20の全体が、半導体チップ30に重なっている。   Further, when the angle formed by the side of the spacer 20 and the side of the semiconductor chip 30 in a plan view is θ, 0 <θ <90 °. In this embodiment, θ is equal to 45 °. Thereby, the spacer 20 does not overlap the corner of the semiconductor chip 30. On the other hand, the spacer 20 overlaps the side of the semiconductor chip 30. The spacer 20 overlaps the center C1 of the semiconductor chip 30. Furthermore, the center of the spacer coincides with the center C1 of the semiconductor chip 30. In the present embodiment, the area of the spacer 20 is equal to or smaller than the area of the semiconductor chip 30. The entire spacer 20 overlaps the semiconductor chip 30.

配線基板10の最上層の配線14は、半導体チップ30の下に位置する領域に存在している。その一方で、配線14は、スペーサ20の下に位置する領域に存在していない。   The uppermost wiring 14 of the wiring board 10 exists in a region located under the semiconductor chip 30. On the other hand, the wiring 14 does not exist in a region located under the spacer 20.

本実施形態の効果を説明する。半導体装置1においては、スペーサ20の辺と半導体チップ30の辺とが角度θ(0<θ<90°)をなしている。すなわち、スペーサ20が、半導体チップ30に対して角度をずらして配置されている。これにより、ある程度の大きさを有するスペーサ20を用いても、半導体チップ30と配線基板10との間に空間を確保することが可能となる。当該空間を充分に確保するという観点から、θは5°<θ<85°を満たすことが好ましい。当該空間の下に位置する領域に配線基板10の配線14を配置しても、当該配線14への応力の集中を避けることができる。よって、配線14の配置可能な領域の拡大と、半導体チップ30の機械的安定性の維持との両立に適した構造の半導体装置1が実現されている。   The effect of this embodiment will be described. In the semiconductor device 1, the side of the spacer 20 and the side of the semiconductor chip 30 form an angle θ (0 <θ <90 °). That is, the spacer 20 is arranged with an angle shifted with respect to the semiconductor chip 30. Thereby, even if the spacer 20 having a certain size is used, a space can be secured between the semiconductor chip 30 and the wiring substrate 10. From the viewpoint of sufficiently securing the space, θ preferably satisfies 5 ° <θ <85 °. Even if the wiring 14 of the wiring board 10 is arranged in a region located under the space, concentration of stress on the wiring 14 can be avoided. Therefore, the semiconductor device 1 having a structure suitable for coexistence of expansion of a region where the wiring 14 can be arranged and maintenance of the mechanical stability of the semiconductor chip 30 is realized.

これにより、配線14の設計自由度が向上するため、配線基板10の大型化を招くことなく、配線14が配置される領域を充分に確保することが可能となる。また、半導体チップ30の機械的安定性が高ければ、組立工程における負荷が軽減され、半導体装置1の量産性が向上する。例えば、ボンディング工程において量産性を損なう、半導体チップ30のZ方向(配線基板10に垂直な方向)の揺らぎを小さく抑えることができる。   As a result, the degree of freedom in designing the wiring 14 is improved, so that it is possible to ensure a sufficient area in which the wiring 14 is disposed without increasing the size of the wiring substrate 10. Further, if the mechanical stability of the semiconductor chip 30 is high, the load in the assembly process is reduced, and the mass productivity of the semiconductor device 1 is improved. For example, fluctuation in the Z direction (direction perpendicular to the wiring substrate 10) of the semiconductor chip 30 that impairs mass productivity in the bonding process can be suppressed.

配線基板10と半導体チップ30との間にスペーサ20が介在している。これにより、高い抗折強度を有する半導体装置1が実現されている。外力により配線基板10が撓んだ場合であっても、それにより半導体チップ30が受ける影響がスペーサ20で緩和されるためである。仮にスペーサ20にクラック等の損傷が生じたとしても、半導体チップ30に損傷が生じなければ半導体装置1の正常な動作を維持することが可能である。   A spacer 20 is interposed between the wiring substrate 10 and the semiconductor chip 30. Thereby, the semiconductor device 1 having high bending strength is realized. This is because even when the wiring substrate 10 is bent by an external force, the influence of the semiconductor chip 30 on the wiring substrate 10 is mitigated by the spacer 20. Even if the spacer 20 is damaged, such as a crack, if the semiconductor chip 30 is not damaged, the normal operation of the semiconductor device 1 can be maintained.

スペーサ20が半導体チップ30の辺に重なっている。これにより、半導体チップ30の機械的安定性を一層向上させることができる。   The spacer 20 overlaps the side of the semiconductor chip 30. Thereby, the mechanical stability of the semiconductor chip 30 can be further improved.

スペーサ20の面積が半導体チップ30の面積以下である。これにより、配線基板10と半導体チップ30との間に広い空間を確保することができるため、配線14の設計自由度が一層高まる。   The area of the spacer 20 is equal to or smaller than the area of the semiconductor chip 30. As a result, a wide space can be secured between the wiring substrate 10 and the semiconductor chip 30, so that the degree of freedom in designing the wiring 14 is further increased.

スペーサ20の材料がシリコンである場合、半導体チップ30と共通の設備を用いて、スペーサ20を安価に製造することが可能となる。また、半導体装置1の製造時に、スペーサ20のハンドリングが容易となる。さらに、半導体チップ30との熱膨張係数の差が小さくなるため、スペーサ20と半導体チップ30との間に発生する応力を小さく抑えることができる。   When the material of the spacer 20 is silicon, the spacer 20 can be manufactured at low cost by using equipment common to the semiconductor chip 30. In addition, the spacer 20 can be easily handled when the semiconductor device 1 is manufactured. Furthermore, since the difference in thermal expansion coefficient with the semiconductor chip 30 is reduced, the stress generated between the spacer 20 and the semiconductor chip 30 can be suppressed to a low level.

ところで、特許文献1には、タブとペレットとの間にスペーサを設けることが開示されている。しかしながら、同文献においては、スペーサがペレットの縁部にのみ設けられている。このため、ペレットを支持するのに、複数のスペーサが必要となる。それゆえ、半導体装置の製造コストが増大してしまうという問題がある。   By the way, Patent Document 1 discloses providing a spacer between a tab and a pellet. However, in this document, the spacer is provided only at the edge of the pellet. For this reason, a plurality of spacers are required to support the pellet. Therefore, there is a problem that the manufacturing cost of the semiconductor device increases.

これに対して、本実施形態においては、スペーサ20が半導体チップ30の中心C1(図2参照)に重なっている。これにより、1つのスペーサ20で半導体チップ30を安定的に支持することが可能となる。よって、半導体装置1の製造コストを低く抑えることができる。   On the other hand, in this embodiment, the spacer 20 overlaps the center C1 (see FIG. 2) of the semiconductor chip 30. As a result, the semiconductor chip 30 can be stably supported by the single spacer 20. Therefore, the manufacturing cost of the semiconductor device 1 can be kept low.

また、図12に示した半導体装置100においては、フィレット106aがステッチ110に接触するのを防ぐために、接着材106の染み出し(はみ出し)量およびマウント誤差を考慮した上で、半導体チップ104の外周からステッチ110までの間の距離を設定する必要がある。ここで、マウント誤差とは、半導体チップ104の配線基板102に対する位置ずれ量のことである。そのため、半導体装置100においては、半導体チップ104の外周からステッチ110までの距離が長くなる。このことは、配線基板102の大型化につながってしまう。   In the semiconductor device 100 shown in FIG. 12, in order to prevent the fillet 106 a from coming into contact with the stitch 110, the outer periphery of the semiconductor chip 104 is taken into consideration in consideration of the amount of protrusion (excess) of the adhesive 106 and the mounting error. To the stitch 110 needs to be set. Here, the mounting error is a positional deviation amount of the semiconductor chip 104 with respect to the wiring substrate 102. Therefore, in the semiconductor device 100, the distance from the outer periphery of the semiconductor chip 104 to the stitch 110 is increased. This leads to an increase in the size of the wiring board 102.

これに対して、本実施形態においては、配線基板10と半導体チップ30との間の空間内にフィレット44aが納まるため、半導体チップ30の外周からステッチ12までの距離を短縮することができる。このことも、配線基板10ひいては半導体装置1の小型化に資する。そのうえ、フィレット44aがステッチ12に接触するのを防ぐために接着材44の染み出し量を厳格にコントロールする必要がなくなる。このため、半導体装置1の量産性が一層向上する。
(第2実施形態)
On the other hand, in the present embodiment, the fillet 44a is housed in the space between the wiring substrate 10 and the semiconductor chip 30, and therefore the distance from the outer periphery of the semiconductor chip 30 to the stitch 12 can be shortened. This also contributes to miniaturization of the wiring board 10 and thus the semiconductor device 1. In addition, it is not necessary to strictly control the amount of the adhesive 44 that leaks out to prevent the fillet 44a from contacting the stitch 12. For this reason, the mass productivity of the semiconductor device 1 is further improved.
(Second Embodiment)

図3は、本発明による半導体装置の第2実施形態を示す断面図である。また、図4は、図3中の配線基板10、スペーサ20および半導体チップ30を示す平面図である。図4のIII−III線に沿った断面が、図3の断面に相当する。半導体装置2においては、配線基板10と半導体チップ30との間の空間に、受動部品70が配置されている。受動部品70は、例えば、容量素子または抵抗素子である。半導体装置2のその他の構成は、半導体装置1と同様である。   FIG. 3 is a sectional view showing a second embodiment of the semiconductor device according to the present invention. 4 is a plan view showing the wiring substrate 10, the spacer 20, and the semiconductor chip 30 in FIG. A cross section taken along line III-III in FIG. 4 corresponds to the cross section in FIG. In the semiconductor device 2, the passive component 70 is disposed in the space between the wiring substrate 10 and the semiconductor chip 30. The passive component 70 is, for example, a capacitive element or a resistive element. Other configurations of the semiconductor device 2 are the same as those of the semiconductor device 1.

本実施形態においては、受動部品70を配線基板10と半導体チップ30との間の空間に配置している。これにより、受動部品70を当該空間の外に配置する場合に比して、配線基板10の小型化を図ることができる。また、このように受動部品70を配線基板10の下に隠すように配置することにより、高周波ノイズの低減を図ることができる。本実施形態のその他の効果は、第1実施形態と同様である。
(第3実施形態)
In the present embodiment, the passive component 70 is disposed in the space between the wiring board 10 and the semiconductor chip 30. Thereby, compared with the case where the passive component 70 is arrange | positioned out of the said space, size reduction of the wiring board 10 can be achieved. Further, by disposing the passive component 70 so as to be hidden under the wiring board 10 in this way, it is possible to reduce high frequency noise. Other effects of the present embodiment are the same as those of the first embodiment.
(Third embodiment)

図5は、本発明による半導体装置の第3実施形態を示す断面図である。また、図6は、図5中の配線基板10、スペーサ20および半導体チップ30を示す平面図である。図6のV−V線に沿った断面が、図5の断面に相当する。半導体装置3においては、スペーサ20の上面(半導体チップ30側の面)に溝22が形成されている。溝22は、スペーサ20の外周の全体に沿って形成されている。半導体装置3のその他の構成は、半導体装置1と同様である。   FIG. 5 is a sectional view showing a third embodiment of the semiconductor device according to the present invention. FIG. 6 is a plan view showing the wiring substrate 10, the spacer 20, and the semiconductor chip 30 in FIG. A cross section taken along line VV in FIG. 6 corresponds to the cross section in FIG. In the semiconductor device 3, a groove 22 is formed on the upper surface of the spacer 20 (the surface on the semiconductor chip 30 side). The groove 22 is formed along the entire outer periphery of the spacer 20. Other configurations of the semiconductor device 3 are the same as those of the semiconductor device 1.

本実施形態においては、スペーサ20に溝22が形成されている。この溝22により、スペーサ20と半導体チップ30との間から接着材44がはみ出るのを防止することができる。これにより、半導体チップ30の外周からステッチ12までの距離を一層短縮することが可能となる。本実施形態のその他の効果は、第1実施形態と同様である。   In the present embodiment, a groove 22 is formed in the spacer 20. The groove 22 can prevent the adhesive 44 from protruding from between the spacer 20 and the semiconductor chip 30. Thereby, the distance from the outer periphery of the semiconductor chip 30 to the stitch 12 can be further shortened. Other effects of the present embodiment are the same as those of the first embodiment.

なお、本実施形態において溝22は、図7に示すように、スペーサ20の角部にのみ形成されていてもよい。スペーサ20の角部は半導体チップ30の外周の近くに位置するため、この部分からの接着材のはみ出しを防止することが、半導体チップ30の外周からステッチ12(図5を参照)までの距離を短縮する上で特に効果的である。また、本実施形態において、第2実施形態と同様に、配線基板10と半導体チップ30との間の空間に受動部品を配置してもよい。   In the present embodiment, the grooves 22 may be formed only at the corners of the spacer 20, as shown in FIG. Since the corner portion of the spacer 20 is located near the outer periphery of the semiconductor chip 30, preventing the adhesive from protruding from this portion increases the distance from the outer periphery of the semiconductor chip 30 to the stitch 12 (see FIG. 5). It is particularly effective in shortening. In the present embodiment, passive components may be arranged in the space between the wiring board 10 and the semiconductor chip 30 as in the second embodiment.

本発明は、上記実施形態に限定されるものではなく、様々な変形が可能である。例えば、上記実施形態においては、スペーサ20が半導体チップ30の辺に重なった例を示した。しかし、図8に示すように、スペーサ20は半導体チップ30の辺に重なっていなくてもよい。また、上記実施形態においては、スペーサ20の中心が半導体チップ30の中心に一致する例を示した。しかし、図9に示すように、スペーサ20の中心は半導体チップ30の中心に一致していなくてもよい。   The present invention is not limited to the above embodiment, and various modifications can be made. For example, in the above-described embodiment, an example in which the spacer 20 overlaps the side of the semiconductor chip 30 has been described. However, as shown in FIG. 8, the spacer 20 may not overlap the side of the semiconductor chip 30. Moreover, in the said embodiment, the example in which the center of the spacer 20 corresponds with the center of the semiconductor chip 30 was shown. However, as shown in FIG. 9, the center of the spacer 20 may not coincide with the center of the semiconductor chip 30.

また、上記実施形態においては、スペーサ20の全体が半導体チップ30に重なった例を示した。しかし、図10および図11に示すように、スペーサ20の一部のみが半導体チップ30に重なっていてもよい。また、上記実施形態においては、スペーサ20の面積が半導体チップ30のそれ以下である例を示した。しかし、配線基板10と半導体チップ30との間に空間が存在する限り、スペーサ20の面積が半導体チップ30のそれより大きくてもよい。   Moreover, in the said embodiment, the example in which the whole spacer 20 overlapped with the semiconductor chip 30 was shown. However, as shown in FIGS. 10 and 11, only a part of the spacer 20 may overlap the semiconductor chip 30. Moreover, in the said embodiment, the example whose area of the spacer 20 is less than that of the semiconductor chip 30 was shown. However, as long as a space exists between the wiring substrate 10 and the semiconductor chip 30, the area of the spacer 20 may be larger than that of the semiconductor chip 30.

また、上記実施形態においては、BGA(Ball Grid Array)型の半導体装置を例示した。しかし、本発明による半導体装置は、LGA(Land Grid Array)型の半導体装置であってもよい。   Moreover, in the said embodiment, the BGA (Ball Grid Array) type semiconductor device was illustrated. However, the semiconductor device according to the present invention may be an LGA (Land Grid Array) type semiconductor device.

本発明による半導体装置の第1実施形態を示す断面図である。1 is a cross-sectional view showing a first embodiment of a semiconductor device according to the present invention. 図1中の配線基板、スペーサおよび半導体チップを示す平面図である。It is a top view which shows the wiring board in FIG. 1, a spacer, and a semiconductor chip. 本発明による半導体装置の第2実施形態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows 2nd Embodiment of the semiconductor device by this invention. 図3中の配線基板、スペーサおよび半導体チップを示す平面図である。FIG. 4 is a plan view showing a wiring board, a spacer, and a semiconductor chip in FIG. 3. 本発明による半導体装置の第3実施形態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows 3rd Embodiment of the semiconductor device by this invention. 図5中の配線基板、スペーサおよび半導体チップを示す平面図である。It is a top view which shows the wiring board in FIG. 5, a spacer, and a semiconductor chip. 実施形態の変形例を説明するための平面図である。It is a top view for demonstrating the modification of embodiment. 実施形態の変形例を説明するための平面図である。It is a top view for demonstrating the modification of embodiment. 実施形態の変形例を説明するための平面図である。It is a top view for demonstrating the modification of embodiment. 実施形態の変形例を説明するための平面図である。It is a top view for demonstrating the modification of embodiment. 実施形態の変形例を説明するための平面図である。It is a top view for demonstrating the modification of embodiment. 従来の半導体装置を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the conventional semiconductor device.

符号の説明Explanation of symbols

1 半導体装置
2 半導体装置
3 半導体装置
10 配線基板
12 ステッチ
14 配線
20 スペーサ
22 溝
30 半導体チップ
42 接着材
44 接着材
44a フィレット
46 ボンディングワイヤ
50 封止樹脂
60 バンプ
70 受動部品
100 半導体装置
102 配線基板
104 半導体チップ
106 接着材
106a フィレット
108 ボンディングワイヤ
110 ステッチ
112 封止樹脂
114 バンプ
C1 半導体チップの中心
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Semiconductor device 2 Semiconductor device 3 Semiconductor device 10 Wiring board 12 Stitch 14 Wiring 20 Spacer 22 Groove 30 Semiconductor chip 42 Adhesive material 44 Adhesive material 44a Fillet 46 Bonding wire 50 Sealing resin 60 Bump 70 Passive component 100 Semiconductor device 102 Wiring board 104 Semiconductor chip 106 Adhesive 106a Fillet 108 Bonding wire 110 Stitch 112 Sealing resin 114 Bump C1 Center of semiconductor chip

Claims (22)

配線基板と、
前記配線基板上に設けられたスペーサと、
前記スペーサ上に設けられた半導体チップと、を備え、
平面視で、前記スペーサの辺と前記半導体チップの辺とがなす角をθとしたとき、0<θ<90°であることを特徴とする半導体装置。
A wiring board;
A spacer provided on the wiring board;
A semiconductor chip provided on the spacer,
A semiconductor device wherein 0 <θ <90 °, where θ is an angle formed by a side of the spacer and a side of the semiconductor chip in a plan view.
請求項1に記載の半導体装置において、
前記スペーサおよび前記半導体チップは、平面視で、共に矩形をしている半導体装置。
The semiconductor device according to claim 1,
The spacer and the semiconductor chip are both semiconductor devices having a rectangular shape in plan view.
請求項1または2に記載の半導体装置において、
前記スペーサは、前記半導体チップの角部に重なっていない半導体装置。
The semiconductor device according to claim 1 or 2,
The spacer is a semiconductor device in which the spacer does not overlap a corner of the semiconductor chip.
請求項1乃至3いずれかに記載の半導体装置において、
前記スペーサは、前記半導体チップの中心に重なっている半導体装置。
The semiconductor device according to claim 1,
The spacer is a semiconductor device overlapping the center of the semiconductor chip.
請求項1乃至4いずれかに記載の半導体装置において、
前記スペーサは、前記半導体チップの辺に重なっている半導体装置。
The semiconductor device according to claim 1,
The semiconductor device, wherein the spacer overlaps a side of the semiconductor chip.
請求項1乃至5いずれかに記載の半導体装置において、
前記スペーサの面積は、前記半導体チップの面積以下である半導体装置。
The semiconductor device according to claim 1,
The semiconductor device wherein an area of the spacer is equal to or less than an area of the semiconductor chip.
請求項1乃至5いずれかに記載の半導体装置において、
前記スペーサの面積は、前記半導体チップの面積よりも大きく、
前記配線基板と前記半導体チップとの間には、空間が存在する半導体装置。
The semiconductor device according to claim 1,
The area of the spacer is larger than the area of the semiconductor chip,
A semiconductor device in which a space exists between the wiring board and the semiconductor chip.
請求項1乃至7いずれかに記載の半導体装置において、
前記θは、5°<θ<85°を満たす半導体装置。
The semiconductor device according to claim 1,
Θ is a semiconductor device satisfying 5 ° <θ <85 °.
請求項8に記載の半導体装置において、
前記θは、45°に等しい半導体装置。
The semiconductor device according to claim 8,
The θ is a semiconductor device equal to 45 °.
請求項1乃至9いずれかに記載の半導体装置において、
前記スペーサの全体が、前記半導体チップに重なっている半導体装置。
The semiconductor device according to claim 1,
A semiconductor device in which the entire spacer overlaps the semiconductor chip.
請求項1乃至9いずれかに記載の半導体装置において、
前記スペーサの一部が、前記半導体チップに重なっている半導体装置。
The semiconductor device according to claim 1,
A semiconductor device in which a part of the spacer overlaps the semiconductor chip.
請求項1乃至11いずれかに記載の半導体装置において、
前記配線基板と前記半導体チップとの間の空間に配置された受動部品を更に備える半導体装置。
The semiconductor device according to claim 1,
A semiconductor device further comprising a passive component disposed in a space between the wiring board and the semiconductor chip.
請求項1乃至12いずれかに記載の半導体装置において、
前記半導体チップは、接着材を介して前記スペーサ上に設けられている半導体装置。
The semiconductor device according to claim 1,
The semiconductor device is a semiconductor device provided on the spacer via an adhesive.
請求項13に記載の半導体装置において、
前記接着材は、前記スペーサと前記半導体チップとの間から、はみ出している半導体装置。
The semiconductor device according to claim 13,
The semiconductor device in which the adhesive protrudes from between the spacer and the semiconductor chip.
請求項1乃至14いずれかに記載の半導体装置において、
前記スペーサの前記半導体チップ側の面には、溝が形成されている半導体装置。
The semiconductor device according to claim 1,
A semiconductor device in which a groove is formed on a surface of the spacer on the semiconductor chip side.
請求項15に記載の半導体装置において、
前記溝は、前記スペーサの外周の全体に沿って形成されている半導体装置。
The semiconductor device according to claim 15,
The groove is a semiconductor device formed along the entire outer periphery of the spacer.
請求項15に記載の半導体装置において、
前記溝は、前記スペーサの角部に形成されている半導体装置。
The semiconductor device according to claim 15,
The groove is a semiconductor device formed at a corner of the spacer.
請求項1乃至17いずれかに記載の半導体装置において、
前記配線基板の配線は、前記半導体チップの下に位置する領域に存在する半導体装置。
The semiconductor device according to claim 1,
The wiring of the said wiring board is a semiconductor device which exists in the area | region located under the said semiconductor chip.
請求項1乃至18いずれかに記載の半導体装置において、
前記配線基板の配線は、前記スペーサの下に位置する領域に存在しない半導体装置。
The semiconductor device according to claim 1,
A semiconductor device in which the wiring of the wiring board does not exist in a region located under the spacer.
請求項1乃至19いずれかに記載の半導体装置において、
平面視で、前記スペーサの中心は、前記半導体チップの中心に一致する半導体装置。
The semiconductor device according to claim 1,
A semiconductor device in which a center of the spacer coincides with a center of the semiconductor chip in a plan view.
請求項1乃至20いずれかに記載の半導体装置において、
前記半導体チップは、ボンディングワイヤを介して前記配線基板と電気的に接続されている半導体装置。
21. The semiconductor device according to claim 1, wherein
The semiconductor device, wherein the semiconductor chip is electrically connected to the wiring board via a bonding wire.
請求項1乃至21いずれかに記載の半導体装置において、
前記スペーサには、半導体素子が形成されていない半導体装置。
The semiconductor device according to any one of claims 1 to 21,
A semiconductor device in which a semiconductor element is not formed in the spacer.
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