JP2008300672A - Semiconductor device - Google Patents

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博可 漆畑
Hideyuki Inotsume
秀行 猪爪
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To miniaturize a semiconductor device having a plurality of built-in semiconductor elements stacked. <P>SOLUTION: The semiconductor device 10A is provided with a first semiconductor element 12 fixed on a first island 16 and a second semiconductor element 14 fixed on a second island 18, wherein the first island 16, the first semiconductor element 12, the second island 18 and the second semiconductor element 14 are disposed so as to be superimposed. Further, the first semiconductor element 12 is disposed on the upper surface of the first island 16 and the second semiconductor element 14 is disposed on the lower surface of the second island 18. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は半導体装置に関し、特に、積層して配置される複数の半導体素子を備えた半導体装置に関する。   The present invention relates to a semiconductor device, and more particularly to a semiconductor device including a plurality of semiconductor elements arranged in a stacked manner.

一般に、リードフレームを用いた半導体装置は、アイランドと、アイランドの周囲にその一端が設けられたリードが複数本配置される。そして、このアイランドの上面には、半導体素子が固着され、この半導体素子のボンディングパッドとリードとが金属細線にて接続される(例えば、特許文献1)。更には、リードの端部が露出するように、アイランド、リード、半導体素子および金属細線が絶縁性樹脂により封止される。ここで、リードに於いて、絶縁性樹脂に封止された部分はインナーリードと称され、絶縁性樹脂から露出された部分はアウターリードと称されている。そして、このアウターリードが必要により折り曲げられて、前記リードの他端は、半田等により、プリント基板等に実装される。   In general, a semiconductor device using a lead frame has an island and a plurality of leads each having one end provided around the island. A semiconductor element is fixed to the upper surface of the island, and a bonding pad and a lead of the semiconductor element are connected by a thin metal wire (for example, Patent Document 1). Furthermore, the island, the lead, the semiconductor element, and the fine metal wire are sealed with an insulating resin so that the end portion of the lead is exposed. Here, in the lead, a portion sealed with the insulating resin is referred to as an inner lead, and a portion exposed from the insulating resin is referred to as an outer lead. The outer lead is bent as necessary, and the other end of the lead is mounted on a printed circuit board or the like by solder or the like.

またアイランドに複数のチップを積層して成るスタック型の半導体装置も実現されている。これは、親チップの上に、親チップよりもサイズの小さい子チップが積層されるものであり、親チップも子チップも金属細線にて電気的に接続される。
特開2007−5569号公報
A stack-type semiconductor device in which a plurality of chips are stacked on an island has also been realized. In this case, a child chip having a size smaller than that of the parent chip is stacked on the parent chip, and both the parent chip and the child chip are electrically connected by a thin metal wire.
JP 2007-5569 A

しかしながら、前述した様な構成の半導体装置は、昨今の軽薄短小の技術により小型化が可能になっている。しかし、子チップの上面は、親チップの上面よりも、アイランドの表面からより高い位置に配置される。従って、子チップの上面に金属細線を接続すると、金属細線の頂部がより高くなり、半導体装置の厚み、つまりパッケージの厚みがより厚くなる問題があった。   However, the semiconductor device having the above-described configuration can be reduced in size by the recent thin, thin and small technology. However, the upper surface of the child chip is arranged at a higher position from the surface of the island than the upper surface of the parent chip. Therefore, when a thin metal wire is connected to the upper surface of the child chip, there is a problem that the top of the thin metal wire becomes higher and the thickness of the semiconductor device, that is, the thickness of the package becomes thicker.

更に、半導体装置の内部にて半導体素子を横方向に並べて配置することも可能であるが、内蔵される半導体素子が多くなると、半導体装置が大型化してしまう問題があった。   Further, it is possible to arrange the semiconductor elements in the horizontal direction inside the semiconductor device, but there is a problem that the semiconductor device is increased in size when the number of built-in semiconductor elements is increased.

そこで、本発明は、複数のチップが積層して配置された小型の半導体装置を提供することを目的とする。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a small semiconductor device in which a plurality of chips are stacked and arranged.

本発明の半導体装置は、積層して配置される複数の半導体素子と、前記半導体素子と電気に接続されて外部に一部が露出するリードとを有する半導体装置であり、第1アイランドと、前記第1アイランドに固着された第1半導体素子と、前記第1アイランドから連続して外部に露出する第1リードと、第2アイランドと、前記第2アイランドに固着された第2半導体素子と、前記第2アイランドから連続して外部に露出する第2リードと、を備え、前記第1アイランド、前記第1半導体素子、前記第2アイランドおよび前記第2半導体素子が重畳するように配置されることを特徴とする。   The semiconductor device of the present invention is a semiconductor device having a plurality of semiconductor elements arranged in a stacked manner, and leads that are electrically connected to the semiconductor elements and partially exposed to the outside, the first island, A first semiconductor element fixed to the first island; a first lead exposed continuously from the first island; a second island; a second semiconductor element fixed to the second island; A second lead continuously exposed from the second island to the outside, wherein the first island, the first semiconductor element, the second island, and the second semiconductor element are arranged to overlap each other. Features.

本発明によれば、複数のアイランドおよび半導体素子が重畳して配置されているので、複数の半導体素子が積層される半導体装置をより小型にすることができる。   According to the present invention, since a plurality of islands and semiconductor elements are arranged so as to overlap with each other, a semiconductor device in which a plurality of semiconductor elements are stacked can be made smaller.

更に、本発明によれば、第1半導体素子および第2半導体素子が実装される面の方向を逆にすることにより、両半導体素子が実装される第1アイランドおよび第2アイランドの距離を短くすることができる(図2参照)。従って、半導体装置の厚みを薄くすることができると共に、一方の半導体素子から発生した熱を、第1アイランドおよび第2アイランドの両方を経由して良好に外部に放出させることができる。   Furthermore, according to the present invention, the distance between the first island and the second island on which both semiconductor elements are mounted is shortened by reversing the direction of the surface on which the first semiconductor element and the second semiconductor element are mounted. (See FIG. 2). Therefore, the thickness of the semiconductor device can be reduced, and heat generated from one semiconductor element can be favorably released to the outside through both the first island and the second island.

更に、図5を参照して、本発明によれば、第1アイランドの上面に第1半導体素子を実装し、第2アイランドの上面に第2半導体素子を実装している。即ち、両半導体素子が共に、アイランドの上面に実装されている。このことにより、半導体装置を組み立てる製造工程にて、半導体素子が実装されたリードフレームを反転させる必要が無いので、製造工程を簡素化できると共に、歩溜まりを向上させることができる。   Furthermore, referring to FIG. 5, according to the present invention, the first semiconductor element is mounted on the upper surface of the first island, and the second semiconductor element is mounted on the upper surface of the second island. That is, both semiconductor elements are mounted on the upper surface of the island. This eliminates the need to reverse the lead frame on which the semiconductor element is mounted in the manufacturing process for assembling the semiconductor device, thereby simplifying the manufacturing process and improving the yield.

更にまた、図6を参照して、両半導体素子が両アイランドの下面に実装された場合は、リードの傾斜部により形成される空間に半導体素子を収納させることができるので、半導体装置を更に小型なものにすることができる。   Furthermore, referring to FIG. 6, when both semiconductor elements are mounted on the lower surfaces of both islands, the semiconductor elements can be accommodated in the space formed by the inclined portions of the leads, so that the semiconductor device can be further reduced in size. Can be made.

更に、図7を参照して、本発明によれば、複数のアイランドおよび半導体素子に加えて、リードの接続部も重畳して配置されるので、上記半導体装置を更に小型にすることができる。   Furthermore, referring to FIG. 7, according to the present invention, in addition to a plurality of islands and semiconductor elements, lead connection portions are also arranged so as to overlap, so that the semiconductor device can be further miniaturized.

図1から図7を参照して、本実施の形態の半導体装置の構成を説明する。図1乃至図4は半導体装置10Aを示す図である。図5乃至図7はそれぞれが他の形態の半導体装置の構造を示す図である。   The configuration of the semiconductor device of the present embodiment will be described with reference to FIGS. 1 to 4 are views showing a semiconductor device 10A. 5 to 7 are diagrams each showing the structure of another form of semiconductor device.

先ず、図1から図4を参照して、本実施の形態の基本形である半導体装置10Aの構成を説明する。図1(A)は半導体装置10Aの斜視図であり、図1(B)は半導体装置10Aを上方から見た平面図であり、図1(C)は半導体装置10Aを下方から見た平面図である。そして、図2の各図は半導体装置10Aの断面図であり、図3および図4は半導体装置10Aを構成するリードの一部分を抜き出して示した斜視図である。   First, the configuration of a semiconductor device 10A that is a basic form of the present embodiment will be described with reference to FIGS. 1A is a perspective view of the semiconductor device 10A, FIG. 1B is a plan view of the semiconductor device 10A viewed from above, and FIG. 1C is a plan view of the semiconductor device 10A viewed from below. It is. 2 is a cross-sectional view of the semiconductor device 10A, and FIGS. 3 and 4 are perspective views showing a part of leads constituting the semiconductor device 10A.

図1(A)を参照して、半導体装置10Aは、略立方体形状または略直方体形状の外形形状を有し、上面と下面は互いに平行な平坦面であり、側面は上部の方が下部よりも内側に向かって傾斜する傾斜面と成っている。そして、内蔵された半導体素子と電気的に接続された複数のリードの端部が、全体を一体的に封止する封止樹脂23の側面の下部から、外部に突出している。これらのリードは、封止樹脂23の対向する2つの側辺から外部に突出している。また、外部に露出するリードの下面と、封止樹脂23の下面とは、同一平面上に位置している。半導体装置10Aの実装は、露出するリードに付着させた半田クリーム(不図示)を半田に加熱溶融させるリフロー工程で行われる。   Referring to FIG. 1A, a semiconductor device 10A has a substantially cubic shape or a substantially rectangular parallelepiped outer shape, the upper surface and the lower surface are parallel flat surfaces, and the upper side of the side surface is lower than the lower side. It consists of an inclined surface that inclines inward. Then, end portions of the plurality of leads electrically connected to the built-in semiconductor element protrude to the outside from the lower portion of the side surface of the sealing resin 23 that integrally seals the whole. These leads protrude outside from two opposing sides of the sealing resin 23. Further, the lower surface of the lead exposed to the outside and the lower surface of the sealing resin 23 are located on the same plane. The mounting of the semiconductor device 10A is performed in a reflow process in which a solder cream (not shown) attached to the exposed leads is heated and melted in the solder.

図1の各図を参照して、半導体装置10Aの概略的構成は、第1アイランド16の上面に固着された第1半導体素子12と、第2アイランド18の下面に固着された第2半導体素子14と、各半導体素子と電気的に接続されて外部に導出されるリードと、これらを被覆して一体的に支持する封止樹脂23とを含む構成となっている。更に、第1アイランド16、第2アイランド18、第1半導体素子12および第2半導体素子14は、半導体装置10Aの厚み方向に重畳するように配置されている。   1A and 1B, a schematic configuration of a semiconductor device 10A includes a first semiconductor element 12 fixed to an upper surface of a first island 16 and a second semiconductor element fixed to a lower surface of a second island 18. 14, leads that are electrically connected to each semiconductor element and led out to the outside, and a sealing resin 23 that covers and integrally supports these leads. Furthermore, the first island 16, the second island 18, the first semiconductor element 12, and the second semiconductor element 14 are arranged so as to overlap in the thickness direction of the semiconductor device 10 </ b> A.

図1(B)を参照して、半導体装置10Aを上方から見た平面的な構成を説明すると、半導体装置10Aの中央部付近に、略四角形形状の第1アイランド16が配置されている。そして、紙面上に於いて第1アイランド16の下側側辺から、2つのリード20G、20Fが連続して外部に導出されている。これらの2つのリード20G、20Fは、第1半導体素子12の裏面電極(例えばMOSFETのドレイン電極)と電気的に接続されたものでも良いし、接続されていないものでも良い。   A planar configuration of the semiconductor device 10A viewed from above will be described with reference to FIG. 1B. A substantially quadrangular first island 16 is disposed near the center of the semiconductor device 10A. Then, two leads 20G and 20F are continuously led out from the lower side of the first island 16 on the paper surface. These two leads 20G and 20F may be electrically connected to the back electrode (for example, the drain electrode of the MOSFET) of the first semiconductor element 12 or may not be connected.

更に、第1アイランドの左側に接近して2つのリード20D、20Hが配置されている。紙面上に於けるリード20Dの下部はボンディング部22であり、この部分が金属細線30Aを経由して第1半導体素子12の電極32と接続されている。また、リード20Hの上部はボンディング部24であり、この部分が2本の金属細線30B、30Cを経由して第1半導体素子12の2つの電極32に接続される。   Further, two leads 20D and 20H are arranged close to the left side of the first island. A lower portion of the lead 20D on the paper surface is a bonding portion 22, and this portion is connected to the electrode 32 of the first semiconductor element 12 through a thin metal wire 30A. The upper portion of the lead 20H is a bonding portion 24, and this portion is connected to the two electrodes 32 of the first semiconductor element 12 via the two thin metal wires 30B and 30C.

金属細線30A等は、上記したように、第1半導体素子12の電極32とリード20Dのボンディング部22等とを電気的に接続する接続手段として機能している。金属細線30A等は、直径が数十μm程度の金またはアルミニウム等の金属材料から成る。ここで、この接続手段としては金属細線以外も採用可能であり、一例として、所定の形状に成形した一枚の金属板を接続手段として採用することができる。   As described above, the fine metal wires 30A and the like function as connecting means for electrically connecting the electrodes 32 of the first semiconductor element 12 and the bonding portions 22 of the leads 20D. The fine metal wires 30A and the like are made of a metal material such as gold or aluminum having a diameter of about several tens of μm. Here, as the connection means, it is possible to employ other than the metal thin wire, and as an example, a single metal plate formed into a predetermined shape can be employed as the connection means.

例えば、第1半導体素子12がMOSFETである場合は、第1半導体素子12の上面に設けた1つのゲート電極(制御電極:ここでは電極32)が、金属細線30Aを経由してリード20Dのボンディング部22と接続される。更に、ソース電極(主電極)である2つの他の電極32は、2つの金属細線30B、30Cを経由して、リード20Hのボンディング部24と接続される。MOSFETのソース電極は、比較的大きな電流が通過する主電極であるので、制御電極であるゲート電極よりも多数本の金属細線を使用してリードと接続することにより、金属細線の電気抵抗を引き下げてオン抵抗を小さくすることができる。なお、第1半導体素子12の裏面は、例えばドレイン電極(主電極)として第1アイランド16の上面に電気的に接続される。更に、リード20Hのボンディング部24を、リード20Dのボンディング部22よりも長く(面積を大きく)することにより、金属細線の接続を容易にすることができる。   For example, when the first semiconductor element 12 is a MOSFET, one gate electrode (control electrode: electrode 32 here) provided on the upper surface of the first semiconductor element 12 is bonded to the lead 20D via the metal thin wire 30A. The unit 22 is connected. Further, two other electrodes 32 that are source electrodes (main electrodes) are connected to the bonding portion 24 of the lead 20H via the two thin metal wires 30B and 30C. Since the source electrode of the MOSFET is the main electrode through which a relatively large current passes, the electrical resistance of the fine metal wire is reduced by connecting it to the lead using a larger number of fine metal wires than the gate electrode that is the control electrode. As a result, the on-resistance can be reduced. The back surface of the first semiconductor element 12 is electrically connected to the upper surface of the first island 16 as a drain electrode (main electrode), for example. Further, by making the bonding portion 24 of the lead 20H longer (the area is larger) than the bonding portion 22 of the lead 20D, it is possible to facilitate the connection of the fine metal wires.

封止樹脂23は、各半導体素子およびリードフレームを被覆すると共に、これらを一体的に支持する機能を有する。封止樹脂23の樹脂材料は、トランスファーモールドにより形成される熱硬化型樹脂(例えばエポキシ樹脂)や、インジェクションモールドにより形成される熱可塑性樹脂(例えばアクリル樹脂)が採用される。また、熱抵抗の低下等を目的として、酸化金属等のフィラーが充填された樹脂材料が、封止樹脂23として採用されても良い。ここでは、封止樹脂23は、リード、アイランド、半導体素子および金属細線を一体的に被覆している。更に、各リードの端部は、封止樹脂23から外部に露出しており、この部分が外部接続用の端子として機能している。   The sealing resin 23 has a function of covering each semiconductor element and the lead frame and integrally supporting them. As the resin material of the sealing resin 23, a thermosetting resin (for example, epoxy resin) formed by transfer molding or a thermoplastic resin (for example, acrylic resin) formed by injection molding is employed. In addition, a resin material filled with a filler such as a metal oxide may be used as the sealing resin 23 for the purpose of lowering thermal resistance. Here, the sealing resin 23 integrally covers leads, islands, semiconductor elements, and fine metal wires. Furthermore, the end portion of each lead is exposed to the outside from the sealing resin 23, and this portion functions as a terminal for external connection.

図1(C)を参照して、第2アイランド18の下面の中央部には、第2半導体素子14が固着されており、この第2半導体素子14の上面に設けられた電極は、金属細線31A等を経由してリード20A等と電気的に接続される。具体的には、紙面上に於けるリード20Aの下部はボンディング部26であり、リード20Eの上部はボンディング部28である。そして、リード20Aのボンディング部26の上面は金属細線31Aを経由して、第2半導体素子14の電極36と電気的に接続される。一方、リード20Eのボンディング部28は、2本の金属細線31B、31Cを経由して、第2半導体素子14の電極36と接続される。   Referring to FIG. 1C, a second semiconductor element 14 is fixed to the center of the lower surface of the second island 18, and the electrode provided on the upper surface of the second semiconductor element 14 is a fine metal wire. It is electrically connected to the lead 20A etc. via 31A etc. Specifically, the lower portion of the lead 20A on the paper surface is a bonding portion 26, and the upper portion of the lead 20E is a bonding portion 28. The upper surface of the bonding portion 26 of the lead 20A is electrically connected to the electrode 36 of the second semiconductor element 14 via the metal thin wire 31A. On the other hand, the bonding portion 28 of the lead 20E is connected to the electrode 36 of the second semiconductor element 14 via the two fine metal wires 31B and 31C.

第2半導体素子14としては、第1半導体素子と同様に各種半導体デバイスが採用可能である。ここで、第2半導体素子14がMOSFETの場合は、上面のゲート電極が1本の金属細線31Aを経由して、リード20Aのボンディング部26と接続される。そして、第2半導体素子14の他の2つのソース電極(電極32)は、2本の金属細線31B、31Cを経由して、リード20Eのボンディング部28と接続される。   As the second semiconductor element 14, various semiconductor devices can be adopted in the same manner as the first semiconductor element. Here, when the second semiconductor element 14 is a MOSFET, the gate electrode on the upper surface is connected to the bonding portion 26 of the lead 20A via one metal thin wire 31A. The other two source electrodes (electrodes 32) of the second semiconductor element 14 are connected to the bonding portion 28 of the lead 20E via the two thin metal wires 31B and 31C.

更に、紙面上における第2アイランド18の上方の側辺からは、2つのリード20C、20Bが外部に到るまで導出している。   Further, the two leads 20C and 20B are led out from the upper side of the second island 18 on the paper surface until they reach the outside.

第1アイランド16と第2アイランド18とは、両者の外縁が重畳するように(即ち両者が完全に又は殆ど重畳するように)配置されても良いし、一部が重畳されるように配置されても良い。更に、第1半導体素子および第2半導体素子も、両者の外縁が重畳するように配置されても良いし、両者の一部分が配置されるように重畳されても良い。   The first island 16 and the second island 18 may be arranged so that their outer edges overlap (that is, both overlap completely or almost completely), or are arranged so that a part of them overlaps. May be. Furthermore, the first semiconductor element and the second semiconductor element may also be arranged so that their outer edges overlap, or may be overlapped so that a part of both is arranged.

上記両半導体素子の組合せとしては、IC同士、ディスクリートのトランジスタ同士、ディスクリートのトランジスタとICとの組合せ等が考えられる。ここで、ディスクリートのトランジスタとしては、例えば、MOSFET、IGBT、バイポーラ型トランジスタ等が考えられる。更には、これらにダイオードが半導体素子として採用されても良い。   As a combination of the two semiconductor elements, a combination of ICs, discrete transistors, a combination of discrete transistors and ICs, and the like can be considered. Here, as the discrete transistor, for example, a MOSFET, an IGBT, a bipolar transistor, or the like can be considered. Furthermore, a diode may be employed as a semiconductor element.

図1(B)および図1(C)を参照して、密なハッチングが施されているリードおよびランド(第1リードフレーム)は第1半導体素子12の実装と接続に寄与する部位である。一方、粗なハッチングが施されているリードおよびランド(第2リードフレーム)は第2半導体素子14の実装と接続に寄与する部位である。図1(B)を参照して、この第1リードフレームは、第1アイランド16およびリード20D、20Hを含み、これらは同一平面上に位置している。また、図1(C)を参照して、第2リードフレームは、第2アイランド18およびリード20A、20Eを含み、これらは同一平面上に位置している。そして、図1(A)を参照して、第1半導体素子12に接続される第1リードフレームは、第2半導体素子14に接続される第2リードフレームよりも上方に位置している。   Referring to FIGS. 1B and 1C, leads and lands (first lead frames) that are densely hatched are portions that contribute to mounting and connection of the first semiconductor element 12. On the other hand, leads and lands (second lead frames) that are roughly hatched are parts that contribute to mounting and connection of the second semiconductor element 14. Referring to FIG. 1B, the first lead frame includes a first island 16 and leads 20D and 20H, which are located on the same plane. Referring to FIG. 1C, the second lead frame includes a second island 18 and leads 20A and 20E, which are located on the same plane. 1A, the first lead frame connected to the first semiconductor element 12 is located above the second lead frame connected to the second semiconductor element 14.

ここで、上述した第1リードフレームは図3に示され、第2リードフレームは図4に示されている。   Here, the first lead frame described above is shown in FIG. 3, and the second lead frame is shown in FIG.

ここで、製造工程では、上記した第1リードフレームと第2リードフレームとは別途用意される。即ち、半導体製造工程では、半導体素子をアイランドに固着させるダイボンディング工程と、半導体素子と導電部材とを金属細線で接続するワイヤボンディング工程が必要とされる。本形態では、第1リードフレームと第2リードフレームとで、個別にダイボンディング工程およびワイヤボンディング工程が行われ、その後に両者が重畳されて樹脂封止が行われる。この様にすることで、1つのパッケージ内に複数の半導体素子およびアイランドが積層された半導体装置を、比較的シンプルな工程にて製造することができる。   Here, in the manufacturing process, the first lead frame and the second lead frame described above are prepared separately. That is, in the semiconductor manufacturing process, a die bonding process for fixing the semiconductor element to the island and a wire bonding process for connecting the semiconductor element and the conductive member with a fine metal wire are required. In this embodiment, the die bonding process and the wire bonding process are individually performed on the first lead frame and the second lead frame, and then both are superimposed to perform resin sealing. In this way, a semiconductor device in which a plurality of semiconductor elements and islands are stacked in one package can be manufactured by a relatively simple process.

次に、図2の各断面図を参照して、半導体装置10Aの断面的な構成を説明する。ここで、図2(A)は図1(A)のA−A’線に於ける断面図であり、図2(B)は図1(A)のB−B’線に於ける断面図である。   Next, a sectional configuration of the semiconductor device 10A will be described with reference to each sectional view of FIG. 2A is a cross-sectional view taken along the line AA ′ in FIG. 1A, and FIG. 2B is a cross-sectional view taken along the line BB ′ in FIG. It is.

図2(A)を参照して、第1アイランド16およびボンディング部24は、封止樹脂23の内部の上部に於いて同一平面上に位置している。第1アイランド16の上面には、半田等の導電性固着剤を介して第1半導体素子12が固着される。ここで、第1半導体素子12の裏面が導通を必要としないものであれば、第1半導体素子12の裏面は、エポキシ樹脂等の絶縁性接着剤を介して、第1アイランド16の上面に固着されても良い。そして、第1半導体素子12の上面に設けられた電極は、金属細線30Bを経由してボンディング部24の上面と接続されている。   Referring to FIG. 2A, the first island 16 and the bonding portion 24 are located on the same plane in the upper part inside the sealing resin 23. The first semiconductor element 12 is fixed to the upper surface of the first island 16 via a conductive adhesive such as solder. Here, if the back surface of the first semiconductor element 12 does not require conduction, the back surface of the first semiconductor element 12 is fixed to the upper surface of the first island 16 with an insulating adhesive such as epoxy resin. May be. And the electrode provided in the upper surface of the 1st semiconductor element 12 is connected with the upper surface of the bonding part 24 via the metal fine wire 30B.

一方、第2アイランド18およびボンディング部28は、封止樹脂23の内部の下部に於いて、同一平面上に位置している。第2アイランド18、ボンディング部28および第2半導体素子14の関連構成は、第1アイランド16、ボンディング部24および第1半導体素子12と同様であり、上下方向の向きが逆になるのみである。   On the other hand, the second island 18 and the bonding part 28 are located on the same plane in the lower part inside the sealing resin 23. The related configuration of the second island 18, the bonding part 28, and the second semiconductor element 14 is the same as that of the first island 16, the bonding part 24, and the first semiconductor element 12, and only the vertical direction is reversed.

具体的には、第2アイランド18の下面には第2半導体素子14が固着剤を介して固着される。そして、第2半導体素子14の下面に設けられた電極は、金属細線31Bを経由してボンディング部28の下面と接続される。   Specifically, the second semiconductor element 14 is fixed to the lower surface of the second island 18 via a fixing agent. And the electrode provided in the lower surface of the 2nd semiconductor element 14 is connected with the lower surface of the bonding part 28 via the metal fine wire 31B.

図2(B)を参照して、リード20Cは、第1アイランド16と連続して外側に向かって下方に傾斜する傾斜部40(連続部)と、封止樹脂23から外部に露出して且つ下面が封止樹脂23の下面と同一平面上に位置する露出部42とから成る。この構成は、他のリードに関しても同様である。ここでは、第2アイランド18に第2半導体素子14が固着される方向(ここでは下方向)に、傾斜部40が突出するように形成されている。なお、傾斜部40は、直線的な形状でも良いし、曲線的な形状でも良い。傾斜部40は、金型を使用した打ち抜き加工により所定形状に成形される。   With reference to FIG. 2B, the lead 20C is exposed to the outside from the inclined portion 40 (continuous portion) inclined continuously downward to the outside continuously with the first island 16, and from the sealing resin 23, and The lower surface is composed of an exposed portion 42 located on the same plane as the lower surface of the sealing resin 23. This configuration is the same for other leads. Here, the inclined portion 40 is formed so as to protrude in a direction (downward here) in which the second semiconductor element 14 is fixed to the second island 18. The inclined portion 40 may have a linear shape or a curved shape. The inclined portion 40 is formed into a predetermined shape by punching using a mold.

本形態では、第1半導体素子12、第1アイランド16、第2半導体素子14および第2アイランドが重畳するように配置されている。このことにより、多数の半導体素子がパッケージ内に積層された半導体装置を小型化することができる。   In this embodiment, the first semiconductor element 12, the first island 16, the second semiconductor element 14, and the second island are arranged so as to overlap each other. As a result, a semiconductor device in which a large number of semiconductor elements are stacked in a package can be reduced in size.

更に、図2(A)を参照すると、第1半導体素子12は第1アイランド16の上面に実装され、第2半導体素子14は第2アイランド18の下面に実装されている。このことにより、第1アイランド16の下面と第2アイランド18の上面とを極めて接近させることができる。従って、半導体素子およびアイランドの積層に必要とされる厚さを短くすることができるので、半導体装置10Aをより薄型化することができる。   Further, referring to FIG. 2A, the first semiconductor element 12 is mounted on the upper surface of the first island 16, and the second semiconductor element 14 is mounted on the lower surface of the second island 18. As a result, the lower surface of the first island 16 and the upper surface of the second island 18 can be brought very close to each other. Therefore, the thickness required for stacking the semiconductor elements and the islands can be shortened, so that the semiconductor device 10A can be made thinner.

更に、封止樹脂23の内部にて第1アイランド16と第2アイランド18とが極めて接近しているので、一方の半導体素子から発生した熱を、両方のアイランドを経由して外部に放出させることができる。例えば、第1半導体素子12から発生した熱を、第1アイランド16および第2アイランド18を経由して(最終的には両アイランドから外部に導出するリードを経由して)外部に放出させることができる。   Further, since the first island 16 and the second island 18 are very close to each other inside the sealing resin 23, the heat generated from one semiconductor element is released to the outside via both islands. Can do. For example, the heat generated from the first semiconductor element 12 can be released to the outside via the first island 16 and the second island 18 (finally via leads led out from both islands to the outside). it can.

次に、図5から図7を参照して、他の形態の半導体装置10Bの構成を説明する。図5は他の半導体装置10Bを示す図であり、図6は他の半導体装置10Cを示す図であり、図7は他の半導体装置10Dを示す図である。これらの図に示された他の半導体装置の構成は、基本的には上述した半導体装置10Aと同様であり、相違する部分を中心に以下説明する。   Next, with reference to FIGS. 5 to 7, the configuration of another form of semiconductor device 10B will be described. FIG. 5 is a diagram showing another semiconductor device 10B, FIG. 6 is a diagram showing another semiconductor device 10C, and FIG. 7 is a diagram showing another semiconductor device 10D. The configurations of the other semiconductor devices shown in these drawings are basically the same as those of the semiconductor device 10A described above, and will be described below with a focus on the differences.

図5に他の形態の半導体装置10Bの構成を示す。ここで、図5(A)は図1(A)に示したA−A’線に於ける断面図に相当し、図5(B)は図1(A)のB−B’線における断面図に相当している。   FIG. 5 shows a configuration of another form of semiconductor device 10B. Here, FIG. 5A corresponds to a cross-sectional view taken along line AA ′ shown in FIG. 1A, and FIG. 5B is a cross-sectional view taken along line BB ′ in FIG. It corresponds to the figure.

図5(A)および図5(B)を参照して、上述した半導体装置10Aと半導体装置10Bとの相違点は、半導体素子がアイランドに実装される向きにある。ここでは、両半導体素子がアイランドの上面に固着されている。即ち、第1アイランド16の上面に第1半導体素子12が固着され、更に第2アイランド18の上面にも第2半導体素子14が固着されている。   Referring to FIGS. 5A and 5B, the difference between the semiconductor device 10A and the semiconductor device 10B described above is that the semiconductor element is mounted on the island. Here, both semiconductor elements are fixed to the upper surface of the island. That is, the first semiconductor element 12 is fixed to the upper surface of the first island 16, and the second semiconductor element 14 is also fixed to the upper surface of the second island 18.

図5(B)を参照して、両半導体素子が固着される向きを更に説明すると、第1半導体素子12および第2半導体素子がアイランドに固着される方向は、リード20Cの傾斜部40が厚み方向に延在(突出)する方向と逆である。   With reference to FIG. 5B, the direction in which the two semiconductor elements are fixed will be further described. In the direction in which the first semiconductor element 12 and the second semiconductor element are fixed to the island, the inclined portion 40 of the lead 20C has a thickness. It is opposite to the direction extending (protruding) in the direction.

この様に、両半導体素子を各々のアイランドの上面に固着することにより、製造工程にて半導体素子が実装されたアイランドを表裏逆にする必要が無くなるので、製造工程を簡素化できると共に歩溜まりを向上される。   In this way, by fixing both semiconductor elements to the upper surface of each island, it is not necessary to reverse the island on which the semiconductor elements are mounted in the manufacturing process, thereby simplifying the manufacturing process and increasing the yield. Be improved.

図6(A)および図6(B)を参照して、ここでは、両半導体素子がアイランドの下面に固着されている。即ち、第1半導体素子12は第1アイランド16の下面に実装され、第2半導体素子14は第2アイランド18の下面に固着されている。図6(B)を参照すると、両半導体素子はリードの傾斜部により囲まれる空間に収納される。従って、この構成により、重畳された半導体素子が収納される半導体装置10Cの厚みを更に薄くすることが可能となる。更にこの事項を換言すると、ここでは両半導体素子が両アイランドの固着される向きは、リードの傾斜部が突出する方向と同じである。   6A and 6B, here, both semiconductor elements are fixed to the lower surface of the island. That is, the first semiconductor element 12 is mounted on the lower surface of the first island 16, and the second semiconductor element 14 is fixed to the lower surface of the second island 18. Referring to FIG. 6B, both semiconductor elements are accommodated in a space surrounded by the inclined portion of the lead. Therefore, with this configuration, it is possible to further reduce the thickness of the semiconductor device 10C in which the superimposed semiconductor elements are stored. In other words, in this case, the direction in which the two semiconductor elements are fixed to the two islands is the same as the direction in which the inclined portion of the lead protrudes.

なお、図示は省略するが、第1半導体素子12が第1アイランド16の下面に実装され、第2半導体素子14が第2アイランド18の上面に固着されても良い。   Although not shown, the first semiconductor element 12 may be mounted on the lower surface of the first island 16 and the second semiconductor element 14 may be fixed to the upper surface of the second island 18.

図7を参照して、他の形態の半導体装置10Dの構成を説明する。図7(A)は半導体装置10Dの平面図であり、図7(B)は半導体装置10Dの断面図である。   With reference to FIG. 7, the configuration of another form of semiconductor device 10D will be described. FIG. 7A is a plan view of the semiconductor device 10D, and FIG. 7B is a cross-sectional view of the semiconductor device 10D.

図7(A)および図7(B)を参照して、半導体装置10Dの構成の特徴は、リードの接続部同士が部分的に重畳することにある。   Referring to FIGS. 7A and 7B, a feature of the configuration of semiconductor device 10D is that lead connection portions partially overlap each other.

半導体装置10Dの概略的構成を説明すると、第1半導体素子12が固着された第1アイランド16と、第2半導体素子14が固着された第2アイランド18とが重畳して配置されている。そして、第1アイランド16の左側側辺から2つのリード20A、20Cが外部に導出されている。更に、第2アイランド18の左側側辺から2つのリード20B、20Dが外部に導出されている。   The schematic configuration of the semiconductor device 10D will be described. The first island 16 to which the first semiconductor element 12 is fixed and the second island 18 to which the second semiconductor element 14 is fixed are arranged so as to overlap each other. Two leads 20A and 20C are led out from the left side of the first island 16 to the outside. Further, two leads 20B and 20D are led out from the left side of the second island 18 to the outside.

また、第1半導体素子の上面の電極は、金属細線30Aを経由して、リード20Hの接続部A1(ボンディング部)の上面と接続されている。そして、第1半導体素子の上面の他の電極は、金属細線30Dを経由して、リード20Fの接続部A3と接続される。更に、不図示ではあるが、第2半導体素子の電極のそれぞれは、金属細線30B、金属細線30Cを経由して、リード20Gの接続部A2、リード20Eの接続部A4に接続される。   Further, the electrode on the upper surface of the first semiconductor element is connected to the upper surface of the connection portion A1 (bonding portion) of the lead 20H via the fine metal wire 30A. Then, the other electrode on the upper surface of the first semiconductor element is connected to the connection portion A3 of the lead 20F via the thin metal wire 30D. Further, although not shown, each of the electrodes of the second semiconductor element is connected to the connecting portion A2 of the lead 20G and the connecting portion A4 of the lead 20E via the thin metal wire 30B and the thin metal wire 30C.

図7(A)を参照すると、半導体装置10Dの右側には複数のリード20H等が配置されており、リード20Hの接続部A1と、リード20Gの接続部A2が部分的に重畳している。ここでは、第1半導体素子12と電気的に接続される接続部A1が、第2半導体素子14と接続される接続部A3よりも上方に位置して、両者が部分的に重畳されている。   Referring to FIG. 7A, a plurality of leads 20H and the like are arranged on the right side of the semiconductor device 10D, and the connection portion A1 of the lead 20H and the connection portion A2 of the lead 20G partially overlap each other. Here, the connection part A1 electrically connected to the first semiconductor element 12 is positioned above the connection part A3 connected to the second semiconductor element 14, and both are partially overlapped.

この様にリードの接続部を互いに部分的に重畳させることにより、多数のリードが半導体装置10Dに内蔵された場合でも、平面的に各リードの接続部を離間させる必要がないので、半導体装置10Dの平面的な大きさを小さくすることができる。   Since the lead connection portions are partially overlapped with each other in this manner, even when a large number of leads are built in the semiconductor device 10D, there is no need to separate the connection portions of the leads in a plan view. The planar size of can be reduced.

ここで、図7(B)を参照すると、第1アイランド16の上面に第1半導体素子12が固着され、第2アイランド18の下面に第2半導体素子14が固着されているが、両半導体素子は各アイランドの他の面に固着されても良い。即ち、第1半導体素子12が第1アイランド16の下面に固着されても良いし、第2半導体素子14が第2アイランド18の上面に固着されても良い。   Here, referring to FIG. 7B, the first semiconductor element 12 is fixed to the upper surface of the first island 16, and the second semiconductor element 14 is fixed to the lower surface of the second island 18. May be secured to the other surface of each island. That is, the first semiconductor element 12 may be fixed to the lower surface of the first island 16, and the second semiconductor element 14 may be fixed to the upper surface of the second island 18.

図8から図10を参照して、次に、上記した構成の半導体装置10Aの製造方法を説明する。本実施の形態では、2つのリードフレーム(図8に示すリードフレーム50および図9に示すリードフレーム60)に個別にダイボンディングおよびワイヤボンディングを行い、両者を積層させた後に樹脂封止を行って、半導体装置を製造している。   Next, a method for manufacturing the semiconductor device 10A having the above-described configuration will be described with reference to FIGS. In this embodiment, die bonding and wire bonding are individually performed on two lead frames (the lead frame 50 shown in FIG. 8 and the lead frame 60 shown in FIG. 9), and both are laminated, and then resin sealing is performed. Manufactures semiconductor devices.

図8を参照して、リードフレーム50の構成を説明する。図8(A)はリードフレーム50を部分的に示す平面図であり、図8(B)はユニット52を拡大して示した斜視図である。   The configuration of the lead frame 50 will be described with reference to FIG. FIG. 8A is a plan view partially showing the lead frame 50, and FIG. 8B is an enlarged perspective view showing the unit 52.

図8(A)を参照して、リードフレーム50は銅などの金属から成り、厚みが0.5mm程度の一枚の導電箔を加工(エッチング加工やパンチング加工)して所定の形状に成形されたものである。ここでは、リードフレーム50は、概略的に短冊形形状を有している。リードフレーム50の四方の側辺には額縁形状に外枠54が設けられており、この外枠54の内側に格子状に連結部58が延在している。   Referring to FIG. 8A, the lead frame 50 is made of a metal such as copper and is formed into a predetermined shape by processing (etching or punching) a single conductive foil having a thickness of about 0.5 mm. It is a thing. Here, the lead frame 50 has a roughly strip shape. An outer frame 54 is provided in a frame shape on the four sides of the lead frame 50, and a connecting portion 58 extends in a lattice shape inside the outer frame 54.

更に、外枠54を厚み方向に貫通して、ガイドホール56が設けられている。このガイドホール56は、各工程に於いて、搬送や位置決めに使用される。また、図8(A)に示すリードフレーム50に設けたガイドホール56と、図9(A)に示したリードフレーム60のガイドホール66とを重畳させることにより、各リードフレームに含まれるユニットを正確に位置合わせすることができる。   Further, a guide hole 56 is provided through the outer frame 54 in the thickness direction. The guide hole 56 is used for conveyance and positioning in each process. Further, the guide hole 56 provided in the lead frame 50 shown in FIG. 8A and the guide hole 66 of the lead frame 60 shown in FIG. Accurate alignment is possible.

図8(B)を参照して、連結部58の内側にユニット52が設けられている。ユニット52とは1つの半導体装置を構成する要素単位である。ここでは、1つのユニット52が、図1(B)にて密なハッチングが施された部分に対応している。具体的には、紙面上にて奥の方の連結部58から、3本のリード(リード20H、リード20G、リード20F)が内側に延在している。リード20Gおよびリード20Fは、第1アイランド16に連続している。また、リード20Dの先端部にはボンディング部22が設けられている。そして、紙面上にて手前の連結部58から、先端部にボンディング部24を有する1つのリード20Dが内部に延在している。更に、各リードは、図2(B)に示した傾斜部40および露出部42を含む。また、各リードのユニット52の内側の先端部および第1アイランド16は、リードフレーム50の他の部位(外枠54や連結部58)よりも上方にて同一平面上に位置している。   With reference to FIG. 8B, a unit 52 is provided inside the connecting portion 58. The unit 52 is an element unit constituting one semiconductor device. Here, one unit 52 corresponds to a portion where dense hatching is applied in FIG. Specifically, three leads (lead 20H, lead 20G, and lead 20F) extend inward from the connecting portion 58 on the back side of the paper. The lead 20G and the lead 20F are continuous with the first island 16. A bonding portion 22 is provided at the tip of the lead 20D. Then, one lead 20 </ b> D having the bonding portion 24 at the distal end extends from the connecting portion 58 on the front side of the drawing to the inside. Further, each lead includes the inclined portion 40 and the exposed portion 42 shown in FIG. Further, the leading end portion inside the unit 52 of each lead and the first island 16 are located on the same plane above other portions (the outer frame 54 and the connecting portion 58) of the lead frame 50.

ここで、上記したように、本形態では、リードフレーム50とリードフレーム60(図9参照)とを重ね合わせて1つの半導体装置を構成する。ここで、製造される半導体装置10A(図1参照)を見ると、各リードの露出部の下面は同一平面上に位置する。このことから、リードフレーム50の各リードと連結部58の接合箇所にて、各リードが上方に(厚み方向に)突出するようにプレス加工が行われても良い。このことにより、リードフレーム50に含まれるリードの端部と、リードフレーム60に含まれるリードの端部とを、同一平面上に位置させることができる。この事項は、以下に構造を詳述するリードフレーム60も同様でよい。   Here, as described above, in this embodiment, one semiconductor device is configured by superimposing the lead frame 50 and the lead frame 60 (see FIG. 9). Here, when viewing the manufactured semiconductor device 10A (see FIG. 1), the lower surface of the exposed portion of each lead is located on the same plane. Therefore, pressing may be performed so that each lead protrudes upward (in the thickness direction) at a joint portion between each lead of the lead frame 50 and the connecting portion 58. As a result, the end portion of the lead included in the lead frame 50 and the end portion of the lead included in the lead frame 60 can be positioned on the same plane. The same applies to the lead frame 60 whose structure will be described in detail below.

図9を参照して、リードフレーム60の構成を説明する。図9(A)はリードフレーム60の平面図であり、図9(B)はユニット62を示す斜視図である。ここで、リードフレーム60は、図1(B)に示す粗なハッチングが施された部位となる。更に、図8に示されたリードフレーム50と、ここで図示されたリードフレーム60とは、ユニット62の内部構成が異なるのみであり、他の構成は基本的には同一である。   The configuration of the lead frame 60 will be described with reference to FIG. FIG. 9A is a plan view of the lead frame 60, and FIG. 9B is a perspective view showing the unit 62. Here, the lead frame 60 is a portion subjected to rough hatching shown in FIG. Furthermore, the lead frame 50 shown in FIG. 8 is different from the lead frame 60 shown here only in the internal configuration of the unit 62, and the other configurations are basically the same.

図9(A)を参照して、リードフレーム60は、外枠64から内側に格子状に連結部68が設けられた形状である。そして、連結部68に囲まれる1つの開口部に2つのユニット62が配置されている。ここでも、リードフレーム60の外枠64を厚み方向に貫通して、ガイドホール66が設けられている。   Referring to FIG. 9A, the lead frame 60 has a shape in which connecting portions 68 are provided in a lattice shape on the inner side from the outer frame 64. Two units 62 are arranged in one opening surrounded by the connecting portion 68. Again, a guide hole 66 is provided through the outer frame 64 of the lead frame 60 in the thickness direction.

図9(B)を参照して、奥の方の連結部68から、1つのリード20Eが内側に延在しており、先端部が平坦なボンディング部28と成っている。更に、手前側の連結部68からは、3つのリード20C、20B、20Aが内側に延在している。2つのリード20C、20Bの先端部が第2アイランド18に連続している。更に、リード20Aの先端部がボンディング部26と成っている。   Referring to FIG. 9B, one lead 20E extends inward from the connecting portion 68 at the back, and the tip portion is a flat bonding portion. Furthermore, three leads 20C, 20B, and 20A extend inward from the connecting portion 68 on the front side. The tips of the two leads 20C and 20B are continuous with the second island 18. Further, the leading end portion of the lead 20 </ b> A is a bonding portion 26.

図8(B)および図9(B)を参照して、ユニット52とユニット62とはアイランドの形状と、リードが厚み方向に突出する向きが異なる。更に、図8(B)に示すユニット52では、半導体素子が実装される方向(紙面上では上方向)にリードが突出している。一方、図9(B)に示すユニット62では、半導体素子が実装される方向とは逆の方向(紙面上では上方向)に、リードが突出している。また、第1アイランド16と第2アイランド18とは、ある点を中心に180度回転させると同一形状となる点対称な形状となっている。   Referring to FIGS. 8B and 9B, unit 52 and unit 62 are different in the shape of the island and the direction in which the leads protrude in the thickness direction. Further, in the unit 52 shown in FIG. 8B, the leads protrude in the direction in which the semiconductor elements are mounted (upward on the paper surface). On the other hand, in the unit 62 shown in FIG. 9B, the leads protrude in the direction opposite to the direction in which the semiconductor elements are mounted (upward on the paper surface). Further, the first island 16 and the second island 18 have a point-symmetric shape that becomes the same shape when rotated 180 degrees around a certain point.

図10を参照して、次に、ダイボンディングおよびワイヤボンディングの工程を説明する。この図は、両工程が終了した後のリードフレーム50、60のユニット52を示す斜視図である。   Next, the steps of die bonding and wire bonding will be described with reference to FIG. This figure is a perspective view showing the unit 52 of the lead frames 50 and 60 after both processes are completed.

図10(A)を参照して、リードフレーム50のユニット52の内部では、第1アイランド16の上面に第1半導体素子12が固着され、第1半導体素子12と、ボンディング部22、24とが金属細線を経由して接続される。この工程は、リードフレーム50に含まれる全てのユニット52に対して一括して行われる。   Referring to FIG. 10A, in the unit 52 of the lead frame 50, the first semiconductor element 12 is fixed to the upper surface of the first island 16, and the first semiconductor element 12 and the bonding portions 22, 24 are connected. It is connected via a thin metal wire. This process is performed collectively for all the units 52 included in the lead frame 50.

図10(B)を参照して、リードフレーム60の第2アイランド18の下面には、第2半導体素子14が実装される。更に、第2半導体素子14の下面に設けられた各電極は、不図示の金属細線を経由して、ボンディング部26またはボンディング部28の下面に接続される。実際は、リードフレーム60を上下反転させた状態で(即ち第2半導体素子14が実装される面を上面にした状態で)、この工程は行われる。   Referring to FIG. 10B, the second semiconductor element 14 is mounted on the lower surface of the second island 18 of the lead frame 60. Furthermore, each electrode provided on the lower surface of the second semiconductor element 14 is connected to the lower surface of the bonding portion 26 or the bonding portion 28 via a thin metal wire (not shown). Actually, this step is performed with the lead frame 60 turned upside down (that is, with the surface on which the second semiconductor element 14 is mounted facing up).

上記工程が終了した後は、リードフレーム50およびリードフレーム60を重ね合わせて一体化させる。このことにより、結合されたリードフレームの各ユニットは、図1に示す構成となる。更に、リードフレームの各ユニットを、モールド金型に個別に収納させて樹脂封止の工程を行う。具体的には、樹脂封止の工程では、各ユニットの半導体素子、アイランド、金属細線およびリードが封止樹脂により封止される。更に、封止樹脂から露出するリードの表面にメッキ膜を被着させる工程、樹脂封止された各ユニットをリードフレームから個別に分離する工程、各ユニットの良否や電気的特性を測定する工程、捺印工程等を経て、図1に示す構成の半導体装置10Bが完成する。   After the above process is completed, the lead frame 50 and the lead frame 60 are overlapped and integrated. As a result, each unit of the combined lead frame is configured as shown in FIG. Further, each unit of the lead frame is individually housed in a mold and a resin sealing process is performed. Specifically, in the resin sealing step, the semiconductor elements, islands, metal wires and leads of each unit are sealed with a sealing resin. Furthermore, a step of depositing a plating film on the surface of the lead exposed from the sealing resin, a step of individually separating each resin-sealed unit from the lead frame, a step of measuring the quality and electrical characteristics of each unit, Through the stamping process and the like, the semiconductor device 10B having the configuration shown in FIG. 1 is completed.

本発明の半導体装置を示す図であり、(A)は斜視図であり、(B)および(C)は平面図である。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is a figure which shows the semiconductor device of this invention, (A) is a perspective view, (B) and (C) are top views. 本発明の半導体装置を示す図であり、(A)および(B)は断面図である。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is a figure which shows the semiconductor device of this invention, (A) and (B) are sectional drawings. 本発明の半導体装置を一部抜き出して示した図であり、(A)および(B)は斜視図である。FIG. 2 is a partially extracted view of the semiconductor device of the present invention, and (A) and (B) are perspective views. 本発明の半導体装置を一部抜き出して示した図であり、(A)および(B)は斜視図である。FIG. 2 is a partially extracted view of the semiconductor device of the present invention, and (A) and (B) are perspective views. 本発明の半導体装置を示す図であり、(A)および(B)は断面図である。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is a figure which shows the semiconductor device of this invention, (A) and (B) are sectional drawings. 本発明の半導体装置を示す図であり、(A)および(B)は断面図である。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is a figure which shows the semiconductor device of this invention, (A) and (B) are sectional drawings. 本発明の半導体装置を示す図であり、(A)は平面図であり、(B)は断面図である。1A and 1B are diagrams illustrating a semiconductor device of the present invention, in which FIG. 1A is a plan view, and FIG. 本発明の半導体装置の製造方法を示す図であり、(A)は平面図であり、(B)は斜視図である。It is a figure which shows the manufacturing method of the semiconductor device of this invention, (A) is a top view, (B) is a perspective view. 本発明の半導体装置の製造方法を示す図であり、(A)は平面図であり、(B)は斜視図である。It is a figure which shows the manufacturing method of the semiconductor device of this invention, (A) is a top view, (B) is a perspective view. 本発明の半導体装置の製造方法を示す図であり、(A)は斜視図であり、(B)は斜視図である。It is a figure which shows the manufacturing method of the semiconductor device of this invention, (A) is a perspective view, (B) is a perspective view.

符号の説明Explanation of symbols

10A、10B、10C、10D 半導体装置
12 第1半導体素子
14 第2半導体素子
16 第1アイランド
18 第2アイランド
20A、20B、20C、20D、20E、20F、20G、20H リード
22 ボンディング部
23 封止樹脂
24 ボンディング部
26 ボンディング部
28 ボンディング部
30A、30B、30C、30D 金属細線
31A、31B、31C 金属細線
32 電極
36 電極
40 傾斜部
42 露出部
50 リードフレーム
52 ユニット
54 外枠
56 ガイドホール
58 連結部
60 リードフレーム
62 ユニット
64 外枠
66 ガイドホール
68 連結部
A1、A2、A3、A4 接続部
10A, 10B, 10C, 10D Semiconductor device 12 First semiconductor element 14 Second semiconductor element 16 First island 18 Second island 20A, 20B, 20C, 20D, 20E, 20F, 20G, 20H Lead 22 Bonding portion 23 Sealing resin 24 Bonding part 26 Bonding part 28 Bonding part 30A, 30B, 30C, 30D Metal fine wire 31A, 31B, 31C Metal fine wire 32 Electrode 36 Electrode 40 Inclined part 42 Exposed part 50 Lead frame 52 Unit 54 Outer frame 56 Guide hole 58 Connecting part 60 Lead frame 62 Unit 64 Outer frame 66 Guide hole 68 Connection part A1, A2, A3, A4 Connection part

Claims (7)

積層して配置される複数の半導体素子と、前記半導体素子と電気に接続されて外部に一部が露出するリードとを有する半導体装置であり、
第1アイランドと、前記第1アイランドに固着された第1半導体素子と、前記第1アイランドから連続して外部に露出する第1リードと、
第2アイランドと、前記第2アイランドに固着された第2半導体素子と、前記第2アイランドから連続して外部に露出する第2リードと、を備え、
前記第1アイランド、前記第1半導体素子、前記第2アイランドおよび前記第2半導体素子が重畳するように配置されることを特徴とする半導体装置。
A semiconductor device having a plurality of stacked semiconductor elements and leads that are electrically connected to the semiconductor elements and partially exposed to the outside;
A first island, a first semiconductor element fixed to the first island, and a first lead exposed to the outside continuously from the first island;
A second island, a second semiconductor element fixed to the second island, and a second lead exposed continuously from the second island,
A semiconductor device, wherein the first island, the first semiconductor element, the second island, and the second semiconductor element are arranged to overlap each other.
前記第1アイランドおよび前記第2アイランドは、同じ向きに第1主面および第2主面を有し、
前記第1半導体素子は、前記第1アイランドの前記第1主面に固着され、
前記第2半導体素子は、前記第2アイランドの前記第2主面に固着されることを特徴とする請求項1記載の半導体装置。
The first island and the second island have a first main surface and a second main surface in the same direction;
The first semiconductor element is fixed to the first main surface of the first island;
The semiconductor device according to claim 1, wherein the second semiconductor element is fixed to the second main surface of the second island.
前記リードは、外部に露出する露出部と、前記半導体素子と電気的に接続されると共に前記露出部とは異なる平面上に位置する接続部と、前記接続部と前記露出部とを連続させる連続部とを含み、
前記両半導体素子が前記両アイランドに固着される面の方向は、前記接続部が突出する方向と逆であることを特徴とする請求項1記載の半導体装置。
The lead has a continuous exposed portion exposed to the outside, a connecting portion that is electrically connected to the semiconductor element and located on a different plane from the exposed portion, and the connecting portion and the exposed portion are continuous. Including
2. The semiconductor device according to claim 1, wherein a direction of a surface where the two semiconductor elements are fixed to the two islands is opposite to a direction in which the connecting portion protrudes.
前記リードは、外部に露出する露出部と、前記半導体素子と電気的に接続されると共に前記露出部とは異なる平面上に位置する接続部と、前記接続部と前記露出部とを連続させる連続部とを含み、
前記両半導体素子が前記両アイランドに固着される面の方向は、前記接続部が突出する方向と同じであることを特徴とする請求項1記載の半導体装置。
The lead has an exposed portion exposed to the outside, a connecting portion that is electrically connected to the semiconductor element and located on a different plane from the exposed portion, and a continuous portion that connects the connecting portion and the exposed portion. Including
2. The semiconductor device according to claim 1, wherein a direction of a surface where the two semiconductor elements are fixed to the two islands is the same as a direction in which the connecting portion protrudes.
前記第1アイランドと同一平面上に前記接続部を有し、前記第1アイランドに固着された前記第1半導体素子と接続手段を経由して電気的に接続された第3のリードと、
前記第2アイランドと同一平面上に前記接続部を有し、前記第2アイランドに固着された前記第2半導体素子と接続手段を経由して電気的に接続された第4のリードと、を有し、
前記第3リードの前記接続部と、前記第4リードの前記接続部とが部分的に重畳することを特徴とする請求項1記載の半導体装置。
A third lead having the connection portion on the same plane as the first island and electrically connected to the first semiconductor element fixed to the first island via a connection means;
A fourth lead that has the connection portion on the same plane as the second island, and is electrically connected to the second semiconductor element fixed to the second island via a connection means; And
The semiconductor device according to claim 1, wherein the connection portion of the third lead partially overlaps the connection portion of the fourth lead.
前記両半導体素子および前記両リードを一体的に被覆し、相対向する平坦面を外面に有する封止樹脂を有し、
前記リードの前記露出部の主面は、前記封止樹脂の前記平坦面と同一平面上に位置することを特徴とする請求項1記載の半導体装置。
Covering both the semiconductor element and the both leads integrally, and having a sealing resin having an opposing flat surface on the outer surface,
The semiconductor device according to claim 1, wherein a main surface of the exposed portion of the lead is positioned on the same plane as the flat surface of the sealing resin.
前記第1リードが外部に導出する方向とは対向した方向に、前記第2リードが外部に導出されることを特徴とする請求項1記載の半導体装置。   The semiconductor device according to claim 1, wherein the second lead is led out in a direction opposite to a direction in which the first lead leads out.
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