JP2008263948A - 新規クロストリジウム・スピーシーズkd13、およびこれを用いた浄化方法 - Google Patents
新規クロストリジウム・スピーシーズkd13、およびこれを用いた浄化方法 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】テトラクロロエチレン、トリクロロエチレン、ジクロロエチレン、テトラクロロメタン、トリクロロメタン、ジクロロメタンの浄化において、新規クロストリジウム・スピーシーズKD13(clostridium sp.KD13 受託番号:FERM P−21115)またはそれを含む浄化製剤を用いると、副生成物の生成がなく、速やかに浄化を遂行できる。
【選択図】図1
Description
新規クロストリジウム・スピーシーズKD13の単離とその生物学的特性
本発明者らは有機塩素化合物を分解する菌種を探索した結果、過去にトリクロロエチレンが土壌中に漏洩したことのある工場の敷地内の地下水中から、有機塩素化合物を分解する能力を有する新たな菌種としてクロストリジウム・スピーシーズKD13(clostridium sp.KD13)を分離することに成功した。この現場では地下水中のトリクロロエチレン濃度の減少が確認されており、トリクロロエチレンなどの有機塩素化合物を分解する菌種の地下水中での存在可能性が予測されていた。そこで本発明者らは前記工場の敷地内に設けられた地下水監視用の井戸から嫌気的に地下水を採取し、その地下水の中からトリクロロエチレンを含む有機塩素化合物を分解する能力を有する菌の採取を目指すこととした。具体的には、あらかじめ地下の帯水層に達する深さまで掘られた井戸の中に、先端に水中ポンプを装着したサンプリング用の配管を挿入した。井戸の最下端には地下水が滞留しているので水中ポンプを稼動させることで、地上に地下水をくみ上げることができる。くみ上げた地下水は、できるだけ空気の混入を防止しながら、速やかにサンプリング用容器に充填して密栓する。
(A)形態的性質
細胞の形及び大きさ:桿菌 幅1.0μm 長さ2.0〜3.0μm
運動性:あり
胞子の有無:あり
(B)培養的性質
培地組成
K2HPO4 0.3%
KH2PO4 0.08%
MgSO4・7H2O 0.02%
L−アスパラギン一水和物 0.5%
L−システイン塩酸塩一水和物 0.05%
D−グルコース 1.0%
寒天 1.5% (寒天を添加する場合)
培養時間:48時間
培養温度:25℃
直径:1.0〜2.0mm
色調:白色
形:円形
隆起状態:半球状
周縁:全縁
表面の形状など:スムーズ
透明度:不透明
粘稠度:粘稠性あり
(C)生理学的性質
グラム染色性:陽性
インドールの生成:陰性
デンプンの加水分解:陽性
ウレアーゼ産生:陰性
オキシダーゼ:陰性
カタラーゼ:陰性
酸素に対する態度(好気性、嫌気性の区別など):嫌気性
さらに、下記の糖類からの酸及びガスの生成の有無を記載する。
L−アラビノース 陽性
D−キシロース 陽性
D−グルコース 陰性
D−マンノース 陽性
マルトース 陽性
シュークロース 陽性
ラクトース 陽性
D−トレハロース 陽性
D−ソルビトール 陰性
D−マンニトール 陽性
グリセリン 陽性
サリシン 陰性
D−セロビオース 陽性
D−メレチトース 陽性
D−ラフィノース 陽性
L−ラムノース 陰性
ゼラチン加水分解 陰性
エスクリン加水分解 陽性
(D)新規クロストリジウム・スピーシーズKD13(clostridium sp.KD13)の特徴を示す性質
リパーゼ活性 陰性
レシチナーゼ活性 陰性
(E)化学分類学的性質
K2HPO4 0.3%
KH2PO4 0.08%
MgSO4・7H2O 0.02%
L−アスパラギン一水和物 0.5%
L−システイン塩酸塩一水和物 0.05%
D−グルコース 1.0%
(pH6.8)
有機塩素化合物で汚染された被浄化物質において、本菌KD13株を接触させることにより有機塩素化合物を分解する方法を以下に示す。
同様に、本菌KD13株を用いたトリクロロエチレンの分解について図2を用いて説明する。実施の形態2と同様に、本菌KD13株を25℃の恒温槽内で嫌気的に培養している培養液中に添加したトリクロロエチレンの残存率の推移を図2に示している。縦軸にはトリクロロエチレンの残存率をTCE残存率として示している。横軸は培養開始からの時間を示している。液体培地中に添加したトリクロロエチレンは本菌KD13株のはたらきにより約200時間後には初期濃度の約45%まで減少している事が分かる。実施の形態1と同様に、本菌KD13株を用いた場合はトリクロロエチレンを添加した培養液中にジクロロエチレン、塩化ビニルは生成されない。また、テトラクロロエチレンが減少した培養液において、有機塩素化合物の分解生成物として分子中に塩素を含有する化合物は生成されない。
同様に本菌KD13株を用いたcis−1,2ジクロロエチレンの分解について図3を用いて説明する。実施の形態2と同様に本菌KD13株を25℃の恒温槽内で嫌気的に培養している培養液中に添加したcis−1,2ジクロロエチレンの残存率の推移を図3に示している。縦軸にはcis−1,2ジクロロエチレンの残存率をDCE残存率として示している。液体培地中に添加したcis−1,2ジクロロエチレンは本菌KD13株のはたらきにより約160時間後には初期濃度の約40%まで減少している事が分かる。実施の形態2と同様に、本菌KD13株を用いた場合はcis−1,2ジクロロエチレンを添加した培養液中に塩化ビニルの生成は確認されなかった。また、cis−1,2ジクロロエチレンが減少した培養液において、有機塩素化合物の分解生成物として分子中に塩素を含有する化合物は確認されなかった。
新規クロストリジウム・スピーシーズKD13のジクロロメタン分解能力
ジクロロメタンで汚染された被浄化物質において、本菌KD13株を接触させることによりジクロロメタンを分解する方法を以下に示す。
新規クロストリジウム・スピーシーズKD13のテトラクロロメタン分解能力
本菌KD13株とテトラクロロメタンを含む被浄化物質とを接触させた場合の本菌KD13株によるテトラクロロメタンの分解能力を以下に記す。
本菌KD13株を用いた水の浄化方法について図7を用いて説明する。図7に示すように工場1は舗装面2の上面に建設されている。工場の内部で有機塩素化合物3が漏洩した場合、舗装面2の間隙を通過して有機塩素化合物3が地下へ浸透する。工場の地下に透水層4と不透水層5が形成されていた場合、不透水層5の上部に被浄化物質6である水7が地下水として滞留していることがある。工場1から漏洩した有機塩素化合物3は土壌中において浸透しやすい性質を有しているので、重力により透水層4内部を通過して下方に浸透していき、不透水層5の上部に存在する水7に溶解することになる。また、有機塩素化合物3により汚染された水7を観測するための観測井戸8が舗装面2の上部から水7まで透水層4を貫通して設けられている。このように水7が有機塩素化合物3に汚染されている場合、観測井戸8を利用して水7に本菌KD13株を含む培養液を添加することで、水中で本菌KD13株が増殖することができる。その結果、本菌KD13株の増殖に伴い、有機塩素化合物の分解が促進され速やかに浄化を進めることができるものである。
本菌KD13株を用いた土壌の浄化方法について図8を用いて説明する。図8に示すように工場1は舗装面2の上面に建設されている。工場1の内部で有機塩素化合物3が漏洩した場合、舗装面2の間隙を通過して有機塩素化合物3が地下へ浸透する。工場の地下に透水層4と不透水層5が形成されていた場合、不透水層5の上部に被浄化物質6である土壌10が汚染土壌として滞積することになる。工場1から漏洩した有機塩素化合物3は土壌中において浸透しやすい性質を有しているので、重力により下方に浸透していき、透水層4を通過して不透水層5の上部に停滞することになる。また、有機塩素化合物3により汚染された土壌10を観測するための観測井戸8が舗装面2の上部から土壌10まで透水層4を貫通して設けられている。
本菌KD13株を用いたガスの浄化方法について図9を用いて説明する。図9に示すように、カラム11内には本菌KD13株を担持させた担体12が充填されている。カラム11は2ヶ所の開口部を有し、一方の開口部にはポンプ13が装着され、もう一方の開口部からガス14を吸引することができる。ガス14は実際には容易に目視できるものではないが、説明を容易にするために明確な形状のあるものとして記載した。開口部から吸引されたガス14は担体12の空隙を通過し、もう一方の開口部に装着されたポンプ13を通過し、排出口15から排出される。ガス14が担体12の空隙を通過する際に担体12の表面に存在する本菌KD13株の働きにより、ガス14に含まれる有機塩素化合物が分解されるものである。担体12への本菌KD13株の担持方法については、本菌KD13株の培養液に多孔質の担体12を浸漬することで担体12表面に本菌KD13株を担持させる方法が適当であるが、この方法に限ったものではなく、本菌KD13株の活性を維持したまま担体12の表面または内部に本菌KD13株を固定化することができれば同様の効果を得ることができる。
本菌KD13株を用いた廃液の浄化方法について図10を用いて説明する。図10に示すようにジクロロメタンを含む廃液16が容器17に蓄えられている。ジクロロメタンは金属加工業において金属部品の洗浄剤として用いられることが多い。また、塗装の剥離剤やアクリル樹脂の接着剤としても利用されている。本実施の形態では洗浄剤や剥離剤としての用途を終え廃液として保管する場合、またアクリル樹脂の接着作業において余剰になった接着剤を廃液として保管する場合の処理方法について示す。連続的に廃液が発生しない場合や、廃液の発生量が一定ではない場合など、ジクロロメタンの廃液は一旦容器に回収して、一定量が蓄積された段階で専門の産業廃棄物処理業者に委託することが多い。しかしジクロロメタンの廃液を産業廃棄物処理業者へ委託する前に、ジクロロメタンが容器から揮散して周囲の環境を汚染することがある。したがって、廃液を保管している容器内部でジクロロメタンを安全に処理することが望まれている。
本菌KD13株を用いた有機塩素化合物を含有する液体の浄化方法について図11を用いて説明する。有機塩素化合物を含有する液体として、洗浄剤や剥離剤としての用途を終えた廃液16、またアクリル樹脂の接着作業において余剰になった接着剤である廃液16を想定している。図11に示すように吸収剤18と本菌KD13株を含む浄化製剤9が処理容器19に収納されている。本実施の形態では浄化製剤9を粉末状の浄化製剤9とした。吸収剤18は多孔質の物質でありセルロースやポリアクリル酸ナトリウムなどの高分子材料やシリカゲルやゼオライトなどの無機材料や活性炭など様々な素材を採用することができる。特に本菌KD13株の増殖場所として適当な大きさの空隙を有する素材や、ジクロロメタンとの親和性の高い素材が適している。
新規クロストリジウム・スピーシーズKD13を用いたテトラクロロメタン含有廃液の浄化方法
本菌KD13株を用いたテトラクロロメタンを含有する廃液の浄化方法について図11、図12を用いて説明する。まず、図11に示すようにクロロホルム、ジクロロメタン、クロロメタンやフルオロカーボン、テトラクロロエチレンといった物質を製造するときに生成されたテトラクロロメタンを含む廃液16が容器17に蓄えられている。テトラクロロメタンを含む廃液16に本菌KD13株を含む浄化製剤9を添加する。テトラクロロメタンが高濃度の場合は本菌KD13株の増殖が阻害される場合があるので廃液16を水で適当な濃度に希釈しても良い。ここで、浄化製剤9は液状のものが廃液16内での分散性が高く好ましいが、これに限定されず、顆粒、ペレット、打錠、粉状であっても良い。そのような場合は、廃液16中に入れた後、攪拌する、または加熱する等の方法により浄化製剤9の成分を分散させる操作を行っても良い。
新規クロストリジウム・スピーシーズKD13を用いたテトラクロロメタン含有廃ガスの浄化方法
本菌KD13株を用いたテトラクロロメタンを含有する廃ガスの浄化方法について図13、図14を用いて説明する。
2 舗装面
3 有機塩素化合物
4 透水層
5 不透水層
6 被浄化物質
7 水
8 観測井戸
9 浄化製剤
10 土壌
11 カラム
12 担体
13 ポンプ
14 ガス
15 排出口
16 廃液
17 容器
18 吸収剤
19 処理容器
20 流入パイプ
21 排出パイプ
22 廃ガス
101 鉄粉
102 黒鉛
Claims (25)
- 新規クロストリジウム・スピーシーズKD13(clostridium sp.KD13 特許生物寄託センター受託番号:FERM P−21115)。
- 有機化合物で汚染された被浄化物質に新規クロストリジウム・スピーシーズKD13(clostridium sp.KD13 特許生物寄託センター受託番号:FERM P−21115)を作用させて、有機塩素化合物を分解することを特徴とする浄化方法。
- 有機化合物で汚染された被浄化物質に新規クロストリジウム・スピーシーズKD13(clostridium sp.KD13 特許生物寄託センター受託番号:FERM P−21115)を含む浄化製剤を作用させて有機塩素化合物を分解することを特徴とする浄化方法。
- 有機化合物がテトラクロロエチレン、トリクロロエチレン、ジクロロエチレンのうちいずれか一つ以上を含むことを特徴とする請求項2または3記載の浄化方法。
- 有機化合物がテトラクロロメタン、トリクロロメタン、ジクロロメタンのうちいずれか一つを含むことを特徴とする請求項2または3記載の浄化方法。
- 被浄化物質が液体であることを特徴とする請求項2から5いずれか1項に記載の浄化方法。
- 被浄化物質が土壌であることを特徴とする請求項2から5いずれか1項に記載の浄化方法。
- 被浄化物質がガスであることを特徴とする請求項2から5いずれか1項に記載の浄化方法。
- 浄化製剤がグルコースを含むことを特徴とする請求項3記載の浄化方法。
- 浄化製剤がラクトースを含むことを特徴とする請求項3記載の浄化方法。
- 浄化製剤がスクロースを含むことを特徴とする請求項3記載の浄化方法。
- 浄化製剤がマルトースを含むことを特徴とする請求項3記載の浄化方法。
- 浄化製剤がフルクトースを含むことを特徴とする請求項3記載の浄化方法。
- 浄化製剤がグルコース、ラクトース、スクロース、マルトース、フルクトースのうちいずれか2種類以上を含むことを特徴とする請求項3記載の浄化方法。
- 浄化製剤が吸収剤を含むことを特徴とする請求項3または10から14いずれか1項に記載の浄化方法。
- 吸収剤がセルロースであることを特徴とする請求項15記載の浄化方法。
- 吸収剤がポリアクリル酸ナトリウムであることを特徴とする請求項15記載の浄化方法。
- 吸収剤がシリカゲルであることを特徴とする請求項15記載の浄化方法。
- 吸収剤がゼオライトであることを特徴とする請求項15記載の浄化方法。
- 吸収剤が活性炭であることを特徴とする請求項15記載の浄化方法。
- 被浄化物質に含まれるテトラクロロメタンがクロロホルムの製造過程において生成したものであることを特徴とする請求項5から8いずれか1項に記載の浄化方法。
- 被浄化物質に含まれるテトラクロロメタンがクロロメタンの製造過程において生成したものであることを特徴とする請求項5から8いずれか1項に記載の浄化方法。
- 被浄化物質に含まれるテトラクロロメタンがジクロロメタンの製造過程において生成したものであることを特徴とする請求項5から8いずれか1項に記載の浄化方法。
- 被浄化物質に含まれるテトラクロロメタンがフルオロカーボンの製造過程において生成したものであることを特徴とする請求項5から8いずれか1項に記載の浄化方法。
- 被浄化物質に含まれるテトラクロロメタンがテトラクロロエチレンの製造過程において生成したものであることを特徴とする請求項5から8いずれか1項に記載の浄化方法。
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- 2007-12-05 JP JP2007314312A patent/JP4577352B2/ja not_active Expired - Fee Related
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