JP2008257234A - プリント回路基板上のソルダーレジスト層にパターンを形成する方法及びシステム - Google Patents
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Abstract
【解決手段】層に適用されるマスクのマスクパターンを決定し、マスクパターンに基づいて、層の上にマスクを形成し、層及びマスクに紫外光を露光し、プリント回路の選択された部分を露出させるために、層にパターンを現像し、現像は、現像の間にマスク及び対応するマスクの下に位置する材料を除去するようになされる、ことを含む、プリント回路の選択された部分を露出させるために、プリント回路上の紫外線硬化材料の層にパターンを形成する方法。
【選択図】図3
Description
12 銅パターン
14 ソルダーレジスト
16 パターンマスク
18 領域
40 プリント回路基板
42 銅パターン
44 ソルダーレジスト
46 マスクパターン
48 液滴
50 ダム
100 印刷システム
600 画像
800 パターン
900 パターン
902 アウトライン
904 内アウトライン
906 ワックスドット
Claims (4)
- プリント回路の選択された部分を露出させるために、前記プリント回路上の紫外線硬化材料の層にパターンを形成する方法であって、
前記方法は、
(a)前記層に適用されるマスクのマスクパターンを決定し、
(b)前記マスクパターンに基づいて、前記層の上に前記マスクを形成し、
(c)前記層及び前記マスクに紫外光を露光し、
(d)前記プリント回路の前記選択された部分を露出させるために、前記層にパターンを現像し、
前記現像は、前記現像の間に前記マスク及び対応する前記マスクの下に位置する材料を除去するようになされる、
ことを含む、方法。 - 前記(b)は、前記層の上に、ハーフトーン・パターン状にワックス材料の液滴を放出することを含む請求項1に記載の方法。
- プリント回路基板の選択された部分を露出させるために、基準マークを有する前記プリント回路基板上にコーティングされたソルダーレジスト層にパターンを形成する方法であって、
前記方法は、
(a)前記プリント回路基板上の前記ソルダーレジスト層をソフトベーキングし、
(b)前記プリント回路基板の配置及び向きを決定するために、前記プリント回路基板上の基準マークを分析し、
(c)決定された配置及び向きを用いて、前記ソルダーレジスト層に適用されるマスクパターンを生成し、
(d)ワックス材料を用いて、前記ソルダーレジスト層の上に前記マスクパターンを形成し、
(e)前記ソルダーレジスト層及びワックス材料に紫外光を露光し、
(f)前記プリント回路基板の前記選択された部分を露出させるために、前記ソルダーレジスト層にパターンを現像し、
前記現像は、前記現像の間に前記ワックス材料及び前記ワックス材料の下に位置する材料を除去するようになされ、
(g)前記プリント回路基板上のパターン化された前記ソルダーレジスト材料をハードベーキングする、
ことを含む、方法。 - プリント回路基板の選択された部分を露出させるために、前記プリント回路基板上のソルダーレジスト層にパターンを形成するシステムであって、
前記システムは、
前記ソルダーレジスト層に適用されるマスクパターンを決定する決定手段と、
ワックス材料を用いて、前記ソルダーレジスト層の上に前記マスクパターンを形成する形成手段と、
前記ソルダーレジスト層及び前記ワックス材料に紫外光を露光する露光手段と、
前記プリント回路基板の前記選択された部分を露出させるために、前記ソルダーレジスト層にパターンを現像し、前記現像は、前記現像の間に前記ワックス材料及び対応する前記ワックス材料の下に位置する材料を除去するようになされる、現像手段と、
を含む、システム。
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