JP2008274300A - Curable resin composition - Google Patents

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Yoshiyuki Takebe
義之 竹部
Koji Watabe
功治 渡部
Toshio Enami
俊夫 江南
Takuo Suzuki
卓夫 鈴木
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a curable resin composition which is excellent in mechanical strength, heat resistance, moisture resistance, flexibility, temperature cycle resistance, solder reflow resistance and dimensional stability after curing and exhibits high adhesion reliability and high conduction reliability. <P>SOLUTION: The curable resin composition comprises an epoxy resin, a solid polymer having a functional group reactive with an epoxy group, and an epoxy resin curing agent. When a cured product of this curable resin composition is dyed with a heavy metal and observed with a transmission electron microscope, no phase separation structure is observed in the matrix resin composed of the resin, and the polymer having an epoxy group has an epoxy equivalent weight of 200-1,000. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、高い信頼性を有する硬化性樹脂組成物に関する。 The present invention relates to a curable resin composition having high reliability.

近年の半導体装置に対する小型化や高性能化の要求に対して、様々な電子材料用接着剤が開発されている。これらの電子材料用接着剤には高度の信頼性が求められており、これを確保するために、硬化収縮が少なく、高い接着力を有し、かつ、種類が豊富にあり、配合設計が容易なエポキシ樹脂が最も良く用いられている。このようなエポキシ樹脂としては、作業性に優れることから、例えばビスフェノールA型液状エポキシ樹脂やビスフェノールF型液状エポキシ樹脂等の汎用の液状エポキシ樹脂が一般的に多用されている。しかし、これら汎用の液状エポキシ樹脂を用いた電子材料用接着剤では現在の非常に高い信頼性に対する要求には対応できなくなってきており、新たな高性能のエポキシ樹脂が開発されてきている。なお、本発明で言う接着剤には粘着剤も包含される。 Various adhesives for electronic materials have been developed in response to recent demands for miniaturization and higher performance of semiconductor devices. These adhesives for electronic materials are required to have a high degree of reliability, and in order to ensure this, there is little cure shrinkage, high adhesive strength, a wide variety of types, and easy compounding design Epoxy resins are most often used. As such an epoxy resin, a general liquid epoxy resin such as a bisphenol A type liquid epoxy resin or a bisphenol F type liquid epoxy resin is generally used because of its excellent workability. However, the adhesives for electronic materials using these general-purpose liquid epoxy resins can no longer meet the current requirements for extremely high reliability, and new high-performance epoxy resins have been developed. The adhesive referred to in the present invention includes a pressure-sensitive adhesive.

現在、電子材料用接着剤として求められる具体的な信頼性に対する要求性能としては、例えば、耐熱性、耐湿性、耐冷熱サイクル性、耐ハンダリフロー性等が挙げられ、中でも、耐湿性及び耐ハンダリフロー性については、硬化した接着剤の吸水率が低く、吸水量が小さいことが必ず必要とされている。これは、硬化した接着剤の吸水率が高いと接着界面に水が浸入しやすくなって、界面の接着力を低下させる恐れがあるからである。また、硬化した接着剤の吸水量が大きいと、200〜260℃に達するハンダリフロー温度によって水分が急激に気化し、電子部品が破壊される恐れがあるからである。 Currently, specific performance requirements for reliability required as an adhesive for electronic materials include, for example, heat resistance, moisture resistance, cold heat cycle resistance, solder reflow resistance, etc., among which moisture resistance and solder resistance For reflowability, the cured adhesive must have a low water absorption and a small amount of water absorption. This is because if the water absorption of the cured adhesive is high, water can easily enter the bonding interface, which may reduce the adhesive strength of the interface. Moreover, when the water absorption amount of the cured adhesive is large, moisture is rapidly vaporized by the solder reflow temperature reaching 200 to 260 ° C., and the electronic component may be destroyed.

一方、耐冷熱サイクル性を向上させるためには、一般的に線膨張係数(線膨張率)を小さくするための無機フィラーを多量に充填している。これは、無機フィラーの方が有機フィラーよりも遥かに線膨張係数が小さいことに由来している。しかし、無機フィラーを多量に充填すると、線膨張係数は小さくなるものの、接着剤の弾性率が高くなるため、硬化した接着剤が応力緩和しづらくなるという問題点がある。即ち、無機フィラーの充填によって耐冷熱サイクル性を向上させる方法には限界がある。また、接着剤をシート状に加工した接着シートとして用いる場合には、充填されている無機フィラーが、硬化前の接着シートの強度を低下させてしまったり、ビア孔を必要とする基板に用いる際にはレーザーによる加工を難しくしたり、精度の高いビア孔の形成を困難にするという問題点がある。 On the other hand, in order to improve the thermal cycle resistance, a large amount of an inorganic filler for reducing the linear expansion coefficient (linear expansion coefficient) is generally filled. This is because the inorganic filler has a much smaller linear expansion coefficient than the organic filler. However, when a large amount of inorganic filler is filled, the coefficient of linear expansion is reduced, but the elastic modulus of the adhesive is increased, so that there is a problem that the cured adhesive is difficult to relieve stress. That is, there is a limit to the method for improving the thermal cycle resistance by filling with an inorganic filler. Also, when the adhesive is used as an adhesive sheet processed into a sheet, the filled inorganic filler reduces the strength of the adhesive sheet before curing or is used for a substrate that requires a via hole. However, there is a problem that it is difficult to process with a laser and it is difficult to form a highly accurate via hole.

また、耐冷熱サイクル性の向上に関しては、発生する応力を低減させるために、アクリルゴム等のゴムポリマーを添加することも一般的に行われている(例えば、特許文献1参照)。 Moreover, in order to improve the thermal cycle resistance, a rubber polymer such as acrylic rubber is generally added in order to reduce the generated stress (see, for example, Patent Document 1).

しかし、ゴムポリマーを添加すると、耐冷熱サイクル性は向上するものの、耐熱性を低下させるという犠牲をはらって応力緩和を達成させているため、高い耐熱性や耐湿性と高い耐冷熱サイクル性とを両立させることは困難である。即ち、耐冷熱サイクル性を高いレベルで達成するためには、冷熱サイクル時に発生する応力を緩和する必要がある。 However, the addition of the rubber polymer improves the thermal cycle resistance, but at the cost of lowering the thermal resistance, it achieves stress relaxation, so it has high thermal and humidity resistance and high thermal cycle resistance. It is difficult to achieve both. That is, in order to achieve a high level of cold cycle resistance, it is necessary to relieve stress generated during the cold cycle.

上記応力を緩和する効果のために、一般的にエポキシ樹脂に対して、カルボン酸若しくはグリシジル変性ポリオレフィン、例えばCTBNやATBN等の官能基を有するジエン系ゴムポリマー、ニトリルゴム、末端反応基シリコーン、アクリルゴム、スチレン系エラストマー等の可撓性付与成分を相溶又は相分離させるように混合する方法も用いられている。しかし、これらの可撓性付与成分がマトリックス樹脂となるエポキシ樹脂と相溶してしまった場合には、耐熱性を大幅に低下させ、高温時における高い耐熱接着力を発現することもできなくなる。また、仮にこれらの可撓性付与成分が相分離構造をとった場合でも、その可撓性付与成分とエポキシ樹脂との界面が若干相溶することにより、耐熱性が低下する傾向がある。また、上記相分離構造は、温度変化に対して必ずしも安定ではないため、温度変化によって相溶状態となることもある。 In order to relieve the stress, generally, epoxy resins are modified with carboxylic acid or glycidyl-modified polyolefins such as diene rubber polymers having functional groups such as CTBN and ATBN, nitrile rubber, terminal reactive group silicone, acrylic A method of mixing the flexibility imparting components such as rubber and styrene-based elastomer so as to be dissolved or phase separated is also used. However, when these flexibility-imparting components are compatible with the epoxy resin serving as the matrix resin, the heat resistance is greatly reduced, and a high heat-resistant adhesive force at high temperatures cannot be expressed. Further, even if these flexibility-imparting components have a phase separation structure, the heat resistance tends to decrease due to the slight compatibility of the interface between the flexibility-imparting component and the epoxy resin. In addition, the phase separation structure is not necessarily stable with respect to temperature changes, and may become compatible with temperature changes.

また、従来、エポキシ樹脂系の硬化性組成物は酸無水物等を硬化剤とすることが多いが、硬化後の硬化物中に未反応物が残存する場合がある。この未反応物は、吸湿等により反応して酸性又はアルカリ性となるため、硬化物表面及び近傍に酸性物質やアルカリ性物質が流出して、アルミや銅等の電極金属の腐食を引き起こすという問題点がある。また、硬化物中で加水分解等により生じた酸を触媒とする塩素引き抜き反応が起こって塩素イオンが流出し、信頼性を損なうという問題点もある。 Conventionally, epoxy resin-based curable compositions often use an acid anhydride or the like as a curing agent, but unreacted materials may remain in the cured product after curing. This unreacted material reacts due to moisture absorption and becomes acidic or alkaline, so that there is a problem that an acidic substance or alkaline substance flows out on and near the surface of the cured product and causes corrosion of electrode metals such as aluminum and copper. is there. In addition, there is a problem in that a chlorine extraction reaction using an acid generated by hydrolysis or the like in the cured product as a catalyst occurs and chlorine ions flow out to impair reliability.

一方、液晶ディスプレイ、パーソナルコンピュータ、携帯通信機器等のエレクトロニクス製品の製造過程において、半導体素子等の小型部品を基板に電気的に接続する場合には、微細な電極同士を対向させて接続する必要がある。また、ガラス回路基板の製造過程において、自動車のライト部分等のガラス表面に導通回路を設ける場合には、ガラス表面と導通回路の電極面とを対向させて接続する必要がある。 On the other hand, in the manufacturing process of electronic products such as liquid crystal displays, personal computers, portable communication devices, etc., when small parts such as semiconductor elements are electrically connected to a substrate, it is necessary to connect fine electrodes facing each other. is there. Further, in the process of manufacturing a glass circuit board, when providing a conductive circuit on a glass surface such as a light part of an automobile, it is necessary to connect the glass surface and the electrode surface of the conductive circuit so as to face each other.

これらの電極を接続する方法として、通常、ハンダや導電接続ペースト等を用いてバンプを接続したり、対向するバンプを直接圧着する方法が用いられている。また、接続後の電極を保護するために、樹脂を用いて接続後の電極を封止する方法が用いられている。 As a method for connecting these electrodes, a method is generally used in which bumps are connected using solder, conductive connection paste, or the like, or the opposing bumps are directly pressure-bonded. Moreover, in order to protect the electrode after connection, the method of sealing the electrode after connection using resin is used.

しかし、微細な電極は接続距離が短いため、短時間のうちに樹脂を均一に注入して封止することは困難である。また、ガラス表面と導通回路の電極面とを接続する場合、ハンダによる接続では接続部分が高温になり過ぎるという問題点がある。 However, since a fine electrode has a short connection distance, it is difficult to uniformly inject and seal a resin within a short time. Moreover, when connecting the glass surface and the electrode surface of a conduction circuit, there exists a problem that a connection part becomes high temperature by the connection by soldering.

そこで、このような問題点を解決するために、導電性微粒子と絶縁性の接着剤とを混ぜ合わせてシート状又はペースト状に形成した異方導電性接着剤が検討されている(例えば、特許文献2及び特許文献3参照)。 Therefore, in order to solve such a problem, an anisotropic conductive adhesive formed by mixing conductive fine particles and an insulating adhesive into a sheet or paste has been studied (for example, patents). Reference 2 and Patent Document 3).

しかし、従来のシート状の異方導電性接着剤では、電極又はバンプの上に加熱圧着によって導電性微粒子を押しつけて電極を封止した場合、電極と導電性微粒子との間に絶縁性の接着剤が残存して接続信頼性を低下させてしまうという問題点がある。 However, with the conventional sheet-like anisotropic conductive adhesive, when the electrode is sealed by pressing the conductive fine particle on the electrode or bump by thermocompression bonding, an insulating adhesive is provided between the electrode and the conductive fine particle. There is a problem that the agent remains and the connection reliability is lowered.

また、ペースト状の異方導電性接着剤では、ペーストを塗布する際の良好な塗工精度や塗工効率等の良好な塗工性が必要とされるが、従来の無機フィラーを多量に充填したペースト状の異方導電性接着剤は、流動性が必ずしも充分ではないため、塗工性が充分には満足されないという問題点がある。また、異方導電性接着シートをキャスト法により製造する際にも塗工性の良好なことが求められる。更に、導電性微粒子が絶縁性の接着剤に均一に分散されていないために導電性微粒子同士が凝集してしまい、隣り合う電極をショートさせてしまうという問題点がある。 In addition, paste-like anisotropic conductive adhesives require good coating properties such as good coating accuracy and coating efficiency when applying paste, but are filled with a large amount of conventional inorganic fillers. Since the paste-like anisotropic conductive adhesive does not necessarily have sufficient fluidity, there is a problem that the coatability is not sufficiently satisfied. Moreover, when manufacturing an anisotropically conductive adhesive sheet by a casting method, it is calculated | required that coating property is favorable. Furthermore, since the conductive fine particles are not uniformly dispersed in the insulating adhesive, the conductive fine particles are aggregated to cause a short circuit between adjacent electrodes.

そこで、本発明者らは、先に、取り扱う際にも導電性微粒子が接着性樹脂シート上に保持され、更に導電性微粒子の一部が接着性樹脂シートから露出している導電接続シートを開発した。この導電接続シートは、電極と導電性微粒子との間に絶縁性の接着剤が残らず、微粒子が凝集しないために、高い接続信頼性を得ることができるものである(例えば、特許文献4参照)。 Therefore, the present inventors have previously developed a conductive connection sheet in which conductive fine particles are held on the adhesive resin sheet during handling, and part of the conductive fine particles are exposed from the adhesive resin sheet. did. This conductive connection sheet can obtain high connection reliability because no insulating adhesive remains between the electrode and the conductive fine particles and the fine particles do not aggregate (see, for example, Patent Document 4). ).

しかし、本発明者らは、この導電接続シートが、例えばエレクトロニクス製品の接続部分や自動車のライト部分等に用いられた場合、その使用中にプレッシャークッカー試験(PCT)等に代表される高温高湿の環境下に曝されると、導電性微粒子の保持とシートの形状の保持とを両立することが困難になっているという知見を得た。 However, when the conductive connection sheet is used in, for example, a connection part of an electronic product or a light part of an automobile, the high temperature and high humidity represented by a pressure cooker test (PCT) or the like is used during the use. It was found that it was difficult to achieve both the retention of the conductive fine particles and the retention of the sheet shape when exposed to the above environment.

具体的には、この導電接続シートにおいて、導電性微粒子の保持力を高めるために常温での硬化前のシートの導電性微粒子に対する接着性を高くすると、硬化後でも高温高湿下においてはシートが軟化して形状保持力が低下し、接続信頼性が低下してしまうという問題点が発生する。また、高温高湿下でも軟化しないように高温高湿下におけるシートの形状保持力を高くすると、常温でのシートの導電性微粒子に対する接着性が低下するために、導電性微粒子の保持力が低下するという問題点が発生する。 Specifically, in this conductive connection sheet, if the adhesiveness of the sheet before curing at room temperature to the conductive particles is increased in order to increase the holding power of the conductive particles, the sheet will remain under high temperature and high humidity even after curing. There arises a problem that the shape retention force is lowered due to softening, and the connection reliability is lowered. In addition, if the sheet shape retention strength under high temperature and high humidity is increased so that it does not soften even under high temperature and high humidity, the adhesiveness of the sheet to the conductive fine particles at normal temperature decreases. Problem occurs.

また、エポキシ樹脂系硬化性組成物は絶縁基板材料としても用いることができるが、多層プリント基板等に用いられる絶縁基板には、電気的特性に影響を与えにくいこと、吸湿性が低いこと、レーザーでの位置合わせを容易とするために透明性を有すること等が求められており、更に、ハンダリフロー時等の高温処理に際しての寸法変化が小さいことが強く求められている。
また、エポキシ樹脂系硬化性組成物は絶縁基板材料としても用いることができる。多層プリント基板等に用いられる絶縁基板には、電気的特性に影響を与えにくいこと、吸湿性が低いこと、光学系レンズでの各シート同士の位置合わせを容易とするために透明性を有すること等が求められており、更に、ハンダリフロー時等の高温処理に際しての寸法変化が小さいことが強く求められている。
シリコンチップと金属フレーム、多層板、ビルドアップ基板等の有機基板、セラミクス基板等とを接合するダイアタッチフィルム絶縁材料にも、上述と同様な性能が求められる。更に、ダイアタッチフィルム付きシリコンチップとしては、ウェーハ段階で直接フィルムを貼り付けるウェーハレベルと個片化されたシリコンチップに個別に貼り付ける方式があるが、求められる性能に差はない。
Epoxy resin-based curable compositions can also be used as insulating substrate materials, but insulating substrates used for multilayer printed circuit boards, etc. are less likely to affect electrical characteristics, have low hygroscopicity, laser In order to facilitate alignment at the surface, transparency and the like are required, and further, there is a strong demand for small dimensional changes during high temperature processing such as during solder reflow.
The epoxy resin curable composition can also be used as an insulating substrate material. Insulating substrates used for multilayer printed circuit boards, etc. have little influence on electrical characteristics, low hygroscopicity, and transparency to facilitate alignment of sheets with optical lenses. In addition, there is a strong demand for small dimensional changes during high temperature processing such as during solder reflow.
A die attach film insulating material that joins a silicon chip and a metal frame, an organic substrate such as a multilayer board, a build-up substrate, a ceramic substrate, or the like is also required to have the same performance as described above. Furthermore, as a silicon chip with a die attach film, there are a method of individually attaching to a silicon level and a wafer level where a film is directly attached at a wafer stage, but there is no difference in required performance.

特許第3342703号公報Japanese Patent No. 3342703 特許第3114162号公報Japanese Patent No. 3114162 特公平7−73066号公報Japanese Patent Publication No. 7-73066 特開2002−313143号公報JP 2002-313143 A

本発明の目的は、上記現状及び問題点に鑑み、硬化後は、機械的強度、耐熱性、耐湿性、可撓性、耐冷熱サイクル性、耐ハンダリフロー性、寸法安定性等に優れ、高い接着信頼性や導通材料とした際の高い導通信頼性を発現する硬化性樹脂組成物を提供することにある。 The object of the present invention is excellent in mechanical strength, heat resistance, moisture resistance, flexibility, cold heat cycle resistance, solder reflow resistance, dimensional stability, etc. An object of the present invention is to provide a curable resin composition that exhibits high conduction reliability when used as an adhesion reliability or a conduction material.

請求項1に記載の発明(以下、「本発明1」と記す)による硬化性樹脂組成物は、エポキシ樹脂と、エポキシ基と反応する官能基を有する固形ポリマーと、エポキシ樹脂用硬化剤とを含有する硬化性樹脂組成物であって、硬化物を重金属により染色し、透過型電子顕微鏡により観察したときに、樹脂からなるマトリクス中に相分離構造が観察されず、エポキシ基を有する高分子ポリマーは、エポキシ当量が200〜1000であることを特徴とする。 A curable resin composition according to the invention described in claim 1 (hereinafter referred to as “present invention 1”) comprises an epoxy resin, a solid polymer having a functional group that reacts with an epoxy group, and a curing agent for epoxy resin. A curable resin composition containing a polymer having an epoxy group in which a cured product is dyed with heavy metal and observed with a transmission electron microscope, a phase separation structure is not observed in the resin matrix. Is characterized by having an epoxy equivalent of 200-1000.

請求項2に記載の発明(以下、「本発明3」と記す)による接着性エポキシ樹脂ペーストは、上記請求項1に記載の硬化性樹脂組成物からなることを特徴とする。 An adhesive epoxy resin paste according to the invention described in claim 2 (hereinafter referred to as “present invention 3”) is characterized by comprising the curable resin composition described in claim 1.

請求項3に記載の発明(以下、「本発明4」と記す)による層間接着剤は、上記請求項2に記載の接着性エポキシ樹脂ペーストからなることを特徴とする。 An interlayer adhesive according to the invention described in claim 3 (hereinafter referred to as “present invention 4”) is composed of the adhesive epoxy resin paste described in claim 2.

請求項4に記載の発明(以下、「本発明5」と記す)による非導電性ペーストは、上記請求項2に記載の接着性エポキシ樹脂ペーストからなることを特徴とする。 A non-conductive paste according to the invention described in claim 4 (hereinafter referred to as “present invention 5”) is characterized by comprising the adhesive epoxy resin paste described in claim 2 above.

請求項5に記載の発明(以下、「本発明6」と記す)によるアンダーフィルは、上記請求項2に記載の接着性エポキシ樹脂ペーストからなることを特徴とする。 The underfill according to the invention described in claim 5 (hereinafter referred to as “present invention 6”) is composed of the adhesive epoxy resin paste described in claim 2.

請求項6に記載の発明(以下、「本発明7」と記す)による接着性エポキシ樹脂シートは、上記請求項1記載の硬化性樹脂組成物がシート状に成形されてなることを特徴とする。 The adhesive epoxy resin sheet according to the invention described in claim 6 (hereinafter referred to as “present invention 7”) is characterized in that the curable resin composition according to claim 1 is formed into a sheet shape. .

請求項7に記載の発明(以下、「本発明8」と記す)による非導電性フィルムは、上記請求項6記載の接着性エポキシ樹脂シートからなることを特徴とする。 A non-conductive film according to the invention described in claim 7 (hereinafter referred to as “present invention 8”) is composed of the adhesive epoxy resin sheet described in claim 6.

請求項8に記載の発明(以下、「本発明9」と記す)によるダイアタッチフィルムは、上記請求項6記載の接着性エポキシ樹脂シートからなることを特徴とする。 A die attach film according to the invention described in claim 8 (hereinafter referred to as “present invention 9”) is composed of the adhesive epoxy resin sheet described in claim 6.

請求項9に記載の発明(以下、「本発明10」と記す)による導電接続ペーストは、上記請求項2記載の接着性エポキシ樹脂ペースト中に導電性微粒子が含有されてなることを特徴とする。 The conductive connection paste according to the invention described in claim 9 (hereinafter referred to as “present invention 10”) is characterized in that the adhesive epoxy resin paste according to claim 2 contains conductive fine particles. .

請求項10に記載の発明(以下、「本発明11」と記す)による異方性導電ペーストは、上記請求項2記載の導電接続ペーストからなることを特徴とする。 An anisotropic conductive paste according to the invention described in claim 10 (hereinafter referred to as “present invention 11”) is characterized by comprising the conductive connection paste described in claim 2.

請求項11に記載の発明(以下、「本発明12」と記す)による導電接続シートは、上記請求項6記載の接着性エポキシ樹脂シートと、導電性微粒子とかなる導電接続シートであって、前記導電性微粒子の少なくとも一部が前記接着性エポキシ樹脂シートから露出していることを特徴とする。 A conductive connection sheet according to the invention described in claim 11 (hereinafter referred to as “present invention 12”) is a conductive connection sheet comprising the adhesive epoxy resin sheet according to claim 6 and conductive fine particles, At least a part of the conductive fine particles is exposed from the adhesive epoxy resin sheet.

請求項12に記載の発明(以下、「本発明13」と記す)による導電接続シートは、上記請求項6記載の接着性エポキシ樹脂シート中に前記接着性エポキシ樹脂シートの厚みよりも小さい導電性微粒子が埋設されてなることを特徴とする。 The conductive connection sheet according to the invention described in claim 12 (hereinafter referred to as “present invention 13”) has a conductivity smaller than the thickness of the adhesive epoxy resin sheet in the adhesive epoxy resin sheet according to claim 6. It is characterized in that fine particles are embedded.

請求項13に記載の発明(以下、「本発明14」と記す)による異方性導電フィルムは、上記請求項12記載の導電接続シートからなることを特徴とする。 An anisotropic conductive film according to the invention described in claim 13 (hereinafter referred to as “present invention 14”) is composed of the conductive connection sheet described in claim 12.

請求項14に記載の発明(以下、「本発明16」と記す)によるフリップチップテープは、上記請求項11又は12記載の導電接続シートからなることを特徴とする。 A flip-chip tape according to the invention described in claim 14 (hereinafter referred to as “present invention 16”) is characterized by comprising the conductive connection sheet according to claim 11 or 12.

請求項15に記載の発明(以下、「本発明17」と記す)による電子部品接合体は、上記請求項1記載の硬化性樹脂組成物、請求項2記載の接着性エポキシ樹脂ペースト、請求項3記載の層間接着剤、請求項4記載の非導電性ペースト、請求項5記載のアンダーフィル、請求項9記載の導電接続ペースト、請求項13記載の異方性導電ペースト、請求項7、8又は9記載の接着性エポキシ樹脂シート、請求項7記載の非導電性フィルム、請求項8記載のダイアタッチフィルム、請求項11又は12記載の導電接続シート、請求項13記載の異方性導電フィルム、又は、請求項14記載のフリップチップテープのいずれかにより、電子部品のバンプ状の突起電極と他方の電極とが導通された状態で接合されてなることを特徴とする。 An electronic component assembly according to the invention described in claim 15 (hereinafter referred to as “present invention 17”) is a curable resin composition according to claim 1, an adhesive epoxy resin paste according to claim 2, and a claim. The interlayer adhesive according to claim 3, the non-conductive paste according to claim 4, the underfill according to claim 5, the conductive connection paste according to claim 9, the anisotropic conductive paste according to claim 13, and the claims 7 and 8. Or an adhesive epoxy resin sheet according to claim 9, a non-conductive film according to claim 7, a die attach film according to claim 8, a conductive connection sheet according to claim 11 or 12, and an anisotropic conductive film according to claim 13. Alternatively, the bump-shaped protruding electrode of the electronic component and the other electrode are joined in a conductive state by any one of the flip-chip tapes according to claim 14.

請求項16に記載の発明(以下、「本発明18」と記す)による電子部品接合体は、上記請求項1記載の硬化性樹脂組成物、請求項2記載の接着性エポキシ樹脂ペースト、請求項3記載の層間接着剤、請求項4記載の非導電性ペースト、請求項5記載のアンダーフィル、請求項9記載の導電接続ペースト、請求項13記載の異方性導電ペースト、請求項7、8又は9記載の接着性エポキシ樹脂シート、請求項7記載の非導電性フィルム、請求項8記載のダイアタッチフィルム、請求項11又は12記載の導電接続シート、請求項13記載の異方性導電フィルム、又は、請求項14記載のフリップチップテープのいずれかにより、金属リードフレーム、セラミック基板、樹脂基板、シリコン基板、化合物半導体基板及びガラス基板からなる群より選択される少なくとも1種類の回路基板が接合されてなることを特徴とする。 An electronic component assembly according to the invention described in claim 16 (hereinafter referred to as “present invention 18”) is a curable resin composition according to claim 1, an adhesive epoxy resin paste according to claim 2, and an invention. The interlayer adhesive according to claim 3, the non-conductive paste according to claim 4, the underfill according to claim 5, the conductive connection paste according to claim 9, the anisotropic conductive paste according to claim 13, and the claims 7 and 8. Or an adhesive epoxy resin sheet according to claim 9, a non-conductive film according to claim 7, a die attach film according to claim 8, a conductive connection sheet according to claim 11 or 12, and an anisotropic conductive film according to claim 13. Or a group consisting of a metal lead frame, a ceramic substrate, a resin substrate, a silicon substrate, a compound semiconductor substrate, and a glass substrate according to any one of the flip chip tapes according to claim 14. At least one circuit board is selected and characterized by being joined.

請求項17に記載の発明による電子部品接合体は、上記請求項16に記載の電子部品接合体において、樹脂基板がガラスエポキシ基板、ビスマレイミドトリアジン基板又はポリイミド基板であることを特徴とする。 The electronic component assembly according to the invention described in claim 17 is the electronic component assembly according to claim 16, wherein the resin substrate is a glass epoxy substrate, a bismaleimide triazine substrate, or a polyimide substrate.

本発明1の硬化性樹脂組成物は、エポキシ基と反応する官能基を有する固形ポリマーと、エポキシ樹脂用硬化剤とを含有する硬化性樹脂組成物であって、硬化物を重金属により染色し、透過型電子顕微鏡により観察したときに、樹脂からなるマトリクス中に相分離構造が観察されない。 The curable resin composition of the present invention 1 is a curable resin composition containing a solid polymer having a functional group that reacts with an epoxy group and a curing agent for an epoxy resin, and the cured product is dyed with a heavy metal, When observed with a transmission electron microscope, no phase separation structure is observed in the resin matrix.

本発明1の硬化性樹脂組成物は、重金属により染色し、透過型電子顕微鏡により観察した硬化物の樹脂マトリクス中に相分離構造が観察されない。透過型電子顕微鏡(Transmission Electron Microscope:TEM)を用いることにより高分子材料の内部を観察できることは公知であり、これは高分子材料を4酸化オスミウム、4酸化ルテニウム、リンタングステン酸等の重金属で染色することにより、樹脂材料中の組成の違いを染色の濃淡として見る手法である。
なお、本明細書において、「硬化物」とは、本発明の硬化性樹脂組成物を、例えば170℃、30分間等の条件で加熱して硬化させて得られるものをいう。
In the curable resin composition of the present invention 1, the phase separation structure is not observed in the resin matrix of the cured product that is dyed with heavy metal and observed with a transmission electron microscope. It is known that the inside of a polymer material can be observed by using a transmission electron microscope (TEM). This is because the polymer material is stained with heavy metals such as osmium tetroxide, ruthenium tetroxide, and phosphotungstic acid. By doing this, the difference in composition in the resin material is seen as the shade of dyeing.
In the present specification, “cured product” refers to a product obtained by heating and curing the curable resin composition of the present invention under conditions such as 170 ° C. for 30 minutes.

通常、エポキシ樹脂にポリマー成分を添加することは、得られる樹脂組成物に種々の機能等を付与する目的でなされており、例えば、上記樹脂組成物をシート材料とする場合、上記ポリマー成分は増膜成分として添加され、例えば、上記樹脂組成物をペースト材料とする場合、上記ポリマー成分は硬化樹脂強度アップ及び高反応性付与等を目的として添加される。しかし、エポキシ樹脂と該エポキシ樹脂に添加するポリマー成分とは、硬化後のエポキシ樹脂と添加したポリマー成分との相溶性が極めて近くないと相溶しない。
エポキシ樹脂にポリマー成分を添加することによる相分離構造を有する樹脂組成物は、添加したポリマー成分による応力緩和等の効果を有するものと考えられるが、ポリマー成分自身がマトリクスとなるエポキシ樹脂自体に溶け込むわけではないので、樹脂組成物の硬化物の強度向上には限度がある。
Usually, the addition of a polymer component to an epoxy resin is performed for the purpose of imparting various functions to the resulting resin composition. For example, when the resin composition is used as a sheet material, the polymer component is increased. For example, when the resin composition is used as a paste material, the polymer component is added for the purpose of increasing the strength of the cured resin and imparting high reactivity. However, the epoxy resin and the polymer component added to the epoxy resin are not compatible unless the cured epoxy resin and the added polymer component have very close compatibility.
A resin composition having a phase separation structure by adding a polymer component to an epoxy resin is considered to have effects such as stress relaxation by the added polymer component, but the polymer component itself dissolves in the epoxy resin itself as a matrix. However, there is a limit to improving the strength of the cured product of the resin composition.

本発明1の硬化性樹脂組成物は、その硬化物の上記透過型電子顕微鏡を用いた観察において、樹脂マトリクス中に相分離構造が観察されない。即ち、本発明1の硬化性樹脂組成物では、樹脂成分が完全相溶していると考えられる。
エポキシ樹脂と該エポキシ樹脂に添加する樹脂とが完全相溶するということは、添加する上記ポリマーが、エポキシ基自体をその構造中に有するか、又は、エポキシ基と反応する官能基をその構造中に有することが必須である。
In the curable resin composition of the present invention 1, no phase separation structure is observed in the resin matrix in the observation of the cured product using the transmission electron microscope. That is, in the curable resin composition of this invention 1, it is thought that the resin component is completely compatible.
The fact that the epoxy resin and the resin added to the epoxy resin are completely compatible means that the polymer to be added has an epoxy group itself in the structure or a functional group that reacts with the epoxy group in the structure. It is essential to have

即ち、本発明1の硬化性樹脂組成物は、エポキシ樹脂と、エポキシ基と反応する官能基を有する固形ポリマーとを含有するものである。
上記エポキシ樹脂としては特に限定されないが、多環式炭化水素骨格を主鎖に有するエポキシ樹脂であることが好ましい。多環式炭化水素骨格を主鎖に有するエポキシ樹脂を含有すると、その硬化物は、剛直で分子の運動が阻害されるものとなり、優れた機械的強度や耐熱性を発現するとともに、吸水性も低くなるため優れた耐湿性を発現するからである。
That is, the curable resin composition of the first invention contains an epoxy resin and a solid polymer having a functional group that reacts with an epoxy group.
The epoxy resin is not particularly limited, but is preferably an epoxy resin having a polycyclic hydrocarbon skeleton in the main chain. When an epoxy resin having a polycyclic hydrocarbon skeleton in the main chain is contained, the cured product is rigid and impedes molecular movement, exhibits excellent mechanical strength and heat resistance, and also absorbs water. It is because it becomes low and expresses excellent moisture resistance.

上記多環式炭化水素骨格を主鎖に有するエポキシ樹脂としては、特に限定されるものではないが、例えば、ジシクロペンタジエンジオキシド、ジシクロペンタジエン骨格を有するフェノールノボラックエポキシ樹脂等のジシクロペンタジエン骨格を有するエポキシ樹脂(以下、「ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂」と記す)、1−グリシジルナフタレン、2−グリシジルナフタレン、1,2−ジグリジジルナフタレン、1,5−ジグリシジルナフタレン、1,6−ジグリシジルナフタレン、1,7−ジグリシジルナフタレン、2,7−ジグリシジルナフタレン、トリグリシジルナフタレン、1,2,5,6−テトラグリシジルナフタレン等のナフタレン骨格を有するエポキシ樹脂(以下、「ナフタレン型エポキシ樹脂」と記す)、テトラヒドロキシフェニルエタン型エポキシ樹脂、テトラキス(グリシジルオキシフェニル)エタン、3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキサンカルボネート等が挙げられ、なかでも、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂やナフタレン型エポキシ樹脂が好適に用いられる。これらの多環式炭化水素骨格を主鎖に有するエポキシ樹脂は、単独で用いられても良いし、2種類以上が併用されても良い。また、上記ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂及びナフタレン型エポキシ樹脂は、それぞれ単独で用いられても良いし、両者が併用されても良い。 The epoxy resin having the polycyclic hydrocarbon skeleton in the main chain is not particularly limited. For example, dicyclopentadiene skeleton such as dicyclopentadiene dioxide and phenol novolac epoxy resin having dicyclopentadiene skeleton. Epoxy resin (hereinafter referred to as “dicyclopentadiene type epoxy resin”), 1-glycidylnaphthalene, 2-glycidylnaphthalene, 1,2-diglycidylnaphthalene, 1,5-diglycidylnaphthalene, 1,6-di Epoxy resins having a naphthalene skeleton such as glycidylnaphthalene, 1,7-diglycidylnaphthalene, 2,7-diglycidylnaphthalene, triglycidylnaphthalene, 1,2,5,6-tetraglycidylnaphthalene (hereinafter referred to as “naphthalene type epoxy resin”) "), Tetra Examples include droxyphenylethane type epoxy resin, tetrakis (glycidyloxyphenyl) ethane, 3,4-epoxy-6-methylcyclohexylmethyl-3,4-epoxy-6-methylcyclohexane carbonate, and among others, dicyclo A pentadiene type epoxy resin or a naphthalene type epoxy resin is preferably used. These epoxy resins having a polycyclic hydrocarbon skeleton in the main chain may be used alone or in combination of two or more. Moreover, the said dicyclopentadiene type | mold epoxy resin and naphthalene type | mold epoxy resin may each be used independently, and both may be used together.

上記多環式炭化水素骨格を主鎖に有するエポキシ樹脂は、特に限定されるものではないが、分子量の好ましい下限は500であり、好ましい上限は1000である。多環式炭化水素骨格を主鎖に有するエポキシ樹脂の分子量が500未満であると、硬化性樹脂組成物の硬化物の機械的強度、耐熱性、耐湿性等が充分に向上しないことがあり、逆に多環式炭化水素骨格を主鎖に有するエポキシ樹脂の分子量が1000を超えると、硬化性樹脂組成物の硬化物が剛直になりすぎて、脆くなることがある。 Although the epoxy resin which has the said polycyclic hydrocarbon skeleton in a principal chain is not specifically limited, The minimum with a preferable molecular weight is 500, and a preferable upper limit is 1000. If the molecular weight of the epoxy resin having a polycyclic hydrocarbon skeleton in the main chain is less than 500, the mechanical strength, heat resistance, moisture resistance, etc. of the cured product of the curable resin composition may not be sufficiently improved, Conversely, if the molecular weight of the epoxy resin having a polycyclic hydrocarbon skeleton in the main chain exceeds 1000, the cured product of the curable resin composition may become too rigid and brittle.

上記エポキシ基と反応する官能基を有する固形ポリマーとしては特に限定されないが、例えば、アミノ基、ウレタン基、イミド基、水酸基、カルボキシル基、エポキシ基等を有する樹脂が挙げられ、なかでも、エポキシ基を有する高分子ポリマーが好ましい。エポキシ基を有する高分子ポリマーを含有すると、その硬化物は、優れた可撓性を発現するからである。即ち、本発明1の硬化性樹脂組成物の硬化物は、上記多環式炭化水素骨格を主鎖に有するエポキシ樹脂に由来する優れた機械的強度、優れた耐熱性、優れた耐湿性等と、上記エポキシ基を有する高分子ポリマーに由来する優れた可撓性とを兼備することとなるので、耐冷熱サイクル性、耐ハンダリフロー性、寸法安定性等に優れるものとなり、高い接着信頼性や高い導通信頼性を発現することとなる。 Although it does not specifically limit as a solid polymer which has a functional group which reacts with the said epoxy group, For example, the resin which has an amino group, a urethane group, an imide group, a hydroxyl group, a carboxyl group, an epoxy group etc. is mentioned, Especially, an epoxy group High molecular polymers having This is because, when a polymer having an epoxy group is contained, the cured product exhibits excellent flexibility. That is, the cured product of the curable resin composition of the present invention 1 has excellent mechanical strength, excellent heat resistance, excellent moisture resistance and the like derived from the epoxy resin having the polycyclic hydrocarbon skeleton in the main chain. Since it combines excellent flexibility derived from the above polymer having an epoxy group, it has excellent thermal cycle resistance, solder reflow resistance, dimensional stability, etc., and has high adhesion reliability. High conduction reliability will be developed.

上記エポキシ基を有する高分子ポリマーとしては、末端及び/又は側鎖(ペンダント位)にエポキシ基を有する高分子ポリマーであれば良く、特に限定されるものではないが、例えば、エポキシ基含有アクリルゴム、エポキシ基含有ブタジエンゴム、ビスフェノール型高分子量エポキシ樹脂、エポキシ基含有フェノキシ樹脂、エポキシ基含有アクリル樹脂、エポキシ基含有ウレタン樹脂、エポキシ基含有ポリエステル樹脂等が挙げられ、なかでも、エポキシ基を多く含む高分子ポリマーを得ることができ、本発明1の硬化性樹脂組成物の硬化物の機械的強度や耐熱性がより優れたものとなることから、エポキシ基含有アクリル樹脂が好適に用いられる。これらのエポキシ基を有する高分子ポリマーは、単独で用いられても良いし、2種類以上が併用されても良い。 The polymer having an epoxy group is not particularly limited as long as it is a polymer having an epoxy group at the terminal and / or side chain (pendant position). For example, an epoxy group-containing acrylic rubber , Epoxy group-containing butadiene rubber, bisphenol-type high molecular weight epoxy resin, epoxy group-containing phenoxy resin, epoxy group-containing acrylic resin, epoxy group-containing urethane resin, epoxy group-containing polyester resin, etc. A high molecular polymer can be obtained, and since the mechanical strength and heat resistance of the cured product of the curable resin composition of the present invention 1 are more excellent, an epoxy group-containing acrylic resin is preferably used. These polymer polymers having an epoxy group may be used alone or in combination of two or more.

上記ビスフェノール型高分子量エポキシ樹脂だけでは、末端にしかエポキシ基を含むことができず、架橋点間距離が大きく長くなるため、硬化性樹脂組成物の硬化物の機械的強度や耐熱性が充分に向上しない。 The above bisphenol-type high molecular weight epoxy resin alone can contain an epoxy group only at the terminal, and the distance between cross-linking points is greatly increased, so that the mechanical strength and heat resistance of the cured product of the curable resin composition are sufficiently high. Does not improve.

また、一般にアクリル系樹脂(アクリル系ポリマー)は溶剤を媒体とした溶液重合法で製造されることが多いが、溶液重合法では、高分子量のアクリル系樹脂が生成する際に、溶液の粘度が極端に上昇したり、場合によってはゲル化する恐れがあるため、高分子量のアクリル系樹脂を得ることが難しい。また、溶液重合法では、未反応のモノマーが残留しやすいため、残留モノマーを溶剤とともに除去する必要が生じ、製造工程が煩雑になる。 In general, an acrylic resin (acrylic polymer) is often produced by a solution polymerization method using a solvent as a medium. In the solution polymerization method, when a high molecular weight acrylic resin is produced, the viscosity of the solution is increased. It is difficult to obtain a high molecular weight acrylic resin because it may rise extremely or may gel in some cases. Further, in the solution polymerization method, unreacted monomers are likely to remain, so that it is necessary to remove the residual monomers together with the solvent, and the manufacturing process becomes complicated.

例えば、エポキシ基を有するアクリル系モノマーとしてグリシジルメタクリレート(GMA)を用い、他のアクリル系モノマー中にGMAを多量に添加して溶液重合を行うと、エポキシ基自体の凝集力によって、比較的低分子量(10000未満)のエポキシ基含有アクリル樹脂しか得ることができず、より高分子量のエポキシ基含有アクリル樹脂を得ようとすると、上記のような極度の粘度上昇やゲル化が起こりやすくなる。 For example, when glycidyl methacrylate (GMA) is used as an acrylic monomer having an epoxy group and a large amount of GMA is added to another acrylic monomer and solution polymerization is performed, a relatively low molecular weight is caused by the cohesive force of the epoxy group itself. Only an epoxy group-containing acrylic resin (less than 10,000) can be obtained, and if an attempt is made to obtain a higher molecular weight epoxy group-containing acrylic resin, the above-described extreme viscosity increase or gelation tends to occur.

一方、上記GMA等を用いて、エポキシ基含有アクリル樹脂の製造を水又は非溶剤を媒体とした懸濁重合法で行うと、エポキシ基を多く含み、かつ、高分子量のエポキシ基含有アクリル樹脂を得ることができる。このエポキシ基含有アクリル樹脂は、モノマーが殆ど残留しないクリーンな樹脂であるとともに、重合系からの分離操作も容易であるので、製造工程が簡略になる。 On the other hand, when the production of the epoxy group-containing acrylic resin is carried out by the suspension polymerization method using water or a non-solvent as a medium, the epoxy group-containing acrylic resin containing a large amount of epoxy groups and having a high molecular weight is obtained. Obtainable. This epoxy group-containing acrylic resin is a clean resin with almost no monomer remaining, and can be easily separated from the polymerization system, thereby simplifying the production process.

即ち、本発明1の硬化性樹脂組成物に用いられるエポキシ基を有する高分子ポリマー、好ましくはエポキシ基含有アクリル樹脂は、懸濁重合法で製造された高分子ポリマーであることが好ましい。懸濁重合法で製造されたエポキシ基を有する高分子ポリマー、好ましくはエポキシ基含有アクリル樹脂を用いることにより、本発明1の硬化性樹脂組成物の硬化物は、より優れた機械的強度や耐熱性を発現するものとなる。 That is, the high molecular polymer having an epoxy group, preferably the epoxy group-containing acrylic resin used in the curable resin composition of the present invention 1 is preferably a high molecular polymer produced by a suspension polymerization method. By using a polymer having an epoxy group produced by a suspension polymerization method, preferably an epoxy resin containing an epoxy group, the cured product of the curable resin composition of the present invention 1 has better mechanical strength and heat resistance. It expresses sex.

上記エポキシ基を有する高分子ポリマー、好ましくはエポキシ基含有アクリル樹脂は、重量平均分子量が1万以上であることが好ましい。エポキシ基を有する高分子ポリマー、好ましくはエポキシ基含有アクリル樹脂の重量平均分子量が1万未満であると、硬化性樹脂組成物の造膜性が不充分となって、硬化性樹脂組成物の硬化物の可撓性が充分に向上しないことがある。 The polymer polymer having an epoxy group, preferably an epoxy group-containing acrylic resin, preferably has a weight average molecular weight of 10,000 or more. When the weight average molecular weight of the polymer having an epoxy group, preferably the epoxy group-containing acrylic resin is less than 10,000, the film forming property of the curable resin composition becomes insufficient, and the curable resin composition is cured. The flexibility of an object may not be sufficiently improved.

また、上記エポキシ基を有する高分子ポリマー、好ましくはエポキシ基含有アクリル樹脂は、そのエポキシ当量の下限が200、上限が1000であることが好ましい。エポキシ基を有する高分子ポリマー、好ましくはエポキシ基含有アクリル樹脂のエポキシ当量が200未満であると、硬化性樹脂組成物の硬化物の可撓性が充分に向上しないことがあり、逆にエポキシ基を有する高分子ポリマー、好ましくはエポキシ基含有アクリル樹脂のエポキシ当量が1000を超えると、硬化性樹脂組成物の硬化物の機械的強度や耐熱性が不充分となることがある。 Moreover, it is preferable that the lower limit of the epoxy equivalent of the high molecular polymer having an epoxy group, preferably an epoxy group-containing acrylic resin, is 200 and the upper limit is 1000. When the epoxy equivalent of the high molecular polymer having an epoxy group, preferably the epoxy group-containing acrylic resin is less than 200, the flexibility of the cured product of the curable resin composition may not be sufficiently improved. When the epoxy equivalent of the high molecular polymer having an epoxy group, preferably the epoxy group-containing acrylic resin exceeds 1000, the mechanical strength and heat resistance of the cured product of the curable resin composition may be insufficient.

本発明1の硬化性樹脂組成物は、上記硬化物の粘弾性スペクトル測定におけるtanδのピークが単一であり、かつ、上記ピークの温度が120℃以上であることが好ましい。
上述のように、エポキシ樹脂にポリマー成分を添加した樹脂組成物の樹脂マトリクスが相分離構造をとることは、透過型電子顕微鏡(TEM)を用いた観察で確認することができるが、上記樹脂マトリクスが相分離をとることは、硬化物の粘弾性スペクトルを測定することによっても容易に知ることができる。
即ち、この粘弾性のtanδは、硬化物の樹脂マトリクスが相分離構造を有するときには単一のピークを示すことなく、例えば、相構造が2層の場合には2つのピークが現れ、相構造が3層の場合には3つのピークが現れる。
本明細書において、「tanδのピーク」とは、他の部分に比べて特に飛び出したピークをいう。
また、上記tanδのピークの温度が120℃未満であると、従来の信頼性試験で用いられる温度領域(120℃)前後での樹脂軟化が起きることとなり、結果として、水分の透過、冷熱サイクル試験時の界面剥がれを起こす原因となることがある。
In the curable resin composition of the present invention 1, it is preferable that the tan δ peak in the viscoelastic spectrum measurement of the cured product is single and the temperature of the peak is 120 ° C. or higher.
As described above, it can be confirmed by observation using a transmission electron microscope (TEM) that the resin matrix of the resin composition in which the polymer component is added to the epoxy resin has a phase separation structure. It can be easily known that phase separation takes place by measuring the viscoelastic spectrum of the cured product.
That is, the viscoelastic tan δ does not show a single peak when the cured resin matrix has a phase separation structure. For example, when the phase structure has two layers, two peaks appear and the phase structure is In the case of three layers, three peaks appear.
In the present specification, the “tan δ peak” refers to a peak that particularly protrudes compared to other portions.
If the tan δ peak temperature is less than 120 ° C., resin softening occurs around the temperature range (120 ° C.) used in the conventional reliability test. As a result, moisture permeation and cooling cycle test It may cause peeling of the interface at the time.

本発明1の硬化性樹脂組成物の硬化物は、120℃に熱したジメチルスルホキシド(DMSO)溶液中で余り膨潤しないことが好ましい。具体的には、上記硬化物は、120℃に熱したジメチルスルホキシド(DMSO)溶液中で測定した膨潤率が50%以内であることが好ましい。膨潤率が50%を超えるということは、この温度での架橋がルーズであり、水分子及び酸素分子を非常に透過させやすくなることを意味する。従って、膨潤率が50%を超えると、本発明1の硬化性樹脂組成物の接着剤等としての信頼性が低下することがある。 It is preferable that the cured product of the curable resin composition of the present invention 1 does not swell much in a dimethyl sulfoxide (DMSO) solution heated to 120 ° C. Specifically, the cured product preferably has a swelling ratio measured within a dimethyl sulfoxide (DMSO) solution heated to 120 ° C. within 50%. That the swelling rate exceeds 50% means that crosslinking at this temperature is loose, and water molecules and oxygen molecules are very easily transmitted. Therefore, when the swelling rate exceeds 50%, the reliability of the curable resin composition of the present invention 1 as an adhesive may be lowered.

上述のように本発明1の硬化性樹脂組成物は、その硬化物の樹脂マトリクス中に相分離構造がないため、120℃に熱したジメチルスルホキシド(DMSO)溶液中で測定した膨潤率が50%以内となる。例えば、エポキシ樹脂と該エポキシ樹脂と相分離するポリマー成分とからなる樹脂組成物である場合、その硬化物の相構造は、エポキシ架橋相(エポキシ樹脂相)とポリマー相とから構成されている。ところが、上記エポキシ架橋相は、ガラス転移温度(Tg)を120℃以上とすることは容易であり膨潤を起こさないが、上記ポリマー相は、その構造中に架橋基を持っていてもそれほど多く持つことができないので、比較的ゆるい架橋構造を持つことにより、120℃付近での膨潤度を見たときに大きな膨潤を呈してしまうのである。 As described above, since the curable resin composition of the present invention 1 does not have a phase separation structure in the resin matrix of the cured product, the swelling rate measured in a dimethyl sulfoxide (DMSO) solution heated to 120 ° C. is 50%. Within. For example, in the case of a resin composition comprising an epoxy resin and a polymer component that is phase-separated from the epoxy resin, the phase structure of the cured product is composed of an epoxy cross-linked phase (epoxy resin phase) and a polymer phase. However, the epoxy cross-linked phase can easily have a glass transition temperature (Tg) of 120 ° C. or higher and does not swell, but the polymer phase has so much even if it has a cross-linking group in its structure. Therefore, by having a relatively loose cross-linked structure, when the degree of swelling near 120 ° C. is seen, large swelling is exhibited.

本発明1の硬化性樹脂組成物において、上記エポキシ樹脂は、上記多環式炭化水素骨格を主鎖に有するエポキシ樹脂であり、上記エポキシ基と反応する官能基を有する固形ポリマーは、上記エポキシ基を有する高分子ポリマーであり、かつ、無機フィラーを含有していないことが好ましい。
通常、電子材料用接着剤等の信頼性を上げるためには、無機フィラーの大量な添加が必須であった。この無機フィラーを添加することで吸水性、弾性率が向上し、耐湿性能等が向上することは良く知られているが、電極間の圧接接合の際に、電極間で無機フィラー粒子を噛み込むことがあり、特に狭ギャップの電極間を接着する際には、上記無機フィラーの存在により接着不良が生じることがあった。
また、上記無機フィラーは良く用いられるものとして球状シリカが挙げられるが、この球状シリカは、基本的に粒径分布を持つものであり、確率として非常に粗大な粒子を持つ可能性がある。特に、無機フィラー(球状シリカ)を大量に添加をした際には、非常に粗大な粒子が含まれる確率が非常に高くなり、上述した不都合が発生しやすくなる。
これらのことを鑑み、本発明1の硬化性樹脂組成物では、無機フィラーを含有していないことが好ましい。
In the curable resin composition of the present invention 1, the epoxy resin is an epoxy resin having the polycyclic hydrocarbon skeleton in the main chain, and the solid polymer having a functional group that reacts with the epoxy group is the epoxy group. It is preferable that it is a high molecular polymer which has and does not contain an inorganic filler.
Usually, in order to improve the reliability of an adhesive for electronic materials, a large amount of an inorganic filler has been essential. It is well known that the addition of this inorganic filler improves water absorption and elastic modulus and improves moisture resistance, etc., but the inorganic filler particles are intercalated between the electrodes during pressure welding between the electrodes. In particular, when bonding between narrow gap electrodes, adhesion failure may occur due to the presence of the inorganic filler.
The inorganic filler is often used as spherical silica. The spherical silica basically has a particle size distribution and may have very coarse particles as a probability. In particular, when a large amount of inorganic filler (spherical silica) is added, the probability that very coarse particles are included becomes very high, and the above-mentioned disadvantages are likely to occur.
In view of these things, it is preferable that the curable resin composition of the present invention 1 does not contain an inorganic filler.

なお、例えば、無機フィラーの粒径分布が非常に揃っており、最大粒径が非常に小さい無機フィラーであれば、上述した不都合が殆ど生じることがない。従って、このような無機フィラーであれば、本発明1の硬化性樹脂組成物に添加されていてもよい。具体的には、無機フィラーの最大粒径が3μm以下で、かつ、樹脂全体を100重量部とした際の添加量が30重量部以下であることが好ましい。 For example, if the inorganic filler has a very uniform particle size distribution and the maximum particle size is very small, the above-described disadvantages hardly occur. Therefore, if it is such an inorganic filler, it may be added to the curable resin composition of this invention 1. Specifically, it is preferable that the maximum particle size of the inorganic filler is 3 μm or less, and the addition amount when the total resin is 100 parts by weight is 30 parts by weight or less.

最大粒径が3μmを超える無機フィラーを含有していると、上述した不都合が生じやすくなるとともに、本発明1の硬化性樹脂組成物をビア孔を必要とする基板に用いる際に、レーザー加工時の貫通孔の真円度が落ち、上記無機フィラーによって、ビア孔の加工表面の平滑性が失われることがある。 When an inorganic filler having a maximum particle size exceeding 3 μm is contained, the above-described disadvantages are likely to occur, and when the curable resin composition of the present invention 1 is used for a substrate requiring a via hole, during laser processing. The roundness of the through-holes may be reduced, and the smoothness of the processed surface of the via holes may be lost due to the inorganic filler.

最大粒径が3μm以下と粗大な粒子を含まない無機フィラーとしては特に限定されるものではないが、例えば、ヒュームドシリカ、コロイダルシリカ等のシリカ、ガラス繊維、アルミナ微粒子等が挙げられ、なかでも、シリカが好適に用いられ、とりわけ、表面に疎水化処理が施された疎水性シリカがより好適に用いられる。これらの無機フィラーは、単独で用いられても良いし、2種類以上が併用されても良い。なお、本発明1の硬化性樹脂組成物では、最大粒径が3μm以下であれば、低分子量の微粒子状有機物からなる有機フィラーが含有されていてもよい。 The inorganic filler not containing coarse particles having a maximum particle size of 3 μm or less is not particularly limited, and examples thereof include silica such as fumed silica and colloidal silica, glass fibers, and alumina fine particles. Silica is preferably used, and in particular, hydrophobic silica whose surface has been subjected to a hydrophobic treatment is more preferably used. These inorganic fillers may be used alone or in combination of two or more. In addition, in the curable resin composition of this invention 1, if the maximum particle diameter is 3 micrometers or less, the organic filler which consists of a low molecular-weight fine particle organic substance may contain.

本発明1の硬化性樹脂組成物中に上記最大粒子径が3μm以下の無機フィラーを含有させる場合、上記多環式炭化水素骨格を主鎖に有するエポキシ樹脂と上記エポキシ基を有する高分子ポリマーとの合計量100重量部に対して30重量部を超えると、本発明1の硬化性樹脂組成物をビア孔を必要とする基板に用いる際に、レーザー加工時の貫通孔の真円度が落ち、上記無機フィラーによって、ビア孔の加工表面の平滑性が失われたり、硬化性樹脂組成物の粘度が高くなりすぎて、塗工性が阻害されたりすることがある。 When the curable resin composition of the present invention 1 contains an inorganic filler having a maximum particle size of 3 μm or less, an epoxy resin having the polycyclic hydrocarbon skeleton in the main chain, and a polymer having the epoxy group, When it exceeds 30 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total amount, when the curable resin composition of the present invention 1 is used for a substrate requiring a via hole, the roundness of the through hole during laser processing decreases. The inorganic filler may lose the smoothness of the processed surface of the via hole, or the viscosity of the curable resin composition may become too high, thereby impairing the coatability.

本発明1の硬化性樹脂組成物は、硬化性樹脂組成物中に20℃における弾性率(G’)が1×10〜1×10Paの低弾性率物質が非相溶で島状に分散していることが好ましい。 In the curable resin composition of the present invention 1, a low elastic modulus material having an elastic modulus (G ′) at 20 ° C. of 1 × 10 5 to 1 × 10 8 Pa in the curable resin composition is incompatible with the island shape. It is preferable to be dispersed in

硬化性樹脂組成物中に20℃における弾性率(G’)が1×10〜1×10Paの低弾性率物質が非相溶で島状に分散していることにより、本発明1の硬化性樹脂組成物の硬化物は、海−島構造が形成され、より優れた機械的強度や耐熱性とより優れた可撓性とを兼備するもの、即ち、より優れた強靱性を発現するものとなる。 In the curable resin composition, the low elastic modulus material having an elastic modulus (G ′) at 20 ° C. of 1 × 10 5 to 1 × 10 8 Pa is incompatible and dispersed in an island shape. The cured product of the curable resin composition is formed with a sea-island structure and has both excellent mechanical strength and heat resistance, and excellent flexibility, that is, exhibits superior toughness. Will be.

上記低弾性率物質の20℃における弾性率(G’)が1×10Pa未満であると、硬化性樹脂組成物の硬化物の機械的強度や耐熱性が充分に向上しないことがあり、逆に上記低弾性率物質の20℃における弾性率(G’)が1×10Paを超えると、硬化性樹脂組成物の硬化物の可撓性が充分に向上しないことがある。また、上記低弾性率物質が硬化性樹脂組成物と相溶していると、硬化性樹脂組成物の硬化物に海−島構造が形成されないので、上記効果を充分に得られなくなることがある。 When the elastic modulus (G ′) at 20 ° C. of the low modulus material is less than 1 × 10 5 Pa, the mechanical strength and heat resistance of the cured product of the curable resin composition may not be sufficiently improved, On the other hand, when the elastic modulus (G ′) at 20 ° C. of the low elastic modulus substance exceeds 1 × 10 8 Pa, the flexibility of the cured product of the curable resin composition may not be sufficiently improved. In addition, when the low elastic modulus material is compatible with the curable resin composition, a sea-island structure is not formed in the cured product of the curable resin composition, and thus the above effect may not be sufficiently obtained. .

上記低弾性率物質としては、20℃における弾性率(G’)の下限が1×10Pa、上限が1×10Paであり、硬化性樹脂組成物と相溶しないものであれば如何なる物質であっても良く、特に限定されるものではないが、例えば、各種熱可塑性樹脂、各種熱硬化性樹脂、各種ゴム(各種エラストマー)等が挙げられる。これらの低弾性率物質は、単独で用いられても良いし、2種類以上が併用されても良い。 The low elastic modulus material is any material as long as the lower limit of the elastic modulus (G ′) at 20 ° C. is 1 × 10 5 Pa and the upper limit is 1 × 10 8 Pa and is incompatible with the curable resin composition. Although it may be a substance and is not particularly limited, examples thereof include various thermoplastic resins, various thermosetting resins, various rubbers (various elastomers) and the like. These low elastic modulus substances may be used alone or in combination of two or more.

本発明2の硬化性樹脂組成物は、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂と、ナフタレン型エポキシ樹脂と、エポキシ樹脂用硬化剤とが混合されてなるエポキシ樹脂組成物と、コアのガラス転移温度が20℃以下であり、シェルのガラス転移温度が40℃以上であるコアシェル構造のゴム粒子とを含有する。 The curable resin composition of the present invention 2 has an epoxy resin composition in which a dicyclopentadiene type epoxy resin, a naphthalene type epoxy resin, and a curing agent for epoxy resin are mixed, and the glass transition temperature of the core is 20 ° C. And core-shell rubber particles having a shell glass transition temperature of 40 ° C. or higher.

上記エポキシ樹脂組成物中に含有されるジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂とは、エポキシ基を有するジシクロペンタジエン骨格からなるエポキシ樹脂のことであり、このジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂は、疎水性に富むので、上記エポキシ樹脂組成物中にジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂を含有させることにより、本発明2の硬化性樹脂組成物は、疎水化され、その硬化物は吸水率が低く、プレッシャークッカー試験等に代表される高温高湿の環境下においても高い疎水性を発現するものとなる。 The dicyclopentadiene type epoxy resin contained in the epoxy resin composition is an epoxy resin composed of a dicyclopentadiene skeleton having an epoxy group, and this dicyclopentadiene type epoxy resin is rich in hydrophobicity. When the dicyclopentadiene type epoxy resin is contained in the epoxy resin composition, the curable resin composition of the present invention 2 is hydrophobized, and the cured product has a low water absorption rate, and is representative of the pressure cooker test and the like. It exhibits high hydrophobicity even in a high temperature and high humidity environment.

上記ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂は、重合度及び/又は軟化点が低いことが好ましい。このようなジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂を用いることにより、本発明2の硬化性樹脂組成物を例えば接着性エポキシ樹脂ペーストとして用いる場合には、ペーストの流動性を高めることができ、また、本発明2の硬化性樹脂組成物を例えば接着性エポキシ樹脂シートとして用いる場合には、硬化前のシートに適度な柔軟性を付与して、割れにくくすることができる。 The dicyclopentadiene type epoxy resin preferably has a low degree of polymerization and / or a softening point. By using such a dicyclopentadiene type epoxy resin, when the curable resin composition of the present invention 2 is used as, for example, an adhesive epoxy resin paste, the fluidity of the paste can be improved. When the curable resin composition 2 is used as, for example, an adhesive epoxy resin sheet, it is possible to impart moderate flexibility to the uncured sheet and to make it difficult to break.

上記ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂としては、特に限定されるものではないが、例えば、ジシクロペンタジエンジオキシドやジシクロペンタジエン骨格を有するフェノールノボラックエポキシ樹脂等が挙げられる。これらのジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂は、単独で用いられても良いし、2種類以上が併用されても良い。 Although it does not specifically limit as said dicyclopentadiene type epoxy resin, For example, the phenol novolak epoxy resin etc. which have dicyclopentadiene dioxide and dicyclopentadiene frame | skeleton are mentioned. These dicyclopentadiene type epoxy resins may be used alone or in combination of two or more.

上記エポキシ樹脂組成物中に含有されるナフタレン型エポキシ樹脂とは、エポキシ基を有するナフタレン骨格からなるエポキシ樹脂のことであり、本発明2においては、常温で液状のナフタレン型エポキシ樹脂が好適に用いられる。ナフタレン型エポキシ樹脂は剛直なナフタレン骨格を有しているので、本発明2の硬化性樹脂組成物を例えば接着性エポキシ樹脂シートとして用いる場合、硬化後のシートが高温高湿下においても高い形状保持性を得ることができ、高い耐湿接着性を発現することができる。 The naphthalene type epoxy resin contained in the epoxy resin composition is an epoxy resin having a naphthalene skeleton having an epoxy group. In the second aspect of the present invention, a naphthalene type epoxy resin that is liquid at room temperature is preferably used. It is done. Since the naphthalene type epoxy resin has a rigid naphthalene skeleton, when the curable resin composition of the present invention 2 is used as, for example, an adhesive epoxy resin sheet, the cured sheet maintains a high shape even under high temperature and high humidity. Properties can be obtained, and high moisture-resistant adhesiveness can be expressed.

本発明2の硬化性樹脂組成物を例えば接着性エポキシ樹脂ペーストとして用いる場合には、上記ナフタレン型エポキシ樹脂は粘度が低い方が好ましい。また、本発明2の硬化性樹脂組成物を例えば接着性エポキシ樹脂シートとして用いる場合にも、上記ナフタレン型エポキシ樹脂は、通常、異性体を含むため融点が常温以下となっているので、常温でシートの柔軟性を向上させて、硬化前のシートを割れにくくすることができるとともに、硬化速度を速くすることもできる。 When the curable resin composition of the present invention 2 is used as, for example, an adhesive epoxy resin paste, the naphthalene type epoxy resin preferably has a lower viscosity. Moreover, also when using the curable resin composition of this invention 2 as an adhesive epoxy resin sheet, since the said naphthalene type epoxy resin contains an isomer normally, since melting | fusing point is below normal temperature, it is normal temperature. The flexibility of the sheet can be improved, the sheet before curing can be made difficult to break, and the curing rate can be increased.

上記常温で液状のナフタレン型エポキシ樹脂としては、特に限定されるものではないが、例えば、1−グリシジルナフタレン、2−グリシジルナフタレン、1,2−ジグリジジルナフタレン、1,5−ジグリシジルナフタレン、1,6−ジグリシジルナフタレン、1,7−ジグリシジルナフタレン、2,7−ジグリシジルナフタレン、トリグリシジルナフタレン、1,2,5,6−テトラグリシジルナフタレン等が挙げられる。これらのナフタレン型エポキシ樹脂は、単独で用いられても良いし、2種類以上が併用されても良い。 Although it does not specifically limit as said naphthalene type epoxy resin liquid at the normal temperature, For example, 1-glycidyl naphthalene, 2-glycidyl naphthalene, 1,2- diglycidyl naphthalene, 1,5-diglycidyl naphthalene, 1 , 6-diglycidylnaphthalene, 1,7-diglycidylnaphthalene, 2,7-diglycidylnaphthalene, triglycidylnaphthalene, 1,2,5,6-tetraglycidylnaphthalene and the like. These naphthalene type epoxy resins may be used alone or in combination of two or more.

上記ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂及びナフタレン型エポキシ樹脂に含有されるエポキシ基の数は、特に限定されるものではないが、1分子あたり平均1個以上であることが好ましく、より好ましくは1分子あたり平均2個以上である。ここで、1分子あたりのエポキシ基の数は、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂中のエポキシ基の総数又はナフタレン型エポキシ樹脂中のエポキシ基の総数をジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂の分子の総数又はナフタレン型エポキシ樹脂の分子の総数で除算して求めることができる。 The number of epoxy groups contained in the above dicyclopentadiene type epoxy resin and naphthalene type epoxy resin is not particularly limited, but is preferably an average of 1 or more per molecule, more preferably per molecule. The average is 2 or more. Here, the number of epoxy groups per molecule is the total number of epoxy groups in the dicyclopentadiene type epoxy resin or the total number of epoxy groups in the naphthalene type epoxy resin, or the total number of molecules of the dicyclopentadiene type epoxy resin or the naphthalene type. It can be obtained by dividing by the total number of molecules of epoxy resin.

上記エポキシ樹脂組成物中には、必要に応じて、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂及びナフタレン型エポキシ樹脂以外のエポキシ樹脂やエポキシ基含有化合物が含有されていても良い。 In the said epoxy resin composition, epoxy resins other than a dicyclopentadiene type epoxy resin and a naphthalene type epoxy resin and an epoxy group containing compound may contain as needed.

本発明1及び本発明2の硬化性樹脂組成物は、上記多環式炭化水素骨格を主鎖に有するエポキシ樹脂中のエポキシ基や上記エポキシ基を有する高分子ポリマー中のエポキシ基や、上記エポキシ樹脂組成物中に含有されるジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂中のエポキシ基やナフタレン型エポキシ樹脂中のエポキシ基に作用して、多環式炭化水素骨格を主鎖に有するエポキシ樹脂やエポキシ基を有する高分子ポリマーや、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂やナフタレン型エポキシ樹脂を硬化させるためのエポキシ樹脂用硬化剤(以下、単に「硬化剤」と略記することもある)を含有する。 The curable resin compositions of the present invention 1 and the present invention 2 include the epoxy group in the epoxy resin having the polycyclic hydrocarbon skeleton in the main chain, the epoxy group in the polymer polymer having the epoxy group, and the epoxy It acts on the epoxy group in the dicyclopentadiene type epoxy resin contained in the resin composition or the epoxy group in the naphthalene type epoxy resin to have an epoxy resin or an epoxy group having a polycyclic hydrocarbon skeleton in the main chain. It contains a polymer, a curing agent for epoxy resin for curing a dicyclopentadiene-type epoxy resin or a naphthalene-type epoxy resin (hereinafter sometimes simply referred to as “curing agent”).

本発明1の硬化性樹脂組成物及び本発明2の硬化性樹脂組成物におけるエポキシ樹脂組成物は、上記エポキシ樹脂用硬化剤を含有するので、多環式炭化水素骨格を主鎖に有するエポキシ樹脂やエポキシ基を有する高分子ポリマーや、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂やナフタレン型エポキシ樹脂が好ましくは加熱下で強固かつ速やかに硬化し、本発明1及び本発明2の硬化性樹脂組成物の硬化物は、機械的強度、耐熱性、耐湿性、可撓性、耐冷熱サイクル性、耐ハンダリフロー性、寸法安定性等に優れ、高い接着信頼性や導通材料とした際の高い導通信頼性を発現するものとなる。 Since the epoxy resin composition in the curable resin composition of the present invention 1 and the curable resin composition of the present invention 2 contains the above-mentioned curing agent for epoxy resin, the epoxy resin having a polycyclic hydrocarbon skeleton in the main chain Or a polymer having an epoxy group, a dicyclopentadiene-type epoxy resin or a naphthalene-type epoxy resin is preferably hardened and rapidly cured under heating, and is a cured product of the curable resin composition of the present invention 1 and the present invention 2. Is excellent in mechanical strength, heat resistance, moisture resistance, flexibility, thermal cycle resistance, solder reflow resistance, dimensional stability, etc., and exhibits high adhesion reliability and high conduction reliability when used as a conductive material To be.

上記エポキシ樹脂用硬化剤としては、特に限定されるものではないが、例えば、トリアルキルテトラヒドロ無水フタル酸等の加熱硬化型酸無水物系硬化剤、フェノール系硬化剤、アミン系硬化剤、ジシアンジアミド等の潜在性硬化剤、カチオン系触媒型硬化剤等が挙げられる。これらのエポキシ樹脂用硬化剤は、単独で用いられても良いし、2種類以上が併用されても良い。 The curing agent for epoxy resin is not particularly limited. For example, heat curing type acid anhydride curing agent such as trialkyltetrahydrophthalic anhydride, phenol curing agent, amine curing agent, dicyandiamide and the like. Latent curing agents, cationic catalyst-type curing agents, and the like. These epoxy resin curing agents may be used alone or in combination of two or more.

上記エポキシ樹脂用硬化剤のなかでも、常温で液状の加熱硬化型硬化剤や、多官能であり、当量的に添加量が少量で良いジシアンジアミド等の潜在性硬化剤が好適に用いられる。このような硬化剤を用いることにより、本発明1及び本発明2の硬化性樹脂組成物を用いて例えば接着性エポキシ樹脂シートを作製する場合、硬化前には常温で柔軟であってハンドリング性が良好なシートを得ることができる。これに対し、常温で固体であって当量的に添加量の多くなるフェノール系硬化剤は、シート自体の硬化前のガラス転移温度(Tg)がかなり上昇してしまい、初期に割れの発生するハンドリング性に劣るシートとなりやすいので、あまり好ましくない。 Among the above curing agents for epoxy resins, a thermosetting curing agent that is liquid at normal temperature, or a latent curing agent such as dicyandiamide, which is multifunctional and may be added in a small amount equivalently, is preferably used. By using such a curing agent, for example, when an adhesive epoxy resin sheet is produced using the curable resin composition of the present invention 1 and the present invention 2, it is flexible at room temperature and has a handling property before curing. A good sheet can be obtained. In contrast, a phenolic curing agent that is solid at room temperature and has an equivalent amount added increases the glass transition temperature (Tg) before curing of the sheet itself, and handling that causes cracks in the initial stage. It is not preferable because it tends to be a sheet having poor properties.

上記常温で液状の加熱硬化型硬化剤の代表的なものとしては、例えば、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルナジック酸無水物、トリアルキルテトラヒドロ無水フタル酸等の酸無水物系硬化剤が挙げられ、なかでも、疎水化されていることから、メチルナジック酸無水物やトリアルキルテトラヒドロ無水フタル酸が好適に用いられる。これに対し、メチルテトラヒドロ無水フタル酸やメチルヘキサヒドロ無水フタル酸は、耐水性が劣るので、あまり好ましくない。これらの酸無水物系硬化剤は、単独で用いられても良いし、2種類以上が併用されても良い。 Typical examples of the thermosetting curing agent that is liquid at room temperature include acid anhydrides such as methyltetrahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, methylnadic anhydride, and trialkyltetrahydrophthalic anhydride. Examples thereof include a system curing agent. Among them, methylnadic acid anhydride and trialkyltetrahydrophthalic anhydride are preferably used because they are hydrophobized. On the other hand, methyltetrahydrophthalic anhydride and methylhexahydrophthalic anhydride are less preferred because they have poor water resistance. These acid anhydride curing agents may be used alone or in combination of two or more.

本発明1及び本発明2の硬化性樹脂組成物においては、硬化速度や硬化物の物性等を調整するために、上記エポキシ樹脂用硬化剤とともに、硬化促進剤を併用しても良い。 In the curable resin compositions of the present invention 1 and the present invention 2, a curing accelerator may be used in combination with the epoxy resin curing agent in order to adjust the curing speed, the physical properties of the cured product, and the like.

上記硬化促進剤としては、特に限定されるものではないが、例えば、イミダゾール系硬化促進剤、3級アミン系硬化促進剤等が挙げられ、なかでも、硬化速度や硬化物の物性等の調整をするための反応系の制御をしやすいことから、イミダゾール系硬化促進剤が好適に用いられる。これらの硬化促進剤は、単独で用いられても良いし、2種類以上が併用されても良い。 Although it does not specifically limit as said hardening accelerator, For example, an imidazole series hardening accelerator, a tertiary amine type hardening accelerator, etc. are mentioned, Especially, adjustment of the physical property of a hardening rate, hardened | cured material, etc. is mentioned. Therefore, an imidazole curing accelerator is preferably used because it is easy to control the reaction system. These curing accelerators may be used alone or in combination of two or more.

上記イミダゾール系硬化促進剤としては、特に限定されるものではないが、例えば、イミダゾールの1位をシアノエチル基で保護した1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾールや、イソシアヌル酸で塩基性を保護した商品名「2MA−0K」(四国化成工業社製)等が挙げられる。これらのイミダゾール系硬化促進剤は、単独で用いられても良いし、2種類以上が併用されても良い。 The imidazole curing accelerator is not particularly limited. For example, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazole in which the 1-position of imidazole is protected with a cyanoethyl group, or a product name in which basicity is protected with isocyanuric acid. “2MA-0K” (manufactured by Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd.) and the like. These imidazole type hardening accelerators may be used independently and 2 or more types may be used together.

酸無水物系硬化剤と例えばイミダゾール系硬化促進剤等の硬化促進剤とを併用する場合は、酸無水物系硬化剤の添加量をエポキシ基に対して理論的に必要な当量以下とすることが好ましい。酸無水物系硬化剤の添加量が必要以上に過剰であると、本発明1及び本発明2の硬化性樹脂組成物の硬化物から水分により塩素イオンが溶出しやすくなる恐れがある。例えば、本発明1及び本発明2の硬化性樹脂組成物の硬化物から熱水で溶出成分を抽出した際に、抽出水のpHが4〜5程度まで低くなり、エポキシ樹脂から引き抜かれた塩素イオンが多量に溶出してしまうことがある。 When using an acid anhydride curing agent in combination with a curing accelerator such as an imidazole curing accelerator, the addition amount of the acid anhydride curing agent should be less than or equal to the theoretically required equivalent to the epoxy group. Is preferred. If the addition amount of the acid anhydride curing agent is excessive more than necessary, chlorine ions may be easily eluted by moisture from the cured products of the curable resin compositions of the present invention 1 and the present invention 2. For example, when the elution component is extracted from the cured product of the curable resin composition of the present invention 1 and the present invention 2 with hot water, the pH of the extracted water is lowered to about 4 to 5, and the chlorine extracted from the epoxy resin A large amount of ions may be eluted.

また、アミン系硬化剤と例えばイミダゾール系硬化促進剤等の硬化促進剤とを併用する場合も、アミン系硬化剤の添加量をエポキシ基に対して理論的に必要な当量以下とすることが好ましい。アミン物系硬化剤の添加量が必要以上に過剰であると、本発明1及び本発明2の硬化性樹脂組成物の硬化物から水分により塩素イオンが溶出しやすくなる恐れがある。例えば、本発明1及び本発明2の硬化性樹脂組成物の硬化物から熱水で溶出成分を抽出した際に、抽出水のpHが塩基性となり、やはりエポキシ樹脂から引き抜かれた塩素イオンが多量に溶出してしまうことがある。 Also, when an amine curing agent and a curing accelerator such as an imidazole curing accelerator are used in combination, the addition amount of the amine curing agent is preferably equal to or less than the theoretically required equivalent to the epoxy group. . If the addition amount of the amine-based curing agent is excessive more than necessary, chlorine ions may be easily eluted by moisture from the cured products of the curable resin compositions of the present invention 1 and the present invention 2. For example, when the elution components are extracted with hot water from the cured products of the curable resin compositions of the present invention 1 and the present invention 2, the pH of the extracted water becomes basic, and a large amount of chlorine ions are extracted from the epoxy resin. May elute.

本発明2の硬化性樹脂組成物は、上述したエポキシ樹脂組成物中に、コア(芯材)のガラス転移温度が20℃以下であり、シェル(外殻)のガラス転移温度が40℃以上であるコアシェル構造のゴム粒子が含有されてなる。このようなゴム粒子を含有させることにより、本発明2の硬化性樹脂組成物の硬化物は、マトリックス樹脂であるエポキシ樹脂に対してゴム成分の安定的な相分離構造を形成させることができ、柔軟で優れた応力緩和性を発現するものとなる。 In the epoxy resin composition described above, the curable resin composition of the present invention 2 has a glass transition temperature of the core (core material) of 20 ° C. or lower and a glass transition temperature of the shell (outer shell) of 40 ° C. or higher. It contains rubber particles having a certain core-shell structure. By containing such rubber particles, the cured product of the curable resin composition of the present invention 2 can form a stable phase separation structure of the rubber component with respect to the epoxy resin that is the matrix resin, It is flexible and exhibits excellent stress relaxation properties.

上記ゴム粒子は、ガラス転移温度が20℃以下であるコアとガラス転移温度が40℃以上であるシェルとからなるコアシェル構造を有する。なお、上記ゴム粒子は2層以上の複層構造からなるコアシェル構造の粒子であれば良く、3層以上の複層構造からなるコアシェル構造の粒子である場合、シェルは最外殻を意味する。 The rubber particles have a core-shell structure including a core having a glass transition temperature of 20 ° C. or lower and a shell having a glass transition temperature of 40 ° C. or higher. The rubber particles may be core-shell structured particles composed of two or more layers, and in the case of core-shell structured particles composed of three or more layers, the shell means the outermost shell.

上記ゴム粒子のコアのガラス転移温度が20℃を超えると、本発明2の硬化性樹脂組成物の硬化物の応力緩和性が充分に向上しない。また、上記ゴム粒子のシェルのガラス転移温度が40℃未満であると、ゴム粒子同士が融着(凝集)したり、エポキシ樹脂組成物中で分散不良が発生する。なお、上記ゴム粒子のシェルは、エポキシ樹脂と非相溶であるか、又は、若干の架橋によるゲル化がなされていて、エポキシ樹脂に溶解しないものであることが好ましい。 When the glass transition temperature of the core of the rubber particles exceeds 20 ° C., the stress relaxation property of the cured product of the curable resin composition of the present invention 2 is not sufficiently improved. Further, when the glass transition temperature of the shell of the rubber particles is less than 40 ° C., the rubber particles are fused (aggregated) or poor dispersion occurs in the epoxy resin composition. The shell of the rubber particles is preferably incompatible with the epoxy resin, or gelled by some crosslinking and not dissolved in the epoxy resin.

このようなゴム粒子を構成する樹脂成分としては、コアのガラス転移温度を20℃以下、シェルのガラス転移温度を40℃以上とし得るものであれば如何なる樹脂成分であっても良く、特に限定されるものではないが、ガラス転移温度の設計範囲が広いことから、通常はアルリル系樹脂が好適に用いられる。これらの樹脂成分は、単独で用いられても良いし、2種類以上が併用されても良い。 The resin component constituting such rubber particles may be any resin component as long as the glass transition temperature of the core can be 20 ° C. or lower and the glass transition temperature of the shell can be 40 ° C. or higher, and is particularly limited. Although not intended, an allyl resin is usually preferably used because of the wide design range of the glass transition temperature. These resin components may be used alone or in combination of two or more.

また、ゴム粒子のシェルは、エポキシ樹脂中のエポキシ基と反応する官能基を有していても良い。エポキシ基と反応する官能基としては、特に限定されるものではないが、例えば、アミノ基、ウレタン基、イミド基、水酸基、カルボキシル基、エポキシ基等が挙げられ、なかでも、常温ではエポキシ基と反応せず、本発明2の硬化性樹脂組成物の濡れ性の低下や貯蔵安定性の低下を来さないことから、水酸基やエポキシ基が好適に用いられる。これらのエポキシ基と反応する官能基は、単独で用いられても良いし、2種類以上が併用されても良い。 Moreover, the shell of the rubber particles may have a functional group that reacts with an epoxy group in the epoxy resin. The functional group that reacts with the epoxy group is not particularly limited, and examples thereof include an amino group, a urethane group, an imide group, a hydroxyl group, a carboxyl group, and an epoxy group. A hydroxyl group or an epoxy group is preferably used because it does not react and does not cause a decrease in wettability or storage stability of the curable resin composition of the present invention 2. These functional groups that react with the epoxy group may be used alone or in combination of two or more.

上記ゴム粒子は、特に限定されるものではないが、平均粒子径が30μm以下であることが好ましい。ゴム粒子の平均粒子径が30μmを超えると、本発明2の硬化性樹脂組成物の硬化物の応力緩和性が充分に向上しないことがある。また、本発明2の硬化性樹脂組成物を例えば接着性エポキシ樹脂ペーストとして用いる場合、流動性が不充分となって、塗工性や間隙部への充填性が阻害されることがあり、また、本発明2の硬化性樹脂組成物を例えば接着性エポキシ樹脂シートとして用いる場合、薄膜のシート成形が困難となることがある。 Although the said rubber particle is not specifically limited, It is preferable that an average particle diameter is 30 micrometers or less. When the average particle diameter of the rubber particles exceeds 30 μm, the stress relaxation property of the cured product of the curable resin composition of the present invention 2 may not be sufficiently improved. Further, when the curable resin composition of the present invention 2 is used as, for example, an adhesive epoxy resin paste, the fluidity becomes insufficient, and the coating property and the filling property to the gap may be hindered. When using the curable resin composition of the present invention 2 as, for example, an adhesive epoxy resin sheet, it may be difficult to form a thin film sheet.

このようなゴム粒子の市販品としては、特に限定されるものではないが、例えば、根上工業社製の商品名「パラクロンRP−101」、「パラクロンRP−103」、「パラクロンRP−412」等の「パラクロン」シリーズ、ガンツ化成社製の商品名「スタフィロイドIM−101」、「スタフィロイドIM−203」、「スタフィロイドIM−301」、「スタフィロイドIM−401」、「スタフィロイドIM−601」、「スタフィロイドAC−3355」、「スタフィロイドAC−3364」、「スタフィロイドAC−3816」、「スタフィロイドAC−3832」、「スタフィロイドAC−4030」等の「スタフィロイド」シリーズ、ゼオン化成社製の商品名「ゼオンF351」等の「ゼオン」シリーズ、三菱レーヨン社製の商品名「メタブレンC−140A」、「メタブレンC−201A」、「メタブレンC−215A」、「メタブレンC−223A」、「メタブレンC−303A」、「メタブレンC−323A」、「メタブレンC−102」、「メタブレンC−132」、「メタブレンC−202」、「メタブレンE−901」、「メタブレンW−341」、「メタブレンW−300A」、「メタブレンW−450A」、「メタブレンS−2001」、「メタブレンSX−005」、「メタブレンSX−006」、「メタブレンSRK200」等の「メタブレン」シリーズ等が挙げられる。また、予めゴム粒子を分散させたエポキシ樹脂の市販品としては、特に限定されるものではないが、例えば、日本触媒社製の商品名「エポセットBPA−828」、「エポセットBPF−807」等の「エポセット」シリーズ等が挙げられる。これらのゴム粒子や予めゴム粒子を分散させたエポキシ樹脂は、単独で用いられても良いし、2種類以上が併用されても良い。 Commercially available products of such rubber particles are not particularly limited. For example, trade names “Paracron RP-101”, “Paracron RP-103”, “Paracron RP-412” manufactured by Negami Kogyo Co., Ltd., etc. "Paracron" series, trade names "Staffyroid IM-101", "Stuffyroid IM-203", "Stuffyroid IM-301", "Stuffyroid IM-401", "Stuffyroid IM-" manufactured by Ganz Kasei "Stuffoid" series such as "601", "Stuffyroid AC-3355", "Stuffyroid AC-3364", "Stuffyroid AC-3816", "Stuffyroid AC-3732", "Stuffyroid AC-4030", “Zeon” series, such as “Zeon F351”, manufactured by Zeon Kasei Co., Ltd., manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd. Product names “methabrene C-140A”, “methabrene C-201A”, “methabrene C-215A”, “methabrene C-223A”, “methabrene C-303A”, “methabrene C-323A”, “methabrene C-102” , “Methabrene C-132”, “methabrene C-202”, “methabrene E-901”, “methabrene W-341”, “methabrene W-300A”, “methabrene W-450A”, “methabrene S-2001”, “Metabrene” series such as “Metabrene SX-005”, “Metabrene SX-006”, “Metabrene SRK200” and the like. In addition, the commercial product of the epoxy resin in which rubber particles are dispersed in advance is not particularly limited. For example, trade names “Eposet BPA-828”, “Eposet BPF-807” manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd. “Eposet” series and so on. These rubber particles and epoxy resin in which rubber particles are dispersed in advance may be used alone or in combination of two or more.

本発明2の硬化性樹脂組成物には、必要に応じて、熱可塑性樹脂や熱硬化性樹脂が含有されていても良い。 The curable resin composition of the present invention 2 may contain a thermoplastic resin or a thermosetting resin as necessary.

上記熱可塑性樹脂としては、特に限定されるものではないが、例えば、酢酸ビニル系樹脂、エチレン−酢酸ビニル系共重合体、アクリル系樹脂、ポリビニルブチラール樹脂等のポリビニルアセタール系樹脂、スチレン系樹脂、飽和ポリエステル系樹脂、熱可塑性ウレタン系樹脂、ポリアミド系樹脂、熱可塑性ポリイミド系樹脂、ケトン系樹脂、ノルボルネン系樹脂、スチレン−ブタジエン系ブロック共重合体等が挙げられる。これらの熱可塑性樹脂は、単独で用いられても良いし、2種類以上が併用されても良い。 The thermoplastic resin is not particularly limited, but examples thereof include vinyl acetate resins, ethylene-vinyl acetate copolymers, acrylic resins, polyvinyl acetal resins such as polyvinyl butyral resins, styrene resins, Examples thereof include saturated polyester resins, thermoplastic urethane resins, polyamide resins, thermoplastic polyimide resins, ketone resins, norbornene resins, and styrene-butadiene block copolymers. These thermoplastic resins may be used alone or in combination of two or more.

上記熱硬化性樹脂としては、特に限定されるものではないが、例えば、尿素樹脂、メラミン樹脂等のアミノ系樹脂、フェノール系樹脂、不飽和ポリエステル系樹脂、熱硬化性ウレタン系樹脂、上記ペンタジエン型エポキシ樹脂及びナフタレン型エポキシ樹脂以外のエポキシ系樹脂、熱硬化性ポリイミド系樹脂、アミノアルキド系樹脂等が挙げられる。これらの熱硬化性樹脂は、単独で用いられても良いし、2種類以上が併用されても良い。また、上記熱可塑性樹脂及び熱硬化性樹脂は、それぞれ単独で用いられても良いし、両者が併用されても良い。 The thermosetting resin is not particularly limited, and examples thereof include amino resins such as urea resins and melamine resins, phenol resins, unsaturated polyester resins, thermosetting urethane resins, and pentadiene type resins. Examples include epoxy resins other than epoxy resins and naphthalene type epoxy resins, thermosetting polyimide resins, aminoalkyd resins, and the like. These thermosetting resins may be used alone or in combination of two or more. Moreover, the said thermoplastic resin and thermosetting resin may be used independently, respectively, and both may be used together.

本発明2の硬化性樹脂組成物を例えばペースト状の接着性エポキシ樹脂ペーストとして用いる場合、上記熱可塑性樹脂や熱硬化性樹脂は、増粘剤として機能する。この際、ペーストの粘度が極端に高くならない限り、上記熱可塑性樹脂や熱硬化性樹脂の重量平均分子量は特に限定されるものではない。また、必要に応じて、溶剤を添加してペーストの粘度を調整しても良い。 When the curable resin composition of the present invention 2 is used as, for example, a paste-like adhesive epoxy resin paste, the thermoplastic resin or thermosetting resin functions as a thickener. At this time, the weight average molecular weight of the thermoplastic resin or thermosetting resin is not particularly limited as long as the viscosity of the paste does not become extremely high. Further, if necessary, a solvent may be added to adjust the viscosity of the paste.

本発明2の硬化性樹脂組成物を例えばセパレーター(離型シートや離型紙)上でシート状に成形した接着性エポキシ樹脂シートとして用いる場合、良好なシート形状を確保するために、上記熱可塑性樹脂や熱硬化性樹脂は、比較的高いガラス転移温度を有する高分子量重合体であることが好ましい。この際、上記熱可塑性樹脂や熱硬化性樹脂は、特に限定されるものではないが、重量平均分子量が1万以上であることが好ましく、より好ましくは10万以上である。熱可塑性樹脂や熱硬化性樹脂の重量平均分子量が1万未満であると、シート自体の凝集力が不足して、シート上に塗工した接着剤や塗料等の塗工物をはじきやすくなったり、セパレーターを剥離する際にシート自体が凝集破壊を起こしたりすることがある。 When the curable resin composition of the present invention 2 is used as, for example, an adhesive epoxy resin sheet formed into a sheet shape on a separator (release sheet or release paper), the above thermoplastic resin is used to ensure a good sheet shape. The thermosetting resin is preferably a high molecular weight polymer having a relatively high glass transition temperature. At this time, the thermoplastic resin and the thermosetting resin are not particularly limited, but the weight average molecular weight is preferably 10,000 or more, more preferably 100,000 or more. If the weight average molecular weight of the thermoplastic resin or thermosetting resin is less than 10,000, the cohesive strength of the sheet itself is insufficient, and it is easy to repel the coated material such as adhesive or paint applied on the sheet. When peeling the separator, the sheet itself may cause cohesive failure.

上記熱可塑性樹脂や熱硬化性樹脂は、エポキシ基と反応する官能基を有していることが好ましい。熱可塑性樹脂や熱硬化性樹脂がエポキシ基と反応する官能基を有していることにより、本発明2の硬化性樹脂組成物の硬化物は、より優れた機械的強度や耐熱性を発現するものとなる。 The thermoplastic resin and thermosetting resin preferably have a functional group that reacts with an epoxy group. When the thermoplastic resin or the thermosetting resin has a functional group that reacts with an epoxy group, the cured product of the curable resin composition of the present invention 2 exhibits more excellent mechanical strength and heat resistance. It will be a thing.

上記エポキシ基と反応する官能基としては、特に限定されるものではないが、例えば、アミノ基、ウレタン基、イミド基、水酸基、カルボキシル基、エポキシ基等が挙げられる。これらのエポキシ基と反応する官能基は、単独で用いられても良いし、2種類以上が併用されても良い。 Although it does not specifically limit as a functional group which reacts with the said epoxy group, For example, an amino group, a urethane group, an imide group, a hydroxyl group, a carboxyl group, an epoxy group etc. are mentioned. These functional groups that react with the epoxy group may be used alone or in combination of two or more.

本発明2の硬化性樹脂組成物を溶剤で粘度調整した接着性エポキシ樹脂ペーストとして用いたり、溶剤キャスト法により成形する接着性エポキシ樹脂シートとして用いたりする場合、上記エポキシ基と反応する官能基のなかでも、溶剤を乾燥させるための110℃程度の温度ではエポキシ基と反応せず、150〜230℃程度の温度でエポキシ基と反応する水酸基やエポキシ基を用いることが好ましい。水酸基やエポキシ基を有する樹脂としては、特に限定されるものではないが、例えば、ポリビニルブチラール樹脂やエポキシ基含有アクリル樹脂等が挙げられる。 When the curable resin composition of the present invention 2 is used as an adhesive epoxy resin paste whose viscosity is adjusted with a solvent, or used as an adhesive epoxy resin sheet molded by a solvent casting method, the functional group reacting with the epoxy group Especially, it is preferable to use the hydroxyl group and epoxy group which do not react with an epoxy group at the temperature of about 110 degreeC for drying a solvent, and react with an epoxy group at the temperature of about 150-230 degreeC. Although it does not specifically limit as resin which has a hydroxyl group or an epoxy group, For example, a polyvinyl butyral resin, an epoxy-group-containing acrylic resin, etc. are mentioned.

エポキシ基と反応する官能基としてアミノ基やカルボキシル基等を用いると、本発明2の硬化性樹脂組成物を溶剤で粘度調整した接着性エポキシ樹脂ペーストとして用いたり、溶剤キャスト法により成形する接着性エポキシ樹脂シートとして用いる場合、溶剤を乾燥させるための110℃程度の温度でエポキシ基と反応してしまうため、乾燥時又は成形時にペーストやシートが半硬化状態(Bステージ状態)となってしまい、ペーストの塗工性が阻害されたり、ペーストやシートの被着体に対する密着性や耐湿接着性等が低下することがある。 When an amino group, a carboxyl group, or the like is used as a functional group that reacts with an epoxy group, the curable resin composition of the present invention 2 can be used as an adhesive epoxy resin paste whose viscosity is adjusted with a solvent, or can be formed by a solvent casting method. When used as an epoxy resin sheet, because it reacts with an epoxy group at a temperature of about 110 ° C. for drying the solvent, the paste or sheet becomes a semi-cured state (B stage state) during drying or molding, The coating property of the paste may be hindered, and the adhesion of the paste or sheet to the adherend or the moisture-resistant adhesion may be reduced.

また、1つの熱可塑性樹脂や熱硬化性樹脂が有するエポキシ基と反応する官能基の当量は、特に限定されるものではないが、1万以下であることが好ましく、より好ましくは1000以下である。このような当量のエポキシ基と反応する官能基を有する熱可塑性樹脂や熱硬化性樹脂を用いることにより、本発明2の硬化性樹脂組成物の硬化物は、架橋密度の高いネットワークを形成することができる。なお、上記エポキシ基と反応する官能基の当量とは、熱可塑性樹脂や熱硬化性樹脂の重量平均分子量を1つの熱可塑性樹脂や熱硬化性樹脂に存在するエポキシ基と反応する官能基の総数で除算した値である。 Moreover, the equivalent of the functional group that reacts with the epoxy group of one thermoplastic resin or thermosetting resin is not particularly limited, but is preferably 10,000 or less, more preferably 1000 or less. . By using a thermoplastic resin or a thermosetting resin having a functional group that reacts with an equivalent amount of an epoxy group, the cured product of the curable resin composition of the present invention 2 forms a network with a high crosslinking density. Can do. In addition, the equivalent of the functional group that reacts with the epoxy group is the total number of functional groups that react with the epoxy group present in one thermoplastic resin or thermosetting resin, based on the weight average molecular weight of the thermoplastic resin or thermosetting resin. The value divided by.

本発明1の硬化性樹脂組成物には、必要に応じて、本発明2の硬化性樹脂組成物に含有される上記コアのガラス転移温度が20℃以下であり、シェルのガラス転移温度が40℃以上であるコアシェル構造のゴム粒子や、本発明2の硬化性樹脂組成物に含有されていても良い上記熱可塑性樹脂や熱硬化性樹脂が含有されていても良い。 In the curable resin composition of the present invention 1, if necessary, the glass transition temperature of the core contained in the curable resin composition of the present invention 2 is 20 ° C. or less, and the glass transition temperature of the shell is 40. The core-shell structure rubber particles having a temperature of not lower than ° C. and the thermoplastic resin and thermosetting resin which may be contained in the curable resin composition of the present invention 2 may be contained.

本発明2の硬化性樹脂組成物には、必要に応じて、本発明1の硬化性樹脂組成物に含有される上記エポキシ基を有する高分子ポリマーが含有されていても良い。また、本発明2の硬化性樹脂組成物は、平均粒子径が3μmを超えるフィラーを含有していないことが好ましい。 The curable resin composition of the present invention 2 may contain a polymer polymer having the epoxy group contained in the curable resin composition of the present invention 1 as necessary. Moreover, it is preferable that the curable resin composition of this invention 2 does not contain the filler whose average particle diameter exceeds 3 micrometers.

本発明1及び本発明2の硬化性樹脂組成物には、必要に応じて、例えば、密着性向上剤、pH調整剤、イオン捕捉剤、粘度調整剤、揺変性付与剤、酸化防止剤、熱安定剤、光安定剤、紫外線吸収剤、着色剤、脱水剤、難燃剤、帯電防止剤、防黴剤、防腐剤、溶剤等の各種添加剤の1種類又は2種類以上が添加されていても良い。 In the curable resin compositions of the present invention 1 and the present invention 2, as necessary, for example, an adhesion improver, a pH adjuster, an ion scavenger, a viscosity adjuster, a thixotropic agent, an antioxidant, a heat Even if one kind or two or more kinds of various additives such as a stabilizer, a light stabilizer, an ultraviolet absorber, a colorant, a dehydrating agent, a flame retardant, an antistatic agent, an antifungal agent, an antiseptic and a solvent are added. good.

上記密着性向上剤としては、特に限定されるものではないが、例えば、シランカップリング剤、チタンカップリング剤、アルミニウムカップリング剤等が挙げられ、なかでも、シランカップリング剤が好適に用いられる。これらの密着性向上剤は、単独で用いられても良いし、2種類以上が併用されても良い。 Although it does not specifically limit as said adhesive improvement agent, For example, a silane coupling agent, a titanium coupling agent, an aluminum coupling agent etc. are mentioned, Especially, a silane coupling agent is used suitably. . These adhesion improvers may be used independently and 2 or more types may be used together.

上記シランカップリング剤としては、特に限定されるものではないが、例えば、アミノシランカップリング剤、エポキシシランカップリング剤、ウレイドシランカップリング剤、イソシアネートシランカップリング剤、ビニルシランカップリング剤、アクリルシランカップリング剤、ケチミンシランカップリング剤等が挙げられ、なかでも、硬化速度やエポキシ樹脂との親和性の観点から、アミノシランカップリング剤が好適に用いられる。これらのシランカップリング剤は、単独で用いられても良いし、2種類以上が併用されても良い。 Although it does not specifically limit as said silane coupling agent, For example, an aminosilane coupling agent, an epoxy silane coupling agent, a ureido silane coupling agent, an isocyanate silane coupling agent, a vinyl silane coupling agent, an acrylic silane cup Examples thereof include a ring agent and a ketimine silane coupling agent. Among these, an aminosilane coupling agent is preferably used from the viewpoint of curing speed and affinity with an epoxy resin. These silane coupling agents may be used alone or in combination of two or more.

上記密着性向上剤の添加量は、特に限定されるものではないが、本発明1又は本発明2の硬化性樹脂組成物100重量部に対し、密着性向上剤20重量部以下であることが好ましい。本発明1又は本発明2の硬化性樹脂組成物100重量部に対する密着性向上剤の添加量が20重量部を超えると、硬化性樹脂組成物を例えば接着性エポキシ樹脂シートとして用いる場合、硬化前のシートの強度や凝集力が弱くなりすぎることがある。 Although the addition amount of the said adhesive improvement agent is not specifically limited, It is 20 parts weight or less of adhesive improvement agent with respect to 100 weight part of curable resin compositions of this invention 1 or this invention 2. preferable. When the addition amount of the adhesion improver with respect to 100 parts by weight of the curable resin composition of the present invention 1 or 2 exceeds 20 parts by weight, when the curable resin composition is used as an adhesive epoxy resin sheet, for example, before curing. The strength and cohesive strength of the sheet may become too weak.

上記pH調整剤としては、特に限定されるものではないが、例えば、シリカ等の酸性フィラーや炭酸カルシウム等のアルカリ性フィラー等が挙げられる。これらのpH調整剤は、単独で用いられても良いし、2種類以上が併用されても良い。 Although it does not specifically limit as said pH adjuster, For example, alkaline fillers, such as acidic fillers, such as a silica, and calcium carbonate, etc. are mentioned. These pH adjusters may be used alone or in combination of two or more.

上記イオン捕捉剤としては、イオン性不純物の量を低減させ得るものであれば良く、特に限定されるものではないが、例えば、アルミノ珪酸塩、含水酸化チタン、含水酸化ビスマス、リン酸ジルコニウム、リン酸チタン、ハイドロタルサイト、モリブドリン酸アンモニウム、ヘキサシアノ亜鉛、有機系イオン交換樹脂等や、高温での特性が優れるイオン捕捉剤として市販されている東亜合成社製の商品名「IXE」シリーズ等が挙げられる。これらのイオン捕捉剤は、単独で用いられても良いし、2種類以上が併用されても良い。 The ion scavenger is not particularly limited as long as it can reduce the amount of ionic impurities. For example, aluminosilicate, hydrous titanium oxide, hydrous bismuth oxide, zirconium phosphate, phosphorus Examples include titanium oxide, hydrotalcite, ammonium molybdophosphate, hexacyanozinc, organic ion exchange resin, and the product name "IXE" series manufactured by Toa Gosei Co., Ltd., which is commercially available as an ion scavenger with excellent properties at high temperatures. It is done. These ion scavengers may be used alone or in combination of two or more.

上記イオン捕捉剤の添加量は、特に限定されるものではないが、本発明1又は本発明2の硬化性樹脂組成物100重量部に対し、イオン捕捉剤10重量部以下であることが好ましい。本発明1又は本発明2の硬化性樹脂組成物100重量部に対するイオン捕捉剤の添加量が10重量部を超えると、硬化性樹脂組成物の硬化速度が極端に遅くなることがある。 The addition amount of the ion scavenger is not particularly limited, but is preferably 10 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the curable resin composition of the present invention 1 or the present invention 2. When the addition amount of the ion scavenger with respect to 100 parts by weight of the curable resin composition of the present invention 1 or 2 exceeds 10 parts by weight, the curing rate of the curable resin composition may be extremely slow.

本発明1及び本発明2の硬化性樹脂組成物の製造方法は、特に限定されるものではなく、例えば、ホモディスパー、万能ミキサー、バンバリーミキサー、ニーダー、2本ロール、3本ロール、押出機等の公知の各種混練機を単独で用いるか又は併用して、それぞれの必須成分の各所定量と、含有されていても良い各種成分の各所定量と、添加されていても良い各種添加剤の1種類若しくは2種類以上の各所定量とを、常温下若しくは加熱下で、常圧下、減圧下、加圧下若しくは不活性ガス気流下等の条件下で均一に混練することにより、所望の硬化性樹脂組成物を製造することができる。なお、エポキシ樹脂用硬化剤が加熱硬化型硬化剤や潜在性硬化剤である場合、上記製造方法で良いが、エポキシ樹脂用硬化剤が常温硬化型硬化剤である場合、エポキシ樹脂用硬化剤の添加は硬化性樹脂組成物又はそれを用いた最終製品の使用直前であることが好ましい。 The manufacturing method of the curable resin composition of this invention 1 and this invention 2 is not specifically limited, For example, a homodisper, a universal mixer, a Banbury mixer, a kneader, 2 rolls, 3 rolls, an extruder, etc. These known kneaders are used alone or in combination, and each predetermined amount of each essential component, each predetermined amount of various components that may be contained, and one type of various additives that may be added Alternatively, a desired curable resin composition is obtained by uniformly kneading two or more predetermined amounts under normal temperature, under heating, under normal pressure, under reduced pressure, under pressure, or under an inert gas stream. Can be manufactured. In addition, when the curing agent for epoxy resin is a heat curing type curing agent or a latent curing agent, the above production method may be used, but when the curing agent for epoxy resin is a room temperature curing type curing agent, The addition is preferably performed immediately before use of the curable resin composition or the final product using the same.

こうして得られる本発明1及び本発明2の硬化性樹脂組成物は、硬化性樹脂組成物の硬化物の溶出成分を110℃の熱水で抽出した際の抽出水のpHが5.0以上8.5未満であることが好ましい。 The curable resin compositions of the present invention 1 and the present invention 2 thus obtained have a pH of 5.0 to 8 when the elution component of the cured product of the curable resin composition is extracted with hot water at 110 ° C. Is preferably less than .5.

本発明1及び本発明2の硬化性樹脂組成物の硬化物の溶出成分を110℃の熱水で抽出した際の抽出水のpHが5.0未満であるか、8.5以上であると、硬化物表面及び近傍に酸性物質やアルカリ性物質が流出して、アルミや銅等の電極金属の腐食を引き起こしたり、硬化物中で加水分解等により生じた酸を触媒とする塩素引き抜き反応が起こって塩素イオンが流出し、信頼性を損なったりすることがある。 When the elution component of the cured product of the curable resin composition of the present invention 1 and the present invention 2 is extracted with hot water at 110 ° C., the pH of the extracted water is less than 5.0, or 8.5 or more In addition, acidic and alkaline substances may flow out on and near the surface of the cured product, causing corrosion of electrode metals such as aluminum and copper, and chlorine extraction reaction using acid generated by hydrolysis in the cured product as a catalyst. Chloride ions may flow out and reliability may be impaired.

本発明1及び本発明2の硬化性樹脂組成物の硬化物の溶出成分を110℃の熱水で抽出した際の抽出水の電気伝導度が100μS/cm以下であることが好ましい。100μS/cmを超えるということは特に湿潤条件下に置かれた場合に樹脂中の導電性が増すということを意味し、本発明1及び本発明2の硬化性樹脂組成物を用いて導電接続を行った場合に電極間でのリークや絶縁破壊が起こることがある。 It is preferable that the electric conductivity of the extracted water when the eluted component of the cured product of the curable resin composition of the present invention 1 or 2 is extracted with hot water at 110 ° C. is 100 μS / cm or less. Exceeding 100 μS / cm means that the conductivity in the resin increases particularly when placed under wet conditions, and the conductive connection is made using the curable resin composition of the present invention 1 and the present invention 2. If performed, leakage between electrodes or dielectric breakdown may occur.

また、本発明1及び本発明2の硬化性樹脂組成物の硬化物の誘電率が3.5以下であり、誘電正接が0.02以下であることが好ましい。誘電率が3.5を超え、かつ、誘電正接が0.02を超えると、現在の高周波での伝送特性が悪くなることがある。 Moreover, it is preferable that the dielectric constant of the hardened | cured material of the curable resin composition of this invention 1 and this invention 2 is 3.5 or less, and a dielectric loss tangent is 0.02 or less. If the dielectric constant exceeds 3.5 and the dielectric loss tangent exceeds 0.02, current transmission characteristics at high frequencies may be deteriorated.

本発明1及び本発明2の硬化性樹脂組成物の用途は、特に限定されるものではないが、例えば、接着性エポキシ樹脂ペースト、接着性エポキシ樹脂シート、導電接続ペースト、導電接続シート等に加工され、電子材料の固定等に好適に使用される。また、上記硬化性樹脂組成物をワニス状に仕上げて、スピンコート等の塗布方法により、シリコーンウェーハ等に薄膜形成させて接着剤として使用しても良い。 Although the use of the curable resin composition of the present invention 1 and the present invention 2 is not particularly limited, for example, it is processed into an adhesive epoxy resin paste, an adhesive epoxy resin sheet, a conductive connection paste, a conductive connection sheet, etc. And is suitably used for fixing electronic materials. Alternatively, the curable resin composition may be finished in a varnish shape, and formed into a thin film on a silicone wafer or the like by an application method such as spin coating, and used as an adhesive.

本発明1及び本発明2の硬化性樹脂組成物にはフラックス剤を添加しておいても良い。上記フラックス剤は、失活性フラックス剤であることが好ましい。上記硬化性樹脂組成物は、平均粒子径が大きいフィラーを含有していないので、実質的にノンフィラーペーストやノンフィラーシートとして用いることができ、硬化物もpHが中性域となるように設計されているので、導電接続用のフラックス剤含有ペースト又はフラックス剤含有シートとして適している。 A flux agent may be added to the curable resin compositions of the present invention 1 and the present invention 2. The flux agent is preferably a deactivating flux agent. Since the curable resin composition does not contain a filler having a large average particle size, it can be used substantially as a non-filler paste or non-filler sheet, and the cured product is also designed to have a neutral pH range. Therefore, it is suitable as a flux agent-containing paste or a flux agent-containing sheet for conductive connection.

本発明1及び本発明2の硬化性樹脂組成物は、ペレット状であれば、例えば、半導体パッケージ用封止剤、QFN用封止剤、一体成形型CSP用封止剤等のような封止剤として用いることができる。また、上記硬化性樹脂組成物が実質的にノンフィラーペーストであれば、スクリーン印刷法又はスピンコート法で、再配線及び外部電気接続用金属ポストが付いたウェーハに直接塗工し硬化させた後、研磨することにより、ウェーハ上で再配線回路を封止することもできる。更に、スクリーン印刷法でウェーハに直接塗工することにより、ウェーハ上でオーバーコート剤として用いることもできる。 If the curable resin composition of this invention 1 and this invention 2 is a pellet form, sealing, such as the sealing agent for semiconductor packages, the sealing agent for QFN, the sealing agent for integral-molding type | mold CSP, etc., for example. It can be used as an agent. Further, if the curable resin composition is substantially a non-filler paste, it is directly applied and cured on a wafer with a metal post for rewiring and external electrical connection by screen printing or spin coating. The rewiring circuit can be sealed on the wafer by polishing. Furthermore, it can also be used as an overcoat agent on the wafer by coating directly on the wafer by screen printing.

また、本発明1及び本発明2の硬化性樹脂組成物は、シート状に成形されると、半導体チップ固定用の接着シートとして用いることができる。 Moreover, the curable resin composition of this invention 1 and this invention 2 can be used as an adhesive sheet for semiconductor chip fixation, if it shape | molds in a sheet form.

本発明3の接着性エポキシ樹脂ペーストは、本発明1又は本発明2の硬化性樹脂組成物からなる。本発明1及び本発明2の硬化性樹脂組成物は、本来的に接着性を有するので、容易に本発明3の接着性エポキシ樹脂ペーストとなり得る。本発明3の接着性エポキシ樹脂ペーストは、本発明1又は本発明2の硬化性樹脂組成物を製造する際に、必要に応じて、粘度調整剤や揺変性付与剤等を用いて、硬化性樹脂組成物をペースト状に仕上げることにより、容易に得ることができる。 The adhesive epoxy resin paste of the present invention 3 comprises the curable resin composition of the present invention 1 or the present invention 2. Since the curable resin compositions of the present invention 1 and the present invention 2 inherently have adhesiveness, they can be easily used as the adhesive epoxy resin paste of the present invention 3. The adhesive epoxy resin paste of the present invention 3 is curable by using a viscosity modifier, a thixotropic agent, etc. as necessary when producing the curable resin composition of the present invention 1 or the present invention 2. It can be easily obtained by finishing the resin composition into a paste.

本発明4の層間接着剤、本発明5の非導電性ペースト及び本発明6のアンダーフィルは、本発明3の接着性エポキシ樹脂ペーストからなるものである。 The interlayer adhesive of the present invention 4, the nonconductive paste of the present invention 5 and the underfill of the present invention 6 are composed of the adhesive epoxy resin paste of the present invention 3.

本発明7の接着性エポキシ樹脂シートは、本発明1又は本発明2の硬化性樹脂組成物がシート状に成形されてなる。 The adhesive epoxy resin sheet of the present invention 7 is formed by molding the curable resin composition of the present invention 1 or the present invention 2 into a sheet shape.

本発明1又は本発明2の硬化性樹脂組成物をシート状に成形する方法としては、特に限定されるものではないが、例えば、押出機による押出成形法、硬化性樹脂組成物を溶剤で希釈して硬化性樹脂組成物溶液を調製し、この溶液をセパレーター上にキャスティングした後、溶剤を乾燥させる溶液キャスト法等が挙げられ、なかでも、高温を必要としないことから、溶液キャスト法が好適に用いられる。 The method for molding the curable resin composition of the present invention 1 or 2 into a sheet is not particularly limited. For example, an extrusion molding method using an extruder, and the curable resin composition is diluted with a solvent. To prepare a curable resin composition solution, cast this solution on a separator, and then dry the solvent, and the like is a solution casting method. Among them, a high temperature is not required, so the solution casting method is preferable. Used for.

本発明7の接着性エポキシ樹脂シートは、接着性エポキシ樹脂シートを昇温速度45℃/分で昇温したときに現れる貯蔵弾性率(G’)が1×10Paを超えることが好ましい。接着性エポキシ樹脂シートの上記貯蔵弾性率(G’)が1×10Pa以下であると、接着性エポキシ樹脂シートの加熱硬化時に接着性エポキシ樹脂シートと被着体との接着界面にボイドが発生することがある。 The adhesive epoxy resin sheet of the present invention 7 preferably has a storage elastic modulus (G ′) exceeding 1 × 10 3 Pa when the adhesive epoxy resin sheet is heated at a temperature rising rate of 45 ° C./min. When the storage elastic modulus (G ′) of the adhesive epoxy resin sheet is 1 × 10 3 Pa or less, voids are formed at the adhesive interface between the adhesive epoxy resin sheet and the adherend when the adhesive epoxy resin sheet is heated and cured. May occur.

本発明7の接着性エポキシ樹脂シートは、動的粘弾性に基づくtanδのピーク温度が、硬化前は−20℃〜40℃の範囲にあり、硬化後は120℃以上であることが好ましく、より好ましくは、硬化前は0〜35℃の範囲にあり、硬化後は160℃以上である。ここで、tanδとは、動的粘弾性測定(測定周波数:10Hz、昇温速度:3℃/分)によって求められる力学的損失正接で表される値である。また、ここで、硬化前とは、所定の温度以上に加熱されることによって接着性エポキシ樹脂シートが熱硬化する前の状態を言い、硬化後とは、接着性エポキシ樹脂シートが熱硬化した後の状態を言う。なお、本発明4の接着性エポキシ樹脂シートは、一般に、20〜230℃の温度範囲で熱硬化する。 In the adhesive epoxy resin sheet of the present invention 7, the peak temperature of tan δ based on dynamic viscoelasticity is in the range of −20 ° C. to 40 ° C. before curing, and preferably 120 ° C. or more after curing. Preferably, it is in the range of 0 to 35 ° C. before curing, and is 160 ° C. or more after curing. Here, tan δ is a value represented by a dynamic loss tangent obtained by dynamic viscoelasticity measurement (measurement frequency: 10 Hz, temperature increase rate: 3 ° C./min). Here, “before curing” means a state before the adhesive epoxy resin sheet is thermally cured by being heated to a predetermined temperature or more, and “after curing” is after the adhesive epoxy resin sheet is thermally cured. Say the state. In addition, generally the adhesive epoxy resin sheet of this invention 4 is thermosetted in the temperature range of 20-230 degreeC.

このようなtanδのピーク温度を有することにより、本発明7の接着性エポキシ樹脂シートは、常温領域で柔軟であって、しかも取り扱い性に優れ、かつ、常温で粘着性を有するものとなり、熱プレスすることなく、被着体同士を常温領域で貼り合わせることができるとともに、熱オーブン等で加熱硬化(後養生)することによって高い接着信頼性を発現することができる。即ち、本発明7の接着性エポキシ樹脂シートは、硬化前は常温で粘着性を有し、加熱による硬化後は優れた物性を発現するものであるので、粘着性を有するシートによって貼り合わせ、位置決めや仮固定をすることができるとともに、後で加熱することによって優れた接着力等の物性を発現し、接着性シートとして充分な接着信頼性を発現することができる。 By having such a peak temperature of tan δ, the adhesive epoxy resin sheet of the present invention 7 is flexible in the normal temperature region, has excellent handleability, and has adhesiveness at normal temperature. Without adhering, adherends can be bonded together in a normal temperature region, and high adhesion reliability can be expressed by heat curing (post-curing) in a thermal oven or the like. That is, the adhesive epoxy resin sheet of the present invention 7 has adhesiveness at room temperature before curing, and exhibits excellent physical properties after curing by heating. In addition to being able to be temporarily fixed, it is possible to express excellent physical properties such as adhesive strength by heating later, and to exhibit sufficient adhesive reliability as an adhesive sheet.

接着性エポキシ樹脂シートの硬化前のtanδのピーク温度が−20℃未満であると、接着性エポキシ樹脂シートの凝集力が不充分となるために、セパレーターから剥がれにくくなる。また、接着性エポキシ樹脂シート中に後述する導電性微粒子を含有させて導電接続シートを作製する際に、導電性微粒子を配置するために設けた貫通孔にエポキシ樹脂が流れ込んで貫通孔が埋まってしまうことがある。逆に、接着性エポキシ樹脂シートの硬化前のtanδのピーク温度が40℃を超えると、接着性エポキシ樹脂シート中に導電性微粒子を含有させて導電接続シートを作製する際に、常温での導電性微粒子に対する粘着性が不充分となって、導電性微粒子を保持することが困難になることがある。 When the peak temperature of tan δ before curing of the adhesive epoxy resin sheet is less than −20 ° C., the cohesive force of the adhesive epoxy resin sheet becomes insufficient, and thus it is difficult to peel off from the separator. In addition, when a conductive connection sheet is prepared by incorporating conductive fine particles, which will be described later, into the adhesive epoxy resin sheet, the epoxy resin flows into the through holes provided for arranging the conductive fine particles, and the through holes are buried. It may end up. On the contrary, when the peak temperature of tan δ before curing of the adhesive epoxy resin sheet exceeds 40 ° C., the conductive epoxy resin sheet contains conductive fine particles to produce a conductive connection sheet. Insufficient adhesion to conductive fine particles may make it difficult to hold conductive fine particles.

また、接着性エポキシ樹脂シートの硬化後のtanδのピーク温度が120℃未満であると、プレッシャークッカー試験等に代表される高温高湿の環境下では、硬化した接着性エポキシ樹脂シートが軟化して、接着信頼性が低下することがある。 In addition, when the peak temperature of tan δ after curing of the adhesive epoxy resin sheet is less than 120 ° C., the cured adhesive epoxy resin sheet is softened in a high temperature and high humidity environment typified by a pressure cooker test. Adhesion reliability may be reduced.

本発明7の接着性エポキシ樹脂シートは、硬化後の線膨張係数の好ましい下限は10ppm/℃、好ましい上限は200ppm/℃であり、より好ましい下限は20ppm/℃、より好ましい上限は150ppm/℃であり、更に好ましい下限は30ppm/℃、更に好ましい上限は100ppm/℃である。 In the adhesive epoxy resin sheet of the present invention 7, the preferable lower limit of the linear expansion coefficient after curing is 10 ppm / ° C, the preferable upper limit is 200 ppm / ° C, the more preferable lower limit is 20 ppm / ° C, and the more preferable upper limit is 150 ppm / ° C. Yes, a more preferred lower limit is 30 ppm / ° C, and a more preferred upper limit is 100 ppm / ° C.

接着性エポキシ樹脂シートの硬化後の線膨張係数が10ppm/℃未満であると、接着性エポキシ樹脂シート中に導電性微粒子を含有させて導電接続シートを作製した際に、接着性エポキシ樹脂シートと導電性微粒子との線膨張の差が大きくなって、導電接続シートに熱サイクル等がかかった場合、導電性微粒子の線膨張に追従することができず、高い導通信頼性を維持することが困難となる場合があり、逆に接着性エポキシ樹脂シートの硬化後の線膨張率が200ppm/℃を超えると、接着性エポキシ樹脂シート中に導電性微粒子を含有させて導電接続シートを作製した際に、熱サイクル等がかかった場合、対向する電極間が拡がりすぎて導電性微粒子が電極から離れてしまい、導通不良の原因になることがある。 When the linear expansion coefficient after curing of the adhesive epoxy resin sheet is less than 10 ppm / ° C., when the conductive connection sheet is produced by containing conductive fine particles in the adhesive epoxy resin sheet, the adhesive epoxy resin sheet and When the difference in linear expansion from the conductive fine particles becomes large and the conductive connection sheet is subjected to a thermal cycle, it is difficult to follow the linear expansion of the conductive fine particles, and it is difficult to maintain high conduction reliability. Conversely, when the linear expansion coefficient after curing of the adhesive epoxy resin sheet exceeds 200 ppm / ° C., when the conductive epoxy resin sheet is made to contain conductive fine particles, a conductive connection sheet is produced. When a heat cycle or the like is applied, the gap between the electrodes facing each other may spread too much, and the conductive fine particles may be separated from the electrodes, causing a conduction failure.

本発明8の非導電性フィルム、及び、本発明9のダイアタッチフィルムは、本発明7の接着性エポキシ樹脂シートからなるものである。 The nonconductive film of the present invention 8 and the die attach film of the present invention 9 are made of the adhesive epoxy resin sheet of the present invention 7.

本発明10の導電接続ペーストは、本発明3の接着性エポキシ樹脂ペースト中に導電性微粒子が含有されてなる。 The conductive connection paste of the present invention 10 is obtained by containing conductive fine particles in the adhesive epoxy resin paste of the present invention 3.

本発明11の異方性導電ペーストは、本発明10の導電接続ペーストからなるものである。 The anisotropic conductive paste of the present invention 11 is composed of the conductive connection paste of the present invention 10.

本発明12の導電接続シートは、上記本発明7の接着性エポキシ樹脂シート中に導電性微粒子が含有されてなり、かつ、上記導電性微粒子の少なくとも一部が接着性エポキシ樹脂シートから露出している。 In the conductive connection sheet of the present invention 12, conductive fine particles are contained in the adhesive epoxy resin sheet of the present invention 7, and at least a part of the conductive fine particles is exposed from the adhesive epoxy resin sheet. Yes.

本発明13の導電接続シートは、上記本発明7の接着性エポキシ樹脂シート中にシートの厚みよりも小さい導電性微粒子が埋設されてなる。 In the conductive connection sheet of the present invention 13, conductive fine particles smaller than the thickness of the sheet are embedded in the adhesive epoxy resin sheet of the present invention 7.

本発明10の導電接続ペースト、本発明11の異方性導電ペースト、及び、本発明12及び本発明13の導電接続シートに用いられる導電性微粒子としては、導電性を有している微粒子であれば良く、特に限定されるものではないが、例えば、金属、カーボンブラック等の導電性無機物、導電性高分子からなるもの、樹脂からなる高分子量重合体、非導電性無機物や非導電性高分子等の最外層にメッキ処理等の方法によって導電被覆膜を設けたもの、導電性無機物や導電性高分子等の最外層に更に導電被覆膜を設けたもの等が挙げられ、なかでも、適度な弾性、柔軟性、形状回復性等を有する球状のものを得られやすいことから、高分子量重合体からなるコア(芯材)の表面に導電被覆膜が形成されてなる導電性微粒子が好適に用いられる。これらの導電性微粒子は、単独で用いられても良いし、2種類以上が併用されても良い。 The conductive fine particles used in the conductive connection paste of the present invention 10, the anisotropic conductive paste of the present invention 11, and the conductive connection sheets of the present invention 12 and the present invention 13 may be fine particles having conductivity. Although not particularly limited, for example, conductive inorganic substances such as metals and carbon black, those made of conductive polymers, high molecular weight polymers made of resins, nonconductive inorganic substances and nonconductive polymers Examples include those provided with a conductive coating film by a method such as plating on the outermost layer, and those provided with a conductive coating film on the outermost layer such as a conductive inorganic substance or a conductive polymer. Since it is easy to obtain a spherical shape having appropriate elasticity, flexibility, shape recoverability, etc., there are conductive fine particles in which a conductive coating film is formed on the surface of a core (core material) made of a high molecular weight polymer. Preferably used. These electroconductive fine particles may be used independently and 2 or more types may be used together.

上記導電被覆膜は、特に限定されるものではないが、金属からなるものであることが好ましい。導電被覆膜形成用の金属としては、特に限定されるものではないが、例えば、ニッケル、金、銀、アルミニウム、銅、錫、ハンダ等が挙げられる。この導電被覆膜は、電極との接触抵抗、導電性及び酸化劣化しないこと等を考慮すると、最外層に金を用いた導電被覆膜であることが好ましい。また、導電被覆膜は、複層化のためのバリア層やコアと金属との密着性を向上させるためのニッケル層を有していることが好ましい。 The conductive coating film is not particularly limited, but is preferably made of a metal. The metal for forming the conductive coating film is not particularly limited, and examples thereof include nickel, gold, silver, aluminum, copper, tin, and solder. The conductive coating film is preferably a conductive coating film using gold as the outermost layer in consideration of contact resistance with the electrode, conductivity, and no oxidative deterioration. Moreover, it is preferable that the conductive coating film has a barrier layer for multilayering and a nickel layer for improving the adhesion between the core and the metal.

上記導電被覆膜の厚みは、充分な導通と剥がれない程度の皮膜強度が得られれば良く、特に限定されるものではないが、0.4μm以上であることが好ましく、より好ましくは1μm以上であり、更に好ましくは2μm以上である。また、コアの直径は、コアの特性が失われない程度であれば良く、特に限定されるものではないが、導電性微粒子の直径の1/5以下であることが好ましい。 The thickness of the conductive coating film is not particularly limited as long as a sufficient film strength that does not peel off can be obtained and is not particularly limited, but is preferably 0.4 μm or more, more preferably 1 μm or more. More preferably 2 μm or more. The diameter of the core is not particularly limited as long as the core characteristics are not lost, but is preferably 1/5 or less of the diameter of the conductive fine particles.

上記導電性微粒子のコアとなる高分子量重合体としては、特に限定されるものではないが、例えば、尿素樹脂、メラミン樹脂等のアミノ系樹脂、フェノール系樹脂、アクリル系樹脂、エチレン−酢酸ビニル系共重合体、スチレン−ブタジエン系ブロック共重合体、ポリエステル系樹脂、アルキド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂等の熱可塑性樹脂や熱硬化性樹脂、架橋樹脂、有機無機ハイブリッド重合体等が挙げられ、なかでも、耐熱性に優れることから、架橋樹脂が好適に用いられる。これらの高分子量重合体は、必要に応じて、充填物を含有していても良い。また、これらの高分子量重合体は、単独で用いられても良いし、2種類以上が併用されても良い。 Although it does not specifically limit as a high molecular weight polymer used as the core of the said electroconductive fine particles, For example, amino resins, such as a urea resin and a melamine resin, a phenol resin, an acrylic resin, ethylene-vinyl acetate type Copolymers, styrene-butadiene block copolymers, polyester resins, alkyd resins, polyimide resins, urethane resins, epoxy resins, and other thermoplastic resins, thermosetting resins, cross-linked resins, and organic-inorganic hybrid heavy resins Among them, a crosslinked resin is preferably used because of its excellent heat resistance. These high molecular weight polymers may contain a filler as required. Moreover, these high molecular weight polymers may be used independently and 2 or more types may be used together.

上記導電性微粒子は、特に限定されるものではないが、平均粒子径、粒子径のアスペクト比、粒子径のCV値(変動係数)、抵抗値、圧縮回復率、線膨張係数及びK値が、それぞれ下記のような範囲内にあることが好ましい。 The conductive fine particles are not particularly limited, but average particle diameter, aspect ratio of particle diameter, CV value (variation coefficient) of particle diameter, resistance value, compression recovery rate, linear expansion coefficient and K value are Each is preferably within the following range.

上記導電性微粒子の平均粒子径としては、上記導電性微粒子を樹脂中に混ぜ込んで用いる場合には、好ましい下限は1μm、好ましい上限は5μmである。より好ましい下限は2μmである。
また、上記導電性微粒子を、シート中に導電性粒子が露出しているような構成体に用いる場合には、上記導電性微粒子の平均粒子径としては、シートの厚みにもよるが、好ましい下限は10μm、好ましい上限は800μmである。10μm未満であると、電極や基板の平滑性の精度の問題から導電性微粒子が電極と接触しにくくなって導通不良を起こすことがあり、800μmを超えると、微細間隔の電極に対応できずに隣接電極をショートさせてしまうことがある。より好ましい下限は15μm、より好ましい上限は300μmであり、更に好ましい下限は20μm、更に好ましい上限は150μmであり、特に好ましい下限は40μm、特に好ましい上限は80μmである。
なお、上記導電性微粒子の平均粒子径は、任意の100個の導電性微粒子を顕微鏡で観察することにより測定することができる。
As for the average particle diameter of the conductive fine particles, when the conductive fine particles are mixed and used in a resin, a preferable lower limit is 1 μm and a preferable upper limit is 5 μm. A more preferred lower limit is 2 μm.
Further, when the conductive fine particles are used in a structure in which the conductive particles are exposed in the sheet, the average particle diameter of the conductive fine particles depends on the thickness of the sheet, but is preferably a lower limit. Is 10 μm, and the preferred upper limit is 800 μm. If the thickness is less than 10 μm, the conductive fine particles may not be in contact with the electrode due to the problem of the smoothness of the electrode or the substrate and may cause poor conduction. If the thickness exceeds 800 μm, the electrode cannot be applied to a finely spaced electrode. The adjacent electrode may be short-circuited. A more preferred lower limit is 15 μm, a more preferred upper limit is 300 μm, a still more preferred lower limit is 20 μm, a still more preferred upper limit is 150 μm, a particularly preferred lower limit is 40 μm, and a particularly preferred upper limit is 80 μm.
The average particle diameter of the conductive fine particles can be measured by observing arbitrary 100 conductive fine particles with a microscope.

上記導電性微粒子の粒子径のアスペクト比は、1.3未満であることが好ましく、より好ましくは1.1未満であり、更に好ましくは1.05未満である。なお、導電性微粒子の粒子径のアスペクト比とは、導電性微粒子の平均長径を平均短径で除算して求めた値である。 The aspect ratio of the particle diameter of the conductive fine particles is preferably less than 1.3, more preferably less than 1.1, and still more preferably less than 1.05. The particle diameter aspect ratio of the conductive fine particles is a value obtained by dividing the average major axis of the conductive fine particles by the average minor axis.

上記導電性微粒子の粒子径のアスペクト比が1.3以上であると、導電性微粒子が不揃いとなるため、短径部分が電極に届きにくくなって導通不良を起こすことがある。一般に導電性微粒子は粒子径のアスペクト比が高いものが多いので、本発明で用いられる導電性微粒子は、変形可能な状態で表面張力を利用する等の方法により球形化処理を施して球状にしたものであることが好ましい。 When the aspect ratio of the particle diameter of the conductive fine particles is 1.3 or more, the conductive fine particles are not uniform, so that the short diameter portion is difficult to reach the electrode and may cause poor conduction. In general, the conductive fine particles often have a high particle diameter aspect ratio. Therefore, the conductive fine particles used in the present invention are formed into a spherical shape by subjecting them to a spheroidizing process such as using surface tension in a deformable state. It is preferable.

上記導電性微粒子の粒子径のCV値(変動係数)は、5%以下であることが好ましく、より好ましくは2%以下であり、更に好ましくは1%以下である。なお、導電性微粒子の粒子径のCV値とは、下記計算式に示すように、粒子径の標準偏差を平均粒子径で除算し、100を乗ずることによって求めた値である。
粒子径のCV値(%)=(粒子径の標準偏差/平均粒子径)×100
The CV value (coefficient of variation) of the particle diameter of the conductive fine particles is preferably 5% or less, more preferably 2% or less, and further preferably 1% or less. The CV value of the particle diameter of the conductive fine particles is a value obtained by dividing the standard deviation of the particle diameter by the average particle diameter and multiplying by 100 as shown in the following calculation formula.
CV value of particle diameter (%) = (standard deviation of particle diameter / average particle diameter) × 100

上記導電性微粒子の粒子径のCV値が5%を超えると、粒子径が不揃いとなるため、小さい導電性微粒子が電極に届きにくくなって導通不良を起こすことがある。通常の導電性微粒子は粒子径のCV値が大きいため、本発明で用いられる導電性微粒子は、分級等により粒子径を揃えたものであることが好ましい。特に粒子径が200μm以下の微粒子は精度良く分級することが困難であるため、篩分級、気流分級、湿式分級等を組み合わせて分級することが好ましい。 When the CV value of the particle diameter of the conductive fine particles exceeds 5%, the particle diameters are not uniform, so that the small conductive fine particles are difficult to reach the electrode and may cause poor conduction. Since normal conductive fine particles have a large CV value, the conductive fine particles used in the present invention preferably have a uniform particle size by classification or the like. In particular, since it is difficult to classify fine particles having a particle diameter of 200 μm or less with high accuracy, classification is preferably performed by combining sieve classification, airflow classification, wet classification, and the like.

上記導電性微粒子の抵抗値は、平均粒子径の10%を圧縮した時、1Ω以下であることが好ましく、より好ましくは0.3Ω以下であり、更に好ましくは0.05Ω以下であり、特に好ましく0.01Ω以下である。 The resistance value of the conductive fine particles is preferably 1Ω or less, more preferably 0.3Ω or less, still more preferably 0.05Ω or less, particularly preferably when 10% of the average particle diameter is compressed. 0.01Ω or less.

上記導電性微粒子の抵抗値が1Ωを超えると、充分な電流値を確保することが困難となったり、高い電圧に耐えることが困難となるため、素子が正常に作動しなくなることがある。また、導電性微粒子の抵抗値が0.05Ω以下であると、電流駆動型の素子でも高い導通信頼性を保ったまま対応が可能になる等、著しく効果が高まる。 If the resistance value of the conductive fine particles exceeds 1Ω, it may be difficult to secure a sufficient current value or it will be difficult to withstand a high voltage, and the device may not operate normally. In addition, when the resistance value of the conductive fine particles is 0.05Ω or less, the effect can be remarkably enhanced, for example, it is possible to cope with a current-driven element while maintaining high conduction reliability.

上記導電性微粒子の圧縮回復率は、5%以上であることが好ましく、より好ましくは20%以上であり、更に好ましくは50%以上であり、特に好ましくは80%以上である。なお、ここで導電性微粒子の圧縮回復率とは、20℃の雰囲気下、10%の圧縮変形状態における形状回復率のことであり、特公平7−95165号公報に記載の方法に準拠して、微小圧縮試験器(例えば、島津製作所社製の商品名「PCT−200」)を用いて、ダイヤモンド製の直径50μmの円柱の平滑端面で、導電性微粒子を圧縮速度0.28mN/秒、原点荷重値1.0mN、反転荷重値10mNの条件で圧縮し、反転の点までの変位差の比を%で表した値である。 The compression recovery rate of the conductive fine particles is preferably 5% or more, more preferably 20% or more, still more preferably 50% or more, and particularly preferably 80% or more. Here, the compression recovery rate of the conductive fine particles is a shape recovery rate in a compression deformation state of 10% in an atmosphere of 20 ° C., and conforms to the method described in Japanese Patent Publication No. 7-95165. Using a micro compression tester (for example, trade name “PCT-200” manufactured by Shimadzu Corporation), the conductive fine particles are compressed at a compression speed of 0.28 mN / sec on the smooth end surface of a 50 μm diameter cylinder made from diamond. It is a value expressed as a percentage of the displacement difference up to the reversal point when compressed under a load value of 1.0 mN and a reversal load value of 10 mN.

上記導電性微粒子の圧縮回復率が5%未満であると、衝撃等により対向する電極間が瞬間的に拡がった際に、それに追従することができず、瞬間的に導通が不安定になることがある。 When the compression recovery rate of the conductive fine particles is less than 5%, when the electrodes facing each other are instantaneously expanded due to an impact or the like, it is not possible to follow it and the conduction becomes unstable instantaneously. There is.

上記導電性微粒子の線膨張係数の好ましい下限は10ppm/℃、好ましい上限は200ppm/℃であり、より好ましい下限は20ppm/℃、より好ましい上限は150ppm/℃であり、更に好ましい下限は30ppm/℃、更に好ましい上限は100ppm/℃である。なお、導電性微粒子の線膨張係数は、公知の方法によって測定することができる。 The preferable lower limit of the linear expansion coefficient of the conductive fine particles is 10 ppm / ° C, the preferable upper limit is 200 ppm / ° C, the more preferable lower limit is 20 ppm / ° C, the more preferable upper limit is 150 ppm / ° C, and the further preferable lower limit is 30 ppm / ° C. A more preferred upper limit is 100 ppm / ° C. The linear expansion coefficient of the conductive fine particles can be measured by a known method.

上記導電性微粒子の線膨張係数が10ppm/℃未満であると、導電性微粒子を例えば本発明4の接着性エポキシ樹脂シート中に含有させて、本発明6又は本発明7の導電接続シートとした際に、導電性微粒子と接着性エポキシ樹脂シートとの線膨張の差が大きくなるため、熱サイクル等がかかった時に接着性エポキシ樹脂シートの伸びに追従することが困難となって、導通が不安定になることがあり、逆に導電性微粒子の線膨張係数が200ppm/℃を超えると、導電接続シートが基板に粘着により接着されている場合には、熱サイクル等がかかった時に電極間が拡がりすぎて、その粘着による接着部分が破壊されて電極の接続部に応力が集中するため、導通不良等を起こすことがある。 When the linear expansion coefficient of the conductive fine particles is less than 10 ppm / ° C., the conductive fine particles are contained, for example, in the adhesive epoxy resin sheet of the present invention 4 to obtain the conductive connection sheet of the present invention 6 or the present invention 7. However, since the difference in linear expansion between the conductive fine particles and the adhesive epoxy resin sheet becomes large, it becomes difficult to follow the elongation of the adhesive epoxy resin sheet when a thermal cycle or the like is applied, resulting in poor conduction. On the contrary, when the linear expansion coefficient of the conductive fine particles exceeds 200 ppm / ° C., when the conductive connection sheet is adhered to the substrate by adhesion, the gap between the electrodes is increased when a thermal cycle or the like is applied. Since it spreads too much, the adhesion part by the adhesion is destroyed and stress concentrates on the connection part of the electrode, which may cause poor conduction.

上記導電性微粒子のK値の好ましい下限は400N/mm、好ましい上限は15000N/mmであり、より好ましい下限は1000N/mm、より好ましい上限は10000N/mmであり、更に好ましい下限は2000N/mm、更に好ましい上限は8000N/mmであり、特に好ましい下限は3000N/mm、特に好ましい上限は6000N/mmである。なお、導電性微粒子のK値は、特公平7−95165号公報に記載されているように、(3/√2)・F・S−3/2・R−1/2(単位はN/mm)で定義され、球体の硬さを普遍的かつ定量的に表す値である。具体的には、上記公報に記載の方法に準拠して、微小圧縮試験器(例えば、島津製作所社製の商品名「PCT−200」)を用いて、ダイヤモンド製の直径50μmの円柱の平滑端面で、導電性微粒子を圧縮硬度0.27g/秒、最大試験荷重10gの条件で圧縮して算出される値である。ここで、Fは10%圧縮変形における荷重値(N)、Sは10%圧縮変形における圧縮変位(mm)、Rは半径(mm)を示す。 Preferable lower limit is 400 N / mm 2 in K value of the conductive fine particles, a preferred upper limit is 15000 N / mm 2, and more preferable lower limit is 1000 N / mm 2, and more preferred upper limit is 10000 N / mm 2, still more preferred lower limit 2000N / mm 2, still more preferred upper limit is 8000 N / mm 2, particularly preferred lower limit is 3000N / mm 2, particularly preferred upper limit is 6000 N / mm 2. Incidentally, K value of the conductive fine particles, as disclosed in Japanese Patent Kokoku 7-95165, (3 / √2) · F · S -3/2 · R -1/2 ( unit N / mm 2 ), which is a value that universally and quantitatively represents the hardness of a sphere. Specifically, in accordance with the method described in the above publication, a smooth end face of a cylinder made of diamond having a diameter of 50 μm using a micro compression tester (for example, trade name “PCT-200” manufactured by Shimadzu Corporation). The value is calculated by compressing the conductive fine particles under the conditions of a compression hardness of 0.27 g / sec and a maximum test load of 10 g. Here, F represents a load value (N) in 10% compression deformation, S represents a compression displacement (mm) in 10% compression deformation, and R represents a radius (mm).

上記導電性微粒子のK値が400N/mm未満であると、対向する電極に導電性微粒子が充分に食い込むことができないため、電極表面が酸化されている場合等には導通がとれなかったり、接触抵抗が大きくなって、導通信頼性が低下したりすることがあり、逆に導電性微粒子のK値が15000N/mmを超えると、対向電極で挟み込んだ際に電極に局部的に過度の圧力がかかって素子が破壊されたり、粒子径の大きな導電性微粒子のみによって電極間のギャップが決まってしまい、粒子径の小さい導電性微粒子が電極に届かず導通不良の原因になったりすることがある。 If the K value of the conductive fine particles is less than 400 N / mm 2 , the conductive fine particles cannot sufficiently penetrate into the opposing electrode, so that conduction cannot be obtained when the electrode surface is oxidized, The contact resistance may increase and the conduction reliability may decrease. Conversely, if the K value of the conductive fine particles exceeds 15000 N / mm 2 , excessively localized in the electrode when sandwiched between the counter electrodes. The device may be destroyed due to pressure, or the gap between the electrodes may be determined only by the conductive particles having a large particle size, and the conductive particles having a small particle size may not reach the electrode and cause a conduction failure. is there.

本発明10の導電接続ペーストは、本発明3の接着性エポキシ樹脂ペースト中に上記導電性微粒子の所定量を添加し、均一に混練することにより、作製することができる。 The conductive connection paste of the present invention 10 can be produced by adding a predetermined amount of the above-mentioned conductive fine particles to the adhesive epoxy resin paste of the present invention 3 and kneading uniformly.

本発明12及び本発明13の導電接続シートは、本発明7の接着性エポキシ樹脂シート中に上記導電性微粒子の所定量を含有させ、配置又は埋設することにより、作製することができる。 The conductive connection sheets of the present invention 12 and the present invention 13 can be produced by including a predetermined amount of the above-mentioned conductive fine particles in the adhesive epoxy resin sheet of the present invention 7, and arranging or embedding them.

上記導電接続シートの作製に用いられる接着性エポキシ樹脂シートの厚みは、導電性微粒子の平均粒子径の1/2〜2倍であることが好ましく、より好ましくは2/3〜1.5倍であり、更に好ましくは3/4〜1.3倍であり、特に好ましくは4/5〜1.2倍である。 The thickness of the adhesive epoxy resin sheet used for the production of the conductive connection sheet is preferably 1/2 to 2 times the average particle diameter of the conductive fine particles, more preferably 2/3 to 1.5 times. More preferably 3/4 to 1.3 times, and particularly preferably 4/5 to 1.2 times.

また、上記導電接続シートにおいて、シート中に導電性粒子が露出するような構成とする場合には、接着性エポキシ樹脂シートの厚みが導電性微粒子の平均粒子径の1/2倍未満であると、接着性エポキシ樹脂シートが電極基板を支持することが困難となることがあり、逆に接着性エポキシ樹脂シートの厚みが導電性微粒子の平均粒子径の2倍を超えると、導電性微粒子が電極に届かず導通不良の原因となることがある。特に、素子及び基板の電極上にバンプがある場合、接着性エポキシ樹脂シートの厚みは導電性微粒子の平均粒子径の1倍以上であることが好ましく、逆に素子及び基板の電極上にバンプがない場合、接着性エポキシ樹脂シートの厚みは導電性微粒子の平均粒子径の1倍以下であることが好ましい。 Further, in the conductive connection sheet, when the conductive particles are exposed in the sheet, the thickness of the adhesive epoxy resin sheet is less than ½ times the average particle diameter of the conductive fine particles. When the thickness of the adhesive epoxy resin sheet exceeds twice the average particle diameter of the conductive fine particles, the conductive fine particles may become difficult to support the electrode substrate. This may cause poor conduction. In particular, when there are bumps on the electrodes of the element and the substrate, the thickness of the adhesive epoxy resin sheet is preferably at least 1 times the average particle diameter of the conductive fine particles, and conversely, the bumps are formed on the electrodes of the element and the substrate. If not, the thickness of the adhesive epoxy resin sheet is preferably not more than 1 times the average particle diameter of the conductive fine particles.

上記導電接続シートの作製に用いられる接着性エポキシ樹脂シートには、導電性微粒子を配置するための貫通孔が設けられていることが好ましい。上記貫通孔を設ける位置は、特に限定されるものではなく、導通対象である基板やチップに応じて適宜選択されれば良く、導通すべき対向する基板の電極と同じ位置に任意に設けることができる。 The adhesive epoxy resin sheet used for the production of the conductive connection sheet is preferably provided with a through hole for arranging conductive fine particles. The position where the through-hole is provided is not particularly limited, and may be appropriately selected according to the substrate or chip to be conducted, and may be arbitrarily provided at the same position as the electrode of the opposing substrate to be conducted. it can.

上記貫通孔は、特に限定されるものではないが、平均孔径、孔径のアスペクト比及び孔径のCV値が、それぞれ下記のような範囲内にあることが好ましい。 The through hole is not particularly limited, but it is preferable that the average hole diameter, the aspect ratio of the hole diameter, and the CV value of the hole diameter are in the following ranges, respectively.

貫通孔の平均孔径は、導電性微粒子の平均粒子径の1/2〜2倍であることが好ましく、より好ましくは2/3〜1.3倍であり、更に好ましくは4/5〜1.2倍であり、特に好ましくは9/10〜1.1倍である。貫通孔の平均孔径が導電性微粒子の平均粒子径の1/2未満であるか、又は、2倍を超えると、埋設された導電性微粒子が貫通孔からズレやすくなることがある。 The average pore diameter of the through holes is preferably 1/2 to 2 times the average particle diameter of the conductive fine particles, more preferably 2/3 to 1.3 times, and even more preferably 4/5 to 1. 2 times, particularly preferably 9/10 to 1.1 times. If the average pore diameter of the through holes is less than ½ of the average particle diameter of the conductive fine particles or more than twice, the embedded conductive fine particles may be easily displaced from the through holes.

貫通孔の孔径のアスペクト比は、2未満であることが好ましく、より好ましくは1.5以下であり、更に好ましくは1.3以下であり、特に好ましくは1.1以下である。貫通孔の孔径のアスペクト比が2以上であると、配置された導電性微粒子が貫通孔からズレやすくなることがある。なお、貫通孔の孔径のアスペクト比とは、孔径の平均長径を平均短径で除算して求めた値である。 The aspect ratio of the diameter of the through hole is preferably less than 2, more preferably 1.5 or less, still more preferably 1.3 or less, and particularly preferably 1.1 or less. When the aspect ratio of the diameter of the through hole is 2 or more, the arranged conductive fine particles may be easily displaced from the through hole. The aspect ratio of the hole diameter of the through hole is a value obtained by dividing the average major axis of the hole diameter by the average minor axis.

貫通孔の孔径のCV値は、10%以下であることが好ましく、より好ましくは5%以下であり、更に好ましくは2%以下であり、特に好ましくは1%以下である。貫通孔の孔径のCV値が10%を超えると、孔径が不揃いとなって、配置された導電性微粒子が貫通孔からズレやすくなることがある。なお、貫通孔の孔径のCV値とは、下記計算式に示すように、孔径の標準偏差を平均孔径で除算し、100を乗ずることによって求めた値である。
孔径のCV値(%)=(孔径の標準偏差/平均孔径)×100
The CV value of the hole diameter of the through hole is preferably 10% or less, more preferably 5% or less, still more preferably 2% or less, and particularly preferably 1% or less. When the CV value of the hole diameter of the through hole exceeds 10%, the hole diameters are uneven, and the arranged conductive fine particles may be easily displaced from the through hole. The CV value of the hole diameter of the through hole is a value obtained by dividing the standard deviation of the hole diameter by the average hole diameter and multiplying by 100 as shown in the following calculation formula.
CV value (%) of pore diameter = (standard deviation of pore diameter / average pore diameter) × 100

上記導電接続シートの作製に用いられる接着性エポキシ樹脂シートに上記貫通孔を設け、この貫通孔に導電性微粒子を配置する際に、接着性エポキシ樹脂シート自体に粘着性が付与されている場合には、この貫通孔の周囲の粘着性によって、導電性微粒子に対する接着性を得ることができ、室温領域付近で高い導電性微粒子の保持性を確保することができる。 When the adhesive epoxy resin sheet used for the production of the conductive connection sheet is provided with the through holes, and when the conductive fine particles are disposed in the through holes, the adhesive epoxy resin sheet itself is provided with adhesiveness. The adhesiveness to the conductive fine particles can be obtained by the adhesiveness around the through-holes, and high retainability of the conductive fine particles can be secured in the vicinity of the room temperature region.

また、接着性エポキシ樹脂シートに設けられた貫通孔に導電性微粒子を配置する方法としては、例えば、貫通孔を通して導電性微粒子を吸引する方法、貫通孔の上で導電性微粒子を押圧する方法等が挙げられる。 Moreover, as a method of arranging the conductive fine particles in the through holes provided in the adhesive epoxy resin sheet, for example, a method of sucking the conductive fine particles through the through holes, a method of pressing the conductive fine particles on the through holes, etc. Is mentioned.

本発明12の導電接続シートは、本発明7の接着性エポキシ樹脂シート中に導電性微粒子が含有されてなり、即ち、本発明7の接着性エポキシ樹脂シート中の任意の位置に多数の導電性微粒子が配置されてなり、かつ、導電性微粒子の少なくとも一部が接着性エポキシ樹脂シートから露出しているものである。 In the conductive connection sheet of the present invention 12, conductive fine particles are contained in the adhesive epoxy resin sheet of the present invention 7, that is, a large number of conductive materials are disposed at arbitrary positions in the adhesive epoxy resin sheet of the present invention 7. Fine particles are arranged, and at least a part of the conductive fine particles is exposed from the adhesive epoxy resin sheet.

このような構成の導電接続シートとすることにより、微細な対向する電極を導通するに際し、隣接する電極間のリークがなく、信頼性の高い導通を短時間で容易に行うことができる。 By using the conductive connection sheet having such a configuration, there is no leakage between adjacent electrodes when conducting conductive electrodes facing each other, and highly reliable conduction can be easily performed in a short time.

なお、導電性微粒子が配置される位置は、導電性微粒子の少なくとも一部が接着性エポキシ樹脂シートの片面のみに露出するように配置されていても良いし、導電性微粒子の少なくとも一部が接着性エポキシ樹脂シートの両面に露出するように配置されていても良い。 The position where the conductive fine particles are arranged may be arranged such that at least a part of the conductive fine particles is exposed only on one side of the adhesive epoxy resin sheet, or at least a part of the conductive fine particles is adhered. It may be arranged so as to be exposed on both surfaces of the conductive epoxy resin sheet.

本発明13の導電接続シートは、本発明7の接着性エポキシ樹脂シート中にシートの厚みよりも小さい導電性微粒子が埋設されてなるものである。本発明7の導電接続シートにおいては、シートの厚みよりも小さい導電性微粒子の少なくとも一部が接着性エポキシ樹脂シートの片面もしくは両面に露出していても良いし、露出していなくても良い。 The conductive connection sheet of the present invention 13 is formed by embedding conductive fine particles smaller than the thickness of the sheet in the adhesive epoxy resin sheet of the present invention 7. In the conductive connection sheet of the present invention 7, at least a part of the conductive fine particles smaller than the thickness of the sheet may be exposed on one side or both sides of the adhesive epoxy resin sheet, or may not be exposed.

接着性エポキシ樹脂シートに貫通孔が設けられていない場合、接着性エポキシ樹脂シートの上でシートの厚みよりも小さい導電性微粒子を押圧することによって埋設しても良い。この際、接着性エポキシ樹脂シート自体に粘着性が付与されている場合には、その粘着性によって導電性微粒子が安定に保持された状態で埋設される。なお、接着性エポキシ樹脂シートの粘着性が弱い場合には、接着性エポキシ樹脂シートが硬化しない程度の加熱を行って、接着性エポキシ樹脂シートの粘着性を高めても良い。また、埋設された導電性微粒子は、接着性エポキシ樹脂シートの内部に重心があることが好ましい。このことにより、導電性微粒子を安定した状態で埋設することができる。 When the adhesive epoxy resin sheet is not provided with a through hole, the adhesive epoxy resin sheet may be embedded by pressing conductive fine particles smaller than the thickness of the sheet on the adhesive epoxy resin sheet. At this time, when the adhesive epoxy resin sheet itself is provided with adhesiveness, the conductive fine particles are embedded in a state where the adhesive fine particles are stably held by the adhesiveness. In addition, when the adhesiveness of the adhesive epoxy resin sheet is weak, the adhesive epoxy resin sheet may be heated to such an extent that the adhesive epoxy resin sheet is not cured to increase the adhesiveness of the adhesive epoxy resin sheet. Moreover, it is preferable that the embedded conductive fine particles have a center of gravity inside the adhesive epoxy resin sheet. As a result, the conductive fine particles can be embedded in a stable state.

本発明14の異方性導電フィルムは、本発明の13の導電接続シートからなるものである。 The anisotropic conductive film of the present invention 14 comprises the thirteen conductive connection sheet of the present invention.

本発明15の導電接続シートは、可塑剤の添加によって粘着性が付与される樹脂及び常温で液状のナフタレン型エポキシ樹脂を含有する粘着性樹脂組成物からなる粘着性樹脂シートと導電性微粒子とによって形成される導電接続シートであって、上記粘着性樹脂シートは、動的粘弾性に基づくtanδのピーク温度が硬化前は−20℃〜40℃の範囲にあり、硬化後は120℃以上であるとともに、粘着性樹脂シートの任意の位置に上記導電性微粒子が配置され、導電性微粒子の少なくとも一部が粘着性樹脂シートから露出しているものである。 The conductive connection sheet of the present invention 15 is composed of an adhesive resin sheet comprising an adhesive resin composition containing a resin to which adhesiveness is imparted by addition of a plasticizer and a naphthalene type epoxy resin that is liquid at room temperature, and conductive fine particles. In the conductive connection sheet to be formed, the adhesive resin sheet has a peak temperature of tan δ based on dynamic viscoelasticity in a range of −20 ° C. to 40 ° C. before curing and 120 ° C. or more after curing. In addition, the conductive fine particles are disposed at an arbitrary position of the adhesive resin sheet, and at least a part of the conductive fine particles is exposed from the adhesive resin sheet.

上記粘着性樹脂組成物に含有される可塑剤の添加によって粘着性が付与される樹脂としては、特に限定されるものではないが、例えば、酢酸ビニル系樹脂、エチレン−酢酸ビニル系共重合体、アクリル系樹脂、ポリビニルブチラール樹脂等のポリビニルアセタール系樹脂、スチレン系樹脂、飽和ポリエステル系樹脂、熱可塑性ウレタン系樹脂、ポリアミド系樹脂、熱可塑性ポリイミド系樹脂、ケトン系樹脂、ノルボルネン系樹脂、スチレン−ブタジエン系ブロック共重合体等が挙げられる。これらの樹脂は、高い耐熱性を有し、かつ、可塑剤の添加によって粘着性を付与されるために、比較的高いガラス転移温度を有する高分子量重合体であることが好ましい。また、これらの樹脂は、単独で用いられても良いし、2種類以上が併用されても良い。 The resin to which tackiness is imparted by the addition of a plasticizer contained in the above-mentioned tacky resin composition is not particularly limited, but examples thereof include vinyl acetate resins, ethylene-vinyl acetate copolymers, Polyvinyl acetal resins such as acrylic resins and polyvinyl butyral resins, styrene resins, saturated polyester resins, thermoplastic urethane resins, polyamide resins, thermoplastic polyimide resins, ketone resins, norbornene resins, styrene-butadiene Examples thereof include a system block copolymer. These resins are preferably high molecular weight polymers having a relatively high glass transition temperature because they have high heat resistance and are tacky by the addition of a plasticizer. Moreover, these resin may be used independently and 2 or more types may be used together.

上記粘着性樹脂組成物に含有される可塑剤としては、常温で液状のナフタレン型エポキシ樹脂が用いられる。上記ナフタレン型エポキシ樹脂とは、エポキシ基を有するナフタレン骨格からなるエポキシ樹脂のことである。上記ナフタレン型エポキシ樹脂は剛直なナフタレン骨格を有しているので、本発明8の導電接続シートは、硬化後のシートが高温高湿の環境下においても高い形状保持性を得ることができる。 As the plasticizer contained in the adhesive resin composition, a naphthalene type epoxy resin that is liquid at room temperature is used. The naphthalene type epoxy resin is an epoxy resin having a naphthalene skeleton having an epoxy group. Since the naphthalene-type epoxy resin has a rigid naphthalene skeleton, the conductive connection sheet of the present invention 8 can obtain high shape retention even in a high-temperature and high-humidity environment.

上記ナフタレン型エポキシ樹脂は、通常、異性体を含むため融点が常温以下となっているので、本発明8の導電接続シートが低温で取り扱われても粘着性を有することができる。即ち、上記比較的高いガラス転移温度を有する高分子量重合体に粘着性を付与する場合、常温で液状のナフタレン型エポキシ樹脂を用いることによって優れた可塑化効果を発揮し、低温で取り扱われても導電性微粒子に対する粘着性と高温高湿の環境下での形状保持性とを両立できる粘着性樹脂シートひいては導電接続シートを得ることができる。 Since the naphthalene type epoxy resin usually contains an isomer and has a melting point of room temperature or lower, it can have adhesiveness even when the conductive connecting sheet of the present invention 8 is handled at a low temperature. That is, when tackiness is imparted to the high molecular weight polymer having a relatively high glass transition temperature, an excellent plasticizing effect is exhibited by using a naphthalene type epoxy resin that is liquid at room temperature, and it can be handled at a low temperature. An adhesive resin sheet that can achieve both adhesiveness to conductive fine particles and shape retention in a high-temperature and high-humidity environment, and thus a conductive connection sheet can be obtained.

上記常温で液状のナフタレン型エポキシ樹脂としては、特に限定されるものではないが、例えば、1−グリシジルナフタレン、2−グリシジルナフタレン、1,2−ジグリジジルナフタレン、1,5−ジグリシジルナフタレン、1,6−ジグリシジルナフタレン、1,7−ジグリシジルナフタレン、2,7−ジグリシジルナフタレン、トリグリシジルナフタレン、1,2,5,6−テトラグリシジルナフタレン等が挙げられる。これらのナフタレン型エポキシ樹脂は、単独で用いられても良いし、2種類以上が併用されても良い。 Although it does not specifically limit as said naphthalene type epoxy resin liquid at the normal temperature, For example, 1-glycidyl naphthalene, 2-glycidyl naphthalene, 1,2- diglycidyl naphthalene, 1,5-diglycidyl naphthalene, 1 , 6-diglycidylnaphthalene, 1,7-diglycidylnaphthalene, 2,7-diglycidylnaphthalene, triglycidylnaphthalene, 1,2,5,6-tetraglycidylnaphthalene and the like. These naphthalene type epoxy resins may be used alone or in combination of two or more.

上記常温で液状のナフタレン型エポキシ樹脂に含有されるエポキシ基の数は、特に限定されるものではないが、1分子あたり平均1個以上であることが好ましく、より好ましくは1分子あたり平均2個以上である。 The number of epoxy groups contained in the naphthalene-type epoxy resin that is liquid at normal temperature is not particularly limited, but is preferably 1 or more on average per molecule, more preferably 2 on average per molecule. That's it.

上記粘着性樹脂組成物には、常温で液状のナフタレン型エポキシ樹脂を硬化させるためのエポキシ樹脂用硬化剤が含有されていることが好ましい。 The adhesive resin composition preferably contains an epoxy resin curing agent for curing a naphthalene type epoxy resin that is liquid at room temperature.

上記エポキシ樹脂用硬化剤としては、上述した本発明1及び本発明2の硬化性樹脂組成物に必須成分として含有されるものと同様の硬化剤で良く、特に限定されるものではないが、例えば、トリアルキルテトラヒドロ無水フタル酸等の酸無水物系硬化剤、フェノール系硬化剤、アミン系硬化剤、ジシアンジアミド等の潜在性硬化剤、カチオン系触媒型硬化剤等が挙げられ、なかでも、上記常温で液状の加熱硬化型硬化剤や、多官能であり、当量的に添加量が少量で良いジシアンジアミド等の潜在性硬化剤が好適に用いられる。これらのエポキシ樹脂用硬化剤は、単独で用いられても良いし、2種類以上が併用されても良い。 The curing agent for epoxy resin may be the same curing agent as the essential component contained in the curable resin composition of the present invention 1 and the present invention 2 described above, and is not particularly limited. , Acid anhydride curing agents such as trialkyltetrahydrophthalic anhydride, phenolic curing agents, amine curing agents, latent curing agents such as dicyandiamide, and cationic catalytic curing agents. A latent curing agent such as dicyandiamide, which is a liquid heat-curing curing agent or polyfunctional and may be added in a small amount equivalently, is preferably used. These epoxy resin curing agents may be used alone or in combination of two or more.

また、上記粘着性樹脂組成物においては、硬化速度や硬化物の物性等を調整するために、上記エポキシ樹脂用硬化剤とともに、硬化促進剤を併用しても良い。 Moreover, in the said adhesive resin composition, in order to adjust a cure rate, the physical property of hardened | cured material, etc., you may use together a hardening accelerator with the said hardening | curing agent for epoxy resins.

上記硬化促進剤としては、上述した本発明1及び本発明2の硬化性樹脂組成物において併用され得るものと同様の硬化促進剤で良く、特に限定されるものではないが、例えば、イミダゾール系硬化促進剤、3級アミン系硬化促進剤等が挙げられ、なかでも、硬化速度や硬化物の物性等の調整をするための反応系の制御をしやすいことから、上記イミダゾール系硬化促進剤が好適に用いられる。これらの硬化促進剤は、単独で用いられても良いし、2種類以上が併用されても良い。 The curing accelerator may be the same curing accelerator as that which can be used in combination in the curable resin compositions of the present invention 1 and the present invention 2, and is not particularly limited. Accelerators, tertiary amine curing accelerators and the like are mentioned. Among them, the above imidazole curing accelerator is preferable because it is easy to control the reaction system for adjusting the curing speed and physical properties of the cured product. Used for. These curing accelerators may be used alone or in combination of two or more.

上記粘着性樹脂組成物には、必要に応じて、可塑剤(ナフタレン型エポキシ樹脂)を添加しても粘着性を付与されない高分子量重合体や、例えばジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂等のナフタレン型エポキシ樹脂以外のエポキシ樹脂やエポキシ基含有化合物が含有されていても良い。 If necessary, the above adhesive resin composition may be a high molecular weight polymer that does not impart adhesiveness even when a plasticizer (naphthalene type epoxy resin) is added, or a naphthalene type epoxy such as a dicyclopentadiene type epoxy resin. An epoxy resin other than the resin or an epoxy group-containing compound may be contained.

また、上記粘着性樹脂組成物には、必要に応じて、例えば、上記密着性向上剤、pH調整剤、イオン捕捉剤、粘度調整剤、揺変性付与剤、酸化防止剤、熱安定剤、光安定剤、紫外線吸収剤、着色剤、脱水剤、難燃剤、帯電防止剤、防黴剤、防腐剤、溶剤等の各種添加剤の1種類又は2種類以上が添加されていても良い。 In addition, the adhesive resin composition may include, for example, the above adhesion improver, pH adjuster, ion scavenger, viscosity adjuster, thixotropic agent, antioxidant, thermal stabilizer, light, if necessary. One kind or two or more kinds of various additives such as a stabilizer, an ultraviolet absorber, a colorant, a dehydrating agent, a flame retardant, an antistatic agent, an antifungal agent, an antiseptic and a solvent may be added.

上記粘着性樹脂組成物をシート状に成形して粘着性樹脂シートを作製する方法としては、特に限定されるものではないが、例えば、押出機による押出成形法、粘着性樹脂組成物を溶剤で希釈して粘着性樹脂組成物溶液を調製し、この溶液をセパレーター上にキャスティングした後、溶剤を乾燥させる溶液キャスト法等が挙げられ、なかでも、高温を必要としないことから、溶液キャスト法が好適に用いられる。 The method for producing the adhesive resin sheet by forming the adhesive resin composition into a sheet is not particularly limited. For example, an extrusion molding method using an extruder, and the adhesive resin composition with a solvent. Examples include a solution casting method in which an adhesive resin composition solution is diluted to prepare a solution, and this solution is cast on a separator and then the solvent is dried. Preferably used.

こうして得られる粘着性樹脂シートは、上記動的粘弾性測定(測定周波数:10Hz、昇温速度:3℃/分)によって求められる力学的損失正接で表されるtanδのピーク温度が、硬化前は−20℃〜40℃の範囲にあり、硬化後は120℃以上であることが必要であり、好ましくは、硬化前は0〜35℃の範囲にあり、硬化後は160℃以上である。 The adhesive resin sheet thus obtained has a peak temperature of tan δ expressed by the dynamic loss tangent determined by the dynamic viscoelasticity measurement (measurement frequency: 10 Hz, temperature increase rate: 3 ° C./min) before curing. It exists in the range of -20 degreeC-40 degreeC, and after hardening needs to be 120 degreeC or more, Preferably, it exists in the range of 0-35 degreeC before hardening, and is 160 degreeC or more after hardening.

このようなtanδのピーク温度を有することにより、上記粘着性樹脂シートを用いて作製される本発明15の導電接続シートは、常温領域で柔軟であって、しかも取り扱い性に優れ、かつ、常温で粘着性を有するものとなり、熱プレスすることなく、被着体同士を常温領域で貼り合わせることができるとともに、熱オーブン等で加熱硬化(後養生)することによって高い接着信頼性や高い導通信頼性を発現することができる。即ち、上記粘着性樹脂シートを用いて作製される本発明15の導電接続シートは、硬化前は常温で粘着性を有し、加熱による硬化後は優れた物性を発現するものであるので、粘着性を有するシートによって貼り合わせ、位置決めや仮固定をすることができるとともに、後で加熱することによって優れた接着力や優れた導通性等の物性を発現し、導電接続シートとして充分な接着信頼性及び導通信頼性を発現することができる。 By having such a tan δ peak temperature, the conductive connection sheet of the present invention 15 produced using the above-mentioned adhesive resin sheet is flexible in the normal temperature region, excellent in handleability, and at normal temperature. Adhesives can be bonded to each other at room temperature without hot pressing, and high adhesion reliability and high conduction reliability by heat curing (post-curing) in a heat oven or the like Can be expressed. That is, the conductive connection sheet of the present invention 15 produced using the above-mentioned adhesive resin sheet has adhesiveness at room temperature before curing and exhibits excellent physical properties after curing by heating. Adhesion reliability sufficient as a conductive connection sheet, which can be bonded, positioned and temporarily fixed by a sheet having the property, and exhibits physical properties such as excellent adhesion and excellent conductivity by heating later. And conduction reliability can be expressed.

粘着性樹脂シートの硬化前のtanδのピーク温度が−20℃未満であると、粘着性樹脂シートの凝集力が不充分となるために、本発明15の導電接続シートがセパレーターから剥がれにくくなったり、粘着性樹脂シートに前記導電性微粒子を配置するために設けた上記貫通孔に粘着性樹脂組成物が流れ込んで貫通孔が埋まってしまうことが起こり、逆に粘着性樹脂シートの硬化前のtanδのピーク温度が40℃を超えると、粘着性樹脂シート中に導電性微粒子を含有させて導電接続シートを作製する際に、常温での導電性微粒子に対する粘着性が不充分となって、導電性微粒子を保持することが困難となる。 When the peak temperature of tan δ before curing of the adhesive resin sheet is less than −20 ° C., the cohesive force of the adhesive resin sheet becomes insufficient, so that the conductive connection sheet of the present invention 15 is difficult to peel off from the separator. , The adhesive resin composition flows into the through-holes provided to dispose the conductive fine particles on the adhesive resin sheet, and the through-holes are buried, and conversely, tan δ before curing of the adhesive resin sheet occurs. When the peak temperature exceeds 40 ° C., when the conductive resin sheet is made to contain conductive fine particles in the adhesive resin sheet, the adhesiveness to the conductive fine particles at room temperature becomes insufficient, and the conductive property becomes low. It becomes difficult to hold the fine particles.

また、上記粘着性樹脂シートは、硬化後の粘着性樹脂シートに対して、温度120℃、湿度85%RH、時間12時間の条件でプレッシャークッカー試験を行った後の硬化後の粘着性樹脂シートの伸び率が5%以下であることが好ましい。 Moreover, the said adhesive resin sheet is the adhesive resin sheet after hardening after performing a pressure cooker test on the conditions for temperature 120 degreeC, humidity 85% RH, and time 12 hours with respect to the adhesive resin sheet after hardening. It is preferable that the elongation percentage is 5% or less.

上記プレッシャークッカー試験を行った後の硬化後の粘着性樹脂シートの伸び率が5%を超えると、上記粘着性樹脂シートを用いて作製される本発明15の導電接続シートの接着信頼性や導通信頼性が不充分となることがある。 When the elongation percentage of the adhesive resin sheet after curing after the pressure cooker test exceeds 5%, the adhesion reliability and electrical continuity of the conductive connection sheet of the present invention 15 produced using the adhesive resin sheet are as follows. Reliability may be insufficient.

本発明15の導電接続シートに用いられる導電性微粒子としては、本発明10の導電接続ペースト、本発明11の異方性導電ペースト、本発明12及び本発明13の導電接続シートに含有されるものと同様の導電性微粒子で良く、特に限定されるものではないが、例えば、金属、カーボンブラック等の導電性無機物、導電性高分子からなるもの、樹脂からなる高分子量重合体、非導電性無機物や非導電性高分子等の最外層にメッキ処理等の方法によって導電被覆膜を設けたもの、導電性無機物や導電性高分子等の最外層に更に導電被覆膜を設けたもの等が挙げられ、なかでも、適度な弾性、柔軟性、形状回復性等を有する球状のものを得られやすいことから、高分子量重合体からなるコア(芯材)の表面に導電被覆膜が形成されてなる導電性微粒子が好適に用いられる。これらの導電性微粒子は、単独で用いられても良いし、2種類以上が併用されても良い。 The conductive fine particles used in the conductive connection sheet of the present invention 15 are contained in the conductive connection paste of the present invention 10, the anisotropic conductive paste of the present invention 11, the conductive connection sheets of the present invention 12 and the present invention 13. The conductive fine particles may be the same as those described above, and are not particularly limited. For example, conductive inorganic materials such as metals and carbon black, conductive polymer polymers, high molecular weight polymers made of resins, and nonconductive inorganic materials. Or a non-conductive polymer or other outermost layer provided with a conductive coating by a method such as plating, or a conductive inorganic material or a conductive polymer or other outermost layer provided with a conductive coating. Among them, a conductive coating film is formed on the surface of a core (core material) made of a high molecular weight polymer because it is easy to obtain a spherical shape having appropriate elasticity, flexibility, shape recoverability, etc. Conductivity Particles are suitably used. These electroconductive fine particles may be used independently and 2 or more types may be used together.

本発明15の導電接続シートは、上記粘着性樹脂シート中に上記導電性微粒子が含有されてなり、即ち、粘着性樹脂シート中の任意の位置に多数の導電性微粒子が配置されてなり、かつ、導電性微粒子の少なくとも一部が粘着性樹脂シートから露出しているものである。 The conductive connection sheet of the present invention 15 contains the conductive fine particles in the adhesive resin sheet, that is, a large number of conductive fine particles are arranged at arbitrary positions in the adhesive resin sheet, and At least a part of the conductive fine particles is exposed from the adhesive resin sheet.

このような構成の導電接続シートとすることにより、微細な対向する電極を導通するに際し、隣接する電極間のリークがなく、信頼性の高い導通を短時間で容易に行うことができる。 By using the conductive connection sheet having such a configuration, there is no leakage between adjacent electrodes when conducting conductive electrodes facing each other, and highly reliable conduction can be easily performed in a short time.

なお、導電性微粒子が配置される位置は、導電性微粒子の少なくとも一部が粘着性樹脂シートの片面のみに露出するように配置されていても良いし、導電性微粒子の少なくとも一部が粘着性樹脂シートの両面に露出するように配置されていても良い。 The position where the conductive fine particles are arranged may be arranged such that at least a part of the conductive fine particles is exposed only on one side of the adhesive resin sheet, or at least a part of the conductive fine particles is adhesive. You may arrange | position so that it may expose on both surfaces of a resin sheet.

粘着性樹脂シート中の任意の位置に多数の導電性微粒子を配置させて導電接続シートを作製する方法は、本発明12の導電接続シートを作製する場合と同様の方法で良い。 A method for producing a conductive connection sheet by arranging a large number of conductive fine particles at an arbitrary position in the adhesive resin sheet may be the same as that for producing the conductive connection sheet of the present invention 12.

本発明3の接着性エポキシ樹脂ペースト及び本発明10の導電接続ペースト(以下、単に「ペースト」と略記すこともある)は、ペースト状であるため、シート状のものとは異なり、ICチップや電子素子等のサイズに合わせた大きさに予めシートを切断、加工しておく必要がなく、貼り付け作業用の装置も必要ないことから、多品種少量生産向けとして優れている。 The adhesive epoxy resin paste of the present invention 3 and the conductive connection paste of the present invention 10 (hereinafter sometimes simply abbreviated as “paste”) are in the form of a paste, so that they are different from those in the form of a sheet. It is not necessary to cut and process the sheet in advance according to the size of the electronic element or the like, and an apparatus for pasting work is not necessary.

また、上記ペーストは、ペースト状であるため、シート状のものとは異なり、貼り合わせ時の位置ずれがなく、配線部分の凹凸が大きい基板や配線以外の部分の凹凸が大きな基板に対してもボイドの発生がない。また、シート状のものの場合、シートの貼り付け時にシートが伸びたり、切れたりする恐れがあるが、ペースト状であるため、そのような恐れもない。従って、サイズの小さなICチップや電子素子等や、凹凸の大きな基板に対しては、シート状のものよりも有利に用いられる場合がある。 In addition, since the paste is paste-like, unlike the sheet-like one, there is no positional deviation at the time of bonding, and it is also suitable for substrates with large irregularities in the wiring portion and substrates with large irregularities in the portions other than the wiring. There are no voids. In the case of a sheet-like material, the sheet may be stretched or cut when the sheet is attached, but there is no such fear because it is a paste-like material. Therefore, it may be used more advantageously than a sheet-like material for a small-sized IC chip, an electronic element, or a substrate with large unevenness.

本発明3の接着性エポキシ樹脂ペースト及び本発明10の導電接続ペーストは、ディスペンサ等の塗布装置で塗布できる粘度に調整されているものである限り、溶剤で希釈されているものであっても良いし、無溶剤型のものであっても良い。また、上記ペーストは、ICチップや電子素子等の方に塗布されても良いし、基板の方に塗布されても良い。即ち、塗布しやすい方に塗布すれば良い。なお、一般的には、塗布量を調節しやすいことから、予め基板の方に塗布することが好ましい。 The adhesive epoxy resin paste of the present invention 3 and the conductive connection paste of the present invention 10 may be diluted with a solvent as long as the viscosity is adjusted to be applied by a coating device such as a dispenser. However, it may be of a solventless type. Further, the paste may be applied to an IC chip, an electronic element, or the like, or may be applied to a substrate. In other words, it may be applied to the one that is easy to apply. In general, since it is easy to adjust the coating amount, it is preferable to apply the coating to the substrate in advance.

上記ペーストが溶剤で希釈されている場合は、被着体の少なくとも一方に塗布した後、硬化が進行しないように低温で養生して溶剤を蒸発させ、ペースト状からBステージ化させ、ICチップや電子素子等を位置決めしてフリップチップ接続する等の方法で接着させても良い。なお、上記ペーストが無溶剤型である場合でも、同様にICチップや電子素子等を位置決めしてフリップチップ接続することは可能である。 When the paste is diluted with a solvent, it is applied to at least one of the adherends, then cured at a low temperature so that curing does not proceed, the solvent is evaporated, and the paste is converted into a B-stage, The electronic elements may be bonded by a method such as positioning and flip chip connection. Even when the paste is a solventless type, it is possible to position an IC chip, an electronic element or the like and perform flip-chip connection in the same manner.

上記ペーストは、接着させたい部分にのみディスペンサ、ローラ、スタンパ等で部分的に塗布しても良い。また、接着信頼性や導通信頼性を高めるために、加熱により流動するペーストとすることにより、フリップチップ接続時の加熱で基板の凹凸を埋めるようにしても良い。 The paste may be partially applied with a dispenser, roller, stamper, or the like only to the portion to be bonded. Further, in order to increase the adhesion reliability and the conduction reliability, a paste that flows by heating may be used to fill the unevenness of the substrate by heating at the time of flip chip connection.

本発明3の接着性エポキシ樹脂ペースト及び本発明10の導電接続ペーストの用途は、特に限定されるものではないが、例えば、回路基板の接着や導通接続、電子部品のバンプ状の突起電極と他方の電極との導通接続等の電子材料の固定等に好適に使用される。 Applications of the adhesive epoxy resin paste of the present invention 3 and the conductive connection paste of the present invention 10 are not particularly limited. For example, adhesion and conductive connection of circuit boards, bump-like protruding electrodes of electronic components, and the other It is suitably used for fixing an electronic material such as a conductive connection with the electrode.

一方、本発明7の接着性エポキシ樹脂シート及び本発明12、13、15の導電接続シートは、シート状であるため、ペースト状のものとは異なり、ICチップや電子素子等のサイズに合わせた大きさに予めシートを切断、加工しておく必要や、貼り付け作業用の装置が必要ではあるものの、生産ラインでの高速生産が可能であることから、少品種多量生産向けとして優れている。 On the other hand, since the adhesive epoxy resin sheet of the present invention 7 and the conductive connection sheets of the present invention 12, 13, 15 are sheet-like, they are matched to the size of the IC chip, electronic element, etc., unlike the paste-like one. Although it is necessary to cut and process the sheet in advance in size, and a device for affixing work is required, it is excellent for small-quantity mass production because it can be produced at high speed on the production line.

本発明12、13、15の導電接続シートの用途は、特に限定されるものではないが、例えば、液晶ディスプレイ、パーソナルコンピュータ、携帯通信機器等のエレクトロニクス製品において、半導体素子等の小型の部品を基板に電気的に接続したり、基板同士を電気的に接続する方法のうち、微細な電極を対向させて電気的に接続する際等に好適に使用される。実製品としては、例えば、メモリカード、ICカード等が挙げられる。また、ガラス回路基板の製造過程において、自動車のライト部分等のガラス表面に導通回路を設ける方法のうち、ガラス表面と導通回路の電極面とを対向させて接続する際に好適に使用される。このようにして、電子部品接合体とすることができる。また、上記導電接続シートは、単層の基板に対して使用することができるとともに、導電性微粒子を上下導通材として複数の層からなる基板に対しても使用することができる。 The use of the conductive connection sheet of the present invention 12, 13, 15 is not particularly limited. For example, in an electronic product such as a liquid crystal display, a personal computer, and a portable communication device, a small component such as a semiconductor element is used as a substrate. Among the methods of electrically connecting to each other or electrically connecting the substrates to each other, it is preferably used when electrically connecting fine electrodes facing each other. Examples of actual products include memory cards and IC cards. Further, in the process of manufacturing a glass circuit board, among methods for providing a conductive circuit on a glass surface such as a light part of an automobile, it is preferably used when the glass surface and the electrode surface of the conductive circuit are opposed to each other. Thus, it can be set as an electronic component assembly. In addition, the conductive connection sheet can be used for a single-layer substrate, and can also be used for a substrate composed of a plurality of layers using conductive fine particles as vertical conductive materials.

本発明16のフリップチップテープは、本発明12又は15の導電接続シートからなるものである。 The flip chip tape of the present invention 16 comprises the conductive connection sheet of the present invention 12 or 15.

本発明12、13、15の導電接続シートは、特にベアチップの接合用として好適に用いられる。通常、ベアチップを接合する際にフリップチップを用いる場合にはバンプが必要となるが、上記導電接続シートを用いた場合、導電性微粒子がバンプの役目を果たすので、バンプを使用せずに接続することが可能となる。このため、バンプ作製における煩雑な工程を省くことができるという大きなメリットがある。また、導電性微粒子が上記のような好ましいK値やCV値等を有するものである場合は、アルミニウム電極等の酸化されやすい電極であっても、その酸化膜を破って接続することができる。 The conductive connection sheets of the present invention 12, 13, and 15 are particularly preferably used for joining bare chips. Normally, when flip chips are used when bonding bare chips, bumps are necessary. However, when the conductive connection sheet is used, the conductive fine particles serve as bumps, so that connection is made without using bumps. It becomes possible. For this reason, there exists a big merit that the complicated process in bump preparation can be omitted. Further, when the conductive fine particles have a preferable K value or CV value as described above, even an electrode that is easily oxidized, such as an aluminum electrode, can be broken and connected.

本発明12、13、15の導電接続シートと上記基板やバンプ無しのチップとの接続方法としては、例えば、以下のような方法が挙げられる。表面に電極が形成された基板又はチップの上に、導電性微粒子が電極の位置にくるように導電接続シートを載せ、もう一方の電極面を有する基板又はチップを電極の位置が合うように置く。この状態で加熱又は加圧等によって導電接続シートを介して接続する。なお、加熱又は加圧には、ヒーターが付いた圧着機やボンディングマシーン等が好適に用いられる。 Examples of a method for connecting the conductive connection sheets of the present invention 12, 13, and 15 to the substrate or the chip without bumps include the following methods. A conductive connection sheet is placed on a substrate or chip on which an electrode is formed on the surface so that the conductive fine particles are at the position of the electrode, and the substrate or chip having the other electrode surface is placed so that the electrode is aligned. . In this state, connection is made through a conductive connection sheet by heating or pressurization. For heating or pressurization, a crimping machine with a heater or a bonding machine is preferably used.

上記ボンディング条件として、導通が確実に行われてから、即ち、電極と導電性微粒子とが確実に接触してから、温度をかけることが好ましい。これを怠ると、電極と導電性微粒子とが接触していない状態で、熱により樹脂が流動し、一つには電極と導電性微粒子との間に樹脂が流れ込み導通不良となる。また、二つには導電性微粒子を押さえる力が存在しないので、樹脂の流動とともに、導電性微粒子が電極の位置から移動してしまい、確実な導通が取れなくなる。具体的には、先ず温度をかけない状態で、高圧で加圧し、電極同士が触れ合ったことを抵抗値をモニターしながら確認した後、圧力を導電性微粒子の割れが存在しない領域まで下げてから加熱することによって、導電性微粒子が電極との摩擦力で樹脂の流れによって移動することなく、また、電極と導電性微粒子との間に樹脂が噛みこむことなく、高い確度で導通接続をとることができる。従って、圧力条件としては高圧から低圧への二段階のプロファイルとなる。 As the bonding condition, it is preferable that the temperature is applied after the conduction is reliably performed, that is, after the electrode and the conductive fine particles are reliably in contact with each other. If this is neglected, the resin flows due to heat in a state where the electrode and the conductive fine particles are not in contact with each other, and in part, the resin flows between the electrode and the conductive fine particles, resulting in poor conduction. In addition, since there is no force for holding the conductive fine particles in the two, the conductive fine particles move from the position of the electrode along with the flow of the resin, and reliable conduction cannot be obtained. Specifically, first pressurize with high pressure in a state where no temperature is applied, and after confirming that the electrodes are in contact with each other while monitoring the resistance value, lower the pressure to a region where there is no crack of the conductive fine particles. By heating, the conductive fine particles do not move due to the flow of the resin due to the frictional force with the electrode, and the conductive connection is made with high accuracy without causing the resin to get caught between the electrode and the conductive fine particles. Can do. Therefore, the pressure condition is a two-stage profile from high pressure to low pressure.

また、このときセラミックスヒーターにて一気に昇温する際に、樹脂中又は接着界面に空孔(ボイド)ができることがある。これは、高温時(200℃程度)に生じてくる例えば水分等の揮発分が発泡して、密着不良を引き起こすことによる。これを防ぐためには、樹脂中の揮発分自体を抑制する方法がある。しかし、被着体として有機基板を用いた際にはいくら樹脂中の揮発分量を減らしても被着体からの揮発分が発泡の原因となってしまうことがある。このことから、熱をかけた際の樹脂の弾性率をある一定の弾性率以上に保つことによって、この発泡現象自体を抑制することを考えた。 At this time, when the temperature is increased at once by the ceramic heater, voids may be formed in the resin or at the bonding interface. This is because, for example, volatile components such as moisture are generated at a high temperature (about 200 ° C.) to cause poor adhesion. In order to prevent this, there is a method of suppressing volatile matter in the resin itself. However, when an organic substrate is used as the adherend, the volatile matter from the adherend may cause foaming even if the amount of volatile matter in the resin is reduced. From this, it was considered to suppress the foaming phenomenon itself by keeping the elastic modulus of the resin when heated to a certain elastic modulus or higher.

この考え方としては、一般に用いられているBステージ(半硬化)化という手法がある。これにより樹脂の流動性を抑制し、かつ、発泡も抑制することができるというものである。しかし、これは本質的に間隙への樹脂の流動が起きにくく、ひいては接着性、特に界面に水の偏在しやすい耐湿接着性に悪影響を及ぼす。従って、Bステージ化の手法は、トータルのバランス性能を考慮すると、あまり好ましい方法ではない。 As this idea, there is a commonly used technique called B-stage (semi-curing). Thereby, the fluidity | liquidity of resin can be suppressed and foaming can also be suppressed. However, this essentially prevents the resin from flowing into the gap, and thus adversely affects the adhesiveness, particularly moisture-resistant adhesiveness in which water tends to be unevenly distributed at the interface. Therefore, the B-stage method is not a preferable method in consideration of the total balance performance.

もう一つは、流動性をそれほど損なわず、樹脂の弾性率をある程度以上にするという手法である。これには、微小な無機フィラー、例えば一般に増粘剤として用いられる微紛(粒子径が1μm以下、ナノオーダー)のシリカ等が好適に用いられる。特に、上記Bステージ化という手法を用いることなく、弾性率を高めることによって、ボイドの発生を抑制することができることがわかっている。上記は導電性微粒子がシートの任意の位置に定点配置してなる導電接続シートの説明であるが、これは導電性微粒子がシート中に埋設してなる導電接続シートであっても、同様の方法で導電接続材料用途として用いることができる。 The other is a technique in which the elasticity of the resin is increased to a certain level without significantly impairing the fluidity. For this, a fine inorganic filler, for example, a fine particle (particle diameter of 1 μm or less, nano-order) generally used as a thickener is preferably used. In particular, it has been found that the generation of voids can be suppressed by increasing the elastic modulus without using the technique of B-stage formation. The above is a description of a conductive connection sheet in which conductive fine particles are arranged at fixed points at arbitrary positions on the sheet. However, the same method can be applied to a conductive connection sheet in which conductive fine particles are embedded in the sheet. It can be used as a conductive connection material application.

本発明12、13、15の導電接続シートを用いて接続してなる導電接続構造体は、シートの接続端面から水分等の浸入による不具合が発生しないように、シートの周囲が封止されていても良い。封止に用いられる封止材としては、特に限定されるものではないが、例えば、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、フェノール樹脂、ポリイミド樹脂、無機材料等が挙げられ、好適に用いられる。 In the conductive connection structure formed by using the conductive connection sheets of the present invention 12, 13, and 15, the periphery of the sheet is sealed so as not to cause problems due to intrusion of moisture or the like from the connection end surface of the sheet. Also good. Although it does not specifically limit as a sealing material used for sealing, For example, an epoxy resin, a silicone resin, a phenol resin, a polyimide resin, an inorganic material etc. are mentioned, It uses suitably.

本発明17の電子部品接合体は、本発明1又は本発明2の硬化性樹脂組成物、本発明3の接着性エポキシ樹脂ペースト、本発明4の層間接着剤、本発明5の非導電性ペースト、本発明6のアンダーフィル、本発明7の接着性エポキシ樹脂シート、本発明8の非導電性フィルム、本発明9のダイアタッチフィルム、本発明10の導電接続ペースト、本発明11の異方性導電ペースト、本発明12、13又は15の導電接続シート、本発明14の異方性導電フィルム、又は、本発明16のフリップチップテープのいずれかにより、電子部品のバンプ状の突起電極と他方の電極とが導通された状態で接合されてなるものである。 The electronic component assembly of the present invention 17 includes the curable resin composition of the present invention 1 or the present invention 2, the adhesive epoxy resin paste of the present invention 3, the interlayer adhesive of the present invention 4, and the non-conductive paste of the present invention 5. The underfill of the present invention 6, the adhesive epoxy resin sheet of the present invention 7, the nonconductive film of the present invention 8, the die attach film of the present invention 9, the conductive connection paste of the present invention 10, the anisotropy of the present invention 11 According to any of the conductive paste, the conductive connection sheet of the present invention 12, 13 or 15, the anisotropic conductive film of the present invention 14, or the flip chip tape of the present invention 16, the bump-shaped protruding electrode of the electronic component and the other The electrode is joined in a conductive state.

また、本発明18の電子部品接合体は、本発明1又は本発明2の硬化性樹脂組成物、本発明3の接着性エポキシ樹脂ペースト、本発明4の層間接着剤、本発明5の非導電性ペースト、本発明6のアンダーフィル、本発明7の接着性エポキシ樹脂シート、本発明8の非導電性フィルム、本発明9のダイアタッチフィルム、本発明10の導電接続ペースト、本発明11の異方性導電ペースト、本発明12、13又は15の導電接続シート、本発明14の異方性導電フィルム、又は、本発明16のフリップチップテープのいずれかにより、金属リードフレーム、セラミック基板、樹脂基板、シリコン基板、化合物半導体基板及びガラス基板からなる群より選択される少なくとも1種類の回路基板が接合されてなるものである。 Moreover, the electronic component assembly of the present invention 18 includes the curable resin composition of the present invention 1 or the present invention 2, the adhesive epoxy resin paste of the present invention 3, the interlayer adhesive of the present invention 4, and the non-conductive of the present invention 5. Paste, the adhesive epoxy resin sheet of the present invention 7, the non-conductive film of the present invention 8, the die attach film of the present invention 9, the conductive connection paste of the present invention 10, the differences of the present invention 11 Metal lead frame, ceramic substrate, resin substrate by any one of anisotropic conductive paste, conductive connection sheet of the present invention 12, 13 or 15, anisotropic conductive film of the present invention 14, or flip chip tape of the present invention 16. At least one circuit board selected from the group consisting of a silicon substrate, a compound semiconductor substrate and a glass substrate is bonded.

上記樹脂基板は、ガラスエポキシ基板、ビスマレイミドトリアジン基板又はポリイミド基板であることが好ましい。 The resin substrate is preferably a glass epoxy substrate, a bismaleimide triazine substrate or a polyimide substrate.

本発明1の硬化性樹脂組成物は、エポキシ樹脂と、エポキシ基と反応する官能基を有するポリマーと、エポキシ樹脂用硬化剤とを含有し、重金属により染色し、透過型電子顕微鏡により観察した硬化物の樹脂マトリクス中に相分離構造が観察されないので、硬化後は、機械的強度、耐熱性、耐湿性、可撓性、耐冷熱サイクル性、耐ハンダリフロー性、寸法安定性等に優れ、高い接着信頼性や導通材料とした際の高い導通信頼性を発現する。 The curable resin composition of the present invention 1 includes an epoxy resin, a polymer having a functional group that reacts with an epoxy group, and a curing agent for epoxy resin, which is dyed with heavy metal and observed with a transmission electron microscope. Since no phase separation structure is observed in the resin matrix of the product, after curing, it is excellent in mechanical strength, heat resistance, moisture resistance, flexibility, cold cycle resistance, solder reflow resistance, dimensional stability, etc. High adhesion reliability when used as adhesion reliability and conduction material.

本発明2の硬化性樹脂組成物は、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂と、ナフタレン型エポキシ樹脂と、エポキシ樹脂用硬化剤とが混合されてなるエポキシ樹脂組成物中に、コアのガラス転移温度が20℃以下であり、シェルのガラス転移温度が40℃以上であるコアシェル構造のゴム粒子が含有されてなるので、硬化後は、機械的強度、耐熱性、耐湿性、可撓性、耐冷熱サイクル性、耐ハンダリフロー性、寸法安定性等に優れ、高い接着信頼性や導通材料とした際の高い導通信頼性を発現する。 The curable resin composition of the present invention 2 has a core glass transition temperature of 20 in an epoxy resin composition in which a dicyclopentadiene type epoxy resin, a naphthalene type epoxy resin, and a curing agent for epoxy resin are mixed. Since it contains rubber particles with a core-shell structure with a glass transition temperature of 40 ° C. or higher, and after curing, mechanical strength, heat resistance, moisture resistance, flexibility, cold and heat cycle resistance after curing. It has excellent solder reflow resistance, dimensional stability, etc., and exhibits high adhesion reliability and high conduction reliability when used as a conduction material.

本発明3の接着性エポキシ樹脂ペースト及び本発明7の接着性エポキシ樹脂シートは、上記本発明1又は本発明2の硬化性樹脂組成物からなるので、硬化後は、機械的強度、耐熱性、耐湿性、可撓性、耐冷熱サイクル性、耐ハンダリフロー性、寸法安定性等に優れ、高い接着信頼性や導通材料とした際の高い導通信頼性を発現する。 Since the adhesive epoxy resin paste of the present invention 3 and the adhesive epoxy resin sheet of the present invention 7 are composed of the curable resin composition of the present invention 1 or 2, the mechanical strength, heat resistance, It excels in moisture resistance, flexibility, thermal cycle resistance, solder reflow resistance, dimensional stability, etc., and exhibits high adhesion reliability and high conduction reliability when used as a conductive material.

本発明4の層間接着剤、本発明5の非導電性ペースト、及び、本発明6のアンダーフィルは、本発明3の接着性エポキシ樹脂ペーストからなり、本発明8の非導電性フィルム、及び、本発明9のダイアタッチフィルムは、本発明7の接着性エポキシ樹脂シートかなるものであるため、硬化後は、硬化後は、機械的強度、耐熱性、耐湿性、可撓性、耐冷熱サイクル性、耐ハンダリフロー性、寸法安定性等に優れ、高い接着信頼性及び高い導通信頼性を発現する。 The interlayer adhesive of the present invention 4, the non-conductive paste of the present invention 5 and the underfill of the present invention 6 are composed of the adhesive epoxy resin paste of the present invention 3, the non-conductive film of the present invention 8, and Since the die attach film of the present invention 9 is made of the adhesive epoxy resin sheet of the present invention 7, after curing, after curing, mechanical strength, heat resistance, moisture resistance, flexibility, cold resistance cycle It has excellent properties, solder reflow resistance, dimensional stability, etc., and exhibits high adhesion reliability and high conduction reliability.

本発明10の導電接続ペーストは、上記本発明3の接着性エポキシ樹脂ペースト中に導電性微粒子が含有されてなり、また、本発明12及び本発明13の導電接続シートは、上記本発明7の接着性エポキシ樹脂シート中に導電性微粒子が配置又は埋設されてなるので、いずれも、硬化後は、機械的強度、耐熱性、耐湿性、可撓性、耐冷熱サイクル性、耐ハンダリフロー性、寸法安定性等に優れ、高い接着信頼性及び高い導通信頼性を発現する。 In the conductive connection paste of the present invention 10, conductive fine particles are contained in the adhesive epoxy resin paste of the present invention 3, and the conductive connection sheets of the present invention 12 and the present invention 13 are the same as those of the present invention 7. Since conductive fine particles are arranged or embedded in the adhesive epoxy resin sheet, after curing, mechanical strength, heat resistance, moisture resistance, flexibility, cold cycle resistance, solder reflow resistance, Excellent dimensional stability and high adhesion reliability and high conduction reliability.

本発明11の異方性導電ペーストは、本発明10の導電接続ペーストからなるものであるため、硬化後は、硬化後は、機械的強度、耐熱性、耐湿性、可撓性、耐冷熱サイクル性、耐ハンダリフロー性、寸法安定性等に優れ、高い接着信頼性及び高い導通信頼性を発現する。 Since the anisotropic conductive paste of the present invention 11 is composed of the conductive connection paste of the present invention 10, after curing, after curing, mechanical strength, heat resistance, moisture resistance, flexibility, cold resistance cycle It has excellent properties, solder reflow resistance, dimensional stability, etc., and exhibits high adhesion reliability and high conduction reliability.

本発明14の異方性導電フィルムは、本発明13の導電接続シートからなるものであるため、硬化後は、硬化後は、機械的強度、耐熱性、耐湿性、可撓性、耐冷熱サイクル性、耐ハンダリフロー性、寸法安定性等に優れ、高い接着信頼性及び高い導通信頼性を発現する。 Since the anisotropic conductive film of the present invention 14 is composed of the conductive connection sheet of the present invention 13, after curing, after curing, mechanical strength, heat resistance, moisture resistance, flexibility, and cold resistance cycle. It has excellent properties, solder reflow resistance, dimensional stability, etc., and exhibits high adhesion reliability and high conduction reliability.

本発明15の導電接続シートは、可塑剤の添加によって粘着性が付与される樹脂及び常温で液状のナフタレン型エポキシ樹脂を含有する粘着性樹脂組成物からなる粘着性樹脂シートと導電性微粒子とによって形成される導電接続シートであって、上記粘着性樹脂シートは、動的粘弾性に基づくtanδのピーク温度が硬化前は−20℃〜40℃の範囲にあり、硬化後は120℃以上であるとともに、粘着性樹脂シートの任意の位置に上記導電性微粒子が配置されてなるので、硬化後は、機械的強度、耐熱性、耐湿性、可撓性、耐冷熱サイクル性、耐ハンダリフロー性、寸法安定性等に優れ、高い接着信頼性及び高い導通信頼性を発現する。 The conductive connection sheet of the present invention 15 is composed of an adhesive resin sheet comprising an adhesive resin composition containing a resin to which adhesiveness is imparted by addition of a plasticizer and a naphthalene type epoxy resin that is liquid at room temperature, and conductive fine particles. In the conductive connection sheet to be formed, the adhesive resin sheet has a peak temperature of tan δ based on dynamic viscoelasticity in a range of −20 ° C. to 40 ° C. before curing and 120 ° C. or more after curing. In addition, since the conductive fine particles are arranged at an arbitrary position of the adhesive resin sheet, after curing, mechanical strength, heat resistance, moisture resistance, flexibility, thermal cycle resistance, solder reflow resistance, Excellent dimensional stability and high adhesion reliability and high conduction reliability.

本発明16のフリップチップテープは、本発明12又は本発明15の導電接続シートからなるものであるため、硬化後は、硬化後は、機械的強度、耐熱性、耐湿性、可撓性、耐冷熱サイクル性、耐ハンダリフロー性、寸法安定性等に優れ、高い接着信頼性及び高い導通信頼性を発現する。 Since the flip chip tape of the present invention 16 is composed of the conductive connection sheet of the present invention 12 or the present invention 15, after curing, after curing, mechanical strength, heat resistance, moisture resistance, flexibility, Excellent heat cycle performance, solder reflow resistance, dimensional stability, etc., and exhibits high adhesion reliability and high conduction reliability.

本発明17及び本発明18の電子部品接合体は、本発明1又は本発明2の硬化性樹脂組成物、本発明3の接着性エポキシ樹脂ペースト、本発明4の層間接着剤、本発明5の非導電性ペースト、本発明6のアンダーフィル、本発明7の接着性エポキシ樹脂シート、本発明8の非導電性フィルム、本発明9のダイアタッチフィルム、本発明10の導電接続ペースト、本発明11の異方性導電ペースト、本発明12、13又は15の導電接続シート、本発明14の異方性導電フィルム、又は、本発明16のフリップチップテープのいずれかを用いて作製されるので、高い接着信頼性及び高い導通信頼性を発現する。 The electronic component assembly of the present invention 17 and the present invention 18 includes the curable resin composition of the present invention 1 or the present invention 2, the adhesive epoxy resin paste of the present invention 3, the interlayer adhesive of the present invention 4, and the present invention 5. Non-conductive paste, underfill of the present invention 6, adhesive epoxy resin sheet of the present invention 7, non-conductive film of the present invention 8, die attach film of the present invention 9, conductive connection paste of the present invention 10, present invention 11 The anisotropic conductive paste of the present invention, the conductive connection sheet of the present invention 12, 13 or 15, the anisotropic conductive film of the present invention 14 or the flip chip tape of the present invention 16 is used. Adhesion reliability and high conduction reliability are expressed.

本発明を更に詳しく説明するため以下に実施例を挙げるが、本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。 In order to explain the present invention in more detail, examples are given below, but the present invention is not limited to these examples.

本実施例においては、特に示した場合を除き以下の原材料を用いた。
1.エポキシ樹脂
(1)ジシクロペンタジエン型固形エポキシ樹脂(商品名「EXA−7200HH」、大日本インキ化学工業社製)
(2)ナフタレン型液状エポキシ樹脂(商品名「HP−4032D」、大日本インキ化学工業社製)
(3)ビスフェノールA型液状エポキシ樹脂(商品名「EP828」、ジャパンエポキシレジン社製)
2.エポキシ基を有する高分子
(1)エポキシ含有アクリル樹脂−a(商品名「マープルーフG−2050M」、懸濁重合法、エポキシ当量:340、重量平均分子量:20万、ガラス転移温度:80℃、日本油脂社製)
(2)エポキシ含有アクリル樹脂−b(商品名「ブレンマーCP−15」、懸濁重合法、エポキシ当量:500、重量平均分子量:1万、ガラス転移温度:80℃、日本油脂社製)
(3)エポキシ基含有アクリルゴム−c(エチルアクリレート99重量部とグリシジルメタクリレート1重量部とを酢酸エチル中で熱ラジカル法により溶液重合したもの、エポキシ当量:8000、重量平均分子量:20万、ガラス転移温度:10℃)
(4)エポキシ含有アクリルゴム−d(商品名「Nippol AR−42W」、日本ゼオン社製)
3.高分子量重合体
(1)ポリビニルブチラール樹脂(商品名 「BX−5Z」、積水化学工業社製)
4.エポキシ樹脂用硬化剤
(1)トリアルキルテトラヒドロ無水フタル酸(商品名「YH−307」、ジャパンエポキシレジン社製)
(2)ジシアンジアミド(商品名「EH−3636AS」旭電化工業社製)
(3)グアニジン化合物(商品名「DX147」ジャパンエポキシレジン社製)
5.硬化促進剤
(1)イソシアヌル変性固体分散型イミダゾール(商品名「2MAOK−PW」、四国化成社製)
(2)1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾール
(3)2−エチル−4−メチルイミダゾール
6.接着性付与剤
(1)イミダゾールシランカップリング剤 (商品名「SP−1000」日鉱マテリアルズ社製)
(2)アミノシランカップリング剤(商品名「S320」、チッソ社製)
7.フィラー
(1)表面疎水化ヒュームドシリカ(商品名「レオロシールMT−10」、平均粒子径:1μm以下、トクヤマ社製)
(2)球状シリカ(平均粒子径:5μm)
8.応力緩和性付与剤
(1)水酸基含有コアシェル型アクリルゴム粒子(商品名「スタフィロイドAC−4030」、ガンツ化成社製)
(2)カルボキシル基含有コアシェル型アクリルゴム粒子(商品名「ゼオンF451」、日本ゼオン社製)
(3)末端エポキシ変性シリコーンオイル(商品名「KF−105」、信越化学工業社製)
9.溶剤
(1)酢酸エチル
In this example, the following raw materials were used unless otherwise specified.
1. Epoxy resin (1) Dicyclopentadiene type solid epoxy resin (trade name “EXA-7200HH”, manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.)
(2) Naphthalene type liquid epoxy resin (trade name “HP-4032D”, manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.)
(3) Bisphenol A type liquid epoxy resin (trade name “EP828”, manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.)
2. Polymer having epoxy group (1) Epoxy-containing acrylic resin-a (trade name “Marproof G-2050M”, suspension polymerization method, epoxy equivalent: 340, weight average molecular weight: 200,000, glass transition temperature: 80 ° C. (Made by Nippon Oil & Fats)
(2) Epoxy-containing acrylic resin-b (trade name “Blemmer CP-15”, suspension polymerization method, epoxy equivalent: 500, weight average molecular weight: 10,000, glass transition temperature: 80 ° C., manufactured by NOF Corporation)
(3) Epoxy group-containing acrylic rubber-c (99 parts by weight of ethyl acrylate and 1 part by weight of glycidyl methacrylate solution-polymerized in ethyl acetate by the thermal radical method, epoxy equivalent: 8000, weight average molecular weight: 200,000, glass (Transition temperature: 10 ° C)
(4) Epoxy-containing acrylic rubber-d (trade name “Nippol AR-42W”, manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.)
3. High molecular weight polymer (1) Polyvinyl butyral resin (trade name “BX-5Z”, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.)
4). Curing agent for epoxy resin (1) Trialkyltetrahydrophthalic anhydride (trade name “YH-307”, manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.)
(2) Dicyandiamide (trade name “EH-3636AS” manufactured by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.)
(3) Guanidine compound (trade name “DX147” manufactured by Japan Epoxy Resin Co., Ltd.)
5. Curing accelerator (1) Isocyanur-modified solid dispersion type imidazole (trade name “2MAOK-PW”, manufactured by Shikoku Chemicals)
(2) 1-cyanoethyl-2-phenylimidazole (3) 2-ethyl-4-methylimidazole Adhesiveness imparting agent (1) Imidazole silane coupling agent (trade name “SP-1000” manufactured by Nikko Materials Co., Ltd.)
(2) Aminosilane coupling agent (trade name “S320”, manufactured by Chisso Corporation)
7). Filler (1) Surface hydrophobized fumed silica (trade name “Leosil MT-10”, average particle size: 1 μm or less, manufactured by Tokuyama Corporation)
(2) Spherical silica (average particle size: 5 μm)
8). Stress relaxation imparting agent (1) Hydroxyl-containing core-shell type acrylic rubber particles (trade name “STAPHYLOID AC-4030”, manufactured by Ganz Kasei Co., Ltd.)
(2) Carboxyl group-containing core-shell type acrylic rubber particles (trade name “Zeon F451”, manufactured by Nippon Zeon)
(3) Terminal epoxy-modified silicone oil (trade name “KF-105”, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
9. Solvent (1) Ethyl acetate

(実施例1)
ホモディスパー型攪拌機を用いて、ジシクロペンタジエン型固形エポキシ樹脂76重量部、ナフタレン型液状エポキシ樹脂20重量部、エポキシ基含有アクリル樹脂−a4重量部、トリアルキルテトラヒドロ無水フタル酸60重量部、イソシアヌル変性固体分散型イミダゾール8重量部及びイミダゾールシランカップリング剤2重量部を均一に混練して、接着性エポキシ樹脂ペーストを調製した。
Example 1
Using a homodisper type stirrer, 76 parts by weight of dicyclopentadiene type solid epoxy resin, 20 parts by weight of naphthalene type liquid epoxy resin, 4 parts by weight of epoxy group-containing acrylic resin, 60 parts by weight of trialkyltetrahydrophthalic anhydride, isocyanur modified 8 parts by weight of solid dispersion type imidazole and 2 parts by weight of imidazole silane coupling agent were uniformly kneaded to prepare an adhesive epoxy resin paste.

(実施例2〜4及び比較例1〜2)
接着性エポキシ樹脂ペーストの配合組成を表1に示す組成としたこと以外は実施例1の場合と同様にして、接着性エポキシ樹脂ペーストを調製した。
(Examples 2-4 and Comparative Examples 1-2)
An adhesive epoxy resin paste was prepared in the same manner as in Example 1 except that the composition of the adhesive epoxy resin paste was changed to the composition shown in Table 1.

実施例1〜4、及び、比較例1、2で得られた接着性エポキシ樹脂ペーストの性能(1.ゲル化率、2.初期接着力−A、3.200℃における発泡状態)を以下の方法で評価した。結果は表1に示した。 The performances (1. gelation rate, 2. initial adhesive force-A, 3. foamed state at 200 ° C.) of the adhesive epoxy resin pastes obtained in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 and 2 were as follows. The method was evaluated. The results are shown in Table 1.

1.ゲル化率
接着性エポキシ樹脂ペーストをオーブン中で170℃−1分間及び170℃−2分間の2条件で加熱硬化した。次いで、硬化物を常温の酢酸エチル中に24時間浸漬した後、不溶解分を濾別し、充分に乾燥した後、酢酸エチル浸漬前後の硬化物の重量比(浸漬後の重量/浸漬前の重量)を求めて、ゲル化率(重量%)を算出した。
1. The gelation rate adhesive epoxy resin paste was heat-cured in an oven at 170 ° C. for 1 minute and 170 ° C. for 2 minutes. Next, after the cured product is immersed in ethyl acetate at room temperature for 24 hours, the insoluble matter is filtered off and sufficiently dried, and then the weight ratio of the cured product before and after immersion in ethyl acetate (weight after immersion / before immersion). Weight) was determined, and the gelation rate (% by weight) was calculated.

2.初期接着力−A
接着性エポキシ樹脂ペーストをFR−4のガラスエポキシ基板の上に1滴たらし、この周囲に5mm角のスペーサーを置いて、その上に、SiOパシベーションを有する10mm角のシリコンチップを貼り付けた後、170℃で30分間加熱硬化して、接合体を作製した。次いで、得られた接合体の上下に治具を取り付け、5mm/分の引張速度で上下に引っ張り、最大破断強度(N/25mm)を求めて、初期接着力−Aとした。
2. Initial adhesive strength -A
One drop of the adhesive epoxy resin paste on the glass epoxy substrate of FR-4, a 5 mm square spacer was placed around this, and a 10 mm square silicon chip with SiO 2 passivation was affixed thereon. Then, it heat-cured for 30 minutes at 170 degreeC, and produced the conjugate | zygote. Next, jigs were attached to the upper and lower sides of the obtained joined body, and pulled up and down at a pulling speed of 5 mm / min, and the maximum breaking strength (N / 25 mm 2 ) was determined to obtain an initial adhesive strength −A.

3.200℃における発泡状態
接着性エポキシ樹脂ペーストを200℃のオーブン中に入れ、1分後に取り出して、目視で発泡状態を観察し、下記判定基準により200℃における発泡状態を評価した。
〔判定基準〕
○‥‥発泡は認められなかった。
×‥‥発泡が認められた。
3. Foamed state adhesive epoxy resin paste at 200 ° C. The paste was put in an oven at 200 ° C., taken out after 1 minute, the foamed state was visually observed, and the foamed state at 200 ° C. was evaluated according to the following criteria.
[Criteria]
○ …… No foaming was observed.
X ... Foaming was observed.

Figure 2008274300
表1から、実施例1〜4で得られた接着性エポキシ樹脂ペーストは、いずれもゲル化率が高く硬化性が良好又は優れており、かつ、初期接着力−Aが優れているとともに、200℃において発泡が認められず、ボイドの発生を抑制することができた。
これに対し、エポキシ基を有する高分子ポリマー(エポキシ基含有アクリル樹脂)を含有させなかった比較例1、2で得られた接着性エポキシ樹脂ペーストは、いずれも170℃−1分間硬化時のゲル化率が低く硬化性が劣っており、かつ、初期接着力−Aが劣っているとともに、200℃において発泡が認められ、ボイドの発生を抑制することができなかった。
Figure 2008274300
From Table 1, the adhesive epoxy resin pastes obtained in Examples 1 to 4 all have a high gelation rate and good or excellent curability, and excellent initial adhesive force -A. Foaming was not observed at 0 ° C., and the generation of voids could be suppressed.
In contrast, the adhesive epoxy resin pastes obtained in Comparative Examples 1 and 2 that did not contain a polymer having an epoxy group (epoxy group-containing acrylic resin) were both gels at 170 ° C. for 1 minute. The conversion rate was low, the curability was inferior, the initial adhesive strength -A was inferior, and foaming was observed at 200 ° C., and the generation of voids could not be suppressed.

(実施例5)
ジシクロペンタジエン型固形エポキシ樹脂76重量部、ナフタレン型液状エポキシ樹脂20重量部、エポキシ基含有アクリル樹脂−a10重量部、トリアルキルテトラヒドロ無水フタル酸50重量部、イソシアヌル変性固体分散型イミダゾール8重量部、アミノシランカップリング剤2重量部及び表面疎水化ヒュームドシリカ4重量部を、酢酸エチルに溶解させ、ホモディスパー型攪拌機を用いて、攪拌速度3000rpmの条件で均一に攪拌混合して、固形分が50重量%の硬化性樹脂組成物の酢酸エチル溶液を調整した。
(Example 5)
76 parts by weight of dicyclopentadiene type solid epoxy resin, 20 parts by weight of naphthalene type liquid epoxy resin, 10 parts by weight of epoxy group-containing acrylic resin, 50 parts by weight of trialkyltetrahydrophthalic anhydride, 8 parts by weight of isocyanuric modified solid dispersion type imidazole, 2 parts by weight of aminosilane coupling agent and 4 parts by weight of surface-hydrophobized fumed silica are dissolved in ethyl acetate and mixed uniformly with a homodisper-type stirrer at a stirring speed of 3000 rpm. An ethyl acetate solution of a weight percent curable resin composition was prepared.

次に、上記で得られた硬化性樹脂組成物の酢酸エチル溶液を、表面に離型処理が施された厚み50μmのポリエチレンテレフタレート(PET)シートの離型処理面上に、乾燥後の厚みが50μmとなるようにバーコーターを用いて塗工した後、110℃で3分間乾燥して、接着性エポキシ樹脂シートを作製した。 Next, the ethyl acetate solution of the curable resin composition obtained above is dried on the surface of a 50 μm-thick polyethylene terephthalate (PET) sheet having a release treatment, and the thickness after drying is After coating using a bar coater so as to be 50 μm, it was dried at 110 ° C. for 3 minutes to prepare an adhesive epoxy resin sheet.

(実施例6及び比較例3)
接着性エポキシ樹脂シート(硬化性樹脂組成物)の配合組成を表2に示す組成としたこと以外は実施例5の場合と同様にして、硬化性樹脂組成物の酢酸エチル溶液(固形分50重量%)及び接着性エポキシ樹脂シートを作製した。
(Example 6 and Comparative Example 3)
The ethyl acetate solution of the curable resin composition (50 wt.% Solid content) was used in the same manner as in Example 5 except that the composition of the adhesive epoxy resin sheet (curable resin composition) was changed to the composition shown in Table 2. %) And an adhesive epoxy resin sheet.

実施例5及び実施例6、及び、比較例3で得られた接着性エポキシ樹脂シートの性能(4.透過型電子顕微鏡観察、5.硬化物のガラス転移温度、6.初期接着力−B、7.PCT100時間後の接着力)を以下の方法で評価した。結果を表2に示した。 The performance of the adhesive epoxy resin sheet obtained in Example 5 and Example 6 and Comparative Example 3 (4. Observation by transmission electron microscope, 5. Glass transition temperature of cured product, 6. Initial adhesive force -B, 7. Adhesive strength after 100 hours of PCT was evaluated by the following method. The results are shown in Table 2.

4.透過型電子顕微鏡(TEM)観察
170℃30分かけてオーブン中で養生し硬化させた接着性エポキシ樹脂シートを、ミクロトームで薄膜に切り出し、これを四酸化オスミウムを用いて染色した。このサンプルを透過型電子顕微鏡で観察し(倍率10万倍)これら染色による相分離構造を観察した。
4). Observation with Transmission Electron Microscope (TEM) An adhesive epoxy resin sheet cured and cured in an oven at 170 ° C. for 30 minutes was cut into a thin film with a microtome and dyed with osmium tetroxide. This sample was observed with a transmission electron microscope (magnification of 100,000 times), and the phase separation structure by these staining was observed.

5.硬化物のガラス転移温度
接着性エポキシ樹脂シートを170℃で30分間加熱硬化した後、硬化物の粘弾性を昇温速度3℃/分、引張りモードの条件で測定し、tanδのピーク温度をもってガラス転移温度(℃)とした。
5. After the glass transition temperature adhesive epoxy resin sheet of the cured product was cured by heating at 170 ° C. for 30 minutes, the viscoelasticity of the cured product was measured under conditions of a temperature increase rate of 3 ° C./min and a tensile mode, and a glass with a peak temperature of tan δ. The transition temperature (° C.) was used.

6.初期接着力−B
5mm角に裁断した接着性エポキシ樹脂シートをFR−4のガラスエポキシ基板の上に貼り付け、その上に、SiOパシベーションを有するシリコンチップを貼り付け、プレスして密着させた後、170℃で30分間加熱硬化して接合体を作製した。次いで、得られた接合体の上下に治具を取り付け、5mm/分の引張速度で上下に引っ張り、最大破断強度(N/25mm)を求めて、初期接着力−Bとした。
6). Initial adhesive strength -B
Adhesive epoxy resin sheet cut to 5 mm square was affixed onto a glass epoxy substrate of FR-4, and a silicon chip having SiO 2 passivation was affixed thereon, pressed and adhered, then at 170 ° C. A bonded body was prepared by heating and curing for 30 minutes. Next, jigs were attached to the upper and lower sides of the obtained joined body, and pulled up and down at a pulling speed of 5 mm / min, and the maximum breaking strength (N / 25 mm 2 ) was determined to obtain an initial adhesive force −B.

7.PCT100時間後の接着力
初期接着力−Bを測定する場合と同様にして作製した接合体のプレッシャークッカー試験(PCT)を120℃−85%RHの条件で100時間行った後、接合体を取り出し、5.の場合と同様にして、最大破断強度(N/25mm)を求めて、PCT100時間後の接着力とした。
7). Adhesive strength after 100 hours of PCT After performing a pressure cooker test (PCT) for 100 hours under the conditions of 120 ° C.-85% RH on a bonded body prepared in the same manner as in the case of measuring the initial adhesive strength-B, the bonded body is taken out. 5. In the same manner as described above, the maximum breaking strength (N / 25 mm 2 ) was determined and used as the adhesive strength after 100 hours of PCT.

Figure 2008274300
表2から、実施例5、6で得られた接着性エポキシ樹脂シートは、ともに硬化物のガラス転移温度が高く、樹脂相での相分離構造を示さないので、初期接着力−Bが優れているとともに、PCT100時間後でも接着力の低下が少なかった。
これに対し、エポキシ基含有アクリル樹脂の代わりに、溶液重合法で作製したエポキシ基含有アクリルゴム−cを含有させた比較例3で得られた接着性エポキシ樹脂シートは、硬化物のガラス転移温度が低く、低温でのtanδのピークが現れ、相分離構造を示すことにより、かつ、初期接着力−Bが劣っているとともに、PCT100時間後の接着力が極端に低下していた。
Figure 2008274300
From Table 2, since the adhesive epoxy resin sheets obtained in Examples 5 and 6 both have a high glass transition temperature of the cured product and do not show a phase separation structure in the resin phase, the initial adhesive force -B is excellent. In addition, there was little decrease in adhesion even after 100 hours of PCT.
On the other hand, the adhesive epoxy resin sheet obtained in Comparative Example 3 containing an epoxy group-containing acrylic rubber-c prepared by a solution polymerization method instead of the epoxy group-containing acrylic resin is a glass transition temperature of a cured product. , The peak of tan δ at low temperature appeared, showing a phase separation structure, initial adhesive strength -B was inferior, and adhesive strength after 100 hours of PCT was extremely reduced.

(実施例7)
ジシクロペンタジエン型固形エポキシ樹脂45重量部、ナフタレン型液状エポキシ樹脂45重量部、エポキシ基含有アクリル樹脂−a10重量部、トリアルキルテトラヒドロ無水フタル酸50重量部、1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾール4重量部、アミノシランカップリング剤2重量部、表面疎水化ヒュームドシリカ4重量部を、酢酸エチルに溶解させ、ホモディスパー型攪拌機を用いて、攪拌速度3000rpmの条件で均一に攪拌混練して、固形分が60重量%の硬化性樹脂組成物の酢酸エチル溶液を調製した。
(Example 7)
Dicyclopentadiene type solid epoxy resin 45 parts by weight, naphthalene type liquid epoxy resin 45 parts by weight, epoxy group-containing acrylic resin-a 10 parts by weight, trialkyltetrahydrophthalic anhydride 50 parts by weight, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazole 4 parts by weight Part, 2 parts by weight of aminosilane coupling agent and 4 parts by weight of surface-hydrophobized fumed silica are dissolved in ethyl acetate and uniformly stirred and kneaded using a homodisper type stirrer at a stirring speed of 3000 rpm. A 60 wt% curable resin composition in ethyl acetate was prepared.

次に、得られた硬化性樹脂組成物の酢酸エチル溶液を、表面に離型処理が施された厚み50μmのポリエチレンテレフタレート(PET)シートの離型処理面上に、乾燥後の厚みが40μmとなるようにバーコーターを用いて塗工した後、110℃で3分間乾燥して、接着性エポキシ樹脂層を形成した。 Next, an ethyl acetate solution of the obtained curable resin composition is 40 μm in thickness after drying on a release treatment surface of a 50 μm-thick polyethylene terephthalate (PET) sheet whose surface is subjected to a release treatment. After coating using a bar coater, it was dried at 110 ° C. for 3 minutes to form an adhesive epoxy resin layer.

(実施例8〜12及び比較例4〜7)
接着性エポキシ樹脂シート(硬化性樹脂組成物)の配合組成を表3に示す組成としたこと以外は実施例7の場合と同様にして、硬化性樹脂組成物の酢酸エチル溶液(固形分40重量%)、接着性エポキシ樹脂シートを作製した。
(Examples 8-12 and Comparative Examples 4-7)
The ethyl acetate solution of the curable resin composition (solid content of 40 wt.%) Was the same as in Example 7 except that the composition of the adhesive epoxy resin sheet (curable resin composition) was changed to the composition shown in Table 3. %), An adhesive epoxy resin sheet was prepared.

実施例7〜12、及び、比較例4〜7で得られた接着性エポキシ樹脂シートの性能(7.TEM染色時相分離構造観察(透過型電子顕微鏡観察)、8.粘弾性tanδピーク温度観察、8.120℃ジメチルスルホキシド膨潤比率測定、10.抽出水pH測定、11.イオン伝導度測定、12.抽出塩素イオン不純物測定、13.誘電率ε’測定、14.誘電正接測定、15.レーザー加工性、16.溶融時の最低貯蔵弾性率G’測定、17.ボイドの発生の有無測定、18.接合体PCT導通測定、19.接合体TCT導通測定)を以下の方法で評価した。結果を表3に示した。 Performances of adhesive epoxy resin sheets obtained in Examples 7 to 12 and Comparative Examples 4 to 7 (7. Observation of phase separation structure during TEM staining (observation with transmission electron microscope), 8. Observation of viscoelasticity tan δ peak temperature 8. Measurement of dimethyl sulfoxide swelling ratio at 120 ° C., 10. Extraction water pH measurement, 11. Ionic conductivity measurement, 12. Extraction chloride ion impurity measurement, 13. Dielectric constant ε ′ measurement, 14. Dielectric loss tangent measurement, 15. Laser Workability, 16. Measurement of minimum storage elastic modulus G ′ upon melting, 17. Measurement of presence / absence of voids, 18. Bonded body PCT conduction measurement, 19. Bonded body TCT conduction measurement) were evaluated by the following methods. The results are shown in Table 3.

7.透過型電子顕微鏡観察
170℃30分かけてオーブン中で養生し硬化させた接着性エポキシ樹脂シートを、ミクロトームで薄膜に切り出し、これを四酸化オスミウムを用いて染色した。このサンプルを透過型電子顕微鏡で観察し(倍率10万倍)これら染色による相分離構造を観察した。
7). Observation with Transmission Electron Microscope An adhesive epoxy resin sheet cured and cured in an oven at 170 ° C. for 30 minutes was cut into a thin film with a microtome and dyed with osmium tetroxide. This sample was observed with a transmission electron microscope (magnification of 100,000 times), and the phase separation structure by these staining was observed.

8.粘弾性tanδピーク温度観察
170℃30分かけてオーブン中で養生し硬化させた接着性エポキシ樹脂シートを、引っ張り型の粘弾性測定装置にて昇温速度3℃/min、測定温度−100℃〜290℃の範囲で測定した。得られたチャートを観察し、tanδのピーク値の温度を2つ以上ある場合にももらさず書き記した。
8). Viscoelasticity tan δ peak temperature observation 170 ° C. Curing and curing an adhesive epoxy resin sheet in an oven with a tensile viscoelasticity measuring device at a temperature rising rate of 3 ° C./min, measurement temperature from −100 ° C. It measured in the range of 290 degreeC. The obtained chart was observed, and it was written without having the temperature of two or more peak values of tan δ.

9.120℃ジメチルスルホキシド膨潤比率測定
170℃30分かけて硬化させた接着シートの重量をはかり、これを120℃に熱したジメチルスルホキシド(DMSO)中に5分間浸す。5分後このシートを取り出し、溶剤を良くふき取った後に、天秤で再度重量を測定する。
DMSO膨潤比(%) = (浸せき後重量−初期重量)×100 /(初期重量)
であらわすことが出来る。
9. Measurement of 120 ° C. Dimethyl Sulfoxide Swelling Ratio Weigh the adhesive sheet cured at 170 ° C. for 30 minutes and immerse it in dimethyl sulfoxide (DMSO) heated to 120 ° C. for 5 minutes. After 5 minutes, the sheet is taken out, and after the solvent is thoroughly wiped off, the weight is measured again with a balance.
DMSO swelling ratio (%) = (weight after immersion−initial weight) × 100 / (initial weight)
Can be represented.

10.抽出水pH測定
接着性エポキシ樹脂シートを170℃のオーブン中で30分間加熱硬化した後、接着性エポキシ樹脂シートの硬化物を約1g秤り取った。次いで、この硬化物を細かく裁断してガラス製の試験管中に入れ、蒸留水を10g添加し、バーナーで試験管を封管して、110℃のオーブン中で時々振りながら12時間加熱抽出を行った後、pHメーターを用いて、抽出水のpHを測定した。
10. Extracted water pH measurement The adhesive epoxy resin sheet was heated and cured in an oven at 170 ° C. for 30 minutes, and about 1 g of a cured product of the adhesive epoxy resin sheet was weighed. Next, this cured product is cut into small pieces and placed in a glass test tube, 10 g of distilled water is added, the test tube is sealed with a burner, and heat extraction is performed for 12 hours while occasionally shaking in an oven at 110 ° C. Then, the pH of the extracted water was measured using a pH meter.

11.イオン伝導度測定
上記抽出水をイオン伝導度測定機をもちいて、抽出水のイオン伝導度(μS/cm)を測定した。
11. Ion conductivity measurement The ionic conductivity (μS / cm) of the extracted water was measured using the extracted water using an ion conductivity measuring machine.

12.抽出塩素イオン不純物測定
イオンクロマトグラフィーを用いて、上記で得られた抽出水中の塩素イオン不純物量(ppm)を測定した。
12 Extraction Chlorine Ion Impurity Measurement Using ion chromatography, the chlorine ion impurity amount (ppm) in the extracted water obtained above was measured.

13.誘電率ε’測定、14.誘電正接測定
170℃30分硬化後のサンプルについて周波数1GHzにて誘電率及び誘電正接を測定した.
13. Dielectric constant ε ′ measurement, 14. Dielectric loss tangent measurement Dielectric constant and dielectric loss tangent were measured at a frequency of 1 GHz for a sample cured at 170 ° C. for 30 minutes.

15.レーザー加工性
炭酸ガスレーザーを用いて、上下PETシート付き接着性エポキシ樹脂シートに対して円形の孔加工(約100μm直径)を施した後、孔形状を顕微鏡で観察し、下記判定基準によりレーザー加工性を評価した。
〔判定基準〕
○‥‥孔形状及び貫通孔の平滑性のいずれもが良好であった。
×‥‥孔形状が崩れていた。
15. Using a laser processable carbon dioxide laser, circular hole processing (diameter of about 100 μm) is made on the adhesive epoxy resin sheet with upper and lower PET sheets, then the hole shape is observed with a microscope, and laser processing is performed according to the following criteria. Sex was evaluated.
[Criteria]
○: Both the hole shape and the smoothness of the through holes were good.
× The hole shape was broken.

16.溶融時の最低貯蔵弾性率G’測定
接着性エポキシ樹脂シート(硬化前)を熱ラミネーターで積層して約600μmの厚みとした後、これを昇温速度45℃/分で25℃から200℃まで昇温し、周波数100rad/秒で剪断時の弾性率(G’)を測定した。この時、接着性エポキシ樹脂シートの溶融と硬化とが同時に起こっており、この時の最低の値を示す弾性率を最低弾性率{(G’)Pa}として読み取った。
16. The minimum storage elastic modulus G ′ when melted is measured by laminating an adhesive epoxy resin sheet (before curing) with a thermal laminator to a thickness of about 600 μm, and then this is increased from 25 ° C. to 200 ° C. at a temperature rising rate of 45 ° C./min The temperature was raised, and the elastic modulus (G ′) during shearing was measured at a frequency of 100 rad / sec. At this time, melting and curing of the adhesive epoxy resin sheet occurred simultaneously, and the elastic modulus indicating the lowest value at this time was read as the minimum elastic modulus {(G ′) Pa}.

17.ボイドの発生の有無測定
ガラスエポキシ基板とシリコンチップ(1cm角)とを接着性エポキシ樹脂シートを挟み込んで200℃で30秒間熱プレスして接着させ、この時のボイド発生の有無を超音波剥離探傷装置を用いて確認した。
17. Measurement of presence / absence of voids Glass epoxy substrate and silicon chip (1cm square) are bonded with an adhesive epoxy resin sheet and hot-pressed at 200 ° C for 30 seconds. This was confirmed using an apparatus.

18.接合体PCT導通測定
上記エポキシシートを、ICチップを介して電気的に接続されたときにICチップ内のメタル配線とデイジーチェインとなるように配線(18μm厚みの銅箔上にニッケルが5μm、金が0.3μmメッキ)された20mm×20mm×1.0mm厚からなるガラス/エポキシ系FR−4基板の上に貼り合わせた。その後このシートを介してICチップ(大きさ:10mm×10mm、予めワイヤボンディングで作製された金スタッドバンプ(サイズ100μm、高さ約50μm)がペリフェラル状に172個配置されているもの)と電極基板とを78N/cmの荷重下、190℃で15秒間、230℃で15秒間の順に加熱を行って接合した後、125℃で1時間養生して、導通接合体を作製した。
得られた導通接合体に対して、常温で全ての電極が高い導通抵抗安定性を有することを確認した後、導通接合体をプレッシャークッカー試験(PCT)環境下(120℃、85%RH)に移し、PCT環境下での全体の導通抵抗値が10%変化するまでの時間を測定した。
18. Junction PCT Continuity Measurement Wiring (5 μm of nickel on 18 μm thick copper foil and gold on the 18 μm thick copper foil) so that the above epoxy sheet is daisy chained with the metal wiring in the IC chip when electrically connected via the IC chip. Was laminated on a glass / epoxy FR-4 substrate having a thickness of 20 mm × 20 mm × 1.0 mm plated with 0.3 μm. Then, through this sheet, an IC chip (size: 10 mm × 10 mm, 172 gold stud bumps (size 100 μm, height about 50 μm) prepared in advance by wire bonding are arranged in a peripheral shape) and an electrode substrate DOO under load of 78 N / cm 2, 15 seconds at 190 ° C., after bonding by heating in the order of 15 seconds at 230 ° C., and 1 hour aging at 125 ° C., to produce a conductive bonding member.
After confirming that all the electrodes have high conduction resistance stability at room temperature with respect to the obtained conducting joint, the conducting joint was placed in a pressure cooker test (PCT) environment (120 ° C., 85% RH). The time until the entire conduction resistance value in the PCT environment changed by 10% was measured.

19.接合体TCT導通測定
上記の場合と同様の方法で導通接合体を作製し、これを冷熱サイクル試験機(−40℃⇔125℃、各10分間ずつ)にかけて冷熱サイクル試験(TCT)を行い、適宜サイクル数で取り出して導通抵抗値の変化を確認し、導通抵抗値が10%以上変化したサイクル数を測定した。
19. Junction TCT Continuity Measurement Conduction junctions are produced in the same manner as described above, and this is subjected to a thermal cycle tester (−40 ° C. to 125 ° C., 10 minutes each), and a thermal cycle test (TCT) is performed. Taking out by the number of cycles, the change in the conduction resistance value was confirmed, and the number of cycles in which the conduction resistance value changed by 10% or more was measured.

Figure 2008274300
表3から、実施例7〜11で得られた接着性エポキシ樹脂シートでは、相分離構造を示さず、それによって高温時DMSO膨潤比が非常に低いことがわかる。一方、相分離構造を示した比較例4〜6では、tanδのピーク値も2つ観測され、またDMSO膨潤比もかなり高いものとなった。これにより、PCT性能が実施例に比べて悪くなっていることがよくわかる。また抽出水pHが中性付近にない実施例12や比較例7で得られた接着性エポキシ樹脂シートではイオン伝導度が比較的高くなっており、これは遊離したイオンが溶出して来ているということである。このとき、電気絶縁性及び電極腐食に大きくかかわってくるといわれている塩素イオン不純物量が非常に多くなっていることがわかる。また、比較例7で得られた接着性エポキシ樹脂シートでは誘電率、誘電正接ともに高い値を示し、物性値として悪い結果となった.
溶融時の最低貯蔵弾性率については、比較例4で得られた接着性エポキシ樹脂シートが非常に低い値となっており、これにより、揮発分による発泡を押さえ込めずに接着樹脂相がボイドを噛んだ接合体となっている。また、実施例7で得られた接着性エポキシ樹脂シートと実施例8で得られた接着性エポキシ樹脂シートとを比べた際に、若干ではあるが、コアシェル型ゴム粒子を添加した実施例8で得られた接着性エポキシ樹脂シートの方がTCTサイクル性能向上が認められた。これはゴム粒子の応力緩和硬化によるものと思われる。
Figure 2008274300
From Table 3, it can be seen that the adhesive epoxy resin sheets obtained in Examples 7 to 11 do not show a phase separation structure, thereby the DMSO swelling ratio at high temperature is very low. On the other hand, in Comparative Examples 4 to 6 showing a phase separation structure, two tan δ peak values were observed, and the DMSO swelling ratio was considerably high. This clearly shows that the PCT performance is worse than that of the example. Further, the adhesive epoxy resin sheets obtained in Example 12 and Comparative Example 7 in which the pH of the extraction water is not in the vicinity of neutrality have a relatively high ionic conductivity, and free ions have been eluted. That's what it means. At this time, it can be seen that the amount of chlorine ion impurities, which are said to be greatly involved in electrical insulation and electrode corrosion, is very large. Further, the adhesive epoxy resin sheet obtained in Comparative Example 7 showed high values for both dielectric constant and dielectric loss tangent, resulting in poor physical properties.
Regarding the minimum storage elastic modulus at the time of melting, the adhesive epoxy resin sheet obtained in Comparative Example 4 has a very low value, which prevents the adhesive resin phase from voiding without suppressing foaming due to volatile matter. It is a bite joined body. In addition, when the adhesive epoxy resin sheet obtained in Example 7 and the adhesive epoxy resin sheet obtained in Example 8 were compared, although slightly, in Example 8 to which core-shell type rubber particles were added, The obtained adhesive epoxy resin sheet was found to have improved TCT cycle performance. This seems to be due to stress relaxation hardening of the rubber particles.

また、実施例7〜9で調製した硬化性樹脂組成物の酢酸エチル溶液を層間接着剤として、8インチウェーハを用いて以下の方法により評価用の半導体パッケージを作製した。
まず、110μm×110μm、高さ20μmの銅バンプがペリフェラル配置された8インチシリコンウェーハ上に、層間接着剤をスピンコーターを用いて硬化後の厚さが25μmとなるように塗工した。塗工後、ウェーハを110℃×5分間+120℃×60分間熱風乾燥炉中に置き、層間接着剤を硬化させた。次いで、硬化した層間接着剤の表層部分をグラインダーを用いて研削し、銅バンプを露出させた。
Moreover, the semiconductor package for evaluation was produced with the following method using the 8-inch wafer by using the ethyl acetate solution of the curable resin composition prepared in Examples 7-9 as an interlayer adhesive.
First, an interlayer adhesive was coated on an 8-inch silicon wafer on which copper bumps of 110 μm × 110 μm and a height of 20 μm were arranged peripherally using a spin coater so that the thickness after curing was 25 μm. After coating, the wafer was placed in a hot air drying furnace at 110 ° C. for 5 minutes + 120 ° C. for 60 minutes to cure the interlayer adhesive. Next, the surface layer portion of the cured interlayer adhesive was ground using a grinder to expose the copper bumps.

既知のホトリソグラフィー法を用いて、パッケージの半田ボール搭載の銅ポスト位置がエリア配置になるように再配線銅回路パターンを形成した。再配線銅回路パターンを形成後、既知のホトリソグラフィー法を用いて銅ポストを形成し、既知のウェーハレベル半田ボールマウンタを使用し、半田ボール(直径300μm)を搭載したウェーハレベルパッケージを作成した。次いで、半田ボール搭載済みウェーハをダイシングし、個別のIC(大きさ:10mm×10mm、バンプがエリア状に172個配置されているもの)を作製し、評価用の半導体パッケージとした。 Using a known photolithography method, a rewiring copper circuit pattern was formed so that the positions of the copper posts mounted on the solder balls of the package were in an area arrangement. After forming the rewiring copper circuit pattern, a copper post was formed using a known photolithography method, and a wafer level package on which a solder ball (diameter 300 μm) was mounted was created using a known wafer level solder ball mounter. Next, the solder ball mounted wafer was diced to produce individual ICs (size: 10 mm × 10 mm, with 172 bumps arranged in an area), and used as a semiconductor package for evaluation.

得られた評価用の半導体パッケージを用いて半田耐熱性、PCT環境下における導通信頼性、及び、TCT環境下における導通信頼性を評価したところ、半田耐熱性は5回以上、PCT信頼性400時間、TCT信頼性1000サイクル以上が確認された。
以上より、実施例7〜9で調製した硬化性樹脂組成物の酢酸エチル溶液は、層間接着剤としても有用であることが確認できた。
なお、ここでは評価用の半導体パッケージとして、半導体ウェーハ再配線パッケージ基板を製造したが、ビルドアッププリント配線板等の場合についても同様である。
Using the obtained semiconductor package for evaluation, the solder heat resistance, the conduction reliability in the PCT environment, and the conduction reliability in the TCT environment were evaluated. The solder heat resistance was 5 times or more and the PCT reliability was 400 hours. TCT reliability of 1000 cycles or more was confirmed.
As mentioned above, it has confirmed that the ethyl acetate solution of the curable resin composition prepared in Examples 7-9 was useful also as an interlayer adhesive.
Here, the semiconductor wafer rewiring package substrate is manufactured as the semiconductor package for evaluation, but the same applies to the case of a build-up printed wiring board or the like.

(実施例13)
ホモディスパー型攪拌機を用いて、ジシクロペンタジエン型固形エポキシ樹脂45重量部、ナフタレン型液状エポキシ樹脂45重量部、エポキシ基含有アクリル樹脂(平均分子量1万、エポキシ当量500)4重量部、トリアルキルテトラヒドロ無水フタル酸50重量部、1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾール4重量部、アミノシランカップリング剤2重量部を均一に混練して接着性エポキシペーストを得、これを非導電性ペーストとした。
(Example 13)
Using a homodisper type stirrer, 45 parts by weight of a dicyclopentadiene type solid epoxy resin, 45 parts by weight of a naphthalene type liquid epoxy resin, 4 parts by weight of an epoxy group-containing acrylic resin (average molecular weight 10,000, epoxy equivalent 500), trialkyltetrahydro An adhesive epoxy paste was obtained by uniformly kneading 50 parts by weight of phthalic anhydride, 4 parts by weight of 1-cyanoethyl-2-phenylimidazole, and 2 parts by weight of an aminosilane coupling agent, and this was used as a non-conductive paste.

(実施例14〜21、及び、比較例8、9)
ペーストの配合組成を表4に示した組成としたこと以外は実施例13の場合と同様にして非導電性ペースト(実施例14〜16)又は異方性導電ペースト(実施例17〜21、比較例8、9)を作製した。
(Examples 14 to 21 and Comparative Examples 8 and 9)
A non-conductive paste (Examples 14-16) or an anisotropic conductive paste (Examples 17-21, comparison) as in Example 13 except that the composition of the paste was changed to the composition shown in Table 4 Examples 8 and 9) were prepared.

実施例13〜21及び比較例8、9で得られた異方性導電ペースト又は異方性導電ペーストの性能(抽出水のpH、塩素イオン不純物量、TEMによる染色時相分離構造、粘弾性測定におけるtanδのピーク温度、イオン伝導度、誘電率(ε’)及び誘電正接(tanδ))を上述の方法で評価した。 Performances of anisotropic conductive pastes or anisotropic conductive pastes obtained in Examples 13 to 21 and Comparative Examples 8 and 9 (pH of extracted water, amount of chlorine ion impurities, phase separation structure by dyeing with TEM, measurement of viscoelasticity The tan δ peak temperature, ionic conductivity, dielectric constant (ε ′) and dielectric loss tangent (tan δ)) were evaluated by the methods described above.

また、実施例17〜21、比較例8、9で得られた異方性導電ペーストと、ICチップ及び基板とを用いて以下の方法により評価用の半導体パッケージを作製した。
ICチップ(大きさ:10mm×10mm)としては、予めワイヤボンディングで作製された金スタッドバンプ(サイズ100μm、高さ約50μm)がペリフェラル状に172個配置されているものを使用し、基板としては、ICチップを介して電気的に接続されたときにICチップ内のメタル配線とデイジーチェインとなるように配線(18μm厚みの銅箔上にニッケルが5μm、金が0.3μmメッキ)された20mm×20mm×1.0mm厚のもの(ガラス/エポキシ系FR−4)を使用した。
Moreover, the semiconductor package for evaluation was produced with the following method using the anisotropic conductive paste obtained in Examples 17-21 and Comparative Examples 8 and 9, an IC chip, and a board | substrate.
As an IC chip (size: 10 mm × 10 mm), a substrate in which 172 gold stud bumps (size: 100 μm, height: about 50 μm) prepared in advance by wire bonding are arranged in a peripheral shape is used as a substrate. 20 mm in which the metal wiring in the IC chip is daisy chained when electrically connected via the IC chip (5 μm of nickel and 0.3 μm of gold are plated on 18 μm thick copper foil) The thing of * 20mm * 1.0mm thickness (glass / epoxy type FR-4) was used.

まず、基板を120℃×6時間熱風乾燥炉中で風乾し、基板中の水分を除去した。
次に、実施例17〜21、比較例8、9で得られた異方導電性ペーストをシリンジ(武蔵エンジニアリング社製)に充填した。このシリンジ先端に、精密ノズル(武蔵エンジニアリング社製、ノズル先端径0.3mm)を取り付け、ディスペンサ装置(武蔵エンジニアリング社製)を用いて、乾燥済み基板上のICチップ接合エリア内に異方導電性ペーストを塗布量が約40mgになるように塗布した。
塗布した基板の電極部分とICチップの電極部分とをフリップチップボンダー(澁谷工業社製、DB100)を用いて、フリップチップ接続した。接続条件は、78N/cm、190℃×15秒間+230℃×15秒間とした。その後120℃×1時間かけて熱風乾燥炉中で、樹脂を完全硬化させ評価用の半導体パッケージを作製した。
First, the substrate was air-dried in a hot air drying furnace at 120 ° C. for 6 hours to remove moisture in the substrate.
Next, the anisotropic conductive paste obtained in Examples 17 to 21 and Comparative Examples 8 and 9 was filled in a syringe (manufactured by Musashi Engineering Co., Ltd.). A precision nozzle (manufactured by Musashi Engineering Co., Ltd., nozzle tip diameter 0.3 mm) is attached to the tip of this syringe, and an anisotropic conductive material is used in the IC chip bonding area on the dried substrate using a dispenser device (manufactured by Musashi Engineering Co., Ltd.). The paste was applied so that the amount applied was about 40 mg.
The electrode part of the applied substrate and the electrode part of the IC chip were flip-chip connected using a flip chip bonder (DB100, manufactured by Sugaya Kogyo Co., Ltd.). The connection conditions were 78 N / cm 2 , 190 ° C. × 15 seconds + 230 ° C. × 15 seconds. Thereafter, the resin was completely cured in a hot air drying oven over 120 ° C. for 1 hour to produce a semiconductor package for evaluation.

作製した半導体パッケージを用いて以下の方法により20.半田耐熱性、及び、上述の方法によりPCT環境下における導通信頼性、TCT環境下における導通信頼性を評価した。結果を表4に示した。なお、表4中、「−」で示した箇所については測定を行わなかった。
20.半田耐熱性評価用の半導体パッケージを、乾燥条件が125℃×6hr、湿潤条件が30℃/80%×48hrで処理した後、ハンダリフロー250℃×30sとなるプロファイルで処理を行い、処理後の電極の導通及び抵抗値変化、及び層間の剥離を確認した。リフロー後サンプルを再び、湿潤条件が30℃/80%×48hrで処理した後、ハンダリフロー250℃×30sとなるプロファイルで処理を行い、リフロー処理2回目後の電極の導通及び抵抗値変化、及び層間の剥離を確認した。本処理をリフロー回数5回まで半田耐熱性評価を行った。なお、導通がある場合でも抵抗値変化が初期の抵抗値と比較して10%以上変化しているものは不良と判断した。層間の剥離は超音波探査映像装置(日立建機ファインテック社製、mi−scope hyper II)で確認した。
Using the produced semiconductor package, 20. The solder heat resistance, the conduction reliability under the PCT environment, and the conduction reliability under the TCT environment were evaluated by the above-described methods. The results are shown in Table 4. In Table 4, no measurement was performed for the portions indicated by “−”.
20. After processing the semiconductor package for solder heat resistance evaluation at a dry condition of 125 ° C. × 6 hr and a wet condition of 30 ° C./80%×48 hr, a solder reflow profile of 250 ° C. × 30 s is performed. Electrode conduction, resistance value change, and delamination were confirmed. After the reflow, the sample was again treated with a wet condition of 30 ° C./80%×48 hr, followed by a treatment with a solder reflow profile of 250 ° C. × 30 s, and the continuity and resistance change of the electrode after the second reflow treatment, and Peeling between layers was confirmed. This process was evaluated for soldering heat resistance up to 5 reflows. In addition, even when there was conduction, a change in resistance value that was changed by 10% or more compared to the initial resistance value was judged as defective. The delamination between layers was confirmed with an ultrasonic exploration imaging apparatus (manufactured by Hitachi Construction Machinery Finetech Co., Ltd., mi-scope hyper II).

Figure 2008274300
表4から、実施例17〜21で得られた異方性導電ペーストは、塩素イオン不純物量が少なかった。また、ジシクロペンタジエン型固形エポキシ樹脂、及び、ナフタレン型液状エポキシ樹脂に対して相溶性を示すエポキシ基含有アクリル樹脂を含有する実施例17で得られた異方性導電ペーストは、硬化物のTEM観察によりエポキシ樹脂マトリクス中に相分離は観察されず、また、実施例17〜21で得られたの異方性導電ペーストは、いずれもイオン伝導度が低いものであった。また、実施例17〜21で得られた異方性導電ペーストを用いて作製した評価用の半導体パッケージは、半田耐熱性、PCT環境下及びTCT環境下における導通信頼性が優れていた。更に、低弾性粒子(コアシェル型アクリルゴム粒子)が含有されている実施例19〜21で得られたの異方性導電ペーストを用いてなる半導体パッケージは、これらを含まない実施例17、18の異方性導電ペーストを用いてなる半導体パッケージよりPCT環境下及びTCT環境下における導通信頼性がより優れたものであった。
Figure 2008274300
From Table 4, the anisotropic conductive paste obtained in Examples 17 to 21 had a small amount of chlorine ion impurities. Moreover, the anisotropic conductive paste obtained in Example 17 containing an epoxy group-containing acrylic resin having compatibility with a dicyclopentadiene type solid epoxy resin and a naphthalene type liquid epoxy resin is a TEM of a cured product. By observation, no phase separation was observed in the epoxy resin matrix, and any of the anisotropic conductive pastes obtained in Examples 17 to 21 had low ionic conductivity. Moreover, the semiconductor package for evaluation produced using the anisotropic conductive paste obtained in Examples 17 to 21 was excellent in soldering heat resistance, and conduction reliability in a PCT environment and a TCT environment. Furthermore, the semiconductor package using the anisotropic conductive paste obtained in Examples 19 to 21 containing the low elastic particles (core-shell type acrylic rubber particles) includes those of Examples 17 and 18 that do not include these. The conduction reliability in the PCT environment and the TCT environment was more excellent than the semiconductor package using the anisotropic conductive paste.

これに対し、ナフタレン型エポキシ樹脂及びジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂に対して非相溶のエポキシ含有アクリルゴムを含有する比較例8、9で得られた異方性導電ペーストは、硬化物のTEM観察によりエポキシ樹脂マトリクス中に相分離構造が観察され、イオン伝導度も高いものであった。 In contrast, the anisotropic conductive pastes obtained in Comparative Examples 8 and 9 containing an epoxy-containing acrylic rubber that is incompatible with the naphthalene-type epoxy resin and the dicyclopentadiene-type epoxy resin are cured by TEM observation. Thus, a phase separation structure was observed in the epoxy resin matrix, and the ionic conductivity was high.

また、実施例13〜15で得られた接着性エポキシペーストをアンダーフィル樹脂として用いて、半導体チップと基板とを以下の方法により接続して評価用の半導体パッケージを作製した。 Moreover, the adhesive epoxy paste obtained in Examples 13 to 15 was used as an underfill resin, and a semiconductor chip and a substrate were connected by the following method to produce a semiconductor package for evaluation.

ガラスエポキシ基材FR−4相当品をベースにして、Cu配線工程、スルーホールめっき、およびソルダレジスト工程を終えた基板(4層板)のチップ搭載部に、高融点はんだバンプ付きの半導体チップ(大きさ:10mm×10mm、バンプサイズ100μm、高さ約100μm)がペリフェラル状に172個配置されているもの)をフリップチップボンダーに設置し、該チップをフェイスダウンにてはんだバンプ部と対向する基板端子部とを位置調整し、温度230℃、加圧力10kg、加圧時間5秒で本圧着した。この時点で、はんだバンプと基板端子部との接合、および、チップ表面と基板との接着が同時に完了し、はんだバンプが柱状に引き延ばされているのが確認された。 A semiconductor chip with a high melting point solder bump on the chip mounting portion of a substrate (four-layer board) that has completed the Cu wiring process, through-hole plating, and solder resist process, based on a glass epoxy substrate FR-4 equivalent product ( (Size: 10 mm × 10 mm, bump size: 100 μm, height: about 100 μm) is placed on a flip chip bonder, and the chip faces the solder bump part face down. The position of the terminal part was adjusted, and this was crimped at a temperature of 230 ° C., a pressure of 10 kg, and a pressurization time of 5 seconds. At this time, it was confirmed that the bonding between the solder bump and the substrate terminal portion and the bonding between the chip surface and the substrate were completed at the same time, and the solder bump was extended in a columnar shape.

その後、通常のIRリフロー炉にて、230℃ 20秒の条件ではんだをリフローした。この工程を経ることにより、フェイスダウンボンディングでの位置ズレが補正されていて、しかも柱状のはんだバンプ形状が維持されていることを確認した。
次いで、武蔵エンジニアリング社製シリンジに本発明のアンダーフィル樹脂を充填し、シリンジ先端に武蔵エンジニアリング社製精密ノズル(ノズル先端径0.3mm)を取り付け、ディスペンサ装置を用いて、チップ端部からチップと基板隙間に樹脂を充填した。
Thereafter, the solder was reflowed in a normal IR reflow furnace at 230 ° C. for 20 seconds. Through this process, it was confirmed that the positional deviation in the face-down bonding was corrected and that the columnar solder bump shape was maintained.
Next, the Musashi Engineering syringe is filled with the underfill resin of the present invention, and a precision nozzle (nozzle tip diameter: 0.3 mm) is attached to the tip of the syringe. Resin was filled in the substrate gap.

次に、125℃×1時間の条件で熱風乾燥炉中で樹脂を完全硬化させた後、封止材(日立化成工業社製、エポキシモールディングコンパウンドCEL9200)を用いて、通常のトランスファーモールド(成形温度180℃、成形圧力1.5kN/cm)にてチップ裏面全面を被覆した封止品を得た。その後、はんだボール形成設備を用いて、はんだボールを基板裏面にアレイ状に形成して、評価用の半導体パッケージを得た。 Next, after completely curing the resin in a hot air drying oven at 125 ° C. × 1 hour, a normal transfer mold (molding temperature) using a sealing material (manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd., epoxy molding compound CEL 9200). A sealed product covering the entire back surface of the chip was obtained at 180 ° C. and a molding pressure of 1.5 kN / cm 2 . Thereafter, solder balls were formed in an array on the back surface of the substrate using a solder ball forming facility to obtain a semiconductor package for evaluation.

得られた評価用パッケージの−45℃〜125℃の温度サイクル試験を評価したところ、1000サイクル後のサンプルにおいても導通結果に異常はなく、はんだバンプの破断は認められなかった。試験後の評価用半導体パッケージを切断して、はんだバンプ部周辺を観察したところ、各はんだバンプの周辺全面及び半導体チップの外周部にはクラック等がないことが確認できた。また、30℃、80%RHの条件で48時間吸湿させた後、半田ディップ(280℃、30秒間)したものを、超音波探査探傷設備で観察しても、封止樹脂とチップパッシベーション表面との界面での剥離やクラックの存在は認められなかった。更に、高温高湿試験(120℃/85%RH、500時間)を行った後においても導通結果に異常はなく、はんだバンプの破断は認められなかった。高温高湿試験の評価用半導体パッケージを切断して、はんだバンプ部周辺を観察したところ、各はんだバンプの周辺全面及び半導体チップの外周部にクラック等がないことが確認できた。
このことより、実施例13〜15で得られた接着性エポキシペーストは、アンダーフィルとしても好適に用いることができることが確認できた。
When the temperature cycle test of -45 ° C to 125 ° C of the obtained evaluation package was evaluated, there was no abnormality in the conduction results even in the sample after 1000 cycles, and no breakage of the solder bumps was observed. When the semiconductor package for evaluation after the test was cut and the periphery of the solder bump portion was observed, it was confirmed that there were no cracks in the entire periphery of each solder bump and the outer peripheral portion of the semiconductor chip. Further, after absorbing moisture for 48 hours under conditions of 30 ° C. and 80% RH, even if the solder dip (280 ° C., 30 seconds) is observed with an ultrasonic inspection and flaw detection equipment, the sealing resin and the chip passivation surface No peeling or cracking was observed at the interface. Further, even after the high temperature and high humidity test (120 ° C./85% RH, 500 hours), there was no abnormality in the conduction results, and no breakage of the solder bumps was observed. When the semiconductor package for evaluation in the high-temperature and high-humidity test was cut and the periphery of the solder bump portion was observed, it was confirmed that there were no cracks or the like in the entire periphery of each solder bump and the outer peripheral portion of the semiconductor chip.
From this, it has confirmed that the adhesive epoxy paste obtained in Examples 13-15 could be used suitably also as an underfill.

(実施例22)
ジシクロペンタジエン型固形エポキシ樹脂45重量部、ナフタレン型液状エポキシ樹脂45重量部、エポキシ基含有アクリル樹脂−a10重量部、トリアルキルテトラヒドロ無水フタル酸50重量部、1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾール4重量部、アミノシランカップリング剤2重量部、及び、銀粒子(平均粒子径7μm)20重量部を、酢酸エチルに溶解させ、ホモディスパー型攪拌機を用いて、攪拌速度3000rpmの条件で均一に攪拌混練して、固形分が40重量%の硬化性樹脂組成物の酢酸エチル溶液を調製した。なお、上記銀粒子は、ワニスの状態で用いた。
(Example 22)
Dicyclopentadiene type solid epoxy resin 45 parts by weight, naphthalene type liquid epoxy resin 45 parts by weight, epoxy group-containing acrylic resin-a 10 parts by weight, trialkyltetrahydrophthalic anhydride 50 parts by weight, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazole 4 parts by weight Part, 2 parts by weight of aminosilane coupling agent, and 20 parts by weight of silver particles (average particle size 7 μm) are dissolved in ethyl acetate and uniformly stirred and kneaded using a homodisper type stirrer under the conditions of a stirring speed of 3000 rpm. Then, an ethyl acetate solution of a curable resin composition having a solid content of 40% by weight was prepared. The silver particles were used in a varnish state.

次に、得られた硬化性樹脂組成物の酢酸エチル溶液を、表面に離型処理が施された厚み50μmのポリエチレンテレフタレート(PET)シートの離型処理面上に、乾燥後の厚みが42μmとなるようにバーコーターを用いて塗工した後、110℃で3分間乾燥して、接着性エポキシ樹脂層を形成した。この接着性エポキシ樹脂層が形成されたPETシート2枚を接着性エポキシ樹脂層が向き合うように80℃でラミネート加工を施して接着性エポキシ樹脂シートを作製した。得られた接着性エポキシ樹脂シートは、2枚のPETシートの間に接着性エポキシ樹脂層が挟まれた状態となっている。 Next, the obtained ethyl acetate solution of the curable resin composition is 42 μm in thickness after drying on the release treatment surface of a 50 μm thick polyethylene terephthalate (PET) sheet whose surface has been subjected to a release treatment. After coating using a bar coater, it was dried at 110 ° C. for 3 minutes to form an adhesive epoxy resin layer. Two PET sheets on which the adhesive epoxy resin layer was formed were laminated at 80 ° C. so that the adhesive epoxy resin layer faced to prepare an adhesive epoxy resin sheet. The obtained adhesive epoxy resin sheet is in a state in which an adhesive epoxy resin layer is sandwiched between two PET sheets.

(実施例23〜26、及び、比較例10、11)
配合組成を表5に示した組成としたこと以外は実施例22の場合と同様にして、導電性微粒子が露出していない導電接続シートを作製した。
なお、表5において導電性微粒子としては、以下のものを用いワニスの状態で樹脂に混合した。
銀粒子:平均粒径7μm
Ni粒子:平均粒径7μm
樹脂コア金メッキ粒子:平均粒径3μm(積水化学工業社製「ミクロパールAU」)
絶縁被覆樹脂コア金メッキ粒子:平均粒径2μm、積水化学工業社製「ミクロパールAU」を熱可塑性樹脂で被覆したもの
(Examples 23 to 26 and Comparative Examples 10 and 11)
A conductive connection sheet in which the conductive fine particles were not exposed was prepared in the same manner as in Example 22 except that the composition was changed to the composition shown in Table 5.
In Table 5, as the conductive fine particles, the following were used and mixed with the resin in a varnish state.
Silver particles: average particle size 7μm
Ni particles: average particle size 7 μm
Resin core gold-plated particles: Average particle size 3 μm (“Micropearl AU” manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.)
Insulation coating resin core gold-plated particles: average particle diameter of 2 μm, coated with “Micropearl AU” manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd. with thermoplastic resin

(実施例27)
得られた長さ2cm、幅2cmの接着性エポキシ樹脂シートに対して、ICチップの電極の位置と合うようにCOレーザーを用いて、1cm角あたり172ピンの電極端子を形成するために表面120μm、裏面85μmのテーパー状の貫通孔を複数列に配列するように設けた。この列の間隔は約4mmであり、各列の各貫通孔は200μmのピッチで並んでおり、それぞれの貫通孔は、孔径のCV値が2%であり、アスペクト比(孔の長径/孔の短径)が1.04であった。
(Example 27)
The surface of the obtained adhesive epoxy resin sheet having a length of 2 cm and a width of 2 cm to form an electrode terminal of 172 pins per 1 cm square using a CO 2 laser so as to match the position of the electrode of the IC chip. Tapered through holes of 120 μm and a back surface of 85 μm were provided so as to be arranged in a plurality of rows. The interval between the rows is about 4 mm, and the through holes in each row are arranged at a pitch of 200 μm. Each through hole has a CV value of 2%, and an aspect ratio (hole long diameter / hole The minor axis was 1.04.

この接着性エポキシ樹脂シートの裏側に対して、全ての貫通孔を覆い、かつ、漏れがないように直径8mmの吸い口を当て、−50kPaの真空度で吸引を行いながら接着性エポキシ樹脂シートの表側にある導電性微粒子(平均粒径105μm、表層0.2μmニッケルメッキ、更に金メッキ2.3μmのメッキを施した導電性微粒子)の吸着を数秒間行った。この際、吸い口には接着性エポキシ樹脂シートの支持用に目開き50μmの鋼製メッシュを備え付け、更に除電を行いながら接着性エポキシ樹脂シートの貫通孔以外に導電性微粒子が吸着されないように吸引を行った。導電性微粒子の吸引によって、接着性エポキシ樹脂シートの各貫通孔に導電性微粒子が1つずつ過不足なく埋設された後、吸引を停止して、導電接続シートを作製した。なお、吸引後、念のために柔軟なブラシを用いて導電接続シート表面の異物の除去を行った。また、この段階での導電接続シートは未硬化の状態であった。 Cover all the through-holes on the back side of this adhesive epoxy resin sheet, and apply a suction mouth with a diameter of 8 mm so that there is no leakage, and perform suction at a vacuum degree of -50 kPa. Adsorption of conductive fine particles on the front side (conductive fine particles plated with an average particle diameter of 105 μm, surface layer of 0.2 μm nickel plating, and further gold plating of 2.3 μm) was performed for several seconds. At this time, the suction mouth is provided with a steel mesh having an opening of 50 μm for supporting the adhesive epoxy resin sheet, and suction is performed so that conductive fine particles are not adsorbed to other than the through-holes of the adhesive epoxy resin sheet while performing static elimination. Went. After the conductive fine particles were sucked into the through holes of the adhesive epoxy resin sheet one by one, the conductive fine particles were buried one by one, and then the suction was stopped to produce a conductive connection sheet. In addition, the foreign material on the surface of the conductive connection sheet was removed using a flexible brush just in case after suction. In addition, the conductive connection sheet at this stage was in an uncured state.

実施例23〜27及び比較例10、11で得られた導電接続シートの性能(抽出水のpH、塩素イオン不純物量、TEMによる染色時相分離構造、粘弾性測定におけるtanδのピーク温度、イオン伝導度、誘電率(ε’)及び誘電正接(tanδ)を上述の方法で評価した。また、上述の方法により実施例23〜27及び比較例10、11で得られた導電接続シートを用いて評価用の半導体パッケージを作製し、この半導体パッケージについて半田耐熱性、PCT環境下における導通信頼性、及び、TCT環境下における導通信頼性を評価した。結果を表5に示した。 Performance of conductive connection sheets obtained in Examples 23 to 27 and Comparative Examples 10 and 11 (pH of extracted water, amount of chlorine ion impurities, phase separation structure with TEM dyeing, tan δ peak temperature in viscoelasticity measurement, ion conduction The dielectric constant (ε ′) and the dielectric loss tangent (tan δ) were evaluated by the above-described methods, and were evaluated using the conductive connection sheets obtained in Examples 23 to 27 and Comparative Examples 10 and 11 by the above-described methods. The semiconductor package was manufactured, and the heat resistance of the semiconductor package, the conduction reliability in the PCT environment, and the conduction reliability in the TCT environment were evaluated, and the results are shown in Table 5.

Figure 2008274300
表5より、実施例23〜27で作製した導電接続シート(微粒子未露出型、微粒子露出型)においても導電性微粒子が入っていない実施例7〜12で作製した接着性エポキシ樹脂シートを用いた接合方式と同様に、高い接合信頼性が得られることがわかった。
Figure 2008274300
From Table 5, the adhesive epoxy resin sheets produced in Examples 7 to 12 containing no conductive fine particles in the conductive connection sheets (fine particle unexposed type, fine particle exposed type) produced in Examples 23 to 27 were used. As with the bonding method, it was found that high bonding reliability can be obtained.

本発明の硬化性樹脂組成物は、硬化後は、機械的強度、耐熱性、耐湿性、可撓性、耐冷熱サイクル性、耐ハンダリフロー性、寸法安定性等に優れ、高い接着信頼性や導通材料とした際の高い導通信頼性を発現するので、接着性エポキシ樹脂ペースト用、接着性エポキシ樹脂シート用、導電接続ペースト用、導電接続シート用等を始め、各種工業用途向けに好適に用いられる。 The curable resin composition of the present invention is excellent in mechanical strength, heat resistance, moisture resistance, flexibility, thermal cycle resistance, solder reflow resistance, dimensional stability, etc. after curing, and has high adhesion reliability and High electrical connection reliability when used as a conductive material, suitable for various industrial applications including adhesive epoxy resin paste, adhesive epoxy resin sheet, conductive connection paste, conductive connection sheet, etc. It is done.

また、本発明の接着性エポキシ樹脂ペースト及び接着性エポキシ樹脂シートは、上記本発明の硬化性樹脂組成物を用いて作製されるので、硬化後は、機械的強度、耐熱性、耐湿性、可撓性、耐冷熱サイクル性、耐ハンダリフロー性、寸法安定性等に優れ、高い接着信頼性を発現するものであり、各種電子部品の接合用として好適に用いられる。 In addition, since the adhesive epoxy resin paste and adhesive epoxy resin sheet of the present invention are produced using the curable resin composition of the present invention, mechanical strength, heat resistance, moisture resistance, good It excels in flexibility, cold-heat cycle resistance, solder reflow resistance, dimensional stability, etc., and exhibits high adhesion reliability, and is suitably used for joining various electronic components.

また、本発明の導電接続ペースト及び導電接続シートは、上記本発明の接着性エポキシ樹脂ペースト及び接着性エポキシ樹脂シートを用いて作製されるので、硬化後は、機械的強度、耐熱性、耐湿性、可撓性、耐冷熱サイクル性、耐ハンダリフロー性、寸法安定性等に優れ、高い接着信頼性と高い導通信頼性とを発現するものであり、各種電子部品の導通接合用として好適に用いられる。 Moreover, since the conductive connection paste and conductive connection sheet of the present invention are produced using the adhesive epoxy resin paste and adhesive epoxy resin sheet of the present invention, after curing, the mechanical strength, heat resistance, and moisture resistance. , Excellent in flexibility, thermal cycle resistance, solder reflow resistance, dimensional stability, etc., exhibiting high adhesion reliability and high conduction reliability, and suitable for conductive joining of various electronic components It is done.

また、本発明の層間接着剤、非導電性ペースト、アンダーフィル、非導電性フィルム及びダイアタッチフィルムは、上記本発明の接着性エポキシ樹脂ペースト及び接着性エポキシ樹脂シートを用いて作製されるので、硬化後は、機械的強度、耐熱性、耐湿性、可撓性、耐冷熱サイクル性、耐ハンダリフロー性、寸法安定性等に優れ、高い接着信頼性を発現するものであり、各種電子部品の接合用として好適に用いられる。 Further, since the interlayer adhesive, non-conductive paste, underfill, non-conductive film and die attach film of the present invention are produced using the above-mentioned adhesive epoxy resin paste and adhesive epoxy resin sheet of the present invention, After curing, it excels in mechanical strength, heat resistance, moisture resistance, flexibility, thermal cycle resistance, solder reflow resistance, dimensional stability, etc., and exhibits high adhesion reliability. It is suitably used for bonding.

また、本発明の異方性導電ペースト、異方性導電フィルム及びフリップチップテープは、上記本発明の導電接続ペースト及び導電接続シートを用いて作製されるので、硬化後は、機械的強度、耐熱性、耐湿性、可撓性、耐冷熱サイクル性、耐ハンダリフロー性、寸法安定性等に優れ、高い接着信頼性と高い導通信頼性とを発現するものであり、各種電子部品の導通接合用として好適に用いられる。 Moreover, since the anisotropic conductive paste, anisotropic conductive film and flip chip tape of the present invention are produced using the conductive connection paste and conductive connection sheet of the present invention, the mechanical strength and heat resistance after curing. Excellent in heat resistance, moisture resistance, flexibility, thermal cycle resistance, solder reflow resistance, dimensional stability, etc., exhibiting high adhesion reliability and high conduction reliability, for conductive joining of various electronic components Is preferably used.

更に、本発明の電子部品接合体は、上記本発明の硬化性樹脂組成物、接着性エポキシ樹脂ペースト、接着性エポキシ樹脂シート、導電接続ペースト、導電接続シート、非導電性ペースト、アンダーフィル、非導電性フィルム、ダイアタッチフィルム、異方性導電ペースト、異方性導電フィルム、又は、フリップチップテープのいずれかを用いて作製されるので、高い接着信頼性及び高い導通信頼性を発現する。 Furthermore, the electronic component assembly of the present invention includes the curable resin composition of the present invention, an adhesive epoxy resin paste, an adhesive epoxy resin sheet, a conductive connection paste, a conductive connection sheet, a non-conductive paste, an underfill, a non-fill, Since it is produced using any one of a conductive film, a die attach film, an anisotropic conductive paste, an anisotropic conductive film, or a flip chip tape, it exhibits high adhesion reliability and high conduction reliability.

Claims (17)

エポキシ樹脂と、エポキシ基と反応する官能基を有する固形ポリマーと、エポキシ樹脂用硬化剤とを含有する硬化性樹脂組成物であって、
硬化物を重金属により染色し、透過型電子顕微鏡により観察したときに、樹脂からなるマトリクス中に相分離構造が観察されず、エポキシ基を有する高分子ポリマーは、エポキシ当量が200〜1000であることを特徴とする硬化性樹脂組成物。
A curable resin composition comprising an epoxy resin, a solid polymer having a functional group that reacts with an epoxy group, and a curing agent for epoxy resin,
When the cured product is dyed with heavy metal and observed with a transmission electron microscope, the phase separation structure is not observed in the resin matrix, and the high molecular weight polymer having an epoxy group has an epoxy equivalent of 200 to 1,000. A curable resin composition characterized by the above.
請求項1記載の硬化性樹脂組成物からなることを特徴とする接着性エポキシ樹脂ペースト。 An adhesive epoxy resin paste comprising the curable resin composition according to claim 1. 請求項2記載の接着性エポキシ樹脂ペーストからなることを特徴とする層間接着剤。 An interlayer adhesive comprising the adhesive epoxy resin paste according to claim 2. 請求項2記載の接着性エポキシ樹脂ペーストからなることを特徴とする非導電性ペースト。 A non-conductive paste comprising the adhesive epoxy resin paste according to claim 2. 請求項2記載の接着性エポキシ樹脂ペーストからなることを特徴とするアンダーフィル。 An underfill comprising the adhesive epoxy resin paste according to claim 2. 請求項1記載の硬化性樹脂組成物がシート状に成形されてなることを特徴とする接着性エポキシ樹脂シート。 An adhesive epoxy resin sheet, wherein the curable resin composition according to claim 1 is formed into a sheet shape. 請求項6記載の接着性エポキシ樹脂シートからなることを特徴とする非導電性フィルム。 A non-conductive film comprising the adhesive epoxy resin sheet according to claim 6. 請求項6記載の接着性エポキシ樹脂シートからなることを特徴とするダイアタッチフィルム。 A die attach film comprising the adhesive epoxy resin sheet according to claim 6. 請求項2記載の接着性エポキシ樹脂ペースト中に導電性微粒子が含有されてなることを特徴とする導電接続ペースト。 A conductive connection paste comprising conductive fine particles contained in the adhesive epoxy resin paste according to claim 2. 請求項2記載の導電接続ペーストからなることを特徴とする異方性導電ペースト。 An anisotropic conductive paste comprising the conductive connection paste according to claim 2. 請求項6記載の接着性エポキシ樹脂シートと、導電性微粒子とかなる導電接続シートであって、前記導電性微粒子の少なくとも一部が前記接着性エポキシ樹脂シートから露出していることを特徴とする導電接続シート。 A conductive connection sheet comprising the adhesive epoxy resin sheet according to claim 6 and conductive fine particles, wherein at least a part of the conductive fine particles is exposed from the adhesive epoxy resin sheet. Connection sheet. 請求項6記載の接着性エポキシ樹脂シート中に前記接着性エポキシ樹脂シートの厚みよりも小さい導電性微粒子が埋設されてなることを特徴とする導電接続シート。 A conductive connection sheet, wherein conductive fine particles smaller than the thickness of the adhesive epoxy resin sheet are embedded in the adhesive epoxy resin sheet according to claim 6. 請求項12記載の導電接続シートからなることを特徴とする異方性導電フィルム。 An anisotropic conductive film comprising the conductive connection sheet according to claim 12. 請求項11又は12記載の導電接続シートからなることを特徴とするフリップチップテープ。 A flip chip tape comprising the conductive connection sheet according to claim 11. 請求項1記載の硬化性樹脂組成物、請求項2記載の接着性エポキシ樹脂ペースト、請求項3記載の層間接着剤、請求項4記載の非導電性ペースト、請求項5記載のアンダーフィル、請求項9記載の導電接続ペースト、請求項13記載の異方性導電ペースト、請求項7、8又は9記載の接着性エポキシ樹脂シート、請求項7記載の非導電性フィルム、請求項8記載のダイアタッチフィルム、請求項11又は12記載の導電接続シート、請求項13記載の異方性導電フィルム、又は、請求項14記載のフリップチップテープのいずれかにより、電子部品のバンプ状の突起電極と他方の電極とが導通された状態で接合されてなることを特徴とする電子部品接合体。 The curable resin composition according to claim 1, the adhesive epoxy resin paste according to claim 2, the interlayer adhesive according to claim 3, the non-conductive paste according to claim 4, the underfill according to claim 5, The conductive connection paste according to claim 9, the anisotropic conductive paste according to claim 13, the adhesive epoxy resin sheet according to claim 7, 8 or 9, the non-conductive film according to claim 7, and the diamond according to claim 8. The bump-like protruding electrode of the electronic component and the other by the touch film, the conductive connection sheet according to claim 11 or 12, the anisotropic conductive film according to claim 13, or the flip chip tape according to claim 14. An electronic component joined body, which is joined in a state where the electrode is electrically connected. 請求項1記載の硬化性樹脂組成物、請求項2記載の接着性エポキシ樹脂ペースト、請求項3記載の層間接着剤、請求項4記載の非導電性ペースト、請求項5記載のアンダーフィル、請求項9記載の導電接続ペースト、請求項13記載の異方性導電ペースト、請求項7、8又は9記載の接着性エポキシ樹脂シート、請求項7記載の非導電性フィルム、請求項8記載のダイアタッチフィルム、請求項11又は12記載の導電接続シート、請求項13記載の異方性導電フィルム、又は、請求項14記載のフリップチップテープのいずれかにより、金属リードフレーム、セラミック基板、樹脂基板、シリコン基板、化合物半導体基板及びガラス基板からなる群より選択される少なくとも1種類の回路基板が接合されてなることを特徴とする電子部品接合体。 The curable resin composition according to claim 1, the adhesive epoxy resin paste according to claim 2, the interlayer adhesive according to claim 3, the non-conductive paste according to claim 4, the underfill according to claim 5, The conductive connection paste according to claim 9, the anisotropic conductive paste according to claim 13, the adhesive epoxy resin sheet according to claim 7, 8 or 9, the non-conductive film according to claim 7, and the diamond according to claim 8. A metal lead frame, a ceramic substrate, a resin substrate, a touch film, a conductive connection sheet according to claim 11 or 12, an anisotropic conductive film according to claim 13, or a flip chip tape according to claim 14. An electronic component connection comprising: bonding at least one circuit board selected from the group consisting of a silicon substrate, a compound semiconductor substrate, and a glass substrate. Body. 樹脂基板は、ガラスエポキシ基板、ビスマレイミドトリアジン基板又はポリイミド基板であることを特徴とする請求項16記載の電子部品接合体。 The electronic component assembly according to claim 16, wherein the resin substrate is a glass epoxy substrate, a bismaleimide triazine substrate, or a polyimide substrate.
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