JP2008268921A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008268921A5 JP2008268921A5 JP2008071482A JP2008071482A JP2008268921A5 JP 2008268921 A5 JP2008268921 A5 JP 2008268921A5 JP 2008071482 A JP2008071482 A JP 2008071482A JP 2008071482 A JP2008071482 A JP 2008071482A JP 2008268921 A5 JP2008268921 A5 JP 2008268921A5
- Authority
- JP
- Japan
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008071482A JP4961374B2 (ja) | 2007-03-28 | 2008-03-19 | ポジ型レジスト組成物およびパターン形成方法 |
US12/058,055 US8877421B2 (en) | 2007-03-28 | 2008-03-28 | Positive resist composition and pattern-forming method |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007085989 | 2007-03-28 | ||
JP2007085989 | 2007-03-28 | ||
JP2008071482A JP4961374B2 (ja) | 2007-03-28 | 2008-03-19 | ポジ型レジスト組成物およびパターン形成方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008268921A JP2008268921A (ja) | 2008-11-06 |
JP2008268921A5 true JP2008268921A5 (es) | 2010-09-09 |
JP4961374B2 JP4961374B2 (ja) | 2012-06-27 |
Family
ID=40048425
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008071482A Active JP4961374B2 (ja) | 2007-03-28 | 2008-03-19 | ポジ型レジスト組成物およびパターン形成方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4961374B2 (es) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5427393B2 (ja) * | 2008-11-13 | 2014-02-26 | 東京応化工業株式会社 | レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 |
US8808959B2 (en) | 2008-11-13 | 2014-08-19 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Resist composition, method of forming resist pattern, novel compound, and acid generator |
JP5816505B2 (ja) * | 2011-09-27 | 2015-11-18 | 東京応化工業株式会社 | レジストパターン形成方法 |
JP6261947B2 (ja) * | 2012-11-15 | 2018-01-17 | 住友化学株式会社 | レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
JP5572739B2 (ja) * | 2013-06-17 | 2014-08-13 | 東京応化工業株式会社 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物および酸発生剤 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3907167B2 (ja) * | 2001-11-19 | 2007-04-18 | 富士フイルム株式会社 | ポジ型レジスト組成物 |
JP3860053B2 (ja) * | 2002-03-11 | 2006-12-20 | 富士フイルムホールディングス株式会社 | ポジ型感光性組成物 |
US20060222866A1 (en) * | 2003-02-26 | 2006-10-05 | Tsuyoshi Nakamura | Silsesquioxane resin, positive resist composition,layered product including resist and method of forming resist pattern |
JP4488174B2 (ja) * | 2004-02-05 | 2010-06-23 | 信越化学工業株式会社 | レジスト材料及びパターン形成方法 |
JP4304093B2 (ja) * | 2004-02-19 | 2009-07-29 | 富士フイルム株式会社 | 液浸プロセス用化学増幅型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 |
EP1757628A4 (en) * | 2004-05-06 | 2008-04-30 | Jsr Corp | LACTONCOPOLYMER AND RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION |
JP4691442B2 (ja) * | 2005-12-09 | 2011-06-01 | 富士フイルム株式会社 | ポジ型レジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法 |
JP4881686B2 (ja) * | 2005-12-09 | 2012-02-22 | 富士フイルム株式会社 | ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 |
JP5012073B2 (ja) * | 2006-02-15 | 2012-08-29 | 住友化学株式会社 | フォトレジスト組成物 |
JP4912733B2 (ja) * | 2006-02-17 | 2012-04-11 | 東京応化工業株式会社 | 液浸露光用レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 |
JP2007334278A (ja) * | 2006-05-18 | 2007-12-27 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 液浸露光用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 |
JP4839253B2 (ja) * | 2007-03-28 | 2011-12-21 | 富士フイルム株式会社 | ポジ型レジスト組成物およびパターン形成方法 |
-
2008
- 2008-03-19 JP JP2008071482A patent/JP4961374B2/ja active Active