JP2006348114A - Saturated norbornene film, method for producing the same, polarlizing plate, optical compensation film, reflection-preventing film and liquid crystal-displaying device - Google Patents

Saturated norbornene film, method for producing the same, polarlizing plate, optical compensation film, reflection-preventing film and liquid crystal-displaying device Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a saturated norbornene film capable of suppressing the generation of color unevenness on building it in a liquid crystal displaying device and placing it under a high temperature and high humidity. <P>SOLUTION: This saturated norbornene film has 0-0.2% both of wet heat dimensional change (δL(w)) and dry heat dimensional change (δL(d)), and 0-10% all of their wet heat change (δRe(w)) and dry heat change (δRe(d)) of a retardation within its plane (Re), and wet heat change (δRth(w)) and dry heat change (δRth(d)) of the retardation in thickness direction (Rth). <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、高温高湿下においても安定な飽和ノルボルネンフィルムおよびその製造方法に関する。特に、液晶表示装置に組み込んで高温高湿下に置いた時に発生する色むらを抑えた飽和ノルボルネンフィルムおよびその製造方法に関する。さらに、本発明は当該飽和ノルボルネンフィルムを用いた偏光板、光学補償フィルム、反射防止フィルムおよび液晶表示装置にも関する。   The present invention relates to a saturated norbornene film that is stable even under high temperature and high humidity, and a method for producing the same. In particular, the present invention relates to a saturated norbornene film that suppresses color unevenness that occurs when it is incorporated in a liquid crystal display device and placed under high temperature and high humidity, and a method for producing the same. Furthermore, the present invention also relates to a polarizing plate, an optical compensation film, an antireflection film and a liquid crystal display device using the saturated norbornene film.

飽和ノルボルネンフィルムは、従来より液晶表示装置などに使用されている。使用に際しては、飽和ノルボルネンフィルムを延伸し、面内のレターデーション(Re)と厚み方向のレターデーション(Rth)を発現させ、例えば位相差膜として液晶表示装置の視野角拡大を図ることができるようにしている。このような飽和ノルボルネンフィルムを延伸する方法として、縦(長手)方向に延伸する方法(縦延伸)と横(幅)方向に延伸する方法(横延伸)、あるいは同時に縦、横方向に延伸する方法(同時延伸)が挙げられる。   Saturated norbornene films are conventionally used for liquid crystal display devices and the like. In use, the saturated norbornene film is stretched to develop in-plane retardation (Re) and thickness-direction retardation (Rth), so that the viewing angle of the liquid crystal display device can be increased as a retardation film, for example. I have to. As a method of stretching such a saturated norbornene film, a method of stretching in the longitudinal (longitudinal) direction (longitudinal stretching) and a method of stretching in the transverse (width) direction (transverse stretching), or a method of stretching in the longitudinal and lateral directions simultaneously. (Simultaneous stretching).

これらの内、縦延伸は設備がコンパクトなため、従来から多く用いられてきた。通常縦延伸は、2対以上のニップロールの間で、フィルムをガラス転移温度(Tg)以上に加熱し、入口側のニップロールの搬送速度より出口側の搬送速度を速くすることによって行われている。この機構を用いた縦延伸法の条件については改良が試みられており、例えば特許文献1には、延伸中の温度むらを小さくすることでReのばらつきを小さくすることが記載されている。
特開2001−42130号公報
Of these, longitudinal stretching has been conventionally used because of its compact equipment. Usually, the longitudinal stretching is performed by heating the film to a glass transition temperature (Tg) or more between two or more pairs of nip rolls, and increasing the conveyance speed on the outlet side from the conveyance speed of the nip roll on the inlet side. Improvements have been attempted in the conditions of the longitudinal stretching method using this mechanism. For example, Patent Document 1 describes that the variation in Re is reduced by reducing the temperature unevenness during stretching.
JP 2001-42130 A

しかし、この特許文献に記載されている方法で得られた延伸フィルムを液晶表示装置の位相差膜として使用すると、高温高湿下で経時後に液晶表示画面に色むらが発生するという問題があった。このような色むらは、液晶表示装置の価値を著しく損ねることから改良が望まれていた。   However, when the stretched film obtained by the method described in this patent document is used as a retardation film of a liquid crystal display device, there is a problem that color unevenness occurs on a liquid crystal display screen after a lapse of time under high temperature and high humidity. . Such color unevenness significantly deteriorates the value of the liquid crystal display device, so that improvement has been desired.

そこで本発明は、液晶表示装置に組み込んで高温高湿下に置いた時に色むらの発生を抑えることができる飽和ノルボルネンフィルムを提供することを目的とした。また、そのような性質を有する飽和ノルボルネンフィルムを簡便に製造する方法を提供することも目的とした。さらに、液晶表示装置に組み込んで高温高湿下に置いた時に色むらの発生を抑えることができる偏光板、光学補償フィルムおよび反射防止フィルムを提供すること、および高温高湿下に置いた時に色むらの発生が抑えられている液晶表示装置を提供することを目的とした。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a saturated norbornene film that can suppress the occurrence of color unevenness when it is incorporated in a liquid crystal display device and placed under high temperature and high humidity. Another object of the present invention is to provide a method for easily producing a saturated norbornene film having such properties. Furthermore, the present invention provides a polarizing plate, an optical compensation film, and an antireflection film that can suppress the occurrence of uneven color when incorporated in a liquid crystal display device and placed under high temperature and high humidity, and color when placed under high temperature and high humidity. An object of the present invention is to provide a liquid crystal display device in which the occurrence of unevenness is suppressed.

本発明者は、飽和ノルボルネンを延伸した位相差板を液晶表示装置に組み込んだ後、高温高湿下に置いたときに発生する色むらの原因を解析した結果、湿熱寸法変化(δL(w))、乾熱寸法変化(δL(d))および、面内のレターデーション(Re)の湿熱変化(δRe(w))、乾熱変化(δRe(d))、および厚み方向のレターデーション(Rth)の湿熱変化(δRth(w))、乾熱変化(δRth(d))に起因することを見い出し、以下に記載する本発明を提供するに至った。
[1] 湿熱寸法変化(δL(w))および乾熱寸法変化(δL(d))がいずれも0%〜0.2%であり、面内のレターデーション(Re)の湿熱変化(δRe(w))および乾熱変化(δRe(d))がいずれも0%〜10%であり、かつ厚み方向のレターデーション(Rth)の湿熱変化(δRth(w))および乾熱変化(δRth(d))がいずれも0%〜10%であることを特徴とする飽和ノルボルネンフィルム。
[2] 微細レターデーションむらが0%〜10%であることを特徴とする[1]に記載の飽和ノルボルネンフィルム。
[3] Reが0nm〜300nmであって、Rthが30nm〜500nmであることを特徴とする[1]または[2]に記載の飽和ノルボルネンフィルム。
[4] 飽和ノルボルネン樹脂に対して微粒子を1質量ppm〜10,000質量ppm含有することを特徴とする[1]〜[3]のいずれか一項に記載の飽和ノルボルネンフィルム。
[5] 残留溶剤量が0.01質量%以下であることを特徴とする[1]〜[4]のいずれか一項に記載の飽和ノルボルネンフィルム。
The present inventor has analyzed the cause of color unevenness that occurs when a retardation plate in which saturated norbornene is stretched is incorporated in a liquid crystal display device and then placed under high temperature and high humidity. ), Dry heat dimensional change (δL (d)), in-plane retardation (Re) wet heat change (δRe (w)), dry heat change (δRe (d)), and thickness direction retardation (Rth). ) Due to a wet heat change (δRth (w)) and a dry heat change (δRth (d)), the present invention described below has been provided.
[1] The wet heat dimensional change (δL (w)) and the dry heat dimensional change (δL (d)) are both 0% to 0.2%, and the wet heat change of the in-plane retardation (Re) (δRe ( w)) and dry heat change (δRe (d)) are both 0% to 10%, and the wet heat change (δRth (w)) and dry heat change (δRth (d) of retardation (Rth) in the thickness direction. )) Is a saturated norbornene film characterized in that all are from 0% to 10%.
[2] The saturated norbornene film according to [1], wherein the fine retardation unevenness is 0% to 10%.
[3] The saturated norbornene film according to [1] or [2], wherein Re is 0 nm to 300 nm and Rth is 30 nm to 500 nm.
[4] The saturated norbornene film according to any one of [1] to [3], which contains 1 mass ppm to 10,000 mass ppm of fine particles with respect to the saturated norbornene resin.
[5] The saturated norbornene film according to any one of [1] to [4], wherein the residual solvent amount is 0.01% by mass or less.

[6] 湿熱寸法変化(δL(w))および乾熱寸法変化(δL(d))がいずれも0%〜0.2%であり、面内のレターデーション(Re)の湿熱変化(δRe(w))および乾熱変化(δRe(d))がいずれも0%〜10%であり、かつ厚み方向のレターデーション(Rth)の湿熱変化(δRth(w))および乾熱変化(δRth(d))がいずれも0%〜10%である飽和ノルボルネンフィルムの製造方法であって、
飽和ノルボルネンを製膜した後、延伸前のフィルムの幅(W)と延伸間隔(L)の比である縦/横比(L/W)が0.01を越え0.3未満の条件下で1%〜300%に縦延伸し、さらに縦方向に1%〜50%緩和する工程を有することを特徴とする飽和ノルボルネンフィルムの製造方法。
[7] 前記縦延伸を、2対のニップロールの間を飽和ノルボルネンフィルムを斜めに通して行うことを特徴とする、[6]に記載の飽和ノルボルネンフィルムの製造方法。
[8] 前記縦方向の緩和を行った後に横延伸を行うことを特徴とする[6]または[7]に記載の飽和ノルボルネンフィルムの製造方法。
[9] 前記横延伸をテンターを用いて1%〜250%の延伸倍率で行うことを特徴とする[8]に記載の飽和ノルボルネンフィルムの製造方法。
[10] 前記横延伸を行った後、横方向に1%〜50%緩和することを特徴とする[8]または[9]に記載の飽和ノルボルネンフィルムの製造方法。
[11] 前記飽和ノルボルネンの製膜を溶融製膜法により行うことを特徴とする[6]〜[10]のいずれか一項に記載の飽和ノルボルネンフィルムの製造方法。
[12] [6]〜[11]のいずれか一項に記載の製造方法により製造される飽和ノルボルネンフィルム。
[6] The wet heat dimensional change (δL (w)) and the dry heat dimensional change (δL (d)) are both 0% to 0.2%, and the wet heat change of the in-plane retardation (Re) (δRe ( w)) and dry heat change (δRe (d)) are both 0% to 10%, and the wet heat change (δRth (w)) and dry heat change (δRth (d) of retardation (Rth) in the thickness direction. )) Is a method for producing a saturated norbornene film in which all are 0% to 10%,
After film formation of saturated norbornene, the length / width ratio (L / W), which is the ratio between the width (W) of the film before stretching and the stretching interval (L), exceeds 0.01 and is less than 0.3. A method for producing a saturated norbornene film, characterized by comprising a step of longitudinally stretching 1% to 300% and further relaxing 1% to 50% in the longitudinal direction.
[7] The method for producing a saturated norbornene film according to [6], wherein the longitudinal stretching is performed by passing a saturated norbornene film obliquely between two pairs of nip rolls.
[8] The method for producing a saturated norbornene film according to [6] or [7], wherein lateral stretching is performed after the longitudinal relaxation.
[9] The method for producing a saturated norbornene film according to [8], wherein the transverse stretching is performed at a stretch ratio of 1% to 250% using a tenter.
[10] The method for producing a saturated norbornene film according to [8] or [9], wherein after the transverse stretching, the relaxation is performed in the transverse direction by 1% to 50%.
[11] The method for producing a saturated norbornene film according to any one of [6] to [10], wherein the saturated norbornene film is formed by a melt film forming method.
[12] A saturated norbornene film produced by the production method according to any one of [6] to [11].

[13] 偏光膜に、[1]〜[5]および[12]のいずれか一項に記載の飽和ノルボルネンフィルムを少なくとも1層積層したことを特徴とする偏光板。
[14] [1]〜[5]および[12]のいずれか一項に記載の飽和ノルボルネンフィルムを基材に用いた光学補償フィルム。
[15] [1]〜[5]および[12]のいずれか一項に記載の飽和ノルボルネンフィルムを基材に用いた反射防止フィルム。
[16] [1]〜[5]および[12]のいずれか一項に記載の飽和ノルボルネンフィルムを用いた液晶表示装置。
[13] A polarizing plate, wherein at least one layer of the saturated norbornene film according to any one of [1] to [5] and [12] is laminated on a polarizing film.
[14] An optical compensation film using the saturated norbornene film according to any one of [1] to [5] and [12] as a base material.
[15] An antireflection film using the saturated norbornene film according to any one of [1] to [5] and [12] as a base material.
[16] A liquid crystal display device using the saturated norbornene film according to any one of [1] to [5] and [12].

本発明の飽和ノルボルネンフィルムは、液晶表示装置に組み込んで高温高湿下に置いても色むらの発生を抑えることができる。また、本発明の製造方法によれば、そのような性質を有する飽和ノルボルネンフィルムを効率よく製造することができる。さらに、本発明の偏光板、光学補償フィルム、反射防止フィルムおよび液晶表示装置は、高温高湿下においても優れた機能を示すことができる。   The saturated norbornene film of the present invention can suppress the occurrence of color unevenness even when it is incorporated in a liquid crystal display device and placed under high temperature and high humidity. Moreover, according to the manufacturing method of this invention, the saturated norbornene film which has such a property can be manufactured efficiently. Furthermore, the polarizing plate, the optical compensation film, the antireflection film, and the liquid crystal display device of the present invention can exhibit excellent functions even under high temperature and high humidity.

発明の詳細な説明Detailed Description of the Invention

以下において、本発明の飽和ノルボルネンフィルム等について詳細に説明する。以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。   Hereinafter, the saturated norbornene film of the present invention will be described in detail. The description of the constituent elements described below may be made based on typical embodiments of the present invention, but the present invention is not limited to such embodiments. In the present specification, a numerical range represented by using “to” means a range including numerical values described before and after “to” as a lower limit value and an upper limit value.

<飽和ノルボルネンフィルム>
《特徴》
本発明の飽和ノルボルネンフィルムは、湿熱寸法変化(δL(w))および乾熱寸法変化(δL(d))がいずれも0%〜0.2%であり、面内のレターデーション(Re)の湿熱変化(δRe(w))および乾熱変化(δRe(d))がいずれも0%〜10%であり、かつ厚み方向のレターデーション(Rth)の湿熱変化(δRth(w))および乾熱変化(δRth(d))がいずれも0%〜10%であることを特徴とする。
<Saturated norbornene film>
"Characteristic"
The saturated norbornene film of the present invention has a wet heat dimensional change (δL (w)) and a dry heat dimensional change (δL (d)) both of 0% to 0.2%, and has an in-plane retardation (Re) of The wet heat change (δRe (w)) and the dry heat change (δRe (d)) are both 0% to 10%, and the wet heat change (δRth (w)) and dry heat of the retardation (Rth) in the thickness direction. Any change (δRth (d)) is 0% to 10%.

(δL(w)およびδL(d))
本発明でいうδL(w)とは、60℃・相対湿度90%で500時間経時前後の寸法変化であり、本発明でいうδL(d)とは、80℃ドライで500時間経時前後の寸法変化である。好ましいδL(w)、δL(d)はそれぞれ独立に0%〜0.2%であり、より好ましくは0%〜0.15%であり、さらに好ましくは0%〜0.1%である。より望ましくは、δL(w)およびδL(d)がともに0%〜0.2%であり、より好ましくは0%〜0.15%であり、さらに好ましくは0%〜0.1%である。
(ΔL (w) and δL (d))
ΔL (w) in the present invention is a dimensional change before and after 500 hours at 60 ° C. and 90% relative humidity, and δL (d) in the present invention is a dimension before and after 500 hours of dry at 80 ° C. It is a change. Preferred δL (w) and δL (d) are each independently 0% to 0.2%, more preferably 0% to 0.15%, and further preferably 0% to 0.1%. More desirably, both δL (w) and δL (d) are 0% to 0.2%, more preferably 0% to 0.15%, and still more preferably 0% to 0.1%. .

ロールフィルムにおいては、δL(w)は下記式で示される幅(TD)方向の寸法変化(δTD(w))と長手(MD)方向の寸法変化(δMD(w))のうち大きい方の値を指す。
δTD(w)(%)=100×|TD(F)−TD(t)|/TD(F)
δMD(w)(%)=100×|MD(F)−MD(t)|/MD(F)
(TD(F)、MD(F)は25℃・相対湿度60%で5時間以上放置後にその雰囲気で測定したサーモ処理前の寸法を指し、TD(t)、MD(t)はサーモ処理(60℃・相対湿度90%で500時間経時)後に25℃・相対湿度60%で5時間以上放置後その雰囲気で測定した寸法を指す)
ロールフィルムにおいては、δL(d)は下記式で示される幅(TD)方向の寸法変化(δTD(d))と長手(MD)方向の寸法変化(δMD(d))のうち大きい方の値を指す。ここでいうドライとは相対湿度が10%以下の状態を指す。
δTD(d)(%)=100×|TD(F)−TD(T)|/TD(F)
δMD(d)(%)=100×|MD(F)−MD(T)|/MD(F)
(TD(F)、MD(F)は25℃・相対湿度60%で5時間以上放置後にその雰囲気で測定したサーモ処理前の寸法を指し、TD(T)、MD(T)はサーモ処理(80℃ドライで500時間経時)後に25℃・相対湿度60%で5時間以上放置後その雰囲気で測定した寸法を指す)
In the roll film, δL (w) is the larger value of the dimensional change in the width (TD) direction (δTD (w)) and the dimensional change in the longitudinal direction (MD) (δMD (w)) represented by the following formula. Point to.
δTD (w) (%) = 100 × | TD (F) −TD (t) | / TD (F)
δMD (w) (%) = 100 × | MD (F) −MD (t) | / MD (F)
(TD (F) and MD (F) are the dimensions before thermo treatment measured in the atmosphere after being left for 5 hours or more at 25 ° C. and 60% relative humidity. TD (t) and MD (t) are thermo treatment ( (Dimensions measured in the atmosphere after standing for 5 hours at 25 ° C and 60% RH)
In the roll film, δL (d) is the larger value of the dimensional change in the width (TD) direction (δTD (d)) and the dimensional change in the longitudinal direction (MD) (δMD (d)) represented by the following formula. Point to. Dry here refers to a state where the relative humidity is 10% or less.
δTD (d) (%) = 100 × | TD (F) −TD (T) | / TD (F)
δMD (d) (%) = 100 × | MD (F) −MD (T) | / MD (F)
(TD (F) and MD (F) are the dimensions before thermo-treatment measured in the atmosphere after being left for 5 hours or more at 25 ° C. and 60% relative humidity. TD (T) and MD (T) are thermo-treatment ( (Dimensions measured in the atmosphere after standing for 5 hours at 25 ° C and 60% relative humidity)

一方、ロールから切り出す等して得られるシートフィルムにおいては、δL(w)は下記式で示される面内の遅相軸に直交する方向(FD)方向の寸法変化(δFD(w))と面内の遅相軸(SD)方向の寸法変化(δSD(w))のうち大きい方の値を指す。
δFD(w)(%)=100×|FD(F)−FD(t)|/FD(F)
δSD(w)(%)=100×|SD(F)−SD(t)|/SD(F)
(FD(F)、SD(F)は25℃・相対湿度60%で5時間以上放置後にその雰囲気で測定したサーモ処理前の寸法を指し、FD(t)、SD(t)はサーモ処理(60℃・相対湿度90%で500時間経時)後に25℃・相対湿度60%で5時間以上放置後その雰囲気で測定した寸法を指す)
また、シートフィルムにおいては、δL(d)は下記式で示される面内の遅相軸に直交する方向(FD)方向の寸法変化(δFD(d))と面内の遅相軸(SD)方向の寸法変化(δSD(d))のうち大きい方の値を指す。なお、ドライとは相対湿度が10%以下の状態を指す。
δFD(d)(%)=100×|FD(F)−FD(T)|/FD(F)
δSD(d)(%)=100×|SD(F)−SD(T)|/SD(F)
(FD(F)、SD(F)は25℃・相対湿度60%で5時間以上放置後にその雰囲気で測定したサーモ処理前の寸法を指し、FD(T)、SD(T)はサーモ処理(80℃ドライで500時間経時)後に25℃・相対湿度60%で5時間以上放置後その雰囲気で測定した寸法を指す)
On the other hand, in a sheet film obtained by cutting from a roll or the like, δL (w) is a dimensional change (δFD (w)) and surface in a direction (FD) direction perpendicular to the in-plane slow axis represented by the following formula. The larger one of the dimensional changes (δSD (w)) in the slow axis (SD) direction.
δFD (w) (%) = 100 × | FD (F) −FD (t) | / FD (F)
δSD (w) (%) = 100 × | SD (F) −SD (t) | / SD (F)
(FD (F) and SD (F) are the dimensions before thermo treatment measured in the atmosphere after being left at 25 ° C. and 60% relative humidity for 5 hours or more, and FD (t) and SD (t) are thermo treatment ( (Dimensions measured in the atmosphere after standing for 5 hours at 25 ° C and 60% RH)
In the sheet film, δL (d) is a dimensional change (δFD (d)) in a direction (FD) orthogonal to the in-plane slow axis and the in-plane slow axis (SD) represented by the following formula. It indicates the larger value of the dimensional change (δSD (d)) in the direction. Dry means a state where the relative humidity is 10% or less.
δFD (d) (%) = 100 × | FD (F) −FD (T) | / FD (F)
δSD (d) (%) = 100 × | SD (F) −SD (T) | / SD (F)
(FD (F) and SD (F) are the dimensions before thermo-treatment measured in the atmosphere after standing at 25 ° C. and 60% relative humidity for 5 hours or longer. FD (T) and SD (T) are thermo-treatment ( (Dimensions measured in the atmosphere after standing for 5 hours at 25 ° C and 60% relative humidity)

(δRe(w)、δRe(d)、δRth(w)およびδRth(d))
本発明でいうδRe(d)、δRth(d)とは、80℃ドライで500時間経時前後のRe,Rth変化であり、下記式で示される。なお、ドライとは相対湿度が10%以下の状態を指す。
δRe(d)(%)=100×|Re(F)−Re(T)|/Re(F)
δRth(d)(%)=100×|Rth(F)−Rth(T)|/Rth(F)
(Re(F)、Rth(F)は80℃ドライで500時間経時前のRe、Rthを指し、Re(T)、Rth(T)は80℃ドライで500時間経時後のRe、Rthを指す)
本発明でいうδRe(w)、δRth(w)とは、60℃・相対湿度90%で500時間経時前後のRe,Rth変化であり、下記式で示される。
δRe(w)(%)=100×|Re(F)−Re(t)|/Re(F)
δRth(w)(%)=100×|Rth(F)−Rth(t)|/Rth(F)
(Re(F)、Rth(F)は60℃・相対湿度90%で500時間経時前のRe、Rthを指し、Re(t)、Rth(t)は60℃・相対湿度90%で500時間経時後のRe、Rthを指す)
(ΔRe (w), δRe (d), δRth (w) and δRth (d))
In the present invention, δRe (d) and δRth (d) are Re and Rth changes before and after 500 hours of dryness at 80 ° C., and are represented by the following equations. Dry means a state where the relative humidity is 10% or less.
δRe (d) (%) = 100 × | Re (F) −Re (T) | / Re (F)
δRth (d) (%) = 100 × | Rth (F) −Rth (T) | / Rth (F)
(Re (F) and Rth (F) refer to Re and Rth before aging for 500 hours after drying at 80 ° C., and Re (T) and Rth (T) refer to Re and Rth after aging for 500 hours after drying at 80 ° C. )
ΔRe (w) and δRth (w) in the present invention are Re and Rth changes before and after 500 hours at 60 ° C. and 90% relative humidity, and are represented by the following equations.
δRe (w) (%) = 100 × | Re (F) −Re (t) | / Re (F)
δRth (w) (%) = 100 × | Rth (F) −Rth (t) | / Rth (F)
(Re (F) and Rth (F) indicate Re and Rth before 60 hours at 60 ° C. and 90% relative humidity, and Re (t) and Rth (t) are 500 hours at 60 ° C. and 90% relative humidity. Re and Rth after time)

δRe(w)、δRe(d)、δRth(w)、δRth(d)は、それぞれ独立に0%〜10%であることが好ましく、より好ましくは0%〜5%であり、さらに好ましくは0%〜2%である。より望ましくは、δRe(w)、δRe(d)、δRth(w)およびδRth(d)のすべてが、0%〜10%であることが好ましく、より好ましくは0%〜5%であり、さらに好ましくは0%〜2%である。   δRe (w), δRe (d), δRth (w), and δRth (d) are each independently preferably 0% to 10%, more preferably 0% to 5%, and even more preferably 0. % To 2%. More desirably, δRe (w), δRe (d), δRth (w) and δRth (d) are all preferably 0% to 10%, more preferably 0% to 5%, Preferably, it is 0% to 2%.

(微細レターデーションむら)
さらに本発明では微細レターデーションむらが好ましくは0%〜10%、より好ましくは0%〜8%、さらに好ましくは0%〜5%であり、これにより色むらを低減できる。このような微細レターデーションむらは従来あまり問題視されなかったが、液晶表示装置の高解像度化に伴い問題となってきた。
ここでいう微細レターデーションむらとは、1mm以内の微小領域で発生するレターデーションの変化を指し、以下の方法で測定される。すなわち、ロールフィルムの場合は、幅方向(TD)と長手方向(MD)にそれぞれ1mmの長さをとり、その間を0.1mmピッチで面内のレターデーション(Re)を測定し、その最大値と最小値の差を平均値で割って百分率で示し、MDの百分率とTDの百分率のうち大きいものを微細レターデーションむらとする。また、シートフィルムの場合は、面内の遅相軸方向(SD)と面内の遅相軸に直交する方向(FD)に0.1mmピッチで各10点ずつ面内のレターデーション(Re)を測定し、その最大値と最小値の差を平均値で割って百分率で示し、SDの百分率とFDの百分率のうち大きいものを微細レターデーションむらとする。
(Fine retardation unevenness)
Further, in the present invention, the fine retardation unevenness is preferably 0% to 10%, more preferably 0% to 8%, still more preferably 0% to 5%, and thereby the color unevenness can be reduced. Such fine retardation unevenness has not been regarded as a problem in the past, but has become a problem as the resolution of liquid crystal display devices is increased.
The fine retardation unevenness referred to here refers to a change in retardation occurring in a minute region within 1 mm, and is measured by the following method. That is, in the case of a roll film, the length (TD) and the longitudinal direction (MD) each have a length of 1 mm, and the in-plane retardation (Re) is measured at a pitch of 0.1 mm between the maximum value. And the minimum value is divided by the average value and expressed as a percentage, and the larger of the MD percentage and the TD percentage is defined as fine retardation unevenness. In the case of a sheet film, the in-plane retardation (Re) is 10 points at a 0.1 mm pitch in the in-plane slow axis direction (SD) and in the direction perpendicular to the in-plane slow axis (FD). The difference between the maximum value and the minimum value is divided by the average value and expressed as a percentage, and the larger of the SD percentage and the FD percentage is defined as fine retardation unevenness.

本発明の飽和ノルボルネンフィルムの面内のレターデーション(Re)は0nm〜300nmが好ましく、より好ましくは20nm〜200nm、さらに好ましくは40nm〜150nmである。さらに厚み方向のレターデーション(Rth)は30nm〜500nmが好ましく、より好ましくは50nm〜400nm、さらに好ましくは100nm〜300nmである。さらに、Re≦Rthを満足するものがより好ましく、Re×2≦Rthを満足するものがさらに好ましい。   The in-plane retardation (Re) of the saturated norbornene film of the present invention is preferably 0 nm to 300 nm, more preferably 20 nm to 200 nm, still more preferably 40 nm to 150 nm. Further, the thickness direction retardation (Rth) is preferably 30 nm to 500 nm, more preferably 50 nm to 400 nm, and still more preferably 100 nm to 300 nm. Furthermore, those satisfying Re ≦ Rth are more preferable, and those satisfying Re × 2 ≦ Rth are more preferable.

なお本発明において、Re、Rthは各々、波長λにおける面内のレターデーションおよび厚さ方向のレターデーションを表す。ReはKOBRA 21ADH(王子計測機器(株)製)において波長λnmの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。Rthは前記Re、面内の遅相軸(KOBRA 21ADHにより判断される)を傾斜軸(回転軸)としてフィルム法線方向に対して+40°傾斜した方向から波長λnmの光を入射させて測定したレターデーション値、および面内の遅相軸を傾斜軸(回転軸)としてフィルム法線方向に対して−40°傾斜した方向から波長λnmの光を入射させて測定したレターデーション値等の計3つ以上の方向で測定したレターデーション値を基にKOBRA 21ADHが算出する。ここで平均屈折率の仮定値は ポリマーハンドブック(JOHN WILEY&SONS,INC)、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する:セルロースアシレート(1.48)、シクロオレフィンポリマー(1.52)、ポリカーボネート(1.59)、ポリメチルメタクリレート(1.49)、ポリスチレン(1.59)である。   In the present invention, Re and Rth represent in-plane retardation and retardation in the thickness direction at a wavelength λ, respectively. Re is measured with KOBRA 21ADH (manufactured by Oji Scientific Instruments Co., Ltd.) by making light having a wavelength of λ nm incident in the normal direction of the film. Rth was measured by making light having a wavelength λ nm incident from a direction inclined + 40 ° with respect to the film normal direction with the Re, in-plane slow axis (determined by KOBRA 21ADH) as the tilt axis (rotation axis). Retardation value and retardation value measured by making light of wavelength λ nm incident from a direction inclined by −40 ° with respect to the film normal direction with the in-plane slow axis as the tilt axis (rotation axis) 3 in total KOBRA 21ADH is calculated based on retardation values measured in two or more directions. Here, as the assumed value of the average refractive index, the values in the polymer handbook (JOHN WILEY & SONS, INC) and catalogs of various optical films can be used. Those whose average refractive index is not known can be measured with an Abbe refractometer. The average refractive index values of main optical films are exemplified below: cellulose acylate (1.48), cycloolefin polymer (1.52), polycarbonate (1.59), polymethyl methacrylate (1.49), Polystyrene (1.59).

《達成手段》
本発明の上記特徴を有する飽和ノルボルネンフィルムの製造方法は特に制限されない。例えば、下記の(1)〜(3)を適宜選択して組み合わせることにより上記特徴を有する飽和ノルボルネンフィルムを製造することができる。特に、下記の(1)および(2)を必須とする本発明の製造方法によれば、上記特徴を有する飽和ノルボルネンフィルムを簡便に製造することができる。
"Achievement means"
The method for producing a saturated norbornene film having the above features of the present invention is not particularly limited. For example, a saturated norbornene film having the above characteristics can be produced by appropriately selecting and combining the following (1) to (3). In particular, according to the production method of the present invention in which the following (1) and (2) are essential, a saturated norbornene film having the above characteristics can be produced easily.

(1)縦/横比
本発明の製造方法では、製膜後の飽和ノルボルネンフィルムを、縦/横比(延伸前のフィルムの幅(W)に対する延伸に用いる延伸間隔(L)の比:L/W)が0.01を越え0.3未満の条件下で縦延伸する。縦/横比は、より好ましくは0.03〜0.25、さらに好ましくは0.05〜0.2である。縦延伸は通常2対のニップロール間で周速を与えて延伸するが、このように縦/横比が小さいということは、フィルムが延伸される長さが短いことを意味し、フィルムは短時間で急速に延伸されることになる。急速に延伸されるためより配向を強くすることができ、配向緩和により引き起こされる上述のδL(w)、δL(d)、δRe(w)、δRe(d)、δRth(w)、δRth(d)を小さくすることができる。なお、従来は縦/横比(L/W)が1前後(0.7〜1.5)のロール間隔で実施されるのが一般的であった。
このような縦/横比の小さい延伸を実施するためには、図1に示すように、第一のニップロール1a,1bと第二のニップロール2a,2bとの間でセルロースアシレートフィルムを斜めに通して延伸することが好ましい(図中フィルムは矢印の方向に搬送される)。延伸は、フィルムが第一のニップロールから離れて、第二のニップロールに接するまでの間の空間で行われる。このため、ニップロールとフィルムの接点間距離(すなわち、延伸間隔L)を小さくするためには、図1に示すようにニップロール間にフィルムを斜めに通すことが好ましい。本明細書において「斜めに通す」とは、ニップロール1a、1bに入るフィルムと、ニップロール1a、1bとニップロール2a、2b間のフィルムのなす角(θ1)、ニップロール1a、1bとニップロール2a、2b間のフィルムとニップロール2a、2bから出るフィルムのなす角(θ2)の少なくとも一方が0°ではないことをいう。θ1,θ2の好ましい角度は1°〜85°であり、より好ましくは2°〜60°、さらに好ましくは3°〜40°である。通常は、図2に示すように、第一のニップロール1a,1bと第二のニップロール2a,2bの間でθ1,θ2とも0°で延伸するため、Lをニップロールの直径以下に小さくすることができない。
(1) Aspect / Aspect Ratio In the production method of the present invention, the saturated norbornene film after film formation is subjected to an aspect ratio (ratio of stretch interval (L) used for stretching relative to the width (W) of the film before stretching: L / W) is stretched longitudinally under the condition of more than 0.01 and less than 0.3. The aspect ratio is more preferably 0.03 to 0.25, still more preferably 0.05 to 0.2. Longitudinal stretching is usually performed by giving a peripheral speed between two pairs of nip rolls, but such a small aspect ratio means that the length of the film to be stretched is short, and the film has a short time. Will be stretched rapidly. Since the film is stretched rapidly, the orientation can be strengthened, and the above-described δL (w), δL (d), δRe (w), δRe (d), δRth (w), δRth (d ) Can be reduced. Conventionally, it has been generally performed with a roll interval having an aspect ratio (L / W) of around 1 (0.7 to 1.5).
In order to perform such stretching with a small aspect ratio, as shown in FIG. 1, the cellulose acylate film is slanted between the first nip rolls 1a and 1b and the second nip rolls 2a and 2b. The film is preferably stretched through (in the figure, the film is conveyed in the direction of the arrow). Stretching is performed in the space between the time when the film leaves the first nip roll and contacts the second nip roll. For this reason, in order to reduce the distance between the contact points of the nip roll and the film (that is, the stretching interval L), it is preferable to pass the film diagonally between the nip rolls as shown in FIG. In this specification, “passing obliquely” means an angle (θ1) formed by the film entering the nip rolls 1a and 1b and the film between the nip rolls 1a and 1b and the nip rolls 2a and 2b, and between the nip rolls 1a and 1b and the nip rolls 2a and 2b. This means that at least one of the angles (θ2) formed by the film and the film exiting from the nip rolls 2a and 2b is not 0 °. A preferable angle of θ1 and θ2 is 1 ° to 85 °, more preferably 2 ° to 60 °, and further preferably 3 ° to 40 °. Normally, as shown in FIG. 2, since θ1 and θ2 are stretched at 0 ° between the first nip rolls 1a and 1b and the second nip rolls 2a and 2b, L can be made smaller than the diameter of the nip roll. Can not.

さらに、上述のように急速に延伸するためには延伸速度は速い方が好ましく、好ましい延伸速度は10m/分〜100m/分、より好ましくは20m/分〜80m/分、さらに好ましくは30m/分〜60m/分である。ここでいう延伸速度とは、延伸前のフィルムが延伸工程の最初のニップロールによって搬送される速度をいう。
このような縦延伸は、フィルムのガラス転移温度(Tg)〜(Tg+50℃)で実施するのが好ましく、より好ましくは(Tg+5℃)〜(Tg+40℃)、さらに好ましくは(Tg+8℃)〜(Tg+30℃)である。好ましい縦延伸倍率は1%〜300%、より好ましくは3%〜200%、さらに好ましくは5%〜150%である。なおここでいう延伸倍率は以下の式によって求めた値である。
延伸倍率(%)=100×(延伸後の長さ−延伸前の長さ)/(延伸前の長さ)
Further, in order to stretch rapidly as described above, the stretching speed is preferably high, and the preferable stretching speed is 10 m / min to 100 m / min, more preferably 20 m / min to 80 m / min, and further preferably 30 m / min. ~ 60 m / min. The stretching speed here refers to the speed at which the film before stretching is conveyed by the first nip roll in the stretching process.
Such longitudinal stretching is preferably carried out at the glass transition temperature (Tg) to (Tg + 50 ° C.) of the film, more preferably (Tg + 5 ° C.) to (Tg + 40 ° C.), and even more preferably (Tg + 8 ° C.) to (Tg + 30). ° C). A preferred longitudinal stretching ratio is 1% to 300%, more preferably 3% to 200%, and still more preferably 5% to 150%. In addition, the draw ratio here is the value calculated | required by the following formula | equation.
Stretch ratio (%) = 100 × (length after stretching−length before stretching) / (length before stretching)

なお、飽和ノルボルネンフィルムのTgは80℃〜200℃が好ましく、より好ましくは100℃〜190℃、さらに好ましくは120℃〜180℃である。ここでいう飽和ノルボルネンフィルムのTgとは飽和ノルボルネン単体ではなく、添加剤等全て添加した後のフィルムのTgを指す。   The Tg of the saturated norbornene film is preferably 80 ° C to 200 ° C, more preferably 100 ° C to 190 ° C, and further preferably 120 ° C to 180 ° C. The Tg of the saturated norbornene film here refers to the Tg of the film after all the additives and the like are added, not a saturated norbornene simple substance.

(2)縦緩和
本発明の製造方法では、縦延伸後に、縦方向に1%〜50%、より好ましくは1%〜30%、さらに好ましくは1%〜15%緩和する。この縦緩和は縦延伸後、横延伸の前に行うことがより好ましく、さらに縦延伸直後に実施するのが好ましい。縦緩和は、縦延伸後の搬送ロールの速度を遅くすることにより実施することができる。例えば図1の装置では、搬送ロール3の速度を第2のニップロール2a,2bよりも遅くすることによって縦緩和を実施することができる。上記の緩和率を達成するためには、搬送ロール3の速度を例えば下記のように遅くすればよい。即ち延伸倍率Z(%)、緩和率Y(%)の場合、入口側ニップロール1a,1bの搬送速度をV(m/分)とすると、出口側ニップロール2a,2bの搬送速度はV×(100+Z)/100となり、出口ニップロールの後に設けた搬送ロール3の速度をV×{100+(Z−Y)}/100とすればよい。
縦緩和の好ましい温度は、(Tg−20℃)〜(Tg+50℃)、より好ましくは(Tg−15℃)〜(Tg+40℃)、さらに好ましくは(Tg−10℃)〜(Tg+30℃)である。なお、ここでいう「緩和率」とは緩和する長さを延伸前の寸法で割った値を指す。すなわち、延伸前のフィルム長が100cmであるとき、フィルムを30%縦延伸すればフィルム長は130cmとなり、さらに緩和率10%で緩和すればフィルム長は120cmとなる。
このような縦緩和を行うことにより、延伸によるフィルム内部に残留する歪を効率的に開放することができ、δL(w)、δL(d)、およびδRe(w)、δRe(d)、δRth(w)、δRth(d)を小さくすることができる。
(2) Longitudinal relaxation In the production method of the present invention, after the longitudinal stretching, 1% to 50%, more preferably 1% to 30%, and further preferably 1% to 15% are relaxed in the longitudinal direction. This longitudinal relaxation is more preferably performed after the longitudinal stretching and before the lateral stretching, and more preferably immediately after the longitudinal stretching. Longitudinal relaxation can be carried out by slowing the speed of the transport roll after longitudinal stretching. For example, in the apparatus of FIG. 1, longitudinal relaxation can be performed by making the speed of the transport roll 3 slower than that of the second nip rolls 2a and 2b. In order to achieve the above-described relaxation rate, the speed of the transport roll 3 may be reduced as follows, for example. That is, when the draw ratio Z (%) and the relaxation rate Y (%) are V (m / min), the conveyance speed of the outlet nip rolls 2a and 2b is V × (100 + Z). ) / 100, and the speed of the transport roll 3 provided after the outlet nip roll may be V × {100+ (Z−Y)} / 100.
A preferable temperature for longitudinal relaxation is (Tg-20 ° C) to (Tg + 50 ° C), more preferably (Tg-15 ° C) to (Tg + 40 ° C), and further preferably (Tg-10 ° C) to (Tg + 30 ° C). . The “relaxation rate” here refers to a value obtained by dividing the length to be relaxed by the dimension before stretching. That is, when the film length before stretching is 100 cm, the film length becomes 130 cm if the film is longitudinally stretched by 30%, and if it is relaxed at a relaxation rate of 10%, the film length becomes 120 cm.
By performing such longitudinal relaxation, strain remaining in the film due to stretching can be efficiently released, and δL (w), δL (d), δRe (w), δRe (d), δRth (W) and δRth (d) can be reduced.

本発明の製造方法にしたがって、上記(1)の急速な延伸と(2)の縦緩和を実施することにより、得られる飽和ノルボルネンフィルムの微細レターデーションむらも軽減することができる。即ち、縦横比を大きくして延伸長を長くとって延伸すると、厚みが薄くて延伸され易いところから順に延伸されるため微細レターデーションむらが発現し易いが、本発明にしたがって縦/横比を小さくして急激に延伸すれば延伸むらに起因する微細レターデーションむらを低減することができる。さらに、本発明にしたがって縦緩和を行えば、残留歪の開放により微細レターデーションむらも小さくすることができる。即ち、より延伸された部分が緩和され、延伸むらに起因する微細レターデーションむらを小さくすることができる。   By carrying out the rapid stretching of (1) and the longitudinal relaxation of (2) according to the production method of the present invention, the fine retardation unevenness of the obtained saturated norbornene film can be reduced. That is, when the aspect ratio is increased and the stretching length is increased, the film is stretched in order from the thin thickness and easily stretched, so that fine retardation unevenness is easily developed. If it is made small and stretched rapidly, fine retardation unevenness due to stretching unevenness can be reduced. Furthermore, if longitudinal relaxation is performed according to the present invention, unevenness in fine retardation can be reduced by releasing residual strain. That is, the more stretched portion is relaxed, and the fine retardation unevenness caused by the stretch unevenness can be reduced.

(3)微粒子
本発明の製造方法では、飽和ノルボルネン樹脂に対して微粒子を1質量ppm〜10,000質量ppm含有させて飽和ノルボルネンフィルムを製造することが好ましい。より好ましい含有量は5質量ppm〜7,000質量ppmであり、さらに好ましい含有量は10質量ppm〜5,000質量ppmである。
本発明では、易滑剤として微粒子を加えることが好ましい。易滑剤として微粒子を加えることにより、縦延伸中にニップロールに対するステッキング(粘着)が発生するのを防止することができるため、ステッキングに起因する微細レターデーションむらを防止することができる。縦延伸ではTgを上回りフィルムが軟化する温度でフィルムがニップロール上で引っ張られるが、易滑剤が存在しないと局部的に粘着を引き起こしやすく、そこで延伸むらを発生し易いくなってしまう。易滑剤が含まれていれば、ニップロールとフィルムとを滑らせて局所的に応力が掛かるのを防止することができる。
本発明では、マット剤として微粒子を加えることも好ましい。
本発明に使用される微粒子としては、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成珪酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウムおよびリン酸カルシウムを挙げることができる。また架橋高分子からなる微粒子なども用いることができる。
(3) Fine Particles In the production method of the present invention, it is preferable to produce a saturated norbornene film by containing fine particles in an amount of 1 mass ppm to 10,000 mass ppm with respect to the saturated norbornene resin. A more preferable content is 5 mass ppm to 7,000 mass ppm, and a more preferable content is 10 mass ppm to 5,000 mass ppm.
In the present invention, it is preferable to add fine particles as a lubricant. By adding fine particles as a slipping agent, it is possible to prevent the occurrence of sticking (adhesion) to the nip roll during longitudinal stretching, so that it is possible to prevent fine retardation unevenness due to sticking. In the longitudinal stretching, the film is pulled on the nip roll at a temperature that exceeds Tg and the film softens. However, if there is no easy-to-lubricant, local adhesion is likely to occur, and uneven stretching tends to occur there. If the lubricant is contained, it is possible to prevent the nip roll and the film from slipping and applying stress locally.
In the present invention, it is also preferable to add fine particles as a matting agent.
The fine particles used in the present invention include silicon dioxide, titanium dioxide, aluminum oxide, zirconium oxide, calcium carbonate, talc, clay, calcined kaolin, calcined calcium silicate, hydrated calcium silicate, aluminum silicate, magnesium silicate and Mention may be made of calcium phosphate. In addition, fine particles made of a crosslinked polymer can also be used.

これらの微粒子は、通常平均粒子サイズが0.1〜3.0μmの2次粒子を形成し、これらの微粒子はフィルム中では1次粒子の凝集体として存在し、フィルム表面に0.1〜3.0μmの凹凸を形成させる。2次平均粒子サイズは0.2〜1.5μmが好ましく、0.4〜1.2μmがさらに好ましく、0.6〜1.1μmが最も好ましい。1次、2次粒子サイズはフィルム中の粒子を走査型電子顕微鏡で観察し、粒子に外接する円の直径をもって粒子サイズとした。また、場所を変えて粒子200個を観察し、その平均値をもって平均粒子サイズとした。   These fine particles usually form secondary particles having an average particle size of 0.1 to 3.0 μm, and these fine particles exist in the film as aggregates of primary particles, and 0.1 to 3 on the film surface. An unevenness of 0.0 μm is formed. The secondary average particle size is preferably 0.2 to 1.5 μm, more preferably 0.4 to 1.2 μm, and most preferably 0.6 to 1.1 μm. For the primary and secondary particle sizes, the particles in the film were observed with a scanning electron microscope, and the diameter of a circle circumscribing the particles was defined as the particle size. In addition, 200 particles were observed at different locations, and the average value was taken as the average particle size.

微粒子としてケイ素を含むものを用いれば濁度を低くすることができるため好ましく、特に二酸化珪素を用いることが好ましい。二酸化珪素の微粒子は、1次平均粒子サイズが20nm以下であり、かつ見かけ比重が70g/リットル以上であるものが好ましい。1次粒子の平均径が5〜16nmと小さいものがフィルムのヘイズを下げることができるため、より好ましい。見かけ比重は90〜200g/リットル以上が好ましく、100〜200g/リットル以上がさらに好ましい。見かけ比重が大きい程、高濃度の分散液を作ることが可能になり、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましい。
二酸化珪素の微粒子は、例えば、アエロジルR972、R972V、R974、R812、200、200V、300、R202、OX50、TT600(以上日本アエロジル(株)製)などの市販品を使用することができる。酸化ジルコニウムの微粒子は、例えば、アエロジルR976およびR811(以上日本アエロジル(株)製)の商品名で市販されており、使用することができる。これらの中でアエロジル200V、アエロジルR972Vが1次平均粒子サイズが20nm以下であり、かつ見かけ比重が70g/リットル以上である二酸化珪素の微粒子であり、光学フィルムの濁度を低く保ちながら、摩擦係数を下げる効果が大きいため特に好ましい。
The use of fine particles containing silicon is preferred because turbidity can be lowered, and silicon dioxide is particularly preferred. The fine particles of silicon dioxide preferably have a primary average particle size of 20 nm or less and an apparent specific gravity of 70 g / liter or more. A primary particle having an average diameter as small as 5 to 16 nm is more preferable because it can reduce the haze of the film. The apparent specific gravity is preferably 90 to 200 g / liter or more, and more preferably 100 to 200 g / liter or more. A larger apparent specific gravity is preferable because a high-concentration dispersion can be produced, and haze and aggregates are improved.
As fine particles of silicon dioxide, for example, commercially available products such as Aerosil R972, R972V, R974, R812, 200, 200V, 300, R202, OX50, TT600 (above Nippon Aerosil Co., Ltd.) can be used. The fine particles of zirconium oxide are commercially available under the trade names of Aerosil R976 and R811 (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.), and can be used. Among these, Aerosil 200V and Aerosil R972V are fine particles of silicon dioxide having a primary average particle size of 20 nm or less and an apparent specific gravity of 70 g / liter or more. This is particularly preferable because it has a great effect of lowering.

<飽和ノルボルネンフィルムの製造>
以下に、本発明の飽和ノルボルネンフィルムを製造する工程を手順にそって詳細に説明する。
<Manufacture of saturated norbornene film>
Below, the process of manufacturing the saturated norbornene film of this invention is demonstrated in detail along a procedure.

《飽和ノルボルネン樹脂》
本発明の飽和ノルボルネンフィルムの原料となる飽和ノルボルネン樹脂として、以下に記載する飽和ノルボルネン樹脂−Aと飽和ノルボルネン樹脂−Bを好ましい例として挙げることができる。これらの飽和ノルボルネン樹脂は、いずれも後述の溶液製膜法、溶融製膜法により製膜することができるが、飽和ノルボルネン樹脂−Aは溶融製膜法により製膜することがより好ましく、飽和ノルボルネン樹脂−Bは溶液製膜法により製膜することがより好ましい。これらの飽和ノルボルネンを原料とするフィルムは、延伸により適度なRe、Rthを発現する性質を有しているうえ、高温高湿環境下に長時間置いてもRe、Rthが変動しにくく、微細Reむらが発現しにくいという優れた性質も有している。
《Saturated norbornene resin》
Saturated norbornene resins-A and saturated norbornene resins-B described below can be given as preferred examples of the saturated norbornene resins used as the raw material for the saturated norbornene film of the present invention. Any of these saturated norbornene resins can be formed by a solution film forming method or a melt film forming method, which will be described later, but the saturated norbornene resin-A is more preferably formed by a melt film forming method. The resin-B is more preferably formed by a solution casting method. These films using saturated norbornene as a raw material have the property of expressing appropriate Re and Rth by stretching, and the Re and Rth are less likely to fluctuate even when placed in a high temperature and high humidity environment for a long time. It also has an excellent property that unevenness is hardly expressed.

(飽和ノルボルネン樹脂−A)
飽和ノルボルネン樹脂−Aとして、(1)ノルボルネン系モノマーの開環(共)重合体に対して、必要に応じてマレイン酸付加、シクロペンタジエン付加のようなポリマー変性を行ない、その後さらに水素添加して得られた樹脂、(2)ノルボルネン系モノマーを付加型重合させて得られた樹脂、(3)ノルボルネン系モノマーとエチレンやα−オレフィンなどのオレフィン系モノマーとを付加型共重合させて得られた樹脂などが挙げることができる。重合方法および水素添加方法は、常法により行なうことができる。
(Saturated norbornene resin-A)
As the saturated norbornene resin-A, (1) a ring-opening (co) polymer of a norbornene monomer is subjected to polymer modification such as maleic acid addition or cyclopentadiene addition as necessary, and then further hydrogenated. Obtained resin, (2) resin obtained by addition polymerization of norbornene monomer, and (3) obtained by addition copolymerization of norbornene monomer and olefin monomer such as ethylene and α-olefin. Resins etc. can be mentioned. The polymerization method and the hydrogenation method can be performed by conventional methods.

ノルボルネン系モノマーとしては、例えば、ノルボルネン、およびそのアルキルおよび/またはアルキリデン置換体(例えば、5−メチル−2−ノルボルネン、5−ジメチル−2−ノルボルネン、5−エチル−2−ノルボルネン、5−ブチル−2−ノルボルネン、5−エチリデン−2−ノルボルネン等)、これらのハロゲン等の極性基置換体;ジシクロペンタジエン、2,3−ジヒドロジシクロペンタジエン等;ジメタノオクタヒドロナフタレン、そのアルキルおよび/またはアルキリデン置換体、およびハロゲン等の極性基置換体(例えば、6−メチル−1,4:5,8−ジメタノ−1,4,4a,5,6,7,8,8a−オクタヒドロナフタレン、6−エチル−1,4:5,8−ジメタノ−1,4,4a,5,6,7,8,8a−オクタヒドロナフタレン、6−エチリデン−1,4:5,8−ジメタノ−1,4,4a,5,6,7,8,8a−オクタヒドロナフタレン、6−クロロ−1,4:5,8−ジメタノ−1,4,4a,5,6,7,8,8a−オクタヒドロナフタレン、6−シアノ−1,4:5,8−ジメタノ−1,4,4a,5,6,7,8,8a−オクタヒドロナフタレン、6−ピリジル−1,4:5,8−ジメタノ−1,4,4a,5,6,7,8,8a−オクタヒドロナフタレン、6−メトキシカルボニル−1,4:5,8−ジメタノ−1,4,4a,5,6,7,8,8a−オクタヒドロナフタレン等);シクロペンタジエンとテトラヒドロインデン等との付加物;シクロペンタジエンの3〜4量体(例えば、4,9:5,8−ジメタノ−3a,4,4a,5,8,8a,9,9a−オクタヒドロ−1H−ベンゾインデン、4,11:5,10:6,9−トリメタノ−3a,4,4a,5,5a,6,9,9a,10,10a,11,11a−ドデカヒドロ−1H−シクロペンタアントラセン)等が挙げられる。これらのノルボルネン系モノマーは単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。   Examples of the norbornene-based monomer include norbornene and alkyl and / or alkylidene substituted products thereof (for example, 5-methyl-2-norbornene, 5-dimethyl-2-norbornene, 5-ethyl-2-norbornene, 5-butyl- 2-norbornene, 5-ethylidene-2-norbornene, etc.), polar substituents such as halogens thereof; dicyclopentadiene, 2,3-dihydrodicyclopentadiene, etc .; dimethanooctahydronaphthalene, its alkyl and / or alkylidene Substituents and polar group substituents such as halogen (for example, 6-methyl-1,4: 5,8-dimethano-1,4,4a, 5,6,7,8,8a-octahydronaphthalene, 6- Ethyl-1,4: 5,8-dimethano-1,4,4a, 5,6,7,8,8a-octa Dronaphthalene, 6-ethylidene-1,4: 5,8-dimethano-1,4,4a, 5,6,7,8,8a-octahydronaphthalene, 6-chloro-1,4: 5,8-dimethano -1,4,4a, 5,6,7,8,8a-octahydronaphthalene, 6-cyano-1,4: 5,8-dimethano-1,4,4a, 5,6,7,8,8a -Octahydronaphthalene, 6-pyridyl-1,4: 5,8-dimethano-1,4,4a, 5,6,7,8,8a-octahydronaphthalene, 6-methoxycarbonyl-1,4: 5 8-dimethano-1,4,4a, 5,6,7,8,8a-octahydronaphthalene, etc.); adducts of cyclopentadiene and tetrahydroindene, etc .; 3-pentamers of cyclopentadiene (for example, 4, 9: 5,8-dimethano-3a, 4,4a, , 8,8a, 9,9a-octahydro-1H-benzoindene, 4,11: 5,10: 6,9-trimethano-3a, 4,4a, 5,5a, 6,9,9a, 10,10a, 11, 11a-dodecahydro-1H-cyclopentanthracene) and the like. These norbornene monomers may be used alone or in combination of two or more.

(飽和ノルボルネン樹脂−B)
飽和ノルボルネン樹脂−Bとして、下記一般式(1)〜(4)で表わされるものを挙げることができる。これらのうち、下記一般式(1)で表されるものが特に好ましい。
(Saturated norbornene resin-B)
Examples of the saturated norbornene resin-B include those represented by the following general formulas (1) to (4). Among these, those represented by the following general formula (1) are particularly preferable.

Figure 2006348114
Figure 2006348114

一般式(1)〜(4)中、R1〜R12は、各々独立に水素原子または1価の置換基(好ましくは有機基)を示し、これらのうち少なくとも1つは極性基であることが好ましい。これらの飽和ノルボルネン樹脂の質量平均分子量は、通常5,000〜1,000,000が好ましく、より好ましくは8,000〜200,000である。 In general formulas (1) to (4), R 1 to R 12 each independently represent a hydrogen atom or a monovalent substituent (preferably an organic group), and at least one of them is a polar group. Is preferred. The mass average molecular weight of these saturated norbornene resins is usually preferably from 5,000 to 1,000,000, more preferably from 8,000 to 200,000.

上記の置換基としては、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子)、アルキル基(炭素数1〜20、好ましくは1〜10のアルキル基で、例えばメチル基、エチル基、iso−プロピル基、tert−ブチル基、n−オクチル基、n−デシル基、n−ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる。)、アルケニル基(炭素数1〜20、好ましくは1〜10のアルケニル基で、例えばビニル基、アリル基、2−ブテニル基、3−ペンテニル基などが挙げられる。)、アルキニル基(炭素数1〜20、好ましくは1〜10のアルキニル基で、例えばプロパルギル基、3−ペンチニル基などが挙げられる。)、アリール基(炭素数6〜20、好ましくは6〜15のアリール基で、例えばフェニル基、p−メチルフェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、ピレニル基などが挙げられる。)、アミノ基(炭素数0〜20、好ましくは0〜10のアミノ基で、例えばアミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジベンジルアミノ基などが挙げられる。)、アルコキシ基(炭素数1〜20、好ましくは1〜10のアルコキシ基で、例えばメトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基などが挙げられる。)、アリールオキシ基(炭素数6〜20、好ましくは6〜15のアリールオキシ基で、例えばフェニルオキシ基、2−ナフチルオキシ基などが挙げられる。)、ヘテロ環オキシ基(炭素数1〜20、好ましくは1〜10のヘテロ環オキシ基で、例えばピリジルオキシ基、ピリミジニルオキシ基、ピリダジニルオキシ基、ベンズイミダゾリルオキシ基などが挙げられる。)、シリルオキシ基(炭素数3〜20、好ましくは3〜10のシリルオキシ基で、例えばトリメチルシリルオキシ基、t−ブチルジメチルシリルオキシ基などが挙げられる。)、アシル基(炭素数1〜20、好ましくは1〜10のアシル基で、例えばアセチル基、ベンゾイル基、ホルミル基、ピバロイル基などが挙げられる。)、アルコキシカルボニル基(炭素数2〜20、好ましくは2〜10のアルコキシカルボニル基で、例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる。)、アリールオキシカルボニル基(炭素数7〜20、好ましくは7〜15のアリールオキシカルボニル基で、例えばフェニルオキシカルボニル基などが挙げられる。)、アシルオキシ基(炭素数1〜20、好ましくは1〜10のアシルオキシ基で、例えばアセトキシ基、ベンゾイルオキシ基などが挙げられる。)、アシルアミノ基(炭素数1〜20、好ましくは1〜10のアシルアミノ基で、例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などが挙げられる。)、アルコキシカルボニルアミノ基(炭素数2〜20、好ましくは2〜10のアルコキシカルボニルアミノ基で、例えばメトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる。)、アリールオキシカルボニルアミノ基(炭素数7〜20、好ましくは7〜15のアリールオキシカルボニルアミノ基で、例えばフェニルオキシカルボニルアミノ基などが挙げられる。)、アルキルもしくはアリールスルホニルアミノ基(炭素数1〜20、好ましくは1〜10のアルキルもしくはアリールスルホニルアミノ基で、例えばメタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基などが挙げられる。)、スルファモイル基(炭素数0〜20、好ましくは0〜10のスルファモイル基で、例えばスルファモイル基、N−メチルスルファモイル基、N,N−ジメチルスルファモイル基、N−フェニルスルファモイル基などが挙げられる。)、カルバモイル基(炭素数1〜20、好ましくは1〜10のカルバモイル基で、例えばカルバモイル基、N−メチルカルバモイル基、N,N−ジエチルカルバモイル基、N−フェニルカルバモイル基などが挙げられる。)、アルキルチオ基(炭素数1〜20、好ましくは1〜10のアルキルチオ基で、例えばメチルチオ基、エチルチオ基などが挙げられる。)、アリールチオ基(炭素数6〜20、好ましくは6〜15のアリールチオ基で、例えばフェニルチオ基などが挙げられる。)、ヘテロ環チオ基(炭素数1〜20、好ましくは1〜10のヘテロ環チオ基で、例えばピリジニルチオ基、ピリミジニルチオ基、ピリダジニルチオ基、ベンズイミダゾリルチオ基、チアジアゾリルチオ基などが挙げられる。)、アルキルもしくはアリールスルホニル基(炭素数1〜20、好ましくは1〜10のアルキルもしくはアリールスルホニル基で、例えばメシル基、トシル基などが挙げられる。)、アルキルもしくはアリールスルフィニル基(炭素数1〜20、好ましくは1〜10のアルキルもしくはアリールスルホニル基で、例えばメタンスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基などが挙げられる。)、ヒドロキシ基、メルカプト基、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基(炭素数1〜20、好ましくは1〜10のヘテロ環基で、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子、具体的には例えばイミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、チエニル基、ピペリジル基、モルホリノ基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾチアゾリル基、カルバゾリル基、アゼピニル基などが挙げられる。)、シリル基(炭素数3〜20、好ましくは3〜10のシリル基で、例えばトリメチルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられる。)などが挙げられる。これらの置換基の水素原子は更に置換されてもよい。また、1分子中に置換基が二つ以上ある場合は、それらの置換基は同じであっても異なっていてもよい。また、可能な場合には互いに連結して環を形成してもよい。置換基としてはハロゲン原子、アルキル基、シリル基、アリール基、アルコキシ基及びアリールオキシ基が好ましく、メチル基、トリメチルシリル基、フェニル基およびメトキシ基が特に好ましい。   Examples of the substituent include a halogen atom (for example, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom), an alkyl group (an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, preferably 1 to 10 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group, and iso- A propyl group, a tert-butyl group, an n-octyl group, an n-decyl group, an n-hexadecyl group, a cyclopropyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, etc.), an alkenyl group (having 1 to 20 carbon atoms, preferably 1 to 10 alkenyl groups such as vinyl group, allyl group, 2-butenyl group and 3-pentenyl group), alkynyl group (C1-C20, preferably 1-10 alkynyl group, For example, a propargyl group, a 3-pentynyl group, etc.), an aryl group (an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, preferably 6 to 15 carbon atoms, A phenyl group, a p-methylphenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, a phenanthryl group, a pyrenyl group, etc.), an amino group (an amino group having 0 to 20 carbon atoms, preferably 0 to 10 carbon atoms, such as an amino group). , Methylamino group, dimethylamino group, diethylamino group, dibenzylamino group, etc.), alkoxy group (C1-C20, preferably 1-10 alkoxy group such as methoxy group, ethoxy group, butoxy group) Groups), aryloxy groups (C6-C20, preferably 6-15 aryloxy groups such as phenyloxy group and 2-naphthyloxy group), heterocyclic oxy groups (C1-C20, preferably C1-10 heterocyclic oxy group, for example, pyridyloxy group, pyrimidinyloxy group A pyridazinyloxy group, a benzimidazolyloxy group, etc.), a silyloxy group (a silyloxy group having 3 to 20 carbon atoms, preferably 3 to 10 carbon atoms, such as a trimethylsilyloxy group, a t-butyldimethylsilyloxy group, etc. ), Acyl groups (acyl groups having 1 to 20 carbon atoms, preferably 1 to 10 carbon atoms, such as acetyl group, benzoyl group, formyl group, and pivaloyl group), alkoxycarbonyl groups (carbon number). An alkoxycarbonyl group having 2 to 20, preferably 2 to 10, such as a methoxycarbonyl group and an ethoxycarbonyl group), an aryloxycarbonyl group (C7-20, preferably 7-15 aryloxycarbonyl). Group, for example, a phenyloxycarbonyl group). An acyloxy group (acyloxy group having 1 to 20 carbon atoms, preferably 1 to 10 carbon atoms, such as an acetoxy group and a benzoyloxy group); ), An acylamino group (acylamino group having 1 to 20 carbon atoms, preferably 1 to 10 carbon atoms such as acetylamino group and benzoylamino group), an alkoxycarbonylamino group (2 to 20 carbon atoms, preferably 2 carbon atoms). 10 to 10 alkoxycarbonylamino groups such as methoxycarbonylamino group), aryloxycarbonylamino groups (7 to 20 carbon atoms, preferably 7 to 15 aryloxycarbonylamino groups such as phenyloxycarbonyl Amino group, etc.), alkyl or arylsulfonylamino group (C1-C20, preferably 1-10 alkyl or arylsulfonylamino groups such as methanesulfonylamino group, benzenesulfonylamino group, etc.). .), Sul Amoyl group (sulfamoyl group having 0 to 20, preferably 0 to 10 carbon atoms, such as sulfamoyl group, N-methylsulfamoyl group, N, N-dimethylsulfamoyl group, N-phenylsulfamoyl group, etc.) ), A carbamoyl group (a carbamoyl group having 1 to 20 carbon atoms, preferably 1 to 10 carbon atoms, such as a carbamoyl group, an N-methylcarbamoyl group, an N, N-diethylcarbamoyl group, an N-phenylcarbamoyl group). ), Alkylthio groups (C1-C20, preferably C1-C10 alkylthio groups such as methylthio and ethylthio groups), arylthio groups (C6-C20, preferably C6-C15). An arylthio group such as a phenylthio group), a heterocyclic thio group (having 1 to 3 carbon atoms). 0, preferably 1 to 10 heterocyclic thio groups such as pyridinylthio group, pyrimidinylthio group, pyridazinylthio group, benzimidazolylthio group, thiadiazolylthio group, etc., alkyl or arylsulfonyl group (carbon number) 1-20, preferably 1-10 alkyl or arylsulfonyl groups, such as mesyl, tosyl, etc.), alkyl or arylsulfinyl groups (C1-C20, preferably 1-10 alkyl or Arylsulfonyl groups such as methanesulfinyl group, benzenesulfinyl group, etc.), hydroxy group, mercapto group, cyano group, sulfo group, carboxyl group, nitro group, hydroxamic acid group, sulfino group, hydrazino group, imino group , Heterocyclic groups (charcoal A heterocyclic group having a prime number of 1 to 20, preferably 1 to 10, for example, a nitrogen atom, an oxygen atom, a sulfur atom, specifically an imidazolyl group, a pyridyl group, a quinolyl group, a furyl group, a thienyl group, a piperidyl group, a morpholino Group, benzoxazolyl group, benzimidazolyl group, benzothiazolyl group, carbazolyl group, azepinyl group and the like. ), A silyl group (a silyl group having 3 to 20 carbon atoms, preferably 3 to 10 carbon atoms, such as a trimethylsilyl group or a triphenylsilyl group). The hydrogen atom of these substituents may be further substituted. Moreover, when there are two or more substituents in one molecule, these substituents may be the same or different. If possible, they may be linked together to form a ring. As the substituent, a halogen atom, an alkyl group, a silyl group, an aryl group, an alkoxy group and an aryloxy group are preferable, and a methyl group, a trimethylsilyl group, a phenyl group and a methoxy group are particularly preferable.

上記の極性基とは、酸素、硫黄、窒素、ハロゲンなど電気陰性度の高い原子によって分極が生じている有機基のことをいう。具体的には、アミノ基(炭素数1〜20、好ましくは1〜10のアミノ基で、例えばアミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジベンジルアミノ基などが挙げられる。)、アルコキシ基(炭素数1〜20、好ましくは1〜10のアルコキシ基で、例えばメトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基などが挙げられる。)、アリールオキシ基(炭素数6〜20、好ましくは6〜15のアリールオキシ基で、例えばフェニルオキシ基、2−ナフチルオキシ基などが挙げられる。)、ヘテロ環オキシ基(炭素数1〜20、好ましくは1〜10のヘテロ環オキシ基で、例えばピリジニルオキシ基、ピリミジニルオキシ基、ピリダジニルオキシ基、ベンズイミダゾリルオキシ基などが挙げられる。)、シリルオキシ基(炭素数3〜20、好ましくは3〜10のシリルオキシ基で、例えばトリメチルシリルオキシ基、t−ブチルジメチルシリルオキシ基などが挙げられる。)、アシル基(炭素数1〜20、好ましくは1〜10のアシル基で、例えばアセチル基、ベンゾイル基、ホルミル基、ピバロイル基などが挙げられる。)、アルコキシカルボニル基(炭素数2〜20、好ましくは2〜10のアルコキシカルボニル基で、例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる。)、アリールオキシカルボニル基(炭素数6〜20、好ましくは6〜15のアリールオキシカルボニル基で、例えばフェニルオキシカルボニル基などが挙げられる。)、アシルオキシ基(炭素数1〜20、好ましくは1〜10のアシルオキシ基で、例えばアセトキシ基、ベンゾイルオキシ基などが挙げられる。)、アシルアミノ基(炭素数1〜20、好ましくは1〜10のアシルアミノ基で、例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などが挙げられる。)、アルコキシカルボニルアミノ基(炭素数2〜20、好ましくは2〜10のアルコキシカルボニルアミノ基で、例えばメトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる。)、アリールオキシカルボニルアミノ基(炭素数6〜20、好ましくは6〜15アリールオキシカルボニルアミノ基で、例えばフェニルオキシカルボニルアミノ基などが挙げられる。)、アルキルもしくはアリールスルホニルアミノ基(炭素数1〜20、好ましくは1〜10のアルキルもしくはアリールスルホニルアミノ基で、例えばメタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基などが挙げられる。)、スルファモイル基(炭素数0〜20、好ましくは0〜10のスルファモイル基で、例えばスルファモイル基、N−メチルスルファモイル基、N,N−ジメチルスルファモイル基、N−フェニルスルファモイル基などが挙げられる。)、カルバモイル基(炭素数1〜20、好ましくは1〜10のカルバモイル基で、例えばカルバモイル基、N−メチルカルバモイル基、N,N−ジエチルカルバモイル基、N−フェニルカルバモイル基などが挙げられる。)、ウレイド基(炭素数1〜20、好ましくは1〜10のウレイド基で、例えばウレイド基、メチルウレイド基、フェニルウレイド基などが挙げられる。)、ヒドロキシ基、ハロゲン原子(例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子)、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基などが挙げられる。これらの置換基は、ノルボルネン環に直接連結していてもよく、アルキレン基などで連結されていてもよく、更に置換されてもよい。また、1分子中に置換基が二つ以上ある場合は、それらの置換基は同じであっても異なっていてもよい。また、可能な場合には互いに連結して環を形成してもよい。極性基として好ましいものは、アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、シリルオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、およびアリールオキシカルボニルアミノ基であり、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基およびアルコキシカルボニルアミノ基がさらに好ましく、アルコキシカルボニル基が特に好ましい。   The polar group refers to an organic group that is polarized by atoms having high electronegativity such as oxygen, sulfur, nitrogen, and halogen. Specifically, an amino group (an amino group having 1 to 20 carbon atoms, preferably 1 to 10 carbon atoms, such as an amino group, a methylamino group, a dimethylamino group, a diethylamino group, and a dibenzylamino group). Alkoxy groups (C1-C20, preferably 1-10 alkoxy groups such as methoxy, ethoxy and butoxy groups), aryloxy groups (C6-20, preferably 6-15). An aryloxy group such as a phenyloxy group and a 2-naphthyloxy group), a heterocyclic oxy group (a heterocyclic oxy group having 1 to 20 carbon atoms, preferably 1 to 10 carbon atoms such as a pyridinyloxy group, Pyrimidinyloxy group, pyridazinyloxy group, benzimidazolyloxy group, etc.), silyloxy group (3 to 2 carbon atoms) A silyloxy group having 3 to 10 carbon atoms, such as a trimethylsilyloxy group and a t-butyldimethylsilyloxy group.), An acyl group (acyl group having 1 to 20 carbon atoms, preferably 1 to 10 carbon atoms, An acetyl group, a benzoyl group, a formyl group, a pivaloyl group, etc.), an alkoxycarbonyl group (a C2-C20, preferably a C2-C10 alkoxycarbonyl group, such as a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, etc.). An aryloxycarbonyl group (C6-C20, preferably a C6-C15 aryloxycarbonyl group such as a phenyloxycarbonyl group), an acyloxy group (C1-C20, preferably 1-10 acyloxy groups such as acetoxy group, benzoy An oxy group, etc.), an acylamino group (acylamino group having 1 to 20 carbon atoms, preferably 1 to 10 carbon atoms such as an acetylamino group and a benzoylamino group), an alkoxycarbonylamino group (carbon number). An alkoxycarbonylamino group having 2 to 20, preferably 2 to 10, such as a methoxycarbonylamino group), an aryloxycarbonylamino group (having 6 to 20 carbon atoms, preferably 6 to 15 aryloxycarbonylamino groups) For example, a phenyloxycarbonylamino group), an alkyl or arylsulfonylamino group (an alkyl or arylsulfonylamino group having 1 to 20, preferably 1 to 10 carbon atoms, such as a methanesulfonylamino group, benzenesulfonyl Amino group And so on. ), A sulfamoyl group (a sulfamoyl group having 0 to 20, preferably 0 to 10 carbon atoms, such as a sulfamoyl group, an N-methylsulfamoyl group, an N, N-dimethylsulfamoyl group, an N-phenylsulfamoyl group). ), A carbamoyl group (a carbamoyl group having 1 to 20 carbon atoms, preferably 1 to 10 carbon atoms, such as a carbamoyl group, an N-methylcarbamoyl group, an N, N-diethylcarbamoyl group, an N-phenylcarbamoyl group, etc. Ureido group (C1-C20, preferably 1-10 ureido groups such as ureido group, methylureido group, phenylureido group, etc.), hydroxy group, halogen atom (for example, Fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, iodine atom), cyano group, sulfo group, carboxyl group, Toromoto, hydroxamic acid group, sulfino group, a hydrazino group, an imino group, a heterocyclic group. These substituents may be directly connected to the norbornene ring, may be connected by an alkylene group or the like, and may be further substituted. Moreover, when there are two or more substituents in one molecule, these substituents may be the same or different. If possible, they may be linked together to form a ring. Preferred as the polar group are amino group, alkoxy group, aryloxy group, heterocyclic oxy group, silyloxy group, acyl group, alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, acyloxy group, acylamino group, alkoxycarbonylamino group, and aryl. An oxycarbonylamino group, more preferably an alkoxycarbonyl group, an acyloxy group, an acylamino group, and an alkoxycarbonylamino group, and particularly preferably an alkoxycarbonyl group.

本発明で用いることができる飽和ノルボルネン樹脂としては、例えば、特開昭60−168708号公報、特開昭62−252406号公報、特開昭62−252407号公報、特開平2−133413号公報、特開昭63−145324号公報、特開昭63−264626号公報、特開平1−240517号公報、特公昭57−8815号公報などに記載されている樹脂などを挙げることができる。
これらの樹脂の中でも、ノルボルネン系モノマーの開環重合体を水素添加して得られる水添重合体が特に好ましい。
これらの飽和ノルボルネン樹脂のガラス転移温度(Tg)は120℃以上であることが好ましく、さらに好ましくは140℃以上であり、飽和吸水率は1質量%以下であることが好ましく、さらに好ましくは0.8質量%以下である。上記一般式(1)〜(4)で表わされる飽和ノルボルネン樹脂のガラス転移温度(Tg)および飽和吸水率は、R1〜R12の種類を選択することにより制御することができる。
Examples of saturated norbornene resins that can be used in the present invention include, for example, JP-A-60-168708, JP-A-62-252406, JP-A-62-2252407, JP-A-2-133413, Examples thereof include resins described in JP-A-63-145324, JP-A-63-264626, JP-A-1-240517, and JP-B-57-8815.
Among these resins, a hydrogenated polymer obtained by hydrogenating a ring-opening polymer of a norbornene monomer is particularly preferable.
The glass transition temperature (Tg) of these saturated norbornene resins is preferably 120 ° C. or higher, more preferably 140 ° C. or higher, and the saturated water absorption is preferably 1% by mass or lower, more preferably 0.8%. It is 8 mass% or less. The glass transition temperature (Tg) and saturated water absorption of the saturated norbornene resins represented by the general formulas (1) to (4) can be controlled by selecting the type of R 1 to R 12 .

本発明では、飽和ノルボルネン樹脂として、下記一般式(5)で表わされる少なくとも1種のテトラシクロドデセン誘導体を単独で、あるいは、当該テトラシクロドデセン誘導体と、これと共重合体可能な不飽和環状化合物とをメタセシス重合して得られる重合体を水素添加して得られる水添重合体を用いることもできる。   In the present invention, as the saturated norbornene resin, at least one tetracyclododecene derivative represented by the following general formula (5) is used alone, or the unsaturated compound capable of copolymerizing with the tetracyclododecene derivative. A hydrogenated polymer obtained by hydrogenating a polymer obtained by metathesis polymerization with a cyclic compound can also be used.

Figure 2006348114
Figure 2006348114

一般式(5)中、R13〜R16は、各々独立に水素原子または1価の置換基(好ましくは有機基)を示し、これらのうち少なくとも1つは極性基であることが好ましい。ここでいう置換基と極性基の具体例と好ましい範囲については、一般式(1)〜(4)について説明したのと同一である。
上記一般式(5)で表わされるテトラシクロドデセン誘導体において、R13〜R16のうち少なくとも1つが極性基であることにより、他の材料との密着性、耐熱性などに優れた偏光フィルムを得ることができる。さらに、この極性基が−(CH2 nCOOR(ここで、Rは炭素数1〜20の炭化水素基、nは0〜10の整数を示す。)で表わされる基であることが、最終的に得られる水添重合体(偏光フィルムの基材)が高いガラス転移温度を有するものとなるので好ましい。特に、この−(CH2nCOORで表わされる極性置換基は、一般式(5)のテトラシクロドデセン誘導体の1分子あたりに1個含有されることが吸水率を低下させる点から好ましい。上記極性置換基において、Rで示される炭化水素基の炭素数が多くなるほど得られる水添重合体の吸湿性が小さくなる点では好ましいが、得られる水添重合体のガラス転移温度とのバランスの点から、当該炭化水素基は、炭素数1〜4の鎖状アルキル基または炭素数5以上の(多)環状アルキル基であることが好ましく、特にメチル基、エチル基、シクロヘキシル基であることが好ましい。
In General Formula (5), R 13 to R 16 each independently represent a hydrogen atom or a monovalent substituent (preferably an organic group), and at least one of these is preferably a polar group. Specific examples and preferred ranges of the substituents and polar groups herein are the same as those described for the general formulas (1) to (4).
In the tetracyclododecene derivative represented by the above general formula (5), when at least one of R 13 to R 16 is a polar group, a polarizing film having excellent adhesion to other materials, heat resistance, etc. Obtainable. Further, the polar group is a group represented by — (CH 2 ) n COOR (where R is a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and n is an integer of 0 to 10). The resulting hydrogenated polymer (polarizing film substrate) is preferred because it has a high glass transition temperature. In particular, the polar substituent represented by — (CH 2 ) n COOR is preferably contained in one molecule of the tetracyclododecene derivative of the general formula (5) from the viewpoint of reducing the water absorption rate. In the above polar substituent, it is preferable in that the hygroscopicity of the obtained hydrogenated polymer decreases as the number of carbon atoms of the hydrocarbon group represented by R increases, but the balance with the glass transition temperature of the obtained hydrogenated polymer is good. From this point, the hydrocarbon group is preferably a chain alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or a (poly) cyclic alkyl group having 5 or more carbon atoms, and particularly preferably a methyl group, an ethyl group, or a cyclohexyl group. preferable.

さらに、−(CH2nCOORで表わされる基が結合した炭素原子に、炭素数1〜10の炭化水素基が置換基として結合されている一般式(5)のテトラシクロドデセン誘導体は、得られる水添重合体の吸湿性が低いものとなるので好ましい。特に、この置換基がメチル基またはエチル基である一般式(5)のテトラシクロドデセン誘導体は、その合成が容易な点で好ましい。具体的には、8−メチル−8−メトキシカルボニルテトラシクロ〔4,4,0,12.5,17.10〕ドデカ−3−エンが好ましい。これらのテトラシクロドデセン誘導体、およびこれと共重合可能な不飽和環状化合物の混合物は、例えば特開平4−77520号公報第4頁右上欄12行〜第6頁右下欄第6行に記載された方法によってメタセシス重合、水素添加することができる。
これらのノルボルネン系樹脂は、クロロホルム中、30℃で測定される固有粘度(ηinh)が、0.1〜1.5dl/gであることが好ましく、さらに好ましくは0.4〜1.2dl/gである。また、水添重合体の水素添加率は、60MHz、1H−NMRで測定した値が50%以上であることが好ましく、より好ましくは90%以上、さらに好ましくは98%以上である。水素添加率が高いほど、得られる飽和ノルボルネンフィルムは、熱や光に対する安定性が優れたものとなる。該水添重合体中に含まれるゲル含有量は5質量%以下であることが好ましく、さらに好ましくは1質量%以下である。
Furthermore, the tetracyclododecene derivative of the general formula (5) in which a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms is bonded as a substituent to a carbon atom to which a group represented by — (CH 2 ) n COOR is bonded, This is preferable because the resulting hydrogenated polymer has low hygroscopicity. In particular, the tetracyclododecene derivative of the general formula (5) in which the substituent is a methyl group or an ethyl group is preferable in terms of easy synthesis. Specifically, 8-methyl-8-methoxycarbonyltetracyclo [4,4,0,1 2.5, 1 7.10] dodeca-3-ene are preferred. These tetracyclododecene derivatives and mixtures of unsaturated cyclic compounds copolymerizable therewith are described, for example, in JP-A-4-77520, page 4, upper right column, line 12 to page 6, lower right column, line 6. Metathesis polymerization and hydrogenation can be carried out by the prepared method.
These norbornene resins preferably have an intrinsic viscosity (η inh ) measured at 30 ° C. in chloroform of 0.1 to 1.5 dl / g, more preferably 0.4 to 1.2 dl / g. g. Further, the hydrogenation rate of the hydrogenated polymer is preferably 50% or more, more preferably 90% or more, and still more preferably 98% or more, as measured by 60 MHz and 1 H-NMR. The higher the hydrogenation rate, the more the resulting saturated norbornene film has better stability to heat and light. The gel content contained in the hydrogenated polymer is preferably 5% by mass or less, more preferably 1% by mass or less.

(その他の開環重合可能なシクロオレフィン類)
本発明においては、本発明の目的を損なわない範囲内において、開環重合可能な他のシクロオレフィン類を併用することができる。このようなシクロオレフィンの具体例としては、例えば、シクロペンテン、シクロオクテン、5,6−ジヒドロジシクロペンタジエンなどのごとき反応性の二重結合を1個有する化合物が例示される。これらの開環重合可能なシクロオレフィン類の含有量は、上記ノルボルネン系モノマーに対して0モル%〜50モル%であることが好ましく、0.1モル%〜30モル%であることがより好ましく、0.3モル%〜10モル%であることが特に好ましい。
(Other ring-opening polymerizable cycloolefins)
In the present invention, other cycloolefins capable of ring-opening polymerization can be used in combination as long as the object of the present invention is not impaired. Specific examples of such cycloolefins include compounds having one reactive double bond such as cyclopentene, cyclooctene, and 5,6-dihydrodicyclopentadiene. The content of these ring-opening polymerizable cycloolefins is preferably 0 mol% to 50 mol%, more preferably 0.1 mol% to 30 mol%, based on the norbornene-based monomer. And 0.3 mol% to 10 mol% is particularly preferable.

(添加剤)
本発明の飽和ノルボルネン樹脂には、公知の酸化防止剤、例えば2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノール、2,2′−ジオキシ−3,3′−ジ−t−ブチル−5,5′−ジメチルフェニルメタン、テトラキス[メチレン−3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]メタン、1,1,3−トリス(2−メチル−4−ヒドロキシ−5−t−ブチルフェニル)ブタン、1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、ステアリル−β−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート、2,2′−ジオキシ−3,3′−ジ−t−ブチル−5,5′−ジエチルフェニルメタン、3,9−ビス[1,1−ジメチル−2−〔β−(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピオニルオキシ〕エチル]、2,4,8,10−テトラオキスピロ[5,5]ウンデカン、トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイト、サイクリックネオペンタンテトライルビス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ホスファイト、サイクリックネオペンタンテトライルビス(2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェニル)ホスファイト、2,2−メチレンビス(4,6−ジ−t−ブチルフェニル)オクチルホスファイト;紫外線吸収剤、例えば2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノンなどを添加することによって安定化することができる。また、加工性を向上させる目的で滑剤などの添加剤を添加することもできる。
これらの酸化防止剤の添加量は、飽和ノルボルネン系樹脂100質量部に対して、通常0.1〜3質量部、好ましくは0.2〜2質量部である。
(Additive)
The saturated norbornene resin of the present invention includes known antioxidants such as 2,6-di-t-butyl-4-methylphenol, 2,2'-dioxy-3,3'-di-t-butyl-5. , 5'-dimethylphenylmethane, tetrakis [methylene-3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate] methane, 1,1,3-tris (2-methyl-4-hydroxy-) 5-t-butylphenyl) butane, 1,3,5-trimethyl-2,4,6-tris (3,5-di-t-butyl-4-hydroxybenzyl) benzene, stearyl-β- (3,5 -Di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate, 2,2'-dioxy-3,3'-di-t-butyl-5,5'-diethylphenylmethane, 3,9-bis [1,1 -Dimethyl-2- [β -(3-t-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) propionyloxy] ethyl], 2,4,8,10-tetraoxpiro [5,5] undecane, tris (2,4-di-t -Butylphenyl) phosphite, cyclic neopentanetetraylbis (2,4-di-t-butylphenyl) phosphite, cyclic neopentanetetraylbis (2,6-di-t-butyl-4-methyl) Phenyl) phosphite, 2,2-methylenebis (4,6-di-t-butylphenyl) octyl phosphite; UV absorbers such as 2,4-dihydroxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone and the like are added. Can be stabilized. Further, additives such as a lubricant can be added for the purpose of improving processability.
The addition amount of these antioxidants is 0.1-3 mass parts normally with respect to 100 mass parts of saturated norbornene-type resin, Preferably it is 0.2-2 mass parts.

さらに飽和ノルボルネン系樹脂には、所望により、フェノール系やリン系などの老化防止剤、耐電防止剤、紫外線吸収剤、上述の易滑剤などの各種添加剤を添加してもよい。特に、液晶は、通常、紫外線により劣化するので、ほかに紫外線防護フィルターを積層するなどの防護手段をとらない場合は、紫外線吸収剤を添加することが好ましい。紫外線吸収剤としては、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾル系紫外線吸収剤、アクリルニトリル系紫外線吸収剤などを用いることができ、それらの中でもベンゾフェノン系紫外線吸収剤が好ましく、添加量は、飽和ノルボルネン樹脂に対して、通常10〜100,000質量ppm、好ましくは100〜10,000質量ppmである。また、溶液流延法によりシートを作製する場合は、表面粗さを小さくするため、レベリング剤を添加することが好ましい。レベリング剤としては、例えば、フッ素系ノニオン界面活性剤、特殊アクリル樹脂系レベリング剤、シリコーン系レベリング剤など塗料用レベリング剤を用いることができ、それらの中でも溶媒との相溶性の良いものが好ましい。添加量は、飽和ノルボルネン樹脂に対して、通常5〜50,000質量ppm、好ましくは10〜20,000質量ppmである。   Furthermore, you may add various additives, such as anti-aging agents, such as a phenol type and a phosphorus type, an antistatic agent, a ultraviolet absorber, and the above-mentioned easy-to-slip agent, to a saturated norbornene-type resin. In particular, since the liquid crystal is usually deteriorated by ultraviolet rays, it is preferable to add an ultraviolet absorber when other protective measures such as laminating an ultraviolet protective filter are not taken. As the ultraviolet absorber, a benzophenone ultraviolet absorber, a benzotriazole ultraviolet absorber, an acrylonitrile ultraviolet absorber, or the like can be used. Among them, a benzophenone ultraviolet absorber is preferable, and the addition amount is saturated norbornene. It is 10-100,000 mass ppm normally with respect to resin, Preferably it is 100-10,000 mass ppm. Moreover, when producing a sheet | seat by the solution casting method, in order to make surface roughness small, it is preferable to add a leveling agent. As the leveling agent, for example, a coating leveling agent such as a fluorine-based nonionic surfactant, a special acrylic resin-based leveling agent, or a silicone-based leveling agent can be used, and among them, those having good compatibility with a solvent are preferable. The addition amount is usually 5 to 50,000 mass ppm, preferably 10 to 20,000 mass ppm, based on the saturated norbornene resin.

《製膜》
飽和ノルボルネンフィルムは溶液製膜法、溶融製膜法いずれの方法でも製膜することができる。これらの製膜法について、以下に詳しく説明する。
《Filming》
The saturated norbornene film can be formed by either a solution casting method or a melt casting method. These film forming methods will be described in detail below.

(溶融製膜)
(1)溶融
上記飽和ノルボルネン樹脂と添加物は溶融製膜に先立ち混合しペレット化するのが好ましい。ペレット化することによって、溶融押し出し機のホッパーでのサージングを抑制し、安定供給が可能となる。好ましいペレットの大きさは断面積が1mm2〜300mm2、長さが1mm〜30mmであり、より好ましくは断面積が2mm2〜100mm2、長さが1.5mm〜10mmである。
この飽和ノルボルネン樹脂のペレットを溶融押出し機に入れ、100℃〜200℃で1分〜10時間脱水した後、混練押出しする。混練は1軸あるいは2軸の押出し機を使用して行うことができる。
(Melting film formation)
(1) Melting The saturated norbornene resin and additive are preferably mixed and pelletized prior to melt film formation. By pelletizing, surging in the hopper of the melt extruder is suppressed and stable supply becomes possible. Preferably, the pellet size is such cross-sectional area is 1 mm 2 to 300 mm 2, a length 1Mm~30mm, and more preferably the cross-sectional area of 2 mm 2 100 mm 2, length 1.5Mm~10mm.
The saturated norbornene resin pellets are put into a melt extruder, dehydrated at 100 ° C. to 200 ° C. for 1 minute to 10 hours, and then kneaded and extruded. Kneading can be performed using a single-screw or twin-screw extruder.

この飽和ノルボルネン樹脂は押出機の供給口を介してシリンダー内に供給される。図3は、本発明で用いることができる典型的な押出機22の概略図を示したものである。シリンダー32内は供給口40側から順に、供給口から供給した飽和ノルボルネン樹脂を定量輸送する供給部(領域A)と、飽和ノルボルネン樹脂を溶融混練・圧縮する圧縮部(領域B)と、溶融混練・圧縮された飽和ノルボルネン樹脂を計量する計量部(領域C)とで構成される。残存する酸素による溶融樹脂の酸化を防止するために、押出機内を不活性(窒素等)気流中、あるいはベント付き押出し機を用い真空排気しながら実施するのがより好ましい。押出機のスクリュー圧縮比は好ましくは2.5〜4.5に設定され、L/Dは20〜70に設定されている。ここでスクリュー圧縮比とは供給部Aと計量部Cとの容積比、即ち供給部Aの単位長さあたりの容積÷計量部Cの単位長さあたりの容積で表され、供給部Aのスクリュー軸の外径d1、計量部Cのスクリュー軸の外径d2、供給部Aの溝部径a1、および計量部Cの溝部径a2とを使用して算出される。また、L/Dとはシリンダー内径に対するシリンダー長さの比である。また、押出温度は好ましくは240〜320℃、より好ましくは250〜310℃、さらに好ましくは260℃〜300℃に設定される。   The saturated norbornene resin is supplied into the cylinder through the supply port of the extruder. FIG. 3 shows a schematic diagram of a typical extruder 22 that can be used in the present invention. In the cylinder 32, in order from the supply port 40 side, a supply unit (region A) for quantitatively transporting the saturated norbornene resin supplied from the supply port, a compression unit (region B) for melt-kneading and compressing the saturated norbornene resin, and melt-kneading -It is comprised with the measurement part (area | region C) which measures the saturated saturated norbornene resin. In order to prevent the melted resin from being oxidized by the remaining oxygen, it is more preferable to carry out the inside of the extruder in an inert (nitrogen or the like) air flow or while evacuating it using a vented extruder. The screw compression ratio of the extruder is preferably set to 2.5 to 4.5, and L / D is set to 20 to 70. Here, the screw compression ratio is represented by the volume ratio between the supply unit A and the metering unit C, that is, the volume per unit length of the supply unit A ÷ the volume per unit length of the metering unit C. It is calculated using the outer diameter d1 of the shaft, the outer diameter d2 of the screw shaft of the measuring part C, the groove part diameter a1 of the supply part A, and the groove part diameter a2 of the measuring part C. L / D is the ratio of the cylinder length to the cylinder inner diameter. The extrusion temperature is preferably set to 240 to 320 ° C, more preferably 250 to 310 ° C, and still more preferably 260 ° C to 300 ° C.

押し出し機の種類として、一般的には設備コストの比較的安い単軸押し出し機が用いられることが多く、フルフライト、マドック、ダルメージ等のスクリュータイプがあるが、フルフライトタイプが好ましい。また、設備コストは効果であるが、スクリューセグメントを変更することにより、途中でベント口を設けて不要な揮発成分を脱揮させながら押出ができる二軸押出機を用いることが可能である、二軸押し出し機には大きく分類して同方向と異方向のタイプがありどちらも用いることが可能であるが、滞留部分が発生し難くセルフクリーニング性能の高い同方向回転のタイプが好ましい。二軸押出機は設備が効果であるが、混練性が高く、樹脂の供給性能が高いため、低温での押出が可能となるため、飽和ノルボルネン樹脂の製膜に適している。ベント口を適正に配置することにより、未乾燥状態での飽和ノルボルネンペレットやパウダーをそのまま使用することも可能である。又、製膜途中で出たフィルムのミミ等も乾燥させることなしにそのまま再利用することもできる。
なお、好ましいスクリューの直径は目標とする単位時間あたりの押出量によって異なるが、10mm〜300mm、より好ましくは20mm〜250mm、さらに好ましくは30mm〜150mmである。
As the type of the extruder, a single-screw extruder having a relatively low equipment cost is generally used, and there are screw types such as full flight, mudock, and dalmage, but the full flight type is preferable. In addition, although the equipment cost is effective, it is possible to use a twin-screw extruder that can be extruded while volatilizing unnecessary volatile components by providing a vent port in the middle by changing the screw segment. There are two types of shaft extruders, the same direction and the different direction, which can be used. However, the type of the same direction rotation with high self-cleaning performance is preferred because a stagnant portion is hardly generated. The twin-screw extruder is effective, but it is suitable for forming a saturated norbornene resin because it has high kneadability and high resin supply performance and can be extruded at a low temperature. By properly arranging the vent port, it is possible to use the saturated norbornene pellets and powder in an undried state as they are. Also, film smears produced during film formation can be reused as they are without drying.
In addition, although the diameter of a preferable screw changes with target extrusion rates per unit time, it is 10 mm-300 mm, More preferably, it is 20 mm-250 mm, More preferably, it is 30 mm-150 mm.

(2)濾過
樹脂中の異物濾過のためや異物によるギアポンプ損傷を避けるために、押し出し機出口にフィルター濾材を設けるいわゆるブレーカープレート式の濾過を行うことが好ましい。またさらに精度高く異物濾過をするために、ギアポンプ通過後にいわゆるリーフ型ディスクフィルターを組み込んだ濾過装置を設けることが好ましい。濾過は、濾過部を1カ所設けて行うことができ、また複数カ所設けて行う多段濾過でも良い。フィルター濾材の濾過精度は高い方が好ましいが、濾材の耐圧や濾材の目詰まりによる濾圧上昇から、濾過精度は15μmm〜3μmmが好ましく、さらに好ましくは10μmm〜3μmmである。特に最終的に異物濾過を行うリーフ型ディスクフィルター装置を使用する場合では品質の上で濾過精度の高い濾材を使用することが好ましく、耐圧,フィルターライフの適性を確保するために装填枚数にて調整することが可能である。濾材の種類は、高温高圧下で使用される点から鉄鋼材料を用いることが好ましく、鉄鋼材料の中でも特にステンレス鋼,スチールなどを用いることが好ましく、腐食の点から特にステンレス鋼を用いることが望ましい。濾材の構成としては、線材を編んだものの他に、例えば金属長繊維あるいは金属粉末を焼結し形成する焼結濾材が使用でき、濾過精度,フィルターライフの点から焼結濾材が好ましい。
(2) Filtration In order to filter foreign matters in the resin and avoid damage to the gear pump due to foreign matters, it is preferable to perform so-called breaker plate type filtration in which a filter medium is provided at the outlet of the extruder. In order to filter foreign matter with higher accuracy, it is preferable to provide a filtration device incorporating a so-called leaf type disk filter after passing through the gear pump. Filtration can be performed by providing one filtration section, or multistage filtration performed by providing a plurality of places. The filtration accuracy of the filter medium is preferably higher, but the filtration accuracy is preferably 15 μm to 3 μm, more preferably 10 μm to 3 μm, because of the pressure resistance of the filter medium and the increase in the filtration pressure due to clogging of the filter medium. In particular, when using a leaf-type disk filter device that finally filters foreign matter, it is preferable to use a filter medium with high filtration accuracy in terms of quality, and it is adjusted by the number of loaded sheets to ensure the suitability of pressure resistance and filter life. Is possible. The type of filter medium is preferably a steel material because it is used under high temperature and high pressure. Among steel materials, stainless steel, steel, etc. are particularly preferable, and stainless steel is particularly preferable in terms of corrosion. . As a configuration of the filter medium, for example, a sintered filter medium formed by sintering metal long fibers or metal powder can be used in addition to a knitted wire, and a sintered filter medium is preferable in terms of filtration accuracy and filter life.

(3)ギアポンプ
厚み精度を向上させるためには、吐出量の変動を減少させることが重要であり、押出機出機とダイスの間にギアポンプを設けて、ギアポンプから一定量の飽和ノルボルネン樹脂を供給することは効果がある。ギアポンプとは、ドライブギアとドリブンギアとからなる一対のギアが互いに噛み合った状態で収容され、ドライブギアを駆動して両ギアを噛み合い回転させることにより、ハウジングに形成された吸引口から溶融状態の樹脂をキャビティ内に吸引し、同じくハウジングに形成された吐出口からその樹脂を一定量吐出するものである。押出機先端部分の樹脂圧力が若干の変動があっても、ギアポンプを用いることにより変動を吸収し、製膜装置下流の樹脂圧力の変動は非常に小さなものとなり、厚み変動が改善される。ギアポンプを用いることにより、ダイ部分の樹脂圧力の変動巾を±1%以内にすることが可能である。
ギアポンプによる定量供給性能を向上させるために、スクリューの回転数を変化させて、ギアポンプ前の圧力を一定に制御する方法も用いることができる。また、ギアポンプのギアの変動を解消した3枚以上のギアを用いた高精度ギアポンプも有効である。
(3) Gear pump To improve the thickness accuracy, it is important to reduce the fluctuation of the discharge amount. A gear pump is provided between the extruder and the die to supply a certain amount of saturated norbornene resin from the gear pump. It is effective to do. A gear pump is accommodated in a state where a pair of gears consisting of a drive gear and a driven gear are engaged with each other, and the drive gear is driven to engage and rotate the two gears so that a melted state is generated from the suction port formed in the housing. Resin is sucked into the cavity, and a certain amount of the resin is discharged from a discharge port formed in the housing. Even if there is a slight fluctuation in the resin pressure at the front end of the extruder, the fluctuation is absorbed by using a gear pump, the fluctuation in the resin pressure downstream of the film forming apparatus becomes very small, and the thickness fluctuation is improved. By using a gear pump, it is possible to keep the fluctuation range of the resin pressure in the die portion within ± 1%.
In order to improve the quantitative supply performance by the gear pump, a method of controlling the pressure before the gear pump to be constant by changing the number of rotations of the screw can also be used. In addition, a high-precision gear pump using three or more gears that eliminate the gear pump gear variation is also effective.

ギアポンプを用いるその他のメリットとしては、スクリュー先端部の圧力を下げて製膜できることから、エネルギー消費の軽減・樹脂温上昇の防止・輸送効率の向上・押出機内での滞留時間の短縮・押出機のL/Dを短縮が期待できる。また、異物除去のために、フィルターを用いる場合には、ギアポンプが無いと、ろ圧の上昇と共に、スクリューから供給される樹脂量が変動したりすることがあるが、ギアポンプを組み合わせて用いることにより解消が可能である。一方、ギアポンプのデメリットとしては、設備の選定方法によっては、設備の長さが長くなり、樹脂の滞留時間が長くなることと、ギアポンプ部のせん断応力によって分子鎖の切断を引き起こすことがあり、注意が必要である。
樹脂が供給口から押出機に入ってからダイスから出るまでの樹脂の好ましい滞留時間は2分〜60分であり、より好ましくは3分〜40分であり、さらに好ましくは4分〜30分である。
Other advantages of using a gear pump are that the pressure at the screw tip can be reduced to form a film, reducing energy consumption, preventing rise in resin temperature, improving transport efficiency, shortening the residence time in the extruder, L / D can be expected to be shortened. Also, when using a filter to remove foreign matter, if there is no gear pump, the amount of resin supplied from the screw may fluctuate as the filtration pressure rises. It can be resolved. On the other hand, the disadvantages of gear pumps are that the length of the equipment will be longer depending on the equipment selection method, the resin residence time will be longer, and the shearing stress of the gear pump may cause the molecular chain to break. is required.
The preferred residence time of the resin from the supply port through the extruder until it exits the die is 2 minutes to 60 minutes, more preferably 3 minutes to 40 minutes, and even more preferably 4 minutes to 30 minutes. is there.

ギアポンプの軸受循環用ポリマーの流れが悪くなることにより、駆動部と軸受部におけるポリマーによるシールが悪くなり、計量および送液押し出し圧力の変動が大きくなったりする問題が発生するため、飽和ノルボルネン樹脂の溶融粘度に合わせたギアポンプの設計(特にクリアランス)が必要である。また、ギアポンプの滞留部分が飽和ノルボルネン樹脂の劣化の原因となるため、滞留のできるだけ少ない構造が好ましい。押出機とギアポンプあるいはギアポンプとダイ等をつなぐポリマー管やアダプタについても、できるだけ滞留の少ない設計が必要であり、押出圧力安定化のためには、温度の変動をできるだけ小さくすることが好ましい。一般的には、ポリマー管の加熱には設備コストの安価なバンドヒーターが用いられることが多いが、温度変動のより少ないアルミ鋳込みヒーターを用いることがより好ましい。   Since the flow of the polymer for bearing circulation of the gear pump is deteriorated, the sealing by the polymer in the drive part and the bearing part is deteriorated, and there is a problem that the fluctuation of the metering and liquid feeding extrusion pressure becomes large. A gear pump design (especially clearance) that matches the melt viscosity is required. Moreover, since the stay part of a gear pump causes deterioration of saturated norbornene resin, a structure with as little stay as possible is preferable. The polymer pipe and adapter that connect the extruder and gear pump or the gear pump and die also need to be designed with as little stagnation as possible. To stabilize the extrusion pressure, it is preferable to make the temperature fluctuation as small as possible. Generally, a band heater having a low equipment cost is often used for heating the polymer tube, but it is more preferable to use an aluminum cast heater with less temperature fluctuation.

(4)ダイ
上記の如く構成された押出機によって飽和ノルボルネン樹脂が溶融され、必要に応じ濾過機、ギアポンプを経由して溶融樹脂がダイに連続的に送られる。ダイはダイス内の溶融樹脂の滞留が少ない設計であれば、一般的に用いられるTダイ、フィッシュテールダイ、ハンガーコートダイの何れのタイプでも構わない。また、ダイの直前に樹脂温度の均一性アップのためのスタティックミキサーを入れることも問題ない。ダイ出口部分のクリアランスは一般的にフィルム厚みの1.0〜5.0倍が良く、好ましくは1.2〜3倍、さらに好ましくは1.3〜2倍である。リップクリアランスがフィルム厚みの1.0倍以上であれば、製膜により面状の良好なシートを得やすいため好ましい。また、リップクリアランスがフィルム厚みの5.0倍以下であれば、シートの厚み精度を高くしやすいため好ましい。ダイはフィルムの厚み精度を決定する非常に重要な設備であり、厚み調整が厳密にコントロールできるものが好ましい。通常厚み調整は40〜50mm間隔で調整可能であるが、好ましくは35mm間隔以下、さらに好ましくは25mm間隔以下でフィルム厚み調整が可能なタイプが好ましい。また、ダイの温度ムラや巾方向の流速ムラのできるだけ少ない設計が重要である。また、下流のフィルム厚みを計測して、厚み偏差を計算し、その結果をダイの厚み調整にフィードバックさせる自動厚み調整ダイも長期連続生産の厚み変動の低減に有効である。
フィルムの製造は設備コストの安い単層製膜装置が一般的に用いられるが、場合によっては機能層を外層に設けために多層製膜装置を用いて2種以上の構造を有するフィルムの製造も可能である。一般的には機能層を表層に薄く積層することが好ましいが、特に層比を限定するものではない。
(4) Die The saturated norbornene resin is melted by the extruder configured as described above, and the molten resin is continuously fed to the die via a filter and a gear pump as necessary. As long as the die is designed so that the molten resin stays in the die, any type of commonly used T die, fishtail die, and hanger coat die may be used. Moreover, there is no problem in placing a static mixer for improving the uniformity of the resin temperature immediately before the die. The clearance at the die outlet is generally 1.0 to 5.0 times the film thickness, preferably 1.2 to 3 times, more preferably 1.3 to 2 times. A lip clearance of 1.0 times or more of the film thickness is preferable because a sheet having a good surface shape can be easily obtained by film formation. Moreover, it is preferable if the lip clearance is 5.0 times or less of the film thickness because the thickness accuracy of the sheet can be easily increased. The die is a very important facility for determining the thickness accuracy of the film, and a die capable of strictly controlling the thickness adjustment is preferable. Normally, the thickness can be adjusted at intervals of 40 to 50 mm, but preferably a type capable of adjusting the film thickness at intervals of 35 mm or less, more preferably at intervals of 25 mm or less. In addition, it is important to have a design that minimizes the temperature unevenness of the die and the flow velocity unevenness in the width direction. An automatic thickness adjustment die that measures the downstream film thickness, calculates the thickness deviation, and feeds back the result to the die thickness adjustment is also effective in reducing the thickness fluctuation in long-term continuous production.
A single-layer film forming apparatus with a low equipment cost is generally used for manufacturing the film, but in some cases, a film having two or more types of structures can also be manufactured using a multilayer film forming apparatus in order to provide a functional layer on the outer layer. Is possible. In general, the functional layer is preferably thinly laminated on the surface layer, but the layer ratio is not particularly limited.

(5)キャスト
上記方法にて、ダイよりシート上に押し出された溶融樹脂をキャスティングドラム上で冷却固化し、フイルムを得る。この時、静電印加法、エアナイフ法、エアーチャンバー法、バキュームノズル法、タッチロール法等の方法を用い、キャスティングドラムと溶融押出ししたシートの密着を上げることが好ましい。このような密着向上法は、溶融押出しシートの全面に実施してもよく、一部に実施しても良い。特にエッジピニングと呼ばれる、フイルムの両端部にのみを密着させる方法が取られることも多いが、これに限定されるものではない。
キャスティングドラムは複数本用いて徐冷することがより好ましい、特に一般的には3本の冷却ロールを用いることが比較的よく行われているが、この限りではない。ロールの直径は50mm〜5000mmが好ましく、より好ましくは、100mm〜2000mm、さらに好ましくは150mm〜1000mmである。複数本あるロールの間隔は、面間で0.3mm〜300mmが好ましく、より好ましくは、1mm〜100mm、さらに好ましくは3mm〜30mmである。
キャスティングドラムは60℃〜160℃が好ましく、より好ましくは70℃〜150℃、さらに好ましくは80℃〜140℃である。この後、キャスティングドラムから剥ぎ取り、ニップロールを経た後巻き取る。巻き取り速度は10m/分〜100m/分が好ましく、より好ましくは15m/分〜80m/分、さらに好ましくは20m/分〜70m/分である。
(5) Casting By the above method, the molten resin extruded from the die onto the sheet is cooled and solidified on a casting drum to obtain a film. At this time, it is preferable to use a method such as an electrostatic application method, an air knife method, an air chamber method, a vacuum nozzle method, or a touch roll method to increase the adhesion between the casting drum and the melt-extruded sheet. Such an adhesion improving method may be performed on the entire surface of the melt-extruded sheet or a part thereof. In particular, a method called edge pinning, in which only both ends of the film are brought into close contact with each other, is often used, but is not limited thereto.
More preferably, a plurality of casting drums are used for slow cooling. In particular, it is relatively common to use three cooling rolls, but this is not a limitation. The diameter of the roll is preferably 50 mm to 5000 mm, more preferably 100 mm to 2000 mm, and still more preferably 150 mm to 1000 mm. The interval between the plural rolls is preferably 0.3 mm to 300 mm, more preferably 1 mm to 100 mm, and still more preferably 3 mm to 30 mm.
The casting drum is preferably 60 ° C to 160 ° C, more preferably 70 ° C to 150 ° C, still more preferably 80 ° C to 140 ° C. Then, it peels off from a casting drum, winds up after passing through a nip roll. The winding speed is preferably 10 m / min to 100 m / min, more preferably 15 m / min to 80 m / min, still more preferably 20 m / min to 70 m / min.

製膜幅は好ましくは0.7m〜5m、さらに好ましくは1m〜4m、さらに好ましくは1.3m〜3mである。このようにして得られた未延伸フィルムの厚みは30μm〜400μmが好ましく、より好ましくは40μm〜300μm、さらに好ましくは50μm〜200μmである。
製膜した飽和ノルボルネンフィルムの厚みむらは長手方向、幅方向いずれも0%〜2%が好ましく、より好ましくは0%〜1.5%、さらに好ましくは0%〜1%であり、これらを上述の方法で延伸することにより、本発明の飽和ノルボルネンフィルムを得ることができる。
また、いわゆるタッチロール法を用いる場合、タッチロール表面は、ゴム、テフロン(登録商標)等の樹脂でもよく、金属ロールでも良い。さらに、金属ロールの厚みを薄くすることでタッチしたときの圧力によりロール表面が若干くぼみ、圧着面積が広くなりフレキシブルロールと呼ばれる様なロールを用いることも可能である。
タッチロール温度は60℃〜160℃が好ましく、より好ましくは70℃〜150℃、さらに好ましくは80℃〜140℃である。
The film forming width is preferably 0.7 m to 5 m, more preferably 1 m to 4 m, and still more preferably 1.3 m to 3 m. The thickness of the unstretched film thus obtained is preferably 30 μm to 400 μm, more preferably 40 μm to 300 μm, and still more preferably 50 μm to 200 μm.
The thickness unevenness of the formed saturated norbornene film is preferably 0% to 2% in both the longitudinal direction and the width direction, more preferably 0% to 1.5%, still more preferably 0% to 1%. The saturated norbornene film of the present invention can be obtained by stretching by this method.
When the so-called touch roll method is used, the surface of the touch roll may be a resin such as rubber or Teflon (registered trademark) or a metal roll. Further, it is possible to use a roll called a flexible roll because the roll surface is slightly dented by the pressure when touched by reducing the thickness of the metal roll, and the crimping area is widened.
The touch roll temperature is preferably 60 ° C to 160 ° C, more preferably 70 ° C to 150 ° C, and still more preferably 80 ° C to 140 ° C.

(6)巻き取り
このようにして得たシートは両端をトリミングし、巻き取ることが好ましい。トリミングされた部分は、粉砕処理された後、或いは必要に応じて造粒処理や解重合・再重合等の処理を行った後、同じ品種のフィルム用原料としてまたは異なる品種のフィルム用原料として再利用してもよい。トリミングカッターはロータリーカッター、シャー刃、ナイフ等の何れのタイプの物を用いても構わない。材質についても、炭素鋼、ステンレス鋼何れを用いても構わない。一般的には、超硬刃、セラミック刃を用いると刃物の寿命が長く、また切り粉の発生が抑えられて好ましい。
また、巻き取り前に、少なくとも片面にラミフィルムを付けることも、傷防止の観点から好ましい。好ましい巻き取り張力は1kg/m幅〜50kg/幅、より好ましくは2kg/m幅〜40kg/幅、さらに好ましくは3kg/m幅〜20kg/幅である。巻き取り張力が1kg/m幅以上であれば、フィルムを均一に巻き取りやすいため好ましい。また、巻き取り張力が50kg/幅以下であれば、フィルムが堅巻きになることがなく、巻き外観が美しく、フィルムのコブの部分がクリープ現象により延びてフィルムの波うちの原因になったりフィルムの伸びによる残留複屈折が生じるようなこともない。巻き取り張力は、ラインの途中のテンションコントロールにより検知し、一定の巻き取り張力になるようにコントロールされながら巻き取ることが好ましい。製膜ラインの場所により、フィルム温度に差がある場合には熱膨張により、フィルムの長さが僅かに異なる場合があるため、ニップロール間のドロー比率を調整し、ライン途中でフィルムに規定以上の張力がかからない様にすることが必要である。
巻き取り張力はテンションコントロールの制御により、一定張力で巻き取ることもできるが、巻き取った直径に応じてテーパーをつけ、適正な巻取り張力にすることがより好ましい。一般的には巻き径が大きくなるにつれて張力を少しずつ小さくするが、場合によっては、巻き径が大きくなるにしたがって張力を大きくする方が好ましい場合もある。
このような巻き取り方法は、下述の溶液製膜法にも同様に適用できる。
(6) Winding The sheet thus obtained is preferably trimmed at both ends and wound. The trimmed portion is recycled as a film raw material of the same type or as a film raw material of a different type after being pulverized or after being subjected to a granulation process or a depolymerization / repolymerization process as necessary. May be used. As the trimming cutter, any type of rotary cutter, shear blade, knife, or the like may be used. As for the material, either carbon steel or stainless steel may be used. In general, it is preferable to use a cemented carbide blade or a ceramic blade because the life of the blade is long and the generation of chips is suppressed.
Moreover, it is also preferable from a viewpoint of scratch prevention to attach a lami film to at least one surface before winding. A preferable winding tension is 1 kg / m width to 50 kg / width, more preferably 2 kg / m width to 40 kg / width, and further preferably 3 kg / m width to 20 kg / width. A winding tension of 1 kg / m width or more is preferable because the film can be easily wound up uniformly. If the take-up tension is 50 kg / width or less, the film will not be tightly wound, the winding appearance will be beautiful, and the film's bump will be extended by the creep phenomenon, causing the film to wavy. Residual birefringence due to elongation of the film does not occur. It is preferable that the winding tension is detected by tension control in the middle of the line and wound while being controlled so as to have a constant winding tension. If there is a difference in film temperature depending on the location of the film production line, the length of the film may be slightly different due to thermal expansion. It is necessary to prevent tension.
The winding tension can be wound at a constant tension by controlling the tension control. However, it is more preferable that the winding tension is tapered according to the wound diameter to obtain an appropriate winding tension. Generally, the tension is gradually reduced as the winding diameter increases, but in some cases, it may be preferable to increase the tension as the winding diameter increases.
Such a winding method can be similarly applied to the solution casting method described below.

(溶液製膜)
飽和ノルボルネンフィルムを溶液製膜法により製膜するときには、まず飽和ノルボルネン樹脂を溶媒に溶解させる。溶媒に溶解させる際の飽和ノルボルネン樹脂の濃度は3〜50質量%が好ましく、より好ましくは5〜40質量%、さらに好ましくは10〜35質量%である。得られる溶液の室温における粘度は、通常は1〜1,000,000(mPa・s)、好ましくは10〜100,000(mPa・s)、さらに好ましくは100〜50,000(mPa・s)、特に好ましくは1,000〜40,000(mPa・s)である。
使用する溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族系溶媒、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、1−メトキシ−2−プロパノール等のセロソルブ系溶媒、ジアセトンアルコール、アセトン、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、4−メチル−2−ペンタノン、シクロヘキサノン、エチルシクロヘキサノン、1,2−ジメチルシクロヘキサン等のケトン系溶媒、乳酸メチル、乳酸エチル等のエステル系溶媒、2,2,3,3−テトラフルオロ−1−プロパノール、塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン含有溶媒、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、1−ペンタノール、1−ブタノール等のアルコール系溶媒を挙げることができる。
(Solution casting)
When forming a saturated norbornene film by a solution casting method, first, a saturated norbornene resin is dissolved in a solvent. The concentration of the saturated norbornene resin when dissolved in the solvent is preferably 3 to 50% by mass, more preferably 5 to 40% by mass, and still more preferably 10 to 35% by mass. The viscosity of the resulting solution at room temperature is usually 1 to 1,000,000 (mPa · s), preferably 10 to 100,000 (mPa · s), more preferably 100 to 50,000 (mPa · s). Particularly preferably, it is 1,000 to 40,000 (mPa · s).
Solvents used include aromatic solvents such as benzene, toluene, xylene, cellosolve solvents such as methyl cellosolve, ethyl cellosolve, 1-methoxy-2-propanol, diacetone alcohol, acetone, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, 4-methyl. -2-pentanone, cyclohexanone, ethylcyclohexanone, ketone solvents such as 1,2-dimethylcyclohexane, ester solvents such as methyl lactate and ethyl lactate, 2,2,3,3-tetrafluoro-1-propanol, methylene chloride And halogen-containing solvents such as chloroform, ether solvents such as tetrahydrofuran and dioxane, and alcohol solvents such as 1-pentanol and 1-butanol.

また、上記以外でも、SP値(溶解度パラメーター)が通常10〜30(MPa1/2)、好ましくは10〜25(MPa1/2)、さらに好ましくは15〜25(MPa1/2)、特に好ましくは15〜20(MPa1/2)の範囲の溶媒を使用するのが好ましい。上記溶媒は単独であるいは2種以上併用して使用することができる。溶媒を2種以上併用する場合には、混合物としてのSP値の範囲を上記範囲内とすることが好ましい。このとき、混合物としてのSP値の値は、その質量比から求めることができ、例えば二種の混合物の場合は、各溶媒の質量分率をW1,W2、また、SP値をSP1,SP2とすると混合溶媒のSP値は下記式により計算した値として求めることができる。
SP値=W1・SP1+W2・SP2
さらに飽和ノルボルネンフィルムの表面平滑性を向上させるためにレベリング剤を添加してもよい。一般的なレベリング剤であれば何れも使用できるが、例えば、フッ素系ノニオン界面活性剤、特殊アクリル樹脂系レベリング剤、シリコーン系レベリング剤などを使用することができる。
In addition to the above, the SP value (solubility parameter) is usually 10 to 30 (MPa 1/2 ), preferably 10 to 25 (MPa 1/2 ), more preferably 15 to 25 (MPa 1/2 ), particularly It is preferable to use a solvent in the range of 15 to 20 (MPa 1/2 ). The said solvent can be used individually or in combination of 2 or more types. When using 2 or more types of solvent together, it is preferable to make the range of SP value as a mixture into the said range. At this time, the value of the SP value as a mixture can be determined from the mass ratio. For example, in the case of two kinds of mixtures, the mass fraction of each solvent is W1, W2, and the SP value is SP1, SP2. Then, SP value of a mixed solvent can be calculated | required as a value calculated by the following formula.
SP value = W1 · SP1 + W2 · SP2
Further, a leveling agent may be added to improve the surface smoothness of the saturated norbornene film. Any general leveling agent can be used. For example, a fluorine-based nonionic surfactant, a special acrylic resin leveling agent, a silicone leveling agent, and the like can be used.

飽和ノルボルネンフィルムを溶剤キャスト法により製造する方法としては、上記溶液をダイスやコーターを使用して金属ドラム、スチールベルト、ポリエチレンテレフタレート(PET)やポリエチレンナフタレート(PEN)等のポリエステルフィルム、ポリテトラフルオロエチレン製ベルトなどの基材の上に塗布し、その後溶剤を乾燥・除去して基材よりフィルムを剥離する方法が一般に挙げられる。
また、スプレー、ハケ、ロールスピンコート、ディッピングなどの手段を用いて,樹脂溶液を基材に塗布し、その後溶剤を乾燥・除去して基材よりフィルムを剥離することにより製造することもできる。なお、塗布の繰り返しにより厚みや表面平滑性等を制御してもよい。
また、基材としてポリエステルフィルムを使用する場合には、表面処理されたフィルムを使用してもよい。表面処理の方法としては、一般的に行われている親水化処理方法、例えばアクリル系樹脂やスルホン酸塩基含有樹脂をコーテイングやラミネートにより積層する方法、あるいは、コロナ放電処理等によりフィルム表面の親水性を向上させる方法等が挙げられる。
As a method for producing a saturated norbornene film by a solvent casting method, the above solution can be obtained by using a die or a coater to form a metal drum, a steel belt, a polyester film such as polyethylene terephthalate (PET) or polyethylene naphthalate (PEN), polytetrafluoro In general, a method of coating on a base material such as an ethylene belt and then drying and removing the solvent to peel the film from the base material can be mentioned.
Alternatively, the resin solution can be applied to the substrate by means of spraying, brushing, roll spin coating, dipping, etc., and then the solvent is dried and removed to peel the film from the substrate. The thickness and surface smoothness may be controlled by repeating the coating.
Moreover, when using a polyester film as a base material, you may use the film by which surface treatment was carried out. As a surface treatment method, a hydrophilic treatment method generally performed, for example, a method of laminating an acrylic resin or a sulfonate group-containing resin by coating or lamination, or a hydrophilic property of the film surface by corona discharge treatment or the like. The method etc. which improve are mentioned.

上記溶剤キャスト法の乾燥(溶剤除去)工程については、特に制限はなく一般的に用いられる方法、例えば多数のローラーを介して乾燥炉中を通過させる方法等で実施できるが、乾燥工程において溶媒の蒸発に伴い気泡が発生すると、フィルムの特性を著しく低下させるので、これを避けるために、乾燥工程を2段以上の複数工程とし、各工程での温度あるいは風量を制御することが好ましい。
また、飽和ノルボルネンフィルム中の残留溶媒量は、通常は10質量%以下、好ましくは5質量%以下、さらに好ましくは1質量%以下、特に好ましくは0.5質量%以下である。このように残留溶剤を少なくすることで、より一層粘着跡故障を軽減することができるため、好ましい。
本発明の飽和ノルボルネンフィルムの厚さは、10〜300μmが好ましく、より好ましくは20〜250μm、さらに好ましくは30〜200μmであり、厚み分布は、平均値に対して±8%以内が好ましく、より好ましくは±5%以内、さらに好ましくは±3%以内である。また、1cmあたりの厚みの変動は、通常は5%以下、好ましくは3%以下、さらに好ましくは1%以下、特に好ましくは0.5%以下である。
The drying (solvent removal) step of the solvent casting method is not particularly limited and can be carried out by a generally used method, for example, a method of passing through a drying furnace through a large number of rollers. If bubbles are generated as a result of evaporation, the characteristics of the film are remarkably deteriorated. Therefore, in order to avoid this, it is preferable to control the temperature or air volume in each step by making the drying step into a plurality of steps of two or more steps.
Further, the residual solvent amount in the saturated norbornene film is usually 10% by mass or less, preferably 5% by mass or less, more preferably 1% by mass or less, and particularly preferably 0.5% by mass or less. By reducing the residual solvent in this way, it is preferable because the adhesion trace failure can be further reduced.
The thickness of the saturated norbornene film of the present invention is preferably 10 to 300 μm, more preferably 20 to 250 μm, still more preferably 30 to 200 μm, and the thickness distribution is preferably within ± 8% with respect to the average value. Preferably it is within ± 5%, more preferably within ± 3%. The variation in thickness per cm is usually 5% or less, preferably 3% or less, more preferably 1% or less, and particularly preferably 0.5% or less.

《延伸》
上述のようにして溶液製膜または溶融製膜した飽和ノルボルネンフィルムを、上述の方法で縦延伸、横延伸する。これらの縦延伸、横延伸は溶液製膜、溶融製膜と切り離して実施しても良いし、連続して行っても良い。すなわち、製膜後、一端巻き取ったものを再度送り出して延伸してもよいし、製膜後そのまま連続して延伸してもよい。
このような延伸は溶剤量が0.5質量%以下で実施するのが好ましく、より好ましくは0.3質量%以下、さらに好ましくは0.1質量%以下である。
<Extension>
The saturated norbornene film formed as a solution or melt as described above is longitudinally stretched and laterally stretched by the method described above. These longitudinal stretching and lateral stretching may be carried out separately from solution casting or melt casting, or may be carried out continuously. In other words, after film formation, the one wound up may be sent out again and stretched, or may be continuously stretched as it is after film formation.
Such stretching is preferably carried out at a solvent amount of 0.5% by mass or less, more preferably 0.3% by mass or less, and still more preferably 0.1% by mass or less.

<飽和ノルボルネンフィルムの加工および使用>
このようにして得た飽和ノルボルネンフィルムは単独で使用してもよく、これらと偏光板とを組み合わせて使用してもよく、これらの上に液晶層や屈折率を制御した層(低反射層)やハードコート層を設けて使用しても良い。これらは以下の工程により達成できる。
<Processing and use of saturated norbornene film>
The saturated norbornene film thus obtained may be used alone or in combination with a polarizing plate, and a liquid crystal layer or a layer with a controlled refractive index (low reflection layer) on these. Alternatively, a hard coat layer may be provided. These can be achieved by the following steps.

《表面処理》
飽和ノルボルネンフィルムは表面処理を行うことによって、各機能層(例えば、下塗層およびバック層)との接着の向上させることができる。例えばグロー放電処理、紫外線照射処理、コロナ処理、火炎処理、酸またはアルカリ処理を用いることができる。ここでいうグロー放電処理とは、10-3〜20Torrの低圧ガス下でおこる低温プラズマでもよく、さらにまた大気圧下でのプラズマ処理も好ましい。プラズマ励起性気体とは上記のような条件においてプラズマ励起される気体をいい、アルゴン、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノン、窒素、二酸化炭素、テトラフルオロメタンの様なフロン類およびそれらの混合物などが挙げられる。これらについては、詳細が発明協会公開技報(公技番号2001−1745、2001年3月15日発行、発明協会)30頁〜32頁に詳細に記載されている。なお、近年注目されている大気圧でのプラズマ処理は、例えば10〜1000keV下で20〜500kGyの照射エネルギーが用いられ、より好ましくは30〜500keV下で20〜300kGyの照射エネルギーが用いられる。
これらの中でも特に好ましくは、グロー放電処理、コロナ処理、火炎処理である。
機能層との接着のため下塗り層を設けることも好ましい。この層は上記表面処理をした後、塗設しても良く、表面処理なしで塗設しても良い。下塗層についての詳細は、発明協会公開技報(公技番号2001−1745、2001年3月15日発行、発明協会)32頁に記載されている。これらの表面処理、下塗り工程は、製膜工程の最後に組み込むこともでき、単独で実施することもでき、後述の機能層付与工程の中で実施することもできる。
"surface treatment"
The saturated norbornene film can be improved in adhesion with each functional layer (for example, the undercoat layer and the back layer) by performing a surface treatment. For example, glow discharge treatment, ultraviolet irradiation treatment, corona treatment, flame treatment, acid or alkali treatment can be used. The glow discharge treatment here may be low-temperature plasma that occurs in a low-pressure gas of 10 −3 to 20 Torr, and plasma treatment under atmospheric pressure is also preferable. A plasma-excitable gas is a gas that is plasma-excited under the above-mentioned conditions, and examples thereof include chlorofluorocarbons such as argon, helium, neon, krypton, xenon, nitrogen, carbon dioxide, tetrafluoromethane, and mixtures thereof. It is done. Details of these are described in detail on pages 30 to 32 of the Japan Society of Invention Disclosure Technical Bulletin (Public Technical Number 2001-1745, published on March 15, 2001, Japan Society of Invention). In the plasma treatment at atmospheric pressure, which has been attracting attention in recent years, for example, irradiation energy of 20 to 500 kGy is used under 10 to 1000 keV, and more preferably irradiation energy of 20 to 300 kGy is used under 30 to 500 keV.
Of these, glow discharge treatment, corona treatment, and flame treatment are particularly preferred.
It is also preferable to provide an undercoat layer for adhesion to the functional layer. This layer may be applied after the above surface treatment or may be applied without the surface treatment. The details of the undercoat layer are described on page 32 of the Japan Society for Invention and Innovation (Public Technical Number 2001-1745, published on March 15, 2001, Japan Society of Invention). These surface treatment and undercoating processes can be incorporated at the end of the film forming process, can be performed alone, or can be performed in the functional layer application process described later.

《機能層の付与》
本発明の飽和ノルボルネンフィルムに、発明協会公開技報(公技番号2001−1745、2001年3月15日発行、発明協会)32頁〜45頁に詳細に記載されている機能性層を組み合わせることが好ましい。中でも好ましいのが、偏光膜の付与(偏光板)、光学補償層の付与(光学補償シート)、反射防止層の付与(反射防止フィルム)である。以下にこれらの好ましい態様について、順に説明する。
《Granting functional layer》
The saturated norbornene film of the present invention is combined with the functional layer described in detail on pages 32 to 45 of the Japan Institute of Invention Disclosure Bulletin (Public Technical No. 2001-1745, published on March 15, 2001, Japan Society of Invention). Is preferred. Among these, application of a polarizing film (polarizing plate), application of an optical compensation layer (optical compensation sheet), and application of an antireflection layer (antireflection film) are preferable. Hereinafter, these preferred embodiments will be described in order.

(イ)偏光膜の付与(偏光板の作成)
(イー1)使用素材
現在、市販の偏光膜は、延伸したポリマーを、浴槽中のヨウ素もしくは二色性色素の溶液に浸漬し、バインダー中にヨウ素、もしくは二色性色素を浸透させることで作製されるのが一般的である。偏光膜は、Optiva Inc.に代表される塗布型偏光膜も利用できる。偏光膜におけるヨウ素および二色性色素は、バインダー中で配向することで偏光性能を発現する。二色性色素としては、アゾ系色素、スチルベン系色素、ピラゾロン系色素、トリフェニルメタン系色素、キノリン系色素、オキサジン系色素、チアジン系色素あるいはアントラキノン系色素が用いられる。二色性色素は、水溶性であることが好ましい。二色性色素は、親水性置換基(例えば、スルホ基、アミノ基、ヒドロキシル基)を有することが好ましい。例えば、発明協会公開技法(公技番号2001−1745号、2001年3月15日発行、発明協会)58頁に記載の化合物が挙げられる。
偏光膜のバインダーは、それ自体架橋可能なポリマーあるいは架橋剤により架橋されるポリマーのいずれも使用することができ、これらの組み合わせを複数使用することができる。バインダーには、例えば特開平8−338913号公報の段落番号[0022]記載のメタクリレート系共重合体、スチレン系共重合体、ポリオレフィン、ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコール、ポリ(N−メチロールアクリルアミド)、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル共重合体、カルボキシメチルセルロース、ポリカーボネート等が含まれる。シランカップリング剤をポリマーとして用いることができる。水溶性ポリマー(例えば、ポリ(N−メチロールアクリルアミド)、カルボキシメチルセルロース、ゼラチン、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール)が好ましく、ゼラチン、ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコールがさらに好ましく、ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコールが最も好ましい。重合度が異なるポリビニルアルコールまたは変性ポリビニルアルコールを2種類併用することが特に好ましい。ポリビニルアルコールの鹸化度は、70〜100%が好ましく、80〜100%がさらに好ましい。ポリビニルアルコールの重合度は、100〜5000であることが好ましい。変性ポリビニルアルコールについては、特開平8−338913号、同9−152509号および同9−316127号の各公報に記載がある。ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコールは、二種以上を併用してもよい。
(A) Application of polarizing film (preparation of polarizing plate)
(E1) Material used Currently, a commercially available polarizing film is produced by immersing a stretched polymer in a solution of iodine or dichroic dye in a bath, and allowing the iodine or dichroic dye to penetrate into the binder. It is common to be done. As the polarizing film, a coating type polarizing film represented by Optiva Inc. can also be used. The iodine and the dichroic dye in the polarizing film develop polarizing performance by being oriented in the binder. As the dichroic dye, an azo dye, stilbene dye, pyrazolone dye, triphenylmethane dye, quinoline dye, oxazine dye, thiazine dye or anthraquinone dye is used. The dichroic dye is preferably water-soluble. The dichroic dye preferably has a hydrophilic substituent (for example, a sulfo group, an amino group, or a hydroxyl group). For example, the compounds described in page 58 of the Japan Society of Invention Disclosure Technique (Public Technical No. 2001-1745, published on March 15, 2001, Japan Society of Invention).
As the binder for the polarizing film, either a polymer that can be crosslinked per se or a polymer that is crosslinked by a crosslinking agent can be used, and a plurality of combinations of these can be used. Examples of the binder include methacrylate copolymer, styrene copolymer, polyolefin, polyvinyl alcohol and modified polyvinyl alcohol, poly (N-methylolacrylamide), polyester described in paragraph No. [0022] of JP-A-8-338913. , Polyimide, vinyl acetate copolymer, carboxymethyl cellulose, polycarbonate and the like. Silane coupling agents can be used as the polymer. Water-soluble polymers (for example, poly (N-methylolacrylamide), carboxymethylcellulose, gelatin, polyvinyl alcohol, and modified polyvinyl alcohol) are preferable, gelatin, polyvinyl alcohol, and modified polyvinyl alcohol are more preferable, and polyvinyl alcohol and modified polyvinyl alcohol are most preferable. . It is particularly preferable to use two types of polyvinyl alcohol or modified polyvinyl alcohol having different degrees of polymerization. The saponification degree of polyvinyl alcohol is preferably 70 to 100%, more preferably 80 to 100%. It is preferable that the polymerization degree of polyvinyl alcohol is 100-5000. The modified polyvinyl alcohol is described in JP-A-8-338913, JP-A-9-152509 and JP-A-9-316127. Two or more kinds of polyvinyl alcohol and modified polyvinyl alcohol may be used in combination.

バインダー厚みの下限は、10μmであることが好ましい。厚みの上限は、液晶表示装置の光漏れの観点からは、薄ければ薄い程よい。現在市販の偏光板の厚み(約30μm)以下であることが好ましく、25μm以下であることが好ましく、20μm以下であることがさらに好ましい。
偏光膜のバインダーは架橋していてもよい。架橋性の官能基を有するポリマー、モノマーをバインダー中に混合しても良く、バインダーポリマー自身に架橋性官能基を付与しても良い。架橋は、光、熱あるいはpH変化により行うことができ、架橋構造をもったバインダーを形成することができる。架橋剤については、米国再発行特許第23297号明細書に記載がある。また、ホウ素化合物(例えば、ホウ酸、硼砂)も、架橋剤として用いることができる。バインダーの架橋剤の添加量は、バインダーに対して、0.1〜20質量%が好ましい。偏光素子の配向性、偏光膜の耐湿熱性が良好となる。
架橋反応が終了後でも、未反応の架橋剤は1.0質量%以下であることが好ましく、0.5質量%以下であることがさらに好ましい。このようにすることで、耐候性が向上する。
The lower limit of the binder thickness is preferably 10 μm. The upper limit of the thickness is preferably as thin as possible from the viewpoint of light leakage of the liquid crystal display device. It is preferable that it is below the thickness (about 30 micrometers) of the commercially available polarizing plate now, it is preferable that it is 25 micrometers or less, and it is further more preferable that it is 20 micrometers or less.
The binder of the polarizing film may be cross-linked. A polymer or monomer having a crosslinkable functional group may be mixed in the binder, or a crosslinkable functional group may be imparted to the binder polymer itself. Crosslinking can be performed by light, heat, or pH change, and a binder having a crosslinked structure can be formed. The crosslinking agent is described in US Reissue Patent 23297. Boron compounds (for example, boric acid and borax) can also be used as a crosslinking agent. The addition amount of the crosslinking agent in the binder is preferably 0.1 to 20% by mass with respect to the binder. The orientation of the polarizing element and the moisture and heat resistance of the polarizing film are improved.
Even after the crosslinking reaction is completed, the amount of unreacted crosslinking agent is preferably 1.0% by mass or less, and more preferably 0.5% by mass or less. By doing in this way, a weather resistance improves.

(イー2)偏光膜の延伸
偏光膜は、偏光膜を延伸するか(延伸法)、もしくはラビングした(ラビング法)後に、ヨウ素、二色性染料で染色することが好ましい。
延伸法の場合、延伸倍率は2.5〜30.0倍が好ましく、3.0〜10.0倍がさらに好ましい。延伸は、空気中でのドライ延伸で実施できる。また、水に浸漬した状態でのウェット延伸を実施してもよい。ドライ延伸の延伸倍率は、2.5〜5.0倍が好ましく、ウェット延伸の延伸倍率は、3.0〜10.0倍が好ましい。ここでいう延伸倍率は、(延伸後の長さ/延伸前の長さ)である。延伸はMD方向に平行に行っても良く(平行延伸)、斜め方向におこなっても良い(斜め延伸)。これらの延伸は、1回で行っても、数回に分けて行ってもよい。数回に分けることによって、高倍率延伸でもより均一に延伸することができる。
(E2) Stretching of polarizing film The polarizing film is preferably dyed with iodine or a dichroic dye after the polarizing film is stretched (stretching method) or rubbed (rubbing method).
In the stretching method, the stretching ratio is preferably 2.5 to 30.0 times, and more preferably 3.0 to 10.0 times. Stretching can be performed by dry stretching in air. Moreover, you may implement wet extending | stretching in the state immersed in water. The stretch ratio of dry stretching is preferably 2.5 to 5.0 times, and the stretch ratio of wet stretching is preferably 3.0 to 10.0 times. The draw ratio here is (length after drawing / length before drawing). Stretching may be performed in parallel to the MD direction (parallel stretching) or may be performed in an oblique direction (oblique stretching). These stretching operations may be performed once or divided into several times. By dividing into several times, it can be stretched more uniformly even at high magnification.

a)平行延伸法
延伸に先立ち、PVAフィルムを膨潤させる。膨潤度は好ましくは1.2〜2.0倍(膨潤前と膨潤後の質量比)である。この後、ガイドロール等を介して連続搬送しつつ、水系媒体浴内や二色性物質溶解の染色浴内で、好ましくは15〜50℃、より好ましくは17〜40℃の浴温で延伸する。延伸は2対のニップロールで把持し、後段のニップロールの搬送速度を前段のそれより大きくすることで達成できる。延伸倍率は、延伸後/初期状態の長さ比(以下同じ)に基づくが前記作用効果の点より好ましい延伸倍率は好ましくは1.2〜3.5倍、より好ましくは1.5〜3.0倍である。この後、50℃〜90℃において乾燥させて偏光膜を得る。
a) Parallel stretch method Prior to stretching, the PVA film is swollen. The swelling degree is preferably 1.2 to 2.0 times (mass ratio before swelling and after swelling). Thereafter, the film is stretched at a bath temperature of preferably 15 to 50 ° C., more preferably 17 to 40 ° C. in an aqueous medium bath or a dye bath for dissolving a dichroic substance while being continuously conveyed through a guide roll or the like. . Stretching can be achieved by gripping with two pairs of nip rolls and increasing the conveyance speed of the subsequent nip roll to be higher than that of the previous nip roll. The draw ratio is based on the length ratio after stretching / initial state (hereinafter the same), but the draw ratio is preferably 1.2 to 3.5 times, more preferably 1.5 to 3. 0 times. Thereafter, the film is dried at 50 ° C. to 90 ° C. to obtain a polarizing film.

b)斜め延伸法
これには特開2002−86554号公報に記載の斜め方向に傾斜め方向に張り出したテンターを用い延伸する方法を用いることができる。この延伸は空気中で延伸するため、事前に含水させて延伸しやすくすることが必用である。好ましい含水率は5%〜100%、より好ましくは10%〜100%である。
延伸時の温度は40℃〜90℃が好ましく、より好ましくは50℃〜80℃である。相対湿度は50%〜100%が好ましく、より好ましくは70%〜100%、さらに好ましくは80%〜100%である。長手方向の進行速度は、1m/分以上が好ましく、より好ましくは3m/分以上である。
延伸の終了後、好ましくは50℃〜100℃、より好ましくは60℃〜90℃で、好ましくは0.5分〜10分乾燥する。乾燥時間は、より好ましくは1分〜5分である。
このようにして得られた偏光膜の吸収軸は10度〜80度が好ましく、より好ましくは30度〜60度であり、さらに好ましくは実質的に45度(40度〜50度)である。
b) Diagonal Stretching Method For this purpose, a method of stretching using a tenter projecting in an obliquely inclined direction as described in JP-A-2002-86554 can be used. Since this stretching is performed in the air, it is necessary to make it easy to stretch by adding water in advance. The preferred water content is 5% to 100%, more preferably 10% to 100%.
The temperature during stretching is preferably 40 ° C to 90 ° C, more preferably 50 ° C to 80 ° C. The relative humidity is preferably 50% to 100%, more preferably 70% to 100%, and still more preferably 80% to 100%. The traveling speed in the longitudinal direction is preferably 1 m / min or more, more preferably 3 m / min or more.
After the completion of stretching, the film is preferably dried at 50 ° C to 100 ° C, more preferably 60 ° C to 90 ° C, and preferably 0.5 minutes to 10 minutes. The drying time is more preferably 1 minute to 5 minutes.
The absorption axis of the polarizing film thus obtained is preferably 10 to 80 degrees, more preferably 30 to 60 degrees, and still more preferably 45 degrees (40 to 50 degrees).

(イー3)貼り合せ
上記表面処理後の飽和ノルボルネンフィルムと、延伸して調製した偏光膜を貼り合わせ偏光板を調製する。張り合わせる方向は、飽和ノルボルネンフィルムの流延軸方向と偏光板の延伸軸方向が45度になるように行うのが好ましい。
貼り合わせの接着剤は特に限定されないが、PVA系樹脂(アセトアセチル基、スルホン酸基、カルボキシル基、オキシアルキレン基等の変性PVAを含む)やホウ素化合物水溶液、エポキシ系接着剤等が挙げられ、中でもPVA系樹脂、エポキシ系接着剤が好ましい。接着剤層厚みは乾燥後で0.01〜10μmが好ましく、0.05〜5μmが特に好ましい。
このようにして得た偏光板の光線透過率は高い方が好ましく、偏光度も高い方が好ましい。偏光板の透過率は、波長550nmの光において、30〜50%の範囲にあることが好ましく、35〜50%の範囲にあることがさらに好ましく、40〜50%の範囲にあることが最も好ましい。偏光度は、波長550nmの光において、90〜100%の範囲にあることが好ましく、95〜100%の範囲にあることがさらに好ましく、99〜100%の範囲にあることが最も好ましい。
さらに、このようにして得た偏光板はλ/4板と積層し、円偏光を作成することができる。この場合λ/4の遅相軸と偏光板の吸収軸を45度になるように積層する。この時、λ/4は特に限定されないが、より好ましくは低波長ほどレターデーションが小さくなるような波長依存性を有するものがより好ましい。さらには長手方向に対し20度〜70度傾いた吸収軸を有する偏光膜、および液晶性化合物からなる光学異方性層から成るλ/4板を用いることが好ましい。
(E3) Bonding The saturated norbornene film after the surface treatment and the polarizing film prepared by stretching are bonded to prepare a polarizing plate. The laminating direction is preferably such that the casting axis direction of the saturated norbornene film and the stretching axis direction of the polarizing plate are 45 degrees.
The bonding adhesive is not particularly limited, and examples include PVA resins (including modified PVA such as acetoacetyl group, sulfonic acid group, carboxyl group, oxyalkylene group), boron compound aqueous solution, epoxy adhesive, and the like. Of these, PVA resins and epoxy adhesives are preferred. The thickness of the adhesive layer is preferably 0.01 to 10 μm after drying, and particularly preferably 0.05 to 5 μm.
The polarizing plate thus obtained preferably has a higher light transmittance, and preferably has a higher degree of polarization. The transmittance of the polarizing plate is preferably in the range of 30 to 50%, more preferably in the range of 35 to 50%, and most preferably in the range of 40 to 50% in light having a wavelength of 550 nm. . The degree of polarization is preferably in the range of 90 to 100%, more preferably in the range of 95 to 100%, and most preferably in the range of 99 to 100% in light having a wavelength of 550 nm.
Furthermore, the polarizing plate thus obtained can be laminated with a λ / 4 plate to produce circularly polarized light. In this case, lamination is performed so that the slow axis of λ / 4 and the absorption axis of the polarizing plate are 45 degrees. At this time, λ / 4 is not particularly limited, but more preferably has a wavelength dependency such that the lower the wavelength, the smaller the retardation. Furthermore, it is preferable to use a polarizing film having an absorption axis inclined by 20 to 70 degrees with respect to the longitudinal direction and a λ / 4 plate made of an optically anisotropic layer made of a liquid crystalline compound.

(ロ)光学補償層の付与(光学補償シートの作成)
光学異方性層は、液晶表示装置の黒表示における液晶セル中の液晶化合物を補償するためのものであり、飽和ノルボルネンフィルムの上に配向膜を形成し、さらに光学異方性層を付与することで形成される。
(B) Application of optical compensation layer (creation of optical compensation sheet)
The optically anisotropic layer is for compensating for the liquid crystal compound in the liquid crystal cell in the black display of the liquid crystal display device, forms an alignment film on the saturated norbornene film, and further provides an optically anisotropic layer. Is formed.

(ロー1)配向膜
上記表面処理した飽和ノルボルネンフィルム上に配向膜を設ける。この膜は、液晶性分子の配向方向を規定する機能を有する。しかし、液晶性化合物を配向後にその配向状態を固定してしまえば、配向膜はその役割を果たしているために、本発明の構成要素としては必ずしも必須のものではない。即ち、配向状態が固定された配向膜上の光学異方性層のみを偏光子上に転写して本発明の偏光板を作製することも可能である。
配向膜は、有機化合物(好ましくはポリマー)のラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成、あるいはラングミュア・ブロジェット法(LB膜)による有機化合物(例えば、ω−トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライド、ステアリル酸メチル)の累積のような手段で設けることができる。さらに、電場の付与、磁場の付与あるいは光照射により、配向機能が生じる配向膜も知られている。
配向膜は、ポリマーのラビング処理により形成することが好ましい。配向膜に使用するポリマーは、原則として、液晶性分子を配向させる機能のある分子構造を有する。
本発明では、液晶性分子を配向させる機能に加えて、架橋性官能基(例えば、二重結合)を有する側鎖を主鎖に結合させるか、あるいは、液晶性分子を配向させる機能を有する架橋性官能基を側鎖に導入することが好ましい。
(Row 1) Alignment film An alignment film is provided on the surface-treated saturated norbornene film. This film has a function of defining the alignment direction of liquid crystalline molecules. However, if the alignment state is fixed after aligning the liquid crystalline compound, the alignment film plays the role, and thus is not necessarily an essential component of the present invention. That is, it is possible to produce the polarizing plate of the present invention by transferring only the optically anisotropic layer on the alignment film in which the alignment state is fixed onto the polarizer.
The alignment film is an organic compound (for example, ω-tricosanoic acid) formed by rubbing treatment of an organic compound (preferably polymer), oblique deposition of an inorganic compound, formation of a layer having a microgroove, or Langmuir-Blodgett method (LB film). , Dioctadecylmethylammonium chloride, methyl stearylate). Furthermore, an alignment film in which an alignment function is generated by application of an electric field, application of a magnetic field, or light irradiation is also known.
The alignment film is preferably formed by polymer rubbing treatment. In principle, the polymer used for the alignment film has a molecular structure having a function of aligning liquid crystal molecules.
In the present invention, in addition to the function of aligning liquid crystalline molecules, a crosslink having a function of aligning a side chain having a crosslinkable functional group (for example, a double bond) to the main chain or aligning liquid crystalline molecules. It is preferable to introduce a functional functional group into the side chain.

配向膜に使用されるポリマーは、それ自体架橋可能なポリマーあるいは架橋剤により架橋されるポリマーのいずれも使用することができし、これらの組み合わせを複数使用することができる。ポリマーの例には、例えば特開平8−338913号公報の段落番号[0022]記載のメタクリレート系共重合体、スチレン系共重合体、ポリオレフィン、ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコール、ポリ(N−メチロールアクリルアミド)、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル共重合体、カルボキシメチルセルロース、ポリカーボネート等が含まれる。シランカップリング剤をポリマーとして用いることができる。水溶性ポリマー(例えば、ポリ(N−メチロールアクリルアミド)、カルボキシメチルセルロース、ゼラチン、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール)が好ましく、ゼラチン、ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコールがさらに好ましく、ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコールが最も好ましい。重合度が異なるポリビニルアルコールまたは変性ポリビニルアルコールを2種類併用することが特に好ましい。ポリビニルアルコールの鹸化度は、70〜100%が好ましく、80〜100%がさらに好ましい。ポリビニルアルコールの重合度は、100〜5000であることが好ましい。   As the polymer used in the alignment film, either a polymer that can be crosslinked by itself or a polymer that is crosslinked by a crosslinking agent can be used, and a plurality of combinations thereof can be used. Examples of the polymer include methacrylate copolymers, styrene copolymers, polyolefins, polyvinyl alcohols and modified polyvinyl alcohols, poly (N-methylol acrylamide) described in paragraph No. [0022] of JP-A-8-338913, for example. , Polyester, polyimide, vinyl acetate copolymer, carboxymethyl cellulose, polycarbonate and the like. Silane coupling agents can be used as the polymer. Water-soluble polymers (for example, poly (N-methylolacrylamide), carboxymethylcellulose, gelatin, polyvinyl alcohol, and modified polyvinyl alcohol) are preferable, gelatin, polyvinyl alcohol, and modified polyvinyl alcohol are more preferable, and polyvinyl alcohol and modified polyvinyl alcohol are most preferable. . It is particularly preferable to use two types of polyvinyl alcohol or modified polyvinyl alcohol having different degrees of polymerization. The saponification degree of polyvinyl alcohol is preferably 70 to 100%, more preferably 80 to 100%. It is preferable that the polymerization degree of polyvinyl alcohol is 100-5000.

液晶性分子を配向させる機能を有する側鎖は、一般に疎水性基を官能基として有する。具体的な官能基の種類は、液晶性分子の種類および必要とする配向状態に応じて決定する。例えば、変性ポリビニルアルコールの変性基としては、共重合変性、連鎖移動変性またはブロック重合変性により導入できる。変性基の例には、親水性基(カルボン酸基、スルホン酸基、ホスホン酸基、アミノ基、アンモニウム基、アミド基、チオール基等)、炭素数10〜100個の炭化水素基、フッ素原子置換の炭化水素基、チオエーテル基、重合性基(不飽和重合性基、エポキシ基、アジリニジル基等)、アルコキシシリル基(トリアルコキシ、ジアルコキシ、モノアルコキシ)等が挙げられる。これらの変性ポリビニルアルコール化合物の具体例として、例えば特開2000−155216号公報の段落番号[0022]〜[0145]、同2002−62426号公報の段落番号[0018]〜[0022]に記載のもの等が挙げられる。
架橋性官能基を有する側鎖を配向膜ポリマーの主鎖に結合させるか、あるいは、液晶性分子を配向させる機能を有する側鎖に架橋性官能基を導入すると、配向膜のポリマーと光学異方性層に含まれる多官能モノマーとを共重合させることができる。その結果、多官能モノマーと多官能モノマーとの間だけではなく、配向膜ポリマーと配向膜ポリマーとの間、そして多官能モノマーと配向膜ポリマーとの間も共有結合で強固に結合される。従って、架橋性官能基を配向膜ポリマーに導入することで、光学補償シートの強度を著しく改善することができる。
A side chain having a function of aligning liquid crystal molecules generally has a hydrophobic group as a functional group. The specific type of functional group is determined according to the type of liquid crystal molecule and the required alignment state. For example, the modifying group of the modified polyvinyl alcohol can be introduced by copolymerization modification, chain transfer modification or block polymerization modification. Examples of modifying groups include hydrophilic groups (carboxylic acid groups, sulfonic acid groups, phosphonic acid groups, amino groups, ammonium groups, amide groups, thiol groups, etc.), hydrocarbon groups having 10 to 100 carbon atoms, fluorine atoms Examples include substituted hydrocarbon groups, thioether groups, polymerizable groups (unsaturated polymerizable groups, epoxy groups, azirinidyl groups, etc.), alkoxysilyl groups (trialkoxy, dialkoxy, monoalkoxy), and the like. Specific examples of these modified polyvinyl alcohol compounds include those described in, for example, paragraph numbers [0022] to [0145] of JP-A No. 2000-155216 and paragraph numbers [0018] to [0022] of JP-A No. 2002-62426. Etc.
When a side chain having a crosslinkable functional group is bonded to the main chain of the alignment film polymer, or a crosslinkable functional group is introduced into a side chain having a function of aligning liquid crystalline molecules, the alignment film polymer and the optically anisotropic film The polyfunctional monomer contained in the conductive layer can be copolymerized. As a result, not only between the polyfunctional monomer and the polyfunctional monomer, but also between the alignment film polymer and the alignment film polymer and between the polyfunctional monomer and the alignment film polymer is firmly bonded by a covalent bond. Therefore, the strength of the optical compensation sheet can be remarkably improved by introducing the crosslinkable functional group into the alignment film polymer.

配向膜ポリマーの架橋性官能基は、多官能モノマーと同様に、重合性基を含むことが好ましい。具体的には、例えば特開2000−155216号公報の段落番号[0080]〜[0100]記載のもの等が挙げられる。配向膜ポリマーは、上記の架橋性官能基とは別に、架橋剤を用いて架橋させることもできる。
架橋剤としては、アルデヒド、N−メチロール化合物、ジオキサン誘導体、カルボキシル基を活性化することにより作用する化合物、活性ビニル化合物、活性ハロゲン化合物、イソオキサゾールおよびジアルデヒド澱粉が含まれる。二種類以上の架橋剤を併用してもよい。具体的には、例えば特開2002−62426号公報の段落番号[0023]〜[0024]記載の化合物等が挙げられる。反応活性の高いアルデヒド、特にグルタルアルデヒドが好ましい。
The crosslinkable functional group of the alignment film polymer preferably contains a polymerizable group in the same manner as the polyfunctional monomer. Specific examples include those described in JP-A 2000-155216, paragraph numbers [0080] to [0100]. Apart from the crosslinkable functional group, the alignment film polymer can also be crosslinked using a crosslinking agent.
Examples of the crosslinking agent include aldehydes, N-methylol compounds, dioxane derivatives, compounds that act by activating carboxyl groups, active vinyl compounds, active halogen compounds, isoxazole, and dialdehyde starch. Two or more kinds of crosslinking agents may be used in combination. Specific examples include compounds described in paragraph numbers [0023] to [0024] of JP-A No. 2002-62426. Aldehydes having high reaction activity, particularly glutaraldehyde are preferred.

架橋剤の添加量は、ポリマーに対して0.1〜20質量%が好ましく、0.5〜15質量%がさらに好ましい。配向膜に残存する未反応の架橋剤の量は、1.0質量%以下であることが好ましく、0.5質量%以下であることがさらに好ましい。このように調節することで、配向膜を液晶表示装置に長期使用、或は高温高湿の雰囲気下に長期間放置しても、レチキュレーション発生のない充分な耐久性が得られる。が発生することがある。
配向膜は、基本的に、配向膜形成材料である上記ポリマー、架橋剤を含む透明支持体上に塗布した後、加熱乾燥(架橋させ)し、ラビング処理することにより形成することができる。架橋反応は、前記のように、透明支持体上に塗布した後、任意の時期に行って良い。ポリビニルアルコールのような水溶性ポリマーを配向膜形成材料として用いる場合には、塗布液は消泡作用のある有機溶媒(例えば、メタノール)と水の混合溶媒とすることが好ましい。その比率は質量比で水:メタノールが0:100〜99:1が好ましく、0:100〜91:9であることがさらに好ましい。これにより、泡の発生が抑えられ、配向膜、さらには光学異方性層の層表面の欠陥が著しく減少する。
0.1-20 mass% is preferable with respect to a polymer, and, as for the addition amount of a crosslinking agent, 0.5-15 mass% is more preferable. The amount of the unreacted crosslinking agent remaining in the alignment film is preferably 1.0% by mass or less, and more preferably 0.5% by mass or less. By adjusting in this way, even if the alignment film is used for a long time in a liquid crystal display device or left in a high temperature and high humidity atmosphere for a long time, sufficient durability without reticulation can be obtained. May occur.
The alignment film can be basically formed by applying the polymer on the transparent support containing the alignment film forming material and the crosslinking agent, followed by drying by heating (crosslinking) and rubbing treatment. As described above, the crosslinking reaction may be carried out at any time after coating on the transparent support. When a water-soluble polymer such as polyvinyl alcohol is used as the alignment film forming material, the coating solution is preferably a mixed solvent of an organic solvent (for example, methanol) having a defoaming action and water. The ratio of water: methanol is preferably 0: 100 to 99: 1, and more preferably 0: 100 to 91: 9. Thereby, generation | occurrence | production of a bubble is suppressed and the defect of the layer surface of an alignment film and also an optically anisotropic layer reduces remarkably.

配向膜の塗布方法は、スピンコーティング法、ディップコーティング法、カーテンコーティング法、エクストルージョンコーティング法、ロッドコーティング法またはロールコーティング法が好ましい。特にロッドコーティング法が好ましい。また、乾燥後の膜厚は0.1〜10μmが好ましい。加熱乾燥は、20℃〜110℃で行なうことができる。充分な架橋を形成するためには60℃〜100℃が好ましく、特に80℃〜100℃が好ましい。乾燥時間は1分〜36時間で行なうことができるが、好ましくは1分〜30分である。pHも、使用する架橋剤に最適な値に設定することが好ましく、グルタルアルデヒドを使用した場合は、pH4.5〜5.5で、特に5が好ましい。
配向膜は、透明支持体上または上記下塗層上に設けられる。配向膜は、上記のようにポリマー層を架橋したのち、表面をラビング処理することにより得ることができる。
前記ラビング処理は、LCDの液晶配向処理工程として広く採用されている処理方法を適用することができる。即ち、配向膜の表面を、紙やガーゼ、フェルト、ゴムあるいはナイロン、ポリエステル繊維などを用いて一定方向に擦ることにより、配向を得る方法を用いることができる。一般的には、長さおよび太さが均一な繊維を平均的に植毛した布などを用いて数回程度ラビングを行うことにより実施される。
The alignment film is preferably applied by spin coating, dip coating, curtain coating, extrusion coating, rod coating, or roll coating. The rod coating method is particularly preferable. The film thickness after drying is preferably 0.1 to 10 μm. Heating and drying can be performed at 20 ° C to 110 ° C. In order to form a sufficient crosslink, 60 ° C to 100 ° C is preferable, and 80 ° C to 100 ° C is particularly preferable. The drying time can be 1 minute to 36 hours, preferably 1 minute to 30 minutes. The pH is also preferably set to an optimum value for the crosslinking agent to be used. When glutaraldehyde is used, the pH is 4.5 to 5.5, and 5 is particularly preferable.
The alignment film is provided on the transparent support or the undercoat layer. The alignment film can be obtained by rubbing the surface after crosslinking the polymer layer as described above.
For the rubbing treatment, a treatment method widely adopted as a liquid crystal alignment treatment process of LCD can be applied. That is, a method of obtaining the orientation by rubbing the surface of the orientation film in a certain direction using paper, gauze, felt, rubber, nylon, polyester fiber or the like can be used. Generally, it is carried out by rubbing several times using a cloth or the like in which fibers having a uniform length and thickness are planted on average.

工業的に実施する場合、搬送している偏光膜のついたフィルムに対し、回転するラビングロールを接触させることで達成するが、ラビングロールの真円度、円筒度、振れ(偏芯)はいずれも30μm以下であることが好ましい。ラビングロールへのフィルムのラップ角度は、0.1〜90°が好ましい。ただし、特開平8−160430号公報に記載されているように、360°以上巻き付けることで、安定なラビング処理を得ることもできる。フィルムの搬送速度は1〜100m/minが好ましい。ラビング角は0〜60°の範囲で適切なラビング角度を選択することが好ましい。液晶表示装置に使用する場合は、40〜50°が好ましく、45°が特に好ましい。
このようにして得た配向膜の膜厚は、0.1〜10μmの範囲にあることが好ましい。
In industrial implementation, this is achieved by bringing the rotating rubbing roll into contact with the film with the polarizing film being transported. Is preferably 30 μm or less. The film wrap angle on the rubbing roll is preferably 0.1 to 90 °. However, as described in JP-A-8-160430, a stable rubbing treatment can be obtained by winding 360 ° or more. As for the conveyance speed of a film, 1-100 m / min is preferable. It is preferable to select an appropriate rubbing angle in the range of 0 to 60 °. When used in a liquid crystal display device, 40 to 50 ° is preferable, and 45 ° is particularly preferable.
The thickness of the alignment film thus obtained is preferably in the range of 0.1 to 10 μm.

次に、配向膜の上に光学異方性層の液晶性分子を配向させる。その後、必要に応じて、配向膜ポリマーと光学異方性層に含まれる多官能モノマーとを反応させるか、あるいは、架橋剤を用いて配向膜ポリマーを架橋させる。
光学異方性層に用いる液晶性分子には、棒状液晶性分子および円盤状液晶性分子が含まれる。棒状液晶性分子および円盤状液晶性分子は、高分子液晶でも低分子液晶でもよく、さらに、低分子液晶が架橋され液晶性を示さなくなったものも含まれる。
Next, the liquid crystalline molecules of the optically anisotropic layer are aligned on the alignment film. Thereafter, as necessary, the alignment film polymer and the polyfunctional monomer contained in the optically anisotropic layer are reacted, or the alignment film polymer is crosslinked using a crosslinking agent.
The liquid crystalline molecules used in the optically anisotropic layer include rod-like liquid crystalline molecules and discotic liquid crystalline molecules. The rod-like liquid crystal molecules and the disk-like liquid crystal molecules may be high-molecular liquid crystals or low-molecular liquid crystals, and further include those in which low-molecular liquid crystals are cross-linked and no longer exhibit liquid crystallinity.

(ロー2)棒状液晶性分子
棒状液晶性分子としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類およびアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。
なお、棒状液晶性分子には、金属錯体も含まれる。また、棒状液晶性分子を繰り返し単位中に含む液晶ポリマーも、棒状液晶性分子として用いることができる。言い換えると、棒状液晶性分子は、(液晶)ポリマーと結合していてもよい。
棒状液晶性分子については、季刊化学総説第22巻液晶の化学(1994)日本化学会編の第4章、第7章および第11章、および液晶デバイスハンドブック日本学術振興会第142委員会編の第3章に記載がある。
棒状液晶性分子の複屈折率は、0.001〜0.7の範囲にあることが好ましい。
棒状液晶性分子は、その配向状態を固定するために、重合性基を有することが好ましい。重合性基は、ラジカル重合性不飽基或はカチオン重合性基が好ましく、具体的には、例えば特開2002−62427号公報の段落番号[0064]〜[0086]記載の重合性基、重合性液晶化合物が挙げられる。
(Ro 2) Rod-like liquid crystalline molecules As rod-like liquid crystalline molecules, azomethines, azoxys, cyanobiphenyls, cyanophenyl esters, benzoic acid esters, cyclohexanecarboxylic acid phenyl esters, cyanophenylcyclohexanes, cyano-substituted phenyl Pyrimidines, alkoxy-substituted phenylpyrimidines, phenyldioxanes, tolanes and alkenylcyclohexylbenzonitriles are preferably used.
The rod-like liquid crystalline molecule includes a metal complex. In addition, a liquid crystal polymer containing a rod-like liquid crystalline molecule in a repeating unit can also be used as the rod-like liquid crystalline molecule. In other words, the rod-like liquid crystal molecule may be bonded to a (liquid crystal) polymer.
For rod-like liquid crystalline molecules, see Chapter 4, Chapter 7 and Chapter 11 of the Chemical Chemistry of the Quarterly Chemical Review Vol. 22, Liquid Crystal Chemistry (1994), and the 142nd Committee of the Japan Society for the Promotion of Science. Described in Chapter 3.
The birefringence of the rod-like liquid crystal molecule is preferably in the range of 0.001 to 0.7.
The rod-like liquid crystalline molecule preferably has a polymerizable group in order to fix its alignment state. The polymerizable group is preferably a radical polymerizable unsaturated group or a cationic polymerizable group. Specifically, for example, the polymerizable group described in paragraphs [0064] to [0086] of JP-A No. 2002-62427 can be used. Liquid crystal compounds.

(ロー3)円盤状液晶性分子
円盤状(ディスコティック)液晶性分子には、C.Destradeらの研究報告、Mol.Cryst.71巻、111頁(1981年)に記載されているベンゼン誘導体、C.Destradeらの研究報告、Mol.Cryst.122巻、141頁(1985年)、Physics lett,A,78巻、82頁(1990)に記載されているトルキセン誘導体、B.Kohneらの研究報告、Angew.Chem.96巻、70頁(1984年)に記載されたシクロヘキサン誘導体およびJ.M.Lehnらの研究報告、J.Chem.Commun.,1794頁(1985年)、J.Zhangらの研究報告、J.Am.Chem.Soc.116巻、2655頁(1994年)に記載されているアザクラウン系やフェニルアセチレン系マクロサイクルが含まれる。
(Row 3) Discotic liquid crystalline molecules Discotic liquid crystalline molecules include C.I. Destrade et al., Mol. Cryst. 71, 111 (1981), benzene derivatives described in C.I. Destrade et al., Mol. Cryst. 122, 141 (1985), Physics lett, A, 78, 82 (1990); Kohne et al., Angew. Chem. 96, page 70 (1984) and the cyclohexane derivatives described in J. Am. M.M. Lehn et al. Chem. Commun. , 1794 (1985), J. Am. Zhang et al., J. Am. Chem. Soc. 116, 2655 (1994), azacrown type and phenylacetylene type macrocycles are included.

円盤状液晶性分子としては、分子中心の母核に対して、直鎖のアルキル基、アルコキシ基、置換ベンゾイルオキシ基が母核の側鎖として放射線状に置換した構造である液晶性を示す化合物も含まれる。分子または分子の集合体が、回転対称性を有し、一定の配向を付与できる化合物であることが好ましい。円盤状液晶性分子から形成する光学異方性層は、最終的に光学異方性層に含まれる化合物が円盤状液晶性分子である必要はなく、例えば、低分子の円盤状液晶性分子が熱や光で反応する基を有しており、結果的に熱、光で反応により重合または架橋し、高分子量化し液晶性を失った化合物も含まれる。円盤状液晶性分子の好ましい例は、特開平8−50206号公報に記載されている。また、円盤状液晶性分子の重合については、特開平8−27284公報に記載がある。
円盤状液晶性分子を重合により固定するためには、円盤状液晶性分子の円盤状コアに、置換基として重合性基を結合させる必要がある。円盤状コアと重合性基は、連結基を介して結合する化合物が好ましく、これにより重合反応においても配向状態を保つことができる。例えば、特開2000−155216号公報の段落番号[0151]〜[0168]記載の化合物等が挙げられる。
As a discotic liquid crystalline molecule, a compound having liquid crystallinity having a structure in which a linear alkyl group, an alkoxy group, and a substituted benzoyloxy group are radially substituted as a side chain of the mother nucleus with respect to the mother nucleus at the center of the molecule Is also included. The molecule or the assembly of molecules is preferably a compound that has rotational symmetry and can give a certain orientation. In the optically anisotropic layer formed from the discotic liquid crystalline molecules, the compound finally contained in the optically anisotropic layer does not need to be a discotic liquid crystalline molecule. Also included are compounds that have a group that reacts with heat or light, and that eventually polymerize or cross-link by reaction with heat or light to increase the molecular weight and lose liquid crystallinity. Preferred examples of the discotic liquid crystalline molecules are described in JP-A-8-50206. The polymerization of discotic liquid crystalline molecules is described in JP-A-8-27284.
In order to fix the discotic liquid crystalline molecules by polymerization, it is necessary to bond a polymerizable group as a substituent to the discotic core of the discotic liquid crystalline molecules. A compound in which the discotic core and the polymerizable group are bonded via a linking group is preferable, whereby the orientation state can be maintained even in the polymerization reaction. Examples thereof include compounds described in paragraph numbers [0151] to [0168] of JP-A No. 2000-155216.

光学異方性層の深さ方向でかつ偏光膜の面からの距離の増加と共に増加または減少している。角度は、距離の増加と共に減少することが好ましい。さらに、角度の変化としては、連続的増加、連続的減少、間欠的増加、間欠的減少、連続的増加と連続的減少を含む変化、あるいは、増加および減少を含む間欠的変化が可能である。間欠的変化は、厚さ方向の途中で傾斜角が変化しない領域を含んでいる。角度は、角度が変化しない領域を含んでいても、全体として増加または減少していればよい。さらに、角度は連続的に変化することが好ましい。
偏光膜側の円盤状液晶性分子の長軸の平均方向は、一般に円盤状液晶性分子あるいは配向膜の材料を選択することにより、またはラビング処理方法の選択することにより、調整することができる。また、表面側(空気側)の円盤状液晶性分子の長軸(円盤面)方向は、一般に円盤状液晶性分子あるいは円盤状液晶性分子と共に使用する添加剤の種類を選択することにより調整することができる。円盤状液晶性分子と共に使用する添加剤の例としては、可塑剤、界面活性剤、重合性モノマーおよびポリマーなどを挙げることができる。長軸の配向方向の変化の程度も、上記と同様に、液晶性分子と添加剤との選択により調整できる。
It increases or decreases in the depth direction of the optically anisotropic layer and with increasing distance from the plane of the polarizing film. The angle preferably decreases with increasing distance. Further, the change in angle can be a continuous increase, a continuous decrease, an intermittent increase, an intermittent decrease, a change including a continuous increase and a continuous decrease, or an intermittent change including an increase and a decrease. The intermittent change includes a region where the inclination angle does not change in the middle of the thickness direction. Even if the angle includes a region where the angle does not change, the angle only needs to increase or decrease as a whole. Furthermore, it is preferable that the angle changes continuously.
The average direction of the major axis of the discotic liquid crystalline molecules on the polarizing film side can be generally adjusted by selecting a discotic liquid crystalline molecule or an alignment film material, or by selecting a rubbing treatment method. In addition, the major axis (disk surface) direction of the surface-side (air-side) discotic liquid crystalline molecules is generally adjusted by selecting the type of additive used together with the discotic liquid crystalline molecules or discotic liquid crystalline molecules. be able to. Examples of the additive used together with the discotic liquid crystalline molecule include a plasticizer, a surfactant, a polymerizable monomer and a polymer. The degree of change in the orientation direction of the major axis can also be adjusted by selecting liquid crystalline molecules and additives as described above.

(ロー4)光学異方性層の他の組成物
上記の液晶性分子と共に、可塑剤、界面活性剤、重合性モノマー等を併用して、塗工膜の均一性、膜の強度、液晶分子の配向性等を向上することができる。液晶性分子と相溶性を有し、液晶性分子の傾斜角の変化を与えられるか、あるいは配向を阻害しないことが好ましい。
重合性モノマーとしては、ラジカル重合性若しくはカチオン重合性の化合物が挙げられる。好ましくは、多官能性ラジカル重合性モノマーであり、上記の重合性基含有の液晶化合物と共重合性のものが好ましい。例えば、特開2002−296423号公報の段落番号[0018]〜[0020]記載のものが挙げられる。上記化合物の添加量は、円盤状液晶性分子に対して一般に1〜50質量%の範囲にあり、5〜30質量%の範囲にあることが好ましい。
界面活性剤としては、従来公知の化合物が挙げられるが、特にフッ素系化合物が好ましい。具体的には、例えば特開2001−330725号公報の段落番号[0028]〜[0056]記載の化合物が挙げられる。
(Raw 4) Other composition of optically anisotropic layer Along with the above liquid crystalline molecules, a plasticizer, a surfactant, a polymerizable monomer, etc. are used in combination to obtain coating film uniformity, film strength, and liquid crystal molecules. The orientation of the film can be improved. It is preferable that the compound has compatibility with the liquid crystal molecules and can change the tilt angle of the liquid crystal molecules or does not inhibit the alignment.
Examples of the polymerizable monomer include radically polymerizable or cationically polymerizable compounds. Preferably, it is a polyfunctional radically polymerizable monomer and is preferably copolymerizable with the above-described polymerizable group-containing liquid crystal compound. Examples thereof include those described in JP-A-2002-296423, paragraph numbers [0018] to [0020]. The amount of the compound added is generally in the range of 1 to 50% by mass and preferably in the range of 5 to 30% by mass with respect to the discotic liquid crystalline molecules.
Examples of the surfactant include conventionally known compounds, and fluorine compounds are particularly preferable. Specifically, for example, compounds described in JP-A-2001-330725, paragraph numbers [0028] to [0056] can be mentioned.

円盤状液晶性分子とともに使用するポリマーは、円盤状液晶性分子に傾斜角の変化を与えられることが好ましい。
ポリマーの例としては、セルロースエステルを挙げることができる。セルロースエステルの好ましい例としては、特開2000−155216号公報の段落番号[0178]記載のものが挙げられる。液晶性分子の配向を阻害しないように、上記ポリマーの添加量は、液晶性分子に対して0.1〜10質量%の範囲にあることが好ましく、0.1〜8質量%の範囲にあることがより好ましい。
円盤状液晶性分子のディスコティックネマティック液晶相−固相転移温度は、70〜300℃が好ましく、70〜170℃がさらに好ましい。
The polymer used together with the discotic liquid crystalline molecule is preferably capable of changing the tilt angle of the discotic liquid crystalline molecule.
A cellulose ester can be mentioned as an example of a polymer. Preferable examples of the cellulose ester include those described in paragraph No. [0178] of JP-A No. 2000-155216. The addition amount of the polymer is preferably in the range of 0.1 to 10% by mass, and preferably in the range of 0.1 to 8% by mass with respect to the liquid crystal molecule so as not to inhibit the alignment of the liquid crystal molecules. It is more preferable.
The discotic nematic liquid crystal phase-solid phase transition temperature of the discotic liquid crystalline molecules is preferably 70 to 300 ° C, more preferably 70 to 170 ° C.

(ロー5)光学異方性層の形成
光学異方性層は、液晶性分子および必要に応じて後述の重合性開始剤や任意の成分を含む塗布液を、配向膜の上に塗布することで形成できる。
塗布液の調製に使用する溶媒としては、有機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒の例には、アミド(例えば、N,N−ジメチルホルムアミド)、スルホキシド(例えば、ジメチルスルホキシド)、ヘテロ環化合物(例えば、ピリジン)、炭化水素(例えば、ベンゼン、ヘキサン)、アルキルハライド(例えば、クロロホルム、ジクロロメタン、テトラクロロエタン)、エステル(例えば、酢酸メチル、酢酸ブチル)、ケトン(例えば、アセトン、メチルエチルケトン)、エーテル(例えば、テトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタン)が含まれる。アルキルハライドおよびケトンが好ましい。二種類以上の有機溶媒を併用してもよい。
塗布液の塗布は、公知の方法(例えば、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法)により実施できる。
光学異方性層の厚さは、0.1〜20μmであることが好ましく、0.5〜15μmであることがさらに好ましく、1〜10μmであることが最も好ましい。
(Raw 5) Formation of optically anisotropic layer The optically anisotropic layer is formed by applying a coating liquid containing liquid crystalline molecules and, if necessary, a polymerizable initiator and an optional component on the alignment film. Can be formed.
As a solvent used for preparing the coating solution, an organic solvent is preferably used. Examples of organic solvents include amides (eg N, N-dimethylformamide), sulfoxides (eg dimethyl sulfoxide), heterocyclic compounds (eg pyridine), hydrocarbons (eg benzene, hexane), alkyl halides (eg , Chloroform, dichloromethane, tetrachloroethane), esters (eg, methyl acetate, butyl acetate), ketones (eg, acetone, methyl ethyl ketone), ethers (eg, tetrahydrofuran, 1,2-dimethoxyethane). Alkyl halides and ketones are preferred. Two or more organic solvents may be used in combination.
The coating liquid can be applied by a known method (for example, a wire bar coating method, an extrusion coating method, a direct gravure coating method, a reverse gravure coating method, or a die coating method).
The thickness of the optically anisotropic layer is preferably 0.1 to 20 μm, more preferably 0.5 to 15 μm, and most preferably 1 to 10 μm.

(ロー6)液晶性分子の配向状態の固定
配向させた液晶性分子を、配向状態を維持して固定することができる。固定化は、重合反応により実施することが好ましい。重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤を用いる光重合反応とが含まれる。光重合反応が好ましい。
光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物(米国特許第2,367,661号、同2,367,670号の各明細書記載)、アシロインエーテル(米国特許第2,448,828号明細書記載)、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物(米国特許第2,722,512号明細書記載)、多核キノン化合物(米国特許第3,046,127号、同2,951,758号の各明細書記載)、トリアリールイミダゾールダイマーとp−アミノフェニルケトンとの組み合わせ(米国特許第3,549,367号明細書記載)、アクリジンおよびフェナジン化合物(特開昭60−105667号公報、米国特許第4,239,850号明細書記載)およびオキサジアゾール化合物(米国特許第4,212,970号明細書記載)が含まれる。
(Row 6) Fixation of alignment state of liquid crystalline molecules Aligned liquid crystalline molecules can be fixed while maintaining the alignment state. The immobilization is preferably performed by a polymerization reaction. The polymerization reaction includes a thermal polymerization reaction using a thermal polymerization initiator and a photopolymerization reaction using a photopolymerization initiator. A photopolymerization reaction is preferred.
Examples of photopolymerization initiators include α-carbonyl compounds (described in US Pat. Nos. 2,367,661 and 2,367,670), acyloin ethers (US Pat. No. 2,448,828). No. description), α-hydrocarbon substituted aromatic acyloin compounds (U.S. Pat. No. 2,722,512), polynuclear quinone compounds (U.S. Pat. Nos. 3,046,127 and 2,951,758). ), Combinations of triarylimidazole dimers and p-aminophenyl ketones (described in US Pat. No. 3,549,367), acridine and phenazine compounds (Japanese Patent Laid-Open No. 60-105667), U.S. Pat. No. 4,239,850) and oxadiazole compounds (described in U.S. Pat. No. 4,212,970).

光重合開始剤の使用量は、塗布液の固形分の0.01〜20質量%の範囲にあることが好ましく、0.5〜5質量%の範囲にあることがさらに好ましい。
液晶性分子の重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましい。
照射エネルギーは、20mJ/cm2〜50J/cm2の範囲にあることが好ましく、20〜5000mJ/cm2の範囲にあることがより好ましく、100〜800mJ/cm2の範囲にあることがさらに好ましい。また、光重合反応を促進するため、加熱条件下で光照射を実施してもよい。
保護層を、光学異方性層の上に設けてもよい。
The amount of the photopolymerization initiator used is preferably in the range of 0.01 to 20% by mass, more preferably in the range of 0.5 to 5% by mass, based on the solid content of the coating solution.
It is preferable to use ultraviolet rays for light irradiation for polymerization of liquid crystalline molecules.
The irradiation energy is preferably in the range of 20mJ / cm 2 ~50J / cm 2 , more preferably in the range of 20~5000mJ / cm 2, more preferably in the range of 100 to 800 mJ / cm 2 . In order to accelerate the photopolymerization reaction, light irradiation may be performed under heating conditions.
A protective layer may be provided on the optically anisotropic layer.

この光学補償フィルムと偏光膜を組み合わせることも好ましい。具体的には、上記のような光学異方性層用塗布液を偏光膜の表面に塗布することにより光学異方性層を形成する。その結果、偏光膜と光学異方性層との間にポリマーフイルムを使用することなく、偏光膜の寸度変化にともなう応力(歪み×断面積×弾性率)が小さい薄い偏光板が作成される。本発明に従う偏光板を大型の液晶表示装置に取り付けると、光漏れなどの問題を生じることなく、表示品位の高い画像を表示することができる。
偏光膜と光学補償層の傾斜角度は、LCDを構成する液晶セルの両側に貼り合わされる2枚の偏光板の透過軸と液晶セルの縦または横方向のなす角度にあわせるように延伸することが好ましい。通常の傾斜角度は45°である。しかし、最近は、透過型、反射型および半透過型LCDにおいて必ずしも45°でない装置が開発されており、延伸方向はLCDの設計にあわせて任意に調整できることが好ましい。
It is also preferable to combine this optical compensation film and a polarizing film. Specifically, the optically anisotropic layer is formed by applying the coating liquid for the optically anisotropic layer as described above to the surface of the polarizing film. As a result, without using a polymer film between the polarizing film and the optically anisotropic layer, a thin polarizing plate having a small stress (strain × cross-sectional area × elastic modulus) associated with the dimensional change of the polarizing film is produced. . When the polarizing plate according to the present invention is attached to a large liquid crystal display device, an image with high display quality can be displayed without causing problems such as light leakage.
The tilt angle of the polarizing film and the optical compensation layer may be stretched so as to match the angle formed by the transmission axis of the two polarizing plates bonded to both sides of the liquid crystal cell constituting the LCD and the vertical or horizontal direction of the liquid crystal cell. preferable. A normal inclination angle is 45 °. Recently, however, devices that are not necessarily 45 ° have been developed in transmissive, reflective, and transflective LCDs, and it is preferable that the stretching direction can be arbitrarily adjusted according to the design of the LCD.

(ロー7)液晶表示装置
このような光学補償フィルムが用いられる各液晶モードについて説明する。
(Row 7) Liquid crystal display device Each liquid crystal mode in which such an optical compensation film is used will be described.

(TNモード液晶表示装置)
カラーTFT液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。TNモードの黒表示における液晶セル中の配向状態は、セル中央部で棒状液晶性分子が立ち上がり、セルの基板近傍では棒状液晶性分子が寝た配向状態にある。
(TN mode liquid crystal display)
It is most frequently used as a color TFT liquid crystal display device and is described in many documents. The alignment state in the liquid crystal cell in the TN mode black display is an alignment state in which the rod-like liquid crystalline molecules rise at the center of the cell and the rod-like liquid crystalline molecules lie in the vicinity of the cell substrate.

(OCBモード液晶表示装置)
棒状液晶性分子を液晶セルの上部と下部とで実質的に逆の方向に(対称的に)配向させるベンド配向モードの液晶セルである。ベンド配向モードの液晶セルを用いた液晶表示装置は、米国特許第4,583,825号、同5,410,422号の各明細書に開示されている。棒状液晶性分子が液晶セルの上部と下部とで対称的に配向しているため、ベンド配向モードの液晶セルは、自己光学補償機能を有する。そのため、この液晶モードは、OCB(Optically Compensated Bend) 液晶モードとも呼ばれる。
OCBモードの液晶セルもTNモード同様、黒表示においては、液晶セル中の配向状態は、セル中央部で棒状液晶性分子が立ち上がり、セルの基板近傍では棒状液晶性分子が寝た配向状態にある。
(OCB mode liquid crystal display)
This is a bend alignment mode liquid crystal cell in which rod-like liquid crystal molecules are aligned in a substantially opposite direction (symmetrically) between the upper and lower portions of the liquid crystal cell. A liquid crystal display device using a bend alignment mode liquid crystal cell is disclosed in US Pat. Nos. 4,583,825 and 5,410,422. Since the rod-like liquid crystal molecules are symmetrically aligned at the upper and lower portions of the liquid crystal cell, the bend alignment mode liquid crystal cell has a self-optical compensation function. Therefore, this liquid crystal mode is also called an OCB (Optically Compensated Bend) liquid crystal mode.
Similarly to the TN mode, the liquid crystal cell in the OCB mode is in a black display, and the alignment state in the liquid crystal cell is such that the rod-like liquid crystal molecules rise in the center of the cell and the rod-like liquid crystal molecules lie in the vicinity of the cell substrate. .

(VAモード液晶表示装置)
電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向しているのが特徴であり、VAモードの液晶セルには、(1)棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のVAモードの液晶セル(特開平2−176625号公報記載)に加えて、(2)視野角拡大のため、VAモードをマルチドメイン化した(MVAモードの)液晶セル(SID97、Digest of tech. Papers(予稿集)28(1997)845記載)、(3)棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード(n−ASMモード)の液晶セル(日本液晶討論会の予稿集58〜59(1998)記載)および(4)SURVAIVALモードの液晶セル(LCDインターナショナル98で発表)が含まれる。
(VA mode liquid crystal display device)
The feature is that the rod-like liquid crystalline molecules are oriented substantially vertically when no voltage is applied. In the VA mode liquid crystal cell, (1) the rod-like liquid crystalline molecules are oriented substantially vertically when no voltage is applied. In addition to a narrowly defined VA mode liquid crystal cell (described in JP-A-2-176625) that is aligned substantially horizontally when a voltage is applied, (2) the VA mode is multi-domained to expand the viewing angle ( Liquid crystal cell (in MVA mode) (SID97, Digest of tech. Papers 28 (1997) 845), (3) Rod-like liquid crystal molecules are substantially vertically aligned when no voltage is applied, and twisted A liquid crystal cell in a domain alignment mode (n-ASM mode) (described in the proceedings 58-59 (1998) of the Japanese Liquid Crystal Society) and (4) a SURVAVAL mode liquid crystal cell (LCD interface) Announced at National 98).

(IPSモード液晶表示装置)
電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に面内に水平に配向しているのが特徴であり、これが電圧印加の有無で液晶の配向方向を変えることでスイッチングするのが特徴である。具体的には特開2004−365941号、特開2004−12731号、特開2004−215620号、特開2002−221726号、特開2002−55341号、特開2003−195333号各公報に記載のものなどを使用できる。
(IPS mode liquid crystal display)
The feature is that the rod-like liquid crystalline molecules are aligned substantially horizontally in the plane when no voltage is applied, and this is characterized by switching by changing the orientation direction of the liquid crystal with or without voltage application. Specifically, as described in JP-A No. 2004-365941, JP-A No. 2004-12731, JP-A No. 2004-215620, JP-A No. 2002-221726, JP-A No. 2002-55341, and JP-A No. 2003-195333. Things can be used.

(その他液晶表示装置)
ECBモードおよびSTNモードの液晶表示装置に対しては、上記と同様の考え方で光学的に補償することができる。
(Other liquid crystal display devices)
The ECB mode and STN mode liquid crystal display devices can be optically compensated in the same way as described above.

(ハ)反射防止層の付与(反射防止フィルム)
反射防止膜は、一般に、防汚性層でもある低屈折率層、および低屈折率層より高い屈折率を有する少なくとも一層の層(即ち、高屈折率層、中屈折率層)とを透明基体上に設けて成る。
屈折率の異なる無機化合物(金属酸化物等)の透明薄膜を積層させた多層膜として、化学蒸着(CVD)法や物理蒸着(PVD)法、金属アルコキシド等の金属化合物のゾルゲル方法でコロイド状金属酸化物粒子皮膜を形成後に後処理(紫外線照射:特開平9−157855号公報、プラズマ処理:特開2002−327310号公報)して薄膜を形成する方法が挙げられる。
一方、生産性が高い反射防止膜として、無機粒子をマトリックスに分散されてなる薄膜を積層塗布してなる反射防止膜が各種提案されている。
上述したような塗布による反射防止フィルムに最上層表面が微細な凹凸の形状を有する防眩性を付与した反射防止層から成る反射防止フィルムも挙げられる。
本発明の飽和ノルボルネンフィルムは上記いずれの方式にも適用できるが、特に好ましいのが塗布による方式(塗布型)である。
(C) Application of an antireflection layer (antireflection film)
The antireflection film generally comprises a low refractive index layer which is also an antifouling layer, and at least one layer having a higher refractive index than that of the low refractive index layer (ie, a high refractive index layer and a medium refractive index layer). It is provided above.
Colloidal metal by multilayer deposition of transparent thin films of inorganic compounds (metal oxides, etc.) with different refractive indexes by chemical vapor deposition (CVD) method, physical vapor deposition (PVD) method, sol-gel method of metal compounds such as metal alkoxides Examples include a method of forming a thin film by post-processing (ultraviolet irradiation: JP-A-9-157855, plasma processing: JP-A-2002-327310) after forming an oxide particle film.
On the other hand, various antireflection films formed by laminating and applying a thin film in which inorganic particles are dispersed in a matrix have been proposed as an antireflection film having high productivity.
The antireflection film which consists of the antireflection layer which provided the anti-glare property which the antireflection film by application | coating as mentioned above provided the surface of the uppermost layer with the shape of a fine unevenness | corrugation is also mentioned.
The saturated norbornene film of the present invention can be applied to any of the above systems, but the system by coating (coating type) is particularly preferable.

(ハー1)塗布型反射防止フィルムの層構成
基体上に少なくとも中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層(最外層)の順序の層構成から成る反射防止膜は、以下の関係を満足する屈折率を有する様に設計される。
高屈折率層の屈折率>中屈折率層の屈折率>透明支持体の屈折率>低屈折率層の屈折率
また、透明支持体と中屈折率層の間に、ハードコート層を設けてもよい。さらには、中屈折率ハードコート層、高屈折率層および低屈折率層からなってもよい。
例えば、特開平8−122504号公報、同8−110401号公報、同10−300902号公報、特開2002−243906号公報、特開2000−111706号公報等が挙げられる。
また、各層に他の機能を付与させてもよく、例えば、防汚性の低屈折率層、帯電防止性の高屈折率層としたもの(例えば、特開平10−206603号公報、特開2002−243906号公報等)等が挙げられる。
反射防止膜のヘイズは、5%以下あることが好ましく、3%以下がさらに好ましい。また膜の強度は、JIS K5400に従う鉛筆硬度試験でH以上であることが好ましく、2H以上であることがさらに好ましく、3H以上であることが最も好ましい。
(Her 1) Layer structure of coating type antireflection film An antireflection film comprising at least a middle refractive index layer, a high refractive index layer, and a low refractive index layer (outermost layer) in order on the substrate has the following relationship: Designed to have a satisfactory refractive index.
The refractive index of the high refractive index layer> The refractive index of the medium refractive index layer> The refractive index of the transparent support> The refractive index of the low refractive index layer. Also good. Furthermore, it may consist of a medium refractive index hard coat layer, a high refractive index layer and a low refractive index layer.
Examples thereof include JP-A Nos. 8-122504, 8-110401, 10-300902, JP-A 2002-243906, JP-A 2000-11706, and the like.
Other functions may be imparted to each layer, for example, an antifouling low refractive index layer or an antistatic high refractive index layer (for example, JP-A-10-206603, JP-A-2002). -243906 publication etc.) etc. are mentioned.
The haze of the antireflection film is preferably 5% or less, more preferably 3% or less. The strength of the film is preferably H or higher, more preferably 2H or higher, and most preferably 3H or higher in a pencil hardness test according to JIS K5400.

(ハー2)高屈折率層および中屈折率層
反射防止膜の高い屈折率を有する層は、平均粒子サイズ100nm以下の高屈折率の無機化合物超微粒子およびマトリックスバインダーを少なくとも含有する硬化性膜から成る。
高屈折率の無機化合物微粒子としては、屈折率1.65以上の無機化合物が挙げられ、好ましくは屈折率1.9以上のものが挙げられる。例えば、Ti、Zn、Sb、Sn、Zr、Ce、Ta、La、In等の酸化物、これらの金属原子を含む複合酸化物等が挙げられる。
このような超微粒子とするには、粒子表面が表面処理剤で処理されること(例えば、シランカップリング剤等:特開平11−295503号公報、同11−153703号公報、特開2000−9908、アニオン性化合物或は有機金属カップリング剤:特開2001−310432号公報等)、高屈折率粒子をコアとしたコアシェル構造とすること(特開2001−166104号公報等)、特定の分散剤併用(例えば、特開平11−153703号公報、米国特許第6,210,858B1号明細書、特開2002−2776069号公報等)等挙げられる。
マトリックスを形成する材料としては、従来公知の熱可塑性樹脂、硬化性樹脂皮膜等が挙げられる。
(Her 2) High Refractive Index Layer and Medium Refractive Index Layer The antireflective coating layer having a high refractive index is formed from a curable film containing at least an inorganic compound ultrafine particle having a high refractive index with an average particle size of 100 nm or less and a matrix binder. Become.
Examples of the high refractive index inorganic compound fine particles include inorganic compounds having a refractive index of 1.65 or more, preferably those having a refractive index of 1.9 or more. Examples thereof include oxides such as Ti, Zn, Sb, Sn, Zr, Ce, Ta, La, and In, and composite oxides containing these metal atoms.
In order to obtain such ultrafine particles, the surface of the particles is treated with a surface treating agent (for example, silane coupling agents, etc .: JP-A Nos. 1-295503, 11-153703, 2000-9908). , Anionic compounds or organometallic coupling agents: Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-310432), a core-shell structure with high refractive index particles as a core (Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-166104, etc.), a specific dispersant Combined use (for example, Unexamined-Japanese-Patent No. 11-153703, US Patent 6,210,858B1, Unexamined-Japanese-Patent No. 2002-27776069 etc.) etc. are mentioned.
Examples of the material forming the matrix include conventionally known thermoplastic resins and curable resin films.

さらに、ラジカル重合性および/またはカチオン重合性の重合性基を少なくとも2個以上含有の多官能性化合物含有組成物、加水分解性基を含有の有機金属化合物およびその部分縮合体組成物から選ばれる少なくとも1種の組成物が好ましい。例えば、特開2000−47004号公報、同2001−315242号公報、同2001−31871号公報、同2001−296401号公報等に記載の化合物が挙げられる。
また、金属アルコキドの加水分解縮合物から得られるコロイド状金属酸化物と金属アルコキシト゛組成物から得られる硬化性膜も好ましい。例えば、特開2001−293818号公報等に記載されている。
高屈折率層の屈折率は、−般に1.70〜2.20である。高屈折率層の厚さは、5nm〜10μmであることが好ましく、10nm〜1μmであることがさらに好ましい。
中屈折率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との間の値となるように調整する。中屈折率層の屈折率は、1.50〜1.70であることが好ましい。
Further, the composition is selected from a polyfunctional compound-containing composition containing at least two radically polymerizable and / or cationically polymerizable groups, an organometallic compound containing a hydrolyzable group, and a partial condensate composition thereof. At least one composition is preferred. Examples thereof include compounds described in JP-A Nos. 2000-47004, 2001-315242, 2001-31871, and 2001-296401.
A curable film obtained from a colloidal metal oxide obtained from a hydrolyzed condensate of metal alkoxide and a metal alkoxide composition is also preferred. For example, it describes in Unexamined-Japanese-Patent No. 2001-293818.
The refractive index of the high refractive index layer is generally 1.70 to 2.20. The thickness of the high refractive index layer is preferably 5 nm to 10 μm, and more preferably 10 nm to 1 μm.
The refractive index of the middle refractive index layer is adjusted to be a value between the refractive index of the low refractive index layer and the refractive index of the high refractive index layer. The refractive index of the middle refractive index layer is preferably 1.50 to 1.70.

(ハー3)低屈折率層
低屈折率層は、高屈折率層の上に順次積層して成る。低屈折率層の屈折率は1.20〜1.55である。好ましくは1.30〜1.50である。
耐擦傷性、防汚性を有する最外層として構築することが好ましい。耐擦傷性を大きく向上させる手段として表面への滑り性付与が有効で、従来公知のシリコーンの導入、フッ素の導入等から成る薄膜層の手段を適用できる。
含フッ素化合物の屈折率は1.35〜1.50であることが好ましい。より好ましくは1.36〜1.47である。また、含フッ素化合物はフッ素原子を35〜80質量%の範囲で含む架橋性若しくは重合性の官能基を含む化合物が好ましい。
例えば、特開平9−222503号公報の段落番号[0018]〜[0026]、同11−38202号公報の段落番号[0019]〜[0030]、特開2001-40284号公報の段落番号[0027]〜[0028]、特開2000−284102号公報、特開2003−26732号公報の段落番号[0012]〜[0077]、特開2004−45462号公報の段落番号[0030]〜[0047]等に記載の化合物が挙げられる。
(Her 3) Low Refractive Index Layer The low refractive index layer is formed by sequentially laminating on the high refractive index layer. The refractive index of the low refractive index layer is 1.20 to 1.55. Preferably it is 1.30-1.50.
It is preferable to construct as the outermost layer having scratch resistance and antifouling property. As means for greatly improving the scratch resistance, it is effective to impart slipperiness to the surface, and conventionally known thin film layer means such as introduction of silicone or introduction of fluorine can be applied.
The refractive index of the fluorine-containing compound is preferably 1.35 to 1.50. More preferably, it is 1.36-1.47. The fluorine-containing compound is preferably a compound containing a crosslinkable or polymerizable functional group containing fluorine atoms in the range of 35 to 80% by mass.
For example, paragraph numbers [0018] to [0026] in JP-A-9-222503, paragraph numbers [0019] to [0030] in JP-A-11-38202, and paragraph number [0027] in JP-A-2001-40284. To [0028], paragraph numbers [0012] to [0077] of JP 2000-284102 A, JP 2003-26732 A, paragraph numbers [0030] to [0047] of JP 2004-45462 A, and the like. And the compounds described.

シリコーン化合物としてはポリシロキサン構造を有する化合物であり、高分子鎖中に硬化性官能基あるいは重合性官能基を含有して、膜中で橋かけ構造を有するものが好ましい。例えば、反応性シリコーン(例えば、サイラプレーン(チッソ(株)製等)、両末端にシラノール基含有のポリシロキサン(特開平11−258403号公報等)等が挙げられる。
架橋または重合性基を有する含フッ素および/またはシロキサンのポリマーの架橋または重合反応は、重合開始剤、増感剤等を含有する最外層を形成するための塗布組成物を塗布と同時または塗布後に光照射や加熱することにより実施することが好ましい。
また、シランカップリング剤等の有機金属化合物と特定のフッ素含有炭化水素基含有のシランカップリング剤とを触媒共存下に縮合反応で硬化するゾルゲル硬化膜も好ましい。
例えば、ポリフルオロアルキル基含有シラン化合物またはその部分加水分解縮合物(特開昭58−142958号公報、同58−147483号公報、同58−147484号公報、特開平9−1あ57582号公報、同11−106704号公報記載等記載の化合物)、フッ素含有長鎖基であるポリ「パーフルオロアルキルエーテル」基を含有するシリル化合物(特開2000−117902号公報、同2001−48590号公報、同2002−53804号公報記載の化合物等)等が挙げられる。
The silicone compound is a compound having a polysiloxane structure, preferably containing a curable functional group or a polymerizable functional group in the polymer chain and having a crosslinked structure in the film. For example, reactive silicone (for example, Silaplane (manufactured by Chisso Corporation), silanol group-containing polysiloxane (Japanese Patent Laid-Open No. 11-258403, etc.) and the like can be mentioned.
The crosslinking or polymerization reaction of the fluorine-containing and / or siloxane polymer having a crosslinking or polymerizable group is performed simultaneously with or after the coating composition for forming the outermost layer containing a polymerization initiator, a sensitizer and the like is applied. It is preferable to carry out by light irradiation or heating.
Also preferred is a sol-gel cured film in which an organometallic compound such as a silane coupling agent and a specific fluorine-containing hydrocarbon group-containing silane coupling agent are cured by a condensation reaction in the presence of a catalyst.
For example, a polyfluoroalkyl group-containing silane compound or a partially hydrolyzed condensate thereof (Japanese Patent Laid-Open Nos. 58-142958, 58-147483, 58-147484, Japanese Patent Laid-Open No. 9-157582, Compounds described in JP-A-11-106704, etc.), silyl compounds containing a poly "perfluoroalkyl ether" group which is a fluorine-containing long chain group (JP 2000-117902 A, JP 2001-48590 A, Compounds described in JP 2002-53804 A) and the like.

低屈折率層は、上記以外の添加剤として充填剤(例えば、二酸化珪素(シリカ)、含フッ素粒子(フッ化マグネシウム,フッ化カルシウム,フッ化バリウム)等の一次粒子平均径が1〜150nmの低屈折率無機化合物、特開平11−3820公報の段落番号[0020]〜[0038]に記載の有機微粒子等)、シランカップリング剤、滑り剤、界面活性剤等を含有することができる。
低屈折率層が最外層の下層に位置する場合、低屈折率層は気相法(真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、プラズマCVD法等)により形成されても良い。安価に製造できる点で、塗布法が好ましい。
低屈折率層の膜厚は、30〜200nmであることが好ましく、50〜150nmであることがさらに好ましく、60〜120nmであることが最も好ましい。
The low refractive index layer has an average primary particle diameter of 1 to 150 nm such as a filler (for example, silicon dioxide (silica), fluorine-containing particles (magnesium fluoride, calcium fluoride, barium fluoride)) as an additive other than the above. A low refractive index inorganic compound, organic fine particles described in paragraphs [0020] to [0038] of JP-A-11-3820), silane coupling agents, slip agents, surfactants, and the like.
When the low refractive index layer is located below the outermost layer, the low refractive index layer may be formed by a vapor phase method (vacuum deposition method, sputtering method, ion plating method, plasma CVD method, etc.). The coating method is preferable because it can be manufactured at a low cost.
The film thickness of the low refractive index layer is preferably 30 to 200 nm, more preferably 50 to 150 nm, and most preferably 60 to 120 nm.

(ハー4)ハードコート層
ハードコート層は、反射防止フィルムに物理強度を付与するために、透明支持体の表面に設ける。特に、透明支持体と前記高屈折率層の間に設けることが好ましい。
ハードコート層は、光および/または熱の硬化性化合物の架橋反応、または、重合反応により形成されることが好ましい。 硬化性官能基としては、光重合性官能基が好ましく、また加水分解性官能基含有の有機金属化合物は有機アルコキシシリル化合物が好ましい。
これらの化合物の具体例としては、高屈折率層で例示したと同様のものが挙げられる。
ハードコート層の具体的な構成組成物としては、例えば、特開2002−144913号公報、同2000−9908号公報、国際公開第00/46617号パンフレット等記載のものが挙げられる。
(Her 4) Hard coat layer The hard coat layer is provided on the surface of the transparent support in order to impart physical strength to the antireflection film. In particular, it is preferably provided between the transparent support and the high refractive index layer.
The hard coat layer is preferably formed by a crosslinking reaction or a polymerization reaction of a light and / or heat curable compound. The curable functional group is preferably a photopolymerizable functional group, and the hydrolyzable functional group-containing organometallic compound is preferably an organic alkoxysilyl compound.
Specific examples of these compounds are the same as those exemplified for the high refractive index layer.
Specific examples of the constituent composition of the hard coat layer include those described in JP-A Nos. 2002-144913, 2000-9908, and WO 00/46617.

高屈折率層はハードコート層を兼ねることができる。このような場合、高屈折率層で記載した手法を用いて微粒子を微細に分散してハードコート層に含有させて形成することが好ましい。
ハードコート層は、平均粒子サイズ0.2〜10μmの粒子を含有させて防眩機能(アンチグレア機能)を付与した防眩層(後述)を兼ねることもできる。
ハードコート層の膜厚は用途により適切に設計することができる。ハードコート層の膜厚は、0.2〜10μmであることが好ましく、より好ましくは0.5〜7μmである。
ハードコート層の強度は、JIS K5400に従う鉛筆硬度試験で、H以上であることが好ましく、2H以上であることがさらに好ましく、3H以上であることが最も好ましい。また、JIS K5400に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。
The high refractive index layer can also serve as a hard coat layer. In such a case, it is preferable to form fine particles dispersed in the hard coat layer using the method described for the high refractive index layer.
The hard coat layer can also serve as an antiglare layer (described later) provided with particles having an average particle size of 0.2 to 10 μm to provide an antiglare function (antiglare function).
The film thickness of the hard coat layer can be appropriately designed depending on the application. The film thickness of the hard coat layer is preferably 0.2 to 10 μm, more preferably 0.5 to 7 μm.
The strength of the hard coat layer is preferably H or higher, more preferably 2H or higher, and most preferably 3H or higher in a pencil hardness test according to JIS K5400. Further, in the Taber test according to JIS K5400, the smaller the wear amount of the test piece before and after the test, the better.

(ハー5)前方散乱層
前方散乱層は、液晶表示装置に適用した場合の、上下左右方向に視角を傾斜させたときの視野角改良効果を付与するために設ける。上記ハードコート層中に屈折率の異なる微粒子を分散することで、ハードコート機能と兼ねることもできる。
例えば、前方散乱係数を特定化した特開11−38208号公報、透明樹脂と微粒子の相対屈折率を特定範囲とした特開2000−199809号公報、ヘイズ値を40%以上と規定した特開2002−107512号公報等が挙げられる。
(Her 5) Forward scattering layer The forward scattering layer is provided in order to give a viewing angle improvement effect when the viewing angle is inclined in the vertical and horizontal directions when applied to a liquid crystal display device. By dispersing fine particles having different refractive indexes in the hard coat layer, it can also serve as a hard coat function.
For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-38208 specifying a forward scattering coefficient, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-199809 having a relative refractive index of a transparent resin and fine particles in a specific range, and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002 specifying a haze value of 40% or more. -107512 gazette etc. are mentioned.

(ハー6)その他の層
上記の層以外に、プライマー層、帯電防止層、下塗り層や保護層等を設けてもよい。
(He 6) Other layers In addition to the above layers, a primer layer, an antistatic layer, an undercoat layer, a protective layer, and the like may be provided.

(ハー7)塗布方法
反射防止フィルムの各層は、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート、マイクログラビア法やエクストルージョンコート法(米国特許第2,681,294号明細書)により、塗布により形成することができる。
(He 7) Coating method Each layer of the anti-reflection film is formed by the dip coating method, air knife coating method, curtain coating method, roller coating method, wire bar coating method, gravure coating, micro gravure method and extrusion coating method (US Patent No. 1). 2, 681, 294 specification).

(ハー8)アンチグレア機能
反射防止膜は、外光を散乱させるアンチグレア機能を有していてもよい。アンチグレア機能は、反射防止膜の表面に凹凸を形成することにより得られる。反射防止膜がアンチグレア機能を有する場合、反射防止膜のヘイズは、3〜30%であることが好ましく、5〜20%であることがさらに好ましく、7〜20%であることが最も好ましい。
反射防止膜表面に凹凸を形成する方法は、これらの表面形状を充分に保持できる方法であればいずれの方法でも適用できる。例えば、低屈折率層中に微粒子を使用して膜表面に凹凸を形成する方法(例えば、特開2000−271878号公報等)、低屈折率層の下層(高屈折率層、中屈折率層またはハードコート層)に比較的大きな粒子(粒子サイズ0.05〜2μm)を少量(0.1〜50質量%)添加して表面凹凸膜を形成し、その上にこれらの形状を維持して低屈折率層を設ける方法(例えば、特開2000−281410号公報、同2000−95893号公報、同2001−100004号公報、同2001−281407号公報等)、最上層(防汚性層)を、塗設後の表面に物理的に凹凸形状を転写する方法(例えば、エンボス加工方法として、特開昭63−278839号公報、特開平11−183710号公報、特開2000−275401号公報等記載)等が挙げられる。
(He 8) Anti-glare function The antireflection film may have an anti-glare function that scatters external light. The antiglare function is obtained by forming irregularities on the surface of the antireflection film. When the antireflection film has an antiglare function, the haze of the antireflection film is preferably 3 to 30%, more preferably 5 to 20%, and most preferably 7 to 20%.
As a method for forming irregularities on the surface of the antireflection film, any method can be applied as long as these surface shapes can be sufficiently maintained. For example, a method of forming irregularities on the film surface using fine particles in the low refractive index layer (for example, JP 2000-271878 A), a lower refractive index layer (high refractive index layer, medium refractive index layer) Alternatively, a small amount (0.1 to 50% by mass) of relatively large particles (particle size 0.05 to 2 μm) is added to the hard coat layer to form a surface uneven film, and these shapes are maintained thereon. A method of providing a low refractive index layer (for example, JP 2000-281410 A, JP 2000-95893 A, JP 2001-100004 A, 2001-281407, etc.), an uppermost layer (antifouling layer) And a method of physically transferring the uneven shape onto the surface after coating (for example, as an embossing method, Japanese Patent Laid-Open Nos. 63-278839, 11-183710, 2000-275401) Include equal forth) and the like.

<測定法>
以下に本発明で使用した測定法について記載する。
(1)湿熱寸法変化(δL(w))
ロール状のサンプルフィルムをMD,TD方向に切り出し、25℃・相対湿度60%で5時間以上調湿後、20cm基長のピンゲージを用い測長した(それぞれMD(F)、TD(F)とする)。これを60℃・相対湿度90%の恒温恒湿槽にて無張力で500時間放置(サーモ処理)した。恒温恒湿槽から取り出した後、25℃・相対湿度60%で5時間以上調湿後、20cm基長のピンゲージを用い測長した(それぞれMD(t)、TD(t)とする)。下記式でMD、TD方向の湿熱寸法変化(δMD(w)、δTD(w))を求め、このうち大きい方の値を湿熱寸法変化(δL(w))とした。
δTD(w)(%)=100×|TD(F)−TD(t)|/TD(F)
δMD(w)(%)=100×|MD(F)−MD(t)|/MD(F)
<Measurement method>
The measurement method used in the present invention is described below.
(1) Wet heat dimensional change (δL (w))
A roll-shaped sample film was cut out in the MD and TD directions, conditioned for 5 hours or more at 25 ° C. and 60% relative humidity, and then measured using a 20 cm base length pin gauge (MD (F) and TD (F), respectively). To do). This was left to stand for 500 hours in a constant temperature and humidity chamber of 60 ° C. and a relative humidity of 90% (thermo treatment). After taking out from the thermostatic chamber, the humidity was adjusted for 5 hours or more at 25 ° C. and 60% relative humidity, and then the length was measured using a 20 cm base length pin gauge (MD (t) and TD (t), respectively). The wet heat dimensional change (δMD (w), δTD (w)) in the MD and TD directions was determined by the following formula, and the larger value was defined as the wet heat dimensional change (δL (w)).
δTD (w) (%) = 100 × | TD (F) −TD (t) | / TD (F)
δMD (w) (%) = 100 × | MD (F) −MD (t) | / MD (F)

(2)乾熱寸法変化(δL(d))
上記湿熱寸法変化のサーモ処理を、80℃ドライで500時間に変えた以外は全て同様にして求めた。
(2) Dimensional change in dry heat (δL (d))
The thermo-treatment of the above wet heat dimensional change was obtained in the same manner except that it was changed to 500 hours at 80 ° C. dry.

(3)Re、Rth
サンプルフィルムを25℃・相対湿度60%にて24時間調湿後、自動複屈折計(KOBRA−21ADH:王子計測機器(株)製)を用いて、25℃・相対湿度60%において、フィルム表面に対し垂直方向および遅相軸を回転軸としてフィルム面法線から+50°から−50°まで10°刻みで傾斜させた方向から波長590nmにおける位相差を測定することにより、面内レターデーション値(Re)と膜厚方向のレターデーション値(Rth)とを算出させた。
(3) Re, Rth
After the sample film was conditioned for 24 hours at 25 ° C. and 60% relative humidity, the film surface was measured at 25 ° C. and 60% relative humidity using an automatic birefringence meter (KOBRA-21ADH: manufactured by Oji Scientific Instruments). In contrast, the retardation value at the wavelength of 590 nm was measured from the direction inclined in increments of 10 ° from + 50 ° to −50 ° from the normal to the film plane with the vertical direction and the slow axis as the rotation axis. Re) and the retardation value (Rth) in the film thickness direction were calculated.

(4)Re、Rthの湿熱変化
サンプルフィルムを25℃・相対湿度60%で5時間以上調湿後、上記の方法でRe,Rthを測定した(Re(F)、Rth(F)とする)。これを60℃・相対湿度90%の恒温恒湿槽にて無張力で500時間放置(サーモ処理)した。恒温恒湿槽から取り出した後、25℃・相対湿度60%で5時間以上調湿後、上記の方法でRe,Rthを測定した(Re(t)、Rth(t)とする)。下記式でRe,Rthの湿熱変化を求めた。
Reの湿熱変化(%)=100×(Re(F)−Re(t))/Re(F)
Rthの湿熱変化(%)=100×(Rth(F)−Rth(t))/Rth(F)
(4) Moist heat change of Re and Rth After adjusting the humidity of the sample film at 25 ° C. and a relative humidity of 60% for 5 hours or more, Re and Rth were measured by the above method (referred to as Re (F) and Rth (F)). . This was left to stand for 500 hours in a constant temperature and humidity chamber of 60 ° C. and a relative humidity of 90% (thermo treatment). After taking out from the constant temperature and humidity chamber, the humidity was adjusted for 5 hours or more at 25 ° C. and 60% relative humidity, and then Re and Rth were measured by the above-described method (referred to as Re (t) and Rth (t)). Changes in wet heat of Re and Rth were determined by the following formula.
Change in wet heat of Re (%) = 100 × (Re (F) −Re (t)) / Re (F)
Change in wet heat of Rth (%) = 100 × (Rth (F) −Rth (t)) / Rth (F)

(5)Re、Rthの乾熱変化
上記Re、Rthの湿熱変化のサーモ処理を、80℃ドライで500時間に変えた以外は全て同様にして求めた。
(5) Changes in dry heat of Re and Rth All of the above were obtained in the same manner except that the thermotreatment of the change in wet heat of Re and Rth was changed to 500 hours at 80 ° C. dry.

(6)微細レターデーションむら
サンプルフィルムを25℃・相対湿度60%に5時間以上調湿後、エリプソメーター(UNIOPT(株)製、自動複屈折測定装置ABR−10A−10AT)を用い0.1mmずつMD方向にずらしながら10点のReを測定した。このときの最大値と最小値の差を、10点の平均値で割った値(MDの微細レターデーションむら)を求めた。TD方向にも同様に0.1mmずつずらしながら測定し(TDの微細レターデーションむら)を求めた。MDの微細レターデーションむらとTDの微細レターデーションむらのうち大きい方を微細レターデーションむらとした。
(6) Fine retardation unevenness After adjusting the sample film to 25 ° C. and 60% relative humidity for 5 hours or more, 0.1 mm using an ellipsometer (manufactured by UNIOPT Co., Ltd., automatic birefringence measuring apparatus ABR-10A-10AT) Ten points of Re were measured while shifting in the MD direction. A value (MD fine retardation unevenness) obtained by dividing the difference between the maximum value and the minimum value by the average value of 10 points was obtained. Similarly, the measurement was performed while shifting in the TD direction by 0.1 mm (uneven TD fine retardation). The larger one of MD fine retardation unevenness and TD fine retardation unevenness was defined as fine retardation unevenness.

(7)縦/横比
延伸に用いるニップロールの間隔(L:2対のニップロールの芯間の距離)を延伸前の飽和ノルボルネンフィルムの幅(W)で割った値(L/W)を計算して求めた。3対以上のニップロールがある場合は、もっとも大きいL/Wの値を縦横比とした。
(7) Longitudinal / Horizontal ratio Calculate the value (L / W) obtained by dividing the distance between the nip rolls used for stretching (L: the distance between the cores of two pairs of nip rolls) by the width (W) of the saturated norbornene film before stretching. Asked. When there were three or more pairs of nip rolls, the largest L / W value was taken as the aspect ratio.

(8)緩和率
緩和する長さを延伸前の寸法で割り百分率で示すことにより求めた。
(8) Relaxation rate It calculated | required by dividing the length to ease by the dimension before extending | stretching, and showing by a percentage.

(9)Tg
DSCの測定パンにサンプルを20mg入れ、これを窒素気流中にて10℃/分で30℃から250℃まで昇温した後、30℃まで−10℃/分で冷却した。その後、再度30℃から250℃まで昇温してベースラインが低温側から偏奇し始める温度をガラス転移温度(Tg)とした。
(9) Tg
20 mg of a sample was placed in a DSC measurement pan, and this was heated from 30 ° C. to 250 ° C. at 10 ° C./min in a nitrogen stream, and then cooled to 30 ° C. at −10 ° C./min. Thereafter, the temperature was raised again from 30 ° C. to 250 ° C., and the temperature at which the baseline started to deviate from the low temperature side was defined as the glass transition temperature (Tg).

以下に実施例と比較例を挙げて本発明の特徴をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。   The features of the present invention will be described more specifically with reference to examples and comparative examples. The materials, amounts used, ratios, processing details, processing procedures, and the like shown in the following examples can be changed as appropriate without departing from the spirit of the present invention. Therefore, the scope of the present invention should not be construed as being limited by the specific examples shown below.

1.飽和ノルボルネン樹脂
(1−1)飽和ノルボル樹脂−A
6−メチル−1,4:5,8−ジメタノ−1,4,4a,5,6,7,8,8a−オクタヒドロナフタレンに、重合触媒としてトリエチルアルミニウムの15%シクロヘキサン溶液10質量部、トリエチルアミン5質量部、および四塩化チタンの20%シクロヘキサン溶液10質量部を添加して、シクロヘキサン中で開環重合し、得られた開環重合体をニッケル触媒で水素添加してポリマー溶液を得た。このポリマー溶液をイソプロピルアルコール中で凝固させ、乾燥し、粉末状の樹脂を得た。この樹脂の数平均分子量は40,000、水素添加率は99.8%以上、Tgは139℃であった。
1. Saturated norbornene resin (1-1) Saturated norborn resin-A
6-methyl-1,4: 5,8-dimethano-1,4,4a, 5,6,7,8,8a-octahydronaphthalene, 10 parts by mass of a 15% cyclohexane solution of triethylaluminum as a polymerization catalyst, triethylamine 5 parts by mass and 10 parts by mass of a 20% cyclohexane solution of titanium tetrachloride were added to perform ring-opening polymerization in cyclohexane, and the resulting ring-opening polymer was hydrogenated with a nickel catalyst to obtain a polymer solution. This polymer solution was coagulated in isopropyl alcohol and dried to obtain a powdery resin. The number average molecular weight of this resin was 40,000, the hydrogenation rate was 99.8% or more, and the Tg was 139 ° C.

(1−2)飽和ノルボル樹脂−B
8−メチル−8−メトキシカルボニルテトラシクロ[4.4.0.12.5,17.10]−3−ドデセン(特定単量体B)100質量部と、5−(4−ビフェニルカルボニルオキシ)ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン(特定単量体A)150質量部と、1−ヘキセン(分子量調節剤)18質量部と、トルエン750質量部とを窒素置換した反応容器に仕込み、この溶液を60℃に加熱した。次いで、反応容器内の溶液に、重合触媒としてトリエチルアルミニウム(1.5モル/l)のトルエン溶液0.62質量部と、t−ブタノールおよびメタノールで変性した六塩化タングステン(t−ブタノール:メタノール:タングステン=0.35モル:0.3モル:1モル)のトルエン溶液(濃度0.05モル/l)3.7質量部とを添加し、この系を80℃で3時間加熱攪拌することにより開環重合反応させて開環重合体溶液を得た。この重合反応における重合転化率は97%であり、得られた開環重合体について、30℃のクロロホルム中で測定した固有粘度(ηinh )は0.65dl/gであった。
このようにして得られた開環重合体溶液4,000質量部をオートクレーブに仕込み、この開環重合体溶液に、RuHCl(CO)[P(C6533 0.48質量部を添加し、水素ガス圧100kg/cm2、反応温度165℃の条件下で、3時間加熱攪拌して水素添加反応を行った。得られた反応溶液(水素添加重合体溶液)を冷却した後、水素ガスを放圧した。この反応溶液を大量のメタノール中に注いで凝固物を分離回収し、これを乾燥して、水素添加重合体(特定の環状ポリオレフィン系樹脂)を得た。このようにして得られた水素添加重合体について400MHz、1H−NMRを用いてオレフィン性不飽和結合の水素添加率を測定したところ99.9%であった。このTgは110℃であり、GPC法(溶媒:テトラヒドロフラン)によりポリスチレン換算の数平均分子量(Mn)および質量平均分子量(Mw)を測定したところ、数平均分子量(Mn)は39,000、質量平均分子量(Mw)は126,000、分子量分布(Mw/Mn)は3.23であった。
(1-2) Saturated norvol resin-B
8-methyl-8-methoxycarbonyltetracyclo [4.4.0.1 2.5, 1 7.10] -3- dodecene (specific monomer B) and 100 parts by mass, 5- (4-biphenyl carbonyl oxy) bicyclo [ 2.2.1] Charged 150 parts by mass of hept-2-ene (specific monomer A), 18 parts by mass of 1-hexene (molecular weight regulator), and 750 parts by mass of toluene into a nitrogen-substituted reaction vessel, This solution was heated to 60 ° C. Subsequently, 0.62 parts by mass of a toluene solution of triethylaluminum (1.5 mol / l) as a polymerization catalyst and tungsten hexachloride modified with t-butanol and methanol (t-butanol: methanol: By adding 3.7 parts by mass of a toluene solution (concentration 0.05 mol / l) of tungsten = 0.35 mol: 0.3 mol: 1 mol), the system is heated and stirred at 80 ° C. for 3 hours. A ring-opening polymer solution was obtained by a ring-opening polymerization reaction. The polymerization conversion rate in this polymerization reaction was 97%, and the resulting ring-opened polymer had an intrinsic viscosity (ηinh) measured in chloroform at 30 ° C. of 0.65 dl / g.
The autoclave was charged with 4,000 parts by mass of the ring-opening polymer solution thus obtained, and 0.48 part by mass of RuHCl (CO) [P (C 6 H 5 ) 3 ] 3 was added to the ring-opening polymer solution. And a hydrogenation reaction was performed by heating and stirring for 3 hours under the conditions of a hydrogen gas pressure of 100 kg / cm 2 and a reaction temperature of 165 ° C. After cooling the obtained reaction solution (hydrogenated polymer solution), the hydrogen gas was released. This reaction solution was poured into a large amount of methanol to separate and recover a coagulated product, which was dried to obtain a hydrogenated polymer (specific cyclic polyolefin resin). The hydrogenated polymer thus obtained was measured for hydrogenation rate of olefinically unsaturated bonds using 400 MHz, 1 H-NMR, and found to be 99.9%. The Tg was 110 ° C., and when the number average molecular weight (Mn) and the mass average molecular weight (Mw) in terms of polystyrene were measured by the GPC method (solvent: tetrahydrofuran), the number average molecular weight (Mn) was 39,000 and the mass average The molecular weight (Mw) was 126,000, and the molecular weight distribution (Mw / Mn) was 3.23.

2.製膜
(2−1)溶融製膜
上記飽和ノルボルネン樹脂−Aに表1記載の二酸化珪素から成る微粒子を添加し、直径3mm、長さ5mmの円柱状のペレットに成形した。これを110℃の真空乾燥機で乾燥し、含水率を0.1%以下とした後、(Tg−10℃)になるように調整したホッパーに投入した。なお二酸化珪素の代わりに、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ等を用いた場合も同様の結果を得た。
溶融粘度が5000Pa・sとなるように溶融温度を調整し、この温度で5分間かけて1軸混練機を用い溶融した後、溶融温度より10℃高く設定したT−ダイから(Tg−5℃)に設定したキャスティングドラム上に流延し固化しフィルムとした。この時、各水準静電印加法(10kVのワイヤーをメルトのキャスティングドラムへの着地点から10cmのところに設置)を用いた。固化したメルトを剥ぎ取り、巻き取った。なお、巻き取り直前に両端(全幅の各3%)をトリミングした後、両端に幅10mm、高さ50μmの厚みだし加工(ナーリング)をつけた。各水準とも、幅は1.5mで30m/分で3000m巻き取った。
併せて市販の飽和ノルボルネンフィルム(溶融製膜)のゼオノア(日本ゼオン(株)製ZF-14:表1中にZと記載)も用いた。なお、このフィルムのTgは136℃であった。
2. Film Formation (2-1) Melt Film Formation Fine particles composed of silicon dioxide listed in Table 1 were added to the saturated norbornene resin-A, and formed into cylindrical pellets having a diameter of 3 mm and a length of 5 mm. This was dried with a vacuum dryer at 110 ° C., the water content was adjusted to 0.1% or less, and then charged into a hopper adjusted to (Tg−10 ° C.). Similar results were obtained when titanium dioxide, aluminum oxide, zirconium oxide, calcium carbonate, talc, clay or the like was used instead of silicon dioxide.
After adjusting the melting temperature so that the melt viscosity becomes 5000 Pa · s and melting using a single-screw kneader at this temperature for 5 minutes, from a T-die set higher by 10 ° C. than the melting temperature (Tg-5 ° C. The film was cast on a casting drum set to) and solidified to form a film. At this time, each level electrostatic application method (a 10 kV wire was placed 10 cm from the point where the melt was attached to the casting drum) was used. The solidified melt was peeled off and wound up. In addition, after trimming both ends (each 3% of the total width) just before winding, the both ends were subjected to thicknessing (knurling) with a width of 10 mm and a height of 50 μm. In each level, the width was 1.5 m, and 3000 m was wound at 30 m / min.
In addition, a commercially available saturated norbornene film (melted film), ZEONOR (ZF-14 manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd .: described as Z in Table 1) was also used. The Tg of this film was 136 ° C.

(2−2)溶液製膜
上記飽和ノルボルネン樹脂−Bと表1記載の二酸化珪素から成る微粒子を、トルエン中に30%濃度になるように撹拌しながら投入した。なお二酸化珪素の代わりに、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ等を用いた場合も同様の結果を得た。
投入が終わると撹拌を停止し、25℃で3時間膨潤させスラリーを作成した。これを再度撹拌し、完全に溶解した(この溶液をドープと呼ぶ)。この溶液の室温での粘度は30,000mPa・sであった)。これを、絶対濾過精度0.01mmの濾紙(東洋濾紙(株)製、#63)でろ過し、さらに絶対濾過精度2.5μmの濾紙(ポール社製、FH025)にて濾過した。
上述のドープを35℃に加温し、25℃に設定したバンド長60mの鏡面ステンレス支持体上に流延した。使用したギーサーは、特開平11−314233号公報に記載の形態に類似するものを用いた。なお流延スピードは60m/分でその流延幅は250cmとした。
残留溶剤が100質量%で剥ぎ取った後、130℃で乾燥した後、残留溶剤量が0.3質量%以下となったところで巻き取り、飽和ノルボルネンフィルムを得た。得られたフィルムは両端を3cmトリミングした後、両端から2〜10mmの部分に高さ100μmのナーリングを付与し、3000mロール状に巻き取った。
(2-2) Solution Film Formation Fine particles comprising the above saturated norbornene resin-B and silicon dioxide described in Table 1 were added to toluene with stirring so as to have a concentration of 30%. Similar results were obtained when titanium dioxide, aluminum oxide, zirconium oxide, calcium carbonate, talc, clay or the like was used instead of silicon dioxide.
When the addition was completed, stirring was stopped and the slurry was swelled at 25 ° C. for 3 hours to prepare a slurry. This was stirred again and dissolved completely (this solution is called a dope). The viscosity of this solution at room temperature was 30,000 mPa · s). This was filtered with a filter paper having an absolute filtration accuracy of 0.01 mm (manufactured by Toyo Filter Paper Co., Ltd., # 63), and further filtered with a filter paper having an absolute filtration accuracy of 2.5 μm (manufactured by Pall, FH025).
The above-mentioned dope was heated to 35 ° C. and cast on a mirror surface stainless steel support having a band length of 60 m set at 25 ° C. The Gieseer used was similar to that described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-314233. The casting speed was 60 m / min and the casting width was 250 cm.
The residual solvent was peeled off at 100% by mass, dried at 130 ° C., and then wound up when the residual solvent amount became 0.3% by mass or less to obtain a saturated norbornene film. The obtained film was trimmed at both ends by 3 cm, and then a knurling having a height of 100 μm was imparted to a portion 2 to 10 mm from both ends, and wound into a 3000 m roll.

3.延伸
(3−1)縦(MD)延伸
上記溶融製膜、溶液製膜で得た飽和ノルボルネンフィルムを、2対のニップロールを用い、表1に記載の縦/横比、方式(斜め、平行)、延伸速度で、(Tg+15℃)で表1記載の倍率に延伸した。縦延伸後に、Tgにおいて表1に記載の緩和率、位置(縦延伸後、横延伸後(表1に「縦後」、「横後」と記載))で縦緩和を行った。縦延伸後の縦緩和は、縦延伸のニップロール直後に配置した搬送ロールの速度を遅くすることで実施した。一方横延伸後の緩和は、テンター直後に熱処理ゾーンを設け、その中でTgにおいて低張力で搬送することで実施した。
3. Stretching (3-1) Longitudinal (MD) Stretching The saturated norbornene film obtained by the above melt film formation and solution film formation was used in two pairs of nip rolls, and the aspect ratio / method shown in Table 1 (diagonal, parallel) The film was stretched at a stretching speed of (Tg + 15 ° C.) at the magnification described in Table 1. After longitudinal stretching, longitudinal relaxation was performed in Tg at the relaxation rate and position described in Table 1 (after longitudinal stretching and after lateral stretching (described as “longitudinal after” and “after lateral” in Table 1)). The longitudinal relaxation after the longitudinal stretching was carried out by slowing the speed of the transport roll arranged immediately after the longitudinal stretching nip roll. On the other hand, relaxation after transverse stretching was carried out by providing a heat treatment zone immediately after the tenter and transporting it at a low tension at Tg.

(3−2)横(TD)延伸
縦延伸、縦緩和後にテンターを用いて(Tg+10℃)で表1に記載の倍率で横方向に延伸した。この後Tgで表1に記載しただけ横方向に緩和した。
(3-2) Transverse (TD) Stretching After longitudinal stretching and longitudinal relaxation, stretching was performed in the transverse direction at a magnification described in Table 1 using a tenter (Tg + 10 ° C.). After this, Tg was relaxed in the lateral direction as described in Table 1.

4.延伸フィルムの評価
このようにして得た延伸フィルムの湿熱寸法変化(δL(w))、乾熱寸法変化(δL(d))、湿熱、乾熱処理前(フレッシュ)のRe、Rth、微細レターデーションむら、およびRe、Rthの湿熱変化(δRe(w)、δRth(w))、Re、Rthの乾熱変化(δRe(d)、δRth(d))を上記の方法で測定し表1に記載した。本発明を実施したものは良好な性能を示した。一方、本発明の範囲外のものは、光学特性が低下した。特に、特開2001−42130号公報の実施例1に準じたもの(表1の比較例7)は、特にその低下が著しかった。一方、比較例7に近い条件で本発明を実施した実施例30は良好な性能を示した。
4). Evaluation of stretched film Wet heat dimensional change (δL (w)), dry heat dimensional change (δL (d)), wet heat, Re, Rth before dry heat treatment (fresh), and fine retardation Unevenness, wet heat changes of Re and Rth (δRe (w), δRth (w)), and dry heat changes of Re and Rth (δRe (d), δRth (d)) were measured by the above methods and listed in Table 1. did. Those implementing the present invention showed good performance. On the other hand, those outside the scope of the present invention have deteriorated optical characteristics. In particular, the reduction according to Example 1 of JP 2001-42130 A (Comparative Example 7 in Table 1) was particularly remarkable. On the other hand, Example 30 which implemented this invention on the conditions close | similar to the comparative example 7 showed favorable performance.

Figure 2006348114
Figure 2006348114

5.偏光板の作成
(5−1)表面処理
いずれの水準も、水との接触角が45度になるように、フィルム表面にコロナ処理を行った。
5. Preparation of polarizing plate (5-1) Surface treatment In any level, the film surface was subjected to corona treatment so that the contact angle with water was 45 degrees.

(5−2)偏光膜の作成
特開平2001−141926号公報の実施例1に従い、2対のニップロール間に周速差を与え、長手方向に延伸した厚み20μmの偏光膜を調製した。なお、特開平2002−86554号公報の実施例1のように延伸軸が斜め45度となるように延伸した偏光膜も同様に作成したが、以降の評価結果は上述のものと同様な結果が得られた。
(5-2) Preparation of Polarizing Film According to Example 1 of JP-A-2001-141926, a polarizing film having a thickness of 20 μm was prepared by giving a circumferential speed difference between two pairs of nip rolls and extending in the longitudinal direction. In addition, although the polarizing film extended | stretched so that an extending | stretching axis | shaft might become 45 degrees diagonally like Example 1 of Unexamined-Japanese-Patent No. 2002-86554 was produced similarly, subsequent evaluation results are the same results as the above-mentioned thing. Obtained.

(5−3)貼り合わせ
(5−2)で得た偏光膜を、(5−1)で表面処理した延伸飽和ノルボルネンフィルム(位相差板)と鹸化処理した偏光板保護フィルム(商品名:フジタック)の間に挟み込んだ。この際、位相差板と偏光膜は、エポキシ系接着剤を用いて貼り合せた。またフジタックと偏光膜の間は((株)クラレ製PVA−117H)3%水溶液を接着剤として用いて貼り合わせた。貼り合わせ方向は、偏光軸と位相差板の長手方向が45度となるようした。
このようにして得た偏光板のフレッシュ品と、ウエットサーモ処理(60℃・相対湿度90%で500時間)、ドライサーモ処理(80℃ドライ500時間)後の偏光板を、飽和ノルボルネンフィルムを液晶側になるようにして、特開2000−154261号公報の図2〜9に記載の20インチVA型液晶表示装置液晶表示装置に取り付けた。これをフレッシュ品の偏光板を用いたものと、ドライサーモ処理またはウエットサーモ処理を行った偏光板を用いたものを比較し、目視評価し色むらの発生領域の全面積に占める割合を表1に記載した。本発明を実施したものは良好な性能が得られた。
(5-3) Bonding The polarizing film obtained in (5-2) and a stretched saturated norbornene film (retardation plate) surface-treated in (5-1) and a saponified polarizing plate protective film (trade name: Fujitac) ). At this time, the retardation plate and the polarizing film were bonded using an epoxy adhesive. Moreover, between Fujitac and a polarizing film, it bonded together using 3% aqueous solution (PVA-117H by Kuraray Co., Ltd.) as an adhesive agent. The laminating direction was such that the longitudinal direction of the polarization axis and the retardation plate was 45 degrees.
The fresh polarizing plate thus obtained, the polarizing plate after wet thermo treatment (60 ° C., relative humidity 90% for 500 hours) and dry thermo treatment (drying at 80 ° C. for 500 hours), and saturated norbornene film as liquid crystal The 20-inch VA liquid crystal display device described in FIGS. 2 to 9 of JP-A-2000-154261 was attached to the liquid crystal display device. This was compared with a product using a fresh polarizing plate and a product using a dry thermo-treated or wet thermo-treated polarizing plate, and visually evaluated to show the ratio of the color unevenness generation area to the total area. It was described in. Good performance was obtained with the present invention.

6.光学補償フィルムの作成
(6−1)光学補償フィルムの作成
特開平11−316378号公報の実施例1の液晶層を塗布したセルロースアセテートフィルムの代わりに、上記本発明の延伸飽和ノルボルネンフィルムを使用した。この時、製膜・延伸直後の延伸飽和ノルボルネンフィルム(フレッシュ品)を用いて作成した光学補償フィルムと、ウエットサーモ処理(60℃・相対湿度90%で500時間)またはドライサーモ処理(80℃ドライ500時間)を経た延伸飽和ノルボルネンフィルムを用いて作成した光学補償フィルムを比較した。色むらの発生している領域を目視評価したが、本発明の延伸飽和ノルボルネンフィルムを用いた光学補償フィルムはいずれも色むらが認められず、良好な光学性能が得られた。
6). Preparation of optical compensation film (6-1) Preparation of optical compensation film The stretched saturated norbornene film of the present invention was used in place of the cellulose acetate film coated with the liquid crystal layer of Example 1 of JP-A-11-316378. . At this time, an optical compensation film prepared using a stretched saturated norbornene film (fresh product) immediately after film formation / stretching, and wet thermo treatment (60 ° C., relative humidity 90% for 500 hours) or dry thermo treatment (80 ° C. dry Optical compensation films prepared using stretched saturated norbornene films after 500 hours) were compared. The region where the color unevenness occurred was visually evaluated, but no color unevenness was observed in any of the optical compensation films using the stretched saturated norbornene film of the present invention, and good optical performance was obtained.

(6−2)光学補償フィルターフィルムの作成
特開平7−333433号公報の実施例1の液晶層を塗布したセルロースアセテートフィルムの代わりに、上記本発明の延伸飽和ノルボルネンフィルムを使用して光学補償フィルターフィルムを作製した。上記(6−1)と同様に比較試験を行ったところ、いずれも良好な光学性能が得られた。
(6-2) Preparation of optical compensation filter film An optical compensation filter using the stretched norbornene film of the present invention described above instead of the cellulose acetate film coated with the liquid crystal layer of Example 1 of JP-A-7-333433. A film was prepared. When a comparative test was conducted in the same manner as in (6-1) above, good optical performance was obtained in all cases.

7.低反射フィルムの作成
発明協会公開技報(公技番号2001−1745、2001年3月15日発行、発明協会)の実施例47に従い、上記本発明の延伸飽和ノルボルネンフィルムを用いて低反射フィルムを作成したところ、良好な光学性能が得られた。
7). Preparation of Low Reflective Film According to Example 47 of the Japan Society of Invention Public Technical Report (Public Technical Number 2001-1745, Issued on March 15, 2001, Invention Association) As a result, good optical performance was obtained.

8.液晶表示素子の作成
上記本発明の偏光板を、特開平10−48420号公報の実施例1に記載の液晶表示装置、特開平9−26572号公報の実施例1に記載のディスコティック液晶分子を含む光学的異方性層、ポリビニルアルコールを塗布した配向膜、特開2000−154261号公報の図2〜9に記載の20インチVA型液晶表示装置、特開2000−154261号公報の図10〜15に記載の20インチOCB型液晶表示装置、特開2004−12731号公報の図11に記載のIPS型液晶表示装置に用いた。さらに、本発明の低反射フィルムをこれらの液晶表示装置の最表層に貼り評価を行った。高温高湿環境下に長時間置いても色むらの発生しない良好な液晶表示素子が得られた。
8). Preparation of liquid crystal display element The polarizing plate of the present invention is applied to the liquid crystal display device described in Example 1 of JP-A-10-48420 and the discotic liquid crystal molecule described in Example 1 of JP-A-9-26572. Including an optically anisotropic layer, an alignment film coated with polyvinyl alcohol, a 20-inch VA liquid crystal display device described in FIGS. 2 to 9 of JP-A-2000-154261, and FIGS. 10 to 10 of JP-A-2000-154261. The 20-inch OCB type liquid crystal display device described in No. 15 and the IPS type liquid crystal display device shown in FIG. 11 of JP-A-2004-12731 were used. Furthermore, the low reflection film of the present invention was applied to the outermost layer of these liquid crystal display devices for evaluation. A good liquid crystal display element in which color unevenness did not occur even when placed in a high temperature and high humidity environment for a long time was obtained.

本発明の飽和ノルボルネンフィルムは、液晶表示装置に組み込んで高温高湿下に置いても色むらの発生を抑えることができる。また、本発明の製造方法によれば、そのような性質を有する飽和ノルボルネンフィルムを効率よく製造することができる。さらに、本発明の偏光板、光学補償フィルム、反射防止フィルムおよび液晶表示装置は、高温高湿下においても優れた機能を示すことができる。したがって、本発明は産業上の利用可能性が高い。   The saturated norbornene film of the present invention can suppress the occurrence of color unevenness even when it is incorporated in a liquid crystal display device and placed under high temperature and high humidity. Moreover, according to the manufacturing method of this invention, the saturated norbornene film which has such a property can be manufactured efficiently. Furthermore, the polarizing plate, the optical compensation film, the antireflection film, and the liquid crystal display device of the present invention can exhibit excellent functions even under high temperature and high humidity. Therefore, the present invention has high industrial applicability.

フィルムを斜めに通して縦延伸を行い、さらに縦緩和するための装置を示す概略図である。It is the schematic which shows the apparatus for performing longitudinal stretch through the film diagonally, and also carrying out longitudinal relaxation. 従来の定型的な縦延伸装置を示す概略図である。It is the schematic which shows the conventional regular longitudinal stretch apparatus. 押出機の構成を示す概略図である。It is the schematic which shows the structure of an extruder.

符号の説明Explanation of symbols

1a,1b 第一のニップロール
2a,2b 第二のニップロール
3 搬送ロール
L 延伸間隔
22 押出機
32 シリンダー
40 供給口
A 供給部
B 圧縮部
C 計量部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1a, 1b 1st nip roll 2a, 2b 2nd nip roll 3 Conveyance roll L Stretching interval 22 Extruder 32 Cylinder 40 Supply port A Supply part B Compression part C Measurement part

Claims (16)

湿熱寸法変化(δL(w))および乾熱寸法変化(δL(d))がいずれも0%〜0.2%であり、面内のレターデーション(Re)の湿熱変化(δRe(w))および乾熱変化(δRe(d))がいずれも0%〜10%であり、かつ厚み方向のレターデーション(Rth)の湿熱変化(δRth(w))および乾熱変化(δRth(d))がいずれも0%〜10%であることを特徴とする飽和ノルボルネンフィルム。   Both wet heat dimensional change (δL (w)) and dry heat dimensional change (δL (d)) are 0% to 0.2%, and in-plane retardation (Re) wet heat change (δRe (w)) And the change in dry heat (δRe (d)) is 0% to 10%, and the wet heat change (δRth (w)) and the dry heat change (δRth (d)) of the retardation (Rth) in the thickness direction. A saturated norbornene film characterized in that all are 0% to 10%. 微細レターデーションむらが0%〜10%であることを特徴とする請求項1に記載の飽和ノルボルネンフィルム。   The saturated norbornene film according to claim 1, wherein the fine retardation unevenness is 0% to 10%. Reが0nm〜300nmであって、Rthが30nm〜500nmであることを特徴とする請求項1または2に記載の飽和ノルボルネンフィルム。   The saturated norbornene film according to claim 1, wherein Re is 0 nm to 300 nm and Rth is 30 nm to 500 nm. 飽和ノルボルネン樹脂に対して微粒子を1質量ppm〜10,000質量ppm含有することを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の飽和ノルボルネンフィルム。   The saturated norbornene film according to any one of claims 1 to 3, further comprising 1 mass ppm to 10,000 mass ppm of fine particles with respect to the saturated norbornene resin. 残留溶剤量が0.01質量%以下であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載の飽和ノルボルネンフィルム。   The saturated norbornene film according to any one of claims 1 to 4, wherein the amount of residual solvent is 0.01 mass% or less. 湿熱寸法変化(δL(w))および乾熱寸法変化(δL(d))がいずれも0%〜0.2%であり、面内のレターデーション(Re)の湿熱変化(δRe(w))および乾熱変化(δRe(d))がいずれも0%〜10%であり、かつ厚み方向のレターデーション(Rth)の湿熱変化(δRth(w))および乾熱変化(δRth(d))がいずれも0%〜10%である飽和ノルボルネンフィルムの製造方法であって、
飽和ノルボルネンを製膜した後、延伸前のフィルムの幅(W)と延伸間隔(L)の比である縦/横比(L/W)が0.01を越え0.3未満の条件下で1%〜300%に縦延伸し、さらに縦方向に1%〜50%緩和する工程を有することを特徴とする飽和ノルボルネンフィルムの製造方法。
Both wet heat dimensional change (δL (w)) and dry heat dimensional change (δL (d)) are 0% to 0.2%, and in-plane retardation (Re) wet heat change (δRe (w)) The change in dry heat (δRe (d)) is 0% to 10%, and the wet heat change (δRth (w)) and dry heat change (δRth (d)) of the retardation (Rth) in the thickness direction. Both are methods for producing a saturated norbornene film that is 0% to 10%,
After film formation of saturated norbornene, the length / width ratio (L / W), which is the ratio between the width (W) of the film before stretching and the stretching interval (L), exceeds 0.01 and is less than 0.3. A method for producing a saturated norbornene film, characterized by comprising a step of longitudinally stretching 1% to 300% and further relaxing 1% to 50% in the longitudinal direction.
前記縦延伸を、2対のニップロールの間を飽和ノルボルネンフィルムを斜めに通して行うことを特徴とする、請求項6に記載の飽和ノルボルネンフィルムの製造方法。   The method for producing a saturated norbornene film according to claim 6, wherein the longitudinal stretching is performed by passing the saturated norbornene film diagonally between two pairs of nip rolls. 前記縦方向の緩和を行った後に横延伸を行うことを特徴とする請求項6または7に記載の飽和ノルボルネンフィルムの製造方法。   The method for producing a saturated norbornene film according to claim 6 or 7, wherein transverse stretching is performed after relaxation in the longitudinal direction. 前記横延伸をテンターを用いて1%〜250%の延伸倍率で行うことを特徴とする請求項8に記載の飽和ノルボルネンフィルムの製造方法。   The method for producing a saturated norbornene film according to claim 8, wherein the transverse stretching is performed at a stretch ratio of 1% to 250% using a tenter. 前記横延伸を行った後、横方向に1%〜50%緩和することを特徴とする請求項8または9に記載の飽和ノルボルネンフィルムの製造方法。   10. The method for producing a saturated norbornene film according to claim 8, wherein after the transverse stretching, relaxation is performed in the transverse direction by 1% to 50%. 前記飽和ノルボルネンの製膜を溶融製膜法により行うことを特徴とする請求項6〜10のいずれか一項に記載の飽和ノルボルネンフィルムの製造方法。   The method for producing a saturated norbornene film according to any one of claims 6 to 10, wherein the film formation of the saturated norbornene is performed by a melt film forming method. 請求項6〜11のいずれか一項に記載の製造方法により製造される飽和ノルボルネンフィルム。   The saturated norbornene film manufactured by the manufacturing method as described in any one of Claims 6-11. 偏光膜に、請求項1〜5および12のいずれか一項に記載の飽和ノルボルネンフィルムを少なくとも1層積層したことを特徴とする偏光板。   A polarizing plate comprising at least one layer of the saturated norbornene film according to any one of claims 1 to 5 and 12 laminated on a polarizing film. 請求項1〜5および12のいずれか一項に記載の飽和ノルボルネンフィルムを基材に用いた光学補償フィルム。   The optical compensation film which used the saturated norbornene film as described in any one of Claims 1-5 and 12 for the base material. 請求項1〜5および12のいずれか一項に記載の飽和ノルボルネンフィルムを基材に用いた反射防止フィルム。   The antireflection film which used the saturated norbornene film as described in any one of Claims 1-5 and 12 for the base material. 請求項1〜5および12のいずれか一項に記載の飽和ノルボルネンフィルムを用いた液晶表示装置。   The liquid crystal display device using the saturated norbornene film as described in any one of Claims 1-5 and 12.
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