JP2008294102A - Manufacturing method of wiring board - Google Patents

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Kaoru Ono
薫 小野
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a wiring board which has excellent heat dissipation characteristics without complicating works. <P>SOLUTION: A manufacturing method includes a fixation stage of fixing a metal plate 2 and a support 4 for supporting the metal plate 2 across an adhesion layer 3 having adhesive property; a projection portion formation stage of forming a recessed portion where the metal plate 2 is broken by etching away a portion of the metal plate 2 and leaving the remaining portion of the metal plate 2 as a projection portion; a charging stage of charging the whole or a portion of the recessed portion with a prepreg 7 as an insulator and fixing the projection portion 5 and prepreg 7 by pressing accompanied by heating to form a fixed body 9; a wiring layer formation stage of forming a wiring layer 11 on the fixed body 9; and a peeling stage of removing the adhesion layer 3 and support 4 from the fixed body 9. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、配線板の製造法に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing a wiring board.

発光ダイオード等の高発熱部品の高密度実装のためには、部品が実装される配線板に高い放熱性が要求されている。そのため、放熱性の良好な配線板を得る一手段として、2層以上に積層された金属のクラッド材を用い、表面の金属板をエッチング技術によって凸部となる柱状部を形成し、その柱状部の周囲に絶縁層を形成する配線板の製造技術が提案されている(特許文献1参照)。この製造技術によって得られる配線板は、柱状部をヒートシンクとして利用できることから、放熱性が良好である。   For high-density mounting of highly heat-generating components such as light emitting diodes, a high heat dissipation property is required for the wiring board on which the components are mounted. Therefore, as a means of obtaining a wiring board with good heat dissipation, a metal clad material laminated in two or more layers is used, and a columnar portion that becomes a convex portion is formed by etching the metal plate on the surface. There has been proposed a technique for manufacturing a wiring board in which an insulating layer is formed around (see Patent Document 1). Since the wiring board obtained by this manufacturing technique can use the columnar part as a heat sink, the heat dissipation is good.

国際公開第2007/037075号パンフレットInternational Publication No. 2007/037075 Pamphlet

しかし金属のクラッド材は、真空中での処理によって製造できるものであるが、その作業は煩雑である。   However, the metal clad material can be manufactured by processing in a vacuum, but the operation is complicated.

そこで、本発明が解決しようとする課題は、作業を煩雑にすることなく、放熱性の良好な配線板を提供することである。   Therefore, the problem to be solved by the present invention is to provide a wiring board with good heat dissipation without complicating work.

上記課題を解決するため、本発明に係る配線板の製造法は、金属板と、金属板を支持する支持体とを、接着性を有する接着層を介して固定する固定工程と、金属板の一部を除去して金属板がつながらない凹部を形成し、金属板の残部を凸部とする凸部形成工程と、凹部の全部または一部を絶縁物で充填して、凸部と絶縁物とを固着させた固着物を形成する充填工程と、固着物面に配線層を形成する配線層形成工程と、接着層および支持体を固着物から取り除く剥離工程と、を有する。   In order to solve the above problems, a method of manufacturing a wiring board according to the present invention includes a fixing step of fixing a metal plate and a support that supports the metal plate via an adhesive layer having adhesiveness, A convex part forming step in which a part is removed to form a concave part that is not connected to the metal plate, and the remaining part of the metal plate is a convex part, and all or part of the concave part is filled with an insulator, and the convex part and the insulator There are a filling step for forming a fixed object to which the material is fixed, a wiring layer forming step for forming a wiring layer on the surface of the fixed object, and a peeling step for removing the adhesive layer and the support from the fixed object.

本発明に係る配線板の製造法によれば、凸部として残った金属板がヒートシンクとしての役割を果たすことから、放熱性の良好な配線板を提供することができる。また、この配線板の製造の作業では、支持体と接着層によって金属板が固定された状態で金属板を凸部へと加工し、絶縁物を充填して絶縁物と凸部とを固着した固着物を形成した後に、接着層および支持体を固着物から取り除く剥離工程を行うものである。このように接着層を介して金属板と支持体の固定、剥離を行う作業は大気中でもできるため、作業性が良好となる。   According to the method for manufacturing a wiring board according to the present invention, since the metal plate remaining as the convex portion serves as a heat sink, it is possible to provide a wiring board with good heat dissipation. Further, in the work of manufacturing the wiring board, the metal plate is processed into a convex portion with the metal plate fixed by the support and the adhesive layer, and the insulator and the convex portion are fixed by filling the insulator. After forming the fixed object, a peeling step for removing the adhesive layer and the support from the fixed object is performed. Thus, the work of fixing and peeling the metal plate and the support through the adhesive layer can be performed in the air, so that workability is improved.

他の本発明に係る配線板の製造法は、上述の発明に加え、配線層形成工程は、固着物の、接着層と対向する面とは逆側の面に表側配線層を形成する表側配線層形成工程を有する。この方法を採用することによって、金属板の一部を除去するのにエッチング法を採用し、かつ接着層と対向する面とは逆側の面に凸部が露出する場合には、その凸部の露出面積が接着層と対向する面の凸部の露出面積よりも小さくなる。そのため凸部の小さい露出面では、その露出面を避けた配線層のパターニングをしやすくなる。   In another wiring board manufacturing method according to the present invention, in addition to the above-described invention, the wiring layer forming step includes forming a front wiring layer on the surface of the fixed object opposite to the surface facing the adhesive layer. A layer forming step; By adopting this method, if the etching method is adopted to remove a part of the metal plate and the convex portion is exposed on the surface opposite to the surface facing the adhesive layer, the convex portion is exposed. Is smaller than the exposed area of the convex portion of the surface facing the adhesive layer. Therefore, it becomes easy to pattern the wiring layer avoiding the exposed surface on the exposed surface having a small convex portion.

また、他の本発明に係る配線板の製造法は、上述の発明に加え、配線層形成工程では、銅箔を絶縁物または固着物に載置し、プレスにて凸部および固着物に銅箔を固定する工程を有する。この方法を採用することによって、絶縁物上への配線層と固着物との密着強度を高くできる。   In addition to the above-described invention, another method of manufacturing a wiring board according to the present invention includes placing a copper foil on an insulator or a fixed object in a wiring layer forming step, and pressing the copper on the convex part and the fixed object with a press. A step of fixing the foil. By adopting this method, the adhesion strength between the wiring layer and the fixed object on the insulator can be increased.

また、他の本発明に係る配線板の製造法は、上述の発明に加え、配線層形成工程は、凸部形成工程の後かつ充填工程前に、露出する接着層に粉末を被着させる粉末被着工程と、剥離工程の後に、粉末を除去して固着物の表面を粗面化する粗面化工程と、粗面化した絶縁物の表面に無電解めっき層を形成するめっき工程と、無電解めっき層の一部を除去し、残った無電解めっき層を用いて固着物の接着層と対向する面側に裏側配線層を形成する裏側配線層形成工程と、を有する。この方法を採用することによって、固着物の、接着層と対向する面に裏側配線層を形成できる。そのため、表側配線層をも有する場合は、固着物の両面に配線層を形成することができる。   In addition to the above-described invention, another method for manufacturing a wiring board according to the present invention includes: a wiring layer forming step in which powder is applied to the exposed adhesive layer after the convex portion forming step and before the filling step; After the deposition step and the peeling step, a roughening step for removing the powder to roughen the surface of the fixed object, a plating step for forming an electroless plating layer on the surface of the roughened insulator, A back side wiring layer forming step of removing a part of the electroless plating layer and forming a back side wiring layer on the side of the surface facing the adhesive layer of the fixed object using the remaining electroless plating layer. By adopting this method, the back wiring layer can be formed on the surface of the fixed object facing the adhesive layer. Therefore, when it also has a front side wiring layer, a wiring layer can be formed on both surfaces of a fixed thing.

また、他の本発明に係る配線板の製造法は、上述の発明に加え、配線層形成工程は、凸部形成工程の後かつ充填工程前に、露出する接着層に導電層を形成する導電層形成工程と、剥離工程の後に、露出する導電層の一部を除去し、残った導電層を用いて固着物の接着層と対向する面側に裏側配線層を形成する裏側配線層形成工程と、を有する。この方法を採用することによって、固着物の、接着層と対向する面に裏側配線層を形成できる。そのため、表側配線層をも有する場合は、固着物の両面に配線層を形成することができる。   In addition to the above-described invention, another method for manufacturing a wiring board according to the present invention includes a step of forming a conductive layer on the exposed adhesive layer after the convex portion forming step and before the filling step. After the layer forming step and the peeling step, a part of the exposed conductive layer is removed, and the back side wiring layer forming step for forming the back side wiring layer on the side facing the adhesive layer of the fixed object using the remaining conductive layer And having. By adopting this method, the back wiring layer can be formed on the surface of the fixed object facing the adhesive layer. Therefore, when it also has a front side wiring layer, a wiring layer can be formed on both surfaces of a fixed thing.

また、他の本発明に係る配線板の製造法は、上述の発明に加え、導電層形成工程は、導電性粉末を接着層に被着させる工程を有している。この方法を採用することによって、導電性粉末を散布する等、容易な方法で導電層形成工程を行うことができる。   In addition to the above-described invention, another method for manufacturing a wiring board according to the present invention includes a step of depositing conductive powder on the adhesive layer. By adopting this method, the conductive layer forming step can be performed by an easy method such as spraying conductive powder.

また、他の本発明に係る配線板の製造法は、上述の発明に加え、金属板の接着層と対向する面側に、金属板の一部を除去する際に除去されない導電性のレジスト層を設け、凸部形成工程の後かつ充填工程前に、露出するレジスト層に導電層を電解めっき法によって形成する導電層形成工程と、剥離工程の後に、露出するレジスト層を除去し、さらに導電層の一部を除去し、残った導電層を用いて固着物の接着層と対向する面側に裏側配線層を形成する裏側配線層形成工程と、を有する。この方法を採用することによって、固着物の、接着層と対向する面に裏側配線層を形成できる。そのため、表側配線層をも有する場合は、固着物の両面に配線層を形成することができる。   In addition to the above-described invention, another method for manufacturing a wiring board according to the present invention is a conductive resist layer that is not removed when a part of the metal plate is removed on the surface facing the adhesive layer of the metal plate. A conductive layer forming step for forming a conductive layer on the exposed resist layer by electrolytic plating after the convex forming step and before the filling step; and after the peeling step, the exposed resist layer is removed and further conductive A backside wiring layer forming step of removing a part of the layer and forming a backside wiring layer on the surface facing the adhesive layer of the fixed object using the remaining conductive layer. By adopting this method, the back wiring layer can be formed on the surface of the fixed object facing the adhesive layer. Therefore, when it also has a front side wiring layer, a wiring layer can be formed on both surfaces of a fixed thing.

また、他の本発明に係る配線板の製造法は、上述の発明に加え、配線層と凸部とが接触している。この方法を採用することによって、配線板に蓄積される熱が、配線層を介してヒートシンクの役割を果たす凸部に効率良く伝達される。   Moreover, in addition to the above-mentioned invention, the manufacturing method of the wiring board which concerns on another this invention has the wiring layer and the convex part contacting. By adopting this method, the heat accumulated in the wiring board is efficiently transmitted to the convex portion serving as a heat sink through the wiring layer.

また、他の本発明に係る配線板の製造法は、上述の発明に加え、配線層を複数形成し、複数の配線層が、凸部によって接続されている。この方法を採用することによって、複数の配線層の配線を接続する役割をも凸部が果たすことができる。特に、固着物の両面に配線層が形成されている場合には、凸部によって固着物の両面に渡って配線層を電気接続させることができる。   In addition to the above-described invention, a method for manufacturing a wiring board according to another aspect of the present invention forms a plurality of wiring layers, and the plurality of wiring layers are connected by convex portions. By adopting this method, the convex portion can also serve to connect the wirings of a plurality of wiring layers. In particular, when the wiring layers are formed on both surfaces of the fixed object, the wiring layers can be electrically connected to both surfaces of the fixed object by the convex portions.

また、他の本発明に係る配線板の製造法は、上述の発明に加え、接着層は、基材と、その基材の両面に形成された粘着性を有するシート状の第1と第2の粘着層を備え、支持体と対向する第2の粘着層の粘着力が、基材を挟んで逆側の第1の粘着層の粘着力よりも強いものとしている。この方法を採用することによって、剥離工程で、固着物と支持体とを剥がすように応力を付与した場合、接着層が支持体の方に接着した状態で剥がれる。そのため、固着物側に接着層が接着することなく、固着物から接着層のみを剥がす作業を要しない。   In addition to the above-described invention, the method for manufacturing a wiring board according to the present invention includes a base material and first and second sheet-like sheets having adhesiveness formed on both sides of the base material. The pressure-sensitive adhesive force of the second pressure-sensitive adhesive layer facing the support is stronger than that of the first pressure-sensitive adhesive layer on the opposite side across the substrate. By adopting this method, when stress is applied so as to peel off the fixed object and the support in the peeling process, the adhesive layer is peeled off in a state of being bonded to the support. Therefore, the operation of peeling only the adhesive layer from the fixed object is not required without the adhesive layer adhering to the fixed object side.

また、他の本発明に係る配線板の製造法は、上述の発明に加え、接着層および支持体は、繰り返し使用されるものであることとしている。この方法を採用することによって、配線板の製造コストを低減できる。   In addition to the above-described invention, another method for manufacturing a wiring board according to the present invention is such that the adhesive layer and the support are used repeatedly. By adopting this method, the manufacturing cost of the wiring board can be reduced.

本発明によって、作業を煩雑にすることなく、放熱性の良好な配線板を提供することができる。   According to the present invention, a wiring board with good heat dissipation can be provided without complicating work.

(第1の実施の形態)
第1の実施の形態に係る配線板1の製造法について、図面を参照しながら説明する。図1および図2は、配線板1の製造の各過程を配線板1の仕掛品および配線板1の縦断面図として示す図である。図1の(A)から(H)に進むに従い、そしてその後図2の(A)から(C)に進むに従い、配線板1の製造が進行する。
(First embodiment)
A method for manufacturing the wiring board 1 according to the first embodiment will be described with reference to the drawings. FIG. 1 and FIG. 2 are diagrams showing each process of manufacturing the wiring board 1 as a work in progress of the wiring board 1 and a longitudinal sectional view of the wiring board 1. As the process proceeds from (A) to (H) in FIG. 1 and then from (A) to (C) in FIG. 2, the manufacture of the wiring board 1 proceeds.

第1の実施の形態の配線板1の製造法は、図1(A)に示すように、まず金属板2と、接着層3と、金属板2を支持する支持体4を用意する。ここで、金属板2は銅板である。   In the method of manufacturing the wiring board 1 of the first embodiment, as shown in FIG. 1A, first, a metal plate 2, an adhesive layer 3, and a support 4 that supports the metal plate 2 are prepared. Here, the metal plate 2 is a copper plate.

また接着層3には、TACONIC社製の製品名「TACSIL F20」を使用する。この接着層3は、基材としてポリテトラフルオロエチレン(PTFE)にガラスクロスを混入したシートを用いている。そして、その基材の一方の面に形成された接着性を有するシート状の第1の粘着層(図示省略)は、シリコン化合物からなる。そして、その基材の他方の面に形成された接着性を有するシート状の第2の粘着層(図示省略)は、高耐熱性シリコン粘着剤である。第2の粘着層は、第1の粘着層の5倍以上の粘着力を有している。第1および第2の粘着層ならびに基材は、耐熱性、耐酸性かつ耐アルカリ性を有する。そして、支持体4の繰り返しの使用によって第1の粘着層の粘着力が低下しても、エチルアルコールまたはイソプロピルアルコール等のアルコール系の有機溶剤で洗浄することで、粘着力が復活し、繰り返し使用できる。   For the adhesive layer 3, the product name “TACSIL F20” manufactured by TACONIC is used. The adhesive layer 3 uses a sheet in which glass cloth is mixed into polytetrafluoroethylene (PTFE) as a base material. And the sheet-like 1st adhesion layer (illustration omitted) which has adhesiveness formed in one side of the substrate consists of a silicon compound. And the sheet-like 2nd adhesion layer (illustration omitted) which has adhesiveness formed in the other side of the substrate is a high heat-resistant silicon adhesive. The second adhesive layer has an adhesive force that is five times or more that of the first adhesive layer. The first and second adhesive layers and the substrate have heat resistance, acid resistance and alkali resistance. And even if the adhesive strength of the first adhesive layer decreases due to repeated use of the support 4, the adhesive strength is restored by washing with an alcohol-based organic solvent such as ethyl alcohol or isopropyl alcohol. it can.

また支持体4には、ステンレスの板を使用する。そして、図1(B)に示すように、金属板2と支持体4とを接着層3を介して固定する。このとき、接着層3の第1の粘着層は金属板2に、接着層3の第2の粘着層は支持体4に、それぞれ固着するようにする。これで固定工程が終了する。   A stainless steel plate is used for the support 4. Then, as shown in FIG. 1B, the metal plate 2 and the support 4 are fixed via the adhesive layer 3. At this time, the first adhesive layer of the adhesive layer 3 is fixed to the metal plate 2, and the second adhesive layer of the adhesive layer 3 is fixed to the support 4. This completes the fixing process.

次に図1(C)に示すように、金属板2の露出面のうち、ヒートシンクの役割を果たす凸部5を形成したい場所に、ニッケルからなるレジスト6を配置する。そしてアンモニアアルカリエッチングを行うと、図1(D)に示すように、金属板2のうちレジスト6が配置された部分以外が溶解し、金属板2の一部が除去されて金属板がつながらない凹部が形成され、かつ残った凸部5が形成される。これで凸部形成工程が終了する。なお、接着層3は、耐アルカリ性の第1の粘着層を有しているため、アンモニアアルカリエッチングによっても溶解せず、第1の粘着層の粘着力もほとんど低下せずに露出した状態となる。そしてニッケル剥離剤を用いてレジスト6を除去すると、図1(E)に示すように凸部5のみが接着層3および支持体4に固定された状態となる。   Next, as shown in FIG. 1C, a resist 6 made of nickel is disposed on the exposed surface of the metal plate 2 at a location where the convex portion 5 serving as a heat sink is to be formed. When ammonia alkaline etching is performed, as shown in FIG. 1D, the metal plate 2 other than the portion where the resist 6 is disposed dissolves, and the metal plate 2 is partially removed and the metal plate is not connected. And the remaining convex part 5 is formed. This completes the convex portion forming step. In addition, since the adhesive layer 3 has the alkali-resistant first pressure-sensitive adhesive layer, the adhesive layer 3 is not dissolved even by ammonia alkali etching, and is in an exposed state without substantially reducing the pressure-sensitive adhesive force of the first pressure-sensitive adhesive layer. Then, when the resist 6 is removed using a nickel release agent, only the convex portion 5 is fixed to the adhesive layer 3 and the support 4 as shown in FIG.

次に、図1(F)に示すように、ガラス繊維シートにエポキシ樹脂を含浸させたプリプレグ7を3枚重ね合わせて接着層3の上に載置する。そのためには、凸部5の位置に相当するプリプレグ7の部分に穴を開け、その穴に凸部5を通す。そして、凸部5の頂上部分を形成するためにエッチングによって除去された金属板2に相当する部分にはプリプレグ7を配置しない。このプリプレグ7が絶縁物に相当する。すなわち凹部の一部が絶縁物によって充填されている。そして、銅箔8を凸部5およびプリプレグ7の上面全体に渡って配置する。   Next, as shown in FIG. 1 (F), three prepregs 7 in which a glass fiber sheet is impregnated with an epoxy resin are overlapped and placed on the adhesive layer 3. For that purpose, a hole is made in the portion of the prepreg 7 corresponding to the position of the convex portion 5, and the convex portion 5 is passed through the hole. Then, the prepreg 7 is not disposed in a portion corresponding to the metal plate 2 removed by etching to form the top portion of the convex portion 5. This prepreg 7 corresponds to an insulator. That is, a part of the recess is filled with an insulator. And the copper foil 8 is arrange | positioned over the convex part 5 and the whole upper surface of the prepreg 7. FIG.

そして銅箔8と凸部5とプリプレグ7とを加熱しながら上方からプレスする。すると、図1(G)に示すように、3枚のプリプレグ7が溶けて固まり、凸部5および銅箔8が一体となって固着して固着物9が形成される。また、凸部5および固着物9には銅箔8が強固に固定される。これで充填工程が終了する。なお、図1(G)では、プリプレグ7が加熱を伴うプレスによって一体化した部分のみに固着物9の「9」の符号を付しているが、固着物9は、プリプレグ7が加熱を伴うプレスによって一体化した部分および凸部5の両者を一体とした部材である。   And the copper foil 8, the convex part 5, and the prepreg 7 are pressed from upper direction, heating. Then, as shown in FIG. 1 (G), the three prepregs 7 are melted and hardened, and the protrusions 5 and the copper foil 8 are fixed together to form a fixed object 9. Further, the copper foil 8 is firmly fixed to the convex portion 5 and the fixed object 9. This completes the filling process. In FIG. 1 (G), only the portion where the prepreg 7 is integrated by a press with heating is denoted by the symbol “9” of the fixed object 9, but the fixed object 9 is heated by the prepreg 7. It is a member in which both the part integrated by pressing and the convex part 5 are integrated.

次に、銅箔8の表面を研磨する。この研磨は、図1(H)に示すように、凸部5の上面が露出するまで行う。この研磨の結果、銅箔8および凸部5の上面が粗面化される。その粗面化した面に、図2(A)に示すように銅めっきを施し、銅めっき層10を形成する。ここで実行するめっき法は、電解めっき法である。   Next, the surface of the copper foil 8 is polished. This polishing is performed until the upper surface of the convex portion 5 is exposed as shown in FIG. As a result of this polishing, the upper surfaces of the copper foil 8 and the convex portion 5 are roughened. Copper plating is applied to the roughened surface as shown in FIG. 2A to form a copper plating layer 10. The plating method executed here is an electrolytic plating method.

次に銅めっき層10の上面に配線パターンに対応する形状のレジストを配置し、アルカリエッチングを行う。そして、その後そのレジストを除去して、残った銅箔8および銅めっき層10が配線パターン形状として残り、図2(B)に示すように配線層11が形成される。これで配線層形成工程(表側配線層形成工程)が終了する。この配線層11は、表側配線層となる。ここで、表側とは、固着物9の接着層3と対向する面とは逆の面のことを言い、裏側とは、固着物9の接着層3と対向する面側のことを言い、表、裏は仮の名称である。また、配線層11と凸部5とが接触している。   Next, a resist having a shape corresponding to the wiring pattern is disposed on the upper surface of the copper plating layer 10 and alkali etching is performed. Then, the resist is removed, and the remaining copper foil 8 and copper plating layer 10 remain as a wiring pattern shape, and a wiring layer 11 is formed as shown in FIG. This completes the wiring layer forming step (front side wiring layer forming step). The wiring layer 11 becomes a front wiring layer. Here, the front side means a surface opposite to the surface of the fixed object 9 facing the adhesive layer 3, and the back side means the surface side of the fixed object 9 facing the adhesive layer 3. The back is a temporary name. Further, the wiring layer 11 and the convex portion 5 are in contact with each other.

次に、支持体4と固着物9とを剥がす方向に、両者に対して応力を付与する。すると、図2(C)に示すように固着物9と接着層3の第1の粘着層との界面が剥がれる。しかし、支持体4と接着層3との界面、すなわち支持体4と第2の粘着層との接着は維持されている。これで剥離工程および第1の実施の形態に係る配線板1の製造が終了する。この結果、本実施の形態に係る配線板1を得ることができる。また、支持体4と接着層3は、両者が接着した状態で、次の配線板1の製造に繰り返し使用することができる。   Next, stress is applied to both in the direction in which the support 4 and the fixed object 9 are peeled off. Then, as shown in FIG. 2C, the interface between the fixed object 9 and the first adhesive layer of the adhesive layer 3 is peeled off. However, the interface between the support 4 and the adhesive layer 3, that is, the adhesion between the support 4 and the second adhesive layer is maintained. This completes the peeling process and the production of the wiring board 1 according to the first embodiment. As a result, the wiring board 1 according to the present embodiment can be obtained. Further, the support 4 and the adhesive layer 3 can be repeatedly used in the production of the next wiring board 1 in a state where the support 4 and the adhesive layer 3 are adhered to each other.

(第2の実施の形態)
第2の実施の形態に係る配線板1Aの製造法について、図面を参照しながら説明する。図3および図4は、第2の実施の形態に係る配線板1Aの製造の各過程を配線板1Aの仕掛品および配線板1Aの縦断面図として示す図である。図3の(A)から(H)に進むに従い、そしてその後、図4の(A)から(E)に進むに従い、配線板1Aの製造が進行する。なお、第1の実施の形態に係る配線板1と同一の部材、同一の機能を有する部材には、図1および図2の中の符号と同一の符号を付して説明する。
(Second Embodiment)
A method of manufacturing the wiring board 1A according to the second embodiment will be described with reference to the drawings. 3 and 4 are diagrams showing each process of manufacturing the wiring board 1A according to the second embodiment as a work in progress of the wiring board 1A and a longitudinal sectional view of the wiring board 1A. As the process proceeds from (A) to (H) in FIG. 3 and then from (A) to (E) in FIG. 4, the manufacture of the wiring board 1A proceeds. In addition, the same code | symbol as the code | symbol in FIG. 1 and FIG. 2 is attached | subjected and demonstrated to the member same as the wiring board 1 which concerns on 1st Embodiment, and the member which has the same function.

第2の実施の形態の配線板1Aの製造法における、図3(A)〜(E)に示す凸部5を形成するまでの方法および用いる部材は、第1の実施の形態の配線板1の製造法における図1(A)〜(E)に示すものと同一であるため、説明を省略する。   In the method of manufacturing the wiring board 1A of the second embodiment, the method and the members used until the convex part 5 shown in FIGS. 3A to 3E is formed are the wiring board 1 of the first embodiment. Since the manufacturing method is the same as that shown in FIGS. 1A to 1E, the description thereof will be omitted.

図3(F)は、露出した接着層3の第1の粘着層の上に導電層の一部を形成した状態を示している。この導電層の一部は、導電性粉末となる銅粉からなる銅粉層12で形成される層である。この銅粉層12は、粉末散布法(ふりかけ法)によって第1の粘着層の上に過剰量被着させ、第1の粘着層に被着しない分は回収して形成する。よって、この銅粉層12の厚みは第1の粘着層の上で略均一になっている。これで導電層形成工程の一部が終了する。   FIG. 3F shows a state in which a part of the conductive layer is formed on the exposed first adhesive layer of the adhesive layer 3. A part of this conductive layer is a layer formed of a copper powder layer 12 made of copper powder that becomes conductive powder. The copper powder layer 12 is formed by collecting an excess amount on the first adhesive layer by a powder spraying method (sprinkling method) and collecting the portion not deposited on the first adhesive layer. Therefore, the thickness of the copper powder layer 12 is substantially uniform on the first adhesive layer. This completes a part of the conductive layer forming step.

次に、図3(G)に示すように銅粉層12の上に電解めっき法によって電解銅めっき層13を形成する。この電解銅めっき層13が導電層の一部となる。そして、銅粉層12および電解銅めっき層13が導電層を構成する。これで導電層形成工程の全部が終了する。   Next, as shown in FIG. 3G, an electrolytic copper plating layer 13 is formed on the copper powder layer 12 by an electrolytic plating method. This electrolytic copper plating layer 13 becomes a part of the conductive layer. The copper powder layer 12 and the electrolytic copper plating layer 13 constitute a conductive layer. This completes the entire conductive layer forming step.

図3(H)、図4(A)および図4(B)についての説明は、それぞれ図1(F)、図1(G)および図2(C)についてした説明と略同一であるので、省略する。ここで、図4(A)および図4(B)に示す固着物9Aは、図1(G)、図1(H)および図2(A)〜(C)に示す固着物9に銅粉層12および電解銅めっき層13が付加されているため、固着物9と区別するため、「固着物9A」としている。また、この第2の実施の形態では、配線層11を形成する前に、支持体4を固着物9Aから剥がしている。   3H, FIG. 4A, and FIG. 4B are substantially the same as the descriptions of FIG. 1F, FIG. 1G, and FIG. 2C, respectively. Omitted. Here, the fixed object 9A shown in FIG. 4 (A) and FIG. 4 (B) is a copper powder to the fixed object 9 shown in FIG. 1 (G), FIG. 1 (H) and FIG. 2 (A) to (C). Since the layer 12 and the electrolytic copper plating layer 13 are added, it is referred to as “fixed matter 9A” in order to distinguish it from the fixed matter 9. In the second embodiment, the support 4 is peeled off from the fixed object 9A before the wiring layer 11 is formed.

図4(C)には、剥離工程を終了した固着物9Aの銅箔8の表面を研磨した状態を示している。この研磨は、凸部5の上面が露出するまで行う。また、銅粉層12に対しても研磨を行う。この研磨の結果、銅箔8および凸部5の上面が粗面化される。また、銅粉層12の一部または全部が除去され、電解銅めっき層13が露出し、電解銅めっき層13の表面も粗面化される。固着物9Aの状態から、この銅粉層12の一部または全部を無くした固着物を以下、固着物9Bと記す。   FIG. 4C shows a state in which the surface of the copper foil 8 of the fixed object 9A after the peeling process has been polished. This polishing is performed until the upper surface of the convex portion 5 is exposed. The copper powder layer 12 is also polished. As a result of this polishing, the upper surfaces of the copper foil 8 and the convex portion 5 are roughened. Moreover, a part or all of the copper powder layer 12 is removed, the electrolytic copper plating layer 13 is exposed, and the surface of the electrolytic copper plating layer 13 is also roughened. Hereinafter, the fixed object from which the copper powder layer 12 is partially or entirely removed from the state of the fixed object 9A is referred to as a fixed object 9B.

それらの粗面化した面に、図4(D)に示すように銅めっきを行い、銅箔8および凸部5の上面には銅めっき層10を形成し、電解銅めっき層13の表面にも銅めっき層10Aを形成する。ここで実行するめっき法は、導電層の一部である電解銅めっき層13を用いて行う電解めっき法である。   Copper plating is performed on those roughened surfaces as shown in FIG. 4 (D), a copper plating layer 10 is formed on the upper surfaces of the copper foil 8 and the protrusions 5, and the surface of the electrolytic copper plating layer 13 is formed. The copper plating layer 10A is also formed. The plating method performed here is an electrolytic plating method performed using the electrolytic copper plating layer 13 which is a part of the conductive layer.

次に、銅めっき層10および銅めっき層10Aの上面に配線パターンに対応する形状のレジストを配置し、アルカリエッチングを行い、その後そのレジストを除去して、残った銅箔8、凸部5、電解銅めっき層13および銅めっき層10Aが配線パターン形状として残り、図4(E)に示すように、固着物9Bの両面に配線層11,11Aが形成される。これで配線層形成工程(表側配線層形成工程、裏側配線層形成工程)および第2の実施の形態に係る配線板1Aの製造が終了する。この結果、本実施の形態に係る配線板1Aを得ることができる。   Next, a resist having a shape corresponding to the wiring pattern is disposed on the upper surfaces of the copper plating layer 10 and the copper plating layer 10A, alkali etching is performed, and then the resist is removed to leave the remaining copper foil 8, the convex portion 5, Electrolytic copper plating layer 13 and copper plating layer 10A remain as the wiring pattern shape, and as shown in FIG. 4E, wiring layers 11 and 11A are formed on both surfaces of fixed object 9B. This completes the wiring layer forming step (front side wiring layer forming step, back side wiring layer forming step) and the manufacturing of the wiring board 1A according to the second embodiment. As a result, the wiring board 1A according to the present embodiment can be obtained.

配線層11は、図2(C)に示す配線層11と同様に、接着層2と対向していた固着物9B面とは逆側の面に形成された配線層である。配線層11Aは、接着層2と対向していた固着物9B面に形成された配線層である。配線層11Aは、電解銅めっき層13と銅めっき層10Aとから構成されている。ここで配線層11は、表側配線層となり、配線層11Aは、裏側配線層となる。また、配線層11,11Aの一部または全部と凸部5とが接触している。また、複数の配線層11,11Aが固着物9Bの両面に形成され、その複数の配線層11,11Aが、凸部5によって接続されている。   Similar to the wiring layer 11 shown in FIG. 2C, the wiring layer 11 is a wiring layer formed on the surface opposite to the surface of the fixed object 9B facing the adhesive layer 2. The wiring layer 11 </ b> A is a wiring layer formed on the surface of the fixed object 9 </ b> B facing the adhesive layer 2. The wiring layer 11A is composed of an electrolytic copper plating layer 13 and a copper plating layer 10A. Here, the wiring layer 11 is a front side wiring layer, and the wiring layer 11A is a back side wiring layer. Further, part or all of the wiring layers 11 and 11A are in contact with the convex portion 5. Further, a plurality of wiring layers 11 and 11A are formed on both surfaces of the fixed object 9B, and the plurality of wiring layers 11 and 11A are connected by the convex portion 5.

(第1および第2の実施の形態の主な効果)
以上説明したように、第1および第2の実施の形態に係る配線板1,1Aの製造法は、金属板2と支持体4とを接着層3を介して固定する固定工程を有する。そして、金属板2の一部をエッチングによって除去して凹部を形成し、金属板2の残部を凸部5とする凸部形成工程を有する。そして、凹部の一部を絶縁物としてのプリプレグ7で充填して、凸部5とプリプレグ7とを加熱を伴うプレスによって固着させた固着物9を形成する充填工程を有する。そして、固着物9の面に配線層11を形成する配線層形成工程を有する。そして、接着層3および支持体4を固着物9から取り除く剥離工程を有する。このことによって、製造された配線板1,1Aにはヒートシンクの役割を果たす凸部5が形成されることとなり、放熱性の良好な配線板1,1Aを提供することができる。また、接着層3を介して金属板2と支持体4の固定、剥離を行う作業は大気中でもできるため、作業性が良好となる。
(Main effects of the first and second embodiments)
As described above, the method for manufacturing the wiring boards 1 and 1A according to the first and second embodiments includes the fixing step of fixing the metal plate 2 and the support 4 via the adhesive layer 3. And it has the convex part formation process which removes a part of metal plate 2 by etching, forms a recessed part, and makes the remainder of the metal plate 2 the convex part 5. FIG. And it has the filling process which fills a part of recessed part with the prepreg 7 as an insulator, and forms the fixed thing 9 which fixed the convex part 5 and the prepreg 7 with the press with a heating. And it has the wiring layer formation process which forms the wiring layer 11 in the surface of the adhering thing 9. FIG. And it has the peeling process which removes the contact bonding layer 3 and the support body 4 from the fixed thing 9. FIG. As a result, the manufactured wiring boards 1 and 1A are provided with the convex portions 5 serving as heat sinks, and the wiring boards 1 and 1A having good heat dissipation can be provided. In addition, since the work for fixing and peeling the metal plate 2 and the support 4 through the adhesive layer 3 can be performed in the air, workability is improved.

また、第1および第2の実施の形態に係る配線層形成工程では、固着物9の、接着層3と対向する面とは逆側の面に表側配線層11を形成する表側配線層形成工程を行っている。そして本形態では、金属板2の一部を除去するのにエッチング法を採用し、かつ接着層3と対向する面とは逆側の面に凸部5を露出させている。すると、接着層3と対向する面とは逆側の面の凸部5の露出面積が接着層と対向する面の凸部5の露出面積よりも小さくなる。そのため、凸部5の小さい露出面では凸部5の露出面を避けた、表側配線層11のパターニングがしやすくなる。また、第1の実施の形態に係る配線層形成工程では、固着物9を支持体4に固定したまま表側配線層11を形成することができ、固着物9の取り扱い性が良好な状態で作業をすることができる。   Further, in the wiring layer forming step according to the first and second embodiments, the front side wiring layer forming step of forming the front side wiring layer 11 on the surface of the fixed object 9 opposite to the surface facing the adhesive layer 3. It is carried out. In this embodiment, an etching method is employed to remove a part of the metal plate 2, and the convex portion 5 is exposed on the surface opposite to the surface facing the adhesive layer 3. Then, the exposed area of the convex portion 5 on the surface opposite to the surface facing the adhesive layer 3 is smaller than the exposed area of the convex portion 5 on the surface facing the adhesive layer. Therefore, it becomes easy to pattern the front side wiring layer 11 while avoiding the exposed surface of the convex portion 5 with the small exposed surface of the convex portion 5. Further, in the wiring layer forming process according to the first embodiment, the front-side wiring layer 11 can be formed while the fixed object 9 is fixed to the support body 4, and the work can be performed in a state in which the fixed object 9 is easy to handle. Can do.

また、第1および第2の実施の形態に係る表側配線層形成工程では、銅箔8をプリプレグ7および凸部5の上に載置し、それらの上からの加熱を伴うプレスにて凸部5および固着物9,9Aに銅箔8を固定している。このことによって、表側配線層11と固着物9,9Aとの密着強度を高くできる。特に、プレスが加熱を伴うことにより一旦エポキシ樹脂部分が溶融する。その状態の溶融物は接着剤の役割を果たすことから、それが固化した後は、より表側配線層11と固着物9,9Aとの密着強度を高くできる。   Further, in the front side wiring layer forming step according to the first and second embodiments, the copper foil 8 is placed on the prepreg 7 and the convex portion 5, and the convex portion is pressed by a press accompanied by heating from above. The copper foil 8 is fixed to 5 and the fixed objects 9 and 9A. As a result, the adhesion strength between the front wiring layer 11 and the adherents 9 and 9A can be increased. In particular, the epoxy resin part once melts when the press is heated. Since the melt in this state plays the role of an adhesive, the adhesion strength between the front-side wiring layer 11 and the fixed substances 9 and 9A can be further increased after it has solidified.

また、第2の実施の形態に係る裏側配線層形成工程では、露出する接着層3に銅粉層12および電解銅めっき層13をこの順に形成して導電層を形成し、剥離工程の後に裏側配線層11Aを形成している。このことによって、固着物9Aの、接着層3と対向する面に裏側配線層11Aを形成できる。そのため、表側配線層11をも有する場合は、固着物9Aの両面に配線層11,11Aを形成することができる。なお、電解銅めっき層13は、緻密なパターニングをし易い利点がある。   In the backside wiring layer forming step according to the second embodiment, the copper powder layer 12 and the electrolytic copper plating layer 13 are formed in this order on the exposed adhesive layer 3 to form a conductive layer, and the backside is formed after the peeling step. A wiring layer 11A is formed. Thus, the back wiring layer 11A can be formed on the surface of the fixed object 9A facing the adhesive layer 3. Therefore, when it also has the front side wiring layer 11, the wiring layers 11 and 11A can be formed on both surfaces of the fixed object 9A. The electrolytic copper plating layer 13 has an advantage that it is easy to perform fine patterning.

また、第2の実施の形態に係る導電層形成工程は、銅粉を接着層3に被着させる工程を有している。このことによって、粉末散布法等、容易な方法で導電層形成工程を行うことができる。   Moreover, the conductive layer forming step according to the second embodiment includes a step of depositing copper powder on the adhesive layer 3. Thereby, the conductive layer forming step can be performed by an easy method such as a powder dispersion method.

また、第1および第2の実施の形態に係る配線板1,1Aは、各配線層11,11Aの一部または全部と凸部5とが接触している。このことによって、配線板1,1Aに蓄積される熱を配線層11,11Aを介してヒートシンクの役割を果たす凸部5に効率良く伝達できる。   Further, in the wiring boards 1 and 1A according to the first and second embodiments, a part or all of the wiring layers 11 and 11A and the convex portion 5 are in contact with each other. As a result, the heat accumulated in the wiring boards 1 and 1A can be efficiently transmitted to the convex portion 5 serving as a heat sink via the wiring layers 11 and 11A.

また、第2の実施の形態に係る配線板1Aは、配線層11,11Aを複数有し、複数の配線層11,11Aが、凸部5によって接続されている。このことによって、固着物9Bの両面に形成されている表側配線層11と配線層11Aとを、凸部5によって電気接続させることができる。   Further, the wiring board 1A according to the second embodiment includes a plurality of wiring layers 11 and 11A, and the plurality of wiring layers 11 and 11A are connected by the convex portion 5. Thus, the front wiring layer 11 and the wiring layer 11A formed on both surfaces of the fixed object 9B can be electrically connected by the convex portion 5.

また、第1および第2の実施の形態に係る接着層3は、基材と、その基材の両面に形成された粘着性を有するシート状の第1と第2の粘着層を備えている。そして、支持体4と対向する第1の粘着層の粘着力を、基材を挟んで逆側の第2の粘着層の粘着力よりも強いものとしている。このことによって、剥離工程で、固着物9,9Aと支持体4とを剥がす方向に応力を付与すると、接着層3が支持体の方に接着した状態で剥がすことができる。そのことから、固着物9,9A側に接着層3が接着することなく、固着物9,9Aから接着層3のみを剥がす作業を要しない。   In addition, the adhesive layer 3 according to the first and second embodiments includes a base material and first and second adhesive layers in the form of adhesive sheets formed on both surfaces of the base material. . And the adhesive force of the 1st adhesive layer facing the support body 4 shall be stronger than the adhesive force of the 2nd adhesive layer on the opposite side across the base material. By this, when a stress is applied in the peeling process in a direction in which the fixed objects 9, 9A and the support 4 are peeled off, the adhesive layer 3 can be peeled off in a state of being bonded to the support. Therefore, the adhesive layer 3 does not adhere to the fixed objects 9 and 9A, and the work of peeling only the adhesive layer 3 from the fixed objects 9 and 9A is not required.

また、第1および第2の実施の形態に係る接着層3および支持体4は、繰り返し使用されるものである。また、使用によって第1の粘着層の粘着力が低下しても、アルコール系の有機溶剤を用いて洗浄することで、粘着力が復活する。このことによって、配線板1,1Aの製造コストを低減できる。   Further, the adhesive layer 3 and the support 4 according to the first and second embodiments are repeatedly used. Moreover, even if the adhesive strength of the first adhesive layer is reduced by use, the adhesive strength is restored by washing with an alcohol-based organic solvent. This can reduce the manufacturing cost of the wiring boards 1 and 1A.

(他の形態)
上述した第1および第2の実施の形態は、本発明の好適な形態の一例ではあるが、これに限定されるものではなく本発明の要旨を変更しない範囲において種々変形実施が可能である。
(Other forms)
The above-described first and second embodiments are examples of preferred embodiments of the present invention, but the present invention is not limited thereto, and various modifications can be made without departing from the scope of the present invention.

上述した第1および第2の実施の形態では、固着物9,9Aの、接着層3と対向する面とは逆側の面に表側配線層11を形成している。しかし、固着物9,9Aの、接着層3と対向する面にのみ裏側配線層11A等の配線層を形成しても良い。また配線層は、配線板の内層にも形成でき、4層板、8層板等の多層配線板とすることができる。   In the first and second embodiments described above, the front wiring layer 11 is formed on the surface of the fixed object 9, 9A opposite to the surface facing the adhesive layer 3. However, a wiring layer such as the back-side wiring layer 11A may be formed only on the surface of the fixed objects 9, 9A facing the adhesive layer 3. The wiring layer can also be formed on the inner layer of the wiring board, and can be a multilayer wiring board such as a four-layer board or an eight-layer board.

また、上述した第2の実施の形態では、固着物9Aの、接着層3と対向する面に裏側配線層11Aを形成している。しかし固着物9,9Aの、接着層3と対向する面に配線層を形成する方法は、第2の実施の形態における方法に限らない。   In the second embodiment described above, the back wiring layer 11 </ b> A is formed on the surface of the fixed object 9 </ b> A that faces the adhesive layer 3. However, the method of forming the wiring layer on the surface of the fixed objects 9 and 9A facing the adhesive layer 3 is not limited to the method in the second embodiment.

たとえば他の配線板の製造法としては、上述の固定工程と、凸部形成工程と、充填工程と、配線層形成工程と、剥離工程とを有するようにする。そして、配線層形成工程では、凸部形成工程の後かつ充填工程前に、露出する接着層3に粉末を被着させる粉末被着工程を有するようにする。そして、剥離工程の後に、粉末を除去して固着物の表面を粗面化する粗面化工程を有するようにする。そして、粗面化した固着物の表面に無電解めっき層を形成するめっき工程を有するようにする。そして、無電解めっき層の一部を除去し、残った無電解めっき層を用いて裏側配線層を形成する裏側配線層形成工程を有するようにする。このような工程を経ることで、固着物の、接着層3と対向する面に裏側配線層を形成することができる。   For example, as another method for manufacturing a wiring board, the above-described fixing step, convex portion forming step, filling step, wiring layer forming step, and peeling step are included. And in a wiring layer formation process, it is made to have the powder application | coating process which adheres powder to the exposed contact bonding layer 3 after a convex part formation process and before a filling process. And after a peeling process, it is made to have a roughening process which removes powder and roughens the surface of a fixed thing. And it has a plating process which forms an electroless plating layer on the surface of the roughened fixed object. Then, a part of the electroless plating layer is removed, and a back side wiring layer forming step of forming a back side wiring layer using the remaining electroless plating layer is provided. By passing through such a process, a back side wiring layer can be formed on the surface of the fixed object facing the adhesive layer 3.

ここで、上述の粉末被着工程に用いる粉末は、酸処理等によって除去できるものが好ましい。たとえば、炭酸カルシウム粉末等が好適である。このような粉末を用いて粗面化工程を行うことで、めっき工程で形成する無電解めっき層と固着物との密着性が良好となる。   Here, the powder used in the above-described powder deposition step is preferably one that can be removed by acid treatment or the like. For example, calcium carbonate powder is suitable. By performing the roughening process using such a powder, the adhesion between the electroless plating layer formed in the plating process and the fixed substance is improved.

また、たとえば他の配線板の製造法としては、上述の固定工程と、凸部形成工程と、充填工程と、配線層形成工程と、剥離工程とを有するようにする。そして、金属板の接着層と対向する面側に、金属板の一部を除去する際に除去されない導電性のレジスト層を設けるようにする。そして、凸部形成工程の後かつ充填工程前に、露出するレジスト層に電解めっき法によって導電層を形成する導電層形成工程を有するようにする。そして、剥離工程の後に、露出するレジスト層を除去し、さらに導電層の一部を除去し、残った導電層を用いて固着物の接着層と対向する面側に裏側配線層を形成する裏側配線層形成工程を有するようにする。このような工程を経ることで、固着物の、接着層3と対向する面に裏側配線層を形成することができる。   Further, for example, as another method for manufacturing a wiring board, the above-described fixing step, convex portion forming step, filling step, wiring layer forming step, and peeling step are included. Then, a conductive resist layer that is not removed when part of the metal plate is removed is provided on the side of the metal plate facing the adhesive layer. And after a convex part formation process and before a filling process, it is made to have the conductive layer formation process which forms a conductive layer by the electroplating method to the exposed resist layer. Then, after the peeling process, the exposed resist layer is removed, a part of the conductive layer is further removed, and a back side wiring layer is formed on the side of the surface facing the adhesive layer of the fixed object using the remaining conductive layer. A wiring layer forming step is included. By passing through such a process, a back side wiring layer can be formed on the surface of the fixed object facing the adhesive layer 3.

ここで、レジスト層には、たとえばニッケル箔等、凸部形成工程において、凸部5を形成するためのアンモニアアルカリエッチングによって除去されないものを用いる。そしてレジスト層の導電性を利用して、レジスト層の表面に電解めっき法によって銅等のめっき層(導電層)を形成する。その後、レジスト層を剥離剤で除去する。そしてその導電層をエッチング等の方法で裏側配線層とする。この銅等のめっき層は、緻密なパターニングをし易い利点がある。なお、レジスト層とは反対側の金属板2の面には、レジスト6を予め金属板2の表面に配置しておくこととしても良い。   Here, as the resist layer, for example, a nickel foil or the like that is not removed by ammonia alkali etching for forming the convex portion 5 in the convex portion forming step is used. Then, using the conductivity of the resist layer, a plating layer (conductive layer) such as copper is formed on the surface of the resist layer by electrolytic plating. Thereafter, the resist layer is removed with a release agent. Then, the conductive layer is used as a back side wiring layer by a method such as etching. This plated layer of copper or the like has an advantage that it is easy to perform fine patterning. Note that the resist 6 may be disposed on the surface of the metal plate 2 in advance on the surface of the metal plate 2 opposite to the resist layer.

また、上述した第1および第2の実施の形態では、接着層3として、TACONIC社製の製品名「TACSIL F20」を使用している。しかし、この材料以外のもので接着層3を構成することができる。たとえばTACONIC社製の製品名「TACSIL F20−L」等を使用しても良い。   In the first and second embodiments described above, the product name “TACSIL F20” manufactured by TACONIC is used as the adhesive layer 3. However, the adhesive layer 3 can be made of a material other than this material. For example, the product name “TACSIL F20-L” manufactured by TACONIC may be used.

また、上述した第1および第2の実施の形態では、接着層3として、基材と、その基材の両面に形成された第1と第2の粘着層を有するシート状のものとし、支持体4と対向する第2の粘着層の粘着力が、基材を挟んで逆側の第1の粘着層の粘着力よりも5倍以上強いものを用いている。しかし基材は接着層3の必須の構成部材ではない。また接着層3が基材を有し、その基材の両面に同一かつ同一の粘着層を設けるようにしても良い。また、基材の両面に別の材料からなる粘着層を配し、その粘着力を異ならせても良い。さらには、それらの粘着層の粘着力を異ならせず、同一としても良い。また接着層3の基材の両面に配置する別の粘着層の粘着力を異ならせる場合、支持体4と対向する粘着層の粘着力を、基材を挟んで逆側の粘着層の粘着力よりも弱くしても良い。さらに、支持体4と対向する第2の粘着層の粘着力を基材を挟んで逆側の第1の粘着層の粘着力よりも強いものを用いるにしても、第2の粘着層の粘着力が第1の粘着層の粘着力より5倍強いものでなく、1.5倍、2倍、3倍、4倍、6倍、10倍等の強さを持つものを用いても良い。さらに第2の粘着層の粘着力が第1の粘着層の粘着力よりも10倍以上強いものを用いることとしても良い。   In the first and second embodiments described above, the adhesive layer 3 is a sheet having a base material and first and second adhesive layers formed on both surfaces of the base material, and is supported. The adhesive strength of the second adhesive layer facing the body 4 is 5 times or more stronger than the adhesive strength of the first adhesive layer on the opposite side across the substrate. However, the base material is not an essential component of the adhesive layer 3. The adhesive layer 3 may have a base material, and the same and the same adhesive layer may be provided on both surfaces of the base material. Moreover, the adhesive layer which consists of another material may be distribute | arranged on both surfaces of a base material, and the adhesive force may be varied. Furthermore, it is good also as the same, without making the adhesive force of those adhesive layers differ. Moreover, when making the adhesive force of another adhesive layer arrange | positioned on both surfaces of the base material of the adhesive layer 3 differ, the adhesive force of the adhesive layer facing the support body 4 is set to the adhesive force of the adhesive layer on the opposite side across the base material. It may be weaker than. Further, even if the adhesive force of the second adhesive layer facing the support 4 is stronger than the adhesive force of the first adhesive layer on the opposite side across the substrate, the adhesive force of the second adhesive layer is used. A force having a strength of 1.5 times, 2 times, 3 times, 4 times, 6 times, 10 times, or the like may be used instead of the force that is 5 times stronger than the adhesive strength of the first adhesive layer. Furthermore, it is good also as what uses the adhesive force of a 2nd adhesion layer 10 times or more stronger than the adhesive force of a 1st adhesion layer.

また、上述した第1および第2の実施の形態では、接着層3および支持体4は、繰り返し使用されるものとしている。しかし、使用可能回数が1回限りの接着層3または支持体4を用いることとしても良い。   In the first and second embodiments described above, the adhesive layer 3 and the support 4 are repeatedly used. However, the adhesive layer 3 or the support 4 that can be used only once may be used.

また、上述した第1および第2の実施の形態の製造過程では、接着層3と対向しない側の凸部5は露出している。また、凹部の一部が絶縁物によって充填されている。しかし、凹部の全部を絶縁物によって充填することができる。さらに、凹部と凹部以外の領域を絶縁物によって充填することで、プリプレグ7等の絶縁物で接着層3と対向しない側の凸部5を覆い、露出させないようにしても良い。このように接着層3と対向しない側の凸部5を露出させなくても、凸部5はヒートシンクとしての役割を果たすことができる。また接着層3と対向しない側の凸部5を露出させずに絶縁することによって、接着層3と対向しない側の固着物9,9B面の絶縁物の面積が増えて、表側配線層11のパターニングの自由度を増すことができる。   In the manufacturing process of the first and second embodiments described above, the convex portion 5 on the side not facing the adhesive layer 3 is exposed. Further, a part of the recess is filled with an insulator. However, the entire recess can be filled with an insulator. Furthermore, the convex part 5 on the side not facing the adhesive layer 3 may be covered with an insulator such as the prepreg 7 so that the concave part and the area other than the concave part are filled with an insulator so as not to be exposed. Thus, even if the convex part 5 on the side not facing the adhesive layer 3 is not exposed, the convex part 5 can serve as a heat sink. Further, by insulating without exposing the convex portion 5 on the side not facing the adhesive layer 3, the area of the insulator on the surfaces of the fixed objects 9 and 9 B not facing the adhesive layer 3 is increased. The degree of freedom of patterning can be increased.

また、上述した第2の実施の形態では、配線板1Aは、表側配線層11と裏側配線層11Aを有し、それらの配線層11,11Aが、凸部5によって接続されている。しかし、配線層11,11Aは、凸部5によって接続されなくても良い。また、複数の配線層を、凸部5によって接続する場合であっても、固着物9Bの片面でそのような構成を実現しても良い。たとえば、複数の表側配線層11を同一の凸部5に接触させることができる。複数の表側配線層11を同一の凸部5に接触させる構成は、上述した第1の実施の形態の固着物9の表側配線層11の形成面においても実現できる。   In the second embodiment described above, the wiring board 1 </ b> A has the front-side wiring layer 11 and the back-side wiring layer 11 </ b> A, and these wiring layers 11 and 11 </ b> A are connected by the convex portion 5. However, the wiring layers 11 and 11A may not be connected by the convex portion 5. Further, even when a plurality of wiring layers are connected by the convex portion 5, such a configuration may be realized on one side of the fixed object 9B. For example, a plurality of front side wiring layers 11 can be brought into contact with the same convex portion 5. The configuration in which the plurality of front-side wiring layers 11 are brought into contact with the same convex portion 5 can also be realized on the surface on which the front-side wiring layer 11 of the fixed object 9 of the first embodiment described above is formed.

また、上述した第1および第2の実施の形態では、金属板2には銅板を用い、支持体4にはステンレス板を用いている。しかし、金属板2および支持体4の材質は、これらに限定されず、適宜他の材質の金属板2および支持体4を使用することができる。たとえば金属板2には、エッチング可能なステンレス、アルミニウム、クロム、金、鉄等を用いることができる。ただし、銅は安価で熱伝導性に優れることから金属板2(凸部5)の材質として好ましい。また、支持体4には、アルミニウム等の金属の他、樹脂またはガラス繊維が混入された樹脂等を用いることができる。   In the first and second embodiments described above, the metal plate 2 is a copper plate, and the support 4 is a stainless plate. However, the materials of the metal plate 2 and the support 4 are not limited to these, and the metal plate 2 and the support 4 of other materials can be used as appropriate. For example, the metal plate 2 can be made of etchable stainless steel, aluminum, chromium, gold, iron, or the like. However, copper is preferable as a material of the metal plate 2 (convex portion 5) because it is inexpensive and excellent in thermal conductivity. In addition to the metal such as aluminum, the support 4 can be made of resin or resin mixed with glass fiber.

また、上述した第2の実施の形態では、導電層形成工程では、銅粉を接着層3に被着させている。しかし、銅粉等の金属粉に代えて銅箔などの金属箔を接着層3に被着させることとしても良い。金属箔を用いる場合には、厚みが十分に厚い金属箔を用いれば、その後の電解銅めっき層13を形成する工程を省略できる可能性がある。   Moreover, in 2nd Embodiment mentioned above, the copper powder is made to adhere to the contact bonding layer 3 at a conductive layer formation process. However, metal foil such as copper foil may be attached to the adhesive layer 3 instead of metal powder such as copper powder. In the case of using a metal foil, there is a possibility that the subsequent step of forming the electrolytic copper plating layer 13 can be omitted if a metal foil having a sufficiently thick thickness is used.

また、上述した第1および第2の実施の形態では、表側配線層形成工程において、銅箔8をプリプレグ7の上に載置し、加熱を伴うプレスにて凸部5および固着物9,9Aに銅箔8を固定している。しかし、絶縁物として常温で硬化する接着剤等を用いる場合には、加熱は必要ではない。また、絶縁物として常温で硬化する接着剤等を用い、その後、凸部5および固着物の表面に無電解めっきを施す等すれば、銅箔8およびプレスは必要ではない。また、第2の実施の形態において、剥離工程後、電解銅めっき層13と固着物9Bとを密着させるプレスを行うこととしても良い。   In the first and second embodiments described above, in the front side wiring layer forming step, the copper foil 8 is placed on the prepreg 7, and the convex portion 5 and the fixed objects 9, 9A are pressed by a press with heating. A copper foil 8 is fixed to the surface. However, when an adhesive or the like that cures at room temperature is used as the insulator, heating is not necessary. Moreover, if the adhesive etc. which harden | cure at normal temperature are used as an insulator, and the electroless plating is given to the surface of the convex part 5 and the fixed thing after that, the copper foil 8 and a press are not required. Moreover, in 2nd Embodiment, it is good also as performing the press which adheres the electrolytic copper plating layer 13 and the fixed thing 9B after a peeling process.

また、上述した第1および第2の実施の形態では、銅めっき層10、電解銅めっき層13の形成に電解めっき法を採用している。しかし電解めっき法に代えて無電解めっき法を採用しても良い。また、電解めっき法によらず、銅箔等の金属箔を貼付する等の方法を採用しても良い。   In the first and second embodiments described above, the electrolytic plating method is employed for forming the copper plating layer 10 and the electrolytic copper plating layer 13. However, an electroless plating method may be employed instead of the electrolytic plating method. Moreover, you may employ | adopt methods, such as sticking metal foil, such as copper foil, irrespective of an electrolytic plating method.

また、上述した第1および第2の実施の形態では、表側配線層11を形成する際に、金属板2の露出面のうち、凸部5を形成したい場所に、ニッケルからなるレジスト6を、固定工程の後に配置している。しかし、レジスト6は、予め金属板2の表面に配置しておくこととしても良い。また、レジスト6には、ニッケルに代えて銅、錫、はんだ等からなるもの、または樹脂からなるドライフィルム等を用いることができる。   In the first and second embodiments described above, when forming the front-side wiring layer 11, the resist 6 made of nickel is formed on the exposed surface of the metal plate 2 at a place where the convex portion 5 is to be formed. Arranged after the fixing step. However, the resist 6 may be arranged on the surface of the metal plate 2 in advance. The resist 6 may be made of copper, tin, solder or the like instead of nickel, or a dry film made of resin.

本発明の第1の実施の形態に係る配線板の製造法を示す図で、各工程を配線板の仕掛品および配線板の縦断面図として示す図で、(A)から(H)に進むに従って、配線板の製造が進行する状況を示す図である。It is a figure which shows the manufacturing method of the wiring board which concerns on the 1st Embodiment of this invention, and is a figure which shows each process as a work-in-process of a wiring board and a longitudinal cross-sectional view of a wiring board, and progresses from (A) to (H) It is a figure which shows the condition where manufacture of a wiring board advances according to. 本発明の第1の実施の形態に係る配線板の製造法を示す図で、図1の(H)の工程の後の配線板の製造の各工程を配線板の仕掛品および配線板の縦断面図として示す図で、(A)から(C)に進むに従って、配線板の製造が進行する状況を示す図である。FIG. 3 is a diagram showing a method for manufacturing a wiring board according to the first embodiment of the present invention, wherein each step of manufacturing the wiring board after the step (H) of FIG. It is a figure shown as a top view, and is a figure which shows the condition where manufacture of a wiring board advances as it progresses from (A) to (C). 本発明の第2の実施の形態に係る配線板の製造法を示す図で、各工程を配線板の仕掛品および配線板の縦断面図として示す図で、(A)から(H)に進むに従って、配線板の製造が進行する状況を示す図である。It is a figure which shows the manufacturing method of the wiring board which concerns on the 2nd Embodiment of this invention, and is a figure which shows each process as a work piece of a wiring board and a longitudinal cross-sectional view of a wiring board, and progresses from (A) to (H) It is a figure which shows the condition where manufacture of a wiring board advances according to. 本発明の第2の実施の形態に係る配線板の製造法を示す図で、図3の(H)の工程の後の配線板の製造の各工程を配線板の仕掛品および配線板の縦断面図として示す図で、(A)から(E)に進むに従って、配線板の製造が進行する状況を示す図である。It is a figure which shows the manufacturing method of the wiring board which concerns on the 2nd Embodiment of this invention, and each process of the manufacturing of the wiring board after the process of (H) of FIG. It is a figure shown as a top view, and is a figure which shows the condition where manufacture of a wiring board advances as it progresses from (A) to (E).

符号の説明Explanation of symbols

1,1A 配線板
2 金属板
3 接着層
4 支持体
5 凸部
7 プリプレグ(絶縁物)
8 銅箔
9,9A,9B 固着物
11 配線層(表側配線層)
11A 配線層(裏側配線層)
12 銅粉層(導電層の一部、導電性粉末)
13 電解銅めっき層(導電層の一部)
1,1A Wiring board 2 Metal plate 3 Adhesive layer 4 Support 5 Protrusion 7 Prepreg (insulator)
8 Copper foil 9, 9A, 9B Fixed object 11 Wiring layer (front side wiring layer)
11A Wiring layer (Back side wiring layer)
12 Copper powder layer (part of conductive layer, conductive powder)
13 Electrolytic copper plating layer (part of conductive layer)

Claims (11)

金属板と、上記金属板を支持する支持体とを、接着性を有する接着層を介して固定する固定工程と、
上記金属板の一部を除去して上記金属板がつながらない凹部を形成し、上記金属板の残部を凸部とする凸部形成工程と、
上記凹部の全部または一部を絶縁物で充填して、上記凸部と上記絶縁物とを固着させた固着物を形成する充填工程と、
上記固着物に配線層を形成する配線層形成工程と、
上記接着層および上記支持体を上記固着物から取り除く剥離工程と、
を有することを特徴とする配線板の製造法。
A fixing step of fixing the metal plate and the support that supports the metal plate via an adhesive layer having adhesiveness;
A convex portion forming step in which a part of the metal plate is removed to form a concave portion where the metal plate is not connected, and the remaining portion of the metal plate is a convex portion;
A filling step of filling all or part of the concave portion with an insulating material to form a fixed material in which the convex portion and the insulating material are fixed;
A wiring layer forming step of forming a wiring layer on the fixed matter;
A peeling step of removing the adhesive layer and the support from the fixed matter;
A method for producing a wiring board, comprising:
前記配線層形成工程は、
前記固着物の、前記接着層と対向する面とは逆側の面に表側配線層を形成する表側配線層形成工程を有することを特徴とする請求項1記載の配線板の製造法。
The wiring layer forming step includes
2. The method of manufacturing a wiring board according to claim 1, further comprising a front side wiring layer forming step of forming a front side wiring layer on a surface opposite to the surface facing the adhesive layer of the fixed matter.
前記配線層形成工程では、銅箔を前記絶縁物または前記固着物に載置し、プレスにて前記凸部および前記固着物に上記銅箔を固定する工程を有することを特徴とする請求項1または2記載の配線板の製造法。   2. The wiring layer forming step includes a step of placing a copper foil on the insulator or the fixed object, and fixing the copper foil to the convex portion and the fixed object with a press. Or the manufacturing method of the wiring board of 2. 前記配線層形成工程は、
前記凸部形成工程の後かつ前記充填工程前に、露出する前記接着層に粉末を被着させる粉末被着工程と、
前記剥離工程の後に、上記粉末を除去して前記固着物の表面を粗面化する粗面化工程と、
上記粗面化した前記絶縁物の表面に無電解めっき層を形成するめっき工程と、
上記無電解めっき層の一部を除去し、残った上記無電解めっき層を用いて前記固着物の前記接着層と対向する面側に裏側配線層を形成する裏側配線層形成工程と、
を有することを特徴とする請求項1または2記載の配線板の製造法。
The wiring layer forming step includes
A powder deposition step of depositing powder on the exposed adhesive layer after the convex portion forming step and before the filling step;
After the peeling step, a roughening step of removing the powder and roughening the surface of the fixed object,
A plating step of forming an electroless plating layer on the surface of the roughened insulator;
Removing a part of the electroless plating layer, and using the remaining electroless plating layer, a back side wiring layer forming step of forming a back side wiring layer on the side of the fixed object facing the adhesive layer;
The method for producing a wiring board according to claim 1, wherein:
前記配線層形成工程は、
前記凸部形成工程の後かつ前記充填工程前に、露出する前記接着層に導電層を形成する導電層形成工程と、
前記剥離工程の後に、露出する上記導電層の一部を除去し、残った上記導電層を用いて前記固着物の前記接着層と対向する面側に裏側配線層を形成する裏側配線層形成工程と、
を有することを特徴とする請求項1または2記載の配線板の製造法。
The wiring layer forming step includes
A conductive layer forming step of forming a conductive layer on the exposed adhesive layer after the convex portion forming step and before the filling step;
After the peeling step, a part of the exposed conductive layer is removed, and a back side wiring layer forming step is formed using the remaining conductive layer to form a back side wiring layer on the side of the fixed object facing the adhesive layer. When,
The method for producing a wiring board according to claim 1, wherein:
前記導電層形成工程は、導電性粉末を前記接着層に被着させる工程を有することを特徴とする請求項5記載の配線板の製造法。   6. The method of manufacturing a wiring board according to claim 5, wherein the conductive layer forming step includes a step of depositing conductive powder on the adhesive layer. 前記金属板の前記接着層と対向する面側に、前記金属板の一部を除去する際に除去されない導電性のレジスト層を設け、
前記凸部形成工程の後かつ前記充填工程前に、露出する上記レジスト層に電解めっき法によって導電層を形成する導電層形成工程と、
前記剥離工程の後に、露出する上記レジスト層を除去し、さらに上記導電層の一部を除去し、残った上記導電層を用いて前記固着物の前記接着層と対向する面側に裏側配線層を形成する裏側配線層形成工程と、
を有することを特徴とする請求項1または2記載の配線板の製造法。
On the side of the metal plate facing the adhesive layer, a conductive resist layer that is not removed when removing a part of the metal plate is provided.
A conductive layer forming step of forming a conductive layer by electrolytic plating on the exposed resist layer after the convex portion forming step and before the filling step;
After the peeling step, the exposed resist layer is removed, a part of the conductive layer is further removed, and a backside wiring layer is formed on the surface of the fixed object facing the adhesive layer using the remaining conductive layer. Forming a backside wiring layer,
The method for producing a wiring board according to claim 1, wherein:
前記配線層と前記凸部とが接触していることを特徴とする請求項1記載の配線板の製造法。   The method for manufacturing a wiring board according to claim 1, wherein the wiring layer and the convex portion are in contact with each other. 前記配線層を複数形成し、複数の前記配線層が、前記凸部によって接続されていることを特徴とする請求項1記載の配線板の製造法。   The method for manufacturing a wiring board according to claim 1, wherein a plurality of the wiring layers are formed, and the plurality of wiring layers are connected by the convex portions. 前記接着層は、基材と、その基材の両面に形成された粘着性を有するシート状の第1と第2の粘着層を備え、
前記支持体と対向する上記第2の粘着層の粘着力が、上記基材を挟んで逆側の前記第1の粘着層の粘着力よりも強いことを特徴とする請求項1から9のいずれか1項に記載の配線板の製造法。
The adhesive layer includes a base material and adhesive first and second adhesive layers formed on both surfaces of the base material,
The adhesive force of the second adhesive layer facing the support is stronger than the adhesive force of the first adhesive layer on the opposite side across the base material. The manufacturing method of the wiring board of Claim 1.
前記接着層および前記支持体は、繰り返し使用されるものであることを特徴とする請求項1から10のいずれか1項に記載の配線板の製造法。   The method for manufacturing a wiring board according to any one of claims 1 to 10, wherein the adhesive layer and the support are used repeatedly.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2013138080A (en) * 2011-12-28 2013-07-11 Fujitsu Ltd Electronic component built-in substrate, manufacturing method of electronic component built-in substrate, and lamination type electronic component built-in substrate

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