JP5581605B2 - Method for producing anisotropic conductive adhesive film - Google Patents

Method for producing anisotropic conductive adhesive film Download PDF

Info

Publication number
JP5581605B2
JP5581605B2 JP2009100018A JP2009100018A JP5581605B2 JP 5581605 B2 JP5581605 B2 JP 5581605B2 JP 2009100018 A JP2009100018 A JP 2009100018A JP 2009100018 A JP2009100018 A JP 2009100018A JP 5581605 B2 JP5581605 B2 JP 5581605B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resin
less
conductive particles
film
adhesive film
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2009100018A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2010248386A (en
Inventor
暁 島
健敏 臼井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dexerials Corp
Original Assignee
Dexerials Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dexerials Corp filed Critical Dexerials Corp
Priority to JP2009100018A priority Critical patent/JP5581605B2/en
Publication of JP2010248386A publication Critical patent/JP2010248386A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5581605B2 publication Critical patent/JP5581605B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Description

本発明は、微細パターンの電気的接続において、微小面積の電極の電気的接続性に優れると共に、微細な配線間の絶縁破壊(ショート)が起こりにくく、異なる電極パターンの半導体チップに対しても電気的接続が可能で、長期信頼性を与える接続が可能な、保存安定性の高い異方導電性接着フィルムに関する。   The present invention is excellent in electrical connection of electrodes having a small area in electrical connection of fine patterns, and is less likely to cause dielectric breakdown (short circuit) between fine wirings, and can be electrically connected to semiconductor chips having different electrode patterns. The present invention relates to an anisotropic conductive adhesive film having a high storage stability and capable of providing a long-term reliability.

異方導電性接着フィルムは、絶縁性接着剤中に導電粒子を分散させたフィルム、換言すれば、液晶ディスプレイと半導体チップやTCPとの接続又はFPCとTCPとの接続、FPCとプリント配線板との接続を簡便に行うために使用される接続部材であり、例えば、ノート型パソコンや携帯電話の液晶ディスプレイと制御ICとの接続用として広範に用いられ、最近では、半導体チップを直接プリント基板やフレキシブル配線板に搭載するフリップチップ実装にも用いられている(以下、特許文献1、2、3参照)。   An anisotropic conductive adhesive film is a film in which conductive particles are dispersed in an insulating adhesive, in other words, a connection between a liquid crystal display and a semiconductor chip or TCP, or a connection between FPC and TCP, an FPC and a printed wiring board, For example, it is widely used for connecting a liquid crystal display of a notebook personal computer or a cellular phone and a control IC. Recently, a semiconductor chip is directly connected to a printed circuit board or It is also used for flip chip mounting to be mounted on a flexible wiring board (see Patent Documents 1, 2, and 3 below).

この分野では近年、接続される配線パターンや電極パターンの寸法が益々微細化されている。微細化された配線や電極の幅は10数μmレベルまで微細化される場合もみられる一方、これまで用いられてきた導電粒子の平均粒径は、配線や電極の線幅と同レベルの数μmから10μmレベルの粒子であった。そうすると、接続される電極パターンの寸法が小さくなると、導電粒子がランダムに分散配置されている異方導電性接着フィルムでは、導電粒子の分布に偏差が生じているため、接続すべき電極パターンが導電粒子の存在しない位置に配置されてしまい、電気的に接続されない場合が、確率論として避けられない。   In recent years, the dimensions of connected wiring patterns and electrode patterns have been increasingly miniaturized in this field. On the other hand, the width of the miniaturized wiring or electrode is sometimes miniaturized to a level of several tens of μm. On the other hand, the average particle diameter of the conductive particles used so far is several μm, which is the same level as the line width of the wiring or electrode. To 10 μm level particles. Then, when the dimension of the electrode pattern to be connected is reduced, in the anisotropic conductive adhesive film in which conductive particles are randomly dispersed and arranged, there is a deviation in the distribution of the conductive particles. A case where the particles are arranged at positions where no particles exist and are not electrically connected is inevitable as a probability theory.

この問題を解決する技術として、粒子を配列する技術が提案されている。表面に散布して、表面に付着した導電粒子を絶縁接着剤の表層中に埋め込む方法(以下、特許文献4参照)や、所定配置された吸引孔を有する導電粒子吸着治具を用いて、導電粒子を配列し絶縁性接着剤に埋め込む方法(以下、特許文献5参照)、延伸を利用して導電粒子を配列し、絶縁性接着剤に埋め込む方法(以下、特許文献6参照)等が開示されているが、折角配列した導電粒子を、接続時の絶縁樹脂の流動に抗して、その配列状態を大きく崩す事無く接続するためには、使用できる電極や接続条件が限られている。これは実用上大きな制約である。これに対して、配列した導電粒子の接続時の流動を抑える微細パターンの接続に対応する技術が開示されている(以下、特許文献7参照)。   As a technique for solving this problem, a technique for arranging particles has been proposed. Conductive using a method of spreading conductive particles attached to the surface and embedding the conductive particles in the surface layer of the insulating adhesive (refer to Patent Document 4 below) or a conductive particle adsorption jig having suction holes arranged in a predetermined manner. Disclosed are a method of arranging particles and embedding them in an insulating adhesive (hereinafter referred to as Patent Document 5), a method of arranging conductive particles using stretching and embedding them in an insulating adhesive (hereinafter referred to as Patent Document 6), and the like. However, usable electrodes and connection conditions are limited in order to connect the conductive particles arranged at the corners without breaking the arrangement state against the flow of the insulating resin at the time of connection. This is a large practical limitation. On the other hand, the technique corresponding to the connection of the fine pattern which suppresses the flow at the time of the connection of the arranged electroconductive particle is disclosed (refer patent document 7 hereafter).

一方、本分野では、回路接続部の信頼性を考慮して、接着剤として、エポキシ樹脂系などの熱硬化性接着剤が使用されている。回路接続用の熱硬化性接着剤は、使用するまでは、熱硬化性樹脂と硬化剤が未反応の状態で安定に存在し、使用時には、生産性や回路部材へのダメージを極小化するために低温短時間で硬化することが求められる。この様な貯蔵安定性と硬化性の両立を図るために、熱硬化性接着剤に用いられる硬化剤としては、潜在性硬化剤、中でも高反応性の硬化剤をカプセル膜で被覆したマイクロカプセル型の潜在性硬化剤が一般的に用いられている。一方、熱硬化性接着剤をフィルム状にするには、フィルム形成性高分子を熱硬化性接着剤中に均一に混合してフィルム状に成形する必要があり、フィルム形成性高分子を含む熱硬化性接着剤組成物を溶剤に溶解又は均一分散した塗工液を剥離性基材上に塗布し、加熱により溶剤を除去して製膜する方法が一般的である。ここで、マイクロカプセル型硬化剤も溶剤を含む塗工液中に分散され、更に溶剤を除去するための加熱を受けることになるが、溶剤や塗工液中に含まれる水分との接触や加熱はマイクロカプセル型硬化剤のカプセル膜を膨潤又は破壊し、貯蔵安定性を低下させる要因となるため、各種検討が為されている(以下、特許文献8、9参照)。
しかしながら、従来技術の異方導電性接着フィルムは、益々強く求められる低温短時間硬化性を発現しつつ、高い貯蔵安定性を達成するには未だ至っておらず、その改良が求められている。
On the other hand, in this field, a thermosetting adhesive such as an epoxy resin is used as the adhesive in consideration of the reliability of the circuit connection portion. Until the thermosetting adhesive for circuit connection is used, the thermosetting resin and the curing agent exist stably in an unreacted state, and at the time of use, in order to minimize productivity and damage to circuit members It is required to be cured at a low temperature in a short time. In order to achieve both the storage stability and curability, the hardener used in the thermosetting adhesive is a microcapsule type in which a latent hardener, especially a highly reactive hardener, is coated with a capsule film. The latent curing agent is generally used. On the other hand, in order to form a thermosetting adhesive into a film, it is necessary to uniformly mix the film-forming polymer in the thermosetting adhesive and form the film. In general, a coating solution obtained by dissolving or uniformly dispersing a curable adhesive composition in a solvent is applied onto a peelable substrate, and the solvent is removed by heating to form a film. Here, the microcapsule-type curing agent is also dispersed in the coating liquid containing the solvent, and further subjected to heating to remove the solvent. However, the microcapsule type curing agent is contacted with or heated with water contained in the solvent or the coating liquid. Is a factor that swells or breaks the capsule film of a microcapsule type curing agent and lowers the storage stability, and various studies have been made (see Patent Documents 8 and 9 below).
However, the anisotropic conductive adhesive film of the prior art has not yet been achieved to achieve high storage stability while exhibiting the low-temperature short-time curability that is increasingly demanded, and improvements are required.

特開平03−107888号公報Japanese Patent Laid-Open No. 03-107888 特開平04−366630号公報Japanese Patent Laid-Open No. 04-366630 特開昭61−195179号公報JP-A-61-195179 特開2000−151084号公報JP 2000-151084 A 特開2002−332461号公報JP 2002-332461 A 国際公開公報WO2005/054388号International Publication No. WO2005 / 054388 特開2007−217503号公報JP 2007-217503 A 特開平05−295329号公報JP 05-295329 A 特開2000−80146号公報JP 2000-80146 A

本発明が解決しようとする課題は、微細パターンの電気的接続において、微小面積の電極の電気的接続性に優れると共に、微細な配線間の絶縁破壊(ショート)が起こりにくく、長期信頼性を与える接続が可能で、かつ、低温短時間硬化性と貯蔵安定性を両立でき、更に基板への貼付性の良好な異方導電性接着フィルムを提供することである。   The problem to be solved by the present invention is that, in the electrical connection of a fine pattern, the electrical connectivity of a small area electrode is excellent, and dielectric breakdown (short) between fine wirings hardly occurs and long-term reliability is given. It is an object to provide an anisotropic conductive adhesive film that can be connected, can achieve both low-temperature short-time curability and storage stability, and has good adhesion to a substrate.

本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、塗工液から溶剤を除去するための加熱段階が非常に重要であり、剥離性基材の弾性領域内で延伸しながら加熱して溶剤を除去することで、上記課題が解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。
延伸しながら溶剤を除去することによって、高活性な硬化剤であっても高い貯蔵安定性が得られ、上記課題が解決できたことは、上記技術水準に鑑みて、当業者にとって予想外の驚くべき発見であった。
As a result of intensive studies to solve the above problems, the inventors of the present invention are very important in the heating step for removing the solvent from the coating liquid, while stretching in the elastic region of the peelable substrate. It has been found that the above problem can be solved by removing the solvent by heating, and the present invention has been completed.
By removing the solvent while stretching, high storage stability can be obtained even with a highly active curing agent, and the above problem has been solved. It was a discovery that should be done.

即ち、本発明は、下記の通りである。
[1]導電粒子を表面層に単層に配置したバインダー樹脂よりなる導電層と、該導電層の少なくとも片面に絶縁性接着剤を積層した異方導電性接着フィルムの製造方法において、該導電粒子の中心間距離の変動係数は、0.05以上0.5以下であり、該絶縁性接着剤の180℃溶融粘度は、該バインダー樹脂の180℃溶融粘度よりも低く、そして該方法は、以下の工程:
熱硬化性樹脂と、マイクロカプセル型硬化剤と、フィルム形成性高分子とを含有する該絶縁性接着剤を溶剤に溶解又は分散させた塗工液を調製する工程、
剥離性基材上に該塗工液を塗布する工程、
該塗工液が塗布された剥離性基材を、該剥離性基材の弾性領域内で延伸しながら加熱して溶剤を揮散させる製膜工程、
を含むことを特徴とする前記異方導電性接着フィルムの製造方法。
That is, the present invention is as follows.
[1] In a method for producing an anisotropic conductive adhesive film in which a conductive layer made of a binder resin having conductive particles arranged in a single layer on a surface layer and an insulating adhesive laminated on at least one surface of the conductive layer, the conductive particles The coefficient of variation of the center-to-center distance is from 0.05 to 0.5, the 180 ° C. melt viscosity of the insulating adhesive is lower than the 180 ° C. melt viscosity of the binder resin, and the method comprises: Process of:
A step of preparing a coating liquid in which the insulating adhesive containing a thermosetting resin, a microcapsule-type curing agent, and a film-forming polymer is dissolved or dispersed in a solvent;
A step of applying the coating liquid on a peelable substrate;
A film-forming step in which the peelable substrate coated with the coating liquid is heated while being stretched within the elastic region of the peelable substrate to volatilize the solvent,
The manufacturing method of the said anisotropically conductive adhesive film characterized by including.

[2]前記導電粒子の中心間距離の平均は、2μm以上20μm以下であり、かつ、前記導電粒子の平均粒径に対して1.5倍以上5倍以下である、請求項1に記載の異方導電性接着フィルムの製造方法。   [2] The average distance between the centers of the conductive particles is 2 μm or more and 20 μm or less, and 1.5 times or more and 5 times or less of the average particle diameter of the conductive particles. A method for producing an anisotropic conductive adhesive film.

[3]前記バインダー樹脂の180℃溶融粘度は、50Pa・s以上である、前記[1]又は[2]に記載の異方導電性接着フィルムの製造方法。   [3] The method for producing an anisotropic conductive adhesive film according to [1] or [2], wherein the binder resin has a 180 ° C. melt viscosity of 50 Pa · s or more.

[4]前記熱硬化性樹脂は、エポキシ樹脂である、前記[1]〜[3]のいずれかに記載の異方導電性接着フィルムの製造方法。   [4] The method for producing an anisotropic conductive adhesive film according to any one of [1] to [3], wherein the thermosetting resin is an epoxy resin.

[5]前記マイクロカプセル型硬化剤は、該硬化剤の周囲を高分子化合物で被覆した構造を有する、前記[1]〜[4]のいずれかに記載の異方導電性接着フィルムの製造方法。   [5] The method for producing an anisotropic conductive adhesive film according to any one of [1] to [4], wherein the microcapsule type curing agent has a structure in which the periphery of the curing agent is coated with a polymer compound. .

[6]前記マイクロカプセル型硬化剤の活性化温度は、60℃以上100℃以下である、前記[1]〜[5]のいずれかに記載の異方導電性接着フィルムの製造方法。   [6] The method for producing an anisotropic conductive adhesive film according to any one of [1] to [5], wherein the activation temperature of the microcapsule type curing agent is 60 ° C. or higher and 100 ° C. or lower.

[7]前記塗工液中の水分量は、前記マイクロカプセル型硬化剤に対して、0.5質量%以上10質量%以下である、前記[1]〜[6]のいずれかに記載の異方導電性接着フィルムの製造方法。   [7] The water content in the coating liquid is any one of [1] to [6], which is 0.5% by mass or more and 10% by mass or less with respect to the microcapsule-type curing agent. A method for producing an anisotropic conductive adhesive film.

[8]前記導電粒子の平均粒径は、0.5μm以上10μm以下である、前記[1]〜[7]のいずれかに記載の異方導電性接着フィルムの製造方法。   [8] The method for producing an anisotropic conductive adhesive film according to any one of [1] to [7], wherein an average particle diameter of the conductive particles is 0.5 μm or more and 10 μm or less.

[9]前記製膜工程の加熱温度は、50℃以上90℃以下である、前記[1]〜[9]のいずれかに記載の異方導電性接着フィルムの製造方法。   [9] The method for producing an anisotropic conductive adhesive film according to any one of [1] to [9], wherein the heating temperature in the film forming step is 50 ° C. or higher and 90 ° C. or lower.

本発明は、微細パターンの電気的接続において、微小面積の電極の電気的接続性に優れると共に、微細な配線間の絶縁破壊(ショート)が起こりにくく、長期信頼性を与える接続が可能で、かつ、低温短時間硬化性と貯蔵安定性を両立でき、更に、良好な基板への貼付性を有する効果を奏する。   In the electrical connection of the fine pattern, the present invention is excellent in electrical connectivity of electrodes having a small area, is less likely to cause dielectric breakdown (short) between fine wirings, and can provide a connection that provides long-term reliability. In addition, both low-temperature short-time curability and storage stability can be achieved, and further, there is an effect of having good adhesiveness to a substrate.

以下、本発明について具体的に説明する。
本発明は、導電粒子を表面層に単層に配置したバインダー樹脂よりなる導電層と、該導電層の少なくとも片面に絶縁性接着剤を積層した異方導電性接着フィルムの製造方法に関する。本発明に用いられる導電層は導電粒子が表面層に単層に配置したバインダー樹脂よりなる。
「表面層に配置した」とは、導電粒子の一部又は全体がバインダー樹脂の表面に埋め込まれている状態を意味する。また、導電粒子の粒径よりもバインダー樹脂を薄くして、バインダー樹脂の上下に導電粒子が露出していても構わない。導電粒子の一部が埋め込まれている場合、導電粒子はその平均粒径に対して1/3以上がバインダー樹脂に埋め込まれていとは、バインダー樹脂からの導電性粒子の脱離が起こり難くくなって接続不良を抑制する効果があるため、好ましい。1/2以上埋め込まれていることがより好ましく、2/3以上埋め込まれていることはさらに好ましい。一方、導電粒子がバインダー樹脂に完全に埋め込まれている場合、導電粒子とバインダー樹脂の表面との間のバインダー樹脂の厚みは、接続のための加圧の際に導電粒子の移動を抑えるために、導電粒子の平均粒径に対して1.0倍以下であることが好ましい。より好ましくは0.8倍以下、更に好ましくは0.5倍以下、より更に好ましくは0.3倍以下、特に好ましくは0.1倍以下である。本発明では、厚み方向の導電性と面方向の絶縁性(以下、「異方導電性」ともいう。)を高レベルで確保するために、導電粒子はバインダー樹脂に単層で配置される。ここで、「単層で配置された」とは、導電粒子の中心高さのバラツキが導電粒子の平均粒径に対して2倍未満であることを意味する。導電粒子の平均粒径に対する中心高さのバラツキは0に近いほど好ましく、より好ましくは1倍以下、更に好ましくは0.8倍以下、より更に好ましくは0.6倍以下である。ここで、導電粒子の中心高さのバラツキとは、バインダー樹脂表面から導電粒子の中心までの距離の標準偏差であり、導電粒子の中心がバインダー樹脂に埋め込まれていない場合は、中心高さはその距離にマイナスをつけた値である。
Hereinafter, the present invention will be specifically described.
The present invention relates to a conductive layer made of a binder resin in which conductive particles are arranged in a single layer on a surface layer, and a method for producing an anisotropic conductive adhesive film in which an insulating adhesive is laminated on at least one surface of the conductive layer. The conductive layer used in the present invention is made of a binder resin in which conductive particles are arranged in a single layer on the surface layer.
“Arranged in the surface layer” means a state in which a part or all of the conductive particles are embedded in the surface of the binder resin. Alternatively, the binder resin may be thinner than the particle size of the conductive particles, and the conductive particles may be exposed above and below the binder resin. When a part of the conductive particles is embedded, the conductive particles are less likely to be detached from the binder resin if 1/3 or more of the average particle diameter is embedded in the binder resin. This is preferable because it has an effect of suppressing poor connection. It is more preferable to embed 1/2 or more, and it is further preferable to embed 2/3 or more. On the other hand, when the conductive particles are completely embedded in the binder resin, the thickness of the binder resin between the conductive particles and the surface of the binder resin is to suppress the movement of the conductive particles during pressurization for connection. The average particle size of the conductive particles is preferably 1.0 times or less. More preferably, it is 0.8 times or less, More preferably, it is 0.5 times or less, More preferably, it is 0.3 times or less, Especially preferably, it is 0.1 times or less. In the present invention, the conductive particles are arranged in a single layer on the binder resin in order to ensure the conductivity in the thickness direction and the insulation in the plane direction (hereinafter also referred to as “anisotropic conductivity”) at a high level. Here, “disposed in a single layer” means that the variation in the center height of the conductive particles is less than twice the average particle diameter of the conductive particles. The variation in the center height with respect to the average particle diameter of the conductive particles is preferably close to 0, more preferably 1 time or less, still more preferably 0.8 times or less, and still more preferably 0.6 times or less. Here, the variation in the center height of the conductive particles is a standard deviation of the distance from the binder resin surface to the center of the conductive particles. When the center of the conductive particles is not embedded in the binder resin, the center height is This is the value minus the distance.

本発明では、導電粒子がバインダー樹脂の表面層に単層として存在することにより、特に、半導体チップと液晶パネルの接続の様に、接続する電極高さが高いものとほぼ平らなものとの接続において、配列した導電粒子が接続時に大きく移動してしまうことを抑制することが可能となっている。
本発明により製造される異方導電性接着フィルムは、導電粒子が特定の中心間距離で、更にその中心間距離が特定の変動係数を有して配列されることによって、高い異方導電性を有している。すなわち、本発明により製造される異方導電性接着フィルムの導電粒子の中心間距離の平均は、好ましくは2μm以上20μm以下であり、かつ、導電粒子の平均粒径の1.5倍以上5倍以下である、2μm以上の中心間距離でかつ導電粒子の平均粒径の1.5倍以上にすることで、面方向の絶縁性、すなわち、隣接する電極間の絶縁性を高レベルで維持できる。一方、中心間距離を20μm以下でかつ導電粒子の平均粒径の5倍以下にすることで、厚さ方向の導電性、即ち接続電極間の電気的接続性を維持できる導電粒子密度を得ることができるため、異方導電性接着フィルムとして高い性能を発揮することができる。導電粒子の中心間距離の平均は、好ましくは2.5μm以上18μm以下、より好ましくは3μm以上16μm以下、更に好ましくは3.5μm以上15μm以下であり、特に好ましくは4μm以上13μm以下であり、導電粒子の平均粒径に対して、好ましくは1.55倍以上4.6倍以下、より好ましくは1.6倍以上4.3倍以下、更に好ましくは1.65倍以上4.0以下である。
In the present invention, since the conductive particles exist as a single layer on the surface layer of the binder resin, in particular, the connection between a high connection height and a substantially flat connection, such as a connection between a semiconductor chip and a liquid crystal panel. In this case, it is possible to prevent the arranged conductive particles from largely moving at the time of connection.
The anisotropic conductive adhesive film produced according to the present invention has a high anisotropic conductivity because the conductive particles are arranged at a specific center distance and the center distance is arranged with a specific coefficient of variation. Have. That is, the average distance between the centers of the conductive particles of the anisotropic conductive adhesive film produced according to the present invention is preferably 2 μm or more and 20 μm or less, and 1.5 times or more and 5 times the average particle diameter of the conductive particles. When the distance between the centers is 2 μm or more and 1.5 times or more the average particle diameter of the conductive particles, the insulation in the surface direction, that is, the insulation between adjacent electrodes can be maintained at a high level. . On the other hand, by setting the distance between centers to 20 μm or less and 5 times or less the average particle diameter of the conductive particles, a conductive particle density capable of maintaining the electrical conductivity in the thickness direction, that is, the electrical connectivity between the connection electrodes, is obtained. Therefore, high performance as an anisotropic conductive adhesive film can be exhibited. The average distance between the centers of the conductive particles is preferably 2.5 μm or more and 18 μm or less, more preferably 3 μm or more and 16 μm or less, further preferably 3.5 μm or more and 15 μm or less, and particularly preferably 4 μm or more and 13 μm or less. The average particle diameter is preferably 1.55 times to 4.6 times, more preferably 1.6 times to 4.3 times, and still more preferably 1.65 times to 4.0 times. .

「導電粒子の中心間距離の変動係数」とは、導電粒子の中心間距離の標準偏差をその平均値で割った値であり、本発明においては、0.05以上0.5以下である。好ましくは0.1以上0.4以下、より好ましくは0.11以上0.36以下、更に好ましくは0.12以上0.34以下、より更に好ましくは0.13以上0.32以下、特に好ましくは0.14以上0.3以下である。変動係数を0.05以上にすることで、接続電極間の電気的接続性に悪影響する接続時の導電粒子の流動を起こすことなく、一方、0.5以下とすることで、接続電極間に捕捉される導電粒子数の電極毎のバラツキを小さく抑えることができ、電極毎の接続抵抗のバラツキが小さく、安定した接続が得られる。   The “coefficient of variation in the distance between the centers of the conductive particles” is a value obtained by dividing the standard deviation of the distance between the centers of the conductive particles by the average value. In the present invention, it is 0.05 or more and 0.5 or less. Preferably it is 0.1 or more and 0.4 or less, More preferably, it is 0.11 or more and 0.36 or less, More preferably, it is 0.12 or more and 0.34 or less, More preferably, it is 0.13 or more and 0.32 or less, Especially preferably Is 0.14 or more and 0.3 or less. By making the coefficient of variation 0.05 or more, there is no flow of conductive particles at the time of connection, which adversely affects the electrical connectivity between the connection electrodes. Variations in the number of conductive particles to be captured for each electrode can be kept small, variations in connection resistance for each electrode are small, and stable connection can be obtained.

本発明に用いられる導電粒子としては、金属粒子、炭素からなる粒子、高分子核材に金属薄膜を被覆した粒子等を用いることができる。
金属粒子としては、例えば、金、銀、銅、ニッケル、アルミニウム、亜鉛、錫、鉛、半田、インジウム、パラジウム等の単体や、2種以上のこれらの金属が層状又は傾斜状に組み合わされている粒子が例示される。
高分子核材に金属薄膜を被覆した粒子としては、エポキシ樹脂、スチレン樹脂、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、ポリオレフィン樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、ポリエステル樹脂、ジビニルベンゼン架橋体、NBR、SBR等のポリマーの中から1種又は2種以上組み合わせた高分子核材に、金、銀、銅、ニッケル、アルミニウム、亜鉛、錫、鉛、半田、インジウム、パラジウム等の中から1種又は2種以上組み合わせてメッキ等により金属被覆した粒子が例示される。金属薄膜の厚さは0.005μm以上1μm以下の範囲が、接続安定性と粒子の凝集性の観点から好ましい。金属薄膜は均一に被覆されていることが接続安定性上好ましい。これら導電粒子の表面を更に絶縁被覆した粒子も使用することができる。
As the conductive particles used in the present invention, metal particles, particles made of carbon, particles obtained by coating a polymer core material with a metal thin film, and the like can be used.
As the metal particles, for example, simple substances such as gold, silver, copper, nickel, aluminum, zinc, tin, lead, solder, indium, and palladium, or two or more kinds of these metals are combined in a layered or inclined manner. Particles are exemplified.
Particles with a polymer core coated with a metal thin film include epoxy resin, styrene resin, silicone resin, acrylic resin, polyolefin resin, melamine resin, benzoguanamine resin, urethane resin, phenol resin, polyester resin, divinylbenzene crosslinked product, NBR , SBR and other polymer core materials combined with one or more polymers, gold, silver, copper, nickel, aluminum, zinc, tin, lead, solder, indium, palladium, etc. The particle | grains which metal-coated by plating etc. in combination of 2 or more types are illustrated. The thickness of the metal thin film is preferably in the range of 0.005 μm to 1 μm from the viewpoint of connection stability and particle cohesion. It is preferable in terms of connection stability that the metal thin film is uniformly coated. Particles obtained by further insulating coating the surfaces of these conductive particles can also be used.

導電粒子の平均粒径は、0.5μm以上10μm以下の範囲が導電性と絶縁性の両立と粒子の凝集性との観点から好ましい。より好ましくは1μm以上7μm以下、更に好ましくは1.5μm以上6μm以下、より更に好ましくは2μm以上5.5μm以下、特に好ましくは2.5μm以上5μm以下である。上記範囲の平均粒径の導電粒子を用いることで、ICチップや回路基板の電極高さのバラツキや、接続時の平行度のバラツキを吸収し、同時に隣接電極間の粒子滞留による絶縁破壊を抑制することができる。
導電粒子の粒子径の標準偏差は小さいほど好ましく、平均粒径の50%以下が好ましく、より好ましくは20%以下、更に好ましくは10%以下、特に好ましくは5%以下である。導電粒子の粒径は、コールターカウンターを用いて測定することができる。
The average particle diameter of the conductive particles is preferably in the range of 0.5 μm or more and 10 μm or less from the viewpoint of compatibility between conductivity and insulation and particle aggregability. More preferably, they are 1 micrometer or more and 7 micrometers or less, More preferably, they are 1.5 micrometers or more and 6 micrometers or less, More preferably, they are 2 micrometers or more and 5.5 micrometers or less, Most preferably, they are 2.5 micrometers or more and 5 micrometers or less. By using conductive particles with an average particle size in the above range, the variation in the electrode height of the IC chip and the circuit board and the variation in the parallelism at the time of connection are absorbed, and at the same time, the dielectric breakdown due to the particle retention between adjacent electrodes is suppressed. can do.
The standard deviation of the particle size of the conductive particles is preferably as small as possible, preferably 50% or less of the average particle size, more preferably 20% or less, still more preferably 10% or less, and particularly preferably 5% or less. The particle size of the conductive particles can be measured using a Coulter counter.

導電粒子の含有量は、本発明の異方導電性接着フィルムに対して0.1質量%以上30質量%以下が好ましく、より好ましくは0.13質量%以上25質量%以下、更に好ましくは0.15質量%以上20質量%以下、より更に好ましくは0.2質量%以上15質量%以下、特に好ましくは0.25質量%以上10質量%以下である。導電粒子の含有量が0.1質量%以上30質量%以下の領域では、対向する電極間の導電性と隣接する電極間の絶縁性が両立し易い。
本発明に用いるバインダー樹脂は、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、光硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂から選ばれる1種利以上の樹脂を含有する。これらの樹脂としては、例えば、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、シリコーン樹脂、ウレタン樹脂、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂、フェノキシ樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、SBR、SBS、NBR、ポリエーテルスルフォン樹脂、ポリエーテルテレフタレート樹脂、ポリフェニレンスルフィド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエーテルオキシド樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリイソブチレン樹脂、アルキルフェノール樹脂、スチレンブタジエン樹脂、カルボキシル変性ニトリル樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテルケトン樹脂、それらの変性樹脂が挙げられる。特に接続後の長期信頼性を必要とする場合には、エポキシ樹脂を含有することが好ましい。
The content of the conductive particles is preferably 0.1% by mass or more and 30% by mass or less, more preferably 0.13% by mass or more and 25% by mass or less, and still more preferably 0% with respect to the anisotropic conductive adhesive film of the present invention. 15% by mass or more and 20% by mass or less, more preferably 0.2% by mass or more and 15% by mass or less, and particularly preferably 0.25% by mass or more and 10% by mass or less. In the region where the content of the conductive particles is 0.1% by mass or more and 30% by mass or less, it is easy to achieve both conductivity between the opposing electrodes and insulation between the adjacent electrodes.
The binder resin used in the present invention contains one or more kinds of resins selected from thermosetting resins, thermoplastic resins, photocurable resins, and electron beam curable resins. Examples of these resins include epoxy resins, phenol resins, silicone resins, urethane resins, acrylic resins, polyimide resins, phenoxy resins, polyvinyl butyral resins, SBR, SBS, NBR, polyether sulfone resins, polyether terephthalate resins, polyphenylenes. Sulfide resin, polyamide resin, polyether oxide resin, polyacetal resin, polystyrene resin, polyethylene resin, polyisobutylene resin, alkylphenol resin, styrene butadiene resin, carboxyl-modified nitrile resin, polyphenylene ether resin, polycarbonate resin, polyether ketone resin, those Modified resin is mentioned. In particular, when long-term reliability after connection is required, it is preferable to contain an epoxy resin.

エポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、テトラメチルビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビフェノール型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、フルオレン型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールAノボラック型エポキシ樹脂、脂肪族エーテル型エポキシ樹脂等のグリシジルエーテル型エポキシ樹脂、グリシジルエーテルエステル型エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、ヒダントイン型エポキシ樹脂、脂環族エポキサイド等が挙げられ、これらのエポキシ樹脂はハロゲン化や水素添加されていてもよく、また、ウレタン変性、ゴム変性、シリコーン変性等の変性されたエポキシ樹脂でもよい。   Examples of the epoxy resin include bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin, tetramethylbisphenol A type epoxy resin, biphenol type epoxy resin, naphthalene type epoxy resin, fluorene type epoxy resin, and phenol novolac. Type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, bisphenol A novolak type epoxy resin, aliphatic ether type epoxy resin, etc. glycidyl ether type epoxy resin, glycidyl ether ester type epoxy resin, glycidyl ester type epoxy resin, glycidyl amine type epoxy resin, Hydantoin type epoxy resins, alicyclic epoxides, and the like. These epoxy resins may be halogenated or hydrogenated. Tan modified, rubber-modified, may be a modified epoxy resin such as silicone-modified.

バインダー樹脂にエポキシ樹脂が含有される場合、エポキシ樹脂用の硬化剤を含有することが好ましい。エポキシ樹脂用の硬化剤は、貯蔵安定性の観点から、潜在性硬化剤が好ましい。潜在性硬化剤としては、ホウ素化合物、ヒドラジド、3級アミン、イミダゾール、ジシアンジアミド、無機酸、カルボン酸無水物、チオール、イソシアネート、ホウ素錯塩及びそれらの誘導体等の硬化剤が好ましい。潜在性硬化剤の中でも、マイクロカプセル型の硬化剤が好ましい。マイクロカプセル型硬化剤は、エポキシ樹脂用の硬化剤の表面を樹脂皮膜等で安定化したもので、接続作業時の温度や圧力で樹脂皮膜が破壊され、硬化剤がマイクロカプセル外に拡散し、エポキシ樹脂と反応する。マイクロカプセル型潜在性硬化剤の中でも、アミンアダクト、イミダゾールアダクト等のアダクト型硬化剤をマイクロカプセル化した潜在性硬化剤が安定性と硬化性のバランスに優れ好ましい。これらエポキシ樹脂用の硬化剤は一般に、エポキシ樹脂100質量部に対して、0〜100質量部の量で用いられる。   When an epoxy resin is contained in the binder resin, it is preferable to contain a curing agent for the epoxy resin. The curing agent for the epoxy resin is preferably a latent curing agent from the viewpoint of storage stability. As the latent curing agent, curing agents such as boron compounds, hydrazides, tertiary amines, imidazoles, dicyandiamides, inorganic acids, carboxylic acid anhydrides, thiols, isocyanates, boron complex salts and derivatives thereof are preferable. Among latent curing agents, microcapsule type curing agents are preferred. The microcapsule type curing agent is the one that stabilizes the surface of the curing agent for epoxy resin with a resin film, etc., the resin film is destroyed by the temperature and pressure at the time of connection work, the curing agent diffuses outside the microcapsule, Reacts with epoxy resin. Among the microcapsule type latent curing agents, a latent curing agent obtained by microencapsulating an adduct type curing agent such as an amine adduct or an imidazole adduct is preferable because of excellent balance between stability and curability. Generally these hardening | curing agents for epoxy resins are used in the quantity of 0-100 mass parts with respect to 100 mass parts of epoxy resins.

本発明に用いるバインダー樹脂は、接続時に導電粒子が移動して、接続電極間に捕捉される導電粒子数が減少することを抑制するために、接続条件下において、流動性の低い特性を有することが求められ、更に、長期接続信頼性を加味すると、フェノキシ樹脂を含有することが好ましい。
フェノキシ樹脂としては、ビスフェノールA型フェノキシ樹脂、ビスフェノールF型フェノキシ樹脂、ビスフェノールAビスフェノールF混合型フェノキシ樹脂、ビスフェノールAビスフェノールS混合型フェノキシ樹脂、フルオレン環含有フェノキシ樹脂、カプロラクトン変性ビスフェノールA型フェノキシ樹脂等が例示される。フェノキシ樹脂の重量平均分子量は2万以上10万未満であることが好ましい。
The binder resin used in the present invention has a property of low fluidity under connection conditions in order to prevent the conductive particles from moving at the time of connection and reducing the number of conductive particles captured between the connection electrodes. In addition, it is preferable to contain a phenoxy resin in consideration of long-term connection reliability.
Examples of the phenoxy resin include bisphenol A type phenoxy resin, bisphenol F type phenoxy resin, bisphenol A bisphenol F mixed type phenoxy resin, bisphenol A bisphenol S mixed type phenoxy resin, fluorene ring-containing phenoxy resin, caprolactone-modified bisphenol A type phenoxy resin, and the like. Illustrated. The weight average molecular weight of the phenoxy resin is preferably 20,000 or more and less than 100,000.

本発明に用いるバインダー樹脂としてはフェノキシ樹脂とエポキシ樹脂とを併用することが好ましく、その場合、フェノキシ樹脂の使用量は、バインダー樹脂全体に対して50質量%以上で用いることが好ましく、より好ましくは、55質量%以上95質量%以下、更に好ましくは60質量%以上90質量%以下である。
バインダー樹脂には、さらに、絶縁粒子、充填剤、軟化剤、促進剤、老化防止剤、着色剤、難燃化剤、チキソトロピック剤、カップリング剤等を含有することもできる。絶縁粒子や充填剤を含有する場合、これらの最大径は導電粒子の平均粒径未満であることが好ましい。カップリング剤としては、ケチミン基、ビニル基、アクリル基、アミノ基、エポキシ基及びイソシアネート基含有シランカップリング剤が、接着性の向上の点から好ましい。
As the binder resin used in the present invention, it is preferable to use a phenoxy resin and an epoxy resin in combination. In that case, the amount of the phenoxy resin used is preferably 50% by mass or more based on the whole binder resin, more preferably. 55 mass% or more and 95 mass% or less, More preferably, they are 60 mass% or more and 90 mass% or less.
The binder resin can further contain insulating particles, fillers, softeners, accelerators, anti-aging agents, colorants, flame retardants, thixotropic agents, coupling agents, and the like. When the insulating particles and the filler are contained, the maximum diameter is preferably less than the average particle diameter of the conductive particles. As the coupling agent, ketimine group, vinyl group, acrylic group, amino group, epoxy group, and isocyanate group-containing silane coupling agent are preferable from the viewpoint of improvement in adhesiveness.

バインダー樹脂の各成分を混合する場合、必要に応じ、溶剤を用いることができる。溶剤としては、例えば、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、トルエン、キシレン、酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート等が挙げられる。   When mixing each component of binder resin, a solvent can be used as needed. Examples of the solvent include methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, toluene, xylene, ethyl acetate, butyl acetate, ethylene glycol monoalkyl ether acetate, propylene glycol monoalkyl ether acetate, and the like.

バインダー樹脂の製造は、例えば、各成分を溶剤中で混合、塗工液を作成し、基材上にアプリケーター塗装等により塗工、オーブン中で溶剤を揮発させる事で製造できる。
バインダー樹脂が熱硬化性樹脂とマイクロカプセル型硬化剤を含む場合は、溶剤を揮発させる時に基材の弾性領域内で延伸しながら加熱することが好ましい。
バインダー樹脂は接続時に導電粒子の流動を抑制する働きがあるため、接続条件下において、流動性が低い必要があり、180℃での溶融粘度(以下、「180℃溶融粘度」ともいう。)は50Pa・s以上であることが好ましく、より好ましくは、65Pa・s以上2万Pa・s以下、更に好ましくは80Pa・s以上1万Pa・s以下である。溶融粘度が高くなり過ぎると、バインダー層に導電粒子を埋め込む際に、高い温度が必要となり、製造の難易度が高くなる。
尚、バインダー樹脂が熱硬化性樹脂の場合、その溶融粘度はバインダー樹脂から硬化剤を除去した状態又は硬化剤が未配合の状態での溶融粘度を指す。
バインダー樹脂の膜厚は導電粒子の平均粒径と同等あるいはそれ未満であることが好ましく、より好ましくは、導電粒子の平均粒径の10%以上200%以下、更に好ましくは20%以上170%以下、特に好ましくは25%以上140%以下である。
バインダー樹脂の膜厚は、低い接続抵抗を得易いため、導電粒子の平均粒径未満であることが好ましく、その場合、膜の上下に実質的に導電粒子が露出していることが低い接続抵抗を得る上で更に好ましい。
The binder resin can be produced, for example, by mixing each component in a solvent to prepare a coating solution, coating the substrate by applicator coating, etc., and volatilizing the solvent in an oven.
When the binder resin contains a thermosetting resin and a microcapsule-type curing agent, it is preferable to heat while stretching in the elastic region of the substrate when the solvent is volatilized.
Since the binder resin has a function of suppressing the flow of the conductive particles at the time of connection, it needs to have low fluidity under the connection condition, and the melt viscosity at 180 ° C. (hereinafter also referred to as “180 ° C. melt viscosity”). It is preferably 50 Pa · s or more, more preferably 65 Pa · s or more and 20,000 Pa · s or less, and still more preferably 80 Pa · s or more and 10,000 Pa · s or less. If the melt viscosity becomes too high, a high temperature is required when embedding the conductive particles in the binder layer, and the manufacturing difficulty level increases.
In addition, when binder resin is a thermosetting resin, the melt viscosity points out the melt viscosity in the state which removed the hardening | curing agent from binder resin, or the state which has not mix | blended the hardening | curing agent.
The film thickness of the binder resin is preferably equal to or less than the average particle size of the conductive particles, more preferably 10% to 200%, more preferably 20% to 170% of the average particle size of the conductive particles. Particularly preferably, it is 25% or more and 140% or less.
The film thickness of the binder resin is preferably less than the average particle diameter of the conductive particles because it is easy to obtain a low connection resistance. In that case, it is low that the conductive particles are substantially exposed above and below the film. It is further preferable in obtaining.

本発明に用いる絶縁性接着剤は、熱硬化性樹脂、マイクロカプセル型硬化剤、及びフィルム形成性高分子を含有する。
熱硬化性樹脂としては、加熱によりマイクロカプセル型硬化剤と反応して架橋する樹脂が用いられる。この様な熱硬化性樹脂としては、例えば、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、アクリレート、ウレタン樹脂等が用いられる。それぞれの熱硬化性樹脂には、それに適したマイクロカプセル型硬化剤が用いられ、例えば、分子末端に反応性二重結合を有するアクリレートであれば、マイクロカプセル型硬化剤としては、加熱によってラジカルを発生する様な過酸化物等の硬化剤の周囲をカプセル膜で被覆したマイクロカプセル型硬化剤等が用いられる。
本発明においては、接続信頼性の高さから、熱硬化性樹脂としてエポキシ樹脂を用いることが好ましい。
The insulating adhesive used in the present invention contains a thermosetting resin, a microcapsule type curing agent, and a film-forming polymer.
As the thermosetting resin, a resin that reacts with the microcapsule-type curing agent by heating to crosslink is used. As such a thermosetting resin, for example, an epoxy resin, a phenol resin, an acrylate, a urethane resin, or the like is used. For each thermosetting resin, a suitable microcapsule type curing agent is used. For example, in the case of an acrylate having a reactive double bond at the molecular end, the microcapsule type curing agent can generate radicals by heating. A microcapsule-type curing agent or the like in which the periphery of a curing agent such as peroxide is coated with a capsule film is used.
In the present invention, it is preferable to use an epoxy resin as the thermosetting resin because of high connection reliability.

エポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、テトラメチルビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビフェノール型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、レゾルシン型エポキシ樹脂、フルオレン型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールAノボラック型エポキシ樹脂、脂肪族エーテル型エポキシ樹脂等のグリシジルエーテル型エポキシ樹脂、グリシジルエーテルエステル型エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、ヒダントイン型エポキシ樹脂、脂環族エポキサイド等があり、これらエポキシ樹脂はウレタン変性、ゴム変性、シリコーン変性等の変性されたエポキシ樹脂でもよい。グリシジルエーテル型エポキシ樹脂が好ましく、ナフタレン型エポキシ樹脂、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂がより好ましい。   Examples of the epoxy resin include bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin, tetramethylbisphenol A type epoxy resin, biphenol type epoxy resin, naphthalene type epoxy resin, resorcin type epoxy resin, and fluorene type. Epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, bisphenol A novolak type epoxy resin, glycidyl ether type epoxy resin such as aliphatic ether type epoxy resin, glycidyl ether ester type epoxy resin, glycidyl ester type epoxy resin, glycidyl There are amine type epoxy resins, hydantoin type epoxy resins, alicyclic epoxides, etc., and these epoxy resins are urethane modified, rubber modified, It may be epoxy resin modified corn modified like. A glycidyl ether type epoxy resin is preferable, and a naphthalene type epoxy resin, a bisphenol A type epoxy resin, and a bisphenol F type epoxy resin are more preferable.

マイクロカプセル型硬化剤としては、ホウ素化合物、ヒドラジド類、アミン類、イミダゾール類、ジシアンジアミド、カルボン酸無水物、チオール類、イソシアネート化合物、ホウ素錯塩、尿素化合物、メラミン化合物、それらの誘導体等の硬化剤を用いることができる。熱硬化性樹脂がエポキシ樹脂の場合、アミンアダクト、イミダゾールアダクト等のアダクト型硬化剤が安定性と硬化性のバランスが優れており好ましい。アダクト型硬化剤は、アミン類やイミダゾール類と、エポキシ樹脂、イソシアネート化合物、尿素化合物等との反応により得られる。マイクロカプセル型硬化剤は、前記硬化剤の表面をカプセル膜で被覆し安定化したもので、接続作業時の温度や圧力でカプセル膜が破壊され、硬化剤がマイクロカプセル外に拡散し、熱硬化性樹脂と反応する。
カプセル膜としては、室温での安定性と低温加熱による活性発現のバランス、すなわち、潜在性が高いので、高分子化合物が好ましい。カプセル膜として用いられる高分子化合物としては、例えば、ポリウレタン化合物、ポリウレタンウレア化合物、ポリウレア化合物、ポリビニル化合物やメラミン化合物、エポキシ樹脂、フェノール樹脂から得られる高分子化合物が例示される。
Microcapsule type curing agents include boron compounds, hydrazides, amines, imidazoles, dicyandiamide, carboxylic acid anhydrides, thiols, isocyanate compounds, boron complex salts, urea compounds, melamine compounds, and derivatives thereof. Can be used. When the thermosetting resin is an epoxy resin, an adduct-type curing agent such as an amine adduct or an imidazole adduct is preferable because the balance between stability and curability is excellent. Adduct type curing agents are obtained by reaction of amines and imidazoles with epoxy resins, isocyanate compounds, urea compounds and the like. The microcapsule-type curing agent is the one that is stabilized by covering the surface of the curing agent with a capsule film. The capsule film is destroyed by the temperature and pressure at the time of connection work, the curing agent diffuses outside the microcapsule, and is thermally cured. Reacts with functional resin.
As the capsule membrane, a polymer compound is preferable because it has a high balance between stability at room temperature and expression of activity by low-temperature heating, that is, high potential. Examples of the polymer compound used as the capsule membrane include polymer compounds obtained from polyurethane compounds, polyurethane urea compounds, polyurea compounds, polyvinyl compounds, melamine compounds, epoxy resins, and phenol resins.

マイクロカプセル型硬化剤は、微粉末状の硬化剤の表面をカプセル膜で被覆した構造が好ましく、その平均粒子径は0.2μm以上8μm以下が好ましい。平均粒子径が0.2μm未満では、硬化剤に対するカプセル膜の比率が大きくなり、硬化剤としての効率が低下する。一方、平均粒子径が8μmを超えると不均一な硬化物となりやすい。マイクロカプセル型硬化剤の平均粒子径は、0.5μm以上6μm以下であることが、塗工液中に分散する時に2次凝集や沈降が起こりにくいため、より好ましく、1μm以上4μm以下であることが、異方導電接着フィルムの表面異物の発生が少ないため、更に、好ましい。
マイクロカプセル型硬化剤の平均粒子径の測定方法としては、コールターカウンターを用いる方法が挙げられる。
The microcapsule type curing agent preferably has a structure in which the surface of a fine powdery curing agent is covered with a capsule film, and the average particle size is preferably 0.2 μm or more and 8 μm or less. When the average particle size is less than 0.2 μm, the ratio of the capsule film to the curing agent increases, and the efficiency as the curing agent decreases. On the other hand, when the average particle diameter exceeds 8 μm, a non-uniform cured product tends to be obtained. The average particle size of the microcapsule type curing agent is more preferably 0.5 μm or more and 6 μm or less because secondary aggregation or sedimentation is unlikely to occur when dispersed in the coating liquid, and more preferably 1 μm or more and 4 μm or less. However, since generation | occurrence | production of the surface foreign material of an anisotropic conductive adhesive film is few, it is further more preferable.
Examples of the method for measuring the average particle size of the microcapsule type curing agent include a method using a Coulter counter.

マイクロカプセル型硬化剤の活性化温度は、異方導電性接着フィルムの硬化性に大きく影響する因子であり、低温短時間で性能発現するためには、活性化温度は低い方が好ましい。一方、異方導電接着フィルムの製造時に熱硬化性樹脂とマイクロカプセル型硬化剤が反応することを防止するために、異方導電性接着フィルムの製膜時の加熱温度はマイクロカプセル型硬化材の活性化温度未満であることが好ましい。マイクロカプセル型硬化材の活性化温度は貯蔵安定性を確保するために、溶剤が充分揮発できる温度以上が好ましい。マイクロカプセル型硬化剤の活性化温度は、好ましくは60℃以上100℃以下であり、より好ましくは70℃以上90℃以下である。   The activation temperature of the microcapsule-type curing agent is a factor that greatly affects the curability of the anisotropic conductive adhesive film, and the lower activation temperature is preferable in order to exhibit performance in a short time at a low temperature. On the other hand, in order to prevent the thermosetting resin and the microcapsule-type curing agent from reacting during the production of the anisotropic conductive adhesive film, the heating temperature during the formation of the anisotropic conductive adhesive film is the same as that of the microcapsule-type curing material. It is preferable that the temperature is lower than the activation temperature. The activation temperature of the microcapsule-type curing material is preferably equal to or higher than the temperature at which the solvent can be sufficiently volatilized in order to ensure storage stability. The activation temperature of the microcapsule type curing agent is preferably 60 ° C. or higher and 100 ° C. or lower, more preferably 70 ° C. or higher and 90 ° C. or lower.

本明細書中、「マイクロカプセル型硬化剤の活性化温度」とは、マイクロカプセル型硬化剤と熱硬化性樹脂を質量比1対2で混合した組成物のゲルタイムが、5分間となる温度と定義し、例えば、70℃のゲルタイムが5分を超えていて、80℃のゲルタイムが5分未満の場合、活性化温度は70℃より高く80℃以下である。尚、ここで用いる熱硬化性樹脂は、絶縁性接着剤に用いられる熱硬化性樹脂であって、絶縁性接着剤中の熱硬化性樹脂を、硬化性の観点で、代表するものを用いる必要がある。   In the present specification, the “activation temperature of the microcapsule-type curing agent” means a temperature at which the gel time of a composition in which a microcapsule-type curing agent and a thermosetting resin are mixed at a mass ratio of 1: 2 is 5 minutes. For example, if the gel time at 70 ° C. exceeds 5 minutes and the gel time at 80 ° C. is less than 5 minutes, the activation temperature is higher than 70 ° C. and lower than 80 ° C. In addition, the thermosetting resin used here is a thermosetting resin used for an insulating adhesive, and it is necessary to use the thermosetting resin in the insulating adhesive from the viewpoint of curability. There is.

マイクロカプセル型硬化剤は、熱硬化性樹脂の高い硬化率を得るために、熱硬化性樹脂100質量部に対して、5〜60質量部で用いるのが好ましく、より好ましくは10〜50質量部であり、更に好ましくは20〜40質量部であり、これにより、硬化物の吸水率を低く抑えることができる。   In order to obtain a high curing rate of the thermosetting resin, the microcapsule-type curing agent is preferably used at 5 to 60 parts by mass, more preferably 10 to 50 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the thermosetting resin. More preferably, it is 20-40 mass parts, and this can suppress the water absorption rate of hardened | cured material low.

絶縁性接着剤に用いられるフィルム形成性高分子としては、フェノキシ樹脂、ポリビニルブチラール、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイミド樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体、ポリ酢酸ビニル樹脂、ナイロン、スチレン−イソプレン共重合体、ポリメチルメタクリレート樹脂が例示される。異方導電接着フィルムが常態としてフィルム状であるために、フィルム形成性高分子のガラス転移温度は室温以上であることが必要であり、好ましくはガラス転移温度が50℃以上であり、より好ましくは60℃以上であり、更に好ましくは70℃以上であり、これにより異方導電性接着フィルムのブロッキング性を大きく抑制できる。フィルム形成性高分子の重量平均分子量は5,000以上が好ましく、より好ましくは10,000以上800,000以下であり、更に好ましくは20,000以上500,000以下である。これにより絶縁性接着剤中で均一に存在しやすく、また、異方導電性接着フィルムの硬化物としたときに強い機械的強度が発現する。   The film-forming polymer used for the insulating adhesive includes phenoxy resin, polyvinyl butyral, polyester resin, polyurethane resin, polyimide resin, acrylonitrile-butadiene copolymer, acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer, polyvinyl acetate resin. , Nylon, styrene-isoprene copolymer, and polymethyl methacrylate resin. Since the anisotropic conductive adhesive film is normally in the form of a film, the glass transition temperature of the film-forming polymer needs to be room temperature or higher, preferably the glass transition temperature is 50 ° C. or higher, more preferably It is 60 degreeC or more, More preferably, it is 70 degreeC or more, Thereby, the blocking property of an anisotropically conductive adhesive film can be suppressed largely. The weight average molecular weight of the film-forming polymer is preferably 5,000 or more, more preferably 10,000 or more and 800,000 or less, and still more preferably 20,000 or more and 500,000 or less. Thereby, it exists easily in an insulating adhesive agent, and when it is set as the cured | curing material of an anisotropically conductive adhesive film, strong mechanical strength is expressed.

熱硬化性樹脂としてエポキシ樹脂を用いる場合、フィルム形成性高分子としては、エポキシ樹脂との相溶性が高いフェノキシ樹脂が好ましい。ここで用いられるフェノキシ樹脂としては、ビスフェノールA型フェノキシ樹脂、ビスフェノールF型フェノキシ樹脂、ビスフェノールAビスフェノールF混合型フェノキシ樹脂、ビスフェノールAビスフェノールS混合型フェノキシ樹脂、フルオレン環含有フェノキシ樹脂、カプロラクトン変性ビスフェノールA型フェノキシ樹脂等が例示される。フィルム形成性高分子の含有量は、熱硬化性樹脂に対して10〜200質量%であることが好ましい。
絶縁性接着剤には、異方導電性接着フィルムの硬化時や使用環境下における熱ストレスすなわち、被接着体との線膨張係数差による応力による接着性や接続信頼性の低下を抑制するために、絶縁性フィラーを含有することが好ましい。絶縁性フィラーとしては、例えば、溶融シリカ、結晶質シリカ、ケイ酸カルシウム、アルミナ、炭酸カルシウム、酸化チタン等の粉体が挙げられる。絶縁性フィラーの平均粒径は、コールターカウンターを用いて測定することができる。絶縁性フィラーの平均粒径は、熱ストレスによる接続信頼性の低下抑制効果を十分に発揮するために0.01μm以上であることが好ましく、接続端子間の電気抵抗を低く抑えるため、5μm以下であり、かつ、導電粒子よりも粒径が小さいことが好ましい。絶縁性フィラーの平均粒径は、より好ましくは0.05μm以上3μm以下であり、更に好ましくは0.1μm以上2μm以下である。これにより塗工液中で凝集や沈降を抑制することができる。
When an epoxy resin is used as the thermosetting resin, a phenoxy resin having high compatibility with the epoxy resin is preferable as the film-forming polymer. The phenoxy resin used here includes bisphenol A type phenoxy resin, bisphenol F type phenoxy resin, bisphenol A bisphenol F mixed type phenoxy resin, bisphenol A bisphenol S mixed type phenoxy resin, fluorene ring-containing phenoxy resin, caprolactone modified bisphenol A type. Examples include phenoxy resin. The content of the film-forming polymer is preferably 10 to 200% by mass with respect to the thermosetting resin.
Insulating adhesives are used to suppress degradation of adhesiveness and connection reliability due to thermal stress during curing of anisotropic conductive adhesive films and in usage environments, that is, stress due to differences in linear expansion coefficient from the adherend. It is preferable to contain an insulating filler. Examples of the insulating filler include powders such as fused silica, crystalline silica, calcium silicate, alumina, calcium carbonate, and titanium oxide. The average particle diameter of the insulating filler can be measured using a Coulter counter. The average particle size of the insulating filler is preferably 0.01 μm or more in order to sufficiently exhibit the effect of suppressing the decrease in connection reliability due to thermal stress, and is 5 μm or less in order to keep the electrical resistance between the connection terminals low. It is preferable that the particle diameter is smaller than that of the conductive particles. The average particle size of the insulating filler is more preferably 0.05 μm to 3 μm, and still more preferably 0.1 μm to 2 μm. Thereby, aggregation and sedimentation can be suppressed in the coating solution.

絶縁性フィラーの添加量は、熱ストレスによる接続信頼性の低下抑制効果を十分に発揮し、同時に異方導電性接着フィルムの硬化物としての機械的強度を高く保つために、熱硬化性樹脂に対して5質量%以上200質量%以下で用いることが好ましく、より好ましくは、20質量%以上150質量%以下、更に好ましくは30質量%以上120質量%以下で用いる。
絶縁性接着剤には、接着性や硬化時の応力緩和性を付与する目的で、ポリエステル樹脂、アクリルゴム、SBR、NBR、シリコーン樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアセタール樹脂、尿素樹脂、キシレン樹脂、カルボキシル基、ヒドロシキシル基、ビニル基、アミノ基などの官能基を含有するゴム、エラストマー類等の弾性高分子を含有することが好ましい。これら弾性高分子は分子量が10,000〜3,000,000のものが好ましい。弾性高分子成分の含有量は、熱硬化性樹脂に対して2〜80質量%が好ましい。
The amount of the insulating filler added to the thermosetting resin is sufficient to exert the effect of suppressing the decrease in connection reliability due to thermal stress, and at the same time to maintain high mechanical strength as a cured product of the anisotropic conductive adhesive film. On the other hand, it is preferably used in an amount of 5 to 200% by mass, more preferably 20 to 150% by mass, and still more preferably 30 to 120% by mass.
For insulating adhesives, polyester resin, acrylic rubber, SBR, NBR, silicone resin, polyvinyl butyral resin, polyurethane resin, polyacetal resin, urea resin, xylene resin for the purpose of imparting adhesiveness and stress relaxation during curing It is preferable to contain elastic polymers such as rubbers and elastomers containing functional groups such as carboxyl group, hydroxyl group, vinyl group and amino group. These elastic polymers preferably have a molecular weight of 10,000 to 3,000,000. The content of the elastic polymer component is preferably 2 to 80% by mass with respect to the thermosetting resin.

絶縁性接着剤には、軟化剤、促進剤、老化防止剤、着色剤、難燃化剤、チキソトロピック剤等をさらに含有させることができる。接着性の観点からカップリング剤を含有することが好ましい。カップリング剤としてはケチミン基、ビニル基、アクリル基、アミノ基、エポキシ基、イソシアネート基を含有するシランカップリング剤が、接着性の向上の観点から好ましい。
絶縁性接着剤は接続時に流動して接続領域を封止する働きがあるため、接続条件下において、流動性が高い必要がある。流動性の高さは、バインダー樹脂の流動性との相対値が重要であり、本発明においては、絶縁性接着剤の180℃溶融粘度は、バインダー樹脂の180℃溶融粘度よりも低い必要がある。絶縁性接着剤の該溶融粘度は、好ましくは、バインダー樹脂の該溶融粘度の50%以下であり、より好ましくは25%以下であり、更に好ましくは15%以下であり、特に好ましくは10%以下である。
絶縁性接着剤の180℃溶融粘度の好ましい範囲は、1Pa・s以上100Pa・s未満であり、より好ましくは2Pa・s以上50Pa・s以下、更に好ましくは4Pa・s以上30Pa・s以下である。溶融粘度が高すぎると接続時に高い圧力が必要となり、一方、溶融粘度が低い場合、使用前の変形を抑えるために低温で貯蔵する必要が発生する。
尚、絶縁性接着剤が熱硬化性樹脂である場合、その溶融粘度は絶縁性接着剤から硬化剤を除去した状態又は硬化剤が未配合の状態での溶融粘度を指す。
The insulating adhesive may further contain a softener, an accelerator, an anti-aging agent, a colorant, a flame retardant, a thixotropic agent, and the like. It is preferable to contain a coupling agent from an adhesive viewpoint. As the coupling agent, a silane coupling agent containing a ketimine group, a vinyl group, an acrylic group, an amino group, an epoxy group, or an isocyanate group is preferable from the viewpoint of improving adhesiveness.
Since the insulating adhesive has a function of flowing at the time of connection and sealing the connection region, it needs to have high fluidity under the connection conditions. The relative value of the high fluidity with the fluidity of the binder resin is important. In the present invention, the 180 ° C. melt viscosity of the insulating adhesive must be lower than the 180 ° C. melt viscosity of the binder resin. . The melt viscosity of the insulating adhesive is preferably 50% or less of the melt viscosity of the binder resin, more preferably 25% or less, still more preferably 15% or less, and particularly preferably 10% or less. It is.
The preferable range of the 180 ° C. melt viscosity of the insulating adhesive is 1 Pa · s or more and less than 100 Pa · s, more preferably 2 Pa · s or more and 50 Pa · s or less, and further preferably 4 Pa · s or more and 30 Pa · s or less. . If the melt viscosity is too high, a high pressure is required at the time of connection. On the other hand, if the melt viscosity is low, it is necessary to store at a low temperature in order to suppress deformation before use.
In addition, when the insulating adhesive is a thermosetting resin, the melt viscosity indicates the melt viscosity in a state where the curing agent is removed from the insulating adhesive or in a state where the curing agent is not blended.

絶縁性接着剤は導電層の片面のみに形成しても構わないし、両面に形成しても構わない。導電層の両面に積層する場合、それぞれの面の絶縁性接着剤は同じでもよいし、異なっていてもよい。異なっている方が、被接続部材にあった配合にできる一方で、2種類の配合を用意する必要性が生じる。
絶縁性接着剤を導電層の両面に形成する場合、接続時の加圧による導電粒子の移動を抑えるため、導電粒子は異方導電性接着フィルムの片側の表面からあまり内部に入らないことが好ましく、導電粒子の中心位置が異方導電性接着フィルムの片側の表面から導電粒子の平均粒径の2.0倍以下に位置することが好ましく、より好ましくは1.5倍以下、更に好ましくは1.0倍以下、特に好ましくは0.8倍以下である。一方、0.5倍以下では導電粒子は異方導電性接着フィルムから露出していることになり、露出する量が多くなると、異方導電性接着フィルムの貼り付け性が低下したり、導電粒子の欠落の原因となったりするため、0.1倍以上が好ましく、より好ましくは0.2倍以上であり、更に好ましくは0.3倍以上である。
The insulating adhesive may be formed only on one side of the conductive layer or on both sides. When laminating on both surfaces of the conductive layer, the insulating adhesive on each surface may be the same or different. Different ones can be formulated according to the connected member, while the need to prepare two types of formulations arises.
When the insulating adhesive is formed on both sides of the conductive layer, it is preferable that the conductive particles do not enter the inside from the surface on one side of the anisotropic conductive adhesive film in order to suppress the movement of the conductive particles due to the pressure at the time of connection. The center position of the conductive particles is preferably located at 2.0 times or less, more preferably 1.5 times or less, more preferably 1 from the surface of one side of the anisotropic conductive adhesive film. 0.0 times or less, particularly preferably 0.8 times or less. On the other hand, at 0.5 times or less, the conductive particles are exposed from the anisotropic conductive adhesive film, and when the amount of exposure increases, the sticking property of the anisotropic conductive adhesive film decreases, or the conductive particles Is preferably 0.1 times or more, more preferably 0.2 times or more, and still more preferably 0.3 times or more.

導電層の膜厚は合計で4μm以上50μm以下であることが好ましく、より好ましくは5μm以上30μm以下、更に好ましくは6μm以上25μm以下、特に好ましくは7μm以上22μm以下である。
絶縁性接着剤の膜厚の合計は、バインダー樹脂の膜厚の2倍以上100倍以下であることが好ましく、より好ましくは3倍以上75倍以下、更に好ましくは4倍以上50倍以下、特に好ましくは5倍以上30倍以下である。
The total thickness of the conductive layer is preferably 4 μm to 50 μm, more preferably 5 μm to 30 μm, still more preferably 6 μm to 25 μm, and particularly preferably 7 μm to 22 μm.
The total film thickness of the insulating adhesive is preferably 2 to 100 times the film thickness of the binder resin, more preferably 3 to 75 times, still more preferably 4 to 50 times, especially Preferably they are 5 times or more and 30 times or less.

本発明においては、絶縁性接着剤中の各成分が均一でかつ膜厚バラツキの少ない絶縁性接着剤とするために、絶縁性接着剤を溶剤に溶解又は分散して、塗工液とする。絶縁性接着剤が溶剤中に均一に溶解又は分散するためには、本発明に用いる溶剤は、絶縁性接着剤の各成分の溶解性又は分散性が高いことが求められる。また、絶縁性接着剤の安定性を確保するために、溶剤はマイクロカプセル型硬化剤のカプセル膜を溶解しないことが求められる。その様な溶剤としては、例えば、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、トルエン、キシレン、酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート等が挙げられる。複数の溶剤を併用することもできる。   In the present invention, in order to obtain an insulating adhesive in which each component in the insulating adhesive is uniform and has little film thickness variation, the insulating adhesive is dissolved or dispersed in a solvent to obtain a coating liquid. In order for the insulating adhesive to be uniformly dissolved or dispersed in the solvent, the solvent used in the present invention is required to have high solubility or dispersibility of each component of the insulating adhesive. Further, in order to ensure the stability of the insulating adhesive, the solvent is required not to dissolve the capsule film of the microcapsule type curing agent. Examples of such a solvent include methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, toluene, xylene, ethyl acetate, butyl acetate, ethylene glycol monoalkyl ether acetate, propylene glycol monoalkyl ether acetate and the like. A plurality of solvents can be used in combination.

溶剤の使用量は、塗工液が塗工に適した粘度となる様に、決定する。塗工液は25℃の粘度が、100mPa・s以上20000mPa・s以下であることが好ましく、より好ましくは300mPa・s以上15000mPa・s以下、更に一層好ましくは400mPa・s以上10000mPa・s以下である。
塗工液中の水分は、生産性の観点から、0.5質量%以上であることが好ましく、一方、マイクロカプセル型硬化剤の安定性を高く保つために、10質量%以下であることが好ましく、5質量%以下がより好ましい。本発明では、剥離性基材上に塗工液が塗布される。剥離性基材としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、PET、PEN等のポリエステル、ナイロン、塩化ビニール、ポリビニルアルコール等のフィルムが例示される。厚みの安定性、耐溶剤性、経済性の観点から剥離性基材としては、ポリプロピレン、PET等が好ましい。該剥離性基材はフッ素処理、シリコーン処理、アルキド処理等の表面処理を行っていることが好ましい。剥離性基材の厚みは30μm以上100μm以下が塗工作業時のハンドリング性と厚みの安定性が優れるために、好ましい。
The amount of the solvent used is determined so that the coating solution has a viscosity suitable for coating. The viscosity of the coating liquid is preferably 100 mPa · s or more and 20000 mPa · s or less, more preferably 300 mPa · s or more and 15000 mPa · s or less, and still more preferably 400 mPa · s or more and 10,000 mPa · s or less. .
The water content in the coating liquid is preferably 0.5% by mass or more from the viewpoint of productivity, while it is 10% by mass or less in order to keep the stability of the microcapsule type curing agent high. Preferably, 5 mass% or less is more preferable. In the present invention, the coating liquid is applied onto the peelable substrate. Examples of the peelable substrate include films such as polyesters such as polyethylene, polypropylene, polystyrene, PET, and PEN, nylon, vinyl chloride, and polyvinyl alcohol. From the viewpoints of thickness stability, solvent resistance, and economy, the peelable substrate is preferably polypropylene, PET, or the like. The peelable substrate is preferably subjected to a surface treatment such as fluorine treatment, silicone treatment, alkyd treatment or the like. The thickness of the peelable substrate is preferably 30 μm or more and 100 μm or less because of excellent handling properties and thickness stability during the coating operation.

剥離性基材の弾性領域は、剥離性基材のストレス−ストレインカーブ(以下、「SSカーブ」ともいう。)において降伏点以内のひずみ領域を意味する。降伏点を有さない場合、本発明においては、SSカーブが直線領域から外れる変極点を降伏点とする。剥離性基材の70℃における降伏応力は、延伸条件幅が広く取れるので高い方が好ましく、1MPa以上であることが好ましく、より好ましくは2MPa以上であり、更に好ましくは3MPa以上である。
剥離性基材の70℃のヤング率は、延伸装置の剛性と延伸安定性を両立するために、1MPa以上10GPa以下であることが好ましく、より好ましくは3MPa以上5GPa以下、更に好ましくは5MPa以上3GPa以下である。
The elastic region of the peelable substrate means a strain region within the yield point in the stress-strain curve (hereinafter also referred to as “SS curve”) of the peelable substrate. When there is no yield point, in the present invention, the inflection point at which the SS curve deviates from the linear region is taken as the yield point. The yield stress at 70 ° C. of the peelable substrate is preferably higher because of the wide range of stretching conditions, preferably 1 MPa or more, more preferably 2 MPa or more, and further preferably 3 MPa or more.
The 70 ° C. Young's modulus of the peelable substrate is preferably 1 MPa or more and 10 GPa or less, more preferably 3 MPa or more and 5 GPa or less, and further preferably 5 MPa or more and 3 GPa, in order to achieve both the rigidity of the stretching apparatus and the stretching stability. It is as follows.

以下、本発明の異方導電性接着フィルムの製造方法について説明する。
本発明の絶縁性接着剤の製造は、塗工液を調製する工程、剥離性基材上に塗工液を塗布する工程、加熱により製膜する製膜工程を含む。
塗工液を調製する工程は、溶剤に絶縁性接着剤の各成分を溶解又は均一分散させる。絶縁性接着剤の各成分は同時に混合されても構わないが、フィルム形成性高分子を先に溶剤に溶解したのち、マイクロカプセル型硬化剤を均一分散すると、フィルム形成性高分子の溶け残りが少なく、貯蔵安定性が高い絶縁性接着剤が得られ好ましい。塗工液を製造する工程は、10℃以上100℃以下で実施するのが好ましい。
Hereinafter, the manufacturing method of the anisotropically conductive adhesive film of this invention is demonstrated.
The production of the insulating adhesive of the present invention includes a step of preparing a coating liquid, a step of applying the coating liquid on a peelable substrate, and a film forming step of forming a film by heating.
In the step of preparing the coating liquid, each component of the insulating adhesive is dissolved or uniformly dispersed in the solvent. Each component of the insulating adhesive may be mixed at the same time. However, after the film-forming polymer is first dissolved in a solvent and then the microcapsule-type curing agent is uniformly dispersed, the film-forming polymer remains undissolved. An insulating adhesive having a small amount and high storage stability is preferable. The step of producing the coating liquid is preferably performed at 10 ° C. or higher and 100 ° C. or lower.

剥離性基材上に塗工液を塗布する工程は、バーコーター、ブレードコーター、ロールコータ−、ダイコーター、グラビアコーター等を用いる方法により塗工することができる。   The step of applying the coating liquid onto the peelable substrate can be performed by a method using a bar coater, a blade coater, a roll coater, a die coater, a gravure coater or the like.

製膜工程においては、塗工液が塗布された剥離性基材を、該剥離性基材の弾性領域内で延伸しながら加熱して溶剤を揮散させて製膜する。
加熱の方法としては、ドライヤー内に熱風を供給する方法や、赤外線等の熱線を照射する方法、加熱ロールによって剥離性基材側から熱を供給する方法等が挙げられる。揮発した溶剤が系外に抜けやすく、溶剤の揮散効率が高いので熱風を用いる方法が好ましい。
加熱の温度は、溶剤の揮散効率を高め、短時間に製膜させるためには高い方が好ましく、熱硬化性樹脂とマイクロカプセル型硬化剤とを反応させないためには、マイクロカプセル型硬化剤の活性化温度以下であることが好ましい。製膜工程の加熱温度としては、50℃以上90℃以下が好ましく、より好ましくは60℃以上80℃以下である。
In the film forming step, the peelable substrate coated with the coating liquid is heated while being stretched in the elastic region of the peelable substrate to volatilize the solvent to form a film.
Examples of the heating method include a method of supplying hot air into the dryer, a method of irradiating heat rays such as infrared rays, a method of supplying heat from the peelable substrate side by a heating roll, and the like. A method using hot air is preferred because the volatilized solvent easily escapes from the system and the solvent volatilization efficiency is high.
The heating temperature is preferably high in order to increase the volatilization efficiency of the solvent and form a film in a short time, and in order not to react the thermosetting resin with the microcapsule type curing agent, It is preferable that it is below the activation temperature. As heating temperature of a film forming process, 50 degreeC or more and 90 degrees C or less are preferable, More preferably, they are 60 degreeC or more and 80 degrees C or less.

加熱時間は3分間以上20分間以内であることが好ましい。残存する溶剤を除去し、絶縁性接着剤の貯蔵安定性を向上させる点から、3分間以上が好ましく、一方、製膜工程で熱硬化性樹脂とマイクロカプセル型硬化剤との反応を防ぎ、同時に絶縁性接着剤の貯蔵安定性を向上させる点から、20分間以内であることが好ましく、より好ましくは5分間以上15分間以内である。   The heating time is preferably 3 minutes or more and 20 minutes or less. From the point of removing the remaining solvent and improving the storage stability of the insulating adhesive, 3 minutes or more is preferable. On the other hand, the reaction between the thermosetting resin and the microcapsule type curing agent is prevented in the film forming process, and at the same time From the viewpoint of improving the storage stability of the insulating adhesive, it is preferably within 20 minutes, more preferably within 5 minutes to 15 minutes.

製膜工程において塗工液を塗布した剥離性基材が延伸される。製膜工程においては、マイクロカプセル型硬化剤の活性化温度近くまで加熱されて、溶剤が揮散されるが、この時に、マイクロカプセル型硬化剤の活性化を促進する様な外部刺激が加わると熱硬化性樹脂とマイクロカプセル型硬化剤の反応が開始し、絶縁性接着剤の貯蔵安定性が低下する。外部刺激としては、製膜工程で用いられる熱風によりフィルムが振動することで起こるマイクロカプセル型硬化剤同士又はマイクロカプセル型硬化剤と絶縁性フィラーとの接触による衝撃や水分との接触等が挙げられる。本発明においては、製膜工程において塗工液を塗布した剥離性基材が延伸される。延伸時の張力によって熱風によるフィルムの振動を抑える、すなわち、外部刺激を低減することによって、絶縁性接着剤の貯蔵安定性の低下を回避することができる。更に、剥離性基材の弾性領域内で延伸することで、溶剤の揮散効率が高められると共に、上記外部刺激になり得る水分が系外に速やかに揮散される結果として、絶縁性接着剤の貯蔵安定性の低下が抑制される。   In the film forming step, the peelable substrate coated with the coating solution is stretched. In the film forming process, the solvent is volatilized by heating to near the activation temperature of the microcapsule type curing agent. At this time, if an external stimulus is applied to promote the activation of the microcapsule type curing agent, The reaction between the curable resin and the microcapsule type curing agent starts, and the storage stability of the insulating adhesive is lowered. Examples of the external stimulus include impact caused by contact between the microcapsule type curing agent and the microcapsule type curing agent and the insulating filler caused by the vibration of the film by hot air used in the film forming process, contact with moisture, and the like. . In this invention, the peelable base material which apply | coated the coating liquid in the film forming process is extended | stretched. By suppressing the vibration of the film due to hot air by the tension at the time of stretching, that is, by reducing the external stimulus, it is possible to avoid a decrease in the storage stability of the insulating adhesive. Furthermore, by stretching within the elastic region of the peelable substrate, the volatilization efficiency of the solvent is enhanced, and as a result that moisture that can be an external stimulus is rapidly volatilized out of the system, storage of the insulating adhesive is performed. A decrease in stability is suppressed.

延伸時に加える張力は、剥離性基材が弾性領域内の変形量である必要があり、好ましくは、剥離性基材断面積当たり0.3MPa以上200MPa以下であることが好ましい。貯蔵安定性を高く保つ効果を得るためには、張力は、0.3MPa以上であることが好ましく、一方、得られる絶縁性接着剤の膜厚ムラ抑制の観点から、200MPa以下であることが好ましい。該張力は、より好ましくは、断面積当たり0.5MPa以上100MPa以下であり、より好ましくは1MPa以上50MPa以下であり、これにより表面平滑性が高く、被着体に貼り付ける時の貼付性に優れた絶縁性接着剤を得ることができる。
製膜工程における剥離性基材の延伸は、一方向の延伸でも二方向の延伸でも構わない。延伸における剥離性基材の伸び率は0.1%以上20%以下であることが好ましい。貯蔵安定性を高く保つ効果を得るために、該伸び率は、0.1%以上であることが好ましく、一方、膜厚ムラの抑制、貼付性の観点から20%以下であることが好ましく、より好ましくは0.2%以上15%以下である。
The tension applied at the time of stretching needs to be a deformation amount of the peelable substrate in the elastic region, and is preferably 0.3 MPa or more and 200 MPa or less per peelable substrate cross-sectional area. In order to obtain the effect of keeping the storage stability high, the tension is preferably 0.3 MPa or more. On the other hand, from the viewpoint of suppressing film thickness unevenness of the obtained insulating adhesive, it is preferably 200 MPa or less. . The tension is more preferably 0.5 MPa or more and 100 MPa or less per cross-sectional area, and more preferably 1 MPa or more and 50 MPa or less, whereby the surface smoothness is high, and the sticking property when sticking to the adherend is excellent. Insulating adhesive can be obtained.
Stretching of the peelable substrate in the film forming process may be performed in one direction or in two directions. The elongation percentage of the peelable substrate in stretching is preferably 0.1% or more and 20% or less. In order to obtain the effect of keeping the storage stability high, the elongation is preferably 0.1% or more, while it is preferably 20% or less from the viewpoint of suppression of film thickness unevenness and sticking property, More preferably, it is 0.2% or more and 15% or less.

本発明の導電層の製造法は、例えば、下記の通りである。
まず、単層で配列した導電粒子を粘着剤でシート上に固定した導電粒子の配列シートを製造する。配列シートを製造するには、例えば、延伸可能なシート上に粘着剤を好ましくは、導電粒子の平均粒径以下の膜厚になる様に塗布し、その上に導電粒子を充填する。その後粘着剤層に到達していない導電粒子をエアーブロー等により排除することで導電粒子が密に充填された単層の導電粒子層が形成される。必要に応じ、単層に配置した導電粒子は粘着剤に埋め込まれる。このときの全面積に対する導電粒子の投影面積の割合で定義される充填率は、好ましくは60%以上90%以下であり、より好ましくは65%以上88%以下、更に好ましくは68%以上85%以下である。充填率は本発明において重要な因子である導電粒子の中心間距離の変動係数に大きく影響する。
The method for producing the conductive layer of the present invention is as follows, for example.
First, an arrayed sheet of conductive particles in which conductive particles arranged in a single layer are fixed on a sheet with an adhesive is manufactured. In order to manufacture the array sheet, for example, an adhesive is preferably applied on a stretchable sheet so that the film thickness is equal to or less than the average particle diameter of the conductive particles, and the conductive particles are filled thereon. Thereafter, the conductive particles that have not reached the pressure-sensitive adhesive layer are removed by air blowing or the like, thereby forming a single conductive particle layer in which the conductive particles are densely packed. If necessary, the conductive particles arranged in a single layer are embedded in the adhesive. The filling rate defined by the ratio of the projected area of the conductive particles to the total area at this time is preferably 60% or more and 90% or less, more preferably 65% or more and 88% or less, and further preferably 68% or more and 85%. It is as follows. The filling factor greatly affects the coefficient of variation of the distance between the centers of the conductive particles, which is an important factor in the present invention.

次いで、得られた導電粒子が固定されたシートを、所望の延伸倍率で延伸することで、個々の導電粒子が、本発明に必要な変動係数をもって、所望の中心間距離となる様に配置された導電粒子の配列シートを得る。
延伸可能なシートとしては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、PET、PEN等のポリエステル、ナイロン、塩化ビニル、ポリビニルアルコール等のシーオが例示される。粘着剤としては、例えば、ウレタン樹脂、アクリル樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、酢酸ビニル、クロロプレン等が例示される。
延伸は縦方向延伸と横方向延伸の両方が行われる、所謂、2軸延伸であり、公知の方法で実施することができる。例えば、クリップ等でフィルムの2辺又は4辺を挟んで引っ張る方法や、2本以上のロールで挟んでロールの回転速度を変えることで延伸する方法等が挙げられる。延伸は縦方向と横方向を同時に延伸する同時二軸延伸でもよいし、一方向を延伸した後、他方を延伸する逐次二軸延伸でもよい。延伸時の導電粒子の配列乱れを起こし難いので同時二軸延伸が好ましい。延伸を高い精度で行うためには、延伸可能なフィルムを軟化させて行うのが好ましく、使用する延伸可能なシートによるが、例えば、70℃以上250℃以下で延伸を行うのが好ましく、より好ましくは75℃以上200℃以下であり、更に好ましくは80℃以上160℃以下であり、特に好ましくは85℃以上145℃未満である。延伸温度が高すぎると粘着剤の粘着力が低下し、導電粒子の配列が乱れてしまい、導電粒子の中心間距離の変動係数が大きくなってしまう。
Next, by stretching the sheet on which the obtained conductive particles are fixed at a desired draw ratio, the individual conductive particles are arranged to have a desired center-to-center distance with a coefficient of variation necessary for the present invention. An array sheet of conductive particles obtained is obtained.
Examples of the stretchable sheet include polyesters such as polyethylene, polypropylene, polystyrene, PET, and PEN, and shio such as nylon, vinyl chloride, and polyvinyl alcohol. Examples of the adhesive include urethane resin, acrylic resin, urea resin, melamine resin, phenol resin, vinyl acetate, chloroprene and the like.
Stretching is so-called biaxial stretching in which both longitudinal stretching and lateral stretching are performed, and can be performed by a known method. For example, there are a method of pulling by sandwiching two or four sides of the film with a clip or the like, a method of stretching by sandwiching between two or more rolls and changing the rotation speed of the roll. The stretching may be simultaneous biaxial stretching in which the machine direction and the transverse direction are stretched simultaneously, or may be sequential biaxial stretching in which the other is stretched after stretching in one direction. Simultaneous biaxial stretching is preferred because it is difficult to cause disorder in the arrangement of the conductive particles during stretching. In order to perform stretching with high accuracy, it is preferable to soften a stretchable film. Depending on the stretchable sheet used, for example, it is preferable to perform stretching at 70 ° C. or more and 250 ° C. or less, and more preferably. Is 75 ° C. or higher and 200 ° C. or lower, more preferably 80 ° C. or higher and 160 ° C. or lower, and particularly preferably 85 ° C. or higher and lower than 145 ° C. If the stretching temperature is too high, the adhesive strength of the pressure-sensitive adhesive is reduced, the arrangement of the conductive particles is disturbed, and the coefficient of variation in the distance between the centers of the conductive particles is increased.

次いで、配列シートの導電粒子側に、バインダー樹脂を重ね、バインダー樹脂に導電粒子を埋め込む。埋め込む方法としては、例えば、フィルム状のバインダー樹脂を、配列シートの導電粒子側に重ねてラミネートし、熱ロール等を用いて導電粒子を埋め込む方法が挙げられる。配列シートの延伸可能なシートと粘着剤はバインダーに埋め込まれた導電粒子から剥離される。
本発明において、導電粒子の埋め込みは、極力低温で実施することが好ましい。特にバインダー樹脂又は絶縁性接着剤が潜在性硬化剤を含む熱硬化性樹脂である場合、高い温度で埋め込むと、硬化反応の進行を抑制するために低温貯蔵が必要となる。一方、温度が低ければ、バインダー樹脂の粘度が高いために埋めこみは困難となる。したがって、導電粒子の埋め込み温度は、35℃以上120℃以下であることが好ましく、より好ましくは40℃以上100℃以下、更に好ましくは45℃以上80℃以下である。
Next, a binder resin is stacked on the conductive particle side of the array sheet, and the conductive particles are embedded in the binder resin. Examples of the embedding method include a method in which a film-like binder resin is laminated on the conductive particle side of the array sheet and laminated, and the conductive particles are embedded using a hot roll or the like. The stretchable sheet and the adhesive of the array sheet are peeled from the conductive particles embedded in the binder.
In the present invention, the conductive particles are preferably embedded at a temperature as low as possible. In particular, when the binder resin or the insulating adhesive is a thermosetting resin containing a latent curing agent, when the binder resin or the insulating adhesive is embedded at a high temperature, low temperature storage is required to suppress the progress of the curing reaction. On the other hand, if the temperature is low, embedding becomes difficult because the viscosity of the binder resin is high. Therefore, the embedding temperature of the conductive particles is preferably 35 ° C. or higher and 120 ° C. or lower, more preferably 40 ° C. or higher and 100 ° C. or lower, and further preferably 45 ° C. or higher and 80 ° C. or lower.

バインダー樹脂に導電粒子を埋め込む場合、延伸可能なシートと粘着剤を導電粒子が埋め込まれたバインダー樹脂から剥離した後に、弾性率の高いフィルムを導電粒子側に重ねて、熱ロール等を用いて更に導電粒子をバインダー樹脂内に埋め込むことが好ましい。弾性率が高いフィルムとしては、例えば、アラミドフィルム等が例示される。
導電粒子のバインダー樹脂への埋め込みが不十分の場合、導電粒子が使用前にバインダー樹脂から欠落し、接続不良の原因となる。
導電層と絶縁性接着剤は熱ロール等を用いてラミネートする事で異方導電性接着フィルムが得られる。
When embedding the conductive particles in the binder resin, after peeling the stretchable sheet and the adhesive from the binder resin in which the conductive particles are embedded, the film having a high elastic modulus is stacked on the conductive particle side, and further using a heat roll or the like. It is preferable to embed the conductive particles in the binder resin. Examples of the film having a high elastic modulus include an aramid film.
When the conductive particles are not sufficiently embedded in the binder resin, the conductive particles are missing from the binder resin before use, causing connection failure.
An anisotropic conductive adhesive film is obtained by laminating the conductive layer and the insulating adhesive using a hot roll or the like.

バインダー樹脂は、導電粒子を埋め込む面と反対の面に先に絶縁性接着剤を貼り合わせておいてもよいし、導電粒子を埋め込んだ後に、導電粒子を埋め込んだ面と反対のバインダー樹脂面に絶縁性接着剤をラミネート等で貼り合わせてもよい。必要に応じ、導電粒子が埋め込まれたバインダー樹脂面に別の絶縁性接着剤をラミネートする。
本発明の方法により得られる異方導電性接着フィルムの膜厚は、5μm以上50μm以下であることが好ましい。表面の異常抑制の観点から、該膜厚は、5μm以上が好ましく、一方、異方導電性接着フィルムの貯蔵安定性の観点から、50μm以下が好ましく、より好ましくは10μm以上30μm以下である。
The binder resin may be bonded with an insulating adhesive on the surface opposite to the surface on which the conductive particles are embedded, or after the conductive particles are embedded on the surface of the binder resin opposite to the surface on which the conductive particles are embedded. An insulating adhesive may be bonded by lamination or the like. If necessary, another insulating adhesive is laminated on the surface of the binder resin in which the conductive particles are embedded.
The thickness of the anisotropic conductive adhesive film obtained by the method of the present invention is preferably 5 μm or more and 50 μm or less. From the viewpoint of suppressing surface abnormalities, the film thickness is preferably 5 μm or more. On the other hand, from the viewpoint of storage stability of the anisotropic conductive adhesive film, it is preferably 50 μm or less, more preferably 10 μm or more and 30 μm or less.

本発明の方法により得られる異方導電性接着フィルムに残存する溶剤は、貯蔵安定性を低下させる要因になり得るので、少ないほど好ましい。該残存溶剤は、好ましくは1質量%以下であり、より好ましくは、0.7質量%以下であり、更に好ましくは0.5質量%以下である。
本発明の方法により得られる異方導電性接着フィルムは、所望の幅にスリットされ、リール状に巻き取られてもよい。
The amount of the solvent remaining in the anisotropic conductive adhesive film obtained by the method of the present invention can be a factor that lowers storage stability, so the smaller the amount, the better. The residual solvent is preferably 1% by mass or less, more preferably 0.7% by mass or less, and still more preferably 0.5% by mass or less.
The anisotropic conductive adhesive film obtained by the method of the present invention may be slit to a desired width and wound up in a reel shape.

以下、本発明を実施例によりさらに詳細に説明する。
<溶融粘度測定>
HAAKE社製、RHeoStress600 Theremoを用い、20mm径のコーン(PP20H)を用いて180℃で測定した。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples.
<Melt viscosity measurement>
The measurement was carried out at 180 ° C. using a 20 mm diameter cone (PP20H) using a RAKEStress 600 Thermo manufactured by HAAKE.

<水分の測定>
ダイアインスツルメンツ社製カールフィッシャー水分計CA−100型を使用して測定した。
<Measurement of moisture>
The measurement was performed using a Karl Fischer moisture meter CA-100 manufactured by Dia Instruments.

<ゲルタイムの測定>
(株)テイ・エスエンジニアリング社製のキュラストメーターV型を使用し、JIS K6300に準拠して求めた。
<Measurement of gel time>
Using a Clastometer V type manufactured by TS Engineering Co., Ltd., it was determined according to JIS K6300.

<ヤング率と降伏応力の測定>
INS(登録商標)TRON社製万能材料試験機5581を用い、試験速度:50mm/分、チャック間距離50mm、試験片幅25mmの条件でJIS K7161に準拠して求めた。
<Measurement of Young's modulus and yield stress>
Using a universal material testing machine 5581 manufactured by INS (registered trademark) TRON, the test speed was 50 mm / min, the distance between chucks was 50 mm, and the test piece width was 25 mm in accordance with JIS K7161.

<膜厚測定>
(株)ニコン製デジマイクロMH−15Mを用いて測定し、測定数25箇所の平均値を膜厚とした。
<Film thickness measurement>
It measured using Nikon Digimicro MH-15M, and made the average value of 25 measurement number the film thickness.

<接続抵抗測定>
日置電機(株)製3541RESISTANCE HiTESTERを用いて、接続端子間の接続抵抗を四端子法で測定した。
<Connection resistance measurement>
The connection resistance between the connection terminals was measured by a four-terminal method using a 3541 REISTANCE HiTESTER manufactured by Hioki Electric Co., Ltd.

[実施例1]
フェノキシ樹脂(InChem社製、商品名:PKHC)100質量部、ビスフェノールA型液状エポキシ樹脂(旭化成ケミカルズ株式会社製、商品名:AER2603)60質量部、2−フェニルイミダゾール(四国化成工業製、商品名:2PZ)5質量部、シランカップリング剤(信越化学工業製、商品名KBM−403)0.25質量部、メチルエチルケトン300質量部を混合し、バインダーワニスを得た。このバインダーワニスを離型処理した50μmのPETフィルム製剥離シート上にブレードコーターを用いて塗布、溶剤を乾燥除去して、膜厚4μmのフィルム状のバインダー樹脂Aを得た。別途2−フェニルイミダゾールのみを含有しないで配合して同様に作成したバインダー樹脂の溶融粘度を測定、バインダー樹脂Aの180℃溶融粘度は、78.4Pa・sであった。
[Example 1]
Phenoxy resin (InChem, trade name: PKHC) 100 parts by mass, Bisphenol A type liquid epoxy resin (Asahi Kasei Chemicals, trade name: AER2603) 60 parts by mass, 2-phenylimidazole (Shikoku Chemicals, trade name) : 2PZ) 5 parts by mass, silane coupling agent (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name KBM-403) 0.25 part by mass and methyl ethyl ketone 300 parts by mass were mixed to obtain a binder varnish. The binder varnish was applied onto a release sheet made of 50 μm PET film using a blade coater, and the solvent was removed by drying to obtain a film-like binder resin A having a thickness of 4 μm. Separately, the melt viscosity of a binder resin prepared by blending without containing only 2-phenylimidazole was measured, and the 180 ° C. melt viscosity of the binder resin A was 78.4 Pa · s.

100μm無延伸共重合ポリプロピレンフィルム上にブレードコーターを用いて酢酸エチルで樹脂分5質量%に希釈したアクリルポリマーを塗布、80℃で10分間乾燥し、厚さ2μmの粘着剤層を形成した。ここで用いたアクリルポリマーは、アクリル酸メチル62質量部、アクリル酸−2−エチルヘキシル30.6質量部、アクリル酸−2−ヒドロキシエチル7質量部を酢酸エチル233質量部中で、アゾビスイソブチロニトリル0.2質量部を開始剤とし、窒素ガス気流中65℃で8時間重合して得られた重量平均分子量が95万のものである。尚、重量平均分子量はゲル浸透クロマトグラフ法(GPC)により測定した。   An acrylic polymer diluted with ethyl acetate to a resin content of 5% by mass using a blade coater was applied onto a 100 μm unstretched copolymerized polypropylene film and dried at 80 ° C. for 10 minutes to form an adhesive layer having a thickness of 2 μm. The acrylic polymer used here was 62 parts by mass of methyl acrylate, 30.6 parts by mass of 2-ethylhexyl acrylate, and 7 parts by mass of 2-hydroxyethyl acrylate in 233 parts by mass of ethyl acetate. The weight average molecular weight obtained by polymerizing 0.2 parts by mass of nitrile at 65 ° C. for 8 hours in a nitrogen gas stream is 950,000. The weight average molecular weight was measured by gel permeation chromatography (GPC).

この粘着剤上に、平均粒径3μmの導電粒子を一面に充填し、エアーブローにより粘着剤に到達していない導電粒子を排除した。その結果、充填率が82%の単層導電粒子層が形成された。ここで導電粒子はジビニルベンゼン系樹脂をコアとし、その表層に無電解メッキで0.07μmのニッケル層を形成し、更に電気メッキで0.04μmの金層を形成した、長軸に対する短軸の比が0.95、粒径の標準偏差が0.2μmのものを用いた。   On this pressure-sensitive adhesive, conductive particles having an average particle diameter of 3 μm were filled on one side, and conductive particles that did not reach the pressure-sensitive adhesive were eliminated by air blowing. As a result, a single-layer conductive particle layer having a filling rate of 82% was formed. Here, the conductive particles have a core of divinylbenzene resin, a nickel layer of 0.07 μm is formed on the surface layer by electroless plating, and a gold layer of 0.04 μm is further formed by electroplating. The one with a ratio of 0.95 and a standard deviation of particle diameter of 0.2 μm was used.

次に、この導電粒子が粘着剤によって固定されたポリプロピレンフィルムを、試験用二軸延伸装置を用いて、135℃で、縦横共に10%/秒の比率で2.5倍まで延伸し、徐々に室温まで冷却し、配列シートAを得た。   Next, the conductive film is fixed to the polypropylene film with the adhesive using a test biaxial stretching device, and stretched to 135 times at a rate of 10% / second in both longitudinal and lateral directions at a rate of 10% / second. The array sheet A was obtained by cooling to room temperature.

フェノキシ樹脂(InChem社製、商品名:PKHC、以下同じ)100質量部、ビスフェノールA型液状エポキシ樹脂(旭化成ケミカルズ株式会社製、商品名:AER2603、以下同じ)100質量部、シランカップリング剤(信越化学工業製、商品名:KBM−403、以下同じ)1.0質量部を酢酸エチル400質量部に溶解し、それに硬化剤として、マイクロカプセル型硬化剤と液状エポキシ樹脂の質量比1:2の混合物(旭化成ケミカルズ株式会社製、商品名:ノバキュアHX−3932HP、活性化温度90℃、以下同じ)100質量部を混合し、更に、平均粒径1μmの球状シリカ粒子(比重1.82)20質量部を略均一分散し、塗工液Aを得た。
尚、ここで用いた酢酸エチル以外の原材料は、50℃で24時間、真空乾燥を行ったものを使用した。酢酸エチルは1週間モレキュラーシーブス3Aを浸漬し、脱水処理したものを用いた。塗工液A中の水分量は、マイクロカプセル型硬化剤に対して9.6質量%であった。
100 parts by mass of phenoxy resin (InChem, product name: PKHC, the same shall apply hereinafter), bisphenol A type liquid epoxy resin (Asahi Kasei Chemicals Co., Ltd., product name: AER2603, the same shall apply hereinafter), silane coupling agent (Shin-Etsu) Made by Kagaku Kogyo Co., Ltd., trade name: KBM-403, the same applies hereinafter) 1.0 part by mass is dissolved in 400 parts by mass of ethyl acetate, and as a curing agent, the mass ratio of microcapsule type curing agent and liquid epoxy resin is 1: 2. 100 parts by mass of a mixture (made by Asahi Kasei Chemicals Co., Ltd., trade name: NovaCure HX-3932HP, activation temperature 90 ° C., the same shall apply hereinafter) is mixed, and further, spherical silica particles having an average particle diameter of 1 μm (specific gravity 1.82) 20 masses. Parts were dispersed substantially uniformly to obtain a coating liquid A.
The raw materials other than ethyl acetate used here were those that were vacuum dried at 50 ° C. for 24 hours. The ethyl acetate used was one obtained by immersing Molecular Sieves 3A for 1 week and dehydrating it. The water content in the coating liquid A was 9.6% by mass with respect to the microcapsule type curing agent.

剥離性基材としてシリコーン系剥離処理を施した80μm厚の無延伸共重合ポリプロピレンフィルム(製膜温度の70℃でのヤング率と降伏応力は、それぞれ、27MPaと5MPa)を準備し、剥離処理面側に塗工液Aを、ブレードコーターを用いて塗布した。ここで得た塗工フィルムを、手動式延伸機を用いて、製膜温度での剥離性基材の伸び率が15%となる張力で一軸方向に引張りながら、熱風循環式の乾燥機で70℃(製膜温度)、10分間加熱し、溶剤を揮散させて製膜を行い、絶縁性接着剤Aを得た。絶縁性接着剤Aの膜厚は25μmであった。上記と同様な手法で膜厚違いの絶縁性接着剤Bを得た。絶縁性接着剤Bの膜厚は1μmであった。   An 80 μm-thick unstretched copolymerized polypropylene film (with Young's modulus and yield stress at a film forming temperature of 70 ° C. and a yield stress of 27 MPa and 5 MPa, respectively) prepared as a peelable substrate was prepared. The coating liquid A was applied to the side using a blade coater. The coated film obtained here was stretched in a uniaxial direction with a tension at which the elongation rate of the peelable substrate at the film-forming temperature was 15% using a manual stretching machine, and 70 with a hot-air circulating dryer. C. (film formation temperature) was heated for 10 minutes to volatilize the solvent to form a film, and an insulating adhesive A was obtained. The film thickness of the insulating adhesive A was 25 μm. Insulating adhesive B having a different film thickness was obtained in the same manner as described above. The film thickness of the insulating adhesive B was 1 μm.

配列シートAの導電粒子側にバインダー樹脂Aを重ね、55℃、0.3MPaの条件でラミネートを行い、導電層Aを得た。導電粒子を埋め込んだ面と反対のバインダー樹脂に積層されていた剥離シートを剥離した後、導電粒子を埋め込んだ面と反対のバインダー樹脂面に絶縁性接着剤Aを重ねて、同じ条件でラミネートを行った。次に配列シートAのポリプレンフィルムと粘着剤を、導電粒子を埋め込んだバインダー樹脂面から剥離した。その一部をサンプリングして、レーザー顕微鏡(キーエンス社製、商品名VK−9500、以下同じ)を用いて導電粒子の埋め込み深さを観察した所、導電粒子が2.25μmバインダー樹脂から露出しており、ハンドリング途中に粒子の欠落が観察された。   The binder resin A was overlapped on the conductive particle side of the array sheet A and laminated under the conditions of 55 ° C. and 0.3 MPa to obtain a conductive layer A. After peeling off the release sheet that had been laminated to the binder resin opposite to the surface where the conductive particles were embedded, the insulating adhesive A was superimposed on the surface of the binder resin opposite to the surface where the conductive particles were embedded, and lamination was performed under the same conditions. went. Next, the polypropylene film and the adhesive of the array sheet A were peeled from the binder resin surface in which the conductive particles were embedded. A part of the sample was sampled, and the embedding depth of the conductive particles was observed using a laser microscope (manufactured by Keyence Corporation, trade name VK-9500, hereinafter the same). As a result, the conductive particles were exposed from the 2.25 μm binder resin. In the middle of handling, the absence of particles was observed.

次に、導電粒子が埋め込まれたバインダー樹脂面に、16μmのアラミドフィルム(帝人社製、商品名アラミカ、弾性率15Gpa)を離型剤で処理したフィルムを重ねて、60℃、1.0Mpaの条件で熱ロールによる導電粒子の埋め込みを実施後、アラミドフィルムを剥離して、その面に絶縁性接着剤Bを上記と同様な条件でラミネートし、異方導電性接着フィルムAを得た。   Next, a film obtained by treating a 16 μm aramid film (manufactured by Teijin Ltd., trade name: Aramika, elastic modulus: 15 Gpa) with a release agent on the binder resin surface in which the conductive particles are embedded is superposed at 60 ° C. and 1.0 MPa. After embedding the conductive particles with a heat roll under the conditions, the aramid film was peeled off, and the insulating adhesive B was laminated on the surface thereof under the same conditions as described above to obtain an anisotropic conductive adhesive film A.

得られた異方導電性接着フィルムAの導電粒子の埋め込み深さを測定した所、バインダー樹脂からの露出は平均0.1μmであり、その埋め込み深さは導電粒子の平均粒径の97%に相当した。また、露出量より算出される、導電粒子の中心高さのバラツキは0.5μm未満であった。更に、異方導電性接着フィルムAをマイクロスコープ(株式会社キーエンス製、商品名:VHX−100、以下同じ)で観察した結果、バインダー樹脂Aの表面層に導電粒子が単層で配置され、またマイクロスコープで得られた画像から、画像処理ソフト(旭化成株式会社製、商品名:A像くん、以下同じ)を用いて、導電粒子の中心間距離の平均値およびその変動係数を求めた結果、平均値が8.3μm、変動係数が0.17であった。尚、導電粒子の中心間距離は、各粒子の中心点を用いたデローニ三角分割でできる三角形の辺の長さを使用し、導電粒子の観察は0.06mm内の粒子について行った。 When the embedding depth of the conductive particles of the obtained anisotropic conductive adhesive film A was measured, the exposure from the binder resin was an average of 0.1 μm, and the embedding depth was 97% of the average particle diameter of the conductive particles. It was equivalent. Further, the variation in the center height of the conductive particles calculated from the exposure amount was less than 0.5 μm. Furthermore, as a result of observing the anisotropic conductive adhesive film A with a microscope (manufactured by Keyence Corporation, trade name: VHX-100, the same shall apply hereinafter), the conductive particles are arranged in a single layer on the surface layer of the binder resin A. From the image obtained with the microscope, using image processing software (trade name: A image kun, manufactured by Asahi Kasei Co., Ltd., the same applies hereinafter), the average value of the center-to-center distance of the conductive particles and the coefficient of variation thereof were determined. The average value was 8.3 μm and the coefficient of variation was 0.17. As the distance between the centers of the conductive particles, the length of a side of a triangle formed by Deloni triangulation using the center point of each particle was used, and the observation of the conductive particles was performed for particles within 0.06 mm 2 .

次に、25μm×100μmの金バンプがピッチ50μmで並んだ1.5mm×16.1mmのICチップと、これに対応した接続ピッチを有するITO配線(0.14μm)上にクロム配線(0.3μm)を形成した厚み0.7mmのガラス基板を3組準備し、ガラス基板のICチップ接続位置を覆う様に、2mm×20mmの異方導電性接着フィルムAを貼り付けた。次に、70℃、0.5MPa、2秒間の条件で熱圧着し、剥離性基材を剥離した。3組とも剥離性基材を剥離することができ、貼付性は良好であった。異方導電性接着フィルムAを貼り付けたガラス基板と、ICチップをフリップチップボンダー(東レエンジニアリング株式会社製FC2000)を用いて位置合わせをし、2秒後に180℃に到達し、その後一定温度となる条件で4MPa、10秒間加熱加圧し、ICチップをガラス基板に接続した。   Next, a 1.5 mm × 16.1 mm IC chip in which gold bumps of 25 μm × 100 μm are arranged at a pitch of 50 μm, and a chromium wiring (0.3 μm) on an ITO wiring (0.14 μm) having a corresponding connection pitch. Three glass substrates having a thickness of 0.7 mm were prepared, and an anisotropic conductive adhesive film A of 2 mm × 20 mm was attached so as to cover the IC chip connection position of the glass substrate. Next, thermocompression bonding was performed under the conditions of 70 ° C., 0.5 MPa, and 2 seconds to peel the peelable substrate. In all three groups, the peelable substrate could be peeled off, and the sticking property was good. The glass substrate on which the anisotropic conductive adhesive film A is pasted and the IC chip are aligned using a flip chip bonder (FC2000 manufactured by Toray Engineering Co., Ltd.), reaches 180 ° C. after 2 seconds, and then reaches a certain temperature. Under such conditions, 4 MPa and 10 seconds were heated and pressed to connect the IC chip to the glass substrate.

ICチップとガラス基板からは、4端子接続抵抗が5箇所測定でき、3組×5箇所(計15箇所)の接続抵抗の平均値は11.3Ωであり、安定に接続されていた。更に、85℃、相対湿度85%の環境下で1,000時間放置後、同様に接続抵抗を測定した結果、接続抵抗の平均値は15.1Ωであり、優れた接続信頼性を有していた。   From the IC chip and the glass substrate, the four-terminal connection resistance could be measured at five locations, and the average value of the connection resistance at 3 sets × 5 locations (a total of 15 locations) was 11.3Ω, which was stably connected. Furthermore, after leaving for 1,000 hours in an environment of 85 ° C. and a relative humidity of 85%, the connection resistance was measured in the same manner. As a result, the average value of the connection resistance was 15.1Ω, and it had excellent connection reliability. It was.

ICチップとガラス基板からは、20対の櫛を有する櫛形電極が形成され、絶縁抵抗測定を行った。櫛形電極の絶縁抵抗は10Ω以上であり、隣接電極間でショートの発生はなかった。更に、85℃、相対湿度85%の環境下で1,000時間放置後、同様に接続抵抗を測定した結果、絶縁抵抗は10Ω以上であり、優れた接続信頼性を有していた。 Comb electrodes having 20 pairs of combs were formed from the IC chip and the glass substrate, and the insulation resistance was measured. The insulation resistance of the comb-shaped electrode was 10 9 Ω or more, and no short circuit occurred between adjacent electrodes. Furthermore, after leaving for 1,000 hours in an environment of 85 ° C. and a relative humidity of 85%, the connection resistance was measured in the same manner. As a result, the insulation resistance was 10 9 Ω or more, and excellent connection reliability was obtained.

次に、5℃で6か月貯蔵した異方導電性接着フィルムAを用いて、上記と同様に貼付性と接続抵抗測定、絶縁抵抗測定、1000時間後の接続抵抗と絶縁抵抗測定を行った。貼付性は良好であり、接続抵抗は15.4Ω、1,000時間後の接続抵抗は17.1Ωであり、絶縁接続抵抗は10Ω以上であり、1,000時間後の絶縁接続抵抗は10Ω以上であり、異方導電性接着フィルムAは高い貯蔵安定性を有していた。 Next, using the anisotropic conductive adhesive film A stored at 5 ° C. for 6 months, the sticking property and connection resistance measurement, the insulation resistance measurement, and the connection resistance and insulation resistance measurement after 1000 hours were performed as described above. . Adhesiveness is good, connection resistance is 15.4Ω, connection resistance after 1,000 hours is 17.1Ω, insulation connection resistance is 10 9 Ω or more, and insulation connection resistance after 1,000 hours is It was 10 9 Ω or more, and the anisotropic conductive adhesive film A had high storage stability.

[実施例2〜7]
以下の表1に示す配合量と製造条件で、実施例1と同様にして、絶縁性接着剤を作成し、実施例1と同様に、導電層Aを絶縁性接着剤とラミネートして異方導電性接着フィルムを製造した。実施例1と同様に、絶縁性接着剤の塗工液の水分量、異方導電性接着剤フィルムの貼付性、接続抵抗測定、貯蔵安定性を評価した。得られた結果を以下の表1に示す。尚、実施例1と同様に、絶縁抵抗測定、1,000時間後の絶縁接続抵抗測定を行った結果、全て10Ω以上であった。
[Examples 2 to 7]
An insulating adhesive was prepared in the same manner as in Example 1 with the blending amounts and manufacturing conditions shown in Table 1 below, and the conductive layer A was laminated with the insulating adhesive in an anisotropic manner as in Example 1. A conductive adhesive film was produced. In the same manner as in Example 1, the moisture content of the coating solution for the insulating adhesive, the sticking property of the anisotropic conductive adhesive film, the connection resistance measurement, and the storage stability were evaluated. The results obtained are shown in Table 1 below. In addition, as in Example 1, the insulation resistance measurement and the insulation connection resistance measurement after 1,000 hours were performed, and all were 10 9 Ω or more.

[比較例1]
以下の表1に示す配合量と製造条件で、実施例1と同様にして、異方導電性接着フィルムを作成し、実施例1と同様に、塗工液の水分量、貼付性、接続抵抗測定、絶縁抵抗測定、貯蔵安定性を評価した。得られた結果を以下の表1に示す。比較例1では、製膜工程において、塗工液が塗布された剥離性基材は、剥離性基材の弾性領域内で延伸しながら溶剤を揮散させていない(表1中、製膜時の基材の伸び率は0%である)。比較例1で使用した異方導電性接着フィルムでは、製造直後、貼付性が少し低く3枚中1枚貼付けできないものが有ったが、貼付けできたものは、安定な接続が可能であった。しかし、異方導電性接着フィルムを貯蔵すると、貼付性が低下し、更に、貼付けできたものも、接続抵抗が高く、安定に接続することはできず、異方導電性接着フィルムの貯蔵安定性が劣っていた。
[Comparative Example 1]
An anisotropic conductive adhesive film was prepared in the same manner as in Example 1 with the blending amounts and production conditions shown in Table 1 below, and in the same manner as in Example 1, the water content of the coating solution, the adhesiveness, and the connection resistance Measurement, insulation resistance measurement, and storage stability were evaluated. The results obtained are shown in Table 1 below. In Comparative Example 1, in the film forming step, the peelable substrate to which the coating liquid was applied did not volatilize the solvent while stretching in the elastic region of the peelable substrate (in Table 1, during film formation). The elongation percentage of the substrate is 0%). The anisotropic conductive adhesive film used in Comparative Example 1 had a slightly low sticking property immediately after production and could not be attached to one of the three sheets, but the one that could be attached was capable of stable connection. . However, when the anisotropic conductive adhesive film is stored, the sticking property is lowered, and furthermore, the pasted one has a high connection resistance and cannot be stably connected. The storage stability of the anisotropic conductive adhesive film Was inferior.

[比較例2]
以下の表1に示す配合量と製造条件で、実施例1と同様にして、異方導電性接着フィルムを作成し、実施例1と同様に、塗工液の水分量、貼付性を評価した。得られた結果を以下の表1に示す。比較例2で使用した絶縁性接着剤では、製膜時の延伸張力が剥離性基材の降伏応力を超えていたため、弾性領域外となり、部分的に剥離基材が大きく引き伸ばされ(表1中、製膜時の基材の伸び率は30%である)、絶縁性接着の膜厚も場所によって大きくばらついていた。更に、貼付性評価では、絶縁性接着の表面に、延伸ムラによる皺が発生したため、剥離性基材を絶縁性接着剤から剥離することができず、回路接続材の用を成さなかった。
[Comparative Example 2]
An anisotropic conductive adhesive film was prepared in the same manner as in Example 1 with the blending amounts and production conditions shown in Table 1 below, and the water content and adhesiveness of the coating liquid were evaluated in the same manner as in Example 1. . The results obtained are shown in Table 1 below. In the insulating adhesive used in Comparative Example 2, since the stretching tension at the time of film formation exceeded the yield stress of the peelable substrate, it was outside the elastic region, and the peeled substrate was partially stretched greatly (in Table 1). The elongation percentage of the base material during film formation was 30%), and the film thickness of the insulating adhesive varied greatly depending on the location. Furthermore, in the evaluation of stickability, wrinkles due to stretching unevenness occurred on the surface of the insulating adhesive, so that the peelable substrate could not be peeled from the insulating adhesive, and the circuit connecting material was not used.

Figure 0005581605
Figure 0005581605

本発明は、微細パターンの電気的接続において、微小面積の電極の電気的接続性に優れると共に、微細な配線間の絶縁破壊(ショート)が起こりにくく、異なる電極パターンの半導体チップに対しても電気的接続が可能で、長期信頼性を与える接続が可能で、かつ、低温短時間硬化性と貯蔵安定性を両立でき、更には、良好な基板への貼付性が良好であり、回路接続用途においても好適に利用できる。   The present invention is excellent in electrical connection of electrodes having a small area in electrical connection of fine patterns, and is less likely to cause dielectric breakdown (short circuit) between fine wirings, and can be electrically connected to semiconductor chips having different electrode patterns. Connection is possible, long-term reliability can be achieved, both low-temperature short-time curability and storage stability can be achieved, and in addition, it has good adhesiveness to substrates and is suitable for circuit connection applications. Can also be suitably used.

Claims (9)

導電粒子を表面層に単層に配置したバインダー樹脂よりなる導電層と、該導電層の少なくとも片面に絶縁性接着剤を積層した異方導電性接着フィルムの製造方法において、該導電粒子の中心間距離の変動係数は、0.05以上0.5以下であり、該絶縁性接着剤の180℃溶融粘度は、該バインダー樹脂の180℃溶融粘度よりも低く、そして該方法は、以下の工程:
熱硬化性樹脂と、マイクロカプセル型硬化剤と、フィルム形成性高分子とを含有する該絶縁性接着剤を溶剤に溶解又は分散させた塗工液を調製する工程、
剥離性基材上に該塗工液を塗布する工程、
該塗工液が塗布された剥離性基材を、該剥離性基材の弾性領域内で延伸しながら加熱して溶剤を揮散させる製膜工程、
を含むことを特徴とする前記異方導電性接着フィルムの製造方法。
In a method for producing an anisotropic conductive adhesive film in which a conductive layer made of a binder resin having conductive particles arranged in a single layer on a surface layer and an insulating adhesive laminated on at least one surface of the conductive layer, The coefficient of variation in distance is from 0.05 to 0.5, the 180 ° C. melt viscosity of the insulating adhesive is lower than the 180 ° C. melt viscosity of the binder resin, and the method comprises the following steps:
A step of preparing a coating liquid in which the insulating adhesive containing a thermosetting resin, a microcapsule-type curing agent, and a film-forming polymer is dissolved or dispersed in a solvent;
A step of applying the coating liquid on a peelable substrate;
A film-forming step in which the peelable substrate coated with the coating liquid is heated while being stretched within the elastic region of the peelable substrate to volatilize the solvent,
The manufacturing method of the said anisotropically conductive adhesive film characterized by including.
前記導電粒子の中心間距離の平均は、2μm以上20μm以下であり、かつ、前記導電粒子の平均粒径に対して1.5倍以上5倍以下である、請求項1に記載の異方導電性接着フィルムの製造方法。   2. The anisotropic conductivity according to claim 1, wherein an average distance between centers of the conductive particles is 2 μm or more and 20 μm or less, and is 1.5 times or more and 5 times or less with respect to an average particle diameter of the conductive particles. Method for producing an adhesive film. 前記バインダー樹脂の180℃溶融粘度は、50Pa・s以上である、請求項1又は2に記載の異方導電性接着フィルムの製造方法。   The method for producing an anisotropic conductive adhesive film according to claim 1, wherein the binder resin has a melt viscosity at 180 ° C. of 50 Pa · s or more. 前記熱硬化性樹脂は、エポキシ樹脂である、請求項1〜3のいずれか1項に記載の異方導電性接着フィルムの製造方法。   The method for producing an anisotropic conductive adhesive film according to any one of claims 1 to 3, wherein the thermosetting resin is an epoxy resin. 前記マイクロカプセル型硬化剤は、エポキシ樹脂用の硬化剤の周囲を高分子化合物で被覆した構造を有する、請求項に記載の異方導電性接着フィルムの製造方法。
The said microcapsule type hardening | curing agent is a manufacturing method of the anisotropically conductive adhesive film of Claim 4 which has the structure which coat | covered the circumference | surroundings of the hardening | curing agent for epoxy resins with the high molecular compound.
前記マイクロカプセル型硬化剤の活性化温度は、60℃以上100℃以下である、請求項1〜5のいずれか1項に記載の異方導電性接着フィルムの製造方法。   The method for producing an anisotropic conductive adhesive film according to claim 1, wherein an activation temperature of the microcapsule type curing agent is 60 ° C. or more and 100 ° C. or less. 前記塗工液中の水分量は、前記マイクロカプセル型硬化剤に対して、0.5質量%以上10質量%以下である、請求項1〜6のいずれか1項に記載の異方導電性接着フィルムの製造方法。   The anisotropic conductivity according to any one of claims 1 to 6, wherein a moisture content in the coating liquid is 0.5% by mass or more and 10% by mass or less with respect to the microcapsule type curing agent. A method for producing an adhesive film. 前記導電粒子の平均粒径は、0.5μm以上10μm以下である、請求項1〜7のいずれか1項に記載の異方導電性接着フィルムの製造方法。   The method for producing an anisotropic conductive adhesive film according to claim 1, wherein the conductive particles have an average particle size of 0.5 μm or more and 10 μm or less. 前記製膜工程の加熱温度は、50℃以上90℃以下である、請求項1〜8のいずれか1項に記載の異方導電性接着フィルムの製造方法。   The method for producing an anisotropic conductive adhesive film according to any one of claims 1 to 8, wherein a heating temperature in the film forming step is 50 ° C or higher and 90 ° C or lower.
JP2009100018A 2009-04-16 2009-04-16 Method for producing anisotropic conductive adhesive film Active JP5581605B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009100018A JP5581605B2 (en) 2009-04-16 2009-04-16 Method for producing anisotropic conductive adhesive film

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2009100018A JP5581605B2 (en) 2009-04-16 2009-04-16 Method for producing anisotropic conductive adhesive film

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2010248386A JP2010248386A (en) 2010-11-04
JP5581605B2 true JP5581605B2 (en) 2014-09-03

Family

ID=43311082

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009100018A Active JP5581605B2 (en) 2009-04-16 2009-04-16 Method for producing anisotropic conductive adhesive film

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5581605B2 (en)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013016473A (en) * 2011-06-10 2013-01-24 Sekisui Chem Co Ltd Anisotropic conductive material and connection structure
JP6151412B2 (en) * 2012-09-18 2017-06-21 デクセリアルズ株式会社 Anisotropic conductive film, method for manufacturing anisotropic conductive film, method for manufacturing connected body, and connection method
KR101628440B1 (en) 2013-10-31 2016-06-08 제일모직주식회사 Anisotropic conductive film and the semiconductor device using thereof
JP6394159B2 (en) * 2014-08-05 2018-09-26 デクセリアルズ株式会社 Anisotropic conductive adhesive, manufacturing method thereof, connection structure and manufacturing method thereof
JP6789118B2 (en) * 2015-09-25 2020-11-25 積水化学工業株式会社 Manufacturing method of connection structure and connection structure
JP7077529B2 (en) * 2017-04-12 2022-05-31 大日本印刷株式会社 How to manufacture adhesive sheet sets and articles
JP6794591B1 (en) * 2019-05-20 2020-12-02 タツタ電線株式会社 Conductive adhesive sheet

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4994653B2 (en) * 2005-12-12 2012-08-08 旭化成イーマテリアルズ株式会社 Anisotropic conductive adhesive sheet
JP2007217503A (en) * 2006-02-15 2007-08-30 Asahi Kasei Electronics Co Ltd Anisotropically electroconductive adhesive film

Also Published As

Publication number Publication date
JP2010248386A (en) 2010-11-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5825373B2 (en) Conductive particle arrangement sheet and method for producing the same
JP4789738B2 (en) Anisotropic conductive film
JP5581605B2 (en) Method for producing anisotropic conductive adhesive film
JP5147048B2 (en) Anisotropic conductive film
JP2007217503A (en) Anisotropically electroconductive adhesive film
JP5540559B2 (en) Method for producing film adhesive for circuit connection
JP5099987B2 (en) Circuit connection method and connection structure
JP2007009176A (en) Anisotropically electroconductive adhesive film
JP5147049B2 (en) Anisotropic conductive film
JP2006233202A (en) Anisotropically electroconductive adhesive film for circuit connection
JP5516016B2 (en) Anisotropic conductive adhesive film and manufacturing method thereof
JP4684087B2 (en) Connected structure
JP5577599B2 (en) Production method of film adhesive for circuit connection
JP4657047B2 (en) Connecting member
JP2012097226A (en) Anisotropically electroconductive adhesive film and connection structure
JP5046581B2 (en) Adhesive for circuit connection
JP2006233200A (en) Anisotropically electroconductive adhesive film
JP4703306B2 (en) Conductive particle connection structure
JP2006233201A (en) Anisotropically electroconductive adhesive film
JP5682720B2 (en) Anisotropic conductive adhesive film and manufacturing method thereof
JP4953685B2 (en) Connecting material
JP2010174230A (en) Method for producing filmy adhesive
JP5202662B2 (en) Circuit connection film
JP2012097231A (en) Anisotropically electroconductive adhesive film

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20120416

A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711

Effective date: 20130704

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20130704

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20130717

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20130924

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20140617

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20140630

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5581605

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250