JP2008274102A - Cycloolefin resin film, polarizing plate, optical compensation film, anti-reflection film, liquid crystal display, and method of manufacturing the cycloolefin resin film - Google Patents

Cycloolefin resin film, polarizing plate, optical compensation film, anti-reflection film, liquid crystal display, and method of manufacturing the cycloolefin resin film Download PDF

Info

Publication number
JP2008274102A
JP2008274102A JP2007119186A JP2007119186A JP2008274102A JP 2008274102 A JP2008274102 A JP 2008274102A JP 2007119186 A JP2007119186 A JP 2007119186A JP 2007119186 A JP2007119186 A JP 2007119186A JP 2008274102 A JP2008274102 A JP 2008274102A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
film
cycloolefin resin
resin film
stretching
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2007119186A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yasuo Kuraki
康雄 椋木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Corp
Original Assignee
Fujifilm Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujifilm Corp filed Critical Fujifilm Corp
Priority to JP2007119186A priority Critical patent/JP2008274102A/en
Publication of JP2008274102A publication Critical patent/JP2008274102A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Polarising Elements (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
  • Extrusion Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a cycloolefin film, which prevents roll fouling from occurring on a casting roll even if a molten film is formed using a touch roll, is suitable for a polarizing plate, an optical compensation film, an anti-reflection film, a liquid crystal display or the like, is excellent in light weathering resistance, and has a good surface property; and to provide a method of manufacturing the cycloolefin film. <P>SOLUTION: The cycloolefin resin film contains 0.05 to 3 mass% of at least one of ultraviolet absorbers with a molecular weight of 500 or more and is produced by a molten film forming method using the touch roll. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、シクロオレフィン樹脂フィルム、偏光板、光学補償フィルム、反射防止フィルム、液晶表示装置およびシクロオレフィン樹脂フィルムの製造方法に関する。   The present invention relates to a cycloolefin resin film, a polarizing plate, an optical compensation film, an antireflection film, a liquid crystal display device, and a method for producing a cycloolefin resin film.

従来から、ポリオレフィン系の樹脂に紫外線吸収剤を添加して溶融製膜することが知られている。
例えば、特許文献1には、ノルボルナン構造を有さない脂環構造を含有する繰り返し単位を30重量%以上含むシクロオレフィン樹脂と、フェノール系酸化防止剤とリン系酸化防止剤とを含んでなる樹脂組成物が開示されている。さらに、これらの樹脂組成物に、紫外線吸収剤を添加しても良いことが記載されている。
また、特許文献2には、シクロオレフィン樹脂および、分子量が300以上、温度20℃における蒸気圧が1×10-8Pa以下であり加熱減量測定での5%重量減少温度が200℃以上であるベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤および分子量が500以上、温度20℃における蒸気圧が1×10-6Pa以下であり加熱減量測定での5%重量減少温度が250℃以上であるヒンダードアミン系光安定剤を含む樹脂組成物が開示されている。
Conventionally, it is known to melt-form a polyolefin resin by adding an ultraviolet absorber.
For example, Patent Document 1 discloses a resin comprising a cycloolefin resin containing 30% by weight or more of a repeating unit containing an alicyclic structure not having a norbornane structure, a phenolic antioxidant and a phosphorus antioxidant. A composition is disclosed. Furthermore, it is described that an ultraviolet absorber may be added to these resin compositions.
Patent Document 2 discloses that a cycloolefin resin, a molecular weight of 300 or more, a vapor pressure at a temperature of 20 ° C. is 1 × 10 −8 Pa or less, and a 5% weight reduction temperature in a heat loss measurement is 200 ° C. or more. A benzotriazole-based UV absorber and a hindered amine light stabilizer having a molecular weight of 500 or more, a vapor pressure at a temperature of 20 ° C. of 1 × 10 −6 Pa or less, and a 5% weight loss temperature in a measurement of loss on heating of 250 ° C. A resin composition is disclosed.

特開平11−217481号公報JP-A-11-217481 特開2001−72839号公報JP 2001-72839 A

しかしながら、本発明者が鋭意検討した結果、特許文献1および2に記載の溶融製膜方法では、得られるフィルムの面状が悪化してしまうという問題があった。また、製膜装置のロール汚れが発生するという問題もあった。
本発明は上記課題を解決することを目的とするものであって、溶融製膜法により製造されたシクロオレフィン樹脂フィルムであって、光耐候性に優れ、かつ、面状が良好なフィルムを提供することを目的とする。さらに、該フィルムの製膜装置のロール汚れを軽減することを目的とする。
However, as a result of intensive studies by the inventor, the melt film-forming methods described in Patent Documents 1 and 2 have a problem that the surface condition of the obtained film is deteriorated. In addition, there is a problem that roll contamination of the film forming apparatus occurs.
The present invention aims to solve the above-mentioned problems, and provides a cycloolefin resin film produced by a melt film-forming method, which is excellent in light weather resistance and has a good surface condition. The purpose is to do. Furthermore, it aims at reducing the roll dirt of the film forming apparatus of this film.

上記課題のもと、発明者が鋭意検討した結果、タッチロールを用いて製膜し、かつ、高分子量の紫外線吸収剤を採用することにより、得られるフィルムの光耐候性、面状不良を改良できるだけでなく、製膜装置のロール汚れを改善できることを見出した。具体的には、下記手段により達成された。
(1)分子量が500以上の紫外線吸収剤の少なくとも1種類を0.05〜3質量%含有し、タッチロールを用いた融膜製膜法で作製されたシクロオレフィン樹脂フィルム。
(2)波長380nmにおける吸光率が、5%以下であることを特徴とする(1)に記載のシクロオレフィン樹脂フィルム。
(3)前記紫外線吸収剤が、下記一般式(HUV−1)で表される化合物であることを特徴とする(1)または(2)に記載のシクロオレフィン樹脂フィルム。
一般式(HUV−1)

Figure 2008274102
(式中、R1およびR2はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子または炭素数1〜5のアルキル基を表し、R3、R4、R5およびR6はそれぞれ独立に水素原子、炭素数1〜18の置換もしくは無置換のアルキル基、または炭素数6〜18の置換もしくは無置換のアリール基を表す。)
(4)投影斜めスジが10本/cm以下である、(1)〜(3)のいずれか1項に記載のシクロオレフィン樹脂フィルム。
(5)前記シクロオレフィン樹脂が、付加重合によって得られたものであることを特徴とする、(1)〜(4)のいずれか1項に記載のシクロオレフィン樹脂フィルム。
(6)偏光膜に、(1)〜(5)のいずれか1項に記載のシクロオレフィン樹脂フィルムを少なくとも1層積層したことを特徴とする偏光板。
(7)(1)〜(5)のいずれか1項に記載のシクロオレフィン樹脂フィルムを基材に用いたことを特徴とする光学補償フィルム。
(8)(1)〜(5)のいずれか1項に記載のシクロオレフィン樹脂フィルムを基材に用いたことを特徴とする反射防止フィルム。
(9)(1)〜(5)のいずれか1項に記載のシクロオレフィン樹脂フィルム、(6)に記載の偏光板、(7)の光学補償フィルム、および、(8)に記載の反射防止フィルムの少なくとも一つを用いたことを特徴とする液晶表示装置。
(10)分子量が500以上の紫外線吸収剤の少なくとも1種類を0.05〜3質量%含有するシクロオレフィン樹脂組成物を、タッチロールを用いて融膜製膜法で作製することを特徴とする、シクロオレフィン樹脂フィルムの製造方法。
(11)前記紫外線吸収剤が、下記一般式(HUV−1)で表される化合物であることを特徴とする(10)に記載のシクロオレフィン樹脂フィルムの製造方法。
一般式(HUV−1)
Figure 2008274102
(式中、R1およびR2はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子または炭素数1〜5のアルキル基を表し、R3、R4、R5およびR6はそれぞれ独立に水素原子、炭素数1〜18の置換もしくは無置換のアルキル基、または炭素数6〜18の置換もしくは無置換のアリール基を表す。) Based on the above problems, as a result of intensive studies by the inventor, the film was formed using a touch roll, and a high molecular weight ultraviolet absorber was used to improve the light weather resistance and surface defects of the resulting film. It has been found that not only can the roll contamination of the film forming apparatus be improved. Specifically, it was achieved by the following means.
(1) A cycloolefin resin film produced by a melt film-forming method using a touch roll, containing 0.05 to 3% by mass of at least one ultraviolet absorber having a molecular weight of 500 or more.
(2) The cycloolefin resin film as described in (1), wherein the absorbance at a wavelength of 380 nm is 5% or less.
(3) The cycloolefin resin film according to (1) or (2), wherein the ultraviolet absorber is a compound represented by the following general formula (HUV-1).
General formula (HUV-1)
Figure 2008274102
(In the formula, R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and R 3 , R 4 , R 5 and R 6 each independently represent a hydrogen atom or carbon number. Represents a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 18 carbon atoms.
(4) The cycloolefin resin film according to any one of (1) to (3), wherein a projected oblique line is 10 lines / cm or less.
(5) The cycloolefin resin film according to any one of (1) to (4), wherein the cycloolefin resin is obtained by addition polymerization.
(6) A polarizing plate, wherein at least one layer of the cycloolefin resin film according to any one of (1) to (5) is laminated on a polarizing film.
(7) An optical compensation film using the cycloolefin resin film according to any one of (1) to (5) as a base material.
(8) An antireflection film using the cycloolefin resin film according to any one of (1) to (5) as a base material.
(9) The cycloolefin resin film according to any one of (1) to (5), the polarizing plate according to (6), the optical compensation film according to (7), and the antireflection according to (8). A liquid crystal display device using at least one of films.
(10) A cycloolefin resin composition containing 0.05 to 3% by mass of at least one ultraviolet absorber having a molecular weight of 500 or more is prepared by a melt film forming method using a touch roll. The manufacturing method of a cycloolefin resin film.
(11) The method for producing a cycloolefin resin film as described in (10), wherein the ultraviolet absorber is a compound represented by the following general formula (HUV-1).
General formula (HUV-1)
Figure 2008274102
(In the formula, R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and R 3 , R 4 , R 5 and R 6 each independently represent a hydrogen atom or carbon number. Represents a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 18 carbon atoms.

本発明により、溶融製膜法により製造されたシクロオレフィン樹脂フィルムであって、光耐候性に優れ、かつ、面状が良好なフィルムを得ることが可能になった。さらに、該フィルムの製膜装置のロール汚れを軽減することが可能になった。 According to the present invention, it is possible to obtain a cycloolefin resin film produced by a melt film-forming method, which has excellent light weather resistance and good surface condition. Furthermore, it became possible to reduce the roll dirt of the film forming apparatus.

以下において、本発明の内容について詳細に説明する。尚、本願明細書において「〜」とはその前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用される。本明細書において、アルキル基等の「基」は、特に述べない限り、置換基を有していてもよいし、有していなくてもよい。さらに、炭素数が限定されている基の場合、該炭素数は、置換基が有する炭素数を含めた数を意味している。   Hereinafter, the contents of the present invention will be described in detail. In the present specification, “to” is used to mean that the numerical values described before and after it are included as a lower limit value and an upper limit value. In the present specification, a “group” such as an alkyl group may or may not have a substituent unless otherwise specified. Further, in the case of a group having a limited number of carbons, the number of carbons means a number including the number of carbons that the substituent has.

以下、本発明について、さらに詳細に説明する。
《シクロオレフィン樹脂》
まず、本発明のシクロオレフィン樹脂フィルムに用いられるシクロオレフィン樹脂について、説明する。
本発明におけるシクロオレフィン樹脂は、本発明の趣旨を逸脱しない限り特に定めるものではなく、例えば、以下に述べるものが採用できる。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail.
《Cycloolefin resin》
First, the cycloolefin resin used for the cycloolefin resin film of this invention is demonstrated.
The cycloolefin resin in the present invention is not particularly defined as long as it does not depart from the gist of the present invention. For example, those described below can be adopted.

(シクロオレフィン樹脂−A/開環重合型)
本発明で使用するシクロオレフィン樹脂−Aとしては、例えば、(1)ノルボルネン系モノマーの開環(共)重合体を、必要に応じてマレイン酸付加、シクロペンタジエン付加のごときポリマー変性を行なった後に、水素添加した樹脂、(2)ノルボルネン系モノマーを付加型重合させた樹脂、(3)ノルボルネン系モノマーとエチレンやα−オレフィンなどのオレフィン系モノマーと付加型共重合させた樹脂などを挙げることができる。重合方法および水素添加方法は、常法により行なうことができる。
(Cycloolefin resin-A / ring-opening polymerization type)
As the cycloolefin resin-A used in the present invention, for example, (1) a ring-opening (co) polymer of a norbornene monomer is subjected to polymer modification such as maleic acid addition or cyclopentadiene addition as necessary. , Hydrogenated resins, (2) resins obtained by addition polymerization of norbornene monomers, and (3) resins obtained by addition copolymerization with norbornene monomers and olefin monomers such as ethylene and α-olefin. it can. The polymerization method and the hydrogenation method can be performed by conventional methods.

前記ノルボルネン系モノマーとしては、例えば、ノルボルネン、およびそのアルキルおよび/またはアルキリデン置換体、例えば、5−メチル−2−ノルボルネン、5−ジメチル−2−ノルボルネン、5−エチル−2−ノルボルネン、5−ブチル−2−ノルボルネン、5−エチリデン−2−ノルボルネン等、ならびに、これらのハロゲン等の極性基置換体;ジシクロペンタジエン、2,3−ジヒドロジシクロペンタジエン等;ジメタノオクタヒドロナフタレン、そのアルキルおよび/またはアルキリデン置換体、およびハロゲン等の極性基置換体、例えば、6−メチル−1,4:5,8−ジメタノ−1,4,4a,5,6,7,8,8a−オクタヒドロナフタレン、6−エチル−1,4:5,8−ジメタノ−1,4,4a,5,6,7,8,8a−オクタヒドロナフタレン、6−エチリデン−1,4:5,8−ジメタノ−1,4,4a,5,6,7,8,8a−オクタヒドロナフタレン、6−クロロ−1,4:5,8−ジメタノ−1,4,4a,5,6,7,8,8a−オクタヒドロナフタレン、6−シアノ−1,4:5,8−ジメタノ−1,4,4a,5,6,7,8,8a−オクタヒドロナフタレン、6−ピリジル−1,4:5,8−ジメタノ−1,4,4a,5,6,7,8,8a−オクタヒドロナフタレン、6−メトキシカルボニル−1,4:5,8−ジメタノ−1,4,4a,5,6,7,8,8a−オクタヒドロナフタレン等;シクロペンタジエンとテトラヒドロインデン等との付加物;シクロペンタジエンの3〜4量体、例えば、4,9:5,8−ジメタノ−3a,4,4a,5,8,8a,9,9a−オクタヒドロ−1H−ベンゾインデン、4,11:5,10:6,9−トリメタノ−3a,4,4a,5,5a,6,9,9a,10,10a,11,11a−ドデカヒドロ−1H−シクロペンタアントラセン;等が挙げられる。   Examples of the norbornene-based monomer include norbornene and alkyl and / or alkylidene substituted products thereof such as 5-methyl-2-norbornene, 5-dimethyl-2-norbornene, 5-ethyl-2-norbornene, and 5-butyl. 2-norbornene, 5-ethylidene-2-norbornene and the like, and polar group substitution products thereof such as halogen; dicyclopentadiene, 2,3-dihydrodicyclopentadiene, etc .; dimethanooctahydronaphthalene, its alkyl and / or Or an alkylidene-substituted product and a polar group-substituted product such as halogen, for example, 6-methyl-1,4: 5,8-dimethano-1,4,4a, 5,6,7,8,8a-octahydronaphthalene, 6-ethyl-1,4: 5,8-dimethano-1,4,4a, 5,6,7,8, a-octahydronaphthalene, 6-ethylidene-1,4: 5,8-dimethano-1,4,4a, 5,6,7,8,8a-octahydronaphthalene, 6-chloro-1,4: 5 8-dimethano-1,4,4a, 5,6,7,8,8a-octahydronaphthalene, 6-cyano-1,4: 5,8-dimethano-1,4,4a, 5,6,7, 8,8a-octahydronaphthalene, 6-pyridyl-1,4: 5,8-dimethano-1,4,4a, 5,6,7,8,8a-octahydronaphthalene, 6-methoxycarbonyl-1,4 : 5,8-dimethano-1,4,4a, 5,6,7,8,8a-octahydronaphthalene, etc .; adducts of cyclopentadiene and tetrahydroindene, etc .; 3-tetramers of cyclopentadiene, for example, 4,9: 5,8-dimethano-3a, , 4a, 5,8,8a, 9,9a-octahydro-1H-benzoindene, 4,11: 5,10: 6,9-trimethano-3a, 4,4a, 5,5a, 6,9,9a, 10, 10a, 11, 11a-dodecahydro-1H-cyclopentanthracene; and the like.

(シクロオレフィン樹脂−B/開環重合型)
また、シクロオレフィン樹脂として、下記一般式(1)〜(4)で表わされるシクロオレフィン樹脂を挙げることができ、これらのうち、下記一般式(1)で表されるものが特に好ましい。
(Cycloolefin resin-B / ring-opening polymerization type)
Moreover, as cycloolefin resin, the cycloolefin resin represented by following General formula (1)-(4) can be mentioned, Among these, what is represented by the following general formula (1) is especially preferable.

Figure 2008274102
〔一般式(1)〜(4)中、A、B、CおよびDは、それぞれ、水素原子または1価の有機基を示し、これらのうち少なくとも1つは極性基である。〕
Figure 2008274102
[In General Formulas (1) to (4), A, B, C and D each represent a hydrogen atom or a monovalent organic group, and at least one of them is a polar group. ]

ここで、1価の有機基としては、アルキルオキシカルボニル置換アルキル基が挙げられ、−(CH2nCOOR(ここで、Rは炭素原子数1〜20の炭化水素基、nは0〜10の整数を示す。)が好ましい。 Here, examples of the monovalent organic group include an alkyloxycarbonyl-substituted alkyl group, and — (CH 2 ) n COOR (where R is a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and n is 0 to 10). Is preferred).

本発明におけるシクロオレフィン樹脂としては、また、下記一般式(5)で表わされるテトラシクロドデセン誘導体の少なくとも1種を、単独で、あるいは、当該テトラシクロドデセン誘導体と、これと共重合体可能な不飽和環状化合物とをメタセシス重合して得られる重合体を水素添加して得られる水添重合体を用いてもよい。   As the cycloolefin resin in the present invention, at least one tetracyclododecene derivative represented by the following general formula (5) can be used alone or as a copolymer with the tetracyclododecene derivative. A hydrogenated polymer obtained by hydrogenating a polymer obtained by metathesis polymerization with an unsaturated cyclic compound may be used.

Figure 2008274102
(一般式(5)中、A、B、CおよびDは、それぞれ、水素原子または1価の有機基を示し、これらのうち少なくとも1つは極性基である。)
Figure 2008274102
(In general formula (5), A, B, C and D each represent a hydrogen atom or a monovalent organic group, and at least one of them is a polar group.)

前記一般式(5)で表わされるテトラシクロドデセン誘導体において、有機基としては、上記一般式(1)〜(4)で述べた有機基が挙げられる。さらに、A、B、CおよびDのうち少なくとも1つが極性基であることにより、他の材料との密着性、耐熱性などに優れた偏光フィルムを得ることができる。さらに、この極性基が−(CH2nCOOR(ここで、Rは炭素原子数1〜20の炭化水素基、nは0〜10の整数を示す。)で表わされる基であることが、最終的に得られる水添重合体(シクロオレフィン樹脂フィルム)が高いガラス転移温度を有するものとなるので好ましい。特に、この−(CH2nCOORで表わされる極性置換基は、一般式(5)のテトラシクロドデセン誘導体の1分子あたりに1個含有されることが吸水率を低下させる点から好ましい。前記極性置換基において、Rで示される炭化水素基の炭素原子数が多くなるほど得られる水添重合体の吸湿性が小さくなる点では好ましいが、得られる水添重合体のガラス転移温度とのバランスの点から、当該炭化水素基は、炭素原子数1〜4の鎖状アルキル基または炭素原子数5以上の(多)環状アルキル基であることが好ましく、特にメチル基、エチル基、シクロヘキシル基であることが好ましい。 In the tetracyclododecene derivative represented by the general formula (5), examples of the organic group include the organic groups described in the general formulas (1) to (4). Furthermore, when at least one of A, B, C and D is a polar group, a polarizing film excellent in adhesion to other materials, heat resistance and the like can be obtained. Furthermore, the polar group is a group represented by — (CH 2 ) n COOR (where R is a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and n is an integer of 0 to 10). Since the finally obtained hydrogenated polymer (cycloolefin resin film) has a high glass transition temperature, it is preferable. In particular, the polar substituent represented by — (CH 2 ) n COOR is preferably contained in one molecule of the tetracyclododecene derivative of the general formula (5) from the viewpoint of reducing the water absorption rate. In the polar substituent, it is preferable in that the hygroscopicity of the obtained hydrogenated polymer decreases as the number of carbon atoms of the hydrocarbon group represented by R increases, but the balance with the glass transition temperature of the obtained hydrogenated polymer. From the above point, the hydrocarbon group is preferably a chain alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or a (poly) cyclic alkyl group having 5 or more carbon atoms, particularly a methyl group, an ethyl group, or a cyclohexyl group. Preferably there is.

さらに、−(CH2nCOORで表わされる基が結合した炭素原子に、炭素原子数1〜10の炭化水素基が置換基として結合されている一般式(5)のテトラシクロドデセン誘導体は、得られる水添重合体の吸湿性が低いものとなるので好ましい。特に、この置換基がメチル基またはエチル基である一般式(5)のテトラシクロドデセン誘導体は、その合成が容易な点で好ましい。具体的には、8−メチル−8−メトキシカルボニルテトラシクロ〔4,4,0,12.5,17.10〕ドデカ−3−エンが好ましい。これらのテトラシクロドデセン誘導体、およびこれと共重合可能な不飽和環状化合物の混合物は、例えば、特開平4−77520号公報第4頁右上欄12行〜第6頁右下欄第6行に記載された方法によってメタセシス重合、水素添加することができる。 Further, the tetracyclododecene derivative of the general formula (5) in which a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms is bonded as a substituent to a carbon atom to which a group represented by — (CH 2 ) n COOR is bonded is Since the resulting hydrogenated polymer has low hygroscopicity, it is preferable. In particular, the tetracyclododecene derivative of the general formula (5) in which the substituent is a methyl group or an ethyl group is preferable in terms of easy synthesis. Specifically, 8-methyl-8-methoxycarbonyltetracyclo [4,4,0,12.5,17.10] dodec-3-ene is preferable. These tetracyclododecene derivatives and mixtures of unsaturated cyclic compounds copolymerizable therewith are disclosed, for example, in JP-A-4-77520, page 4, upper right column, line 12 to page 6, lower right column, line 6. Metathesis polymerization and hydrogenation can be carried out by the methods described.

本発明におけるシクロオレフィン樹脂としては、また、下記構造のシクロオレフィン樹脂(付加重合型)を使用することができる。
[A−1]:炭素原子数が2〜20のα−オレフィンと一般式(6)で表される環状オレフィンとのランダム共重合体の水素添加物、
[A−2]:下記一般式(6)で表される環状オレフィンの開環重合体または共重合体の水素添加物
As the cycloolefin resin in the present invention, a cycloolefin resin (addition polymerization type) having the following structure can be used.
[A-1]: hydrogenated product of random copolymer of α-olefin having 2 to 20 carbon atoms and cyclic olefin represented by general formula (6),
[A-2]: hydrogenated product of ring-opening polymer or copolymer of cyclic olefin represented by the following general formula (6)

一般式(6)

Figure 2008274102

一般式(6)中、nは0または1であり、mは0または1以上の整数であり、qは0または1である。
なお、qが1の場合には、RaおよびRbは、それぞれ、下記に示す原子または炭化水素基であり、qが0の場合には、それぞれの結合手が結合して5員環を形成する。 General formula (6)
Figure 2008274102

In general formula (6), n is 0 or 1, m is 0 or an integer of 1 or more, and q is 0 or 1.
When q is 1, each of R a and R b is an atom or a hydrocarbon group shown below. When q is 0, each bond is bonded to form a 5-membered ring. Form.

1〜R18ならびにRaおよびRbは、それぞれ、水素原子、ハロゲン原子または炭化水素基である。ここでハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子が挙げられる。
また、炭化水素基としては、それぞれ、炭素原子数1〜20のアルキル基、炭素原子数3〜15のシクロアルキル基、芳香族炭化水素基が挙げられる。より具体的には、アルキル基としてはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、アミル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基およびオクタデシル基が挙げられ、シクロアルキル基としては、シクロヘキシル基が挙げられ、芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基などが挙げられる。これらの炭化水素基は、ハロゲン原子で置換されていてもよい。さらに上記一般式(6)において、R15 〜R18 がそれぞれ結合して(互いに共同して)単環または多環を形成していてもよく、しかも、このようにして形成された単環または多環は二重結合を有していてもよい。
一般式(6)で示される環状オレフィンを、より具体的に次に例示する。一例として、

Figure 2008274102
で示されるビシクロ[2.2.1]−2−ヘプテン(=ノルボルネン)(上記式において、1〜7の数字は炭素の位置番号を示す。)および該化合物に炭化水素基が置換した誘導体が挙げられる。 R 1 to R 18 and R a and R b are each a hydrogen atom, a halogen atom or a hydrocarbon group. Here, examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.
Examples of the hydrocarbon group include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 15 carbon atoms, and an aromatic hydrocarbon group. More specifically, examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, an amyl group, a hexyl group, an octyl group, a decyl group, a dodecyl group, and an octadecyl group, and the cycloalkyl group includes a cyclohexyl group. Group, and examples of the aromatic hydrocarbon group include a phenyl group and a naphthyl group. These hydrocarbon groups may be substituted with a halogen atom. Furthermore, in the above general formula (6), R 15 to R 18 may be bonded to each other (in cooperation with each other) to form a monocyclic or polycyclic ring, and the monocyclic or polycyclic ring thus formed The polycycle may have a double bond.
Specific examples of the cyclic olefin represented by the general formula (6) are shown below. As an example,
Figure 2008274102
And bicyclo [2.2.1] -2-heptene (= norbornene) represented by the formula (wherein the numbers 1 to 7 represent carbon position numbers) and a derivative in which a hydrocarbon group is substituted on the compound. Can be mentioned.

この置換炭化水素基として、5−メチル基、5,6−ジメチル基、1−メチル基、5−エチル基、5−n−ブチル基、5−イソブチル基、7−メチル基、5−フェニル基、5−メチル−5−フェニル基、5−ベンジル基、5−トリル基、5−(エチルフェニル)基、5−(イソプロピルフェニル)基、5−(ビフェニル)基、5−(β−ナフチル)基、5−(α−ナフチル)基、5−(アントラセニル)基、5,6−ジフェニル基などを例示することができる。 As this substituted hydrocarbon group, 5-methyl group, 5,6-dimethyl group, 1-methyl group, 5-ethyl group, 5-n-butyl group, 5-isobutyl group, 7-methyl group, 5-phenyl group , 5-methyl-5-phenyl group, 5-benzyl group, 5-tolyl group, 5- (ethylphenyl) group, 5- (isopropylphenyl) group, 5- (biphenyl) group, 5- (β-naphthyl) Examples thereof include a group, a 5- (α-naphthyl) group, a 5- (anthracenyl) group, and a 5,6-diphenyl group.

さらに他の誘導体として、シクロペンタジエン−アセナフチレン付加物、1,4−メタノ−1,4,4a,9a−テトラヒドロフルオレン、1,4−メタノ−1,4,4a,5,10,10a−ヘキサヒドロアントラセンなどのビシクロ[2.2.1]−2−ヘプテン誘導体を例示することができる。 Still other derivatives include cyclopentadiene-acenaphthylene adduct, 1,4-methano-1,4,4a, 9a-tetrahydrofluorene, 1,4-methano-1,4,4a, 5,10,10a-hexahydro. Bicyclo [2.2.1] -2-heptene derivatives such as anthracene can be exemplified.

この他、トリシクロ[4.3.0.12,5]−3−デセン、2−メチルトリシクロ[4.3.0.12,5]−3−デセン、5−メチルトリシクロ[4.3.0.12,5]−3−デセンなどのトリシクロ[4.3.0.12,5]−3−デセン誘導体、トリシクロ[4.4.0.12,5]−3−ウンデセン、10−メチルトリシクロ[4.4.0.12,5]−3−ウンデセンなどのトリシクロ[4.4.0.12,5]−3−ウンデセン誘導体、

Figure 2008274102
で示されるテトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]−3−ドデセン、およびこれに炭化水素基が置換した誘導体が挙げられる。 In addition, tricyclo [4.3.0.1 2,5 ] -3-decene, 2-methyltricyclo [4.3.0.1 2,5 ] -3-decene, 5-methyltricyclo [4 .3.0.1 2,5 ] -3-decene and other tricyclo [4.3.0.1 2,5 ] -3-decene derivatives, tricyclo [4.4.0.1 2,5 ] -3 A tricyclo [4.4.0.1 2,5 ] -3-undecene derivative such as undecene, 10-methyltricyclo [4.4.0.1 2,5 ] -3-undecene,
Figure 2008274102
Tetracyclo [4.4.0.1 2,5 . 1 7,10 ] -3-dodecene, and derivatives substituted with a hydrocarbon group.

その炭化水素基として、8−メチル基、8−エチル基、8−プロピル基、8−ブチル基、8−イソブチル基、8−ヘキシル基、8−シクロヘキシル基、8−ステアリル基、5,10−ジメチル基、2,10−ジメチル基、8,9−ジメチル基、8−エチル−9−メチル基、11,12−ジメチル基、2,7,9−トリメチル基、2,7−ジメチル−9−エチル基、9−イソブチル−2,7−ジメチル基、9,11,12−トリメチル基、9−エチル−11,12−ジメチル基、9−イソブチル−11,12−ジメチル基、5,8,9,10−テトラメチル基、8−エチリデン基、8−エチリデン−9−メチル基、8−エチリデン−9−エチル基、8−エチリデン−9−イソプロピル基、8−エチリデン−9−ブチル基、8−n−プロピリデン基、8−n−プロピリデン−9−メチル基、8−n−プロピリデン−9−エチル基、8−n−プロピリデン−9−イソプロピル基、8−n−プロピリデン−9−ブチル基、8−イソプロピリデン基、8−イソプロピリデン−9−メチル基、8−イソプロピリデン−9−エチル基、8−イソプロピリデン−9−イソプロピル基、8−イソプロピリデン−9−ブチル基、8−クロロ基、8−ブロモ基、8−フルオロ基、8,9−ジクロロ、8−フェニル基、8−メチル−8−フェニル基、8−ベンジル基、8−トリル基、8−(エチルフェニル)基、8−(イソプロピルフェニル)基、8,9−ジフェニル基、8−(ビフェニル)基、8−(β−ナフチル)基、8−(α−ナフチル)基、8−(アントラセニル)基、5,6−ジフェニル基等を例示することができる。 As the hydrocarbon group, 8-methyl group, 8-ethyl group, 8-propyl group, 8-butyl group, 8-isobutyl group, 8-hexyl group, 8-cyclohexyl group, 8-stearyl group, 5,10- Dimethyl group, 2,10-dimethyl group, 8,9-dimethyl group, 8-ethyl-9-methyl group, 11,12-dimethyl group, 2,7,9-trimethyl group, 2,7-dimethyl-9- Ethyl group, 9-isobutyl-2,7-dimethyl group, 9,11,12-trimethyl group, 9-ethyl-11,12-dimethyl group, 9-isobutyl-11,12-dimethyl group, 5,8,9 , 10-tetramethyl group, 8-ethylidene group, 8-ethylidene-9-methyl group, 8-ethylidene-9-ethyl group, 8-ethylidene-9-isopropyl group, 8-ethylidene-9-butyl group, 8- n-propylidene 8-n-propylidene-9-methyl group, 8-n-propylidene-9-ethyl group, 8-n-propylidene-9-isopropyl group, 8-n-propylidene-9-butyl group, 8-isopropylidene group 8-isopropylidene-9-methyl group, 8-isopropylidene-9-ethyl group, 8-isopropylidene-9-isopropyl group, 8-isopropylidene-9-butyl group, 8-chloro group, 8-bromo group , 8-fluoro group, 8,9-dichloro, 8-phenyl group, 8-methyl-8-phenyl group, 8-benzyl group, 8-tolyl group, 8- (ethylphenyl) group, 8- (isopropylphenyl) Group, 8,9-diphenyl group, 8- (biphenyl) group, 8- (β-naphthyl) group, 8- (α-naphthyl) group, 8- (anthracenyl) group, 5,6-diphenyl group, etc. Rukoto can.

さらには、(シクロペンタジエン−アセナフチレン付加物)とシクロペンタジエンとの付加物などのテトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]−3−ドデセン誘導体、ペンタシクロ[6.5.1.13,6.02,7.09,13]−4−ペンタデセンおよびその誘導体、ペンタシクロ[7.4.0.12,5.19,12.08,13]−3−ペンタデセンおよびその誘導体、ペンタシクロ[8.4.0.12,5.19,12.08,13]−3−ヘキサデセンおよびその誘導体、ペンタシクロ[6.6.1.13,6.02,7.09,14]−4−ヘキサデセンおよびその誘導体、ヘキサシクロ[6.6.1.13,6.110,13.02,7.09,14]−4−ヘプタデセンおよびその誘導体、ヘプタシクロ[8.7.0.12,9.14,7.111,17.03,8.012,16]−5−エイコセンおよびその誘導体、ヘプタシクロ[8.7.0.13,6.110,17.112,15.02,7.011,16]−4−エイコセンおよびその誘導体、ヘプタシクロ[8.8.0.12,9.14,7.111,18.03,8.012,17]−5−ヘンエイコセンおよびその誘導体、オクタシクロ[8.8.0.12,9.14,7.111,18.113,16.03,8.012,17]−5−ドコセンおよびその誘導体、ノナシクロ[10.9.1.14,7.113,20.115,18.02,10.03,8.012,21.014,19]−5−ペンタコセンおよびその誘導体などが挙げられる。 Furthermore, tetracyclo [4.4.0.1 2,5 ... Adducts of (cyclopentadiene-acenaphthylene adduct) and cyclopentadiene. 1 7,10 ] -3-dodecene derivative, pentacyclo [6.5.1.1 3,6 . 0 2,7 . 0 9,13] -4-pentadecene and its derivatives, pentacyclo [7.4.0.1 2,5. 1 9,12 . 0 8,13] -3-pentadecene and its derivatives, pentacyclo [8.4.0.1 2,5. 1 9,12 . 0 8,13] -3-hexadecene and derivatives thereof, pentacyclo [6.6.1.1 3, 6. 0 2,7 . 0 9,14] -4-hexadecene and derivatives thereof, hexacyclo [6.6.1.1 3, 6. 1 10,13 . 0 2,7 . 0 9,14] -4-heptadecene and its derivatives, heptacyclo [8.7.0.1 2,9. 1 4,7 . 1 11,17 . 0 3,8 . 0 12,16 ] -5-eicosene and its derivatives, heptacyclo [8.7.0.1 3,6 . 1 10,17 . 1 12,15 . 0 2,7 . 0 11,16 ] -4-eicosene and its derivatives, heptacyclo [8.8.0.1 2,9 . 1 4,7 . 1 11,18 . 0 3,8 . 0 12,17 ] -5- heneicosene and its derivatives, octacyclo [8.8.0.1 2,9 . 1 4,7 . 1 11,18 . 1 13,16 . 0 3,8 . 0 12,17 ] -5-docosene and derivatives thereof, nonacyclo [10.9.1.1 4,7 . 1 13,20 . 1 15,18 . 0 2,10 . 0 3,8 . 0 12,21 . 0 14,19] -5-pentacosene and derivatives thereof.

これらのシクロオレフィン樹脂の具体例は、上記した通りであるが、より具体的なこれらの化合物の構造については、特開平7−145213号公報の段落番号[0032]〜[0054]に示されている。
また、これらのシクロオレフィン樹脂の合成法については、特開2001−114836号公報の段落番号[0039]〜[0068]を参考に実施することができる。
Specific examples of these cycloolefin resins are as described above, but more specific structures of these compounds are shown in paragraphs [0032] to [0054] of JP-A-7-145213. Yes.
Moreover, about the synthesis method of these cycloolefin resin, it can carry out with reference to paragraph number [0039]-[0068] of Unexamined-Japanese-Patent No. 2001-114836.

また本発明のシクロオレフィン樹脂(付加重合型)として下記のものも使用可能である。
下式(I)、(II)、(II')、(III)、(IV)、(V)または(VI)表される化合物由来の重合単位を有するシクロオレフィン(共)重合体も好ましい。

Figure 2008274102
The following can also be used as the cycloolefin resin (addition polymerization type) of the present invention.
A cycloolefin (co) polymer having a polymer unit derived from a compound represented by the following formula (I), (II), (II ′), (III), (IV), (V) or (VI) is also preferred.
Figure 2008274102

上記式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7およびR8は、それぞれ、水素原子、直鎖若しくは分岐の炭素数1〜8のアルキル基、炭素数6〜18のアリール基、炭素数7〜20のアルキレンアリール基、環状であってもよい炭素数2〜20のアルケニル基等の炭素数1〜20の炭化水素基、飽和若しくは不飽和若しくは芳香族の環状基を形成する。nは、0〜5の整数である。

Figure 2008274102
式中、R9、R10、R11およびR12は、それぞれ、水素原子、または、炭素数1〜8のアルキル基、炭素数6〜18のアリール基等の直鎖または分岐の、飽和または不飽和の、炭素数1〜20の炭化水素基である。 In the above formula, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 and R 8 are each a hydrogen atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, and the number of carbon atoms C6-C20 hydrocarbon group such as 6-18 aryl group, C7-20 alkylene aryl group, C2-C20 alkenyl group which may be cyclic, saturated, unsaturated or aromatic To form a cyclic group. n is an integer of 0-5.
Figure 2008274102
In the formula, each of R 9 , R 10 , R 11, and R 12 is a hydrogen atom, or a linear or branched, saturated or saturated group such as an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms or an aryl group having 6 to 18 carbon atoms. An unsaturated hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms.

上記シクロオレフィン(共)重合体は、例えば、式(I)〜式(VI)で表される化合物の少なくとも一種類を開環重合し、次に得られた生成物を水素化することによって得ることができる。   The cycloolefin (co) polymer is obtained, for example, by ring-opening polymerization of at least one of the compounds represented by the formulas (I) to (VI), and then hydrogenating the obtained product. be able to.

また、上記ポリマーに、下記式(VIII)で表される化合物由来の重合単位を、全体の0〜45モル%含むシクロオレフィン(共)重合体も好ましい。

Figure 2008274102
式中、nは2〜10の数である。 Moreover, the cycloolefin (co) polymer which contains the polymer unit derived from the compound represented by a following formula (VIII) in the said polymer 0-45 mol% of the whole is also preferable.
Figure 2008274102
In the formula, n is a number of 2 to 10.

環式、特に多環式オレフィンから誘導される重合単位の割合は、シクロオレフィン(共)重合体の、好ましくは3〜75モル%である。非環式オレフィンから誘導される重合単位の割合は、シクロオレフィン(共)重合体の、好ましくは5〜80モル%である。   The proportion of polymerized units derived from cyclic, especially polycyclic olefins, is preferably 3 to 75 mol% of the cycloolefin (co) polymer. The proportion of the polymer units derived from the acyclic olefin is preferably 5 to 80 mol% of the cycloolefin (co) polymer.

シクロオレフィン(共)重合体は、好ましくは、一種類以上の多環式オレフィン、特に式(I)で表される化合物または式(III)で表される化合物から誘導される重合単位、および、式(VII)で表される化合物、特に2〜20個の炭素原子を有するα-オレフィンから誘導される重合単位から成っている。好ましくは、特に、式(I)で表される化合物または式(III)で表される化合物から誘導される重合単位、および式(VII)で表される化合物から誘導される重合単位から成るシクロオレフィンコポリマーである。さらに好ましくは、式(I)または式(III)で表される化合物から誘導される重合単位、式(VII)で表される化合物から誘導される重合単位、および少なくとも2つの二重結合を含む環式または非環式オレフィン(ポリエン)、例えば、ノルボルナジエンのような特に環式、好ましくは多環式のジエン、特に好ましくは、例えば、炭素数2〜20のアルケニル基を運ぶビニルノルボルネンのような多環式アルケンから誘導される重合単位から成る三次元重合体である。   The cycloolefin (co) polymer is preferably one or more polycyclic olefins, in particular polymerized units derived from a compound of formula (I) or a compound of formula (III), and It consists of polymerized units derived from compounds of the formula (VII), in particular α-olefins having 2 to 20 carbon atoms. Preferably, a cyclohexane comprising a polymer unit derived from a compound represented by formula (I) or a compound represented by formula (III) and a polymer unit derived from a compound represented by formula (VII) is preferred. Olefin copolymer. More preferably, it contains a polymer unit derived from a compound represented by formula (I) or formula (III), a polymer unit derived from a compound represented by formula (VII), and at least two double bonds Cyclic or acyclic olefins (polyenes), for example, especially cyclic, preferably polycyclic dienes such as norbornadiene, particularly preferably, for example, vinyl norbornene carrying an alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms It is a three-dimensional polymer composed of polymer units derived from polycyclic alkenes.

本発明で用いるシクロオレフィン樹脂は、好ましくはノルボルネン構造をベースとするオレフィン、特に好ましくはノルボルネン、テトラシクロドデセン、必要に応じて、ビニルノルボルネンまたはノルボルナジエンを含む。また、好ましくは、例えば2〜20個の炭素原子を有するα-オレフィン、特に好ましくはエチレンまたはプロピレンのような末端二重結合を有する非環式オレフィンから誘導される重合単位を含むシクロオレフィン(共)重合体である。特に好ましくは、ノルボルネン・エチレンコポリマーおよびテトラシクロドデセン・エチレンコポリマーである。   The cycloolefin resin used in the present invention preferably contains an olefin based on a norbornene structure, particularly preferably norbornene, tetracyclododecene, and optionally vinyl norbornene or norbornadiene. Also preferred are cycloolefins (copolymers) comprising polymerized units derived from α-olefins having for example 2 to 20 carbon atoms, particularly preferably acyclic olefins having terminal double bonds such as ethylene or propylene. ) Polymer. Particularly preferred are norbornene / ethylene copolymers and tetracyclododecene / ethylene copolymers.

三次元重合体の中では、特に好ましくは、ノルボルネン・ビニルノルボルネン・エチレン三次元重合体、ノルボルネン・ノルボルナジエン・エチレンターポリマー、テトラシクロドデセン・ビニルノルボルネン・エチレンターポリマー、およびテトラシクロドデセン・ビニルテトラシクロドデセン・エチレン三次元重合体である。ポリエン、好ましくはビニルノルボルネンまたはノルボルナジエンから誘導される重合単位の割合は、シクロオレフィン樹脂の全構造を基準として、0.1〜50モル%、特に好ましくは0.1〜20モル%であり、式(VII)で表される非環式モノオレフィンの割合は、通常、0〜99モル%、好ましくは5〜80モル%である。上記三次元重合体では、シクロオレフィン(共)重合体の、好ましくは0.1〜99モル%、より好ましくは3〜75モル%である。   Among the three-dimensional polymers, three-dimensional polymers of norbornene / vinyl norbornene / ethylene, norbornene / norbornadiene / ethylene terpolymer, tetracyclododecene / vinylnorbornene / ethylene terpolymer, and tetracyclododecene / vinyl are particularly preferable. Tetracyclododecene-ethylene three-dimensional polymer. The proportion of polymerized units derived from polyenes, preferably vinyl norbornene or norbornadiene, is 0.1 to 50 mol%, particularly preferably 0.1 to 20 mol%, based on the total structure of the cycloolefin resin, The proportion of the acyclic monoolefin represented by (VII) is usually 0 to 99 mol%, preferably 5 to 80 mol%. In the said three-dimensional polymer, Preferably it is 0.1-99 mol% of a cycloolefin (co) polymer, More preferably, it is 3-75 mol%.

本発明で用いるシクロオレフィン樹脂は、好ましくは、式(I)で表される化合物から誘導することができる重合単位および式(VII)で表される化合物から誘導することができる重合単位を含む少なくとも一種類のシクロオレフィン(共)重合体を含む。
このようなシクロオレフィン(共)重合体は、特開平10−168201号公報の段落番号0019〜0020に従い合成することができる。
The cycloolefin resin used in the present invention preferably contains at least a polymer unit that can be derived from the compound represented by formula (I) and a polymer unit that can be derived from the compound represented by formula (VII). Contains one type of cycloolefin (co) polymer.
Such cycloolefin (co) polymer can be synthesized according to paragraph numbers 0019 to 0020 of JP-A-10-168201.

本発明におけるシクロオレフィン樹脂としては、また、特開昭60−168708号公報、特開昭62−252406号公報、特開昭62−252407号公報、特開平2−133413号公報、特開昭63−145324号公報、特開昭63−264626号公報、特開平1−240517号公報、特公昭57−8815号公報などに記載されている樹脂などを採用できる。
本発明では、特に、ノルボルネン系モノマーを付加重合して得られるものを採用することが好ましい。
As the cycloolefin resin in the present invention, JP-A-60-168708, JP-A-62-252406, JP-A-62-2252407, JP-A-2-133413, JP-A-63. Resins described in JP-A-145324, JP-A-63-264626, JP-A-1-240517, and JP-B-57-8815 can be employed.
In the present invention, it is particularly preferable to employ those obtained by addition polymerization of norbornene monomers.

本発明におけるシクロオレフィン樹脂は、示差走査熱量計(DSC)で測定したガラス転移温度(Tg)が、70℃以上であることが好ましく、より好ましくは70〜250℃であり、さらに好ましくは、110〜180℃であり、特に120〜180℃が好ましい。 The cycloolefin resin in the present invention preferably has a glass transition temperature (Tg) measured by a differential scanning calorimeter (DSC) of 70 ° C. or higher, more preferably 70 to 250 ° C., still more preferably 110 It is -180 degreeC and 120-180 degreeC is especially preferable.

本発明におけるシクロオレフィン樹脂の重量平均分子量としては、5,000〜1,000,000が好ましく、より好ましくは8,000〜200,000である。
本発明におけるシクロオレフィン樹脂は、飽和吸水率は1質量%以下であることが好ましく、より好ましくは0.8質量%以下である。例えば、上記一般式(1)〜(4)で表わされるシクロオレフィン樹脂のガラス転移温度(Tg)および飽和吸水率は、上記置換基A、B、C、Dの種類を選択することにより制御することができる。
As a weight average molecular weight of the cycloolefin resin in this invention, 5,000-1,000,000 are preferable, More preferably, it is 8,000-200,000.
The cycloolefin resin in the present invention preferably has a saturated water absorption of 1% by mass or less, more preferably 0.8% by mass or less. For example, the glass transition temperature (Tg) and saturated water absorption of the cycloolefin resins represented by the general formulas (1) to (4) are controlled by selecting the type of the substituents A, B, C, and D. be able to.

本発明におけるシクロオレフィン樹脂は、クロロホルム中、30℃で測定される固有粘度(ηinh)が、0.1〜1.5dl/gであることが好ましく、さらに好ましくは0.4〜1.2dl/gである。また、135℃のデカリン中で測定される極限粘度[η]が、通常0.01〜20dl/gであることが好ましく、より好ましくは0.03〜10dl/g、さらに好ましくは0.05〜5dl/gであり、ASTM D1238に準じ260℃荷重2.16kgで測定した溶融流れ指数(MFR)は、0.1〜200g/10分であることが好ましく、より好ましくは1〜100g/10分、さらに好ましく5〜50g/10分である。   The cycloolefin resin in the present invention preferably has an intrinsic viscosity (ηinh) measured at 30 ° C. in chloroform of 0.1 to 1.5 dl / g, more preferably 0.4 to 1.2 dl / g. g. Moreover, it is preferable that intrinsic viscosity [(eta)] measured in 135 degreeC decalin is 0.01-20 dl / g normally, More preferably, it is 0.03-10 dl / g, More preferably, 0.05- The melt flow index (MFR) measured at 260 ° C. under a load of 2.16 kg according to ASTM D1238 is preferably 0.1 to 200 g / 10 min, more preferably 1 to 100 g / 10 min. More preferably, it is 5 to 50 g / 10 minutes.

さらに、本発明におけるシクロオレフィン樹脂の軟化点は、サーマルメカニカルアナライザー(TMA)で測定した軟化点として、30℃以上であることが好ましく、好ましくは70℃以上、さらに好ましくは80〜260℃である。   Furthermore, the softening point of the cycloolefin resin in the present invention is preferably 30 ° C. or higher, preferably 70 ° C. or higher, more preferably 80 to 260 ° C. as the softening point measured with a thermal mechanical analyzer (TMA). .

また、本発明におけるシクロオレフィン樹脂は、水添重合体の水素添加率としては、60MHz、1H−NMRで測定した値が50%以上であることが好ましく、より好ましくは90%以上、さらに好ましくは98%以上である。水素添加率が高いほど、得られるシクロオレフィン樹脂フィルムは、熱や光に対する安定性が優れたものとなる。また、該水添重合体中に含まれるゲル含有量が5質量%以下であることが好ましく、さらに好ましくは1質量%以下である。 In the cycloolefin resin of the present invention, the hydrogenation rate of the hydrogenated polymer is preferably 50% or more, more preferably 90% or more, and further preferably 60 MHz or more as measured by 1 H-NMR. Is 98% or more. The higher the hydrogenation rate, the more the resulting cycloolefin resin film is more stable against heat and light. Moreover, it is preferable that gel content contained in this hydrogenated polymer is 5 mass% or less, More preferably, it is 1 mass% or less.

本発明におけるシクロオレフィン樹脂は、非晶性または低結晶性であることが好ましく、X線回折法によって測定される結晶化度が、20%以下であることが好ましく、より好ましくは10%以下、さらに好ましくは2%以下である。 The cycloolefin resin in the present invention is preferably amorphous or low crystalline, and the crystallinity measured by X-ray diffraction method is preferably 20% or less, more preferably 10% or less, More preferably, it is 2% or less.

《紫外線吸収剤》
次に、本発明においてシクロオレフィン樹脂に好ましく添加される、一般式(HUV−1)で表されかつその分子量が500以上である紫外線吸収剤について記載する。
<Ultraviolet absorber>
Next, it describes about the ultraviolet absorber which is preferably added to cycloolefin resin in this invention and is represented by general formula (HUV-1) and whose molecular weight is 500 or more.

Figure 2008274102
(式中、R1およびR2はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子または炭素数1〜5のアルキル基を表し、R3、R4、R5およびR6はそれぞれ独立に水素原子、炭素数1〜18の置換もしくは無置換のアルキル基、または炭素数6〜18の置換もしくは無置換のアリール基を表す。)
Figure 2008274102
(In the formula, R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and R 3 , R 4 , R 5 and R 6 each independently represent a hydrogen atom or carbon number. Represents a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 18 carbon atoms.

1、R2は、好ましくは水素原子、塩素原子である。
3、R4、R5、R6は、好ましくは水素原子、炭素数1〜12の置換あるいは無置換のアルキル基、または炭素数6〜16の置換あるいは無置換のアリール基である。より好ましくは、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、イソペンル基、tert−ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、イソオクチル基、tert−オクチル基、ノニル基、イソノニル基、tert−ノニル基、デシル基、イソデシル基、ドデシル基、イソドデシル基、tert−ドデシル基、tert−トリデシル基、イソトリデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシルル基、オクタデシル基であり、また、フェニル基、メチルフェニル基、エチルフェニル基、プロピルフェニル基、イソプロピルフェニル基、ブチルフェニル基、イソブチルフェニル基、tert−ブチルフェニル基、ペンチルフェニル基、イソペンチルフェニル基、tert−ペンチルフェニル基、ヘキシルフェニル基、イソヘキシルフェニル基、シクロヘキシルフェニル基、ヘプチルフェニル基、メチルシクロヘキシルフェニル基、オクチルフェニル基、tert−オクチルフェニル基、2−エチルヘキシルフェニル基、ノニルフェニル基、イソノニルフェニル基、デシルフェニル基、イソデシルフェニル基、ドデシルフェニル基、イソドデシルフェニル基、tert−ドデシルフェニル基、トリデシルフェニル基、ナフチル基、メチルナフチル基であり、また、ジメチルフェニル基、ジエチルフェニル基、ジプロピルフェニル基、ジイソプロピルフェニル基、ジブチルフェニル基、ジイソブチルフェニル基、ジ−tert−ブチルフェニル基、ジペンチルフェニル基、ジイソペンチルフェニル基、ジ−tert−ペンチルフェニル基、ジヘキシルフェニル基、ジイソヘキシルフェニル基、ジシクロヘキシルフェニル基、ジヘプチルフェニル基、ジメチルシクロヘキシルフェニル基、ジオクチルフェニル基、ジ−tert−オクチルフェニル基、ジ−2−エチルヘキシフェニル基、ジノニルフェニル基、ジイソノニルフェニル基、ジデシルフェニル基、ジイソデシルフェニル基、ジドデシルフェニル基、ジイソドデシルフェニル基、ジ−tert−ドデシルフェニル基、ジトリデシルフェニル基、ジイソプロピルナフチル基、トリイソプロピルナフチル基、ジブチルナフチル基、ジイソブチルナフチル基、ジ−tert−ブチルナフチル基、トリイソブチルナフチル基、トリ−tert−ブチルナフチル基、ジペンチルナフチル基、ジ−tert−ペンチルナフチル基、トリペンチルナフチル基、トリ−tert−ペンチルナフチル基である。
R 1 and R 2 are preferably a hydrogen atom or a chlorine atom.
R 3 , R 4 , R 5 and R 6 are preferably a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 16 carbon atoms. More preferably, a hydrogen atom, methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, tert-butyl group, pentyl group, isopentyl group, tert-pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, Isooctyl group, tert-octyl group, nonyl group, isononyl group, tert-nonyl group, decyl group, isodecyl group, dodecyl group, isododecyl group, tert-dodecyl group, tert-tridecyl group, isotridecyl group, tetradecyl group, hexadecyl group, Octadecyl group, and also phenyl group, methylphenyl group, ethylphenyl group, propylphenyl group, isopropylphenyl group, butylphenyl group, isobutylphenyl group, tert-butylphenyl group, pentylphenyl group, isopentylphenyl group, tert -Pentylphenyl group, hexyl fe Group, isohexylphenyl group, cyclohexylphenyl group, heptylphenyl group, methylcyclohexylphenyl group, octylphenyl group, tert-octylphenyl group, 2-ethylhexylphenyl group, nonylphenyl group, isononylphenyl group, decylphenyl group, Isodecylphenyl group, dodecylphenyl group, isododecylphenyl group, tert-dodecylphenyl group, tridecylphenyl group, naphthyl group, methylnaphthyl group, dimethylphenyl group, diethylphenyl group, dipropylphenyl group, diisopropyl Phenyl group, dibutylphenyl group, diisobutylphenyl group, di-tert-butylphenyl group, dipentylphenyl group, diisopentylphenyl group, di-tert-pentylphenyl group, dihexylphenyl group, diisohexyl Phenyl group, dicyclohexylphenyl group, diheptylphenyl group, dimethylcyclohexylphenyl group, dioctylphenyl group, di-tert-octylphenyl group, di-2-ethylhexylphenyl group, dinonylphenyl group, diisononylphenyl group, didecyl Phenyl group, diisodecylphenyl group, didodecylphenyl group, diisododecylphenyl group, di-tert-dodecylphenyl group, ditridecylphenyl group, diisopropylnaphthyl group, triisopropylnaphthyl group, dibutylnaphthyl group, diisobutylnaphthyl group, di- a tert-butylnaphthyl group, a triisobutylnaphthyl group, a tri-tert-butylnaphthyl group, a dipentylnaphthyl group, a di-tert-pentylnaphthyl group, a tripentylnaphthyl group, and a tri-tert-pentylnaphthyl group.

3、R4、R5、R6は、さらに好ましくは、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、イソペンル基、tert−ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、イソオクチル基、tert−オクチル基、ノニル基、イソノニル基、tert−ノニル基、イソデシル基、ドデシル基、イソドデシル基、tert−ドデシル基、tert−トリデシル基、フェニル基、メチルフェニル基、イソプロピルフェニル基、イソブチルフェニル基、tert−ブチルフェニル基、イソペンチルフェニル基、tert−ペンチルフェニル基、シクロヘキシルフェニル基、オクチルフェニル基、tert−オクチルフェニル基、イソノニルフェニル基、イソデシルフェニル基、ナフチル基、ジメチルフェニル基、ジイソプロピルフェニル基、ジイソブチルフェニル基、ジ−tert−ブチルフェニル基、ジ−tert−ペンチルフェニル基、ジ−tert−オクチルフェニル基、ジ−tert−ドデシルフェニル基、ジイソプロピルナフチル基、トリイソプロピルナフチル基、ジイソブチルナフチル基、ジ−tert−ブチルナフチル基、トリイソブチルナフチル基、トリ−tert−ブチルナフチル基、ジ−tert−ペンチルナフチル基、トリ−tert−ペンチルナフチル基である。 R 3 , R 4 , R 5 and R 6 are more preferably a hydrogen atom, methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, tert-butyl group, pentyl group, isopentyl group, tert -Pentyl, hexyl, heptyl, octyl, isooctyl, tert-octyl, nonyl, isononyl, tert-nonyl, isodecyl, dodecyl, isododecyl, tert-dodecyl, tert-tridecyl , Phenyl group, methylphenyl group, isopropylphenyl group, isobutylphenyl group, tert-butylphenyl group, isopentylphenyl group, tert-pentylphenyl group, cyclohexylphenyl group, octylphenyl group, tert-octylphenyl group, isononylphenyl group Group, isodecylphenyl group, naphthyl group, dimethylphenyl group, dii Propylphenyl group, diisobutylphenyl group, di-tert-butylphenyl group, di-tert-pentylphenyl group, di-tert-octylphenyl group, di-tert-dodecylphenyl group, diisopropylnaphthyl group, triisopropylnaphthyl group, diisobutyl A naphthyl group, a di-tert-butylnaphthyl group, a triisobutylnaphthyl group, a tri-tert-butylnaphthyl group, a di-tert-pentylnaphthyl group, and a tri-tert-pentylnaphthyl group.

3、R4、R5、R6は、特に好ましくは、水素原子、メチル基、プロピル基、イソプロピル基、イソブチル基、tert−ブチル基、イソペンル基、tert−ペンチル基、イソオクチル基、tert−オクチル基、イソノニル基、tert−ノニル基、tert−トリデシル基、イソデシル基、イソドデシル基、フェニル基、メチルフェニル基、イソプロピルフェニル基、tert−ブチルフェニル基、tert−ペンチルフェニル基、ナフチル基、ジイソプロピルフェニル基、ジイソブチルフェニル基、ジ−tert−ブチルフェニル基、ジ−tert−ペンチルフェニル基、ジ−tert−オクチルフェニル基、ジイソプロピルナフチル基、トリイソプロピルナフチル基、ジイソブチルナフチル基、ジ−tert−ブチルナフチル基、トリイソブチルナフチル基、トリ−tert−ブチルナフチル基、ジ−tert−ペンチルナフチル基、トリ−tert−ペンチルナフチル基である。 R 3 , R 4 , R 5 and R 6 are particularly preferably a hydrogen atom, methyl group, propyl group, isopropyl group, isobutyl group, tert-butyl group, isopentyl group, tert-pentyl group, isooctyl group, tert- Octyl, isononyl, tert-nonyl, tert-tridecyl, isodecyl, isododecyl, phenyl, methylphenyl, isopropylphenyl, tert-butylphenyl, tert-pentylphenyl, naphthyl, diisopropylphenyl Group, diisobutylphenyl group, di-tert-butylphenyl group, di-tert-pentylphenyl group, di-tert-octylphenyl group, diisopropylnaphthyl group, triisopropylnaphthyl group, diisobutylnaphthyl group, di-tert-butylnaphthyl group , Triisobutyl naphthyl group, tri-tert-butyl naphthyl group, -tert- Penchirunafuchiru group, a tri -tert- Penchirunafuchiru group.

最も好ましいR3、R4、R5、R6は、水素原子、メチル基、プロピル基、イソプロピル基、イソブチル基、tert−ブチル基、イソペンル基、tert−ペンチル基、イソオクチル基、tert−オクチル基、イソノニル基、tert−ノニル基、イソデシル基、tert−トリデシル基、フェニル基、メチルフェニル基、イソプロピルフェニル基、tert−ブチルフェニル基、tert−ペンチルフェニル基、ジイソプロピルフェニル基、ジイソブチルフェニル基、ジ−tert−ブチルフェニル基、ジ−tert−ペンチルフェニル基である。さらに推奨されるR3、R4は、水素原子、tert−ブチル基、tert−ペンチル基、tert−オクチル基、tert−ノニル基、、tert−トリデシル基であり、さらに推奨されるR5、R6は、水素原子、メチル基、フェニル基である。これらの紫外線吸収剤の一部は特開昭61−118373号公報に記載されている。 R 3 , R 4 , R 5 and R 6 are most preferably a hydrogen atom, a methyl group, a propyl group, an isopropyl group, an isobutyl group, a tert-butyl group, an isopentyl group, a tert-pentyl group, an isooctyl group or a tert-octyl group. , Isononyl group, tert-nonyl group, isodecyl group, tert-tridecyl group, phenyl group, methylphenyl group, isopropylphenyl group, tert-butylphenyl group, tert-pentylphenyl group, diisopropylphenyl group, diisobutylphenyl group, di- a tert-butylphenyl group and a di-tert-pentylphenyl group; Further recommended R 3 and R 4 are a hydrogen atom, a tert-butyl group, a tert-pentyl group, a tert-octyl group, a tert-nonyl group, and a tert-tridecyl group, and further recommended R 5 and R 6 is a hydrogen atom, a methyl group, or a phenyl group. Some of these ultraviolet absorbers are described in JP-A No. 61-118373.

一般式(HUV−1)で表されかつその分子量が500以上である紫外線吸収剤の具体例を以下に記載するが、本発明で用いることができる紫外線吸収剤はこれらに限定されるものではない。以下の具体例はいずれも分子量が500以上であり、かつ窒素中で240℃において60分間加熱した場合の質量減少量が10質量%以下である。
UVV−1:R1=R2=水素原子、R3=R4=tert−オクチル基、R5=R6=水素原子
UVV−2:R1=R2=塩素原子、R3=R4=tert−オクチル基、R5=R6=水素原子
UVV−3:R1=R2=水素原子、R3=R4=tert−オクチル基、R5=メチル基、R6=水素原子
Although the specific example of the ultraviolet absorber which is represented with general formula (HUV-1) and the molecular weight is 500 or more is described below, the ultraviolet absorber which can be used by this invention is not limited to these. . In all of the following specific examples, the molecular weight is 500 or more, and the mass loss when heated at 240 ° C. for 60 minutes in nitrogen is 10% by mass or less.
UVV-1: R 1 = R 2 = hydrogen atom, R 3 = R 4 = tert-octyl group, R 5 = R 6 = hydrogen atom UVV-2: R 1 = R 2 = chlorine atom, R 3 = R 4 = tert-octyl group, R 5 = R 6 = hydrogen atom UVV-3: R 1 = R 2 = hydrogen atom, R 3 = R 4 = tert- octyl group, R 5 = methyl, R 6 = hydrogen

UVV−4:R1=R2=水素原子、R3=R4=tert−オクチル基、R5=フェニル基、R6=水素原子
UVV−5:R1=R2=水素原子、R3=R4=tert−ペンチル基、R5=R6=水素原子
UVV−6:R1=R2=塩素原子、R3=R4=tert−ペンチル基、R5=R6=水素原子
UVV−7:R1=R2=水素原子、R3=R4=tert−オクチル基、R5=R6=メチル基
UVV−8:R1=R2=塩素原子、R3=R4=tert−ノニル基、 R5=R6=水素原子
UVV−9:R1=R2=水素原子、R3=R4=tert−トリデシル基、R5=R6=水素原子
UVV−10:R1=塩素原子、R2=水素原子、R3=R4=tert−オクチル基、R5=フェニル基、R6=水素原子
UVV−11:R1=塩素原子、R2=水素原子、R3=tert−ブチル基、R4=tert−オクチル基、R5=フェニル基、R6=水素原子
特にUVV−1はアデカスタブLA−31(旭電化工業株式会社)として市販されている。
本発明では、紫外線吸収剤を、シクロオレフィン樹脂に対し、0.05〜3質量%の割合で含有し、0.1〜2.5質量%の割合で添加することが好ましく、0.3〜2.0質量%の割合で添加することがより好ましい。
UVV-4: R 1 = R 2 = hydrogen atom, R 3 = R 4 = tert-octyl group, R 5 = phenyl group, R 6 = hydrogen atom UVV-5: R 1 = R 2 = hydrogen atom, R 3 = R 4 = tert-pentyl group, R 5 = R 6 = hydrogen atom UVV-6: R 1 = R 2 = chlorine atom, R 3 = R 4 = tert-pentyl group, R 5 = R 6 = hydrogen atom UVV -7: R 1 = R 2 = hydrogen atom, R 3 = R 4 = tert-octyl group, R 5 = R 6 = methyl group UVV-8: R 1 = R 2 = chlorine atom, R 3 = R 4 = tert- nonyl group, R 5 = R 6 = hydrogen atom UVV-9: R 1 = R 2 = hydrogen atom, R 3 = R 4 = tert- tridecyl group, R 5 = R 6 = hydrogen atom UVV-10: R 1 = chlorine atom, R 2 = hydrogen atom, R 3 = R 4 = tert-octyl group, R 5 = phenyl group, R 6 = hydrogen atom UVV-11: R 1 = chlorine atom, R 2 = hydrogen atom, R 3 tert- butyl group, R 4 = tert- octyl group, R 5 = phenyl, R 6 = hydrogen atom particular UVV-1 is commercially available as Adeka Stab LA-31 (Asahi Denka Kogyo).
In this invention, it is preferable to contain a ultraviolet absorber in the ratio of 0.05-3 mass% with respect to cycloolefin resin, and to add in the ratio of 0.1-2.5 mass%, 0.3- It is more preferable to add at a ratio of 2.0% by mass.

《安定剤》
本発明においては、高温溶融製膜時のシクロオレフィン樹脂の安定性を保つために、安定剤を添加することが特に有効である。好ましい安定剤として、分子量が500以上のフェノール系安定剤、分子量が500以上の亜リン酸エステル系安定剤、分子量が500以上のチオエーテル系安定剤、およびヒドロキシフェニル基と亜リン酸エステル基とを有し分子量が500以上である安定剤からなる群より選択される1以上の安定剤を挙げることができる。特に、分子量が500以上のフェノール系安定剤と、分子量が500以上の亜リン酸エステル系安定剤および分子量が500以上のチオエーテル系安定剤からなる群より選択される安定剤とを組み合わせて使用することが好ましい。また、ヒドロキシフェニル基と亜リン酸エステル基とを有し分子量が500以上である安定剤を使用することも好ましい。
<Stabilizer>
In the present invention, it is particularly effective to add a stabilizer in order to maintain the stability of the cycloolefin resin during high-temperature melt film formation. Preferable stabilizers include a phenol stabilizer having a molecular weight of 500 or more, a phosphite stabilizer having a molecular weight of 500 or more, a thioether stabilizer having a molecular weight of 500 or more, and a hydroxyphenyl group and a phosphite group. Mention may be made of one or more stabilizers selected from the group consisting of stabilizers having a molecular weight of 500 or more. In particular, a phenolic stabilizer having a molecular weight of 500 or more is used in combination with a stabilizer selected from the group consisting of a phosphite stabilizer having a molecular weight of 500 or more and a thioether stabilizer having a molecular weight of 500 or more. It is preferable. It is also preferable to use a stabilizer having a hydroxyphenyl group and a phosphite group and having a molecular weight of 500 or more.

(フェノール系安定剤)
フェノール系安定剤は、市販品として容易に入手可能であり、下記のメーカーから販売されている。チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社から、Irganox 1076、Irganox 1010、Irganox 3113、Irganox 245、Irganox 1135、Irganox 1330、Irganox 259、Irganox 565、Irganox 1035、Irganox 1098、Irganox 1425WLとして入手することができる。また、旭電化工業株式会社から、アデカスタブ AO−50、アデカスタブ AO−20、アデカスタブ AO−70、アデカスタブ AO−80として入手することができる。さらに、住友化学株式会社から、スミライザーBP−76、スミライザーBP−101、スミライザーGA−80として入手することができる。また、シプロ化成株式会社からシーノックス326M、シーノックス336Bとしても入手することができる。
(Phenolic stabilizer)
Phenol stabilizers are readily available as commercial products and are sold by the following manufacturers. From Ciba Specialty Chemicals, Irganox 1076, Irganox 1010, Irganox 3113, Irganox 245, Irganox 1135, Irganox 1330, Irganox 259, Irganox 565, Irganx 565, Irganx 565, Ir35x1025 Moreover, it can obtain from Asahi Denka Kogyo Co., Ltd. as ADK STAB AO-50, ADK STAB AO-20, ADK STAB AO-70, and ADK STAB AO-80. Furthermore, it can be obtained from Sumitomo Chemical Co., Ltd. as Sumilizer BP-76, Sumilizer BP-101, and Sumilizer GA-80. Moreover, it can obtain from Sipro Kasei Co., Ltd. as Cynox 326M and Cynox 336B.

(亜リン酸エステル系安定剤)
酸化防止効果を有する分子量500以上の亜リン酸エステル系安定剤としては、特開2004−182979号公報の[0023]〜[0039]に記載の化合物、特開昭51−70316号公報、特開平10−306175号公報、特開昭57−78431号公報、特開昭54−157159号公報、特開昭55−13765号公報に記載の化合物を挙げることができる。これらは、旭電化工業株式会社からアデカタブ1178、同2112、同PEP−8、同PEP−24G、PEP−36G、同HP−10として、またクラリアント社からSandostab P−EPQとして市販されており、入手可能である。
(Phosphite stabilizer)
As phosphite stabilizers having an antioxidant effect and having a molecular weight of 500 or more, compounds described in [0023] to [0039] of JP-A No. 2004-182979, JP-A No. 51-70316, JP-A No. Hei. Examples thereof include compounds described in JP-A-10-306175, JP-A-57-78431, JP-A-54-157159, and JP-A-55-13765. These are commercially available from Asahi Denka Kogyo Co., Ltd. as Adeka Tab 1178, 2112, PEP-8, PEP-24G, PEP-36G, HP-10, and Sandostab P-EPQ from Clariant. Is possible.

(チオエーテル系安定剤)
またチオエーテル系安定剤としては、公知の任意のチオエーテル系安定剤を用いることができる。例えば、住友化学株式会社からスミライザーTPL、同TPM、同TPS、同TDPとして市販されている。旭電化工業株式会社から、アデカスタブAO−412Sとしても入手可能である。
(Thioether stabilizer)
As the thioether stabilizer, any known thioether stabilizer can be used. For example, it is marketed by Sumitomo Chemical Co., Ltd. as Sumilizer TPL, TPM, TPS, TDP. It is also available from Asahi Denka Kogyo Co., Ltd. as ADK STAB AO-412S.

(ヒドロキシフェニル基と亜リン酸エステル基を有する安定剤)
同一分子内にヒドロキシフェニル基と亜リン酸エステル基を有する分子量500以上の安定剤として、特開平10−273494号に記載されているものを例示することができる。市販品として、スミライザーGP(住友化学工業株式会社)が挙げられる。
(Stabilizer having hydroxyphenyl group and phosphite group)
Examples of the stabilizer having a molecular weight of 500 or more having a hydroxyphenyl group and a phosphite group in the same molecule include those described in JP-A-10-273494. As a commercially available product, Sumilizer GP (Sumitomo Chemical Co., Ltd.) can be mentioned.

(安定剤の使用)
安定剤の使用に際しては、フェノール系安定剤の少なくとも一種、および亜リン酸エステル系安定剤またはチオエーテル系安定剤から選ばれる少なくとも一種がシクロオレフィン樹脂に対してそれぞれ0.02〜3質量%含まれるようにすることが好ましく、特には0.05〜1質量%含まれるようにすることである。フェノール系安定剤と、亜リン酸エステル系安定剤またはチオエーテル系安定剤から選ばれる少なくとも一種との比率は、好ましくは1/10〜10/1(質量部)である。好ましい組み合わせの例としてアデカスタブ AO−60/アデカスタブPEP−36G(1/1質量比)を挙げることができる。
(Use of stabilizer)
When using the stabilizer, at least one phenol-based stabilizer and at least one selected from a phosphite-based stabilizer or a thioether-based stabilizer are contained in an amount of 0.02 to 3% by mass, respectively, based on the cycloolefin resin. It is preferable to make it contain, and it is to make it contain 0.05-1 mass% especially. The ratio of the phenol stabilizer to at least one selected from a phosphite stabilizer or a thioether stabilizer is preferably 1/10 to 10/1 (parts by mass). Examples of preferred combinations include ADK STAB AO-60 / ADK STAB PEP-36G (1/1 mass ratio).

(その他の安定剤)
さらに、特開昭61−63686号公報に記載の長鎖脂肪族アミン、特開平6−329830号公報に記載の立体障害アミン基を含む化合物、特開平7−90270号公報に記載のヒンダードピペリジニル系光安定剤、特開平7−278164号公報に記載の有機アミン等も使用し得る。好ましいアミン系安定剤は、旭電化からアデカスタブLA−57、同LA−52、同LA−67、同LA−62、同LA−77として、またチバ・スペシャリティーケミカルズ社からTINUVIN 765、同144として市販されている。上記の安定剤に対するアミン類の使用比率は、通常0.01〜25重量%程度である。
(Other stabilizers)
Further, a long-chain aliphatic amine described in JP-A-61-63686, a compound containing a sterically hindered amine group described in JP-A-6-329830, and a hindered dye described in JP-A-7-90270. Peridinyl light stabilizers, organic amines described in JP-A-7-278164, and the like can also be used. Preferred amine stabilizers are ADK STAB LA-57, LA-52, LA-67, LA-62, LA-77 from Asahi Denka, and TINUVIN 765, 144 from Ciba Specialty Chemicals. Commercially available. The ratio of amines to the stabilizer is usually about 0.01 to 25% by weight.

《添加剤》
本発明において、シクロオレフィン樹脂には、その他に必要に応じてさらに種々の添加剤を添加してもよい。添加は、溶融の調製前から調製後のいずれの段階で行ってもよい。本発明では、安定剤以外の添加剤として、可塑剤、微粒子、光学調整剤、剥離剤、界面活性剤、熱安定剤、帯電防止剤、難燃剤、滑剤、油剤などを用いることができる。
"Additive"
In the present invention, various additives may be further added to the cycloolefin resin as necessary. The addition may be performed at any stage from before the preparation of the melt to after the preparation. In the present invention, plasticizers, fine particles, optical adjusting agents, release agents, surfactants, thermal stabilizers, antistatic agents, flame retardants, lubricants, oils, and the like can be used as additives other than stabilizers.

(可塑剤)
まず、可塑剤について記載する。シクロオレフィン樹脂に可塑剤を添加すれば、シクロオレフィン樹脂の結晶融解温度(Tm)を下げることができる。本発明に用いる可塑剤の分子量は特に限定されないが、好ましくは高分子量のものであり、例えば分子量500以上が好ましく、より好ましくは550以上であり、さらに好ましくは600以上である。可塑剤の種類としては、リン酸エステル類、アルキルフタリルアルキルグリコレート類、カルボン酸エステル類、多価アルコールの脂肪酸エステル類などが挙げられる。それらの可塑剤の形状としては固体でもよいし、油状物でもよい。すなわち、その融点や沸点において特に限定されるものではない。溶融製膜を行なう場合は、不揮発性を有するものを特に好ましく使用することができる。
(Plasticizer)
First, the plasticizer will be described. If a plasticizer is added to the cycloolefin resin, the crystal melting temperature (Tm) of the cycloolefin resin can be lowered. The molecular weight of the plasticizer used in the present invention is not particularly limited, but is preferably a high molecular weight, for example, preferably a molecular weight of 500 or more, more preferably 550 or more, and further preferably 600 or more. Examples of the plasticizer include phosphate esters, alkylphthalylalkyl glycolates, carboxylic acid esters, and fatty acid esters of polyhydric alcohols. These plasticizers may be solid or oily. That is, the melting point and boiling point are not particularly limited. When performing melt film formation, those having non-volatility can be particularly preferably used.

(微粒子)
本発明では、シクロオレフィン樹脂に微粒子を混合してもよい。微粒子としては、無機化合物の微粒子や有機化合物の微粒子が挙げられ、いずれでもよい。本発明におけるシクロオレフィン樹脂微粒子の平均一次粒子サイズは、ヘイズを低く抑えるという観点から5nm〜3μmであることが好ましく、5nm〜2.5μmであることがより好ましく、20nm〜2.0μmであることが更に好ましい。ここで、微粒子の平均一次粒子サイズは、シクロオレフィン樹脂フィルムを透過型電子顕微鏡(倍率50万〜100万倍)で観察し、粒子100個の一次粒子サイズの平均値を求めることにより決定する。微粒子の添加量は、シクロオレフィン樹脂に対して0.005〜1.0質量%であることが好ましく、より好ましくは0.01〜0.8質量%であり、さらに好ましくは0.02〜0.4質量%である。
(Fine particles)
In the present invention, fine particles may be mixed in the cycloolefin resin. Examples of the fine particles include fine particles of inorganic compounds and fine particles of organic compounds, and any of them may be used. The average primary particle size of the cycloolefin resin fine particles in the present invention is preferably 5 nm to 3 μm, more preferably 5 nm to 2.5 μm, and more preferably 20 nm to 2.0 μm from the viewpoint of keeping the haze low. Is more preferable. Here, the average primary particle size of the fine particles is determined by observing the cycloolefin resin film with a transmission electron microscope (magnification of 500,000 to 1,000,000 times) and determining the average value of the primary particle sizes of 100 particles. The addition amount of the fine particles is preferably 0.005 to 1.0% by mass with respect to the cycloolefin resin, more preferably 0.01 to 0.8% by mass, and still more preferably 0.02 to 0%. 4% by mass.

また、本発明の製造方法により最終的に得られたシクロオレフィン樹脂フィルム中での微粒子の平均二次粒子サイズは0.01〜5μmであることが好ましく、0.02〜3μmであることがより好ましく、0.02〜1μmであることが特に好ましい。ここで、前記微粒子の平均二次粒子サイズは、シクロオレフィン樹脂フィルムを透過型電子顕微鏡(倍率10万〜100万倍)で観察し、粒子100個の二次粒子サイズの平均値を求めることにより決定する。   The average secondary particle size of the fine particles in the cycloolefin resin film finally obtained by the production method of the present invention is preferably 0.01 to 5 μm, more preferably 0.02 to 3 μm. It is preferably 0.02 to 1 μm. Here, the average secondary particle size of the fine particles is obtained by observing the cycloolefin resin film with a transmission electron microscope (magnification of 100,000 to 1,000,000 times) and obtaining the average value of the secondary particle sizes of 100 particles. decide.

前記無機化合物としては、SiO2、ZnO、TiO2、SnO2、Al23、ZrO2、In23、MgO、BaO、MoO2、V25、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウムおよびリン酸カルシウム等が挙げられる。好ましくは、SiO2、ZnO、TiO2、SnO2、Al23、ZrO2、In23、MgO、BaO、MoO2およびV25の少なくとも1種であり、さらに好ましくはSiO2、TiO2、SnO2、Al23およびZrO2の少なくとも1種である。 Examples of the inorganic compound include SiO 2 , ZnO, TiO 2 , SnO 2 , Al 2 O 3 , ZrO 2 , In 2 O 3 , MgO, BaO, MoO 2 , V 2 O 5 , talc, clay, calcined kaolin, and calcined. Examples thereof include calcium silicate, hydrated calcium silicate, aluminum silicate, magnesium silicate, and calcium phosphate. Preferably, it is at least one of SiO 2 , ZnO, TiO 2 , SnO 2 , Al 2 O 3 , ZrO 2 , In 2 O 3 , MgO, BaO, MoO 2 and V 2 O 5 , more preferably SiO 2. , TiO 2 , SnO 2 , Al 2 O 3 and ZrO 2 .

前記SiO2の微粒子としては、例えば、アエロジルR972、R972V、R974、R812、200、200V、300、R202、OX50、TT600(以上、日本アエロジル(株)製)等の市販品を使用することができる。また、前記ZrO2の微粒子としては、例えば、アエロジルR976およびR811(以上、日本アエロジル(株)製)等の市販品を使用することができる。またシーホスターKE−E10、同E30、同E40、同E50、同E70、同E150、同W10、同W30、同W50、同P10、同P30、同P50、同P100、同P150、同P250(日本触媒)なども使用することができる。更に、シリカマイクロビーズP−400、700(触媒化成工業株式会社製品)も使用することができる。また、SO−G1、SO−G2、SO−G3、SO−G4、SO−G5、SO−G6、SO−E1、SO−E2、SO−E3、SO−E4、SO−E5、SO−E6、SO−C1、SO−C2、SO−C3、SO−C4、SO−C5、SO−C6、(株式会社アドマテックス製)も使用することができる。さらに、シリカ粒子8050、同8070、同8100、同8150(株式会社モリテックス 製、水分散物を粉体化)も使用することができる。 As the fine particles of SiO 2 , for example, commercially available products such as Aerosil R972, R972V, R974, R812, 200, 200V, 300, R202, OX50, TT600 (above, Nippon Aerosil Co., Ltd.) can be used. . As the ZrO 2 fine particles, for example, commercially available products such as Aerosil R976 and R811 (above, manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) can be used. Seahoster KE-E10, E30, E40, E50, E50, E70, E150, W10, W30, W50, P10, P30, P50, P100, P150, P250 ) Etc. can also be used. Furthermore, silica microbeads P-400 and 700 (catalyst chemical industry product) can also be used. Also, SO-G1, SO-G2, SO-G3, SO-G4, SO-G5, SO-G6, SO-E1, SO-E2, SO-E3, SO-E4, SO-E5, SO-E6, SO-C1, SO-C2, SO-C3, SO-C4, SO-C5, SO-C6 (manufactured by Admatechs Co., Ltd.) can also be used. Further, silica particles 8050, 8070, 8100, and 8150 (Mortex Co., Ltd., powdered water dispersion) can also be used.

次に、本発明で使用されうる有機化合物の微粒子としては、例えばシリコーン樹脂、フッ素樹脂およびアクリル樹脂等のポリマーが好ましく、シリコーン樹脂が特に好ましい。前記シリコーン樹脂としては、三次元の網状構造を有するものが好ましく、例えばトスパール103、同105、同108、同120、同145、同3120および同240(以上、東芝シリコーン(株)製)等の商品名を有する市販品を使用できる。   Next, as the fine particles of the organic compound that can be used in the present invention, for example, polymers such as silicone resins, fluororesins, and acrylic resins are preferable, and silicone resins are particularly preferable. The silicone resin preferably has a three-dimensional network structure, such as Tospearl 103, 105, 108, 120, 145, 3120, and 240 (above, manufactured by Toshiba Silicone Co., Ltd.). Commercial products having a trade name can be used.

さらに、無機化合物からなる微粒子は、シクロオレフィン樹脂フィルム中で安定に存在させるために表面処理されているものを用いることが好ましい。表面処理法としては、カップリング剤を使用する化学的表面処理法と、プラズマ放電処理やコロナ放電処理のような物理的表面処理法とがあるが、本発明においてはカップリング剤を使用することが好ましい。カップリング剤としては、オルガノアルコキシ金属化合物(例えば、シランカップリング剤、チタンカップリング剤等)が好ましく用いられる。微粒子として無機微粒子を用いた場合(特にSiO2を用いた場合)ではシランカップリング剤による処理が特に有効である。前記シランカップリング剤としてはオルガノシラン化合物が使用可能である。前記カップリング剤の使用量は特に限定されないが、好ましくは無機微粒子に対して、0.005〜5質量%使用することが推奨され、さらには0.01〜3質量%使用することが好ましい。 Further, it is preferable to use fine particles made of an inorganic compound that are surface-treated in order to stably exist in the cycloolefin resin film. As the surface treatment method, there are a chemical surface treatment method using a coupling agent and a physical surface treatment method such as plasma discharge treatment or corona discharge treatment. In the present invention, a coupling agent should be used. Is preferred. As the coupling agent, an organoalkoxy metal compound (for example, a silane coupling agent, a titanium coupling agent, etc.) is preferably used. When inorganic fine particles are used as the fine particles (especially when SiO 2 is used), treatment with a silane coupling agent is particularly effective. An organosilane compound can be used as the silane coupling agent. Although the usage-amount of the said coupling agent is not specifically limited, Preferably it is recommended to use 0.005-5 mass% with respect to inorganic fine particles, and it is preferable to use 0.01-3 mass% further.

なお、本発明では、予めシクロオレフィン樹脂に所望量よりも高濃度の安定剤を有する微粒子含有マスターペレットを作製しておいてもよい。これにより、微粒子の分散性のよいシクロオレフィン樹脂ペレットが作製可能となり、優れた面状と表面の滑り性(キシミ防止)を備えたシクロオレフィン樹脂フィルムをハンドリング性よく製造することが可能になる。
この時、別途微粒子を含まないシクロオレフィン樹脂のマスターペレット(シクロオレフィン樹脂マスターペレット)を作製しておくことが必要である。その場合、微粒子含有マスターペレットには、同時に上記の安定剤を含有させておくことが好ましい。また、微粒子含有マスターペレット中の微粒子の添加量は特に制限されないが、好ましくはシクロオレフィン樹脂フィルム中の微粒子最終濃度の2〜50倍が好ましく、より好ましくは2〜30倍であり、更に好ましくは3〜25倍であり、特に好ましくは4〜20倍である。シクロオレフィン樹脂マスターペレットと微粒子含有マスターペレットの混合には、前記した混合機を利用することができる。なお、微粒子含有マスターペレットを作製する段階で、微粒子以外の添加剤(安定剤、可塑剤、その他の添加剤など)を一緒に添加してもよく、その場合も微粒子以外の添加剤の濃度は、好ましくはシクロオレフィン樹脂フィルム中の所望添加剤最終濃度の2〜50倍が好ましく、より好ましくは2〜30倍であり、更に好ましくは3〜25倍であり、特に好ましくは4〜20倍である。
In the present invention, fine particle-containing master pellets having a higher concentration of stabilizer than the desired amount in the cycloolefin resin may be prepared in advance. This makes it possible to produce cycloolefin resin pellets with good dispersibility of fine particles, and it is possible to produce a cycloolefin resin film having excellent surface shape and surface slipperiness (prevention of creaking) with good handling properties.
At this time, it is necessary to prepare a cycloolefin resin master pellet (cycloolefin resin master pellet) that does not contain fine particles. In that case, it is preferable to contain the above-mentioned stabilizer in the fine particle-containing master pellet at the same time. The amount of fine particles added in the fine particle-containing master pellet is not particularly limited, but preferably 2 to 50 times the fine particle final concentration in the cycloolefin resin film, more preferably 2 to 30 times, and still more preferably. It is 3 to 25 times, particularly preferably 4 to 20 times. For mixing the cycloolefin resin master pellet and the fine particle-containing master pellet, the above-described mixer can be used. In addition, additives other than fine particles (stabilizers, plasticizers, other additives, etc.) may be added together at the stage of preparing the fine particle-containing master pellet. The final concentration of the desired additive in the cycloolefin resin film is preferably 2 to 50 times, more preferably 2 to 30 times, still more preferably 3 to 25 times, and particularly preferably 4 to 20 times. is there.

(光学調整剤)
本発明では、シクロオレフィン樹脂に、光学異方性をコントロールするための光学調整剤(レターデーションコントロール剤、特にレターデーション上昇剤)を添加してもよい。本発明では、シクロオレフィン樹脂フィルムのレターデーションを調整するため、少なくとも一個の芳香族環を有する芳香族化合物をレターデーションコントロール剤として使用することが好ましい。芳香族化合物は、シクロオレフィン樹脂100質量部に対して、通常0.01〜20質量部の範囲で使用する。芳香族化合物は、シクロオレフィン樹脂100質量部に対して、0.05〜15質量部の範囲で使用することが好ましく、0.1〜10質量部の範囲で使用することがさらに好ましい。このとき、2種類以上の芳香族化合物を併用してもよい。また、ここでいう芳香族化合物の芳香族環には、芳香族炭化水素環に加えて、芳香族性ヘテロ環も含まれる。芳香族炭化水素環は、6員環(すなわち、ベンゼン環)であることが特に好ましい。芳香族性ヘテロ環は一般に、不飽和ヘテロ環である。芳香族性ヘテロ環は、5員環、6員環または7員環であることが好ましく、5員環または6員環であることがさらに好ましい。芳香族性ヘテロ環は一般に、最多の二重結合を有する。ヘテロ環に含まれるヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子および硫黄原子が好ましく、窒素原子が特に好ましい。芳香族性ヘテロ環の例には、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、フラザン環、トリアゾール環、ピラン環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環および1,3,5−トリアジン環が含まれる。
(Optical adjusting agent)
In the present invention, an optical adjusting agent (a retardation control agent, particularly a retardation increasing agent) for controlling optical anisotropy may be added to the cycloolefin resin. In the present invention, in order to adjust the retardation of the cycloolefin resin film, it is preferable to use an aromatic compound having at least one aromatic ring as a retardation control agent. An aromatic compound is normally used in 0.01-20 mass parts with respect to 100 mass parts of cycloolefin resin. The aromatic compound is preferably used in the range of 0.05 to 15 parts by mass, and more preferably in the range of 0.1 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the cycloolefin resin. At this time, two or more kinds of aromatic compounds may be used in combination. The aromatic ring of the aromatic compound here includes an aromatic hetero ring in addition to the aromatic hydrocarbon ring. The aromatic hydrocarbon ring is particularly preferably a 6-membered ring (that is, a benzene ring). The aromatic heterocycle is generally an unsaturated heterocycle. The aromatic heterocycle is preferably a 5-membered ring, 6-membered ring or 7-membered ring, more preferably a 5-membered ring or 6-membered ring. Aromatic heterocycles generally have the most double bonds. As a hetero atom contained in the heterocycle, a nitrogen atom, an oxygen atom and a sulfur atom are preferable, and a nitrogen atom is particularly preferable. Examples of aromatic heterocycles include furan ring, thiophene ring, pyrrole ring, oxazole ring, isoxazole ring, thiazole ring, isothiazole ring, imidazole ring, pyrazole ring, furazane ring, triazole ring, pyran ring, pyridine ring , Pyridazine ring, pyrimidine ring, pyrazine ring and 1,3,5-triazine ring.

(離型剤)
本発明におけるシクロオレフィン樹脂は、フッ素原子を有する化合物を含むことが好ましい。前記フッ素原子を有する化合物は、離型剤としての作用を発現でき、低分子量化合物であっても重合体であってもよい。重合体としては、特開2001−269564号公報に記載の重合体を挙げることができる。前記フッ素原子を有する重合体として好ましいものは、フッ素化アルキル基含有エチレン性不飽和単量体を必須成分として含有してなる単量体を重合せしめた重合体である。前記重合体に係わるフッ素化アルキル基含有エチレン性不飽和単量体としては、分子中にエチレン性不飽和基とフッ素化アルキル基とを有する化合物であれば特に制限はない。またフッ素原子を有する界面活性剤も利用でき、特に非イオン性界面活性剤が好ましい。
(Release agent)
The cycloolefin resin in the present invention preferably contains a compound having a fluorine atom. The compound having a fluorine atom can exhibit an action as a release agent, and may be a low molecular weight compound or a polymer. Examples of the polymer include the polymers described in JP-A No. 2001-269564. Preferred as the polymer having a fluorine atom is a polymer obtained by polymerizing a monomer containing an ethylenically unsaturated monomer containing a fluorinated alkyl group as an essential component. The fluorinated alkyl group-containing ethylenically unsaturated monomer related to the polymer is not particularly limited as long as it is a compound having an ethylenically unsaturated group and a fluorinated alkyl group in the molecule. A surfactant having a fluorine atom can also be used, and a nonionic surfactant is particularly preferable.

(混合)
紫外線吸収剤、安定剤、各種添加剤(ここでは、これらをまとめて添加材料という)は、予めシクロオレフィン樹脂に所望量よりも高濃度の添加材料を有する添加材料含有マスターペレットを作製してもよい。その場合は、別途添加材料を含まないシクロオレフィン樹脂のマスターペレット(シクロオレフィン樹脂マスターペレット)を作製しておくことが必要である。その場合、添加材料含有マスターペレット中の添加量は特に制限されないが、好ましくはシクロオレフィン樹脂フィルム中の添加材料最終濃度の2〜50倍であり、より好ましくは2〜30倍であり、さらには3〜25倍であり、特には4〜20倍である。シクロオレフィン樹脂マスターペレットと添加材料含有マスターペレットの混合には、下記に挙げる方法を利用できる。
(mixture)
Ultraviolet absorbers, stabilizers, and various additives (herein, these are collectively referred to as additive materials) can be used to prepare additive-material-containing master pellets that have an additive material in a concentration higher than the desired amount in the cycloolefin resin in advance. Good. In that case, it is necessary to prepare a cycloolefin resin master pellet (cycloolefin resin master pellet) that does not include any additional material. In that case, the addition amount in the additive material-containing master pellet is not particularly limited, but is preferably 2 to 50 times the final concentration of the additive material in the cycloolefin resin film, more preferably 2 to 30 times, and further 3 to 25 times, particularly 4 to 20 times. The following methods can be used for mixing the cycloolefin resin master pellets and the additive material-containing master pellets.

シクロオレフィン樹脂を粉体として作製した後に添加材料を混合する場合は、粉体同士の混合となるため均一に混合することが重要である。すなわち添加材料が粉末の場合は、シクロオレフィン樹脂粉末に均一に混合するために、混合機器を利用することが有効である。混合機器としては、例えば容器回転型、容器固定型あるいはその複合型などを挙げることができ、具体的には回転水平型(水平円筒、傾斜円筒、V型、二十円錘、正方形体、S字型、連続V型など)、回転軸水平(例えば、リボン、スクリュー、ロッド、ピン、複軸パドルなど)、回転垂直(リボン、スクリュー、円錘型スクリュー、高速流動、回転円板、マラーなど)、振動型(振動ミル、フルイなど)、回転型に内設羽根型(水平円筒、V型、二重円錘など)を利用することができる。混合時には、添加材料やシクロオレフィン樹脂が安定であるように、湿度、温度や酸素濃度をコントロールすることが望ましい。湿度と温度は低い方が好ましい。すなわち、好ましい相対湿度は70%以下であり、より好ましくは50%以下であり、さらに好ましくは350%以下であり、特に好ましくは20%以下である。また、温度は好ましくは−20〜100℃であり、より好ましくは0〜80℃であり、さらに好ましくは5〜60℃であり、特に好ましくは10〜50℃である。   When the additive material is mixed after the cycloolefin resin is prepared as a powder, it is important to mix uniformly because the powders are mixed. That is, when the additive material is powder, it is effective to use a mixing device in order to uniformly mix the cycloolefin resin powder. Examples of the mixing device include a container rotating type, a container fixing type, or a composite type thereof. Specifically, a rotating horizontal type (horizontal cylinder, inclined cylinder, V type, twentieth pyramid, square body, S Shape, continuous V shape, etc.), rotation axis horizontal (eg, ribbon, screw, rod, pin, double axis paddle, etc.), rotation vertical (ribbon, screw, conical screw, high speed flow, rotating disc, maller, etc.) ), Vibration type (vibration mill, sieve, etc.), and internal blade type (horizontal cylinder, V type, double cone, etc.) can be used as the rotation type. During mixing, it is desirable to control the humidity, temperature, and oxygen concentration so that the additive material and the cycloolefin resin are stable. Lower humidity and temperature are preferred. That is, the preferred relative humidity is 70% or less, more preferably 50% or less, still more preferably 350% or less, and particularly preferably 20% or less. The temperature is preferably −20 to 100 ° C., more preferably 0 to 80 ° C., further preferably 5 to 60 ° C., and particularly preferably 10 to 50 ° C.

また、酸素濃度は低いことが好ましく、気体中の酸素濃度は10容量%以下であることが好ましく、より好ましくは5容量%以下であり、さらに好ましくは2容量%以下であり、特に好ましくは1容量%以下である。酸素濃度を低下させる方法は特に限定されないが、不活性ガス(例えば、窒素、アルゴン、ヘリウムなど)や真空機器による脱気操作で達成できる。このようにして混合された添加材料を含有したシクロオレフィン樹脂混合物は、低酸素濃度を保持したまま溶融ペレット化あるいは溶融製膜されることが推奨される。なお、ペレット化工程で低い酸素濃度雰囲気下で溶融して作製された場合は、溶融製膜時の酸素濃度コントロールは不要な場合があり、工程への負荷が軽減される。   The oxygen concentration is preferably low, and the oxygen concentration in the gas is preferably 10% by volume or less, more preferably 5% by volume or less, still more preferably 2% by volume or less, and particularly preferably 1%. The capacity is less than%. The method for reducing the oxygen concentration is not particularly limited, but it can be achieved by degassing with an inert gas (for example, nitrogen, argon, helium, etc.) or vacuum equipment. It is recommended that the cycloolefin resin mixture containing the additive material mixed in this way be melt pelletized or melt-cast while maintaining a low oxygen concentration. In addition, when it is made by melting in a low oxygen concentration atmosphere in the pelletizing step, it may not be necessary to control the oxygen concentration during melt film formation, and the load on the step is reduced.

《製膜》
(1)ペレット化
前記シクロオレフィン樹脂と添加物とは溶融製膜に先立ち混合しペレット化するのが好ましい。
ペレット化を行うにあたりシクロオレフィン樹脂および添加物は事前に乾燥を行うことが好ましいが、ベント式押出機を用いることで、乾燥を代用することもできる。乾燥を行う場合、前記乾燥方法としては、加熱炉内にて90℃で8時間以上加熱する方法等を用いることができるが、この限りではない。ペレット化は前記シクロオレフィン樹脂と添加物を、2軸混練押出機を用い150℃〜280℃で溶融後、ヌードル状に押出したものを水中で固化し裁断することで作製することができる。また、押出機による溶融後水中に口金より直接押出ながらカットする、アンダーウオーターカット法等によりペレット化を行ってもかまわない。
押出機は十分な、溶融混練が得られる限り、任意の公知の単軸スクリュー押出機、非かみ合い型異方向回転二軸スクリュー押出機、かみ合い型異方向回転二軸スクリュー押出機、かみ合い型同方向回転二軸スクリュー押出機などを用いることができる。
《Filming》
(1) Pelletization The cycloolefin resin and the additive are preferably mixed and pelletized prior to melt film formation.
In the pelletization, the cycloolefin resin and the additive are preferably dried in advance, but drying can be substituted by using a vented extruder. In the case of drying, as the drying method, a method of heating at 90 ° C. for 8 hours or more in a heating furnace can be used, but not limited thereto. Pelletization can be performed by melting the cycloolefin resin and the additive at 150 ° C. to 280 ° C. using a twin-screw kneading extruder, then extruding the noodle into a solid and cutting it in water. Further, pelletization may be performed by an underwater cutting method or the like that is cut while being directly extruded from a die after being melted by an extruder.
Any known single-screw extruder, non-meshing counter-rotating twin-screw extruder, meshing-type counter-rotating twin-screw extruder, meshing co-direction as long as the melter kneading is sufficient A rotary twin screw extruder or the like can be used.

ペレットの大きさは、断面積が1mm2〜300mm2、長さが1mm〜30mmであることが好ましく、断面積が2mm2〜100mm2、長さが1.5mm〜10mmであることがより好ましい。
またペレット化を行う時に、前記添加物は押出機の途中にある原料投入口やベント口から投入することもできる。
The size of the pellets is preferably cross-sectional area of 1 mm 2 to 300 mm 2, a length of 1Mm~30mm, cross-sectional area 2 mm 2 100 mm 2, and more preferably the length is 1.5mm~10mm .
Moreover, when pelletizing, the said additive can also be injected | thrown-in from the raw material input port and vent port in the middle of an extruder.

押出機の回転数は10rpm〜1000rpmが好ましく、20rpm〜700rpmがより好ましく、30rpm〜500rpmがさらに好ましい。回転速度を10rpm以上にすると、滞留時間が長くなりすぎず、熱劣化により分子量が低下したり、黄色味が悪化しやすくなるのを抑止できる傾向にあり好ましい。また、回転速度を1000rpm以下とすると、剪断により分子の切断が起きにくくなり、分子量低下を招いたり、架橋ゲルの発生は増加するなどの問題が生じにくくなる。
ペレット化における押出滞留時間は、好ましくは10秒〜30分、より好ましくは15秒〜10分、さらに好ましくは30秒〜3分である。十分に溶融ができれば、滞留時間は短い方が、樹脂劣化、黄色み発生を抑えることができる点で好ましい。
The number of revolutions of the extruder is preferably 10 rpm to 1000 rpm, more preferably 20 rpm to 700 rpm, and even more preferably 30 rpm to 500 rpm. A rotational speed of 10 rpm or more is preferable because the residence time does not become too long, and the molecular weight decreases due to thermal deterioration or the yellowishness tends to be deteriorated. Further, when the rotation speed is 1000 rpm or less, it becomes difficult for molecules to be cut by shearing, and problems such as a decrease in molecular weight and an increase in the generation of cross-linked gel are less likely to occur.
The extrusion residence time in pelletization is preferably 10 seconds to 30 minutes, more preferably 15 seconds to 10 minutes, and even more preferably 30 seconds to 3 minutes. If sufficient melting is possible, a shorter residence time is preferable in terms of suppressing resin deterioration and yellowing.

(2)乾燥
溶融製膜に先立ちペレット中の水分を減少させることが好ましい。乾燥の方法については、除湿風乾燥機を用いて乾燥する事が多いが、目的とする含水率が得られるのであれば特に限定されない。例えば、加熱、送風、減圧、攪拌などの手段を単独または組み合わせて用いることで効率的に行うことが好ましく、乾燥ホッパーを断熱構造にすることがより好ましい。乾燥温度として好ましくは0〜200℃であり、より好ましくは40〜180℃であり、さらに好ましくは60〜150℃である。乾燥温度が低いと乾燥に時間がかかり、含有水分率が目標値以下になりにくい傾向にある。一方、乾燥温度が高いと樹脂が粘着してブロッキングしやすい傾向にある。乾燥風量として好ましくは20〜400m3/時間であり、より好ましくは50〜300m3/時間であり、さらに好ましくは100〜250m3/時間である。乾燥風量が少ないと乾燥効率が悪くなる傾向にある。一方、風量が多くしても一定量以上あれば乾燥効果の更なる向上は小さく経済的でない。エアーの露点として、好ましくは0〜−60℃であり、より好ましくは−10〜−50℃であり、さらに好ましくは−20〜−40℃である。乾燥時間は、通常、少なくとも15分以上必要であり、好ましくは、1時間以上であり、より好ましくは2時間以上である。一方、50時間を超えて乾燥させても更なる水分率の低減効果は少なく、樹脂の熱劣化の懸念が発生する傾向にあるため乾燥時間を不必要に長くする必要はない。本発明で採用するシクロオレフィン樹脂は、その含水率が1.0質量%以下であることが好ましく、0.1質量%以下であることがより好ましく、0.01質量%以下であることがさらに好ましい。
(2) Drying It is preferable to reduce moisture in the pellets prior to melt film formation. The drying method is often dried using a dehumidifying air dryer, but is not particularly limited as long as the desired moisture content can be obtained. For example, it is preferable to carry out it efficiently by using means such as heating, air blowing, decompression and stirring alone or in combination, and it is more preferable that the drying hopper has a heat insulating structure. Preferably it is 0-200 degreeC as drying temperature, More preferably, it is 40-180 degreeC, More preferably, it is 60-150 degreeC. When the drying temperature is low, drying takes time, and the moisture content tends to be less than the target value. On the other hand, when the drying temperature is high, the resin tends to adhere and easily block. The amount of drying air used is preferably a 20 to 400 m 3 / hour, more preferably from 50 to 300 m 3 / time, more preferably from 100 to 250 m 3 / hour. If the amount of drying air is small, the drying efficiency tends to deteriorate. On the other hand, even if the air volume is increased, if it exceeds a certain amount, further improvement of the drying effect is small and not economical. The dew point of air is preferably 0 to -60 ° C, more preferably -10 to -50 ° C, and further preferably -20 to -40 ° C. The drying time usually needs at least 15 minutes or more, preferably 1 hour or more, and more preferably 2 hours or more. On the other hand, even if it is dried for more than 50 hours, there is little effect of reducing the moisture content, and there is a tendency for the thermal deterioration of the resin to occur, so it is not necessary to unnecessarily increase the drying time. The cycloolefin resin employed in the present invention preferably has a moisture content of 1.0% by mass or less, more preferably 0.1% by mass or less, and further preferably 0.01% by mass or less. preferable.

(3)溶融押出し
上述したシクロオレフィン樹脂は押出機の供給口を介してシリンダー内に供給される。シリンダー内は供給口側から順に、供給口から供給したシクロオレフィン樹脂を定量輸送する供給部(領域A)とシクロオレフィン樹脂を溶融混練・圧縮する圧縮部(領域B)と溶融混練・圧縮されたシクロオレフィン樹脂を計量する計量部(領域C)とで構成される。シクロオレフィン樹脂は上述の方法により水分量を低減させるために、乾燥することが好ましいが、残存する酸素による溶融樹脂の酸化を防止するために、押出機内を不活性(窒素等)気流中、あるいはベント付き押出し機を用い真空排気しながら実施するのがより好ましい。押出機のスクリュー圧縮比は2.5〜4.5に設定され、L/Dは20〜70に設定されている。ここでスクリュー圧縮比とは供給部Aと計量部Cとの容積比、即ち供給部Aの単位長さあたりの容積÷計量部Cの単位長さあたりの容積で表され、供給部Aのスクリュー軸の外径d1、計量部Cのスクリュー軸の外径d2、供給部Aの溝部径a1、および計量部Cの溝部径a2とを使用して算出される。また、L/Dとはシリンダー内径に対するシリンダー長さの比である。また、押出温度は200〜300℃に設定される。押出し機内の温度は全部同温度でもよく、温度分布をつけても良い。より好ましいのが供給部の温度を圧縮部の温度より高くするものである。
(3) Melt extrusion The above-mentioned cycloolefin resin is supplied into the cylinder through the supply port of the extruder. The inside of the cylinder was melt-kneaded and compressed in order from the supply port side, a supply part (region A) for quantitatively transporting cycloolefin resin supplied from the supply port, and a compression unit (region B) for melt-kneading and compressing cycloolefin resin. It is comprised with the measurement part (area | region C) which measures cycloolefin resin. The cycloolefin resin is preferably dried in order to reduce the water content by the above-described method. However, in order to prevent the molten resin from being oxidized by the remaining oxygen, the inside of the extruder is in an inert (nitrogen or the like) air stream, or More preferably, it is carried out while evacuating using an extruder with a vent. The screw compression ratio of the extruder is set to 2.5 to 4.5, and L / D is set to 20 to 70. Here, the screw compression ratio is expressed by the volume ratio between the supply unit A and the metering unit C, that is, the volume per unit length of the supply unit A ÷ the volume per unit length of the metering unit C. It is calculated using the outer diameter d1 of the shaft, the outer diameter d2 of the screw shaft of the measuring part C, the groove part diameter a1 of the supply part A, and the groove part diameter a2 of the measuring part C. L / D is the ratio of the cylinder length to the cylinder inner diameter. Moreover, extrusion temperature is set to 200-300 degreeC. The temperatures in the extruder may all be the same temperature or may have a temperature distribution. More preferably, the temperature of the supply section is made higher than the temperature of the compression section.

スクリュー圧縮比が2.5を下回って小さ過ぎると、十分に溶融混練されず、未溶解部分が発生し、製造後のシクロオレフィン樹脂フィルムに未溶解異物が残存し易くなり、さらに、気泡が混入し易くなる。これにより、シクロオレフィン樹脂フィルムの強度が低下したり、あるいはフィルムを延伸する場合に破断し易くなり、配向を十分に上げることができなくなる。逆に、スクリュー圧縮比が4.5を上回って大き過ぎると、せん断応力がかかり過ぎて発熱により樹脂が劣化し易くなるので、製造後のシクロオレフィン樹脂フィルムに黄色味が出易くなる。また、せん断応力がかかり過ぎると分子の切断が起こり、分子量が低下してシクロオレフィン樹脂フィルムの機械的強度が低下する。したがって、製造後のシクロオレフィン樹脂フィルムに黄色味が出にくく、かつ、シクロオレフィン樹脂フィルム強度が強くさらに延伸破断しにくくするためには、スクリュー圧縮比は2.5〜4.5の範囲が好ましく、2.8〜4.2がより好ましく、3.0〜4.0がさらに好ましい。   If the screw compression ratio is less than 2.5 and is too small, it will not be melted and kneaded sufficiently, undissolved parts will be generated, undissolved foreign matter will easily remain in the manufactured cycloolefin resin film, and bubbles will be mixed It becomes easy to do. As a result, the strength of the cycloolefin resin film is reduced, or when the film is stretched, the film is easily broken and the orientation cannot be sufficiently increased. On the other hand, if the screw compression ratio exceeds 4.5 and is too large, the shear stress is excessively applied and the resin is easily deteriorated due to heat generation, so that a yellowish color is likely to appear in the manufactured cycloolefin resin film. In addition, when too much shear stress is applied, molecular cutting occurs, the molecular weight decreases, and the mechanical strength of the cycloolefin resin film decreases. Therefore, the screw compression ratio is preferably in the range of 2.5 to 4.5 in order to make the cycloolefin resin film after production hardly yellow, and the cycloolefin resin film has high strength and is difficult to stretch and break. 2.8 to 4.2 is more preferable, and 3.0 to 4.0 is more preferable.

また、L/Dが20を下回って小さ過ぎると、溶融不足や混練不足となり、圧縮比が小さい場合と同様に製造後のシクロオレフィン樹脂フィルムに未溶解異物が発生し易くなる。逆に、L/Dが70を上回って大き過ぎると、押出機内でのシクロオレフィン樹脂の滞留時間が長くなり過ぎ、樹脂の劣化を引き起こし易くなる。また、滞留時間が長くなると分子の切断が起こったり、分子量が低下してシクロオレフィン樹脂フィルムの機械的強度が低下する。したがって、製造後のシクロオレフィン樹脂フィルムに黄色味が出にくく、かつ、フィルム強度が強くさらに延伸破断しにくくするためには、L/Dの範囲は、20〜70が好ましく、22〜65がより好ましく、24〜50がさらに好ましい。   On the other hand, if L / D is less than 20 and is too small, melting and kneading are insufficient, and undissolved foreign matter is likely to be generated in the manufactured cycloolefin resin film as in the case where the compression ratio is small. On the contrary, if L / D exceeds 70 and is too large, the residence time of the cycloolefin resin in the extruder becomes too long, and the resin tends to be deteriorated. In addition, when the residence time is long, the molecules are cut or the molecular weight is lowered, so that the mechanical strength of the cycloolefin resin film is lowered. Accordingly, the L / D range is preferably 20 to 70, and more preferably 22 to 65, in order to make the cycloolefin resin film after production hardly yellow, and the film strength is strong and further makes it difficult to stretch and break. 24-50 are more preferable.

このようにして得られたシクロオレフィン樹脂フィルムは、ヘイズが2.0%以下、イエローインデックス(YI値)が10以下である特性値を有していることが好ましい。   The cycloolefin resin film thus obtained preferably has a characteristic value having a haze of 2.0% or less and a yellow index (YI value) of 10 or less.

押し出し機の種類として、一般的には設備コストの比較的安い単軸押し出し機が用いられることが多く、フルフライト、マドック、ダルメージ等のスクリュータイプがあるが、シクロオレフィン樹脂には、フルフライトタイプが好ましい。また、設備コストは高価であるが、スクリューセグメントを変更することにより、途中でベント口を設けて不要な揮発成分を脱揮させながら押出ができる二軸押出機を用いることが可能である、二軸押し出し機には大きく分類して同方向と異方向のタイプがありどちらも用いることが可能であるが、滞留部分が発生し難くセルフクリーニング性能の高い同方向回転のタイプが好ましい。ベント口を適正に配置することにより、未乾燥状態でのシクロオレフィン樹脂ペレットやパウダーをそのまま使用することも可能である。また、製膜途中で出たフィルムのミミ等も乾燥させることなしにそのまま再利用することもできる。
なお、好ましいスクリューの直径は目標とする単位時間あたりの押出量によって異なるが、通常、10mm〜300mmであり、より好ましくは20mm〜250mmであり、さらに好ましくは30mm〜150mmである。
In general, single-screw extruders with relatively low equipment costs are often used as the types of extruders, and there are screw types such as full flight, madok and dalmage, but cycloolefin resins are full flight types. Is preferred. In addition, although the equipment cost is expensive, it is possible to use a twin-screw extruder that can be extruded while devolatilizing unnecessary volatile components by providing a vent port in the middle by changing the screw segment. There are two types of shaft extruders, the same direction and the different direction, which can be used. However, the type of the same direction rotation with high self-cleaning performance is preferred because a stagnant portion is hardly generated. By properly arranging the vent port, it is possible to use the cycloolefin resin pellets and powder in an undried state as they are. In addition, film smears produced during film formation can be reused as they are without drying.
In addition, although the diameter of a preferable screw changes with target extrusion rates per unit time, it is 10 mm-300 mm normally, More preferably, it is 20 mm-250 mm, More preferably, it is 30 mm-150 mm.

(4)濾過
樹脂中の異物濾過のためや異物によるギアポンプ損傷を避けるため押し出し機出口にフィルター濾材を設けるいわゆるブレーカープレート式の濾過を行うことが好ましい。この際、上記のように濾材の孔径、溶融樹脂の流速の調整により達成できる。
濾過はさらに精度高く異物濾過をするために、ギアポンプ通過後にいわゆるリーフ型ディスクフィルターを組み込んだ濾過装置を設けることが好ましい。濾過は、濾過部を1カ所設けて行うことができ、また複数カ所設けて行う多段濾過でもよい。フィルター濾材の濾過精度は高い方が好ましいが、濾材の耐圧や濾材の目詰まりによる濾圧上昇から、濾過精度は、15μmm〜3μmmが好ましく、10μmm〜3μmmがより好ましい。特に最終的に異物濾過を行うリーフ型ディスクフィルター装置を使用する場合では品質の上で濾過精度の高い濾材を使用することが好ましく、耐圧、フィルターライフの適性を確保するために装填枚数にて調整することが可能である。濾材の種類は、高温高圧下で使用される点から鉄鋼材料を用いることが好ましく、鉄鋼材料の中でも特にステンレス鋼、スチールなどを用いることがより好ましく、腐食の点から特にステンレス鋼を用いることがさらに好ましい。濾材の構成としては、線材を編んだものの他に、例えば、金属長繊維あるいは金属粉末を焼結し形成する焼結濾材が使用でき、濾過精度、フィルターライフの点から焼結濾材が好ましい。
(4) Filtration It is preferable to perform so-called breaker plate type filtration in which a filter medium is provided at the outlet of the extruder for filtering foreign matter in the resin and avoiding damage to the gear pump due to foreign matter. At this time, it can be achieved by adjusting the pore diameter of the filter medium and the flow rate of the molten resin as described above.
In order to filter foreign matter with higher accuracy, it is preferable to provide a filtration device incorporating a so-called leaf type disk filter after passing through the gear pump. Filtration can be performed by providing one filtration section, or multistage filtration performed by providing a plurality of places. The filtration accuracy of the filter medium is preferably higher. However, the filtration accuracy is preferably 15 μm to 3 μm, more preferably 10 μm to 3 μm from the viewpoint of the pressure resistance of the filter medium and the increase in the filtration pressure due to clogging of the filter medium. In particular, when using a leaf-type disk filter device that finally filters foreign matter, it is preferable to use a filter medium with high filtration accuracy in terms of quality, and it is adjusted by the number of loaded sheets to ensure the suitability of pressure resistance and filter life. Is possible. The type of filter medium is preferably a steel material because it is used under high temperature and high pressure. Among steel materials, it is more preferable to use stainless steel, steel, etc., and stainless steel is particularly preferable from the viewpoint of corrosion. Further preferred. As a configuration of the filter medium, in addition to a knitted wire, for example, a sintered filter medium formed by sintering a metal long fiber or metal powder can be used, and a sintered filter medium is preferable in terms of filtration accuracy and filter life.

(5)ギアポンプ
厚み精度を向上させるためには、吐出量の変動を減少させることが重要であり、押出機とダイスとの間にギアポンプを設けて、ギアポンプから一定量のシクロオレフィン樹脂を供給することは効果がある。ギアポンプとは、ドライブギアとドリブンギアとからなる一対のギアが互いに噛み合った状態で収容され、ドライブギアを駆動して両ギアを噛み合い回転させることにより、ハウジングに形成された吸引口から溶融状態の樹脂をキャビティ内に吸引し、同じくハウジングに形成された吐出口からシクロオレフィン樹脂を一定量吐出するものである。押出機先端部分の樹脂圧力が若干の変動があっても、ギアポンプを用いることにより変動を吸収し、製膜装置下流の樹脂圧力の変動は非常に小さなものとなり、厚み変動が改善される。ギアポンプを用いることにより、ダイ部分の樹脂圧力の変動巾を±1%以内にすることが可能である。
(5) Gear pump In order to improve the thickness accuracy, it is important to reduce the fluctuation of the discharge amount. A gear pump is provided between the extruder and the die, and a certain amount of cycloolefin resin is supplied from the gear pump. That is effective. A gear pump is accommodated in a state where a pair of gears composed of a drive gear and a driven gear are engaged with each other, and the drive gear is driven to engage and rotate the two gears, so that a melted state is generated from the suction port formed in the housing. The resin is sucked into the cavity, and a predetermined amount of cycloolefin resin is discharged from the discharge port formed in the housing. Even if there is a slight fluctuation in the resin pressure at the front end of the extruder, the fluctuation is absorbed by using a gear pump, the fluctuation in the resin pressure downstream of the film forming apparatus becomes very small, and the thickness fluctuation is improved. By using a gear pump, it is possible to keep the fluctuation range of the resin pressure in the die portion within ± 1%.

ギアポンプによる定量供給性能を向上させるために、スクリューの回転数を変化させて、ギアポンプ前の圧力を一定に制御する方法も用いることができる。また、ギアポンプのギアの変動を解消した3枚以上のギアを用いた高精度ギアポンプも有効である。   In order to improve the quantitative supply performance by the gear pump, a method of controlling the pressure before the gear pump to be constant by changing the number of rotations of the screw can also be used. In addition, a high-precision gear pump using three or more gears that eliminates gear fluctuations of the gear pump is also effective.

ギアポンプを用いるその他のメリットとしては、スクリュー先端部の圧力を下げて製膜できることから、エネルギー消費の軽減・樹脂温度上昇の防止・輸送効率の向上・押出機内での滞留時間の短縮・押出機のL/Dの短縮が期待できる。また、異物除去のために、フィルターを用いる場合には、ギアポンプが無いと、濾圧の上昇と共に、スクリューから供給されるシクロオレフィン樹脂の量が変動したりすることがあるが、ギアポンプを組み合わせて用いることにより解消が可能である。一方、ギアポンプのデメリットとしては、設備の選定方法によっては、設備の長さが長くなり、シクロオレフィン樹脂の滞留時間が長くなること、ギアポンプ部のせん断応力によってシクロオレフィン樹脂の分子鎖の切断を引き起こすことがあり、注意が必要である。   Other advantages of using a gear pump are that the pressure at the tip of the screw can be reduced to form a film, reducing energy consumption, preventing rise in resin temperature, improving transport efficiency, reducing residence time in the extruder, Shortening of L / D can be expected. Also, when using a filter to remove foreign matter, if there is no gear pump, the amount of cycloolefin resin supplied from the screw may fluctuate as the filtration pressure increases. It can be solved by using it. On the other hand, the disadvantage of the gear pump is that the length of the equipment becomes longer depending on the equipment selection method, the residence time of the cycloolefin resin becomes longer, and the molecular chain of the cycloolefin resin is broken by the shear stress of the gear pump part. Sometimes it needs attention.

シクロオレフィン樹脂が供給口から押出機に入ってからダイスから出るまでのシクロオレフィン樹脂の好ましい滞留時間は2分間〜60分間であり、より好ましくは3分間〜40分間であり、さらに好ましくは4分間〜30分間である。
ギアポンプの軸受循環用ポリマーの流れが悪くなることにより、駆動部と軸受部におけるポリマーによるシールが悪くなり、計量および送液押し出し圧力の変動が大きくなったりする問題が発生するため、シクロオレフィン樹脂の溶融粘度に合わせたギアポンプの設計(特にクリアランス)が必要である。また、場合によっては、ギアポンプの滞留部分がシクロオレフィン樹脂の劣化の原因となるため、滞留のできるだけ少ない構造が好ましい。押出機とギアポンプあるいはギアポンプとダイ等とをつなぐポリマー管やアダプタについても、できるだけ滞留の少ない設計が必要であり、かつ溶融粘度の温度依存性の高いシクロオレフィン樹脂の押出圧力安定化のためには、温度の変動をできるだけ小さくすることが好ましい。一般的には、ポリマー管の加熱には設備コストの安価なバンドヒーターが用いられることが多いが、温度変動のより少ないアルミ鋳込みヒーターを用いることがより好ましい。さらに上述のように押出し機内で、押出し機のバレルを3〜20に分割したヒーターで加熱し溶融することが好ましい。
The preferred residence time of the cycloolefin resin from the time when the cycloolefin resin enters the extruder to the time when it exits the die is 2 minutes to 60 minutes, more preferably 3 minutes to 40 minutes, and even more preferably 4 minutes. ~ 30 minutes.
Since the flow of the polymer for bearing circulation of the gear pump is deteriorated, the polymer seal in the drive part and the bearing part is deteriorated, and there is a problem that the fluctuation of the metering and liquid feeding pressure is increased. A gear pump design (especially clearance) that matches the melt viscosity is required. In some cases, the staying part of the gear pump causes deterioration of the cycloolefin resin, and therefore a structure with as little staying as possible is preferable. The polymer pipes and adapters that connect the extruder and gear pump or gear pump and die, etc. must also be designed with as little stagnation as possible, and in order to stabilize the extrusion pressure of cycloolefin resins with high melt viscosity temperature dependence. It is preferable to make the temperature fluctuation as small as possible. Generally, a band heater having a low equipment cost is often used for heating the polymer tube, but it is more preferable to use an aluminum cast heater with less temperature fluctuation. Further, in the extruder as described above, it is preferable that the barrel of the extruder is heated and melted with a heater divided into 3 to 20.

(6)ダイ
前記の如く構成された押出機によってシクロオレフィン樹脂が溶融され、必要に応じ濾過機、ギアポンプを経由して溶融樹脂がダイに連続的に送られる。ダイはダイス内の溶融樹脂の滞留が少ない設計であれば、一般的に用いられるTダイ、フィッシュテールダイ、ハンガーコートダイの何れのタイプでも構わない。また、Tダイの直前にシクロオレフィン樹脂温度の均一性アップのためのスタティックミキサーを入れることも問題ない。Tダイ出口部分のクリアランスは、一般的にフィルム厚みの、1.0〜5.0倍が好ましく、1.2〜3倍がより好ましく、1.3〜2倍がさらに好ましい。リップクリアランスをフィルム厚みの1.0倍以上とすることにより、製膜により面状のより良好なシートが得られる。また、リップクリアランスをフィルム厚みの5.0倍以下とすることにより、シートの厚み精度が向上する傾向にある。ダイはフィルムの厚み精度を決定する非常に重要な設備であり、厚み調整が厳密にコントロールできるものが好ましい。厚み調整の間隔は、50mm以下であることが好ましく、35mm以下であることがより好ましく、25mm以下であることが好ましい。また、製膜フィルムの均一性を向上するために、ダイの温度ムラや巾方向の流速ムラのできるだけ少ない設計が重要である。また、下流のフィルム厚みを計測して、厚み偏差を計算し、その結果をダイの厚み調整にフィードバックさせる自動厚み調整ダイも長期連続生産の厚み変動の低減に有効である。
また、ダイランド長/タイランド幅は、5〜40であることが好ましい。
フィルムの製造は設備コストの安い単層製膜装置が一般的に用いられるが、場合によっては機能層を外層に設けために多層製膜装置を用いて2種以上の構造を有するフィルムの製造も可能である。一般的には機能層を表層に薄く積層することが好ましいが、特に層比を限定するものではない。
(6) Die The cycloolefin resin is melted by the extruder configured as described above, and the molten resin is continuously sent to the die via a filter and a gear pump as necessary. As long as the die is designed so that the molten resin stays in the die, any type of commonly used T die, fishtail die, and hanger coat die may be used. Moreover, there is no problem to insert a static mixer for improving the uniformity of the cycloolefin resin temperature immediately before the T die. The clearance of the T-die outlet portion is generally preferably 1.0 to 5.0 times, more preferably 1.2 to 3 times, and even more preferably 1.3 to 2 times the film thickness. By making the lip clearance 1.0 times or more of the film thickness, a more excellent sheet can be obtained by film formation. Moreover, it exists in the tendency for the thickness precision of a sheet to improve by making lip clearance 5.0 times or less of film thickness. The die is a very important facility for determining the thickness accuracy of the film, and is preferably one that can strictly control the thickness adjustment. The interval for adjusting the thickness is preferably 50 mm or less, more preferably 35 mm or less, and preferably 25 mm or less. Further, in order to improve the uniformity of the film-forming film, it is important to design as little as possible of the temperature unevenness of the die and the flow velocity unevenness in the width direction. An automatic thickness adjustment die that measures the downstream film thickness, calculates the thickness deviation, and feeds back the result to the die thickness adjustment is also effective in reducing the thickness fluctuation in long-term continuous production.
The die land length / Thailand width is preferably 5 to 40.
For production of a film, a single-layer film forming apparatus with a low equipment cost is generally used. However, in some cases, a film having two or more types of structures can also be manufactured using a multilayer film forming apparatus in order to provide a functional layer on an outer layer. Is possible. In general, the functional layer is preferably thinly laminated on the surface layer, but the layer ratio is not particularly limited.

(7)キャスト
上記条件にて、ダイよりシート上に押し出された溶融樹脂をキャスティングドラム上で冷却固化し、フィルムを得る。本発明ではタッチロール法を用いる。
タッチロール法は、キャスティングドラム上にタッチロールを置いてフィルム表面を整形するものである。この時、タッチロールは通常の剛性の高いものではなく、弾性を有するものが好ましい。しかし、弾性変形可能な部材(ゴムなど)を極めて薄い金属で被覆したものでは面圧を高くできず好ましくない。これは、タッチロールの変形量が大きく、キャストロールとの接触面積が大きくなりすぎ、十分な面圧を出すことができないためである。本発明のタッチロールの肉厚は、0.5mm〜7mmが好ましく、1.1〜6mmがより好ましく、1.5〜5mmがさらに好ましい。タッチロール、キャスティングロールは、表面が鏡面であることが好ましく、算術平均高さRaが、好ましくは100nm以下であり、より好ましくは50nm以下であり、さらに好ましくは25nm以下である。タッチロールの面圧は、好ましくは0.1MPa〜10MPaであり、より好ましく0.2MPa〜7MPaであり、さらに好ましくは0.3MPa〜6MPaである。ここで言う面圧とはタッチロールを押し付けている力をシクロオレフィン樹脂フィルムとタッチロールの接触面積で割った値である。
タッチロールは金属シャフトの上に設置し、その間に熱媒(流体)を通してもよく、外筒と金属シャフトの上に間に弾性体層を設け、外筒の間に熱媒(流体)を満たしたものが挙げられる。タッチロールの温度はいずれも(Tg−10)℃を超え(Tg+30)℃以下が好ましく、より好ましくは(Tg−7)℃〜(Tg+20)℃、さらに好ましくは(Tg−5)℃〜(Tg+15)℃である。キャスティングロールの温度も同様の温度域が好ましい。
タッチロールは、具体的には、例えば、特開平11−314263号公報、特開平11−235747号公報に記載のタッチロールを利用できる。
(7) Casting Under the above conditions, the molten resin extruded from the die onto the sheet is cooled and solidified on the casting drum to obtain a film. In the present invention, the touch roll method is used.
The touch roll method forms a film surface by placing a touch roll on a casting drum. At this time, the touch roll is preferably not elastic and usually elastic. However, an elastically deformable member (rubber or the like) covered with a very thin metal is not preferable because the surface pressure cannot be increased. This is because the amount of deformation of the touch roll is large, the contact area with the cast roll becomes too large, and sufficient surface pressure cannot be produced. The thickness of the touch roll of the present invention is preferably 0.5 mm to 7 mm, more preferably 1.1 to 6 mm, and further preferably 1.5 to 5 mm. The touch roll and casting roll preferably have a mirror surface, and the arithmetic average height Ra is preferably 100 nm or less, more preferably 50 nm or less, and further preferably 25 nm or less. The surface pressure of the touch roll is preferably 0.1 MPa to 10 MPa, more preferably 0.2 MPa to 7 MPa, and further preferably 0.3 MPa to 6 MPa. The surface pressure referred to here is a value obtained by dividing the force pressing the touch roll by the contact area between the cycloolefin resin film and the touch roll.
The touch roll may be installed on a metal shaft and a heat medium (fluid) may be passed between them. An elastic layer is provided between the outer cylinder and the metal shaft, and the heat medium (fluid) is filled between the outer cylinders. Can be mentioned. The temperature of the touch roll is preferably (Tg−10) ° C. and (Tg + 30) ° C. or less, more preferably (Tg−7) ° C. to (Tg + 20) ° C., further preferably (Tg−5) ° C. to (Tg + 15). ) ° C. The temperature of the casting roll is preferably in the same temperature range.
Specifically, for example, touch rolls described in JP-A-11-314263 and JP-A-11-235747 can be used as the touch roll.

また、キャスティングドラム(ロール)は複数本用いて徐冷することがより好ましい。このうち前記タッチロールを用いるのは、最上流側(ダイに近い方)の最初のキャスティングロールにタッチさせるように配置することが好ましい。一般的には3本の冷却ロールを用いることが比較的よく行われているが、この限りではない。ロールの直径は、好ましくは50mm〜5000mmであり、より好ましくは100mm〜2000mmであり、さらに好ましくは150mm〜1000mmである。複数本あるロールの間隔は、面間で、好ましくは0.3mm〜300mmであり、より好ましくは1mm〜100mmであり、さらに好ましくは3mm〜30mmである。またキャストロールの最上流側のライン速度(周速)は20m/分〜70m/分とするのが好ましい。   More preferably, a plurality of casting drums (rolls) are used for slow cooling. Of these, the touch roll is preferably used so as to touch the first casting roll on the most upstream side (closer to the die). In general, it is relatively common to use three cooling rolls, but this is not a limitation. The diameter of the roll is preferably 50 mm to 5000 mm, more preferably 100 mm to 2000 mm, and still more preferably 150 mm to 1000 mm. The interval between the plurality of rolls is preferably 0.3 mm to 300 mm, more preferably 1 mm to 100 mm, and even more preferably 3 mm to 30 mm between the surfaces. The line speed (circumferential speed) on the most upstream side of the cast roll is preferably 20 m / min to 70 m / min.

(8)巻取り
キャスティングドラムから剥ぎ取った後、ニップロールを経て巻き取る。
製膜幅は、好ましくは0.7m〜5m、より好ましくは1m〜4m、さらに好ましくは1.3m〜3mである。このようにして得られた未延伸フィルムの厚みは20μm〜250μmが好ましく、より好ましくは25μm〜200μmであり、さらに好ましくは30μm〜180μmである。
(8) Winding After peeling off from the casting drum, it winds up through a nip roll.
The film forming width is preferably 0.7 m to 5 m, more preferably 1 m to 4 m, and still more preferably 1.3 m to 3 m. The thickness of the unstretched film thus obtained is preferably 20 μm to 250 μm, more preferably 25 μm to 200 μm, and still more preferably 30 μm to 180 μm.

また、巻取り前に、両端をトリミングすることも好ましい。トリミングカッターはロータリーカッター、シャー刃、ナイフ等の何れのタイプの物を用いても構わない。材質についても、炭素鋼、ステンレス鋼等、何れを用いても構わない。一般的には、超硬刃、セラミック刃を用いると刃物の寿命が長く、また切り粉の発生が抑えられて好ましい。トリミングで切り落とした部分は破砕し、再度原料として使用してもよい。
片端あるいは両端に厚みだし加工(ナーリング処理)を行うことも好ましい。厚みだし加工による凹凸の高さは、好ましくは1μm〜200μmであり、より好ましくは10μm〜150μmであり、さらに好ましくは20μm〜100μmである。厚みだし加工は両面に凸になるようにしても、片面に凸になるようにしても構わない。厚みだし加工の幅は、好ましくは1mm〜50mmであり、より好ましくは3mm〜30mmであり、さらに好ましくは5mm〜20mmである。押出し加工は室温〜300℃で実施できる。
It is also preferable to trim both ends before winding. As the trimming cutter, any type of rotary cutter, shear blade, knife, or the like may be used. Any material such as carbon steel or stainless steel may be used. In general, it is preferable to use a cemented carbide blade or a ceramic blade because the life of the blade is long and the generation of chips is suppressed. The portion cut off by trimming may be crushed and used again as a raw material.
It is also preferable to perform a thickness increasing process (knurling process) at one or both ends. The height of the unevenness by the thicknessing process is preferably 1 μm to 200 μm, more preferably 10 μm to 150 μm, and still more preferably 20 μm to 100 μm. Thickening processing may be convex on both sides or convex on one side. The width of the thickness increasing process is preferably 1 mm to 50 mm, more preferably 3 mm to 30 mm, and still more preferably 5 mm to 20 mm. Extrusion can be performed at room temperature to 300 ° C.

このようにして製膜したシクロオレフィン樹脂フィルムは、そのまま延伸しても良く(オンライン延伸)、一旦巻き取った後、再度送り出して延伸(オフライン延伸)しても良い。
巻き取る際は、少なくとも片面にラミフィルムを付けることも、傷防止の観点から好ましい。ラミフィルムの厚みは、5μm〜200μmが好ましく、10μm〜150μmがより好ましく、10μm〜120μmがさらに好ましく、15μm〜100μmが特に好ましい。
The cycloolefin resin film thus formed may be stretched as it is (online stretching), or after being wound up once, it may be sent out again and stretched (offline stretching).
At the time of winding, it is also preferable to attach a lami film on at least one side from the viewpoint of preventing scratches. The thickness of the laminated film is preferably 5 μm to 200 μm, more preferably 10 μm to 150 μm, still more preferably 10 μm to 120 μm, and particularly preferably 15 μm to 100 μm.

巻き取り張力は、好ましくは1kg/m幅〜50kg/幅、より好ましくは2kg/m幅〜40kg/幅、さらに好ましくは3kg/m幅〜20kg/幅である。巻き取り張力が1kg/m幅より小さい場合には、フィルムを均一に巻き取ることが困難である。逆に、巻き取り張力が50kg/幅を超える場合には、フィルムが堅巻きになってしまい、巻き外観が悪化するのみでなく、フィルムのコブの部分がクリープ現象により延びてフィルムの波うちの原因になったり、あるいはフィルムの伸びによる残留複屈折が生じるため好ましくない。巻き取り張力は、ラインの途中のテンションコントロールにより検知し、一定の巻き取り張力になるようにコントロールされながら巻き取ることが好ましい。製膜ラインの場所により、フィルム温度に差がある場合には熱膨張により、フィルムの長さが僅かに異なる場合があるため、ニップロール間のドロー比率を調整し、ライン途中でフィルムに規定以上の張力がかからない様にすることが必要である。
巻き取り張力はテンションコントロールの制御により、一定張力で巻き取ることもできるが、巻き取った直径に応じてテーパーをつけ、適正な巻取り張力にすることがより好ましい。一般的には巻き径が大きくなるにつれて張力を少しずつ小さくするが、場合によっては、巻き径が大きくなるにしたがって張力を大きくする方が好ましい場合もある。
The winding tension is preferably 1 kg / m width to 50 kg / width, more preferably 2 kg / m width to 40 kg / width, and even more preferably 3 kg / m width to 20 kg / width. When the winding tension is smaller than 1 kg / m width, it is difficult to wind the film uniformly. On the other hand, when the winding tension exceeds 50 kg / width, the film becomes tightly wound, not only the appearance of the winding is deteriorated, but also the bump portion of the film extends due to the creep phenomenon, and the film wave This is not preferable because it causes a cause or residual birefringence due to the elongation of the film. It is preferable that the winding tension is detected by tension control in the middle of the line and wound while being controlled so as to have a constant winding tension. If there is a difference in film temperature depending on the location of the film production line, the length of the film may be slightly different due to thermal expansion. It is necessary to prevent tension.
The winding tension can be wound at a constant tension by controlling the tension control. However, it is more preferable that the winding tension is tapered according to the wound diameter to obtain an appropriate winding tension. Generally, the tension is gradually reduced as the winding diameter increases, but in some cases, it may be preferable to increase the tension as the winding diameter increases.

《延伸工程》
溶融製膜したシクロオレフィン樹脂フィルムは横延伸および/または縦延伸を行っても良く、さらにこれらと組み合わせて緩和処理を行ってもよい。これらは例えば以下の組合せで実施できる。
(1)横延伸
(2)横延伸→緩和処理
(3)縦延伸→横延伸
(4)縦延伸→横延伸→緩和処理
(5)縦延伸→緩和処理→横延伸→緩和処理
(6)横延伸→縦延伸→緩和処理
(7)横延伸→緩和処理→縦延伸→緩和処理
(8)縦延伸→横延伸→縦延伸
(9)縦延伸→横延伸→縦延伸→緩和処理
(10)縦延伸
(11)縦延伸→緩和処理
これらの中でより好ましいのが、(1)〜(4)、(10)〜(11)であり、さらに好ましいのが(2)、(4)、(11)である。これらの中でより好ましいのが、(1)〜(4)であり、さらに好ましいのが(2)、(4)である。
さらにこのような均一な延伸により、フィルム内で丸まっていた分子を効率的に引き延ばすことができ、この結果分子間で絡み合いを形成することができ、破断強度を向上させる効果も有する。
<< Extension process >>
The melt-formed cycloolefin resin film may be subjected to transverse stretching and / or longitudinal stretching, and may be subjected to relaxation treatment in combination with these. These can be implemented by, for example, the following combinations.
(1) transverse stretching (2) transverse stretching → relaxation treatment (3) longitudinal stretching → lateral stretching (4) longitudinal stretching → lateral stretching → relaxation treatment (5) longitudinal stretching → relaxation treatment → lateral stretching → relaxation treatment (6) transverse Stretching → Longitudinal stretching → Relaxation treatment (7) Transverse stretching → Relaxation treatment → Longitudinal stretching → Relaxation treatment (8) Longitudinal stretching → Transverse stretching → Longitudinal stretching (9) Longitudinal stretching → Transverse stretching → Longitudinal stretching → Relaxation treatment (10) Longitudinal Stretching (11) Longitudinal stretching → relaxation treatment Among these, (1) to (4) and (10) to (11) are more preferable, and (2), (4) and (11) are more preferable. ). Among these, (1) to (4) are more preferable, and (2) and (4) are more preferable.
Furthermore, by such uniform stretching, the molecules that have been rounded in the film can be efficiently stretched. As a result, entanglement can be formed between the molecules, and the breaking strength can be improved.

(縦延伸)
縦延伸は2対のニップロールを設置し、この間を加熱しながら出口側のニップロールの周速を入口側のニップロールの周速より速くすることで達成できる。この際、ニップロール間の間隔(L)と延伸前のフィルム幅(W)を変えることで厚み方向のレターデーションの発現性を変えることができる。縦延伸と横延伸の比L/W(縦横比と称する)が2を超え50以下(長スパン延伸)ではRthを小さくでき、縦横比が0.01〜0.3(短スパン延伸)ではRthを大きくできる。本発明では、長スパン延伸、短スパン延伸、これらの間の領域の延伸(中間延伸=L/Wが0.3を超え2以下)どれを使用しても良いが、配向角を小さくできる長スパン延伸または短スパン延伸が好ましい。さらに、高いRthを得たい場合は、短スパン延伸が好ましく、低いRthを得たい場合は、長スパン延伸と適宜選択して採用することができる。
(Longitudinal stretching)
Longitudinal stretching can be achieved by installing two pairs of nip rolls and heating the gap between them so that the peripheral speed of the nip roll on the outlet side is higher than the peripheral speed of the nip roll on the inlet side. Under the present circumstances, the expression of the retardation of the thickness direction can be changed by changing the space | interval (L) between nip rolls, and the film width (W) before extending | stretching. Rth can be reduced when the ratio L / W (referred to as aspect ratio) of longitudinal stretching to lateral stretching is more than 2 and 50 or less (long span stretching), and Rth when the aspect ratio is 0.01 to 0.3 (short span stretching). Can be increased. In the present invention, any of long span stretching, short span stretching, and stretching in the region between them (intermediate stretching = L / W exceeds 0.3 and 2 or less) may be used. Span stretching or short span stretching is preferred. Furthermore, when it is desired to obtain a high Rth, short span stretching is preferred, and when it is desired to obtain a low Rth, a long span stretching can be appropriately selected and employed.

(1−1)長スパン延伸
延伸に伴いフィルムは伸張されるが、この時フィルムは体積変化を小さくしようと厚み、幅を減少させる。このときニップロールとフィルム間の摩擦により幅方向の収縮が制限される。このためニップロール間隔を大きくすると幅方向収縮しやすくなり厚み減少を抑制できる。厚み減少が大きいとフィルムが厚み方向に圧縮されたことと同じ効果があり、フィルム面内に分子配向が進みRthが大きくなり易い。縦横比が大きく厚み減少が少ないとこの逆でRthは発現し難く低いRthを実現できる。
さらに縦横比が長いと幅方向の均一性を向上することができる。これは以下の理由による。
・縦延伸に伴いフィルムは幅方向に収縮しようとする。幅方向中央部では、その 両側も幅方向に収縮しようとするため、綱引き状態となり自由に収縮できない。
・一方フィルム幅方向端部は片側としか綱引き状態とならず、比較的自由に収縮 できる。
・この両端と中央部の延伸に伴う収縮挙動の差が幅方向の延伸ムラとなる。
このような両端と中央部の不均一性により、幅方向のレターデーションむら、軸ズレ(遅相軸の配向角分布)が発生する。これに対し、長スパン延伸は長い2本のニップロール間でゆっくり延伸されるため、延伸中にこれらの不均一性の均一化(分子配向が均一になる)が進行する。これに対し、通常の縦延伸(縦横比=0.3を超え2未満)では、このような均一化は発生しない。
(1-1) Although the film is stretched along with the long span stretching, the thickness and width of the film are reduced so as to reduce the volume change. At this time, shrinkage in the width direction is limited by friction between the nip roll and the film. For this reason, when the nip roll interval is increased, shrinkage in the width direction is facilitated, and thickness reduction can be suppressed. When the thickness reduction is large, the same effect as that in which the film is compressed in the thickness direction is obtained. On the contrary, when the aspect ratio is large and the thickness reduction is small, Rth hardly appears and low Rth can be realized.
Furthermore, if the aspect ratio is long, the uniformity in the width direction can be improved. This is due to the following reason.
• The film tends to shrink in the width direction as it is stretched. At the center in the width direction, both sides try to shrink in the width direction, so it becomes a tug-of-war and cannot shrink freely.
・ On the other hand, the film width direction end is only in a tug-of-war state with one side and can shrink relatively freely.
-The difference in shrinkage behavior associated with the stretching between both ends and the central portion becomes stretching unevenness in the width direction.
Due to such non-uniformity between both ends and the center, retardation in the width direction and axial deviation (orientation angle distribution of slow axis) occur. On the other hand, since long span stretching is performed slowly between two long nip rolls, uniformity of these non-uniformities (molecular orientation becomes uniform) proceeds during stretching. On the other hand, in normal longitudinal stretching (aspect ratio = more than 0.3 and less than 2), such homogenization does not occur.

縦横比は2を越え50以下が好ましく、3〜40がより好ましく、4〜20がさらに好ましい。延伸温度は、好ましくは(Tg−5℃)〜(Tg+100)℃、より好ましくは(Tg)〜(Tg+50)℃、さらに好ましくは(Tg+5)〜(Tg+30)℃である。延伸倍率は、好ましくは1.05〜3倍であり、より好ましくは1.05〜1.7倍であり、さらに好ましくは1.05〜1.4倍である。このような長スパン延伸は3対以上ニップロールで多段延伸してもよく、多段のうち最も長い縦横比が上記範囲に入っていれば良い。
このような長スパン延伸は所定の距離離した2対のニップロールの間でフィルムを加熱して延伸すればよく、加熱方法はヒーター加熱法(赤外線ヒーター、ハロゲンヒーター、パネルヒーター等をフィルム上や下に設置し輻射熱で加熱)でも良く、ゾーン加熱法(熱風等を吹き込み所定の温度に調温したゾーン内で加熱)でも良い。本発明では延伸温度の均一性の観点からゾーン加熱法が好ましい。この時、ニップロールは延伸ゾーン内に設置しても良く、ゾーンの外に出しても良いが、フィルムとニップロールの粘着を防止するためにはゾーンの外に出すのが好ましい。このような延伸の前にフィルムを予熱することも好ましく、予熱温度は(Tg−80)℃〜(Tg+100)℃である。
The aspect ratio exceeds 2 and is preferably 50 or less, more preferably 3 to 40, and still more preferably 4 to 20. The stretching temperature is preferably (Tg-5 ° C) to (Tg + 100) ° C, more preferably (Tg) to (Tg + 50) ° C, and still more preferably (Tg + 5) to (Tg + 30) ° C. The draw ratio is preferably 1.05 to 3 times, more preferably 1.05 to 1.7 times, and still more preferably 1.05 to 1.4 times. Such long span stretching may be performed in multiple stages with three or more pairs of nip rolls as long as the longest aspect ratio is within the above range.
Such long span stretching may be performed by heating the film between two pairs of nip rolls separated by a predetermined distance. The heating method is a heater heating method (infrared heater, halogen heater, panel heater, etc. above or below the film). Or heating by radiant heat) or a zone heating method (heating in a zone in which hot air or the like is blown and adjusted to a predetermined temperature) may be used. In the present invention, the zone heating method is preferable from the viewpoint of uniformity of the stretching temperature. At this time, the nip roll may be installed in the stretching zone or out of the zone, but it is preferably out of the zone in order to prevent the film and the nip roll from sticking. It is also preferable to preheat the film before such stretching, and the preheating temperature is (Tg-80) ° C to (Tg + 100) ° C.

このような延伸により、Re値が、好ましくは0〜200nm、より好ましくは10〜200nm、さらに好ましくは15nm〜100nm、Rth値が、例えば、0〜600nm、好ましくは30〜500nm、より好ましくは50〜400nm、さらに好ましくは70〜350nmである。この延伸法により、RthとReの比(Rth/Re)を0.4〜0.6、より好ましくは0.45〜0.55とすることができる。さらに本延伸により、Re値およびRth値のばらつきがいずれも、好ましくは5%以下、より好ましくは4%以下、さらに好ましくは3%以下にすることができる。
このような延伸に伴い、延伸前後のフィルム幅の比(延伸後のフィルム幅/延伸前のフィルム幅)は、好ましくは0.5〜0.9、より好ましくは0.6〜0.85、さらに好ましくは0.65〜0.83となる。
By such stretching, the Re value is preferably 0 to 200 nm, more preferably 10 to 200 nm, still more preferably 15 nm to 100 nm, and the Rth value is, for example, 0 to 600 nm, preferably 30 to 500 nm, more preferably 50 It is -400 nm, More preferably, it is 70-350 nm. By this stretching method, the ratio of Rth and Re (Rth / Re) can be 0.4 to 0.6, more preferably 0.45 to 0.55. Furthermore, by this stretching, the variation in Re value and Rth value can be preferably 5% or less, more preferably 4% or less, and still more preferably 3% or less.
With such stretching, the ratio of the film width before and after stretching (film width after stretching / film width before stretching) is preferably 0.5 to 0.9, more preferably 0.6 to 0.85, More preferably, it becomes 0.65-0.83.

(1−2)短スパン延伸
縦横比(L/W)を、好ましくは0.01を越え0.3未満、より好ましくは0.03〜0.25、さらに好ましくは0.05〜0.2で縦延伸(短スパン延伸)を行う。このような範囲の縦横比(L/W)で延伸を行うことで、ネックイン(延伸に伴う延伸と直行する方向の収縮)を小さくすることができる。延伸方向の伸張を補うため幅、厚みが減少するが、このような短スパン延伸では幅収縮が抑制され厚み減少が優先的に進む。この結果、厚み方向に圧縮されたようになり、厚み方向の配向(面配向)が進む。この結果、厚み方向の異方性の尺度であるRthが増大し易い。一方、従来は縦横比(L/W)が1前後(0.7〜1.5)で行われるのが一般的であった。これは、通常ニップロール間に加熱用ヒーターを設置して延伸するが、L/Wが大きくなりすぎるとヒーターでフィルムを均一に加熱できず延伸むらが発生し易く、L/Wが小さすぎるとヒーターが設置しにくく加熱が十分に行えないためである。
上述の短スパン延伸は2対以上のニップロール間で搬送速度を変えることにより実施できるが、通常のロール配置(図1)と異なり、2対のニップロールを斜めに(前後のニップロールの回転軸を上下にずらす)配置することで達成できる(図2)。これに伴いニップロール間に加熱用ヒーターは設置できないため、ニップロール中に熱媒を流しフィルムを昇温することが好ましい。さらに入口側ニップロールの前に内部に熱媒を流した予熱ロールを設け、フィルムを延伸前に加熱することも好ましい。尚、図1中および図2中、1はニップロールを、2はヒーターを、3はフィルムを、それぞれ示している。
延伸温度は、好ましくは(Tg-5℃)〜(Tg+100)℃、より好ましくは(Tg)〜(Tg+50)℃、さらに好ましくは(Tg+5)〜(Tg+30)℃である。予熱温度は、好ましくは、(Tg−80)℃〜(Tg+100)℃である。
(1-2) Short span stretching aspect ratio (L / W) is preferably more than 0.01 and less than 0.3, more preferably 0.03 to 0.25, and still more preferably 0.05 to 0.2. Perform longitudinal stretching (short span stretching). By performing stretching at an aspect ratio (L / W) in such a range, neck-in (shrinkage in the direction orthogonal to stretching accompanying stretching) can be reduced. Although the width and thickness are reduced to compensate for stretching in the stretching direction, such short span stretching suppresses width shrinkage and preferentially reduces the thickness. As a result, the film is compressed in the thickness direction, and the orientation (plane orientation) in the thickness direction proceeds. As a result, Rth, which is a measure of anisotropy in the thickness direction, tends to increase. On the other hand, conventionally, the aspect ratio (L / W) is generally about 1 (0.7 to 1.5). This is usually done by installing a heater for heating between the nip rolls, but if the L / W is too large, the film cannot be heated uniformly with the heater and uneven stretching tends to occur. If the L / W is too small, the heater is stretched. This is because it is difficult to install and cannot be heated sufficiently.
The short span stretching described above can be performed by changing the conveyance speed between two or more pairs of nip rolls, but unlike the normal roll arrangement (FIG. 1), the two pairs of nip rolls are inclined (the rotation axis of the front and rear nip rolls is moved up and down). This can be achieved by disposing (Fig. 2). Accordingly, since a heater for heating cannot be installed between the nip rolls, it is preferable to raise the temperature of the film by flowing a heating medium in the nip rolls. Further, it is also preferable to provide a preheating roll in which a heat medium is flowed inside before the inlet side nip roll, and to heat the film before stretching. In FIG. 1 and FIG. 2, 1 indicates a nip roll, 2 indicates a heater, and 3 indicates a film.
The stretching temperature is preferably (Tg-5 ° C) to (Tg + 100) ° C, more preferably (Tg) to (Tg + 50) ° C, and still more preferably (Tg + 5) to (Tg + 30) ° C. The preheating temperature is preferably (Tg−80) ° C. to (Tg + 100) ° C.

(横延伸)
横延伸はテンターを用い実施することができる。即ちフィルムの幅方向の両端部をクリップで把持し、横方向に拡幅することで延伸する。この時、テンター内に所望の温度の風を送ることで延伸温度を制御できる。延伸温度は、(Tg−10)℃〜(Tg+60)℃が好ましく、(Tg−5)℃〜(Tg+45)℃がより好ましく、Tg〜(Tg+30)℃がさらに好ましい。
このような延伸の前に予熱、延伸の後に熱固定を行うことで延伸後のRe、Rth分布を小さくし、ボーイングに伴う配向角のばらつきを小さくできる。予熱、熱固定はどちらか一方であっても良いが、両方行うのがより好ましい。これらの予熱、熱固定はクリップで把持して行うのが好ましく、即ち延伸と連続して行うのが好ましい。
予熱は延伸温度より、好ましくは1℃〜50℃、より好ましく2℃〜40℃、さらに好ましくは3℃〜30℃高くする。予熱時間は、好ましくは1秒〜10分であり、より好ましくは5秒〜4分、さらに好ましくは10秒〜2分である。予熱の際、テンターの幅はほぼ一定に保つことが好ましい。ここで「ほぼ」とは、例えば、未延伸フィルムの幅の±10%を指す。
熱固定は延伸温度より、好ましくは1℃〜50℃、より好ましく2℃〜40℃、さらに好ましくは3℃〜30℃低くすることが好ましい。さらに好ましくは延伸温度以下でかつTg以下にするのが好ましい。予熱時間は、好ましくは1秒〜10分であり、より好ましくは5秒〜4分、さらに好ましくは10秒〜2分である。熱固定の際、テンターの幅はほぼ一定に保つことが好ましい。ここで「ほぼ」とは延伸終了後のテンター幅の0%(延伸後のテンター幅と同じ幅)〜−10%(延伸後のテンター幅より10%縮める=縮幅)を指す。延伸幅以上に拡幅すると、フィルム中に残留歪が発生しやすくRe、Rthの経時変動を増大し易く好ましくない。
このように熱固定温度<延伸温度<予熱温度であることが好ましい。
このような予熱、熱固定により配向角やRe、Rthのバラツキを小さくできるのは以下の理由による。すなわち、図3(a)に示すとおり、予熱温度=延伸温度=予熱温度の場合、フィルムは幅方向に延伸され、直行方向(長手方向)に細くなろうとする(ネックイン)。このため横延伸前後のフィルムが引っ張られ応力が発生する。しかし幅方向両端はチャックで固定されており応力により変形を受けにくく、幅方向の中央部は変形を受け易い。この結果、ネックインによる応力は弓(bow)状に変形しボーイングが発生する。これにより面内のRe、Rthむらや配向軸の分布が発生する。そこで、図3(b)に示すように、熱固定温度<延伸温度<予熱温度とすることにより、予熱側(延伸前)の温度を高くし、熱処理(延伸後)の温度を低くすると、ネックインはより弾性率の低い高温側(予熱)で発生し、熱処理(延伸後)では発生しにくくなる。この結果、延伸後のボーイングを抑制できる。
(Lateral stretching)
The transverse stretching can be performed using a tenter. That is, the film is stretched by holding both ends in the width direction with clips and widening the film in the lateral direction. At this time, the stretching temperature can be controlled by sending wind at a desired temperature into the tenter. The stretching temperature is preferably (Tg-10) ° C to (Tg + 60) ° C, more preferably (Tg-5) ° C to (Tg + 45) ° C, and further preferably Tg to (Tg + 30) ° C.
By performing preheating before stretching and heat setting after stretching, the Re and Rth distribution after stretching can be reduced, and the variation in orientation angle associated with bowing can be reduced. Either preheating or heat setting may be performed, but both are more preferable. These preheating and heat setting are preferably performed by holding with a clip, that is, preferably performed continuously with stretching.
Preheating is preferably performed at a temperature higher than the stretching temperature by 1 ° C to 50 ° C, more preferably 2 ° C to 40 ° C, and even more preferably 3 ° C to 30 ° C. The preheating time is preferably 1 second to 10 minutes, more preferably 5 seconds to 4 minutes, and still more preferably 10 seconds to 2 minutes. During preheating, it is preferable to keep the width of the tenter substantially constant. Here, “substantially” refers to ± 10% of the width of the unstretched film, for example.
The heat setting is preferably 1 to 50 ° C., more preferably 2 to 40 ° C., and further preferably 3 to 30 ° C. lower than the stretching temperature. More preferably, it is less than the stretching temperature and less than Tg. The preheating time is preferably 1 second to 10 minutes, more preferably 5 seconds to 4 minutes, and still more preferably 10 seconds to 2 minutes. During the heat setting, it is preferable to keep the width of the tenter substantially constant. Here, “substantially” refers to 0% (the same width as the tenter width after stretching) to −10% (shrinking by 10% from the tenter width after stretching = reduced width) of the tenter width after stretching. If the width is wider than the stretched width, residual strain is likely to occur in the film, and it is not preferable because it is likely to increase the variation with time of Re and Rth.
Thus, it is preferable that the heat setting temperature <the stretching temperature <the preheating temperature.
The reason why the variation in orientation angle and Re and Rth can be reduced by such preheating and heat setting is as follows. That is, as shown in FIG. 3A, when preheating temperature = stretching temperature = preheating temperature, the film is stretched in the width direction and tends to be thinned in the orthogonal direction (longitudinal direction) (neck-in). For this reason, the film before and after transverse stretching is pulled and stress is generated. However, both ends in the width direction are fixed by chucks and are not easily deformed by stress, and the central portion in the width direction is easily deformed. As a result, the stress caused by the neck-in is deformed into a bow shape and bowing occurs. As a result, in-plane Re and Rth unevenness and distribution of orientation axes occur. Therefore, as shown in FIG. 3 (b), by setting the heat setting temperature <stretching temperature <preheating temperature, the temperature on the preheating side (before stretching) is increased and the temperature on the heat treatment (after stretching) is decreased. In is generated on the high temperature side (preheating) having a lower elastic modulus and is less likely to be generated by heat treatment (after stretching). As a result, bowing after stretching can be suppressed.

このような延伸によりさらに、Re、Rthの幅方向、長手方向のばらつきを、いずれも、好ましくは5%以下、より好ましくは4%以下、さらに好ましくは3%以下にできる。さらに配向角を好ましくは90°±5°以下または0°±5°以下とすることができ、より好ましくは90°±3°以下または0°±3°以下、さらに好ましくは90°±1°以下または0°±1°以下とすることができる。
本発明ではこのような効果が高速延伸でも達成できることが特徴であり、好ましくは20m/分以上、より好ましくは25m/分以上、さらに好ましくは30m/分以上でも顕著に効果が現れる。
By such stretching, the variation of Re and Rth in the width direction and the longitudinal direction can be preferably 5% or less, more preferably 4% or less, and still more preferably 3% or less. Further, the orientation angle can be preferably 90 ° ± 5 ° or less or 0 ° ± 5 ° or less, more preferably 90 ° ± 3 ° or less or 0 ° ± 3 ° or less, and further preferably 90 ° ± 1 °. Or 0 ° ± 1 ° or less.
The present invention is characterized in that such an effect can be achieved even at high speed stretching, and the effect is remarkably exhibited even at 20 m / min or more, more preferably 25 m / min or more, and even more preferably 30 m / min or more.

(緩和処理)
さらにこれらの延伸の後に緩和処理を行うことで寸法安定性を改良できる。熱緩和は縦延伸後、横延伸後のいずれか、あるいは両方の後で行うことが好ましく、より好ましく横延伸後である。緩和処理は延伸後に連続してオンラインで行っても良く、延伸後巻き取った後、オフラインで行っても良い。
緩和処理は、好ましくは(Tg−30)℃〜(Tg+30)℃、より好ましくは(Tg−30)℃〜(Tg+20)℃、さらに好ましくは(Tg−15)℃〜(Tg+10)℃の温度で、好ましくは1秒〜10分、より好ましくは5秒〜4分、さらに好ましくは10秒〜2分の時間、好ましくは0.1kg/m〜20kg/m、より好ましく1kg/m〜16kg/m、さらに好ましくは2kg/m〜12kg/mの張力で搬送しながら実施するのが好ましい。
(Relaxation treatment)
Furthermore, dimensional stability can be improved by performing relaxation treatment after these stretching. The thermal relaxation is preferably performed after longitudinal stretching, either after lateral stretching, or after both, and more preferably after lateral stretching. The relaxation treatment may be performed online continuously after stretching, or may be performed offline after winding after stretching.
The relaxation treatment is preferably performed at a temperature of (Tg-30) ° C to (Tg + 30) ° C, more preferably (Tg-30) ° C to (Tg + 20) ° C, and even more preferably (Tg-15) ° C to (Tg + 10) ° C. , Preferably 1 second to 10 minutes, more preferably 5 seconds to 4 minutes, even more preferably 10 seconds to 2 minutes, preferably 0.1 kg / m to 20 kg / m, more preferably 1 kg / m to 16 kg / m More preferably, it is carried out while transporting at a tension of 2 kg / m to 12 kg / m.

(延伸中の揮発成分)
上記縦延伸、横延伸は揮発成分(溶剤や水分など)が樹脂に対し1質量%以下であることが好ましく、より好ましく0.5質量%以下、さらに好ましくは0.3質量%以下である。これにより延伸中に発生する軸ズレをより軽微にできる。これは延伸中に延伸と直行方向に働く収縮応力に加え、乾燥に伴う収縮応力が働き、ボーイングがより顕著になるためである。
(Volatile component during stretching)
In the longitudinal stretching and lateral stretching, the volatile components (solvent, moisture, etc.) are preferably 1% by mass or less, more preferably 0.5% by mass or less, and still more preferably 0.3% by mass or less with respect to the resin. Thereby, the axial shift generated during stretching can be further reduced. This is because during the stretching, in addition to the shrinkage stress acting in the direction perpendicular to the stretching, the shrinkage stress accompanying drying acts, and the bowing becomes more prominent.

(延伸後の物性)
このようにして縦延伸、横延伸、縦横延伸したシクロオレフィン樹脂フィルムのRe、Rthは下式(R−1)および(R−2)を満足することが好ましい。
式(R−1):0nm≦Re≦200nm
式(R−2):0nm≦Rth≦600nm
(式中、Reは、シクロオレフィン樹脂フィルムの面内のレターデーションを示し、Rthは、シクロオレフィン樹脂フィルムの厚み方向レターデーションを示す。)
(Physical properties after stretching)
It is preferable that Re and Rth of the cycloolefin resin film thus longitudinally stretched, laterally stretched, and longitudinally and laterally satisfy the following formulas (R-1) and (R-2).
Formula (R-1): 0 nm ≦ Re ≦ 200 nm
Formula (R-2): 0 nm ≦ Rth ≦ 600 nm
(In the formula, Re represents in-plane retardation of the cycloolefin resin film, and Rth represents the thickness direction retardation of the cycloolefin resin film.)

より好ましくは
Rth≧Re×1.1
180≧Re≧10
400≧Rth≧50
であり、さらに好ましくは
Rth≧Re×1.2
150≧Re≧20
300≧Rth≧100
である。
More preferably, Rth ≧ Re × 1.1
180 ≧ Re ≧ 10
400 ≧ Rth ≧ 50
More preferably, Rth ≧ Re × 1.2
150 ≧ Re ≧ 20
300 ≧ Rth ≧ 100
It is.

また製膜方向(長手方向)と、フィルムのReの遅相軸とのなす角度θが0°、+90°もしくは−90°に近いほど好ましい。即ち、縦延伸の場合は0°に近いほど好ましく、0±3°が好ましく、より好ましくは0±2°、さらに好ましくは0±1°である。横延伸の場合は、90±3°あるいは−90±3°が好ましく、より好ましくは90±2°あるいは−90±2°、さらに好ましくは90±1°あるいは−90±1°である。
Re、Rthのばらつきは0〜8%が好ましく、より好ましく0〜5%、さらに好ましくは0〜〜3%である。
また、Re、Rthの経時保存下の変動(80℃で500時間経時前後のRe、Rthの変化:詳細は後述する)は0〜8%が好ましく、より好ましくは0〜6%であり、さらに好ましくは0〜4%である。
延伸後のシクロオレフィン樹脂フィルムの厚みは、好ましくは15μm〜200μmであり、より好ましくは20μm〜120μm、さらに好ましくは30μm〜80μmである。厚みむらは長手方向、幅方向いずれも、好ましくは3%以下であり、より好ましくは2%以下であり、さらに好ましくは1%以下である。薄手フィルムを用いることでより延伸後にフィルム内に残留歪が残りにくく、経時でのレターデーション変化が発生しにくい。これは、延伸後に冷却する際、厚みが厚いと表面に比べ内部の冷却が遅れ、熱収縮量の差に起因する残留歪が発生し易いためである。
熱寸法変化率は、好ましくは0.5%以下であり、より好ましくは0.3%以下であり、さらに好ましくは0.2%以下である。なお、熱寸法変化率とは80℃で5時間熱処理した際の寸法変化を意味する。
The angle θ formed by the film forming direction (longitudinal direction) and the slow axis of Re of the film is preferably closer to 0 °, + 90 °, or −90 °. That is, in the case of longitudinal stretching, it is preferably as close to 0 °, preferably 0 ± 3 °, more preferably 0 ± 2 °, and further preferably 0 ± 1 °. In the case of transverse stretching, 90 ± 3 ° or −90 ± 3 ° is preferable, 90 ± 2 ° or −90 ± 2 ° is more preferable, and 90 ± 1 ° or −90 ± 1 ° is more preferable.
The variation of Re and Rth is preferably 0 to 8%, more preferably 0 to 5%, and still more preferably 0 to 3%.
Further, the fluctuations of Re and Rth under storage (changes in Re and Rth before and after 500 hours at 80 ° C .: details will be described later) are preferably 0 to 8%, more preferably 0 to 6%. Preferably it is 0 to 4%.
The thickness of the cycloolefin resin film after stretching is preferably 15 μm to 200 μm, more preferably 20 μm to 120 μm, and further preferably 30 μm to 80 μm. The thickness unevenness is preferably 3% or less, more preferably 2% or less, and even more preferably 1% or less in both the longitudinal direction and the width direction. By using a thin film, residual strain is less likely to remain in the film after stretching, and retardation changes with time are less likely to occur. This is because when cooling after stretching, if the thickness is thick, the internal cooling is delayed as compared to the surface, and residual strain due to the difference in thermal shrinkage tends to occur.
The thermal dimensional change rate is preferably 0.5% or less, more preferably 0.3% or less, and further preferably 0.2% or less. The thermal dimensional change rate means a dimensional change when heat-treated at 80 ° C. for 5 hours.

《シクロオレフィン樹脂フィルムの加工》
このようにして得た本発明のシクロオレフィン樹脂フィルムは、単独で使用してもよく、該シクロオレフィン樹脂フィルムを基材として偏光板等と組み合わせて使用してもよく、これらの上に液晶層や屈折率を制御した層(低反射層)やハードコート層を設けて使用してもよい。これらは以下の工程により達成できる。
(表面処理)
グロー放電処理、紫外線照射処理、コロナ処理、火炎処理、酸またはアルカリ処理を用いることができる。ここでいうグロー放電処理とは、10-3〜20Torr(0.13〜2700Pa)の低圧ガス下でおこる低温プラズマ処理を含む。また、大気圧下でのプラズマ処理も好ましいグロー放電処理である。
プラズマ励起性気体とは前記のような条件においてプラズマ励起される気体をいい、アルゴン、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノン、窒素、二酸化炭素、テトラフルオロメタンの様なフロン類およびそれらの混合物などが挙げられる。これらについては、詳細が発明協会公開技報(公技番号 2001−1745、2001年3月15日発行、発明協会)にて30頁〜32頁に詳細に記載されている。なお、近年注目されている大気圧でのプラズマ処理は、例えば10〜1000Kev下で20〜500KGyの照射エネルギーが用いられ、より好ましくは30〜500Kev下で20〜300KGyの照射エネルギーが用いられる。
これらの中でも特に好ましくは、グロー放電処理、コロナ処理、火炎処理である。
機能層との接着のため下塗り層を設けることも好ましい。この層は前記表面処理をした後、塗設してもよく、表面処理なしで塗設してもよい。下塗層についての詳細は、発明協会公開技報(公技番号 2001−1745、2001年3月15日発行、発明協会)にて32頁に記載されている。
これらの表面処理、下塗り工程は、製膜工程の最後に組み込むこともでき、単独で実施することもでき、後述の機能層付与工程の中で実施することもできる。
<< Processing of cycloolefin resin film >>
The cycloolefin resin film of the present invention thus obtained may be used alone, or may be used in combination with a polarizing plate or the like using the cycloolefin resin film as a base material. Alternatively, a layer having a controlled refractive index (low reflection layer) or a hard coat layer may be provided. These can be achieved by the following steps.
(surface treatment)
Glow discharge treatment, ultraviolet irradiation treatment, corona treatment, flame treatment, acid or alkali treatment can be used. The glow discharge treatment here includes a low temperature plasma treatment performed under a low pressure gas of 10 −3 to 20 Torr (0.13 to 2700 Pa). Further, plasma treatment under atmospheric pressure is also a preferable glow discharge treatment.
A plasma-excitable gas is a gas that is plasma-excited under the above-described conditions, and examples thereof include chlorofluorocarbons such as argon, helium, neon, krypton, xenon, nitrogen, carbon dioxide, tetrafluoromethane, and mixtures thereof. It is done. Details of these are described in detail on pages 30 to 32 in the Journal of the Invention Association (Technology No. 2001-1745, issued on March 15, 2001, Invention Association). Note that, in the plasma treatment at atmospheric pressure which has been attracting attention in recent years, for example, irradiation energy of 20 to 500 KGy is used under 10 to 1000 Kev, and more preferably irradiation energy of 20 to 300 KGy is used under 30 to 500 Kev.
Of these, glow discharge treatment, corona treatment, and flame treatment are particularly preferred.
It is also preferable to provide an undercoat layer for adhesion to the functional layer. This layer may be coated after the surface treatment or may be coated without the surface treatment. Details of the undercoat layer are described on page 32 of the Japan Society for Invention and Innovation (Public Technical Number 2001-1745, published on March 15, 2001, Japan Institute of Invention).
These surface treatment and undercoating processes can be incorporated at the end of the film forming process, can be performed alone, or can be performed in the functional layer application process described later.

《本発明のシクロオレフィン樹脂フィルムの利用》
本発明のシクロオレフィン樹脂フィルムに、発明協会公開技報(公技番号 2001−1745、2001年3月15日発行、発明協会)32頁〜45頁に詳細に記載されている機能性層を組み合わせることが好ましい。中でも好ましいのが、偏光膜の付与(偏光板)、光学補償層の付与(光学補償シート)、反射防止層の付与(反射防止フィルム)である。以下に順に説明する。
<< Use of the cycloolefin resin film of the present invention >>
The cycloolefin resin film of the present invention is combined with the functional layer described in detail on pages 32 to 45 of the Japan Society for Invention and Technology (Public Technical Number 2001-1745, issued on March 15, 2001, Japan Society of Invention). It is preferable. Among these, application of a polarizing film (polarizing plate), application of an optical compensation layer (optical compensation sheet), and application of an antireflection layer (antireflection film) are preferable. This will be described in order below.

(1)偏光膜の付与(偏光板の作成)
(使用素材)
現在、市販の偏光膜は、延伸したポリマーを、浴槽中のヨウ素もしくは二色性色素の溶液に浸漬し、バインダー中にヨウ素、もしくは二色性色素を浸透させることによって作製するのが一般的である。偏光膜としては、Optiva Inc.に代表される塗布型偏光膜も利用できる。偏光膜におけるヨウ素および二色性色素は、バインダー中で配向することで偏光性能を発現する。二色性色素としては、アゾ系色素、スチルベン系色素、ピラゾロン系色素、トリフェニルメタン系色素、キノリン系色素、オキサジン系色素、チアジン系色素あるいはアントラキノン系色素が用いられる。二色性色素は、水溶性であることが好ましい。二色性色素は、親水性置換基(例えば、スルホ、アミノ、ヒドロキシル)を有することが好ましい。例えば、発明協会公開技法(公技番号2001−1745号、発行日2001年3月15日、発明協会)58頁に記載の化合物が挙げられる。
(1) Application of polarizing film (preparation of polarizing plate)
(Material used)
At present, commercially available polarizing films are generally prepared by immersing a stretched polymer in a solution of iodine or dichroic dye in a bath and allowing the iodine or dichroic dye to penetrate into the binder. is there. As the polarizing film, a coating type polarizing film represented by Optiva Inc. can also be used. The iodine and the dichroic dye in the polarizing film develop polarizing performance by being oriented in the binder. As the dichroic dye, an azo dye, stilbene dye, pyrazolone dye, triphenylmethane dye, quinoline dye, oxazine dye, thiazine dye or anthraquinone dye is used. The dichroic dye is preferably water-soluble. The dichroic dye preferably has a hydrophilic substituent (for example, sulfo, amino, hydroxyl). For example, the compound described in page 58 of the Society of Invention Disclosure Technique (public technical number 2001-1745, issue date March 15, 2001, Society of Invention).

偏光膜のバインダーとしては、それ自体架橋可能なポリマーあるいは架橋剤により架橋されるポリマーのいずれも使用することができ、これらの組み合わせを複数使用することができる。バインダーには、例えば特開平8−338913号公報明細書中段落番号[0022]記載のメタクリレート系共重合体、スチレン系共重合体、ポリオレフィン、ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコール、ポリ(N−メチロールアクリルアミド)、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル共重合体、カルボキシメチルセルロース、ポリカーボネート等が含まれる。シランカップリング剤をポリマーとして用いることができる。水溶性ポリマー(例えば、ポリ(N−メチロールアクリルアミド)、カルボキシメチルセルロース、ゼラチン、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール)が好ましく、ゼラチン、ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコールがさらに好ましく、ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコールが最も好ましい。重合度が異なるポリビニルアルコールまたは変性ポリビニルアルコールを2種類併用することが特に好ましい。ポリビニルアルコールの鹸化度は、70〜100%が好ましく、80〜100%がさらに好ましい。ポリビニルアルコールの重合度は、100〜5000であることが好ましい。変性ポリビニルアルコールについては、特開平8−338913号、同9−152509号および同9−316127号の各公報に記載がある。ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコールは、二種以上を併用してもよい。   As the binder for the polarizing film, either a polymer that can be crosslinked by itself or a polymer that is crosslinked by a crosslinking agent can be used, and a plurality of combinations thereof can be used. Examples of the binder include methacrylate copolymer, styrene copolymer, polyolefin, polyvinyl alcohol and modified polyvinyl alcohol, poly (N-methylolacrylamide) described in paragraph No. [0022] of JP-A-8-338913. , Polyester, polyimide, vinyl acetate copolymer, carboxymethyl cellulose, polycarbonate and the like. Silane coupling agents can be used as the polymer. Water-soluble polymers (for example, poly (N-methylolacrylamide), carboxymethylcellulose, gelatin, polyvinyl alcohol, and modified polyvinyl alcohol) are preferable, gelatin, polyvinyl alcohol, and modified polyvinyl alcohol are more preferable, and polyvinyl alcohol and modified polyvinyl alcohol are most preferable. . It is particularly preferable to use two types of polyvinyl alcohol or modified polyvinyl alcohol having different degrees of polymerization. The saponification degree of polyvinyl alcohol is preferably 70 to 100%, more preferably 80 to 100%. It is preferable that the polymerization degree of polyvinyl alcohol is 100-5000. The modified polyvinyl alcohol is described in JP-A-8-338913, JP-A-9-152509 and JP-A-9-316127. Two or more kinds of polyvinyl alcohol and modified polyvinyl alcohol may be used in combination.

バインダー厚みの下限は、10μmであることが好ましい。厚みの上限は、液晶表示装置の光漏れの観点からは、薄ければ薄い程よい。現在市販の偏光板(約30μm)以下であることが好ましく、25μm以下が好ましく、20μm以下がさらに好ましい。   The lower limit of the binder thickness is preferably 10 μm. The upper limit of the thickness is preferably as thin as possible from the viewpoint of light leakage of the liquid crystal display device. It is preferably not more than a commercially available polarizing plate (about 30 μm), preferably 25 μm or less, and more preferably 20 μm or less.

偏光膜のバインダーは架橋していてもよい。架橋性の官能基を有するポリマー、モノマーをバインダー中に混合してもよく、バインダーポリマー自身に架橋性官能基を付与してもよい。架橋は、光、熱あるいはpH変化により行うことができ、架橋構造をもったバインダーを形成することができる。架橋剤については、米国再発行特許23297号明細書に記載がある。また、ホウ素化合物(例えば、ホウ酸、硼砂)も、架橋剤として用いることができる。バインダーの架橋剤の添加量は、バインダーに対して、0.1〜20質量%が好ましい。偏光素子の配向性、偏光膜の耐湿熱性が良好となる。   The binder of the polarizing film may be cross-linked. A polymer or monomer having a crosslinkable functional group may be mixed in the binder, or a crosslinkable functional group may be imparted to the binder polymer itself. Crosslinking can be performed by light, heat, or pH change, and a binder having a crosslinked structure can be formed. The crosslinking agent is described in US Reissue Patent 23297. Boron compounds (for example, boric acid and borax) can also be used as a crosslinking agent. The addition amount of the crosslinking agent in the binder is preferably 0.1 to 20% by mass with respect to the binder. The orientation of the polarizing element and the wet heat resistance of the polarizing film are improved.

架橋反応が終了後でも、未反応の架橋剤は1.0質量%以下であることが好ましく、0.5質量%以下であることがさらに好ましい。このようにすることで、耐候性が向上する。   Even after the crosslinking reaction is completed, the unreacted crosslinking agent is preferably 1.0% by mass or less, and more preferably 0.5% by mass or less. By doing in this way, a weather resistance improves.

(延伸)
偏光膜は、偏光膜を延伸するか(延伸法)、もしくはラビングした(ラビング法)後に、ヨウ素、二色性染料で染色することが好ましい。
(Stretching)
The polarizing film is preferably dyed with iodine or a dichroic dye after the polarizing film is stretched (stretching method) or rubbed (rubbing method).

延伸法の場合、延伸倍率は2.5〜30.0倍が好ましく、3.0〜10.0倍がさらに好ましい。延伸は、空気中でのドライ延伸で実施できる。また、水に浸漬した状態でのウェット延伸を実施してもよい。ドライ延伸の延伸倍率は、2.5〜5.0倍が好ましく、ウェット延伸の延伸倍率は、3.0〜10.0倍が好ましい。これらの延伸は、1回で行っても、数回に分けて行ってもよい。数回に分けることによって、高倍率延伸でもより均一に延伸することができる。延伸は下記方法で実施することができる。   In the stretching method, the stretching ratio is preferably 2.5 to 30.0 times, and more preferably 3.0 to 10.0 times. Stretching can be performed by dry stretching in air. Moreover, you may implement wet extending | stretching in the state immersed in water. The stretch ratio of dry stretching is preferably 2.5 to 5.0 times, and the stretch ratio of wet stretching is preferably 3.0 to 10.0 times. These stretching operations may be performed once or divided into several times. By dividing into several times, it is possible to stretch more uniformly even at high magnification. Stretching can be carried out by the following method.

延伸に先立ち、PVAフィルムを膨潤させる。膨潤度は1.2〜2.0倍(膨潤前と膨潤後の質量比)である。この後、ガイドロール等を介して連続搬送しつつ、水系媒体浴内や二色性物質溶解の染色浴内で、15〜50℃、特に17〜40℃の浴温で延伸する。延伸は2対のニップロールで把持し、後段のニップロールの搬送速度を前段のそれより大きくすることで達成できる。延伸倍率は、延伸後/初期状態の長さ比(以下同じ)に基づくが前記作用効果の点より好ましい延伸倍率は1.2〜3.5倍、特に1.5〜3.0倍である。この後、50℃〜90℃において乾燥させて偏光膜を得る。   Prior to stretching, the PVA film is swollen. The degree of swelling is 1.2 to 2.0 times (mass ratio before swelling and after swelling). Thereafter, the film is stretched at a bath temperature of 15 to 50 ° C., particularly 17 to 40 ° C. in an aqueous medium bath or a dye bath for dissolving a dichroic substance while being continuously conveyed through a guide roll or the like. Stretching can be achieved by gripping with two pairs of nip rolls and increasing the conveyance speed of the subsequent nip roll to be higher than that of the previous nip roll. The draw ratio is based on the length ratio after stretching / initial state (hereinafter the same), but the preferred draw ratio is 1.2 to 3.5 times, particularly 1.5 to 3.0 times in view of the above-mentioned effects. . Thereafter, the film is dried at 50 ° C. to 90 ° C. to obtain a polarizing film.

[貼り合せ]
上記鹸化後のシクロオレフィン樹脂フィルムと、延伸して調製した偏光膜を貼り合わせ偏光板を調製する。張り合わせる方向は、シクロオレフィン樹脂フィルムの流延軸方向と偏光板の延伸軸方向が45度になるように行うのが好ましい。
[Lamination]
A polarizing plate is prepared by laminating the saponified cycloolefin resin film and a polarizing film prepared by stretching. The laminating direction is preferably such that the casting axis direction of the cycloolefin resin film and the stretching axis direction of the polarizing plate are 45 degrees.

貼り合わせの接着剤は特に限定されないが、PVA系樹脂(アセトアセチル基、スルホン酸基、カルボキシル基、オキシアルキレン基等の変性PVAを含む)やホウ素化合物水溶液等が挙げられ、中でもPVA系樹脂が好ましい。接着剤層の厚みは乾燥後で0.01〜10μmが好ましく、0.05〜5μmが特に好ましい。   The adhesive for bonding is not particularly limited, but examples thereof include PVA resins (including modified PVA such as acetoacetyl group, sulfonic acid group, carboxyl group, oxyalkylene group) and boron compound aqueous solution. preferable. The thickness of the adhesive layer is preferably 0.01 to 10 μm, and particularly preferably 0.05 to 5 μm after drying.

このようにして得た偏光板の光線透過率は高い方が好ましく、偏光度も高い方が好ましい。偏光板の透過率は、波長550nmの光において、30〜50%の範囲にあることが好ましく、35〜50%の範囲にあることがさらに好ましく、40〜50%の範囲にあることが最も好ましい。偏光度は、波長550nmの光において、90〜100%の範囲にあることが好ましく、95〜100%の範囲にあることがさらに好ましく、99〜100%の範囲にあることが最も好ましい。   The polarizing plate thus obtained preferably has a higher light transmittance, and preferably has a higher degree of polarization. The transmittance of the polarizing plate is preferably in the range of 30 to 50%, more preferably in the range of 35 to 50%, and most preferably in the range of 40 to 50% in light having a wavelength of 550 nm. . The degree of polarization is preferably in the range of 90 to 100%, more preferably in the range of 95 to 100%, and most preferably in the range of 99 to 100% in light having a wavelength of 550 nm.

さらに、このようにして得た偏光板はλ/4板と積層し、円偏光を作成することができる。この場合λ/4の遅相軸と偏光板の吸収軸を45度になるように積層する。この時、λ/4は特に限定されないが、より好ましくは低波長ほどレターデーションが小さくなるような波長依存性を有するものがより好ましい。さらには長手方向に対し20度〜70度傾いた吸収軸を有する偏光膜、および液晶性化合物からなる光学異方性層からなるλ/4板を用いることが好ましい。   Furthermore, the polarizing plate thus obtained can be laminated with a λ / 4 plate to produce circularly polarized light. In this case, lamination is performed so that the slow axis of λ / 4 and the absorption axis of the polarizing plate are 45 degrees. At this time, λ / 4 is not particularly limited, but more preferably has a wavelength dependency such that the lower the wavelength, the smaller the retardation. Furthermore, it is preferable to use a polarizing film having an absorption axis inclined by 20 ° to 70 ° with respect to the longitudinal direction and a λ / 4 plate made of an optically anisotropic layer made of a liquid crystalline compound.

(2)光学補償層の付与(光学補償シートの作成)
光学異方性層は、液晶表示装置の黒表示における液晶セル中の液晶化合物を補償するためのものであり、シクロオレフィン樹脂フィルムの上に配向膜を形成し、さらに光学異方性層を付与することで形成される。
(2) Application of optical compensation layer (creation of optical compensation sheet)
The optically anisotropic layer is for compensating the liquid crystal compound in the liquid crystal cell in the black display of the liquid crystal display device, and forms an alignment film on the cycloolefin resin film, and further provides an optically anisotropic layer. It is formed by doing.

(配向膜)
上記表面処理したシクロオレフィン樹脂フィルム上に配向膜を設ける。この膜は、液晶性分子の配向方向を規定する機能を有する。しかし、液晶性化合物を配向後にその配向状態を固定してしまえば、配向膜はその役割を果たしているために、本発明の構成要素としては必ずしも必須のものではない。即ち、配向状態が固定された配向膜上の光学異方性層のみを偏光子上に転写して本発明の偏光板を作製することも可能である。
(Alignment film)
An alignment film is provided on the surface-treated cycloolefin resin film. This film has a function of defining the alignment direction of liquid crystalline molecules. However, if the alignment state is fixed after aligning the liquid crystalline compound, the alignment film plays the role, and thus is not necessarily an essential component of the present invention. That is, it is possible to produce the polarizing plate of the present invention by transferring only the optically anisotropic layer on the alignment film in which the alignment state is fixed onto the polarizer.

配向膜は、有機化合物(好ましくはポリマー)のラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成、あるいはラングミュア・ブロジェット法(LB膜)による有機化合物(例えば、ω−トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライド、ステアリル酸メチル)の累積のような手段で設けることができる。さらに、電場の付与、磁場の付与あるいは光照射により、配向機能が生じる配向膜も知られている。   The alignment film is an organic compound (for example, ω-tricosanoic acid) formed by rubbing treatment of an organic compound (preferably a polymer), oblique deposition of an inorganic compound, formation of a layer having a microgroove, or Langmuir-Blodget method (LB film). , Dioctadecylmethylammonium chloride, methyl stearylate). Furthermore, an alignment film in which an alignment function is generated by application of an electric field, application of a magnetic field, or light irradiation is also known.

配向膜は、ポリマーのラビング処理により形成することが好ましい。配向膜に使用するポリマーは、原則として、液晶性分子を配向させる機能のある分子構造を有する。   The alignment film is preferably formed by polymer rubbing treatment. In principle, the polymer used for the alignment film has a molecular structure having a function of aligning liquid crystal molecules.

本発明では、液晶性分子を配向させる機能に加えて、架橋性官能基(例えば、二重結合)を有する側鎖を主鎖に結合させるか、あるいは、液晶性分子を配向させる機能を有する架橋性官能基を側鎖に導入することが好ましい。   In the present invention, in addition to the function of aligning liquid crystalline molecules, a crosslink having a function of aligning a side chain having a crosslinkable functional group (for example, a double bond) to the main chain or aligning liquid crystalline molecules. It is preferable to introduce a functional functional group into the side chain.

配向膜に使用されるポリマーは、それ自体架橋可能なポリマーあるいは架橋剤により架橋されるポリマーのいずれも使用することができ、これらの組み合わせを複数使用することができる。ポリマーの例には、例えば特開平8−338913号公報明細書中段落番号[0022]記載のメタクリレート系共重合体、スチレン系共重合体、ポリオレフィン、ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコール、ポリ(N−メチロールアクリルアミド)、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル共重合体、カルボキシメチルセルロース、ポリカーボネート等が含まれる。シランカップリング剤をポリマーとして用いることができる。水溶性ポリマー(例えば、ポリ(N−メチロールアクリルアミド)、カルボキシメチルセルロース、ゼラチン、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール)が好ましく、ゼラチン、ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコールがさらに好ましく、ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコールが最も好ましい。重合度が異なるポリビニルアルコールまたは変性ポリビニルアルコールを2種類併用することが特に好ましい。ポリビニルアルコールの鹸化度は、70〜100%が好ましく、80〜100%がさらに好ましい。ポリビニルアルコールの重合度は、100〜5000であることが好ましい。   As the polymer used for the alignment film, either a polymer that can be crosslinked by itself or a polymer that is crosslinked by a crosslinking agent can be used, and a plurality of combinations thereof can be used. Examples of the polymer include methacrylate copolymers, styrene copolymers, polyolefins, polyvinyl alcohol and modified polyvinyl alcohol, poly (N-methylol) described in paragraph No. [0022] of JP-A-8-338913. Acrylamide), polyester, polyimide, vinyl acetate copolymer, carboxymethylcellulose, polycarbonate and the like. Silane coupling agents can be used as the polymer. Water-soluble polymers (for example, poly (N-methylolacrylamide), carboxymethylcellulose, gelatin, polyvinyl alcohol, and modified polyvinyl alcohol) are preferable, gelatin, polyvinyl alcohol, and modified polyvinyl alcohol are more preferable, and polyvinyl alcohol and modified polyvinyl alcohol are most preferable. . It is particularly preferable to use two types of polyvinyl alcohol or modified polyvinyl alcohol having different degrees of polymerization. The saponification degree of polyvinyl alcohol is preferably 70 to 100%, more preferably 80 to 100%. It is preferable that the polymerization degree of polyvinyl alcohol is 100-5000.

液晶性分子を配向させる機能を有する側鎖は、一般に疎水性基を官能基として有する。具体的な官能基の種類は、液晶性分子の種類および必要とする配向状態に応じて決定する。例えば、変性ポリビニルアルコールの変性基としては、共重合変性、連鎖移動変性またはブロック重合変性により導入できる。変性基の例には、親水性基(カルボン酸基、スルホン酸基、ホスホン酸基、アミノ基、アンモニウム基、アミド基、チオール基等)、炭素数10〜100個の炭化水素基、フッ素原子置換の炭化水素基、チオエーテル基、重合性基(不飽和重合性基、エポキシ基、アジリニジル基等)、アルコキシシリル基(トリアルコキシ、ジアルコキシ、モノアルコキシ)等が挙げられる。これらの変性ポリビニルアルコール化合物の具体例として、例えば特開2000−155216号公報明細書中の段落番号[0022]〜[0145]、同2002−62426号公報明細書中の段落番号[0018]〜[0022]に記載のもの等が挙げられる。   A side chain having a function of aligning liquid crystal molecules generally has a hydrophobic group as a functional group. The specific type of functional group is determined according to the type of liquid crystal molecule and the required alignment state. For example, the modifying group of the modified polyvinyl alcohol can be introduced by copolymerization modification, chain transfer modification or block polymerization modification. Examples of modifying groups include hydrophilic groups (carboxylic acid groups, sulfonic acid groups, phosphonic acid groups, amino groups, ammonium groups, amide groups, thiol groups, etc.), hydrocarbon groups having 10 to 100 carbon atoms, fluorine atoms Substituted hydrocarbon groups, thioether groups, polymerizable groups (unsaturated polymerizable groups, epoxy groups, azirinidyl groups, etc.), alkoxysilyl groups (trialkoxy, dialkoxy, monoalkoxy) and the like can be mentioned. As specific examples of these modified polyvinyl alcohol compounds, for example, paragraph numbers [0022] to [0145] in JP-A No. 2000-155216 and paragraph numbers [0018] to [0018] in JP-A No. 2002-62426 are described. [0022] and the like.

架橋性官能基を有する側鎖を配向膜ポリマーの主鎖に結合させるか、あるいは、液晶性分子を配向させる機能を有する側鎖に架橋性官能基を導入すると、配向膜のポリマーと光学異方性層に含まれる多官能モノマーとを共重合させることができる。その結果、多官能モノマーと多官能モノマーとの間だけではなく、配向膜ポリマーと配向膜ポリマーとの間、そして多官能モノマーと配向膜ポリマーとの間も共有結合で強固に結合される。従って、架橋性官能基を配向膜ポリマーに導入することで、光学補償シートの強度を著しく改善することができる。   When a side chain having a crosslinkable functional group is bonded to the main chain of the alignment film polymer, or a crosslinkable functional group is introduced into a side chain having a function of aligning liquid crystalline molecules, the alignment film polymer and the optically anisotropic film The polyfunctional monomer contained in the conductive layer can be copolymerized. As a result, not only between the polyfunctional monomer and the polyfunctional monomer, but also between the alignment film polymer and the alignment film polymer and between the polyfunctional monomer and the alignment film polymer is firmly bonded by a covalent bond. Therefore, the strength of the optical compensation sheet can be remarkably improved by introducing the crosslinkable functional group into the alignment film polymer.

配向膜ポリマーの架橋性官能基は、多官能モノマーと同様に、重合性基を含むことが好ましい。具体的には、例えば特開2000−155216号公報明細書中段落番号[0080]〜[0100]記載のもの等が挙げられる。配向膜ポリマーは、上記の架橋性官能基とは別に、架橋剤を用いて架橋させることもできる。   The crosslinkable functional group of the alignment film polymer preferably contains a polymerizable group in the same manner as the polyfunctional monomer. Specific examples include those described in paragraphs [0080] to [0100] in JP-A-2000-155216. Apart from the crosslinkable functional group, the alignment film polymer can also be crosslinked using a crosslinking agent.

架橋剤としては、アルデヒド、N−メチロール化合物、ジオキサン誘導体、カルボキシル基を活性化することにより作用する化合物、活性ビニル化合物、活性ハロゲン化合物、イソオキサゾールおよびジアルデヒド澱粉が含まれる。二種類以上の架橋剤を併用してもよい。具体的には、例えば特開2002−62426号公報明細書中の段落番号[0023]〜[024]記載の化合物等が挙げられる。反応活性の高いアルデヒド、特にグルタルアルデヒドが好ましい。   Examples of the crosslinking agent include aldehydes, N-methylol compounds, dioxane derivatives, compounds that act by activating carboxyl groups, active vinyl compounds, active halogen compounds, isoxazole and dialdehyde starch. Two or more kinds of crosslinking agents may be used in combination. Specific examples include compounds described in paragraphs [0023] to [024] in JP-A No. 2002-62426. Aldehydes having high reaction activity, particularly glutaraldehyde are preferred.

架橋剤の添加量は、ポリマーに対して0.1〜20質量%が好ましく、0.5〜15質量%がさらに好ましい。配向膜に残存する未反応の架橋剤の量は、1.0質量%以下であることが好ましく、0.5質量%以下であることがさらに好ましい。このように調節することで、配向膜を液晶表示装置に長期使用、あるいは高温高湿の雰囲気下に長期間放置しても、レチキュレーション発生のない充分な耐久性が得られる。   0.1-20 mass% is preferable with respect to a polymer, and, as for the addition amount of a crosslinking agent, 0.5-15 mass% is more preferable. The amount of the unreacted crosslinking agent remaining in the alignment film is preferably 1.0% by mass or less, and more preferably 0.5% by mass or less. By adjusting in this way, even if the alignment film is used for a long time in a liquid crystal display device or left in a high-temperature and high-humidity atmosphere for a long time, sufficient durability without generation of reticulation can be obtained.

配向膜は、基本的に、配向膜形成材料である上記ポリマー、架橋剤を含む透明支持体上に塗布した後、加熱乾燥(架橋させ)し、ラビング処理することにより形成することができる。架橋反応は、前記のように、透明支持体上に塗布した後、任意の時期に行ってよい。ポリビニルアルコールのような水溶性ポリマーを配向膜形成材料として用いる場合には、塗布液は消泡作用のある有機溶媒(例えば、メタノール)と水の混合溶媒とすることが好ましい。その比率は質量比で水:メタノールが0:100〜99:1が好ましく、0:100〜91:9であることがさらに好ましい。これにより、泡の発生が抑えられ、配向膜、さらには光学異方層の層表面の欠陥が著しく減少する。   The alignment film can be basically formed by applying the polymer on the transparent support containing the alignment film forming material and the crosslinking agent, followed by drying by heating (crosslinking) and rubbing treatment. As described above, the crosslinking reaction may be performed at any time after coating on the transparent support. When a water-soluble polymer such as polyvinyl alcohol is used as the alignment film forming material, the coating liquid is preferably a mixed solvent of an organic solvent (for example, methanol) having a defoaming action and water. The ratio of water: methanol is preferably 0: 100 to 99: 1, and more preferably 0: 100 to 91: 9. Thereby, generation | occurrence | production of a bubble is suppressed and the defect of the layer surface of an alignment film and also an optical anisotropic layer reduces remarkably.

配向膜の塗布方法は、スピンコーティング法、ディップコーティング法、カーテンコーティング法、エクストルージョンコーティング法、ロッドコーティング法またはロールコーティング法が好ましい。特にロッドコーティング法が好ましい。また、乾燥後の膜厚は0.1〜10μmが好ましい。加熱乾燥は、20℃〜110℃で行なうことができる。充分な架橋を形成するためには60℃〜100℃が好ましく、特に80℃〜100℃が好ましい。乾燥時間は1分〜36時間で行なうことができるが、好ましくは1分〜30分である。pHも、使用する架橋剤に最適な値に設定することが好ましく、グルタルアルデヒドを使用した場合は、pH4.5〜5.5で、特に5が好ましい。   The alignment film is preferably applied by spin coating, dip coating, curtain coating, extrusion coating, rod coating, or roll coating. A rod coating method is particularly preferable. The film thickness after drying is preferably 0.1 to 10 μm. Heating and drying can be performed at 20 ° C to 110 ° C. In order to form sufficient cross-linking, 60 ° C to 100 ° C is preferable, and 80 ° C to 100 ° C is particularly preferable. The drying time can be 1 minute to 36 hours, preferably 1 minute to 30 minutes. The pH is preferably set to an optimum value for the crosslinking agent to be used. When glutaraldehyde is used, the pH is 4.5 to 5.5, and 5 is particularly preferable.

配向膜は、透明支持体上または上記下塗層上に設けられる。配向膜は、上記のようにポリマー層を架橋したのち、表面をラビング処理することにより得ることができる。   The alignment film is provided on the transparent support or the undercoat layer. The alignment film can be obtained by rubbing the surface after crosslinking the polymer layer as described above.

前記ラビング処理は、LCDの液晶配向処理工程として広く採用されている処理方法を適用することができる。即ち、配向膜の表面を、紙やガーゼ、フェルト、ゴムあるいはナイロン、ポリエステル繊維などを用いて一定方向に擦ることにより、配向を得る方法を用いることができる。一般的には、長さおよび太さが均一な繊維を平均的に植毛した布などを用いて数回程度ラビングを行うことにより実施される。   For the rubbing treatment, a treatment method widely adopted as a liquid crystal alignment treatment process of LCD can be applied. That is, a method of obtaining the orientation by rubbing the surface of the orientation film in a certain direction using paper, gauze, felt, rubber, nylon, polyester fiber or the like can be used. Generally, it is carried out by rubbing several times using a cloth or the like in which fibers having a uniform length and thickness are planted on average.

工業的に実施する場合、搬送している偏光膜のついたフィルムに対し、回転するラビングロールを接触させることで達成するが、ラビングロールの真円度、円筒度、振れ(偏芯)はいずれも30μm以下であることが好ましい。ラビングロールへのフィルムのラップ角度は、0.1〜90°が好ましい。ただし、特開平8−160430号公報に記載されているように、360°以上巻き付けることで、安定なラビング処理を得ることもできる。フィルムの搬送速度は1〜100m/minが好ましい。ラビング角は0〜60°の範囲で適切なラビング角度を選択することが好ましい。液晶表示装置に使用する場合は、40〜50°が好ましい。45°が特に好ましい。
このようにして得た配向膜の膜厚は、0.1〜10μmの範囲にあることが好ましい。
When industrially implemented, this is achieved by bringing a rotating rubbing roll into contact with the film with the polarizing film being transported. However, the roundness, cylindricity, and deflection (eccentricity) of the rubbing roll can be any. Is preferably 30 μm or less. The film wrap angle on the rubbing roll is preferably 0.1 to 90 °. However, as described in JP-A-8-160430, a stable rubbing treatment can be obtained by winding 360 ° or more. As for the conveyance speed of a film, 1-100 m / min is preferable. It is preferable to select an appropriate rubbing angle in the range of 0 to 60 °. When used for a liquid crystal display device, 40 to 50 ° is preferable. 45 ° is particularly preferred.
The thickness of the alignment film thus obtained is preferably in the range of 0.1 to 10 μm.

次に、配向膜の上に光学異方性層の液晶性分子を配向させる。その後、必要に応じて、配向膜ポリマーと光学異方性層に含まれる多官能モノマーとを反応させるか、あるいは、架橋剤を用いて配向膜ポリマーを架橋させる。   Next, the liquid crystalline molecules of the optically anisotropic layer are aligned on the alignment film. Thereafter, as necessary, the alignment film polymer and the polyfunctional monomer contained in the optically anisotropic layer are reacted, or the alignment film polymer is crosslinked using a crosslinking agent.

光学異方性層に用いる液晶性分子には、棒状液晶性分子および円盤状液晶性分子が含まれる。棒状液晶性分子および円盤状液晶性分子は、高分子液晶でも低分子液晶でもよく、さらに、低分子液晶が架橋され液晶性を示さなくなったものも含まれる。   The liquid crystalline molecules used in the optically anisotropic layer include rod-like liquid crystalline molecules and discotic liquid crystalline molecules. The rod-like liquid crystal molecules and the disk-like liquid crystal molecules may be high-molecular liquid crystals or low-molecular liquid crystals, and further include those in which low-molecular liquid crystals are cross-linked and no longer exhibit liquid crystallinity.

(棒状液晶性分子)
棒状液晶性分子としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類およびアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。
(Rod-like liquid crystalline molecules)
Examples of rod-like liquid crystalline molecules include azomethines, azoxys, cyanobiphenyls, cyanophenyl esters, benzoic acid esters, cyclohexanecarboxylic acid phenyl esters, cyanophenylcyclohexanes, cyano-substituted phenylpyrimidines, alkoxy-substituted phenylpyrimidines. , Phenyldioxanes, tolanes and alkenylcyclohexylbenzonitriles are preferably used.

なお、棒状液晶性分子には、金属錯体も含まれる。また、棒状液晶性分子を繰り返し単位中に含む液晶ポリマーも、棒状液晶性分子として用いることができる。言い換えると、棒状液晶性分子は、(液晶)ポリマーと結合していてもよい。   The rod-like liquid crystalline molecule includes a metal complex. In addition, a liquid crystal polymer containing a rod-like liquid crystalline molecule in a repeating unit can also be used as the rod-like liquid crystalline molecule. In other words, the rod-like liquid crystal molecule may be bonded to a (liquid crystal) polymer.

棒状液晶性分子については、季刊化学総説第22巻液晶の化学(1994)日本化学会編の第4章、第7章および第11章、および液晶デバイスハンドブック日本学術振興会第142委員会編の第3章に記載がある。   For rod-like liquid crystalline molecules, see Chapter 4, Chapter 7 and Chapter 11 of the Chemistry of the Quarterly Chemistry Vol. 22 (1994) The Chemical Society of Japan, and the 142th Committee of the Japan Society for the Promotion of Science. Described in Chapter 3.

棒状液晶性分子の複屈折率は、0.001〜0.7の範囲にあることが好ましい。   The birefringence of the rod-like liquid crystal molecule is preferably in the range of 0.001 to 0.7.

棒状液晶性分子は、その配向状態を固定するために、重合性基を有することが好ましい。重合性基は、ラジカル重合性不飽基あるいはカチオン重合性基が好ましく、具体的には、例えば特開2002−62427号公報明細書中の段落番号[0064]〜[0086]記載の重合性基、重合性液晶化合物が挙げられる。   The rod-like liquid crystalline molecule preferably has a polymerizable group in order to fix its alignment state. The polymerizable group is preferably a radically polymerizable unsaturated group or a cationically polymerizable group. Specifically, for example, the polymerizable group described in paragraphs [0064] to [0086] of JP-A-2002-62427 is described. And polymerizable liquid crystal compounds.

(円盤状液晶性分子)
円盤状(ディスコティック)液晶性分子には、C.Destradeらの研究報告、Mol.Cryst.71巻、111頁(1981年)に記載されているベンゼン誘導体、C.Destradeらの研究報告、Mol.Cryst.122巻、141頁(1985年)、Physics lett,A,78巻、82頁(1990)に記載されているトルキセン誘導体、B.Kohneらの研究報告、Angew.Chem.96巻、70頁(1984年)に記載されたシクロヘキサン誘導体およびJ.M.Lehnらの研究報告、J.Chem.Commun.,1794頁(1985年)、J.Zhangらの研究報告、J.Am.Chem.Soc.116巻、2655頁(1994年)に記載されているアザクラウン系やフェニルアセチレン系マクロサイクルが含まれる。
(Discotic liquid crystalline molecules)
For discotic liquid crystal molecules, C.I. Destrade et al., Mol. Cryst. 71, 111 (1981), benzene derivatives described in C.I. Destrade et al., Mol. Cryst. 122, 141 (1985), Physics lett, A, 78, 82 (1990); Kohne et al., Angew. Chem. 96, page 70 (1984) and the cyclohexane derivatives described in J. Am. M.M. Lehn et al. Chem. Commun. , 1794 (1985), J. Am. Zhang et al., J. Am. Chem. Soc. 116, 2655 (1994), azacrown type and phenylacetylene type macrocycles are included.

円盤状液晶性分子としては、分子中心の母核に対して、直鎖のアルキル基、アルコキシ基、置換ベンゾイルオキシ基が母核の側鎖として放射線状に置換した構造である液晶性を示す化合物も含まれる。分子または分子の集合体が、回転対称性を有し、一定の配向を付与できる化合物であることが好ましい。円盤状液晶性分子から形成する光学異方性層は、最終的に光学異方性層に含まれる化合物が円盤状液晶性分子である必要はなく、例えば、低分子の円盤状液晶性分子が熱や光で反応する基を有しており、結果的に熱、光で反応により重合または架橋し、高分子量化し液晶性を失った化合物も含まれる。円盤状液晶性分子の好ましい例は、特開平8−50206号公報に記載されている。また、円盤状液晶性分子の重合については、特開平8−27284公報に記載がある。   As a discotic liquid crystalline molecule, a compound having liquid crystallinity having a structure in which a linear alkyl group, an alkoxy group, and a substituted benzoyloxy group are radially substituted as a side chain of the mother nucleus with respect to the mother nucleus at the center of the molecule Is also included. The molecule or the assembly of molecules is preferably a compound having rotational symmetry and imparting a certain orientation. In the optically anisotropic layer formed from the discotic liquid crystalline molecules, the compound finally contained in the optically anisotropic layer does not need to be a discotic liquid crystalline molecule. Also included are compounds having a group that reacts with heat or light and, as a result, polymerized or cross-linked by reaction with heat or light, resulting in a high molecular weight and loss of liquid crystallinity. Preferred examples of the discotic liquid crystalline molecules are described in JP-A-8-50206. The polymerization of discotic liquid crystalline molecules is described in JP-A-8-27284.

円盤状液晶性分子を重合により固定するためには、円盤状液晶性分子の円盤状コアに、置換基として重合性基を結合させる必要がある。円盤状コアと重合性基は、連結基を介して結合する化合物が好ましく、これにより重合反応においても配向状態を保つことができる。例えば、特開2000−155216号公報明細書中の段落番号[0151]〜[0168]記載の化合物等が挙げられる。   In order to fix the discotic liquid crystalline molecules by polymerization, it is necessary to bond a polymerizable group as a substituent to the discotic core of the discotic liquid crystalline molecules. A compound in which the discotic core and the polymerizable group are bonded via a linking group is preferable, whereby the orientation state can be maintained even in the polymerization reaction. Examples thereof include compounds described in paragraph numbers [0151] to [0168] in JP-A 2000-155216.

ハイブリッド配向では、円盤状液晶性分子の長軸(円盤面)と偏光膜の面との角度が、光学異方性層の深さ方向でかつ偏光膜の面からの距離の増加と共に増加または減少している。角度は、距離の増加と共に減少することが好ましい。さらに、角度の変化としては、連続的増加、連続的減少、間欠的増加、間欠的減少、連続的増加と連続的減少を含む変化、あるいは、増加および減少を含む間欠的変化が可能である。間欠的変化は、厚さ方向の途中で傾斜角が変化しない領域を含んでいる。角度は、角度が変化しない領域を含んでいても、全体として増加または減少していればよい。さらに、角度は連続的に変化することが好ましい。   In the hybrid alignment, the angle between the major axis (disk surface) of the discotic liquid crystalline molecule and the surface of the polarizing film increases or decreases in the depth direction of the optically anisotropic layer and with increasing distance from the surface of the polarizing film. is doing. The angle preferably decreases with increasing distance. Further, the change in angle can be a continuous increase, a continuous decrease, an intermittent increase, an intermittent decrease, a change including a continuous increase and a continuous decrease, or an intermittent change including an increase and a decrease. The intermittent change includes a region where the inclination angle does not change in the middle of the thickness direction. Even if the angle includes a region where the angle does not change, the angle only needs to increase or decrease as a whole. Furthermore, it is preferable that the angle changes continuously.

偏光膜側の円盤状液晶性分子の長軸の平均方向は、一般に円盤状液晶性分子あるいは配向膜の材料を選択することにより、またはラビング処理方法の選択することにより、調整することができる。また、表面側(空気側)の円盤状液晶性分子の長軸(円盤面)方向は、一般に円盤状液晶性分子あるいは円盤状液晶性分子と共に使用する添加剤の種類を選択することにより調整することができる。円盤状液晶性分子と共に使用する添加剤の例としては、可塑剤、界面活性剤、重合性モノマーおよびポリマーなどを挙げることができる。長軸の配向方向の変化の程度も、上記と同様に、液晶性分子と添加剤との選択により調整できる。   The average direction of the major axis of the discotic liquid crystalline molecules on the polarizing film side can be generally adjusted by selecting a discotic liquid crystalline molecule or an alignment film material, or by selecting a rubbing treatment method. In addition, the major axis (disk surface) direction of the surface-side (air-side) discotic liquid crystalline molecules is generally adjusted by selecting the type of additive used together with the discotic liquid crystalline molecules or discotic liquid crystalline molecules. be able to. Examples of the additive used together with the discotic liquid crystalline molecule include a plasticizer, a surfactant, a polymerizable monomer and a polymer. The degree of change in the orientation direction of the major axis can also be adjusted by selecting liquid crystalline molecules and additives as described above.

(光学異方性層の他の組成物)
上記の液晶性分子と共に、可塑剤、界面活性剤、重合性モノマー等を併用して、塗工膜の均一性、膜の強度、液晶分子の配向性等を向上することができる。液晶性分子と相溶性を有し、液晶性分子の傾斜角の変化を与えられるか、あるいは配向を阻害しないことが好ましい。
(Other composition of optically anisotropic layer)
Along with the liquid crystal molecules, a plasticizer, a surfactant, a polymerizable monomer, etc. can be used in combination to improve the uniformity of the coating film, the strength of the film, the orientation of the liquid crystal molecules, and the like. It is preferable that the compound has compatibility with the liquid crystal molecules and can change the tilt angle of the liquid crystal molecules or does not inhibit the alignment.

重合性モノマーとしては、ラジカル重合性若しくはカチオン重合性の化合物が挙げられる。好ましくは、多官能性ラジカル重合性モノマーであり、上記の重合性基含有の液晶化合物と共重合性のものが好ましい。例えば、特開2002−296423号公報明細書中の段落番号[0018]〜[0020]記載のものが挙げられる。上記化合物の添加量は、円盤状液晶性分子に対して一般に1〜50質量%の範囲にあり、5〜30質量%の範囲にあることが好ましい。   Examples of the polymerizable monomer include radically polymerizable or cationically polymerizable compounds. Preferably, it is a polyfunctional radically polymerizable monomer and is preferably copolymerizable with the above-described polymerizable group-containing liquid crystal compound. Examples thereof include those described in paragraph numbers [0018] to [0020] in JP-A No. 2002-296423. The amount of the compound added is generally in the range of 1 to 50% by mass and preferably in the range of 5 to 30% by mass with respect to the discotic liquid crystalline molecules.

界面活性剤としては、従来公知の化合物が挙げられるが、特にフッ素系化合物が好ましい。具体的には、例えば特開2001−330725号公報明細書中の段落番号[0028]〜[0056]記載の化合物が挙げられる。   Examples of the surfactant include conventionally known compounds, and fluorine compounds are particularly preferable. Specific examples include compounds described in paragraph numbers [0028] to [0056] in JP-A-2001-330725.

円盤状液晶性分子とともに使用するポリマーは、円盤状液晶性分子に傾斜角の変化を与えられることが好ましい。   The polymer used together with the discotic liquid crystalline molecule is preferably capable of changing the tilt angle of the discotic liquid crystalline molecule.

ポリマーの例としては、セルロースエステルを挙げることができる。セルロースエステルの好ましい例としては、特開2000−155216号公報明細書中の段落番号[0178]記載のものが挙げられる。液晶性分子の配向を阻害しないように、上記ポリマーの添加量は、液晶性分子に対して0.1〜10質量%の範囲にあることが好ましく、0.1〜8質量%の範囲にあることがより好ましい。   A cellulose ester can be mentioned as an example of a polymer. Preferable examples of the cellulose ester include those described in paragraph [0178] of JP-A No. 2000-155216. The addition amount of the polymer is preferably in the range of 0.1 to 10% by mass, and in the range of 0.1 to 8% by mass with respect to the liquid crystal molecule so as not to inhibit the alignment of the liquid crystal molecules. It is more preferable.

円盤状液晶性分子のディスコティックネマティック液晶相−固相転移温度は、70〜300℃が好ましく、70〜170℃がさらに好ましい。   The discotic nematic liquid crystal phase-solid phase transition temperature of the discotic liquid crystalline molecules is preferably 70 to 300 ° C, more preferably 70 to 170 ° C.

(光学異方性層の形成)
光学異方性層は、液晶性分子および必要に応じて後述の重合性開始剤や任意の成分を含む塗布液を、配向膜の上に塗布することで形成できる。
(Formation of optically anisotropic layer)
The optically anisotropic layer can be formed by applying a coating liquid containing liquid crystalline molecules and, if necessary, a polymerization initiator described later and optional components on the alignment film.

塗布液の調製に使用する溶媒としては、有機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒の例には、アミド(例えば、N,N−ジメチルホルムアミド)、スルホキシド(例えば、ジメチルスルホキシド)、ヘテロ環化合物(例えば、ピリジン)、炭化水素(例えば、ベンゼン、ヘキサン)、アルキルハライド(例えば、クロロホルム、ジクロロメタン、テトラクロロエタン)、エステル(例えば、酢酸メチル、酢酸ブチル)、ケトン(例えば、アセトン、メチルエチルケトン)、エーテル(例えば、テトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタン)が含まれる。アルキルハライドおよびケトンが好ましい。二種類以上の有機溶媒を併用してもよい。   As the solvent used for preparing the coating solution, an organic solvent is preferably used. Examples of organic solvents include amides (eg N, N-dimethylformamide), sulfoxides (eg dimethyl sulfoxide), heterocyclic compounds (eg pyridine), hydrocarbons (eg benzene, hexane), alkyl halides (eg , Chloroform, dichloromethane, tetrachloroethane), esters (eg, methyl acetate, butyl acetate), ketones (eg, acetone, methyl ethyl ketone), ethers (eg, tetrahydrofuran, 1,2-dimethoxyethane). Alkyl halides and ketones are preferred. Two or more organic solvents may be used in combination.

塗布液の塗布は、公知の方法(例えば、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法)により実施できる。
光学異方性層の厚さは、0.1〜20μmであることが好ましく、0.5〜15μmであることがさらに好ましく、1〜10μmであることが最も好ましい。
The coating liquid can be applied by a known method (for example, a wire bar coating method, an extrusion coating method, a direct gravure coating method, a reverse gravure coating method, or a die coating method).
The thickness of the optically anisotropic layer is preferably 0.1 to 20 μm, more preferably 0.5 to 15 μm, and most preferably 1 to 10 μm.

(液晶性分子の配向状態の固定)
配向させた液晶性分子を、配向状態を維持して固定することができる。固定化は、重合反応により実施することが好ましい。重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤を用いる光重合反応とが含まれる。光重合反応が好ましい。
(Fixing the alignment state of liquid crystalline molecules)
The aligned liquid crystal molecules can be fixed while maintaining the alignment state. The immobilization is preferably performed by a polymerization reaction. The polymerization reaction includes a thermal polymerization reaction using a thermal polymerization initiator and a photopolymerization reaction using a photopolymerization initiator. A photopolymerization reaction is preferred.

光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物(米国特許2367661号、同2367670号の各明細書記載)、アシロインエーテル(米国特許2448828号明細書記載)、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物(米国特許2722512号明細書記載)、多核キノン化合物(米国特許3046127号、同2951758号の各明細書記載)、トリアリールイミダゾールダイマーとp−アミノフェニルケトンとの組み合わせ(米国特許3549367号明細書記載)、アクリジンおよびフェナジン化合物(特開昭60−105667号公報、米国特許4239850号明細書記載)およびオキサジアゾール化合物(米国特許4212970号明細書記載)が含まれる。   Examples of the photopolymerization initiator include α-carbonyl compounds (described in US Pat. Nos. 2,367,661 and 2,367,670), acyloin ether (described in US Pat. No. 2,448,828), α-hydrocarbon substituted aromatic acyloin. Compound (described in US Pat. No. 2,722,512), polynuclear quinone compound (described in US Pat. Nos. 3,046,127 and 2,951,758), a combination of triarylimidazole dimer and p-aminophenyl ketone (US Pat. No. 3,549,367) Acridine and phenazine compounds (JP-A-60-105667, U.S. Pat. No. 4,239,850) and oxadiazole compounds (U.S. Pat. No. 4,212,970).

光重合開始剤の使用量は、塗布液の固形分の0.01〜20質量%の範囲にあることが好ましく、0.5〜5質量%の範囲にあることがさらに好ましい。   The amount of the photopolymerization initiator used is preferably in the range of 0.01 to 20% by mass, more preferably in the range of 0.5 to 5% by mass, based on the solid content of the coating solution.

液晶性分子の重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましい。照射エネルギーは、20mJ/cm2 〜50J/cm2 の範囲にあることが好ましく、20〜5000mJ/cm2 の範囲にあることがより好ましく、100〜800mJ/cm2 の範囲にあることがさらに好ましい。また、光重合反応を促進するため、加熱条件下で光照射を実施してもよい。
保護層を、光学異方性層の上に設けてもよい。
It is preferable to use ultraviolet rays for light irradiation for polymerization of liquid crystalline molecules. The irradiation energy is preferably in the range of 20mJ / cm 2 ~50J / cm 2 , more preferably in the range of 20~5000mJ / cm 2, more preferably in the range of 100 to 800 mJ / cm 2 . In order to accelerate the photopolymerization reaction, light irradiation may be performed under heating conditions.
A protective layer may be provided on the optically anisotropic layer.

この光学補償フィルムと偏光膜を組み合わせることも好ましい。具体的には、上記のような光学異方性層用塗布液を偏光膜の表面に塗布することにより光学異方性層を形成する。その結果、偏光膜と光学異方性層との間にポリマーフィルムを使用することなく、偏光膜の寸度変化にともなう応力(歪み×断面積×弾性率)が小さい薄い偏光板が作成される。本発明に従う偏光板を大型の液晶表示装置に取り付けると、光漏れなどの問題を生じることなく、表示品位の高い画像を表示することができる。   It is also preferable to combine this optical compensation film and a polarizing film. Specifically, the optically anisotropic layer is formed by applying the coating liquid for the optically anisotropic layer as described above to the surface of the polarizing film. As a result, without using a polymer film between the polarizing film and the optically anisotropic layer, a thin polarizing plate having a small stress (strain × cross-sectional area × elastic modulus) associated with the dimensional change of the polarizing film is produced. . When the polarizing plate according to the present invention is attached to a large liquid crystal display device, an image with high display quality can be displayed without causing problems such as light leakage.

偏光膜と光学補償層の傾斜角度は、LCDを構成する液晶セルの両側に貼り合わされる2枚の偏光板の透過軸と液晶セルの縦または横方向のなす角度にあわせるように延伸することが好ましい。通常の傾斜角度は45°である。しかし、最近は、透過型、反射型および半透過型LCDにおいて必ずしも45°でない装置が開発されており、延伸方向はLCDの設計にあわせて任意に調整できることが好ましい。   The tilt angle of the polarizing film and the optical compensation layer may be stretched so as to match the angle formed by the transmission axis of the two polarizing plates bonded to both sides of the liquid crystal cell constituting the LCD and the vertical or horizontal direction of the liquid crystal cell. preferable. A normal inclination angle is 45 °. Recently, however, devices that are not necessarily 45 ° have been developed in transmissive, reflective, and transflective LCDs, and it is preferable that the stretching direction can be arbitrarily adjusted according to the design of the LCD.

(3)反射防止層の付与(反射防止フィルム)
反射防止膜は、一般に、防汚性層でもある低屈折率層、および低屈折率層より高い屈折率を有する少なくとも一層の層(即ち、高屈折率層、中屈折率層)とを透明基体上に設けた構造を有する。
(3) Application of antireflection layer (antireflection film)
The antireflection film generally includes a low refractive index layer which is also an antifouling layer, and at least one layer having a higher refractive index than that of the low refractive index layer (that is, a high refractive index layer and a medium refractive index layer). It has the structure provided above.

屈折率の異なる無機化合物(金属酸化物等)の透明薄膜を積層させた多層膜として、化学蒸着(CVD)法や物理蒸着(PVD)法、金属アルコキシド等の金属化合物のゾルゲル方法でコロイド状金属酸化物粒子皮膜を形成後に後処理(紫外線照射:特開平9−157855号公報、プラズマ処理:特開2002−327310号公報)して薄膜を形成する方法が挙げられる。   Colloidal metal by multilayer deposition of transparent thin films of inorganic compounds (metal oxides, etc.) with different refractive indexes by chemical vapor deposition (CVD) method, physical vapor deposition (PVD) method, sol-gel method of metal compounds such as metal alkoxides Examples include a method of forming a thin film by post-processing (ultraviolet irradiation: JP-A-9-157855, plasma processing: JP-A-2002-327310) after forming an oxide particle film.

一方、生産性が高い反射防止膜として、無機粒子をマトリックスに分散されてなる薄膜を積層塗布してなる反射防止膜が各種提案されている。   On the other hand, various antireflection films formed by laminating thin films in which inorganic particles are dispersed in a matrix have been proposed as antireflection films with high productivity.

上述したような塗布による反射防止フィルムに最上層表面が微細な凹凸の形状を有する防眩性を付与した反射防止層からなる反射防止フィルムも挙げられる。   The antireflection film which consists of an antireflection film which gave the anti-glare property which the surface of the uppermost layer has the shape of a fine unevenness to the antireflection film by application | coating as mentioned above is also mentioned.

本発明のシクロオレフィン樹脂フィルムは上記いずれの方式にも適用できるが、特に好ましいのが塗布による方式(塗布型)である。   The cycloolefin resin film of the present invention can be applied to any of the above methods, but a coating method (coating type) is particularly preferable.

(塗布型反射防止フィルムの層構成)
基体上に少なくとも中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層(最外層)の順序の層構成からなる反射防止膜は、以下の関係を満足する屈折率を有する様に設計される。
(Layer structure of coating type antireflection film)
An antireflection film having a layer structure of at least a medium refractive index layer, a high refractive index layer, and a low refractive index layer (outermost layer) on the substrate is designed to have a refractive index satisfying the following relationship.

高屈折率層の屈折率>中屈折率層の屈折率>透明支持体の屈折率>低屈折率層の屈折率
また、透明支持体と中屈折率層の間に、ハードコート層を設けてもよい。さらには、中屈折率ハードコート層、高屈折率層および低屈折率層からなってもよい。
The refractive index of the high refractive index layer> The refractive index of the medium refractive index layer> The refractive index of the transparent support> The refractive index of the low refractive index layer. Also, a hard coat layer is provided between the transparent support and the medium refractive index layer. Also good. Furthermore, it may consist of a medium refractive index hard coat layer, a high refractive index layer and a low refractive index layer.

例えば、特開平8−122504号公報、同8−110401号公報、同10−300902号公報、特開2002−243906号公報、特開2000−111706号公報等が挙げられる。
また、各層に他の機能を付与させてもよく、例えば、防汚性の低屈折率層、帯電防止性の高屈折率層としたもの(例えば、特開平10−206603号公報、特開2002−243906号公報等)等が挙げられる。
Examples thereof include JP-A-8-122504, JP-A-8-110401, JP-A-10-300902, JP-A-2002-243906, JP-A-2000-11706, and the like.
Other functions may be imparted to each layer, for example, an antifouling low refractive index layer or an antistatic high refractive index layer (for example, JP-A-10-206603, JP-A-2002). -243906 publication etc.) etc. are mentioned.

反射防止膜のヘイズは、5%以下あることが好ましく、3%以下がさらに好ましい。また膜の強度は、JIS K5400に従う鉛筆硬度試験でH以上であることが好ましく、2H以上であることがさらに好ましく、3H以上であることが最も好ましい。   The haze of the antireflection film is preferably 5% or less, more preferably 3% or less. The strength of the film is preferably H or higher, more preferably 2H or higher, and most preferably 3H or higher in a pencil hardness test according to JIS K5400.

(高屈折率層および中屈折率層)
反射防止膜の高い屈折率を有する層は、平均粒子サイズ100nm以下の高屈折率の無機化合物超微粒子およびマトリックスバインダーを少なくとも含有する硬化性膜からなる。
(High refractive index layer and medium refractive index layer)
The layer having a high refractive index of the antireflection film is composed of a curable film containing at least an inorganic compound ultrafine particle having a high refractive index having an average particle size of 100 nm or less and a matrix binder.

高屈折率の無機化合物微粒子としては、屈折率1.65以上の無機化合物が挙げられ、好ましくは屈折率1.9以上のものが挙げられる。例えば、Ti、Zn、Sb、Sn、Zr、Ce、Ta、La、In等の酸化物、これらの金属原子を含む複合酸化物等が挙げられる。   Examples of the high refractive index inorganic compound fine particles include inorganic compounds having a refractive index of 1.65 or more, preferably those having a refractive index of 1.9 or more. Examples thereof include oxides such as Ti, Zn, Sb, Sn, Zr, Ce, Ta, La, and In, and composite oxides containing these metal atoms.

このような超微粒子とするには、粒子表面が表面処理剤で処理されること(例えば、特開平11−295503号公報、同11−153703号公報、特開2000−9908号公報に記載されるシランカップリング剤等:特開2001−310432号公報等に記載されるアニオン性化合物あるいは有機金属カップリング剤)、高屈折率粒子をコアとしたコアシェル構造とすること(特開2001−166104号公報等)、特定の分散剤併用(例えば、特開平11−153703号公報、米国特許第6,210,858B1号明細書、特開2002−2776069号公報等)等が挙げられる。   In order to obtain such ultrafine particles, the surface of the particles is treated with a surface treatment agent (for example, as described in JP-A Nos. 11-295503, 11-153703, and 2000-9908). Silane coupling agent, etc .: Anionic compounds or organometallic coupling agents described in JP 2001-310432 A, etc., and a core-shell structure with high refractive index particles as a core (JP 2001-166104 A) Etc.) and specific dispersants (for example, JP-A-11-153703, US Pat. No. 6,210,858B1, JP-A-2002-27776069, etc.) and the like.

マトリックスを形成する材料としては、従来公知の熱可塑性樹脂、硬化性樹脂皮膜等が挙げられる。   Examples of the material forming the matrix include conventionally known thermoplastic resins and curable resin films.

さらに、ラジカル重合性および/またはカチオン重合性の重合性基を少なくとも2個以上含有する多官能性化合物含有組成物、加水分解性基を含有する有機金属化合物およびその部分縮合体組成物から選ばれる少なくとも1種の組成物が好ましい。例えば、特開2000−47004号公報、同2001−315242号公報、同2001−31871号公報、同2001−296401号公報等に記載の化合物が挙げられる。   Furthermore, it is selected from a polyfunctional compound-containing composition containing at least two radically polymerizable and / or cationically polymerizable groups, an organometallic compound containing a hydrolyzable group, and a partial condensate composition thereof. At least one composition is preferred. Examples thereof include compounds described in JP-A Nos. 2000-47004, 2001-315242, 2001-31871, and 2001-296401.

また、金属アルコキドの加水分解縮合物から得られるコロイド状金属酸化物と金属アルコキシド組成物から得られる硬化性膜も好ましい。例えば、特開2001−293818号公報等に記載されている。   A curable film obtained from a colloidal metal oxide obtained from a hydrolyzed condensate of metal alkoxide and a metal alkoxide composition is also preferred. For example, it describes in Unexamined-Japanese-Patent No. 2001-293818.

高屈折率層の屈折率は、−般に1.70〜2.20である。高屈折率層の厚さは、5nm〜10μmであることが好ましく、10nm〜1μmであることがさらに好ましい。   The refractive index of the high refractive index layer is generally 1.70 to 2.20. The thickness of the high refractive index layer is preferably 5 nm to 10 μm, and more preferably 10 nm to 1 μm.

中屈折率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との間の値となるように調整する。中屈折率層の屈折率は、1.50〜1.70であることが好ましい。   The refractive index of the middle refractive index layer is adjusted to be a value between the refractive index of the low refractive index layer and the refractive index of the high refractive index layer. The refractive index of the middle refractive index layer is preferably 1.50 to 1.70.

(低屈折率層)
低屈折率層は、高屈折率層の上に順次積層してなる。低屈折率層の屈折率は通常1.20〜1.55である。好ましくは1.30〜1.50である。
(Low refractive index layer)
The low refractive index layer is sequentially laminated on the high refractive index layer. The refractive index of the low refractive index layer is usually 1.20 to 1.55. Preferably it is 1.30-1.50.

耐擦傷性、防汚性を有する最外層として構築することが好ましい。耐擦傷性を大きく向上させる手段として表面への滑り性付与が有効で、従来公知のシリコーンの導入、フッ素の導入等からなる薄膜層の手段を適用できる。   It is preferable to construct as the outermost layer having scratch resistance and antifouling property. As means for greatly improving the scratch resistance, imparting slipperiness to the surface is effective, and conventionally known means for thin film layers including introduction of silicone, introduction of fluorine, and the like can be applied.

含フッ素化合物の屈折率は1.35〜1.50であることが好ましい。より好ましくは1.36〜1.47である。また、含フッ素化合物はフッ素原子を35〜80質量%の範囲で含む架橋性若しくは重合性の官能基を含む化合物が好ましい。   The refractive index of the fluorine-containing compound is preferably 1.35 to 1.50. More preferably, it is 1.36-1.47. The fluorine-containing compound is preferably a compound containing a crosslinkable or polymerizable functional group containing fluorine atoms in the range of 35 to 80% by mass.

例えば、特開平9−222503号公報明細書段落番号[0018]〜[0026]、同11−38202号公報明細書段落番号[0019]〜[0030]、特開2001−40284号公報明細書段落番号[0027]〜[0028]、特開2000−284102号公報等に記載の化合物が挙げられる。   For example, paragraph numbers [0018] to [0026] of Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-222503, paragraph numbers [0019] to [0030] of Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-38202, and paragraph numbers of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-40284. [0027] to [0028], JP-A 2000-284102, and the like.

シリコーン化合物としてはポリシロキサン構造を有する化合物であり、高分子鎖中に硬化性官能基あるいは重合性官能基を含有して、膜中で橋かけ構造を有するものが好ましい。例えば、反応性シリコーン(例えば、サイラプレーン(チッソ(株)製等)、両末端にシラノール基含有のポリシロキサン(特開平11−258403号公報等)等が挙げられる。   The silicone compound is a compound having a polysiloxane structure, preferably containing a curable functional group or a polymerizable functional group in the polymer chain and having a crosslinked structure in the film. For example, reactive silicone (for example, Silaplane (manufactured by Chisso Corporation), silanol group-containing polysiloxane (Japanese Patent Laid-Open No. 11-258403, etc.) and the like can be mentioned.

架橋または重合性基を有する含フッ素および/またはシロキサンのポリマーの架橋または重合反応は、重合開始剤、増感剤等を含有する最外層を形成するための塗布組成物を塗布と同時または塗布後に光照射や加熱することにより実施することが好ましい。   The crosslinking or polymerization reaction of the fluorine-containing and / or siloxane polymer having a crosslinking or polymerizable group is carried out at the same time or after the coating composition for forming the outermost layer containing a polymerization initiator, a sensitizer, etc. It is preferable to carry out by light irradiation or heating.

また、シランカップリング剤等の有機金属化合物と特定のフッ素含有炭化水素基含有のシランカップリング剤とを触媒共存下に縮合反応で硬化するゾルゲル硬化膜も好ましい。   Also preferred is a sol-gel cured film in which an organometallic compound such as a silane coupling agent and a specific fluorine-containing hydrocarbon group-containing silane coupling agent are cured by a condensation reaction in the presence of a catalyst.

例えば、ポリフルオロアルキル基含有シラン化合物またはその部分加水分解縮合物(特開昭58−142958号公報、同58−147483号公報、同58−147484号公報、特開平9−157582号公報、同11−106704号公報記載等記載の化合物)、フッ素含有長鎖基であるポリ「パーフルオロアルキルエーテル」基を含有するシリル化合物(特開2000−117902号公報、同2001−48590号公報、同2002−53804号公報記載の化合物等)等が挙げられる。   For example, a polyfluoroalkyl group-containing silane compound or a partially hydrolyzed condensate thereof (Japanese Patent Laid-Open Nos. 58-142958, 58-147483, 58-147484, Japanese Patent Laid-Open Nos. 9-157582, 11) -106704), silyl compounds containing a poly "perfluoroalkyl ether" group which is a fluorine-containing long chain group (Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 2000-117902, 2001-48590, 2002) 53804), and the like.

低屈折率層は、上記以外の添加剤として充填剤(例えば、二酸化珪素(シリカ)、含フッ素粒子(フッ化マグネシウム,フッ化カルシウム,フッ化バリウム)等の一次粒子平均径が1〜150nmの低屈折率無機化合物、特開平11−3820公報の段落番号[0020]〜[0038]に記載の有機微粒子等)、シランカップリング剤、滑り剤、界面活性剤等を含有することができる。   The low refractive index layer has an average primary particle diameter of 1 to 150 nm such as a filler (for example, silicon dioxide (silica), fluorine-containing particles (magnesium fluoride, calcium fluoride, barium fluoride)) as an additive other than the above. Low refractive index inorganic compounds, organic fine particles described in paragraphs [0020] to [0038] of JP-A-11-3820, etc.), silane coupling agents, slip agents, surfactants, and the like can be contained.

低屈折率層が最外層の下層に位置する場合、低屈折率層は気相法(真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、プラズマCVD法等)により形成されてもよい。安価に製造できる点で、塗布法が好ましい。   When the low refractive index layer is located below the outermost layer, the low refractive index layer may be formed by a vapor phase method (vacuum deposition method, sputtering method, ion plating method, plasma CVD method, etc.). The coating method is preferable because it can be manufactured at a low cost.

低屈折率層の膜厚は、30〜200nmであることが好ましく、50〜150nmであることがさらに好ましく、60〜120nmであることが最も好ましい。   The film thickness of the low refractive index layer is preferably 30 to 200 nm, more preferably 50 to 150 nm, and most preferably 60 to 120 nm.

(ハードコート層)
ハードコート層は、反射防止フィルムに物理強度を付与するために、透明支持体の表面に設ける。特に、透明支持体と前記高屈折率層の間に設けることが好ましい。
(Hard coat layer)
The hard coat layer is provided on the surface of the transparent support in order to impart physical strength to the antireflection film. In particular, it is preferably provided between the transparent support and the high refractive index layer.

ハードコート層は、光および/または熱の硬化性化合物の架橋反応、または、重合反応により形成されることが好ましい。硬化性官能基としては、光重合性官能基が好ましく、また加水分解性官能基含有の有機金属化合物は有機アルコキシシリル化合物が好ましい。   The hard coat layer is preferably formed by a crosslinking reaction or a polymerization reaction of a light and / or heat curable compound. The curable functional group is preferably a photopolymerizable functional group, and the hydrolyzable functional group-containing organometallic compound is preferably an organic alkoxysilyl compound.

これらの化合物の具体例としては、高屈折率層で例示したと同様のものが挙げられる。
ハードコート層の具体的な構成組成物としては、例えば、特開2002−144913号公報、同2000−9908号公報、国際公開第00/46617号パンフレット等記載のものが挙げられる。
Specific examples of these compounds are the same as those exemplified for the high refractive index layer.
Specific examples of the constituent composition of the hard coat layer include those described in JP-A Nos. 2002-144913, 2000-9908, and WO 00/46617.

高屈折率層はハードコート層を兼ねることができる。このような場合、高屈折率層で記載した手法を用いて微粒子を微細に分散してハードコート層に含有させて形成することが好ましい。   The high refractive index layer can also serve as a hard coat layer. In such a case, it is preferable to form fine particles dispersed in the hard coat layer using the method described for the high refractive index layer.

ハードコート層は、平均粒子サイズ0.2〜10μmの粒子を含有させて防眩機能(アンチグレア機能)を付与した防眩層(後述)を兼ねることもできる。   The hard coat layer can also serve as an antiglare layer (described later) provided with particles having an average particle size of 0.2 to 10 μm to provide an antiglare function (antiglare function).

ハードコート層の膜厚は用途により適切に設計することができる。ハードコート層の膜厚は、0.2〜10μmであることが好ましく、より好ましくは0.5〜7μmである。   The film thickness of the hard coat layer can be appropriately designed depending on the application. The film thickness of the hard coat layer is preferably 0.2 to 10 μm, more preferably 0.5 to 7 μm.

ハードコート層の強度は、JIS K5400に従う鉛筆硬度試験で、H以上であることが好ましく、2H以上であることがさらに好ましく、3H以上であることが最も好ましい。また、JIS K5400に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。   The strength of the hard coat layer is preferably H or higher, more preferably 2H or higher, and most preferably 3H or higher in a pencil hardness test according to JIS K5400. Further, in the Taber test according to JIS K5400, the smaller the wear amount of the test piece before and after the test, the better.

(前方散乱層)
前方散乱層は、液晶表示装置に適用した場合の、上下左右方向に視角を傾斜させたときの視野角改良効果を付与するために設ける。上記ハードコート層中に屈折率の異なる微粒子を分散することで、ハードコート機能と兼ねることもできる。
(Forward scattering layer)
The forward scattering layer is provided in order to give a viewing angle improvement effect when the viewing angle is inclined in the vertical and horizontal directions when applied to a liquid crystal display device. By dispersing fine particles having different refractive indexes in the hard coat layer, it can also serve as a hard coat function.

例えば、前方散乱係数を特定化した特開11−38208号公報、透明樹脂と微粒子の相対屈折率を特定範囲とした特開2000−199809号公報、ヘイズ値を40%以上と規定した特開2002−107512号公報等が挙げられる。   For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-38208 specifying a forward scattering coefficient, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-199809 having a relative refractive index of a transparent resin and fine particles in a specific range, and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002 specifying a haze value of 40% or more. -107512 gazette etc. are mentioned.

(その他の層)
上記の層以外に、プライマー層、帯電防止層、下塗り層や保護層等を設けてもよい。
(Other layers)
In addition to the above layers, a primer layer, an antistatic layer, an undercoat layer, a protective layer, and the like may be provided.

(塗布方法)
反射防止フィルムの各層は、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート、マイクログラビア法やエクストルージョンコート法(米国特許第2,681,294号明細書)により、塗布により形成することができる。
(Application method)
Each layer of the antireflection film is formed by dip coating, air knife coating, curtain coating, roller coating, wire bar coating, gravure coating, micro gravure method or extrusion coating method (US Pat. No. 2,681,294). According to the specification, it can be formed by coating.

(アンチグレア機能)
反射防止膜は、外光を散乱させるアンチグレア機能を有していてもよい。アンチグレア機能は、反射防止膜の表面に凹凸を形成することにより得られる。反射防止膜がアンチグレア機能を有する場合、反射防止膜のヘイズは、3〜30%であることが好ましく、5〜20%であることがさらに好ましく、7〜20%であることが最も好ましい。
(Anti-glare function)
The antireflection film may have an antiglare function that scatters external light. The antiglare function is obtained by forming irregularities on the surface of the antireflection film. When the antireflection film has an antiglare function, the haze of the antireflection film is preferably 3 to 30%, more preferably 5 to 20%, and most preferably 7 to 20%.

反射防止膜表面に凹凸を形成する方法は、これらの表面形状を充分に保持できる方法であればいずれの方法でも適用できる。例えば、低屈折率層中に微粒子を使用して膜表面に凹凸を形成する方法(例えば、特開2000−271878号公報等)、低屈折率層の下層(高屈折率層、中屈折率層またはハードコート層)に比較的大きな粒子(粒子サイズ0.05〜2μm)を少量(0.1〜50質量%)添加して表面凹凸膜を形成し、その上にこれらの形状を維持して低屈折率層を設ける方法(例えば、特開2000−281410号公報、同2000−95893号公報、同2001−100004号公報、同2001−281407号公報等)、最上層(防汚性層)を塗設後の表面に物理的に凹凸形状を転写する方法(例えば、エンボス加工方法として、特開昭63−278839号公報、特開平11−183710号公報、特開2000−275401号公報等記載)等が挙げられる。   As a method for forming irregularities on the surface of the antireflection film, any method can be applied as long as these surface shapes can be sufficiently maintained. For example, a method of forming irregularities on the film surface using fine particles in the low refractive index layer (for example, JP 2000-271878 A), a lower layer of the low refractive index layer (high refractive index layer, medium refractive index layer) Alternatively, a small amount (0.1 to 50% by mass) of relatively large particles (particle size 0.05 to 2 μm) is added to the hard coat layer to form a surface uneven film, and these shapes are maintained thereon. A method of providing a low refractive index layer (for example, JP 2000-281410 A, JP 2000-95893 A, JP 2001-100004 A, 2001-281407, etc.), an uppermost layer (antifouling layer) A method of physically transferring an uneven shape onto the surface after coating (for example, as an embossing method, JP-A-63-278839, JP-A-11-183710, JP-A-2000-275401) Wherein) and the like.

《液晶表示装置》
本発明のシクロオレフィン樹脂フィルムは、液晶表示装置に好適に使用することができる。特に、本発明のシクロオレフィン樹脂フィルムは、液晶表示装置の光学補償シートとして用いると有効である。なお、フィルムそのものを光学補償シートとして用いる場合は、偏光素子(後述)の透過軸と、シクロオレフィン樹脂フィルムからなる光学補償シートの遅相軸とを実質的に平行または垂直になるように配置することが好ましい。このような偏光素子と光学補償シートとの配置については、特開平10−48420号公報に記載がある。液晶表示装置は、二枚の電極基板の間に液晶を担持してなる液晶セル、その両側に配置された二枚の偏光素子、および該液晶セルと該偏光素子との間に少なくとも一枚の光学補償シートを配置した構成を有している。
以下に、本発明のシクロオレフィン樹脂フィルムを適用しうる液晶表示装置の種類について説明する。
<Liquid crystal display device>
The cycloolefin resin film of this invention can be used conveniently for a liquid crystal display device. In particular, the cycloolefin resin film of the present invention is effective when used as an optical compensation sheet for a liquid crystal display device. When the film itself is used as an optical compensation sheet, the transmission axis of the polarizing element (described later) and the slow axis of the optical compensation sheet made of a cycloolefin resin film are arranged so as to be substantially parallel or perpendicular. It is preferable. Such an arrangement of the polarizing element and the optical compensation sheet is described in JP-A-10-48420. The liquid crystal display device includes a liquid crystal cell having a liquid crystal supported between two electrode substrates, two polarizing elements disposed on both sides thereof, and at least one sheet between the liquid crystal cell and the polarizing element. An optical compensation sheet is arranged.
Below, the kind of liquid crystal display device which can apply the cycloolefin resin film of this invention is demonstrated.

(TNモード液晶表示装置)
カラーTFT液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。TNモードの黒表示における液晶セル中の配向状態は、セル中央部で棒状液晶性分子が立ち上がり、セルの基板近傍では棒状液晶性分子が寝た配向状態にある。
(TN mode liquid crystal display)
It is most frequently used as a color TFT liquid crystal display device and is described in many documents. The alignment state in the liquid crystal cell in the TN mode black display is an alignment state in which the rod-like liquid crystalline molecules rise at the center of the cell and the rod-like liquid crystalline molecules lie in the vicinity of the cell substrate.

(OCBモード液晶表示装置)
棒状液晶性分子を液晶セルの上部と下部とで実質的に逆の方向に(対称的に)配向させるベンド配向モードの液晶セルである。ベンド配向モードの液晶セルを用いた液晶表示装置は、米国特許4583825号、同5410422号の各明細書に開示されている。棒状液晶性分子が液晶セルの上部と下部とで対称的に配向しているため、ベンド配向モードの液晶セルは、自己光学補償機能を有する。そのため、この液晶モードは、OCB(Optically Compensatory Bend) 液晶モードとも呼ばれる。
OCBモードの液晶セルもTNモード同様、黒表示においては、液晶セル中の配向状態は、セル中央部で棒状液晶性分子が立ち上がり、セルの基板近傍では棒状液晶性分子が寝た配向状態にある。
(OCB mode liquid crystal display)
This is a bend alignment mode liquid crystal cell in which rod-like liquid crystal molecules are aligned in a substantially opposite direction (symmetrically) between the upper part and the lower part of the liquid crystal cell. Liquid crystal display devices using a bend alignment mode liquid crystal cell are disclosed in US Pat. Nos. 4,583,825 and 5,410,422. Since the rod-like liquid crystal molecules are symmetrically aligned at the upper and lower portions of the liquid crystal cell, the bend alignment mode liquid crystal cell has a self-optical compensation function. Therefore, this liquid crystal mode is also called an OCB (Optically Compensatory Bend) liquid crystal mode.
Similarly to the TN mode, the liquid crystal cell in the OCB mode is in a black display, and the alignment state in the liquid crystal cell is such that the rod-like liquid crystal molecules rise in the center of the cell and the rod-like liquid crystal molecules lie in the vicinity of the cell substrate. .

(VAモード液晶表示装置)
電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向しているのが特徴であり、VAモードの液晶セルには、(1)棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のVAモードの液晶セル(特開平2−176625号公報記載)に加えて、(2)視野角拡大のため、VAモードをマルチドメイン化した(MVAモードの)液晶セル(SID97、Digest of tech. Papers(予稿集)28(1997)845記載)、(3)棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード(n−ASMモード)の液晶セル(日本液晶討論会の予稿集58〜59(1998)記載)および(4)SURVAIVALモードの液晶セル(LCDインターナショナル98で発表)が含まれる。
(VA mode liquid crystal display device)
The feature is that the rod-like liquid crystalline molecules are oriented substantially vertically when no voltage is applied. In the VA mode liquid crystal cell, (1) the rod-like liquid crystalline molecules are oriented substantially vertically when no voltage is applied. In addition to a narrowly defined VA mode liquid crystal cell (described in JP-A-2-176625) that is aligned substantially horizontally when a voltage is applied, (2) the VA mode is multi-domained to expand the viewing angle ( Liquid crystal cell (in MVA mode) (SID97, Digest of tech. Papers 28 (1997) 845), (3) Rod-like liquid crystal molecules are substantially vertically aligned when no voltage is applied, and twisted A liquid crystal cell in a domain alignment mode (n-ASM mode) (described in the proceedings 58-59 (1998) of the Japanese Liquid Crystal Society) and (4) a SURVAVAL mode liquid crystal cell (LCD interface) Announced at National 98).

(その他液晶表示装置)
ECBモードおよびSTNモードの液晶表示装置に対しては、上記と同様の考え方で光学的に補償することができる。
(Other liquid crystal display devices)
The ECB mode and STN mode liquid crystal display devices can be optically compensated in the same way as described above.

以下に本発明で使用した評価方法・測定方法について記載する。 The evaluation method and measurement method used in the present invention are described below.

《測定方法および評価方法》
以下において、シクロオレフィン樹脂フィルムの測定方法と評価方法ついて記載する。本出願に記載される測定値は、以下に記載される方法により測定されたものである。
<< Measurement method and evaluation method >>
Below, it describes about the measuring method and evaluation method of a cycloolefin resin film. The measurement values described in the present application are measured by the method described below.

(ロール汚れ)
製膜長さ1000mした後に、キャストロールを目視で観察しその汚れ状態を評価した。
A:キャストロール上に、汚れは見られなかった。
B:キャストロール上には汚れは見られなかったが、フィルム両端部の位置に微かに汚れの付着が認められた。
C:キャストロール上に、部分的な汚れが見られた。
D:キャストロール上の全面に汚れが見られた。
実用レベルとしては、B以上である。
(Roll dirt)
After the film formation length of 1000 m, the cast roll was visually observed to evaluate the dirt state.
A: Dirt was not seen on the cast roll.
B: Dirt was not observed on the cast roll, but slight adhesion of dirt was observed at the positions of both ends of the film.
C: Partial dirt was seen on the cast roll.
D: Dirt was seen on the entire surface of the cast roll.
The practical level is B or more.

(厚みムラ)
シクロオレフィン樹脂フィルムの長さ方向10m、250m、450mのそれぞれの領域において、幅方向に端部から20cmごとに7個所ずつサンプリングして、合計21サンプルを用意した。これらのサンプルを25℃、相対湿度60%に3時間調湿し、同一環境下でフィルム膜厚を測定し、得られた数値の最大値と最小値の差を、厚みムラとして評価した。数値が小さいほど、フィルム膜厚のバラツキが小さくて優れていることを示す。
本発明のシクロオレフィン樹脂フィルムは、厚みムラが2μm以下であることが好ましく、1μm以下であることがより好ましい。
(Thickness unevenness)
In each region of 10 m, 250 m, and 450 m in the length direction of the cycloolefin resin film, 7 points were sampled every 20 cm from the end in the width direction to prepare a total of 21 samples. These samples were conditioned at 25 ° C. and 60% relative humidity for 3 hours, the film thickness was measured under the same environment, and the difference between the maximum value and the minimum value obtained was evaluated as thickness unevenness. The smaller the value, the smaller the film thickness variation and the better.
As for the cycloolefin resin film of this invention, it is preferable that thickness nonuniformity is 2 micrometers or less, and it is more preferable that it is 1 micrometer or less.

(不定形異物故障)
シクロオレフィン樹脂フィルムの長さ方向の任意な長さの位置で3mの長さを目視観察し、その中に存在する不定形の異物を数えた。数値が小さいほど、フィルムは異物が少なく優れていることを示す。
本発明のシクロオレフィン樹脂フィルムは、不定形異物故障が10個以下であることが好ましく、5個以下であることがより好ましい。
(Atypical foreign object failure)
The length of 3 m was visually observed at an arbitrary length position in the length direction of the cycloolefin resin film, and irregular foreign substances present therein were counted. The smaller the numerical value, the better the film.
In the cycloolefin resin film of the present invention, the number of irregular foreign matter failures is preferably 10 or less, and more preferably 5 or less.

(投影斜めスジ)
投影斜めスジの評価は、得られたフィルムを幅方向に目視で観察し、製膜方向に対して斜めに観察されるスジ状のムラを1cm当たりの本数で示したものである。
本発明のシクロオレフィン樹脂フィルムは、投影斜めスジが10本/cm以下であることが好ましく、5本/cm以下であることがより好ましい。
(Projected diagonal stripes)
In the evaluation of the projected oblique stripes, the obtained film is visually observed in the width direction, and the stripe-like unevenness observed obliquely with respect to the film forming direction is indicated by the number per 1 cm.
The cycloolefin resin film of the present invention has a projected oblique line of preferably 10 lines / cm or less, and more preferably 5 lines / cm or less.

(吸光率)
シクロオレフィン樹脂フィルムを25℃、相対湿度60%で2時間調湿し、直径5cmに裁断し直径5cmのアルミニウムトレイにすばやく入れて、マッフル炉にて空気中にて250℃で0.5時間加熱した。冷却後のサンプル0.2gをメチレンクロライドで全容を10mlとするように希釈して2質量%の溶液を作製し、その380nmにおける吸光度をAKA光電管比色計、KOTAKI製作所社製にて測定した。加熱前との吸光度に対して、加熱後の吸収の増加分(単位:%)を吸光率として示した。数値が大きいほど、着色成分が加算されたものであり、フィルムの耐候性が悪いことを示す。
本発明のシクロオレフィン樹脂フィルムは、波長380nmにおける吸光率が、5%以下であることが好ましく、2%以下であることがより好ましい。
(Absorbance)
A cycloolefin resin film is conditioned for 2 hours at 25 ° C. and 60% relative humidity, cut into a diameter of 5 cm, quickly placed in a 5 cm diameter aluminum tray, and heated in air in a muffle furnace at 250 ° C. for 0.5 hours. did. A 0.2 g sample after cooling was diluted with methylene chloride to a total volume of 10 ml to prepare a 2 mass% solution, and the absorbance at 380 nm was measured with an AKA phototube colorimeter, manufactured by KOTAKI Corporation. The amount of increase in absorption after heating (unit:%) was shown as the absorbance relative to the absorbance before heating. The larger the numerical value, the more the coloring component is added, and the worse the weather resistance of the film.
The cycloolefin resin film of the present invention has an absorbance at a wavelength of 380 nm of preferably 5% or less, and more preferably 2% or less.

(光耐候性)
JIS5400に準じて、サンシャインウェザロメーターを用い、ブラックパネル温度83℃でシクロオレフィン樹脂フィルムの試験片(10cm×10cm、厚み100μm)を、光源の周囲に1分間に1回転させながら、カーボンアークに300時間曝した。耐候性は試験後のフィルムの、全光線透過率の減少率にて評価した。判定は以下の基準に従って行った。
A:全光線透過率の減少率が1%未満である。
B:全光線透過率の減少率が1%以上、10%未満である。
C:全光線透過率の減少率が10%以上、50%未満である。
D:全光線透過率の減少率が50%以上である。
実用レベルとしては、B以上である。
(Light resistance)
In accordance with JIS 5400, using a sunshine weatherometer, a carbon olefin resin test piece (10 cm × 10 cm, thickness 100 μm) at a black panel temperature of 83 ° C. is rotated around the light source once per minute while being applied to a carbon arc. Exposure for 300 hours. The weather resistance was evaluated by the reduction rate of the total light transmittance of the film after the test. The determination was made according to the following criteria.
A: The decrease rate of the total light transmittance is less than 1%.
B: The decrease rate of the total light transmittance is 1% or more and less than 10%.
C: The reduction rate of the total light transmittance is 10% or more and less than 50%.
D: The reduction rate of the total light transmittance is 50% or more.
The practical level is B or more.

(Tgの測定)
DSCの測定パンに試料を20mg入れた。これを窒素気流中で、10℃/分で30℃〜250℃まで昇温した後、30℃まで−10℃/分で冷却した。この後、再度30℃〜250℃まで昇温してベースラインが低温側から偏奇し始める温度をTgとした。
(Measurement of Tg)
20 mg of a sample was placed in a DSC measurement pan. This was heated to 30 ° C. to 250 ° C. at 10 ° C./min in a nitrogen stream and then cooled to 30 ° C. at −10 ° C./min. Thereafter, the temperature was raised again to 30 ° C. to 250 ° C., and the temperature at which the baseline began to deviate from the low temperature side was defined as Tg.

(ReおよびRth)
フィルムを25℃・相対湿度60%にて24時間調湿後、プリズムカップラー(MODEL2010 Prism Coupler:Metricon製)を用い、25℃・相対湿度60%において、532nmの固体レーザーを用いて下記式(a)で表される平均屈折率(n)を求めた。
式(a): n=(nTE×2+nTM)/3
[式中、nTEはフィルム平面方向の偏光で測定した屈折率であり、nTMはフィルム面法線方向の偏光で測定した屈折率である。]
Re(λ)、Rth(λ)は各々、波長λにおける面内のレターデーションおよび厚さ方向のレターデーションを表す。Re(λ)はKOBRA 21ADHまたはWR(王子計測機器(株)製)において波長λnmの光をフィルム法線方向に入射させて測定した。
測定されるフィルムが一軸または二軸の屈折率楕円体で表されるものである場合には、以下の方法によりRth(λ)を算出した。
Rth(λ)は前記Re(λ)を、面内の遅相軸(KOBRA 21ADHまたはWRにより判断される)を傾斜軸(回転軸)として(遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする)のフィルム法線方向に対して法線方向から−50°から+50°まで10°ステップで各々その傾斜した方向から波長λnmの光を入射させて全部で11点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率および入力された膜厚値を基にKOBRA 21ADHまたはWRに算出させた。
前記において、λに関する記載が特になく、Re、Rthとのみ記載されている場合は、波長590nmの光を用いて測定した値のことを表す。また、法線方向から面内の遅相軸を回転軸として、ある傾斜角度にレターデーションの値がゼロとなる方向をもつフィルムの場合には、その傾斜角度より大きい傾斜角度でのレターデーション値はその符号を負に変更した後、KOBRA 21ADHまたはWRが算出する。
なお、遅相軸を傾斜軸(回転軸)として(遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする)、任意の傾斜した2方向からレターデーション値を測定し、その値と平均屈折率および入力された膜厚値を基に、以下の式(b)および式(c)よりRthを算出することもできる。
(Re and Rth)
The film was conditioned at 25 ° C. and 60% relative humidity for 24 hours, then using a prism coupler (MODEL2010 Prism Coupler: manufactured by Metricon), and at 25 ° C. and 60% relative humidity, using a 532 nm solid laser, the following formula (a The average refractive index (n) represented by
Formula (a): n = (n TE × 2 + n TM ) / 3
[ Where n TE is a refractive index measured with polarized light in the film plane direction, and n TM is a refractive index measured with polarized light in the film surface normal direction. ]
Re (λ) and Rth (λ) represent in-plane retardation and retardation in the thickness direction at the wavelength λ, respectively. Re (λ) was measured by making light having a wavelength of λ nm incident in the normal direction of the film in KOBRA 21ADH or WR (manufactured by Oji Scientific Instruments).
When the film to be measured was represented by a uniaxial or biaxial refractive index ellipsoid, Rth (λ) was calculated by the following method.
Rth (λ) is Re (λ), with the in-plane slow axis (determined by KOBRA 21ADH or WR) as the tilt axis (rotation axis) (in the absence of the slow axis, any in-plane value) Measurements were made at 11 points in total by making light of wavelength λ nm incident from each inclined direction in steps of 10 ° from −50 ° to + 50 ° from the normal direction to the normal direction of the film). Then, KOBRA 21ADH or WR was calculated based on the measured retardation value, average refractive index, and input film thickness value.
In the above, there is no particular description regarding λ, and when only Re and Rth are described, it represents a value measured using light with a wavelength of 590 nm. In addition, in the case of a film having a retardation value of zero at a certain tilt angle with the in-plane slow axis from the normal direction as the rotation axis, the retardation value at a tilt angle larger than that tilt angle. After changing its sign to negative, KOBRA 21ADH or WR calculates.
In addition, the retardation value is measured from the two inclined directions, with the slow axis as the tilt axis (rotation axis) (when there is no slow axis, the arbitrary direction in the film plane is the rotation axis), Based on the value, the average refractive index, and the input film thickness value, Rth can also be calculated from the following formulas (b) and (c).

Figure 2008274102
[式中、Re(θ)は法線方向から角度θ傾斜した方向におけるレタ−デーション値を表す。また、nxは面内における遅相軸方向の屈折率を表し、nyは面内においてnxに直交する方向の屈折率を表し、nzはnxおよびnyに直交する方向の屈折率を表す。]
Figure 2008274102
[In the formula, Re (θ) represents a retardation value in a direction inclined by an angle θ from the normal direction. Further, nx represents the refractive index in the slow axis direction in the plane, ny represents the refractive index in the direction perpendicular to nx in the plane, and nz represents the refractive index in the direction perpendicular to nx and ny. ]

式(c): Rth=((nx+ny)/2−nz)×d
測定されるフィルムが一軸や二軸の屈折率楕円体で表現できないもの、いわゆる光学軸(optic axis)がないフィルムの場合には、以下の方法によりRth(λ)を算出した。
Rth(λ)は前記Re(λ)を、面内の遅相軸(KOBRA 21ADHまたはWRにより判断される)を傾斜軸(回転軸)としてフィルム法線方向に対して−50度から+50度まで10度ステップで各々その傾斜した方向から波長λnmの光を入射させて11点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率および入力された膜厚値を基にKOBRA 21ADHまたはWRが算出した。
これら平均屈折率と膜厚を入力することで、KOBRA 21ADHまたはWRにnx、ny、nzを算出させた。この算出されたnx、ny、nzよりNz=(nx−nz)/(nx−ny)をさらに算出した。
Formula (c): Rth = ((nx + ny) / 2−nz) × d
In the case where the film to be measured cannot be expressed by a uniaxial or biaxial refractive index ellipsoid, that is, a film having no so-called optical axis, Rth (λ) was calculated by the following method.
Rth (λ) is from −50 degrees to +50 degrees with respect to the normal direction of the film, with Re (λ) being the in-plane slow axis (determined by KOBRA 21ADH or WR) and the tilt axis (rotation axis). Measured at 11 points by making light of wavelength λ nm incident from each inclined direction in 10 degree steps, and KOBRA 21ADH or WR is calculated based on the measured retardation value, average refractive index, and input film thickness value. did.
By inputting these average refractive index and film thickness, KOBRA 21ADH or WR was allowed to calculate nx, ny, and nz. Nz = (nx−nz) / (nx−ny) was further calculated from the calculated nx, ny, and nz.

(Re、Rth変動、配向角)
長手方向に100点、幅方向50点サンプリングし、上記の方法でRe、Rth、遅相軸の角度を測定する。Re、Rthばらつきは、MD方向100点、TD方向50点の各最大値と最小値の差を、各平均値で割り、百分率で示したものをRe、Rthばらつきとした。配向角については、各測定点における遅相軸の角度の最大値と最小値の差を示した。
(Re, Rth fluctuation, orientation angle)
Sampling is performed at 100 points in the longitudinal direction and 50 points in the width direction, and the angles of Re, Rth, and slow axis are measured by the above method. For the Re and Rth variations, the difference between each maximum value and the minimum value at 100 points in the MD direction and 50 points in the TD direction was divided by each average value, and the value expressed as a percentage was defined as the Re and Rth variation. Regarding the orientation angle, the difference between the maximum value and the minimum value of the slow axis angle at each measurement point is shown.

(色ズレ)
未延伸フィルムを、後述する実施例で述べる方法によって偏光板とし、液晶表示装置に組み込み、全面ニュートラルグレー表示とし、色ズレを目視で確認したものである。
投影斜めスジは微妙な構造差のため、全面黒表示、白表示では色ズレは視認されないため、本願発明ではこのような手段を採用している。
後述する実施例では、色ズレの発生部位の面積を画面全域で割り百分率で表したものを「色ズレ」として示した。
(Color shift)
The unstretched film is made into a polarizing plate by the method described in the examples described later, and is incorporated into a liquid crystal display device to form a neutral gray display on the entire surface, and the color shift is visually confirmed.
Since the projected diagonal stripe has a subtle structural difference, color misregistration is not visually recognized in the entire black display and white display. Therefore, the present invention employs such means.
In the examples described later, the color shift occurrence area expressed as a percentage divided over the entire screen is indicated as “color shift”.

以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。   The present invention will be described more specifically with reference to the following examples. The materials, amounts used, ratios, processing details, processing procedures, and the like shown in the following examples can be changed as appropriate without departing from the spirit of the present invention. Therefore, the scope of the present invention is not limited to the specific examples shown below.

(1)シクロオレフィン樹脂
(i)シクロオレフィン樹脂−A(開環重合体)
6−メチル−1,4,5,8−ジメタノ−1,4,4a,5,6,7,8,8a−オクタヒドロナフタレンに、重合触媒としてトリエチルアルミニウムの15%シクロヘキサン溶液10部、トリエチルアミン5部、および四塩化チタンの20%シクロヘキサン溶液10部を添加して、シクロヘキサン中で開環重合し、得られた開環重合体をニッケル触媒で水素添加してポリマー溶液を得た。このポリマー溶液をイソプロピルアルコール中で凝固させ、乾燥し、粉末状の樹脂を得た。この樹脂の数平均分子量は40,000、水素添加率は99.8%以上であり、Tgは139℃であった。
(1) Cycloolefin resin (i) Cycloolefin resin-A (ring-opening polymer)
6-methyl-1,4,5,8-dimethano-1,4,4a, 5,6,7,8,8a-octahydronaphthalene, 10 parts of a 15% cyclohexane solution of triethylaluminum as a polymerization catalyst, triethylamine 5 And 10 parts of a 20% cyclohexane solution of titanium tetrachloride were added to perform ring-opening polymerization in cyclohexane, and the resulting ring-opening polymer was hydrogenated with a nickel catalyst to obtain a polymer solution. This polymer solution was coagulated in isopropyl alcohol and dried to obtain a powdery resin. The number average molecular weight of this resin was 40,000, the hydrogenation rate was 99.8% or more, and the Tg was 139 ° C.

(ii)シクロオレフィン樹脂−B(開環重合体)
8−メチル−8−メトキシカルボニルテトラシクロ[4.4.0.12.5,17.10]−3−ドデセン(特定単量体B)100質量部と、5−(4−ビフェニルカルボニルオキシ)ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン(特定単量体A)150質量部と、1−ヘキセン(分子量調節剤)18質量部と、トルエン750質量部とを窒素置換した反応容器に仕込み、この溶液を60℃に加熱した。次いで、反応容器内の溶液に、重合触媒としてトリエチルアルミニウム(1.5モル/l)のトルエン溶液0.62質量部と、tert−ブタノールおよびメタノールで変性した六塩化タングステン(tert−ブタノール:メタノール:タングステン=0.35モル:0.3モル:1モル)のトルエン溶液(濃度0.05モル/l)3.7質量部とを添加し、この系を80℃で3時間加熱攪拌することにより開環重合反応させて開環重合体溶液を得た。この重合反応における重合転化率は97%であり、得られた開環重合体について、30℃のクロロホルム中で測定した固有粘度(ηinh)は0.65dl/gであった。
(Ii) Cycloolefin resin-B (ring-opening polymer)
100 parts by mass of 8-methyl-8-methoxycarbonyltetracyclo [4.4.0.12.5, 17.10] -3-dodecene (specific monomer B) and 5- (4-biphenylcarbonyloxy) In a reaction vessel in which 150 parts by mass of bicyclo [2.2.1] hept-2-ene (specific monomer A), 18 parts by mass of 1-hexene (molecular weight regulator) and 750 parts by mass of toluene were substituted with nitrogen. Charge and heat the solution to 60 ° C. Next, 0.62 parts by mass of a toluene solution of triethylaluminum (1.5 mol / l) as a polymerization catalyst and tungsten hexachloride modified with tert-butanol and methanol (tert-butanol: methanol: By adding 3.7 parts by mass of a toluene solution (concentration 0.05 mol / l) of tungsten = 0.35 mol: 0.3 mol: 1 mol), the system is heated and stirred at 80 ° C. for 3 hours. A ring-opening polymer solution was obtained by a ring-opening polymerization reaction. The polymerization conversion rate in this polymerization reaction was 97%, and the intrinsic ring viscosity (ηinh) of the obtained ring-opened polymer measured in chloroform at 30 ° C. was 0.65 dl / g.

このようにして得られた開環重合体溶液4,000質量部をオートクレーブに仕込み、この開環重合体溶液に、RuHCl(CO)[P(C65330.48部を添加し、水素ガス圧100kg/cm2、反応温度165℃の条件下で、3時間加熱攪拌して水素添加反応を行った。得られた反応溶液(水素添加重合体溶液)を冷却した後、水素ガスを放圧した。この反応溶液を大量のメタノール中に注いで凝固物を分離回収し、これを乾燥して、水素添加重合体(環状ポリオレフィン樹脂)を得た。このようにして得られた水素添加重合体について400MHz、1H−NMRを用いてオレフィン性不飽和結合の水素添加率を測定したところ99.9%であった。ゲル浸透クロマトグラフィー法(GPC法、溶媒:テトラヒドロフラン)によりポリスチレン換算の数平均分子量(Mn)および重量平均分子量(Mw)を測定したところ、数平均分子量(Mn)は39,000、重量平均分子量(Mw)は126,000、分子量分布(Mw/Mn)は3.23であった。また、Tgは110℃であった。 The autoclave was charged with 4,000 parts by mass of the ring-opening polymer solution thus obtained, and 0.48 part of RuHCl (CO) [P (C 6 H 5 ) 3 ] 3 was added to the ring-opening polymer solution. The hydrogenation reaction was performed by heating and stirring for 3 hours under the conditions of hydrogen gas pressure of 100 kg / cm 2 and reaction temperature of 165 ° C. After cooling the obtained reaction solution (hydrogenated polymer solution), the hydrogen gas was released. This reaction solution was poured into a large amount of methanol to separate and recover a coagulated product, which was dried to obtain a hydrogenated polymer (cyclic polyolefin resin). The hydrogenated polymer thus obtained was measured for hydrogenation rate of olefinically unsaturated bonds using 400 MHz, 1 H-NMR, and found to be 99.9%. When the number average molecular weight (Mn) and weight average molecular weight (Mw) in terms of polystyrene were measured by gel permeation chromatography (GPC method, solvent: tetrahydrofuran), the number average molecular weight (Mn) was 39,000, and the weight average molecular weight ( Mw) was 126,000, and the molecular weight distribution (Mw / Mn) was 3.23. Moreover, Tg was 110 degreeC.

(iii)シクロオレフィン樹脂−C(付加重合体)
特開2005−330465号公報の実施例2に記載のシクロオレフィン化合物(Tg=127℃)
(iv)シクロオレフィン樹脂−D(付加重合体)
特表平8−507800号公報の実施例1に記載のシクロオレフィン化合物(Tg=181℃)
(v)シクロオレフィン樹脂−E(付加重合体)
三井化学(株)製APL6015T(Tg=145℃)
(vi)シクロオレフィン樹脂−F(付加重合体)
ポリプラスチックス(株)製TOPAS6013(Tg=130℃)
(Iii) Cycloolefin resin-C (addition polymer)
The cycloolefin compound described in Example 2 of JP-A-2005-330465 (Tg = 127 ° C.)
(Iv) Cycloolefin resin-D (addition polymer)
The cycloolefin compound described in Example 1 of JP-T-8-507800 (Tg = 181 ° C.)
(V) Cycloolefin resin-E (addition polymer)
APL6015T (Tg = 145 ° C) manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.
(Vi) Cycloolefin resin-F (addition polymer)
TOPAS6013 (Tg = 130 ° C) manufactured by Polyplastics Co., Ltd.

(2)製膜
前記シクロオレフィン樹脂−A〜Fを用いて、表1に記載に添加剤(上述した一般式(HUV−1)で表される化合物の具体例の番号を引用した。UVV−11は、テトラキス(1,2,2,6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)−1,2,3,4−ブタン テトラカルボキシレート(分子量792)である。)を添加し、さらに安定剤(酸化防止剤)としてスミライザーGP(住友化学株式会社製)を0.15質量%添加して、ヘンシェルミキサーでよく攪拌して、樹脂混合物を作製した。得られた混合物を平均直径3mm、平均長さ5mmの円柱状のペレットに成形した。これを110℃の真空乾燥機で乾燥し、含水率を0.1質量%以下とした後、Tg−10℃になるように調整したホッパーに投入した。
混練押出し機で、260℃で溶融した。この後、ギアポンプから送り出されたメルトは濾過精度5μmのリーフディスクフィルターにて濾過した。
この後、スリット間隔1.0mm、260℃のハンガーコートダイから、キャストロール(CR)上にメルト(溶融樹脂)を押出した。ダイランド長/タイランド幅は0.003とした。
この後、温度Tgに設定したキャストロール上にキャストし、これにタッチロール面圧6Mpa、クラウン量150μmのタッチロールを接触させた。この時のタッチロールと接触させる最上流側のキャストロールの温度は(Tg+15)℃、周速は55m/秒、およびこれらのタッチロールとの差(タッチロールの値−キャストロールの値)は0.5%とした。なお、タッチロールは特開平11−235747の実施例1に記載のもの(二重抑えロールと記載のあるもの)を用い、Tg−5℃に調温した。このタッチロールの薄肉金属外筒厚みは3mmとした。なお、試料13はタッチロールを実施しなかった比較試料である。
この後、続けてTg+5℃、Tg−10℃に温度を設定したキャストロールを通過させた後、両端(全幅の各5%)をトリミングし、両端に幅10mm、高さ50μmの厚みだし加工(ナーリング)をつけ、厚み20μmの保護フィルムでラミネートした後、幅2.0m、長さ3000mの未延伸フィルムを得た。
このようにして製膜したフィルム上に現れた「投影斜めスジ」を上記方法に従い計測した。本発明の試料は、ロール汚れ、厚みムラ、不定形異物故障、投影斜めスジ、吸光率(高温安定性)および光耐候性の全てに優れるものであった。しかし、紫外線吸収剤を含有していない比較試料、あるいはタッチロールを実施していない比較試料は、ロール汚れ、厚みムラ、不定形異物故障、投影斜めスジ、吸光率および光耐候性の全てを満足することはできなかった。
これらの全ての項目を総合的に4段階で評価して表1に記載した(A:総合的に全ての特性に優れる。B:総合的にほぼ問題ない特性である。C:総合的に問題となる特性を有し実用上で使用できない。D:総合的に大きな問題を有し使用出来ない。)付加重合型の方が開環重合型に比べ、相対的に好ましい。
(2) Film formation Using the cycloolefin resins -A to F, the numbers of specific examples of the compound represented by the additive (general formula (HUV-1) described above are cited in Table 1. UVV- 11 is tetrakis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) -1,2,3,4-butane tetracarboxylate (molecular weight 792)), and a stabilizer ( 0.15% by mass of Sumilizer GP (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) was added as an antioxidant and stirred well with a Henschel mixer to prepare a resin mixture. The obtained mixture was molded into cylindrical pellets having an average diameter of 3 mm and an average length of 5 mm. This was dried with a vacuum dryer at 110 ° C., the water content was adjusted to 0.1% by mass or less, and charged into a hopper adjusted to Tg−10 ° C.
The mixture was melted at 260 ° C. with a kneading extruder. Thereafter, the melt fed from the gear pump was filtered through a leaf disk filter having a filtration accuracy of 5 μm.
Thereafter, a melt (molten resin) was extruded onto a cast roll (CR) from a hanger coat die having a slit interval of 1.0 mm and 260 ° C. The die land length / Thailand width was 0.003.
Thereafter, the film was cast on a cast roll set at a temperature Tg, and a touch roll having a touch roll surface pressure of 6 Mpa and a crown amount of 150 μm was brought into contact therewith. At this time, the temperature of the cast roll on the most upstream side in contact with the touch roll is (Tg + 15) ° C., the peripheral speed is 55 m / sec, and the difference between these touch rolls (touch roll value−cast roll value) is 0. 0.5%. The touch roll was the one described in Example 1 of JP-A No. 11-235747 (the one described as a double holding roll), and the temperature was adjusted to Tg-5 ° C. The thickness of the thin metal outer cylinder of this touch roll was 3 mm. Sample 13 is a comparative sample in which the touch roll was not performed.
Subsequently, after passing through a cast roll whose temperature was set to Tg + 5 ° C. and Tg−10 ° C., both ends (5% of the total width) were trimmed, and both ends were 10 mm wide and 50 μm high. Knurling) and laminating with a protective film having a thickness of 20 μm, an unstretched film having a width of 2.0 m and a length of 3000 m was obtained.
The “projected diagonal streaks” appearing on the film thus formed were measured according to the above method. The sample of the present invention was excellent in all of roll contamination, thickness unevenness, irregular foreign material failure, oblique projection streaks, absorbance (high temperature stability) and light weather resistance. However, comparative samples that do not contain UV absorbers or comparative samples that are not touch-rolled satisfy all of roll contamination, thickness unevenness, irregular foreign material failure, oblique projection streaks, absorbance, and light resistance. I couldn't.
All these items were comprehensively evaluated in four stages and listed in Table 1 (A: comprehensively excellent in all characteristics. B: comprehensively almost no problem. C: comprehensive problem. D: Cannot be used practically because of its large problems.) The addition polymerization type is relatively preferable to the ring-opening polymerization type.

Figure 2008274102
Figure 2008274102

(3)延伸、緩和
前記溶融製膜で得たシクロオレフィン樹脂フィルムを表2に記載の条件で延伸、熱緩和した。表には記載していないが、表2に記載以外の表1に記載の本発明の未延伸フィルムについても、同様に延伸したところ、同様に良好な結果が得られた。
(3) Stretching and relaxation The cycloolefin resin film obtained by the melt film formation was stretched and thermally relaxed under the conditions shown in Table 2. Although not described in the table, the unstretched film of the present invention described in Table 1 other than that described in Table 2 was stretched in the same manner, and similarly good results were obtained.

Figure 2008274102
Figure 2008274102

(4)偏光板の作製
いずれの水準も、表面の水との接触角が60°になるように、フィルム表面にコロナ処理を行った。
特開2001−141926号公報の実施例1に従い、2対のニップロール間に周速差を与え、長手方向に延伸し、厚み20μmの偏光層を調製した。
これらを、下記構成となるようにPVA((株)クラレ製PVA−117H)3%水溶液を接着剤とし貼り合せ偏光板を作製した。
偏光板E:シクロオレフィン樹脂フィルム/偏光層/フジタック
このようにして得た偏光板を、特開2000−154261号公報の図2〜9に記載に準じて作成した50インチVA型液晶表示装置の偏光板に代えて取り付けた。本発明を実施したものは面状故障が無く良好な性能が得られた。中でも付加重合型のシクロオレフィン樹脂フィルムで良好であった。
(4) Production of polarizing plate In any level, the surface of the film was subjected to corona treatment so that the contact angle with water on the surface was 60 °.
According to Example 1 of Japanese Patent Laid-Open No. 2001-141926, a circumferential speed difference was given between two pairs of nip rolls and stretched in the longitudinal direction to prepare a polarizing layer having a thickness of 20 μm.
These were bonded to each other using a PVA (PVA-117H manufactured by Kuraray Co., Ltd.) 3% aqueous solution so as to have the following constitution to produce a polarizing plate.
Polarizing plate E: Cycloolefin resin film / polarizing layer / Fujitack A polarizing plate obtained in this manner is a 50-inch VA type liquid crystal display device prepared according to FIGS. 2 to 9 of JP-A-2000-154261. It attached instead of the polarizing plate. In the case of carrying out the present invention, there was no planar failure and good performance was obtained. Among these, addition polymerization type cycloolefin resin films were good.

(5)光学補償フィルムの作製
特開平11−316378号公報の実施例1の液晶層を塗布したセルロースアセテートフィルムの代わりに、本発明におけるシクロオレフィン樹脂フィルムを使用した。本発明を実施したものは良好な性能を示した。中でも付加重合型シクロオレフィン樹脂フィルムで良好であった。
(5) Production of optical compensation film The cycloolefin resin film of the present invention was used in place of the cellulose acetate film coated with the liquid crystal layer of Example 1 of JP-A-11-316378. Those implementing the present invention showed good performance. Among them, the addition polymerization type cycloolefin resin film was good.

特開平7−333433号公報の実施例1において、セルロースアセテートフィルムに代えて、本発明のシクロオレフィン樹脂フィルムを採用し、光学補償フィルターフィルムを作製したものでも同様に良好な光学補償フィルムを作製できた。中でも付加重合型シクロオレフィン樹脂フィルムで良好であった。   In Example 1 of JP-A-7-333433, in place of the cellulose acetate film, a cycloolefin resin film of the present invention is employed, and an optical compensation filter film can be similarly produced. It was. Among them, the addition polymerization type cycloolefin resin film was good.

(6)低反射フィルムの作製
本発明のシクロオレフィン樹脂フィルムを発明協会公開技報(公技番号2001−1745)の実施例47に従い低反射フィルムを作製したところ、良好な光学性能が得られた。なかでも付加重合型シクロオレフィン樹脂フィルムで良好であった。
(6) Production of low-reflection film A low-reflection film was produced from the cycloolefin resin film of the present invention according to Example 47 of the Japan Society for Invention and Innovation (public technical number 2001-1745), and good optical performance was obtained. . In particular, the addition polymerization type cycloolefin resin film was good.

(7)液晶表示素子の作製
前記本発明の偏光板を、特開平10−48420号公報の実施例1に記載の液晶表示装置、特開平9−26572号公報の実施例1に記載のディスコティック液晶分子を含む光学的異方性層、ポリビニルアルコールを塗布した配向膜、特開2000−154261号公報の図2〜9に記載に準じて作製した50インチVA型液晶表示装置、特開2000−154261号公報の図10〜15に記載に準じて作製した50インチOCB型液晶表示装置、特開2004−12731号公報の図11に記載のIPS型液晶表示装置に用いた。さらに、本発明の低反射フィルムをこれらの液晶表示装置の最表層に貼り評価を行ったところ、良好な液晶表示素子を得た。なかでも付加重合型シクロオレフィン樹脂フィルムで良好であった。
(7) Production of Liquid Crystal Display Element The polarizing plate of the present invention is a liquid crystal display device described in Example 1 of JP-A-10-48420, and a discotic described in Example 1 of JP-A-9-26572. An optically anisotropic layer containing liquid crystal molecules, an alignment film coated with polyvinyl alcohol, a 50-inch VA liquid crystal display device manufactured according to FIGS. 2 to 9 of JP-A-2000-154261, JP-A-2000- The 50-inch OCB type liquid crystal display device manufactured according to FIGS. 10 to 15 of Japanese Patent No. 154261 and the IPS type liquid crystal display device shown in FIG. 11 of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-12731 were used. Furthermore, when the low reflection film of this invention was stuck and evaluated on the outermost layer of these liquid crystal display devices, the favorable liquid crystal display element was obtained. In particular, the addition polymerization type cycloolefin resin film was good.

図1は、従来の縦延伸を示す概略図である。FIG. 1 is a schematic view showing conventional longitudinal stretching. 図2は、短スパン延伸を示す概略図である。FIG. 2 is a schematic view showing short span stretching. 横延伸によるボーイングの発生状態を示す概略図である。(a)は予熱温度=延伸温度=熱固定温度である場合を示し、(b)は予熱温度>延伸温度>熱固定温度である場合を示す。It is the schematic which shows the generation | occurrence | production state of the bowing by transverse stretching. (A) shows the case where preheating temperature = stretching temperature = heat setting temperature, and (b) shows the case where preheating temperature> stretching temperature> heat setting temperature.

符号の説明Explanation of symbols

1 ニップロール
2 ヒーター
3 フィルム
4 予熱ロール
1 Nip roll 2 Heater 3 Film 4 Preheating roll

Claims (11)

分子量が500以上の紫外線吸収剤の少なくとも1種類を0.05〜3質量%含有し、タッチロールを用いた融膜製膜法で作製されたシクロオレフィン樹脂フィルム。 A cycloolefin resin film containing 0.05 to 3% by mass of at least one ultraviolet absorber having a molecular weight of 500 or more and produced by a melt film forming method using a touch roll. 波長380nmにおける吸光率が、5%以下であることを特徴とする請求項1に記載のシクロオレフィン樹脂フィルム。 2. The cycloolefin resin film according to claim 1, wherein an absorbance at a wavelength of 380 nm is 5% or less. 前記紫外線吸収剤が、下記一般式(HUV−1)で表される化合物であることを特徴とする請求項1または2に記載のシクロオレフィン樹脂フィルム。
一般式(HUV−1)
Figure 2008274102
(式中、R1およびR2はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子または炭素数1〜5のアルキル基を表し、R3、R4、R5およびR6はそれぞれ独立に水素原子、炭素数1〜18の置換もしくは無置換のアルキル基、または炭素数6〜18の置換もしくは無置換のアリール基を表す。)
The cycloolefin resin film according to claim 1 or 2, wherein the ultraviolet absorber is a compound represented by the following general formula (HUV-1).
General formula (HUV-1)
Figure 2008274102
(In the formula, R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and R 3 , R 4 , R 5 and R 6 each independently represent a hydrogen atom or carbon number. Represents a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 18 carbon atoms.
投影斜めスジが、10本/cm以下である、請求項1〜3のいずれか1項に記載のシクロオレフィン樹脂フィルム。 The cycloolefin resin film according to any one of claims 1 to 3, wherein the projected diagonal stripe is 10 lines / cm or less. 前記シクロオレフィン樹脂が、付加重合によって得られたものであることを特徴とする、請求項1〜4のいずれか1項に記載のシクロオレフィン樹脂フィルム。 The cycloolefin resin film according to any one of claims 1 to 4, wherein the cycloolefin resin is obtained by addition polymerization. 偏光膜に、請求項1〜5のいずれか1項に記載のシクロオレフィン樹脂フィルムを少なくとも1層積層したことを特徴とする偏光板。 A polarizing plate comprising at least one layer of the cycloolefin resin film according to any one of claims 1 to 5 laminated on a polarizing film. 請求項1〜5のいずれか1項に記載のシクロオレフィン樹脂フィルムを基材に用いたことを特徴とする光学補償フィルム。 An optical compensation film using the cycloolefin resin film according to any one of claims 1 to 5 as a substrate. 請求項1〜5のいずれか1項に記載のシクロオレフィン樹脂フィルムを基材に用いたことを特徴とする反射防止フィルム。 An antireflection film, wherein the cycloolefin resin film according to any one of claims 1 to 5 is used as a substrate. 請求項1〜5のいずれか1項に記載のシクロオレフィン樹脂フィルム、請求項6に記載の偏光板、請求項7の光学補償フィルム、および、請求項8に記載の反射防止フィルムの少なくとも一つを用いたことを特徴とする液晶表示装置。 At least one of the cycloolefin resin film according to any one of claims 1 to 5, the polarizing plate according to claim 6, the optical compensation film according to claim 7, and the antireflection film according to claim 8. A liquid crystal display device characterized by using the above. 分子量が500以上の紫外線吸収剤の少なくとも1種類を0.05〜3質量%含有するシクロオレフィン樹脂組成物を、タッチロールを用いて融膜製膜法で作製することを特徴とする、シクロオレフィン樹脂フィルムの製造方法。 A cycloolefin resin composition containing 0.05 to 3% by mass of at least one UV absorber having a molecular weight of 500 or more is produced by a melt film forming method using a touch roll. A method for producing a resin film. 前記紫外線吸収剤が、下記一般式(HUV−1)で表される化合物であることを特徴とする請求項10に記載のシクロオレフィン樹脂フィルムの製造方法。
一般式(HUV−1)
Figure 2008274102
(式中、R1およびR2はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子または炭素数1〜5のアルキル基を表し、R3、R4、R5およびR6はそれぞれ独立に水素原子、炭素数1〜18の置換もしくは無置換のアルキル基、または炭素数6〜18の置換もしくは無置換のアリール基を表す。)
The said ultraviolet absorber is a compound represented by the following general formula (HUV-1), The manufacturing method of the cycloolefin resin film of Claim 10 characterized by the above-mentioned.
General formula (HUV-1)
Figure 2008274102
(In the formula, R 1 and R 2 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and R 3 , R 4 , R 5 and R 6 each independently represent a hydrogen atom or carbon number. Represents a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, or a substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 18 carbon atoms.
JP2007119186A 2007-04-27 2007-04-27 Cycloolefin resin film, polarizing plate, optical compensation film, anti-reflection film, liquid crystal display, and method of manufacturing the cycloolefin resin film Pending JP2008274102A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007119186A JP2008274102A (en) 2007-04-27 2007-04-27 Cycloolefin resin film, polarizing plate, optical compensation film, anti-reflection film, liquid crystal display, and method of manufacturing the cycloolefin resin film

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007119186A JP2008274102A (en) 2007-04-27 2007-04-27 Cycloolefin resin film, polarizing plate, optical compensation film, anti-reflection film, liquid crystal display, and method of manufacturing the cycloolefin resin film

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2008274102A true JP2008274102A (en) 2008-11-13

Family

ID=40052501

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007119186A Pending JP2008274102A (en) 2007-04-27 2007-04-27 Cycloolefin resin film, polarizing plate, optical compensation film, anti-reflection film, liquid crystal display, and method of manufacturing the cycloolefin resin film

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2008274102A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010137396A (en) * 2008-12-10 2010-06-24 Fujifilm Corp Film, method of manufacturing the same, optical compensation film for liquid crystal display panel, polarizing plate, and liquid crystal display
JP2016153839A (en) * 2015-02-20 2016-08-25 コニカミノルタ株式会社 Optical film, manufacturing method of optical film, polarizing plate, and liquid crystal display device

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010137396A (en) * 2008-12-10 2010-06-24 Fujifilm Corp Film, method of manufacturing the same, optical compensation film for liquid crystal display panel, polarizing plate, and liquid crystal display
JP2016153839A (en) * 2015-02-20 2016-08-25 コニカミノルタ株式会社 Optical film, manufacturing method of optical film, polarizing plate, and liquid crystal display device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5230221B2 (en) Thermoplastic film and method for producing the same
JP5184806B2 (en) Method for producing transparent thermoplastic film and transparent thermoplastic film
TWI387526B (en) Thermoplastic film and method of producing the same, polarizing plate, optical compensation film, antireflection film and crystal display device
US8043714B2 (en) Transparent thermoplastic film and a method of producing the same
JP4975504B2 (en) Transparent thermoplastic film and method for producing the same
JP5192753B2 (en) Manufacturing method of thermoplastic resin film, optical compensation film for liquid crystal display plate, and polarizing plate
JP2006341394A (en) Manufacturing film of thermoplastic resin film
JP5075467B2 (en) Cycloolefin resin composition, cycloolefin resin film and polarizing plate, optical compensation film, antireflection film and liquid crystal display device using the same
JP2008055890A (en) Thermoplastic resin film, its production method, polarizing plate, optical compensation film, antireflection film, and liquid crystal display device
JP2009166325A (en) Method and apparatus for producing saturated norbornene resin film and method for producing stretched saturated norbornene resin film
JP2007002027A (en) Saturated norbornene resin film and method for producing the same, polarizing plate, optical compensation film, antireflection film and liquid crystal display
JP2006348115A (en) Saturated norbornene resin film and its manufacturing process, polarizing plate, optical compensation film, antireflection film, and liquid crystal display
JP5483804B2 (en) Cycloolefin resin film, and polarizing plate, optical compensation film, antireflection film, liquid crystal display device using the same, and method for producing cycloolefin resin film
JP2006348114A (en) Saturated norbornene film, method for producing the same, polarlizing plate, optical compensation film, reflection-preventing film and liquid crystal-displaying device
JP5383079B2 (en) Thermoplastic film, method for producing thermoplastic film, apparatus for producing thermoplastic film, polarizing plate, optical compensation film for liquid crystal display panel, antireflection film and liquid crystal display device
JP5189785B2 (en) Thermoplastic film and manufacturing method thereof, polarizing plate, optical compensation film, antireflection film, and liquid crystal display device
JP2008023986A (en) Thermoplastic film, its manufacturing method, polarizing plate, reflection preventing film and liquid crystal display device
JP5184810B2 (en) Thermoplastic resin composition, thermoplastic resin film and method for producing the same, polarizing plate, optical compensation film, antireflection film, and liquid crystal display device
JP2008274136A (en) Cycloolefin resin film and polarizing plate, optical compensation film, antireflection film and liquid crystal display using the same
JP2010120304A (en) Norbornene resin film, method of manufacturing norbornene resin film, polarization plate, optical compensation film for liquid crystal display panel, and antireflection film
JP2008273059A (en) Cycloolefin resin film, its manufacturing method, and polarization plate, optical compensation film, antireflection film and liquid crystal display device using cycloolefin resin film
JP2008273057A (en) Cycloolefin resin film, and polarization plate, optical compensation film, antireflecting film using the resin film, and liquid crystal display device using those
JP2008272983A (en) Cycloolefin resin film, its manufacturing method, polarization plate, optical compensation film antireflection film and liquid crystal display device
JP2008274102A (en) Cycloolefin resin film, polarizing plate, optical compensation film, anti-reflection film, liquid crystal display, and method of manufacturing the cycloolefin resin film
JP2008307831A (en) Cyclic polyolefine type resin film and its manufacturing method