JP2008300007A - Optical information recording medium and information recording method - Google Patents

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慶太 高橋
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和俊 片山
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical information recording medium as a blue-ray disc having satisfactory recording characteristics in recording by short wavelength laser beam irradiation and easy to manufacture. <P>SOLUTION: The optical information recording medium has a reflection layer, a recording layer, a barrier layer, and a cover layer in this order on the surface of a substrate having a pregroove thereon. The recording layer contains a compound which is represented by a formula of a compound and has a pyrolytic property where a mass loss rate in a main loss process in thermal mass analysis is 10% or more. Between the barrier layer and the cover layer, a layer having a glass transition temperature not higher than 25°C is formed by curing a UV curing composition. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、短波長レーザー光を用いて情報の記録および再生が可能な光情報記録媒体に関するものであり、より詳しくは、Blu−ray方式の光情報記録媒体に関するものである。更に本発明は、前記光情報記録媒体への情報記録方法に関する。   The present invention relates to an optical information recording medium capable of recording and reproducing information using a short wavelength laser beam, and more particularly to a Blu-ray optical information recording medium. Furthermore, the present invention relates to a method for recording information on the optical information recording medium.

従来から、レーザー光により1回限りの情報記録が可能な光情報記録媒体として、追記型CD(CD−R)および追記型DVD(DVD−R)が知られている。CD−Rへの情報の記録は、近赤外域のレーザー光(通常、波長780nm程度)により行われるのに対し、DVD−Rへの情報の記録は可視レーザー光(約630〜680nm)によって行われる。DVD−Rは、記録用レーザー光としてCD−Rより短波長のレーザー光を使用するため、CD−Rと比べて高密度記録可能であるという利点を有する。そのため、近年、DVD−Rは、大容量の記録媒体としての地位をある程度まで確保している。   Conventionally, a write-once CD (CD-R) and a write-once DVD (DVD-R) are known as optical information recording media capable of recording information only once with a laser beam. Information recording on a CD-R is performed by a near-infrared laser beam (usually a wavelength of about 780 nm), whereas information recording on a DVD-R is performed by a visible laser beam (about 630 to 680 nm). Is called. Since DVD-R uses laser light having a shorter wavelength than CD-R as recording laser light, DVD-R has the advantage that high-density recording is possible compared to CD-R. Therefore, in recent years, DVD-R has secured its position as a large-capacity recording medium to some extent.

近年、インターネット等のネットワークやハイビジョンTVが急速に普及している。また、HDTV(High Definition Television)の放映を間近にひかえて、画像情報を安価簡便に記録するための大容量の記録媒体の要求が高まっている。しかし、CD−RおよびDVD−Rは、将来の要求に対応できる程の充分に大きな記録容量を有しているとはいえない。そこで、DVD−Rよりも更に短波長のレーザー光を用いることによって記録密度を向上させるため、短波長レーザー(例えば波長440nm以下)による記録が可能な大容量光ディスクの開発が進められている。そのような光ディスクとして、例えば405nmの青色レーザーを用いたBlu−ray方式と称される光記録ディスク(Blu−ray Disc、以下、「BD」ともいう)が提案されている。例えば、特許文献1および2には、前記Blu−ray方式の光記録ディスクのように短波長レーザー光を照射することにより情報を記録するための光情報記録媒体において、記録層にシアニン色素を用いることが提案されている。また、特許文献3には、青色レーザー対応の光情報記録媒体において、記録用色素の色素物性値を規定することが提案されている。
WO01/044374号公報 特開2001−232945号公報 特開2007−26541号公報
In recent years, networks such as the Internet and high-definition TVs are rapidly spreading. In addition, there is an increasing demand for a large-capacity recording medium for recording image information inexpensively and easily, with the upcoming broadcast of HDTV (High Definition Television). However, it cannot be said that the CD-R and DVD-R have a recording capacity that is large enough to meet future requirements. Therefore, in order to improve the recording density by using a laser beam having a shorter wavelength than that of the DVD-R, development of a large-capacity optical disc capable of recording with a short wavelength laser (for example, a wavelength of 440 nm or less) is in progress. As such an optical disc, for example, an optical recording disc (Blu-ray Disc, hereinafter also referred to as “BD”) called a Blu-ray system using a 405 nm blue laser has been proposed. For example, Patent Documents 1 and 2 use a cyanine dye in a recording layer in an optical information recording medium for recording information by irradiating a short wavelength laser beam as in the Blu-ray optical recording disk. It has been proposed. Further, Patent Document 3 proposes that the physical property value of a recording dye is defined in an optical information recording medium compatible with a blue laser.
WO01 / 044374 JP 2001-232945 A JP 2007-26541 A

前述のブルーレイ・ディスクは、一般に、従来の追記型光ディスクと比べてトラックピッチが狭い。また、基板上に、反射層と記録層をこの順に有し、更に記録層の上に比較的薄い光透過性を有する層(一般に、カバー層と呼ばれる)が貼り合わされているという、従来の追記型光ディスクとは異なる層構成を有する。また記録用レーザ光が短波長化されている。そのため、CD−R、DVD−R等の従来の追記型光情報記録媒体用記録色素として使用されていた色素では、十分な記録再生特性が得られない点が課題であった。これに対し、上記特許文献1および2には、短波長レーザ光照射による情報記録において記録層用色素としてシアニン色素を使用することが提案されている。しかし、本願発明者らの検討の結果、特許文献1および2に記載の技術では、上記ブルーレイ構成の光情報記録媒体において、必ずしも十分な記録特性を得ることができないことが判明した。   The aforementioned Blu-ray disc generally has a narrower track pitch than a conventional write-once optical disc. Further, a conventional additional note that a reflective layer and a recording layer are provided in this order on a substrate, and a relatively thin light-transmitting layer (generally called a cover layer) is bonded on the recording layer. It has a layer structure different from the type optical disc. Also, the recording laser light has a shorter wavelength. For this reason, there is a problem in that sufficient recording / reproducing characteristics cannot be obtained with a dye used as a conventional recording dye for a write once optical information recording medium such as a CD-R or a DVD-R. On the other hand, Patent Documents 1 and 2 propose using a cyanine dye as a recording layer dye in information recording by irradiation with a short wavelength laser beam. However, as a result of the study by the inventors of the present application, it has been found that the techniques described in Patent Documents 1 and 2 cannot always obtain sufficient recording characteristics in the optical information recording medium having the Blu-ray configuration.

一方、特許文献3では、ブルーレイ方式では媒体に対して従来の追記型光ディスクとは異なる方向からレーザー光を照射させることに着目した上で、記録層の形状を変えることによって記録特性を改善することを提案している。具体的には、特許文献2には、色素塗布濃度や色素溶液の塗布条件の調整により、記録層膜厚がグルーブ溝深さより薄く(グルーブ溝凹部の中に色素層が納まり)、グルーブ溝凸部の色素膜厚をほぼ0とした特殊な形態の記録層を有する光記録媒体において、色素物性値を規定することにより、良好な記録特性を得ることができると記載されている。しかしながら、特許文献2に記載の特殊な記録層の形成方法は、従来のCD−R、DVD−R等における記録層の形成方法と異なるものであり、製造上困難である。   On the other hand, in Patent Document 3, in the Blu-ray method, the recording characteristics are improved by changing the shape of the recording layer after paying attention to irradiating the medium with laser light from a different direction from the conventional write-once optical disc. Has proposed. Specifically, in Patent Document 2, the recording layer thickness is thinner than the groove groove depth (the dye layer is contained in the groove groove recess) by adjusting the dye application concentration and the application condition of the dye solution. In an optical recording medium having a recording layer with a special form in which the dye film thickness of the part is almost zero, it is described that good recording characteristics can be obtained by defining the dye physical property values. However, the method for forming a special recording layer described in Patent Document 2 is different from the method for forming a recording layer in a conventional CD-R, DVD-R, etc., and is difficult to manufacture.

そこで、本発明の目的は、ブルーレイ・ディスク構成の光情報記録媒体であって、短波長レーザ光照射による記録時に良好な記録特性を発揮することができ、かつ製造容易な光情報記録媒体を提供することにある。   SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide an optical information recording medium having a Blu-ray disc configuration, which can exhibit good recording characteristics during recording by irradiation with a short wavelength laser beam and is easy to manufacture. There is to do.

本発明者らは、上記目的を達成するために鋭意検討を重ねた結果、記録層用色素として高い熱分解性を有するポリメチン色素を使用するとともに、バリア層とカバー層とを貼り合わせる接着層を紫外線硬化型樹脂から構成された柔軟な層とすることにより、特許文献3に記載の技術のように媒体構成を大幅に変更することなく、短波長レーザ光照射による記録時に、良好な記録特性を発揮し得るブルーレイ・ディスク構成の光情報記録媒体を得ることができることを見出し、本発明を完成するに至った。   As a result of intensive studies to achieve the above object, the present inventors have used a polymethine dye having high thermal decomposability as a recording layer dye, and an adhesive layer for bonding the barrier layer and the cover layer together. By adopting a flexible layer composed of an ultraviolet curable resin, good recording characteristics can be obtained during recording by irradiation with a short wavelength laser beam without significantly changing the medium configuration as in the technique described in Patent Document 3. The present inventors have found that an optical information recording medium having a Blu-ray disc configuration that can be exhibited can be obtained, and have completed the present invention.

即ち、上記目的は、下記手段により達成された。
[1]複数のグルーブおよび隣接するグルーブの間に位置するランドからなるプリグルーブを表面に有する基板の該表面上に、反射層、記録層、バリア層、およびカバー層をこの順に有する光情報記録媒体であって、
前記プリグルーブのトラックピッチは50〜500nmの範囲であり、
前記記録層の厚さは、ランド上で1〜100nmの範囲であり、グルーブ上で5〜150nmの範囲であり、
前記記録層は、下記一般式(I)で表され、かつ熱質量分析での主減量過程における質量減少率が10%以上である熱分解性を有する化合物を含有し、
前記バリア層とカバー層との間に、紫外線硬化型組成物に硬化処理を施すことにより形成された25℃以下のガラス転移温度を有する層を有することを特徴とする光情報記録媒体。

Figure 2008300007
[一般式(I)中、X1およびX2は、各々独立に、酸素原子、硫黄原子またはN−Rを表し、Rはアルキル基、アリール基、または複素環基を表し、Za1およびZa2は、各々独立に、5員または6員の複素環を完成するために必要な原子群を表し、L1、L2およびL3は、各々独立に、置換または無置換のメチン基を表し(但し、L1〜L3上に置換基がある場合には互いに連結して環を形成してもよい)、jは、0または1を表し、M1は電荷均衡対イオンを表し、m1は分子の電荷を中和するために必要な0以上10以下の数を表す。]
[2]ランド上の記録層の厚さとグルーブ上の記録層との厚さの比[(ランド上の記録層の厚さ)/(グルーブ上の記録層の厚さ)]が0.1〜1の範囲である[1]に記載の光記録情報媒体。
[3]一般式(I)で表される化合物は、下記一般式(II-1)または下記一般式(II-2)で表される化合物である[1]または[2]に記載の光情報記録媒体。
Figure 2008300007
[一般式(II−1)および(II−2)中、Zbは、インドレニン核、ベンゾインドレニン核、ベンゾイミダゾール核、ベンゾオキサゾール核またはベンゾチアゾール核を形成するために必要な原子群を表し、Xaは、酸素原子、硫黄原子、C(R3)(R4)またはN−R5を表し、R1、R2、R3、R4およびR5は、各々独立に、アルキル基またはアリール基を表し、L4は、置換または無置換のメチン基を表す。M1およびm1は、前記一般式(I)における定義と同義である。]
[4]一般式(I)で表される化合物は、下記一般式(III)で表される化合物である[1]または[2]に記載の光情報記録媒体。
Figure 2008300007
[一般式(III)中、XbおよびXcは、各々独立に、酸素原子、硫黄原子、またはN−R14を表し、R6、R7、R8、R9、R10、R11、R12、R13およびR14は、各々独立に、水素原子、アルキル基またはアリール基を表し、L5、L6およびL7は各々独立に置換または無置換のメチン基を表す。但し、L5〜L7上に置換基がある場合には、これらの置換基は互いに連結して環を形成してもよい。kは0または1を表す。M1およびm1は、前記一般式(I-1)における定義と同義である。]
[5]前記紫外線硬化型組成物は、紫外線硬化型組成物100質量部に対し、単官能(メタ)アクリレートを20〜99質量部、および多官能(メタ)アクリレートを1〜80質量部含む[1]〜[4]のいずれかに記載の光情報記録媒体。
[6]波長390〜440nmのレーザー光を照射することにより情報を記録するために使用される[1]〜[5]のいずれかに記載の光情報記録媒体。
[7][1]〜[5]のいずれかに記載の光情報記録媒体へ、波長390〜440nmのレーザー光を照射することにより、光情報記録媒体の記録層へ情報を記録する情報記録方法。 That is, the above object was achieved by the following means.
[1] Optical information recording having a reflective layer, a recording layer, a barrier layer, and a cover layer in this order on the surface of a substrate having a plurality of grooves and pregrooves formed between adjacent grooves on the surface. A medium,
The track pitch of the pregroove is in the range of 50 to 500 nm,
The recording layer has a thickness in the range of 1 to 100 nm on the land and in the range of 5 to 150 nm on the groove.
The recording layer contains a thermally decomposable compound represented by the following general formula (I) and having a mass reduction rate of 10% or more in the main weight loss process in thermal mass spectrometry,
An optical information recording medium comprising a layer having a glass transition temperature of 25 ° C. or lower formed by subjecting an ultraviolet curable composition to a curing treatment between the barrier layer and the cover layer.
Figure 2008300007
[In General Formula (I), X 1 and X 2 each independently represents an oxygen atom, a sulfur atom or N—R, R represents an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group, and Za 1 and Za 2 each independently represents a group of atoms necessary to complete a 5- or 6-membered heterocyclic ring, and L 1 , L 2 and L 3 each independently represents a substituted or unsubstituted methine group. (However, when there is a substituent on L 1 to L 3 , they may be linked to each other to form a ring), j represents 0 or 1, M 1 represents a charge balanced counter ion, m 1 Represents a number from 0 to 10 which is necessary for neutralizing the charge of the molecule. ]
[2] Ratio of thickness of recording layer on land to recording layer on groove [(thickness of recording layer on land) / (thickness of recording layer on groove)] is 0.1 to The optical recording information medium according to [1], which is in the range of 1.
[3] The compound represented by the general formula (I) is a compound represented by the following general formula (II-1) or the following general formula (II-2): Information recording medium.
Figure 2008300007
[In the general formulas (II-1) and (II-2), Zb represents an atomic group necessary for forming an indolenine nucleus, a benzoindolenine nucleus, a benzimidazole nucleus, a benzoxazole nucleus, or a benzothiazole nucleus. , Xa represents an oxygen atom, a sulfur atom, C (R 3 ) (R 4 ) or N—R 5 , and R 1 , R 2 , R 3 , R 4 and R 5 are each independently an alkyl group or Represents an aryl group, and L 4 represents a substituted or unsubstituted methine group. M 1 and m 1 have the same definition as in general formula (I). ]
[4] The optical information recording medium according to [1] or [2], wherein the compound represented by the general formula (I) is a compound represented by the following general formula (III).
Figure 2008300007
[In General Formula (III), Xb and Xc each independently represent an oxygen atom, a sulfur atom, or N—R 14 , and R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , R 10 , R 11 , R 12 , R 13 and R 14 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, and L 5 , L 6 and L 7 each independently represents a substituted or unsubstituted methine group. However, when there are substituents on L 5 to L 7 , these substituents may be linked to each other to form a ring. k represents 0 or 1; M 1 and m 1 have the same definition as in the general formula (I-1). ]
[5] The ultraviolet curable composition contains 20 to 99 parts by mass of monofunctional (meth) acrylate and 1 to 80 parts by mass of polyfunctional (meth) acrylate with respect to 100 parts by mass of the ultraviolet curable composition. The optical information recording medium according to any one of 1] to [4].
[6] The optical information recording medium according to any one of [1] to [5], which is used for recording information by irradiating a laser beam having a wavelength of 390 to 440 nm.
[7] An information recording method for recording information on a recording layer of an optical information recording medium by irradiating the optical information recording medium according to any one of [1] to [5] with laser light having a wavelength of 390 to 440 nm .

本発明によれば、短波長領域での記録特性に優れた光情報記録媒体を安価に提供することができる。   According to the present invention, an optical information recording medium excellent in recording characteristics in a short wavelength region can be provided at low cost.

[光情報記録媒体]
本発明の光情報記録媒体は、複数のグルーブおよび隣接するグルーブの間に位置するランドからなるプリグルーブを表面に有する基板の該表面上に、反射層、記録層、バリア層、およびカバー層をこの順に有する。上記プリグルーブのトラックピッチは50〜500nmの範囲であり、記録層の厚さは、ランド上で1〜100nmの範囲であり、グルーブ上で5〜150nmの範囲である。本発明では、上記ブルーレイ・ディスク構成の光情報記録媒体において、
(1)記録層色素として、下記一般式(I)で表され、かつ熱質量分析での主減量過程における質量減少率が10%以上である熱分解性を有する化合物を使用すること、
(2)バリア層とカバー層との間に、紫外線硬化型組成物に硬化処理を施すことにより形成された25℃以下のガラス転移温度を有する層を設けること、
により、優れた記録特性を得ることができる。
この組み合わせにおいて優れた記録特性が得られる理由について、本発明者らは以下のように推察している。
[Optical information recording medium]
The optical information recording medium of the present invention comprises a reflective layer, a recording layer, a barrier layer, and a cover layer on a surface of a substrate having a plurality of grooves and pregrooves formed between adjacent grooves on the surface. In this order. The track pitch of the pregroove is in the range of 50 to 500 nm, and the thickness of the recording layer is in the range of 1 to 100 nm on the land and in the range of 5 to 150 nm on the groove. In the present invention, in the optical information recording medium of the Blu-ray disc configuration,
(1) As a recording layer dye, a compound having a thermal decomposability represented by the following general formula (I) and having a mass reduction rate of 10% or more in the main weight loss process in thermal mass spectrometry,
(2) providing a layer having a glass transition temperature of 25 ° C. or lower formed by subjecting the ultraviolet curable composition to a curing treatment between the barrier layer and the cover layer;
Thus, excellent recording characteristics can be obtained.
The present inventors infer the reason why excellent recording characteristics can be obtained by this combination as follows.

上記熱分解性を有する一般式(I)で表される化合物を含む記録層へレーザー光を照射すると、色素がレーザー光を吸収して発熱し、その熱により色素骨格またはその置換基が熱分解して気体を発生し、これによりピット内に空隙が形成されると考えられる。上記化合物を含む記録層において、レーザー光未照射部の屈折率は、一般に1.6〜1.9程度であるのに対し、レーザー光照射により空隙が形成された部分の屈折率は約1.0であり未照射部の屈折率と大きく異なる。これにより、大きな屈折率差を実現することができ、記録特性を高めることができると考えられる。ここで一般式(I)で表される化合物の中でも、熱質量分析での主減量過程における質量減少率が10%以上である熱分解性を有する化合物は、上記空隙形成を良好に行うことができると考えられる。
ところが、上記のようにレーザー光照射により記録層内に空隙を形成する場合、通常、空隙の形成は記録層の変形を伴うため、記録層の変形が妨げられると空隙が良好に形成されず、十分な記録特性を得ることが困難となる。例えば、基板上に、光反射層、記録層、バリア層、接着層およびカバー層をこの順に有する光情報記録媒体では、一般に、基板および光反射層は、接着層やバリア層に比べて剛性が高い。よって、空隙が形成されると記録層はバリア層を押し上げ、バリア層とカバー層との間に位置する接着層が適度に柔軟な場合は、該接着層に凹状の変形を生じさせる。このようにバリア層とカバー層の間に位置する接着層が容易に変形する場合は記録層における空隙の形成が妨げられることなく、ピットの形成を良好に行うことができる。本発明の光情報記録媒体では、接着層がガラス転移温度25℃以下と柔軟であり空隙形成に伴い容易に変形可能であるため、空隙形成を良好に行うことができる。
また、本発明の光情報記録媒体の記録層は、従来のCD−R、DVD−R等における記録層の形成方法と同様の方法に形成することができる。その上、記録層を紫外線硬化型組成物から形成することにより、カバー層との貼りあわせにかかる装置が簡便になり、しかも貼り合わせ時間を短縮することができるため、安価製造が可能になる。
以上により、本発明によれば、記録特性が良好であり、生産性に優れた光情報記録媒体を得ることができる。
When the recording layer containing the compound represented by the general formula (I) having the above thermal decomposability is irradiated with laser light, the dye absorbs the laser light and generates heat, and the heat causes the dye skeleton or its substituent to be thermally decomposed. It is considered that gas is generated and voids are formed in the pits. In the recording layer containing the above compound, the refractive index of the portion not irradiated with laser light is generally about 1.6 to 1.9, whereas the refractive index of the portion where voids are formed by laser light irradiation is about 1. 0, which is significantly different from the refractive index of the unirradiated part. Thereby, it is considered that a large refractive index difference can be realized, and the recording characteristics can be improved. Among the compounds represented by the general formula (I), a compound having a thermal decomposability having a mass reduction rate of 10% or more in the main weight loss process in the thermal mass spectrometry can satisfactorily form the voids. It is considered possible.
However, when the gap is formed in the recording layer by laser light irradiation as described above, the formation of the gap usually involves the deformation of the recording layer. It becomes difficult to obtain sufficient recording characteristics. For example, in an optical information recording medium having a light reflecting layer, a recording layer, a barrier layer, an adhesive layer, and a cover layer in this order on a substrate, the substrate and the light reflecting layer are generally more rigid than the adhesive layer and the barrier layer. high. Therefore, when the gap is formed, the recording layer pushes up the barrier layer, and when the adhesive layer located between the barrier layer and the cover layer is moderately flexible, the adhesive layer causes a concave deformation. As described above, when the adhesive layer located between the barrier layer and the cover layer is easily deformed, the formation of pits can be satisfactorily performed without preventing the formation of voids in the recording layer. In the optical information recording medium of the present invention, since the adhesive layer is flexible with a glass transition temperature of 25 ° C. or less and can be easily deformed with the formation of the voids, the voids can be formed satisfactorily.
The recording layer of the optical information recording medium of the present invention can be formed by the same method as the recording layer forming method in conventional CD-R, DVD-R and the like. In addition, by forming the recording layer from the ultraviolet curable composition, the apparatus for bonding with the cover layer can be simplified, and the bonding time can be shortened, so that low-cost manufacturing is possible.
As described above, according to the present invention, an optical information recording medium having good recording characteristics and excellent productivity can be obtained.

本発明の光情報記録媒体の具体例を、図2に示す。図2に示す第1光情報記録媒体10Aは、第1基板12上に、第1光反射層18と、第1追記型記録層14と、バリア層20と、接着層22と、カバー層16とをこの順に有する。以下、本発明の光情報記録媒体に用いられる基板およびその他の層を構成する材料について順次説明する。   A specific example of the optical information recording medium of the present invention is shown in FIG. A first optical information recording medium 10A shown in FIG. 2 includes a first light reflecting layer 18, a first write-once recording layer 14, a barrier layer 20, an adhesive layer 22, and a cover layer 16 on a first substrate 12. And in this order. Hereinafter, the materials constituting the substrate and other layers used in the optical information recording medium of the present invention will be described in order.

基板
本発明に用いられる基板としては、従来の光情報記録媒体の基板材料として用いられている各種の材料を任意に選択して使用することができる。基板としては、透明な円盤状基板を用いることが好ましい。
具体的には、ガラス;ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂;ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂;エポキシ樹脂;アモルファスポリオレフィン;ポリエステル;アルミニウム等の金属;等を挙げることができ、所望によりこれらを併用してもよい。
前記材料の中では、耐湿性、寸法安定性および低価格等の点から、アモルファスポリオレフィン、ポリカーボネート等の熱可塑性樹脂が好ましく、ポリカーボネートが特に好ましい。これらの樹脂を用いた場合、射出成型を用いて基板を作製することができる。
また、基板の厚さは、一般に0.7〜2mmの範囲であり、0.9〜1.6mmの範囲であることが好ましく、1.0〜1.3mmとすることがより好ましい。
なお、後述する光反射層が設けられる側の基板表面には、平面性の改善、接着力の向上の目的で、下塗層を形成することもできる。
Substrate As the substrate used in the present invention, various materials used as substrate materials for conventional optical information recording media can be arbitrarily selected and used. As the substrate, a transparent disk-shaped substrate is preferably used.
Specifically, glass; acrylic resin such as polycarbonate and polymethyl methacrylate; vinyl chloride resin such as polyvinyl chloride and vinyl chloride copolymer; epoxy resin; amorphous polyolefin; polyester; metal such as aluminum; These may be used together if desired.
Among the materials, thermoplastic resins such as amorphous polyolefin and polycarbonate are preferable, and polycarbonate is particularly preferable from the viewpoints of moisture resistance, dimensional stability, and low price. When these resins are used, the substrate can be manufactured by injection molding.
The thickness of the substrate is generally in the range of 0.7 to 2 mm, preferably in the range of 0.9 to 1.6 mm, and more preferably 1.0 to 1.3 mm.
An undercoat layer can also be formed on the surface of the substrate on the side where the light reflecting layer, which will be described later, is provided for the purpose of improving flatness and adhesion.

基板の記録層が形成される面には、複数のグルーブおよび隣接するグルーブの間に位置するランドからなるプリグルーブ(案内溝)が形成されている。このプリグルーブは、CD−RやDVD−Rに比べてより高い記録密度を達成するために設けられたものであり、例えば、本発明の光情報記録媒体を、青紫色レーザーに対応する媒体として使用する場合に好適である。   On the surface of the substrate on which the recording layer is formed, pregrooves (guide grooves) composed of a plurality of grooves and lands located between adjacent grooves are formed. This pre-groove is provided to achieve a higher recording density than CD-R and DVD-R. For example, the optical information recording medium of the present invention is used as a medium corresponding to a blue-violet laser. It is suitable for use.

プリグルーブのトラックピッチは、50〜500nmの範囲である。上限値は420nm以下であることが好ましく、370nm以下であることがより好ましく、330nm以下であることが更に好ましい。また、下限値は、100nm以上であることが好ましく、200nm以上であることがより好ましく、260nm以上であることが更に好ましい。トラックピッチが50nm以上であれば、プリグルーブを正確に形成することができる上に、クロストークの発生を回避することができ、500nm以下であれば、高密度記録を行うことができる。   The track pitch of the pregroove is in the range of 50 to 500 nm. The upper limit is preferably 420 nm or less, more preferably 370 nm or less, and further preferably 330 nm or less. Further, the lower limit is preferably 100 nm or more, more preferably 200 nm or more, and further preferably 260 nm or more. If the track pitch is 50 nm or more, the pregroove can be formed accurately, and the occurrence of crosstalk can be avoided. If the track pitch is 500 nm or less, high-density recording can be performed.

プリグルーブのトラックピッチは、100nm以上420nm以下であることが好ましく、200nm以上370nm以下であることがより好ましく、260nm以上330nm以下であることが更に好ましい。   The track pitch of the pregroove is preferably 100 nm or more and 420 nm or less, more preferably 200 nm or more and 370 nm or less, and further preferably 260 nm or more and 330 nm or less.

プリグルーブの溝幅(半値幅)は、25〜250nmの範囲であることが好ましい。上限値は240nm以下であることが好ましく、230nm以下であることがより好ましく、220nm以下であることが更に好ましい。また、下限値は、50nm以上であることが好ましく、80nm以上であることがより好ましく、100nm以上であることが更に好ましい。プリグルーブの溝幅が25nm以上であれば、成型時に溝を十分に転写することができ、さらに記録時のエラーレート上昇を抑制することができ、250nm以下であれば、同じく成型時に溝を十分に転写することができ、更に記録時に形成されるピットの広がりによりクロストークが発生することを回避することができる。   The groove width (half width) of the pregroove is preferably in the range of 25 to 250 nm. The upper limit is preferably 240 nm or less, more preferably 230 nm or less, and still more preferably 220 nm or less. Further, the lower limit is preferably 50 nm or more, more preferably 80 nm or more, and further preferably 100 nm or more. If the groove width of the pregroove is 25 nm or more, the groove can be sufficiently transferred at the time of molding, and further, an increase in error rate at the time of recording can be suppressed. Furthermore, it is possible to avoid the occurrence of crosstalk due to the spread of pits formed during recording.

プリグルーブの溝幅(半値幅)は、50nm以上240nm以下であることが好ましく、80nm以上230nm以下であることがより好ましく、100nm以上220nm以下であることが更に好ましい。   The groove width (half width) of the pregroove is preferably 50 nm or more and 240 nm or less, more preferably 80 nm or more and 230 nm or less, and further preferably 100 nm or more and 220 nm or less.

プリグルーブの溝深さは、5〜150nmの範囲であることが好ましい。上限値は85nm以下であることが好ましく、80nm以下であることがより好ましく、75nm以下であることが更に好ましい。また、下限値は、10nm以上であることが好ましく、20nm以上であることがより好ましく、28nm以上であることが更に好ましい。プリグルーブの溝深さが5nm以上であれば十分な記録変調度を得ることができ、150nm以下であれば、高い反射率を得ることができる。   The groove depth of the pregroove is preferably in the range of 5 to 150 nm. The upper limit is preferably 85 nm or less, more preferably 80 nm or less, and even more preferably 75 nm or less. Further, the lower limit is preferably 10 nm or more, more preferably 20 nm or more, and further preferably 28 nm or more. If the groove depth of the pregroove is 5 nm or more, a sufficient recording modulation degree can be obtained, and if it is 150 nm or less, a high reflectance can be obtained.

プリグルーブの溝深さは、10nm以上85nm以下であることが好ましく、20nm以上80nm以下であることがより好ましく、28nm以上75nm以下であることが更に好ましい。   The groove depth of the pregroove is preferably 10 nm to 85 nm, more preferably 20 nm to 80 nm, and still more preferably 28 nm to 75 nm.

また、プリグルーブの溝傾斜角度は、上限値が80°以下であることが好ましく、75°以下であることがより好ましく、70°以下であることが更に好ましく、65°以下であることが特に好ましい。また、下限値は、20°以上であることが好ましく、30°以上であることがより好ましく、40°以上であることが更に好ましい。
プリグルーブの溝傾斜角度が20°以上であれば、十分なトラッキングエラー信号振幅を得ることができ、80°以下であれば成型性が良好である。
In addition, the groove inclination angle of the pregroove is preferably 80 ° or less, more preferably 75 ° or less, still more preferably 70 ° or less, and particularly preferably 65 ° or less. preferable. Further, the lower limit value is preferably 20 ° or more, more preferably 30 ° or more, and further preferably 40 ° or more.
If the groove inclination angle of the pregroove is 20 ° or more, a sufficient tracking error signal amplitude can be obtained, and if it is 80 ° or less, the moldability is good.

反射層
反射層は、レーザー光に対する反射率が高い光反射性物質を、例えば、真空蒸着、スパッタリングまたはイオンプレーティングすることにより基板上に形成することができる。
光反射層の層厚は、一般的には10〜300nmの範囲とし、20〜200nmの範囲とすることが好ましい。
なお、前記反射率は、70%以上であることが好ましい。
The reflective layer can be formed on the substrate by, for example, vacuum deposition, sputtering, or ion plating with a light reflective material having a high reflectance with respect to the laser beam.
The thickness of the light reflecting layer is generally in the range of 10 to 300 nm and preferably in the range of 20 to 200 nm.
The reflectance is preferably 70% or more.

反射率が高い光反射性物質としては、Mg、Se、Y、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Mn、Re、Fe、Co、Ni、Ru、Rh、Pd、Ir、Pt、Cu、Ag、Au、Zn、Cd、Al、Ga、In、Si、Ge、Te、Pb、Po、Sn、Bi等の金属および半金属またはステンレス鋼を挙げることができる。これらの光反射性物質は単独で用いてもよいし、あるいは二種以上の組合せで、または合金として用いてもよい。これらのうちで好ましいものは、Cr、Ni、Pt、Cu、Ag、Au、Alおよびステンレス鋼である。特に好ましくは、Au、Ag、Alまたはこれらの合金であり、最も好ましくは、Au、Agまたはこれらの合金である。   As a light reflective material having a high reflectance, Mg, Se, Y, Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Cr, Mo, W, Mn, Re, Fe, Co, Ni, Ru, Rh, Pd , Ir, Pt, Cu, Ag, Au, Zn, Cd, Al, Ga, In, Si, Ge, Te, Pb, Po, Sn, Bi, and the like, and metal and semi-metal or stainless steel. These light reflecting materials may be used alone, or may be used in combination of two or more kinds or as an alloy. Among these, Cr, Ni, Pt, Cu, Ag, Au, Al, and stainless steel are preferable. Particularly preferred is Au, Ag, Al or an alloy thereof, and most preferred is Au, Ag or an alloy thereof.

記録層
本発明の光情報記録媒体は、下記一般式(I)で表され、かつ熱質量分析での主減量過程における質量減少率が10%以上である熱分解性を有する化合物(ポリメチン誘導体)を含有する。前記化合物は、短波長領域で大きな屈折率差を実現することができ、後述する接着層と組み合わせることにより、特に短波長レーザー光照射により優れた記録特性を発揮し得る。
Recording layer The optical information recording medium of the present invention is a compound (polymethine derivative) represented by the following general formula (I) and having a mass decomposability of 10% or more in the main weight loss process in thermal mass spectrometry (polymethine derivative). Containing. The said compound can implement | achieve a big refractive index difference in a short wavelength region, and can exhibit the outstanding recording characteristic by short wavelength laser beam irradiation by combining with the contact bonding layer mentioned later.

Figure 2008300007
[一般式(I)中、X1およびX2は、各々独立に、酸素原子、硫黄原子またはN−Rを表し、Rはアルキル基、アリール基、または複素環基を表し、Za1およびZa2は、各々独立に、5員または6員の複素環を完成するために必要な原子群を表し、L1、L2およびL3は、各々独立に、置換または無置換のメチン基を表し(但し、L1〜L3上に置換基がある場合には互いに連結して環を形成してもよい)、jは、0または1を表し、M1は電荷均衡対イオンを表し、m1は分子の電荷を中和するために必要な0以上10以下の数を表す。]
Figure 2008300007
[In General Formula (I), X 1 and X 2 each independently represents an oxygen atom, a sulfur atom or N—R, R represents an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group, and Za 1 and Za 2 each independently represents a group of atoms necessary to complete a 5- or 6-membered heterocyclic ring, and L 1 , L 2 and L 3 each independently represents a substituted or unsubstituted methine group. (However, when there is a substituent on L 1 to L 3 , they may be linked to each other to form a ring), j represents 0 or 1, M 1 represents a charge balanced counter ion, m 1 Represents a number from 0 to 10 which is necessary for neutralizing the charge of the molecule. ]

本発明では、記録層内での空隙形成を良好に行い記録特性を高めるために、上記一般式(I)で表される化合物の中で、熱質量分析での主減量過程における質量減少率が10%以上である熱分解性を有する化合物を使用する。ある温度域において化合物を昇温していくと、熱分解による質量減少が生じる。化合物の種類にもよるが、通常、大きな質量減少を示すいくつかの温度域(質量減少過程)が存在することが多い。本発明では、いくつかの質量減少過程(減量過程)のうち、質量減少の度合が最大のものを主減量過程と呼ぶ。質量減少率は、以下の方法によって求めることができる。   In the present invention, in order to satisfactorily form voids in the recording layer and enhance the recording characteristics, among the compounds represented by the general formula (I), the mass reduction rate in the main weight loss process in the thermal mass spectrometry is A compound having a thermal decomposability of 10% or more is used. When the temperature of the compound is raised in a certain temperature range, mass loss due to thermal decomposition occurs. Depending on the type of compound, there are usually several temperature ranges (mass reduction process) that show a large mass loss. In the present invention, among several mass reduction processes (weight reduction processes), the one with the greatest degree of mass reduction is called the main weight reduction process. The mass reduction rate can be obtained by the following method.

図1に示すように、質量M0の化合物を窒素雰囲気下で、10℃/分で昇温する。この昇温に従って、質量はほぼ直線a−bに沿って微量ずつ減少し、ある温度に達すると、ほぼ直線c−dに沿った急激な質量減少を起こす。さらに昇温を続けると急激な質量減少が終了し、ほぼ直線e−fに沿った質量減少を起こす。ここで、直線a−bと直線c−dとの交点において、温度をT1(℃)とし、初期質量M0に対する残存質量率をm1(%)とする。また、直線c−dと直線e−fとの交点において、温度をT2(℃)とし、初期質量M0に対する残存質量率をm2(%)とする。すなわち、主減量過程において、減量開始温度はT1、減量終了温度はT2となり、質量減少率は、(m1−m2)(%)で示される。   As shown in FIG. 1, the compound having a mass M0 is heated at 10 ° C./min in a nitrogen atmosphere. As the temperature rises, the mass decreases little by little along a straight line ab, and when reaching a certain temperature, a sudden mass decrease along a substantially straight line cd occurs. When the temperature is further increased, the rapid mass decrease ends, and the mass decrease substantially along the straight line ef occurs. Here, at the intersection of the straight line ab and the straight line cd, the temperature is T1 (° C.), and the residual mass ratio with respect to the initial mass M0 is m1 (%). Further, at the intersection of the straight line cd and the straight line ef, the temperature is T2 (° C.), and the residual mass ratio with respect to the initial mass M0 is m2 (%). That is, in the main weight loss process, the weight loss start temperature is T1, the weight loss end temperature is T2, and the mass reduction rate is represented by (m1-m2) (%).

上記の窒素雰囲気下での質量減少は、酸化分解ではなく色素の置換基分解や骨格分解に基づき、ガスが発生しているものと考えられる。よって、質量減少率が高いほど、熱分解による気体発生量が多く、空隙形成に有利であると考えられる。一般式(I)で表される化合物の中でも、上記質量減少率が10%以上のものを記録層に含むことにより、レーザー光照射による気体発生量が多くピットを良好に形成できると考えられる。一般式(I)で表される化合物の中でも、150℃〜400℃における熱分解時の質量減少率が20%以上である熱分解性を有するものがより好ましく、200℃〜400℃における熱分解時の質量減少率が25%以上である熱分解性を有するものが更に好ましい。色素の熱分解性は、色素骨格に導入する置換基の種類等によって制御することができる。
具体的には、例えばSeiko Instruments Inc.製EXSTAR6000を用い、N2気流下(流量200ml/min)、30℃〜550℃の範囲において10℃/分で昇温を行い、質量減少率を求めることができる。
The decrease in mass under the nitrogen atmosphere is considered to be due to the generation of gas based not on the oxidative decomposition but on the substituent decomposition or skeleton decomposition of the dye. Therefore, it is considered that the higher the mass reduction rate, the more gas is generated due to thermal decomposition, which is advantageous for void formation. It is considered that among the compounds represented by the general formula (I), when the recording layer contains a material having a mass reduction rate of 10% or more, the amount of gas generated by laser light irradiation is large and pits can be formed satisfactorily. Among the compounds represented by the general formula (I), those having a thermal decomposability with a mass reduction rate of 20% or more during thermal decomposition at 150 ° C. to 400 ° C. are more preferable, and thermal decomposition at 200 ° C. to 400 ° C. What has thermal decomposability whose mass reduction rate at the time is 25% or more is still more preferable. The thermal decomposability of the dye can be controlled by the type of substituent introduced into the dye skeleton.
Specifically, for example, Seiko Instruments Inc. Using EXSTAR6000, the mass reduction rate can be obtained by raising the temperature at 10 ° C./min in the range of 30 ° C. to 550 ° C. under a N 2 air flow (flow rate 200 ml / min).

更に、感度向上のためには、前記化合物として熱分解性が良好な化合物を使用することが好ましい。熱分解性の指標としては、熱分解温度を用いることができる。本発明では、前記化合物として熱分解温度が、例えば150〜400℃、好ましくは200〜400℃、更に好ましくは200〜380℃のものを用いることが好ましい。なお、本発明における熱分解温度は、TG/DTA測定によって求められる値をいうものとする。具体的には、例えばSeiko Instruments Inc.製EXSTAR6000を用い、N2気流下(流量200ml/min)、30℃〜550℃の範囲において10℃/分で昇温を行い、質量減少率が10%に達した時点の温度として熱分解温度を求めることができる。 Furthermore, in order to improve sensitivity, it is preferable to use a compound having good thermal decomposability as the compound. As an index of thermal decomposability, the thermal decomposition temperature can be used. In the present invention, it is preferable to use a compound having a thermal decomposition temperature of 150 to 400 ° C., preferably 200 to 400 ° C., more preferably 200 to 380 ° C. In addition, the thermal decomposition temperature in this invention shall say the value calculated | required by TG / DTA measurement. Specifically, for example, Seiko Instruments Inc. Using EXSTAR6000 manufactured, the temperature was raised at 10 ° C / min in the range of 30 ° C to 550 ° C under an N 2 stream (flow rate 200 ml / min), and the temperature at which the mass reduction rate reached 10% was the thermal decomposition temperature. Can be requested.

以下に、一般式(I)の詳細を説明する。   Details of the general formula (I) will be described below.

Figure 2008300007
[一般式(I)中、X1およびX2は、各々独立に、酸素原子、硫黄原子またはN−Rを表し、Rはアルキル基、アリール基、または複素環基を表し、Za1およびZa2は、各々独立に、5員または6員の複素環を完成するために必要な原子群を表し、L1、L2およびL3は、各々独立に、置換または無置換のメチン基を表し(但し、L1〜L3上に置換基がある場合には互いに連結して環を形成してもよい)、jは、0または1を表し、M1は電荷均衡対イオンを表し、m1は分子の電荷を中和するために必要な0以上10以下の数を表す。]
Figure 2008300007
[In General Formula (I), X 1 and X 2 each independently represents an oxygen atom, a sulfur atom or N—R, R represents an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group, and Za 1 and Za 2 each independently represents a group of atoms necessary to complete a 5- or 6-membered heterocyclic ring, and L 1 , L 2 and L 3 each independently represents a substituted or unsubstituted methine group. (However, when there is a substituent on L 1 to L 3 , they may be linked to each other to form a ring), j represents 0 or 1, M 1 represents a charge balanced counter ion, m 1 Represents a number from 0 to 10 which is necessary for neutralizing the charge of the molecule. ]

一般式(I)中、L1、L2およびL3は、各々独立に、置換または無置換のメチン基を表す。L1〜L3上に置換基がある場合には互いに連結して環を形成してもよい。 In general formula (I), L 1 , L 2 and L 3 each independently represents a substituted or unsubstituted methine group. When there are substituents on L 1 to L 3 , they may be linked to each other to form a ring.

メチン基が有し得る置換基をVとすると、Vで示される置換基としては特に制限はないが、例えば、ハロゲン原子(例えば塩素、臭素、沃素、フッ素)、メルカプト基、シアノ基、カルボキシル基、リン酸基、スルホ基、ヒドロキシ基、炭素数1〜10、好ましくは炭素数2〜8、さらに好ましくは炭素数2〜5のカルバモイル基(例えばメチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基、モルホリノカルボニル基)、炭素数0〜10、好ましくは炭素数2〜8、さらに好ましくは炭素数2〜5のスルファモイル基(例えばメチルスルファモイル基、エチルスルファモイル基、ピペリジノスルホニル基)、ニトロ基、炭素数1〜20、好ましくは炭素数1〜10、さらに好ましくは炭素数1〜8のアルコキシ基(例えばメトキシ基、エトキシ基、2−メトキシエトキシ基、2−フェニルエトキシ基)、炭素数6〜20、好ましくは炭素数6〜12、さらに好ましくは炭素数6〜10のアリールオキシ基(例えばフェノキシ基、p−メチルフェノキシ基、p−クロロフェノキシ基、ナフトキシ基)、炭素数1〜20、好ましくは炭素数2〜12、さらに好ましくは炭素数2〜8のアシル基(例えばアセチル基、ベンゾイル基、トリクロロアセチル基)、炭素数1〜20、好ましくは炭素数2〜12、さらに好ましくは炭素数2〜8のアシルオキシ基(例えばアセチルオキシ基、ベンゾイルオキシ基)、炭素数1〜20、好ましくは炭素数2〜12、さらに好ましくは炭素数2〜8のアシルアミノ基(例えばアセチルアミノ基)、炭素1〜20、好ましくは炭素数1〜10、さらに好ましくは炭素数1〜8のスルホニル基(例えばメタンスルホニル基、エタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基など)、炭素1〜20、好ましくは炭素数1〜10、さらに好ましくは炭素数1〜8のスルフィニル基(例えばメタンスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基)、炭素1〜20、好ましくは炭素数1〜10、さらに好ましくは炭素数1〜8のスルホニルアミノ基(例えばメタンスルホニルアミノ基、エタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基など)、アミノ基、炭素数1〜20、好ましくは炭素数1〜12、さらに好ましくは炭素数1〜8の置換アミノ基(例えばメチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ベンジルアミノ基、アニリノ基、ジフェニルアミノ基)、炭素数0〜15、好ましくは炭素数3〜10、さらに好ましくは炭素数3〜6のアンモニウム基(例えばトリメチルアンモニウム基、トリエチルアンモニウム基)、炭素数0〜15、好ましくは炭素数1〜10、さらに好ましくは炭素数1〜6のヒドラジノ基(例えばトリメチルヒドラジノ基)、炭素数1〜15、好ましくは炭素数1〜10、さらに好ましくは炭素数1〜6のウレイド基(例えばウレイド基、N,N−ジメチルウレイド基)、炭素数1〜15、好ましくは炭素数1〜10、さらに好ましくは炭素数1〜6のイミド基(例えばスクシンイミド基)、炭素数1〜20、好ましくは炭素数1〜12、さらに好ましくは炭素数1〜8のアルキルまたはアリールチオ基(例えばメチルチオ基、エチルチオ基、カルボキシエチルチオ基、スルホブチルチオ基、フェニルチオ基など)、炭素数2〜20、好ましくは炭素数2〜12、さらに好ましくは炭素数2〜8のアルコキシカルボニル基(例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基)、炭素数6〜20、好ましくは炭素数6〜12、さらに好ましくは炭素数6〜8のアリーロキシカルボニル基(例えばフェノキシカルボニル基)、炭素数1〜18、好ましくは炭素数1〜10、さらに好ましくは炭素数1〜5の無置換アルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基)、炭素数1〜18、好ましくは炭素数1〜10、さらに好ましくは炭素数1〜5の置換アルキル基(ヒドロキシメチル基、トリフルオロメチル基、ベンジル基、カルボキシエチル基、エトキシカルボニルメチル基、アセチルアミノメチル基、また、ここでは好ましくは炭素数2〜18、さらに好ましくは炭素数3〜10、特に好ましくは炭素数3〜5の不飽和炭化水素基(例えばビニル基、エチニル基、1−シクロヘキセニル基、ベンジリジン基、ベンジリデン基)も置換アルキル基に含まれることにする。)、炭素数6〜20、好ましくは炭素数6〜15、さらに好ましくは炭素数6〜10の置換または無置換のアリール基(例えばフェニル基、ナフチル基、p−カルボキシフェニル基、p−ニトロフェニル基、3,5−ジクロロフェニル基、p−シアノフェニル基、m−フルオロフェニル基、p−トリル基)、炭素数1〜20、好ましくは炭素数2〜10、さらに好ましくは炭素数4〜6の置換されてもよいヘテロ環基(例えばピリジル基、5−メチルピリジル基、チエニル基、フリル基、モルホリノ基、テトラヒドロフルフリル基)が挙げられる。   When the substituent that the methine group may have is V, the substituent represented by V is not particularly limited. For example, a halogen atom (for example, chlorine, bromine, iodine, fluorine), a mercapto group, a cyano group, a carboxyl group , Phosphoric acid group, sulfo group, hydroxy group, carbamoyl group having 1 to 10 carbon atoms, preferably 2 to 8 carbon atoms, more preferably 2 to 5 carbon atoms (for example, methylcarbamoyl group, ethylcarbamoyl group, morpholinocarbonyl group) A sulfamoyl group having 0 to 10 carbon atoms, preferably 2 to 8 carbon atoms, more preferably 2 to 5 carbon atoms (for example, a methylsulfamoyl group, an ethylsulfamoyl group, a piperidinosulfonyl group), a nitro group, An alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, preferably 1 to 10 carbon atoms, more preferably 1 to 8 carbon atoms (for example, methoxy group, ethoxy group) 2-methoxyethoxy group, 2-phenylethoxy group), an aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms, preferably 6 to 12 carbon atoms, more preferably 6 to 10 carbon atoms (for example, a phenoxy group, a p-methylphenoxy group, p-chlorophenoxy group, naphthoxy group), C1-C20, preferably C2-C12, more preferably C2-C8 acyl group (for example, acetyl group, benzoyl group, trichloroacetyl group), carbon number 1-20, preferably C2-C12, more preferably C2-C8 acyloxy group (for example, acetyloxy group, benzoyloxy group), C1-C20, preferably C2-C12, more preferably Is an acylamino group having 2 to 8 carbon atoms (for example, acetylamino group), 1 to 20 carbon atoms, preferably 1 to 10 carbon atoms, and more preferably Is a sulfonyl group having 1 to 8 carbon atoms (for example, methanesulfonyl group, ethanesulfonyl group, benzenesulfonyl group, etc.), 1 to 20 carbon atoms, preferably 1 to 10 carbon atoms, more preferably a sulfinyl group having 1 to 8 carbon atoms ( For example, methanesulfinyl group, benzenesulfinyl group), sulfonylamino group having 1 to 20 carbon atoms, preferably 1 to 10 carbon atoms, more preferably 1 to 8 carbon atoms (for example, methanesulfonylamino group, ethanesulfonylamino group, benzenesulfonylamino group) Group), an amino group, a substituted amino group having 1 to 20 carbon atoms, preferably 1 to 12 carbon atoms, more preferably 1 to 8 carbon atoms (for example, a methylamino group, a dimethylamino group, a benzylamino group, an anilino group, Diphenylamino group), 0-15 carbon atoms, preferably 3-10 carbon atoms, more preferred Or a C3-C6 ammonium group (for example, trimethylammonium group or triethylammonium group), C0-C15, preferably C1-C10, more preferably C1-C6 hydrazino group (e.g. trimethylhydra). Dino group), a ureido group having 1 to 15 carbon atoms, preferably 1 to 10 carbon atoms, more preferably 1 to 6 carbon atoms (for example, a ureido group, N, N-dimethylureido group), 1 to 15 carbon atoms, preferably Is an imide group having 1 to 10 carbon atoms, more preferably 1 to 6 carbon atoms (for example, a succinimide group), 1 to 20 carbon atoms, preferably 1 to 12 carbon atoms, and more preferably an alkyl or arylthio having 1 to 8 carbon atoms. Group (for example, methylthio group, ethylthio group, carboxyethylthio group, sulfobutylthio group, phenylthio group, etc.) 0, preferably an alkoxycarbonyl group having 2 to 12 carbon atoms, more preferably 2 to 8 carbon atoms (for example, methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, benzyloxycarbonyl group), 6 to 20 carbon atoms, preferably 6 to 6 carbon atoms 12, more preferably an aryloxycarbonyl group having 6 to 8 carbon atoms (for example, phenoxycarbonyl group), an unsubstituted alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, preferably 1 to 10 carbon atoms, more preferably 1 to 5 carbon atoms ( For example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group), a substituted alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, preferably 1 to 10 carbon atoms, and more preferably 1 to 5 carbon atoms (hydroxymethyl group, trifluoromethyl group). Benzyl group, carboxyethyl group, ethoxycarbonylmethyl group, acetylaminomethyl group, and here An unsaturated hydrocarbon group having 2 to 18 carbon atoms, more preferably 3 to 10 carbon atoms, particularly preferably 3 to 5 carbon atoms (for example, a vinyl group, an ethynyl group, a 1-cyclohexenyl group, a benzylidine group, a benzylidene group). Group) is also included in the substituted alkyl group. ), A substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 20 carbon atoms, preferably 6 to 15 carbon atoms, more preferably 6 to 10 carbon atoms (for example, phenyl group, naphthyl group, p-carboxyphenyl group, p-nitrophenyl). Group, 3,5-dichlorophenyl group, p-cyanophenyl group, m-fluorophenyl group, p-tolyl group), C1-20, preferably C2-10, and more preferably C4-6. Examples thereof include a heterocyclic group which may be substituted (for example, pyridyl group, 5-methylpyridyl group, thienyl group, furyl group, morpholino group, tetrahydrofurfuryl group).

置換基として好ましいものは、上述のアルキル基、アリール基、アルコキシ基、ハロゲン原子、アシル基、シアノ基、スルホニル基、およびベンゼン環縮合であり、さらに好ましくはアルキル基、アリール基、ハロゲン原子、アシル基、およびスルホニル基である。L1〜L3として好ましくは無置換メチン基である。 Preferred examples of the substituent include the above-described alkyl group, aryl group, alkoxy group, halogen atom, acyl group, cyano group, sulfonyl group, and benzene ring condensation, and more preferable alkyl group, aryl group, halogen atom, acyl group. And a sulfonyl group. L 1 to L 3 are preferably unsubstituted methine groups.

jは0または1であり、jが1の時、メチン基が繰り返されるが同一である必要はない。   j is 0 or 1, and when j is 1, the methine group is repeated but need not be identical.

1およびX2は、各々独立に、酸素原子、硫黄原子またはN−Rを表し、Rはアルキル基、アリール基または複素環基を表す。X1とX2は同一でも異なってもよいが同一であることが好ましい。 X 1 and X 2 each independently represents an oxygen atom, a sulfur atom or N—R, and R represents an alkyl group, an aryl group or a heterocyclic group. X 1 and X 2 may be the same or different, but are preferably the same.

アルキル基としては、例えば炭素数1〜18、好ましくは1〜7、特に好ましくは1〜4の無置換アルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、オクタデシル基)、炭素数1〜18、好ましくは1〜7、特に好ましくは1〜4の置換アルキル基{例えば前述のL1などの置換基として挙げたVが置換したアルキル基が挙げられる。好ましくはアラルキル基(例えばベンジル基、2−フェニルエチル基)、不飽和炭化水素基(例えばアリル基)、ヒドロキシアルキル基(例えば、2−ヒドロキシエチル基、3−ヒドロキシプロピル基)、カルボキシアルキル基(例えば、2−カルボキシエチル基、3−カルボキシプロピル基、4−カルボキシブチル基、カルボキシメチル基)、アルコキシアルキル基(例えば、2−メトキシエチル基、2−(2−メトキシエトキシ)エチル基)、アリーロキシアルキル基(例えば2ーフェノキシエチル基、2−(1−ナフトキシ)エチル基)、アルコキシカルボニルアルキル基(例えばエトキシカルボニルメチル基、2−ベンジルオキシカルボニルエチル基)、アリーロキシカルボニルアルキル基(例えば3−フェノキシカルボニルプロピル基)、アシルオキシアルキル基(例えば2ーアセチルオキシエチル基)、アシルアルキル基(例えば2−アセチルエチル基)、カルバモイルアルキル基(例えば2−モルホリノカルボニルエチル基)、スルファモイルアルキル基(例えばN,N−ジメチルカルバモイルメチル基)、スルホアルキル基(例えば、2−スルホエチル基、3−スルホプロピル基、3−スルホブチル基、4−スルホブチル基、2−〔3−スルホプロポキシ〕エチル基、2−ヒドロキシ−3−スルホプロピル基、3−スルホプロポキシエトキシエチル基)、スルホアルケニル基(例えば、スルホプロペニル基)、スルファトアルキル基(例えば、2ースルファトエチル基、3−スルファトプロピル基、4−スルファトブチル基)、複素環置換アルキル基(例えば2−(ピロリジン−2−オン−1−イル)エチル基、テトラヒドロフルフリル基)、アルキルスルホニルカルバモイルメチル基(例えばメタンスルホニルカルバモイルメチル基)}が挙げられる。 As the alkyl group, for example, an unsubstituted alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, preferably 1 to 7 carbon atoms, particularly preferably 1 to 4 carbon atoms (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, A hexyl group, an octyl group, a dodecyl group, an octadecyl group), a substituted alkyl group having 1 to 18, preferably 1 to 7, and particularly preferably 1 to 4 carbon atoms {for example, V mentioned as a substituent such as L 1 described above Examples include substituted alkyl groups. Preferably, an aralkyl group (for example, benzyl group, 2-phenylethyl group), an unsaturated hydrocarbon group (for example, allyl group), a hydroxyalkyl group (for example, 2-hydroxyethyl group, 3-hydroxypropyl group), a carboxyalkyl group ( For example, 2-carboxyethyl group, 3-carboxypropyl group, 4-carboxybutyl group, carboxymethyl group), alkoxyalkyl group (for example, 2-methoxyethyl group, 2- (2-methoxyethoxy) ethyl group), aryl Roxyalkyl groups (for example, 2-phenoxyethyl group, 2- (1-naphthoxy) ethyl group), alkoxycarbonylalkyl groups (for example, ethoxycarbonylmethyl group, 2-benzyloxycarbonylethyl group), aryloxycarbonylalkyl groups (for example, 3 -Phenoxycarbonylpropi Group), an acyloxyalkyl group (for example, 2-acetyloxyethyl group), an acylalkyl group (for example, 2-acetylethyl group), a carbamoylalkyl group (for example, 2-morpholinocarbonylethyl group), a sulfamoylalkyl group (for example, N, N-dimethylcarbamoylmethyl group), sulfoalkyl group (for example, 2-sulfoethyl group, 3-sulfopropyl group, 3-sulfobutyl group, 4-sulfobutyl group, 2- [3-sulfopropoxy] ethyl group, 2-hydroxy- 3-sulfopropyl group, 3-sulfopropoxyethoxyethyl group), sulfoalkenyl group (for example, sulfopropenyl group), sulfatoalkyl group (for example, 2-sulfatoethyl group, 3-sulfatopropyl group, 4-sulfopropyl group) Fat-butyl group), a heterocyclic-substituted alkyl group (for example, 2- Pyrrolidin-2-one-1-yl) ethyl group, tetrahydrofurfuryl group), alkylsulfonylcarbamoyl methyl group (e.g. methanesulfonyl carbamoylmethyl methyl group)} and the like.

アリール基としては、例えば炭素数6〜20、好ましくは炭素数6〜10、さらに好ましくは炭素数6〜8の無置換アリール基(例えばフェニル基、1−ナフチル基)、炭素数6〜20、好ましくは炭素数6〜10、さらに好ましくは炭素数6〜8の置換アリール基(例えば前述のL1などの置換基として挙げたVが置換したアリール基が挙げられる。具体的にはp−メトキシフェニル基、p−メチルフェニル基、p−クロロフェニル基などが挙げられる。)が挙げられる。 As the aryl group, for example, an unsubstituted aryl group having 6 to 20 carbon atoms, preferably 6 to 10 carbon atoms, more preferably 6 to 8 carbon atoms (for example, phenyl group, 1-naphthyl group), 6 to 20 carbon atoms, Preferably, it is a substituted aryl group having 6 to 10 carbon atoms, more preferably 6 to 8 carbon atoms (for example, an aryl group substituted with V mentioned as a substituent such as L 1 described above. Specifically, p-methoxy is mentioned. A phenyl group, a p-methylphenyl group, a p-chlorophenyl group, etc.).

複素環基としては、例えば炭素数1〜20、好ましくは炭素数3〜10、さらに好ましくは炭素数4〜8の無置換複素環基(例えば2−フリル基、2−チエニル基、2−ピリジル基、3−ピラゾリル基、3−イソオキサゾリル基、3−イソチアゾリル基、2−イミダゾリル基、2−オキサゾリル基、2−チアゾリル基、2−ピリダジル基、2−ピリミジル基、3−ピラジル基、2−(1,3,5−トリアゾリル)基、3−(1,2,4−トリアゾリル)基、5−テトラゾリル基)、炭素数1〜20、好ましくは炭素数3〜10、さらに好ましくは炭素数4〜8の置換複素環基(例えば前述のL1などの置換基として挙げたVが置換した複素環基が挙げられる。具体的には5−メチル−2−チエニル基、4−メトキシ−2−ピリジル基などが挙げられる。)が挙げられる。 Examples of the heterocyclic group include unsubstituted heterocyclic groups having 1 to 20 carbon atoms, preferably 3 to 10 carbon atoms, and more preferably 4 to 8 carbon atoms (for example, 2-furyl group, 2-thienyl group, 2-pyridyl group). Group, 3-pyrazolyl group, 3-isoxazolyl group, 3-isothiazolyl group, 2-imidazolyl group, 2-oxazolyl group, 2-thiazolyl group, 2-pyridazyl group, 2-pyrimidyl group, 3-pyrazyl group, 2- ( 1,3,5-triazolyl) group, 3- (1,2,4-triazolyl) group, 5-tetrazolyl group), C1-20, preferably C3-10, more preferably C4 8 substituted heterocyclic groups (for example, a heterocyclic group substituted by V mentioned as a substituent such as L 1 described above, specifically, 5-methyl-2-thienyl group, 4-methoxy-2-pyridyl) Group It is.) And the like.

Za1およびZa2は、各々独立に、5員または6員の複素環を完成するために必要な原子群を表す。Za1およびZa2は、同一でも異なってもよいが同一であることが好ましい。
Za1を含む5員もしくは6員の複素環(核)としては、例えば、チアゾール核、ベンゾチアゾール核、ナフトチアゾール核、チアゾリン核、オキサゾール核、ベンゾオキサゾール核、ナフトオキサゾール核、オキサゾリン核、セレナゾール核、ベンゾセレナゾール核、ナフトセレナゾール核、セレナゾリン核、テルラゾール核、ベンゾテルラゾール核、ナフトテルラゾール核、テルラゾリン核、イミダゾール核、ベンゾイミダゾール核、ナフトイミダゾール核、ピリジン核、キノリン核、イソキノリン核、イミダゾ〔4,5ーb〕キノキサリン核、オキサジアゾール核、チアジアゾール核、テトラゾール核、ピリミジン核、ピロール核、インドレニン核、ベンゾインドレニン核、1,3−ジオキソラン核、および1,3−ジチオラン核、などを挙げることができる。これらの中では、チアゾール核、チアゾリン核、ベンゾチアゾール核、オキサゾール核、オキサゾリン核、ベンゾオキサゾール核、イミダゾール核、ベンゾイミダゾール核、ナフトイミダゾール核、キノリン核、イソキノリン核、イミダゾ〔4,5ーb〕キノキサリン核、チアジアゾール核、テトラゾール核、ピリミジン核、ピロール核、インドレニン核、ベンゾインドレニン核、1,3−ジオキソラン核、および1,3−ジチオラン核が好ましい。これらの環には、更にベンゼン環、ジオキソラン環、ナフトキノン環が縮合していても良い。
Za 1 and Za 2 each independently represents an atomic group necessary for completing a 5-membered or 6-membered heterocyclic ring. Za 1 and Za 2 may be the same or different, but are preferably the same.
Examples of the 5-membered or 6-membered heterocyclic ring (nucleus) containing Za 1 include thiazole nucleus, benzothiazole nucleus, naphthothiazole nucleus, thiazoline nucleus, oxazole nucleus, benzoxazole nucleus, naphthoxazole nucleus, oxazoline nucleus, and selenazole nucleus. , Benzoselenazole nucleus, naphthoselenazole nucleus, selenazoline nucleus, tellurazole nucleus, benzotelrazole nucleus, naphthotelrazole nucleus, tellurazoline nucleus, imidazole nucleus, benzimidazole nucleus, naphthimidazole nucleus, pyridine nucleus, quinoline nucleus, isoquinoline nucleus, Imidazo [4,5-b] quinoxaline nucleus, oxadiazole nucleus, thiadiazole nucleus, tetrazole nucleus, pyrimidine nucleus, pyrrole nucleus, indolenine nucleus, benzoindolenine nucleus, 1,3-dioxolane nucleus, and 1,3-dithiolane Nuclear It can be mentioned. Among these, thiazole nucleus, thiazoline nucleus, benzothiazole nucleus, oxazole nucleus, oxazoline nucleus, benzoxazole nucleus, imidazole nucleus, benzimidazole nucleus, naphthimidazole nucleus, quinoline nucleus, isoquinoline nucleus, imidazo [4,5-b] A quinoxaline nucleus, thiadiazole nucleus, tetrazole nucleus, pyrimidine nucleus, pyrrole nucleus, indolenine nucleus, benzoindolenine nucleus, 1,3-dioxolane nucleus, and 1,3-dithiolane nucleus are preferred. These rings may be further condensed with a benzene ring, a dioxolane ring, or a naphthoquinone ring.

上記の5員または6員の含窒素複素環は置換基を有していてもよい。好ましい置換基(原子)の例としては、ハロゲン原子、置換または無置換のアルキル基、アリール基、アルコキシ基、およびアルコキシカルボニル基を挙げることができる。ハロゲン原子としては、塩素原子が好ましい。アルキル基は、炭素数数1〜6の直鎖状のアルキル基が好ましい。またアルキル基の置換基の例としては、アルコキシ基(例、メトキシ基)、アルキルチオ基(例、メチルチオ基)を挙げることができる。アリール基としては、フェニル基が好ましい。アルコキシ基としては、メトキシ基が好ましい。アルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基が好ましい。特に好ましい置換基の例は、ハロゲン原子、無置換のアルキル基、アルコキシ基、およびアルコキシカルボニル基である。   The 5-membered or 6-membered nitrogen-containing heterocyclic ring may have a substituent. Examples of preferred substituents (atoms) include halogen atoms, substituted or unsubstituted alkyl groups, aryl groups, alkoxy groups, and alkoxycarbonyl groups. As the halogen atom, a chlorine atom is preferable. The alkyl group is preferably a linear alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. Examples of the substituent for the alkyl group include an alkoxy group (eg, methoxy group) and an alkylthio group (eg, methylthio group). As the aryl group, a phenyl group is preferable. As the alkoxy group, a methoxy group is preferable. As the alkoxycarbonyl group, a methoxycarbonyl group is preferable. Particularly preferred examples of the substituent are a halogen atom, an unsubstituted alkyl group, an alkoxy group, and an alkoxycarbonyl group.

1は、電荷均衡対イオンを表し、色素のイオン電荷を中性にするために必要であるとき、陽イオンまたは陰イオンの存在を示すために式の中に含められている。典型的な陽イオンとしては、水素イオン(H+)、アルカリ金属イオン(例えばナトリウムイオン、カリウムイオン、リチウムイオン)、アルカリ土類金属イオン(例えばカルシウムイオン)などの無機陽イオン、アンモニウムイオン(例えば、アンモニウムイオン、テトラアルキルアンモニウムイオン、ピリジニウムイオン、エチルピリジニウムイオン)などの有機イオンが挙げられる。陰イオンは無機陰イオンあるいは有機陰イオンのいずれであってもよく、ハロゲン陰イオン(例えばフッ素イオン、塩素イオン、ヨウ素イオン)、置換アリールスルホン酸イオン(例えばp−トルエンスルホン酸イオン、p−クロルベンゼンスルホン酸イオン)、アリールジスルホン酸イオン(例えば1,3−ベンゼンスルホン酸イオン、1,5−ナフタレンジスルホン酸イオン、2,6−ナフタレンジスルホン酸イオン)、アルキル硫酸イオン(例えばメチル硫酸イオン)、硫酸イオン、チオシアン酸イオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロホウ酸イオン、ピクリン酸イオン、酢酸イオン、トリフルオロメタンスルホン酸イオンが挙げられる。さらに、イオン性ポリマーまたは色素と逆電荷を有する他の色素を用いても良い。本発明では、スルホ基をSO3 -と表記しているが、対イオンとして水素イオンを持つときはSO3Hと表記することも可能である。m1は分子の電荷を中和するために必要な0以上10以下の数を表し、分子内で塩を形成する場合には0である。 M 1 represents a charge-balanced counter ion and is included in the formula to indicate the presence of a cation or an anion when needed to neutralize the ionic charge of the dye. Typical cations include inorganic cations such as hydrogen ions (H + ), alkali metal ions (eg, sodium ions, potassium ions, lithium ions), alkaline earth metal ions (eg, calcium ions), ammonium ions (eg, Organic ions such as ammonium ion, tetraalkylammonium ion, pyridinium ion, ethylpyridinium ion). The anion may be either an inorganic anion or an organic anion, such as a halogen anion (eg, fluorine ion, chlorine ion, iodine ion), a substituted aryl sulfonate ion (eg, p-toluenesulfonate ion, p-chloro). Benzene sulfonate ion), aryl disulfonate ion (for example, 1,3-benzene sulfonate ion, 1,5-naphthalene disulfonate ion, 2,6-naphthalene disulfonate ion), alkyl sulfate ion (for example, methyl sulfate ion), Examples thereof include sulfate ion, thiocyanate ion, perchlorate ion, tetrafluoroborate ion, picrate ion, acetate ion, and trifluoromethanesulfonate ion. Furthermore, you may use the ionic polymer or another pigment | dye which has a charge opposite to a pigment | dye. In the present invention, the sulfo group is expressed as SO 3 , but it can also be expressed as SO 3 H when it has a hydrogen ion as a counter ion. m1 represents a number from 0 to 10 necessary for neutralizing the charge of the molecule, and is 0 when a salt is formed in the molecule.

一般式(I)で表される化合物は、更に下記一般式(II-1)、下記一般式(II-2)、または下記一般式(III)で表される化合物であることが好ましい。   The compound represented by the general formula (I) is preferably a compound represented by the following general formula (II-1), the following general formula (II-2), or the following general formula (III).

Figure 2008300007
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一般式(II−1)および(II−2)中、Zbは、インドレニン核、ベンゾインドレニン核、ベンゾイミダゾール核、ベンゾオキサゾール核またはベンゾチアゾール核を形成するために必要な原子群を表し、Xaは、酸素原子、硫黄原子、C(R3)(R4)またはN−R5を表し、R1、R2、R3、R4およびR5は、各々独立に、アルキル基またはアリール基を表し、L4は、置換または無置換のメチン基を表す。M1およびm1は、前記一般式(I-1)における定義と同義であり、その好ましい範囲も同一である。 In the general formulas (II-1) and (II-2), Zb represents an atomic group necessary for forming an indolenine nucleus, a benzoindolenine nucleus, a benzimidazole nucleus, a benzoxazole nucleus or a benzothiazole nucleus, Xa represents an oxygen atom, a sulfur atom, C (R 3 ) (R 4 ) or N—R 5 , and R 1 , R 2 , R 3 , R 4 and R 5 are each independently an alkyl group or aryl And L 4 represents a substituted or unsubstituted methine group. M 1 and m1 have the same definition as in the general formula (I-1), and their preferred ranges are also the same.

上記Zbを含むインドレニン核、ベンゾインドレニン核、ベンゾイミダゾール核、ベンゾオキサゾール核またはベンゾチアゾール核は置換基を有していてもよい。置換基(原子であってもよい)の例としては、前述した5員または6員の複素環上に有する置換基の例を挙げることができ、その好ましい範囲も同一である。   The indolenine nucleus, benzoindolenine nucleus, benzimidazole nucleus, benzoxazole nucleus or benzothiazole nucleus containing Zb may have a substituent. Examples of the substituent (which may be an atom) include the examples of the substituent on the 5-membered or 6-membered heterocyclic ring described above, and the preferred ranges thereof are also the same.

上記R1およびR2は、アルキル基またはアリール基を表し、その詳細は、先に一般式(I−1)におけるRについて述べた通りである。 R 1 and R 2 represent an alkyl group or an aryl group, and details thereof are as described above for R in the general formula (I-1).

上記R3、R4およびR5は、アルキル基またはアリール基を表し、好ましくはアルキル基であり、更に好ましくは置換基を有してもよい炭素数数1〜18の直鎖状、分岐状、または環状のアルキル基である。R3、R4およびR5で表されるアルキル基は、それぞれ炭素数数1〜6の直鎖状の無置換のアルキル基(例えば、メチル基、エチル基)であることが特に好ましい。 R 3 , R 4 and R 5 represent an alkyl group or an aryl group, preferably an alkyl group, more preferably a linear or branched chain having 1 to 18 carbon atoms which may have a substituent. Or a cyclic alkyl group. The alkyl group represented by R 3 , R 4 and R 5 is particularly preferably a linear unsubstituted alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (for example, a methyl group or an ethyl group).

Figure 2008300007
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一般式(III)中、XbおよびXcは、各々独立に、酸素原子、硫黄原子、またはN−R14を表し、R6、R7、R8、R9、R10、R11、R12、R13およびR14は、各々独立に、水素原子、アルキル基またはアリール基を表し、L5、L6およびL7は各々独立に置換または無置換のメチン基を表す。但し、L5〜L7上に置換基がある場合には、これらの置換基は互いに連結して環を形成してもよい。kは0または1を表す。M1およびm1は、前記一般式(I-1)における定義と同義であり、その好ましい範囲も同一である。 In the general formula (III), Xb and Xc each independently represent an oxygen atom, a sulfur atom, or N—R 14 , and R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , R 10 , R 11 , R 12 , R 13 and R 14 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, and L 5 , L 6 and L 7 each independently represents a substituted or unsubstituted methine group. However, when there are substituents on L 5 to L 7 , these substituents may be linked to each other to form a ring. k represents 0 or 1; M 1 and m1 are synonymous with the definitions in the general formula (I-1), and their preferred ranges are also the same.

XbおよびXcは、いずれも酸素原子、硫黄原子、もしくはN−R14であるか、または一方が酸素原子であり他方がN−R14、もしくは、一方が硫黄原子であり他方がN−R14の組み合わせとなることが好ましい。R6、R7、R8、R9、R10、R11、R12、R13およびR14は好ましくは水素原子またはアルキル基であり、更に好ましくは水素原子または置換基を有しても良い炭素数数1〜18の直鎖状、分岐状、あるいは環状のアルキル基である。R6、R7、R8、R9、R10、R11、R12、R13およびR14で表されるアルキル基は、それぞれ炭素数数1〜6の直鎖状の無置換のアルキル基(例えば、メチル基、エチル基)であることが特に好ましい。 Xb and Xc are each an oxygen atom, a sulfur atom, or N—R 14 , or one is an oxygen atom and the other is N—R 14 , or one is a sulfur atom and the other is N—R 14. It is preferable to become a combination of R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , R 10 , R 11 , R 12 , R 13 and R 14 are preferably a hydrogen atom or an alkyl group, more preferably a hydrogen atom or a substituent. A good linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 18 carbon atoms. The alkyl groups represented by R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , R 10 , R 11 , R 12 , R 13 and R 14 are each a linear unsubstituted alkyl having 1 to 6 carbon atoms. A group (for example, a methyl group or an ethyl group) is particularly preferable.

一般式(III)において、L5、L6およびL7は、各々独立に、置換または無置換のメチン基を表し、その詳細は、一般式(I−1)中のL1、L2およびL3について説明した通りである。 In the general formula (III), L 5 , L 6 and L 7 each independently represent a substituted or unsubstituted methine group, the details of which are represented by L 1 , L 2 and the general formula (I-1) As described for L 3 .

以下に、一般式(I)(一般式(II-1)、一般式(II-2)、または(III)で表される化合物を含む)で表される化合物の好ましい具体例を挙げる。   Preferred specific examples of the compound represented by the general formula (I) (including the compound represented by the general formula (II-1), the general formula (II-2), or (III)) are shown below.

Figure 2008300007
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前記色素化合物は、例えば、エフ・エム・ハーマー著「ザ・シアニン・ダイズ・アンド・リレイテッド・コンパウンズ5(インターサイエンス・パブリシャーズ、N.Y.1964年)55頁以降;ニコライ・チュチュルコフ、ユルゲン・ファビアン、アキム・メールホルン、フィリッツ・ディエツ、アリア・タジエール(Nikolai Tyutyulkov, Jurgen Fabian, Achim Ulehlhorn, Fritz Dietz, Alia Tadjer)共著「ポリメチン・ダイズ」、セントクリメント・オーリズキ・ユニバシティ・プレス、ソフィア(St. Kliment OhridskiUniversity Press,Sophia)、23頁ないし38頁;デー・エム・スターマー(D.M.Sturmer)著、「ヘテロサイクリック、コンパウンズ−スペシャル・トピックス・イン・ヘテロサイクリック・ケミストリー(Heterocyclic Compounds-Special topics in heterocyclic chemistry)」、第18章、第14節、第482〜515頁、ジョン・ウィリー・アンド・サンズ(John Wiley & Sons)社、ニューヨーク、ロンドン、(1977年刊);「ロッズ・ケミストリー・オブ・カーボン・コンパウンズ(Rodd's Chemistry of Carbon Compounds)」、(2nd.Ed.vol.IV,part B,1977年刊)、第15章、第369〜422頁、(2nd.Ed.vol.IV,part B,1985年刊)、第15章、第267〜296頁、エルスバイヤー・サイエンス・パブリック・カンパニー・インク(Elsvier Science Public Company Inc.)、ニューヨークなどに記載の方法によって合成することができる。   Examples of the coloring compound include, for example, “The Cyanin Soybean and Related Compounds 5 (Interscience Publishers, NY 1964)” p. 55;・ "Polymethine soy", Saint-Clement Aurizuki University Press, Sofia (Nikolai Tyutyulkov, Jurgen Fabian, Achim Ulehlhorn, Fritz Dietz, Alia Tadjer) St. Kliment Ohridski University Press, Sophia, pp. 23-38; DMSturmer, "Heterocyclic Compounds-Special Topics in Heterocyclic Compounds-Special Topics in repeating chemistry) "Chapter 18, Section 14, pp. 482-515, John Wiley & Sons, New York, London, (1977);" Rods Chemistry of Carbon Compounds. " (Rodd's Chemistry of Carbon Compounds) ”(2nd.Ed.vol.IV, part B, published in 1977), Chapter 15, pages 369-422, (2nd.Ed.vol.IV, part B, published in 1985) , Chapter pp. 267-296, Elsvier Science Public Company Inc., New York, and the like.

多価の陰イオンを対イオンとして導入する手法は、まず適当な溶剤に1価の対イオンを有する色素を溶かし、これに多価の酸またはその塩の溶液を添加し、更に必要に応じて色素を溶解しにくい溶剤を添加して、多価イオンを対イオンとする色素の結晶を析出せしめる方法が最も簡便でかつ大量の合成に適している。その他の方法としては、イオン交換樹脂を用いて対イオンを交換する方法が挙げられる。   In order to introduce a polyvalent anion as a counter ion, first, a dye having a monovalent counter ion is dissolved in a suitable solvent, and a solution of a polyvalent acid or a salt thereof is added thereto. A method of adding a solvent that hardly dissolves the dye and precipitating a dye crystal having a multivalent ion as a counter ion is the simplest and suitable for a large amount of synthesis. Other methods include a method of exchanging counter ions using an ion exchange resin.

前記のポリメチン色素は、単独で用いてもよいし、または二種以上を併用しても良い。また、前記色素化合物とこれら以外の光情報記録媒体用の色素化合物と併用してもよい。併用可能な色素化合物の例としては、前記ポリメチン色素以外のシアニン系色素、オキソノ−ル系色素、アゾ金属錯体、フタロシアニン系色素、ピリリウム系色素、チオピリリウム系色素、アズレニウム系色素、スクワリリウム系色素、ナフトキノン系色素、トリフェニルメタン系色素、およびトリアリルメタン系色素等を挙げることができる。好ましくはアゾ色素、アゾ金属色素、フタロシアニン色素より好ましくはアゾ金属色素、フタロシアニン色素である。   The polymethine dyes described above may be used alone or in combination of two or more. Moreover, you may use together with the said pigment | dye compound and the pigment | dye compound for optical information recording media other than these. Examples of dye compounds that can be used in combination include cyanine dyes other than the polymethine dyes, oxonol dyes, azo metal complexes, phthalocyanine dyes, pyrylium dyes, thiopyrylium dyes, azurenium dyes, squarylium dyes, and naphthoquinones. And dyes based on triphenylmethane and triarylmethane. Preferred are azo dyes, azo metal dyes and phthalocyanine dyes, and more preferred are azo metal dyes and phthalocyanine dyes.

記録層用色素の使用量は、記録層の全質量に対して、例えば1〜100質量%の範囲であり、好ましくは50〜100質量%、より好ましくは75〜100質量%の範囲である。記録層用色素として前記ポリメチン色素と他の色素を併用する場合、色素全量に対する前記ポリメチン色素の割合が、1質量%以上であることが好ましく、10〜100質量%であることが更に好ましく、50〜100質量%であることが特に好ましい。   The usage-amount of the pigment | dye for recording layers is the range of 1-100 mass% with respect to the total mass of a recording layer, for example, Preferably it is 50-100 mass%, More preferably, it is the range of 75-100 mass%. When the polymethine dye and another dye are used in combination as the recording layer dye, the ratio of the polymethine dye to the total amount of the dye is preferably 1% by mass or more, more preferably 10 to 100% by mass, and 50 It is especially preferable that it is -100 mass%.

次に記録層の形成について説明する。
記録層は、色素を、結合剤等と共に、または結合剤を用いないで適当な溶剤に溶解して塗布液を調製し、次いで、この塗布液を、後述する反射層上に塗布して塗膜を形成した後、乾燥することにより形成することができる。ここで、追記型記録層は、単層でも重層でもよい。塗布液を塗布する工程を複数回行うことにより、重層構造の記録層を形成することができる。
塗布液中の色素の濃度は、一般に0.01〜15質量%の範囲であり、好ましくは0.1〜10質量%の範囲、より好ましくは0.5〜5質量%の範囲、最も好ましくは0.5〜3質量%の範囲である。
Next, formation of the recording layer will be described.
The recording layer is prepared by dissolving the dye together with a binder or the like in an appropriate solvent without using a binder, and then coating this coating liquid on a reflective layer described later to form a coating film. After forming, it can be formed by drying. Here, the write-once recording layer may be a single layer or a multilayer. A recording layer having a multilayer structure can be formed by performing the step of applying the coating solution a plurality of times.
The concentration of the dye in the coating solution is generally in the range of 0.01 to 15% by mass, preferably in the range of 0.1 to 10% by mass, more preferably in the range of 0.5 to 5% by mass, most preferably. It is the range of 0.5-3 mass%.

塗布液の調製に用いる溶剤としては、例えば、酢酸ブチル、乳酸エチル、セロソルブアセテート等のエステル;メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン等のケトン;ジクロルメタン、1,2−ジクロルエタン、クロロホルム等の塩素化炭化水素;ジメチルホルムアミド等のアミド;メチルシクロヘキサン等の炭化水素;テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサン等のエーテル;エタノール、n−プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノールジアセトンアルコール等のアルコール;2,2,3,3−テトラフルオロ−1−プロパノール等のフッ素系溶剤;エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類;等を挙げることができる。
溶剤は使用する色素の溶解性を考慮して単独で、あるいは二種以上を組み合わせて使用することができる。塗布液中には、さらに、結合剤、酸化防止剤、UV吸収剤、可塑剤、潤滑剤等各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。
Solvents used for preparing the coating solution include, for example, esters such as butyl acetate, ethyl lactate and cellosolve acetate; ketones such as methyl ethyl ketone, cyclohexanone and methyl isobutyl ketone; chlorinated hydrocarbons such as dichloromethane, 1,2-dichloroethane and chloroform. Amides such as dimethylformamide; hydrocarbons such as methylcyclohexane; ethers such as tetrahydrofuran, ethyl ether and dioxane; alcohols such as ethanol, n-propanol, isopropanol and n-butanol diacetone alcohol; 2,2,3,3- Fluorinated solvents such as tetrafluoro-1-propanol; glycol agents such as ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether And the like can be given; le compound.
Solvents can be used alone or in combination of two or more in consideration of the solubility of the dye used. In the coating solution, various additives such as a binder, an antioxidant, a UV absorber, a plasticizer, and a lubricant may be added according to the purpose.

塗布方法としては、スプレー法、スピンコート法、ディップ法、ロールコート法、ブレードコート法、ドクターロール法、スクリーン印刷法等を挙げることができる。
塗布の際、塗布液の温度は23〜50℃の範囲であることが好ましく、24〜40℃の範囲であることがより好ましく、中でも、23〜38℃の範囲であることが特に好ましい。
Examples of the coating method include a spray method, a spin coating method, a dip method, a roll coating method, a blade coating method, a doctor roll method, and a screen printing method.
At the time of application, the temperature of the coating solution is preferably in the range of 23 to 50 ° C, more preferably in the range of 24 to 40 ° C, and particularly preferably in the range of 23 to 38 ° C.

追記型記録層の厚さは、ランド上で1〜100nmの範囲であり、グルーブ上で5〜150nmの範囲である。ランド(前記基板において凸部)上での厚さは、70nm以下であることが好ましく、50nm以下であることがより好ましく、30nm以下であることが更に好ましい。下限値は、5nm以上であることが好ましく、15nm以上であることがより好ましい。
また、追記型記録層の厚さは、グルーブ上(前記基板において凹部)で、100nm以下であることが好ましく、50nm以下であることがより好ましい。下限値は、10nm以上であることが好ましく、20nm以上であることがより好ましい。
更に、ランド上の追記型記録層の厚さとグルーブ上の追記型記録層の厚さの比[(ランド上の記録層の厚さ)/(グルーブ上の記録層の厚さ)]は、0.1以上であることが好ましく、0.13以上であることがより好ましく、0.15以上であることが更に好ましく、0.17以上であることが特に好ましい。上限値としては、1以下であることが好ましく、0.9以下であることがより好ましく、0.85以下であることが更に好ましく、0.8以下であることが特に好ましい。
The thickness of the write-once recording layer is in the range of 1 to 100 nm on the land and in the range of 5 to 150 nm on the groove. The thickness on the land (the convex portion in the substrate) is preferably 70 nm or less, more preferably 50 nm or less, and still more preferably 30 nm or less. The lower limit is preferably 5 nm or more, and more preferably 15 nm or more.
Further, the thickness of the write-once recording layer is preferably 100 nm or less, more preferably 50 nm or less on the groove (the concave portion in the substrate). The lower limit is preferably 10 nm or more, and more preferably 20 nm or more.
Further, the ratio of the thickness of the write-once recording layer on the land and the thickness of the write-once recording layer on the groove [(thickness of recording layer on land) / (thickness of recording layer on groove)] is 0. Is preferably 0.13 or more, more preferably 0.13 or more, further preferably 0.15 or more, and particularly preferably 0.17 or more. The upper limit is preferably 1 or less, more preferably 0.9 or less, still more preferably 0.85 or less, and particularly preferably 0.8 or less.

更に、記録層には、記録層の耐光性を向上させるために種々の褪色防止剤を含有させることができる。褪色防止剤としては、有機酸化剤や一重項酸素クエンチャーを挙げることができる。褪色防止剤として用いられる有機酸化剤としては、特開平10−151861号公報に記載されている化合物が好ましい。一重項酸素クエンチャーとしては、既に公知の特許明細書等の刊行物に記載のものを利用することができる。その具体例としては、特開昭58−175693号、同59−81194号、同60−18387号、同60−19586号、同60−19587号、同60−35054号、同60−36190号、同60−36191号、同60−44554号、同60−44555号、同60−44389号、同60−44390号、同60−54892号、同60−47069号、同63−209995号、特開平4−25492号、特公平1−38680号、および同6−26028号等の各公報、ドイツ特許350399号明細書、そして日本化学会誌1992年10月号第1141頁などに記載のものを挙げることができる。好ましい一重項酸素クエンチャーの例としては、下記の一般式(A)で表される化合物を挙げることができる。   Further, the recording layer can contain various anti-fading agents in order to improve the light resistance of the recording layer. Examples of the antifading agent include organic oxidants and singlet oxygen quenchers. As the organic oxidizing agent used as an anti-fading agent, compounds described in JP-A-10-151861 are preferable. As the singlet oxygen quencher, those described in publications such as known patent specifications can be used. Specific examples thereof include JP-A Nos. 58-175893, 59-81194, 60-18387, 60-19586, 60-19586, 60-35054, 60-36190, 60-36191, 60-44554, 60-44555, 60-44389, 60-44390, 60-54892, 60-47069, 63-209995, JP Listed in publications such as Nos. 4-25492, 1-38680, and 6-26028, German Patent No. 350399, and the Chemical Society of Japan, October 1992, page 1141 Can do. Examples of preferable singlet oxygen quenchers include compounds represented by the following general formula (A).

Figure 2008300007
Figure 2008300007

一般式(A)中、R21は置換基を有していてもよいアルキル基を表し、Q-はアニオンを表す。 In the general formula (A), R 21 represents an alkyl group which may have a substituent, and Q represents an anion.

一般式(A)において、R21は置換されていてもよい炭素数1〜8のアルキル基であり、無置換の炭素数1〜6のアルキル基が好ましい。アルキル基の置換基としては、ハロゲン原子(例、F,Cl)、アルコキシ基(例、メトキシ基、エトキシ基)、アルキルチオ基(例、メチルチオ基、エチルチオ基)、アシル基(例、アセチル基、プロピオニル基)、アシルオキシ基(例、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基)、ヒドロキシ基、アルコキシカルボニル基(例、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基)、アルケニル基(例、ビニル基)、アリール基(例、フェニル基、ナフチル基)を挙げることができる。これらの中で、ハロゲン原子、アルコキシ基、アルキルチオ基、アルコキシカルボニル基が好ましい。Q-のアニオンの好ましい例としては、ClO4 -、AsF6 -、BF4 -、およびSbF6 -を挙げることができる。 In the general formula (A), R 21 is an optionally substituted alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and an unsubstituted alkyl group having 1 to 6 carbon atoms is preferable. Examples of the substituent of the alkyl group include halogen atoms (eg, F, Cl), alkoxy groups (eg, methoxy group, ethoxy group), alkylthio groups (eg, methylthio group, ethylthio group), acyl groups (eg, acetyl group, Propionyl group), acyloxy group (eg, acetoxy group, propionyloxy group), hydroxy group, alkoxycarbonyl group (eg, methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group), alkenyl group (eg, vinyl group), aryl group (eg, phenyl) Group, naphthyl group). Among these, a halogen atom, an alkoxy group, an alkylthio group, and an alkoxycarbonyl group are preferable. Preferable examples of the anion of Q include ClO 4 , AsF 6 , BF 4 , and SbF 6 .

一般式(A)で表される化合物例(化合物番号A−1〜A−8)を下記表1に示す。   Examples of compounds represented by formula (A) (compound numbers A-1 to A-8) are shown in Table 1 below.

Figure 2008300007
Figure 2008300007

前記一重項酸素クエンチャーなどの褪色防止剤の使用量は、色素量に対して、通常0.1〜50質量%の範囲であり、好ましくは、0.5〜45質量%の範囲、更に好ましくは、3〜40質量%の範囲、特に好ましくは5〜25質量%の範囲である。   The amount of the antifading agent such as the singlet oxygen quencher used is usually in the range of 0.1 to 50% by mass, preferably in the range of 0.5 to 45% by mass, more preferably relative to the amount of the dye. Is in the range of 3-40% by weight, particularly preferably in the range of 5-25% by weight.

接着層
本発明の光情報記録媒体は、バリア層とカバー層との間に、紫外線硬化型組成物に硬化処理を施すことにより形成された層(接着層)を有する。この接着層のガラス転移温度は25℃以下である。接着層のガラス転移温度が25℃を超えると、記録層中の空隙形成に伴う接着層の変形が良好に行われず、十分な記録特性を得ることが困難となる。優れた記録特性を得るためには、接着層のガラス転移温度は0℃以下であることが好ましく、−10℃以下であることが更に好ましい。また、保存性の点では、接着層のガラス転移温度は−100℃以上であることが好ましい。すなわち、本発明に用いられる接着層のガラス転移温度は25℃〜−100℃の範囲であることが好ましく、より好ましくは0℃〜−100℃、さらに好ましくは−10℃〜−100℃である。
なお、本発明におけるガラス転移温度(Tg)とは、動的粘弾性測定装置(例えばアイティー計測制御(株)製DVA−200)において周波数1Hz、引張りモードまたはせん断モードで測定した時に動的粘弾性挙動により求められる損失正接(tanδ)の極大値を表す。
また、ガラス転移温度としては、上記動的粘弾性挙動から求められるガラス転移温度とともに、示差走査熱量分析(DSC)により求められるガラス転移温度(以下、「ガラス転移温度(DSC)」ともいう。)も知られている。本発明に用いられる接着層のガラス転移温度は、ガラス転移温度(DSC)としては、10℃以下であることが好ましく、−15〜−125℃であることがより好ましく、−35〜−125℃であることが更に好ましい。
接着層のガラス転移温度は、接着層形成のために使用する紫外線硬化型組成物の処方、該組成物に含有される紫外線硬化型化合物の種類、硬化条件等により制御することができる。
Adhesive Layer The optical information recording medium of the present invention has a layer (adhesive layer) formed by subjecting the ultraviolet curable composition to a curing treatment between the barrier layer and the cover layer. The glass transition temperature of this adhesive layer is 25 ° C. or lower. If the glass transition temperature of the adhesive layer exceeds 25 ° C., the adhesive layer is not deformed well due to the formation of voids in the recording layer, and it becomes difficult to obtain sufficient recording characteristics. In order to obtain excellent recording characteristics, the glass transition temperature of the adhesive layer is preferably 0 ° C. or lower, more preferably −10 ° C. or lower. In terms of storage stability, the glass transition temperature of the adhesive layer is preferably −100 ° C. or higher. That is, the glass transition temperature of the adhesive layer used in the present invention is preferably in the range of 25 ° C to -100 ° C, more preferably 0 ° C to -100 ° C, and further preferably -10 ° C to -100 ° C. .
The glass transition temperature (Tg) in the present invention is a dynamic viscoelasticity measuring device (for example, DVA-200 manufactured by IT Measurement Control Co., Ltd.) with a frequency of 1 Hz, when measured in a tensile mode or a shear mode. It represents the maximum value of loss tangent (tan δ) determined by elastic behavior.
Moreover, as a glass transition temperature, the glass transition temperature calculated | required by differential scanning calorimetry (DSC) (henceforth "glass transition temperature (DSC)") with the glass transition temperature calculated | required from the said dynamic viscoelastic behavior. Is also known. The glass transition temperature of the adhesive layer used in the present invention is preferably 10 ° C. or less, more preferably −15 to −125 ° C., and −35 to −125 ° C. as the glass transition temperature (DSC). More preferably.
The glass transition temperature of the adhesive layer can be controlled by the formulation of the ultraviolet curable composition used for forming the adhesive layer, the type of the ultraviolet curable compound contained in the composition, the curing conditions, and the like.

本発明では、貯蔵弾性率を、ガラス転移温度と同様に接着層の硬軟の指標として用いることもできる。前記接着層の引張りモードによる貯蔵弾性率E'は、30℃において、30MPa以下であることが好ましく、より好ましくは15MPa以下、さらに好ましくは10MPa以下である。また、前記接着層の貯蔵弾性率は、保存性の観点から0.001MPa以上であることが好ましい。すなわち、前記接着層の貯蔵弾性率は30MPa〜0.001MPaの範囲であることが好ましく、より好ましくは15MPa〜0.010MPa、さらに好ましくは10MPa〜0.015MPaである。前記接着層のせん断モードによる貯蔵弾性率G'は、30℃において、10MPa以下であることが好ましく、より好ましくは5MPa以下、さらに好ましくは3.3MPa以下である。また、前記接着層の貯蔵弾性率は、保存性の観点から0.00033MPa以上であることが好ましい。すなわち、前記接着層の貯蔵弾性率は10MPa〜0.00033MPaの範囲であることが好ましく、より好ましくは5MPa〜0.0033MPa、さらに好ましくは3.3MPa〜0.005MPaである。なお変形に際して体積変化のない場合にはE‘=3G’の関係式が成り立つことが一般に知られている。前記貯蔵弾性率は、ガラス転移温度と同様に、動的粘弾性測定装置(例えばアイティー計測制御(株)製DVA−200)による周波数1Hzでの測定で得られる動的粘弾性挙動から求めることができる。さらに動的粘弾性挙動によって求められる損失正接(tanδ)は、周波数1Hz、引張りモードまたはせん断モードで測定した時に30℃において2.0〜0.001の範囲であることが好ましく、より好ましくは1.5〜0.002の範囲であり、さらに好ましくは1.0〜0.003の範囲である。   In the present invention, the storage elastic modulus can also be used as an indicator of the hardness of the adhesive layer, similarly to the glass transition temperature. The storage elastic modulus E ′ in the tensile mode of the adhesive layer is preferably 30 MPa or less, more preferably 15 MPa or less, and further preferably 10 MPa or less at 30 ° C. The storage elastic modulus of the adhesive layer is preferably 0.001 MPa or more from the viewpoint of storage stability. That is, the storage elastic modulus of the adhesive layer is preferably in the range of 30 MPa to 0.001 MPa, more preferably 15 MPa to 0.010 MPa, and still more preferably 10 MPa to 0.015 MPa. The storage elastic modulus G ′ of the adhesive layer according to the shear mode is preferably 10 MPa or less, more preferably 5 MPa or less, and further preferably 3.3 MPa or less at 30 ° C. The storage elastic modulus of the adhesive layer is preferably 0.00033 MPa or more from the viewpoint of storage stability. That is, the storage elastic modulus of the adhesive layer is preferably in the range of 10 MPa to 0.00033 MPa, more preferably 5 MPa to 0.0033 MPa, and still more preferably 3.3 MPa to 0.005 MPa. It is generally known that the relational expression E ′ = 3G ′ holds when there is no volume change upon deformation. The storage elastic modulus is obtained from a dynamic viscoelastic behavior obtained by measurement at a frequency of 1 Hz by a dynamic viscoelasticity measuring apparatus (for example, DVA-200 manufactured by IT Measurement Control Co., Ltd.), similarly to the glass transition temperature. Can do. Further, the loss tangent (tan δ) determined by the dynamic viscoelastic behavior is preferably in the range of 2.0 to 0.001 at 30 ° C., more preferably 1 when measured in a frequency of 1 Hz, tensile mode or shear mode. The range is from 0.5 to 0.002, and more preferably from 1.0 to 0.003.

紫外線硬化型組成物
記録層形成のために用いられる紫外線硬化型組成物は、紫外線硬化型化合物および任意に後述する各種成分を含む塗布液である。
The ultraviolet curable composition used for forming the ultraviolet curable composition recording layer is a coating liquid containing an ultraviolet curable compound and optionally various components described later.

紫外線硬化型化合物としては、単官能(メタ)アクリレートや多官能(メタ)アクリレート等の重合性モノマー成分を用いることができる。これらは各々、単独または2種以上組み合わせて使用することができる。尚、本発明では、下記一般式(A)のアクリレートと下記一般式(B)のメタアクリレートとを併せて(メタ)アクリレートと称し、同様に、アクリル酸とメタアクリル酸とを併せて(メタ)アクリル酸と称する。

Figure 2008300007
Figure 2008300007
[一般式(A)、(B)中、R1は置換基を表す。] As the ultraviolet curable compound, a polymerizable monomer component such as monofunctional (meth) acrylate or polyfunctional (meth) acrylate can be used. Each of these can be used alone or in combination of two or more. In the present invention, the acrylate of the following general formula (A) and the methacrylate of the following general formula (B) are collectively referred to as (meth) acrylate, and similarly, acrylic acid and methacrylic acid are combined (meth ) Called acrylic acid.
Figure 2008300007
Figure 2008300007
[In General Formulas (A) and (B), R 1 represents a substituent. ]

本発明に使用可能な重合性モノマーとしては例えば以下のものが挙げられる。単官能(メタ)アクリレートとしては例えば、一般式(A)、(B)において置換基R1がメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、sec−ブチル基、ter−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、2−エチルヘキシル基、オクチル基、ノニル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、メトキシエチル基、ブトキシエチル基、フェノキシエチル基、ノニルフェノキシエチル基、テトラヒドロフルフリル基、グリシジル基、2−ヒドロキシエチル基、2−ヒドロキシプロピル基、3−クロロ−2−ヒドロキシプロピル基、ジメチルアミノエチル基、ジエチルアミノエチル基、ノニルフェノキシエチルテトラヒドロフルフリル基、カプロラクトン変性テトラヒドロフルフリル基、イソボルニル基、ジシクロペンタニル基、ジシクロペンテニル基、ジシクロペンテニロキシエチル基等の置換基を有する(メタ)アクリレート等、さらに、(メタ)アクリル酸が挙げられる。
好ましい置換基R1としてはブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、2−エチルヘキシル基、オクチル基、ノニル基、ドデシル基、が挙げられ、さらに好ましいモノマーとしてはブチルアクリレート、ヘキシルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレート、オクチルアクリレート、ノニルアクリレート、ドデシルメタクリレートが挙げられる。
Examples of the polymerizable monomer that can be used in the present invention include the following. As the monofunctional (meth) acrylate, for example, in the general formulas (A) and (B), the substituent R 1 is methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, sec-butyl group, ter-butyl group, pentyl group, Hexyl, heptyl, 2-ethylhexyl, octyl, nonyl, dodecyl, hexadecyl, octadecyl, cyclohexyl, benzyl, methoxyethyl, butoxyethyl, phenoxyethyl, nonylphenoxyethyl, tetrahydro Furfuryl group, glycidyl group, 2-hydroxyethyl group, 2-hydroxypropyl group, 3-chloro-2-hydroxypropyl group, dimethylaminoethyl group, diethylaminoethyl group, nonylphenoxyethyltetrahydrofurfuryl group, caprolactone-modified tetrahydrofurfur Furyl group, isobornyl group (Meth) acrylate having a substituent such as dicyclopentanyl group, dicyclopentenyl group, dicyclopentenyloxyethyl group and the like, and (meth) acrylic acid.
Preferred substituents R 1 include butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, 2-ethylhexyl group, octyl group, nonyl group, dodecyl group, and more preferred monomers are butyl acrylate, hexyl acrylate, 2- Examples include ethylhexyl acrylate, octyl acrylate, nonyl acrylate, and dodecyl methacrylate.

また、多官能(メタ)アクリレートとしては、例えば、1,3−ブチレングリコール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、1,8−オクタンジオール、1,9−ノナンジオール、トリシクロデカンジメタノール、エチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール等のジアクリレート、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートのジ(メタ)アクリレート、 ネオペンチルグリコール1モルに4モル以上のエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得たジオールのジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールA1モルに2モルのエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得たジオールのジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパン1モルに3モル以上のエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得たトリオールのジまたはトリ(メタ)アクリレート、ビスフェノールA1モルに4モル以上のエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得たジオールのジ(メタ)アクリレート、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートトリ(メタ)アクリレート、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレート1モルに3モル以上のエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得たトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリまたはテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトール1モルに4モル以上のエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得たトリまたはテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールのポリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトール1モルに6モル以上のエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得たポリ(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性トリス[(メタ)アクリロキシエチル]イソシアヌレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールのポリ(メタ)アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールのポリ(メタ)アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレート、カプロラクトン変性ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレート、エチレンオキサイド変性リン酸(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド変性アルキル化リン酸(メタ)アクリレート等が挙げられる。
好ましくはビスフェノールA1モルに4モル以上のエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得たジオールのジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパン1モルに3モル以上のエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得たトリオールのジまたはトリ(メタ)アクリレート、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレート1モルに3モル以上のエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得たトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトール1モルに4モル以上のエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得たトリまたはテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトール1モルに6モル以上のエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得たポリ(メタ)アクリレートであり、より好ましくはビスフェノールA1モルに4モル以上のエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得たジオールのジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパン1モルに3モル以上のエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得たトリオールのジまたはトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトール1モルに4モル以上のエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得たトリまたはテトラ(メタ)アクリレートである。
Examples of the polyfunctional (meth) acrylate include 1,3-butylene glycol, 1,4-butanediol, 1,5-pentanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, and 1,6-hexane. Diacrylates such as diol, neopentyl glycol, 1,8-octanediol, 1,9-nonanediol, tricyclodecane dimethanol, ethylene glycol, polyethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol, polypropylene glycol, Di (meth) acrylate of tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate, di (meth) acrylate of diol obtained by adding 4 mol or more of ethylene oxide or propylene oxide to 1 mol of neopentyl glycol, Di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate of diol obtained by adding 2 mol of ethylene oxide or propylene oxide to 1 mol of Sphenol A, 3 mol or more of ethylene oxide or propylene per 1 mol of trimethylolpropane Diol or tri (meth) acrylate of triol obtained by adding oxide, di (meth) acrylate of diol obtained by adding 4 mol or more of ethylene oxide or propylene oxide to 1 mol of bisphenol A, tris (2-hydroxyethyl) ) Tri (meth) acrylate obtained by adding 3 mol or more of ethylene oxide or propylene oxide to 1 mol of isocyanurate tri (meth) acrylate and tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate , Pentaerythritol tri- or tetra (meth) acrylate, tri- or tetra (meth) acrylate obtained by adding 4 mol or more of ethylene oxide or propylene oxide to 1 mol of pentaerythritol, poly (meth) acrylate of dipentaerythritol , Poly (meth) acrylate obtained by adding 6 mol or more of ethylene oxide or propylene oxide to 1 mol of dipentaerythritol, caprolactone-modified tris [(meth) acryloxyethyl] isocyanurate, alkyl-modified dipentaerythritol poly ( (Meth) acrylate, caprolactone-modified dipentaerythritol poly (meth) acrylate, hydroxypivalate neopentyl glycol diacrylate, caprolactone-modified hydro Shipibarin acid neopentyl glycol diacrylate, ethylene oxide-modified phosphoric acid (meth) acrylate, ethylene oxide-modified alkylated phosphoric acid (meth) acrylate.
Preferably, obtained by adding 4 mol or more of ethylene oxide or propylene oxide to 1 mol of bisphenol A, and adding 3 mol or more of ethylene oxide or propylene oxide to 1 mol of trimethylolpropane. Triol di- or tri (meth) acrylate, tri (meth) acrylate obtained by adding 3 mol or more of ethylene oxide or propylene oxide to 1 mol of tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate, 4 mol of 1 mol of pentaerythritol Tri- or tetra (meth) acrylate obtained by adding the above ethylene oxide or propylene oxide, 6 mol or more of ethylene oxide or propylene oxide per 1 mol of dipentaerythritol Poly (meth) acrylate obtained by addition, and more preferably, di (meth) acrylate of diol obtained by adding 4 moles or more of ethylene oxide or propylene oxide to 1 mole of bisphenol A, 3 moles of 1 mole of trimethylolpropane. Diol or tri (meth) acrylate of triol obtained by adding more than mol of ethylene oxide or propylene oxide, tri or tetra (meth) obtained by adding 4 mol or more of ethylene oxide or propylene oxide to 1 mol of pentaerythritol Acrylate.

また、N−ビニル−2−ピロリドン、アクリロイルモルホリン、ビニルイミダゾール、N−ビニルカプロラクタム、N−ビニルホルムアミド、酢酸ビニル、(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリルアミド、N−ヒドロキシメチルアクリルアミドまたはN−ヒドロキシエチルアクリルアミドおよびそれらのアルキルエーテル化合物等も使用できる。   N-vinyl-2-pyrrolidone, acryloylmorpholine, vinylimidazole, N-vinylcaprolactam, N-vinylformamide, vinyl acetate, (meth) acrylic acid, (meth) acrylamide, N-hydroxymethylacrylamide or N-hydroxyethyl Acrylamide and their alkyl ether compounds can also be used.

更に、紫外線硬化型化合物としては、重合性オリゴマーを使用することもできる。重合性オリゴマーとしては、ポリエステル(メタ)アクリレート、ポリエーテル(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート等が挙げられる。   Furthermore, a polymerizable oligomer can also be used as the ultraviolet curable compound. Examples of the polymerizable oligomer include polyester (meth) acrylate, polyether (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, and urethane (meth) acrylate.

ガラス転移温度25℃以下の接着層を得るためには、紫外線硬化型組成物100質量部中、単官能(メタ)アクリレートが20〜99質量部、多官能(メタ)アクリレートが1〜80質量部、好ましくは単官能(メタ)アクリレートが30〜99質量部、多官能(メタ)アクリレートが1〜70質量部、より好ましくは単官能(メタ)アクリレートが40〜99質量部、多官能(メタ)アクリレートが1〜60質量部である。特に好ましくは前記多官能(メタ)アクリレートのうち3官能以上の(メタ)アクリレートが5質量部未満であることが好ましい。   In order to obtain an adhesive layer having a glass transition temperature of 25 ° C. or lower, monofunctional (meth) acrylate is 20 to 99 parts by mass and polyfunctional (meth) acrylate is 1 to 80 parts by mass in 100 parts by mass of the ultraviolet curable composition. The monofunctional (meth) acrylate is preferably 30 to 99 parts by mass, the polyfunctional (meth) acrylate is 1 to 70 parts by mass, more preferably the monofunctional (meth) acrylate is 40 to 99 parts by mass, and the polyfunctional (meth). An acrylate is 1-60 mass parts. Particularly preferably, the polyfunctional (meth) acrylate has a tri- or higher functional (meth) acrylate of less than 5 parts by mass.

紫外線硬化型組成物には、一般に光重合開始剤が添加される。光重合開始剤は、用いる重合性モノマーおよび/または重合性オリゴマーに代表される紫外線硬化性化合物が硬化できるものであればよく、特に限定されるものではない。光重合開始剤としては、分子開裂型または水素引き抜き型のものが本発明に好適である。   In general, a photopolymerization initiator is added to the ultraviolet curable composition. The photopolymerization initiator is not particularly limited as long as it can cure an ultraviolet curable compound represented by a polymerizable monomer and / or a polymerizable oligomer to be used. As the photopolymerization initiator, a molecular cleavage type or a hydrogen abstraction type is suitable for the present invention.

光重合開始剤としては、ベンゾインイソブチルエーテル、2,4−ジエチルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、ベンジル、2、2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタン−1−オン、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチルペンチルホスフィンオキシド等が好適であり、更にこれら以外の分子開裂型のものとして、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾイルエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オン、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オンおよび2−メチル−4'−(メチルチオ)−2−モルホリノプロピオフェノン等を併用してもよいし、更に水素引き抜き型光重合開始剤である、ベンゾフェノン、4−フェニルベンゾフェノン、イソフタロフェノン、4−ベンゾイル−4′−メチル−ジフェニルスルフイド等も併用できる。
好ましくは2,4−ジエチルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2、2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−メチル−4'−(メチルチオ)−2−モルホリノプロピオフェノン、4−フェニルベンゾフェノンであり、より好ましくは2−イソプロピルチオキサントン、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−メチル−4'−(メチルチオ)−2−モルホリノプロピオフェノン、4−フェニルベンゾフェノンである。
As photopolymerization initiators, benzoin isobutyl ether, 2,4-diethylthioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, benzyl, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenyl Phosphine oxide, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butan-1-one, bis (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethylpentylphosphine oxide, etc. Further, other molecular cleavage types such as 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, benzoyl ethyl ether, benzyl dimethyl ketal, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-propan-1-one, 1- (4-Isopro Ruphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropan-1-one and 2-methyl-4 ′-(methylthio) -2-morpholinopropiophenone may be used in combination, and a hydrogen abstraction type photopolymerization initiator. Benzophenone, 4-phenylbenzophenone, isophthalophenone, 4-benzoyl-4'-methyl-diphenylsulfide and the like can be used together.
Preferably, 2,4-diethylthioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2 -Methyl-4 '-(methylthio) -2-morpholinopropiophenone, 4-phenylbenzophenone, more preferably 2-isopropylthioxanthone, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone 2-methyl-4 ′-(methylthio) -2-morpholinopropiophenone, 4-phenylbenzophenone.

また上記光重合開始剤に対し、増感剤として、例えば、トリエチルアミン、メチルジエタノールアミン、トリエタノールアミン、p−ジエチルアミノアセトフェノン、p−ジメチルアミノアセトフェノン、p−ジメチルアミノ安息香酸エチル、p−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、N,N−ジメチルベンジルアミンおよび4,4'−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン等の、前述重合性成分と付加重合反応を起こさないアミン類を併用することもできる。勿論、上記光重合開始剤や増感剤は、硬化型成分への溶解性に優れ、紫外線透過性を阻害しないものを選択して用いることが好ましい。   Further, as a sensitizer for the photopolymerization initiator, for example, triethylamine, methyldiethanolamine, triethanolamine, p-diethylaminoacetophenone, p-dimethylaminoacetophenone, p-dimethylaminobenzoic acid ethyl, p-dimethylaminobenzoic acid. Amines that do not cause an addition polymerization reaction may be used in combination with the aforementioned polymerizable components, such as isoamyl, N, N-dimethylbenzylamine, and 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone. Of course, it is preferable to select and use the photopolymerization initiator and the sensitizer that are excellent in solubility in the curable component and do not inhibit the ultraviolet light transmittance.

紫外線硬化型組成物としては、常温〜40℃において、液状であるものを用いることが好ましい。溶媒は用いないことが好ましく、用いたとしても極力少量に留めることが好ましい。また、前記組成物の塗布をスピンコーターで行う場合には、粘度を20〜1000mPa・sとなるように調製し、30〜700mPa・sとなるように調製することが好ましく、40〜500mPa・sとなるように調製することがより好ましい。   As the ultraviolet curable composition, it is preferable to use a liquid composition at room temperature to 40 ° C. It is preferable not to use a solvent, and even if it is used, it is preferable to keep it as small as possible. When the composition is applied with a spin coater, the viscosity is preferably adjusted to 20 to 1000 mPa · s, and preferably adjusted to 30 to 700 mPa · s, preferably 40 to 500 mPa · s. It is more preferable to prepare so that.

また、粘度調整のために、増粘剤として、質量平均分子量1万以上のポリマーを用いることができる。少量の添加で所望の粘度とするためには、より高分子量のポリマー、すなわち質量平均分子量10万以上のポリマーが好ましく、質量平均分子量100万以上のポリマーを用いるとさらに好ましい。   In order to adjust the viscosity, a polymer having a mass average molecular weight of 10,000 or more can be used as a thickener. In order to obtain a desired viscosity with a small amount of addition, a higher molecular weight polymer, that is, a polymer having a mass average molecular weight of 100,000 or more is preferable, and a polymer having a mass average molecular weight of 1,000,000 or more is more preferable.

また、紫外線硬化型組成物には、必要であれば、さらにその他の添加剤として、熱重合禁止剤、ヒンダードフェノール、ヒンダードアミン、ホスファイト等に代表される酸化防止剤、可塑剤およびエポキシシラン、メルカプトシラン、(メタ)アクリルシラン等に代表されるシランカップリング剤等を、各種特性を改良する目的で配合することもできる。これらは、硬化型成分への溶解性に優れたもの、紫外線透過性を阻害しないものを選択して用いることが好ましい。なお、前記紫外線硬化型化合物としては、市販品を用いることもできる。具体的には、例えば大日本インキ社製SD−661を挙げることができる。   In addition, the ultraviolet curable composition, if necessary, further includes other additives such as thermal polymerization inhibitors, antioxidants typified by hindered phenols, hindered amines, phosphites, plasticizers, and epoxy silanes, Silane coupling agents represented by mercaptosilane, (meth) acrylic silane and the like can be blended for the purpose of improving various properties. It is preferable to select and use those that are excellent in solubility in a curable component and those that do not impair ultraviolet light transmittance. In addition, a commercial item can also be used as the said ultraviolet curable compound. Specifically, for example, SD-661 manufactured by Dainippon Ink Co., Ltd. can be mentioned.

接着層形成のために使用される紫外線硬化型組成物の詳細は、先に説明した通りである。接着層の形成方法は特に限定されないが、バリア層の表面(被貼り合わせ面)上に、紫外線硬化型組成物を所定量塗布し、その上にカバー層を載置した後、スピンコートにより接着剤を、被貼り合わせ面とカバー層との間に均一になるように広げた後、カバー層側から紫外線を照射して硬化処理を施すことが好ましい。その照射量は、200mJ/cm2超とすることが好ましい。より好ましくは200〜2000mJ/cm2の範囲である。硬化に使用するUVランプとしては、例えばXenon Corporation社製4.2inch-SPIRAL LAMPを用いることができる。紫外線照射時のランプ面とサンプル面との間の距離は適宜設定することが好ましい。 The details of the ultraviolet curable composition used for forming the adhesive layer are as described above. The method of forming the adhesive layer is not particularly limited, but a predetermined amount of an ultraviolet curable composition is applied on the surface (bonded surface) of the barrier layer, and a cover layer is placed thereon, followed by spin coating. It is preferable to spread the agent so that it is uniform between the surface to be bonded and the cover layer, and then irradiate ultraviolet rays from the cover layer side to perform a curing treatment. The irradiation amount is preferably more than 200 mJ / cm 2 . More preferably, it is the range of 200-2000 mJ / cm < 2 >. As a UV lamp used for curing, for example, 4.2 inch-SPIRAL LAMP manufactured by Xenon Corporation can be used. It is preferable to appropriately set the distance between the lamp surface and the sample surface during ultraviolet irradiation.

紫外線硬化型組成物が塗布された媒体をUV照射位置へ移動させる(例えばスピンテーブルからUV照射テーブルへの移動させる)ためには、媒体の外周部分または内周部分で基板を保持して持ち上げて移動させることが望ましい。吸着などの方法で上から媒体を支持して持ち上げると、紫外線硬化型組成物が未硬化であるために媒体が変形したり、接着剤層に気泡が混入したりして、接着剤層の膜厚変動や欠陥の原因となる可能性がある。外周部を支持して移動する場合においては、支持部材を定期的に清掃することが好ましい。外周部はスピン時に振切られた未硬化の紫外線硬化型組成物が外周縁部に付着していることがあり、支持部材に付着することがある。繰り返し同じ支持部材で媒体を移動する時に、支持部材から媒体へと付着して欠陥を生じる可能性がある。
また、UV照射位置(例えばUV照射テーブル上)では、媒体を支持する部位として、基板(媒体)の内周部、外周部または中周部などの中から一つの部位、或いは複数の部位を支持することができる。プレート状の支持部材で全面を均一に支持してもよい。複数の部位を支持する場合には、各々の部位の支持高さを変更することができる。これは、例えば内周のみを支持した場合に、支持されていない媒体外周部が自重で下に垂れ、その形状で硬化されることで、硬化後の媒体の反りが生じる場合に、外周部も支持して垂れを抑制することで硬化後の反りを抑制するような場合であり、各支持部材の高さを調整して硬化後の媒体形状を調整する効果が期待できる。
In order to move the medium coated with the ultraviolet curable composition to the UV irradiation position (for example, move from the spin table to the UV irradiation table), the substrate is held and lifted at the outer peripheral part or inner peripheral part of the medium. It is desirable to move it. When the medium is supported and lifted from the top by a method such as adsorption, the medium is deformed because the UV curable composition is uncured, or bubbles are mixed into the adhesive layer, resulting in a film of the adhesive layer. It may cause thickness fluctuations and defects. In the case of moving while supporting the outer peripheral portion, it is preferable to periodically clean the support member. In the outer peripheral portion, an uncured ultraviolet curable composition shaken off during spinning may adhere to the outer peripheral edge portion and may adhere to the support member. When the medium is repeatedly moved by the same support member, it may adhere to the medium from the support member and cause a defect.
In addition, at the UV irradiation position (for example, on the UV irradiation table), as a part for supporting the medium, one part or a plurality of parts are supported from among the inner peripheral part, outer peripheral part or middle peripheral part of the substrate (medium). can do. The entire surface may be uniformly supported by a plate-like support member. In the case of supporting a plurality of parts, the support height of each part can be changed. This is because, for example, when only the inner periphery is supported, the unsupported medium outer periphery hangs down under its own weight and is cured in that shape, so that when the medium is warped after curing, the outer periphery also This is a case where warping after curing is suppressed by supporting and suppressing sagging, and the effect of adjusting the media shape after curing by adjusting the height of each supporting member can be expected.

紫外線硬化処理は、硬化塗膜のゲル分率が90%以上となるように行うことが好ましい。より好ましくは92%以上、さらに好ましくは95%以上、最も好ましくは100%である。
ゲル分率は、硬化の程度を示す指標であり、数値が高いほど硬化が進行していることを示し、90%以上であれば硬化が十分に進行したと判断することができる。ゲル分率は、以下の方法により求めることができる。
硬化処理済みの塗膜からテストピースを切り取り、ゲル分率測定用試料とする。試料の質量(以下、W1と記す)を測定し、W1の100倍の質量のメチルエチルケトン液中に浸漬した後、80℃の加熱炉で8時間加熱し、未硬化成分を溶出させる。加熱終了後、10分以内に溶液の上澄み液を除去し、25℃50%の環境で48時間以上自然乾燥させた後、100℃の加熱炉で3時間加熱乾燥して未硬化成分溶出後のサンプルを得、未硬化成分溶出後の質量(以下、W2と記す)を測定する。上澄み液は、静置させた状態でスポイトなどを用いて吸取る形で除去することができる。上澄み液は8〜9割を除去し、残りは自然乾燥、加熱乾燥で揮発させる。上記W1、W2から以下の式によりゲル分率を算出する。
ゲル分率(%)=100−(W1−W2)/W1×100
The ultraviolet curing treatment is preferably performed so that the gel fraction of the cured coating film is 90% or more. More preferably, it is 92% or more, more preferably 95% or more, and most preferably 100%.
The gel fraction is an index indicating the degree of curing. A higher value indicates that the curing is progressing, and if it is 90% or more, it can be determined that the curing has sufficiently progressed. The gel fraction can be determined by the following method.
A test piece is cut out from the cured coating film to obtain a sample for gel fraction measurement. The mass of the sample (hereinafter referred to as W1) is measured, immersed in a methyl ethyl ketone solution having a mass 100 times that of W1, and then heated in a heating furnace at 80 ° C. for 8 hours to elute the uncured components. After the heating is completed, the supernatant of the solution is removed within 10 minutes, and it is naturally dried for 48 hours or more in an environment of 25 ° C. and 50%, and then heated and dried in a heating furnace at 100 ° C. for 3 hours. A sample is obtained, and the mass after elution of uncured components (hereinafter referred to as W2) is measured. The supernatant liquid can be removed in the form of suction using a dropper or the like in a state of standing. 80 to 90% of the supernatant is removed, and the remainder is volatilized by natural drying or heat drying. The gel fraction is calculated from the above W1 and W2 by the following formula.
Gel fraction (%) = 100− (W1−W2) / W1 × 100

接着層の厚さは、0.1〜100μmの範囲であることが好ましく、より好ましくは0.5〜50μmの範囲、更に好ましくは1〜30μmの範囲である。   The thickness of the adhesive layer is preferably in the range of 0.1 to 100 μm, more preferably in the range of 0.5 to 50 μm, and still more preferably in the range of 1 to 30 μm.

バリア層
バリア層は、記録層の保存性向上、記録層とカバー層との接着性向上、反射率調整、熱伝導率調整等のために設けることができる。
バリア層に用いられる材料としては、記録および再生に用いられる光を透過する材料であり、上記の機能を発現し得るものであれば、特に制限されるものではないが、例えば、一般的には、ガスや水分の透過性の低い材料、Ag合金などの反射層材料との接触により腐食を生じない材料、湿熱環境での腐食が生じない材料を用いることが好ましく、誘電体であることが更に好ましい。
具体的には、Zn、Si、Ti、Te、Sn、Mo、Ge、Nb、Ta等の窒化物、酸化物、炭化物、硫化物からなる材料が好ましく、MoO2、GeO2、TeO、SiO2、TiO2、ZnO、SnO2、ZnO−Ga23、Nb25、Ta25が好ましく、SnO2、ZnO−Ga23、SiO2、Nb25、Ta25がより好ましい。
Barrier layer The barrier layer can be provided for improving the storage stability of the recording layer, improving the adhesion between the recording layer and the cover layer, adjusting the reflectance, adjusting the thermal conductivity, and the like.
The material used for the barrier layer is not particularly limited as long as it is a material that transmits light used for recording and reproduction and can express the above functions. For example, in general, It is preferable to use a material that does not cause corrosion due to contact with a reflective layer material such as a gas or moisture, a material that does not cause corrosion in a wet heat environment, and a dielectric material. preferable.
Specifically, a material made of nitride, oxide, carbide, sulfide such as Zn, Si, Ti, Te, Sn, Mo, Ge, Nb, Ta is preferable. MoO 2 , GeO 2 , TeO, SiO 2 , TiO 2 , ZnO, SnO 2 , ZnO—Ga 2 O 3 , Nb 2 O 5 , Ta 2 O 5 are preferable, SnO 2 , ZnO—Ga 2 O 3 , SiO 2 , Nb 2 O 5 , Ta 2 O 5 Is more preferable.

また、バリア層は、真空蒸着、DCスパッタリング、RFスパッタリング、イオンプレーティングなどの真空成膜法により形成することができる。中でも、スパッタリングを用いることがより好ましい。
バリア層の厚さは、1〜200nmの範囲が好ましく、2〜100nmの範囲がより好ましく、3〜50nmの範囲が更に好ましい。
The barrier layer can be formed by a vacuum film forming method such as vacuum deposition, DC sputtering, RF sputtering, or ion plating. Among these, it is more preferable to use sputtering.
The thickness of the barrier layer is preferably in the range of 1 to 200 nm, more preferably in the range of 2 to 100 nm, and still more preferably in the range of 3 to 50 nm.

カバー層
カバー層は、バリア層上に、接着剤や粘着材を介して貼り合わされる。
カバー層としては、透明な材質のフィルムであれば、特に限定されないが、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂;ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂;エポキシ樹脂;アモルファスポリオレフィン;ポリエステル;三酢酸セルロース等を使用することが好ましく、中でも、ポリカーボネートまたは三酢酸セルロースを使用することがより好ましい。
なお、「透明」とは、記録および再生に用いられる光に対して、透過率80%以上であることを意味する。また、本発明の光情報記録媒体は、好ましくはバリア層上に塗布された紫外線硬化型組成物に対し、カバー層を介して紫外線を照射することによって硬化処理を施す。よって、カバー層は紫外線透過性を有するものであることが好ましい。具体的には、紫外線硬化型組成物の硬化のために照射される紫外線に対して80%以上の透過率を有することが好ましい。
Cover layer The cover layer is bonded onto the barrier layer via an adhesive or an adhesive.
The cover layer is not particularly limited as long as it is a transparent film, but is not limited to acrylic resins such as polycarbonate and polymethyl methacrylate; vinyl chloride resins such as polyvinyl chloride and vinyl chloride copolymers; epoxy resins; amorphous polyolefins Polyester; cellulose triacetate or the like is preferably used, and among them, polycarbonate or cellulose triacetate is more preferably used.
Note that “transparent” means that the transmittance is 80% or more with respect to light used for recording and reproduction. In the optical information recording medium of the present invention, preferably, the ultraviolet curable composition applied on the barrier layer is cured by irradiating with ultraviolet rays through the cover layer. Therefore, it is preferable that the cover layer has ultraviolet transparency. Specifically, it is preferable to have a transmittance of 80% or more with respect to the ultraviolet rays irradiated for curing the ultraviolet curable composition.

また、カバー層は、本発明の効果を妨げない範囲において、種々の添加剤が含有されていてもよい。例えば、波長400nm以下の光をカットするためのUV吸収剤および/または500nm以上の光をカットするための色素が含有されていてもよい。
更に、カバー層の表面物性としては、表面粗さが2次元粗さパラメータおよび3次元粗さパラメータのいずれも5nm以下であることが好ましい。
また、記録および再生に用いられる光の集光度の観点から、カバー層の複屈折は10nm以下であることが好ましい。
Further, the cover layer may contain various additives as long as the effects of the present invention are not hindered. For example, a UV absorber for cutting light having a wavelength of 400 nm or less and / or a dye for cutting light having a wavelength of 500 nm or more may be contained.
Further, as the surface physical properties of the cover layer, it is preferable that the surface roughness is 5 nm or less for both the two-dimensional roughness parameter and the three-dimensional roughness parameter.
Further, from the viewpoint of the concentration of light used for recording and reproduction, the birefringence of the cover layer is preferably 10 nm or less.

カバー層の厚さは、記録および再生のために照射されるレーザー光の波長やNA、外線硬化型組成物の硬化のために照射される紫外線の波長等により、適宜、規定することができるが、本発明においては、0.01〜0.5mmの範囲内であることが好ましく、0.05〜0.12mmの範囲であることがより好ましい。
また、カバー層と接着層を合わせた総厚は、0.09〜0.11mmであることが好ましく、0.095〜0.105mmであることがより好ましい。
なお、カバー層の光入射面には、光情報記録媒体の製造時に、光入射面が傷つくことを防止するための保護層(後述する図1に示す態様ではハードコート層44)が設けられていてもよい。
The thickness of the cover layer, the wavelength and the NA of the the laser beam irradiation for recording and reproducing, the wavelength or the like of the ultraviolet rays irradiated for curing the ultraviolet-curable composition, as appropriate, may be defined However, in the present invention, it is preferably in the range of 0.01 to 0.5 mm, and more preferably in the range of 0.05 to 0.12 mm.
Further, the total thickness of the cover layer and the adhesive layer is preferably 0.09 to 0.11 mm, and more preferably 0.095 to 0.105 mm.
The light incident surface of the cover layer is provided with a protective layer (a hard coat layer 44 in the embodiment shown in FIG. 1 described later) for preventing the light incident surface from being damaged during the production of the optical information recording medium. May be.

またカバー層は、UV硬化樹脂を利用してスピンコーティング法により形成してもよい。   The cover layer may be formed by spin coating using a UV curable resin.

その他の層
本発明の光情報記録媒体は、本発明の効果を損なわない範囲においては、上記の必須の層に加え、他の任意の層を有していてもよい。他の任意の層としては、例えば、基板の裏面(追記型記録層が形成された側と逆側の非形成面側)に形成される、所望の画像を有するレーベル層や、反射層と記録層との間に設けられる界面層などが挙げられる。ここで、前記レーベル層は、紫外線硬化樹脂、熱硬化性樹脂、および熱乾燥樹脂などを用いて形成することができる。
なお、上記した必須および任意の層はいずれも、単層でも、多層構造でもよい。
Other Layers The optical information recording medium of the present invention may have other arbitrary layers in addition to the essential layers as long as the effects of the present invention are not impaired. As other optional layers, for example, a label layer having a desired image formed on the back surface of the substrate (the non-formation surface side opposite to the side where the write-once recording layer is formed), a reflective layer and recording Examples thereof include an interface layer provided between the layers. Here, the label layer can be formed using an ultraviolet curable resin, a thermosetting resin, a heat drying resin, or the like.
The essential and optional layers described above may be a single layer or a multilayer structure.

本発明の光情報記録媒体に対してレーザー光を照射することにより、記録層に情報を記録することができる。光情報記録媒体に対する情報の記録は、記録層のレーザー光を照射された部分がその光学的特性を変えることによって行われる。光学的特性の変化は、記録層のレーザー光が照射された部分がその光を吸収して局所的に温度上昇し、物理的または化学的変化(例えばピットの生成)を生じることによってもたらされると考えられる。記録層に記録された情報の読み取り(再生)は、例えば記録用のレーザー光と同様の波長のレーザー光を照射することにより、記録層の光学的特性が変化した部位(記録部位)と変化しない部位(未記録部位)との反射率等の光学的特性の違いを検出することにより行うことができる。前述のように、本発明では、情報の記録は、好ましくは、レーザー光照射により前記フタロシアニン誘導体が熱分解し、それにより発生した気体によりピット内に空隙が形成されることによって行われる。より好ましくは、前記フタロシアニン誘導体がレーザー光を吸収することによって発熱し、それにより生じた熱によって該フタロシアニン誘導体中の置換基または色素骨格が分解して気体を発生する。これにより記録層中に空隙が形成され、レーザー光照射により空隙が形成された部分とレーザー光未照射部との間に大きな屈折率差を生じさせることができ、記録特性を高めることができると考えられる。前記レーザー光の波長は、390〜440nmであることが好ましい。本発明の光情報記録媒体への情報記録の詳細は後述する。   By irradiating the optical information recording medium of the present invention with laser light, information can be recorded on the recording layer. Information recording on the optical information recording medium is performed by changing the optical characteristics of the portion of the recording layer irradiated with the laser light. The change in optical properties is caused by the fact that the portion of the recording layer irradiated with the laser light absorbs the light and the temperature rises locally, causing a physical or chemical change (for example, generation of pits). Conceivable. Reading (reproduction) of information recorded on the recording layer is not changed from a portion (recording portion) where the optical characteristics of the recording layer are changed by irradiating laser light having the same wavelength as that of the recording laser light, for example. This can be done by detecting a difference in optical characteristics such as reflectance from a part (unrecorded part). As described above, in the present invention, recording of information is preferably performed by thermally decomposing the phthalocyanine derivative by laser light irradiation and forming voids in the pits by the generated gas. More preferably, the phthalocyanine derivative generates heat by absorbing laser light, and the heat generated thereby decomposes a substituent or a dye skeleton in the phthalocyanine derivative to generate a gas. As a result, voids are formed in the recording layer, and a large difference in refractive index can be generated between the portion where the voids are formed by laser light irradiation and the laser light non-irradiated portion, and the recording characteristics can be improved. Conceivable. The wavelength of the laser beam is preferably 390 to 440 nm. Details of information recording on the optical information recording medium of the present invention will be described later.

[情報記録方法]
更に、本発明は、本発明の光情報記録媒体へ、波長390〜440nmのレーザー光を照射することにより、記録層へ情報を記録する情報記録方法に関する。
[Information recording method]
Furthermore, the present invention relates to an information recording method for recording information on a recording layer by irradiating the optical information recording medium of the present invention with laser light having a wavelength of 390 to 440 nm.

記録光は波長390〜440nmのレーザー光であり、440nm以下の範囲の発振波長を有する半導体レーザー光が好適に用いられ、好ましい光源としては390〜440(更に好ましくは390〜415nm)の範囲の発振波長を有する青紫色半導体レーザー光、中心発振波長850nmの赤外半導体レーザー光を光導波路素子を使って半分の波長にした中心発振波長425nmの青紫色SHGレーザー光を挙げることができる。特に、記録密度の点で390〜415nmの範囲の発振波長を有する青紫色半導体レーザー光を用いることが好ましい。上記のように記録された情報の再生は、光情報記録媒体を上記と同一の定線速度で回転させながら半導体レーザー光をカバー層側から照射して、その反射光を検出することにより行うことができる。   The recording light is a laser light having a wavelength of 390 to 440 nm, and a semiconductor laser light having an oscillation wavelength in the range of 440 nm or less is suitably used, and a preferred light source is an oscillation in the range of 390 to 440 (more preferably 390 to 415 nm). A blue-violet semiconductor laser beam having a wavelength and a blue-violet SHG laser beam having a center oscillation wavelength of 425 nm, which is a half wavelength of an infrared semiconductor laser beam having a center oscillation wavelength of 850 nm using an optical waveguide device, can be given. In particular, it is preferable to use a blue-violet semiconductor laser beam having an oscillation wavelength in the range of 390 to 415 nm in terms of recording density. The information recorded as described above is reproduced by irradiating the semiconductor laser light from the cover layer side while rotating the optical information recording medium at the same constant linear speed as described above, and detecting the reflected light. Can do.

具体的には、図2に示す光情報記録媒体に対する情報の記録は、例えば次のように行われる。
まず、光情報記録媒体を一定の線速度(例えば0.5〜10m/秒)または一定の角速度にて回転させながら、カバー層16側から半導体レーザー光等の記録用のレーザー光46を、第一対物レンズ42(例えば開口数NAが0.85)を介して照射する。このレーザー光46の照射により、追記型記録層14がレーザー光46を吸収して局所的に温度上昇し、物理的または化学的変化(例えばピットの生成)が生じてその光学的特性を変えることにより、情報が記録されると考えられる。
その他の本発明の情報記録方法の詳細は、先に本発明の光情報記録媒体について説明した通りである。
Specifically, information recording on the optical information recording medium shown in FIG. 2 is performed as follows, for example.
First, while rotating the optical information recording medium at a constant linear velocity (for example, 0.5 to 10 m / second) or a constant angular velocity, a recording laser beam 46 such as a semiconductor laser beam is applied from the cover layer 16 side. Irradiation is performed through one objective lens 42 (for example, the numerical aperture NA is 0.85). By the irradiation of the laser beam 46, the write-once recording layer 14 absorbs the laser beam 46 and the temperature rises locally, causing a physical or chemical change (for example, generation of pits) to change its optical characteristics. Thus, it is considered that information is recorded.
The other details of the information recording method of the present invention are as described for the optical information recording medium of the present invention.

以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明は実施例に示す態様に限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. However, the present invention is not limited to the embodiments shown in the examples.

《紫外線硬化型組成物の調製》
接着層形成用接着剤として使用する紫外線硬化型組成物は、単官能モノマーに多官能モノマーおよび増粘剤を添加した後に、光重合開始剤を添加して暗所で攪拌し均一にすることにより調製することができる。以下に、紫外線硬化型組成物Fを例にとり調製方法を説明する。紫外線硬化型組成物A〜Eも同様にして得ることができる。
<< Preparation of UV-curable composition >>
The UV curable composition used as an adhesive for forming an adhesive layer is obtained by adding a polyfunctional monomer and a thickener to a monofunctional monomer, and then adding a photopolymerization initiator and stirring to make it uniform in the dark. Can be prepared. Hereinafter, the preparation method will be described by taking the ultraviolet curable composition F as an example. The ultraviolet curable compositions A to E can be obtained in the same manner.

1・調製例:紫外線硬化型組成物F
単官能モノマーとして2−エチルヘキシルアクリレート(21g:和光純薬工業株式会社製)に多官能モノマーとして、グリセリン1モルに40モルのエチレンオキサイドを付加した後にアクリル酸クロライドと反応せしめて得られた架橋剤(0.5g、新中村工業株式会社製NK ESTHER ASO 40EO)、さらに増粘剤としてポリブチルアクリレート(7g:アルドリッチ社製、Mw=101000、Mn=38000)、光重合開始剤として1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(0.5g:和光純薬工業株式会社製)を暗所で3時間攪拌し一晩放置して紫外線硬化型組成物Fを得た。
1. Preparation Example: UV curable composition F
Cross-linking agent obtained by reacting with acrylic acid chloride after adding 40 mol of ethylene oxide to 1 mol of glycerin as a polyfunctional monomer to 2-ethylhexyl acrylate (21 g: Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) as a monofunctional monomer (0.5 g, NK Esther ASO 40EO manufactured by Shin-Nakamura Kogyo Co., Ltd.), polybutyl acrylate (7 g: Aldrich, Mw = 101000, Mn = 38000) as a thickener, and 1-hydroxycyclohexyl as a photopolymerization initiator Phenyl ketone (0.5 g: Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was stirred in the dark for 3 hours and allowed to stand overnight to obtain an ultraviolet curable composition F.

2・粘度測定
得られた紫外線硬化型組成物A〜F、大日本インキ社製SD−640、SD−661について東機産業株式会社製R500型粘度計を用い、25℃での粘度を測定した。結果を表2に示す。
2. Viscosity Measurement Viscosity at 25 ° C. was measured using the R500 type viscometer manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd. for the obtained ultraviolet curable compositions A to F, Dainippon Ink & Co. SD-640 and SD-661. . The results are shown in Table 2.

≪光情報記録媒体の作製≫
(基板の作製)
厚さ1.1mm、外径120mm、内径15mmでスパイラル状のプリグルーブ(トラックピッチ:320nm、溝幅:グルーブ(凹部)幅190nm、溝深さ:47nm、溝傾斜角度:65°、ウォブル振幅:20nm)を有する、ポリカーボネート樹脂からなる射出成形基板を作製した。射出成型時に用いられたスタンパのマスタリングは、レーザーカッティング(351nm)を用いて行なわれた。
<< Production of optical information recording medium >>
(Production of substrate)
Thickness 1.1 mm, outer diameter 120 mm, inner diameter 15 mm, spiral pre-groove (track pitch: 320 nm, groove width: groove (recess) width 190 nm, groove depth: 47 nm, groove inclination angle: 65 °, wobble amplitude: An injection molded substrate made of polycarbonate resin having a thickness of 20 nm) was produced. Mastering of the stamper used at the time of injection molding was performed using laser cutting (351 nm).

(光反射層の形成)
基板上に、Unaxis社製Cubeを使用し、Ar雰囲気中で、DCスパッタリングにより、膜厚60nmの真空成膜層としてのANC光反射層(Ag:98.1at%、Nd:0.7at%、Cu:0.9at%)を形成した。光反射層の膜厚の調整は、スパッタ時間により行った。
(Formation of light reflection layer)
An ANC light reflecting layer (Ag: 98.1 at%, Nd: 0.7 at%, as a vacuum film-forming layer having a film thickness of 60 nm was formed on the substrate by DC sputtering in an Ar atmosphere using Cube manufactured by Unaxis. Cu: 0.9 at%) was formed. The film thickness of the light reflecting layer was adjusted by the sputtering time.

(追記型記録層の形成)
例示化合物(A−30)1.2gを、2,2,3,3−テトラフロロプロパノール100ml中に添加して溶解し、色素含有塗布液を調製した。そして、光反射層上に、調製した色素含有塗布液を、スピンコート法により回転数300〜4000rpmまで変化させながら23℃、50%RHの条件で塗布した。その後、23℃、50%RHで1時間保存して追記型記録層を形成した。追記型記録層の厚さはグルーブ上の厚さ40nm、ランド上の厚さ15nmであった。
(Formation of write-once recording layer)
1.2 g of exemplary compound (A-30) was added and dissolved in 100 ml of 2,2,3,3-tetrafluoropropanol to prepare a dye-containing coating solution. And the prepared pigment | dye containing coating liquid was apply | coated on the conditions of 23 degreeC and 50% RH, changing the rotation speed to 300-4000 rpm with a spin coat method on the light reflection layer. Then, it was stored at 23 ° C. and 50% RH for 1 hour to form a write-once recording layer. The thickness of the write-once recording layer was 40 nm on the groove and 15 nm on the land.

追記型記録層を形成した後、クリーンオーブンにてアニール処理を施した。アニール処理は、基板を垂直のスタックポールにスペーサーで間をあけながら支持し、80℃で1時間保持して行った。   After the write-once recording layer was formed, annealing treatment was performed in a clean oven. The annealing treatment was performed by supporting the substrate on a vertical stack pole while leaving a gap with a spacer, and holding at 80 ° C. for 1 hour.

(バリア層の形成)
その後、追記型記録層上に、Unaxis社製Cubeを使用し、Ar雰囲気中で、DCスパッタリングによりNb25からなる、厚さ5nmのバリア層を形成した。
(Formation of barrier layer)
Thereafter, a barrier layer having a thickness of 5 nm made of Nb 2 O 5 was formed by DC sputtering in an Ar atmosphere on the write-once recording layer using Cube manufactured by Unaxis.

バリア層を成膜した媒体をスピン塗布装置上に設置し、内周部30mm付近に紫外線硬化型組成物Fをリング状に塗布した。その上から内径15mm、外径120mmのポリカーボネート製フィルム(帝人ピュアエース、厚さ:90μm)を載せた後に、2000〜8000r.p.m.の回転数で回転させた。これによって遠心力で接着剤が外周部まで延展し、均一な厚みの接着剤層を得ることができた。このサンプルをUV光照射テーブルに移動し、UV光を照射、UV接着剤を硬化させた。このとき、硬化に用いたUVランプはXenon Corporation社製4.2inch−SPIRAL LAMPであり、1回あたり0.5秒の照射時間となる閃光を複数回照射して硬化させた。ランプ面〜サンプル面間距離は約35mmであった。紫外線照射量は、2000mJ/cm2であった。形成された接着層の厚さは10μmであった。
これにより、実施例1の光情報記録媒体が作製された。
The medium on which the barrier layer was formed was placed on a spin coater, and the ultraviolet curable composition F was applied in a ring shape around the inner periphery of 30 mm. After a polycarbonate film having an inner diameter of 15 mm and an outer diameter of 120 mm (Teijin Pure Ace, thickness: 90 μm) was placed thereon, 2000 to 8000 r. p. m. It was rotated at the number of rotations. As a result, the adhesive was extended to the outer periphery by centrifugal force, and an adhesive layer having a uniform thickness could be obtained. This sample was moved to a UV light irradiation table, irradiated with UV light, and the UV adhesive was cured. At this time, the UV lamp used for curing was a 4.2 inch-SPIRAL LAMP manufactured by Xenon Corporation, and was cured by irradiating a flash with an irradiation time of 0.5 seconds each time. The distance between the lamp surface and the sample surface was about 35 mm. The amount of ultraviolet irradiation was 2000 mJ / cm 2 . The thickness of the formed adhesive layer was 10 μm.
Thereby, the optical information recording medium of Example 1 was produced.

[実施例2〜6、比較例1、2]
紫外線硬化型組成物Fの代わりに表2に示す紫外線硬化型組成物を使用し、該組成物の硬化処理のための紫外線照射時間を変更することにより紫外線照射量を表2に示すように変更した以外は、実施例1と同様の方法により光情報記録媒体を作製した。
[Examples 2 to 6, Comparative Examples 1 and 2]
Using the ultraviolet curable composition shown in Table 2 instead of the ultraviolet curable composition F, the ultraviolet irradiation amount was changed as shown in Table 2 by changing the ultraviolet irradiation time for the curing treatment of the composition. An optical information recording medium was produced by the same method as in Example 1 except that.

記録層用色素の主減量過程における質量減少率
使用した記録層用色素について、Seiko Instruments Inc.製EXSTAR6000を用い、N2気流下(流量200ml/min)、30℃〜550℃の範囲において10℃/分で昇温を行い、主減量過程における質量減少率を求めた。例示化合物(A−30)の主減量過程における質量減少率は68%であった。
Recording layer dyes using the mass reduction rate in the main weight loss process of recording layer dyes are described in Seiko Instruments Inc. Using EXSTAR6000, the temperature was increased at a rate of 10 ° C./min in the range of 30 ° C. to 550 ° C. under a N 2 air flow (flow rate 200 ml / min) to determine the mass reduction rate in the main weight loss process. The mass reduction rate of the exemplary compound (A-30) in the main weight loss process was 68%.

紫外線照射量
接着層の硬化のために照射した紫外線の照射量は以下のように測定した。
照射照度測定機としてウシオ電機株式会社製EC−100FL型を用い、積算光量測定モードで測定した。この測定機の受光部上にポリカーボネート製フィルム(帝人ピュアエース、厚さ:90μm)を載せてUV光照射部にセットし、1回あたり0.5秒の照射時間となる閃光を3、6、10回照射して各回における積算光量を測定した。照射時間と積算光量の関係をプロットしたところ、照射時間と積算光量の関係は良好な直線関係を示した。そこで、原点を通る近似直線の傾きを単位時間当たりの照射量として、単位時間当たりの照射量と照射時間との積を照射量とした。結果を下記表2に示す。測定機の受光部は半径40mm部にあることから、表2に示す値は、半径40mmにおける測定結果を代表値として用いたものであり、ランプによっては面内強度にバラツキが生じる可能性もある。
尚、この測定機は、相対的な値を測定するもので単位は無いが、表2では得られた数値にmJ/cm2という単位を付けてエネルギーに置き換えて示した。これは、ポリカーボネート製フィルムを置かずに3sec照射した時の積算光量が、メーカーデータ(mJ/cm2の単位を持つエネルギーとして計測されている)とほぼ一致しているためである。
Ultraviolet irradiation amount The ultraviolet irradiation amount irradiated for curing the adhesive layer was measured as follows.
An EC-100FL model manufactured by Ushio Electric Co., Ltd. was used as the irradiance measuring instrument, and the measurement was performed in the integrated light quantity measurement mode. A polycarbonate film (Teijin Pure Ace, thickness: 90 μm) is placed on the light-receiving part of this measuring machine and set on the UV light irradiation part. Irradiation was performed 10 times, and the integrated light quantity at each time was measured. When the relationship between the irradiation time and the integrated light amount was plotted, the relationship between the irradiation time and the integrated light amount showed a good linear relationship. Therefore, the slope of the approximate straight line passing through the origin is defined as the irradiation amount per unit time, and the product of the irradiation amount per unit time and the irradiation time is defined as the irradiation amount. The results are shown in Table 2 below. Since the light receiving part of the measuring machine is at a radius of 40 mm, the values shown in Table 2 are obtained by using the measurement result at a radius of 40 mm as a representative value. Depending on the lamp, the in-plane strength may vary. .
Although this measuring machine measures relative values and has no units, Table 2 shows the numerical values obtained by substituting mJ / cm 2 for energy. This is because the integrated amount of light when irradiated for 3 seconds without placing a polycarbonate film substantially coincides with the manufacturer data (measured as energy having a unit of mJ / cm 2 ).

ゲル分率の測定
実施例2〜6および比較例1、2の光情報記録媒体について、硬化処理後の接着層のゲル分率を以下のように測定した。
作製した各媒体のポリカーボネート製フイルム側外周端部にナイフで切れ込みを入れて部分的にフィルムが剥離した状態を作り、そこからフィルム全体を基板から剥離させた。一部、反射層がフィルム側に付いて剥離される部分もあるが、大部分は反射層と接着剤の界面で剥離し、反射層の付いた基板と、接着層の載ったフィルムに分離された。フィルム上の接着層を金属ヘラで掻き落とし、硬化済み接着層サンプルを得た。硬化済み接着層サンプル量に依ってはこの作業を複数枚の媒体に対して行い、質量測定をするために必要な量を確保した。
得られた硬化済み接着層サンプルの質量W1を測定し、W1の100倍の質量のメチルエチルケトン液中に浸漬した後、80℃の加熱炉で8時間加熱し、未硬化成分を溶出させた。加熱終了後10分以内に溶液の上澄み液を除去し、25℃50%の環境で48時間以上自然乾燥させた後、100℃の加熱炉で3時間加熱乾燥して未硬化成分溶出後のサンプルを得、未硬化成分溶出後の質量W2を測定した。上澄み液は、静置させた状態でスポイトなどを用いて吸取る形で除去した。上澄み液は8〜9割を除去し、残りは自然乾燥、加熱乾燥で揮発させた。溶出分が一部残存するが、沈殿した未溶出分を除去しないことを優先し、沈殿を吸取らないよう注意して行った。
ゲル分率は以下の式を用いて算出した。
ゲル分率(%)=100−(W1−W2)/W1×100
ゲル分率が90%に達していれば、十分に硬化が進行したと判断した。結果を表2に示す。
Measurement of gel fraction With respect to the optical information recording media of Examples 2 to 6 and Comparative Examples 1 and 2, the gel fraction of the adhesive layer after the curing treatment was measured as follows.
A cut was made with a knife at the outer peripheral edge of the polycarbonate film side of each of the produced media to create a state where the film was partially peeled, and the entire film was peeled off from the substrate. There are some parts where the reflective layer is peeled off on the film side, but most are peeled off at the interface between the reflective layer and the adhesive and separated into a substrate with the reflective layer and a film with the adhesive layer. It was. The adhesive layer on the film was scraped off with a metal spatula to obtain a cured adhesive layer sample. Depending on the amount of the cured adhesive layer sample, this operation was performed on a plurality of media to ensure the amount necessary for mass measurement.
The mass W1 of the obtained cured adhesive layer sample was measured and immersed in a methyl ethyl ketone solution having a mass 100 times that of W1, and then heated in a heating furnace at 80 ° C. for 8 hours to elute uncured components. The supernatant of the solution is removed within 10 minutes after the completion of heating, and it is naturally dried for 48 hours or more in an environment of 25 ° C. and 50%, and then heat-dried in a heating furnace at 100 ° C. for 3 hours to elute uncured components. The mass W2 after elution of uncured components was measured. The supernatant liquid was removed by sucking with a dropper or the like in a state of standing. 80 to 90% of the supernatant was removed, and the rest was volatilized by natural drying and heat drying. Although some of the eluate remained, priority was given to not removing the precipitated non-elute, and care was taken not to absorb the precipitate.
The gel fraction was calculated using the following formula.
Gel fraction (%) = 100− (W1−W2) / W1 × 100
If the gel fraction reached 90%, it was judged that the curing had progressed sufficiently. The results are shown in Table 2.

Figure 2008300007
Figure 2008300007

《接着層のガラス転移温度および貯蔵弾性率の測定》
(1)動的粘弾性挙動測定用サンプルの調製
紫外線硬化型組成物A〜F、大日本インキ社製SD−640、SD−661を、それぞれガラス基板上に塗布した後、メタルハライドランプM02−L31(アイグラフィックス社製、コールドミラー付き、ランプ出力120W/cm)を用いて窒素雰囲気中で表2に示す照射量で紫外線を照射し硬化させ、測定用サンプル(サンプル1〜6および比較サンプル1、2)を調製した。
(2)ガラス転移温度(Tg)の測定
得られた硬化塗膜を縦2cm×横0.5cmにカットして動的粘弾性測定装置:DVA−200(アイティー計測制御(株))にて周波数1Hzのときの動的粘弾性挙動を測定した(昇温スピード5℃/min)。測定モードは引張りモードまたはせん断モードとした(表3参照)。また同様にして30℃のときの貯蔵弾性率を求めた。測定結果を表3に示す。
(3)ガラス転移温度(DSC)の測定
(2)と同様にして得られた硬化塗膜のガラス転移温度(DSC)を、SC/DSCにより測定した。測定結果を表3に示す。
測定方法を以下に説明する。
DSC装置:Seiko Instruments Inc.製DSC6200Rを用いSUS製密閉セルに試料を密閉し、―100℃〜100℃の範囲において10℃/分で昇温して1回目のガラス転移温度を求める。さらに100℃〜―100℃まで50℃/分で降温した後に―100℃〜100℃の範囲において10℃/分で昇温して2回目のガラス転移温度を求める。この点をガラス転移温度(DSC)と称する。
なお、ガラス転移温度および貯蔵弾性率測定のために、測定用サンプル中の硬化塗膜は、実施例および比較例の光情報記録媒体における接着層よりも厚く形成した。サンプル2〜6および比較サンプル1、2の硬化塗膜の厚さを下記表3に示す。ただしガラス転移温度および貯蔵弾性率は膜厚の影響を受けないため、下記表3に示す結果は、それぞれ対応する実施例、比較例の評価結果とみなすことができる。
<Measurement of glass transition temperature and storage modulus of adhesive layer>
(1) Preparation of sample for measurement of dynamic viscoelastic behavior After applying UV curable compositions A to F and Dainippon Ink & Chemicals SD-640 and SD-661 on a glass substrate, respectively, metal halide lamp M02-L31 Samples for measurement (samples 1 to 6 and comparative sample 1) were cured by irradiation with ultraviolet rays at a dose shown in Table 2 in a nitrogen atmosphere using (Graphics made, with cold mirror, lamp output 120 W / cm). 2) was prepared.
(2) Measurement of glass transition temperature (Tg) The obtained cured coating film was cut into a length of 2 cm and a width of 0.5 cm and a dynamic viscoelasticity measuring device: DVA-200 (IT Measurement Control Co., Ltd.). The dynamic viscoelastic behavior at a frequency of 1 Hz was measured (temperature rising speed 5 ° C./min). The measurement mode was a tensile mode or a shear mode (see Table 3). Similarly, the storage elastic modulus at 30 ° C. was determined. Table 3 shows the measurement results.
(3) Measurement of glass transition temperature (DSC) The glass transition temperature (DSC) of the cured coating film obtained in the same manner as in (2) was measured by SC / DSC. Table 3 shows the measurement results.
The measurement method will be described below.
DSC apparatus: Seiko Instruments Inc. A sample is sealed in a closed cell made of SUS using DSC6200R manufactured, and the temperature is raised at 10 ° C./min in the range of −100 ° C. to 100 ° C. to obtain the first glass transition temperature. Further, the temperature is lowered from 100 ° C. to −100 ° C. at 50 ° C./min, and then the temperature is raised at 10 ° C./min in the range from −100 ° C. to 100 ° C. to obtain the second glass transition temperature. This point is called the glass transition temperature (DSC).
In addition, in order to measure the glass transition temperature and the storage elastic modulus, the cured coating film in the measurement sample was formed thicker than the adhesive layers in the optical information recording media of Examples and Comparative Examples. Table 3 below shows the thicknesses of the cured coating films of Samples 2 to 6 and Comparative Samples 1 and 2. However, since the glass transition temperature and the storage elastic modulus are not affected by the film thickness, the results shown in Table 3 below can be regarded as the evaluation results of the corresponding examples and comparative examples, respectively.

Figure 2008300007
Figure 2008300007

《記録特性の評価》
1.C/N(搬送波対雑音比)評価(2TC/N値)
作製した光情報記録媒体を、403nmレーザー、NA0.85ピックアップを積んだ記録再生評価機(パルステック社製:DDU1000)を用い、クロック周波数66MHz、線速4.92m/sにて、0.16μmの信号(2T)を記録、再生しスペクトルアナライザー(ローデ&シュウバルツ社製FSP−3型)にて出力を測定した。記録後の16MHz付近に見られるピークの出力をCarrier出力、記録前の同周波数の出力をNoise出力として、記録後の出力−記録前の出力をC/N値とした。記録はグルーブ上に行った。また記録パワーは1〜8mWの範囲で行い、再生パワー0.3mWであった。
また記録パワーが6mW時のC/N値が35dBより大きい場合が、実用上使用できるレベルである。記録パワー6mW時のC/N値が35dB以上の場合を「○」とする。結果を表4に示す。
<Evaluation of recording characteristics>
1. C / N (carrier-to-noise ratio) evaluation (2TC / N value)
The produced optical information recording medium was 0.16 μm at a clock frequency of 66 MHz and a linear velocity of 4.92 m / s using a recording / reproduction evaluation machine (manufactured by Pulstec Inc .: DDU1000) loaded with a 403 nm laser and NA 0.85 pickup. The signal (2T) was recorded and reproduced, and the output was measured with a spectrum analyzer (FSP-3 type manufactured by Rohde & Schwartz). The peak output seen at around 16 MHz after recording was defined as Carrier output, the output at the same frequency before recording was defined as Noise output, and the output after recording−the output before recording was defined as the C / N value. Recording was done on the groove. The recording power was in the range of 1 to 8 mW, and the reproducing power was 0.3 mW.
Further, when the recording power is 6 mW, the C / N value is larger than 35 dB, which is a practically usable level. A case where the C / N value at a recording power of 6 mW is 35 dB or more is “◯”. The results are shown in Table 4.

2.9T信号波形の評価
作製した光情報記録媒体を、403nmレーザー、NA0.85ピックアップを積んだ記録再生評価機(パルステック社製:DDU1000)を用い、クロック周波数66MHz、線速4.92m/sにて、約0.16μmの信号(9T信号)を記録、再生しスペクトルアナライザー(ローデ&シュウバルツ社製FSP−3型)にて出力を測定した。記録はグルーブ上に行った。この時、記録に用いるピークパワー値を2.0mWから10.0mWまで0.5mW毎にパワーを増加させながら測定し、最も矩形波に近い波形になる記録パワーを最適記録パワーとした。9T信号波形が矩形に近い波形を示すことは、記録信号の読み取りエラーの低減に繋がるため、極めて重要である。
前記最適記録パワーで、約0.72μmの信号(9T信号)を記録、再生し横河電機社製オシロスコープDL7440型にて出力波形を測定した。尚、波形は200個の波形を取り込んで平均化処理したものを平均的な波形として用いた。
9T信号波形の説明図を図3に示す。図3中、図Pおよび図Rは悪い9T波形、図Qは良い9T波形のイメージを示す。横軸は時間、縦軸は反射信号電圧である。得られた波形は、モデル的に大別して図示すると図3中の図P、図Qのようなものであった。記録パワーを上昇させる過程で図Pと図Qの両方をとり得る場合、それぞれの記録パワーの間に図Qに近い波形が得られるポイントがある。図3中の図Qの9T波形を示した場合を○、図Pまたは図Rの9T波形を示した場合を×として9T波形の形状を評価した。実施例2、5および比較例1の評価結果を表4に示す。
2.9 Evaluation of T signal waveform Using the recording / reproduction evaluation machine (PULSETECH Co., Ltd .: DDU1000) loaded with a 403 nm laser and NA 0.85 pickup, the produced optical information recording medium was used with a clock frequency of 66 MHz and a linear velocity of 4.92 m / second. At s, a signal of about 0.16 μm (9T signal) was recorded and reproduced, and the output was measured with a spectrum analyzer (FSP-3 type manufactured by Rohde & Schwartz). Recording was done on the groove. At this time, the peak power value used for recording was measured while increasing the power every 2.0 mW from 2.0 mW to 10.0 mW, and the recording power having the waveform closest to the rectangular wave was determined as the optimum recording power. It is extremely important that the 9T signal waveform shows a waveform close to a rectangle because it leads to a reduction in reading error of the recording signal.
A signal (9T signal) of about 0.72 μm was recorded and reproduced with the optimum recording power, and an output waveform was measured with an oscilloscope DL7440 type manufactured by Yokogawa Electric Corporation. Note that 200 waveforms were taken and averaged and used as an average waveform.
An explanatory diagram of the 9T signal waveform is shown in FIG. In FIG. 3, FIG. P and FIG. R show an image of a bad 9T waveform, and FIG. Q shows an image of a good 9T waveform. The horizontal axis represents time, and the vertical axis represents the reflected signal voltage. The waveforms obtained are roughly as shown in FIG. 3 and FIG. 3 in FIG. When both the chart P and the chart Q can be taken in the process of increasing the recording power, there is a point where a waveform close to the chart Q is obtained between the respective recording powers. The shape of the 9T waveform was evaluated by ◯ when the 9T waveform of FIG. Q in FIG. 3 was shown, and by x when the 9T waveform of FIG. P or R was shown. The evaluation results of Examples 2 and 5 and Comparative Example 1 are shown in Table 4.

Figure 2008300007
Figure 2008300007

表3に示すように、実施例2および5の媒体は、2T C/N値および9T波形のいずれの評価でも良好な結果が得られた。
また、高Tg(Tg>25℃)接着層を有する比較例1の媒体では、記録部前半部(Time/nsが短い領域)の振幅がほとんど見えないのに対し、Tg25℃以下の接着層を有する媒体(実施例2、5)では、記録部前半部において充分な振幅が得られた。
As shown in Table 3, the media of Examples 2 and 5 gave good results in any evaluation of 2TC / N value and 9T waveform.
Further, in the medium of Comparative Example 1 having a high Tg (Tg> 25 ° C.) adhesive layer, the amplitude of the first half of the recording portion (region where Time / ns is short) is hardly visible, whereas the adhesive layer having a Tg of 25 ° C. or lower is used With the media (Examples 2 and 5), sufficient amplitude was obtained in the first half of the recording part.

実施例1、3、4および6、比較例2についても同様に記録性能の評価を行い、実施例1、3、4および6の媒体が良好な記録性能を示すことを確認した。これに対し、比較例2の媒体の記録性能は低かった。   The recording performance of Examples 1, 3, 4 and 6 and Comparative Example 2 were similarly evaluated, and it was confirmed that the media of Examples 1, 3, 4 and 6 showed good recording performance. On the other hand, the recording performance of the medium of Comparative Example 2 was low.

[実施例7]
記録層用色素に例示化合物(A−50)(主減量過程における熱分解率99%)、を使用した以外は、実施例1と同様の方法により光情報記録媒体を作製した。
[Example 7]
An optical information recording medium was produced in the same manner as in Example 1 except that the exemplified compound (A-50) (a thermal decomposition rate of 99% in the main weight loss process) was used as the recording layer dye.

[比較例3]
記録層用色素に特開2005−279964号公報実施例3に記載の化合物(I―3) (主減量過程における質量減少率8%)を使用した以外は、実施例1と同様の方法により光情報記録媒体を作製した。
[Comparative Example 3]
Except that the compound (I-3) described in Example 3 of JP-A-2005-279964 (mass reduction rate of 8% in the main weight loss process) was used as the recording layer dye, light was obtained in the same manner as in Example 1. An information recording medium was produced.

実施例7および比較例3について、前述と同様の方法により記録性能の評価を行った。実施例7の媒体は良好な記録性能を示した。これに対して比較例3の媒体の記録性能は低かった。   For Example 7 and Comparative Example 3, the recording performance was evaluated by the same method as described above. The medium of Example 7 showed good recording performance. On the other hand, the recording performance of the medium of Comparative Example 3 was low.

本発明の光情報記録媒体は、短波長レーザー光を照射することにより情報を記録するためのブルーレイ方式の光情報記録媒体として好適である。   The optical information recording medium of the present invention is suitable as a Blu-ray optical information recording medium for recording information by irradiating a short wavelength laser beam.

熱質量分析での主減量過程における質量減少率の測定方法の説明図である。It is explanatory drawing of the measuring method of the mass reduction | decrease rate in the main weight loss process in a thermal mass spectrometry. 本発明の光情報記録媒体の一例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows an example of the optical information recording medium of this invention. 9T信号波形の説明図を示す。An explanatory view of a 9T signal waveform is shown.

符号の説明Explanation of symbols

10A…第1光情報記録媒体
12…基板
14…記録層
16…カバー層
18…光反射層
20…バリア層
22…接着層
42…第一対物レンズ
44…ハードコート層
46…レーザー光
10A ... first optical information recording medium 12 ... substrate 14 ... recording layer 16 ... cover layer 18 ... light reflecting layer 20 ... barrier layer 22 ... adhesive layer 42 ... first objective lens 44 ... hard coat layer 46 ... laser light

Claims (7)

複数のグルーブおよび隣接するグルーブの間に位置するランドからなるプリグルーブを表面に有する基板の該表面上に、反射層、記録層、バリア層、およびカバー層をこの順に有する光情報記録媒体であって、
前記プリグルーブのトラックピッチは50〜500nmの範囲であり、
前記記録層の厚さは、ランド上で1〜100nmの範囲であり、グルーブ上で5〜150nmの範囲であり、
前記記録層は、下記一般式(I)で表され、かつ熱質量分析での主減量過程における質量減少率が10%以上である熱分解性を有する化合物を含有し、
前記バリア層とカバー層との間に、紫外線硬化型組成物に硬化処理を施すことにより形成された25℃以下のガラス転移温度を有する層を有することを特徴とする光情報記録媒体。
Figure 2008300007
[一般式(I)中、X1およびX2は、各々独立に、酸素原子、硫黄原子またはN−Rを表し、Rはアルキル基、アリール基、または複素環基を表し、Za1およびZa2は、各々独立に、5員または6員の複素環を完成するために必要な原子群を表し、L1、L2およびL3は、各々独立に、置換または無置換のメチン基を表し(但し、L1〜L3上に置換基がある場合には互いに連結して環を形成してもよい)、jは、0または1を表し、M1は電荷均衡対イオンを表し、m1は分子の電荷を中和するために必要な0以上10以下の数を表す。]
An optical information recording medium having a reflective layer, a recording layer, a barrier layer, and a cover layer in this order on a surface of a substrate having a plurality of grooves and a pre-groove composed of lands located between adjacent grooves on the surface. And
The track pitch of the pregroove is in the range of 50 to 500 nm,
The recording layer has a thickness in the range of 1 to 100 nm on the land and in the range of 5 to 150 nm on the groove.
The recording layer contains a thermally decomposable compound represented by the following general formula (I) and having a mass reduction rate of 10% or more in the main weight loss process in thermal mass spectrometry,
An optical information recording medium comprising a layer having a glass transition temperature of 25 ° C. or lower formed by subjecting an ultraviolet curable composition to a curing treatment between the barrier layer and the cover layer.
Figure 2008300007
[In General Formula (I), X 1 and X 2 each independently represents an oxygen atom, a sulfur atom or N—R, R represents an alkyl group, an aryl group, or a heterocyclic group, and Za 1 and Za 2 each independently represents a group of atoms necessary to complete a 5- or 6-membered heterocyclic ring, and L 1 , L 2 and L 3 each independently represents a substituted or unsubstituted methine group. (However, when there is a substituent on L 1 to L 3 , they may be linked to each other to form a ring), j represents 0 or 1, M 1 represents a charge balanced counter ion, m 1 Represents a number from 0 to 10 which is necessary for neutralizing the charge of the molecule. ]
ランド上の記録層の厚さとグルーブ上の記録層との厚さの比[(ランド上の記録層の厚さ)/(グルーブ上の記録層の厚さ)]が0.1〜1の範囲である請求項1に記載の光記録情報媒体。 The ratio of the thickness of the recording layer on the land to the recording layer on the groove [(thickness of recording layer on land) / (thickness of recording layer on groove)] is in the range of 0.1 to 1. The optical recording information medium according to claim 1. 一般式(I)で表される化合物は、下記一般式(II-1)または下記一般式(II-2)で表される化合物である請求項1または2に記載の光情報記録媒体。
Figure 2008300007
[一般式(II−1)および(II−2)中、Zbは、インドレニン核、ベンゾインドレニン核、ベンゾイミダゾール核、ベンゾオキサゾール核またはベンゾチアゾール核を形成するために必要な原子群を表し、Xaは、酸素原子、硫黄原子、C(R3)(R4)またはN−R5を表し、R1、R2、R3、R4およびR5は、各々独立に、アルキル基またはアリール基を表し、L4は、置換または無置換のメチン基を表す。M1およびm1は、前記一般式(I)における定義と同義である。]
The optical information recording medium according to claim 1 or 2, wherein the compound represented by the general formula (I) is a compound represented by the following general formula (II-1) or the following general formula (II-2).
Figure 2008300007
[In the general formulas (II-1) and (II-2), Zb represents an atomic group necessary for forming an indolenine nucleus, a benzoindolenine nucleus, a benzimidazole nucleus, a benzoxazole nucleus, or a benzothiazole nucleus. , Xa represents an oxygen atom, a sulfur atom, C (R 3 ) (R 4 ) or N—R 5 , and R 1 , R 2 , R 3 , R 4 and R 5 are each independently an alkyl group or Represents an aryl group, and L 4 represents a substituted or unsubstituted methine group. M 1 and m 1 have the same definition as in general formula (I). ]
一般式(I)で表される化合物は、下記一般式(III)で表される化合物である請求項1または2に記載の光情報記録媒体。
Figure 2008300007
[一般式(III)中、XbおよびXcは、各々独立に、酸素原子、硫黄原子、またはN−R14を表し、R6、R7、R8、R9、R10、R11、R12、R13およびR14は、各々独立に、水素原子、アルキル基またはアリール基を表し、L5、L6およびL7は各々独立に置換または無置換のメチン基を表す。但し、L5〜L7上に置換基がある場合には、これらの置換基は互いに連結して環を形成してもよい。kは0または1を表す。M1およびm1は、前記一般式(I-1)における定義と同義である。]
The optical information recording medium according to claim 1 or 2, wherein the compound represented by the general formula (I) is a compound represented by the following general formula (III).
Figure 2008300007
[In General Formula (III), Xb and Xc each independently represent an oxygen atom, a sulfur atom, or N—R 14 , and R 6 , R 7 , R 8 , R 9 , R 10 , R 11 , R 12 , R 13 and R 14 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, and L 5 , L 6 and L 7 each independently represents a substituted or unsubstituted methine group. However, when there are substituents on L 5 to L 7 , these substituents may be linked to each other to form a ring. k represents 0 or 1; M 1 and m 1 have the same definition as in the general formula (I-1). ]
前記紫外線硬化型組成物は、紫外線硬化型組成物100質量部に対し、単官能(メタ)アクリレートを20〜99質量部、および多官能(メタ)アクリレートを1〜80質量部含む請求項1〜4のいずれか1項に記載の光情報記録媒体。 The said ultraviolet curable composition contains 20-99 mass parts of monofunctional (meth) acrylate, and 1-80 mass parts of polyfunctional (meth) acrylate with respect to 100 mass parts of ultraviolet curable compositions. 5. The optical information recording medium according to any one of 4 above. 波長390〜440nmのレーザー光を照射することにより情報を記録するために使用される請求項1〜5のいずれか1項に記載の光情報記録媒体。 The optical information recording medium according to claim 1, which is used for recording information by irradiating a laser beam having a wavelength of 390 to 440 nm. 請求項1〜5のいずれか1項に記載の光情報記録媒体へ、波長390〜440nmのレーザー光を照射することにより、光情報記録媒体の記録層へ情報を記録する情報記録方法。 An information recording method for recording information on a recording layer of an optical information recording medium by irradiating the optical information recording medium according to any one of claims 1 to 5 with laser light having a wavelength of 390 to 440 nm.
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